JP6550681B2 - ワイヤ間距離が可変な偏光子 - Google Patents

ワイヤ間距離が可変な偏光子 Download PDF

Info

Publication number
JP6550681B2
JP6550681B2 JP2016550457A JP2016550457A JP6550681B2 JP 6550681 B2 JP6550681 B2 JP 6550681B2 JP 2016550457 A JP2016550457 A JP 2016550457A JP 2016550457 A JP2016550457 A JP 2016550457A JP 6550681 B2 JP6550681 B2 JP 6550681B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gap
ribs
nanostructures
adjacent
rib
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2016550457A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2016534418A (ja
Inventor
ワン、ビン
ワンゲンスティーン、テッド
ペトロバ、ラムヤナ
ブラック、マイク
マークス、スティーブン
プロブスト、ディーン
Original Assignee
モックステック・インコーポレーテッド
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by モックステック・インコーポレーテッド filed Critical モックステック・インコーポレーテッド
Priority claimed from PCT/US2014/053216 external-priority patent/WO2015060943A1/en
Publication of JP2016534418A publication Critical patent/JP2016534418A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6550681B2 publication Critical patent/JP6550681B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3058—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state comprising electrically conductive elements, e.g. wire grids, conductive particles
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F17/00—Multi-step processes for surface treatment of metallic material involving at least one process provided for in class C23 and at least one process covered by subclass C21D or C22F or class C25
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/08—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of polarising materials
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/12—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements by surface treatment, e.g. by irradiation

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)

Description

本願は、概してワイヤグリッド偏光子に関する。
ワイヤグリッド偏光子は、光の一方の偏光が偏光子を通過することを可能にし、かつ光の反対の偏光を反射又は吸収することによって、光を偏光するために用いられ得る。簡潔にするために、これ以降、主に偏光子を透過する偏光はｐ偏光と呼ばれ、主に反射または吸収される偏光はｓ偏光と呼ばれる。ワイヤグリッド偏光子設計の目標には、ｐ偏光の透過を増やすこと、ｓ偏光の透過を減らすこと、及びｓ偏光の反射又は吸収を増やすことが含まれる。異なる用途には、異なる要件が含まれる。
ｐ偏光の透過を増やし、ｓ偏光の透過を減らすという目標は、ほとんどの用途又は全ての用途に共通している。これら２つの目標間にはトレードオフの関係が存在し得る。換言すれば、ｐ偏光の透過を増やし得る特定の設計は、ｓ偏光の透過を不必要に増やすこともあり得る。また、ｓ偏光の透過を減らす他の設計は、ｐ偏光の透過を不必要に減らし得る。
いくつかの用途では、可能な限り多くのｓ偏光を反射することが望ましい。例えば、ワイヤグリッド偏光ビームスプリッタからの反射光は、透過したｐ偏光及び反射したｓ偏光の双方を効果的に利用し得る。そのような設計では、ｐ偏光の透過を減らすことなく、ｓ偏光の反射を増やすことが重要になり得る。特定の設計においては、ｐ偏光の透過を増やすことと、ｓ偏光の反射を増やすこととの間にトレードオフの関係が存在することがある。
他の複数の用途、例えば、光の反射が画像や他の使用目的を妨害し得る場合などでは、ｓ偏光の吸収が好ましい場合がある。透過型パネルの画像投影システムでは、反射光はＬＣＤイメージャに戻り、画像劣化を引き起こし得るか、又は迷光が画面に到達してコントラストを低下させ得る。理想的な選択吸収性ワイヤグリッド偏光子は、全てのｐ偏光を透過させ、全てのｓ偏光を選択的に吸収する。実際には、透過するｓ偏光もあれば、反射するｓ偏光もあり、吸収されるｐ偏光もあれば、反射するｐ偏光もある。特定の設計においては、ｐ偏光の透過を増やすことと、ｓ偏光の吸収を増やすこととの間にトレードオフの関係が存在することがある。
従って、ワイヤグリッド偏光子の有効性は、（１）ｐ偏光の高い透過率、（２）高いコントラスト、及び（３）設計に応じてｓ偏光の高い吸収率又は反射率によって定量化され得る。コントラストは、透過したｐ偏光の割合（Ｔｐ）を透過したｓ偏光の割合（Ｔｓ）で割ったものに等しい。つまり、コントラスト＝Ｔｐ／Ｔｓとなる。
赤外光、可視光、及び紫外光用のワイヤグリッド偏光子では、効果的な偏光のために、ナノメートル又はマイクロメートルのサイズ及びピッチなど、複数の細いワイヤを小さいピッチで有することが重要になり得る。概して、偏光される光の波長の半分より小さいピッチが、効果的な偏光に必要とされる。より小さいピッチによって、コントラストが向上し得る。従って、小さいピッチは、ワイヤグリッド偏光子の重要な特徴になり得る。十分に小さいピッチを有するワイヤグリッド偏光子の製造は難しく、これが本分野の研究目標である。
細いワイヤは、扱い方によって、また複数の環境条件によって損傷を受け得る。ワイヤの保護は、ワイヤグリッド偏光子において重要であり得る。従って、ワイヤグリッド偏光子の耐久性は、別の重要な特徴である。偏光子の自由度を増やすことは、ワイヤグリッド偏光子が、その設計を特定の用途又は波長のために最大限に活用することを可能するという点で、有益であり得る。
例えば、米国特許第５，９９１，０７５号、同第６，２８８，８４０号、同第６，６６５，１１９号、同第７，６３０，１３３号、同第７，６９２，８６０号、同第７，８００，８２３号、同第７，９６１，３９３号、及び同第８，４２６，１２１号、米国 特許公開第２００８／００５５７２３号、同第２００９／００４１９７１号、及び同第２００９／００５３６５５号、２０１１年１２月１５日に出願された米国特許出願第１３／３２６，５６６号、１９８１年１１月／１２月のＪ．Ｖａｃ．Ｓｃｉ．Ｔｅｃｈｎｏｌ．１９（４）におけるＤ．Ｃ．Ｆｌａｎｄｅｒｓによる「Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ ｏｆ １００ Ａ ｌｉｎｅｗｉｄｔｈ ｓｔｒｕｃｔｕｒｅｓ ｆａｂｒｉｃａｔｅｄ ｂｙ ｓｈａｄｏｗｉｎｇ ｔｅｃｈｎｉｑｕｅｓ」、並びに１９８３年３月１５日のＡｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．４２（６）４９２〜４９４ページにおけるＤａｌｅ Ｃ．Ｆｌａｎｄｅｒｓによる「Ｓｕｂｍｉｃｒｏｎ ｐｅｒｉｏｄｉｃｉｔｙ ｇｒａｔｉｎｇｓ ａｓ ａｒｔｉｆｉｃｉａｌ ａｎｉｓｏｔｒｏｐｉｃ ｄｉｅｌｅｃｔｒｉｃｓ」を参照されたい。
ｐ偏光の高い透過率、高いコントラスト、及び／又は小さいピッチを有した、耐久性のあるワイヤグリッド偏光子を提供することが有利になることが認識されていた。また、ｓ偏光の高い吸収率又は高い反射率は、設計に応じて重要になり得る。自由度が増したワイヤグリッド偏光子を提供することが有利になることが認識されていた。本発明は、ワイヤグリッド偏光子の様々な実施形態、及びワイヤグリッド偏光子を作成する様々な方法に関する。様々な実施形態又は方法のそれぞれは、これらのニーズのうち１又は複数を満たし得る。
１つの実施形態において、ワイヤグリッド偏光子は、基板の表面上に配置された互いに平行な細長い複数のナノ構造のアレイを備え得る。複数のナノ構造のそれぞれは、それぞれが互いに対して側面で向き合わされた互いに平行な細長いワイヤの組を含み得る。複数のワイヤの組のそれぞれのワイヤは、下部リブの上に配置された上部リブを含み得る。複数のワイヤの組の間には、第１の間隙が配置され得る。第１の間隙は、隣接する複数の上部リブの間、及び隣接する複数の下部リブの間に延在し得る。複数のナノ構造のそれぞれは、隣接する複数のナノ構造の間、従って隣接する複数のワイヤの複数の組の間に配置された第２の間隙によって、隣接するナノ構造から分離され得る。第１の間隙の第１の間隙幅は、第２の間隙の第２の間隙幅と異なり得る。
別の実施形態において、ワイヤグリッド偏光子は基板の表面上に配置された互いに平行な細長い複数のナノ構造のアレイを備え得る。複数のナノ構造のそれぞれは、それぞれが互いに対して側面で向き合わされた互いに平行な細長い複数の上部リブの組と、複数の上部リブの組の間に配置された第１の間隙とを含み得る。複数のナノ構造のそれぞれは、隣接する複数のナノ構造の間、従って隣接する複数の上部リブの複数の組の間に配置された第２の間隙によって、隣接するナノ構造から分離され得る。第２の間隙の第２の間隙幅とは異なる、第１の間隙の第１の間隙幅が存在し得る。
ワイヤグリッド偏光子の作成方法は、次の複数の段階のいくつか又は全てを備え得る。
１．基板の上に配置された互いに平行な細長い複数のサポートリブのアレイを有し、複数のサポートリブ間には固形物のない複数のサポートリブ間隙を有する透過性基板を提供する段階。
２．基板及び複数のサポートリブを材料層でコンフォーマルコーティングするとともに、複数のサポートリブ間の複数のサポートリブ間隙を保持する段階。
３．材料層をエッチングして複数の水平部分を取り除き、複数のサポートリブの複数の側面に沿って、上部リブがサポートリブのそれぞれの側面に沿って配置されたそれぞれのサポートリブ用の複数の上部リブの組を含む、互いに平行な細長い複数の上部リブのアレイを残す段階。
４．複数のサポートリブ間隙、及び複数のサポートリブの上端の上方を、第１の充填材料で埋め戻す段階であり、第１の充填材料及び複数のサポートリブは、類似のエッチング特性を有する。
５．第１の充填材料を、複数の上部リブの上端及び複数のサポートリブの上端までエッチングする段階。
６．複数のサポートリブ及び複数のサポートリブ間隙内の第１の充填材料を、複数の上部リブの基部までエッチングする段階。
本願発明の一実施形態に従うワイヤグリッド偏光子１０の側断面概略図であり、互いに平行な細長い複数のナノ構造１５のアレイを備え、複数のナノ構造１５のそれぞれは、それぞれが互いに対して側面で向き合わされた互いに平行な細長いワイヤ１６の組を含み、それぞれは下部リブ１４の上に配置された上部リブ１２を含み、複数の上部リブ１２の組の間には第１の間隙Ｇ１が配置され、複数のナノ構造１５のそれぞれは第２の間隙Ｇ２によって隣接するナノ構造１５から分離されている。
本願発明の一実施形態に従うワイヤグリッド偏光子２０の側断面概略図であり、ワイヤグリッド偏光子１０と類似するが、複数の第１の間隙Ｇ１及び複数の第２の間隙Ｇ２内に配置された第２の充填材料２１も含み、第２の充填材料２１はナノ構造１５の上端１５ｔの上方に延在している。
本願発明の一実施形態に従うワイヤグリッド偏光子３０の側断面概略図であり、ワイヤグリッド偏光子１０と類似するが、複数の第１の間隙Ｇ１及び複数の第２の間隙Ｇ２内に配置された第２の充填材料２１も含み、第２の充填材料２１は複数のナノ構造１５の上端１５ｔ又はそれより下で境界を成し、第２の充填材料２１が複数の第２の充填材料リブ２１ｒのアレイを形成するように、複数のナノ構造１５は１つの間隙Ｇ内の第２の充填材料２１を隣接する間隙Ｇ内の第２の充填材料２１から分離している。
本願発明の一実施形態に従うワイヤグリッド偏光子９０の側断面概略図であり、互いに平行な細長い複数のナノ構造１５のアレイを備え、複数のナノ構造１５のそれぞれは、それぞれが互いに対して側面で向き合わされた互いに平行な細長い複数の上部リブ１２の組を含み、複数の上部リブ１２の組の間には第１の間隙Ｇ１が配置され、複数のナノ構造１５のそれぞれは、第２の間隙Ｇ２によって隣接するナノ構造１５から分離されている。
図１〜図１０は、本発明の複数の実施形態に従うワイヤグリッド偏光子の製造方法を示す側断面概略図である。
本願発明の一実施形態に従って、基板１１の上に配置された互いに平行な細長い複数のサポートリブ１３のアレイを有し、複数のサポートリブ１３間に固形物のない複数のサポートリブ間隙Ｇｓを有する、基板１１を提供する段階を示す。
本願発明の一実施形態に従って、基板１１及び複数のサポートリブ１３を材料層５２でコンフォーマルコーティングするとともに、複数のサポートリブ１３の間に複数のサポートリブ間隙Ｇｓを保持する段階を示す。図５はまた、本願発明の一実施形態に従って、材料層５２をエッチングして複数の水平部分５２ｈを取り除き、複数のサポートリブ１３の複数の側面に沿って、上部リブ１２がサポートリブ１３のそれぞれの側面に沿って配置されたそれぞれのサポートリブ１３用の複数の上部リブ１２の組を含む、互いに平行な細長い複数の上部リブ１２のアレイを残す段階を示す。
本願発明の一実施形態に従って、材料層５２をエッチングして複数の水平部分５２ｈを取り除き、複数のサポートリブ１３の複数の側面に沿って、上部リブ１２がサポートリブ１３のそれぞれの側面に沿って配置されたそれぞれのサポートリブ１３用の複数の上部リブ１２の組を含む、互いに平行な細長い複数の上部リブ１２のアレイを残す段階を示す。
本願発明の一実施形態に従って、複数のサポートリブ間隙Ｇｓ、及び複数のサポートリブ１３の上端１３ｔの上方を固形の第１の充填材料７１で埋め戻す段階を示す。
本願発明の一実施形態に従って、第１の充填材料７１を、少なくとも複数の上部リブ１２の上端１２ｔ及び複数のサポートリブ１３の上端１３ｔまでエッチングする段階を示す。
図９はまた、本願発明の一実施形態に従って、複数のサポートリブ１３、及び複数のサポートリブ間隙Ｇｓ内の第１の充填材料７１を、複数の上部リブ１２の基部１２ｂまでエッチングする段階を示す。
本願発明の一実施形態に従って、複数の上部リブ１２をマスクに用い、複数の上部リブ１２間の基板１１のエッチング１０１を行い、これにより、互いに平行な細長い複数の下部リブ１４のアレイを形成する段階を示す。それぞれの下部リブ１４は上部リブ１２の下に配置され、それぞれの上部リブ１２及び下部リブ１４は共にワイヤ１６を画定し、隣接する複数のワイヤ１６の間に複数の間隙Ｇを有する。
図１はまた、本願発明の一実施形態に従って、複数の上部リブ１２をマスクに用い、複数の上部リブ１２間の基板１１のエッチング１０１を行い、これにより、互いに平行な細長い複数の下部リブ１４のアレイを形成する段階を示す。それぞれの下部リブ１４は上部リブ１２の下に配置され、それぞれの上部リブ１２及び下部リブ１４は共にワイヤ１６を画定し、隣接する複数のワイヤ１６の間に複数の間隙Ｇを有する。
図２はまた、本願発明の一実施形態に従って、複数のワイヤ１６の間の複数の間隙Ｇ、及び複数のワイヤ１６の上端１６ｔの上方を、第２の充填材料２１で埋め戻す段階を示す。
図３はまた、本願発明の一実施形態に従って、第２の充填材料２１を、少なくとも複数のワイヤ１６の上端１６ｔまでエッチングし、それぞれの間隙Ｇ内に第２の充填材料リブ２１ｒを形成する段階を示す。
［図面の参照番号］
１０：ワイヤグリッド偏光子
１１：基板
１１ｓ：基板表面
１２：上部リブ
１２ｂ：上部リブの基部
１２ｂｐ：上部リブの基部における共通面
１２ｔｐ：上部リブの上端における共通面
１２ｔ：上部リブの上端
１３：サポートリブ
１３ｔ：サポートリブの上端
１４：下部リブ
１４ｔ：下部リブの上端
１５：ナノ構造
１５ｂ：ナノ構造の基部
１５ｂｐ：ナノ構造の基部における共通面
１５ｔ：ナノ構造の上端
１５ｔｐ：ナノ構造の上端における共通面
１６：ワイヤ
１６ａ：ワイヤの組の個々のワイヤ
１６ｂ：ワイヤの組の個々のワイヤ
１６ｔ：ワイヤの上端
２０：ワイヤグリッド偏光子
２１：第２の充填材料
２１ｒ：第２の充填材料リブ
２１ｒ１：第１の間隙内の第２の充填材料リブ
２１ｒ２：第２の間隙内の第２の充填材料リブ
３０：ワイヤグリッド偏光子
５１：エッチング
５２：材料層
５２ｈ：材料層の水平部分
５２ｖ：材料層の鉛直部分
７１：第１の充填材料
９０：ワイヤグリッド偏光子
１０１：エッチング
Ｇ：間隙
Ｇ１：第１の間隙
Ｇ２：第２の間隙
Ｇｓ：サポートリブ間隙
Ｔ１２：上部リブ厚
Ｔ１４：下部リブ厚
Ｔ１６：ワイヤ厚
Ｗ１：第１の間隙幅
Ｗ２：第２の間隙幅
Ｗ１２：上部リブ幅
Ｗ１３：サポートリブ幅
Ｗ１４：下部リブ幅
Ｗ１６：ワイヤ幅
Ｗ５２：材料層の幅
［定義］
複数の光学構造に用いられる多くの材料は、ある程度の光を吸収し、ある程度の光を反射し、またある程度の光を透過する。以下の複数の定義は、主に吸収性、主に反射性、又は主に透過性を有する複数の材料又は複数の構造の間を区別することが意図されている。
１．本明細書に用いられたように、「吸収性」という用語は、対象波長の光を十分に吸収することを意味する。
（ａ）材料が「吸収性」を有するか否かは、偏光子に用いられる他の複数の材料と相対的である。従って、吸収性構造は、反射性構造又は透過性構造よりも十分に吸収する。
（ｂ）材料が「吸収性」を有するか否かは、対象波長に依存する。材料は、１つの波長範囲において吸収性を有し得るが、別の波長範囲においては吸収性を有しないことがある。
（ｃ）１つの態様において、吸収性構造は、４０％を上回る対象波長の光を吸収し、６０％を下回る対象波長の光を反射し得る（吸収性構造は光学的に厚いフィルム、すなわち表皮の厚さより厚いと仮定する）。
（ｄ）複数の吸収性リブは、光の１つの偏光を選択的に吸収するために用いられ得る。
２．本明細書に用いられたように、「反射性」という用語は、対象波長において十分に光を反射することを意味する。
（ａ）材料が「反射性」を有するか否かは、偏光子に用いられる他の複数の材料と相対的である。従って、反射性構造は、吸収性構造又は透過性構造よりも十分に反射する。
（ｂ）材料が「反射性」を有するか否かは、対象波長に依存する。材料は、１つの波長範囲において反射性を有し得るが、別の波長範囲においては反射性を有しないことがある。いくつかの波長範囲では、複数の高反射性材料が効果的に利用され得る。他の複数の波長範囲、特に、材料劣化が生じる可能性がより高い低波長側では、材料の選択がより限られるので、光学設計者は、所望するより低い反射率の材料を受け入れる必要があり得る。
（ｃ）１つの態様において、反射性構造は、８０％を上回る対象波長の光を反射し、２０％を下回る対象波長の光を吸収し得る（反射性構造は光学的に厚いフィルム、すなわち表皮の厚さより厚いと仮定する）。
（ｄ）複数の金属が、反射性材料に用いられることが多い。
（ｅ）複数の反射性ワイヤが、光の１つの偏光を、光の反対の偏光から分離するために用いられ得る。
３．本明細書に用いられたように、「透過性」という用語は、対象波長の光に対して十分に透過性を有することを意味する。
（ａ）材料が「透過性」を有する否かは、偏光子に用いられる他の複数の材料と相対的である。従って、透過性構造は、吸収性構造又は反射性構造よりも十分に透過する。
（ｂ）材料が「透過性」を有するか否かは、対象波長に依存する。材料は、１つの波長範囲において透過性を有し得るが、別の波長範囲においては透過性を有しないことがある。
（ｃ）１つの態様において、透過性構造は、９０％を上回る対象波長の光を透過し、１０％を下回る対象波長の光を吸収し得る。
４．これらの定義に用いられたように、「材料」という用語は、特定の構造の全体的な材料を指す。従って、「吸収性」の構造は、材料が反射性又は透過性の成分をいくらか含み得るとしても、全体として十分に吸収性を有する材料で作成される。従って、例えば、光を十分に吸収するように、十分な量の吸収性材料で作成されたリブは、その中に埋め込まれた反射性又は透過性の材料をいくらか含んでいるとしても、吸収性リブである。
５．本明細書に用いられたように、「光」という用語は、Ｘ線、紫外線、可視光線、及び／又は赤外線、又は電磁スペクトルの他の複数の領域における、光又は電磁放射を意味する。
６．本明細書に用いられたように、「基板」という用語は、例えば、ガラスウェハなどの基材を含む。「基板」という用語は単一の材料を含み、また、複数の材料、例えば、基材として共に用いられるウェハ表面に少なくとも１つの薄膜を有するガラスウェハなども含む。
図１〜図３に例示されたように、ワイヤグリッド偏光子１０、２０、及び３０が示され、これらは基板１１の表面１１ｓの上に配置された互いに平行な細長い複数のナノ構造１５のアレイを備える。基板は１枚のガラス又はウェハであり得て、２つの相対する平面状の表面を有する薄い基板である。複数のナノ構造１５のそれぞれは、それぞれが互いに対して側面で向き合わされた互いに平行な細長いワイヤ１６の組（例えば、１６ａ及び１６ｂを参照）を含み得る。複数のワイヤ１６の組のそれぞれのワイヤ１６は、下部リブ１４の上に配置された上部リブ１２を含み得る。複数のワイヤ１６の組の２つのワイヤ１６の間には、第１の間隙Ｇ１が配置され得る。第１の間隙Ｇ１は、隣接する複数の上部リブ１２の間、及び隣接する複数の下部リブ１４の間に延在し得る。複数のナノ構造１５のそれぞれは、隣接する複数のナノ構造１５の間、従って隣接する複数のワイヤ１６の複数の組の間に配置された第２の間隙Ｇ２によって、隣接するナノ構造１５から分離され得る。第１の間隙Ｇ１及び／又は第２の間隙Ｇ２は、空気で満たされた複数の間隙Ｇ（図１を参照）であり得る。第１の間隙Ｇ１及び／又は第２の間隙Ｇ２は、部分的又は完全に固形材料で充填され得る（図２〜図３の２１を参照）。第１の間隙Ｇ１の幅Ｗ１と第２の間隙Ｇ２の幅Ｗ２との比較が以下に説明される。
第１の間隙Ｇ１及び第２の間隙Ｇ２は、複数のナノ構造１５の基部１５ｂから、複数のナノ構造１５の上端１５ｔに延在し得る。複数のナノ構造１５の基部１５ｂは、共通面１５ｂｐにおいて実質的に境界を成し得る。複数のナノ構造１５の上端１５ｔは、共通面１５ｔｐにおいて実質的に境界を成し得る。複数の上部リブ１２の基部１２ｂは、共通面１２ｂｐにおいて実質的に境界を成し、また複数の下部リブ１４の上端１４ｔも、本共通面１２ｂｐにおいて実質的に境界を成し得る。
図２〜図３に示されたように、固形の第２の充填材料２１は、複数の第１の間隙Ｇ１内と複数の第２の間隙Ｇ２内に配置され得る。図２のワイヤグリッド偏光子２０に示されたように、第２の充填材料２１は、複数のナノ構造１５の上端１５ｔの上方にさらに延在し得る。図３のワイヤグリッド偏光子３０に示されたように、第２の充填材料２１は、複数のナノ構造１５の上端１５ｔ又はその下で境界を成し得て、複数のナノ構造１５は、第２の充填材料２１が第２の充填材料リブ２１ｒのアレイを形成するように、１つの間隙Ｇ内の第２の充填材料２１を隣接する間隙Ｇ内の第２の充填材料２１から分離し得る。従って、例えば、複数のナノ構造１５は、複数の第１の間隙Ｇ１内の複数の第２の充填材料リブ２１ｒ１を、複数の第２の間隙Ｇ２内の複数の第２の充填材料リブ２１ｒ２から分離する。第２の充填材料２１は、ワイヤグリッド偏光子の耐久性を向上させ得るが、ｐ偏光の透過率を減らすことなどによって、ワイヤグリッド偏光子の性能に悪影響も及ぼし得る。それぞれのワイヤグリッド偏光子の設計では、耐久性へのニーズは、可能性のある性能劣化に対してバランスを取ったものになり得る。
図９に例示されたように、ワイヤグリッド偏光子９０が示され、これは基板１１の表面１１ｓの上に配置された、互いに平行な細長い複数のナノ構造１５のアレイを備える。複数のナノ構造１５のそれぞれは、それぞれが互いに対して側面で向き合わされた互いに平行な細長い複数の上部リブ１２の組と、複数の上部リブ１２の組の間に配置された第１の間隙Ｇ１とを含み得る。複数のナノ構造１５のそれぞれは、隣接する複数のナノ構造１５の間、従って隣接する複数の上部リブ１２の複数の組の間に配置された第２の間隙Ｇ２によって、隣接するナノ構造１５から分離され得る。第１の間隙Ｇ１及び第２の間隙Ｇ２は、複数の上部リブ１２の基部１２ｂから複数の上部リブ１２の上端１２ｔに延在し得る。複数の上部リブ１２の上端１２ｔは、共通面１２ｔｐにおいて実質的に境界を成し得て、基板１１ｓの上面は、共通面１２ｂｐにおいて実質的に境界を成し得て、また複数の上部リブ１２の基部１２ｂは、基板１１の上面１１ｓにおける共通面１２ｂｐにおいて実質的に境界を成し得る。第１の間隙Ｇ１及び／又は第２の間隙Ｇ２は、空気で満たされた複数の間隙Ｇであり得る。代わりに、第１の間隙Ｇ１及び／又は第２の間隙Ｇ２は、部分的又は完全に固形材料で充填され得る（例えば、図２〜図３に示された第２の充填材料２１を図９に示された偏光子９０に加える）。第１の間隙Ｇ１の幅Ｗ１と第２の間隙Ｇ２の幅Ｗ２との比較が以下に説明される。
［ワイヤグリッド偏光子の作成方法］
ワイヤグリッド偏光子の作成方法は、以下の複数の段階のいくつか又は全てを備え得る。これらの段階は、指定された順序で順番に実行され得る。
１．基板１１の上に配置された互いに平行な細長い複数のサポートリブ１３のアレイを有し、複数のサポートリブ１３の間には固形物のない複数のサポートリブ間隙Ｇｓを持つ基板１１を提供する段階。図４を参照。
（ａ）本段階は、基板１１のパターニングし、エッチングすることによって実現され得る。
（ｂ）基板は均質であり、例えばガラスのウェハなど、単一の材料で作成され得る。複数のサポートリブ１３は基板１１をエッチングすることによって形成され得て、これにより、最終的な基板１１から一体的に形成され、またこれと同一の材料で形成され得る。代わりに、基板１１及び複数のサポートリブ１３は、異なる複数の材料で形成され得る。
（ｃ）基板１１は複数の領域１１ａ、１１ｂを含み得る。領域１１ａは、複数の下部リブ１４の最終的な材料（例えば、透過性、吸収性、又は反射性の材料）になり得て、また領域１１ｂは、複数のワイヤ１６の下の最終的な基板１１になり得る。
２．基板１１及び複数のサポートリブ１３を、材料層５２でコンフォーマルコーティングするとともに、複数のサポートリブ１３の間に複数のサポートリブ間隙Ｇｓを保持する段階。コンフォーマルコーティングは、例えば、原子層堆積（ＡＬＤ）又はスパッタリングなど、様々な方法によって行われ得る。図５を参照。材料層５２は、次の段階で形成される複数の上部リブ１２の材料であり得る。
３．材料層５２をエッチング５１して複数の水平部分５２ｈを取り除き、複数のサポートリブ１３の複数の側面に沿って、上部リブ１２がサポートリブ１３のそれぞれの側面に沿って配置されたそれぞれのサポートリブ１３用の複数の上部リブ１２の組を含む、互いに平行な細長い複数の上部リブ１２のアレイを残す段階。異方性エッチング５１は、複数の水平部分５２ｈをエッチング除去するが、本エッチング５１の指向性に起因して、複数の鉛直部分５２ｖのほとんどは残り得る。図５〜図６を参照。
４．複数のサポートリブ間隙Ｇｓ及び複数のサポートリブ１３の上端１３ｔの上方を、固形の第１の充填材料７１で埋め戻す段階。図７を参照。第１の充填材料７１は、含まれた溶媒を蒸発させた後に硬化し得る液体を回転塗布することによって、形成され得る。例えば、溶媒中の液状ガラスを回転塗布し、次にベークして溶媒を蒸発させる。別の方法は、原子層堆積（ＡＬＤ）によって複数の層を適用している。
５．第１の充填材料７１を、複数の上部リブ１２の上端１２ｔ、及び複数のサポートリブ１３の上端１３ｔまでエッチングする段階。図８を参照。
６．複数のサポートリブ１３、及び複数のサポートリブ間隙Ｇｓ内の第１の充填材料７１を、複数の上部リブ１２の基部１２ｂまでエッチングする段階。第１の充填材料７１及び複数のサポートリブ１３は類似のエッチング特性を有し、かつエッチングは、複数の上部リブ１２のエッチングを最小限にして、第１の充填材料７１及び複数のサポートリブ１３を優先的にエッチングするように選択され得る。図９を参照。
７．複数の上部リブ１２をマスクに用い、複数の上部リブ１２の間の基板１１のエッチング１０１を行い、これにより、互いに平行な細長い複数の下部リブ１４のアレイを形成する段階。それぞれの下部リブ１４は上部リブ１２の下に配置され、それぞれの上部リブ１２及び下部リブ１４は共にワイヤ１６を画定し、隣接する複数のワイヤ１６の間に複数の間隙Ｇを有する。図１及び図１０を参照。エッチングは、複数の上部リブ１２のエッチングを最小限にして、基板１１を優先的にエッチングするように選択され得る。残っている基板１１は透過性を有し得る。
８．複数のワイヤ１６の間の複数の間隙Ｇ、及び複数のワイヤ１６の上端１６ｔの上方を、第２の充填材料２１で埋め戻す段階。図２を参照。
９．第２の充填材料２１を、少なくとも複数のワイヤ１６の上端１６ｔまでエッチングし、それぞれの間隙Ｇ内に複数の第２の充填材料リブ２１ｒを形成する段階。図３を参照。
［間隙幅（Ｗ１及びＷ２）の関係］
上述の複数の偏光子（１０、２０、３０、及び９０）では、第１の間隙Ｇ１の第１の間隙幅Ｗ１は、第２の間隙Ｇ２の第２の間隙幅Ｗ２と異なり得る。第２の間隙幅Ｗ２に対して第１の間隙幅Ｗ１を変えると、ｐ偏光の透過率（Ｔｐ）及びｓ偏光の透過率（Ｔｓ）に影響を及ぼし得る。２つの間隙Ｇの間の本関係の影響は、波長に依存する。一方の間隙幅（Ｗ１又はＷ２）を他方の間隙幅（Ｗ２又はＷ１）に対して調整でき、これにより、ワイヤグリッド偏光子設計を最適化する際に追加の自由度が偏光子の設計者に与えられると、光の特定の波長又は波長の範囲に対して偏光子の最適化が可能になる。
使用する所望の波長範囲、及び全体的な偏光子構造に応じて、様々な２つの間隙幅の比がある。例えば、１つの態様では２つの間隙幅の比は１．０５から１．３まで、別の態様では１．３から１．５まで、別の態様では１．５から２．０まで、別の態様では１．１５より大きく、又は別の態様では２．０より大きくなり得る。換言すれば、１つの態様では、第１の間隙幅Ｗ１又は第２の間隙幅Ｗ２のうち大きい方を、第１の間隙幅Ｗ１又は第２の間隙幅Ｗ２のうち小さい方で割った値が、１．０５より大きいか又はこれに等しく、かつ１．３より小さいか又はこれと等しい（
Figure 0006550681
 ）、別の態様では、１．３より大きいか又はこれに等しく、かつ１．５より小さいか又はこれと等しい（
Figure 0006550681
 ）、別の態様では、１．５より大きいか又はこれに等しく、かつ２．０より小さいか又はこれと等しい（
Figure 0006550681
 ）、別の態様では、１．１５より大きい（
Figure 0006550681
 ）、又は別の態様では、２．０より大きく（
Figure 0006550681
 ）なり得る。第１の間隙幅Ｗ１と第２の間隙幅Ｗ２との差は、１つの態様では５ｎｍと２０ｎｍとの間、別の態様では１９ｎｍと４０ｎｍとの間、又は３９ｎｍと１００ｎｍとの間であり得る。第１の間隙幅Ｗ１と第２の間隙幅Ｗ２との差は、１つの態様では少なくとも５ｎｍ、別の態様では少なくとも１０ｎｍ、又は別の態様では少なくとも２５ｎｍであり得る。
第１の間隙幅Ｗ１は、サポートリブ幅Ｗ１３と同一、又はほとんど同一であり得る。第２の間隙幅Ｗ２は、サポートリブ間隙幅ＷＧｓからワイヤ幅Ｗ１６の２倍を差し引いたもの（Ｗ２＝ＷＧｓ−２＊Ｗ１６）にほとんど等しい。サポートリブ間隙幅ＷＧｓ及びサポートリブ幅Ｗ１３は、複数のサポートリブ１３の形成に用いられるリソグラフィ技術（マスクリソグラフィ、干渉リソグラフィなど）によって制御され得る。ワイヤ幅Ｗ１６は、材料層の幅Ｗ５２によって制御され得て、用いられる堆積技術（例えば、ＡＬＤ又はスパッタリング）、及び本材料層５２の堆積時間によって決定され得る
複数の上部リブ１２の幅Ｗ１２は、複数の下部リブ１４の幅Ｗ１４と同一、又はほとんど同一であり得て、これによりワイヤ幅Ｗ１６に等しくなり得る。代わりに、複数の上部リブ１２をマスクに用いて複数の下部リブ１４を形成すべく用いられるエッチングの性質、並びに、複数の上部リブ１２及び複数の下部リブ１４に用いられる材料に応じて、上部リブ幅Ｗ１２は、下部リブ幅Ｗ１４と異なり得る。例えば、エッチングが高い等方性を有する場合、また複数の下部リブ１４が複数の上部リブ１２より容易にエッチングされる場合、その時には、これらの幅は互いに異なり得る。所望の波長及び耐久性におけるワイヤグリッド性能は、これらの幅が同一であるべきか、または異なるべきかを決定する際に検討する要素である。
実際のワイヤグリッド偏光子の幅測定は、図面上の測定ほど正確ではない場合がある。その理由は、複数のワイヤ１６、又は複数のリブ１２及び１４は、一方に傾き得るので、上端から下端までの幅が変わり得るからである。従って、これらの幅が上記に指定された要件に含まれるかどうかを判断すべく、どこを測定すべきかという問題がある場合には、次に複数の上部リブ１２の基部１２ｂで測定する。
［全ての実施形態の一般的な情報］
上部リブ１２、下部リブ１４、又は第２の充填材料リブ２１ｒのうち少なくとも１つは、入射光の１つの偏光状態を十分に吸収すべく、吸収性を有し得る。上部リブ１２、下部リブ１４、又は第２の充填材料リブ２１ｒのうち少なくとも１つは、透過性を有し得る。上部リブ１２、下部リブ１４、又は第２の充填材料リブ２１ｒのうち少なくとも１つは、入射光を十分に偏光すべく、反射性を有し得る。基板１１及び／又は第２の充填材料２１は、透過性を有し得る。
２０１１年１２月１５日に出願された米国特許出願第１３／３２６，５６６号、米国特許第７，５７０，４２４号、及び同第７，９６１，３９３号は、それらの全体を参照によって本明細書に組み込まれたものとし、可能性のある複数の基板材料、複数の吸収性誘電体材料及び複数の透過性誘電体材料を含む複数の誘電体材料、並びに複数の反射性材料に関する複数の例を提供する。また、複数の反射性材料は、所望のレベルの伝導率を実現すべくドープされた半導体材料、又は複数の特定の形態の炭素など他の複数のタイプの導体で作成され得る。
本明細書に説明された複数のワイヤグリッド偏光子は、比較的高いアスペクト比（上部リブ厚を上部リブ幅で割ったＴ１２／Ｗ１２、下端リブ厚を下部リブ幅で割ったＴ１４／Ｗ１４、及び／又はワイヤ厚をワイヤ幅で割ったＴ１６／Ｗ１６）で作成され得る。大きいアスペクト比は、材料層５２の幅Ｗ５２（これが最終的な上部リブ幅Ｗ１２に近づき得る）との関連で比較的高いサポートリブ１３を形成することによって、及び／又は、下部リブ１４の形成の間に深くエッチングすることによって、実現され得る。
モデリングにより、所望の偏光波長及び全体的なワイヤグリッド偏光子設計に応じて、１つの態様では８と６０との間、別の態様では４と７との間、又は別の態様では３と８との間の（上部リブ１２、下部リブ１４、又はワイヤ１６の）アスペクト比で、良好な偏光特性が示された。モデリングにより、いくつかの紫外線波長の偏光では、５ｎｍと２０ｎｍとの間のワイヤ幅Ｗ１６で、良好な偏光特性が示された。モデリングにより、所望の偏光波長に応じて、１つの態様では５０ｎｍと１００ｎｍとの間、別の態様では９０ｎｍと１６０ｎｍとの間、又は別の態様では１５０ｎｍと３００ｎｍとの間の上部リブ厚Ｔ１２で良好な偏光特性が示された。
リソグラフィ技術は、可能な最小ピッチを制限し得る。リソグラフィ技術は、複数のサポートリブ１３のピッチを制限し得るが、２つのワイヤ１６はサポートリブ１３毎に形成され得るので、実質的にピッチを半分に区切る。この小さいピッチで、より効果的な偏光が可能になり、また低波長側での偏光が可能になる。
（項目１）
ワイヤグリッド偏光子であって、
（ａ）透過性基板の表面上に配置された互いに平行な細長い複数のナノ構造のアレイであって、上記複数のナノ構造のそれぞれは、
（ｉ）それぞれが互いに対して側面で向き合わされた互いに平行な細長い複数のワイヤの組と、
（ｉｉ）下部リブの上に配置された上部リブを含む、複数のワイヤの上記組のそれぞれのワイヤと、
（ｉｉｉ）複数のワイヤの上記組の間に配置され、隣接する複数の上部リブと隣接する複数の下部リブとの間に延在する第１の間隙とを有するアレイとを、
備え、
（ｂ）上記複数のナノ構造のそれぞれは、隣接する複数のナノ構造の間、従って隣接する複数のワイヤの複数の組の間に配置された第２の間隙によって、隣接するナノ構造から分離され、
（ｃ）上記第１の間隙の第１の間隙幅は、上記第２の間隙の第２の間隙幅と異なる、
ワイヤグリッド偏光子。
（項目２）
（ａ）上記上部リブ又は上記下部リブのうち一方は、入射光の１つの偏光状態を十分に吸収すべく吸収性を有し、
（ｂ）上記上部リブ又は上記下部リブのうち他方は、入射光を十分に偏光すべく反射性を有する、
項目１に記載のワイヤグリッド偏光子。
（項目３）
上記第１の間隙幅又は上記第２の間隙幅のうち大きい方を、上記第１の間隙幅又は上記第２の間隙幅のうち小さい方で割った値が、１．１より大きいか又はこれに等しく、かつ１．３より小さいか又はこれと等しい、
項目１に記載のワイヤグリッド偏光子。
（項目４）
上記第１の間隙幅又は上記第２の間隙幅のうち大きい方を、上記第１の間隙幅又は上記第２の間隙幅のうち小さい方で割った値が、１．３より大きいか又はこれに等しく、かつ１．５より小さいか又はこれと等しい、
項目１に記載のワイヤグリッド偏光子。
（項目５）
上記第１の間隙幅と上記第２の間隙幅との差が、５ｎｍと２０ｎｍとの間である、
項目１に記載のワイヤグリッド偏光子。
（項目６）
上記第１の間隙幅と上記第２の間隙幅との差が、１９ｎｍと４０ｎｍとの間である、
項目１に記載のワイヤグリッド偏光子。
（項目７）
上記第１の間隙幅と上記第２の間隙幅との差は、少なくとも１０ｎｍである、
項目１に記載のワイヤグリッド偏光子。
（項目８）
上記第１の間隙及び上記第２の間隙は、上記複数のナノ構造の基部から上記複数のナノ構造の上端まで延在する、
項目１に記載のワイヤグリッド偏光子。
（項目９）
上記複数のナノ構造の基部は、共通面において実質的に境界を成し、また上記複数のナノ構造の上端は、共通面において実質的に境界を成す、
項目１に記載のワイヤグリッド偏光子。
（項目１０）
上記複数のナノ構造の上端は、共通面において実質的に境界を成し、上記複数のナノ構造の基部は、共通面において実質的に境界を成し、また上記複数の上部リブの基部は共通面において実質的に境界を成す、
項目１に記載のワイヤグリッド偏光子。
（項目１１）
複数の上記第１の間隙及び複数の上記第２の間隙内に配置された固形の第２の充填材料をさらに備える、
項目１に記載のワイヤグリッド偏光子。
（項目１２）
上記第２の充填材料は、上記複数のナノ構造の上端の上方に延在し、また上記第２の充填材料は、入射光に対して十分に透過性を有する、
項目１１に記載のワイヤグリッド偏光子。
（項目１３）
上記第２の充填材料は、上記複数のナノ構造の上端において、又はその下で境界を成し、上記複数のナノ構造は、上記第２の充填材料が複数の第２の充填材料リブのアレイを形成するように、１つの間隙内の上記第２の充填材料を隣接する間隙内の上記第２の充填材料から分離する、
項目１１に記載のワイヤグリッド偏光子。
（項目１４）
（ａ）入射光の１つの偏光状態を十分に吸収すべく、上記複数の上部リブ、上記複数の下部リブ、または上記複数の第２の充填材料リブのうち少なくとも１つは吸収性を有し、
（ｂ）入射光を十分に偏光すべく、上記複数の上部リブ、上記複数の下部リブ、または上記複数の第２の充填材料リブのうち少なくとも１つは反射性を有する、
項目１３に記載のワイヤグリッド偏光子。
（項目１５）
複数の上記第１の間隙及び複数の上記第２の間隙は、空気で満たされた複数の間隙である、
項目１に記載のワイヤグリッド偏光子。
（項目１６）
ワイヤグリッド偏光子であって、
（ａ）透過性基板の表面上に配置された互いに平行な細長い複数のナノ構造のアレイであって、上記複数のナノ構造のそれぞれは、
（ｉ）それぞれが互いに対して側面で向き合わされた互いに平行な細長い複数の上部リブの組と、
（ｉｉ）入射光を十分に偏光すべく反射性を有する上記複数の上部リブと
（ｉｉｉ）複数の上部リブの上記組の間に配置された第１の間隙とを含むアレイとを、
備え、
（ｂ）上記複数のナノ構造のそれぞれは、隣接する複数のナノ構造の間、従って隣接する複数の上部リブの複数の組の間に配置された第２の間隙によって、隣接するナノ構造から分離され、
（ｃ）上記第１の間隙の第１の間隙幅は、上記第２の間隙の第２の間隙幅と異なり、
（ｄ）上記第１の間隙幅又は上記第２の間隙幅のうち大きい方を、上記第１の間隙幅又は上記第２の間隙幅のうち小さい方で割った値が、１．１５より大きく、
（ｅ）上記第１の間隙及び上記第２の間隙は、上記複数の上部リブの基部から上記複数の上部リブの上端まで延在し、
（ｆ）上記複数の上部リブの上端は共通面において実質的に境界を成し、上記基板の上面は共通面において実質的に境界を成し、また上記複数の上部リブの基部は、上記基板の上記上面における上記共通面において実質的に境界を成す、
ワイヤグリッド偏光子。
（項目１７）
複数の上記第１の間隙及び複数の上記第２の間隙は、空気で満たされた複数の間隙である、
項目１６に記載のワイヤグリッド偏光子。
（項目１８）
以下の複数の段階を順番に備えるワイヤグリッド偏光子を作成する方法であって、
（ａ）基板の上に配置された互いに平行な細長い複数のサポートリブのアレイを有し、上記複数のサポートリブの間には固形物のない複数のサポートリブ間隙を有する上記基板を提供する段階と、
（ｂ）上記基板及び上記複数のサポートリブを、材料層でコンフォーマルコーティングするとともに、上記複数のサポートリブの間に上記複数のサポートリブ間隙を保持する段階と、
（ｃ）上記材料層をエッチングして複数の水平部分を取り除き、上記複数のサポートリブの複数の側面に沿って、上部リブがサポートリブのそれぞれの側面に沿って配置されたそれぞれの上記サポートリブ用の複数の上部リブの組を含む、互いに平行な細長い複数の上部リブのアレイを残す段階と、
（ｄ）上記複数のサポートリブ間隙、及び上記複数のサポートリブの上端の上方を、固形の第１の充填材料で埋め戻す段階であり、上記第１の充填材料及び上記複数のサポートリブは、類似のエッチング特性を有する埋め戻す段階と、
（ｅ）上記第１の充填材料を、上記複数の上部リブの上端、及び上記複数のサポートリブの上端までエッチングする段階と、
（ｆ）上記複数のサポートリブ、及び上記複数のサポートリブ間隙内の上記第１の充填材料を、上記複数の上部リブの基部までエッチングする段階と、
（ｇ）上記複数の上部リブをマスクに用い、複数の上部リブの間の上記基板をエッチングし、これにより互いに平行な細長い複数の下部リブのアレイを形成する段階であって、それぞれの下部リブは上部リブの下に配置され、それぞれの上部リブ及び下部リブは共にワイヤを画定し、隣接する複数のワイヤの間に複数の間隙を有するアレイを形成する段階とを、
備える、方法。
（項目１９）
上記複数のワイヤの間の上記複数の間隙、及び上記複数のワイヤの上端の上方を、第２の充填材料で埋め戻す後続の段階をさらに備える、
項目１８に記載の方法。
（項目２０）
第２の充填材料を、少なくとも上記複数のワイヤの上端までエッチングし、それぞれの間隙内に第２の充填材料リブを形成する段階をさらに備える、
項目１８に記載の方法。

Claims (10)

  1. ワイヤグリッド偏光子であって、
    （ａ）基板の表面上に配置された互いに平行な細長い複数のナノ構造のアレイであって、前記複数のナノ構造のそれぞれは、
    （ｉ）それぞれが互いに対して側面で向き合わされた互いに平行な細長い複数のワイヤの組と、
    （ｉｉ）下部リブの上に配置された上部リブを含む、複数のワイヤの前記組のそれぞれのワイヤと、
    （ｉｉｉ）複数のワイヤの前記組の間に配置され、隣接する複数の上部リブの間、及び、隣接する複数の下部リブの間に延在する第１の間隙とを有する、
    アレイを備え、
    （ｂ）前記複数のナノ構造のそれぞれは、隣接する複数のナノ構造の間、従って隣接する複数のワイヤの複数の組の間に配置された第２の間隙によって、隣接するナノ構造から分離され、
    （ｃ）前記第１の間隙の第１の間隙幅は、前記第２の間隙の第２の間隙幅と異なり、
    （ｄ）前記基板は入射光に対して透過性を有し、
    （ｅ）前記下部リブは、前記基板から一体的に形成されている、
    ワイヤグリッド偏光子。
  2. ワイヤグリッド偏光子であって、
    （ａ）基板の表面上に配置された互いに平行な細長い複数のナノ構造のアレイであって、前記複数のナノ構造のそれぞれは、
    （ｉ）それぞれが互いに対して側面で向き合わされた互いに平行な細長い複数のワイヤの組と、
    （ｉｉ）下部リブの上に配置された上部リブを含む、複数のワイヤの前記組のそれぞれのワイヤと、
    （ｉｉｉ）複数のワイヤの前記組の間に配置され、隣接する複数の上部リブの間、及び、隣接する複数の下部リブの間に延在する第１の間隙とを有する、
    アレイを備え、
    （ｂ）前記複数のナノ構造のそれぞれは、隣接する複数のナノ構造の間、従って隣接する複数のワイヤの複数の組の間に配置された第２の間隙によって、隣接するナノ構造から分離され、
    （ｃ）前記第１の間隙の第１の間隙幅は、前記第２の間隙の第２の間隙幅と異なり、
    （ｄ）前記基板は入射光に対して透過性を有し、
    （ｅ）前記下部リブは、前記基板から一体的に形成されており、
    （ｆ）前記複数の上部リブのうち少なくとも１つは、入射光の１つの偏光状態を吸収すべく、前記入射光の吸収性を有し、
    （ｇ）前記複数の下部リブのうち少なくとも１つは、入射光を偏光すべく、入射光を偏光するための材料を有する、
    ワイヤグリッド偏光子。
  3. ワイヤグリッド偏光子であって、
    （ａ）基板の表面上に配置された互いに平行な細長い複数のナノ構造のアレイであって、前記複数のナノ構造のそれぞれは、
    （ｉ）それぞれが互いに対して側面で向き合わされた互いに平行な細長い複数のワイヤの組と、
    （ｉｉ）下部リブの上に配置された上部リブを含む、複数のワイヤの前記組のそれぞれのワイヤと、
    （ｉｉｉ）複数のワイヤの前記組の間に配置され、隣接する複数の上部リブの間、及び、隣接する複数の下部リブの間に延在する第１の間隙とを有する、
    アレイを備え、
    （ｂ）前記複数のナノ構造のそれぞれは、隣接する複数のナノ構造の間、従って隣接する複数のワイヤの複数の組の間に配置された第２の間隙によって、隣接するナノ構造から分離され、
    （ｃ）前記第１の間隙の第１の間隙幅は、前記第２の間隙の第２の間隙幅と異なり、
    （ｄ）前記基板は入射光に対して透過性を有し、
    （ｅ）前記下部リブは、前記基板から一体的に形成されており、
    （ｆ）前記第１の間隙及び前記第２の間隙は、前記複数のナノ構造の基部から前記複数のナノ構造の上端まで延在する、
    ワイヤグリッド偏光子。
  4. ワイヤグリッド偏光子であって、
    （ａ）基板の表面上に配置された互いに平行な細長い複数のナノ構造のアレイであって、前記複数のナノ構造のそれぞれは、
    （ｉ）それぞれが互いに対して側面で向き合わされた互いに平行な細長い複数のワイヤの組と、
    （ｉｉ）下部リブの上に配置された上部リブを含む、複数のワイヤの前記組のそれぞれのワイヤと、
    （ｉｉｉ）複数のワイヤの前記組の間に配置され、隣接する複数の上部リブの間、及び、隣接する複数の下部リブの間に延在する第１の間隙とを有する、
    アレイを備え、
    （ｂ）前記複数のナノ構造のそれぞれは、隣接する複数のナノ構造の間、従って隣接する複数のワイヤの複数の組の間に配置された第２の間隙によって、隣接するナノ構造から分離され、
    （ｃ）前記第１の間隙の第１の間隙幅は、前記第２の間隙の第２の間隙幅と異なり、
    （ｄ）前記基板は入射光に対して透過性を有し、
    （ｅ）前記下部リブは、前記基板から一体的に形成されており、
    （ｆ）前記複数のナノ構造の上端は、共通面において実質的に境界を成し、前記複数のナノ構造の基部は、共通面において実質的に境界を成し、また前記複数の上部リブの基部は共通面において実質的に境界を成す、
    ワイヤグリッド偏光子。
  5. ワイヤグリッド偏光子であって、
    （ａ）基板の表面上に配置された互いに平行な細長い複数のナノ構造のアレイであって、前記複数のナノ構造のそれぞれは、
    （ｉ）それぞれが互いに対して側面で向き合わされた互いに平行な細長い複数のワイヤの組と、
    （ｉｉ）下部リブの上に配置された上部リブを含む、複数のワイヤの前記組のそれぞれのワイヤと、
    （ｉｉｉ）複数のワイヤの前記組の間に配置され、隣接する複数の上部リブの間、及び、隣接する複数の下部リブの間に延在する第１の間隙とを有する、
    アレイを備え、
    （ｂ）前記複数のナノ構造のそれぞれは、隣接する複数のナノ構造の間、従って隣接する複数のワイヤの複数の組の間に配置された第２の間隙によって、隣接するナノ構造から分離され、
    （ｃ）前記第１の間隙の第１の間隙幅は、前記第２の間隙の第２の間隙幅と異なり、
    （ｄ）前記基板は入射光に対して透過性を有し、
    （ｅ）前記下部リブは、前記基板から一体的に形成されており、
    （ｆ）複数の前記第１の間隙内および複数の前記第２の間隙内に配置され、前記複数のナノ構造の上端の上方に延在し、入射光に対して透過性を有する、固形の充填材料を更に備える、
    ワイヤグリッド偏光子。
  6. 前記第１の間隙幅又は前記第２の間隙幅のうち大きい方を、前記第１の間隙幅又は前記第２の間隙幅のうち小さい方で割った値が、１．３より大きいか又はこれに等しく、かつ１．５より小さいか又はこれと等しい、
    請求項１から５の何れか一項に記載のワイヤグリッド偏光子。
  7. 前記第１の間隙幅と前記第２の間隙幅との差が、５ｎｍと２０ｎｍとの間である、
    請求項１から６の何れか一項に記載のワイヤグリッド偏光子。
  8. 前記第１の間隙幅と前記第２の間隙幅との差が、１９ｎｍと４０ｎｍとの間である、
    請求項１から７の何れか一項に記載のワイヤグリッド偏光子。
  9. 前記第１の間隙幅と前記第２の間隙幅との差は、少なくとも１０ｎｍである、
    請求項１から８の何れか一項に記載のワイヤグリッド偏光子。
  10. 以下の複数の段階を順番に備えるワイヤグリッド偏光子を作成する方法であって、
    （ａ）基板の上に配置された互いに平行な細長い複数のサポートリブのアレイを有し、前記複数のサポートリブの間には固形物のない複数のサポートリブ間隙を有し、入射光に対して透過性を有する前記基板を提供する段階と、
    （ｂ）前記基板及び前記複数のサポートリブを、材料層でコンフォーマルコーティングするとともに、前記複数のサポートリブの間に前記複数のサポートリブ間隙を保持する段階と、
    （ｃ）前記材料層をエッチングして複数の水平部分を取り除き、前記複数のサポートリブの複数の側面に沿って、上部リブがサポートリブのそれぞれの側面に沿って配置されたそれぞれの前記サポートリブ用の複数の上部リブの組を含む、互いに平行な細長い複数の上部リブのアレイを残す段階と、
    （ｄ）前記複数のサポートリブ間隙、及び前記複数のサポートリブの上端の上方を、固形の第１の充填材料で埋め戻す段階であり、前記第１の充填材料及び前記複数のサポートリブは、類似のエッチング特性を有する埋め戻す段階と、
    （ｅ）前記第１の充填材料を、前記複数の上部リブの上端、及び前記複数のサポートリブの上端までエッチングする段階と、
    （ｆ）前記複数のサポートリブ、及び前記複数のサポートリブ間隙内の前記第１の充填材料を、前記複数の上部リブの基部までエッチングする段階と、
    （ｇ）前記複数の上部リブをマスクに用い、複数の上部リブの間の前記基板をエッチングし、これにより互いに平行な細長い複数の下部リブのアレイを形成する段階であって、それぞれの下部リブは上部リブの下に配置され、それぞれの上部リブ及び下部リブは共にワイヤを画定し、それぞれの幅が隣接する間隙の幅と異なる複数の間隙を有するアレイを形成する段階とを
    備える、方法。
JP2016550457A 2013-10-24 2014-08-28 ワイヤ間距離が可変な偏光子 Active JP6550681B2 (ja)

Applications Claiming Priority (13)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201361895225P 2013-10-24 2013-10-24
US61/895,225 2013-10-24
US201461924569P 2014-01-07 2014-01-07
US201461924560P 2014-01-07 2014-01-07
US61/924,569 2014-01-07
US61/924,560 2014-01-07
US14/470,351 US9632223B2 (en) 2013-10-24 2014-08-27 Wire grid polarizer with side region
US14/470,498 2014-08-27
US14/470,566 US9348076B2 (en) 2013-10-24 2014-08-27 Polarizer with variable inter-wire distance
US14/470,566 2014-08-27
US14/470,351 2014-08-27
US14/470,498 US9354374B2 (en) 2013-10-24 2014-08-27 Polarizer with wire pair over rib
PCT/US2014/053216 WO2015060943A1 (en) 2013-10-24 2014-08-28 Polarizer with variable inter-wire distance

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2016534418A JP2016534418A (ja) 2016-11-04
JP6550681B2 true JP6550681B2 (ja) 2019-07-31

Family

ID=52995127

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016550456A Active JP6484897B2 (ja) 2013-10-24 2014-08-28 ワイヤグリッド偏光子およびワイヤグリッド偏光子を作成する方法
JP2016550457A Active JP6550681B2 (ja) 2013-10-24 2014-08-28 ワイヤ間距離が可変な偏光子
JP2016550455A Active JP6525012B2 (ja) 2013-10-24 2014-08-28 サイド領域を有するワイヤグリッド偏光子

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016550456A Active JP6484897B2 (ja) 2013-10-24 2014-08-28 ワイヤグリッド偏光子およびワイヤグリッド偏光子を作成する方法

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016550455A Active JP6525012B2 (ja) 2013-10-24 2014-08-28 サイド領域を有するワイヤグリッド偏光子

Country Status (4)

Country Link
US (4) US9632223B2 (ja)
JP (3) JP6484897B2 (ja)
KR (3) KR20160074470A (ja)
CN (3) CN105683816A (ja)

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20150077851A1 (en) 2010-12-30 2015-03-19 Moxtek, Inc. Multi-layer absorptive wire grid polarizer
US10371898B2 (en) 2013-09-05 2019-08-06 Southern Methodist University Enhanced coupling strength grating having a cover layer
US9632223B2 (en) 2013-10-24 2017-04-25 Moxtek, Inc. Wire grid polarizer with side region
US9632224B2 (en) 2014-06-25 2017-04-25 Moxtek, Inc. Broadband, selectively-absorptive wire grid polarizer
US10234613B2 (en) 2015-02-06 2019-03-19 Moxtek, Inc. High contrast inverse polarizer
US20170059758A1 (en) 2015-08-24 2017-03-02 Moxtek, Inc. Small-Pitch Wire Grid Polarizer
US10175401B2 (en) 2015-11-12 2019-01-08 Moxtek, Inc. Dual-purpose, absorptive, reflective wire grid polarizer
CN105487160B (zh) * 2016-01-15 2018-12-18 京东方科技集团股份有限公司 金属线栅偏振器及其制作方法、显示装置
KR102567008B1 (ko) * 2016-03-18 2023-08-14 삼성디스플레이 주식회사 금속선 편광자를 포함하는 표시 장치 및 그 제조 방법
JPWO2017195810A1 (ja) * 2016-05-11 2019-03-07 Ｓｃｉｖａｘ株式会社 位相差素子、位相差素子製造方法および光学部材
US20180164580A1 (en) * 2016-12-12 2018-06-14 Intel Corporation Optical micro mirror arrays
WO2018147279A1 (ja) * 2017-02-09 2018-08-16 Jsr株式会社 反射偏光層、波長変換層及び液晶表示装置
JP6401837B1 (ja) 2017-08-10 2018-10-10 デクセリアルズ株式会社 偏光板及び光学機器
JP2019109375A (ja) * 2017-12-19 2019-07-04 セイコーエプソン株式会社 偏光素子、偏光素子の製造方法
US10852464B2 (en) 2018-03-01 2020-12-01 Moxtek, Inc. High-contrast polarizer
JP7327907B2 (ja) * 2018-04-25 2023-08-16 デクセリアルズ株式会社 偏光板及び偏光板の製造方法
JP6609351B1 (ja) * 2018-06-18 2019-11-20 デクセリアルズ株式会社 偏光板およびその製造方法
JP6825610B2 (ja) 2018-10-02 2021-02-03 セイコーエプソン株式会社 偏光素子、液晶装置、および電子機器
JP7333168B2 (ja) * 2018-11-19 2023-08-24 デクセリアルズ株式会社 偏光素子、偏光素子の製造方法及び光学機器
KR20200074662A (ko) 2018-12-17 2020-06-25 삼성전자주식회사 금속-유전체 복합 구조를 구비하는 위상 변환 소자
JP7296245B2 (ja) 2019-05-08 2023-06-22 デクセリアルズ株式会社 偏光板および光学機器、並びに偏光板の製造方法
CN111562643A (zh) * 2020-06-15 2020-08-21 京东方科技集团股份有限公司 金属线栅偏光片及其制作方法和显示装置
CN111679356B (zh) * 2020-06-22 2022-07-29 京东方科技集团股份有限公司 偏振片及制备方法
CN113867032A (zh) * 2020-06-30 2021-12-31 京东方科技集团股份有限公司 一种线栅偏光片及其制造方法

Family Cites Families (577)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2287598A (en) 1937-12-28 1942-06-23 Polaroid Corp Method of manufacturing lightpolarizing bodies
US2224214A (en) 1937-12-28 1940-12-10 Polaroid Corp Light polarizing body
US2237567A (en) 1939-05-04 1941-04-08 Polaroid Corp Light polarizer and process of manufacturing the same
CH230613A (de) 1939-11-08 1944-01-15 Ges Foerderung Forschung Technische Physik Eth Zuerich Anordnung zur Wiedergabe eines Fernsehbildes.
US2605352A (en) 1940-08-28 1952-07-29 Fischer Ernst Friedrich Deformable medium for controlling a light stream
US2403731A (en) 1943-04-01 1946-07-09 Eastman Kodak Co Beam splitter
US2748659A (en) 1951-02-26 1956-06-05 Jenaer Glaswerk Schott & Gen Light source, searchlight or the like for polarized light
US2887566A (en) 1952-11-14 1959-05-19 Marks Polarized Corp Glare-eliminating optical system
NL197714A (ja) 1954-06-01 1900-01-01
US2815452A (en) 1954-11-12 1957-12-03 Baird Associates Inc Interferometer
US3046839A (en) 1959-01-12 1962-07-31 Polaroid Corp Processes for preparing light polarizing materials
US3084590A (en) 1959-02-26 1963-04-09 Gen Electric Optical system
NL254460A (ja) 1960-08-02
US3213753A (en) 1962-01-24 1965-10-26 Polaroid Corp Multilayer lenticular light polarizing device
US3235630A (en) 1962-07-17 1966-02-15 Little Inc A Method of making an optical tool
US3291871A (en) 1962-11-13 1966-12-13 Little Inc A Method of forming fine wire grids
US3293331A (en) 1962-11-13 1966-12-20 Little Inc A Method of forming replicas of contoured substrates
US3479168A (en) 1964-03-09 1969-11-18 Polaroid Corp Method of making metallic polarizer by drawing fusion
US3291550A (en) 1965-04-16 1966-12-13 Polaroid Corp Metallic grid light-polarizing device
US3436143A (en) 1965-11-30 1969-04-01 Bell Telephone Labor Inc Grid type magic tee
US3566099A (en) 1968-09-16 1971-02-23 Polaroid Corp Light projection assembly
US3627431A (en) 1969-12-22 1971-12-14 John Victor Komarniski Densitometer
US3631288A (en) 1970-01-23 1971-12-28 Polaroid Corp Simplified polarized light projection assembly
US3653741A (en) 1970-02-16 1972-04-04 Alvin M Marks Electro-optical dipolar material
US3731986A (en) 1971-04-22 1973-05-08 Int Liquid Xtal Co Display devices utilizing liquid crystal light modulation
CH558023A (de) 1972-08-29 1975-01-15 Battelle Memorial Institute Polarisationsvorrichtung.
US3877789A (en) 1972-11-08 1975-04-15 Marie G R P Mode transformer for light or millimeter electromagnetic waves
US4049944A (en) 1973-02-28 1977-09-20 Hughes Aircraft Company Process for fabricating small geometry semiconductive devices including integrated components
US3969545A (en) 1973-03-01 1976-07-13 Texas Instruments Incorporated Light polarizing material method and apparatus
US3857628A (en) 1973-08-29 1974-12-31 Hoffmann La Roche Selective polarizer arrangement for liquid crystal displays
US3857627A (en) 1973-08-29 1974-12-31 Hoffmann La Roche Polarizer arrangement for liquid crystal displays
US3912369A (en) 1974-07-02 1975-10-14 Gen Electric Single polarizer reflective liquid crystal display
US4025688A (en) 1974-08-01 1977-05-24 Polaroid Corporation Polarizer lamination
CH582894A5 (ja) 1975-03-17 1976-12-15 Bbc Brown Boveri & Cie
US4009933A (en) 1975-05-07 1977-03-01 Rca Corporation Polarization-selective laser mirror
US4104598A (en) 1975-06-09 1978-08-01 Hughes Aircraft Company Laser internal coupling modulation arrangement with wire grid polarizer serving as a reflector and coupler
DE2529112C3 (de) 1975-06-30 1978-03-23 Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen Ultraschall-Applikator für die zeilenweise Ultraschallabtastung von Körpern
JPS6034742B2 (ja) 1976-02-20 1985-08-10 ミノルタ株式会社 光学的ロ−パスフイルタ−
US4073571A (en) 1976-05-05 1978-02-14 Hughes Aircraft Company Circularly polarized light source
US4181756A (en) 1977-10-05 1980-01-01 Fergason James L Process for increasing display brightness of liquid crystal displays by bleaching polarizers using screen-printing techniques
DE2818103A1 (de) 1978-04-25 1979-11-08 Siemens Ag Verfahren zur herstellung von aus einer vielzahl von auf einer glastraegerplatte angeordneten parallel zueinander ausgerichteten elektrisch leitenden streifen bestehenden polarisatoren
JPS6033246B2 (ja) 1978-07-26 1985-08-01 三立電機株式会社 多色表示用偏光板の製造方法
DE2915847C2 (de) 1978-09-29 1986-01-16 Nitto Electric Industrial Co., Ltd., Ibaraki, Osaka Elektrooptisch aktivierbare Anzeige
US4221464A (en) 1978-10-17 1980-09-09 Hughes Aircraft Company Hybrid Brewster's angle wire grid infrared polarizer
US4289381A (en) 1979-07-02 1981-09-15 Hughes Aircraft Company High selectivity thin film polarizer
JPS5928012Y2 (ja) 1980-04-21 1984-08-14 株式会社林商店 ねんねこ
JPS56156815A (en) 1980-05-09 1981-12-03 Ricoh Co Ltd Output device for difference between two pictures
US4308079A (en) 1980-06-16 1981-12-29 Martin Marietta Corporation Durability of adhesively bonded aluminum structures and method for inhibiting the conversion of aluminum oxide to aluminum hydroxide
US4514479A (en) 1980-07-01 1985-04-30 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Method of making near infrared polarizers
EP0045104B1 (de) 1980-07-28 1985-04-10 BBC Aktiengesellschaft Brown, Boveri & Cie. Homöotrop nematisches Display mit internem Reflektor
US4441791A (en) 1980-09-02 1984-04-10 Texas Instruments Incorporated Deformable mirror light modulator
US4466704A (en) 1981-07-20 1984-08-21 Polaroid Corporation Patterned polarizer having differently dyed areas
JPS5842003A (ja) 1981-09-07 1983-03-11 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 偏光板
EP0084871B1 (en) 1982-01-22 1988-03-30 Hitachi, Ltd. Method and apparatus for reducing semiconductor laser optical noise
JPS5842003Y2 (ja) 1982-05-20 1983-09-22 財団法人石炭技術研究所 連続「ろ」過装置における「ろ」材の下降特性調整装置
US4512638A (en) 1982-08-31 1985-04-23 Westinghouse Electric Corp. Wire grid polarizer
US4515441A (en) 1982-10-13 1985-05-07 Westinghouse Electric Corp. Dielectric polarizer for high average and high peak power operation
DE3244885A1 (de) 1982-12-02 1984-06-07 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Farbselektiver zirkularpolarisator und seine verwendung
US4515443A (en) 1982-12-29 1985-05-07 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Passive optical system for background suppression in starring imagers
US4560599A (en) 1984-02-13 1985-12-24 Marquette University Assembling multilayers of polymerizable surfactant on a surface of a solid material
FR2564605B1 (fr) 1984-05-18 1987-12-24 Commissariat Energie Atomique Cellule a cristal liquide susceptible de presenter une structure homeotrope, a birefringence compensee pour cette structure
JPH061303B2 (ja) 1984-11-20 1994-01-05 ソニー株式会社 偏光照明装置
JPS61122626U (ja) 1985-01-18 1986-08-02
SU1283685A1 (ru) 1985-02-20 1987-01-15 Предприятие П/Я А-1705 Решетка-пол ризатор
US4679910A (en) 1985-03-20 1987-07-14 Hughes Aircraft Company Dual liquid-crystal cell-based visible-to-infrared dynamic image converter
US4688897A (en) 1985-06-17 1987-08-25 Hughes Aircraft Company Liquid crystal device
US4712881A (en) 1985-06-21 1987-12-15 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Birefringent artificial dielectric structures
JPS626225A (ja) 1985-07-02 1987-01-13 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 液晶表示装置
JPS6231822A (ja) 1985-08-02 1987-02-10 Hitachi Ltd 液晶表示素子
US4743093A (en) 1985-09-16 1988-05-10 Eastman Kodak Company Optical disc player lens
FR2588093B1 (fr) 1985-09-27 1987-11-20 Thomson Csf Polariseur par absorption differentielle, son procede de realisation et dispositif mettant en oeuvre ledit procede
JPS6275418A (ja) 1985-09-27 1987-04-07 Alps Electric Co Ltd 液晶素子
US4724436A (en) 1986-09-22 1988-02-09 Environmental Research Institute Of Michigan Depolarizing radar corner reflector
US4743092A (en) 1986-11-26 1988-05-10 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Polarizing grids for far-infrared and method for making same
US4759611A (en) 1986-12-19 1988-07-26 Polaroid Corporation, Patent Department Liquid crystal display having silylated light polarizers
US4795233A (en) 1987-03-09 1989-01-03 Honeywell Inc. Fiber optic polarizer
DE3707984A1 (de) 1987-03-12 1988-09-22 Max Planck Gesellschaft Polarisierender spiegel fuer optische strahlung
US4840757A (en) 1987-05-19 1989-06-20 S. D. Warren Company Replicating process for interference patterns
US4789646A (en) 1987-07-20 1988-12-06 North American Philips Corporation, Signetics Division Company Method for selective surface treatment of semiconductor structures
DE3738951C1 (de) 1987-11-17 1989-05-03 Heinrich Dipl-Ing Marpert Gelenk zur UEbertragung des Drehmomentes einer ersten Welle auf eine zweite Welle
FR2623649B1 (fr) 1987-11-23 1992-05-15 Asulab Sa Cellule d'affichage a cristal liquide
US4865670A (en) 1988-02-05 1989-09-12 Mortimer Marks Method of making a high quality polarizer
FR2629924B1 (fr) 1988-04-08 1992-09-04 Comp Generale Electricite Polariseur a couches dielectriques
US4893905A (en) 1988-06-10 1990-01-16 Hughes Aircraft Company Optical light valve system for providing phase conjugated beam of controllable intensity
JPH0212105A (ja) 1988-06-29 1990-01-17 Nec Corp 複屈折回折格子型偏光子
JP2703930B2 (ja) 1988-06-29 1998-01-26 日本電気株式会社 複屈折回折格子型偏光子
JPH0215534A (ja) 1988-07-01 1990-01-19 Mitsubishi Electric Corp カラー受像管用露光装置
JPH0215238A (ja) 1988-07-04 1990-01-18 Stanley Electric Co Ltd 異方性補償ホメオトロピック液晶表示装置
JPH0223304A (ja) 1988-07-12 1990-01-25 Toray Ind Inc 可視偏光フイルム
US4895769A (en) 1988-08-09 1990-01-23 Polaroid Corporation Method for preparing light polarizer
JP2576604B2 (ja) 1988-09-27 1997-01-29 富士通株式会社 レーザ光走査装置
JPH0290129A (ja) 1988-09-28 1990-03-29 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光変調器
US4915463A (en) 1988-10-18 1990-04-10 The United States Of America As Represented By The Department Of Energy Multilayer diffraction grating
US4939526A (en) 1988-12-22 1990-07-03 Hughes Aircraft Company Antenna system having azimuth rotating directive beam with selectable polarization
US4913529A (en) 1988-12-27 1990-04-03 North American Philips Corp. Illumination system for an LCD display system
US4870649A (en) 1988-12-28 1989-09-26 American Telephone And Telegraph Company, At&T Bell Laboratories Tranverse mode control in solid state lasers
US4974941A (en) 1989-03-08 1990-12-04 Hercules Incorporated Process of aligning and realigning liquid crystal media
US4946231A (en) 1989-05-19 1990-08-07 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Polarizer produced via photographic image of polarizing grid
JPH02308106A (ja) 1989-05-23 1990-12-21 Citizen Watch Co Ltd 直線遍光光源
JPH035706A (ja) 1989-06-01 1991-01-11 Seiko Epson Corp 偏光素子
US5599551A (en) 1989-06-06 1997-02-04 Kelly; Patrick D. Genital lubricants containing zinc as an anti-viral agent
US5486949A (en) 1989-06-20 1996-01-23 The Dow Chemical Company Birefringent interference polarizer
US5279689A (en) 1989-06-30 1994-01-18 E. I. Du Pont De Nemours And Company Method for replicating holographic optical elements
EP0405582A3 (en) 1989-06-30 1992-07-08 E.I. Du Pont De Nemours And Company Method for making optically readable media containing embossed information
US5235443A (en) 1989-07-10 1993-08-10 Hoffmann-La Roche Inc. Polarizer device
JPH0378943A (ja) 1989-08-23 1991-04-04 Hitachi Ltd 帯電防止型陰極線管
JP2659024B2 (ja) 1989-08-29 1997-09-30 株式会社島津製作所 グリッド偏光子
EP0416157A1 (de) 1989-09-07 1991-03-13 Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. Polarisator
FR2653234A1 (fr) 1989-10-13 1991-04-19 Philips Electronique Lab Dispositif du type miroir dans le domaine des rayons x-uv.
JPH03126910A (ja) 1989-10-13 1991-05-30 Mitsubishi Rayon Co Ltd 偏光光源装置及び偏光ビームスプリッター
EP0422661A3 (en) 1989-10-13 1992-07-01 Mitsubishi Rayon Co., Ltd Polarization forming optical device and polarization beam splitter
JPH03132603A (ja) 1989-10-18 1991-06-06 Matsushita Electric Ind Co Ltd 偏光子
JP2924055B2 (ja) 1989-12-08 1999-07-26 セイコーエプソン株式会社 反射型液晶表示素子
US5267029A (en) 1989-12-28 1993-11-30 Katsumi Kurematsu Image projector
US5235449A (en) 1990-03-02 1993-08-10 Hitachi, Ltd. Polarizer with patterned diacetylene layer, method for producing the same, and liquid crystal display device including such polarizer
US5401587A (en) 1990-03-27 1995-03-28 Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho Anisotropic nanophase composite material and method of producing same
JPH03289692A (ja) 1990-04-06 1991-12-19 Matsushita Electric Ind Co Ltd 空間光変調素子及びこれを用いたホログラム画像情報記録装置
JPH0412896A (ja) 1990-05-01 1992-01-17 Nippon Rejihon Syst Kk 情報カード
JP2681304B2 (ja) 1990-05-16 1997-11-26 日本ビクター株式会社 表示装置
KR920010809B1 (ko) 1990-05-19 1992-12-17 주식회사 금성사 Lcd 프로젝터의 광학 시스템
US5083857A (en) 1990-06-29 1992-01-28 Texas Instruments Incorporated Multi-level deformable mirror device
US5115305A (en) 1990-07-05 1992-05-19 Baur Thomas G Electrically addressable liquid crystal projection system with high efficiency and light output
US5157526A (en) 1990-07-06 1992-10-20 Hitachi, Ltd. Unabsorbing type polarizer, method for manufacturing the same, polarized light source using the same, and apparatus for liquid crystal display using the same
JPH0488211A (ja) 1990-07-27 1992-03-23 Bridgestone Corp 可撓軸継手
JP2902456B2 (ja) 1990-08-09 1999-06-07 株式会社豊田中央研究所 無機偏光薄膜
US5113285A (en) 1990-09-28 1992-05-12 Honeywell Inc. Full color three-dimensional flat panel display
JPH07104450B2 (ja) 1990-10-17 1995-11-13 スタンレー電気株式会社 二軸性光学素子とその製造方法
RU1781659C (ru) 1990-10-22 1992-12-15 Ленинградское оптико-механическое объединение им.В.И.Ленина Решетка-пол ризатор
FR2669126B1 (fr) 1990-11-09 1993-01-22 Thomson Csf Systeme de visualisation d'images fournies par un modulateur spatial avec transfert d'energie.
US5387953A (en) 1990-12-27 1995-02-07 Canon Kabushiki Kaisha Polarization illumination device and projector having the same
US5092774A (en) 1991-01-09 1992-03-03 National Semiconductor Corporation Mechanically compliant high frequency electrical connector
JP2698218B2 (ja) 1991-01-18 1998-01-19 シャープ株式会社 反射型液晶表示装置及びその製造方法
US5122887A (en) 1991-03-05 1992-06-16 Sayett Group, Inc. Color display utilizing twisted nematic LCDs and selective polarizers
JPH04331913A (ja) 1991-05-07 1992-11-19 Canon Inc 偏光照明素子および該素子を有する投写型表示装置
EP0518111B1 (en) 1991-05-29 1997-04-09 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Projection image display system
BR9206133A (pt) 1991-06-13 1994-11-29 Minnesota Mining & Mfg Polarizador retro-reflexivo e sistema ótico
US5245471A (en) 1991-06-14 1993-09-14 Tdk Corporation Polarizers, polarizer-equipped optical elements, and method of manufacturing the same
JPH04366916A (ja) 1991-06-14 1992-12-18 Ricoh Co Ltd 反射型、透明型に切換可能なカラー液晶表示装置
DE69232747T2 (de) 1991-06-14 2003-01-02 Hughes Aircraft Co Verfahren zum vertikalen Ausrichten von Flüssigkristallen
EP0522620B1 (en) 1991-06-28 1997-09-03 Koninklijke Philips Electronics N.V. Display device
US5122907A (en) 1991-07-03 1992-06-16 Polatomic, Inc. Light polarizer and method of manufacture
JP2754964B2 (ja) 1991-08-13 1998-05-20 日本電気株式会社 多極コネクタの嵌合構造
US5196953A (en) 1991-11-01 1993-03-23 Rockwell International Corporation Compensator for liquid crystal display, having two types of layers with different refractive indices alternating
JPH05134115A (ja) 1991-11-11 1993-05-28 Ricoh Opt Ind Co Ltd 複屈折部材
EP0543061B1 (en) 1991-11-20 1998-07-15 Hamamatsu Photonics K.K. Light amplifying polarizer
JP2796005B2 (ja) 1992-02-10 1998-09-10 三菱電機株式会社 投影露光装置及び偏光子
US5383053A (en) 1992-04-07 1995-01-17 Hughes Aircraft Company Virtual image display having a high efficiency grid beamsplitter
JPH05288910A (ja) 1992-04-14 1993-11-05 Dainippon Printing Co Ltd 回折格子
US5422756A (en) 1992-05-18 1995-06-06 Minnesota Mining And Manufacturing Company Backlighting system using a retroreflecting polarizer
JP3246676B2 (ja) 1992-06-12 2002-01-15 チノン株式会社 液晶プロジェクタ装置
JP3414399B2 (ja) 1992-06-30 2003-06-09 シチズン時計株式会社 液晶表示ユニット及び液晶表示ユニットを用いた液晶プロジェクタ
WO1994009401A1 (en) 1992-10-20 1994-04-28 Hughes-Jvc Technology Corporation Liquid crystal light valve with minimized double reflection
US5480748A (en) 1992-10-21 1996-01-02 International Business Machines Corporation Protection of aluminum metallization against chemical attack during photoresist development
JPH06138413A (ja) 1992-10-29 1994-05-20 Canon Inc プレート型偏光分離装置及び該偏光分離装置を用いた偏光照明装置
JP3250853B2 (ja) 1992-11-09 2002-01-28 松下電器産業株式会社 液晶表示装置およびそれを用いた投写型表示装置
JPH06174907A (ja) 1992-12-04 1994-06-24 Shimadzu Corp 金属格子の製作方法
US5333072A (en) 1992-12-31 1994-07-26 Minnesota Mining And Manufacturing Company Reflective liquid crystal display overhead projection system using a reflective linear polarizer and a fresnel lens
US5325218A (en) 1992-12-31 1994-06-28 Minnesota Mining And Manufacturing Company Cholesteric polarizer for liquid crystal display and overhead projector
JPH06202042A (ja) 1993-01-07 1994-07-22 Sharp Corp 偏光合成光学装置並びに光源装置及び光投射型液晶表示装置
TW289095B (ja) 1993-01-11 1996-10-21
US5477359A (en) 1993-01-21 1995-12-19 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal projector having a vertical orientating polyimide film
SG50569A1 (en) 1993-02-17 2001-02-20 Rolic Ag Optical component
US5522111A (en) 1993-03-02 1996-06-04 Marshalltown Trowel Company Finishing trowel handle
US5594561A (en) 1993-03-31 1997-01-14 Palomar Technologies Corporation Flat panel display with elliptical diffuser and fiber optic plate
JP3168765B2 (ja) 1993-04-01 2001-05-21 松下電器産業株式会社 偏光装置および該偏光装置を用いた投写型表示装置
US5349192A (en) 1993-05-20 1994-09-20 Wisconsin Alumni Research Foundation Solid state detector for polarized x-rays
JP3320507B2 (ja) 1993-06-18 2002-09-03 ティーディーケイ株式会社 回折格子型偏光子とその製造方法
US5486935A (en) 1993-06-29 1996-01-23 Kaiser Aerospace And Electronics Corporation High efficiency chiral nematic liquid crystal rear polarizer for liquid crystal displays having a notch polarization bandwidth of 100 nm to 250 nm
US5391091A (en) 1993-06-30 1995-02-21 American Nucleonics Corporation Connection system for blind mate electrical connector applications
CA2168106C (en) 1993-07-27 2002-08-20 Joel Petersen High brightness directional viewing screen
JPH0772428A (ja) 1993-09-03 1995-03-17 Nec Corp 投写型液晶表示装置の偏光光源装置
WO1995007474A1 (fr) 1993-09-10 1995-03-16 Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha Polarisant, plaque polarisante et son procede de production
JPH0784252A (ja) 1993-09-16 1995-03-31 Sharp Corp 液晶表示装置
US5514478A (en) 1993-09-29 1996-05-07 Alcan International Limited Nonabrasive, corrosion resistant, hydrophilic coatings for aluminum surfaces, methods of application, and articles coated therewith
CA2148579C (en) 1993-10-01 1999-11-02 Raytheon Company Active matrix liquid crystal subtractive color display with integral light confinement
US5576854A (en) 1993-11-12 1996-11-19 Hughes-Jvc Technology Corporation Liquid crystal light valve projector with improved contrast ratio and with 0.27 wavelength compensation for birefringence in the liquid crystal light valve
US6122403A (en) 1995-07-27 2000-09-19 Digimarc Corporation Computer system linked by using information in data objects
JP3096383B2 (ja) 1993-11-25 2000-10-10 シャープ株式会社 反射型液晶表示装置
US5499126A (en) 1993-12-02 1996-03-12 Ois Optical Imaging Systems, Inc. Liquid crystal display with patterned retardation films
US5430573A (en) 1993-12-15 1995-07-04 Corning Incorporated UV-absorbing, polarizing glass article
US5517356A (en) 1993-12-15 1996-05-14 Corning Incorporated Glass polarizer for visible light
BE1007993A3 (nl) 1993-12-17 1995-12-05 Philips Electronics Nv Belichtingsstelsel voor een kleurenbeeldprojectie-inrichting en circulaire polarisator geschikt voor toepassing in een dergelijk belichtingsstelsel en kleurenbeeldprojectie-inrichting bevattende een dergelijk belichtingsstelsel met circulaire polarisator.
US6096375A (en) 1993-12-21 2000-08-01 3M Innovative Properties Company Optical polarizer
US5882774A (en) 1993-12-21 1999-03-16 Minnesota Mining And Manufacturing Company Optical film
JP3501299B2 (ja) 1993-12-28 2004-03-02 日本ビクター株式会社 半導体装置
US5455589A (en) 1994-01-07 1995-10-03 Millitech Corporation Compact microwave and millimeter wave radar
GB2286058A (en) 1994-01-21 1995-08-02 Sharp Kk Switchable holographic apparatus
JP3278521B2 (ja) 1994-01-28 2002-04-30 松下電器産業株式会社 背面投写型画像表示装置
US5969861A (en) 1994-02-07 1999-10-19 Nikon Corporation Polarizing optical system
JP2765471B2 (ja) 1994-02-15 1998-06-18 日本電気株式会社 投写型液晶表示装置
US5504603A (en) 1994-04-04 1996-04-02 Rockwell International Corporation Optical compensator for improved gray scale performance in liquid crystal display
US5638197A (en) 1994-04-04 1997-06-10 Rockwell International Corp. Inorganic thin film compensator for improved gray scale performance in twisted nematic liquid crystal displays and method of making
JPH07294851A (ja) 1994-04-21 1995-11-10 Seiko Instr Inc 偏光照明装置
JPH07294850A (ja) 1994-04-22 1995-11-10 Canon Inc 照明装置及びそれを用いた投影装置
JPH07318861A (ja) 1994-05-19 1995-12-08 Canon Inc 板状偏光素子、該板状偏光素子を用いた偏光照明装置および前記板状偏光素子を用いたプロジェクター
CN1152358A (zh) 1994-05-31 1997-06-18 菲利浦电子有限公司 具有散射显示板的显示装置
US5485499A (en) 1994-08-05 1996-01-16 Moxtek, Inc. High throughput reflectivity and resolution x-ray dispersive and reflective structures for the 100 eV to 5000 eV energy range and method of making the devices
US5513023A (en) 1994-10-03 1996-04-30 Hughes Aircraft Company Polarizing beamsplitter for reflective light valve displays having opposing readout beams onto two opposing surfaces of the polarizer
EP0739498A1 (en) 1994-11-10 1996-10-30 Koninklijke Philips Electronics N.V. Display device and display panel
US6049428A (en) 1994-11-18 2000-04-11 Optiva, Inc. Dichroic light polarizers
KR0147607B1 (ko) 1994-11-25 1998-09-15 김광호 반사형 액정 투사장치의 광학계
US5917562A (en) 1994-12-16 1999-06-29 Sharp Kabushiki Kaisha Autostereoscopic display and spatial light modulator
JP2864464B2 (ja) 1994-12-22 1999-03-03 日本ビクター株式会社 反射型アクティブ・マトリクス・ディスプレイ・パネル及びその製造方法
JPH08184711A (ja) 1994-12-29 1996-07-16 Sony Corp 偏光光学素子
EP0722253A3 (en) 1995-01-10 1996-10-30 Ibm Arrangements for projection display devices using optical valves in reflection
US5510215A (en) 1995-01-25 1996-04-23 Eastman Kodak Company Method for patterning multilayer dielectric color filter
US5652667A (en) 1995-02-03 1997-07-29 Victor Company Of Japan, Ltd. Liquid crystal display apparatus
US5808795A (en) 1995-03-06 1998-09-15 Nikon Corporation Projection type display apparatus
US6062694A (en) 1995-03-06 2000-05-16 Nikon Corporation Projection type display apparatus
JP3005706B2 (ja) 1995-03-13 2000-02-07 極東開発工業株式会社 ダンプトラック用荷台の床組み
US5719695A (en) 1995-03-31 1998-02-17 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator with superstructure light shield
US5751388A (en) 1995-04-07 1998-05-12 Honeywell Inc. High efficiency polarized display
US5535047A (en) 1995-04-18 1996-07-09 Texas Instruments Incorporated Active yoke hidden hinge digital micromirror device
EP0744634B1 (en) 1995-05-23 2003-01-08 Kyocera Corporation Method of producing an optical polarizer
EP0871923A1 (en) 1995-06-26 1998-10-21 Minnesota Mining And Manufacturing Company Transflective displays with reflective polarizing transflector
US5686979A (en) 1995-06-26 1997-11-11 Minnesota Mining And Manufacturing Company Optical panel capable of switching between reflective and transmissive states
EP0753785B1 (de) 1995-07-11 2016-05-11 Rolic AG Übertragung von Polarisationsmustern auf polarisationsempfindliche Photoschichten
EP0786684A4 (en) 1995-07-17 1998-04-29 Seiko Epson Corp REFLECTIVE COLOR LIQUID CRYSTAL DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE USING THIS
US5978056A (en) 1995-10-15 1999-11-02 Victor Company Of Japan, Ltd Reflection-type display apparatus having antireflection films
JPH103078A (ja) 1995-10-17 1998-01-06 Seiko Epson Corp 反射型液晶装置及びこれを用いた電子機器
JPH09146061A (ja) 1995-11-17 1997-06-06 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶プロジェクション装置
JP3126910B2 (ja) 1995-11-29 2001-01-22 東洋電機製造株式会社 歯車装置
JPH09159988A (ja) 1995-12-12 1997-06-20 Nikon Corp 投射型表示装置
CA2193790C (en) 1995-12-29 2001-03-13 Duke University Projecting images
US6181386B1 (en) 1995-12-29 2001-01-30 Duke University Projecting images
US5751466A (en) 1996-01-11 1998-05-12 University Of Alabama At Huntsville Photonic bandgap apparatus and method for delaying photonic signals
US5838403A (en) 1996-02-14 1998-11-17 Physical Optics Corporation Liquid crystal display system with internally reflecting waveguide for backlighting and non-Lambertian diffusing
JP3282986B2 (ja) 1996-02-28 2002-05-20 富士通株式会社 液晶表示装置
US5867316A (en) 1996-02-29 1999-02-02 Minnesota Mining And Manufacturing Company Multilayer film having a continuous and disperse phase
US5828489A (en) 1996-04-12 1998-10-27 Rockwell International Corporation Narrow wavelength polarizing beamsplitter
JP3767047B2 (ja) 1996-04-26 2006-04-19 セイコーエプソン株式会社 投写型表示装置
US5826959A (en) 1996-05-09 1998-10-27 Pioneer Electronic Corporation Projection image display apparatus
JP3738505B2 (ja) 1996-05-10 2006-01-25 株式会社ニコン 投射型表示装置
US5841494A (en) 1996-06-26 1998-11-24 Hall; Dennis R. Transflective LCD utilizing chiral liquid crystal filter/mirrors
JPH1028675A (ja) 1996-07-16 1998-02-03 Nikon Corp 自覚式検眼装置
JP3834130B2 (ja) 1996-07-19 2006-10-18 株式会社リコー デジタルカメラ
US5982541A (en) 1996-08-12 1999-11-09 Nationsl Research Council Of Canada High efficiency projection displays having thin film polarizing beam-splitters
US5912762A (en) 1996-08-12 1999-06-15 Li; Li Thin film polarizing device
US6291797B1 (en) 1996-08-13 2001-09-18 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Laser machining method for glass substrate, diffraction type optical device fabricated by the machining method, and method of manufacturing optical device
JPH1073722A (ja) 1996-08-30 1998-03-17 Sony Corp 偏光光学素子及びその製造方法
JP3557317B2 (ja) 1996-09-02 2004-08-25 テキサス インスツルメンツ インコーポレイテツド プロジエクタ装置及び色分離合成装置
JP2850878B2 (ja) 1996-09-06 1999-01-27 日本電気株式会社 偏光ビームスプリッタおよびその製造方法
US6096155A (en) 1996-09-27 2000-08-01 Digital Optics Corporation Method of dicing wafer level integrated multiple optical elements
US6390626B2 (en) 1996-10-17 2002-05-21 Duke University Image projection system engine assembly
US5833360A (en) 1996-10-17 1998-11-10 Compaq Computer Corporation High efficiency lamp apparatus for producing a beam of polarized light
US5991075A (en) 1996-11-25 1999-11-23 Ricoh Company, Ltd. Light polarizer and method of producing the light polarizer
JPH10213785A (ja) * 1996-11-25 1998-08-11 Ricoh Co Ltd 偏光子及びその製造方法及び偏光子を備えるディスプレイまたは表示装置
JPH10153706A (ja) 1996-11-25 1998-06-09 Ricoh Co Ltd 偏光子及びその製造方法
US5914818A (en) 1996-11-29 1999-06-22 Texas Instruments Incorporated Offset projection lens for use with reflective spatial light modulators
WO1998027453A1 (fr) 1996-12-18 1998-06-25 Seiko Epson Corporation Affichage par projection
JPH10186302A (ja) 1996-12-27 1998-07-14 Fujitsu Ltd 表示装置及び偏光光源装置
US6008951A (en) 1996-12-31 1999-12-28 Texas Instruments Incorporated Offset projection zoom lens with fixed rear group for reflective spatial light modulators
US6075235A (en) 1997-01-02 2000-06-13 Chun; Cornell Seu Lun High-resolution polarization-sensitive imaging sensors
US5886754A (en) 1997-01-17 1999-03-23 Industrial Technology Research Institute Liquid crystal display projector
JPH10260403A (ja) 1997-01-20 1998-09-29 Seiko Epson Corp 液晶装置及び電子機器
US5890095A (en) 1997-01-21 1999-03-30 Nichols Research Corporation System for receiving and enhancing electromagnetic radiation input signals
JP4068203B2 (ja) 1997-01-21 2008-03-26 シチズンホールディングス株式会社 液晶表示装置
US6249378B1 (en) 1997-02-28 2001-06-19 Nikon Corporation Mirror and projection type display apparatus
US6081312A (en) 1997-03-10 2000-06-27 Fuji Photo Film Co., Ltd. Homeotropic liquid crystal cell with one or more compensator plates with a small birefringence
US5958345A (en) 1997-03-14 1999-09-28 Moxtek, Inc. Thin film sample support
JP3853512B2 (ja) 1997-04-21 2006-12-06 株式会社リコー 磁気光学素子
US6010221A (en) 1997-05-22 2000-01-04 Nikon Corporation Projection type display apparatus
US5844722A (en) 1997-06-05 1998-12-01 Hughes-Jvc Technology Corporation Internal aperture mask for embedded optics
JP3654553B2 (ja) 1997-06-19 2005-06-02 株式会社リコー 光学素子
US6055103A (en) 1997-06-28 2000-04-25 Sharp Kabushiki Kaisha Passive polarisation modulating optical element and method of making such an element
US6247816B1 (en) 1997-08-07 2001-06-19 International Business Machines Corporation Optical system for projection displays using spatial light modulators
JPH1164794A (ja) 1997-08-21 1999-03-05 Sharp Corp 投射型表示装置
US5973833A (en) 1997-08-29 1999-10-26 Lightware, Inc. High efficiency polarizing converter
US6212014B1 (en) 1997-09-29 2001-04-03 Lsa, Inc. MWIR polarizing beamsplitter cube and method of making the same
US5930050A (en) 1997-10-21 1999-07-27 Texas Instruments Incorporated Anamorphic lens for providing wide-screen images generated by a spatial light modulator
US5907427A (en) 1997-10-24 1999-05-25 Time Domain Corporation Photonic band gap device and method using a periodicity defect region to increase photonic signal delay
US7023602B2 (en) 1999-05-17 2006-04-04 3M Innovative Properties Company Reflective LCD projection system using wide-angle Cartesian polarizing beam splitter and color separation and recombination prisms
US6486997B1 (en) 1997-10-28 2002-11-26 3M Innovative Properties Company Reflective LCD projection system using wide-angle Cartesian polarizing beam splitter
JPH11142650A (ja) 1997-11-13 1999-05-28 Fuji Elelctrochem Co Ltd グリッド偏光子
JPH11164819A (ja) 1997-12-03 1999-06-22 Hitachi Medical Corp 磁気共鳴イメージング装置
JP3753853B2 (ja) 1997-12-16 2006-03-08 株式会社リコー 磁気光学素子及び磁気光学デバイス
US6005918A (en) 1997-12-19 1999-12-21 Picker International, Inc. X-ray tube window heat shield
JP3372466B2 (ja) 1997-12-22 2003-02-04 ティーディーケイ株式会社 偏光板の製造方法
US6016173A (en) 1998-02-18 2000-01-18 Displaytech, Inc. Optics arrangement including a compensator cell and static wave plate for use in a continuously viewable, reflection mode, ferroelectric liquid crystal spatial light modulating system
US5900976A (en) 1998-02-20 1999-05-04 Displaytech, Inc. Display system including a polarizing beam splitter
JP3486334B2 (ja) 1998-02-23 2004-01-13 日本電信電話株式会社 偏光子の作製方法
JPH11258603A (ja) 1998-03-11 1999-09-24 Seiko Epson Corp 液晶表示装置及びそれを用いた電子機器
EP1068547A4 (en) 1998-03-31 2005-10-26 Corning Inc INORGANIC POLARIZER REFLECTING VISIBLE LIGHT
US6496287B1 (en) 1998-04-09 2002-12-17 Rolic Ag Optical identification element
JP3667984B2 (ja) 1998-04-24 2005-07-06 株式会社リコー 広帯域偏光分離素子とその広帯域偏光分離素子を用いた光ヘッド
US6208463B1 (en) 1998-05-14 2001-03-27 Moxtek Polarizer apparatus for producing a generally polarized beam of light
US6108131A (en) 1998-05-14 2000-08-22 Moxtek Polarizer apparatus for producing a generally polarized beam of light
US5943171A (en) 1998-06-03 1999-08-24 International Business Machines Corporation Head mounted displays utilizing reflection light valves
EP1042705A1 (en) 1998-07-02 2000-10-11 Koninklijke Philips Electronics N.V. Image projection system
US6081376A (en) 1998-07-16 2000-06-27 Moxtek Reflective optical polarizer device with controlled light distribution and liquid crystal display incorporating the same
ATE229169T1 (de) 1998-08-21 2002-12-15 Olivier M Parriaux Vorricthung zum messen von translation,rotation oder geschwindigkeit durch interferenz von lichtstrahlen
US6082861A (en) 1998-09-16 2000-07-04 International Business Machines Corporation Optical system and method for high contrast projection display
US6331060B1 (en) 1998-10-08 2001-12-18 Sony Corporation Projection-type display device and method of adjustment thereof
US6185041B1 (en) 1998-10-23 2001-02-06 Duke University Projection lens and system
US6172816B1 (en) 1998-10-23 2001-01-09 Duke University Optical component adjustment for mitigating tolerance sensitivities
US6172813B1 (en) 1998-10-23 2001-01-09 Duke University Projection lens and system including a reflecting linear polarizer
JP2000147487A (ja) 1998-11-06 2000-05-26 Ricoh Co Ltd 液晶表示装置
US6215547B1 (en) 1998-11-19 2001-04-10 Eastman Kodak Company Reflective liquid crystal modulator based printing system
US5986730A (en) 1998-12-01 1999-11-16 Moxtek Dual mode reflective/transmissive liquid crystal display apparatus
US6181458B1 (en) 1998-12-18 2001-01-30 Eastman Kodak Company Mechanical grating device with optical coating and method of making mechanical grating device with optical coating
US6490017B1 (en) 1999-01-28 2002-12-03 Duke University Separating white light into polarized, colored light
JP3743190B2 (ja) 1999-02-02 2006-02-08 セイコーエプソン株式会社 電気光学装置取り付けユニット及びそれを利用した投写型表示装置
JP3603650B2 (ja) 1999-03-08 2004-12-22 セイコーエプソン株式会社 調整機構及びこれを用いた投写型表示装置
JP3368225B2 (ja) 1999-03-11 2003-01-20 キヤノン株式会社 回折光学素子の製造方法
US6426837B1 (en) 1999-03-22 2002-07-30 Mems Optical, Inc. Diffractive selectively polarizing beam splitter and beam routing prisms produced thereby
JP2000284117A (ja) 1999-03-30 2000-10-13 Fuji Elelctrochem Co Ltd グリッド偏光子及びその製造方法
JP3371846B2 (ja) 1999-04-06 2003-01-27 日本電気株式会社 ホログラム素子
EP1045272A3 (en) 1999-04-12 2004-02-25 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Reflective color liquid crystal display device
US6010121A (en) 1999-04-21 2000-01-04 Lee; Chi Ping Work piece clamping device of workbench
US6515785B1 (en) 1999-04-22 2003-02-04 3M Innovative Properties Company Optical devices using reflecting polarizing materials
US6122103A (en) 1999-06-22 2000-09-19 Moxtech Broadband wire grid polarizer for the visible spectrum
US6288840B1 (en) 1999-06-22 2001-09-11 Moxtek Imbedded wire grid polarizer for the visible spectrum
DE60038655T2 (de) 1999-07-01 2009-06-04 Sanyo Electric Co., Ltd., Moriguchi Rückprojektionsvorrichtung
US6666556B2 (en) 1999-07-28 2003-12-23 Moxtek, Inc Image projection system with a polarizing beam splitter
US6234634B1 (en) 1999-07-28 2001-05-22 Moxtek Image projection system with a polarizing beam splitter
US6447120B2 (en) 1999-07-28 2002-09-10 Moxtex Image projection system with a polarizing beam splitter
US7306338B2 (en) 1999-07-28 2007-12-11 Moxtek, Inc Image projection system with a polarizing beam splitter
US6282025B1 (en) 1999-08-02 2001-08-28 New Focus, Inc. Optical polarization beam combiner/splitter
JP4427837B2 (ja) 1999-09-03 2010-03-10 住友化学株式会社 ワイヤーグリッド型偏光光学素子
US6243199B1 (en) 1999-09-07 2001-06-05 Moxtek Broad band wire grid polarizing beam splitter for use in the visible wavelength region
US6398364B1 (en) 1999-10-06 2002-06-04 Optical Coating Laboratory, Inc. Off-axis image projection display system
US6310345B1 (en) 1999-10-12 2001-10-30 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Polarization-resolving infrared imager
US6781640B1 (en) 1999-11-15 2004-08-24 Sharp Laboratories Of America, Inc. Projection display having polarization compensator
US6375330B1 (en) 1999-12-30 2002-04-23 Gain Micro-Optics, Inc. Reflective liquid-crystal-on-silicon projection engine architecture
CA2400626C (en) 2000-02-14 2010-06-01 Merck & Co., Inc. Estrogen receptor modulators
US6340230B1 (en) 2000-03-10 2002-01-22 Optical Coating Laboratory, Inc. Method of using a retarder plate to improve contrast in a reflective imaging system
EP1143744B1 (en) 2000-03-17 2008-09-24 Hitachi, Ltd. Image display device
US6661475B1 (en) 2000-03-23 2003-12-09 Infocus Corporation Color video projection system employing reflective liquid crystal display device
JP2004501543A (ja) 2000-04-19 2004-01-15 アドバンスド　オートモーティブ　アンテナズ　ソシエダット　デ　レスポンサビリダット　リミタダ 改良された自動車用マルチレベルアンテナ
US6411749B2 (en) 2000-05-11 2002-06-25 Micro-Optice, Inc. In-line fiber optic polarization combiner/divider
US6624936B2 (en) 2000-05-11 2003-09-23 3M Innovative Properties Company Color-compensated information displays
JP2001330728A (ja) 2000-05-22 2001-11-30 Jasco Corp ワイヤーグリット型偏光子及びその製造方法
JP2001343512A (ja) 2000-05-31 2001-12-14 Canon Inc 回折光学素子及びそれを有する光学系
JP3642267B2 (ja) 2000-07-05 2005-04-27 セイコーエプソン株式会社 照明光学系およびこれを備えたプロジェクタ
CN1322359C (zh) 2000-07-05 2007-06-20 索尼株式会社 图象显示器件和图象显示设备
AU2001285147A1 (en) 2000-09-08 2002-03-22 Sony Electronics Inc. Footprint reduction in a rear projection television system
US6704469B1 (en) 2000-09-12 2004-03-09 Finisar Corporation Polarization beam combiner/splitter
JP2002116302A (ja) 2000-10-06 2002-04-19 Seiko Epson Corp プラスチックレンズ
US6409525B1 (en) 2000-12-11 2002-06-25 Tyco Electronics Corporation Terminal position housing assembly
AU2002241632A1 (en) 2000-12-27 2002-07-08 Technion Research And Development Foundation Ltd. Space-variant subwavelength polarization grating and applications thereof
WO2002054119A1 (fr) 2000-12-28 2002-07-11 Fuji Electric Co., Ltd. Plaque de guidage de la lumiere et dispositif d'affichage a cristaux liquides comprenant cette plaque
JP3891266B2 (ja) 2000-12-28 2007-03-14 富士電機ホールディングス株式会社 導光板及びこの導光板を備えた液晶表示装置
US6532111B2 (en) 2001-03-05 2003-03-11 Eastman Kodak Company Wire grid polarizer
GB0106050D0 (en) 2001-03-12 2001-05-02 Suisse Electronique Microtech Polarisers and mass-production method and apparatus for polarisers
JP2002280388A (ja) * 2001-03-15 2002-09-27 Toshiba Corp 半導体装置の製造方法
US6585378B2 (en) 2001-03-20 2003-07-01 Eastman Kodak Company Digital cinema projector
US20020167727A1 (en) 2001-03-27 2002-11-14 Hansen Douglas P. Patterned wire grid polarizer and method of use
US7375887B2 (en) 2001-03-27 2008-05-20 Moxtek, Inc. Method and apparatus for correcting a visible light beam using a wire-grid polarizer
KR20030088142A (ko) 2001-04-20 2003-11-17 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 광학용 프리즘 배치 방법 및 장치
JP2002328222A (ja) * 2001-04-26 2002-11-15 Nippon Sheet Glass Co Ltd 偏光素子及びその製造方法
JP2004520628A (ja) 2001-05-18 2004-07-08 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 偏光装置
DE10124803A1 (de) 2001-05-22 2002-11-28 Zeiss Carl Polarisator und Mikrolithographie-Projektionsanlage mit Polarisator
US20020181824A1 (en) 2001-05-30 2002-12-05 Shangyuan Huang Compact polarization beam combiner/splitter
US6669343B2 (en) 2001-05-31 2003-12-30 Koninklijke Philips Electronics N.V. Image display system
US6511183B2 (en) 2001-06-02 2003-01-28 Koninklijke Philips Electronics N.V. Digital image projector with oriented fixed-polarization-axis polarizing beamsplitter
US6609795B2 (en) 2001-06-11 2003-08-26 3M Innovative Properties Company Polarizing beam splitter
US6813077B2 (en) 2001-06-19 2004-11-02 Corning Incorporated Method for fabricating an integrated optical isolator and a novel wire grid structure
US6510200B1 (en) 2001-06-29 2003-01-21 Osmic, Inc. Multi-layer structure with variable bandpass for monochromatization and spectroscopy
US6893130B2 (en) 2001-08-06 2005-05-17 Advanced Digital Optics, Inc. Color management system having a field lens
GB0119176D0 (en) 2001-08-06 2001-09-26 Ocuity Ltd Optical switching apparatus
US6857747B2 (en) 2001-08-06 2005-02-22 Advanced Digital Optics, Inc. Color management system
US6899432B2 (en) 2001-08-06 2005-05-31 Advanced Digital Optics, Inc. Color management system having a transmissive panel and optical isolator
EP1420275B1 (en) 2001-08-24 2008-10-08 Asahi Glass Company, Limited Isolator and optical attenuator
US6547396B1 (en) 2001-12-27 2003-04-15 Infocus Corporation Stereographic projection system
EP1694079B1 (en) 2001-10-01 2008-07-23 Sony Corporation Polarization selecting prism for a projection device
US6922287B2 (en) 2001-10-12 2005-07-26 Unaxis Balzers Aktiengesellschaft Light coupling element
JP3949924B2 (ja) 2001-10-15 2007-07-25 シャープ株式会社 反射型液晶表示装置用基板およびそれを用いた反射型液晶表示装置
US6714350B2 (en) 2001-10-15 2004-03-30 Eastman Kodak Company Double sided wire grid polarizer
JP2003202523A (ja) 2001-11-02 2003-07-18 Nec Viewtechnology Ltd 偏光ユニット、該偏光ユニットを用いた偏光照明装置及び該偏光照明装置を用いた投写型表示装置
US6739723B1 (en) 2001-12-07 2004-05-25 Delta Electronics, Inc. Polarization recapture system for liquid crystal-based data projectors
US7085050B2 (en) 2001-12-13 2006-08-01 Sharp Laboratories Of America, Inc. Polarized light beam splitter assembly including embedded wire grid polarizer
US20030117708A1 (en) 2001-12-21 2003-06-26 Koninklijke Philips Electronics N.V. Sealed enclosure for a wire-grid polarizer and subassembly for a display system
US6947215B2 (en) 2001-12-27 2005-09-20 Canon Kabushiki Kaisha Optical element, optical functional device, polarization conversion device, image display apparatus, and image display system
US6909473B2 (en) 2002-01-07 2005-06-21 Eastman Kodak Company Display apparatus and method
US7061561B2 (en) 2002-01-07 2006-06-13 Moxtek, Inc. System for creating a patterned polarization compensator
US20050008839A1 (en) 2002-01-30 2005-01-13 Cramer Ronald Dean Method for hydrophilizing materials using hydrophilic polymeric materials with discrete charges
WO2003069381A2 (en) 2002-02-12 2003-08-21 Unaxis Balzers Limited Optical component comprising submicron hollow spaces
JP4197100B2 (ja) 2002-02-20 2008-12-17 大日本印刷株式会社 反射防止物品
US6590695B1 (en) 2002-02-26 2003-07-08 Eastman Kodak Company Micro-mechanical polarization-based modulator
US6719426B2 (en) 2002-02-28 2004-04-13 3M Innovative Properties Company Compound polarization beam splitters
US6930053B2 (en) 2002-03-25 2005-08-16 Sanyo Electric Co., Ltd. Method of forming grating microstructures by anodic oxidation
KR20030079268A (ko) 2002-04-03 2003-10-10 삼성에스디아이 주식회사 프로젝션 디스플레이 시스템
US6713396B2 (en) * 2002-04-29 2004-03-30 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Method of fabricating high density sub-lithographic features on a substrate
US7050234B2 (en) 2002-05-01 2006-05-23 Adc Telecommunications, Inc. Lossless beam combination in a dual fiber collimator using a polarizing beamsplitter
US6785050B2 (en) 2002-05-09 2004-08-31 Moxtek, Inc. Corrosion resistant wire-grid polarizer and method of fabrication
US6899440B2 (en) 2002-05-17 2005-05-31 Infocus Corporation Polarized light source system with mirror and polarization converter
KR20030090021A (ko) 2002-05-20 2003-11-28 삼성전기주식회사 반사형 평판 편광판을 이용한 프로젝션 시스템
TW523119U (en) 2002-05-24 2003-03-01 Coretronic Corp Structure of polarizer module
US20030224116A1 (en) 2002-05-30 2003-12-04 Erli Chen Non-conformal overcoat for nonometer-sized surface structure
US6876784B2 (en) 2002-05-30 2005-04-05 Nanoopto Corporation Optical polarization beam combiner/splitter
JP2004062148A (ja) 2002-06-04 2004-02-26 Canon Inc 光学部品及びその製造方法
US7131737B2 (en) 2002-06-05 2006-11-07 Moxtek, Inc. Housing for mounting a beamsplitter and a spatial light modulator with an output optical path
US6805445B2 (en) 2002-06-05 2004-10-19 Eastman Kodak Company Projection display using a wire grid polarization beamsplitter with compensator
US6823093B2 (en) 2002-06-11 2004-11-23 Jds Uniphase Corporation Tunable micro-optic architecture for combining light beam outputs of dual capillary polarization-maintaining optical fibers
JP4310080B2 (ja) 2002-06-17 2009-08-05 キヤノン株式会社 回折光学素子およびこれを備えた光学系、光学装置
US20040047039A1 (en) 2002-06-17 2004-03-11 Jian Wang Wide angle optical device and method for making same
US7386205B2 (en) 2002-06-17 2008-06-10 Jian Wang Optical device and method for making same
EP1520203A4 (en) 2002-06-18 2005-08-24 Nanoopto Corp OPTICAL COMPONENT WITH ADVANCED FUNCTIONALITY AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF
JP2004045672A (ja) 2002-07-11 2004-02-12 Canon Inc 偏光分離素子およびそれを用いた光学系
JP2005534981A (ja) 2002-08-01 2005-11-17 ナノオプト コーポレーション 精密位相遅れ装置およびそれを製造する方法
JP2006514751A (ja) 2002-08-21 2006-05-11 ナノオプト コーポレーション ビームの偏光を提供するための方法およびシステム
GB0219541D0 (en) 2002-08-22 2002-10-02 Secr Defence Method and apparatus for stand-off chemical detection
KR100988705B1 (ko) 2002-08-29 2010-10-18 소니 주식회사 광헤드 및 광기록 매체 구동 장치
US7324180B2 (en) 2002-09-06 2008-01-29 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Laminated retardation optical element, process of producing the same, and liquid crystal display
US6809873B2 (en) 2002-09-09 2004-10-26 Eastman Kodak Company Color illumination system for spatial light modulators using multiple double telecentric relays
US6751003B2 (en) 2002-09-12 2004-06-15 Eastman Kodak Company Apparatus and method for selectively exposing photosensitive materials using a reflective light modulator
US7013064B2 (en) 2002-10-09 2006-03-14 Nanoopto Corporation Freespace tunable optoelectronic device and method
US6920272B2 (en) 2002-10-09 2005-07-19 Nanoopto Corporation Monolithic tunable lasers and reflectors
US6665119B1 (en) 2002-10-15 2003-12-16 Eastman Kodak Company Wire grid polarizer
JP4376507B2 (ja) 2002-11-01 2009-12-02 リコー光学株式会社 偏光光学素子
JP4363029B2 (ja) 2002-11-06 2009-11-11 ソニー株式会社 分割波長板フィルターの製造方法
KR20040046137A (ko) 2002-11-26 2004-06-05 삼성에스디아이 주식회사 반사형 액정 디스플레이를 구비한 프로젝션 시스템
US6811274B2 (en) 2002-12-04 2004-11-02 General Electric Company Polarization sensitive optical substrate
JP3599052B2 (ja) 2002-12-13 2004-12-08 ソニー株式会社 画像表示装置
US7113336B2 (en) 2002-12-30 2006-09-26 Ian Crosby Microlens including wire-grid polarizer and methods of manufacture
US7113335B2 (en) 2002-12-30 2006-09-26 Sales Tasso R Grid polarizer with suppressed reflectivity
US7268946B2 (en) 2003-02-10 2007-09-11 Jian Wang Universal broadband polarizer, devices incorporating same, and method of making same
US6943941B2 (en) 2003-02-27 2005-09-13 Asml Netherlands B.V. Stationary and dynamic radial transverse electric polarizer for high numerical aperture systems
US7206059B2 (en) 2003-02-27 2007-04-17 Asml Netherlands B.V. Stationary and dynamic radial transverse electric polarizer for high numerical aperture systems
TWI319124B (en) 2003-02-27 2010-01-01 Asml Netherlands Bv Stationary and dynamic radial transverse electric polarizer for high numerical aperture systems
CN1438544A (zh) 2003-02-28 2003-08-27 北京大学 多层高深宽比硅台阶深刻蚀方法
US20040174596A1 (en) 2003-03-05 2004-09-09 Ricoh Optical Industries Co., Ltd. Polarization optical device and manufacturing method therefor
KR101162135B1 (ko) 2003-03-13 2012-07-03 아사히 가라스 가부시키가이샤 회절 소자 및 광학 장치
US20060192960A1 (en) 2003-03-24 2006-08-31 Rencs Erik V Polarization detection
JP2004309903A (ja) 2003-04-09 2004-11-04 Ricoh Opt Ind Co Ltd 無機偏光素子および偏光光学素子および液晶素子
US7159987B2 (en) 2003-04-21 2007-01-09 Seiko Epson Corporation Display device, lighting device and projector
US20040227994A1 (en) 2003-05-16 2004-11-18 Jiaying Ma Polarizing beam splitter and projection systems using the polarizing beam splitter
US6846089B2 (en) 2003-05-16 2005-01-25 3M Innovative Properties Company Method for stacking surface structured optical films
US7196849B2 (en) 2003-05-22 2007-03-27 Optical Research Associates Apparatus and methods for illuminating optical systems
WO2004106982A2 (en) 2003-05-22 2004-12-09 Optical Research Associates Optical combiner designs and head mounted displays
US20040258355A1 (en) 2003-06-17 2004-12-23 Jian Wang Micro-structure induced birefringent waveguiding devices and methods of making same
DE10327963A1 (de) 2003-06-19 2005-01-05 Carl Zeiss Jena Gmbh Polarisationsstrahlteiler
JP4425059B2 (ja) 2003-06-25 2010-03-03 シャープ株式会社 偏光光学素子、およびそれを用いた表示装置
US6769779B1 (en) 2003-07-22 2004-08-03 Eastman Kodak Company Housing for mounting modulation and polarization components in alignment with an optical path
US6821135B1 (en) 2003-08-06 2004-11-23 Tyco Electronics Corporation Alignment plate for aligning connector terminals
KR100512141B1 (ko) 2003-08-11 2005-09-05 엘지전자 주식회사 와이어 그리드 편광자 제조 방법
JP2007503120A (ja) 2003-08-19 2007-02-15 ナノオプト コーポレーション サブミクロンスケールのパターニングの方法およびシステム
JP4386413B2 (ja) 2003-08-25 2009-12-16 株式会社エンプラス ワイヤーグリッド偏光子の製造方法
JP4593894B2 (ja) 2003-09-01 2010-12-08 キヤノン株式会社 光学式エンコーダ
DE10341596B4 (de) 2003-09-05 2009-01-29 Carl Zeiss Polarisationsstrahlteiler
JP4475501B2 (ja) 2003-10-09 2010-06-09 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション 分光素子、回折格子、複合回折格子、カラー表示装置、および分波器
JP2005121906A (ja) 2003-10-16 2005-05-12 Fuji Photo Film Co Ltd 反射型光変調アレイ素子及び露光装置
TWI223103B (en) 2003-10-23 2004-11-01 Ind Tech Res Inst Wire grid polarizer with double metal layers
JP4311170B2 (ja) 2003-11-14 2009-08-12 富士ゼロックス株式会社 画像形成装置及び画像形成装置とｉｃメモリとの通信方法
JP2005172844A (ja) 2003-12-05 2005-06-30 Enplas Corp ワイヤグリッド偏光子
KR20050057767A (ko) 2003-12-11 2005-06-16 엘지전자 주식회사 해상도 향상 장치 및 방법 그리고 이를 이용한디스플레이장치
US7203001B2 (en) 2003-12-19 2007-04-10 Nanoopto Corporation Optical retarders and related devices and systems
TWI230834B (en) 2003-12-31 2005-04-11 Ind Tech Res Inst High-transmissivity polarizing module constituted with sub-wavelength structure
JP4527986B2 (ja) 2004-01-07 2010-08-18 旭化成イーマテリアルズ株式会社 ワイヤグリッド型偏光子
JP2005202104A (ja) 2004-01-15 2005-07-28 Nikon Corp 偏光化素子の製造方法、偏光化素子、および画像投影装置の製造方法、並びに画像投影装置
KR20070015369A (ko) 2004-01-16 2007-02-02 코닌클리케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이. 광학 시스템
US7234816B2 (en) 2004-02-03 2007-06-26 3M Innovative Properties Company Polarizing beam splitter assembly adhesive
US7405880B2 (en) 2004-02-12 2008-07-29 Api Nanofabrication And Research Corporation Multilayer optical filter
JP2005242080A (ja) 2004-02-27 2005-09-08 Victor Co Of Japan Ltd ワイヤグリッドポラライザ
CN100337143C (zh) 2004-03-03 2007-09-12 株式会社日立制作所 光学单元以及使用该光学单元的投影型图像显示装置
JP4451268B2 (ja) 2004-03-04 2010-04-14 株式会社リコー 光学素子及びその製造方法と、これを用いた光学製品、光ピックアップ及び光情報処理装置
US7256938B2 (en) 2004-03-17 2007-08-14 General Atomics Method for making large scale multilayer dielectric diffraction gratings on thick substrates using reactive ion etching
US7025464B2 (en) 2004-03-30 2006-04-11 Goldeneye, Inc. Projection display systems utilizing light emitting diodes and light recycling
US20050275944A1 (en) 2004-06-11 2005-12-15 Wang Jian J Optical films and methods of making the same
US7670758B2 (en) 2004-04-15 2010-03-02 Api Nanofabrication And Research Corporation Optical films and methods of making the same
US7811481B2 (en) 2004-04-19 2010-10-12 Sunlux Co., Ltd. Polarizing plastic optical device and process for producing the same
US7155073B2 (en) 2004-05-07 2006-12-26 Canon Kabushiki Kaisha Polarization element and optical device using polarization element
US20060001969A1 (en) 2004-07-02 2006-01-05 Nanoopto Corporation Gratings, related optical devices and systems, and methods of making such gratings
JP2006032648A (ja) * 2004-07-16 2006-02-02 Toshiba Corp パターン形成方法を含む半導体装置の製造方法
JP4442760B2 (ja) 2004-08-06 2010-03-31 旭化成イーマテリアルズ株式会社 無機物の選択的パターン形成方法及びグリッド型偏光素子
DE102004041222A1 (de) 2004-08-26 2006-03-02 Carl Zeiss Jena Gmbh Photonische Kristallstruktur
US20060056024A1 (en) 2004-09-15 2006-03-16 Ahn Seh W Wire grid polarizer and manufacturing method thereof
US7414784B2 (en) 2004-09-23 2008-08-19 Rohm And Haas Denmark Finance A/S Low fill factor wire grid polarizer and method of use
US7466484B2 (en) 2004-09-23 2008-12-16 Rohm And Haas Denmark Finance A/S Wire grid polarizers and optical elements containing them
KR100623026B1 (ko) 2004-10-06 2006-09-19 엘지전자 주식회사 선 격자 편광자 및 그 제조방법
JP2006126338A (ja) 2004-10-27 2006-05-18 Nippon Sheet Glass Co Ltd 偏光子およびその製造方法
JP2006133402A (ja) 2004-11-04 2006-05-25 Canon Inc 偏光分離素子及びそれを有する光学系
JP2006133403A (ja) 2004-11-04 2006-05-25 Canon Inc 偏光分離素子
US7261418B2 (en) 2004-11-12 2007-08-28 3M Innovative Properties Company Projection apparatus
JP2008522226A (ja) 2004-11-30 2008-06-26 アグーラ テクノロジーズ インコーポレイテッド 大規模ワイヤ・グリッド偏光子の応用および作製技術
US7351346B2 (en) 2004-11-30 2008-04-01 Agoura Technologies, Inc. Non-photolithographic method for forming a wire grid polarizer for optical and infrared wavelengths
US20080055721A1 (en) 2006-08-31 2008-03-06 Perkins Raymond T Light Recycling System with an Inorganic, Dielectric Grid Polarizer
US7800823B2 (en) 2004-12-06 2010-09-21 Moxtek, Inc. Polarization device to polarize and further control light
US20080055722A1 (en) 2006-08-31 2008-03-06 Perkins Raymond T Optical Polarization Beam Combiner/Splitter with an Inorganic, Dielectric Grid Polarizer
US7961393B2 (en) 2004-12-06 2011-06-14 Moxtek, Inc. Selectively absorptive wire-grid polarizer
US7570424B2 (en) 2004-12-06 2009-08-04 Moxtek, Inc. Multilayer wire-grid polarizer
US20080055549A1 (en) 2006-08-31 2008-03-06 Perkins Raymond T Projection Display with an Inorganic, Dielectric Grid Polarizer
US20080055720A1 (en) 2006-08-31 2008-03-06 Perkins Raymond T Optical Data Storage System with an Inorganic, Dielectric Grid Polarizer
US20080055719A1 (en) 2006-08-31 2008-03-06 Perkins Raymond T Inorganic, Dielectric Grid Polarizer
US7630133B2 (en) 2004-12-06 2009-12-08 Moxtek, Inc. Inorganic, dielectric, grid polarizer and non-zero order diffraction grating
US7619816B2 (en) 2004-12-15 2009-11-17 Api Nanofabrication And Research Corp. Structures for polarization and beam control
US20060127830A1 (en) 2004-12-15 2006-06-15 Xuegong Deng Structures for polarization and beam control
JP2006201540A (ja) 2005-01-21 2006-08-03 Asahi Kasei Corp ワイヤグリッド偏光板及びその製造方法
JP4652110B2 (ja) 2005-04-21 2011-03-16 株式会社日立製作所 投射型映像表示装置
JP4760135B2 (ja) 2005-05-24 2011-08-31 ソニー株式会社 光学装置及び光学装置の製造方法
US8237876B2 (en) 2005-05-25 2012-08-07 Kim Leong Tan Tilted C-plate retarder compensator and display systems incorporating the same
KR20070010472A (ko) * 2005-07-19 2007-01-24 삼성전자주식회사 하이브리드형 편광자와, 이의 제조 방법 및 이를 갖는표시장치
JP2007058100A (ja) 2005-08-26 2007-03-08 Ricoh Co Ltd 光学素子・光源ユニット・光走査装置・画像形成装置
JP2007101859A (ja) 2005-10-04 2007-04-19 Fujifilm Corp 偏光分離素子およびその製造方法
JP4275692B2 (ja) 2005-10-17 2009-06-10 旭化成株式会社 ワイヤグリッド偏光板及びそれを用いた液晶表示装置
US20070183035A1 (en) 2005-10-31 2007-08-09 Koji Asakawa Short-wavelength polarizing elements and the manufacture and use thereof
KR100707083B1 (ko) 2005-11-24 2007-04-13 엘지전자 주식회사 선 격자 편광자 및 그 제조방법
US7475991B2 (en) 2005-12-22 2009-01-13 3M Innovative Properties Company Polarizing beamsplitter assembly
US7907609B2 (en) 2006-01-06 2011-03-15 Qualcomm, Incorporated Method and apparatus for enhancing RoHC performance when encountering silence suppression
US20070217008A1 (en) 2006-03-17 2007-09-20 Wang Jian J Polarizer films and methods of making the same
JP2007257750A (ja) 2006-03-24 2007-10-04 Hitachi Media Electoronics Co Ltd 光ピックアップおよび光ディスク装置
EP2023169A4 (en) * 2006-04-07 2011-03-16 Asahi Glass Co Ltd WIRE GRID POLARIZER AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
US20070242352A1 (en) 2006-04-13 2007-10-18 Macmaster Steven William Wire-grid polarizers, methods of fabrication thereof and their use in transmissive displays
US20070297052A1 (en) 2006-06-26 2007-12-27 Bin Wang Cube wire-grid polarizing beam splitter
WO2008016753A2 (en) 2006-08-01 2008-02-07 Colorlink, Inc. Compensation schemes for lcos projection systems using form birefringent polarization beam splitters
US20080037101A1 (en) 2006-08-11 2008-02-14 Eastman Kodak Company Wire grid polarizer
US20080038467A1 (en) 2006-08-11 2008-02-14 Eastman Kodak Company Nanostructured pattern method of manufacture
JP5933910B2 (ja) * 2006-08-15 2016-06-15 ポラリゼーション ソリューションズ エルエルシー 偏光子薄膜及びこの製作方法
WO2008022097A2 (en) 2006-08-15 2008-02-21 Api Nanofabrication And Research Corp. Methods for forming patterned structures
US8755113B2 (en) 2006-08-31 2014-06-17 Moxtek, Inc. Durable, inorganic, absorptive, ultra-violet, grid polarizer
US7906275B2 (en) 2006-08-31 2011-03-15 Stc.Unm Self-aligned spatial frequency doubling
JP4778873B2 (ja) 2006-10-20 2011-09-21 株式会社 日立ディスプレイズ 液晶表示装置
JP2008145457A (ja) 2006-12-05 2008-06-26 Canon Inc 光学素子及び画像投射装置
JP4795214B2 (ja) 2006-12-07 2011-10-19 チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド ワイヤーグリッド偏光子及びその製造方法
JP5303928B2 (ja) * 2006-12-26 2013-10-02 東レ株式会社 反射型偏光板及びその製造方法、それを用いた液晶表示装置
KR20090108592A (ko) * 2007-01-12 2009-10-15 도레이 카부시키가이샤 편광판 및 이것을 사용한 액정표시장치
KR20080075753A (ko) 2007-02-13 2008-08-19 삼성전자주식회사 와이어 그리드 편광자 및 그 제조 방법
US7789515B2 (en) 2007-05-17 2010-09-07 Moxtek, Inc. Projection device with a folded optical path and wire-grid polarizer
US7944544B2 (en) 2007-06-07 2011-05-17 Seiko Epson Corporation Liquid crystal device having a diffraction function layer that includes a flat portion and a non-flat portion with a grid disposed in the non-flat portion
US7722194B2 (en) 2007-06-07 2010-05-25 Seiko Epson Corporation Optical element having a reflected light diffusing function and a polarization separation function and a projection display device
US20080316599A1 (en) 2007-06-22 2008-12-25 Bin Wang Reflection-Repressed Wire-Grid Polarizer
US8493658B2 (en) 2007-07-06 2013-07-23 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Polarizer and display device including polarizer
US7755718B2 (en) 2007-08-10 2010-07-13 Seiko Epson Corporation Optical element, liquid crystal device, and display
JP4412372B2 (ja) * 2007-09-12 2010-02-10 セイコーエプソン株式会社 偏光素子の製造方法
JP4412388B2 (ja) 2007-10-31 2010-02-10 セイコーエプソン株式会社 光学素子、液晶装置及び電子機器
JP4535121B2 (ja) 2007-11-28 2010-09-01 セイコーエプソン株式会社 光学素子及びその製造方法、液晶装置、電子機器
US20090231702A1 (en) 2008-03-17 2009-09-17 Qihong Wu Optical films and methods of making the same
WO2009123290A1 (ja) 2008-04-03 2009-10-08 旭硝子株式会社 ワイヤグリッド型偏光子およびその製造方法
US7771045B2 (en) 2008-04-03 2010-08-10 Sol-Grid, Llc Polarized eyewear
WO2009134269A1 (en) 2008-05-01 2009-11-05 Agoura Technologies, Inc. A wire grid polarizer for use on the front side of lcds
US7759755B2 (en) 2008-05-14 2010-07-20 International Business Machines Corporation Anti-reflection structures for CMOS image sensors
JP5288910B2 (ja) 2008-07-01 2013-09-11 株式会社北川鉄工所 鋳造物の取り出し装置
WO2010005059A1 (ja) 2008-07-10 2010-01-14 旭硝子株式会社 ワイヤグリッド型偏光子およびその製造方法
US8506827B2 (en) * 2008-09-22 2013-08-13 Polarization Solutions, Llc Short pitch metal gratings and methods for making the same
JP5439783B2 (ja) 2008-09-29 2014-03-12 ソニー株式会社 光学素子、反射防止機能付き光学部品、および原盤
US20120075699A1 (en) 2008-10-29 2012-03-29 Mark Alan Davis Segmented film deposition
US20100103517A1 (en) 2008-10-29 2010-04-29 Mark Alan Davis Segmented film deposition
CN101738668B (zh) 2008-11-19 2011-12-07 上海丽恒光微电子科技有限公司 偏振立方体及其制造方法
JP2010169722A (ja) 2009-01-20 2010-08-05 Seiko Epson Corp 光学素子の製造方法及び光学素子
JP5402101B2 (ja) 2009-03-06 2014-01-29 セイコーエプソン株式会社 偏光素子、投射型表示装置、液晶装置、電子機器
US20100239828A1 (en) 2009-03-19 2010-09-23 Cornaby Sterling W Resistively heated small planar filament
KR101610376B1 (ko) 2009-04-10 2016-04-08 엘지이노텍 주식회사 와이어 그리드 편광자, 이를 포함하는 액정 표시 장치 및 와이어 그리드 편광자의 제조 방법
US8248696B2 (en) 2009-06-25 2012-08-21 Moxtek, Inc. Nano fractal diffuser
JP5402317B2 (ja) * 2009-06-29 2014-01-29 セイコーエプソン株式会社 偏光素子および偏光素子の製造方法、投写型表示装置、液晶装置、電子機器
JP6049979B2 (ja) 2009-07-03 2016-12-21 ソニー株式会社 光学素子、および表示装置
JP5636650B2 (ja) * 2009-08-14 2014-12-10 セイコーエプソン株式会社 偏光素子および投写型表示装置
WO2011022423A2 (en) 2009-08-18 2011-02-24 Liquidia Technologies, Inc. Nanowire grid polarizers and methods for fabricating the same
WO2011056496A2 (en) 2009-10-26 2011-05-12 3M Innovative Properties Company Apparatus and method for providing a structured surface on a substrate
JP5527074B2 (ja) 2009-11-16 2014-06-18 セイコーエプソン株式会社 偏光素子及びプロジェクター
JP5672702B2 (ja) * 2010-01-08 2015-02-18 セイコーエプソン株式会社 偏光素子、偏光素子の製造方法、電子機器
JP5526851B2 (ja) 2010-02-19 2014-06-18 セイコーエプソン株式会社 偏光素子及びプロジェクター
JP2011248284A (ja) 2010-05-31 2011-12-08 Sony Chemical & Information Device Corp 偏光板及び偏光板の製造方法
JP2012002971A (ja) * 2010-06-16 2012-01-05 Seiko Epson Corp 偏光素子及びその製造方法、液晶装置、電子機器
TWI418726B (zh) 2011-06-28 2013-12-11 Pegatron Corp 可變色發光模組及燈具
JP5682437B2 (ja) * 2010-09-07 2015-03-11 ソニー株式会社 固体撮像素子、固体撮像装置、撮像機器、及び、偏光素子の製造方法
US8611007B2 (en) 2010-09-21 2013-12-17 Moxtek, Inc. Fine pitch wire grid polarizer
US8913321B2 (en) 2010-09-21 2014-12-16 Moxtek, Inc. Fine pitch grid polarizer
JP5760388B2 (ja) * 2010-11-01 2015-08-12 セイコーエプソン株式会社 偏光素子とその製造方法、プロジェクター、液晶装置、電子機器
JP2012103490A (ja) * 2010-11-10 2012-05-31 Seiko Epson Corp 偏光素子とその製造方法、プロジェクター、液晶装置、電子機器
US20140300964A1 (en) 2010-12-30 2014-10-09 Mark Alan Davis Wire grid polarizer with substrate channels
US20150077851A1 (en) 2010-12-30 2015-03-19 Moxtek, Inc. Multi-layer absorptive wire grid polarizer
WO2012115059A1 (ja) * 2011-02-22 2012-08-30 旭硝子株式会社 微細構造成形体および該微細構造成形体を備えた液晶表示装置
US8873144B2 (en) 2011-05-17 2014-10-28 Moxtek, Inc. Wire grid polarizer with multiple functionality sections
US8913320B2 (en) 2011-05-17 2014-12-16 Moxtek, Inc. Wire grid polarizer with bordered sections
US20130043956A1 (en) 2011-08-15 2013-02-21 Honeywell International Inc. Systems and methods for a nanofabricated optical circular polarizer
KR101806559B1 (ko) 2011-08-30 2017-12-07 엘지이노텍 주식회사 와이어 그리드 편광자 및 그 제조방법, 와이어 그리드 편광자를 포함한 액정표시장치
US9452574B2 (en) 2011-12-19 2016-09-27 Canon Nanotechnologies, Inc. Fabrication of seamless large area master templates for imprint lithography using step and repeat tools
US8922890B2 (en) 2012-03-21 2014-12-30 Moxtek, Inc. Polarizer edge rib modification
US9632223B2 (en) 2013-10-24 2017-04-25 Moxtek, Inc. Wire grid polarizer with side region
US10268046B2 (en) 2014-05-28 2019-04-23 Moxtek, Inc. Cube polarizer
US9726897B2 (en) 2014-05-28 2017-08-08 Motex, Inc. Cube polarizer with minimal optical path length difference
WO2015199948A1 (en) 2014-06-25 2015-12-30 Moxtek, Inc. Wire grid polarizer with dual absorptive regions
US9632224B2 (en) 2014-06-25 2017-04-25 Moxtek, Inc. Broadband, selectively-absorptive wire grid polarizer
US20160231487A1 (en) 2015-02-06 2016-08-11 Moxtek, Inc. High Contrast Inverse Polarizer
US20160291227A1 (en) 2015-04-03 2016-10-06 Moxtek, Inc. Wire Grid Polarizer with Water-Soluble Materials
US20170059758A1 (en) 2015-08-24 2017-03-02 Moxtek, Inc. Small-Pitch Wire Grid Polarizer
JP7072428B2 (ja) 2018-03-30 2022-05-20 日本電産サンキョー株式会社 モータおよびモータの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20160074502A (ko) 2016-06-28
JP2016534417A (ja) 2016-11-04
JP2016536651A (ja) 2016-11-24
US9632223B2 (en) 2017-04-25
US20170184768A1 (en) 2017-06-29
US9354374B2 (en) 2016-05-31
KR20160077046A (ko) 2016-07-01
US20150131150A1 (en) 2015-05-14
US20150116824A1 (en) 2015-04-30
US9348076B2 (en) 2016-05-24
JP6525012B2 (ja) 2019-06-05
CN105659150A (zh) 2016-06-08
CN105683816A (zh) 2016-06-15
US9798058B2 (en) 2017-10-24
JP6484897B2 (ja) 2019-03-20
CN105683817A (zh) 2016-06-15
US20150116825A1 (en) 2015-04-30
KR20160074470A (ko) 2016-06-28
JP2016534418A (ja) 2016-11-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6550681B2 (ja) ワイヤ間距離が可変な偏光子
US10114161B2 (en) Multi-layer absorptive wire grid polarizer
US9988724B2 (en) Inorganic polarizing plate having trapezoid shaped metal layers and production method thereof
JP5333615B2 (ja) 偏光素子、及び透過型液晶プロジェクター
KR102364526B1 (ko) 편광판, 및 편광판의 제조 방법
KR101809313B1 (ko) 그리드 편광 소자 및 그리드 편광 소자 제조 방법
JP2017527834A (ja) 二重吸収領域を有するワイヤグリッド偏光子
US10353127B2 (en) Small-pitch wire grid polarizer
CN105093380B (zh) 无机偏光板及其生产方法
JP5936727B2 (ja) 偏光素子
WO2017073266A1 (ja) 無機偏光板及びその製造方法
JP2010060587A (ja) 偏光素子及びその製造方法
WO2015060943A1 (en) Polarizer with variable inter-wire distance
JP2009236945A (ja) ワイヤーグリッド偏光子およびその製造方法
KR102324266B1 (ko) 반사형 마스크 및 제조 방법

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160426

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170517

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20180205

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180403

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180523

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20181030

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20181204

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20190604

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190614

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6550681

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250