JPH0519191A - 走査光学装置 - Google Patents

走査光学装置

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Abstract

(57)【要約】 【目的】 偏向器により偏向された光束が入射する結像
レンズの透過率画角特性を緩和し、被走査面である感光
体上の露光分布を一様にするものである。 【構成】 直線偏光である光束を発生する光源と、前記
光源からの光束を偏向走査する偏向器と、前記偏向され
た光束を被走査面に集光する光学系とを有する走査光学
装置において、前記光束の偏光方向は偏向面に対し４５
度傾斜していることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザビームプリン
タ、レーザファクシミリ等で使用されている走査光学装
置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】レーザビームプリンタ、レーザファクシ
ミリ等で使用されている走査光学装置においては、感光
体を偏向器により偏向走査された光束で走査し、そして
静電潜像を形成する。この静電潜像は現像装置によって
トナー像に顕像化され、このトナー像が記録紙に転写さ
れ、この後前記トナー像の転写後の記録紙に定着装置に
よってトナーが加熱定着されることによってプリントが
行われる。
【０００３】このような装置に用いられる光源として
は、レーザ光源、特に装置の低価格化、小型化の為に半
導体レーザが多く用いられている。半導体レーザの発光
は発散光束で有る為に、コリメータレンズでこれを平行
なレーザビームにして使用される。コリメータレンズを
経たレーザビームは回転多面鏡（ポリゴンミラー）で偏
向走査され、更に幾枚かの走査レンズを通過して、被走
査面である感光体上に結像され、走査される。上記走査
レンズは平行なレーザビームを感光体に結像させる結像
機能の他、等角速度で偏向され走査レンズに入射するレ
ーザビームに対し、その像点（光スポット）を感光体上
を等速度で移動させるｆθ機能を有するものも多い。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】レーザビームはその光
路において幾枚かのレンズ面を通過、屈折するが、同時
に反射による損失が生じ、それだけ屈折光のエネルギー
が減少する。
【０００５】一般に反射による損失の大きさは、光線が
レンズ面に入射する角度によって変化する為にレーザビ
ームプリンタにおいてはレーザビームの走査角度、すな
わち走査線の位置によって光ビームのエネルギーが変動
する事になる。
【０００６】そこで、従来のレーザビームプリンタに用
いられる走査光学系においては、レンズ各面反射率の角
度依存性を無くす為に、レンズ面に幾層かの光学薄膜を
蒸着、コートする等してこの問題に対処していた。
【０００７】しかしながら光学薄膜各層の厚さは１００
ｎｍ以下と極めて薄く、これを安定してレンズ面にコー
トする事は高度の技術を必要とし、又環境による安定
性、コスト等についても問題が大きかった。
【０００８】仮に薄膜コートを廃止した場合は、先に述
べた理由により被走査領域において露光量の不均一が生
じ、これは出力画像においては、部分的な文字のかす
れ、或はカブリとなって現れ画質を著しく低下させる。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、直線偏
光を発生する光源の偏光方向を偏向面（偏向器の偏向反
射面により偏向されるレーザ光束が、経時的に形成する
光線束面）に対し４５度の角度に設定することにより、
偏向器により偏向された光束が入射する結像レンズの透
過率画角特性を緩和し、被走査面である感光体上の露光
分布を一様にするものである。
【００１０】
【実施例】図１は、本発明の走査光学装置を用いた画像
形成装置の概略構成図である。
【００１１】１は光源であるところの半導体レーザ、２
はコリメータレンズであり、光源からの発散光束を略平
行な光束としている。３は開口しぼりであり前記平行光
束の径を制限するものである。４は光偏向器であるとこ
ろの回転多面鏡（以下ポリゴンミラー）であり矢印Ａ方
向に一定速度で回転している。５は結像手段であるとこ
ろのｆθレンズであり、ポリゴンミラー４の偏向反射面
によって偏向された光束を後述する感光体上にスポット
状に結像するとともに、ポリゴンミラーの偏向角θに応
じてスポットが等速で移動する様に設計されている。半
導体レーザ１は図示しないレーザ駆動系によって、後述
する感光体上の露光分布が文字、画像等を表す様に明滅
制御される。
【００１２】７は被走査面であるところの感光体であ
り、既述の走査系により光走査されるとともに、回転軸
の回りをＢ方向に等速で回転することにより、その表面
に二次元の露光分布が形成される。感光体の周囲には不
図示の静電複写プロセス機構が配置されており、周知の
プロセスに従い感光体の露光分布に対応した画像を紙等
の転写材上に可視化する。
【００１３】図２は、半導体レーザからの出力光の一般
的な特性を示したものである。半導体レーザの出力光束
Ｃはレーザチップ劈開面に対し水平な方向（θ／／）に
狭く、垂直な方向（θ⊥) には広い発散角を持った発散
光であり、且つ偏光方向（電界の方向Ｅ）がθ／／方向
位置する直線偏光となっている。
【００１４】本発明においては、図１における半導体レ
ーザ１は、図２の様にその偏光方向Ｅが偏向面（偏向器
の偏向反射面により偏向されるレーザ光束が、経時的に
形成する光線束面）対し４５度（φ）傾斜する様に配置
されている。
【００１５】ＬＢＰにおいては光走査は走査領域全体に
わたって一様な露光分布の形成が可能な事が望ましい。
露光分布の不均一が生じた場合、出力画像においては、
部分的な文字のかすれ、或はカブリとなって現れ画質を
著しく低下させる。この為、ｆθレンズによって光スポ
ットが等速で走査される様な場合には感光体上における
光束の強度が走査線上の場所によらず一定であることが
必要である。
【００１６】偏向される光束の強度が変化する主要因
は、偏向後に光束が入射する結像レンズ、本実施例では
ｆθレンズにおいて、入射する光束とレンズ透過面との
なす角度が、偏向方向（以下画角）によって大きく変化
することによる。一般的に、ガラス等の反射率は、屈折
率，入射角，入射光偏光方向によって変化する。
【００１７】図３は、屈折率１．６の透過面に光線が入
射する時の入射角と反射損失の変化を示したものであ
る。反射損失は入射がＳ偏光であるか、Ｐ偏光であるか
によって異なる。図においてＲs はＳ偏光に対する、Ｒ
p はＰ偏光に対する特性を表している。
【００１８】レンズ面における入射光束がＳ偏光、すな
わち偏光方向（θ／／）が反射断面（入射光、反射光、
屈折光が含まれる平面）に垂直である場合は画角が大き
くなるほど反射損失が増大する。逆に入射光束がＰ偏
光、すなわち偏光方向が反射断面と平行である時はブリ
ュースター角といわれる損失０となる入射角までは反射
損失が減少し、それ以上となると、Ｓ偏光同様損失が増
大し始める。
【００１９】結像光学系は少なくとも２面以上の屈折面
を持つ為に、各面でこれらの損失が加算され、結像光学
系最終面を射出する光束においては、軸上（走査角０）
と走査線端部では、通常１０〜２０％程度の強度変化が
生じる。前述した偏向角と反射率角度依存性から、Ｓ偏
光においては画角の大きい画像周辺部において露光量が
低下し、Ｐ偏光においては露光量が増加する。
【００２０】本発明においては、半導体レーザ１が図１
に示したように、その偏光方向が偏向面に対し４５度傾
斜する様に配置されている為に、反射損失は図３に示す
Ｒａの様な角度特性を示す。Ｒｓ，Ｒｐ，Ｒａの間に
は、Ｒａ＝（Ｒｓ＋Ｒｐ）／２の関係がある。この結
果、レンズ各面における反射損失の角度特性は、例え
ば、ｎ＝１．５の場合、入射角０〜５０°の間でほぼ平
坦になり、コート無しでも感光体上の露光分布を一様に
することができる。
【００２１】図４は、図１における開口しぼり３におけ
るレーザ光束の強度分布を示すものであり、３は開口絞
り部材、４１はコリメータレンズ２からのレーザ光束の
等強度線を表している。斜線部は開口部分であり、実際
の結像に寄与する光束はコリメータレンズ２からの光束
のうちこの斜線部内にある光束のみとなる。等強度線４
１は、図２で説明した様にθ⊥方向に長径、θ／／方向
即ち偏光方向に短径を持つ楕円であり、その結果、開口
の周辺の点、例えばＰ、Ｑにおけるレーザ光強度Ｉｐ、
Ｉｑは異なる。
【００２２】図５は、この様な場合の感光体上結像スポ
ット（長径Ｄ／／、短径Ｄ⊥）を示したものであり、走
査方向に対し傾斜した楕円となる。
【００２３】図６は、光束中心最大強度で正規化した時
の図４Ｐ，Ｑにおける強度Ｉｐ，Ｉｑと、図５の結像ス
ポットの楕円率を示したグラフである。Ｉｐ、Ｉｑが共
に０．５以上であれば楕円率は±１０％以下となり、実
用上問題は生じない。開口形状が楕円となる場合も図７
で示す様に開口が強度０．５以上の領域に入る様に設定
すれば同様の効果が得られる。つまり、開口しぼり３の
開口の開口端における光束の強度は、開口中央における
強度の１／２以上であればよい。
【００２４】以上説明した実施例においては、レーザ光
束の偏光方向を傾ける為に半導体レーザを光軸を回転軸
として４５度回転させる事で行ったが、半導体レーザを
回転させずに、その射出光束、あるいは、コリメータ後
の光束中に、旋光素子や偏光板を挿入することによって
も実現できる。
【００２５】図８は、コリメータレンズ２の後方に偏光
板を設けた場合の光束偏光状態を表した図であり、２は
コリメータレンズ、８１はコリメータ射出直後のレーザ
光の電界ベクトルであり、その方向すなわち偏光方向Ｅ
はθ／／方向と一致している。８２は偏光板であり、θ
／／とは４５°傾いた矢印Ｏ方向の偏光成分のみを通過
させるように配置されている。８３は偏光板通過後のレ
ーザ光の電界ベクトルである。コリメータ射出後の偏光
方向は前述した半導体レーザの特性によりθ／／方向と
一致しているが、偏光板を通過することによりＯ軸方向
の偏光成分のみが残り、結果、偏光板通過後のレーザ光
の偏光方向Ｅ’はＯ軸と同じくθ／／とは４５°傾くこ
とになる。
【００２６】
【発明の効果】以上説明したように、走査レンズに入射
するレーザ光束の偏光方向を偏向面とは４５度傾けるこ
とにより、レンズの増透コート無くし、または簡略化し
ても、被走査面である感光体上の走査線の露光強度を画
角によらず一様にすることができ、低コストな走査光学
装置を用いたレーザビームプリンタを提供することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の走査光学装置の実施例の構成を説明す
る斜視図である。
【図２】半導体レーザから出射するレーザ光束を説明す
る図である。
【図３】屈折率１．５の時の反射率を示したグラフであ
る。
【図４】開口しぼり上のレーザ光強度を示した図であ
る。
【図５】スポット形状を示した図である。
【図６】円形開口しぼり上の強度とスポットだ円率を表
すグラフである。
【図７】だ円開口しぼり上のレーザ強度分布を表す図で
ある。
【図８】偏光板を用いた場合の様子を説明する図であ
る。
【符号の説明】
１ 半導体レーザ ２ コリメータレンズ ３ 開口しぼり ４ 回転多面鏡 ５ ｆθレンズ ７ 感光体

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 直線偏光である光束を発生する光源と、
    前記光源からの光束を偏向走査する偏向器と、前記偏向
    された光束を被走査面に集光する光学系とを有する走査
    光学装置において、前記光束の偏光方向は偏向面に対し
    ４５度傾斜していることを特徴とする走査光学装置。
  2. 【請求項２】 前記光源は半導体レーザであり、偏光方
    向の傾きは半導体レーザの接合面を偏向面に対して傾け
    て行う請求項１に記載の走査光学装置。
  3. 【請求項３】 前記光源と前記偏向器の間に光束の径を
    制限する開口が設けられている請求項１に記載の走査光
    学装置。
  4. 【請求項４】 前記開口の開口端における光束の強度は
    開口中央における強度の１／２以上である請求項３に記
    載の走査光学装置。
  5. 【請求項５】 前記光学系を構成する構成面のうち、前
    記偏向器と被走査面の間に位置する少なくとも１つ以上
    の透過面は、反射防止の為のコートがなされない請求項
    １に記載の走査光学装置。
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