JPS61107202A - 半透鏡 - Google Patents
半透鏡Info
- Publication number
- JPS61107202A JPS61107202A JP22988884A JP22988884A JPS61107202A JP S61107202 A JPS61107202 A JP S61107202A JP 22988884 A JP22988884 A JP 22988884A JP 22988884 A JP22988884 A JP 22988884A JP S61107202 A JPS61107202 A JP S61107202A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mirror
- semi
- necessary
- transparent
- hole
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（イ）産業上の利用分野
本発明は９例えば第３図に示す如く２光束分光光度計で
、光源りから発した光を分光器ＧＫよシ波長分散し、こ
の特定波長光を試料セ／Ｉ／Ｓを通る反射光ＢＲと参照
セ／Ｌ／Ｒを通る透過光ＢＰ Ｋ分割するために利用さ
れる半透鏡Ｍ、や、逆に２つの光束を共軸の一つの光束
に合成する半透鏡に関するものである。
、光源りから発した光を分光器ＧＫよシ波長分散し、こ
の特定波長光を試料セ／Ｉ／Ｓを通る反射光ＢＲと参照
セ／Ｌ／Ｒを通る透過光ＢＰ Ｋ分割するために利用さ
れる半透鏡Ｍ、や、逆に２つの光束を共軸の一つの光束
に合成する半透鏡に関するものである。
（ロ）従来技術
従来の半透鏡はガラス基板上に、クロム等の半透物質を
蒸着し、振幅分割を行なうものと、アルミ等の反射物質
を縞状又は格子状に蒸着し、波面分割を行うものとがあ
る。しかしながら、このような半透鏡では第２図に示す
如く反射面２からの反射ｆｆｉＢｍＫ加えガラス基板１
の裏面ｌＲからの反射光Ｂｌ’の存在により、像点て２
重像（光源。
蒸着し、振幅分割を行なうものと、アルミ等の反射物質
を縞状又は格子状に蒸着し、波面分割を行うものとがあ
る。しかしながら、このような半透鏡では第２図に示す
如く反射面２からの反射ｆｆｉＢｍＫ加えガラス基板１
の裏面ｌＲからの反射光Ｂｌ’の存在により、像点て２
重像（光源。
スリット像が横方向に二重にできる）が生ずる欠点があ
る。また半透物質を用いる場合、波長により屓射率が異
なるため、さらに基板材料１の透過特性の影響を受ける
ため波長依存性が生ずることがありた。
る。また半透物質を用いる場合、波長により屓射率が異
なるため、さらに基板材料１の透過特性の影響を受ける
ため波長依存性が生ずることがありた。
（ハ）目的
本発明は、基板材料の透過率等に影響されず。
２重像の生じない半透鏡を提供することを目的とする・
に）構成
本発明は反射面と透過部分とからまる半透鏡において、
透過部分を孔にて形成するとともに、その孔の軸心を入
射光束の方向く合致させて、基板材料の透過特性の影響
を排除し、かつ透過光の基板材料の透過による光量損失
を最少にするようにしたものであるう −）実施例 以下９本発明の半透鏡を図面の実施例により説明する。
透過部分を孔にて形成するとともに、その孔の軸心を入
射光束の方向く合致させて、基板材料の透過特性の影響
を排除し、かつ透過光の基板材料の透過による光量損失
を最少にするようにしたものであるう −）実施例 以下９本発明の半透鏡を図面の実施例により説明する。
第１図は本発明の半透鏡−ＭＨの実施例を示し。
同（４）は基板１０表面に形成した光学的な反射面２上
に水玉状に透過部分３を形成したもので、透過部分３の
孔３′はその軸心を一方向の斜めから入射する光束に合
致させるべく断面が平行四辺形状に加工されており、ま
た、同（６）は反射面２上に透過部分３を格子状に形成
したもので、透過部分３の孔３′はその軸心を異なる方
向の斜めから入射する２つの光束に合致させるべく断面
が台形状に加工１、・ されている。
に水玉状に透過部分３を形成したもので、透過部分３の
孔３′はその軸心を一方向の斜めから入射する光束に合
致させるべく断面が平行四辺形状に加工されており、ま
た、同（６）は反射面２上に透過部分３を格子状に形成
したもので、透過部分３の孔３′はその軸心を異なる方
向の斜めから入射する２つの光束に合致させるべく断面
が台形状に加工１、・ されている。
次にこのような本発明の半透＠Ｍｕの製造法を第４図に
より説明する。
より説明する。
第４図（４）は本発明の半透鏡Ｍｌを金属基板を用いて
製造した工程の一例を示すものである。基板材料１はス
テンレス（例えば５Ｕ８３０４ ）で、電解研磨法（例
えば日立造船方式複合電解研磨法）Ｋ：より表面を鏡面
にする（Ａ−１）。この結果９表面は表面アラサ中心５
００Ｘ程度の光学的な鏡面となる。この鏡面、または必
要により裏面にホトレジスト４．４′を塗付しくＡ−２
）ｅ孔３′形状と同形のホトマスク５．５を通して露光
する（人−３）。
製造した工程の一例を示すものである。基板材料１はス
テンレス（例えば５Ｕ８３０４ ）で、電解研磨法（例
えば日立造船方式複合電解研磨法）Ｋ：より表面を鏡面
にする（Ａ−１）。この結果９表面は表面アラサ中心５
００Ｘ程度の光学的な鏡面となる。この鏡面、または必
要により裏面にホトレジスト４．４′を塗付しくＡ−２
）ｅ孔３′形状と同形のホトマスク５．５を通して露光
する（人−３）。
この場合、断面が平行四辺形または台形状になるようく
ホトマスク５．５′の裏表の形状を必要により変える。
ホトマスク５．５′の裏表の形状を必要により変える。
次いでエツチング法（例えばリン酸をエツチング液とす
る電解エツチング）によシ孔明は加工する（人−４）。
る電解エツチング）によシ孔明は加工する（人−４）。
そして必要により鏡面上にアルミニウム等の反射物質６
を蒸着する（人−５）。
を蒸着する（人−５）。
第４図の）は本発明の半透鏡Ｍｌを感光性ガラスを用い
て製造した工程の一例を示すものである。
て製造した工程の一例を示すものである。
基板材料１は例えばコーニング社フォトフオームの、フ
オトセラム■を用いる。孔３′形状と同形のホトマスク
５を通して紫外線で露光する（Ｂ−１）。
オトセラム■を用いる。孔３′形状と同形のホトマスク
５を通して紫外線で露光する（Ｂ−１）。
この際平行光を基板１の表面に斜めに当てると断面が平
行四辺形の孔９発散光を当てると断面が台形の孔が作成
できる。基板を加熱すると内部組織が変化し光が当った
部分３′は透明から乳白色く変化する（Ｂ−２）。乳白
色になった部分は透明の部分に比べて弗化水素酸にずっ
とよく溶けるので。
行四辺形の孔９発散光を当てると断面が台形の孔が作成
できる。基板を加熱すると内部組織が変化し光が当った
部分３′は透明から乳白色く変化する（Ｂ−２）。乳白
色になった部分は透明の部分に比べて弗化水素酸にずっ
とよく溶けるので。
この酸に浸して孔３′部分を溶かす（Ｂ−３）。次いで
両面フツデ盤等を用いて表面を光学的な鏡面に研磨する
（Ｂ−４）。そして、必要により鏡面上にアルミニウム
等の反射物質を蒸着する（Ｂ−５）。
両面フツデ盤等を用いて表面を光学的な鏡面に研磨する
（Ｂ−４）。そして、必要により鏡面上にアルミニウム
等の反射物質を蒸着する（Ｂ−５）。
（へ）効果
本発明は以上説明したように、光束の透過部分を孔にて
形成するとともにその軸心を入射光束の方向に合致させ
た半透鏡であるから、裏面からの反射光が存在しないの
で２重像が生ぜず、透過光が基板材料を透過しないため
その光量損失が最少となり、透過光の波長依存性もなく
なる効果がある。
形成するとともにその軸心を入射光束の方向に合致させ
た半透鏡であるから、裏面からの反射光が存在しないの
で２重像が生ぜず、透過光が基板材料を透過しないため
その光量損失が最少となり、透過光の波長依存性もなく
なる効果がある。
第１図は本発明の半透鏡の実施例を示す平面図および断
面図、第２図は従来の半透鏡の一例を示す断面図、第３
図は半透鏡の利用例を示す２光束分光光度計の光路図、
第４図は本発明の半透鏡の製造法を示す工程図である。 １一基板 ２−反射面 ３−透過部分 ３′一孔 ４．４゛−ホトレジスト ’５．５’−ホトマスク ６−反射物質ＭＷ −半透鏡
ＢＲ一度射光 ＢＰ−透過光
面図、第２図は従来の半透鏡の一例を示す断面図、第３
図は半透鏡の利用例を示す２光束分光光度計の光路図、
第４図は本発明の半透鏡の製造法を示す工程図である。 １一基板 ２−反射面 ３−透過部分 ３′一孔 ４．４゛−ホトレジスト ’５．５’−ホトマスク ６−反射物質ＭＷ −半透鏡
ＢＲ一度射光 ＢＰ−透過光
Claims (1)
- 反射面と透過部分の面積比によって、入射光束を透過光
束と反射光束とに分割したり、或いは逆に異なる角度か
ら入射する２つの光速を一つの光束に合成するための半
透鏡において、透過部分を孔にて形成するとともに、そ
の孔の軸心を入射光束の方向に合致させたことを特徴と
する半透鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22988884A JPS61107202A (ja) | 1984-10-30 | 1984-10-30 | 半透鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22988884A JPS61107202A (ja) | 1984-10-30 | 1984-10-30 | 半透鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61107202A true JPS61107202A (ja) | 1986-05-26 |
Family
ID=16899284
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22988884A Pending JPS61107202A (ja) | 1984-10-30 | 1984-10-30 | 半透鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61107202A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0572026U (ja) * | 1992-03-02 | 1993-09-28 | アルプス電気株式会社 | 照光式スイッチ装置 |
| JP2003202567A (ja) * | 2001-12-29 | 2003-07-18 | Korea Inst Of Science & Technology | 三次元ｍｅｍｓ集光体、その製造方法、及び液晶表示装置 |
| WO2008053881A1 (fr) * | 2006-11-01 | 2008-05-08 | Nikon Corporation | Plaque de gradateur, appareil d'exposition, procédé d'exposition et procédé de fabrication du dispositif |
| JP2010535355A (ja) * | 2007-08-01 | 2010-11-18 | ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル．ピー． | 光信号をルーティングするためのシステムおよび方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51113742A (en) * | 1975-03-31 | 1976-10-07 | Tech Res & Dev Inst Of Japan Def Agency | Beam splitter for laser |
-
1984
- 1984-10-30 JP JP22988884A patent/JPS61107202A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51113742A (en) * | 1975-03-31 | 1976-10-07 | Tech Res & Dev Inst Of Japan Def Agency | Beam splitter for laser |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0572026U (ja) * | 1992-03-02 | 1993-09-28 | アルプス電気株式会社 | 照光式スイッチ装置 |
| JP2003202567A (ja) * | 2001-12-29 | 2003-07-18 | Korea Inst Of Science & Technology | 三次元ｍｅｍｓ集光体、その製造方法、及び液晶表示装置 |
| WO2008053881A1 (fr) * | 2006-11-01 | 2008-05-08 | Nikon Corporation | Plaque de gradateur, appareil d'exposition, procédé d'exposition et procédé de fabrication du dispositif |
| JP2010535355A (ja) * | 2007-08-01 | 2010-11-18 | ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル．ピー． | 光信号をルーティングするためのシステムおよび方法 |
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