JP2001330728A - ワイヤーグリット型偏光子及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明の目的は、比較的簡単な工程で、安価
な材料からワイヤーグリット型の偏光子を提供すること
である。 【解決手段】 前記目的を達成するために本発明にかか
るワイヤーグリット型偏光子は、特定の波長範囲にある
光を透過させない基板と、前記基板の表裏両面に設けら
れたホトレジスト層とを有し、前記ホトレジスト層に
は、基板の表裏両面で互いに平行の関係となるように複
数の凹凸による平行線パターンが形成されており、前記
基板の表裏両面に形成された凹凸による平行線パターン
の凸部頂上及びその近傍にのみ金属を蒸着して、基板の
表裏両面にワイヤーグリットが形成されていることを特
徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は偏光素子、特に金属
平行線パターンを有するワイヤーグリット型偏光子の改
良に関する。

【０００２】

【従来の技術】グリッド型の偏光子は、導体グリットを
平行に配列させ、偏光子を透過する光から導体グリット
と平行な方向に振動する光を除外し、垂直な方向に振動
する光のみを透過させることによって、簡単に振動方向
のそろった光を得る事ができるため、分光計や放射計な
どの光測定機器に装着して、物理、化学、医学、薬学、
生物学、鉱物学、天文学などの広い分野において、物性
の究明や現象の解明のために利用されている。特にグリ
ッド型の偏光子は可視域と異なり適当な偏光材料の無い
赤外域では有効な偏光素子であり、利用される機会の多
いものであった。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところが、グリット型
の偏光子は高い偏光特性が要求される測定などにおいて
は、十分な偏光特性を有するとは言えず、偏光特性のよ
りいっそうの改良が望まれていた。

【０００４】このようなグリット型偏光子の偏光特性を
改良する技術としては、特開平６０−２３０１０２号公
報や日本国特許第２６５９０２４号などの技術が公知で
ある。しかし、特開平６０−２３０１０２号公報に記載
された技術であっても近年の高精度の測定に要求される
偏光特性を十分に備えるとは言いきれるものではなかっ
た。

【０００５】また、グリット偏光子に用いられる導体グ
リットとしては金属が用いられていたが、この導体グリ
ットとして高価な金属を使用すると偏光子のコストが上
がってしまうなどの問題も有していた。さらに偏光子の
偏光特性を上げるために煩雑な工程によって生産する
と、やはり偏光子のコストが上がってしまうとともに生
産効率が下がってしまうという問題があった。本発明は
前記課題に鑑みなされたものであり、比較的簡単な工程
で、安価な材料からワイヤーグリット型の偏光子を提供
することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明にかかるワイヤーグリット型偏光子は、特定の
波長範囲にある光を透過させない基板と、前記基板の表
裏両面に設けられたホトレジスト層とを有し、前記ホト
レジスト層には、基板の表裏両面で互いに平行の関係と
なるように複数の凹凸による平行線パターンが形成され
ており、前記基板の表裏両面に形成された凹凸による平
行線パターンの凸部頂上及びその近傍にのみ金属を蒸着
して、基板の表裏両面にワイヤーグリットが形成されて
いることを特徴とする。また本発明の偏光子において、
平行線パターンの凸部頂上及びその近傍にのみ蒸着され
る金属がアルミニウムであることが好適である。

【０００７】さらに本発明にかかるワイヤーグリット型
偏光子の製造方法は、特定の波長範囲にある光を透過さ
せない基板の表裏両面にホトレジスト層を設け、前記基
板を透過しない波長範囲にある光を用いて、前記光の干
渉よって複数の平行線パターンを前記基板の一方の面に
露光させた後、さらに前記一方の面に設けられた平行線
パターンと平行となるように他方の面に前記光の干渉よ
って複数の平行線パターンを露光させて現像し、前記基
板の表裏両面に複数の凹凸による平行線パターンを形成
させ、前記基板の表裏両面に形成された凹凸による平行
線パターンの凸部頂上及びその近傍にのみ金属を蒸着さ
せてワイヤーグリットを形成させることを特徴とする。

【０００８】また本発明の製造方法において、基板の表
裏両面に形成された凹凸による平行線パターンの凸部頂
上及びその近傍にのみ金属を蒸着させる方法が、金属を
蒸着させる際に、基板の中心と被蒸着金属の蒸着源を結
ぶ直線が基板の垂線に対してある傾角を持つように基板
を設置して蒸着を行う斜め蒸着によることが好適であ
る。また本発明の製造方法において、被蒸着金属を蒸発
させる蒸着源が１つであるとき、基板の中心と被蒸着金
属の蒸着源を結ぶ直線が基板の垂線に対してある傾角を
持って基板を設置して蒸着を行ったのち、前記基板の垂
線を軸線として基板を１８０度回転させて再び金属を蒸
着させ、前記基板を表裏裏返して基板の中心と被蒸着金
属の蒸着源を結ぶ直線が基板の垂線に対してある傾角を
持って基板を設置して蒸着を行ったのち、前記基板の垂
線を軸線として１８０度回転させて再び金属を蒸着させ
ることが好適である。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を用い
て本発明のワイヤーグリット型偏光子を詳しく説明す
る。図１は本発明の一実施形態であるワイヤーグリッド
型偏光子の断面該略図を示すものである。

【００１０】同図に示されるように本発明にかかるワイ
ヤーグリット型偏光子２は、特定の波長範囲にある光を
透過させない基板４と、前記基板４の表裏両面に設けら
れたホトレジスト層６、８とを有し、前記ホトレジスト
層６、８には、基板４の表裏両面で互いに平行の関係と
なるように複数の凹凸による平行線パターンが形成され
ており、前記基板４の表裏両面に形成された凹凸による
平行線パターンの凸部頂上及びその近傍にのみ金属１０
を蒸着して、基板４の表裏両面にワイヤーグリットが形
成されていることを特徴とする。このようなワイヤーグ
リット型偏光子の製造方法を各工程別に説明する。

【００１１】ホトレジスト層形成工程 本発明のワイヤーグリット型偏光子の基板としては、特
定の波長範囲にある光を透過させない性質のものを用
い、基板の表裏両面にホトレジスト層をスピンナー法な
どによって設ける。用いる基板の厚さには特に限定は無
いが、偏光子の強度や機能性等を考慮すると２ｍｍ〜１
０ｍｍであることが好適である。

【００１２】また基板上に設けられるホトレジスト層の
厚さとしては、続く工程で光の干渉を利用して干渉縞を
露光し、現像して凹凸による平行線パターンが形成され
るのであるが、この工程において凹凸を十分に形成し得
る厚さであればよく得に限定されないが、製造後の強
度、及び十分に凹凸を形成し得る厚さ等を考慮すると１
μｍ〜５μｍが好適である。

【００１３】露光・現像工程 ホトレジスト層が設けられた基板はホログラム法などに
よって、前記したように基板が透過させることのない波
長範囲に属する波長の光を干渉させてホトレジスト層表
面に干渉縞を形成させ、基板表面に設けられたホトレジ
スト層に干渉縞を露光させる。そして基板表面に設けら
れたホトレジスト層の一方の面に干渉縞を露光させた
ら、同様の手順で基板表面の他方の面にも干渉縞を露光
させるのである。

【００１４】基板として特定の波長範囲にある光を透過
させない性質のものを用いる理由は、基板表面に設けら
れたホトレジスト層に光の干渉を利用して平行線パター
ンを露光させる露光工程において、基板の一方の面に設
けられたホトレジスト層を露光している最中に、他方の
面に設けられたホトレジスト層が基板を透過した光によ
って露光されることを防止するためである。

【００１５】このため基板が透過させない光の波長範囲
としては特に限定は無いが、ワイヤーグリット型偏光子
を製造した後、偏光しようとする目的の波長の光が透過
すること、且つ目的とするグリット幅の干渉縞を形成す
るために用いる光は透過させないことが必要となる。

【００１６】例をあげると赤外領域で用いる偏光子とす
るのであれば、ＫＲＳ−５、またはＳｉ、ＣａＦ_２、Ｂ
ａＦ_２、ＺｎＳｅなどから形成された基板を用い、干渉
縞を形成するために用いられる光源としてはＨｅ−Ｃｄ
レーザー光源などの各種レーザー光源を用いることがで
きる。

【００１７】蒸着工程 基板の表裏両面に凹凸による平行線パターンを形成させ
た後、基板の表裏両面に形成された凹凸による平行線パ
ターンの凸部頂上及びその近傍にのみ金属を蒸着させて
ワイヤーグリットを形成させるのである。

【００１８】ワイヤーグリットの幅は偏光子が有する偏
光特性に大きな影響を与えるが、この幅を調整するには
ホトレジスト層を露光させる際に用いる干渉縞を生起す
る光の波長や光の照射条件によってほぼ決定されるため
目的とするグリット幅となるような干渉縞の間隔を生起
する波長の光や照射条件を選択するのがよい。蒸着させ
る金属にも特に限定は無いが、安価で扱いやすいアルミ
ニウムなどの金属を用いるのがコストを抑えるために好
適である。

【００１９】なお、基板の表裏両面に形成された凹凸に
よる平行線パターンの凸部頂上及びその近傍にのみ金属
を蒸着させる方法としては、金属を蒸着させる際に、基
板の中心と被蒸着金属の蒸着源を結ぶ直線が基板の垂線
に対してある傾角を持つように基板を設置して蒸着を行
う斜め蒸着を用いるのが好適である。

【００２０】図２に斜め蒸着を行って導体グリットを形
成させる際の概略図を示す。なお同図において図１と同
じ構成要素に該当する部分には同一の符号を付して説明
を省略する。同図（ａ）に示すように被蒸着金属を基板
４の表裏両面にホトレジスト層６、８によって形成され
た凹凸による平行線パターンの凸部頂上及びその近傍に
のみ金属を蒸着させるために、基板４の中心Ｏと被蒸着
金属を蒸着するための蒸着源Ｑを結ぶ直線ＯＱに対し
て、基板４の垂線Ｎはある程度の傾角θを有するように
基板４が設置されている。

【００２１】このように基板を設置して金属の蒸着を行
うと、図２（ｂ）に示すように、基板４表面に形成され
たホトレジスト層６の凹凸の凸部が隣り合う凸部との間
の凹部を蒸着源から隠すため、凹部に金属が蒸着される
ことを防止し、凸部の頂上及びその近傍にのみ金属を蒸
着させることができるのである。

【００２２】この蒸着工程において、基板の中心Ｏと被
蒸着金属を蒸着するための蒸着源Ｑを結ぶ直線ＯＱと基
板の垂線Ｎとのなす角については、目的のグリット幅と
なるように適宜選択することが望ましく、例をあげる
と、６５度〜８５度であることが好適である。しかしこ
の値は、ホトレジストに形成された凹凸の深さや、凹凸
間の間隔によっても変わるので、製造する偏光子が偏光
することを目的とする光の波長等を考慮して適宜好適な
角度で蒸着する必要がある。

【００２３】なお、図２（ａ）に記載したように、被蒸
着金属を蒸発させる蒸着源が１つであるとき、基板４の
中心Ｏと被蒸着金属の蒸着源Ｑを結ぶ直線ＯＱが基板４
の垂線Ｎに対してある傾角θを持って基板４を設置して
蒸着を行ったのち、前記基板４の垂線Ｎを軸線として基
板４を１８０度回転させて再び金属を蒸着させ、その
後、基板４を表裏裏返して基板４の中心Ｏと被蒸着金属
の蒸着源Ｑを結ぶ直線ＯＱが基板４の垂線Ｎに対してあ
る傾角を持って基板４を設置して蒸着を行ったのち、前
記基板４の垂線Ｎを軸線として１８０度回転させて再び
金属を蒸着させることが好適である。

【００２４】このように基板の一方の面について異なる
方向から２度蒸着を行うのは、導体グリットの幅、及び
厚さを均一化するためである。図３に導体グリットの蒸
着状態を説明するための断面図を示す。なお同図におい
て図１と同じ構成要素に該当する部分には同一の符号を
付して説明を省略する。

【００２５】図３（ａ）は片側からのみ蒸着した状態の
偏光子の断面図である。片側からのみ蒸着した状態で
は、金属はホトレジスト層６の凸部頂上及びその近傍に
蒸着されてはいるものの、ホトレジスト層６の有する凹
凸の形状が平面でなく、いわゆるブレーズもしていな
い、なだらかな曲線によって形成されているため、蒸着
された金属の厚さも場所によりまちまちとなってしまっ
ている。このように厚さが一定でないと、偏光しようと
する光の波長に対して不透明となる厚さに達していない
部分も存在する。このため導体グリットの幅も偏光子全
体で均一にならず、結果として製造された偏光子の偏光
特性に大きく影響してしまう。

【００２６】ところが基板の一方の面について異なる方
向から２度蒸着を行うことによって、図３（ｂ）に示さ
れるように、導体グリットのエッジ部分がはっきりと定
まり、且つ導体グリットの厚さ及び幅も均一化すること
が可能となるのである。

【００２７】なお、ここでは蒸着源をひとつ設けて蒸着
を行う工程を説明したが、本発明は基板の表裏両面に形
成された凹凸による平行線パターンの凸部頂上及びその
近傍にのみ金属を蒸着させ得る様々な方法を適用するこ
とが可能であり、例えば図４に示すように蒸着源を２つ
設けて蒸着源Ｑ、Ｑ’とし、基板の中心Ｏと蒸着源とを
結ぶ直線ＯＱ、ＯＱ’と基板の垂線Ｎの交わる角度が同
一の角度となるように基板を設置して金属を蒸着させて
も、高い偏光特性を持つの偏光子とすることができる。
このような蒸着方法を用いれば基板の表裏２回の蒸着に
よって偏光子を製造することが可能である。

【００２８】従来の偏光子では基板の片面のみにグリッ
トを形成していたので、基板は偏光することを目的とす
る波長の光を透過することだけが考慮されていた。とこ
ろがホログラム法などの光学的手段によって平行線パタ
ーンを形成する場合であっても、ホログラム法で用いる
光も基板を透過してしまうものがほとんどであった。そ
のため基板の裏面にもホトレジスト層を設けることは意
味の無いものとなってしまっていた。しかし本発明にお
けるワイヤーグリット型偏光子及びその製造方法では、
基板として特定の波長範囲にある光を透過させない性質
のものを用いることとしたので、この波長範囲にある光
を使用して基板の両面に設けられたホトレジスト層をホ
ログラム法などの光学的手段を用いて平行線パターンを
形成することが可能になったとともに、基板に直接ホト
レジスト層を形成する事を可能としたのである。

【００２９】このため、非常に細かく正確な平行線パタ
ーンを基板上に形成することができ、また表裏両面にグ
リットを形成する事ができるようになったため、偏光特
性を格段に向上することができるようになった。

【００３０】さらにホトレジスト層の凸部頂上及びその
近傍にのみ金属を蒸着するため、金属のロスが少なく、
コストの抑制が可能となるとともに、基板上に設けられ
たホトレジストの凹凸による平行線パターンをそのまま
グリットの形成に使用するため、製造工程に無駄が無
く、しかも各工程の作業は従来周知の作業によって行う
ことができるため工程自体も比較的簡易に製造すること
が可能となる。

【００３１】以下、実施例をあげて本発明をさらに詳し
く説明する。

【実施例】赤外域で良好な偏光特性を有するワイヤーグ
リット型偏光子の製造を行った。基板としては厚さ３ｍ
ｍのＫＲＳ−５を用い、その表裏両面にスピンナー法に
よってホトレジスト層を設けた。ホトレジスト層の厚さ
は１μｍとした。そして基板表面に設けたホトレジスト
層にＨｅ−Ｃｄレーザーによってホログラム法を用いて
基板の一方の面に設けられたホトレジスト層に複数の凹
凸による平行線パターンを露光させた。

【００３２】図５にホログラム法を用いて基板表面に設
けられたホトレジスト層に干渉縞を露光させている工程
を示す。なお同図において図１と同じ構成要素に該当す
る部分には符号に１００を加えて付して説明を省略す
る。

【００３３】同図に示すようレーザー光源１１２を出射
したレーザー光はレンズ１１４、及び１１６によって光
束の幅が変更、調整された後、ビームスプリッタ１１８
によって２つの光束に分けられる。分けられた光束はミ
ラー１２０、１２２によって反射され、スクリーン１２
４上に２光束のなす角を目的の干渉縞の間隔となるαに
調整され、照射される。スクリーン１２４上には表裏両
面にホトレジスト層が設けられた基板１０４が設置され
ており、レーザー光にさらされる基板１０４の一方の面
に設けられたホトレジスト層１０６にはコヒーレントな
光の重なりによって干渉縞が露光されるのである。

【００３４】このように基板１０４の一方の面に設けら
れたホトレジスト層１０６に、複数の平行線パターンを
露光させたら、基板１０４を表裏裏返し、一方の面に設
けられた平行線パターンと平行となるように再び干渉縞
による複数の平行線パターンを基板１０４の他方の面に
設けられたホトレジスト層１０８に露光させ、基板の表
裏両面のホトレジスト層に干渉縞を露光させたらホトレ
ジスト層を現像すると、基板１０４の表裏両面に複数の
凹凸によって形成された平行線パターンである位相格子
を得る事ができる。

【００３５】露光、現像工程を経て、表裏両面に複数の
凹凸によって形成された平行線パターンである位相格子
を形成した基板に、基板の中心と被蒸着金属の蒸着源を
結ぶ直線が基板の垂線に対して７８度の傾角となるよう
に基板を設置し、被蒸着金属としてアルミニウムを用い
て蒸着を行ったのち、基板の垂線を中心にして基板を１
８０度回転させて再び蒸着を行い、その後、基板を表裏
裏返して基板の中心と蒸着源を結ぶ直線が基板の垂線に
対して、前記工程と同様の７８度の傾角で基板設置して
蒸着を行い、やはり基板の垂線を軸線として１８０度回
転させて再び蒸着を行うことによって、表裏両面に胴体
グリットが形成されたワイヤーグリット型偏光子が得ら
れた。このように本発明のワイヤーグリット型偏光子
は、比較的簡単な工程で、低いコストで製造することが
可能である。

【００３６】透過率試験１ 得られたワイヤーグリット型偏光子の性能を試験するこ
ととした。前記工程によって得られたワイヤーグリット
型偏光子と同様の工程によって得られたワイヤーグリッ
ト型偏光子を２枚用意した。そして初めに２枚の偏光方
向をそろえて重ね合わせ、様々な波長の光を偏光子に照
射し、それぞれの波長の光の透過率を調べた。

【００３７】また比較例として導体グリットが基板の片
面のみに設けられた従来の偏光子を２枚変更方向をそろ
えて重ね合わせて同様の試験を行った。なお本試験では
偏光方向がそろっているため、透過率が高いほど良好な
特性を有しているということができる。

【００３８】図６に偏光方向をそろえた場合の透過率試
験の結果を示す。本発明の偏光子は比較例の偏光子と比
較すると波数が４０００〜７０００／ｃｍの短波長領域
においては透過率が悪くなっているものの、１５００〜
３０００／ｃｍの長波長の領域においては比較例と比較
して格段の透過率の向上が見られた。

【００３９】透過率試験２ 続いて透過率試験１に用いたワイヤーグリット型偏光子
の偏光方向を直交させて重ね合わせ、様々な波長の光を
偏光子に照射し、それぞれの波長の光の透過率を調べ
た。また比較例として用いた導体グリットが基板の片面
のみに設けられた従来の偏光子も２枚変更方向を直交さ
せて重ね合わせて同様の試験を行った。なお本試験では
偏光方向が直交しているため、どのような方向に振動す
る光も透過しないはずであるから、透過率が０に近いほ
ど良好な特性を有しているということができる。

【００４０】図７に偏光方向を直交させた場合の透過率
試験の結果を示す。比較例の偏光子は、波数が７０００
／ｃｍをピークに長波長の光となるにつれ透過率は低く
なって行くものの、透過率が０となることは無かった。
これに対し本発明の偏光子は、７０００／ｃｍの短波長
の領域においては多少の透過が見られるものの、試験を
行った波長範囲では略全ての波長で透過率が０となって
おり、比較例と比較して特性の格段の向上が見られた。

【００４１】透過率試験の結果から、偏光率を計算し
た。図８は透過率試験１、２に用いた偏光子の各波長に
おける偏光率の計算結果である。同図に示すように比較
例の偏光子の偏光率は波数が多くなるに従い偏光率が悪
化していくことがわかる。そして波数の少ない長波長側
でも偏光率が１００％とはならなかった。これに対し本
発明のワイヤーグリット型偏光子は波数の多い短波長側
において多少偏光率に乱れが生じたものの、それでも高
い偏光率を示しているとともに、透過率試験に用いたそ
の他の波長範囲では、ほぼ１００％の偏光率を示してい
た。このように本発明のワイヤーグリット型偏光子は偏
光特性においても良好な結果を示した。

【００４２】

【発明の効果】以上、説明したように本発明のワイヤー
グリット型偏光子によれば良好な偏光特性が得られる。
また本発明のワイヤーグリット型偏光子の製造方法によ
れば比較的簡単な工程で、良好な偏光特性を有する偏光
子を製造することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は本発明の一実施形態であるワイヤーグリ
ッド型偏光子の断面該略図である。

【図２】図２は斜め蒸着を行って導体グリットを形成さ
せる際の概略図である。

【図３】図３は導体グリットの蒸着状態を説明するため
の断面図である。

【図４】図４は蒸着源を２つ設けて金属を蒸着する工程
を説明するための説明図である。

【図５】図５はホログラム法を用いて基板表面に設けら
れたホトレジスト層に干渉縞を露光させている工程を説
明するための説明図である。

【図６】図６は偏光方向をそろえた場合の透過率試験の
結果を示すグラフである。

【図７】図７は偏光方向を直交させた場合の透過率試験
の結果を示すグラフである。

【図８】図８は透過率試験１、２に用いた偏光子の各波
長における偏光率の計算結果を示すグラフである。

【符号の説明】

２ ワイヤーグリット型偏光子 ４ 基板 ６、８ ホトレジスト層 １０ 金属

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 特定の波長範囲にある光を透過させない
   基板と、 前記基板の表裏両面に設けられたホトレジスト層とを有
   し、 前記ホトレジスト層には、基板の表裏両面で互いに平行
   の関係となるように複数の凹凸による平行線パターンが
   形成されており、 前記基板の表裏両面に形成された凹凸による平行線パタ
   ーンの凸部頂上及びその近傍にのみ金属を蒸着して、基
   板の表裏両面にワイヤーグリットが形成されていること
   を特徴とするワイヤーグリット型偏光子。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の偏光子において、平行
   線パターンの凸部頂上及びその近傍にのみ蒸着される金
   属がアルミニウムであることを特徴とするワイヤーグリ
   ット型偏光子。
3. 【請求項３】 特定の波長範囲にある光を透過させない
   基板の表裏両面にホトレジスト層を設け、 前記基板を透過しない波長範囲にある光を用いて、前記
   光の干渉よって複数の平行線パターンを前記基板の一方
   の面に露光させた後、さらに前記一方の面に設けられた
   平行線パターンと平行となるように他方の面に前記光の
   干渉よって複数の平行線パターンを露光させて現像し、
   前記基板の表裏両面に複数の凹凸による平行線パターン
   を形成させ、 前記基板の表裏両面に形成された凹凸による平行線パタ
   ーンの凸部頂上及びその近傍にのみ金属を蒸着させてワ
   イヤーグリットを形成することを特徴とするワイヤーグ
   リット型偏光子の製造方法。
4. 【請求項４】 請求項３に記載の製造方法において、基
   板の表裏両面に形成された凹凸による平行線パターンの
   凸部頂上及びその近傍にのみ金属を蒸着させる方法が、
   金属を蒸着させる際に、基板の中心と被蒸着金属の蒸着
   源を結ぶ直線が基板の垂線に対してある傾角を持つよう
   に基板を設置して蒸着を行う斜め蒸着によることを特徴
   とするワイヤーグリット型偏光子の製造方法。
5. 【請求項５】 請求項４に記載の製造方法において、被
   蒸着金属を蒸発させる蒸着源が１つであるとき、基板の
   中心と被蒸着金属の蒸着源を結ぶ直線が基板の垂線に対
   してある傾角を持って基板を設置して蒸着を行ったの
   ち、前記基板の垂線を軸線として基板を１８０度回転さ
   せて再び金属を蒸着させ、 前記基板を表裏裏返して基板の中心と被蒸着金属の蒸着
   源を結ぶ直線が基板の垂線に対してある傾角を持って基
   板を設置して蒸着を行ったのち、前記基板の垂線を軸線
   として１８０度回転させて再び金属を蒸着させることを
   特徴とするワイヤーグリット型偏光子の製造方法。