JPH05181072A - 減光装置 - Google Patents

減光装置

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JPH05181072A
JPH05181072A JP25992A JP25992A JPH05181072A JP H05181072 A JPH05181072 A JP H05181072A JP 25992 A JP25992 A JP 25992A JP 25992 A JP25992 A JP 25992A JP H05181072 A JPH05181072 A JP H05181072A
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JP
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thin film
coating member
film coating
incident angle
driving means
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JP25992A
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Hiroshi Yamashita
下 博 山
Yoshiyuki Sugiyama
山 吉 幸 杉
Shinichiro Aoki
木 新 一 郎 青
Yoshito Nakanishi
西 淑 人 中
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 減光量を微妙に調整できるようにすること。 【構成】 光の透過性の良い基板12上に角度依存性の
ある多層反射防止膜13または多層反射膜を形成した薄
膜コーティング部材11と、この薄膜コーティング部材
を傾動させる駆動手段15とを備えており、薄膜コーテ
ィング部材11を駆動手段15により入射光に対して最
大の反射率を有する入射角位置から傾斜させることによ
り、薄膜コーティング部材11の透過率または反射率を
変化させて、減光率を任意にかつ微妙に調整する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造装置におけ
る露光装置、またはレーザ加工装置等に利用される減光
装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体製造装置における露光装置では、
基板材料に塗布されたレジストと呼ぶ感光性の薄膜の上
に光やX線または電子線を照射し、現像工程を経て所望
のパターンのレジスト膜を形成する。半導体の微細化技
術の進歩につれて、レジスト膜の性能も向上し、露光量
の僅かな変動にも敏感に反応するため、露光量の制御は
精密に行なわなければならない。露光光源としてエキシ
マレーザを使用する場合、露光強度とレーザのパルス強
度との間には、 露光強度/パルス強度=パルス数 の関係があり、パルス強度を小さくしてパルス数を多く
することが望ましい。しかし、エキシマレーザを安定的
に発生させることは難しく、レーザを安定して発振させ
た場合のパルス強度はほぼ決まっているので、それを減
光して使用する必要がある。さらに、使用するレジスト
の種類によっても、露光量を微妙に変化させる必要があ
る。
【0003】従来のこの種の露光装置におけるレーザ光
の減光装置は、図5に示すように、円板1に複数の穴2
を形成し、1つの穴2は開放するとともに、他の穴2に
はそれぞれメッシュの異なる金網3を張って、円板1を
モータ4により回転させることにより、いずれかの穴2
を選択して異なる減光率を得ていた。通常の減光フィル
ターは熱的に弱いので、フィルターとしてこのような金
網3を使用することにより、耐久性を保持している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の減光装置では、金網のメッシュにより予め定められ
た減光率しか得られず、あと少しといった微妙な調整が
できないという問題があった。また、露光位置までの距
離によっては、金網の影が露光面に投影されてしまうと
いった問題もあった。
【0005】本発明は、このような従来の問題を解決す
るものであり、減光量を微妙に調整することのできる減
光装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、光の透過性の良い基板上に角度依存性の
ある多層反射防止膜または多層反射膜を形成した薄膜コ
ーティング部材と、この薄膜コーティング部材を傾動さ
せる駆動手段とを備えたものである。
【0007】
【作用】本発明は、上記構成により、薄膜コーティング
部材を駆動手段により入射光に対して最大の反射率を有
する入射角位置から傾斜させることにより、薄膜コーテ
ィング部材の透過率または反射率が変化するので、減光
率を任意にかつ微妙に調整することができる。
【0008】
【実施例】図1は本発明の一実施例の構成を示すもので
ある。図1において、11は薄膜コーティング部材であ
り、透過率の極めて高い合成石英基板12の表面に多層
反射防止膜13をコーティングしたものである。14は
薄膜コーティング部材11の下部を固定した回転軸であ
り、15はこの回転軸14を回転させるステップモータ
である。
【0009】薄膜コーティング部材11は、図2に示す
ように、合成石英基板12の上に、屈折率1.38(波
長500nm)のふっ化マグネシウムMgF2 と、屈折
率2.00(波長500nm)の二酸化ハフニウムHf
O2 とを十数層重ねたものである。
【0010】このような多層反射防止膜は、入射角によ
ってその反射率が変化することが一般に知られている。
図3はその一例であり、入射角度を変化させた際の反射
率を波長の関数として示したものである(「光学薄膜」
H.A.Macleod 著、小倉他訳、日刊工業新聞社、1989
年、p131参照)。
【0011】したがって、透過率の極めて高い合成石英
基板12上にこのような多層反射防止膜13をコーティ
ングした薄膜コーティング部材11を、ステップモータ
15により少しずつ入射角度を変化させることにより、
反射率を高め、すなわち透過率を低くすることができ、
結果として入射光量を減じることができる。
【0012】上記実施例は、合成石英基板上に多層反射
防止膜を形成した例であるが、多層反射防止膜に代え
て、角度依存性を有する多層反射膜を形成しても同様な
効果がある。図4は入射角0度のところに反射率が最大
になる多層膜を石英基板に施した多層膜ミラーの角度依
存性の一例を示す図であり、入射角度が0度のときは約
95%あった反射率が、5度変化すると約75%に低下
し、さらに5度変化すると約5%にまで急激に低下して
しまう。したがって、このような、多層反射膜を用いて
も、出射光量を任意にかつ微妙に調整することができ
る。
【0013】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、光の透
過性の良い基板上に角度依存性のある多層反射防止膜ま
たは多層反射膜を形成した薄膜コーティング部材と、こ
の薄膜コーティング部材を傾動させる駆動手段とを備え
ているので、薄膜コーティング部材を駆動手段により入
射光に対して最大の反射率を有する入射角位置から傾斜
させることにより、薄膜コーティング部材の透過率また
は反射率を変化させて、減光率を任意にかつ微妙に調整
することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示す減光装置の概略斜視図
【図2】同減光装置における薄膜コーティング部材の部
分断面図
【図3】多層反射防止膜における角度依存性を示すグラ
【図4】多層反射膜における角度依存性を示すグラフ
【図5】従来の減光装置を示す概略斜視図
【符号の説明】
11 薄膜コーティング部材 12 合成石英基板 13 多層反射防止膜 14 回転軸 15 ステップモータ
フロントページの続き (72)発明者 中 西 淑 人 神奈川県川崎市多摩区東三田3丁目10番1 号 松下技研株式会社内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光の透過性の良い基板上に角度依存性の
    ある多層反射防止膜または多層反射膜を形成した薄膜コ
    ーティング部材と、この薄膜コーティング部材を傾動さ
    せる駆動手段とを備えた減光装置。
JP25992A 1992-01-06 1992-01-17 差圧・圧力発信器および封入液封入方法 Pending JPH05196530A (ja)

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JP25992A JPH05196530A (ja) 1992-01-06 1992-01-17 差圧・圧力発信器および封入液封入方法

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JP25992A JPH05196530A (ja) 1992-01-06 1992-01-17 差圧・圧力発信器および封入液封入方法

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JPH05181072A true JPH05181072A (ja) 1993-07-23
JPH05196530A JPH05196530A (ja) 1993-08-06

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ID=11468924

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09159966A (ja) * 1995-12-06 1997-06-20 Nec Corp レーザ光学装置
JP2014153387A (ja) * 2013-02-05 2014-08-25 Seiko Epson Corp 光スキャナー、画像表示装置、ヘッドマウントディスプレイおよび光スキャナーの製造方法

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