JP2006133403A - 偏光分離素子 - Google Patents

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Abstract

【課題】可視光全域という広い波長範囲で使用可能な広い角度特性をもつ偏光分離素子及びそれを有する画像表示装置を提供する。
【解決手段】微細構造を持つ1次元格子より成る格子層を複数、積層して成る偏光分離層を、平行平板の面上に密着させた部材を、光入射面と光射出面及び該平行平板と密着する面とを有する第1光学部材と第1光学部材の光入射面からの光束のうち、該偏光分離層を通過した光束を出射させる光出射面を有する第2光学部材とで挟持し、第1光学部材の光入射面からの入射光束の偏光方向に応じて、光束を反射又は透過させる偏光分離素子であって、該複数の格子層は、P偏光に対する有効屈折率nのH層と、有効屈折率nのL層を交互に積層した積層構造より成り、該平行平板の材料の屈折率をn、該光入射面と偏光分離層とのなす角をθとするとき、

なる条件を満足すること。
【選択図】なし

Description

本発明は、偏光分離素子及びそれを有する画像表示装置に関し、複数の波長、あるいは帯域光で、かつ、比較的広い入射角度範囲で良好なる偏光分離特性を有する、例えば、撮影光学系、投写型表示装置(プロジェクタ)、画像処理装置、半導体製造装置、等の各種光学機器に好適なものである。
従来より、偏光分離素子として、金属の回折グリッドを用いたいわゆるワイヤーグリッド型のものが知られている。
この偏光分離素子は、金属などの導体をグリッド状に平行に配列させた構成より成り、グリッドと平行に振動する偏光を除外し、グリッドと直交する方法に振動する偏光のみを透過させている。この構成は電磁波や、赤外光を対象とした偏光分離素子として知られており、また、可視光に関しても使用されてきている。
ワイヤーグリッドは波長以下の間隔で配列させるため、製造プロセスとして、フォトリソグラフィーなどの半導体プロセスが用いられる。そのためワイヤーブリットは、平板の基盤上に形成することが多い。また、金属のグリッドの酸化腐食を防止するためにも、平板基盤材にはさみ込む構造とすることが多い。偏光分離素子として光学系に使用する際には、光路に対して偏光素子面を傾けて使用する。
このとき、光路中に平行平板が傾けて配置されることとなり光学系に非点隔差が生じてくる。
そこで、特許文献1では、回折グリッドを一対の回折グリッド基材である並行平板に挟み込み、その両側を屈折率がほぼ等しいプリズム形状のブロック基材で挟む構成の偏光分離素子を開示している。さらに、ブロック基材と回折グリッド基材の間を軟性接着材で接着するか、ブロック部材とほぼ屈折率の等しい媒質で充填することで非点収差の発生を防いでいる。
一方、ワイヤーグリッド型の偏光分離素子では、反射、透過の両方の偏光で吸収が生じるために十分な光学性能を得るのが難しい。
そこで、積層型誘電体SWS素子を用いた偏光分離素子などが用いられる。
積層型誘電体SWSの偏光分離素子は、誘電体の一次元格子などの波長以下の構造、微細構造SWS(sub-wavelength structure)を積層させた構成より成っている。これは、一次元格子の持つ高い複屈折性を用いたもので、それぞれの偏光方向に対して最適な屈折率をとるように配置することで、広い角度範囲、広い波長範囲で高い偏光分離性能を得ている。
ワイヤーグリッド型の偏光分離素子においては、ワイヤーグリッドの形状が光学性能に支配的となり、前後の媒質の屈折率には比較的影響を受けないことから、ブロック基材、グリッド基材ともにある程度、自由に選択が可能である。
特許文献2で開示されているSWS構造を用いた偏光分離素子は、使用波長より小さい格子ピッチの層と、空隙層あるいは透電体層とを積層した形状を提案している。
直交する2つの偏光のいずれかの方向に対して1/4波長の層厚となる構成として片方の偏光だけを選択的に反射させることで偏光分離素子を構成している。
入射角度は偏光分離素子に垂直であるが、高い偏光分離を実現している。
特開2003−195223号公報 特開平11−95027号公報
積層型誘電体SWSの偏光分離素子では、特にP偏光にブリュースター角での透過を用いるため、各層の誘電体の有効屈折率とその前後の媒質の屈折率の変化の影響が大きい。積層型誘電体SWSは微細構造を形成するためにフォトリソグラフィーなどの半導体プロセスで製造されるためワイヤーグリッド型と同様に平行平板の基盤上に形成する必要がある。また、製造工程上使用可能な材料を用いると、十分な偏光分離性能を得られないことがある。
本発明は、可視光全域という広い波長範囲で使用可能な広い角度特性をもつ偏光分離素子及びそれを有する画像表示装置の提供を目的とする。
請求項1の発明の偏光分離素子は、微細構造を持つ1次元格子より成る格子層を複数、積層して成る偏光分離層を、平行平板の面上に密着させた部材を、光入射面と光射出面及び該平行平板と密着する面とを有する第1光学部材と第1光学部材の光入射面からの光束のうち、該偏光分離層を通過した光束を出射させる光出射面を有する第2光学部材とで挟持し、第1光学部材の光入射面からの入射光束の偏光方向に応じて、光束を反射又は透過させる偏光分離素子であって、該複数の格子層は、P偏光に対する有効屈折率nのH層と、有効屈折率nのL層を交互に積層した積層構造より成り、該平行平板の材料の屈折率をn、該光入射面と偏光分離層とのなす角をθとするとき、
なる条件を満足することを特徴としている。
請求項2の発明は、請求項1の発明において、前記第1光学部材の材料の屈折率をn、前記平行平板の厚さをD、該第1光学部材の光入射面側からの光束が該平行平板に入射角45°で入射したときの、該平行平板による入射光と出射光の光束の進行方向のずれ量をLとするとき、
なる条件を満足することを特徴としている。
請求項3の発明は、請求項1又は2の発明において、前記第1、第2光学部材間には、それらの対向する面の間隔を制限するスペーサーが設けられていることを特徴としている。
請求項4の発明は、請求項3の発明において、前記偏光分離層は、前記スペーサーと封止材により前記第1、第2光学部材間に封止されていることを特徴としている。
請求項5の発明は、請求項1から4のいずれか1項の発明において、前記第1、第2光学部材のうち、少なくとも一方の光学部材の光弾性定数の絶対値は0.1×10−8cm/Nより小さいことを特徴としている。
請求項6の発明の画像表示装置は、請求項1から5のいずれか1項の偏光分離素子を含む光学系を用いて、光源部からの光束を画像信号に基づいて変調する変調手段に導光し、該変調手段により変調された光束を投写光学系によって所定面上に投写することを特徴としている。
本発明によれば、可視光全域という広い波長範囲で使用可能な広い角度特性をもつ偏光分離素子及びそれを有する画像表示装置が得られる。
図1は本発明の偏光分離素子の実施例1の光学作用を示す説明図である。
図2、図3は、偏光分離層の実施例1の要部斜視図である。
図6は本発明の実施例1の偏光分離素子の構成断面図である。表1に実施例1の偏光分離層の構成の設計値を示す。
本実施例の偏光分離素子は、図1〜図3、図6に示すように微細構造を持つ1次元格子より成る格子層を複数、積層して成る偏光分離層23を平行平板31の面上に密着させた部材を、光入射面25と光出射面26及び該平行平板31と密着する面とを有する第1光学部材(プリズム)22と第1光学部材22の光入射面25からの光束のうち、該偏光分離層23を通過した光束を出射させる光出射面27を有する第2光学部材(プリズム)24とで挟持している。そして第1光学部材22の光入射面25からの入射光束の偏光方向に応じて、光束を反射又は透過させている。
図1において、プリズム(第1光学部材)22の入射面(25)に対して、偏光分離層(23)は45°傾いている。入射面(25)に垂直に入射した光線(18)(20)が偏光分離層(23)に入射する際の入射平面28と偏光分離層23の第1の一次元格子101の格子方向は図2のように平行となり、その方向を格子方向Pとする。第2の一次元格子102の格子方向は図2のように入射平面28と直交する配置であり、その方向を格子方向Vとする。
第3の一次元格子103の格子方向は図2に示すように入射平面28と平行であり、その方向を格子方向Pとする。
偏光分離層23で、S偏光21は反射させ、図1の入射側のプリズム(22)にある入射面(25)とは別の射出面(26)から射出させる。
また、偏光分離層23でP偏光19は透過させ、射出側のプリズム(第2光学部材)(24)にある射出面(27)から射出させる構成となっている。
図3は偏光分離層23の1次元格子を斜めから見た図であり、図4は図2の矢印で示す方向Aから見た1次元格子の断面構造図であり、図5は図2の矢印で示す方向Bから見た1次元格子の断面構造図である。
第1(第3)の1次元格子101(103)は空気(Air)と誘電体(TiO)が交互に繰り返す格子方向PのL層(101,103)である、第2の1次元格子102は空気Airと誘電体(TiO)が交互に繰り返す格子方向VのH層(102)より構成されている。全体で3層と言う比較的簡易な構成で偏光分離を実現している。
また、誘電体としてはTiOを用いているがこの他の材料であっても良い。
それぞれの層をH層、L層としているのは、反射させるS偏光に対してのそれぞれの有効屈折率の高低を表している。格子方向Vの一次元格子102の層の厚さは66nmであり、S偏光の反射を完全に達成するのに十分な厚さとなっている。一般的に高屈折率の媒質から低屈折率の媒質に入射するときに入射角度が臨界角θ以上では、一切透過せずに全反射することが知られている。
しかし、この時に、境界面近傍の極めて微小な領域において、エバネセント光がしみ出ている。この光の到達領域に次の媒質があると光が透過してしまう。この現象が全反射減衰(attenuated total reflection:ATR)である。
本実施例では、このATRの光同士の干渉を利用して広い角度範囲、波長範囲で高い反射率を得ている。
一方、格子方向Pの一次元格子101、103のからなるL層の厚さは351nmであり、この数字はATRによる反射を有効に活用するためのものである。
この膜厚が薄くなると、臨界角Q以上の入射角度領域ではATRによる透過が大きくなり、十分な反射が得られない。
一方、ATRの観点からは、膜厚が厚ければ厚いほど好ましい。しかしながら、膜厚を増しても、反射率は全反射に漸近してしまうため、膜厚を増やしただけの効果は得られない。この一次元格子の形状では、膜厚を増すほど製造の難易度は上がる。そのため、実施例の厚み程度に設定することが好ましい。
また、使用角度の範囲に臨界角以下の通常反射を含むが、そこでの干渉においては実施例での厚みに設定することで、最適な結果が得られた。
実施例1では表1の設計値1に示すとおり、プリズム22、24の硝材に屈折率nが約1.603と比較的低い物を使用した。格子方向Vの一次元格子102であるH層と、格子方向Pの一次元格子101、103であるL層の誘電体はともにTiOであり、屈折率2.282 の高屈折率な物を使用し、フィリングファクタfをL層=0.22、H層=0.85に設定することで、効率よく複屈折を生じさせている。
一般的に使用波長以下の格子より成る微細構造SWS(sub-wavelength structure)の一次元格子に関しての有効屈折率は下記の(3)、(4)式で近似される。図11のような一次元格子Rにおいて、格子ROaと平行な方向の偏光をTE偏光、格子ROaと直交する方向の偏光をTM偏光とするとき、格子ROa側の媒質の屈折率をn、格子ROaと逆側の媒質の屈折率をn、、繰り替えす一次元格子Rの媒質の幅をa、b、とするとき、それぞれの偏光TE,TMの有効屈折率nTE,nTMは式(3)(4)で表されることが知られている。
格子方向Vの一次元格子Rの層に関しては、P偏光がTM、S偏光がTEとなる。また、格子方向Pの一次元格子の層に関しては、P偏光がTE、S偏光がTMとなる。
(3)、(4)の式において、一次元格子を構成する2つの媒質のうち一方の媒質をTiO、他方を空気airとして、フィリングファクタf(ピッチに対するTiOの割合)fを変化させたときのそれぞれの偏光に対する有効屈折率n(TE),n(TM)は図12の様になる。
P偏光に関して、表2に示すとおり第1の一次元格子101ではf=0.22の時、TE方向の有効屈折率nは1.71となり、第2の一次元格子102ではf=0.85の時、TM方向の有効屈折率nは1.60となる。これらの屈折率は平行平板31の屈折率n=1.52とも近いため、反射せず高い透過率を示す。
一般的に屈折率n1、n2を持つ2つの媒質の間のブリュースター角θBは式(5)で与えられる。この角度Qで入射したp偏光の光線は全て透過する。
tanθB=n/n・・・(5)
さらに、偏光分離素子として構成するためには、この屈折率と角度の関係(5)式がプリズム媒質(ここでは平行平板の媒質)および、H層、L層の界面で同時に成り立つ必要がある。そのため、平行平板31の材料の屈折率nと、薄膜を形成する2つの誘電体媒質(H層とL層)の屈折率nHとnとの間には、下記の関係式が成り立つ必要がある。
ここで本実施例では、これらの値が前述の如く
なる条件を満足するようにしている。
式(6)にnH=1.60、nL=1.57、nP=1.52を代入すると、ブリュースター角はθB=約50.2°となる。よって、45°の入射角を中心とした光束に対してほぼ透過の条件を満たす構成となっている。
一方のS偏光に関して、表2に示すとおり第1の一次元格子101ではTM方向の有効屈折率は1.24となり、第2の一次元格子102ではTE方向の有効屈折率nは2.05となる。
全反射が起こるためには、臨界角θ以上で入射する必要があるが、臨界角θは次式(7)であたえられる。
sinθ=n/n・・・(7)
式(7)に表2の有効屈折率nよりn=2.05、n=1.24を代入すると、臨界角θ=約37°となる。これより高入射角側では全反射のATRによる反射が起こっている。低入射角側でも、臨界角を越えており高い反射率をが得られている。
このように、第1と第2の1次元格子層101、102との有効屈折率n、nがP偏光に関しては近い値となり、S偏光に関しては大きな屈折率差を生じさせることで、それぞれの偏光の光線の透過、反射を実現している。
本実施例では、この第1と第2の1次元格子層101、102との有効屈折率n、nの関係は条件式(1)を満たす事で効率よく実現している。
また、本実施例では、第1、第2光学部材22、24のうち、少なくとも一方の光学部材の光弾性定数の絶対値は0.1×10−8cm/Nより小さい材料を用いている。
又、本実施例では、第1光学部材(プリズム)22の材料の屈折率をn,平行平板31の厚さをD、第1光学部材22の光入射面25側からの光束が平行平板31に入射角45°で入射したときの、平行平板31による入射光と出射光の光束の進行方向のずれ量をLとするとき、
なる条件を満足するようにしている。
一方、条件式(2)は平行平板31の屈折率nと、プリズム22の屈折率nとの差と平行平板の厚みDと、使用光学系での光線の横方向ずれ許容量Lの比を規定するもので、平行平板31での非点収差の発生を抑えるもである。条件式(2)の上限を超えて屈折率差が大きくなるか、平行平板31の厚さが厚くなると非点隔差が大きくなり好ましくない。
尚、平行平板31の厚さDは,0.1mm<D<1.5mmが良く、又許容値Lは、
0.005mm<L<0.1mm程度が良い。
図13(A),(B),(C)がこの設計値の厳密結合波解析計算(Rigorous coupled-wave analysis : RCWA)による性能のシミュレーション結果である。P偏光では、高入射角で、透過率が落ちているが、実使用時の角度特性のウエートを考慮するとほとんど問題ないレベルである。
S偏光に関しては低入射角の短波長側で性能が劣化している以外は35〜55°と言うかなり広い入射角範囲で透過する光線がほとんど無く、完全な反射率を達成している。
図6に示すとおり、実施例1では、平行平板(31)上に配置された偏光分離層(23)を1対のプリズム(22,24)に挟む際に入射側プリズム(22)と射出側プリズム(24)の間にスペーサー(32)を挟む構成としている。微細加工を必要とする偏光分離層23を平行平板31上に作成し、それをプリズム22、24で挟み込む際にプリズムからの応力が平行平板31、及び偏光分離層23に及ばないようにスペーサー32をプリズム間22、24に配置している。また、平行平板31は厚さ、屈折率が条件式(1)(2)を満たす関係となっており、良好な性能を得ている。
さらに、本実施例においては、スペーサー32により間隔を規定するとともに、偏光分離層23を封止材で封止している。
図7は、実施例2の偏光分離素子の要部断面図である。実施例1と同様の偏光分離層(23)の両側を、平行平板31a,31bで挟んだのもを更に、1対のプリズム(22,24)に挟み込んでいる。一方の平行平板31aと、偏光分離層23を挟んで反対側のプリズム24の間にスペーサー32を配置している。
図8は、実施例3の偏光分離素子の要部断面図である。実施例1と同様の偏光分離層(23)の両側を、平行平板(31a、31b)で挟んだのもを更に、1対のプリズム(22,24)に挟み込んでいる。両側を挟むプリズム22,24間にスペーサー32を配置している。
図9は,実施例4の偏光分離素子の要部断面図である。実施例1と同様の偏光分離層(23)の両側を、平行平板(31a、31b)で挟んだのもを更に、1対のプリズム(22,24)に挟み込んでいる。偏光分離層23の両側の平行平板31a、31bの間にスペーサー32を配置している。
これら、実施例1〜実施例4の偏光分離素子では、微細加工を必要とする偏光分離層23を平板ガラスではさみ込み封止材より封止してユニットとすることで、角度、寸法、面精度等の形状的な性能を必要とするプリズムを分離することができ、生産性の向上を図っている。
図10は、本発明の偏光分離素子を用いた反射型の投射表示装置の実施例5の要部概略図である。図中、1は高圧水銀ランプなどからなる光源、2は光源1から光を所定の方向に放射するためのリフレクター、3は均一な照明強度を有する照明領域を形成するためのインテグレーターであり、フライアイレンズ3a、3bから構成されている。4は無偏光な光を所定の偏光方向に揃える偏光変換素子である。5は照明光を集光するコンデンサーレンズ、6はミラー、7は照明光をテレセントリックな光にするフィールドレンズ、8は緑の波長領域光Gを透過するダイクロイックミラー、9a1、9b1、9c1はそれぞれ実施例1〜4の偏光分離層であり、S偏光を反射してP偏光を透過させる特性をもっている。9a、9b、9cはそれぞれ偏光分離層9a1、9b1、9c1を有する偏光分離プリズム、10a、10bはそれぞれ所定波長領域の光の偏光方向を90°変換(回転)する色選択性位相差板、11r、11g、11bはそれぞれ入射した照明光を反射するとともに画像信号に応じて変調して画像光を形成する反射型の液晶表示素子、12r、12g、12bはそれぞれ1/4位相差板、14は投射レンズ系である。以上の構成のように実施例1〜4の偏光分離素子を配置することにより、入射角度特性、波長特性に優れているため、光学系全体で得られるコントラストが極めて高い反射型液晶プロジェクタを実現している。
平行平板媒質np=1.52
プリズム媒質nc=1.603
θ=45°、λs=400nm
DC=0.5mm
L=0.010mm
以上のように各実施例によれば、偏光分離層をプリズムに挟んだ構造とすることにより、製造上簡易であり、又光学性能上も非点隔差の発生を抑えながら、偏光分離性能も、波長特性、入射角度特性ともに広い範囲で実現することができる。
本発明の実施例1に対応する偏光分離素子の構成図 本発明の実施例1に対応する偏光分離素子の模式図 本発明の実施例1に対応する偏光分離素子の格子形状の斜視図 本発明の実施例1に対応する偏光分離素子の格子形状の図2の方向Aからの格子断面図 本発明の実施例1に対応する偏光分離素子の格子形状の図2の方向Bからの格子断面図 本発明の実施例1に対応する偏光分離素子の構成図 本発明の実施例2に対応する偏光分離素子の構成図 本発明の実施例3に対応する偏光分離素子プリズムの構成図 本発明の実施例4に対応する偏光分離素子プリズムの構成図 本発明の実施例5に対応する偏光分離素子を有する反射型の液晶プロジェクタの構成図 一次元型SWS格子の有効屈折率のモデルを説明する図 一次元型SWS格子にTiO2を用いたときの構造複屈折を表すグラフ 本発明の実施例1に対応する偏光分離素子のRCWA計算による可視光領域での偏光分離特性を表すグラフ 図13(A)は、入射角度35.0°での各偏光の透過率の波長特性 図13(B)は、入射角度45.0°での各偏光の透過率の波長特性 図13(C)は、入射角度55.0°での各偏光の透過率の波長特性
符号の説明
1:高圧水銀ランプなどからなる光源
2:リフレクター
3:インテグレーター
3a,3b:フライアイレンズ
4:偏光変換素子
5:コンデンサーレンズ
6:ミラー
7:フィールドレンズ
8:ダイクロイックミラー
9a、9b、9c:偏光分離プリズム
9a1、9b1、9c1:偏光分離層
10a、10b:色選択性位相差板
11r、11g、11b:反射型液晶表示素子
12r、12g、12b:1/4位相差板
14:投射レンズ系
18:P偏光入射光
19:P偏光透過光
20:S偏光入射光
21:S偏光反射光
22:入射側プリズム
23:偏光分離層
24:射出側プリズム
25:入射面
26:S偏光反射光の射出面
27:P偏光透過光の射出面
28:入射平面
29:格子断面観察方向Aを示す矢印
30:格子断面観察方向Bを示す矢印
31:平行平板
32:スペーサー
101〜103:実施例1の入射側から1番目〜3番目の各層

Claims (6)

  1. 微細構造を持つ1次元格子より成る格子層を複数、積層して成る偏光分離層を、平行平板の面上に密着させた部材を、光入射面と光射出面及び該平行平板と密着する面とを有する第1光学部材と第1光学部材の光入射面からの光束のうち、該偏光分離層を通過した光束を出射させる光出射面を有する第2光学部材とで挟持し、第1光学部材の光入射面からの入射光束の偏光方向に応じて、光束を反射又は透過させる偏光分離素子であって、該複数の格子層は、P偏光に対する有効屈折率nのH層と、有効屈折率nのL層を交互に積層した積層構造より成り、該平行平板の材料の屈折率をn、該光入射面と偏光分離層とのなす角をθとするとき、
    なる条件を満足することを特徴とする偏光分離素子。
  2. 前記第1光学部材の材料の屈折率をn、前記平行平板の厚さをD、該第1光学部材の光入射面側からの光束が該平行平板に入射角45°で入射したときの、該平行平板による入射光と出射光の光束の進行方向のずれ量をLとするとき、
    なる条件を満足することを特徴とする請求項1の偏光分離素子。
  3. 前記第1、第2光学部材間には、それらの対向する面の間隔を制限するスペーサーが設けられていることを特徴とする請求項1又は2の偏光分離素子。
  4. 前記偏光分離層は、前記スペーサーと封止材により前記第1、第2光学部材間に封止されていることを特徴とする請求項3の偏光分離素子。
  5. 前記第1、第2光学部材のうち、少なくとも一方の光学部材の光弾性定数の絶対値は0.1×10−8cm/Nより小さいことを特徴とする請求項1から4のいずれか1項の偏光分離素子。
  6. 請求項1から5のいずれか1項の偏光分離素子を含む光学系を用いて、光源部からの光束を画像信号に基づいて変調する変調手段に導光し、該変調手段により変調された光束を投写光学系によって所定面上に投写することを特徴とする画像表示装置。
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