JPH09159966A - レーザ光学装置 - Google Patents
レーザ光学装置Info
- Publication number
- JPH09159966A JPH09159966A JP7318070A JP31807095A JPH09159966A JP H09159966 A JPH09159966 A JP H09159966A JP 7318070 A JP7318070 A JP 7318070A JP 31807095 A JP31807095 A JP 31807095A JP H09159966 A JPH09159966 A JP H09159966A
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- beam splitter
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- laser light
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 レーザ光の分割比率を調整する時間の短縮、
装置構成の簡単化およびエネルギー損失の低減を可能と
するレーザ光学装置を提供する。 【解決手段】 レーザ光の入射角度に応じて、その反射
率または透過率あるいはその双方が変化するように形成
されたビームスプリッタ３を、レーザ発振器１から出射
されるレーザ光１０の光路中に配置する。そして、ビー
ムスプリッタ３を、入射角が変化するように回転させる
ことによって、レーザ光の分割比率を調整する。
装置構成の簡単化およびエネルギー損失の低減を可能と
するレーザ光学装置を提供する。 【解決手段】 レーザ光の入射角度に応じて、その反射
率または透過率あるいはその双方が変化するように形成
されたビームスプリッタ３を、レーザ発振器１から出射
されるレーザ光１０の光路中に配置する。そして、ビー
ムスプリッタ３を、入射角が変化するように回転させる
ことによって、レーザ光の分割比率を調整する。
Description
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ光学装置に
関し、特に、１台のレーザ発振器からのレーザ出力を分
割して、複数の加工対象に照射することを可能とするレ
ーザ光学装置に関する。
関し、特に、１台のレーザ発振器からのレーザ出力を分
割して、複数の加工対象に照射することを可能とするレ
ーザ光学装置に関する。
【０００１】
【従来の技術】Ｎｄ：ＹＡＧレーザ等のレーザ装置を製
造ラインで使用する場合、一般に、１台のレーザ発振器
から出射されたレーザ光を時間的あるいは空間的に分割
して、複数の加工対象に照射することによって、レーザ
光を有効に利用している。このように構成することによ
って、ランニングコストの低減および生産性の向上が図
られている。ここで、レーザ光を空間的に分割する場
合、分割された各レーザ光のエネルギーの分割精度が、
加工の均質性を保証するうえで重要な要素となる。
造ラインで使用する場合、一般に、１台のレーザ発振器
から出射されたレーザ光を時間的あるいは空間的に分割
して、複数の加工対象に照射することによって、レーザ
光を有効に利用している。このように構成することによ
って、ランニングコストの低減および生産性の向上が図
られている。ここで、レーザ光を空間的に分割する場
合、分割された各レーザ光のエネルギーの分割精度が、
加工の均質性を保証するうえで重要な要素となる。
【０００２】図５を参照すると、従来のレーザ光学装置
では、レーザ発振器１から出射されたレーザ光１０を、
複数のビームスプリッタ５１および５２および全反射ミ
ラー５３を用いることによって、空間的に分割してい
る。ビームスプリッタ５１、５２は、誘電体多層膜をガ
ラス基板等に蒸着させて形成されるものである。
では、レーザ発振器１から出射されたレーザ光１０を、
複数のビームスプリッタ５１および５２および全反射ミ
ラー５３を用いることによって、空間的に分割してい
る。ビームスプリッタ５１、５２は、誘電体多層膜をガ
ラス基板等に蒸着させて形成されるものである。
【０００３】この種のレーザ光の分割方法では、ビーム
スプリッタの反射率／透過率の製作精度が非常に重要
で、レーザ光のエネルギー分割精度は、ビームスプリッ
タの製造精度に大きく左右されることになる。
スプリッタの反射率／透過率の製作精度が非常に重要
で、レーザ光のエネルギー分割精度は、ビームスプリッ
タの製造精度に大きく左右されることになる。
【０００４】特開平５−３２９６７７号公報に開示され
たレーザ光学装置では、分割された各レーザ光間の強度
のばらつきを補正するために、光路中に遮光板が挿入さ
れている。このように、レーザ光の分割精度を向上させ
るために、分割後の各レーザ光路中に、遮光板を挿入し
て、レーザ光の透過量を調整することによって、各レー
ザ光間のエネルギーバランスを補正することが従来から
行われている。
たレーザ光学装置では、分割された各レーザ光間の強度
のばらつきを補正するために、光路中に遮光板が挿入さ
れている。このように、レーザ光の分割精度を向上させ
るために、分割後の各レーザ光路中に、遮光板を挿入し
て、レーザ光の透過量を調整することによって、各レー
ザ光間のエネルギーバランスを補正することが従来から
行われている。
【０００５】しかしながら、この方法では、レーザ光の
分割比率を調整するために長時間を要するという問題点
がある。
分割比率を調整するために長時間を要するという問題点
がある。
【０００６】一方、図６に示す他の従来技術では、レー
ザ発振器１からのレーザ光１０がビームエキスパンダ２
で拡大された後、ダハープリズムやウェッジミラー６１
でレーザ光１０光の一部が部分的に切り出される。そし
て、切り出されるビームの比率を調整することで、レー
ザエネルギーバランスが調整される。
ザ発振器１からのレーザ光１０がビームエキスパンダ２
で拡大された後、ダハープリズムやウェッジミラー６１
でレーザ光１０光の一部が部分的に切り出される。そし
て、切り出されるビームの比率を調整することで、レー
ザエネルギーバランスが調整される。
【０００７】この従来技術では、ビームに対するウェッ
ジミラーの位置を調整するだけで、容易にレーザ光の分
割比率を調整することができるという利点を有する。し
かしながら、レーザビームの空間分布や出力方向が、励
起レベルの変化や励起ランプの劣化度に影響を受けるこ
とにより、分割比率も同様に変化してしまうという問題
点がある。さらに、分割後のビームの光軸断面形状が半
円形になるなど、レーザ発振器からの出力ビームの形状
が変化するという問題点もある。
ジミラーの位置を調整するだけで、容易にレーザ光の分
割比率を調整することができるという利点を有する。し
かしながら、レーザビームの空間分布や出力方向が、励
起レベルの変化や励起ランプの劣化度に影響を受けるこ
とにより、分割比率も同様に変化してしまうという問題
点がある。さらに、分割後のビームの光軸断面形状が半
円形になるなど、レーザ発振器からの出力ビームの形状
が変化するという問題点もある。
【０００８】また、図７に示す他の従来技術では、レー
ザ光の偏光特性が利用されている。すなわち、レーザ光
が直線偏光である場合、光路中にλ／２板７１等の偏光
方向を回転させる素子および偏光ビームスプリッタ７２
を挿入して、レーザ光を分割する。レーザ光の分割比率
の調整は、λ／２板７１を光軸を中心に回転させ、偏光
方向の回転角を変化させることで行われる。
ザ光の偏光特性が利用されている。すなわち、レーザ光
が直線偏光である場合、光路中にλ／２板７１等の偏光
方向を回転させる素子および偏光ビームスプリッタ７２
を挿入して、レーザ光を分割する。レーザ光の分割比率
の調整は、λ／２板７１を光軸を中心に回転させ、偏光
方向の回転角を変化させることで行われる。
【０００９】この方法では、分割比率の調整が簡単であ
るという利点を有するが、素子部品のコストが高く、ま
た耐光強度の点から光出力レーザビームの分割には不適
であるという問題点がある。
るという利点を有するが、素子部品のコストが高く、ま
た耐光強度の点から光出力レーザビームの分割には不適
であるという問題点がある。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】従来のレーザ光学装置
では、前述のとおり、レーザ光の分割比率を調整する時
間、装置コスト、分割後のレーザービームの断面形状の
均一性に関し、一長一短があり、必ずしも、十分なエネ
ルギー分割精度でレーザ光を分割するものではなかっ
た。
では、前述のとおり、レーザ光の分割比率を調整する時
間、装置コスト、分割後のレーザービームの断面形状の
均一性に関し、一長一短があり、必ずしも、十分なエネ
ルギー分割精度でレーザ光を分割するものではなかっ
た。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに、本発明のレーザ光学装置は、レーザ発振器から出
射されるレーザ光を分割するレーザ光学装置であって、
レーザ発振器から出射されるレーザ光の光路中に配置さ
れ、レーザ光を分割する分割手段と、分割手段に対する
レーザ光の入射角を変化させる手段とを備え、分割手段
に対するレーザ光の入射角を変化させることによって、
レーザ光の分割比率を調整するものである。
めに、本発明のレーザ光学装置は、レーザ発振器から出
射されるレーザ光を分割するレーザ光学装置であって、
レーザ発振器から出射されるレーザ光の光路中に配置さ
れ、レーザ光を分割する分割手段と、分割手段に対する
レーザ光の入射角を変化させる手段とを備え、分割手段
に対するレーザ光の入射角を変化させることによって、
レーザ光の分割比率を調整するものである。
【００１２】分割手段は、レーザ光の入射角に応じて透
過率または反射率あるいはその双方が変化する特性を有
するものであり、基板上に誘電体多層膜がコーティング
されて形成されるものである。
過率または反射率あるいはその双方が変化する特性を有
するものであり、基板上に誘電体多層膜がコーティング
されて形成されるものである。
【００１３】
【発明の実施の形態】次に、本発明の一実施形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。
て図面を参照して詳細に説明する。
【００１４】本発明の一実施形態は、レーザ光の入射角
度の変化に応じて、その反射率または透過率あるいはそ
の双方が変化するように形成されたビームスプリッタを
光路中に配置し、このビームスプリッタを、入射角が変
化するように回転させることによって、レーザ光の分割
比率を調整するものである。
度の変化に応じて、その反射率または透過率あるいはそ
の双方が変化するように形成されたビームスプリッタを
光路中に配置し、このビームスプリッタを、入射角が変
化するように回転させることによって、レーザ光の分割
比率を調整するものである。
【００１５】図１は、本実施形態のレーザ光学装置の構
成を示す図であり、レーザ発振器１から出力されたレー
ザ光１０はビームエキスパンダ２でその径が拡大され
る。これにより、レーザ光１０は、エネルギー密度が低
減され、広がり角が抑えられた平行光に近いビームに変
換される。ビームエキスパンダ２で拡大されたレーザ光
１０は、光路中に配置されたビームスプリッタ３でレー
ザ光２０およびレーザ光３０に分割される。ここで、ビ
ームスプリッタ３は、所望のレーザエネルギーの分割比
率が得られるようなレーザ光１０に対する透過率／反射
率特性を有するものである。一般的に、誘電体多層膜が
コーティングされたビームスプリッタ３では、反射率／
透過率の製造精度は３％程度であり、本実施形態におい
ても、初期設定時には、同程度の誤差が発生している。
ビームスプリッタ３で２分割されたレーザ光のうち、反
射側のレーザ光３０は、全反射ミラー４で反射されて、
ビームスプリッタ３で透過したレーザ光２０の進行方向
と同一の方向に出力される。
成を示す図であり、レーザ発振器１から出力されたレー
ザ光１０はビームエキスパンダ２でその径が拡大され
る。これにより、レーザ光１０は、エネルギー密度が低
減され、広がり角が抑えられた平行光に近いビームに変
換される。ビームエキスパンダ２で拡大されたレーザ光
１０は、光路中に配置されたビームスプリッタ３でレー
ザ光２０およびレーザ光３０に分割される。ここで、ビ
ームスプリッタ３は、所望のレーザエネルギーの分割比
率が得られるようなレーザ光１０に対する透過率／反射
率特性を有するものである。一般的に、誘電体多層膜が
コーティングされたビームスプリッタ３では、反射率／
透過率の製造精度は３％程度であり、本実施形態におい
ても、初期設定時には、同程度の誤差が発生している。
ビームスプリッタ３で２分割されたレーザ光のうち、反
射側のレーザ光３０は、全反射ミラー４で反射されて、
ビームスプリッタ３で透過したレーザ光２０の進行方向
と同一の方向に出力される。
【００１６】本実施形態で用いられるビームスプリッタ
３は、誘電体多層膜のコーティングで形成され、入射角
の変化に応じて反射率または透過率あるいはその双方が
変化するものである。そして、入射角度が変化するよう
に、ビームスプリッタ３を矢印Ａ方向に回転させること
で、レーザエネルギーの分割比率が調整される。
３は、誘電体多層膜のコーティングで形成され、入射角
の変化に応じて反射率または透過率あるいはその双方が
変化するものである。そして、入射角度が変化するよう
に、ビームスプリッタ３を矢印Ａ方向に回転させること
で、レーザエネルギーの分割比率が調整される。
【００１７】例えば、入射角度が１度変化するごとに１
％透過率および反射率が変化するように設計されたビー
ムスプリッタ３を用いた場合、ビームスプリッタ３を１
度回転させることによって、ビームスプリッタ３を透過
するレーザ光２０と反射するレーザ光３０との差は２％
変化する。前述のとおり、一般的にビームスプリッタ３
の製造精度が３％程度であるとすると、この場合、ビー
ムスプリッタ３を２度程度回転させることによって、そ
の製造精度に起因する誤差を調整することができる。
％透過率および反射率が変化するように設計されたビー
ムスプリッタ３を用いた場合、ビームスプリッタ３を１
度回転させることによって、ビームスプリッタ３を透過
するレーザ光２０と反射するレーザ光３０との差は２％
変化する。前述のとおり、一般的にビームスプリッタ３
の製造精度が３％程度であるとすると、この場合、ビー
ムスプリッタ３を２度程度回転させることによって、そ
の製造精度に起因する誤差を調整することができる。
【００１８】レーザエネルギーの分割精度を調整するた
めにビームスプリッタ３を回転させた場合、ビームスプ
リッタ３の反射側のレーザ光３０の進行方向が変化す
る。そこで、全反射ミラー４を回転させることによっ
て、レーザ光３０の出力方向を調整する。ビームスプリ
ッタ３と全反射ミラー４とを機構的に連動して回転可能
な構成とすることによって、ビームスプリッタで反射さ
れたレーザ光の出力方向を常に一定に保つことができ
る。
めにビームスプリッタ３を回転させた場合、ビームスプ
リッタ３の反射側のレーザ光３０の進行方向が変化す
る。そこで、全反射ミラー４を回転させることによっ
て、レーザ光３０の出力方向を調整する。ビームスプリ
ッタ３と全反射ミラー４とを機構的に連動して回転可能
な構成とすることによって、ビームスプリッタで反射さ
れたレーザ光の出力方向を常に一定に保つことができ
る。
【００１９】次に、本実施形態で用いられるビームスプ
リッタについて詳細に説明する。
リッタについて詳細に説明する。
【００２０】図２は、本実施形態で用いられるビームス
プリッタの構成を示す図であり、基板５上に誘電体多層
膜６が形成されている。基板５および誘電体多層膜６の
膜厚および入射レーザ光１０に対する屈折率は、図２に
示すとおりである。
プリッタの構成を示す図であり、基板５上に誘電体多層
膜６が形成されている。基板５および誘電体多層膜６の
膜厚および入射レーザ光１０に対する屈折率は、図２に
示すとおりである。
【００２１】図２に示めされた誘電体多層膜の構成例
は、「光学薄膜 H. A. Macleod著；小倉繁太郎他訳；
日刊工業新聞社」に開示されている。ここで、入射レ
ーザ光の入射角θｉｎを変化させた場合のＰ偏光および
Ｓ偏光の反射率特性を表１及び図３に示す。
は、「光学薄膜 H. A. Macleod著；小倉繁太郎他訳；
日刊工業新聞社」に開示されている。ここで、入射レ
ーザ光の入射角θｉｎを変化させた場合のＰ偏光および
Ｓ偏光の反射率特性を表１及び図３に示す。
【００２２】
【００２３】表１および図３を参照すると、各偏光で
は、入射角が５度変化すれば反射率が２〜３％変化す
る。したがって、この入射角の変化により、直線偏光に
対して、反射光と透過光のエネルギー差は４〜６％変化
する。図２に示すビームスプリッタに無偏光のレーザ光
が入射した場合には、その反射率は各偏光の平均値であ
るものとする。
は、入射角が５度変化すれば反射率が２〜３％変化す
る。したがって、この入射角の変化により、直線偏光に
対して、反射光と透過光のエネルギー差は４〜６％変化
する。図２に示すビームスプリッタに無偏光のレーザ光
が入射した場合には、その反射率は各偏光の平均値であ
るものとする。
【００２４】実際は、操作性等を考慮して、レーザ光の
分割比率に基づいて基準の入射角に対する反射率を決定
し、１０度以内の入射角の変化で、反射率（透過率）が
２％程度変化するように、ビームスプリッタが設計・製
作される。
分割比率に基づいて基準の入射角に対する反射率を決定
し、１０度以内の入射角の変化で、反射率（透過率）が
２％程度変化するように、ビームスプリッタが設計・製
作される。
【００２５】次に、本発明の第２の実施形態について図
４を参照して説明する。
４を参照して説明する。
【００２６】本発明の第２の実施形態は、ビームスプリ
ッタでレーザ光を２分割した後、分割された一方のレー
ザ光の光路中に、入射角に応じて透過率／反射率が変化
するフィルタを配置するものである。そして、フィルタ
を回転させることによって、分割後の一方のレーザ光の
出力を調整することによって、レーザエネルギーの分割
比率を調整するものである。ここで、第２の実施形態に
おけるビームスプリッタは、必ずしも第１の実施形態で
用いられた反射率（透過率）が入射角度に依存する特性
を有するものでなくともかまわない。
ッタでレーザ光を２分割した後、分割された一方のレー
ザ光の光路中に、入射角に応じて透過率／反射率が変化
するフィルタを配置するものである。そして、フィルタ
を回転させることによって、分割後の一方のレーザ光の
出力を調整することによって、レーザエネルギーの分割
比率を調整するものである。ここで、第２の実施形態に
おけるビームスプリッタは、必ずしも第１の実施形態で
用いられた反射率（透過率）が入射角度に依存する特性
を有するものでなくともかまわない。
【００２７】図４を参照すると、レーザ発振器１から出
射されるレーザ光１０はビームエキスパンダ２で拡大さ
れる。拡大されたレーザ光１０は、ビームスプリッタ７
でレーザ光４０および５０に分割される。ビームスプリ
ッタ７は、所望のレーザエネルギーの分割比率が得られ
るようなレーザ光１０に対する透過率／反射率特性を有
するものである。ビームスプリッタ７で分割されたレー
ザ光のうちレーザエネルギーが高い方のレーザ光の光路
中には、誘電体多層膜がコーティングされたフィルタ８
が配置される。本実施形態では、ビームスプリッタ７を
透過したレーザ光４０の光路中にフィルタ８が配置され
ている。このフィルタ８は、入射角度に応じて透過率が
変化するように製作されたものであって、図２に示され
た誘電体多層膜がコーティングされたビームスプリッタ
と同様の構成をなしている。
射されるレーザ光１０はビームエキスパンダ２で拡大さ
れる。拡大されたレーザ光１０は、ビームスプリッタ７
でレーザ光４０および５０に分割される。ビームスプリ
ッタ７は、所望のレーザエネルギーの分割比率が得られ
るようなレーザ光１０に対する透過率／反射率特性を有
するものである。ビームスプリッタ７で分割されたレー
ザ光のうちレーザエネルギーが高い方のレーザ光の光路
中には、誘電体多層膜がコーティングされたフィルタ８
が配置される。本実施形態では、ビームスプリッタ７を
透過したレーザ光４０の光路中にフィルタ８が配置され
ている。このフィルタ８は、入射角度に応じて透過率が
変化するように製作されたものであって、図２に示され
た誘電体多層膜がコーティングされたビームスプリッタ
と同様の構成をなしている。
【００２８】そして、フィルタ８を矢印Ｂ方向に回転さ
せてフィルタ８の入射レーザ光に対する透過率を変化さ
せることによって、レーザ光の分割比率が調整される。
せてフィルタ８の入射レーザ光に対する透過率を変化さ
せることによって、レーザ光の分割比率が調整される。
【００２９】なお、本発明の第１の実施形態および第２
の実施形態では、レーザ光を２分割する例のみを示した
が、分割数はこれに限定されるものではない。レーザ光
を３つ以上のレーザ光に分割する場合には、ビームスプ
リッタ等を複数備えるように構成させればよい。
の実施形態では、レーザ光を２分割する例のみを示した
が、分割数はこれに限定されるものではない。レーザ光
を３つ以上のレーザ光に分割する場合には、ビームスプ
リッタ等を複数備えるように構成させればよい。
【００３０】
【発明の効果】以上説明したとおり、本発明のレーザ光
学装置では、レーザ光分割用のビームスプリッタに、レ
ーザ光の入射角度に応じて透過率／反射率が変化するよ
うな特性を持たせ、そのビームスプリッタを回転させる
ことにより、レーザ光の分割比率を調整しているため
に、余分な調整用のフィルタ等をレーザ光の光路中に備
える必要がない。したがって、装置構成が簡単化される
とともに、エネルギー損失を低減することができる。さ
らに、分割の前後でレーザ光の断面形状が変化すること
も防ぐことができる。
学装置では、レーザ光分割用のビームスプリッタに、レ
ーザ光の入射角度に応じて透過率／反射率が変化するよ
うな特性を持たせ、そのビームスプリッタを回転させる
ことにより、レーザ光の分割比率を調整しているため
に、余分な調整用のフィルタ等をレーザ光の光路中に備
える必要がない。したがって、装置構成が簡単化される
とともに、エネルギー損失を低減することができる。さ
らに、分割の前後でレーザ光の断面形状が変化すること
も防ぐことができる。
【図１】本発明の第１の実施形態の構成を示す図であ
る。
る。
【図２】図１におけるビームスプリッタの構成を示す図
である。
である。
【図３】図２におけるビームスプリッタの入射角度に対
する反射率の変化特性を示す図である。
する反射率の変化特性を示す図である。
【図４】本発明の第２の実施形態の構成を示す図であ
る。
る。
【図５】従来のレーザ光学装置の構成を示す図である。
【図６】他の従来のレーザ光学装置の構成を示す図であ
る。
る。
【図７】さらに他の従来のレーザ光学装置の構成を示す
図である。
図である。
１ レーザ発振器 ２ ビームエキスパンダ ３ 誘電体多層膜ビームスプリッタ ４ 全反射ミラー ５ 基板 ６ 誘電体多層膜 ７ ビームスプリッタ ８ 誘電体多層膜フィルタ
Claims (5)
- 【請求項１】 レーザ発振器から出射されるレーザ光を
分割するレーザ光学装置であって、 前記レーザ発振器から出射されるレーザ光の光路中に配
置され、前記レーザ光を分割する分割手段と、 前記分割手段に入射する前記レーザ光の入射角を変化さ
せる手段とを備えることを特徴とするレーザ光学装置。 - 【請求項２】 前記分割手段は、 前記レーザ光の入射角に応じて透過率または反射率ある
いはその双方が変化する特性を有することを特徴とする
前記請求項１に記載のレーザ光学装置。 - 【請求項３】 前記分割手段は、 基板上に誘電体多層膜がコーティングされて形成される
ことを特徴とする前記請求項２に記載のレーザ光学装
置。 - 【請求項４】 レーザ発振器から出射されるレーザ光の
光路中に配置され、前記レーザ光の入射角に応じて透過
率と反射率の少なくとも一方が変化する特性を有し、入
射された前記レーザ光を透過光と反射光とに分割するビ
ームスプリッタと、 前記ビームスプリッタに入射する前記レーザ光の入射角
を変化させる手段とを備えることを特徴とするレーザ光
学装置。 - 【請求項５】 レーザ発振器から出射されるレーザ光の
光路中に配置され、入射された前記レーザ光を透過光と
反射光とに分割するビームスプリッタと、 分割されたレーザ光のうち、何れか一方のレーザ光の光
路中に配置され、レーザ光の入射角に応じて透過率が変
化する特性を有するフィルタと、 前記フィルタに対する前記レーザ光の入射角を変化させ
る手段とを備えることを特徴とするレーザ光学装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7318070A JPH09159966A (ja) | 1995-12-06 | 1995-12-06 | レーザ光学装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7318070A JPH09159966A (ja) | 1995-12-06 | 1995-12-06 | レーザ光学装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09159966A true JPH09159966A (ja) | 1997-06-20 |
Family
ID=18095149
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7318070A Pending JPH09159966A (ja) | 1995-12-06 | 1995-12-06 | レーザ光学装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09159966A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002178323A (ja) * | 2000-12-12 | 2002-06-26 | Taiyo Yuden Co Ltd | セラミックグリーンシートの加工装置 |
| JP2006525874A (ja) * | 2003-05-30 | 2006-11-16 | エグシル テクノロジー リミテッド | ２焦点への光ビームの集束 |
| JP2009000708A (ja) * | 2007-06-20 | 2009-01-08 | Nikon Corp | 光照射装置と、これを具備するレーザ加工装置 |
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