JP3254312B2 - 光走査装置 - Google Patents
光走査装置Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は光走査装置、詳しくは
ＬＤアレイを光源とし、１走査で複数ラインの光走査を
行う光走査装置に関する。
ＬＤアレイを光源とし、１走査で複数ラインの光走査を
行う光走査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＬＤアレイ即ち「半導体レーザーアレ
イ」は、２以上のレーザー発光部をアレイ配列したモノ
リシックな半導体レーザー光源であり、個々のレーザー
発光部から放射される光束の光強度を独立して変調する
ことが可能である。かかるＬＤアレイの性質に着目し、
ＬＤアレイを光源として用いることにより「１走査で被
走査面を複数ライン同時に光走査」する光走査装置が提
案されている。このような光走査装置では、偏向装置の
偏向速度や画像信号スピードを限界にまで高めることな
く光走査記録の高速化が可能である。
イ」は、２以上のレーザー発光部をアレイ配列したモノ
リシックな半導体レーザー光源であり、個々のレーザー
発光部から放射される光束の光強度を独立して変調する
ことが可能である。かかるＬＤアレイの性質に着目し、
ＬＤアレイを光源として用いることにより「１走査で被
走査面を複数ライン同時に光走査」する光走査装置が提
案されている。このような光走査装置では、偏向装置の
偏向速度や画像信号スピードを限界にまで高めることな
く光走査記録の高速化が可能である。
【０００３】しかし、このような「複数ライン同時光走
査方式」を良好に実現するには、被走査面上に集光され
る複数の光スポットの「それぞれのスポット形状」を安
定化できること、複数の光スポットによる「複数走査ラ
インのピッチ」を調整できること、被走査面上において
「各光スポットの光強度」が確保されること等が必要で
ある。また、ＬＤアレイから偏向装置の偏向反射面に到
る光路の長さは、装置コンパクト化の要請から短くでき
ることが好ましい。
査方式」を良好に実現するには、被走査面上に集光され
る複数の光スポットの「それぞれのスポット形状」を安
定化できること、複数の光スポットによる「複数走査ラ
インのピッチ」を調整できること、被走査面上において
「各光スポットの光強度」が確保されること等が必要で
ある。また、ＬＤアレイから偏向装置の偏向反射面に到
る光路の長さは、装置コンパクト化の要請から短くでき
ることが好ましい。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】この発明は上述した事
情に鑑みてなされたものであって、ＬＤアレイを光源と
し、被走査面上における各光スポットのスポット形状を
安定化でき、走査ライン間のピッチを調整でき、各光ス
ポットの光強度を有効に確保でき、尚且つ光源から偏向
装置の偏向反射面までの光路を短く構成できる新規な光
走査装置の提供を目的とする。
情に鑑みてなされたものであって、ＬＤアレイを光源と
し、被走査面上における各光スポットのスポット形状を
安定化でき、走査ライン間のピッチを調整でき、各光ス
ポットの光強度を有効に確保でき、尚且つ光源から偏向
装置の偏向反射面までの光路を短く構成できる新規な光
走査装置の提供を目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この発明の光走査装置
は、光源装置と、アパーチャと、ビーム圧縮光学系と、
シリンダレンズと、偏向装置と、結像光学系とを有す
る。「光源装置」は、ＬＤアレイと、このＬＤアレイか
ら射出する複数の光束をコリメートするコリメートレン
ズとを有する。ＬＤアレイは、複数の光スポットによる
複数走査ラインのピッチに応じて、レーザー発光部の配
列方向の主走査対応方向に対する傾き角を調整可能に配
備される。即ちＬＤアレイは、コリメートレンズの光軸
の回りに回転調整可能である。「アパーチャ」は、光源
装置から放射されるコリメートされた光束の光束幅を規
制する。
は、光源装置と、アパーチャと、ビーム圧縮光学系と、
シリンダレンズと、偏向装置と、結像光学系とを有す
る。「光源装置」は、ＬＤアレイと、このＬＤアレイか
ら射出する複数の光束をコリメートするコリメートレン
ズとを有する。ＬＤアレイは、複数の光スポットによる
複数走査ラインのピッチに応じて、レーザー発光部の配
列方向の主走査対応方向に対する傾き角を調整可能に配
備される。即ちＬＤアレイは、コリメートレンズの光軸
の回りに回転調整可能である。「アパーチャ」は、光源
装置から放射されるコリメートされた光束の光束幅を規
制する。
【０００６】「ビーム圧縮光学系」は、１以上のプリズ
ムにより構成され、アパーチャを通過した光束を副走査
対応方向にのみ圧縮する。「副走査対応方向」は、光源
から被走査面に到る光路を光軸に沿って直線的に展開し
た仮想的な光路上において、副走査方向と平行的に対応
する方向をいう。また上記仮想的な光路上で主走査方向
と平行に対応する方向を「主走査対応方向」という。ビ
ーム圧縮光学系を構成する１以上のプリズムの各射出側
面は、この射出側面にプリズム内部から入射して射出す
る光束の、上記射出側面への入射角がブリュースター角
に設定される。
ムにより構成され、アパーチャを通過した光束を副走査
対応方向にのみ圧縮する。「副走査対応方向」は、光源
から被走査面に到る光路を光軸に沿って直線的に展開し
た仮想的な光路上において、副走査方向と平行的に対応
する方向をいう。また上記仮想的な光路上で主走査方向
と平行に対応する方向を「主走査対応方向」という。ビ
ーム圧縮光学系を構成する１以上のプリズムの各射出側
面は、この射出側面にプリズム内部から入射して射出す
る光束の、上記射出側面への入射角がブリュースター角
に設定される。
【０００７】「シリンダレンズ」は、ビーム圧縮光学系
からの光束を副走査対応方向にのみ結像させる。「偏向
装置」は、シリンダレンズによる副走査対応方向の結像
位置の近傍に偏向反射面を持ち、シリンダレンズからの
光束を偏向させる。「結像光学系」は、偏向装置の偏向
反射面位置と被走査面位置とを、副走査対応方向に関し
幾何光学的に略共役な関係とし、偏向装置により偏向さ
れた光束を被走査面上に複数の光スポットとして集光す
る。請求項１記載の光走査装置では、ビーム圧縮光学系
を構成する１以上のプリズムの「光路上にある全プリズ
ム面」に反射防止コートが施されている。そして、レー
ザー発光部の配列方向の主走査対応方向に対する傾き角
は、上述の如く、調整可能であるが、上記傾き角は微小
であり、後述するように、接合面の方向は、主走査方向
とほとんど平行である。
からの光束を副走査対応方向にのみ結像させる。「偏向
装置」は、シリンダレンズによる副走査対応方向の結像
位置の近傍に偏向反射面を持ち、シリンダレンズからの
光束を偏向させる。「結像光学系」は、偏向装置の偏向
反射面位置と被走査面位置とを、副走査対応方向に関し
幾何光学的に略共役な関係とし、偏向装置により偏向さ
れた光束を被走査面上に複数の光スポットとして集光す
る。請求項１記載の光走査装置では、ビーム圧縮光学系
を構成する１以上のプリズムの「光路上にある全プリズ
ム面」に反射防止コートが施されている。そして、レー
ザー発光部の配列方向の主走査対応方向に対する傾き角
は、上述の如く、調整可能であるが、上記傾き角は微小
であり、後述するように、接合面の方向は、主走査方向
とほとんど平行である。
【０００８】請求項２記載の光走査装置では、上記ビー
ム圧縮光学系のプリズム面のうちには反射防止コートの
施されていない面があり、ビーム圧縮光学系の光源側に
「１／２波長板」が配備される。この場合においても、
ビーム圧縮光学系を構成する１以上のプリズムの各射出
側面は、この射出側面にプリズム内部から入射して射出
する光束の、上記射出側面への入射角がブリュースター
角に設定され、レーザー発光部の配列方向の主走査対応
方向に対する傾き角は微小であり、接合面の方向は、主
走査方向とほとんど平行である。
ム圧縮光学系のプリズム面のうちには反射防止コートの
施されていない面があり、ビーム圧縮光学系の光源側に
「１／２波長板」が配備される。この場合においても、
ビーム圧縮光学系を構成する１以上のプリズムの各射出
側面は、この射出側面にプリズム内部から入射して射出
する光束の、上記射出側面への入射角がブリュースター
角に設定され、レーザー発光部の配列方向の主走査対応
方向に対する傾き角は微小であり、接合面の方向は、主
走査方向とほとんど平行である。
【０００９】上記請求項１記載の光走査装置において
は、ビーム圧縮光学系の光源側に「１／４波長板」を配
備することが出来る（請求項３）。
は、ビーム圧縮光学系の光源側に「１／４波長板」を配
備することが出来る（請求項３）。
【００１０】また、請求項２または３記載の光走査装置
において用いられる１／２波長板もしくは１／４波長板
を、ビーム圧縮光学系を構成するプリズムと一体化する
ことが出来（請求項４）、あるいは１／２波長板もしく
は１／４波長板を、アパーチャと一体化しても良い（請
求項５）。また、１／２波長板もしくは１／４波長板を
アパーチャと一体化するに当たっては、これをさらにビ
ーム圧縮光学系のプリズムと一体化してもよいのである
が、１／２波長板もしくは１／４波長板に、光透過部を
除いてマスキング処理を施すことにより、１／２波長板
もしくは１／４波長板がアパーチャを兼ねるようにして
も良い（請求項６）。そして、後述の如く、１／２波長
板、１／４波長板は両面に反射防止コートを施すことが
できる。
において用いられる１／２波長板もしくは１／４波長板
を、ビーム圧縮光学系を構成するプリズムと一体化する
ことが出来（請求項４）、あるいは１／２波長板もしく
は１／４波長板を、アパーチャと一体化しても良い（請
求項５）。また、１／２波長板もしくは１／４波長板を
アパーチャと一体化するに当たっては、これをさらにビ
ーム圧縮光学系のプリズムと一体化してもよいのである
が、１／２波長板もしくは１／４波長板に、光透過部を
除いてマスキング処理を施すことにより、１／２波長板
もしくは１／４波長板がアパーチャを兼ねるようにして
も良い（請求項６）。そして、後述の如く、１／２波長
板、１／４波長板は両面に反射防止コートを施すことが
できる。
【００１１】
【作用】ＬＤアレイから放射された複数の光束は、コリ
メートレンズにより平行光束とされ、アパーチャにより
光束幅を規制され、ビーム圧縮光学系により副走査対応
方向にのみ圧縮され、シリンダレンズにより各光束ごと
に副走査対応方向に結像される。
メートレンズにより平行光束とされ、アパーチャにより
光束幅を規制され、ビーム圧縮光学系により副走査対応
方向にのみ圧縮され、シリンダレンズにより各光束ごと
に副走査対応方向に結像される。
【００１２】偏向装置はシリンダレンズによる複数の結
像位置の近傍に偏向反射面を有し、複数光束を同時に偏
向する。複数の偏向光束は結像光学系により、それぞれ
が被走査面上に光スポットとして集光する。このため、
結像光学系は、偏向反射面位置と被走査面位置とを副走
査対応方向に関して「幾何光学的に略共役」な関係とし
ている。
像位置の近傍に偏向反射面を有し、複数光束を同時に偏
向する。複数の偏向光束は結像光学系により、それぞれ
が被走査面上に光スポットとして集光する。このため、
結像光学系は、偏向反射面位置と被走査面位置とを副走
査対応方向に関して「幾何光学的に略共役」な関係とし
ている。
【００１３】請求項１記載の発明では、ビーム圧縮光学
系を構成するプリズムのプリズム面のうち光路上にある
全ての面に反射防止コートが施され、プリズム面での反
射による光量損失が有効に軽減される。
系を構成するプリズムのプリズム面のうち光路上にある
全ての面に反射防止コートが施され、プリズム面での反
射による光量損失が有効に軽減される。
【００１４】ＬＤアレイから放射される複数の光束は直
線偏光状態にある。請求項２記載の発明においては、１
／２波長板の作用により光束の偏光方向が１／２波長板
の前後で９０度旋回する。請求項３記載の発明において
は、１／４波長板を透過した光束が円偏光状態になる。
線偏光状態にある。請求項２記載の発明においては、１
／２波長板の作用により光束の偏光方向が１／２波長板
の前後で９０度旋回する。請求項３記載の発明において
は、１／４波長板を透過した光束が円偏光状態になる。
【００１５】
【実施例】図１（ａ）は、この発明を適用できる光走査
装置の１例を要部のみ略示している。符号１で示すＬＤ
アレイは、図１（ｂ）に示す如く接合面に沿って、互い
に距離：Ｌだけ離れた２つのレーザー発光部１ａ，１ｂ
を有し、これらレーザー発光部から独立のレーザー光束
を放射できるようになっている。
装置の１例を要部のみ略示している。符号１で示すＬＤ
アレイは、図１（ｂ）に示す如く接合面に沿って、互い
に距離：Ｌだけ離れた２つのレーザー発光部１ａ，１ｂ
を有し、これらレーザー発光部から独立のレーザー光束
を放射できるようになっている。
【００１６】図１（ａ）に示すように、ＬＤアレイ１
は、レーザー発光部１ａ，１ｂの中央部をコリメートレ
ンズ２の光軸に合致させて設けられ、図１（ｂ）に示す
主走査対応方向に対する傾き角：θを調節できるよう
に、コリメートレンズ２の光軸の回りに回転調整可能と
なっている。図１（ａ），（ｂ）において、「主」とあ
るのは主走査対応方向を、また「副」とあるのは副走査
対応方向を示す。
は、レーザー発光部１ａ，１ｂの中央部をコリメートレ
ンズ２の光軸に合致させて設けられ、図１（ｂ）に示す
主走査対応方向に対する傾き角：θを調節できるよう
に、コリメートレンズ２の光軸の回りに回転調整可能と
なっている。図１（ａ），（ｂ）において、「主」とあ
るのは主走査対応方向を、また「副」とあるのは副走査
対応方向を示す。
【００１７】ＬＤアレイ１のレーザー発光部１ａ，１ｂ
から放射された各光束はコリメートレンズ２によりコリ
メートされ、それぞれが実質的な平行光束となるが、レ
ーザー発光部１ａ，１ｂはコリメートレンズ２の光軸上
にないので、コリメートされた各光束はコリメートレン
ズ２の光軸に対して傾きを持つ。
から放射された各光束はコリメートレンズ２によりコリ
メートされ、それぞれが実質的な平行光束となるが、レ
ーザー発光部１ａ，１ｂはコリメートレンズ２の光軸上
にないので、コリメートされた各光束はコリメートレン
ズ２の光軸に対して傾きを持つ。
【００１８】コリメートされた２光束はアパーチャ３に
より光束径を規制され、ビーム圧縮光学系４に入射す
る。この実施例において、ビーム圧縮光学系４は２つの
プリズム４ａ，４ｂを組み合わせてなり、図１（ｄ）に
説明図として示すように、透過する平行光束は副走査対
応方向（図１（ｄ）の上下方向）にのみ光束幅を圧縮さ
れる。このときビーム圧縮光学系４から射出する光束は
入射位置に対し、副走査対応方向へ距離：ｌだけずれ
る。図１（ｄ）は説明図であるので、図１（ａ）におけ
るプリズムの配置態様と異なっている。
より光束径を規制され、ビーム圧縮光学系４に入射す
る。この実施例において、ビーム圧縮光学系４は２つの
プリズム４ａ，４ｂを組み合わせてなり、図１（ｄ）に
説明図として示すように、透過する平行光束は副走査対
応方向（図１（ｄ）の上下方向）にのみ光束幅を圧縮さ
れる。このときビーム圧縮光学系４から射出する光束は
入射位置に対し、副走査対応方向へ距離：ｌだけずれ
る。図１（ｄ）は説明図であるので、図１（ａ）におけ
るプリズムの配置態様と異なっている。
【００１９】図１（ａ）において、ビーム圧縮光学系４
から射出した２光束はシリンダレンズ５に入射し、副走
査対応方向にのみ収束され、「偏向装置」である回転多
面鏡６の偏向反射面６ａの近傍の位置に「主走査対応方
向に長い２つの線像（図示されず）」として結像する。
から射出した２光束はシリンダレンズ５に入射し、副走
査対応方向にのみ収束され、「偏向装置」である回転多
面鏡６の偏向反射面６ａの近傍の位置に「主走査対応方
向に長い２つの線像（図示されず）」として結像する。
【００２０】偏向反射面６ａにより反射された２光束
は、回転多面鏡６の矢印方向への回転に従い偏向しつつ
「結像光学系」であるｆθレンズ７に入射し、同レンズ
７の結像作用により被走査面上に２つの光スポットとし
て集光する。図１（ａ）において符号８で示す光導電性
の感光体は、上記光スポットの走査ラインＬ（実際には
光スポット数：２に対応して２本あるが、簡単化して１
本で示している）に母線を合致させて配備されている。
上記走査ラインＬを含み、副走査方向に平行な仮想平面
が被走査面であり、感光体８の周面は、走査ラインＬの
近傍で被走査面と合致している。
は、回転多面鏡６の矢印方向への回転に従い偏向しつつ
「結像光学系」であるｆθレンズ７に入射し、同レンズ
７の結像作用により被走査面上に２つの光スポットとし
て集光する。図１（ａ）において符号８で示す光導電性
の感光体は、上記光スポットの走査ラインＬ（実際には
光スポット数：２に対応して２本あるが、簡単化して１
本で示している）に母線を合致させて配備されている。
上記走査ラインＬを含み、副走査方向に平行な仮想平面
が被走査面であり、感光体８の周面は、走査ラインＬの
近傍で被走査面と合致している。
【００２１】ｆθレンズ７は、回転多面鏡６における偏
向反射面６ａの位置と被走査面位置とを副走査対応方向
に関して「幾何光学的に略共役」な関係としているの
で、回転多面鏡６に所謂「面倒れ」があっても、光走査
への影響は除去される。
向反射面６ａの位置と被走査面位置とを副走査対応方向
に関して「幾何光学的に略共役」な関係としているの
で、回転多面鏡６に所謂「面倒れ」があっても、光走査
への影響は除去される。
【００２２】図１（ｃ）は被走査面上に集光した２つの
光スポットＳＰ1，ＳＰ2を示している。光スポットＳＰ
1，ＳＰ2はそれぞれレーザー発光部１ａ，１ｂからの光
束を集光させたものである。図１（ｂ）に示すように、
ＬＤアレイ１の接合面（レーザー発光部１ａ，１ｂの配
列方向）が主走査対応方向に対して傾いていることに対
応して、光スポットＳＰ1，ＳＰ2は主・副走査方向にお
いて、それぞれ距離：ＰM，ＰSだけずれている。
光スポットＳＰ1，ＳＰ2を示している。光スポットＳＰ
1，ＳＰ2はそれぞれレーザー発光部１ａ，１ｂからの光
束を集光させたものである。図１（ｂ）に示すように、
ＬＤアレイ１の接合面（レーザー発光部１ａ，１ｂの配
列方向）が主走査対応方向に対して傾いていることに対
応して、光スポットＳＰ1，ＳＰ2は主・副走査方向にお
いて、それぞれ距離：ＰM，ＰSだけずれている。
【００２３】距離：ＰSは光スポットＳＰ1，ＳＰ2によ
る走査ラインのピッチを与える。ｆθレンズ７の副走査
対応方向に関する上記共役関係の横倍率を「βS」とす
ると、上記偏向反射面近傍に副走査対応方向にのみ結像
した２つの線像の間隔：ＰPSは、次式（１）で与えられ
る。 ＰPS＝ＰS／βS （１）
。
る走査ラインのピッチを与える。ｆθレンズ７の副走査
対応方向に関する上記共役関係の横倍率を「βS」とす
ると、上記偏向反射面近傍に副走査対応方向にのみ結像
した２つの線像の間隔：ＰPSは、次式（１）で与えられ
る。 ＰPS＝ＰS／βS （１）
。
【００２４】また、上記線像の副走査対応方向の径を
「２ωPS」とし、光スポットＳＰ1，ＳＰ2の副走査方向
のスポット径を「２ωS」とすると、これらの径の間に
は次式（２）が成り立つ。 ωPS＝ωS／βS （２）
。
「２ωPS」とし、光スポットＳＰ1，ＳＰ2の副走査方向
のスポット径を「２ωS」とすると、これらの径の間に
は次式（２）が成り立つ。 ωPS＝ωS／βS （２）
。
【００２５】さらに、シリンダレンズ５の副走査対応方
向の焦点距離を「ｆcy」とすると、次の式（３），
（４）が成り立つ。
向の焦点距離を「ｆcy」とすると、次の式（３），
（４）が成り立つ。
【００２６】 ｔａｎθOUTS＝ＰPS／ｆcy＝ＰS／（βS・ｆcy） （３） ωOUTS＝λ・ｆcy／（π・ωPS）＝λ・ｆcy・βS／（π・ωS） （４） ここに、「θOUTS」は、ビーム圧縮光学系４から射出す
る２光束が副走査対応方向において互いに成す角、「２
ωOUTS」は、ビーム圧縮光学系４から射出する２光束の
それぞれにおける副走査対応方向における光束径、
「λ」はＬＤアレイ１から放射される２光束の波長を表
している。
る２光束が副走査対応方向において互いに成す角、「２
ωOUTS」は、ビーム圧縮光学系４から射出する２光束の
それぞれにおける副走査対応方向における光束径、
「λ」はＬＤアレイ１から放射される２光束の波長を表
している。
【００２７】ビーム圧縮光学系４における、副走査対応
方向におけるビーム圧縮比を「１／α」とし、アパーチ
ャ３における副走査対応方向における開口径を「ωAS」
とすると、これらと上記ωSとの間に以下の式（５）が
成り立つ。 ωAS＝α・ωOUTS＝λ・ｆcy・βS・α／（π・ωS） （５） 。 従って、アパーチャ３における副走査対応方向における
開口径：ωASを調整することにより、光スポットＳ
Ｐ1，ＳＰ2の副走査方向のスポット径：２ωSを調整す
ることができる。
方向におけるビーム圧縮比を「１／α」とし、アパーチ
ャ３における副走査対応方向における開口径を「ωAS」
とすると、これらと上記ωSとの間に以下の式（５）が
成り立つ。 ωAS＝α・ωOUTS＝λ・ｆcy・βS・α／（π・ωS） （５） 。 従って、アパーチャ３における副走査対応方向における
開口径：ωASを調整することにより、光スポットＳ
Ｐ1，ＳＰ2の副走査方向のスポット径：２ωSを調整す
ることができる。
【００２８】また、ビーム圧縮光学系に入射する２光束
が副走査対応方向においてなす角：θINSは、次の式
（６）により与えられる。 ｔａｎθINS＝（１／α）・ｔａｎθOUTS ＝ＰS／（α・βS・ｆcy） （６） 。
が副走査対応方向においてなす角：θINSは、次の式
（６）により与えられる。 ｔａｎθINS＝（１／α）・ｔａｎθOUTS ＝ＰS／（α・βS・ｆcy） （６） 。
【００２９】上記角：θINSは、コリメートレンズ２か
らコリメートされて射出する２光束が互いに成す角に等
しい。従って、コリメートレンズ２の焦点距離をｆCと
すれば、ＬＤアレイ１における２つのレーザー発光部１
ａ，１ｂの副走査対応方向における隔たり：ＰLSは、式
（７）で与えられる。
らコリメートされて射出する２光束が互いに成す角に等
しい。従って、コリメートレンズ２の焦点距離をｆCと
すれば、ＬＤアレイ１における２つのレーザー発光部１
ａ，１ｂの副走査対応方向における隔たり：ＰLSは、式
（７）で与えられる。
【００３０】 ＰLS＝ｆC・ｔａｎθINS＝ＰS・ｆC／（α・βS・ｆcy） （７） 隔たり：ＰLSはまた、前述のレーザー発光部１ａ，１ｂ
の間隔：Ｌと傾き角：θを用いて、ＰLS＝Ｌ・ｓｉｎθ
と表すことができる（図１（ｂ）参照）。通常は「θ」
は数度程度の小さい角である。結局、被走査面上に於け
る光スポットＳＰ1，ＳＰ2による走査ラインのピッチ：
ＰSと、レーザー発光部１ａ，１ｂの副走査対応方向に
おける隔たり：ＰLSとは、式（７）が示すように、ｆC
／（α・βS・ｆcy）を比例定数とする比例関係があ
り、ＬＤアレイ１をコリメートレンズ２の光軸の回りに
回転させて前記傾き角：θを変化させることで隔たり：
ＰLSを変化させることにより、走査ラインのピッチを調
整することができる。
の間隔：Ｌと傾き角：θを用いて、ＰLS＝Ｌ・ｓｉｎθ
と表すことができる（図１（ｂ）参照）。通常は「θ」
は数度程度の小さい角である。結局、被走査面上に於け
る光スポットＳＰ1，ＳＰ2による走査ラインのピッチ：
ＰSと、レーザー発光部１ａ，１ｂの副走査対応方向に
おける隔たり：ＰLSとは、式（７）が示すように、ｆC
／（α・βS・ｆcy）を比例定数とする比例関係があ
り、ＬＤアレイ１をコリメートレンズ２の光軸の回りに
回転させて前記傾き角：θを変化させることで隔たり：
ＰLSを変化させることにより、走査ラインのピッチを調
整することができる。
【００３１】上記のように、光スポットの副走査方向の
スポット径：２ωSは、アパーチャ３における副走査対
応方向の開口径：ωASを調整することにより調整するこ
とができるが、上記スポット径：２ωSは、アパーチャ
３の上記開口径：ωASによる調整以外の方法でも調整す
ることができる。
スポット径：２ωSは、アパーチャ３における副走査対
応方向の開口径：ωASを調整することにより調整するこ
とができるが、上記スポット径：２ωSは、アパーチャ
３の上記開口径：ωASによる調整以外の方法でも調整す
ることができる。
【００３２】なお、図１（ｃ）の、光スポットＳＰ1，
ＳＰ2の主走査方向の間隔：ＰMは、ＬＤアレイ１におけ
るレーザー発光部１ａ，１ｂの主走査対応方向における
間隔：Ｌ・ｃｏｓθを「ＰLM」として、コリメートレン
ズ２の焦点距離：ｆCと、ｆθレンズ７の主走査対応方
向の焦点距離：ｆMを用いて、 ＰM＝ＰLM・ｆM／ｆC （８） と表すことができる。
ＳＰ2の主走査方向の間隔：ＰMは、ＬＤアレイ１におけ
るレーザー発光部１ａ，１ｂの主走査対応方向における
間隔：Ｌ・ｃｏｓθを「ＰLM」として、コリメートレン
ズ２の焦点距離：ｆCと、ｆθレンズ７の主走査対応方
向の焦点距離：ｆMを用いて、 ＰM＝ＰLM・ｆM／ｆC （８） と表すことができる。
【００３３】以上、図１（ａ）〜（ｄ）を参照して、Ｌ
Ｄアレイ１のレーザー発光部が２つである場合につき説
明を行ったが、上述の説明はＬＤアレイのレーザー発光
部が３以上の場合にも容易に一般化できる。
Ｄアレイ１のレーザー発光部が２つである場合につき説
明を行ったが、上述の説明はＬＤアレイのレーザー発光
部が３以上の場合にも容易に一般化できる。
【００３４】上の説明に於いては、ビーム圧縮光学系と
して、プリズム２個を組み合わせたものを説明したが、
ビーム圧縮光学系は、これに限らず、単一のプリズムで
構成することも可能である。単一のプリズムでビーム圧
縮光学系を構成する場合は、ビーム圧縮の前後で光束が
副走査対応方向において平行に成らないので、両光束の
角度を前提として光学配置を設定する必要がある。
して、プリズム２個を組み合わせたものを説明したが、
ビーム圧縮光学系は、これに限らず、単一のプリズムで
構成することも可能である。単一のプリズムでビーム圧
縮光学系を構成する場合は、ビーム圧縮の前後で光束が
副走査対応方向において平行に成らないので、両光束の
角度を前提として光学配置を設定する必要がある。
【００３５】ここで、結像光学系としてのｆθレンズ７
の具体例を挙げておく。この具体例ではｆθレンズは、
回転多面鏡６の側から被走査面側へ向かって、第１〜第
３レンズを配備してなり、第１，第２レンズは球面レン
ズ、第３レンズは回転多面鏡６側の面が「樽型面」、被
走査面側の面がトーリック面であるアナモフィックなレ
ンズである。回転多面鏡６の側から数えて、第ｉ番目の
レンズ面の曲率半径を主走査対応方向に就いてｒiM、副
走査対応方向に就いてｒiS（ｉ＝１〜６）、第ｉ番目と
第ｉ＋１番目のレンズ面の光軸上の面間隔をｄi（ｉ＝
１〜５）、第ｊレンズの材質の屈折率をｎjで表す。
の具体例を挙げておく。この具体例ではｆθレンズは、
回転多面鏡６の側から被走査面側へ向かって、第１〜第
３レンズを配備してなり、第１，第２レンズは球面レン
ズ、第３レンズは回転多面鏡６側の面が「樽型面」、被
走査面側の面がトーリック面であるアナモフィックなレ
ンズである。回転多面鏡６の側から数えて、第ｉ番目の
レンズ面の曲率半径を主走査対応方向に就いてｒiM、副
走査対応方向に就いてｒiS（ｉ＝１〜６）、第ｉ番目と
第ｉ＋１番目のレンズ面の光軸上の面間隔をｄi（ｉ＝
１〜５）、第ｊレンズの材質の屈折率をｎjで表す。
【００３６】長さに関する数値は、主走査対応方向の焦
点距離：ｆM＝１００として規格化した値である。
点距離：ｆM＝１００として規格化した値である。
【００３７】 ｉ ｒiM ｒiS ｄi ｊ ｎj １ −６４．２７５ −６４．２７５ ９．５４９ １ １．５７２２１ ２ −５４．９０７ −５４．９０７ ０．８７９ ３ ∞ ∞ １２．００９ ２ １．５７２２１ ４ −７４．３５４ −７５．３５４ ５３．７７９ ５ −４１０．０７６ −２０．７９７ １．７５７ ３ １．５７２２１ ６ −４１０．０７６ −１０．３１５ 回転多面鏡６の偏向反射面と第１レンズの回転多面鏡側
レンズ面までの光軸上の距離は２１．０３１である。こ
のとき、前述した副走査対応方向の共役関係における横
倍率：βS＝−０．６８となる。
レンズ面までの光軸上の距離は２１．０３１である。こ
のとき、前述した副走査対応方向の共役関係における横
倍率：βS＝−０．６８となる。
【００３８】ビーム圧縮光学系のビーム圧縮比：１／α
＝１／３．５、シリンダレンズ５の書店距離ｆcy＝５
５、コリメートレンズ２の焦点距離：ｆC＝４．７
（Ｎ．Ａ＝０．２５）、ＬＤアレイ１におけるレーザー
発光部１ａ，１ｂの間隔：Ｌ＝０．０５とし、被走査面
上における、走査ラインのピッチ：ＰS＝０．０６３５
（４００ｄｐｉ相当）とすると、ＬＤアレイ１における
レーザー発光部１ａ，１ｂの副走査対応方向における隔
たり：ＰLSを式（７）により計算すると、ＰLS≒０．０
０２となり、前記傾き角：θは約２．３度となる。即
ち、ＬＤアレイ１における接合面の方向と主走査対応方
向とのなす角は極めて小さい。
＝１／３．５、シリンダレンズ５の書店距離ｆcy＝５
５、コリメートレンズ２の焦点距離：ｆC＝４．７
（Ｎ．Ａ＝０．２５）、ＬＤアレイ１におけるレーザー
発光部１ａ，１ｂの間隔：Ｌ＝０．０５とし、被走査面
上における、走査ラインのピッチ：ＰS＝０．０６３５
（４００ｄｐｉ相当）とすると、ＬＤアレイ１における
レーザー発光部１ａ，１ｂの副走査対応方向における隔
たり：ＰLSを式（７）により計算すると、ＰLS≒０．０
０２となり、前記傾き角：θは約２．３度となる。即
ち、ＬＤアレイ１における接合面の方向と主走査対応方
向とのなす角は極めて小さい。
【００３９】レーザー発光部１ａ，１ｂから放射される
レーザー光束は、接合面に平行な方向に直線偏光してい
るから、光源装置から放射された光束の偏光方向は主走
査対応方向と殆ど変わらない。
レーザー光束は、接合面に平行な方向に直線偏光してい
るから、光源装置から放射された光束の偏光方向は主走
査対応方向と殆ど変わらない。
【００４０】図１（ｄ）を参照すると、ビーム圧縮光学
系を成すプリズム４ａ，４ｂにおける入射側のプリズム
面は入射光束に対して略直交するから、入射する光束の
偏光方向は問題とならないが、プリズム面４ａＳ，４ｂ
Ｓ面に入射する光束は、実質的なＳ偏光である（光源装
置からの光束の偏光方向が、殆ど主走査対応方向に向い
ているため）。
系を成すプリズム４ａ，４ｂにおける入射側のプリズム
面は入射光束に対して略直交するから、入射する光束の
偏光方向は問題とならないが、プリズム面４ａＳ，４ｂ
Ｓ面に入射する光束は、実質的なＳ偏光である（光源装
置からの光束の偏光方向が、殆ど主走査対応方向に向い
ているため）。
【００４１】プリズム面４ａＳ，４ｂＳは、Ｐ偏光成分
の透過率を最大とするように、ブリュースター角：ψ
（プリズムの屈折率をｎとして、ｔａｎψ＝ｎを満足す
る角として定義される）に設定され、反射防止膜は施さ
れないのが普通である。上記ブリュースター角：ψは、
プリズム４ａ，４ｂの屈折率をｎP＝１．７６６０５と
すると、ψ≒６０．５度となる。
の透過率を最大とするように、ブリュースター角：ψ
（プリズムの屈折率をｎとして、ｔａｎψ＝ｎを満足す
る角として定義される）に設定され、反射防止膜は施さ
れないのが普通である。上記ブリュースター角：ψは、
プリズム４ａ，４ｂの屈折率をｎP＝１．７６６０５と
すると、ψ≒６０．５度となる。
【００４２】このような状態では、プリズム４ａ，４ｂ
の透過率：ＴSは共に、ＴS＝０．６８となり、２つのプ
リズム４ａ，４ｂによる透過率は、ＴS 2＝０．４６とな
り、ビーム圧縮光学系４を用いることにより実に５０％
以上の光量ロスが生じる。このロスを放置しておくと、
高速の書込みを意図する場合「各光スポットの光強度の
確保」が困難になる。
の透過率：ＴSは共に、ＴS＝０．６８となり、２つのプ
リズム４ａ，４ｂによる透過率は、ＴS 2＝０．４６とな
り、ビーム圧縮光学系４を用いることにより実に５０％
以上の光量ロスが生じる。このロスを放置しておくと、
高速の書込みを意図する場合「各光スポットの光強度の
確保」が困難になる。
【００４３】実施例１（請求項１記載の発明の実施例） 請求項１記載の発明を図１（ａ）に示す光走査装置に適
用する。ビーム圧縮光学系４のプリズム４ａ，４ｂの、
光路上にある全てのプリズム面、即ち、入射面のみなら
ずプリズム面４ａＳ，４ｂＳにも反射防止コートを施す
のである。
用する。ビーム圧縮光学系４のプリズム４ａ，４ｂの、
光路上にある全てのプリズム面、即ち、入射面のみなら
ずプリズム面４ａＳ，４ｂＳにも反射防止コートを施す
のである。
【００４４】反射防止コートとしてＭｇＦ2の単層コー
トを施したところ、プリズム４ａ，４ｂの透過率：ＴSC
＝０．８６となり、ビーム圧縮光学系４全体としての透
過率は０．７４（＝ＴSC 2）となり、プリズム面４ａ
Ｓ，４ｂＳに反射防止コートを形成しない場合に比し
て、透過光量を１．６倍に向上させることができた。
トを施したところ、プリズム４ａ，４ｂの透過率：ＴSC
＝０．８６となり、ビーム圧縮光学系４全体としての透
過率は０．７４（＝ＴSC 2）となり、プリズム面４ａ
Ｓ，４ｂＳに反射防止コートを形成しない場合に比し
て、透過光量を１．６倍に向上させることができた。
【００４５】なお、プリズム面４ａＳ，４ｂＳに反射防
止コートを施さない場合、これら各プリズム面における
透過率：Ｔは、ブリュースター角：ψを用いて Ｔ＝１−ｓｉｎ2｛２ψ−（π／２）｝ で与えられる。
止コートを施さない場合、これら各プリズム面における
透過率：Ｔは、ブリュースター角：ψを用いて Ｔ＝１−ｓｉｎ2｛２ψ−（π／２）｝ で与えられる。
【００４６】実施例２（請求項２記載の発明の実施例） 前述のように、プリズム４ａ，４ｂにおける入射側のプ
リズム面には反射防止膜が形成されるのが普通である
が、入射角がブリュースター角となるプリズム面４ａ
Ｓ，４ｂＳには反射防止膜が形成されないのが普通であ
る。これは上述したようにＰ偏光成分が透過率最大とな
るためである。
リズム面には反射防止膜が形成されるのが普通である
が、入射角がブリュースター角となるプリズム面４ａ
Ｓ，４ｂＳには反射防止膜が形成されないのが普通であ
る。これは上述したようにＰ偏光成分が透過率最大とな
るためである。
【００４７】しかるに、図１（ａ）の光走査装置では、
ビーム圧縮光学系４に入射する光束の偏光方向が実質的
に主走査対応方向となるため、プリズム面４ａＳ，４ｂ
Ｓに入射する光束の偏光成分は実質的なＳ偏光成分であ
り、上述のように透過率が著しく低下してしまう。
ビーム圧縮光学系４に入射する光束の偏光方向が実質的
に主走査対応方向となるため、プリズム面４ａＳ，４ｂ
Ｓに入射する光束の偏光成分は実質的なＳ偏光成分であ
り、上述のように透過率が著しく低下してしまう。
【００４８】請求項２記載の発明では、ビーム圧縮光学
系の４の光源側に１／２波長板を配備する。このように
すると、光源装置から放射された光束の偏光方向が１／
２波長板を透過することにより９０度旋回するため、プ
リズム面４ａＳ，４ｂＳに対する入射光束は実質的なＰ
偏光成分となり、プリズム面４ａＳ，４ｂＳにおける透
過率が大きくなる。
系の４の光源側に１／２波長板を配備する。このように
すると、光源装置から放射された光束の偏光方向が１／
２波長板を透過することにより９０度旋回するため、プ
リズム面４ａＳ，４ｂＳに対する入射光束は実質的なＰ
偏光成分となり、プリズム面４ａＳ，４ｂＳにおける透
過率が大きくなる。
【００４９】この場合、プリズム４ａ，４ｂの透過率：
ＴP＝０．９１であり、１／２波長板の透過率：ＴWL＝
０．９８を用いると、１／２波長板とビーム圧縮光学系
との系における透過率は、０．８１（＝ＴP 2・ＴWL）と
なり、１／２波長板を用いない場合に比して透過光量を
１．７６倍に向上させることができた。
ＴP＝０．９１であり、１／２波長板の透過率：ＴWL＝
０．９８を用いると、１／２波長板とビーム圧縮光学系
との系における透過率は、０．８１（＝ＴP 2・ＴWL）と
なり、１／２波長板を用いない場合に比して透過光量を
１．７６倍に向上させることができた。
【００５０】実施例３（請求項３記載の発明の実施例） 請求項３記載の発明では、ビーム圧縮光学系を構成する
プリズムの光路上にある全てのプリズム面に反射防止コ
ートが施され（請求項１）、かつ、ビーム圧縮光学系の
光源側に１／４波長板が配備される。１／４波長板を透
過することにより、光束は円偏光状態となり、反射特性
の偏光成分による影響を受けなくなる。
プリズムの光路上にある全てのプリズム面に反射防止コ
ートが施され（請求項１）、かつ、ビーム圧縮光学系の
光源側に１／４波長板が配備される。１／４波長板を透
過することにより、光束は円偏光状態となり、反射特性
の偏光成分による影響を受けなくなる。
【００５１】上記実施例１の装置においてビーム圧縮光
学系の光源側に１／４波長板を配備した。このとき、プ
リズム４ａ，４ｂのそれぞれの透過率：Ｔ＝０．８８、
１／４波長板の透過率：Ｔ4H＝０．９８で、１／４波長
板とビーム圧縮光学系との系における透過率は０．７５
となり、反射防止コートも１／４波長板も用いない場合
に比して１．６３倍とすることができた。
学系の光源側に１／４波長板を配備した。このとき、プ
リズム４ａ，４ｂのそれぞれの透過率：Ｔ＝０．８８、
１／４波長板の透過率：Ｔ4H＝０．９８で、１／４波長
板とビーム圧縮光学系との系における透過率は０．７５
となり、反射防止コートも１／４波長板も用いない場合
に比して１．６３倍とすることができた。
【００５２】なお、実施例２，３における１／２波長板
および１／４波長板は両面に反射防止コートを施されて
いる。
および１／４波長板は両面に反射防止コートを施されて
いる。
【００５３】上記実施例１，２の場合、ビーム圧縮光学
系以後も光束は直線偏光状態でありシリンダレンズを介
して回転多面鏡に入射し、偏向反射面により反射され
る。このとき、回転多面鏡に入射する光束が直線偏光の
ままであるため、偏向反射面の回転に伴う入射角の変化
に応じた反射率の変化が偏光状態により異なり、被走査
面上の光スポットの光強度が光スポットの像高により変
化して、所謂「シェーディング」の原因となる。しかる
に、実施例３のように１／４波長板により偏光状態を円
偏光状態とすると偏光状態による反射率の変化が平均化
され、シェーディングが改良される。
系以後も光束は直線偏光状態でありシリンダレンズを介
して回転多面鏡に入射し、偏向反射面により反射され
る。このとき、回転多面鏡に入射する光束が直線偏光の
ままであるため、偏向反射面の回転に伴う入射角の変化
に応じた反射率の変化が偏光状態により異なり、被走査
面上の光スポットの光強度が光スポットの像高により変
化して、所謂「シェーディング」の原因となる。しかる
に、実施例３のように１／４波長板により偏光状態を円
偏光状態とすると偏光状態による反射率の変化が平均化
され、シェーディングが改良される。
【００５４】図２は、上記実施例１，２，３のそれぞれ
におけるシェーディング特性（光スポットの最大光量を
基準値：０としたときの、偏向角（像高に対応）による
光量変化（減少量としてマイナス量（％）で示す）を示
している。グラフ線２−１，２−２，２−３がそれぞれ
実施例１，２，３に対応している。１／４波長板を用い
た実施例３において、シェーディングが顕著に改良され
ていることが分かる。なお、用いた回転多面鏡はアルミ
ニウム製である。
におけるシェーディング特性（光スポットの最大光量を
基準値：０としたときの、偏向角（像高に対応）による
光量変化（減少量としてマイナス量（％）で示す）を示
している。グラフ線２−１，２−２，２−３がそれぞれ
実施例１，２，３に対応している。１／４波長板を用い
た実施例３において、シェーディングが顕著に改良され
ていることが分かる。なお、用いた回転多面鏡はアルミ
ニウム製である。
【００５５】請求項２記載の発明における１／２波長板
や、請求項３記載の発明における１／４波長板の配備位
置は、原理的にはビーム圧縮光学系の光源側、即ち、光
源装置におけるコリメートレンズとビーム圧縮光学系と
の間に適宜の位置でよいが、請求項４記載の発明のよう
に、これら「波長板」を、ビーム圧縮光学系を構成する
プリズムと一体化してもよいし、請求項５記載の発明の
ように、「波長板」をアパーチャと一体化してもよいの
である。また請求項６記載の発明のように、１／２波長
板もしくは１／４波長板に、光透過部を除いて「マスキ
ング処理」を施すことにより、１／２波長板もしくは１
／４波長板がアパーチャを兼ねるようにすることができ
る。
や、請求項３記載の発明における１／４波長板の配備位
置は、原理的にはビーム圧縮光学系の光源側、即ち、光
源装置におけるコリメートレンズとビーム圧縮光学系と
の間に適宜の位置でよいが、請求項４記載の発明のよう
に、これら「波長板」を、ビーム圧縮光学系を構成する
プリズムと一体化してもよいし、請求項５記載の発明の
ように、「波長板」をアパーチャと一体化してもよいの
である。また請求項６記載の発明のように、１／２波長
板もしくは１／４波長板に、光透過部を除いて「マスキ
ング処理」を施すことにより、１／２波長板もしくは１
／４波長板がアパーチャを兼ねるようにすることができ
る。
【００５６】図３は請求項４記載の発明の１実施例でを
特徴部分のみ示している。符号１０で示す光学系ハウジ
ングは開口窓を有する壁状部１０Ａを有する。この壁状
部１０Ａにアパーチャ３を密接させ、光硬化性等樹脂等
の接着剤１２を塗布し、波長板（１／２波長板もしくは
１／４波長板）１５を押し当て、全体を板バネ２０で固
定して接着一体化している。同様の機構を利用して、波
長板をビーム圧縮光学系のプリズム（最も光源側のプリ
ズム）に一体化することもできる。
特徴部分のみ示している。符号１０で示す光学系ハウジ
ングは開口窓を有する壁状部１０Ａを有する。この壁状
部１０Ａにアパーチャ３を密接させ、光硬化性等樹脂等
の接着剤１２を塗布し、波長板（１／２波長板もしくは
１／４波長板）１５を押し当て、全体を板バネ２０で固
定して接着一体化している。同様の機構を利用して、波
長板をビーム圧縮光学系のプリズム（最も光源側のプリ
ズム）に一体化することもできる。
【００５７】図４は請求項６記載の発明の１実施例を特
徴部分のみ示している。即ち、波長板（１／２波長板も
しくは１／４波長板）１５は、その光透過部１５Ａを除
いた部分がフォトエッチング等のマスキング処理により
遮光部１５Ｂとなっており、アパーチャを兼ねている。
徴部分のみ示している。即ち、波長板（１／２波長板も
しくは１／４波長板）１５は、その光透過部１５Ａを除
いた部分がフォトエッチング等のマスキング処理により
遮光部１５Ｂとなっており、アパーチャを兼ねている。
【００５８】
【発明の効果】以上に説明したように、この発明によれ
ば新規な光走査装置を提供できる。この光走査装置は上
記の如き構成となっているから、ＬＤアレイを光源と
し、被走査面上における各光スポットのスポット形状を
安定化でき、走査ライン間のピッチを調整でき、また光
源装置からの光束をビーム圧縮光学系で副走査対応方向
にのみ圧縮するので光源から偏向装置の偏向反射面まで
の光路を短く構成できる。また、ビーム圧縮光学系にお
ける透過光量の減少を、反射防止膜や波長板により有効
に軽減出来るので各光スポットの光強度を確保できる。
さらに請求項４，５記載の発明のように、波長板をビー
ム圧縮光学系やアパーチャと一体化することにより、光
学系のスペースを節約出来、請求項６記載の発明のよう
に波長板にアパーチャを兼ねさせることにより部品点数
の増加を抑え、光学系のスペースを節約できる。また、
請求項３の発明ではシェーディング特性も良好である。
ば新規な光走査装置を提供できる。この光走査装置は上
記の如き構成となっているから、ＬＤアレイを光源と
し、被走査面上における各光スポットのスポット形状を
安定化でき、走査ライン間のピッチを調整でき、また光
源装置からの光束をビーム圧縮光学系で副走査対応方向
にのみ圧縮するので光源から偏向装置の偏向反射面まで
の光路を短く構成できる。また、ビーム圧縮光学系にお
ける透過光量の減少を、反射防止膜や波長板により有効
に軽減出来るので各光スポットの光強度を確保できる。
さらに請求項４，５記載の発明のように、波長板をビー
ム圧縮光学系やアパーチャと一体化することにより、光
学系のスペースを節約出来、請求項６記載の発明のよう
に波長板にアパーチャを兼ねさせることにより部品点数
の増加を抑え、光学系のスペースを節約できる。また、
請求項３の発明ではシェーディング特性も良好である。
【図１】この発明を適用可能な光走査装置の１例を説明
する図である。
する図である。
【図２】各実施例によるシェーディングの様子を示す図
である。
である。
【図３】請求項３記載の発明の１実施例の特徴部分を説
明するための図である。
明するための図である。
【図４】請求項６記載の発明の１実施例の特徴部分を説
明するための図である。
明するための図である。
１ ＬＤアレイ ２ コリメートレンズ ３ アパーチュア ４ ビーム圧縮光学系 ５ シリンダレンズ ６ 偏向装置 ７ 結像光学系
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平１−163718（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−82906（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−37311（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−42025（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−48016（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−42248（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−161911（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−80265（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−148547（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02B 26/10
Claims (6)
- 【請求項１】ＬＤアレイと、このＬＤアレイから射出す
る複数の光束をコリメートするコリメートレンズとを有
する光源装置と、 この光源装置から放射されるコリメートされた光束の光
束幅を規制するアパーチャと、 １以上のプリズムにより構成され、上記アパーチャを通
過した光束を副走査対応方向にのみ圧縮するビーム圧縮
光学系と、 このビーム圧縮光学系からの光束を副走査対応方向にの
み結像させるシリンダレンズと、 このシリンダレンズによる副走査対応方向の結像位置の
近傍に偏向反射面を持ち、シリンダレンズからの光束を
偏向させる偏向装置と、 この偏向装置の偏向反射面位置と被走査面位置とを、副
走査対応方向に関して幾何光学的に略共役な関係とし、
偏向装置により偏向された光束を被走査面上に複数の光
スポットとして集光する結像光学系とを有し、 上記ＬＤアレイは、上記複数の光スポットによる複数走
査ラインのピッチに応じて、レーザー発光部の配列方向
の主走査対応方向に対する微小な傾き角を調整可能に配
備され、 上記ビーム圧縮光学系を構成する１以上のプリズムの各
射出面は、射出光束の入射角がブリュースター角に設定
され、且つ、上記１以上のプリズムの、光路上にある全
プリズム面に反射防止コートが施されていることを特徴
とする光走査装置。 - 【請求項２】ＬＤアレイと、このＬＤアレイから射出す
る複数の光束をコリメートするコリメートレンズとを有
する光源装置と、 この光源装置から放射されるコリメートされた光束の光
束幅を規制するアパーチャと、 １以上のプリズムにより構成され、上記アパーチャを通
過した光束を副走査対応方向にのみ圧縮するビーム圧縮
光学系と、 このビーム圧縮光学系からの光束を副走査対応方向にの
み結像させるシリンダレンズと、 このシリンダレンズによる副走査対応方向の結像位置の
近傍に偏向反射面を持ち、シリンダレンズからの光束を
偏向させる偏向装置と、 この偏向装置の偏向反射面位置と被走査面位置とを、副
走査対応方向に関して幾何光学的に略共役な関係とし、
偏向装置により偏向された光束を被走査面上に複数の光
スポットとして集光する結像光学系と、 上記ビーム圧縮光学系の光源側に配備された１／２波長
板とを有し、上記ビーム圧縮光学系を構成する１以上のプリズムの各
射出面は、射出光束の入射角がブリュースター角に設定
され、 上記ＬＤアレイは、上記複数の光スポットによる複数走
査ラインのピッチに応じて、レーザー発光部の配列方向
の主走査対応方向に対する微小な傾き角を調整可能に配
備されることを特徴とする光走査装置。 - 【請求項３】請求項１記載の光走査装置において、 ビーム圧縮光学系の光源側に、１／４波長板を配備した
ことを特徴とする光走査装置。 - 【請求項４】請求項２または３記載の光走査装置におい
て、 １／２波長板もしくは１／４波長板を、ビーム圧縮光学
系を構成するプリズムと一体化したことを特徴とする光
走査装置。 - 【請求項５】請求項２または３または４記載の光走査装
置において、 １／２波長板もしくは１／４波長板を、アパーチャと一
体化したことを特徴とする光走査装置。 - 【請求項６】請求項５記載の光走査装置において、 １／２波長板もしくは１／４波長板に、光透過部を除い
てマスキング処理が施こされ、１／２波長板もしくは１
／４波長板がアパーチャを兼ねることを特徴とする光走
査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22254593A JP3254312B2 (ja) | 1993-09-07 | 1993-09-07 | 光走査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22254593A JP3254312B2 (ja) | 1993-09-07 | 1993-09-07 | 光走査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0777663A JPH0777663A (ja) | 1995-03-20 |
| JP3254312B2 true JP3254312B2 (ja) | 2002-02-04 |
Family
ID=16784125
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22254593A Expired - Fee Related JP3254312B2 (ja) | 1993-09-07 | 1993-09-07 | 光走査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3254312B2 (ja) |
-
1993
- 1993-09-07 JP JP22254593A patent/JP3254312B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0777663A (ja) | 1995-03-20 |
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