JPH09127442A - マルチビーム走査光学装置 - Google Patents
マルチビーム走査光学装置Info
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- JPH09127442A JPH09127442A JP30501895A JP30501895A JPH09127442A JP H09127442 A JPH09127442 A JP H09127442A JP 30501895 A JP30501895 A JP 30501895A JP 30501895 A JP30501895 A JP 30501895A JP H09127442 A JPH09127442 A JP H09127442A
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- Japan
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- diffraction grating
- optical device
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 複数のレーザ光を１本の合成ビームに合成す
るビーム合成器の部品コストを低減する。 【解決手段】 第１、第２の半導体レーザ１，２から発
生されたレーザ光Ｌ1 ，Ｌ2 はそれぞれコリメータレン
ズ１ａ，２ａによって平行化され、ビーム合成器３によ
って１本の合成ビームＬ0 に合成されて回転多面鏡４の
反射面４ａに照射され、これによって走査され、結像光
学系６によって感光ドラム５に結像される。ビーム合成
器３には、第１の半導体レーザ１のレーザ光Ｌ1 の入射
角が０°、第２の半導体レーザのレーザ光Ｌ2 の入射角
がθになるように配設され、各レーザ光Ｌ1 ，Ｌ2 をそ
の出射角が等しくなるように回折する回折格子を用い
る。
るビーム合成器の部品コストを低減する。 【解決手段】 第１、第２の半導体レーザ１，２から発
生されたレーザ光Ｌ1 ，Ｌ2 はそれぞれコリメータレン
ズ１ａ，２ａによって平行化され、ビーム合成器３によ
って１本の合成ビームＬ0 に合成されて回転多面鏡４の
反射面４ａに照射され、これによって走査され、結像光
学系６によって感光ドラム５に結像される。ビーム合成
器３には、第１の半導体レーザ１のレーザ光Ｌ1 の入射
角が０°、第２の半導体レーザのレーザ光Ｌ2 の入射角
がθになるように配設され、各レーザ光Ｌ1 ，Ｌ2 をそ
の出射角が等しくなるように回折する回折格子を用い
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、マルチカラーデジ
タル複写機やマルチカラーレーザプリンタ等の画像形成
装置に用いられるマルチビーム走査光学装置に関するも
のである。
タル複写機やマルチカラーレーザプリンタ等の画像形成
装置に用いられるマルチビーム走査光学装置に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】マルチカラーデジタル複写機やマルチカ
ラーレーザプリンタ等の画像形成装置に用いられるマル
チビーム走査光学装置は一般的に、図３および図４に示
すように、互に異なる波長のレーザ光、例えば、それぞ
れ波長７８０ｎｍと波長６７０ｎｍのレーザ光Ｎ1 ，Ｎ
2 を発生する第１、第２の半導体レーザ１０１，１０２
と、前記レーザ光Ｎ1 ，Ｎ2 をそれぞれ平行化するコリ
メータレンズ１０１ａ，１０２ａと、平行化されたレー
ザ光Ｎ1 ，Ｎ2 を合成して１本の合成ビームＮ0を発生
させるビーム合成器１０３と、合成ビームＮ0 を回転多
面鏡１０４の反射面１０４ａに線状に集光するシリンド
リカルレンズ１０３ａと、回転多面鏡１０４によって偏
向走査された合成ビームＮ0 を感光ドラム１０５の表面
に結像させる結像光学系１０６を有し、感光ドラム１０
５と結像光学系１０６の間には、合成ビームＮ0 を波長
７８０ｎｍと波長６７０ｎｍの走査光Ｎ3 ，Ｎ4 に分離
するビーム分離器１０７が設けられており、ビーム分離
器１０７によって分離された走査光Ｎ3 ，Ｎ4 は、折り
返えしミラー１０８ａ〜１０８ｃを経て感光ドラム１０
５上のそれぞれの結像点１０５ａ，１０５ｂに到達す
る。すなわち、波長７８０ｎｍの第１の走査光Ｎ3 は、
ビーム分離器１０７を透過して第１、第２の折り返えし
ミラー１０８ａ，１０８ｂによって反射され、感光ドラ
ム１０５上の第１の結像点１０５ａに結像し、波長６７
０ｎｍの第２の走査光Ｎ4 は、ビーム分離器１０７によ
って反射され、第３の折り返えしミラー１０８ｃによっ
て感光ドラム１０５上の第２の結像点１０５ｂに結像す
る。
ラーレーザプリンタ等の画像形成装置に用いられるマル
チビーム走査光学装置は一般的に、図３および図４に示
すように、互に異なる波長のレーザ光、例えば、それぞ
れ波長７８０ｎｍと波長６７０ｎｍのレーザ光Ｎ1 ，Ｎ
2 を発生する第１、第２の半導体レーザ１０１，１０２
と、前記レーザ光Ｎ1 ，Ｎ2 をそれぞれ平行化するコリ
メータレンズ１０１ａ，１０２ａと、平行化されたレー
ザ光Ｎ1 ，Ｎ2 を合成して１本の合成ビームＮ0を発生
させるビーム合成器１０３と、合成ビームＮ0 を回転多
面鏡１０４の反射面１０４ａに線状に集光するシリンド
リカルレンズ１０３ａと、回転多面鏡１０４によって偏
向走査された合成ビームＮ0 を感光ドラム１０５の表面
に結像させる結像光学系１０６を有し、感光ドラム１０
５と結像光学系１０６の間には、合成ビームＮ0 を波長
７８０ｎｍと波長６７０ｎｍの走査光Ｎ3 ，Ｎ4 に分離
するビーム分離器１０７が設けられており、ビーム分離
器１０７によって分離された走査光Ｎ3 ，Ｎ4 は、折り
返えしミラー１０８ａ〜１０８ｃを経て感光ドラム１０
５上のそれぞれの結像点１０５ａ，１０５ｂに到達す
る。すなわち、波長７８０ｎｍの第１の走査光Ｎ3 は、
ビーム分離器１０７を透過して第１、第２の折り返えし
ミラー１０８ａ，１０８ｂによって反射され、感光ドラ
ム１０５上の第１の結像点１０５ａに結像し、波長６７
０ｎｍの第２の走査光Ｎ4 は、ビーム分離器１０７によ
って反射され、第３の折り返えしミラー１０８ｃによっ
て感光ドラム１０５上の第２の結像点１０５ｂに結像す
る。
【０００３】このようにして感光ドラム１０５上の第
１、第２の結像点１０５ａ，１０５ｂに到達した第１、
第２の走査光Ｎ3 ，Ｎ4 は、それぞれ回転多面鏡１０４
の回転による主走査と、感光ドラム１０５の回転による
副走査によって感光ドラム１０５上に静電潜像を形成す
る。結像光学系１０６は、球面レンズ１０６ａと、トー
リックレンズ１０６ｂを備えており、合成ビームＮ0 の
走査速度の不均一や点像の歪を補正するいわゆるｆθ機
能を有する。
１、第２の結像点１０５ａ，１０５ｂに到達した第１、
第２の走査光Ｎ3 ，Ｎ4 は、それぞれ回転多面鏡１０４
の回転による主走査と、感光ドラム１０５の回転による
副走査によって感光ドラム１０５上に静電潜像を形成す
る。結像光学系１０６は、球面レンズ１０６ａと、トー
リックレンズ１０６ｂを備えており、合成ビームＮ0 の
走査速度の不均一や点像の歪を補正するいわゆるｆθ機
能を有する。
【０００４】ビーム合成器１０３には、波長７８０ｎｍ
のレーザ光を透過し波長６７０ｎｍのレーザ光を反射す
るように構成されたダイクロイックミラーが用いられ
る。これは、基板上に所定数の薄膜を積層した多層膜干
渉フィルタであり、また、ビーム分離器１０７にも全く
同じ光学特性を有する多層膜干渉フィルタであるダイク
ロイックミラーが用いられる。
のレーザ光を透過し波長６７０ｎｍのレーザ光を反射す
るように構成されたダイクロイックミラーが用いられ
る。これは、基板上に所定数の薄膜を積層した多層膜干
渉フィルタであり、また、ビーム分離器１０７にも全く
同じ光学特性を有する多層膜干渉フィルタであるダイク
ロイックミラーが用いられる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の技術によれば、前述のように、異なる波長の２つのレ
ーザ光を１本の合成ビームに合成するビーム合成器がダ
イクロイックミラーであり、これは基板に多層の薄膜を
順次成膜することによって製作されるもので、必要な光
学特性を得るためには各薄膜の成膜条件を厳しく管理す
ることが要求され、従って、製造コストが極めて高く、
このように高価なダイクロイックミラーを用いることが
マルチビーム走査光学装置の高価格化を招くという未解
決の課題がある。
の技術によれば、前述のように、異なる波長の２つのレ
ーザ光を１本の合成ビームに合成するビーム合成器がダ
イクロイックミラーであり、これは基板に多層の薄膜を
順次成膜することによって製作されるもので、必要な光
学特性を得るためには各薄膜の成膜条件を厳しく管理す
ることが要求され、従って、製造コストが極めて高く、
このように高価なダイクロイックミラーを用いることが
マルチビーム走査光学装置の高価格化を招くという未解
決の課題がある。
【０００６】本発明は、上記従来の技術の有する未解決
の課題に鑑みてなされたものであって、複数の半導体レ
ーザ等の光源から発生された複数の光ビームを１本の合
成ビームに合成するためのビーム合成器の部品コストを
低減し、装置の低価格化を大幅に促進できるマルチビー
ム走査光学装置を提供することを目的とするものであ
る。
の課題に鑑みてなされたものであって、複数の半導体レ
ーザ等の光源から発生された複数の光ビームを１本の合
成ビームに合成するためのビーム合成器の部品コストを
低減し、装置の低価格化を大幅に促進できるマルチビー
ム走査光学装置を提供することを目的とするものであ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明のマルチビーム走査光学装置は、それぞれ異
なる入射角で入射する複数の光ビームを１本の合成ビー
ムに合成するビーム合成器と、前記合成ビームを偏向走
査する走査手段を有し、前記ビーム合成器が、前記複数
の光ビームをそれぞれ同じ出射角または反射角に回折す
る回折格子を備えていることを特徴とする。
め、本発明のマルチビーム走査光学装置は、それぞれ異
なる入射角で入射する複数の光ビームを１本の合成ビー
ムに合成するビーム合成器と、前記合成ビームを偏向走
査する走査手段を有し、前記ビーム合成器が、前記複数
の光ビームをそれぞれ同じ出射角または反射角に回折す
る回折格子を備えていることを特徴とする。
【０００８】回折格子が、透過型の回折格子であるとよ
い。
い。
【０００９】また、回折格子が、反射型の回折格子であ
ってもよい。
ってもよい。
【００１０】
【作用】波長の異なる複数の光ビームを１本の合成ビー
ムに合成するビーム合成器に回折格子を用いることでビ
ーム合成器の部品コストを低減し、これによってマルチ
ビーム走査光学装置の低価格化を大幅に促進できる。
ムに合成するビーム合成器に回折格子を用いることでビ
ーム合成器の部品コストを低減し、これによってマルチ
ビーム走査光学装置の低価格化を大幅に促進できる。
【００１１】回折格子は透過型でも反射型でもよいが、
反射型の回折格子を用いた場合は、各光ビームの光路の
必要長さを確保するためのスペースが少なくてすみ、マ
ルチビーム走査光学装置の小形化を促進できるという利
点が付加される。
反射型の回折格子を用いた場合は、各光ビームの光路の
必要長さを確保するためのスペースが少なくてすみ、マ
ルチビーム走査光学装置の小形化を促進できるという利
点が付加される。
【００１２】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面に基づ
いて説明する。
いて説明する。
【００１３】図１は一実施例によるマルチビーム走査光
学装置を説明するもので、これは、互に異なる波長の光
ビームであるレーザ光、例えば、それぞれ波長７８０ｎ
ｍと波長６７０ｎｍのレーザ光Ｌ1 ，Ｌ2 を発生する第
１、第２の半導体レーザ１，２と、前記レーザ光Ｌ1 ，
Ｌ2 をそれぞれ平行化するコリメータレンズ１ａ，２ａ
と、平行化されたレーザ光Ｌ1 ，Ｌ2 を合成して１本の
合成ビームＬ0 を発生させるビーム合成器３と、合成ビ
ームＬ0 を走査手段である回転多面鏡４の反射面４ａに
線状に集光するシリンドリカルレンズ３ａと、回転多面
鏡４によって偏向走査された合成ビームＬ0 を感光ドラ
ム５の表面に結像させる結像光学系６を有し、感光ドラ
ム５と結像光学系６の間には、合成ビームＬ0 を波長７
８０ｎｍと波長６７０ｎｍの走査光Ｌ3 ，Ｌ4 に分離す
るビーム分離器７が設けられており、ビーム分離器７に
よって分離された走査光Ｌ3 ，Ｌ4 は、折り返えしミラ
ー８ａ〜８ｃを経て感光ドラム５上のそれぞれの結像点
５ａ，５ｂに到達する。すなわち、波長７８０ｎｍの第
１の走査光Ｌ3 は、ビーム分離器７を透過して第１、第
２の折り返えしミラー８ａ，８ｂによって反射され、感
光ドラム５上の第１の結像点５ａに結像し、波長６７０
ｎｍの第２の走査光Ｌ4 は、ビーム分離器７によって反
射され、第３の折り返えしミラー８ｃによって感光ドラ
ム５上の第２の結像点５ｂに結像する。
学装置を説明するもので、これは、互に異なる波長の光
ビームであるレーザ光、例えば、それぞれ波長７８０ｎ
ｍと波長６７０ｎｍのレーザ光Ｌ1 ，Ｌ2 を発生する第
１、第２の半導体レーザ１，２と、前記レーザ光Ｌ1 ，
Ｌ2 をそれぞれ平行化するコリメータレンズ１ａ，２ａ
と、平行化されたレーザ光Ｌ1 ，Ｌ2 を合成して１本の
合成ビームＬ0 を発生させるビーム合成器３と、合成ビ
ームＬ0 を走査手段である回転多面鏡４の反射面４ａに
線状に集光するシリンドリカルレンズ３ａと、回転多面
鏡４によって偏向走査された合成ビームＬ0 を感光ドラ
ム５の表面に結像させる結像光学系６を有し、感光ドラ
ム５と結像光学系６の間には、合成ビームＬ0 を波長７
８０ｎｍと波長６７０ｎｍの走査光Ｌ3 ，Ｌ4 に分離す
るビーム分離器７が設けられており、ビーム分離器７に
よって分離された走査光Ｌ3 ，Ｌ4 は、折り返えしミラ
ー８ａ〜８ｃを経て感光ドラム５上のそれぞれの結像点
５ａ，５ｂに到達する。すなわち、波長７８０ｎｍの第
１の走査光Ｌ3 は、ビーム分離器７を透過して第１、第
２の折り返えしミラー８ａ，８ｂによって反射され、感
光ドラム５上の第１の結像点５ａに結像し、波長６７０
ｎｍの第２の走査光Ｌ4 は、ビーム分離器７によって反
射され、第３の折り返えしミラー８ｃによって感光ドラ
ム５上の第２の結像点５ｂに結像する。
【００１４】このようにして感光ドラム５上の第１、第
２の結像点５ａ，５ｂに到達した第１、第２の走査光Ｌ
3 ，Ｌ4 は、それぞれ回転多面鏡４の回転による主走査
と、感光ドラム５の回転による副走査によって感光ドラ
ム５上に静電潜像を形成する。結像光学系６は、球面レ
ンズ６ａと、トーリックレンズ６ｂを備えており、合成
ビームＬ0 の走査速度の不均一や点像の歪を補正するい
わゆるｆθ機能を有する。
２の結像点５ａ，５ｂに到達した第１、第２の走査光Ｌ
3 ，Ｌ4 は、それぞれ回転多面鏡４の回転による主走査
と、感光ドラム５の回転による副走査によって感光ドラ
ム５上に静電潜像を形成する。結像光学系６は、球面レ
ンズ６ａと、トーリックレンズ６ｂを備えており、合成
ビームＬ0 の走査速度の不均一や点像の歪を補正するい
わゆるｆθ機能を有する。
【００１５】合成ビームＬ0 を再び波長の異なる走査光
Ｌ3 ，Ｌ4 に分離するビーム分離器７には、波長７８０
ｎｍのレーザ光を透過して波長６７０ｎｍのレーザ光を
反射するように構成されたダイクロイックミラーが用い
られる。
Ｌ3 ，Ｌ4 に分離するビーム分離器７には、波長７８０
ｎｍのレーザ光を透過して波長６７０ｎｍのレーザ光を
反射するように構成されたダイクロイックミラーが用い
られる。
【００１６】ビーム合成器３は、ダイクロイックミラー
に比べて製造が簡単で従って安価な回折格子によって構
成され、これは、波長７８０ｎｍの光を０次回折光、波
長６７０ｎｍの光を１次回折光としてそれぞれ回折する
透過型の回折格子であって、図１の（ｂ）に示すよう
に、第１の半導体レーザ１から発生された波長７８０ｎ
ｍのレーザ光Ｌ1 が回折格子の表面に対して垂直に、す
なわち入射角０°で入射し、第２の半導体レーザ２から
発生された波長６７０ｎｍのレーザ光Ｌ2 が入射角θで
入射するように配設される。
に比べて製造が簡単で従って安価な回折格子によって構
成され、これは、波長７８０ｎｍの光を０次回折光、波
長６７０ｎｍの光を１次回折光としてそれぞれ回折する
透過型の回折格子であって、図１の（ｂ）に示すよう
に、第１の半導体レーザ１から発生された波長７８０ｎ
ｍのレーザ光Ｌ1 が回折格子の表面に対して垂直に、す
なわち入射角０°で入射し、第２の半導体レーザ２から
発生された波長６７０ｎｍのレーザ光Ｌ2 が入射角θで
入射するように配設される。
【００１７】この回折格子は、図１の（ｄ）に示すよう
に、階段状の位相型回折格子であり、ピッチｐ、深さｄ
は、光源の波長や入射角θに応じて適宜決定される。な
お、透過型の回折格子の替わりに、図２に示すような反
射型の回折格子からなるビーム合成器１３を用いること
もできる。この場合は、第１、第２の半導体レーザ１，
２から発生されたレーザ光Ｌ1 ，Ｌ2 を１本の合成ビー
ムＬ0 に合成すると同時にこれを折り返えすことになる
ため、光路の必要長さを確保するためのスペースを縮小
してマルチビーム走査光学装置の小形化を促進できると
いう利点が付加される。
に、階段状の位相型回折格子であり、ピッチｐ、深さｄ
は、光源の波長や入射角θに応じて適宜決定される。な
お、透過型の回折格子の替わりに、図２に示すような反
射型の回折格子からなるビーム合成器１３を用いること
もできる。この場合は、第１、第２の半導体レーザ１，
２から発生されたレーザ光Ｌ1 ，Ｌ2 を１本の合成ビー
ムＬ0 に合成すると同時にこれを折り返えすことになる
ため、光路の必要長さを確保するためのスペースを縮小
してマルチビーム走査光学装置の小形化を促進できると
いう利点が付加される。
【００１８】本実施例によれば、ダイクロイックミラー
に比べて製造が簡単であり、従って安価な回折格子をビ
ーム合成器として用いるものであるため、マルチビーム
走査光学装置の低価格化を大きく促進できる。特に反射
型の回折格子を用いた場合には、前述のように、光路の
必要長さを確保するためのスペースを縮小してマルチビ
ーム走査光学装置を小形化できるという利点が付加され
る。
に比べて製造が簡単であり、従って安価な回折格子をビ
ーム合成器として用いるものであるため、マルチビーム
走査光学装置の低価格化を大きく促進できる。特に反射
型の回折格子を用いた場合には、前述のように、光路の
必要長さを確保するためのスペースを縮小してマルチビ
ーム走査光学装置を小形化できるという利点が付加され
る。
【００１９】
【発明の効果】本発明は上述のとおり構成されているの
で、次に記載するような効果を奏する。
で、次に記載するような効果を奏する。
【００２０】複数の半導体レーザ等から発生された複数
の光ビームを１本の合成ビームに合成するためのビーム
合成器の部品コストを低減し、安価なマルチビーム走査
光学装置を実現できる。
の光ビームを１本の合成ビームに合成するためのビーム
合成器の部品コストを低減し、安価なマルチビーム走査
光学装置を実現できる。
【００２１】特に、反射型の回折格子を用いた場合に
は、光路の必要長さを確保するためのスペースが少なく
てすむため、マルチビーム走査光学装置の小形化を促進
できるという利点も付加される。
は、光路の必要長さを確保するためのスペースが少なく
てすむため、マルチビーム走査光学装置の小形化を促進
できるという利点も付加される。
【図１】一実施例によるマルチビーム走査光学装置を示
すもので、（ａ）はその主要部を示す部分模式平面図、
（ｂ）は全体を示す模式立面図、（ｃ）は各半導体レー
ザとビーム合成器のみを拡大して示す部分拡大図、
（ｄ）はビーム合成器を構成する回折格子の説明図であ
る。
すもので、（ａ）はその主要部を示す部分模式平面図、
（ｂ）は全体を示す模式立面図、（ｃ）は各半導体レー
ザとビーム合成器のみを拡大して示す部分拡大図、
（ｄ）はビーム合成器を構成する回折格子の説明図であ
る。
【図２】一変形例による各半導体レーザとビーム合成器
のみを拡大して示す部分拡大図である。
のみを拡大して示す部分拡大図である。
【図３】一従来例の主要部を示す部分模式平面図であ
る。
る。
【図４】図３の装置の全体を示す模式立面図である。
１，２ 半導体レーザ ３，１３ ビーム合成器 ４ 回転多面鏡 ６ 結像光学系
Claims (3)
- 【請求項１】 それぞれ異なる入射角で入射する複数の
光ビームを１本の合成ビームに合成するビーム合成器
と、前記合成ビームを偏向走査する走査手段を有し、前
記ビーム合成器が、前記複数の光ビームをそれぞれ同じ
出射角または反射角に回折する回折格子を備えているこ
とを特徴とするマルチビーム走査光学装置。 - 【請求項２】 回折格子が、透過型の回折格子であるこ
とを特徴とする請求項１記載のマルチビーム走査光学装
置。 - 【請求項３】 回折格子が、反射型の回折格子であるこ
とを特徴とする請求項１記載のマルチビーム走査光学装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30501895A JPH09127442A (ja) | 1995-10-30 | 1995-10-30 | マルチビーム走査光学装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30501895A JPH09127442A (ja) | 1995-10-30 | 1995-10-30 | マルチビーム走査光学装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09127442A true JPH09127442A (ja) | 1997-05-16 |
Family
ID=17940105
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30501895A Pending JPH09127442A (ja) | 1995-10-30 | 1995-10-30 | マルチビーム走査光学装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09127442A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002311221A (ja) * | 2001-04-18 | 2002-10-23 | Alps Electric Co Ltd | 光学部材及びこれを用いた光学装置 |
| JP2006301113A (ja) * | 2005-04-18 | 2006-11-02 | Ricoh Co Ltd | マルチビーム光源ユニット・光走査装置・画像形成装置・光ビーム合成素子・光学系・光学機器 |
| JP2007214153A (ja) * | 2006-02-07 | 2007-08-23 | Ricoh Co Ltd | マルチビーム光源ユニット、光走査装置及び画像形成装置 |
| JP2007214154A (ja) * | 2006-02-07 | 2007-08-23 | Ricoh Co Ltd | マルチビーム光源ユニット、光走査装置及び画像形成装置 |
| JP2007212485A (ja) * | 2006-02-07 | 2007-08-23 | Ricoh Co Ltd | 光学素子、マルチビーム光源ユニット、光走査装置及び画像形成装置 |
| JPWO2006134794A1 (ja) * | 2005-06-15 | 2009-01-08 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 光双方向モジュール |
| JP2016219712A (ja) * | 2015-05-25 | 2016-12-22 | 株式会社メガオプト | 多波長レーザー発振装置および多波長レーザー発振方法 |
-
1995
- 1995-10-30 JP JP30501895A patent/JPH09127442A/ja active Pending
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| JP2002311221A (ja) * | 2001-04-18 | 2002-10-23 | Alps Electric Co Ltd | 光学部材及びこれを用いた光学装置 |
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