JP2560712B2 - 光ビ−ム走査装置 - Google Patents
光ビ−ム走査装置Info
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- JP2560712B2 JP2560712B2 JP62037043A JP3704387A JP2560712B2 JP 2560712 B2 JP2560712 B2 JP 2560712B2 JP 62037043 A JP62037043 A JP 62037043A JP 3704387 A JP3704387 A JP 3704387A JP 2560712 B2 JP2560712 B2 JP 2560712B2
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- Japan
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- light beam
- bending mirror
- refractive index
- dielectric layer
- angle
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、レーザビームの走査によって画像を読取る
装置あるいは記録する装置に用いる光ビーム走査装置に
関するものである。
装置あるいは記録する装置に用いる光ビーム走査装置に
関するものである。
［従来の技術］ 例えば、レーザプリンタでは、第７図の断面図に示す
ように光ビーム走査装置を用いて感光体を露光するよう
に構成している。すなわち、第７図において、１は光源
から発生されたレーザビームを偏向する光ビーム偏向
器、2a,2bは結像レンズ、３は偏向されたレーザービー
ム４を出射窓５を介して感光体６の走査面に入射する折
り曲げ鏡である。第８図は第７図の構成を光学的に展開
して表わした概念図であり、光源８から発生されたレー
ザビームは偏向器１で偏向され、結像レンズ2a,2bを介
して折り曲げ鏡３に入射される。このとき、レーザビー
ム４は有効偏向走査角αで折り曲げ鏡３の鏡面内で走査
されるが、α＝０゜の走査角中央を通るレーザビームは
折り曲げ鏡３に対し入射角βで入射される。すなわち、
折り曲げ鏡３は副走査方向に傾き角βで保持されてい
る。
ように光ビーム走査装置を用いて感光体を露光するよう
に構成している。すなわち、第７図において、１は光源
から発生されたレーザビームを偏向する光ビーム偏向
器、2a,2bは結像レンズ、３は偏向されたレーザービー
ム４を出射窓５を介して感光体６の走査面に入射する折
り曲げ鏡である。第８図は第７図の構成を光学的に展開
して表わした概念図であり、光源８から発生されたレー
ザビームは偏向器１で偏向され、結像レンズ2a,2bを介
して折り曲げ鏡３に入射される。このとき、レーザビー
ム４は有効偏向走査角αで折り曲げ鏡３の鏡面内で走査
されるが、α＝０゜の走査角中央を通るレーザビームは
折り曲げ鏡３に対し入射角βで入射される。すなわち、
折り曲げ鏡３は副走査方向に傾き角βで保持されてい
る。
このような光ビーム走査装置において、折り曲げ鏡３
は、従来、ガラス基板の上にアルミニウム膜を形成し、
その保護膜として低屈折率の誘電体層例えばSiO2を数10
nmの膜厚で形成した表面反射鏡で構成されている。一
方、レーザビーム４はその偏向方向（電界成分方向）Ｅ
が第７図に示すように偏向走査面に対して略垂直になる
ようにＳ偏光によって偏向される。これは、偏向器１に
おけるレーザビームの入射角の変化に対し、Ｓ偏向の方
がＰ偏向に比べて反射率が高く、しかも変動が少ないた
めである。
は、従来、ガラス基板の上にアルミニウム膜を形成し、
その保護膜として低屈折率の誘電体層例えばSiO2を数10
nmの膜厚で形成した表面反射鏡で構成されている。一
方、レーザビーム４はその偏向方向（電界成分方向）Ｅ
が第７図に示すように偏向走査面に対して略垂直になる
ようにＳ偏光によって偏向される。これは、偏向器１に
おけるレーザビームの入射角の変化に対し、Ｓ偏向の方
がＰ偏向に比べて反射率が高く、しかも変動が少ないた
めである。
［発明が解決しようとする問題点］ ところが、折り曲げ鏡３を上記のような構成の表面反
射鏡で構成した場合、レーザビーム４のα＝０゜の偏向
方向を非偏向走査方向Ｙまたは偏向走査方向Ｘに一致さ
せ折り曲げ鏡３の傾き角βをβ＝45゜としてもその反射
率Ｒは第９図の特性カーブ13に示すように非偏向走査方
向Ｙについて80％程度しかならず、また偏向走査方向Ｘ
については走査角αの増加につれて反射率Ｒが低下する
傾向となり、光源８から感光体６に至るまでのレーザビ
ーム４の伝達損失が大きいという問題がある。その結
果、光源８の光量を増加させたり、感光体６の回転速度
を低く制御しなければならなくなるという問題が生じ
る。
射鏡で構成した場合、レーザビーム４のα＝０゜の偏向
方向を非偏向走査方向Ｙまたは偏向走査方向Ｘに一致さ
せ折り曲げ鏡３の傾き角βをβ＝45゜としてもその反射
率Ｒは第９図の特性カーブ13に示すように非偏向走査方
向Ｙについて80％程度しかならず、また偏向走査方向Ｘ
については走査角αの増加につれて反射率Ｒが低下する
傾向となり、光源８から感光体６に至るまでのレーザビ
ーム４の伝達損失が大きいという問題がある。その結
果、光源８の光量を増加させたり、感光体６の回転速度
を低く制御しなければならなくなるという問題が生じ
る。
なお、第９図は30nmのSiO2層をアルミニウム上に形成
した時の反射率特性を示すものである。
した時の反射率特性を示すものである。
本発明は上記のような問題に鑑み、光ビームの伝達損
失がすくなく、かつ走査方向における光量分布が平坦な
光ビームを得ることができる光ビーム走査装置を提供す
ることを目的とするものである。
失がすくなく、かつ走査方向における光量分布が平坦な
光ビームを得ることができる光ビーム走査装置を提供す
ることを目的とするものである。
［問題点を解決するための手段］ 上記目的を達成するため、本発明は、 光ビームを発生する光ビーム発生器と、 前記光ビーム発生器で発生された光ビームが入射さ
れ、該光ビームを所定の偏向走査面内で偏向する光ビー
ム偏向器と、 前記光ビーム偏向器で偏向された光ビームを被走査面
に導く光ビーム折り曲げ鏡と を有する光ビーム走査装置において、 前記光ビーム偏向器に入射する光ビームの電界成分方
向が前記偏向走査面に略垂直であり、 前記光ビーム偏向器による前記光ビーム折り曲げ鏡に
対する有効偏向走査半角をαとし、該有効偏向走査半角
の中央を通る光ビームの前記光ビーム折り曲げ鏡に対す
る入射角をβとするとき、 β／α≧1.0 が成立するように前記光ビーム偏向器の有効偏向走査半
角および前記光ビーム折り曲げ鏡の配設角度が設定さ
れ、 前記光ビーム折り曲げ鏡は、 基板上にアルミニュウム、第１の誘電体層、第２の誘
電体を順次形成した４層構造からなり、前記光ビームの
波長をλ、前記第１の誘電体層の屈折率をn1、その層厚
をd1、前記第２の誘電体層の屈折率をn2、その層厚をd2
としたとき、 が成立するように前記第１の誘電体層の屈折率およびそ
の層厚、前記第２の誘電体層の屈折率およびその層厚が
選択されることを特徴とする。
れ、該光ビームを所定の偏向走査面内で偏向する光ビー
ム偏向器と、 前記光ビーム偏向器で偏向された光ビームを被走査面
に導く光ビーム折り曲げ鏡と を有する光ビーム走査装置において、 前記光ビーム偏向器に入射する光ビームの電界成分方
向が前記偏向走査面に略垂直であり、 前記光ビーム偏向器による前記光ビーム折り曲げ鏡に
対する有効偏向走査半角をαとし、該有効偏向走査半角
の中央を通る光ビームの前記光ビーム折り曲げ鏡に対す
る入射角をβとするとき、 β／α≧1.0 が成立するように前記光ビーム偏向器の有効偏向走査半
角および前記光ビーム折り曲げ鏡の配設角度が設定さ
れ、 前記光ビーム折り曲げ鏡は、 基板上にアルミニュウム、第１の誘電体層、第２の誘
電体を順次形成した４層構造からなり、前記光ビームの
波長をλ、前記第１の誘電体層の屈折率をn1、その層厚
をd1、前記第２の誘電体層の屈折率をn2、その層厚をd2
としたとき、 が成立するように前記第１の誘電体層の屈折率およびそ
の層厚、前記第２の誘電体層の屈折率およびその層厚が
選択されることを特徴とする。
［作用］ 光ビーム偏向器に入射する光ビームの電界成分方向が
偏向走査面に略垂直になるように設定し、 光ビーム偏向器の有効偏向走査半角および光ビーム折
り曲げ鏡の配設角度に関してβ／α≧1.0 の条件を与え、 第１の誘電体層の屈折率およびその層厚、第２の誘電
体層の屈折率およびその層厚に対して の条件を与えることにより、光ビームの伝送損失を有効
に減少させ、かつ被走査面に対する光量分布を可及的に
均一化することができる。
偏向走査面に略垂直になるように設定し、 光ビーム偏向器の有効偏向走査半角および光ビーム折
り曲げ鏡の配設角度に関してβ／α≧1.0 の条件を与え、 第１の誘電体層の屈折率およびその層厚、第２の誘電
体層の屈折率およびその層厚に対して の条件を与えることにより、光ビームの伝送損失を有効
に減少させ、かつ被走査面に対する光量分布を可及的に
均一化することができる。
［実施例］ 第１図は本発明による光ビーム走査装置の一実施例を
示す斜視図であり、第２図はその側断面図である。
示す斜視図であり、第２図はその側断面図である。
これらの図において、第７図の従来構成と同一部分は
同一記号で表わしているが、この実施例においては折り
曲げ鏡３に対しては新たに設けたシリンドリカルミラー
９を介して偏向されたレーザビーム４が入射されるよう
になっている。
同一記号で表わしているが、この実施例においては折り
曲げ鏡３に対しては新たに設けたシリンドリカルミラー
９を介して偏向されたレーザビーム４が入射されるよう
になっている。
そして、この実施例においてもレーザビーム４の電界
方向成分Ｅは図示のように偏向走査面に対して略垂直で
ある。
方向成分Ｅは図示のように偏向走査面に対して略垂直で
ある。
折り曲げ鏡３の構成は第３図の断面図に示すようにガ
ラス基板15の上にアルミニウム膜16を形成し、その上に
低屈折率のSiO2膜17を、さらに高屈折率のTiO2膜18を形
成している。この場合SiO2膜,TiO2膜の屈折率をn,dを層
厚、λをレーザビーム４の波長とすると、それぞれの膜
はnd＝略λ/4となるように形成されている。
ラス基板15の上にアルミニウム膜16を形成し、その上に
低屈折率のSiO2膜17を、さらに高屈折率のTiO2膜18を形
成している。この場合SiO2膜,TiO2膜の屈折率をn,dを層
厚、λをレーザビーム４の波長とすると、それぞれの膜
はnd＝略λ/4となるように形成されている。
一方、この実施例における折り曲げ鏡３の有効走査角
＝30゜であり、偏向装置３によるレーザビーム４の走査
角の中央（α＝０゜）を通るセンタ光ビームの折曲げ鏡
３への入射角βは略50゜である。
＝30゜であり、偏向装置３によるレーザビーム４の走査
角の中央（α＝０゜）を通るセンタ光ビームの折曲げ鏡
３への入射角βは略50゜である。
α，βとα＝０゜以外のレーザビームの入射角θ１と
の関係は、第４図に示すように、βが増加すればθ１も
増加するが、θ１のαの変化による変動量は減少する。
の関係は、第４図に示すように、βが増加すればθ１も
増加するが、θ１のαの変化による変動量は減少する。
一方、偏向と関係する入射面（入射光と反射光とを含
む面）と偏向走査面に垂直な面とのなす角度φは、第５
図に示すようにβとαとの関係で変化するが、この角度
φは反射率ＲをRp（ｐ偏向成分の反射率）とRs（ｓ偏向
成分の反射率）の合成として計算する式に用いる。具体
的には Ｒ＝cos2φ・Rp＋sin2φ・Rs ……（１） によって合成反射率を求める。
む面）と偏向走査面に垂直な面とのなす角度φは、第５
図に示すようにβとαとの関係で変化するが、この角度
φは反射率ＲをRp（ｐ偏向成分の反射率）とRs（ｓ偏向
成分の反射率）の合成として計算する式に用いる。具体
的には Ｒ＝cos2φ・Rp＋sin2φ・Rs ……（１） によって合成反射率を求める。
第６図は従来の折り曲げ鏡と本発明における折り曲げ
鏡の反射率特性を示した図であり、19はSiO2（ｎ＝1.4
5）,nd＝30nmの膜をアルミニウムに形成した従来例の反
射率特性であり、80％と低い値を示しているのに対し、
20で示す本発明の反射率特性は従来に比べて反射率を10
％増加させ、しかも反射率分布がフラットになっている
ことがわかる。
鏡の反射率特性を示した図であり、19はSiO2（ｎ＝1.4
5）,nd＝30nmの膜をアルミニウムに形成した従来例の反
射率特性であり、80％と低い値を示しているのに対し、
20で示す本発明の反射率特性は従来に比べて反射率を10
％増加させ、しかも反射率分布がフラットになっている
ことがわかる。
この反射率は、従来におけるｓ偏向を主成分とする特
性21の反射率とほぼ同じであり、また反射率分布よりフ
ラットになっている。
性21の反射率とほぼ同じであり、また反射率分布よりフ
ラットになっている。
なお、第６図の記号は以下のことを意味している。
SiO2は従来の30nm膜厚の折曲げ鏡、Ｈ−Ｌは本発明に
よる折曲げ鏡の反射率を示し、また添字ｐ・ｓはＰ偏向
の反射率、ｓ偏向の反射率を表し、Ｘは走査中央（α＝
０゜）でｓ偏向となるように設定された系、Ｙは同様に
ｐ偏向設定の系を表わしている。
よる折曲げ鏡の反射率を示し、また添字ｐ・ｓはＰ偏向
の反射率、ｓ偏向の反射率を表し、Ｘは走査中央（α＝
０゜）でｓ偏向となるように設定された系、Ｙは同様に
ｐ偏向設定の系を表わしている。
ところで、低屈折率誘電体膜としてはSiO2以外にMgF
2、Al2O3等を用いていることができ、また高屈折率誘電
体膜としてはTiO2以外にSiO、CeO2、TiO等を用いること
ができる。
2、Al2O3等を用いていることができ、また高屈折率誘電
体膜としてはTiO2以外にSiO、CeO2、TiO等を用いること
ができる。
このように本実施例によれば、光源から感光体までの
光ビーム伝達損失を減少させ、感光体への入射光量分布
を均一化することができる。これによって、光源光量を
低下させて低コスト化が可能となり、また平坦な光量分
布により高画質が得られ、さらに記録／読取り速度の向
上が可能となる。
光ビーム伝達損失を減少させ、感光体への入射光量分布
を均一化することができる。これによって、光源光量を
低下させて低コスト化が可能となり、また平坦な光量分
布により高画質が得られ、さらに記録／読取り速度の向
上が可能となる。
［発明の効果］ 以上の説明から明らかなように本発明によれば光ビー
ムの伝達損失が少なく、かつ走査方向における光量分布
が平坦な光ビームを得ることができる。これによって、
光源の低コスト化と記録／読取り速度の向上を図ること
ができるという効果が得られる。
ムの伝達損失が少なく、かつ走査方向における光量分布
が平坦な光ビームを得ることができる。これによって、
光源の低コスト化と記録／読取り速度の向上を図ること
ができるという効果が得られる。
第１図は本発明による光ビーム走査装置の一実施例を示
す斜視図、第２図は第１図の側断面図、第３図は第１図
における折り曲げ鏡の構成を示す断面図、第４図および
第５図は折曲げ鏡に対する光ビーム入射角と走査角との
関係を示す説明図、第６図は折り曲げ鏡の反射率特性を
示す特性図、第７図は従来の光ビーム走査装置の構成を
示す側断面図、第８図は第７図の光学的展開図、第９図
は従来の折り曲げ鏡の反射率特性を示す特性図である。 １……光ビーム偏向器、2a,2b……結像レンズ、３……
折り曲げ鏡、４……レーザビーム、５……出射窓、６…
…感光体、８……光源、９……シリンドリカルミラー、
15……ガラス基板、16……アルミニウム膜、17……SiO2
膜、18……TiO2膜。
す斜視図、第２図は第１図の側断面図、第３図は第１図
における折り曲げ鏡の構成を示す断面図、第４図および
第５図は折曲げ鏡に対する光ビーム入射角と走査角との
関係を示す説明図、第６図は折り曲げ鏡の反射率特性を
示す特性図、第７図は従来の光ビーム走査装置の構成を
示す側断面図、第８図は第７図の光学的展開図、第９図
は従来の折り曲げ鏡の反射率特性を示す特性図である。 １……光ビーム偏向器、2a,2b……結像レンズ、３……
折り曲げ鏡、４……レーザビーム、５……出射窓、６…
…感光体、８……光源、９……シリンドリカルミラー、
15……ガラス基板、16……アルミニウム膜、17……SiO2
膜、18……TiO2膜。
Claims (1)
- 【請求項１】光ビームを発生する光ビーム発生器と、 前記光ビーム発生器で発生された光ビームが入射され、
該光ビームを所定の偏向走査面内で偏向する光ビーム偏
向器と、 前記光ビーム偏向器で偏向された光ビームを被走査面に
導く光ビーム折り曲げ鏡と を有する光ビーム走査装置において、 前記光ビーム偏向器に入射する光ビームの電界成分方向
が前記偏向走査面に略垂直であり、 前記光ビーム偏向器による前記光ビーム折り曲げ鏡に対
する有効偏向走査半角をαとし、該有効偏向走査半角の
中央を通る光ビームの前記光ビーム折り曲げ鏡に対する
入射角をβとするとき、 β／α≧1.0 が成立するように前記光ビーム偏向器の有効偏向走査半
角および前記光ビーム折り曲げ鏡の配設角度が設定さ
れ、 前記光ビーム折り曲げ鏡は、 基板上にアルミニュウム、第１の誘電体層、第２の誘電
体を順次形成した４層構造からなり、前記光ビームの波
長をλ、前記第１の誘電体層の屈折率をn1、その層厚を
d1、前記第２の誘電体層の屈折率をn2、その層厚をd2と
したとき、 が成立するように前記第１の誘電体層の屈折率およびそ
の層厚、前記第２の誘電体層の屈折率およびその層厚が
選択されることを特徴とする光ビーム走査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62037043A JP2560712B2 (ja) | 1987-02-20 | 1987-02-20 | 光ビ−ム走査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62037043A JP2560712B2 (ja) | 1987-02-20 | 1987-02-20 | 光ビ−ム走査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63204222A JPS63204222A (ja) | 1988-08-23 |
| JP2560712B2 true JP2560712B2 (ja) | 1996-12-04 |
Family
ID=12486571
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62037043A Expired - Lifetime JP2560712B2 (ja) | 1987-02-20 | 1987-02-20 | 光ビ−ム走査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2560712B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH690080A5 (de) * | 1995-09-12 | 2000-04-14 | Alusuisse Lonza Services Ag | Aluminium-Reflektor mit reflexionserhöhendem Schichtverbund. |
| DE102011106568B4 (de) * | 2011-06-28 | 2013-09-19 | Krohne Messtechnik Gmbh | Schwimmkörper zur Anzeige eines Füllstandes |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59172624A (ja) * | 1983-03-23 | 1984-09-29 | Hitachi Ltd | 光偏向走査装置 |
| JPS6016059A (ja) * | 1983-07-07 | 1985-01-26 | Canon Inc | 画像形成装置 |
| JPS6128903A (ja) * | 1984-07-20 | 1986-02-08 | Canon Inc | 反射体 |
-
1987
- 1987-02-20 JP JP62037043A patent/JP2560712B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63204222A (ja) | 1988-08-23 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |