CN111562643A - 金属线栅偏光片及其制作方法和显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供了金属线栅偏光片及其制作方法和显示装置。该金属线栅偏光片包括相互平行设置的多个金属条，相邻的两个所述金属条之间具有间隙，还包括：透明防倒伏结构，所述透明防倒伏结构设置在至少一个所述间隙内，并用于支撑所述金属条透明防倒伏结构。该金属线栅偏光片中的金属条不易发生倒伏，且透光率高、偏光效果好。

Description

金属线栅偏光片及其制作方法和显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体地，涉及金属线栅偏光片及其制作方法和显示装置。

背景技术

在相关技术中，使用了金属线栅偏光片的显示装置，若欲提高其透光率，通常的做法是减小金属线栅偏光片的占空比，也即减小金属线栅偏光片中金属条的宽度，但金属条的宽度减小之后，金属线栅偏光片极易出现倒伏的不良(参照图1)，从而影响其正常的偏光效果。

因而，现有的金属线栅偏光片的相关技术仍有待改进。

发明内容

本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本发明的一个目的在于提出一种金属条不易发生倒伏、透光率高或者偏光效果好的金属线栅偏光片。

在本发明的一个方面，本发明提供了一种金属线栅偏光片。根据本发明的实施例，该金属线栅偏光片包括相互平行设置的多个金属条，相邻的两个所述金属条之间具有间隙，还包括：透明防倒伏结构，所述透明防倒伏结构设置在至少一个所述间隙内，并用于支撑所述金属条透明防倒伏结构。该金属线栅偏光片中的金属条不易发生倒伏，且透光率高、偏光效果好。

根据本发明的实施例，所述透明防倒伏结构在第一方向上的第一端面和所述金属条在所述第一方向上的第二端面齐平或者基本齐平，其中，所述第一方向为所述金属线栅偏光片的厚度方向。

根据本发明的实施例，所述透明防倒伏结构满足以下条件的至少之一：在所述第一方向上的高度为所述金属条在所述第一方向上高度的三分之一至二分之一；在与所述第一方向垂直，且垂直于相邻的两个所述金属条的第二方向上的宽度为55nm～80nm；材料包括纳米压印胶。

根据本发明的实施例，所述透明防倒伏结构设置在全部所述间隙内。

根据本发明的实施例，所述金属线栅偏光片满足以下条件的至少之一：线宽为40nm～50nm；线距为60nm～80nm；厚度为200nm～240nm；透光率不低于46％。

根据本发明的实施例，所述金属线栅偏光片还包括：衬底，所述透明防倒伏结构的所述第一端面与所述衬底的表面相接触。

在本发明的另一个方面，本发明提供了一种制作前面所述的金属线栅偏光片的方法。根据本发明的实施例，该方法包括：形成相互平行设置的多个金属条，其中，相邻的两个所述金属条之间具有间隙；形成透明防倒伏结构，所述透明防倒伏结构位于至少一个所述间隙内。该方法操作简单、方便，容易实现，易于工业化生产，且可以有效制作得到前面所述的金属线栅偏光片。

根据本发明的实施例，该方法进一步包括：在衬底的表面上形成多个沿第二方向间隔设置所述透明防倒伏结构；在所述衬底未被所述透明防倒伏结构覆盖的表面上和多个所述透明防倒伏结构远离所述衬底的表面上形成预制金属层；在所述预制金属层远离所述衬底的表面上形成第一刻蚀保护层，所述第一刻蚀保护层在所述衬底上的正投影与所述透明防倒伏结构在所述衬底上的正投影完全不重叠；对所述预制金属层进行刻蚀处理，得到多个所述金属条。

根据本发明的实施例，在形成所述预制金属层之后，形成所述第一刻蚀保护层之前，该方法还包括：在所述预制金属层远离所述衬底的表面上形成整层的第二刻蚀保护层，在形成所述第一刻蚀保护层以后，对所述预制金属层进行所述刻蚀处理时，对未被所述第一刻蚀保护层覆盖的部分所述第二刻蚀保护层也进行所述刻蚀处理。

根据本发明的实施例，所述刻蚀处理包括干法刻蚀，在所述干法刻蚀的刻蚀气体中，甲烷的体积百分含量为20％～30％。

根据本发明的实施例，所述透明防倒伏结构是通过纳米压印形成的。

在本发明的又一个方面，本发明提供了一种显示装置。根据本发明的实施例，该显示装置包括前面所述的金属线栅偏光片。该显示装置的显示效果好。

附图说明

图1显示了相关技术中的金属线栅偏光片出现倒伏不良时的扫描电镜照片。

图2显示了本发明一个实施例中的金属线栅偏光片的剖面结构示意图。

图3显示了本发明另一个实施例中的金属线栅偏光片的剖面结构示意图。

图4显示了本发明又一个实施例中的金属线栅偏光片的剖面结构示意图。

图5显示了本发明再一个实施例中的金属线栅偏光片的剖面结构示意图。

图6显示了本发明一个实施例中的制作金属线栅偏光片的方法的流程示意图。

图7a和图7b显示了本发明另一个实施例中的制作金属线栅偏光片的方法的流程示意图。

图8显示了本发明又一个实施例中的制作金属线栅偏光片的方法的流程示意图。

图9a、图9b、图9c、图9d和图9e显示了本发明再一个实施例中的制作金属线栅偏光片的方法的流程示意图。

图10显示了本发明再一个实施例中的制作金属线栅偏光片的方法的流程示意图。

图11a、图11b、图11c和图11d显示了本发明再一个实施例中的制作金属线栅偏光片的方法的流程示意图。

附图标记：

1：第一端面2：第二端面10：金属线栅偏光片51：第一刻蚀保护层52：第二刻蚀保护层53：图案化层99：预制金属层100：金属条110：间隙200：透明防倒伏结构300：衬底

具体实施方式

下面详细描述本发明的实施例。下面描述的实施例是示例性的，仅用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。实施例中未注明具体技术或条件的，按照本领域内的文献所描述的技术或条件或者按照产品说明书进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市购获得的常规产品。

在本发明的一个方面，本发明提供了一种金属线栅偏光片。根据本发明的实施例，参照图2，该金属线栅偏光片10包括相互平行设置的多个金属条100，相邻的两个所述金属条100之间具有间隙110，还包括：透明防倒伏结构200，所述透明防倒伏结构200设置在至少一个所述间隙110内，并用于支撑所述金属条100透明防倒伏结构。由于透明防倒伏结构200对金属条100起到了支撑作用，因而该金属线栅偏光片10中的金属条100不易发生倒伏，从而可以将所述金属条100的宽度减小，同时透明防倒伏结构200本身也是透明的，进而其可以实现较高的透光率、且偏光效果好。

根据本发明的实施例，需要说明的是，金属线栅偏光片10、和其中的金属条100以及透明防倒伏结构200均是三维立体结构，为将术语统一，在本文中，参照图3，定义金属线栅偏光片10的厚度方向为第一方向；与所述第一方向垂直，且垂直于相邻的两个所述金属条100的方向为第二方向(也即金属线栅偏光片10的线宽和线距所在的方向)。

根据本发明的实施例，在本发明中，透明防倒伏结构200位于间隙110中，只要能够对金属条100起到支撑作用即可，也就是说，透明防倒伏结构200在间隙中的具体设置位置并不必须限定在某一个位置上，只要能够对金属条100起到支撑作用的位置，均应落在本发明的保护范围内。例如，在本发明的一些实施例中，参照图2，透明防倒伏结构200在第一方向上的任何一个端面均不与金属条100在第一方向上的端面齐平或者基本齐平，也就是说，透明防倒伏结构200设置在相邻的两个金属条100的间隙110的中部；当然，在本发明的另一些实施例中，参照图3，所述透明防倒伏结构200在第一方向上的第一端面1和所述金属条100在所述第一方向上的第二端面2也可以是齐平或者基本齐平的。通过此种方式设置的透明防倒伏结构200，其形成工艺较为简单、同时可以对金属条100起到较好的支撑作用。

根据本发明的实施例，另外，前已述及，本发明中的透明防倒伏结构200只要能够对金属条100起到支撑作用即可，那么，其在第一方向上的高度也同样是不受特别限制的。然而，进一步地，发明人综合考虑了透明防倒伏结构200对金属条100的支撑作用和金属线栅偏光片10的透光率以及偏光效果，参照图3，当所述透明防倒伏结构200在第一方向上的高度h为所述金属条100在第一方向上高度H的三分之一至二分之一时(具体而言，该数值可以是三分之一至二分之一之间的任意数值，例如0.35、0.38、0.40、0.42、0.44、0.46或者0.48等)，金属条100既不容易出现倒伏，同时金属线栅偏光片10的透光率也进一步提高，偏光效果也进一步变好。

根据本发明的实施例，在本发明中，透明防倒伏结构200位于相邻的两个金属条100之间的间隙110中，而透明防倒伏结构200在第二方向上的宽度d并不一定要恰好等于金属线栅偏光片10的线距S，才能对金属条100起到支撑作用，该宽度d也是可以略小于金属线栅偏光片10的线距S的。当然，本领域技术人员也可以理解，当上述宽度d与金属线栅偏光片10的线距S恰好相等时，其所起到的支撑作用最好。例如，在本发明的一些实施例中，当所述金属线栅偏光片10的线距S为60nm～80nm时，所述透明防倒伏结构200在第二方向上的宽度d可以是55nm～80nm，具体地，其可以是55nm、60nm、65nm、70nm、75nm或者80nm等。

根据本发明的实施例，前已述及，透明防倒伏结构200为透明的，其具体材料可以在相关技术中的透明材料中进行灵活选择，更进一步地，透明防倒伏结构200的材料可以包括纳米压印胶。材料包括纳米压印胶的透明防倒伏结构200，其不仅仅透明度高，可以使得金属线栅偏光片10的透光率高，进而偏光效果好；同时，其形成工艺也较为简单、易于实现产业化。当然，本领域技术人员也可以理解，除前面所述的纳米压印胶以外，透明防倒伏结构200的材料也可以是相关技术中的其他材料，在此不再过多赘述。

根据本发明的实施例，更进一步地，透明防倒伏结构200不仅是设置在相邻的两个金属条100之间的一个间隙110或者多个间隙110中的，参照图4，其是设置在全部所述间隙110内的。由此，金属线栅偏光片10中的每两个金属条100之间的间隙110中均具有透明防倒伏结构200，可以使得全部的金属条100不易发生倒伏，进而整个金属线栅偏光片10的透光率高、偏光效果优异。

根据本发明的实施例，设置了本发明的透明防倒伏结构200的金属线栅偏光片10，当其线宽W相较于相关技术中的金属线栅偏光片更窄时，其金属条仍然可以不发生倒伏的不良，本领域技术人员可以理解，当金属线栅偏光片10的线宽W变窄时，相应地，其线距S就会相应更宽。例如，在本发明的一些实施例中，参照图4，所述金属线栅偏光片10的线宽W可以为40nm～50nm，具体地，可以是40nm、42nm、44nm、46nm、48nm或者50nm等；线距S可以为60nm～80nm，具体地，可以是60nm、64nm、68nm、72nm、76nm或者80nm等。由此，该金属线栅偏光片10中的金属条100既不会发生倒伏，且该金属线栅偏光片10的透光率也较高。

根据本发明的实施例，前已述及，设置了本发明的透明防倒伏结构200的金属线栅偏光片10透光率较高，具体而言，发明人经过大量周密的考察和实验验证后发现，本发明所述的金属线栅偏光片10的透光率不低于46％，进一步地，该金属线栅偏光片10的透光率不低于48％。具体而言，该金属线栅偏光片10的透光率可以是50％、52％、54％或者56％等。

根据本发明的实施例，设置了本发明所述的透明防倒伏结构200的金属线栅偏光片10可以在实现金属条100不发生倒伏，且透光率较高，偏光效果也较好的前提下，具体较薄的厚度，符合显示装置轻薄化的发展趋势。例如，在本发明的一些实施例中，所述金属线栅偏光片10的厚度可以是200nm～240nm，具体地，可以是200nm、210nm、220nm、230nm或者240nm等。当然，其也可以根据实际所需选用其他厚度，在此不再过多赘述。

根据本发明的实施例，进一步地，所述金属条100的材料不受特别限制，在本发明的一些实施例中，所述金属条100的材料可以是铝。由此，材料来源广泛、易得，成本较低，且可以较好地实现偏光效果。

在本发明的另一些实施例中，参照图5，所述金属线栅偏光片10还可以包括：衬底300，所述透明防倒伏结构200的所述第一端面1与所述衬底300的表面相接触。由此，易于形成在第一方向上的第一端面1和所述金属条100在所述第一方向上的第二端面是齐平或者基本齐平的透明防倒伏结构200，工艺简单、易于产业化。

根据本发明的实施例，进一步地，所述衬底300的材料可以根据实际需要进行灵活选择，在本发明的一些实施例中，所述衬底300的材料可以是玻璃。由此，材料来源广泛、易得，成本较低，且可以适用于大多数应用领域，应用范围广泛。

在本发明的另一个方面，本发明提供了一种制作前面所述的金属线栅偏光片的方法。根据本发明的实施例，参照图6和图7a、图7b，该方法可以包括以下步骤：

S10：形成相互平行设置的多个金属条100，其中，相邻的两个所述金属条100之间具有间隙110(结构示意图参照图7a)。

S20：形成透明防倒伏结构200，所述透明防倒伏结构200位于至少一个所述间隙110内(结构示意图参照图7b)。

根据本发明的实施例，上述形成多个金属条100和所述透明防倒伏结构200的具体工艺，本领域技术人员可以根据实际需要进行灵活选择，在此不再过多赘述，且需要说明的是，所述透明防倒伏结构200和所述金属条100的形成的先后顺序并不受上述描述限制，本领域技术人员可以理解，在本发明的另一些实施例中，也可以是先形成所述防倒伏结构200，再形成所述金属条100。

在本发明的另一些实施例中，参照图8和图9a、图9b、图9c、图9d、图9e，该方法可以进一步包括以下步骤：

S100：在衬底300的表面上形成多个沿第二方向间隔设置所述透明防倒伏结构200(结构示意图参照图9a)。

根据本发明的实施例，在衬底300的表面上形成多个沿第二方向间隔设置所述透明防倒伏结构200的具体工艺可以是通过纳米压印形成的。具体而言，可以是在所述衬底300的表面上先涂覆一层纳米压印胶，然后对其进行压印处理，从而形成所述透明防倒伏结构200。由此，工艺简单、方便，容易实现，易于工业化生产。

S200：在所述衬底300未被所述透明防倒伏结构200覆盖的表面上和多个所述透明防倒伏结构200远离所述衬底300的表面上形成预制金属层99(结构示意图参照图9b)。

根据本发明的实施例，在所述衬底300未被所述透明防倒伏结构200覆盖的表面上和多个所述透明防倒伏结构200远离所述衬底300的表面上形成预制金属层99的具体工艺可以是磁控溅射。具体而言，可以是在所述表面上直接溅射一层铝，从而形成所述预制金属层99。由此，工艺简单、方便，容易实现，易于工业化生产。

S300：在所述预制金属层99远离所述衬底300的表面上形成第一刻蚀保护层51，所述第一刻蚀保护层51在所述衬底300上的正投影与所述透明防倒伏结构200在所述衬底300上的正投影完全不重叠(结构示意图参照图9c)。

根据本发明的实施例，在所述预制金属层99远离所述衬底300的表面上形成第一刻蚀保护层51的具体工艺可以是通过纳米压印形成的。具体而言，可以是在所述表面上先涂覆一层纳米压印胶，然后对其进行压印处理，从而形成所述第一刻蚀保护层51的，也就是说，所述第一刻蚀保护层51的材料也可以是纳米压印胶。由此，工艺简单、方便，容易实现，易于工业化生产，且可以较好地保护预制金属层99上不需要被刻蚀的部分在后续的步骤中不被刻蚀掉，进而形成形貌较好的金属条100。

S400：对所述预制金属层99进行刻蚀处理，得到多个所述金属条100(结构示意图参照图9d)。

根据本发明的实施例，对所述预制金属层99进行刻蚀处理的具体工艺可以包括干法刻蚀，在所述干法刻蚀的刻蚀气体中，甲烷的体积百分含量为20％～30％，具体地，可以为20％、25％或者30％等。由于在干法刻蚀中，甲烷起到的作用在于在刻蚀气体中形成多个亚甲基的交联，形成聚合物，可降低金属条100和透明防倒伏结构200的刻蚀选择比。而具有上述体积百分含量的甲烷的刻蚀气体，其中甲烷的含量较低，进而该刻蚀气体所刻蚀的金属条100就会更多更快，从而使得本发明所述的金属线栅偏光片10的线宽W相较于相关技术中的金属线栅偏光片的线宽会更窄，进而提高其透光率。

根据本发明的实施例，另外，本领域技术人员可以理解，在前面所述的刻蚀气体中，还可以包括其他常规的刻蚀气体，例如，氯气可以作为主刻蚀气体；三氯化硼可以是去除金属条表面的钝化层，另外也可以起到侧壁保护的作用，同时调节氯离子的浓度，并在刻蚀时提供向下方向的物理轰击；至于氮气则可以起到侧壁保护的作用，上述各个气体在前面所述的刻蚀气体中的体积百分含量，本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择；其刻蚀机理也与相关技术中干法刻蚀的刻蚀机理相同，在此不再过多赘述。

根据本发明的实施例，本领域技术人员可以理解，在对所述预制金属层99进行刻蚀处理，得到多个所述金属条100以后，该方法还可以包括去除所述第一刻蚀保护层51的步骤，从而得到所述金属线栅偏光片10(结构示意图参照图9e)，所述第一刻蚀保护层51的具体去除工艺和方式，本领域技术人员可以根据实际需要进行灵活选择，在此不再过多赘述。

在本发明的又一些实施例中，更进一步地，参照图10和图11a、图11b、图11c、图11d，在形成所述预制金属层99之后，形成所述第一刻蚀保护层51之前，该方法还可以包括以下步骤：

S500：在所述预制金属层99远离所述衬底300的表面上形成整层的第二刻蚀保护层52(结构示意图参照图11a)。

根据本发明的实施例，在所述预制金属层99远离所述衬底300的表面上形成整层的第二刻蚀保护层52的具体工艺可以是物理气相沉积，其具体工艺条件、参数，本领域技术人员可以根据实际需要进行灵活选择，在此不再过多赘述。由此，工艺简单、方便，容易实现，易于工业化生产，且可以使得所述预制金属层99远离所述衬底300的表面在后续步骤中不至于由于接触刻蚀气体的时间过长而刻蚀得过多，进而导致制作得到的金属线栅偏光片10的金属条100的不同部位的宽度不均匀，从而影响偏光效果。

根据本发明的实施例，进一步地，所述第二刻蚀保护层52的材料可以是氧化硅，其厚度可以是60μm～100μm，具体地，可以是60μm、70μm、80μm、90μm或者100μm等。由此，材料来源广泛、易得，成本较低，且可以较好地实现上述防止过刻的效果。

根据本发明的实施例，更进一步地，在本实施例中，后续步骤中在形成所述第一刻蚀保护层51以后(结构示意图参照图11b)，对所述预制金属层99进行所述刻蚀处理时，对未被所述第一刻蚀保护层51覆盖的部分所述第二刻蚀保护层52也进行所述刻蚀处理(结构示意图参照图11c)，经过所述刻蚀处理的第二刻蚀保护层52形成图案化层53。最后，本领域技术人员可以理解，在得到多个所述金属条100以后，该方法还可以包括去除所述第一刻蚀保护层51和图案化层53的步骤，从而得到所述金属线栅偏光片10(结构示意图参照图11d)，所述第一刻蚀保护层51和图案化层53的具体去除工艺和方式，本领域技术人员可以根据实际需要进行灵活选择，在此不再过多赘述。

在本发明的又一个方面，本发明提供了一种显示装置。根据本发明的实施例，该显示装置包括前面所述的金属线栅偏光片。该显示装置的显示效果好。

根据本发明的实施例，该显示装置除前面所述的金属线栅偏光片以外，还包括其他必要的结构和组成，例如显示背板等，本领域技术人员可根据显示装置的具体种类和使用要求进行补充和设计，在此不再过多赘述。

根据本发明的实施例，该显示装置的具体种类不受特别限制，例如包括但不限于手机、平板电脑、可穿戴设备、游戏机等。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。

尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本发明的限制，本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。

Claims (12)

1.一种金属线栅偏光片，包括相互平行设置的多个金属条，相邻的两个所述金属条之间具有间隙，其特征在于，还包括：

透明防倒伏结构，所述透明防倒伏结构设置在至少一个所述间隙内，并用于支撑所述金属条透明防倒伏结构。

2.根据权利要求1所述的金属线栅偏光片，其特征在于，所述透明防倒伏结构在第一方向上的第一端面和所述金属条在所述第一方向上的第二端面齐平或者基本齐平，其中，所述第一方向为所述金属线栅偏光片的厚度方向。

3.根据权利要求2所述的金属线栅偏光片，其特征在于，所述透明防倒伏结构满足以下条件的至少之一：

在所述第一方向上的高度为所述金属条在所述第一方向上高度的三分之一至二分之一；

在与所述第一方向垂直，且垂直于相邻的两个所述金属条的第二方向上的宽度为55nm～80nm；

材料包括纳米压印胶。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的金属线栅偏光片，其特征在于，所述透明防倒伏结构设置在全部所述间隙内。

5.根据权利要求1所述的金属线栅偏光片，其特征在于，所述金属线栅偏光片满足以下条件的至少之一：

线宽为40nm～50nm；

线距为60nm～80nm；

厚度为200nm～240nm；

透光率不低于46％。

6.根据权利要求2所述的金属线栅偏光片，其特征在于，还包括：

衬底，所述透明防倒伏结构的所述第一端面与所述衬底的表面相接触。

7.一种制作权利要求1～6中任一项所述的金属线栅偏光片的方法，其特征在于，包括：

形成相互平行设置的多个金属条，其中，相邻的两个所述金属条之间具有间隙；

形成透明防倒伏结构，所述透明防倒伏结构位于至少一个所述间隙内。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，进一步包括：

在衬底的表面上形成多个沿第二方向间隔设置所述透明防倒伏结构；

在所述衬底未被所述透明防倒伏结构覆盖的表面上和多个所述透明防倒伏结构远离所述衬底的表面上形成预制金属层；

在所述预制金属层远离所述衬底的表面上形成第一刻蚀保护层，所述第一刻蚀保护层在所述衬底上的正投影与所述透明防倒伏结构在所述衬底上的正投影完全不重叠；

对所述预制金属层进行刻蚀处理，得到多个所述金属条。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，在形成所述预制金属层之后，形成所述第一刻蚀保护层之前，还包括：

在所述预制金属层远离所述衬底的表面上形成整层的第二刻蚀保护层，

在形成所述第一刻蚀保护层以后，对所述预制金属层进行所述刻蚀处理时，对未被所述第一刻蚀保护层覆盖的部分所述第二刻蚀保护层也进行所述刻蚀处理。

10.根据权利要求8或9所述的方法，其特征在于，所述刻蚀处理包括干法刻蚀，在所述干法刻蚀的刻蚀气体中，甲烷的体积百分含量为20％～30％。

11.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述透明防倒伏结构是通过纳米压印形成的。

12.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1～6中任一项所述的金属线栅偏光片。

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