JP2002023083A - 光走査装置 - Google Patents

光走査装置

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JP2002023083A
JP2002023083A JP2000200554A JP2000200554A JP2002023083A JP 2002023083 A JP2002023083 A JP 2002023083A JP 2000200554 A JP2000200554 A JP 2000200554A JP 2000200554 A JP2000200554 A JP 2000200554A JP 2002023083 A JP2002023083 A JP 2002023083A
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light
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light beams
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JP2000200554A
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Tama Takada
球 高田
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Minolta Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】簡単な構成で、複数の光ビームの偏光方向がそ
れぞれ異なっていても、被走査面における光量を各光ビ
ームについて揃える事ができる光走査装置を提供する。 【解決手段】光源1から射出された複数の光ビームLを
偏向器4で偏向して被走査面8上を走査する光走査装置
であって、前記複数の光ビームのうち少なくとも一つの
光ビームの偏光方向が、他のいずれかの光ビームの偏光
方向と異なる光走査装置において、前記偏向器と前記被
走査面との間の光路上に、主走査方向に平行な軸6a,
7aの周りに光軸に対して傾けた少なくとも二つの反射
型光学素子6,7を有し、前記反射型光学素子について
直線状に展開した光路において、光軸に関して副走査方
向の両側に、その各反射型光学素子の法線いずれかが必
ず向いている構成とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光走査装置に関す
るものであり、更に詳しくは、例えばレーザービームプ
リンタ等の装置に好適な光走査装置に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】近年の情報ネットワークの発達及びデジ
タル化に伴い、レーザービームプリンタの高速化が強く
望まれてきている。この、レーザービームプリンタの高
速化を図る手段の一つとして、走査用のポリゴンミラー
の回転を高速化する事が挙げられる。ところが、現状で
はポリゴンミラーの回転数が5万回転近くになると、遠
心力によるポリゴン面の歪が生じるため、これ以上のポ
リゴンミラーの回転の高速化には限度があるとされてい
る。そこで、レーザービームプリンタの描画速度のさら
なる高速化を図るために、複数のレーザービームで感光
体面を走査する事が従来より行われている。
【0003】具体的には、例えば特開平9−28142
0号公報,特開平9−288244号公報に記載されて
いる如く、光源として複数の発光点を有するいわゆる面
発光レーザーを用いた光走査装置の構成としている。ま
た、特開平8−338957号公報に記載されている如
く、複数の光源で発生される光ビームをそれぞれ光ファ
イバーに導き、これら複数の光ファイバーから射出され
る光ビームを二次光源とする光走査装置の構成としてい
る。また、特開平9−218363号公報に記載されて
いる如く、複数の光源から射出された光ビームを、偏光
ビームスプリッターで略同一の光路に合成する光走査装
置の構成としている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た各構成では、複数の光ビームの偏光方向がそれぞれ異
なり、またこれらが入射するレンズの透過率やミラーの
反射率が偏光方向によって異なるので、これにより被走
査面における光量が各光ビーム毎に異なるという問題が
生じる。
【0005】具体的には、上記特開平9−281420
号公報,特開平9−288244号公報に記載されてい
る構成では、一般に面発光レーザーの偏光方向が定まら
ないため、これより射出する複数の光ビームの偏光方向
はそれぞれ異なる。また、上記特開平8−338957
号公報に記載されているような構成では、光ファイバー
中で光ビームの偏光方向が変化するため、光ファイバー
による二次光源から射出された複数の光ビームの偏光方
向はそれぞれ異なる。また、上記特開平9−21836
3号公報に記載されているような構成では、偏光ビーム
スプリッターで合成された光ビームの偏光方向が、互い
に90゜異なる。
【0006】次に、光ビームの偏光方向により、被走査
面における光量がばらつく事について説明する。図12
は、従来よりの光走査装置の一例の概略構成を示す斜視
図である。同図に示すように、複数の発光部を有する光
源である半導体レーザー51から射出された複数の光ビ
ームLは、コリメータレンズ52を通過してここで平行
な光ビームに変換される。さらに、副走査方向だけに正
の屈折力を有するシリンドリカルレンズ53を通過して
ここで屈折力を受け、偏向器としての回転多面鏡54の
反射面54a近傍で副走査方向のみ集光される。
【0007】さらに、矢印Aの方向に回転軸54bの周
りを回転する回転多面鏡54によって反射,偏向され、
続いて結像レンズ55により集束されて、ミラー56で
反射された後、被走査面58上に結像する。回転多面鏡
54が回転する事によって各反射面54aが回転し、被
走査面58を光ビームLが矢印Bの方向に走査してゆ
く。なお、ミラー56は、主走査方向に平行な軸56a
の周りに、その法線が光軸(不図示)に対して30゜傾
くようにして配置されている。なお、回転多面鏡54
は、図示しないモータにより駆動されて回転する。
【0008】図13は、本例の場合の被走査面における
光量の効率の分布を示すグラフである。同図において、
横軸は走査角(deg)を表し、縦軸は光量効率を表してい
る。ここで、光ビームの偏光方向は、光源51から放射
された直後の光ビームで定義し、光ビームの偏光方向が
主走査方向に平行なときの偏光方向の角度を0゜とし
て、光ビームの進行方向に向かって反時計回り方向を正
とする。そして、偏光方向の角度が+90゜,+45
゜,0゜,−45゜の場合をそれぞれ細い実線a,太い
実線b,点線c,破線dで示している。
【0009】同図に示すように、偏光方向が主走査方向
に対して斜めとなったときに、偏光方向による光量の効
率の差が大きくなる。具体的には、+45゜と−45゜
のときではグラフの傾きが逆になる。そして、偏光方向
による効率の差が最大となる走査角において、その差は
3.9%となっている。このように、偏光方向が主走査
方向に対して斜めとなったときに、偏光方向による光量
の効率の分布を示すグラフが傾く原理を以下に説明す
る。
【0010】図14は、偏向された光ビームがミラーで
反射される様子を模式的に示す斜視図である。同図に示
すように、主走査方向に平行な軸56aの周りに光軸に
対して傾いたミラー56に、偏向された光ビーム61
a,61b,61cが、走査領域のそれぞれ始点側,中
央,終点側に入射する。そして、それぞれ矢印で示すよ
うに反射される。また光ビーム61bは、走査領域の中
心を走査するビームである。また、光ビームの偏光方向
は主走査方向に対して全て−45゜であるとする。
【0011】図15は、光ビームの進行方向に向かって
偏光方向を見た図である。同図(a)〜(c)は、それ
ぞれ光ビーム61a〜61cの場合を示している。光ビ
ーム61a〜61cがそれぞれミラー56に入射する点
における、ミラー56の法線と各光ビームとが成す面
は、それぞれ同図(a)〜(c)においてY軸で表さ
れ、それに垂直な方向がX軸となる。
【0012】光ビームの偏光方向は光源からの射出時は
主走査方向に対して−45゜であるが、回転多面鏡54
で反射されて反転し、それぞれ同図(a)〜(c)のベ
クトルEで示す方向となる。ベクトルEのY軸成分がP
偏光成分であり、ベクトルEpで表される。また、ベク
トルEのX軸成分がS偏光成分であり、ベクトルEsで
表される。
【0013】光ビーム61bについては、同図(b)に
示すように、Y軸は主走査方向に対して垂直であるの
で、P偏光成分とS偏光成分の割合は同じである。光ビ
ーム61aについては、同図(a)に示すように、Y軸
は左に傾いているので、S偏光成分の割合が多くなる。
光ビーム61cについては、同図(c)に示すように、
Y軸は右に傾いているので、P偏光成分の割合が多くな
る。
【0014】通常のミラーにおいて、光ビームの入射角
が0゜以外のときは、S偏光である方が反射率は高いの
で、上記光ビーム61a,61b,61cの順で反射率
が下がり、走査角に対する光量効率分布のグラフは傾く
事になる。また、ミラーの代わりにレンズや平行平板等
の透過型光学素子を用いる場合は、光ビームの入射角が
0゜以外のときに、P偏光である方が透過率は高いの
で、このような透過型光学素子を、光軸に対してミラー
のような反射型光学素子とは反対方向に傾ける事によっ
て、走査角に対する光量効率分布のグラフは、反射型光
学素子の場合と同じ方向に傾く事になる。
【0015】図16は、従来よりの光走査装置の他の例
の概略構成を示す斜視図であり、前述したような透過型
光学素子を用いる場合を示している。同図に示すよう
に、複数の発光部を有する光源である半導体レーザー5
1から射出された複数の光ビームLは、コリメータレン
ズ52を通過してここで平行な光ビームに変換される。
さらに、副走査方向だけに正の屈折力を有するシリンド
リカルレンズ53を通過してここで屈折力を受け、偏向
器としての回転多面鏡54の反射面54a近傍で副走査
方向のみ集光される。
【0016】さらに、矢印Aの方向に回転軸54bの周
りを回転する回転多面鏡54によって反射,偏向され、
続いて結像レンズ55により集束されて、ウィンドウ5
7を透過した後、被走査面58上に結像する。回転多面
鏡54が回転する事によって各反射面54aが回転し、
被走査面58を光ビームLが矢印Bの方向に走査してゆ
く。なお、ウィンドウ57は、主走査方向に平行な軸5
7aの周りに、その法線が光軸(不図示)に対して20
゜傾くようにして配置されている。なお、回転多面鏡5
4は、図示しないモータにより駆動されて回転する。
【0017】図17は、本例の場合の被走査面における
光量の効率の分布を示すグラフである。同図において、
横軸は走査角(deg)を表し、縦軸は光量効率を表してい
る。ここで、光ビームの偏光方向は、光源51から放射
された直後の光ビームで定義し、光ビームの偏光方向が
主走査方向に平行なときの偏光方向の角度を0゜とし
て、光ビームの進行方向に向かって反時計回り方向を正
とする。そして、偏光方向の角度が+90゜,+45
゜,0゜,−45゜の場合をそれぞれ細い実線a,太い
実線b,点線c,破線dで示している。
【0018】同図に示すように、偏光方向が主走査方向
に対して斜めとなったときに、偏光方向による光量の効
率の差が大きくなる。具体的には、+45゜と−45゜
のときではグラフの傾きが逆になる。これは、図13の
場合と同様である。そして、偏光方向による効率の差が
最大となる走査角において、その差は4.8%となって
いる。
【0019】そこで、上述したような、複数の光ビーム
の偏光方向の違いをなくす従来の手段として、以下のも
のが提案されている。まず、上記特開平9−28824
4号公報に記載されている如く、光源と偏向器との間の
光路上に、複数の光ビームの偏光方向を制限する偏光板
を設けた構成としている。
【0020】また、上記特開平8−338957号公報
に記載されている如く、光ファイバーによる二次光源に
おいて、各光ファイバー毎に設けた1/2波長板を光軸
周りに回転調整する構成としている。また、上記特開平
9−218363号公報に記載されている如く、偏光ビ
ームスプリッターによる光ビーム合成後の光路上に1/
4波長板を挿入し、直線偏光を円偏光に変換して偏光方
向の違いをなくす構成としている。
【0021】ところが、上記特開平9−288244号
公報に記載されているような、偏光板による構成では、
光量損失が大きくなるので問題である。特に、光源から
の光ビームの偏光方向と偏光板の偏光方向とが互いに直
交する場合には、全光量が遮蔽されてしまう。また、上
記特開平8−338957号公報に記載されているよう
な、1/2波長板による構成では、このようないわゆる
位相板は高価であり、また回転調整の手間がかかるの
で、コストアップとなるという問題がある。
【0022】また、上記特開平9−218363号公報
に記載されているような、1/4波長板を挿入する構成
では、同様にしてこのようないわゆる位相板は高価であ
り、コストアップとなるという問題がある。加えて、面
発光レーザーや光ファイバーのような、偏光方向が特定
できない光源の場合には、適用できないという問題があ
る。
【0023】つまり、1/4波長板で直線偏光を円偏光
に変換するためには、その主軸を偏光方向に対して45
゜傾ける必要があるが、面発光レーザーや光ファイバー
においては、その偏光方向が特定できない。即ち、偏光
方向を測定し、それに基づいて主軸を調整しようとして
も、複数の光ビームの偏光方向が任意にばらつくため、
全ての光ビームを円偏光に変換する事はできない。
【0024】本発明は、このような問題点に鑑み、簡単
な構成で、複数の光ビームの偏光方向がそれぞれ異なっ
ていても、被走査面における光量を各光ビームについて
揃える事ができる光走査装置を提供する事を目的とす
る。
【0025】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明では、光源から射出された複数の光ビームを
偏向器で偏向して被走査面上を走査する光走査装置であ
って、前記複数の光ビームのうち少なくとも一つの光ビ
ームの偏光方向が、他のいずれかの光ビームの偏光方向
と異なる光走査装置において、前記偏向器と前記被走査
面との間の光路上に、主走査方向に平行な軸の周りに光
軸に対して傾けた少なくとも二つの反射型光学素子を有
し、前記反射型光学素子について直線状に展開した光路
において、光軸に関して副走査方向の両側に、その各反
射型光学素子の法線いずれかが必ず向いている事を特徴
とする。
【0026】或いは、光源から射出された複数の光ビー
ムを偏向器で偏向して被走査面上を走査する光走査装置
であって、前記複数の光ビームのうち少なくとも一つの
光ビームの偏光方向が、他のいずれかの光ビームの偏光
方向と異なる光走査装置において、前記偏向器と前記被
走査面との間の光路上に、主走査方向に平行な軸の周り
に光軸に対して傾けた少なくとも一つの反射型光学素子
と、主走査方向に平行な軸の周りに光軸に対して傾けた
少なくとも一つの透過型光学素子とを有し、前記反射型
光学素子について直線状に展開した光路において、光軸
に関して副走査方向の一方の側に、少なくとも一つの前
記反射型光学素子の法線と少なくとも一つの前記透過型
光学素子の法線とが必ず向いている事を特徴とする。
【0027】或いは、光源から射出された複数の光ビー
ムを偏向器で偏向して被走査面上を走査する光走査装置
であって、前記複数の光ビームのうち少なくとも一つの
光ビームの偏光方向が、他のいずれかの光ビームの偏光
方向と異なる光走査装置において、前記偏向器と前記被
走査面との間の光路上に、主走査方向に平行な軸の周り
に光軸に対して傾けた少なくとも二つの透過型光学素子
を有し、光軸に関して副走査方向の両側に、前記各透過
型光学素子の法線いずれかが必ず向いている事を特徴と
する。
【0028】また、前記光源は面発光レーザーである事
を特徴とする。或いは、前記光源は複数の光ファイバー
より成る2次光源である事を特徴とする。
【0029】ここで、主走査方向とは、光源から被走査
面までの光路を直線状に展開したときに、光ビームが被
走査面を走査する方向であり、副走査方向とは、光軸と
主走査方向に垂直な方向である。
【0030】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら説明する。ここで、主走査方
向,副走査方向の定義をしておく。光源から被走査面ま
での光路を直線状に展開したときに、光ビームが被走査
面を走査する方向を主走査方向とし、光軸と主走査方向
に垂直な方向を副走査方向とする。
【0031】図1は、本発明の光走査装置の第1の実施
形態の概略構成を示す斜視図である。同図に示すよう
に、複数の発光部を有する光源である半導体レーザー1
から射出された複数の光ビームLは、コリメータレンズ
2を通過してここで平行な光ビームに変換される。さら
に、副走査方向だけに正の屈折力を有するシリンドリカ
ルレンズ3を通過してここで屈折力を受け、偏向器とし
ての回転多面鏡4の反射面4a近傍で副走査方向のみ集
光される。
【0032】さらに、矢印Aの方向に回転軸4bの周り
を回転する回転多面鏡4によって反射,偏向され、続い
て結像レンズ5により集束されて、更にミラー6,ミラ
ー7により折り返されて、被走査面8上に結像する。回
転多面鏡4が回転する事によって各反射面4aが回転
し、被走査面8を光ビームLが矢印Bの方向に走査して
ゆく。
【0033】なお、ミラー6,ミラー7は、それぞれ主
走査方向に平行な軸6a,7aの周りに、光軸(不図
示)に対して傾けて配置されている。このミラー6,ミ
ラー7における反射面となるAlミラー部には、それぞ
れ保護膜として厚さ1/2λのSiO2が設けられてい
る。ここで、λは使用する光ビームの波長であり、λ=
780nmである。また、回転多面鏡4は、図示しない
モータにより駆動されて回転する。また、半導体レーザ
ー1は面発光レーザーであり、一般に面発光レーザーの
偏光方向は定まらないため、複数の光ビームの偏光方向
は互いに異なる。
【0034】図2は、本発明の光走査装置で使用する光
源の他の例を模式的に示す図である。ここでは上記半導
体レーザー1とコリメータレンズ2の代わりに、複数の
半導体レーザーやビームスプリッタ等を用いている。同
図に示すように、半導体レーザー111a,111bか
らそれぞれ射出された光ビームLa,Lbは、ビームス
プリッタ113により略同一の光路に合成される。
【0035】具体的には、半導体レーザー111aから
射出された光ビームLaは、コリメータレンズ112a
を通過し、P偏光としてビームスプリッタ113を通過
する。一方、半導体レーザー111bから射出された光
ビームは、コリメータレンズ112bを通過し、1/2
波長板114で偏光方向を変換され、S偏光としてビー
ムスプリッタ113で反射される。そして、ビームスプ
リッタ113から出てきたこれら2つの光ビームは、略
同一の光路に合成される。このとき、これら2つの光ビ
ームの偏光方向は互いに異なる。
【0036】図3は、本発明の光走査装置で使用する光
源の更に他の例を模式的に示す図である。ここでは上記
半導体レーザー1とコリメータレンズ2の代わりに、複
数の半導体レーザーや光ファイバー等を用いている。同
図に示すように、半導体レーザー121a,121bか
らそれぞれ射出された光ビームLa,Lbは、レンズ1
22a,122bをそれぞれ通過し、光ファイバー12
3a,123bにそれぞれ入射する。そして、各光ファ
イバーから出てきたこれら2つの光ビームは、略同一の
光路に合成され、2次光源となる。このとき、光ファイ
バー123a,123b中では通過した光ビームの偏光
方向が変化するため、これら2つの光ビームの偏光方向
は互いに異なる。
【0037】図4は、図1に示した第1の実施形態の光
学系のうち、回転多面鏡4以降の光学系について、副走
査方向に平行な面で模式的に示した図である。ここでの
光軸をZとおく。同図において、上記光ビームLのミラ
ー6,ミラー7への入射角はいずれも30゜である。
【0038】図5は、図4で示した光学系を、ミラーに
ついて直線状に展開したものである。同図に示すよう
に、ミラー6,ミラー7の傾きの方向が互いに異なって
おり、それぞれの法線13,14の方向が、光軸Zに関
して上下(副走査方向)に分かれている。従って、ミラ
ー6,ミラー7への光ビームLの入射方向は、それぞれ
の法線13,14に関して互いに反対側の関係となって
いる。このため、光ビームLの偏光方向が主走査方向に
対して斜めであるとき、被走査面における光量効率分布
のグラフの傾きが、ミラー6とミラー7で相殺される。
【0039】図6は、本実施形態の場合の被走査面にお
ける光量の効率の分布を示すグラフである。同図におい
て、横軸は走査角(deg)を表し、縦軸は光量効率を表し
ている。ここで、光ビームの偏光方向は、光源1から放
射された直後の光ビームで定義し、光ビームの偏光方向
が主走査方向に平行なときの偏光方向の角度を0゜とし
て、光ビームの進行方向に向かって反時計回り方向を正
とする。そして、偏光方向の角度が+90゜,+45
゜,0゜,−45゜の場合をそれぞれ細い実線a,太い
実線b,点線c,破線dで示している。
【0040】同図に示すように、偏光方向が主走査方向
に対して斜めとなったときの、偏光方向による光量の効
率の差は殆ど無くなっている。具体的には、+45゜と
−45゜のときのグラフがほぼ一致している。ただ、+
90゜,0゜のときの変動が若干残っているが、偏光方
向による効率の差が最大となる走査角において、その差
は1.1%に過ぎず、従来例に比べて大幅に小さくなっ
ている。
【0041】なお、被走査面における光量効率分布のグ
ラフの傾きを、ミラー6とミラー7で相殺するために
は、ミラー6,ミラー7の反射膜構成が同じである場合
は、各ミラーへの光ビームの入射角は同じである事が望
ましい。また、反射膜構成が異なる場合には、各ミラー
での効能が異なるため、被走査面における光量効率分布
のグラフの傾きを、ミラー6とミラー7で相殺するため
には、各ミラーへの光ビームの入射角が異なるように設
定すれば良い。例えば、片方のミラーだけを反射増加膜
とした場合には、ここでのS偏光とP偏光の反射率の差
が小さくなるので、このミラーを傾ける角度を大きくす
れば良い。
【0042】また、被走査面における光量効率分布のグ
ラフの傾きを、3枚以上のミラーで相殺しても良い。そ
の場合はミラーについて直線状に展開した光路におい
て、光軸に関して上下(副走査方向)両側に、各ミラー
の法線いずれかが必ず向いている事が必要である。言い
換えれば、光軸の上側に向いている法線が少なくとも1
つ、光軸の下側に向いている法線が少なくとも1つ存在
する事が必要である。
【0043】図7は、本発明の第2の実施形態の光学系
のうち、回転多面鏡4以降の光学系について、副走査方
向に平行な面で模式的に示した図である。ここでの光軸
をZとおく。基本的な構成は、上記第1の実施形態で示
したものと同様であるが、ここではミラー6,ミラー7
の代わりに、ミラー9,ウィンドウ10を用いている。
同図において、上記光ビームLのミラー9への入射角は
30゜、ウィンドウ10への入射角は17゜である。こ
のミラー9における反射面となるAlミラー部には、保
護膜として厚さ1/2λのSiO2が設けられている。
ウィンドウ10の硝材はBK7である。これにはコーテ
ィングは施されていない。
【0044】図8は、図7で示した光学系を、ミラーに
ついて直線状に展開したものである。同図に示すよう
に、ミラー9,ウィンドウ10の傾きの方向が同じであ
り、それぞれの法線15,16の方向が、光軸Zに関し
て両方とも同じ側となっている。従って、ミラー9,ウ
ィンドウ10への光ビームLの入射方向は、それぞれの
法線15,16に関して互いに同じ側の関係となってい
る。このため、光ビームLの偏光方向が主走査方向に対
して斜めであるとき、被走査面における光量効率分布の
グラフの傾きが、ミラー9とウィンドウ10で相殺され
る。
【0045】図9は、本実施形態の場合の被走査面にお
ける光量の効率の分布を示すグラフである。同図におい
て、横軸は走査角(deg)を表し、縦軸は光量効率を表し
ている。ここで、光ビームの偏光方向は、光源1から放
射された直後の光ビームで定義し、光ビームの偏光方向
が主走査方向に平行なときの偏光方向の角度を0゜とし
て、光ビームの進行方向に向かって反時計回り方向を正
とする。そして、偏光方向の角度が+90゜,+45
゜,0゜,−45゜の場合をそれぞれ細い実線a,太い
実線b,点線c,破線dで示している。
【0046】同図に示すように、偏光方向が主走査方向
に対して斜めとなったときの、偏光方向による光量の効
率の差は殆ど無くなっている。具体的には、+45゜と
−45゜のときのグラフがほぼ一致している。ただ、+
90゜,0゜のときの変動が若干残っているが、偏光方
向による効率の差が最大となる走査角において、その差
は1.3%に過ぎず、従来例に比べて大幅に小さくなっ
ている。
【0047】なお、被走査面における光量効率分布のグ
ラフの傾きを、ミラー9とウィンドウ10で相殺するた
めには、ミラー9,ウィンドウ10への光ビームの入射
角を所定の値に設定すれば良い。例えば、ウィンドウ1
0に反射防止膜をコーティングした場合には、ここでの
S偏光とP偏光の透過率の差が小さくなるので、これを
傾ける角度を大きくすれば良い。
【0048】また、被走査面における光量効率分布のグ
ラフの傾きを相殺するために、2枚以上のミラー或いは
2枚以上のウィンドウを用いても良い。その場合はミラ
ーについて直線状に展開した光路において、光軸に関し
て同じ側に、ミラーとウィンドウの法線がそれぞれ少な
くとも1つ向いている事が必要である。また、ウィンド
ウの代わりにレンズを用いても良い。レンズを用いる場
合の法線としては、レンズの入射面と光軸との交点にお
ける法線を考えれば良い。
【0049】図10は、本発明の第3の実施形態の光学
系のうち、回転多面鏡4以降の光学系について、副走査
方向に平行な面で模式的に示した図である。ここでの光
軸をZとおく。基本的な構成は、上記第1,第2の実施
形態で示したものと同様であるが、ここではミラー6,
ミラー7の代わりに、ウィンドウ11,ウィンドウ12
を用いている。同図において、上記光ビームLのウィン
ドウ11,ウィンドウ12への入射角は、いずれも20
゜である。ウィンドウ11,ウィンドウ12の硝材はB
K7であり、コーティングは施されていない。
【0050】同図に示すように、ウィンドウ11,ウィ
ンドウ12の傾きの方向は互いに異なっており、それぞ
れの法線17,18の方向が、光軸Zに関して上下(副
走査方向)に分かれている。従って、ウィンドウ11,
ウィンドウ12への光ビームLの入射方向は、それぞれ
の法線17,18に関して互いに反対側の関係となって
いる。このため、光ビームLの偏光方向が主走査方向に
対して斜めであるとき、被走査面における光量効率分布
のグラフの傾きが、ウィンドウ11とウィンドウ12で
相殺される。
【0051】図11は、本実施形態の場合の被走査面に
おける光量の効率の分布を示すグラフである。同図にお
いて、横軸は走査角(deg)を表し、縦軸は光量効率を表
している。ここで、光ビームの偏光方向は、光源1から
放射された直後の光ビームで定義し、光ビームの偏光方
向が主走査方向に平行なときの偏光方向の角度を0゜と
して、光ビームの進行方向に向かって反時計回り方向を
正とする。そして、偏光方向の角度が+90゜,+45
゜,0゜,−45゜の場合をそれぞれ細い実線a,太い
実線b,点線c,破線dで示している。
【0052】同図に示すように、偏光方向が主走査方向
に対して斜めとなったときの、偏光方向による光量の効
率の差は殆ど無くなっている。具体的には、+45゜と
−45゜のときのグラフがほぼ一致している。ただ、+
90゜,0゜のときの変動が若干残っているが、偏光方
向による効率の差が最大となる走査角において、その差
は3.0%に過ぎず、従来例に比べて小さくなってい
る。
【0053】なお、被走査面における光量効率分布のグ
ラフの傾きを、ウィンドウ11とウィンドウ12で相殺
するためには、ウィンドウ11,ウィンドウ12の硝
材,透過膜構成が同じである場合は、各ウィンドウへの
光ビームの入射角は同じである事が望ましい。また、硝
材や透過膜構成が異なる場合には、各ウィンドウでの効
能が異なるため、被走査面における光量効率分布のグラ
フの傾きを、ウィンドウ11とウィンドウ12で相殺す
るためには、各ウィンドウへの光ビームの入射角が異な
るように設定すれば良い。
【0054】また、被走査面における光量効率分布のグ
ラフの傾きを、3枚以上のウィンドウで相殺しても良
い。その場合はミラーについて直線状に展開した光路に
おいて、光軸に関して上下(副走査方向)両側に、各ミ
ラーの法線いずれかが必ず向いている事が必要である。
言い換えれば、光軸の上側に向いている法線が少なくと
も1つ、光軸の下側に向いている法線が少なくとも1つ
存在する事が必要である。また、ウィンドウの代わりに
レンズを用いても良い。レンズを用いる場合の法線とし
ては、レンズの入射面と光軸との交点における法線を考
えれば良い。
【0055】なお、特許請求の範囲で言う透過型光学素
子は、実施形態におけるレンズや平行平板に対応してお
り、反射型光学素子は、実施形態におけるミラーに対応
している。
【0056】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
簡単な構成で、複数の光ビームの偏光方向がそれぞれ異
なっていても、被走査面における光量を各光ビームにつ
いて揃える事ができる光走査装置を提供する事ができ
る。
【0057】特に、偏向後の光路上のミラーやレンズ,
或いは平行平板が、主走査方向に平行な軸の周りに傾い
ている場合に生じる光量変動を、その光路上の2つ以上
のミラーやレンズ,或いは平行平板を所定の方向に傾け
て光量を補正する事により、抑える事ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の光走査装置の第1の実施形態の概略構
成を示す斜視図。
【図2】本発明の光走査装置で使用する光源の他の例を
模式的に示す図。
【図3】本発明の光走査装置で使用する光源の更に他の
例を模式的に示す図。
【図4】第1の実施形態での回転多面鏡以降の光学系に
ついて示した図。
【図5】図4で示した光学系を、ミラーについて直線状
に展開した図。
【図6】第1の実施形態での被走査面における光量効率
分布を示すグラフ。
【図7】第2の実施形態での回転多面鏡以降の光学系に
ついて示した図。
【図8】図7で示した光学系を、ミラーについて直線状
に展開した図。
【図9】第2の実施形態での被走査面における光量効率
分布を示すグラフ。
【図10】第3の実施形態での回転多面鏡以降の光学系
について示した図。
【図11】第3の実施形態での被走査面における光量効
率分布を示すグラフ。
【図12】従来よりの光走査装置の一例の概略構成を示
す斜視図。
【図13】従来の一例での被走査面における光量の効率
の分布を示すグラフ。
【図14】偏向された光ビームがミラーで反射される様
子を示す斜視図。
【図15】光ビームの進行方向に向かって偏光方向を見
た図。
【図16】従来よりの光走査装置の他の例の概略構成を
示す斜視図。
【図17】従来の他例での被走査面における光量の効率
の分布を示すグラフ。
【符号の説明】
1 半導体レーザー 2 コリメータレンズ 3 シリンドリカルレンズ 4 回転多面鏡 5 結像レンズ 6,7,9 ミラー 8 被走査面 10,11,12 ウィンドウ L,La,Lb 光ビーム 111a,111b 半導体レーザー 112a,112b コリメータレンズ 113 ビームスプリッタ 114 1/2波長板 121a,121b 半導体レーザー 122a,122b レンズ 123a,123b 光ファイバー

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光源から射出された複数の光ビームを偏
    向器で偏向して被走査面上を走査する光走査装置であっ
    て、 前記複数の光ビームのうち少なくとも一つの光ビームの
    偏光方向が、他のいずれかの光ビームの偏光方向と異な
    る光走査装置において、 前記偏向器と前記被走査面との間の光路上に、主走査方
    向に平行な軸の周りに光軸に対して傾けた少なくとも二
    つの反射型光学素子を有し、 前記反射型光学素子について直線状に展開した光路にお
    いて、光軸に関して副走査方向の両側に、該各反射型光
    学素子の法線いずれかが必ず向いている事を特徴とする
    光走査装置。
  2. 【請求項2】 光源から射出された複数の光ビームを偏
    向器で偏向して被走査面上を走査する光走査装置であっ
    て、 前記複数の光ビームのうち少なくとも一つの光ビームの
    偏光方向が、他のいずれかの光ビームの偏光方向と異な
    る光走査装置において、 前記偏向器と前記被走査面との間の光路上に、主走査方
    向に平行な軸の周りに光軸に対して傾けた少なくとも一
    つの反射型光学素子と、主走査方向に平行な軸の周りに
    光軸に対して傾けた少なくとも一つの透過型光学素子と
    を有し、 前記反射型光学素子について直線状に展開した光路にお
    いて、光軸に関して副走査方向の一方の側に、少なくと
    も一つの前記反射型光学素子の法線と少なくとも一つの
    前記透過型光学素子の法線とが必ず向いている事を特徴
    とする光走査装置。
  3. 【請求項3】 光源から射出された複数の光ビームを偏
    向器で偏向して被走査面上を走査する光走査装置であっ
    て、 前記複数の光ビームのうち少なくとも一つの光ビームの
    偏光方向が、他のいずれかの光ビームの偏光方向と異な
    る光走査装置において、 前記偏向器と前記被走査面との間の光路上に、主走査方
    向に平行な軸の周りに光軸に対して傾けた少なくとも二
    つの透過型光学素子を有し、 光軸に関して副走査方向の両側に、前記各透過型光学素
    子の法線いずれかが必ず向いている事を特徴とする光走
    査装置。
  4. 【請求項4】 前記光源は面発光レーザーである事を特
    徴とする請求項1〜請求項3のいずれかに記載の光走査
    装置。
  5. 【請求項5】 前記光源は複数の光ファイバーより成る
    2次光源である事を特徴とする請求項1〜請求項3のい
    ずれかに記載の光走査装置。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007147864A (ja) * 2005-11-25 2007-06-14 Fuji Xerox Co Ltd 光走査装置
JP2011053436A (ja) * 2009-09-02 2011-03-17 Ricoh Co Ltd 光走査装置及び画像形成装置
JP2011112734A (ja) * 2009-11-25 2011-06-09 Ricoh Co Ltd 光走査装置及び画像形成装置
JP2011191370A (ja) * 2010-03-12 2011-09-29 Ricoh Co Ltd 光走査装置及び画像形成装置
JP2014029482A (ja) * 2012-07-05 2014-02-13 Ricoh Co Ltd 光走査装置及び画像形成装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007147864A (ja) * 2005-11-25 2007-06-14 Fuji Xerox Co Ltd 光走査装置
JP2011053436A (ja) * 2009-09-02 2011-03-17 Ricoh Co Ltd 光走査装置及び画像形成装置
US8564635B2 (en) 2009-09-02 2013-10-22 Ricoh Company, Ltd. Optical scanner and image forming apparatus
JP2011112734A (ja) * 2009-11-25 2011-06-09 Ricoh Co Ltd 光走査装置及び画像形成装置
JP2011191370A (ja) * 2010-03-12 2011-09-29 Ricoh Co Ltd 光走査装置及び画像形成装置
JP2014029482A (ja) * 2012-07-05 2014-02-13 Ricoh Co Ltd 光走査装置及び画像形成装置

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