JP2014528651A - 直交する窓を有するマルチダイワイヤボンドアセンブリのためのスタブ最小化 - Google Patents

直交する窓を有するマルチダイワイヤボンドアセンブリのためのスタブ最小化 Download PDF

Info

Publication number
JP2014528651A
JP2014528651A JP2014534636A JP2014534636A JP2014528651A JP 2014528651 A JP2014528651 A JP 2014528651A JP 2014534636 A JP2014534636 A JP 2014534636A JP 2014534636 A JP2014534636 A JP 2014534636A JP 2014528651 A JP2014528651 A JP 2014528651A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
microelectronic
package
terminals
axis
microelectronic element
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2014534636A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2014528651A5 (ja
JP5887417B2 (ja
Inventor
クリスプ,リチャード・デューイット
ゾーニ,ワエル
ハーバ,ベルガセム
ランブレクト,フランク
Original Assignee
インヴェンサス・コーポレイション
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from US13/354,772 external-priority patent/US8278764B1/en
Priority claimed from US13/439,317 external-priority patent/US8659140B2/en
Priority claimed from US13/440,515 external-priority patent/US8441111B2/en
Application filed by インヴェンサス・コーポレイション filed Critical インヴェンサス・コーポレイション
Publication of JP2014528651A publication Critical patent/JP2014528651A/ja
Publication of JP2014528651A5 publication Critical patent/JP2014528651A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5887417B2 publication Critical patent/JP5887417B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F1/00Details not covered by groups G06F3/00 - G06F13/00 and G06F21/00
    • G06F1/16Constructional details or arrangements
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C5/00Details of stores covered by group G11C11/00
    • G11C5/02Disposition of storage elements, e.g. in the form of a matrix array
    • G11C5/04Supports for storage elements, e.g. memory modules; Mounting or fixing of storage elements on such supports
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F1/00Details not covered by groups G06F3/00 - G06F13/00 and G06F21/00
    • G06F1/16Constructional details or arrangements
    • G06F1/18Packaging or power distribution
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C5/00Details of stores covered by group G11C11/00
    • G11C5/06Arrangements for interconnecting storage elements electrically, e.g. by wiring
    • G11C5/063Voltage and signal distribution in integrated semi-conductor memory access lines, e.g. word-line, bit-line, cross-over resistance, propagation delay
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C5/00Details of stores covered by group G11C11/00
    • G11C5/06Arrangements for interconnecting storage elements electrically, e.g. by wiring
    • G11C5/066Means for reducing external access-lines for a semiconductor memory clip, e.g. by multiplexing at least address and data signals
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/12Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates
    • H01L23/13Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates characterised by the shape
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49827Via connections through the substrates, e.g. pins going through the substrate, coaxial cables
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49838Geometry or layout
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/50Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor for integrated circuit devices, e.g. power bus, number of leads
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/04Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
    • H01L25/065Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L25/0652Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the devices being arranged next and on each other, i.e. mixed assemblies
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/04Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
    • H01L25/065Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L25/0657Stacked arrangements of devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/10Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices having separate containers
    • H01L25/105Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/0401Bonding areas specifically adapted for bump connectors, e.g. under bump metallisation [UBM]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/04042Bonding areas specifically adapted for wire connectors, e.g. wirebond pads
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/06Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
    • H01L2224/061Disposition
    • H01L2224/0612Layout
    • H01L2224/0613Square or rectangular array
    • H01L2224/06134Square or rectangular array covering only portions of the surface to be connected
    • H01L2224/06136Covering only the central area of the surface to be connected, i.e. central arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/06Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
    • H01L2224/061Disposition
    • H01L2224/0612Layout
    • H01L2224/0615Mirror array, i.e. array having only a reflection symmetry, i.e. bilateral symmetry
    • H01L2224/06154Mirror array, i.e. array having only a reflection symmetry, i.e. bilateral symmetry covering only portions of the surface to be connected
    • H01L2224/06156Covering only the central area of the surface to be connected, i.e. central arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32135Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/32145Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32225Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/4824Connecting between the body and an opposite side of the item with respect to the body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73201Location after the connecting process on the same surface
    • H01L2224/73215Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/0651Wire or wire-like electrical connections from device to substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/06513Bump or bump-like direct electrical connections between devices, e.g. flip-chip connection, solder bumps
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/06517Bump or bump-like direct electrical connections from device to substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/06555Geometry of the stack, e.g. form of the devices, geometry to facilitate stacking
    • H01L2225/06562Geometry of the stack, e.g. form of the devices, geometry to facilitate stacking at least one device in the stack being rotated or offset
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/04All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
    • H01L2225/065All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/06503Stacked arrangements of devices
    • H01L2225/06589Thermal management, e.g. cooling
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/10All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers
    • H01L2225/1005All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/1011All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement
    • H01L2225/1017All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement the lowermost container comprising a device support
    • H01L2225/1023All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement the lowermost container comprising a device support the support being an insulating substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/10All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers
    • H01L2225/1005All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/1011All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement
    • H01L2225/1047Details of electrical connections between containers
    • H01L2225/107Indirect electrical connections, e.g. via an interposer, a flexible substrate, using TAB
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • H01L23/3107Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
    • H01L23/3121Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation
    • H01L23/3128Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation the substrate having spherical bumps for external connection
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/02Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L24/06Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/10Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L24/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L24/10, H01L24/18, H01L24/26, H01L24/34, H01L24/42, H01L24/50, H01L24/63, H01L24/71
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/013Alloys
    • H01L2924/0132Binary Alloys
    • H01L2924/01322Eutectic Alloys, i.e. obtained by a liquid transforming into two solid phases
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits
    • H01L2924/143Digital devices
    • H01L2924/1431Logic devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits
    • H01L2924/143Digital devices
    • H01L2924/1434Memory
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/153Connection portion
    • H01L2924/1531Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
    • H01L2924/15311Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation
    • H01L2924/1815Shape
    • H01L2924/1816Exposing the passive side of the semiconductor or solid-state body
    • H01L2924/18165Exposing the passive side of the semiconductor or solid-state body of a wire bonded chip
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/19Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/1901Structure
    • H01L2924/1904Component type
    • H01L2924/19041Component type being a capacitor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/19Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/191Disposition
    • H01L2924/19101Disposition of discrete passive components
    • H01L2924/19102Disposition of discrete passive components in a stacked assembly with the semiconductor or solid state device
    • H01L2924/19103Disposition of discrete passive components in a stacked assembly with the semiconductor or solid state device interposed between the semiconductor or solid-state device and the die mounting substrate, i.e. chip-on-passive
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/3011Impedance

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
  • Dram (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

超小型電子パッケージ10が、基板20の第1の表面21と第2の表面23との間に延在する第1の開口部26a、第2の開口部30b及び第3の開口部30cを有する基板20と、それぞれ第1の表面に面する表面31を有する第1の超小型電子素子30a、第2の超小型電子素子34b及び第3の超小型電子素子34cと、第2の表面の中央領域23において露出する複数の端子25aとを有することができる。開口部26a、30b、30cはそれぞれの開口部の長さ方向に延在する第1の軸29a、第2の軸33b及び第3の軸33cを有することができる。第1の軸29a及び第2の軸33bは互いに平行にすることができる。第3の軸29cは第1の軸29aを横切ることができる。基板20の第2の表面22の中央領域23は、第1の軸29aと第2の軸33bとの間に配置することができる。端子25aは、超小型電子素子30a、34b、34cのうちの少なくとも1つの超小型電子素子のメモリ記憶アレイの利用可能なアドレス指定可能メモリ位置の中から、アドレス指定可能メモリ位置を決定するのに超小型電子アセンブリ10内の回路によって使用可能なアドレス情報を運ぶように構成することができる。【選択図】図5B

Description

本出願の主題は、超小型電子パッケージ及び超小型電子パッケージを組み込んだアセンブリに関する。
[関連出願の相互参照]
本出願は、2012年1月20日に出願された米国特許出願第13/354,772号、2012年4月4日に出願された同第13/439,317号、及び2012年4月5日に出願された同第13/440,515号の一部継続出願である。これらの米国特許出願のそれぞれは、2011年10月3日に出願された米国仮特許出願第61/542,553号の出願日の利益を主張する。これらの特許文献の開示内容は、本明細書に引用することによって本明細書の一部をなすものとする。
半導体チップは、一般に、個々のパッケージされたユニットとして提供される。標準的なチップは、平坦な方形の本体を有し、この本体は、チップの内部回路部に接続されたコンタクトを有する大きな前面を備えている。個々の各チップは、通常、チップのコンタクトに接続された外部端子を有するパッケージ内に含まれている。また、端子、すなわちパッケージの外部接続点は、プリント回路基板等の回路パネルに電気的に接続するように構成されている。多くの従来の設計では、チップパッケージは、チップ自体の面積よりもかなり大きな回路パネルの面積を占有する。「チップの面積」とは、この開示において、前面を有する平坦なチップに関して用いられるとき、前面の面積を指すものとして理解されるべきである。
「フリップチップ」設計では、チップの前面は、パッケージ誘電体素子、すなわち、パッケージの基板の面に向き合い、チップ上のコンタクトは、はんだバンプ又は他の接続素子によってこの基板の面上のコンタクトに直接ボンディングされる。また、この基板は、当該基板の上に重なる外部端子を通じて回路パネルにボンディングすることができる。「フリップチップ」設計は、比較的コンパクトな構成を提供する。いくつかのフリップチップパッケージは一般に「チップスケールパッケージ」と呼ばれる。「チップスケールパッケージ」では、各パッケージは、例えば、本願と同一の譲受人に譲渡された米国特許第5,148,265号、同第5,148,266号、及び同第5,679,977号の或る特定の実施形態に開示されているように、チップの前面の面積に等しいか又はそれよりも僅かに大きな回路パネルの面積を占有する。これらの米国特許の開示内容は、引用することによって本明細書の一部をなすものとする。或る特定の革新的な実装技法が、従来のフリップチップボンディングのコンパクト性に匹敵するコンパクト性又はそれに等しいコンパクト性を提供する。
チップのいかなる物理的構成においても、サイズは重要な考慮事項である。チップのより小型の物理的構成に対する要求は、携帯型電子デバイスの急速な発展により、更に強くなってきている。単に例として、一般に「スマートフォン」と呼ばれるデバイスは、携帯電話の機能を、強力なデータプロセッサ、メモリ、並びに全地球測位システム受信機、電子カメラ及びローカルエリアネットワーク接続等の補助デバイスと、高解像度ディスプレイ及び関連する画像処理チップとともに一体化している。こうしたデバイスは、完全なインターネット接続、最大解像度の映像を含むエンターテイメント、ナビゲーション、電子銀行等の機能を、全てポケットサイズのデバイスで提供することができる。複雑な携帯型デバイスでは、多数のチップを小さい空間に詰め込む必要がある。さらに、チップのうちのいくつかは、一般に「I/O」と呼ばれる多くの入出力接続を有している。これらのI/Oを、他のチップのI/Oと相互接続しなければならない。相互接続を形成するコンポーネントは、アセンブリのサイズを大幅に増大させるべきではない。同様の必要性は、例えば、インターネット検索エンジンで使用されるもの等の、性能の増大及びサイズの低減が必要とされるデータサーバにおける用途等の、他の用途でも発生する。
メモリ記憶アレイ、特にダイナミックランダムアクセスメモリチップ(DRAM)及びフラッシュメモリチップを含む半導体チップは、一般に、単一チップ又は複数チップのパッケージ及びアセンブリにパッケージされる。各パッケージは、端子と、その中のチップとの間で信号を運び、電源及び接地を接続するために数多くの電気的接続を有する。それらの電気的接続は、チップのコンタクト支持面に対して水平方向に延在する水平導体、例えば、トレース、ビームリード等、及びチップの表面に対して垂直方向に延在するビア等の垂直導体、並びにチップの表面に対して水平及び垂直の両方向に延在するワイヤボンド等の、異なる種類の導体を含むことができる。
マルチチップパッケージ内で、そのパッケージの複数のチップに信号を送信することは、特に、メモリチップに対するクロック信号、アドレス信号及びストローブ信号等の、パッケージ内の2つ以上のチップに共通の信号の場合、課題をもたらす。そのようなマルチチップパッケージ内では、パッケージの端子とチップとの間の接続経路の長さが異なる可能性がある。経路長が異なると、信号が端子と各チップとの間を進行するのにかかる時間が長くなるか又は短くなる可能性がある。2点間の信号の進行時間は「伝搬遅延」と呼ばれ、導体長、導体の構造、及びその導体に近接している他の誘電体又は導体構造の関数である。
2つの異なる信号が特定の場所に到着する時間差も「スキュー」と呼ぶことができる。2つ以上の場所において特定の信号の到着時間に生じるスキューは、伝搬遅延と、その特定の信号がそれらの場所に向かって進行し始める時刻との両方の結果である。スキューは回路性能に影響を与える場合も、与えない場合もある。同期している信号群内の全ての信号に一斉にスキューが生じているとき、その場合、動作のために必要とされる全ての信号が、必要なときに一緒に到着するので、スキューは多くの場合に性能にほとんど影響を及ぼさない。しかしながら、動作のために必要とされる同期している信号群の異なる信号が異なる時刻に到着するとき、これは当てはまらない。この場合、必要とされる全ての信号が到着しない限り、動作を実行することができないので、スキューは性能に影響を与える。本明細書において説明する実施形態は、同時係属中の米国特許出願第13/306,068号に開示されているスキューを最小にする特徴を含むことができる。この米国特許出願の開示内容は、引用することによって本明細書の一部をなすものとする。
従来の超小型電子パッケージは、主としてメモリ記憶アレイ機能を提供するように構成される超小型電子素子、すなわち、メモリ記憶アレイ機能を提供する能動デバイスを他のいずれの機能よりも多く具現化する超小型電子素子を組み込むことができる。この超小型電子素子は、DRAMチップ、又はそのような半導体チップを積重して電気的に相互接続したアセンブリとすることもできるし、それらを含むこともできる。通常、そのようなパッケージの端子の全ては、超小型電子素子が実装されるパッケージ基板の1つ又は複数の周縁部に隣接して数組の列に配置される。
例えば、図1に見られる1つの従来の超小型電子パッケージ112において、パッケージ基板120の第1の周縁部116に隣接して端子の3つの列114を配置することができ、パッケージ基板120の第2の周縁部122に隣接して端子の別の3つの列118を配置することができる。従来のパッケージにおけるパッケージ基板120の中央領域124には、端子の列は全くない。図1は更に、パッケージ内の、その面128上に素子コンタクト126を有する半導体チップ111を示す。素子コンタクト126は、パッケージ基板120の中央領域124における開口部、例えばボンドウインドウ、を通って延在するワイヤボンド130を通じて、パッケージ112の端子の列114、118と電気的に相互接続されている。場合によっては、超小型電子素子111の面128と基板120との間に接着層132を配置して、ワイヤボンド130が接着層の開口部を通って延在する状態で、超小型電子素子と基板との機械的接続を補強することができる。
上記に鑑みて、特にそのようなパッケージと、そのようなパッケージを搭載し互いに電気的に相互接続することができる回路パネルとを含むアセンブリにおいて電気的性能を改善するために、超小型電子パッケージ上で端子の配置の改善をいくらか行うことができる。
本発明の一態様によれば、超小型電子パッケージが、互いに反対側の第1の表面及び前記第2の表面と、前記第1の表面と前記第2の表面との間に延在する第1の開口部、第2の開口部、及び第3の開口部とを有する基板と、それぞれ前記基板の前記第1の表面に面する表面と、それぞれの前記超小型電子素子の前記表面において露出し、前記開口部のうちの少なくとも1つと位置合わせされる複数のコンタクトとを有する第1の超小型電子素子、第2の超小型電子素子、及び第3の超小型電子素子と、前記第2の表面において、該第2の表面の中央領域内に露出する複数の端子と、各超小型電子素子の前記コンタクトと前記端子との間に電気的に接続されたリードとを備えることができる。前記開口部は、それぞれの前記開口部の長さの方向に延在する第1の軸、第2の軸、及び第3の軸を有することができる。前記第1の軸及び前記第2の軸は互いに平行とすることができる。前記第3の軸は前記第1の軸及び前記第2の軸を横切ることができる。前記基板の前記第2の表面の中央領域は、前記第1の軸及び前記第2の軸の間に配置することができる。各超小型電子素子は、メモリ記憶アレイ機能を有することができる。前記端子は、前記超小型電子パッケージを該パッケージの外部にある少なくとも1つの構成要素に接続するように構成することができる。各リードは、前記開口部のうちの少なくとも1つと位置合わせされる部分を有することができる。前記端子は、前記第1の超小型電子素子、前記第2の超小型電子素子、及び前記第3の超小型電子素子のうちの少なくとも1つの超小型電子素子メモリ記憶アレイの全ての利用可能なアドレス指定可能メモリ位置の中から、1つのアドレス指定可能メモリ位置を決定するのに前記超小型電子パッケージ内の回路によって使用可能なアドレス情報を運ぶように構成することができる。
一実施形態において、前記超小型電子素子のそれぞれは、メモリ記憶アレイ機能を提供する能動素子の数をいかなる他の機能よりも多く具体化することができる。特定の実施形態において、前記端子は、前記アドレス指定可能メモリ位置を決定するのに前記超小型電子パッケージ内の前記回路によって使用可能な前記アドレス情報の全てを運ぶように構成することができる。例示的な実施形態において、前記端子は、前記超小型電子素子の動作モードを制御する情報を運ぶように構成することができる。一例において、前記第端子は、前記超小型電子パッケージに転送されるコマンド信号の全てを運ぶように構成することができ、前記コマンド信号は、ライトイネーブル、行アドレスストローブ、及び列アドレスストローブ信号である。特定の実施形態において、前記端子は、前記超小型電子パッケージに転送されるクロック信号を運ぶように構成することができ、前記クロック信号は、前記アドレス情報をサンプリングするのに用いられるクロックである。例示的な実施形態において、前記端子は、前記超小型電子パッケージに転送される前記バンクアドレス信号の全てを運ぶように構成することができる。特定の実施形態において、前記基板は、該基板の平面内におけるCTEが12ppm/℃未満の材料から本質的になる要素とすることができる。一実施形態において、前記基板は、該基板の平面内におけるCTEが30ppm/℃未満の材料から本質的になる誘電素子を含むことができる。
特定の例において、前記端子は第1の端子とすることができ、前記第2の表面は、前記中央領域と、前記基板の前記第1の表面と前記第2の表面との間に延在する対向する第1の縁部及び第2の縁部との間の周辺領域を有することができる。前記超小型電子パッケージは複数の第2の端子も含むことができる。前記第2の端子のうちの少なくともいくつかは、前記第2の表面において、前記周辺領域のうちの少なくとも1つの周辺領域内に露出することができる。前記第2の端子は、該超小型電子パッケージを前記超小型電子パッケージの外部にある少なくとも1つの構成要素に接続するように構成することができる。一例において、前記第2の端子のうちの少なくともいくつかは、前記アドレス情報以外の情報を運ぶように構成することができる。例示的な実施形態において、前記アドレス情報以外の情報を運ぶように構成された前記第2の端子のうちの少なくともいくつかは、前記第2の表面において前記中央領域内に露出することができる。
一実施形態において、前記リードのうちの少なくともいくつかは、前記開口部のうちの少なくとも1つを通って延在するワイヤボンドを含むことができる。特定の実施形態において、前記リードの全ては、前記開口部のうちの少なくとも1つを通って延在するワイヤボンドとすることができる。例示的な実施形態において、前記リードのうちの少なくともいくつかはリードボンドを含むことができる。一例において、前記超小型電子素子のそれぞれの前記メモリ記憶アレイ機能は、NANDフラッシュ、抵抗変化型RAM、相変化メモリ、磁気RAM、スタティックRAM、ダイナミックRAM、スピントルクRAM、又は連想メモリの技術において実施することができる。特定の例において、前記超小型電子素子のそれぞれは、ダイナミックランダムアクセスメモリ(「DRAM」)集積回路チップを含むことができる。一例において、前記超小型電子素子のそれぞれは、前記超小型電子素子のうちの他のものと機能的及び機械的に対等である。特定の実施形態において、前記超小型電子パッケージは、該超小型電子パッケージにおける前記端子のうちの少なくともいくつか及び前記超小型電子素子のうちの1つ又は複数に電気的に接続される半導体素子も備えることができる。前記半導体素子は、前記超小型電子パッケージの前記端子のうちの1つ又は複数で受け取られる少なくとも1つの信号の再生と少なくとも部分的な復号化とのうちの少なくとも1つを行うように構成することができる。例示的な実施形態において、前記端子は4つ以下の列に配列することができる。一例において、前記端子は2つ以下の列に配列することができる。
特定の実施形態において、前記列は前記第1の軸に平行とすることができる。例示的な実施形態において、前記超小型電子素子のうちの少なくとも1つと熱連通するヒートスプレッダを更に備えることができる。一例では、前記端子は理論的な中間軸の第1の側に配置される前記端子第1の集合と、前記第1の側の反対側の前記理論的な中間軸の第2の側に配置される前記端子第2の集合とを含むことができる。前記第1の集合及び前記第2の集合はそれぞれ前記アドレス情報を運ぶように構成することができる。前記第1の集合内の前記端子の前記信号割当ては、前記第2の集合内の前記端子の前記信号割当ての鏡像とすることができる。一実施形態では、前記第1の集合及び前記第2の集合の前記端子は、それぞれの第1のグリッド及び第2のグリッド内の位置に配置することができ、前記第1のグリッド及び前記第2のグリッド内の端子の列は、前記基板の対向する第1の縁部及び第2の縁部に対して平行な方向に延在することができる。
例示的な実施形態では、前記中間軸は、前記基板の前記第1の縁部及び前記第2の縁部に対して平行であり、かつ等距離にある線から、前記端子の任意の2つの隣接する列間の最小ピッチの3.5倍の距離以下とすることができる。特定の実施形態では、前記中間軸は、前記基板の前記第1の縁部及び前記第2の縁部に対して平行であり、かつ等距離にある線の、前記端子の任意の2つの隣接する列間の最小ピッチの距離以下とすることができる。一実施形態では、各グリッドは、前記端子の2つの隣接する平行な列を含むことができる。一例では、前記第1の集合及び前記第2の集合の前記端子は、それぞれの第1のグリッド及び第2のグリッド内の位置に配置することができ、前記第1のグリッド及び前記第2のグリッド内の端子の列は、前記第1の軸及び前記第2の軸に対して平行な方向に延在することができる。特定の実施形態では、前記第1の超小型電子素子及び前記第2の超小型電子素子の前記表面は、前記基板の前記第1の表面に対して平行な単一の面内に配置することができる。前記第3の超小型電子素子の前記表面は、前記第1の超小型電子素子及び第2の超小型電子素子のうちの少なくとも一方の超小型電子素子の背面の上に少なくとも部分的に重なることができる。
一例では、前記超小型電子素子のうちの全ての前記表面は、前記基板の前記第1の表面に平行な単一の平面内に配列することができる。特定の実施形態では、前記基板は第4の開口部を有することができ、前記第4の開口部は、前記第1の軸及び前記第2の軸を横切り、前記第4の開口部の長さの方向に延在する第4の軸を有する。前記超小型電子パッケージは、前記基板の前記第1の表面に面する表面を有する第4の超小型電子素子も備えることができる。該第4の超小型電子素子はメモリ記憶アレイ機能を有することができる。該第4の超小型電子素子は、該第4の超小型電子素子の前記表面において露出し、前記開口部のうちの少なくとも1つと位置合わせされる複数のコンタクトを有することができる。前記超小型電子パッケージは、前記第4の超小型電子素子の前記コンタクトと前記端子との間に電気的に接続される第2のリードも備えることができる。前記第2のリードはそれぞれ前記開口部のうちの少なくとも1つと位置合わせされる部分を有することができる。
例示的な実施形態では、前記第1の超小型電子素子、前記第2の超小型電子素子、前記第3の超小型電子素子及び前記第4の超小型電子素子はそれぞれ、前記それぞれの超小型電子素子の長さ方向に延在する対向する第1の縁部及び第2の縁部を有することができる。前記第1の縁部はそれぞれ、前記パッケージの質量中心に隣接する部分を有することができる。前記第1の縁部はそれぞれ、前記超小型電子素子の他の超小型電子素子のうちの厳密に1つを通って延在する面を画定することができる。特定の例では、前記第1の開口部、前記第2の開口部、前記第3の開口部及び前記第4の開口部のそれぞれの前記軸は、前記開口部の他の開口部のうちの厳密に1つの開口部を通って延在することができる。一例では、前記第1の軸、前記第2の軸、前記第3の軸及び前記第4の軸はそれぞれ、前記軸の他の軸のうちの厳密に2つの軸を通って延在することができる。
本発明の別の態様によれば、超小型電子パッケージが、互いに反対側の第1の表面及び第2の表面と、前記第1の表面と前記第2の表面との間に延在する第1の開口部、第2の開口部、及び第3の開口部とを有する基板と、それぞれ前記基板の前記第1の表面に面する表面と、それぞれの前記超小型電子素子の表面に露出するとともに前記開口部のうちの少なくとも1つと位置合わせされる複数のコンタクトとを有する第1の超小型電子素子、第2の超小型電子素子、及び第3の超小型電子素子と、前記第2の表面において、該第2の表面の中央領域内に露出する複数の端子と、各超小型電子素子の前記コンタクトと前記端子との間に電気的に接続されたリードとを備えることができる。前記開口部は、それぞれの前記開口部の長さの方向に延在する第1の軸、第2の軸、及び第3の軸を有することができる。前記第1の軸及び前記第2の軸は互いに平行とすることができる。前記第3の軸は前記第1の軸及び前記第2の軸を横切ることができる。前記基板の前記第2の表面の中央領域は、前記第1の軸と前記第2の軸の間に配置することができる。
各超小型電子素子は、メモリ記憶アレイ機能を提供する能動素子の数をいかなる他の機能よりも多く具体化することができる。前記端子は、前記超小型電子パッケージを該パッケージの外部にある少なくとも1つの構成要素に接続するように構成することができる。各リードは、前記開口部のうちの少なくとも1つと位置合わせされる部分を有することができる。前記端子は、前記第1の超小型電子素子、前記第2の超小型電子素子、及び前記第3の超小型電子素子内のメモリ記憶アレイの全ての利用可能なアドレス指定可能メモリ位置の中から、1つのアドレス指定可能メモリ位置を決定するのに前記超小型電子パッケージ内の回路によって使用可能なアドレス情報の大部分を運ぶように構成することができる。特定の例において、前記端子は、前記アドレス指定可能メモリ位置を決定するのに前記超小型電子パッケージ内の回路によって使用可能な前記アドレス情報の少なくとも3/4を運ぶように構成することができる。
本発明の別の態様によれば、超小型電子パッケージが、互いに反対側の第1の表面及び第2の表面と、前記第1の表面と前記第2の表面との間に延在する第1の開口部、第2の開口部、及び第3の開口部とを有する基板と、それぞれ前記基板の前記第1の表面に面する表面と、それぞれの前記超小型電子素子の表面に露出するとともに前記開口部のうちの少なくとも1つと位置合わせされる複数のコンタクトとを有する第1の超小型電子素子、第2の超小型電子素子、及び第3の超小型電子素子と、前記第2の表面において、該第2の表面の中央領域内に露出する複数の端子と、各超小型電子素子の前記コンタクトと前記端子との間に電気的に接続されたリードとを備えることができる。前記基板は前記第1の開口部及び前記第2の開口部の長さの方向に延在する第1の軸も有することができる。前記第3の開口部は、前記第1の軸を横切り、前記第3の開口部の長さの方向に延在する第2の軸を有することができる。
前記基板の前記第2の表面の前記中央領域は、それぞれの前記第1の開口部及び前記第2の開口部の隣接する端部に配置される平行な第1の線と第2の線との間に配置することができる。各超小型電子素子はメモリ記憶アレイ機能を有することができる。前記端子は、前記超小型電子パッケージを該パッケージの外部にある少なくとも1つの構成要素に接続するように構成することができる。各リードは、前記開口部のうちの少なくとも1つと位置合わせされる部分を有することができる。前記端子は、前記第1の超小型電子素子、前記第2の超小型電子素子又は前記第3の超小型電子素子のうちの少なくとも1つの超小型電子素子のメモリ記憶アレイの全ての利用可能なアドレス指定可能メモリ位置の中から、1つのアドレス指定可能メモリ位置を決定するのに前記超小型電子パッケージ内の回路によって使用可能なアドレス情報を運ぶように構成することができる。
一例において、前記超小型電子素子のそれぞれは、メモリ記憶アレイ機能を提供する能動素子の数をいかなる他の機能よりも多く具体化することができる。特定の実施形態では、前記端子は理論的な中間軸の第1の側に配置される第1の集合と、前記第1の側の反対側の前記理論的な中間軸の第2の側に配置される第2の集合とを含むことができる。前記第1の集合及び前記第2の集合はそれぞれ前記アドレス情報を運ぶように構成することができる。前記第1の集合内の前記端子の前記信号割当ては、前記第2の集合内の前記端子の前記信号割当ての鏡像とすることができる。例示的な実施形態では、前記第1の集合及び前記第2の集合の前記端子は、それぞれの第1のグリッド及び第2のグリッド内の位置に配置することができ、前記第1のグリッド及び前記第2のグリッド内の端子の列は、前記基板の対向する第1の縁部及び第2の縁部に対して平行な方向に延在することができる。
一例では、前記基板は第4の開口部を有することができ、前記第2の軸は前記第4の開口部の長さの方向に延在することができる。前記超小型電子パッケージは、前記基板の前記第1の表面に面する表面を有する第4の超小型電子素子も備えることができる。該第4の超小型電子素子はメモリ記憶アレイ機能を有することができる。該第4の超小型電子素子は、該第4の超小型電子素子の前記表面において露出し、前記開口部のうちの少なくとも1つと位置合わせされる複数のコンタクトを有することができる。前記超小型電子パッケージは、前記第4の超小型電子素子の前記コンタクトと前記端子との間に電気的に接続される第2のリードも備えることができる。前記第2のリードはそれぞれ前記開口部のうちの少なくとも1つと位置合わせされる部分を有することができる。例示的な実施形態では、前記中央領域は、前記第1の開口部、前記第2の開口部、前記第3の開口部及び前記第4の開口部の前記隣接する端部を越えて延在しない前記基板の長方形エリア内に配置することができる。
本発明の更に別の態様によれば、超小型電子パッケージが、互いに反対側の第1の表面及び第2の表面と、前記第1の表面と前記第2の表面との間に延在する第1の開口部及び第2の開口部とを有する基板と、それぞれ前記基板の前記第1の表面に面する表面と、それぞれの前記超小型電子素子の表面に露出するとともに前記開口部のうちの少なくとも1つと位置合わせされる複数のコンタクトとを有する第1及び第2の超小型電子素子と、前記第2の表面において、該第2の表面の中央領域内に露出する複数の端子と、各超小型電子素子の前記コンタクトと前記端子との間に電気的に接続されたリードとを備えることができる。前記開口部は、それぞれの前記開口部の長さの方向に延在する第1の横断軸及び第2の横断軸を有することができる。前記基板の前記第2の表面の中央領域は、前記第1の開口に隣接して配置することができる。各超小型電子素子はメモリ記憶アレイ機能を有することができる。前記端子は前記超小型電子パッケージを該パッケージの外部にある少なくとも1つの構成要素に接続するように構成することができる。
前記端子は理論的な中間軸の第1の側に配置される前記端子の第1の集合と、前記第1の側の反対側の前記理論的な中間軸の第2の側に配置される前記端子の第2の集合とを含むことができる。前記第1の集合及び前記第2の集合はそれぞれ前記アドレス情報を運ぶように構成することができる。前記第1の集合内の前記端子の前記信号割当ては、前記第2の集合内の前記端子の前記信号割当ての鏡像とすることができる。前記第1の開口部は前記端子の前記第1の集合と前記第2の集合との間に少なくとも部分的に配置することができる。各リードは、前記開口部のうちの少なくとも1つと位置合わせされる部分を有することができる。前記端子は、前記第1の超小型電子素子及び前記第2の超小型電子素子のうちの少なくとも1つの超小型電子素子メモリ記憶アレイの全ての利用可能なアドレス指定可能メモリ位置の中から、1つのアドレス指定可能メモリ位置を決定するのに前記超小型電子パッケージ内の回路によって使用可能なアドレス情報を運ぶように構成することができる。一例において、前記超小型電子素子のそれぞれは、メモリ記憶アレイ機能を提供する能動素子の数をいかなる他の機能よりも多く具体化することができる。
本発明の更に別の態様によれば、超小型電子パッケージが、互いに反対側の第1の表面及び第2の表面と、前記第1の表面と前記第2の表面との間に延在する第1の開口部及び第2の開口部とを有する基板と、それぞれ前記基板の前記第1の表面に面する表面と、それぞれの前記超小型電子素子の表面に露出するとともに前記開口部のうちの少なくとも1つと位置合わせされる複数のコンタクトとを有する第1の超小型電子素子及び第2の超小型電子素子と、前記第2の表面において、該第2の表面の中央領域内に露出する複数の端子と、各超小型電子素子の前記コンタクトと前記端子との間に電気的に接続されたリードとを備えることができる。前記第1の開口部は、前記第1の開口部の長さの第1の方向に延在する軸を有することができる。前記第2の開口部は前記第1の方向を横切る第2の方向に延在する長さを有することができる。前記第2の開口部は前記第1の開口部に隣接する端部を有することができる。
前記基板の前記第2の表面の前記中央領域は、前記軸と、該軸に対して平行であり、前記第2の開口部の端部に接する線との間に配置することができる。各超小型電子素子は、メモリ記憶アレイ機能を有することができる。前記端子は、前記超小型電子パッケージを該パッケージの外部にある少なくとも1つの構成要素に接続するように構成することができる。各リードは、前記開口部のうちの少なくとも1つと位置合わせされる部分を有することができる。前記端子は、前記第1の超小型電子素子及び前記第2の超小型電子素子のうちの少なくとも1つの超小型電子素子メモリ記憶アレイの全ての利用可能なアドレス指定可能メモリ位置の中から、1つのアドレス指定可能メモリ位置を決定するのに前記超小型電子パッケージ内の回路によって使用可能なアドレス情報を運ぶように構成することができる。一例において、前記超小型電子素子のそれぞれは、メモリ記憶アレイ機能を提供する能動素子の数をいかなる他の機能よりも多く具体化することができる。
従来技術の超小型電子パッケージの側断面図である。 超小型電子パッケージの端子間の電気的接続を示す、超小型電子アセンブリの概略斜視図である。 図2の超小型電子アセンブリの側断面図である。 図3の超小型電子パッケージの端子間の電気的接続の概略底面図である。 本発明の一実施形態による超小型電子パッケージの概略底面図である。 図5AのA−Aの線に沿って取られた図5Aの超小型電子アセンブリの側断面図である。 図5Aに示す超小型電子素子のうちの1つの概略底面図である。 図5Aに示す超小型電子素子のうちの1つの代替の実施形態の概略底面図である。 図5Aに示す2つの超小型電子パッケージを含む超小型電子アセンブリの1つのあり得る図5AのA−A線側断面図である。 図5Aに示す2つの超小型電子パッケージを含む超小型電子アセンブリの別のあり得る図5AのA−A線側断面図である。 超小型電子パッケージの端子間の電気的接続を示す、図5Eの超小型電子アセンブリのあり得る概略斜視図である。 単一の列に配列された第1の端子の単一のグリッドを有する別の実施形態による超小型電子パッケージの概略底面図である。 図6Aに示す2つの超小型電子パッケージを含む超小型電子アセンブリの1つのあり得る図6Aの6B−6B線側断面図である。 更に別の実施形態による、第1の端子の、それぞれが2列に配列された2つのグリッドを有する超小型電子パッケージの概略底面図である。 図7Aに示す2つの超小型電子パッケージを含む超小型電子アセンブリの1つのあり得る図7Aの7B−7B線側断面図である。 端子信号割当ての代替のレイアウトを有する図7Aの超小型電子パッケージの変形形態の図である。 第1の端子の4つのグリッドを有し、各グリッドが2列に配置される、別の実施形態による超小型電子パッケージの概略的な底面図である。 更に別の実施形態による、3つの超小型電子素子を有する超小型電子パッケージの概略底面図である。 別の実施形態による、2つの超小型電子素子を有する超小型電子パッケージの概略底面図である。 図9A又は図9Bの線9C−9Cに沿って見た、図9A又は図9Bに示されるような超小型電子アセンブリの考えられる側断面図である。 風車構成の4つの超小型電子素子を有する別の実施形態による超小型電子パッケージの概略的な底面図である。 図10Aに示す2つの超小型電子パッケージを含む超小型電子アセンブリの1つのあり得る図10Aの10B−10B線側断面図である。 3つの列に配列された第1の端子を有する、図10Aの超小型電子パッケージの変形形態の図である。 超小型電子素子の代替のレイアウトを有する図10Aの超小型電子パッケージの別の変形形態を示す図である。 第1の端子の、それぞれが2つの列に配列された2つのグリッドを有する、図10Aの超小型電子パッケージの更に別の変形形態の図である。 図11Aに示す2つの超小型電子パッケージを含む超小型電子アセンブリの1つのあり得る図11Aの11B−11B線側断面図である。 第1の端子の、それぞれが3つの列に配列された2つのグリッドを有する、図11Aの超小型電子パッケージの変形形態の図である。 超小型電子素子の代替のレイアウトを有する図11Aの超小型電子パッケージの別の変形形態を示す図である。 端子信号割当ての代替のレイアウトを有する図11Aの超小型電子パッケージの変形形態の図である。 超小型電子素子の代替のレイアウトを有する図10Aの超小型電子パッケージの別の変形形態を示す図である。 別の構成の4つの超小型電子素子を有する別の実施形態による超小型電子パッケージの概略的な底面図である。 第1の端子の、それぞれが2つの列に配列された2つのグリッドを有する、図13Aの超小型電子パッケージの変形形態の図である。 別の構成の4つの超小型電子素子を有する更に別の実施形態による超小型電子パッケージの概略的な底面図である。 第1の端子の、それぞれが2つの列に配列された2つのグリッドを有する、図14Aの超小型電子パッケージの変形形態の図である。 第1の端子の、それぞれが2つの列に配列された4つのグリッドを有する、図14Bの超小型電子パッケージの変形形態の図である。 更に別の実施形態による、単一の平面内に向いた3つの超小型電子素子を有する、超小型電子パッケージの概略底面図である。 単一の平面内に向いた2つの超小型電子素子を有する、別の実施形態による超小型電子パッケージの概略底面図である。 2列に配置される第1の端子の単一のグリッドを有する図15Bの超小型電子パッケージの変形形態を示す図である。 本発明の実施形態によるシステムを示す概略断面図である。 本発明の実施形態による、システムを示す概略断面図である。
図1に関して説明する例示的な従来の超小型電子パッケージ112に鑑みて、本発明者らは、メモリ記憶アレイチップを組み込む超小型電子パッケージ及びそのような超小型電子パッケージを組み込む超小型電子アセンブリの電気的性能を改善するのに役立てることができる、行うことができる改善を認識した。
特に、図2〜図4に示すもの等のアセンブリ内に設けられた場合の超小型電子パッケージの使用に関して改善を行うことができる。図2〜図4において、パッケージ112Aが回路パネルの表面に搭載され、別の同様なパッケージ112Bが回路パネルの反対側の表面上に、それに向き合って搭載される。パッケージ112A、112Bは通常、機能的及び機械的に互いに同等である。機能的及び機械的に同等なパッケージの他の対112Cと112D、及び112Eと112Fもまた、通常同じ回路パネル134に搭載される。回路パネルとそれに取り付けられたパッケージとは、一般にデュアルインラインメモリモジュール(「DIMM」)と呼ばれるアセンブリの一部を形成することができる。対向して搭載されたパッケージの対それぞれにおけるパッケージ、例えばパッケージ112A、112Bは、回路パネルの互いに反対側の表面上のコンタクトに接続し、それぞれの対におけるパッケージ同士が通常それぞれの面積の90%よりも多く互いに重なるようになっている。回路パネル134内のローカル配線は、端子、例えばそれぞれのパッケージ上の「1」、「5」とラベルがついた端子を回路パネル上のグローバル配線に接続する。グローバル配線は、位置I、II、及びIII等の回路パネル134上の接続位置にいくつかの信号を伝えるのに用いる、バス136の信号導体を含む。例えば、パッケージ112A、112Bは、接続位置Iに結合したローカル配線によってバス136に電気的に接続され、パッケージ112C、112Dは、接続位置IIに結合したローカル配線によってバスに電気的に接続され、パッケージ112E、112Fは、接続位置IIIに結合したローカル配線によってバスに電気的に接続される。
回路パネル134は、パッケージ112Aの一方の縁部116近くの「1」とラベルがついた端子が回路パネル134を貫いてパッケージ112Bの同じ縁部116近くのパッケージ112Bの「1」とラベルがついた端子に接続する、十文字すなわち「シューレース(shoelace)」パターンと同様に見えるローカル相互接続配線を用いて、パッケージ112A、112Bそれぞれの端子を電気的に相互接続する。しかし、回路パネル134に取り付けたパッケージ112Bの縁部116は、パッケージ112Aの縁部116から遠い。図2〜図4は、パッケージ112Aの縁部122近くの「5」とラベルがついた端子が回路パネル134を貫いてパッケージ112Bの同じ縁部122近くのパッケージ112Bの「5」とラベルがついた端子に接続するということを更に示す。アセンブリ138において、パッケージ112Aの縁部122はパッケージ112Bの縁部122から遠い。
回路パネルを貫く、それぞれのパッケージ、例えばパッケージ112A上の端子と、その反対側に搭載されたパッケージ、すなわちパッケージ112B上の対応する端子との間の接続は、かなり長いものである。図3において更にわかるように、同様の超小型電子パッケージ112A、121Bのそのようなアセンブリにおいて、回路パネル134は、バス136の信号導体を、バスからの同じ信号がそれぞれのパッケージに送信されることになっている場合には、「1」と印がついたパッケージ112Aの端子及び「1」と印がついたパッケージ112Bの対応する端子と電気的に相互接続することができる。同様に回路パネル134は、バス136の別の信号導体を、「2」と印がついたパッケージ112Aの端子及び「2」と印がついたパッケージ112Bの対応する端子と電気的に相互接続することができる。同じ接続の仕組みを、バスの他の信号導体及びそれぞれのパッケージの対応する端子にも当てはめることができる。
回路パネル134上のバス136と、パッケージのそれぞれの対、例えば、基板の接続位置Iにおけるパッケージ112A、112B(図2)、のそれぞれのパッケージとの間のローカル配線は、非終端スタブの形とすることができる。そのようなローカル配線は、比較的長い場合には、場合によっては後述するようにアセンブリ138の性能に影響を及ぼす場合がある。さらに、回路パネル134はまたローカル配線に、他のパッケージ、すなわちパッケージの対112C及び112D並びにパッケージの対112E及び112Fの或る特定の端子をバス136のグローバル配線に電気的に相互接続するよう求め、そのような配線も、同じようにアセンブリの性能に影響を及ぼす可能性がある。
図4は更に、信号「1」、「2」、「3」、「4」、「5」、「6」、「7」、及び「8」を運ぶよう割り当てられた端子のそれぞれの対の超小型電子パッケージ112Aと112Bとの間の相互接続を示す。図4においてわかるように、端子の、基板の表面の中央領域124内ではなく、列114、118の全ては各パッケージ112A、112Bそれぞれの縁部116、122の近くに露出するので、端子の列114、118が延在する方向142を横切る方向140に回路パネル134を横切るのに必要な配線は、非常に長くなる可能性がある。DRAMチップの長さは、それぞれの辺において10ミリメートルの範囲にすることができるということを認識すれば、或る信号が、2つの対向して搭載されるパッケージ112A、112Bの対応する端子に同じ信号をルーティングするのに必要な、図2〜図4に見られるアセンブリ138における回路パネル134内のローカル配線の長さは、5ミリメートルから10ミリメートルの間に及ぶ可能性があり、通常約7ミリメートルとすることができる。
場合によっては、パッケージの端子同士を接続する回路パネル上の非終端配線が比較的長くても、アセンブリ138の電気的性能にひどく影響を及ぼすことはない場合がある。しかし、図2に示すように、回路パネルのバス136から回路パネルに接続されたパッケージの多数の対のそれぞれに信号を転送する場合、バス136からそこに接続されたそれぞれのパッケージ上の端子まで延在するスタブ、すなわちローカル配線の電気長がアセンブリ138の性能に潜在的に影響を及ぼすということを本発明者らは認識している。非終端スタブ上の信号反射は、それぞれのパッケージの接続された端子から戻ってバス136上へと逆方向に伝わり、したがってバスからパッケージに転送される信号を劣化させてしまう可能性がある。この影響は、現在製造される超小型電子素子を含むいくつかのパッケージについては許容できる場合がある。しかし、高信号切り換え周波数、低電圧スイング信号又はその両方で動作する現在又は将来のアセンブリにおいては、この影響は甚だしくなる可能性がある、ということを本発明者は認識している。これらのアセンブリについては、送信信号のセトリング時間、リンギング、ジッタ、又は符号間干渉が受け入れがたい程度まで増大する場合がある。
本発明者らは、非終端スタブの電気長は通常、回路パネルのバス136を、そこに搭載されたパッケージの端子と接続するローカル配線よりも長いということを更に認識している。それぞれのパッケージ内の、パッケージ端子から内部の半導体チップまでの非終端配線によって、スタブ長が増加する。
特定の例において、バス136は、DIMM等主流のメモリ記憶アレイ機能を有するアセンブリのコマンド−アドレスバスである。コマンド−アドレスバス136は、パッケージ内の回路、例えば、行アドレス及び列アドレスのデコーダ、並びに、もしある場合にはバンク選択回路が使用して、超小型電子パッケージにおける超小型電子素子内のメモリ記憶アレイの全ての利用可能なアドレス指定可能メモリ位置からアドレス指定可能メモリ位置を決定することができる、超小型電子パッケージに転送されるアドレス情報を運ぶように構成することができる。コマンド−アドレスバス136は、接続位置、例えば、図2に示す位置I、II、及びIIIに上述のアドレス情報を運ぶように構成することができる。この上述のアドレス情報は次に、ローカル配線によって、そこにパッケージ112A、112B、112C、112D、112E及び112Fが接続される回路パネルの互いに反対側の表面上のパネルコンタクトのそれぞれの組に分配することができる。
特定の例において、超小型電子素子がDRAMチップであるかDRAMチップを含む場合、コマンド−アドレスバス136は、超小型電子パッケージに転送される超小型電子素子のコマンド−アドレスバスの1群の信号、すなわちコマンド信号、アドレス信号、バンクアドレス信号、及びクロック信号の全てを運ぶように構成することができ、このコマンド信号は、ライトイネーブル、行アドレスストローブ、及び列アドレスストローブ信号を含み、このクロック信号は、アドレス信号をサンプリングするのに用いるクロックである。クロック信号はさまざまなタイプとすることができるが、一実施形態において、これらの端子が運ぶクロック信号は、差動又は真の及び補完クロック信号として受け取られる差動クロック信号の1つ又は複数の対とすることができる。
したがって、本明細書において説明する本発明の或る特定の実施形態は、そのような第1のパッケージ及び第2のパッケージが回路パネル、例えば回路基板、モジュール基板若しくはカード、又はフレキシブル回路パネル、の互いに反対側の表面上に互いに対向して搭載される場合にスタブの長さを短くできるように構成した、超小型電子パッケージを提供する。回路パネル上に互いに対向して搭載される第1の超小型電子パッケージ及び第2の超小型電子パッケージを組み込むアセンブリは、それぞれのパッケージ間のスタブ長を著しく低減することができる。これらの電気的接続の長さを低減することによって、回路パネル及びアセンブリにおけるスタブ長を低減することができ、それが、第1のパッケージ及び第2のパッケージの両方において第1の端子によって運ばれ超小型電子素子に転送される上述の信号について、なかでもセトリング時間、リンギング、ジッタ、又は符号間干渉の低減等、電気的性能の改善に役立つことができる。さらに、回路パネルの構造の単純化、又は回路パネルの設計若しくは製造の複雑性及びコストの低減等、他の利点もまた得ることを可能にすることができる。
本発明の或る特定の実施形態は、超小型電子素子、例えば半導体チップ又は半導体チップのスタックした配列が主としてメモリ記憶アレイ機能を提供するように構成された、パッケージ又は超小型電子アセンブリを提供する。そのような超小型電子素子において、メモリ記憶アレイ機能を提供するように構成され、すなわち組み立てられ他のデバイスと相互接続された、内部の能動素子、例えばトランジスタの数は、いかなる他の機能を提供するように構成された能動素子の数よりも多い。したがって、一例において、DRAMチップ等の超小型電子素子は、その主要な又は唯一の機能としてメモリ記憶アレイ機能を有することができる。代替的に、別の例において、そのような超小型電子素子は、混合した使用法を有することができ、メモリ記憶アレイ機能を提供するように構成した能動素子を組み込むことができ、また、なかでもプロセッサ機能又は信号プロセッサ若しくはグラフィックスプロセッサの機能等、別の機能を提供するように構成された他の能動素子も組み込むことができる。この場合、超小型電子素子は依然として、メモリ記憶アレイ機能を提供するように構成された能動素子の数を超小型電子素子のいかなる他の機能よりも多く有することができる。
一実施形態において、パッケージの端子は、超小型電子アセンブリから離れる方を向く基板又は誘電層の第2の表面の中央領域に配置された第1の端子を含むことができ、中央領域は、基板又は誘電層の第1の周縁部及び第2の周縁部に隣接する周辺領域間に配置される。中央領域は、端子の平行な列のうちの隣接する列間の最小ピッチの3.5倍以下の幅になるようにすることができる。
本発明の或る特定の実施形態において、中央領域における第1の端子は、超小型電子パッケージに転送される超小型電子素子のコマンド−アドレスバスの1群の信号、すなわちコマンド信号、アドレス信号、バンクアドレス信号、及びクロック信号の全てを運ぶように構成され、このコマンド信号は、ライトイネーブル、行アドレスストローブ、及び列アドレスストローブ信号を含み、このクロック信号は、アドレス信号をサンプリングするのに用いるクロックである。クロック信号はさまざまなタイプとすることができるが、一実施形態において、これらの端子が運ぶクロック信号は、差動又は真の及び補完クロック信号として受け取られる差動クロック信号の1つ又は複数の対とすることができる。
回路パネル、例えばプリント回路基板、モジュールカード等の上で、コマンド−アドレスバスのこれらの上述の信号、すなわちコマンド信号、アドレス信号、バンクアドレス信号、及びクロック信号を、並列でそこに接続された多数の超小型電子パッケージ、特に回路パネルの互いに反対側の表面に搭載された第1の超小型電子パッケージ及び第2の超小型電子パッケージに、バスにより伝達することができる。本明細書における或る特定の実施形態について、コマンド−アドレスバス信号を運ぶ端子を、超小型電子パッケージの縁部近くの周辺領域内にではなくパッケージ表面の中央領域内に配置することによって、回路パネル上のコマンド−アドレスバス136(図2)から超小型電子パッケージが電気的に接続される回路パネルの表面上の個々の接続位置に信号を運ぶのに用いられるスタブ長を低減することができる。これらの電気的接続の長さを低減することによって、回路パネル及びアセンブリにおけるスタブ長を低減することができ、それが、第1のパッケージ及び第2のパッケージの両方において第1の端子によって運ばれ超小型電子素子に転送される上述の信号について、なかでもセトリング時間、リンギング、ジッタ、又は符号間干渉の低減等、電気的性能の改善に役立つことができる。さらに、回路パネルの構造の単純化又は回路パネルの設計若しくは製造の複雑性及びコストの低減等、他の利点もまた得ることを可能にすることができる。
いくつかの実施形態において、超小型電子パッケージは、上述のコマンド信号、アドレス信号、バンクアドレス信号、及びクロック信号の全てを運ぶように構成された、中央領域における端子の4列以下の列を有することができる。或る特定の実施形態において、そのような端子の列が2列のみ存在することができる。他の実施形態において、そのような端子は1列のみ存在することができる。
さらに、超小型電子パッケージのそれぞれの対が接続される接続位置間の、第1の端子によって運ばれる上述の信号、例えばコマンド−アドレスバス信号から信号をルーティングするのに必要な回路パネル上の配線のルーティング層の数を減らすことを可能にすることができる。具体的には、そのような信号を回路パネルに沿ってルーティングするのに必要なルーティング層の数は、場合によっては、4つ以下のルーティング層まで減らすことができる。特定の例において、そのような信号を回路パネルに沿ってルーティングするのに必要なルーティング層の数は、場合によっては、4つ、2つ、又は1つのルーティング層まで減らすことができる。しかし、回路パネル上に、上述のアドレス又はコマンド−アドレスバス信号を運ぶルーティング層の数よりも多い数の、他の信号を運ぶルーティング層が存在することができる。
超小型電子パッケージはまた、第1の端子以外の第2の端子も有することができ、そのような端子は通常、上述のコマンド−アドレスバス信号端子以外の信号を運ぶように構成されている。一実施形態において、そのような第2の端子は、周辺領域のうちの1つ又は複数において配置することができ、データ信号を運ぶように構成することができる。例えば、第2の端子は、データマスク及び並列終端をオン又はオフするのに用いる終端レジスタへのODTすなわち「オンダイターミネーション」信号だけではなく、超小型電子素子への及び/又はそこからの一方向又は双方向のデータ信号、並びにデータストローブ信号を運ぶのに用いる端子を含むことができる。チップセレクト、リセット、電源電圧、例えばVdd、Vddq、及び接地、例えばVss及びVssq等の信号又は基準電位は、第2の端子によって運ぶことができる。これらの信号又は基準電位のいずれも、第1の端子によって運ぶ必要はない。いくつかの実施形態において、上述のアドレス又はコマンド−アドレスバス信号以外の信号を運ぶように構成したいくつかの又は全ての端子を第2の端子として配置することが可能であり、パッケージ上のどちらの位置であっても配置することができる。
本明細書における本発明の実施形態は、その中に2つ以上の半導体チップ、すなわち、超小型電子素子を有するパッケージを提供する。多チップパッケージは、その中にあるチップを、なかでも、ボールグリッドアレイ、ランドグリッドアレイ又はピングリッドアレイ等の端子のアレイを通してそのパッケージが電気的に、かつ機械的に接続される場合がある回路パネル、例えば、プリント配線板に接続するのに必要とされる面積又は空間の量を削減することができる。そのような接続空間は、小型又はポータブル計算デバイス、例えば、通常パーソナルコンピュータの機能と広範な世界への無線接続性とを併せ持つ「スマートフォン」又はタブレット等のハンドヘルドデバイスでは特に制限される。マルチチップパッケージは、高度な高性能ダイナミックランダムアクセスメモリ(「DRAM」)チップ、例えば、DDR3タイプDRAMチップ及びその後続製品等の、大量の相対的に安価なメモリをシステムが利用できるようにするのに特に役に立つ可能性がある。
マルチチップパッケージを接続するのに必要とされる回路パネルの面積の量は、パッケージ内の2つ以上のチップに至る途中に、少なくともいくつかの信号がその中を通って進行する共通端子をパッケージ上に設けることによって削減することができる。しかしながら、高性能動作をサポートしながら、それを果たすには課題がある。無終端スタブに起因した信号の望ましくない反射等の望ましくない影響を回避するには、バス136(図2)等の、パッケージの外面にある端子を回路パネル上のグローバル配線と電気的に接続する回路パネル上のトレース、ビア、及び他の導体は長すぎてはならない。放熱も、高度なチップにとって課題を提示し、そのため、各チップの大きな平坦面のうちの少なくとも1つは、ヒートスプレッダに結合されるか、又は設置されたシステム内の流れ若しくは空気に暴露されるか若しくは熱連通していることが望ましい。以下に説明するパッケージは、これらの更なる目標に役立つことができる。
本明細書における本発明の実施形態は、アセンブリ上の信号のスタブ長を低減する方法を提供することができる。したがって、パッケージ内の多数のチップの対応するコンタクトを、パッケージの外部の構成要素、例えばプリント回路基板等の回路パネル、外部の超小型電子素子、又はその他の構成要素と接続するように構成したパッケージの単一の共通端子と電気的に接続することができ、複数のそのような超小型電子パッケージを、回路パネルの互いに反対側の表面に搭載することができる。
例えば、第1の超小型電子パッケージ10aの第1の列の第1の端子25aを第2の超小型電子パッケージ10bの第1の列の対応する第1の端子に電気的に接続する回路パネル60(図5E)上のスタブの電気長は、それぞれのパッケージ上の第1の端子の最小ピッチの7倍よりも小さく、例えば第1の端子の隣接する列のピッチの7倍よりも小さくすることができる。言い換えれば、回路パネル60の第1の表面及び第2の表面において露出した1対の電気的に結合した第1のパネルコンタクト65a及び第2のパネルコンタクト65bを回路パネル上のコマンド−アドレスバスの対応する信号導体に接続する導電性素子の全部合わせた合計の長さは、パネルコンタクトの最小ピッチの7倍よりも小さくすることができる。更に別の例において、第1の超小型電子パッケージ10aの第1の端子25aと第2の超小型電子パッケージ10bの対応する第1の端子との間の接続の電気長は、第1の表面61と第2の表面62との間の回路パネル60の厚さとほぼ同じにすることができる。
図5A及び図5Bは、そのような第1のパッケージ及び第2のパッケージが回路パネル、例えば回路基板、モジュール基板若しくはカード、又はフレキシブル回路パネルの互いに反対側の表面上に互いに向かい合って搭載された場合にスタブ長を低減することができるように構成された、特定のタイプの超小型電子パッケージ10を示す。図5A及び図5Bにおいてわかるように、超小型電子パッケージ10は、パッケージング構造、例えば互いに反対側の第1の表面21及び第2の表面22を有する基板20を含むことができる。第1の表面21及び第2の表面22は互いに反対側の方向を向いており、したがって、互いに対して反対側にあり、「互いに反対側の表面」である。
図5Aにおいて、及び本明細書において説明する他の超小型電子パッケージの概略底面図の全てにおいて、基板20及び端子グリッドを透明で示す。これは、基板の平面に平行なx−y方向において超小型電子素子に対して基板及び端子グリッドの位置を依然として示しながら、超小型電子素子の相対的な場所が底面図からよりはっきりと見ることができるようにするように行われている。
場合によっては、基板20は、(基板の第1の表面21に対して平行な方向の)基板の平面において低い熱膨張係数(「CTE(coefficient of thermal expansion)」)、すなわち、12パーツパーミリオン/摂氏温度(以下、「ppm/℃」)未満のCTEを有する材料から本質的になることができ、半導体材料、例えばシリコン、又はセラミック材料若しくは二酸化シリコン、例えばガラス等の誘電体材料等から本質的になることができる。代替的に、基板20は、シート状基板を含むことができ、このシート状基板は、ポリイミド、エポキシ樹脂、熱可塑性物質、熱硬化プラスチック等の高分子材料、又は他の適した高分子材料から本質的になることもできるか、又はなかでもBT樹脂(ビスマレイミドトリアジン)のガラス強化構造又はFR4等のエポキシ樹脂ガラス等の合成高分子無機材料を含むか又はそれらの材料から本質的になる。一例では、そのような基板20は、基板の平面、すなわちその表面に沿った方向において30ppm/℃未満のCTEを有する材料から本質的になることができる。
図5A及び図5Bにおいて、基板20の第1の表面21に対して平行な方向は、本明細書では「水平」方向又は「横」方向と呼ばれるのに対して、第1の表面に対して垂直な方向は、本明細書では、上向き方向又は下向き方向と呼ばれ、本明細書では、「垂直」方向とも呼ばれる。本明細書で言及するこれらの方向は、言及する構造の基準系におけるものである。したがって、これらの方向は、重力基準系における通常の「上」方向又は「下」方向に対して任意の向きにあることができる。
1つの特徴部が別の特徴部よりも「表面の上方において」高い高さに配置されているという記述は、その1つの特徴部が表面から同じ直交方向においてその別の特徴部よりも大きく離れた距離にあることを意味する。逆に、1つの特徴部が別の特徴部よりも「表面の上方において」低い高さに配置されているという記述は、その1つの特徴部が表面から同じ直交方向においてその別の特徴部よりも小さく離れた距離にあることを意味する。
少なくとも1つの開口部26が、基板20の第1の表面21と第2の表面22との間に延在することができる。図5Aに見て取ることができるように、基板20は、当該基板を貫通して延在する4つの開口部26を有することができる。開口部26のうちの開口部26a、26bの最長寸法は、第1の軸29a及び第2の軸29b(総称して軸29)を規定することができる。図5Aに示す例では、第1の軸29a及び第2の軸29bは互いに平行とすることができる。第1の軸29a及び第2の軸29bは、軸29aと29bとの間に置かれた、基板20の第2の表面22の中央領域23を規定することができる。基板20の第2の表面22の周辺領域28は、中央領域23の外側に位置することができる。そのような周辺領域28は、基板20の第2の表面22の中央領域23と、対向する第1の縁部27a及び第2の縁部27bとの間に延在することができる。
開口部26のうちの第3の開口部26c及び第4の開口部26dの最も長い寸法は、第1の軸29a及び第2の軸29bを横切る(すなわち、それらの軸と交差するような)第3の軸29c及び第4の軸29dを規定することができる。第3の軸29c及び第4の軸29dは互いに平行にすることができる。一例では、第3の軸29c及び第4の軸29dは、第1の軸29a及び第2の軸29bと直交することができる。特定の実施形態では、第3の軸29c及び第4の軸29dは、基板20の第2の表面22の中央領域23の境界を与えることができ、それにより、基板20の第2の表面22の周辺領域28’が、基板の対向する縁部と第3の軸及び第4の軸との間に存在することができる。
基板20は、当該基板の表面において露出した複数の端子25、例えば、導電性パッド、ランド、又は導電性ポストを有することができる。図5Bに見ることができるように、そのような端子25は、基板20の第2の表面22において露出することができる。端子25は、超小型電子パッケージ10と外部の構成要素の対応する導電性素子との接続用の端点として機能することができる。この外部の構成要素は、なかでも、回路パネル、例えば、プリント配線板、フレキシブル回路パネル、ソケット、他の超小型電子アセンブリ若しくはパッケージ、インタポーザ、又は受動構成要素アセンブリ(例えば、図5E及び図5Fに示す回路パネル)等である。一例では、そのような回路パネルは、マザーボード又はDIMMモジュールボードとすることができる。
超小型電子パッケージ10は、外部の構成要素との接続用の端子25に取り付けられた接合ユニット11を備えることができる。この接合素子ユニット11は、例えば、はんだ、スズ、インジウム、共晶組成、若しくはそれらの組み合わせ等のボンドメタル又は導電性ペースト若しくは導電性接着剤等の別の接合材料の塊とすることができる。特定の実施形態では、端子25と外部の構成要素(例えば、図5Eに示す回路パネル60)のコンタクトとの間の接合部は、所有者が共通する米国特許出願第13/155,719号及び第13/158,797号に記載されているような導電性マトリックス材を含むことができる。これらの米国特許出願の開示内容は、引用することによって本明細書の一部をなすものとする。特定の実施形態では、これらの接合部は、これらの米国特許出願に記載されているものと同様の構造を有することもできるし、これらの米国特許出願に記載されているような方法で形成することもできる。
導電性素子が構造体の表面「において露出する」という記述は、この開示において用いられるとき、その導電性素子が、表面に対して垂直な方向に、構造体の外側からその表面に向かって移動する理論的な点との接触に利用可能であることを示す。したがって、構造体の表面において露出する端子又は他の導電性素子は、そのような表面から突出することもできるし、そのような表面と同一平面をなすこともできるし、そのような表面に対して陥凹して、構造体内の孔又は窪みを通じて露出することもできる。
端子25は、基板20の第2の表面22の中央領域23において露出した第1の端子25aと、第2の表面の周辺領域28のうちの少なくとも1つにおいて露出した第2の端子25bとを含むことができる。本発明の或る特定の実施形態において、第1の端子25aは、コマンド−アドレスバスの或る特定の信号、すなわち、具体的には、超小型電子パッケージ10においてダイナミックメモリ記憶機能を提供するように構成された超小型電子素子30(後述)のアドレス信号の1組の全てを運ぶように構成することができる。
例えば、超小型電子素子30がDRAM半導体チップを含むかDRAM半導体チップである場合、第1の端子25aは、パッケージ内の回路が、例えば、行アドレス及び列アドレスのデコーダ、並びにもしある場合にはバンク選択回路が使用して、パッケージにおける超小型電子素子内のメモリ記憶アレイの全ての利用可能なアドレス指定可能メモリ位置からアドレス指定可能メモリ位置を決定することができる、超小型電子パッケージ10に転送される十分なアドレス情報を運ぶように構成することができる。特定の実施形態において、第1の端子25aは、そのようなメモリ記憶アレイ内のアドレス指定可能メモリ位置を決定するのに超小型電子パッケージ10内のそのような回路が用いるアドレス情報の全てを運ぶように構成することができる。
そのような実施形態の変形形態において、第1の端子25aは、そのようなメモリ記憶アレイ内のアドレス指定可能メモリ位置を決定するのに超小型電子パッケージ10内のそのような回路が用いるアドレス情報の大部分を運ぶように構成することができ、その場合には、超小型電子パッケージ上の上述の第2の端子25bのうちの少なくともいくつか等、他の端子が、アドレス情報の残りの部分を運ぶように構成される。そのような変形形態において、特定の実施形態において、第1の端子25aは、そのようなメモリ記憶アレイ内のアドレス指定可能メモリ位置を決定するのに超小型電子パッケージ10内のそのような回路が用いるアドレス情報の3/4以上を運ぶように構成することができる。
特定の実施形態において、第1の端子25aはチップセレクト情報、例えば、チップ内のメモリ記憶位置にアクセスするために超小型電子パッケージ10内の特定のチップを選択するのに利用できる情報を運ぶように構成されない場合がある。別の実施形態において、第1の端子25aのうちの少なくとも1つは、実際にチップセレクト情報を運ぶことができる。
通常、超小型電子パッケージ10内の超小型電子素子30がDRAMチップを含む場合には、一実施形態におけるアドレス信号は、パッケージの外部の構成要素、例えば、後述の回路パネル60等の回路パネルからパッケージに転送される全てのアドレス信号を含むことができ、それを用いて超小型電子パッケージ内のランダムアクセスアドレス指定可能メモリ位置を決定してそこに読み取りアクセス、又は読み取りアクセス又は書き込みアクセスのどちらかを行う。
第2の端子25bのうちの少なくともいくつかは、第1の端子25aによって運ばれるアドレス信号以外の信号を運ぶように構成することができる。チップセレクト、リセット、電源電圧、例えばVdd、Vddq、並びに接地、例えばVss及びVssq等の信号又は基準電位は、第2の端子25bによって運ぶことができる。本明細書において参照される実施形態のいずれにおいても、別段の記載がないがない限り、これらの信号又は基準電位のいずれも、第1の端子25aによって運ぶ必要はない。
特定の実施形態において、第1の端子25aのそれぞれは、超小型電子素子30のうちの少なくとも1つの超小型電子素子の動作モードを制御する情報を運ぶように構成することができる。より具体的には、第1の端子25aは、超小型電子パッケージ10に転送されるコマンド信号及び/又はクロック信号の特定の1組の全てを運ぶように構成することができる。そのような実施形態において、第1の端子25aは、外部の構成要素から超小型電子パッケージ10に転送されるコマンド信号、アドレス信号、バンクアドレス信号、及びクロック信号の全てを運ぶように構成することができ、このコマンド信号は、行アドレスストローブ、列アドレスストローブ、及びライトイネーブルを含む。
超小型電子素子のうちの1つ又は複数がダイナミックランダムアクセスメモリ(「DRAM」)半導体チップ又はDRAMチップのアセンブリによって提供されるもの等のダイナミックメモリ記憶アレイ機能を提供するように構成される一実施形態においては、コマンド信号は、ライトイネーブル、行アドレスストローブ、及び列アドレスストローブ信号である。ODT(オンダイターミネーション)、チップセレクト、クロックイネーブル等の他の信号は、第1の端子25aが運ぶ必要のあるコマンド信号の一部ではない。クロック信号は、アドレス信号をサンプリングするのに超小型電子素子のうちの1つ又は複数が用いるクロックとすることができる。例えば、図5Aにおいて見られるように、 第1の端子25aは、アドレス信号A0〜A15(A0及びA15を含む)、及びバンクアドレス信号BA0、BA1及びBA2だけでなく、クロック信号CK及びCKB、行アドレスストローブRAS、列アドレスストローブCAS、及びライトイネーブル信号WEも含むことができる。
この実施形態において、第2の端子25bのうちの少なくともいくつかは、第1の端子25aによって運ばれるコマンド信号、アドレス信号、及びクロック信号以外の信号を運ぶように構成することができる。チップセレクト、リセット、電源電圧、例えばVdd、Vddq、並びに接地、例えばVss及びVssq等の信号又は基準電位は、第2の端子25bによって運ぶことができる。本明細書において参照される実施形態のいずれにおいても、別段の記載がないがない限り、これらの信号又は基準電位のいずれも、第1の端子25aによって運ぶ必要はない。
別の実施形態において、超小型電子素子のうちの1つ又は複数が、例えばNANDフラッシュメモリ等、DRAM以外についての技術において実施されるメモリ記憶アレイ機能を提供するように構成される場合には、第1の端子25aが運ぶ必要のある特定のコマンド信号は、DRAMの場合に運ぶ必要のあるライトイネーブル、アドレスストローブ、及び列アドレスストローブ信号の群以外の、信号の異なる1組とすることができる。
図5A及び図5Bに示す例等の特定の例において、第2の端子25bは、周辺領域28のそれぞれにおける少なくとも1つの列内に配置することができる。更なる第2の端子25bを、周辺領域28’のそれぞれにおける少なくとも1つの列内に配置することができる。一実施形態において、アドレス信号以外の信号を運ぶように構成された第2の端子25bのうちの少なくともいくつかは、基板20の第2の表面22の中央領域23内に露出することができる。一例において、コマンド信号、アドレス信号、及びクロック信号以外の信号を運ぶように構成された第2の端子25bのうちの少なくともいくつかは、基板20の第2の表面22の中央領域23内に露出することができる。
図面において、図5A及び図5Bに示す第2の端子25b等、第2の端子の特定の構成を示すが、図示の特定の構成は例示の目的のためであり、限定するよう意図するものではない。例えば、第2の端子25bは、電源又は接地信号に接続するように構成される端子も含むことができる。第2の端子25bをそれぞれ2列の4つのグリッドに配列して示すが、それぞれのグリッドにおける第2の端子25bは3列に配列することができ、例えば、図示しない第3の列は、電源又は接地に接続するように構成されるいくつかの第2の端子を含む。
基板20は更にオプションで、第1の表面21及び/又は第2の表面22の上に重なる誘電層12を含むことができる。図5Bに示すように、誘電層12は、基板の第2の表面22の上に重なることができる。そのような誘電層12は、導電性素子24等の導電性素子及び端子25を基板20から絶縁することが必要であれば、そのような絶縁を行うことができる。この誘電層12は、基板20の「パッシベーション層」と呼ぶことができる。誘電層12は、無機又は有機の誘電材料又はその両方を含むことができる。誘電層12は、電着したコンフォーマルコーティング又はその他の誘電材料、例えばフォトイメージング可能なポリマー材料、例えばはんだマスク材料を含むことができる。特定の例において、誘電層12は、引用することによってその開示内容が本明細書の一部をなす米国特許第5,679,977号において記載されているものと同様の構造及び機能を有するエラストマー材料等のコンプライアントな材料から作製される層とすることができる。
本明細書において説明する実施形態において、基板20の第1の表面21又は第2の表面22の上に重なる誘電層12は、基板の厚さよりも実質的に薄い厚さを有することができ、それにより、誘電層のCTEが基板材料のCTEよりも実質的に大きい場合であっても、基板材料のCTEとほぼ等しい有効CTEを基板が有することができる。一例において、基板20は12ppm/℃よりも小さい有効CTEを有することができる。
超小型電子パッケージ10はまた、それぞれ基板20の第1の表面21に面する前面31を有する複数の超小型電子素子30を含むことができる。一例において、超小型電子素子30のうちの1つ又は複数は、それぞれメモリ記憶アレイ機能を有するベアチップ又は超小型電子ユニットとすることができる。しかし特定の例において、超小型電子素子30のうちの1つ又は複数は、ダイナミックランダムアクセスメモリ(「DRAM」)記憶アレイ等のメモリ記憶素子を組み込むこともできるし、又は、DRAM記憶アレイ(例えば、DRAM集積回路チップ)として主として機能するように構成することもできる。後者の場合、第1の超小型電子素子及び第2の超小型電子素子のうちの1つ又は複数は、メモリ記憶アレイ機能を提供するように構成された能動素子、例えばトランジスタの数をいかなる他の機能よりも多く有することができる。「メモリ記憶素子」とは、本明細書において用いられるとき、電気インタフェースを介してデータをトランスポート等するように、データを記憶及び検索するのに使用可能な回路部とともにアレイに配置された多数のメモリセルを指す。特定の例では、超小型電子パッケージ10は、シングルインラインメモリモジュール(「SIMM」)又はデュアルインラインメモリモジュール(「DIMM」)に含めることができる。
本明細書において説明する実施形態のいずれにおいても、超小型電子素子30のうちの1つ又は複数は、以下の技術、すなわち、なかでもDRAM、NANDフラッシュメモリ、RRAM(登録商標)(「抵抗変化型RAM」又は「抵抗変化型ランダムアクセスメモリ」)、相変化メモリ(「PCM」)、例えばトンネル接合デバイスを具体化するもの等の磁気抵抗変化型ランダムアクセスメモリ、スタティックランダムアクセスメモリ(「SRAM」)、スピントルクRAM、又は連想メモリのうちの1つ又は複数において実施することができる。
特定の例では、メモリ記憶素子を備える超小型電子素子30は、少なくともメモリ記憶アレイ機能を有することができるが、この超小型電子素子は、フル機能メモリチップでない場合がある。そのような超小型電子素子は、それ自体バッファリング機能を有しない場合があるが、超小型電子素子のスタック内の他の超小型電子素子に電気的に接続される場合があり、そのスタック内の少なくとも1つの超小型電子素子が、バッファリング機能を有する(バッファリング超小型電子素子は、バッファチップ、フル機能メモリチップ、又はコントローラチップとすることができる)。
他の例では、本明細書において説明するパッケージの任意のものにおける超小型電子素子のうちの1つ又は複数が、例えば、フラッシュメモリ、DRAM又は他のタイプのメモリ等のメモリ記憶アレイ機能を提供するように構成された能動デバイス、例えばトランジスタの数を、他のいずれの機能よりも多く有することができるという点で、超小型電子素子のうちの1つ又は複数は主としてメモリ記憶アレイ機能を提供するように構成することができ、別の超小型電子素子又は主として論理機能を提供するように構成された「論理チップ」とともにパッケージ内に配置することができる。特定の実施形態では、論理チップは、マイクロプロセッサ又は他の汎用計算素子等の、プログラマブル又はプロセッサ素子とすることができる。その論理チップは、マイクロコントローラ素子、グラフィックスプロセッサ、浮動小数点プロセッサ、コプロセッサ、デジタルシグナルプロセッサ等とすることができる。特定の実施形態では、論理チップは、ハードウェア状態機械機能を主に実行することができるか、又はそうでない場合、特定の機能若しくは目的を果たすように別の方法でハードコード化することができる。代替的には、論理チップは、特定用途向け集積回路(「ASIC」)又はフィールドプログラマブルゲートアレイ(「FPGA」)チップとすることができる。そのような変形形態では、その際、パッケージは「システムインパッケージ」(「SIP」)とすることができる。
別の変形形態では、本明細書において説明されるパッケージのうちの任意のものにおける超小型電子素子は、同じ超小型電子素子内に共に埋め込まれた1つ又は複数の関連するメモリ記憶アレイを有するプログラマブルプロセッサ等の、その中に埋め込まれた論理機能及びメモリ機能を併せ持つことができる。そのような超小型電子素子は、プロセッサ等の論理機能が、メモリ記憶アレイ、又は特殊化した機能の場合があるいくつかの他の機能を実行する回路等の他の回路とともに埋め込まれるという点で、「システムオンチップ」(「SOC」)と呼ばれる場合もある。
各超小型電子素子30は、その前面31において露出する複数の導電性コンタクト35を有することができる。図5C及び図5Dに示すように、各超小型電子素子30のコンタクト35は、前面のエリアの中央部分を占有する前面31の中央領域37に配置される1つ(図5C)又は複数(図5D)の列36に配置することができる。中央領域37は、例えば、超小型電子素子30の対向する周縁部32a、32b間の最短距離の中央3分の1を含む前面31のエリアを占有することができる。図5Cに示す特定の例において、各超小型電子素子30のコンタクト35が、超小型電子素子の中央領域37において配列される場合には、超小型電子素子を二等分する軸39に沿ってコンタクトを配列することができる。図5Bに示すように、各超小型電子素子30のコンタクト35は、開口部26のうちの少なくとも1つと位置合わせすることができる。
そのような超小型電子素子30の1タイプにおいて、素子コンタクト35のうちのいくつかのコンタクトのそれぞれ1つは、超小型電子素子に供給される複数のアドレス信号のそれぞれのアドレス信号を専門に受け取る。この場合、そのようなコンタクト35のそれぞれは、外部から超小型電子素子30に供給される複数のアドレス信号のうちのそれぞれのアドレス信号1つを受け取ることができる。
このタイプの超小型電子素子30の特定の一例において、それぞれの超小型電子素子が用いるクロックの縁部に対して、すなわち、異なる第1の電圧状態と第2の電圧状態との間でのクロックの遷移で、素子コンタクト35において存在する複数のアドレス信号のそれぞれをサンプリングすることができる。すなわち、それぞれのアドレス信号は、クロックのより低電圧の状態とより高電圧の状態との間の立ち上がり遷移において、又は、クロックのより高電圧の状態とより低電圧の状態との間の立ち下がり遷移においてサンプリングすることができる。したがって、複数のアドレス信号はクロックの立ち上がり遷移において全てサンプリングすることもできるし、そのようなアドレス信号はクロックの立ち下がり遷移において全てサンプリングすることもできるし、又は、別の例において、素子コンタクト35のうちの1つにおけるアドレス信号は、クロックの立ち上がり遷移においてサンプリングすることができ、別の1つの外部のコンタクトにおけるアドレス信号は、クロックの立ち下がり遷移においてサンプリングすることができる。
主としてメモリ記憶アレイ機能を提供するように構成した、別のタイプの超小型電子素子30において、その上のアドレスコンタクトのうちの1つ又は複数を多重方式で用いることができる。この例において、それぞれの超小型電子素子30の特定の素子コンタクト35は、外部から超小型電子素子に供給される2つ以上の互いに異なる信号を受け取ることができる。したがって、第1のアドレス信号は異なる第1の電圧状態と第2の電圧状態との間のクロックの第1の遷移(例えば、立ち上がり遷移)において、特定のコンタクト35においてサンプリングすることができ、第1のアドレス信号以外の信号は、第1の電圧状態と第2の電圧状態との間のクロックの、第1の遷移と反対の第2の遷移(例えば、立ち下がり遷移)において、特定のコンタクトにおいてサンプリングすることができる。
そのような多重方式において、それぞれの超小型電子素子30の同じ素子コンタクト35上で、クロックの同じサイクル内で2つの異なる信号を受け取ることができる。特定の場合において、この方法でのマルチプレクシングによって、それぞれの超小型電子素子30の同じ素子コンタクト35上で、同じクロックサイクル内で第1のアドレス信号とそれとは異なる信号とを受け取ることができる。更に別の例において、この方法でのマルチプレクシングによって、第1のアドレス信号と、異なる第2のアドレス信号とを、それぞれの超小型電子素子30の同じ素子コンタクト35上で同じクロックサイクル内で受け取ることができる。
特定の例において、それぞれの超小型電子素子30は超小型電子素子のうちの他のものと機能的及び機械的に同等にすることができ、それにより、それぞれの超小型電子素子が、同じ機能を有する前面31において露出した導電性コンタクト35の同じパターンを有することができるが、それぞれの超小型電子素子の長さ、幅、及び高さの特定の寸法は他の超小型電子素子と異なることができる。
図5A及び図5Bに示す具体的な配列において、超小型電子パッケージ10は、第2の端子25b等、それぞれが超小型電子素子30のうちの特定の1つに専用の、パッケージの2つ以上の端子25を介してではなく、パッケージの共通の第1の端子25aを介して、多数の超小型電子素子30に共通の信号をルーティングするように構成することができる。このようにして、そこに超小型電子パッケージ10を接続することができる回路パネル(例えば図5Eに示す回路パネル60)上のコンタクトの数を低減することを可能にすることができる。さらに、コンタクト、金属化ビア、及び回路パネル上の超小型電子パッケージ10の下にあるルーティング層の数を低減することを可能にすることができ、それによって回路パネルの設計を単純化することができ、その製造の複雑性及びコストを低減することができる。
図5Aに示すように、超小型電子パッケージ10の第1の端子25aは、基板20の第2の表面22の中央領域23における1つ又は複数のグリッド15の場所に配列した第1の端子の1つ又は複数の組内に配置することができる。1つのグリッド15の各場所に配列した第1の端子25aのそれぞれの組は、第1の端子の1つ又は複数の列16を含むことができる。図5Aに示すように、グリッド15の場所の全ては、第1の端子25aのうちの対応するものによって占有することができる。代替的に(図示せず)、グリッド15の場所のうちの少なくとも1つは、第1の端子25aによって占有されない場合がある。例えば、第1の端子25aによって占有されていないそのような場所は、第2の端子25bによって占有することもできるし、そのような場所は、いかなる端子によっても占有しないこともできる。図5Aに示すように、超小型電子パッケージ10は、第1の端子25aの2つの平行な列16を含むことができる。そのような列16は、第1の開口部26a及び第2の開口部26bの軸29に平行に向けることができる。代替的には、例えば、図9Aに示されるように、第1の端子25aの列16は、第1の開口部26a及び第2の開口部26bの軸29に対して垂直に向けることができる。
超小型電子パッケージ10の第2の端子25bは、基板20の第2の表面22の周辺領域28及び/又は28’における1つ又は複数のグリッド17の場所に配列した第2の端子の1つ又は複数の組内に配置することができる。1つのグリッド17の場所に配列した第2の端子25bのそれぞれの組は、第2の端子の1つ又は複数の列18を含むことができる。図5Aに示すように、グリッド17の場所の全ては、第2の端子25bのうちの対応するものによって占有することができる。代替的に(図示せず)、グリッド17の場所のうちの少なくとも1つは、第2の端子25bによって占有されない場合がある。図5Aに示すように、超小型電子パッケージ10のそれぞれのグリッド17は、第2の端子25bの2つの平行な列18を含むことができる。そのような列18は、図5Aに示すようにそれぞれの隣接する開口部26の軸29に平行に向けることができる。例えば、図5Aに示される第1のグリッド17a、第2のグリッド17b、第3のグリッド17c及び第4のグリッド17dのそれぞれにおける列18は、それぞれの第1の軸29a、第2の軸29b、第3の軸29c及び第4の軸29dに対して平行に向けることができる。
一実施形態において、アドレス信号以外の信号を運ぶように構成された第2の端子25bのうちの少なくともいくつかは、第1の端子25aも含むグリッド15内の場所に配列することができる。一例において、コマンド信号、アドレス信号、及びクロック信号以外の信号を運ぶように構成された第2の端子25bのうちの少なくともいくつかは、第1の端子25aも含むグリッド15内の場所に配列することができる。
第1の端子25a及び第2の端子25bを、隣接した列16又は18内で第1の軸29a及び第2の軸29bの方向において同じ相対的な場所に示すが、そのような端子は、実際には第1の軸29a及び第2の軸29bの方向においていくらかオフセットされた場所に配置することができる。例えば、図5Aには示していないが、第1の端子25a及び第2の端子25bのうちの少なくとも1つを、端子の隣接する列同士の間に配置することができる。別の例において、グリッド15、17のうちの1つ又は複数は、そのような列の端子25の大部分を貫いて列の軸が延在する、すなわちそれに対して中央に置いた、端子の列を含むことができる。しかしそのような列において、端子のうちの1つ又は複数は、列の軸に対して中央に置かれていない場合がある。この場合、このような1つ又は複数の端子は、たとえそのような端子が列の軸に対して中央に置かれていなくとも、特定の列の一部とみなされる。なぜなら、これらの端子は、任意の他の列の軸よりもその特定の列の軸に近いからである。列の軸は、列の軸に対して中央に置かれていないこれらの1つ又は複数の端子を貫いて延在することができ、又は、場合によっては、中央に置かれていない端子は列の軸から更に遠く、列の軸が列のこれらの中央に置かれていない端子を貫いて通りさえしない場合があるようになっていることもできる。グリッドにおけるそれぞれの列の列の軸に関して中央におかれていない端子が1つの列の中に、又は2つ以上の列の中にさえ、1つ、数個、又は多数存在することができる。さらに、端子25のグリッド15、17が、輪状、多角形、又は更には端子が散乱して分布した構成等、列以外のグループ分けをした端子の構成を含むことも可能である。
他の実施形態において、以下に図6A〜図15Cを参照して示し説明するように、超小型電子パッケージ10が含む列16及び列18は、他の量及び構成とすることができる。例えば、本明細書において説明する実施形態のうちのいくつかにおいて、第1の端子は4つ以下の列又は2つ以下の列に配列することができる。各図には端子を1列、2列及び3列有するグリッドを示すが、本明細書において説明する実施形態のうちのいかなるものにおけるグリッドも、端子の列を任意の数有することができる。
コンタクト35と端子25との間の電気的接続は、リードのうちの少なくとも一部が開口部26のうちの少なくとも1つと位置合わせされるオプションのリード、例えばワイヤボンド40、又はその他の可能な構造を含むことができる。例えば、図5Bにおいてわかるように、電気的接続のうちの少なくともいくつかは、基板の開口部26の縁部を越えて延在しコンタクト35と基板の導電性素子24とに接合されるワイヤボンド40を含むことができる。一実施形態において、電気的接続のうちの少なくともいくつかは、リードのボンドを含むことができる。そのような接続は、基板20の第1の表面21及び第2の表面22のうちのどちらか又は両方に沿って延在する、導電性素子24と端子25との間のリードを含むことができる。特定の例において、そのようなリードはそれぞれの超小型電子素子30のコンタクト35と第1の端子25aとの間で電気的に接続することができ、それぞれのリードは開口部26のうちの少なくとも1つと位置合わせされる部分を有する。
パッケージの第1の端子25aを通過する少なくともいくつかの信号は、超小型電子素子30のうちの少なくとも2つに共通とすることができる。これらの信号は、基板20上又は基板20内を基板の第1の表面21及び第2の表面22に平行な方向に延在する導電性トレース等の接続を介して、端子25から超小型電子素子30の対応するコンタクト35までルーティングすることができる。例えば、基板20の第2の表面22の中央領域23に配置された第1の端子25aは、導電性トレース、導電性素子24、例えばボンドパッド、及び導電性素子24とコンタクト35とに接合されるワイヤボンド40を介して、それぞれの超小型電子素子30の導電性コンタクト35と電気的に接続することができる。
図5A及び図5Bに示されるように、超小型電子パッケージ10は、4つの超小型電子素子30を含むことができ、そのうちのいくつかは互いに積重することができる。例えば、図5A及び図5Bに示される実施形態では、第1の超小型電子素子30a及び第2の超小型電子素子30bのそれぞれの超小型電子素子の前面31は、基板20の第1の表面21に対面することができ、第3の超小型電子30c及び第4の超小型電子素子30dのそれぞれの超小型電子素子の前面31は、第1の超小型電子素子及び第2の超小型電子素子のそれぞれの超小型電子素子の背面33に対面することができる。第3の超小型電子素子30c及び第4の超小型電子素子30dのそれぞれの超小型電子素子の前面31の少なくとも一部が、第1の超小型電子素子30a及び第2の超小型電子素子30bのそれぞれの超小型電子素子の背面33の少なくとも一部の上に重なることができる。第3の超小型電子素子30c及び第4の超小型電子素子30dのそれぞれの超小型電子素子の前面31の中央領域37の少なくとも一部が、第1の超小型電子素子30a及び第2の超小型電子素子30bのそれぞれの超小型電子素子のそれぞれの横方向縁部32a、32bを越えて突出することができる。したがって、第3の超小型電子素子30c及び第4の超小型電子素子30dのそれぞれの超小型電子素子のコンタクト35は、第1の超小型電子素子30a及び第2の超小型電子素子30bのそれぞれの超小型電子素子のそれぞれの横方向縁部32a、32bを越えて突出する場所に位置決めすることができる。
1つ又は複数の接着層13を、第1の超小型電子素子30a及び第2の超小型電子素子30bと基板20との間、第3の超小型電子素子30cと第1の超小型電子素子30a及び第2の超小型電子素子30bとの間、及び第4の超小型電子素子30dと第1の超小型電子素子30a及び第2の超小型電子素子30bとの間に位置決めすることができる。そのような接着層13は、超小型電子パッケージ10の上記の構成要素を互いに結合するための接着剤を含むことができる。特定の実施形態では、1つ又は複数の接着層13は、基板20の第1の表面21と、第1の超小型電子素子30a及び第2の超小型電子素子30bのそれぞれ超小型電子素子の前面31との間に延在することができる。一実施形態では、1つ又は複数の接着層13は、第3の超小型電子素子30c及び第4の超小型電子素子30dのそれぞれの超小型電子素子の前面31の少なくとも一部を第1の超小型電子素子30a及び第2の超小型電子素子30bのそれぞれの超小型電子素子の背面33の少なくとも一部に接着することができる。
一例において、それぞれの接着層13は、部分的に又は完全にダイ取付け接着剤から作製することができ、シリコーンエラストマー等の低弾性係数材料からなることができる。一実施形態において、ダイ取付け接着剤はコンプライアントとすることができる。別の例において、この超小型電子素子30がそれぞれ同じ材料で形成された従来の半導体チップである場合には、温度変化に応答して超小型電子素子が同じように膨張収縮する傾向があるので、それぞれの接着層13は、高弾性係数の接着剤又ははんだの薄い層から完全に又は部分的に作製することができる。用いる材料に関係なく、接着層13のそれぞれは内部に単一の層又は複数の層を含むことができる。
超小型電子パッケージ10はまた、各超小型電子素子30の背面33をオプションで覆うことも、部分的に覆うことも、むき出しのままにすることもできる、封止材料50を含むことができる。例えば図5Bに示す超小型電子パッケージ10において、封止材料は各超小型電子素子30の背面33上に流し込むこと、ステンシル印刷すること、スクリーン印刷すること、又はディスペンサーで供給することができる。別の例において、封止材料50は、オーバモールドによって超小型電子素子30上に形成されるモールド成形材料(compound)とすることができる。
超小型電子パッケージ10は、ワイヤボンド40と基板20の導電性素子24とをオプションで覆うことができる封止材料(図示せず)を更に含むことができる。そのような封止材料はまた、オプションで開口部26内へと延在することができ、超小型電子素子30のコンタクト35を覆うことができる。
特定の実施形態において、超小型電子パッケージ10は、別のそのような超小型電子パッケージ及び後述する回路パネル60等の回路パネルとともに組み立てられるように構成されて、超小型電子パッケージのそれぞれが回路パネルの互いに反対側の表面に取り付けられるようにすることができる。
次に図5Eを参照して、超小型電子アセンブリ5は、共通の回路パネル60に搭載することができる2つ以上の超小型電子パッケージ10、例えば第1の超小型電子パッケージ10a及び第2の超小型電子パッケージ10bを含むことができる。回路パネル60は、互いに反対側の第1の表面61及び第2の表面62と、第1の表面及び第2の表面のそれぞれにおいて露出した複数の導電性の第1のパネルコンタクト65a及び第2のパネルコンタクト65b(総称してパネルコンタクト65)とを有することができる。超小型電子パッケージ10はパネルコンタクト65に、例えば端子25とパネルコンタクトとの間で延在することができる接合ユニット11によって搭載することができる。図5Eに示すように、第1の超小型電子パッケージ10aの基板20の第2の表面22と第2の超小型電子パッケージ10bの基板の第2の表面とは、互いの少なくとも90%の上に重なることができる。特定の例において、回路パネル60は、CTEが30ppm/℃よりも小さい素子を含むことができる。一実施形態において、そのような素子は本質的に半導体、ガラス、セラミックス、又は液晶ポリマー材料からなることができる。
第1の超小型電子パッケージ10aの第1の端子25aは、回路パネル60を介して第2の超小型電子パッケージ10bの第1の端子に電気的に接続することができる。第1の超小型電子パッケージ10aの第1の端子25aは、第1のグリッド15aの各場所に配列することができ、第2の超小型電子パッケージ10bの第1の端子25bは、第2のグリッド15bの各場所に配列することができる。図5Aに示すように、第1の超小型電子パッケージ10aの第1のグリッド15aの第1の端子25aは、自らが接続された第2の超小型電子パッケージ10bの第2のグリッド15bの対応する第1の端子25bの1ボールピッチ内で位置合わせすることができる。
本明細書において用いられるとき、特定の数のボールピッチ内での位置合わせとは、基板の第1の表面に垂直な水平方向に関してその特定の数のボールピッチ内で位置合わせされているということを意味する。例示的な実施形態において、第1のパッケージ10a及び第2のパッケージ10bそれぞれのグリッド15a、15bの電気的に接続された端子のそれぞれの対は、回路パネル60の第1の表面61に平行な直交するx、y方向に互いの1ボールピッチ内で位置合わせすることができる。特定の例では、それぞれの第1のパッケージ10a及び第2のパッケージ10bのグリッド15a、15bの大部分の位置は、第1の回路パネル表面61及び第2の回路パネル表面62に対して直交する垂直方向において互いに位置合わせすることができる。
一実施形態において、第1の超小型電子パッケージ10a及び第2の超小型電子パッケージ10bそれぞれのグリッド15a及び15bは、機能的及び機械的に一致し、グリッド15a及び15bのそれぞれが、同じ機能を有する超小型電子パッケージ10a又は10bそれぞれの基板20の第2の表面22で第1の端子25aの同じパターンを有することができるようにすることができる。ただし、それぞれの超小型電子パッケージ10の長さ、幅、及び高さの特定の寸法は他方の超小型電子パッケージと異なることができる。機能的及び機械的に一致したグリッド15a、15bを有するそのような実施形態において、それぞれの超小型電子パッケージ10の第1の端子25aは、第1の超小型電子パッケージ10aのグリッドの機能上の上端19(図5Aにおいて見える)が第2の超小型電子パッケージ10bのグリッドの機能上の上端19の上に重なることができるような向きにすることができる。
特定の例(図示せず)において、第1の超小型電子パッケージ及び第2の超小型電子パッケージ10のうちの少なくとも1つの基板20の第2の表面22に沿った第1の端子25aの空間的分布は、電気的に接続される対応するパネルコンタクト65の空間的分布とは異なって、第1の端子25aのうちの少なくとも1つが、電気的に接続される対応するパネルコンタクト65の上に直接重ならないようにすることができる。
図5E及び本明細書における他の超小型電子アセンブリの横断面図に示すように、わかりやすくするために、各図からは第2の端子を省いている。例えば図5Eにおいて、第2の端子は図示していないが、第2の端子はそれぞれの超小型電子パッケージ10の第2の表面22の周辺領域28及び/又は28’内に存在することができる。それぞれの超小型電子パッケージ10の第2の端子は、例えば第2の端子とパネルコンタクトとの間に延在することができる接合ユニット11等の接合ユニットによって、パネルコンタクト65のうちの対応するものに搭載することができる。
図5Eに示すように、超小型電子アセンブリ5の回路パネル60は、アドレス信号の全てをルーティングする、1つ又は複数のルーティング層66、例えばその上の導電性トレースを含むことができる。特定の例において、超小型電子アセンブリ5の回路パネル60は、コマンド信号、アドレス信号、バンクアドレス信号、及びクロック信号の全てをルーティングする、1つ又は複数のルーティング層66、例えばその上の導電性トレースを含むことができる。
図5Eに示すように、回路パネル60を貫いて延在する金属化ビア67がルーティング層66の導電性構造68(例えば、トレース)によってパネルコンタクト65に結合することができる。特定の例において、回路パネル60の第1の表面61及び第2の表面62でそれぞれ露出した、電気的に結合した第1のパネルコンタクト65a及び第2のパネルコンタクト65bの対を接続する導電性素子の全部合わせた合計の長さ(例えば、ビア67及び導電性構造68)は、パネルコンタクト65の最小ピッチの7倍未満とすることができる。
一例において、それぞれ2つの平行な列16に配列した第1の端子25aを有するグリッド15を有する超小型電子パッケージを有する超小型電子アセンブリの実施形態において、回路パネル60は、アドレス信号の全てをルーティングするのに必要な2つ以下のルーティング層66を含むことができる。例示的な実施形態において、それぞれ2つの平行な列16に配列した第1の端子25aを有するグリッド15を有する超小型電子パッケージを有する超小型電子アセンブリの実施形態において、回路パネル60は、コマンド信号、アドレス信号、バンクアドレス信号、及びクロック信号の全てをルーティングするのに必要な2つ以下のルーティング層66を含むことができる。しかし回路パネル60は、第1の端子25aによって運ばれる特定の信号以外の信号のルーティング用に3つ以上のルーティング層を含むことができる。
図5Eに示す実施形態において、第1のパネルコンタクト65aは、第1の超小型電子パッケージ10aの第1の端子25aに接合することができ、回路パネル60の第1の表面61において露出した、直線状に延在する第1の列及び第2の列に配列することができ、第2のパネルコンタクト65bは、第2の超小型電子パッケージ10bの第1の端子25aに接合することができ、回路パネル60の第2の表面62において露出した、直線状に延在する第1の列及び第2の列に配列することができる。「A」とラベルがついた接合ユニット11に接合して示す第1のパネルコンタクト65aの第1の列は、回路パネルの厚さ方向に第2のパネルコンタクト65bの第2の列と位置合わせすることができ、第1のパネルコンタクト65aの第2の列は、回路パネルの厚さ方向にこれもまた「A」とラベルがついた接合ユニットに接合して示す第2のパネルコンタクト65bの第1の列と位置合わせすることができる。
「A」とラベルがついた第1の表面61での第1のパネルコンタクト65aのそれぞれは、「A」とラベルがついた第2の表面62での対応する第2のパネルコンタクト65bに電気的に結合することができ、それにより、それぞれの表面61、62の第1の列のそれぞれのパネルコンタクト65が、反対側の表面の第1の列の対応するパネルコンタクトに結合することができる。図5Eにおいて、パネルコンタクト65のうちの対応するパネルコンタクト間の電気的接続の概略図を、点線69a及び69bによって示す。また、それぞれの表面61、62での第2の列のそれぞれのパネルコンタクト65は、反対側の表面の第2の列の対応するパネルコンタクトに結合することができる。
特定の例では、回路パネル60は、超小型電子アセンブリ5を超小型電子アセンブリ外部にある少なくとも1つの構成要素に電気的に接続するように構成される導電性コンタクトを更に含むことができる。
超小型電子アセンブリ5において、第1の超小型電子パッケージ10aのそれぞれの第1の端子25aは、回路パネル60を貫いて、同じ機能を有する第2の超小型電子パッケージ10bの対応する第1の端子に、比較的短いスタブ長で電気的に結合することができる。本明細書において用いられるとき、「スタブ長」とは、回路パネルの第1の表面での超小型電子パッケージ10の端子25と、回路パネルの第2の対向する表面での超小型電子パッケージの対応する端子の間の、最短の電気的接続の合計の長さを意味する。一例において、第1の超小型電子パッケージ10aと第2の超小型電子パッケージ10bとの間の電気的接続のスタブ長は、それぞれの超小型電子パッケージの第1の端子25aの最小ピッチの7倍以下にすることができる。
図5Fは、回路パネル60’を貫いて延在する金属化ビア67’が第1の超小型電子素子10a及び第2の超小型電子素子10bそれぞれの第1の端子25aと共通の垂直な平面内に配列する、図5Eに対して上述した実施形態の変形形態を示す。ビア67’と第1の端子25aとは共通の垂直な平面内にあるが、第1の超小型電子パッケージ10a及び第2の超小型電子パッケージ10bのそれぞれにおける対応する第1の端子25aを、互いから水平方向にオフセットさせて、回路パネルの水平及び垂直に延在する導電性構造(例えば、トレース及び金属化ビア)が対応する第1の端子に電気的に接続することができるようにすることができる。図5Eと同様に、図5Fにおけるパネルコンタクト65のうちの対応するパネルコンタクト間の電気的接続の概略図を、点線69a及び69bによって示す。
超小型電子アセンブリ5の特定の実施形態において、図5Gに示すように、コマンド−アドレスバス信号は、複数の超小型電子パッケージ10a、10bが接続された回路パネル60等の回路パネル上の接続位置間で少なくとも1つの方向D1にルーティングして、コマンド−アドレスバス137の信号がそれぞれの接続位置I、II、又はIIIにおいて互いにわずかに異なる時間にパッケージ10a、10bのそれぞれの対に達するようにすることができる。図5Gにおいてわかるように、この少なくとも1つの方向D1は、少なくとも1つの超小型電子素子30上の複数のコンタクト35の少なくとも1つの列36が延在する方向D2を横切るか又はその方向に直交することができる。そのようにして、回路パネル60上の(すなわち上の又は内の)コマンド−アドレスバス137の信号導体は、場合によっては、回路パネル60に接続された又は接続されるパッケージ10a又は10b内の超小型電子素子30上のコンタクト35のうちの少なくとも1つの列36に平行な方向D2に、互いから間隔を置いて配置することができる。
そのような構成は、特にそれぞれの超小型電子パッケージ10a、10bの第1の端子25aがそのような方向D2に延在する1つ又は複数の列に配列される場合には、コマンド−アドレスバス信号をルーティングするのに用いる回路パネル60上の1つ又は複数のルーティング層の信号導体のルーティングを簡単にするのに役立つことができる。例えば、比較的少数の第1の端子がそれぞれのパッケージ上の同じ垂直レイアウト場所に配置される場合には、回路パネル上のコマンド−アドレスバス信号のルーティングを簡単にすることを可能にすることができる。したがって、図5Aに示す例において、アドレス信号A3及びA1を受け取るように構成された第1の端子等、それぞれのパッケージ上の同じ垂直レイアウト場所には、第1の端子25aが2つのみ配置される。
例示的な実施形態において、超小型電子アセンブリ5は、ソリッドステートドライブコントローラ等のロジック機能を主として行うように構成された半導体チップを含むことができる超小型電子素子30’を有することができ、超小型電子パッケージ10a及び10bにおける超小型電子素子30のうちの1つ又は複数は、それぞれ不揮発性フラッシュメモリ等のメモリ記憶素子を含むことができる。超小型電子素子30’は、システム1600(図16)等のシステムの中央処理ユニットを超小型電子素子30に含まれるメモリ記憶素子への及びそこからのデータ転送の監視から解放するように構成された、専用プロセッサを含むことができる。ソリッドステートドライブコントローラを含むそのような超小型電子素子30’は、システム1600等のシステムのマザーボード(例えば、図16に示す回路パネル1602)上のデータバスへの及びそこからの直接メモリアクセスを行うことができる。特定の実施形態において、超小型電子素子30’は、バッファリング機能を果たすように構成することができる。例えば超小型電子素子30’は、超小型電子パッケージ10a及び10bのそれぞれに転送するよう上述のコマンド−アドレスバス信号を再生するように構成することができる。そのような超小型電子素子30’は、超小型電子アセンブリ5の外部の構成要素に関して超小型電子素子30のそれぞれについてインピーダンス分離を行うのに役立つように構成することができる。
コントローラ機能及び/又はバッファリング機能を含む超小型電子素子30’を有する超小型電子アセンブリ5のそのような実施形態において、コマンド−アドレスバス信号はそれぞれの接続位置I、II、又はIIIにおいて超小型電子素子30’とパッケージ10a、10bのそれぞれの対との間でルーティングすることができる。図5Gに示す特定の例において、接続位置I、II、又はIIIを通り越して延在するコマンド−アドレスバス137の一部は、方向D2、又は方向D1を横切る別の方向に延在して超小型電子素子30’の各コンタクトに達することができる。一実施形態において、コマンド−アドレスバス137は、方向D1に延在して超小型電子素子30’の各コンタクトに達することができる。
図6Aは、超小型電子パッケージ610の第1の端子625aが単一の列616を有するグリッド615内に配列された、図5Aに対して上述した実施形態の変形形態を示す。グリッド615を、超小型電子素子630の前面631の外側の境界を越えて延在して示すが、必ずしもそのようにする必要はない。そのような実施形態のあり得る利点は図6Bにおいてわかるが、図6Bは、共通の回路パネル660に搭載することができる2つ以上の超小型電子パッケージ610を含むことができる超小型電子アセンブリ605を示す。図6Bに示すように、第1の超小型電子パッケージ610a及び第2の超小型電子パッケージ610bのそれぞれにおける対応する第1の端子625aは、共通の垂直な平面内に配列することができる。回路パネルの構造はまた、この構造を有する超小型電子アセンブリ605において簡単にすることができる。なぜなら、電気的に接続された第1の端子625aのそれぞれの対間のルーティングは概ね垂直方向、すなわち回路パネルの厚さを貫く方向にすることができるからである。すなわち、回路パネルの互いに反対側の表面661、662に搭載された超小型電子パッケージ610の対応する第1の端子625aのそれぞれの対を電気的に接続するのに必要なのが回路パネル660上のビア接続のみとすることができる。
そのような実施形態において、第1の超小型電子パッケージ610a及び第2の超小型電子パッケージ610bのそれぞれにおける対応する第1の端子625aは、互いから水平方向にオフセットさせないことができる(又は、例えば製造公差に起因する水平方向のオフセットを最小にすることができる)ので、回路パネル660を貫く第1の超小型電子パッケージ610a及び第2の超小型電子パッケージ610bの第1の端子625a間での、(一例における)アドレス信号、又は(特定の例における)コマンド信号、アドレス信号、バンクアドレス信号、及びクロック信号を運ぶ電気的接続のうちの少なくともいくつかは、ほぼ回路パネルの厚さの電気長を有することができる。本明細書において用いられるとき、「固定電位の信号」は、電源信号及び接地(基準電位)信号を含む。
さらに、超小型電子パッケージ610のそれぞれの対が接続される接続位置間の、回路パネルに沿って、(一例における)アドレス信号、又は(特定の例における)コマンド−アドレスバス信号をルーティングするのに必要な回路パネル660上の配線のルーティング層の数を減らすことができる。具体的には、そのような信号を回路パネル660に沿ってルーティングするのに必要なルーティング層の数は、場合によっては、2つ以下のルーティング層まで減らすことができる。特定の例において、そのような信号を回路パネル660に沿ってルーティングするのに必要なルーティング層は、1つのみとすることができる。しかし、回路パネル660上及び内に、上述のアドレス信号又はコマンド−アドレスバス信号を運ぶのに用いるルーティング層の数よりも多い数の、他の信号を運ぶのに用いるルーティング層が存在することができる。
図7Aは、超小型電子パッケージ710の第1の端子725aが平行な第1のグリッド715a及び第2のグリッド715b内のそれぞれの場所に配列された第1の端子の第1の組及び第2の組内に配置され、それぞれのグリッドが第1の端子の2つの隣接する列716を有する、図5Aに対して上述した実施形態の変形形態を示す。この実施形態において、第1のグリッド715a内の場所に配列された第1の組における第1の端子725aは、第2のグリッド715b内の場所に配列された第2の組における第1の端子と同じ信号割当てを全て運ぶように構成することができ、第1の組及び第2の組における第1の端子のうちの対応する端子の場所は、第1のグリッドと第2のグリッドとの間の理論的な中間軸729eに関して鏡像をなすように示され、この第3の理論的な中間軸は開口部726a、726bの平行な第1の軸729a及び第2の軸729bと平行である。この実施形態において、第1のグリッド715a内の場所に配列された第1の端子の第1の組における特定の信号を運ぶように構成された、それぞれの第1の端子725aは、第2のグリッド715b内の場所に配列された第1の端子の第2の組における同じ信号を運ぶように構成された対応する第1の端子に対して、理論的な中間軸729eの回りで対称とすることができる。言い換えれば、第1の組における第1の端子725aの信号割当ては、第2の組における対応する第1の端子の信号割当てに対応するとともにその鏡像である。
第1の端子725aの信号割当てがその回りで対称である第3の理論的な中間軸729eは、基板720上のさまざまな場所に置くことができる。特定の実施形態において、特に、縁部727a、727bに平行な方向に第1の端子の列716が延在し第1のグリッド715a及び第2のグリッド715bが基板の対向する第1の縁部727a及び第2の縁部727bから等距離に置かれた、パッケージの中心軸の回りで対称な位置に配置されている場合には、理論的な中間軸729eは、この中心軸とすることができる。
代替的に、この対称軸は、縁部727a、727bから等距離の中心軸から水平方向(理論的な中間軸729eに垂直な方向)にオフセットさせることができる。一例において、中間軸729eは、第2の表面の対向する第1の縁部727a及び第2の対向する縁部727bから等距離に置かれた基板720の第2の表面722の中心線から、第1の端子725aの1ボールピッチ内に置くことができる。
4つの超小型電子素子730と、その中間軸729eの回りで互いに鏡像をなす第1の端子725aの2つのグリッド715とを有するそのような実施形態では、第1のグリッド715a及び第2のグリッド715bのそれぞれのグリッドの第1の端子は、超小型電子素子のうちの2つの対応する超小型電子素子に電気的に接続することができる。特定の例では、第1のグリッド715aの第1の端子725aは、第1の超小型電子素子730a及び第2の超小型電子素子730bのコンタクトに接続することができ、第2のグリッド715bの第1の端子は、第3の超小型電子素子730c及び第4の超小型電子素子730dのコンタクトに接続することができる。そのような場合に、第1のグリッド715aの第1の端子725aは第3の超小型電子素子730c及び第4の超小型電子素子730dと電気的に接続されない場合もあり、パッケージ710の第2のグリッド715bの第1の端子725aは、第1の超小型電子素子730a及び第2の超小型電子素子730bと電気的に接続されない場合もある。更に別の実施形態では、第1のグリッド715a及び第2のグリッド715bのそれぞれのグリッドの第1の端子725aは、第1の超小型電子素子730a、第2の超小型電子素子730b、第3の超小型電子素子730c及び第4の超小型電子素子730dのそれぞれと電気的に接続することができる。
第2のグリッド715bにおける信号割当てが第1のグリッド715aにおけるそれらの鏡像である状態で信号CK(クロック)を運ぶように割り当てられた第1のグリッドの第1の端子725aは、信号CKを運ぶように割り当てられた第2のグリッドの対応する第1の端子と同じ、グリッド内での相対的垂直場所(理論的な中間軸729eに沿った方向)にある。しかし、第1のグリッド715aは2つの列716を含み、信号CKを運ぶように割り当てられた第1のグリッドの端子は、第1のグリッドの2つの列のうちの左側の列にあるので、配列が鏡像であるためには、信号CKを運ぶように割り当てられた第2のグリッド715bの対応する端子は、第2のグリッドの2つの列のうちの右側の列になければならない。
この配列の別の結果は、信号WE(ライトイネーブル)を運ぶように割り当てられた端子もまた、第1のグリッド715a及び第2のグリッド715bのそれぞれにおいて同じ、グリッド内での相対的垂直場所にあるということである。しかし、第1のグリッド715aにおいて、WEを運ぶように割り当てられた端子は、第1のグリッドの2つの列716のうちの右側の列にあり、配列が鏡像であるためには、信号WEを運ぶように割り当てられた第2のグリッド715bの対応する端子は、第2のグリッドの2つの列のうちの左側の列になければならない。図7Aにおいてわかるように、第1のグリッド715a及び第2のグリッド715bのそれぞれにおけるそれぞれの第1の端子725aについて、少なくとも、上述のコマンド−アドレスバス信号を運ぶように割り当てられたそれぞれの第1の端子について、同じ関係が当てはまる。
それに従った別の例において、第1の端子の第1のグリッド715a及び第2のグリッド715bのそれぞれの「A3」として示す、アドレス情報を運ぶように割り当てられた端子(図7Aに示す)は、超小型電子パッケージ710内の1つ又は複数の超小型電子素子の対応する「A3」と名前のついた素子コンタクト(図7Bに示す)を指定するということが明白である。したがって、そこを通って情報が同じ名前、例えば「A3」を有する素子コンタクトに転送される、第1の端子の第1の組及び第2の組のそれぞれにおける超小型電子パッケージ710の外部のそのような対応する第1の端子725aは、たとえ第1の組及び第2の組における対応する第1の端子の名前が異なっていようとも、鏡像の信号割当てを有すると考えられる。したがって、一例において、第1の端子の第1の組及び第2の組のそれぞれにおいて、鏡像の信号割当て、例えば、「A3」と指定された信号割当てを有する第1の端子725aのそれぞれの組に割り当てられた信号が、超小型電子素子上の「A3」という名前を有する素子コンタクトに入力される情報を運ぶ端子を特定することが可能である。ただし、第1の組及び第2の組のそれぞれにおける対応する端子の名前は、例えば第1の組においてA3L(A3左)という名前を与え、第2の組においてA3R(A3右)と言う名前を与えることができる等、互いに異なることができる。
さらに、図7Aにおいて「A3」で示す第1の端子の対応する対において超小型電子パッケージ710に提供されるアドレス情報は、場合によっては、超小型電子構造の外部の場所でのドライバ回路部の同一の出力から生じることができる。その結果、信号「A3」を運ぶように割り当てられた(すなわち、上述のように、その上の情報を超小型電子素子の「A3」と名前のついた素子コンタクトに転送するための)第1のグリッド715aの第1の端子725aは、信号「A3」を運ぶように割り当てられた第2のグリッド715bの対応する第1の端子725aと同じ、グリッド内での相対的垂直場所(方向142)にある。
図7Aに示されるように、第2の端子725bは、平行な第1のグリッド717a及び第2のグリッド717b内と、平行な第3のグリッド717c及び第4のグリッド717d内とに存在することができ、そのような第1のグリッド及び第2のグリッド内の第2の端子725bの対応する端子の位置は、中間軸729eの回りで鏡像をなすことができ、そのような第3のグリッド及び第4のグリッド内の第2の端子の対応する端子の位置は中間軸729eを横切る第2の中間軸729fの回りで鏡像をなすことができる。特定の例では、第2の中間軸729fは、中間軸729eに対して直交することができる。特定の例(図示せず)において、第2の端子725bのうちのいくつか又は全ては、第1の端子725aが配列される基板720上の同じグリッド715a、715b内に配列することができる。第2の端子725bのうちのいくつか又は全ては、第1の端子725aのうちのいくつか又は全てと同じ列に配置することも異なる列に配置することもできる。場合によっては、1つ又は複数の第2の端子725bには、同じグリッド又は列内に第1の端子725aを点在させることができる。
超小型電子素子730a、730b、730c及び730dの一部の上に重なることができ、そこに電気的に接続することができる第2の端子725bのグリッド717a、717b、717c、及び717dは、任意の適切な配列に配置された端子を有することができ、グリッドのうちの1つにおける信号割当てがグリッドのうちの別の1つの端末における信号割当ての鏡像であるグリッド内にこれらの第2の端子を配置するという要件はない。図7Aに示す特定の例において、2つのグリッド717a及び717bの信号割当ては中間軸729eの回りで互いに対称であり、中間軸はこれらのグリッド717a及び717b間の方向に延在する。
図7Cは、図7Aに示される信号割当ての代わりに、超小型電子パッケージ710内で用いることができる、図7Aに示される信号割当ての変形形態を示す。図7Cは、同じ譲受人に譲渡された同時係属中の米国特許出願第13/439,317号の図18と実質的に同じ図であり、その開示は本明細書において引用することにより本明細書の一部をなすものとする。図7Cにおいて、第5のグリッド755内の第2の端子の信号クラス割当ては、垂直軸780の回りで対称にすることができ、第6のグリッド757内の第2の端子の信号クラス割当ては垂直軸780の回りで対称にすることができる。本明細書において用いられるとき、クラス内の数値インデックスが異なる場合であっても、信号割当てが同じ割当てクラス内にある場合には、2つの信号クラス割当ては互いに対称とすることができる。例示的な信号クラス割当ては、データ信号、データストローブ信号、データストローブ相補信号及びデータマスク信号を含むことができる。特定の例では、第5のグリッド755において、信号割当てDQSH#及びDQSL#を有する第2の端子は、それらの端子が異なる信号割当てを有する場合であっても、データストローブ相補であるその信号クラス割当てに関して、垂直軸780の回りで対称である。
図7Cに更に示すように、例えばデータ信号DQ0、DQ1、...等についてのデータ信号の超小型電子パッケージ上の第2の端子の空間的場所への割り当ては、垂直軸780の回りでモジュロX対称性を有することができる。このモジュロX対称性は、1つ又は複数の対の第1のパッケージ及び第2のパッケージが互いに対向して回路パネルに搭載され、回路パネルはそれぞれの対向して搭載されるパッケージの対における第1のパッケージ及び第2のパッケージの対応する第2の端子の対に電気的に接続する、図5Eにおいて見られるアセンブリ5における信号完全性を保つのに役立つことができる。本明細書において用いられるとき、端子の信号割当てが或る軸の回りで「モジュロX対称性」を有する場合には、同じインデックス番号の「モジュロX」を有する信号を運ぶ端子が、その軸の回りで対称である場所に配置される。したがって、図5E等におけるそのようなアセンブリ5において、モジュロX対称性によって回路パネルを介した電気的接続を行うことができ、第1のパッケージの端子DQ0が回路パネルを介して同じインデックス番号のモジュロX(この場合Xは8)を有する第2のパッケージの端子DQ8に電気的に接続することができ、それにより、回路パネルの厚さを本質的に真っ直ぐ貫く、すなわちそれに垂直な方向に接続を行うことができる。
一例において、「X」は2(2のn乗)という数字とすることができる。ただしnは2以上である。又は、Xは8×Nとすることができる。ただしNは2以上である。したがって一例において、Xは1/2バイトにおけるビット数(4ビット)、1バイトにおけるビット数(8ビット)、複数バイトにおけるビット数(8×N、ただしNは2以上)、ワードにおけるビット数(32ビット)、又は複数ワードにおけるビット数と等しくすることができる。そのようにして、一例において、図7Cに示すようにモジュロ8対称性がある場合には、データ信号DQ0を運ぶように構成されたグリッド755におけるパッケージ端子DQ0の信号割当ては、垂直軸780の回りで、データ信号DQ8を運ぶように構成された別のパッケージ端子の信号割当てと対称である。さらに、グリッド757におけるパッケージ端子DQ0及びDQ8の信号割当てについても同じことが当てはまる。図7Cにおいて更にわかるように、グリッド755におけるパッケージ端子DQ2及びDQ10の信号割当ては、垂直軸の回りでモジュロ8対称性を有し、グリッド757についても同じことが当てはまる。本明細書において説明するもの等のモジュロ8対称性は、パッケージ端子DQ0〜DQ15の信号割当てのそれぞれに関してグリッド755、757において見られる。
図示してはいないが、モジュロ数「X」は2(2のn乗)以外の数字とすることができ、2よりも大きい任意の数とすることができることに注意することが重要である。したがって、対称性が基づくモジュロ数Xは、パッケージがそのために組み立てられる又は構成されるデータサイズにおいて存在するビット数によって決まることができる。例えば、データサイズが8ビットの代わりに10ビットである場合には、信号割当てはモジュロ10対称性を有することができる。データサイズが奇数ビットを有する場合には、モジュロ数Xはそのような数を有することができる場合さえあってよい。
図6Aの実施形態と同様に、図7Aの実施形態の潜在的利点が図7Bにおいてわかる。図7Bは、共通の回路パネル760に搭載することができる2つ以上の超小型電子パッケージ710を含むことができる超小型電子アセンブリ705を示す。図7Bに示すように、第1の超小型電子パッケージ710a及び第2の超小型電子パッケージ710bのそれぞれにおける対応する第1の端子725aは、共通の垂直な平面内に配列することができ、それによって、回路パネル760を貫く第1の超小型電子パッケージ710a及び第2の超小型電子パッケージ710bの第1の端子725a間での、(一例における)アドレス信号、又は(特定の例における)コマンド信号、アドレス信号、バンクアドレス信号、及びクロック信号を運ぶ電気的接続のうちの少なくともいくつかが、ほぼ回路パネルの厚さの電気長を有することができる。
図8は、それぞれが2つの列816を有する4つの平行なグリッド815内に配置される第1の端子825aを有する超小型電子パッケージ810を示す、図7Aに対して上記で説明された実施形態の変形形態を示す。図8に示されるように、2つの外側グリッド815a及び815b内の場所に配置される第1の端子の集合は、外側グリッド間の中間軸829eの回りで互いに鏡像をなすことができ、その中間軸は第1の軸829a及び第2の軸829bに対して平行であり、2つの内側グリッド815c及び815d内の場所に配置される第1の端子の集合は、中間軸の回りで互いに鏡像をなすことができる。図8の変形形態(図示せず)では、各外側グリッド815a及び815b内の場所に配置される第1の端子の集合は、内側グリッド815c及び815dのうちの隣接するグリッド内の場所に配置される第1の端子の集合に対して鏡像をなすこともできる。
図9Aは、図7Aに対して上記で説明された実施形態の変形形態を示しており、超小型電子パッケージ910は3つの超小型電子素子930を含む。この実施形態では、超小型電子パッケージ910は、基板920の第1の表面921に対して平行な単一の面内に配置される前面931をそれぞれ有する第1の超小型電子素子930a及び第2の超小型電子素子930bと、基板と、第1の超小型電子素子及び第2の超小型電子素子との間に配置される第3の超小型電子素子930cとを含む。第1の超小型電子素子930a及び第2の超小型電子素子930bはそれぞれ、第3の超小型電子素子930cの背面933の上に少なくとも部分的に重なる前面931を有する。一例では、3つの超小型電子素子930を有するそのような超小型電子パッケージでは、第3の超小型電子素子930cはNANDフラッシュ素子とすることができる。
基板920は、第3の開口部の長さ方向に延在する第3の軸929cを有する第3の開口部926cを有することができ、第3の軸は、第1の開口部926a及び第2の開口部926bそれぞれの第1の軸929a及び第2の軸929bを横切る。特定の例において、第3の軸929cは、第1の軸292a及び第2の軸929bに直交することができる。第3の超小型電子素子930cは、開口部926のうちの少なくとも1つと位置合わせされる、その第1の表面936の複数のコンタクト935を有することができる。
図7Aに示す実施形態と同様に、超小型電子パッケージ910の第1の端子925aは、平行な第1のグリッド915a及び第2のグリッド915b内に配列され、それぞれのグリッドは第1の端子の2つの隣接する列916を有し、第1のグリッド及び第2のグリッドにおける端子925aのうちの対応する端子の場所は、第1の軸929a及び第2の軸929bを横切る、第1のグリッドと第2のグリッドとの間の中間軸929e(第3の軸929cと一致することができる)の回りで鏡像をなすように示される。一例では、中間軸929eは第1の軸929a及び第2の軸929bに対して直交することができる。この実施形態では、第2の端子925bのうちのいくつかは、第1の端子925aのグリッド915に隣接するグリッド917内に位置することができる。
図9Bは、図9Aに対して上記で説明された実施形態の変形形態を示しており、超小型電子パッケージ910’は2つの超小型電子素子930を含む。この実施形態では、超小型電子パッケージ910は、基板920’の第2の表面922に対面する前面931を有する第1の超小型電子素子930a’と、第1の超小型電子素子の背面932の上に少なくとも部分的に重なる前面を有する第2の超小型電子素子930b’とを含む。
基板920’は第1の開口部926a及び926bを有することができ、第1の開口部及び第2の開口部は、それぞれの第1の開口部及び第2の開口部の長さの方向に延在するそれぞれの第1の軸929a及び第2の軸929bを有し、第2の軸は第1の軸を横切る。特定の例では、第2の軸929bは、第1の軸929aに直交することができる。
図9Aに示す実施形態と同様に、超小型電子パッケージ910’の第1の端子925aは、平行な第1のグリッド915a及び第2のグリッド915b内に配列され、それぞれのグリッドは第1の端子の2つの隣接する列916を有することができ、第1のグリッド及び第2のグリッドにおける端子925aのうちの対応する端子の場所は、第1の軸929aに平行な、第1のグリッドと第2のグリッドとの間の中間の軸929e(第1の軸929aと一致することができる)の回りで鏡像をなすように示される。
第1の端子925aが露出する基板920’の第1の表面921の中央領域923は、第1の開口部926aに隣接して位置することができる。特定の実施形態では、第1の開口部926aは、第1のグリッド915aと第2のグリッド915bとの間に少なくとも部分的に配置することができる。
第2の超小型電子素子930b’の前面931と基板920の第1の表面922の一部との間に、スペーサ(図示せず)を配置することができる。このスペーサは、基板に対する第2の超小型電子素子の機械的な安定性を増大させる。そのようなスペーサは例えば、二酸化ケイ素等の誘電材料、シリコン等の半導体材料、又は接着剤の1つ又は複数の層から作製することができる。スペーサが接着剤を含む場合には、接着剤は第2の超小型電子素子930bを基板920に接続することができる。一実施形態において、スペーサは、基板920の第1の表面921に略垂直な垂直方向に、第1の超小型電子素子930a’の前面931と背面933との間の厚さと略同じ厚さを有することができる。スペーサが接着剤から形成される特定の実施形態では、スペーサと第2の超小型電子素子930b’及び基板920との間に位置決めされる接着層は省くことができる。
図9A及び図9Bに示される実施形態の潜在的な利点を図9Cにおいて確認することができ、図9Cは、共通の回路パネル960に取り付けることができる2つ以上の超小型電子パッケージ910又は910’を含むことができる超小型電子アセンブリ905を示す。図9Bに示されるように、第1の超小型電子パッケージ910a又は910a’、及び第2の超小型電子素子910b又は910b’のそれぞれにおける対応する第1の端子925aは、共通の垂直面内に配置することができる。
そのような実施形態において、第1の超小型電子パッケージ910a又は910a’及び第2の超小型電子パッケージ910b又は910b’のそれぞれにおける対応する第1の端子925aは、互いから水平方向にオフセットさせないことができる(又は、例えば製造公差に起因する水平方向のオフセットを最小にすることができる)ので、回路パネル960を貫く第1の超小型電子パッケージ910a又は910a’及び第2の超小型電子パッケージ910b又は910b’の第1の端子925a間での、(一例における)アドレス信号、又は(特定の例における)コマンド信号、アドレス信号、バンクアドレス信号、及びクロック信号を運ぶ電気的接続のうちの少なくともいくつかは、ほぼ回路パネルの厚さの電気長を有することができる。
図9Bに示される実施形態の変形形態(図示せず)では、超小型電子パッケージは、隣接する重なり合う2対の超小型電子素子を含むことができ、それらの超小型電子素子は、同じ基板の上に重なる互いに隣接して配置される2対の超小型電子素子930a’、930b’(図9B)のように見える。
図10Aは、図5Aに対して上記で説明された実施形態の変形形態を示しており、超小型電子パッケージ1010は、基板1020の第1の表面1021に対して平行な単一の面内に配置される表面1031をそれぞれ有する4つの超小型電子素子1030を含む。
図10Aは、風車の形状に類似の超小型電子素子1030の特定の配置を示す。この実施形態では、第1の開口部1026a及び第2の開口部1026bの最も長い寸法は平行な第1の軸1029a及び第2の軸1029bを規定し、第3の開口部1026c及び第4の開口部1026dの最も長い寸法は平行な第3の軸1029c及び第4の軸1029dを規定する。第3の軸1029c及び第4の軸1029dは第1の軸1029a及び第2の軸1029bを横切ることができる。例示的な実施形態では、第3の軸1029c及び第4の軸1029dは第1の軸1029a及び第2の軸1029bと直交することができる。
一例では、超小型電子素子1030はそれぞれ、それぞれの超小型電子素子の長さの方向に延在する対向する第1の縁部1038a及び第2の縁部1038bを有することができ、第1の縁部はそれぞれ、パッケージの質量中心1008に隣接する部分を有し、第1の縁部はそれぞれ、超小型電子素子の他の超小型電子素子のうちの厳密に1つを通って延在する面1039を画定する。特定の実施形態では、例えば、図10Aにおいて示されるように、開口部1026のそれぞれの開口部の軸1029は、開口部の他の開口部のうちの厳密に1つを通って延在することができる。
各超小型電子素子1030は、対向する第1の縁部1038aと第2の縁部1038bとの間のそれぞれの超小型電子素子の幅の方向に延在する、向かう合う第3の縁部1038c及び第4の縁部1038dを有することができ、第3の縁部はそれぞれ隣接する超小型電子素子の第1の縁部の少なくとも一部に面する。図10Aに示されるように、超小型電子素子1030のそれぞれの第2の縁部1038bは、厳密に1つの隣接する超小型電子素子の第4の縁部1038dと同一平面をなすことができる。
図5Aに示される実施形態と同様に、超小型電子パッケージ1010の第1の端子1025aは、第1の端子の2つの隣接する列1016を有する単一のグリッド1015内に配置することができる。第1の端子1025aが露出する基板1020の第2の表面1022の中央領域1023は、第1の軸1029aと第2の軸1029bとの間に位置することができ、基板の第2の表面の周辺領域1028は、基板の対向する縁部と、第1及び第2の軸との間に存在することができる。特定の実施形態では、第3の軸1029c及び第4の軸1029dは、基板1020の第2の表面1022の中央領域1023の境界を与えることができ、それにより、基板1020の第2の表面1022の周辺領域1028’は、基板の向かう合う縁部と第3及び第4の軸との間に存在することができる。
一例では、バッファリング機能を実行するように構成されるチップを含む1つ又は複数の超小型電子素子1030’を基板1020に実装することができ、超小型電子素子1030’は、基板1020の第1の表面1021(図10A)又は第2の表面1022に面する表面1031’を有する。一例では、そのようなバッファリングチップ1030’は、基板1020の第1の表面1021において露出する導電性コンタクトにフリップチップボンディングすることができる。そのような各バッファ素子を用いて、特にパッケージの第1の端子において受信された上記のコマンド−アドレスバス信号用に、及びパッケージ内の超小型電子素子のうちの1つ又は複数用に、超小型電子パッケージ1010の端子間の信号分離を与えることができる。一例では、そのようなバッファリングチップ1030’又はバッファ素子は、超小型電子パッケージ1010内の端子1025のうちの少なくともいくつか及び超小型電子素子1030のうちの1つ又は複数に電気的に接続することができ、バッファチップは、超小型電子パッケージ1010の端子のうちの1つ又は複数において受信された少なくとも1つの信号を再生するように構成される。通常、1つ又は複数のバッファ素子は、第1の端子において受信されたか、又は第2の端子において受信された信号を再生し、再生された信号をパッケージ内の超小型電子素子に転送する。
特定の例において、そのようなバッファリングチップは、アドレス情報、又は一例において、超小型電子素子1030のうちの1つ又は複数に転送されるコマンド信号、アドレス信号、及びクロック信号を、バッファするように構成することができる。上述のように信号を再生することに代えて、又はそれに加えて、特定の例において、そのような更なる超小型電子素子は、第1の端子等の端子で受け取られるアドレス情報又はコマンド情報のうちの少なくとも1つを部分的に又は完全に復号化するように構成することができる。次に、復号化チップはそのような部分的な又は完全な復号化の結果を出力して、超小型電子素子1030のうちの1つ又は複数に転送することができる。
特定の実施形態では、チップ1030’のうちの1つ又は複数はデカップリングキャパシタとすることができる。1つ又は複数のデカップリングキャパシタ1030’は、上記のバッファリングチップの代わりに、又はそれに加えて、超小型電子素子1030間に配置することができる。そのようなデカップリングキャパシタは超小型電子パッケージ1010内の内部電源及び/又は接地バスに電気的に接続することができる。
そのような実施形態の潜在的な利点は図10Bにおいてわかるが、図10Bは、共通の回路パネル1060に搭載することができる2つ以上の超小型電子パッケージ1010を含むことができる超小型電子アセンブリ1005を示す。図10Bに示すように、第1の超小型電子パッケージ1010a及び第2の超小型電子パッケージ1010bのそれぞれにおける対応する第1の端子1025aは、共通の垂直な平面内に配列することができる。
図10C及び図10Dは、図10Aに示される超小型電子パッケージの実施形態の変形形態を示す。図10Cは、3つの平行な列1016を有する単一のグリッド1015’内に配置される第1の端子1025aを有する超小型電子パッケージ1001を示す。3つの列1016を有するグリッド1015’のそのような構成は、第3の開口部及び第4の開口部が互いに相対的に近く、それにより、第3の開口部1026cと第4の開口部1026dとの間に入ることができるグリッドの潜在的な長さが制限されるときに有利であることができる。
図10Dは、2つの平行な列1016を有する単一のグリッド1015内に配置される第1の端子1025aを有する超小型電子パッケージ1002を示しており、超小型電子素子1030は相対的に長くなく、それにより、第3の開口部と第4の開口部との間に入ることができるグリッドの潜在的な高さが制限される。グリッド1015の長さを収容するために、超小型電子素子1030のそれぞれの超小型電子素子の第2の縁部1038bが隣接する超小型電子素子の第4の縁部1038dと同一平面をなさないように、図10Dに示されるように風車形状を調整することができる。図10Dに示される例では、超小型電子素子1030のそれぞれの超小型電子素子の第2の縁部1038bを含む平面1039’は、厳密に1つの隣接する超小型電子素子の第1の縁部1038aを横切る。
図11Aは図10Aに対して上記で説明された実施形態の変形形態を示しており、超小型電子パッケージ1110の第1の端子1125aは平行な第1のグリッド1115a及び第2のグリッド1115b内に配置され、各グリッドは第1の端子の2つの隣接する列1116を有する。この実施形態では、第1のグリッド1115a及び第2のグリッド1115bはそれぞれ全て同じ信号を運ぶように構成することができ、第1のグリッド及び第2のグリッド内の端子1125aの対応する端子の位置は、第1のグリッドと第2のグリッドとの間の中間軸1129eの回りで鏡像をなすように示されており、中間軸は開口部1126a及び1126bの第1の軸1129a及び第2の軸1129bに対して平行である。
一例では、1つ又は複数のバッファリングチップ1130’を互いに隣接して基板1120に実装することができ、各バッファリングチップは基板1120の第1の表面1121(図11A)又は第2の表面1122に面する表面1131’を有する。そのようなバッファリングチップ1130’は、基板1120の第1の表面1121において露出する導電性コンタクトにフリップチップボンディングすることができる。4つの超小型電子素子1130を有するそのような実施形態では、1つ又は複数のバッファリングチップ1130’はそれぞれ、超小型電子素子のうちの2つのそれぞれの超小型電子素子に電気的に接続することができる。特定の実施形態では、チップ1130’のうちの1つ又は複数はデカップリングキャパシタとすることができる。1つ又は複数のデカップリングキャパシタ1130’は、上記のバッファリングチップの代わりに、又はそれに加えて、超小型電子素子1130間に配置することができる。そのようなデカップリングキャパシタは超小型電子パッケージ1110内の内部電源及び接地バスに電気的に接続することができる。
図11Eは、図11Aに示される信号割当ての代わりに、超小型電子パッケージ1110において用いることができる、図11Aに示される信号割当ての変形形態を示す。図11Eは、同じ譲受人に譲渡された同時係属中の米国特許出願第13/439,317号の図20と実質的に同じ図であり、その開示は引用することにより本明細書の一部をなすものとする。図11Eでは、図7Cと同様に、第5のグリッド1155内の第2の端子の信号クラス割当ては、垂直軸1180の回りで対称とすることができ、第6のグリッド1157内の第2の端子の信号クラス割当ては、垂直軸1180の回りで対称とすることができる。図11Eに更に示されるように、例えば、データ信号DQ0、DQ1、...の場合等の、超小型電子パッケージ上の第2の端子の空間位置に対するデータ信号の割当ては、垂直軸1180の回りでモジュロ−X対称を有することができる。
図11Aの実施形態の潜在的な利点は図11Bにおいて確認することができ、図11Bは、共通の回路パネル1160に実装することができる2つ以上の超小型電子パッケージ1110を含むことができる超小型電子アセンブリ1105を示す。図11Bに示されるように、第1の超小型電子パッケージ1110a及び第2の超小型電子パッケージ1110bのそれぞれにおける対応する第1の端子1125aは、共通の垂直面内に配置することができ、それにより、第1の超小型電子パッケージ1110a及び第2の超小型電子パッケージ1110bの第1の端子1125a間の回路パネル1160を通る電気的接続のうちの少なくともいくつかが、その回路パネルの厚み程度の電気長を有することができるようになる。
図11C及び図11Dは、図10C及び図10Dにそれぞれ示される超小型電子パッケージの実施形態の変形形態を示す。図11Cに示される超小型電子パッケージ1101は、超小型電子パッケージ1101が、それぞれが平行な3つの列1116を有する2つの平行なグリッド1115a’及び1115b’を有することを除いて、図10Cに示される超小型電子パッケージ1001と同じである。第1のグリッド1115a’及び第2のグリッド1115b’は第1のグリッドと第2のグリッドとの間の中間軸1129eの回りで鏡像をなすことができ、中間軸は第1の開口部1126a及び第2の開口部1126bの第1の軸1129a及び第2の軸1129bに対して平行である。
図11Dに示される超小型電子パッケージ1102は、超小型電子パッケージ1102が、それぞれが平行な2つの列1116を有する2つの平行なグリッド1115a及び1115bを有することを除いて、図10Dに示される超小型電子パッケージ1002と同じである。第1のグリッド1115a及び第2のグリッド1115bは第1のグリッドと第2のグリッドとの間の中間軸1129eの回りで鏡像をなすことができ、中間軸は第1の開口部1126a及び第2の開口部1126bの第1の軸1129a及び第2の軸1129bに対して平行である。
図12は、図11Cに示される超小型電子パッケージの実施形態の変形形態を示す。図12に示される超小型電子パッケージ1210は、超小型電子パッケージ1210が超小型電子素子1230を有し、そのうちのいくつかを互いに積重できることを除いて、図11Cに示される超小型電子パッケージ1101と同じである。例えば、図12に示される実施形態では、第1の超小型電子素子1230a及び第2の超小型電子素子1230bのそれぞれの超小型電子素子の前面1231は、基板1220の第1の表面1121に対面することができ、第3の超小型電子素子1230c及び第4の超小型電子素子1230dのそれぞれの超小型電子素子の前面1231の少なくとも一部は、第1の超小型電子素子及び第2の超小型電子素子のそれぞれの超小型電子素子の背面1233の上に重なることができる。
図13Aは、図5Aに対して上記で説明された実施形態の変形形態を示しており、超小型電子素子及び開口部が90度だけ回転する。超小型電子パッケージ1310は、第1の開口部1326a及び第2の開口部1326bが第1の開口部及び第2の開口部の長さの方向に延在する第1の軸1329aを有し、第3の開口部1329c及び第4の開口部1329dが第3の開口部及び第4の開口部の長さの方向に延在する第2の軸1329bを有することを除いて、図5Aに示される超小型電子パッケージ10と同じである。また、第1の端子1325aは図5Aに示されるような2列ではなく、3つの平行な列1316を有する単一のグリッド1315内に配置される。各超小型電子素子1330は、各超小型電子素子の表面にある複数のコンタクトが開口部1326の少なくとも1つと位置合わせされるように向けられる。
第1の端子1325aは、基板1320の第2の表面1322の中央領域1323内に配置され、中央領域は、それぞれの第1の開口部1326a及び第2の開口部1326bの隣接する端部1309a及び1309bに接する平行な線1308aと1308bとの間に配置される。一例では、平行な線1308a及び1308bは、それぞれの第1の軸1329a及び第2の軸1329bを横切ることができる。特定の例では、平行な線1308a及び1308bは、それぞれの第1の軸1329a及び第2の軸1329bと直交することができる。
図13Aに示される実施形態では、基板1320の第2の表面1322の中央領域1323は、それぞれの第3の開口部1326c及び第4の開口部1326dの隣接する端部1309c及び1309dに接する平行な線1308c及び1308dによって画定することもできる。一例では、中央領域1323は、開口部1309a、1309b、1309c及び1309dの隣接する端部のいずれも越えて延在しない、基板1320の第2の表面1322の長方形エリア内に配置することができる。
図13Bは、図13Bに対して上記で説明された実施形態の変形形態を示しており、超小型電子パッケージ1310’の第1の端子1325aは平行な第1のグリッド1315a及び第2のグリッド1315b内に配置され、各グリッドは第1の端子の2つの隣接する列1316を有する。この実施形態では、第1のグリッド1315a及び第2のグリッド1315bはそれぞれ全て同じ信号を運ぶように構成することができ、第1のグリッド及び第2のグリッド内の端子1325aの対応する端子の位置は、第2の軸1329bの回りで鏡像をなすように示されており、グリッドのうちの1つが第2の軸のそれぞれの側に配置される。特定の実施形態(図示せず)では、第1のグリッド1315a及び第2のグリッド1315b内の端子1325aの対応する端子の位置は、第1の軸1329aと一致しない中間軸の回りで鏡像をなすことができる。
図13Bに示される実施形態では、第1の端子1325aは、基板1320の第2の表面1322の中央領域1323内に配置され、中央領域は、それぞれの第1の開口部1326a及び第2の開口部1326bの隣接する端部1309a及び1309bに接する平行な線1308aと1308bとの間に配置される。グリッド1315a及び1315bは(及び中央領域1323も)、それぞれの第3の開口部1326c及び第4の開口部1326dの隣接する端部1309c及び1309dに接する平行な線1308c及び1308dを越えて延在することができる。
図14A及び図14Bは、図13A及び図13Bにそれぞれ示される超小型電子パッケージの実施形態の変形形態を示す。図14Aに示される超小型電子パッケージ1410は、超小型電子パッケージ1410の超小型電子素子1430がそれぞれ基板1420の第1の表面に対して平行な単一の面内に配置される前面を有することを除いて、図14Aに示される超小型電子パッケージ1310と同じである。図14Bに示される超小型電子パッケージ1410’は、超小型電子パッケージ1410’の超小型電子素子1430がそれぞれ基板1420の第1の表面に対して平行な単一の面内に配置される前面を有することを除いて、図14Aに示される超小型電子パッケージ1310’と同じである。
図14Cは、図14Bに示される超小型電子パッケージの実施形態の変形形態を示す。図14Cに示される超小型電子パッケージ1401は、4つの平行なグリッド1415内に配置される第1の端子1425aを有し、各グリッドは2つの平行な列1416を有し、各グリッド1415は、第1の軸1429aの回りで、及び/又は第2の軸1429bの回りで少なくとも1つの更なるグリッド1415に対して鏡像をなす。一例(図示せず)では、各グリッド1415は、グリッド1415の対間に延在する任意の他の中間軸の回りで他のグリッド1415のうちの1つ又は複数に対して鏡像をなすことができる。第2の端子1425bの各グリッド1417も、第1の軸1429aの回りで、及び/又は第2の軸1429bの回りでグリッド1417の別のグリッドに対して鏡像をなすことができるか、又は各グリッド1417は、グリッド1417の対間に延在する任意の他の中間軸の回りで他のグリッド1417のうちの1つ又は複数に対して鏡像をなすことができる。一例では、図14Cに示される第1の端子1425a及び/又は第2の端子1425bの4つの鏡像をなすグリッドの特定の配置は、図13Bに示される、上に重なる超小型電子素子の配置とともに用いることができる。
図15Aは、図9Aに示す超小型電子パッケージの実施形態の変形形態を示す。図15Aに示す超小型電子パッケージ1510は、超小型電子パッケージ1510の超小型電子素子1530がそれぞれ基板1520の第1の表面1521に平行な単一の平面内に配列された前面1531を有するということを除き、図9Aに示す超小型電子パッケージ910と同じである。
図15Bは、図9Bに示す超小型電子パッケージの実施形態の変形形態を示す。図15Bに示す超小型電子パッケージ1510’は、超小型電子パッケージ1510’の超小型電子素子1530’がそれぞれ基板1520’の第1の表面1521に平行な単一の平面内に配列された前面1531を有するということを除き、図9Aに示す超小型電子パッケージ910’と同じである。
図15Cは、図15Bに示される超小型電子パッケージの実施形態の変形形態を示す。図15Cに示される超小型電子パッケージ1510’’は、超小型電子パッケージ1510’’の第1の端子1525aが第1の端子の2つの隣接する列1516を有する単一のグリッド1515内に配置されることを除いて、図15Bに示される超小型電子パッケージ1510’と同じである。
図15Cにおいて確認することができるように、基板1520’’は、互いに反対側のその第1の表面と第2の表面との間に延在する2つの開口部1526を有することができる。開口部1526の第1の開口部1526aの最も長い寸法は、第1の軸1529aを規定することができる。開口部1526の第2の開口部1526bは、第1の軸1529aを横切る方向に延在する長い寸法を有することができ、第2の開口部は、第1の開口部に隣接する端部1509を有することができる。第2の開口部1526bの端部1509は、第1の軸1529aに対して平行な第2の軸1529bを規定することができる。一例では、第2の軸1529bは、第2の開口部1526bの端部1509に接することができる。第1の軸1529a及び第2の軸1529bは、第1の軸と第2の軸との間に位置する基板1520の第2の表面の中央領域1523を画定することができる。この実施形態では、第1の端子1525aを含むグリッド1515は、基板1520の第2の表面においてその中央領域1523内に露出することができる。
図5A〜図15Cを参照して上述した超小型電子パッケージ及び超小型電子アセンブリは、図16に示すシステム1600等、さまざまな電子システムの構造において利用することができる。例えば、本発明の更なる実施形態によるシステム1600は、他の電子構成要素1608及び1610とともに上述した超小型電子パッケージ及び/又は超小型電子アセンブリ等、複数のモジュール又は構成要素1606を含む。
図示の例示的システム1600において、システムは、フレキシブルプリント回路基板等の、回路パネル、マザーボード、又はライザーパネル1602を含むことができ、回路パネルは、モジュール又は構成要素1606を互いに相互接続する多数の導体1604を含むことができる。多数の導体1604のうち、1つのみを図16に示す。そのような回路パネル1602は、システム1600に含まれる超小型電子パッケージ及び/又は超小型電子アセンブリのそれぞれに又はそこから信号を伝達することができる。しかしこれは単に例示的なものであり、モジュール又は構成要素1606同士の間の電気的接続を行う任意の適切な構造も用いることができる。
特定の実施形態では、システム1600は、半導体チップ1608等のプロセッサも備えることができ、各モジュール又は構成要素1606は、クロックサイクルにおいてN個のデータビットを並列に転送するように構成することができ、プロセッサは、クロックサイクルにおいてM個のデータビットを並列に転送するように構成することができるようになっている。MはN以上である。
一例では、システム1600は、クロックサイクルにおいて32個のデータビットを並列に転送するように構成されたプロセッサチップ1608を備えることができ、このシステムは、図9Bを参照して説明した超小型電子パッケージ10等の4つのモジュール1606も備えることができ、各モジュール1606は、クロックサイクルにおいて8つのデータビットを並列に転送するように構成されている(すなわち、各モジュール1606は、第1の超小型電子素子及び第2の超小型電子素子を備えることができ、これらの2つの超小型電子素子のそれぞれは、クロックサイクルにおいて4つのデータビットを並列に転送するように構成されている)。
別の例では、システム1600は、クロックサイクルにおいて64個のデータビットを並列に転送するように構成されたプロセッサチップ1608を備えることができ、このシステムは、図5Aを参照して説明した超小型電子パッケージ等の4つのモジュール1606も備えることができ、各モジュール1606は、クロックサイクルにおいて16個のデータビットを並列に転送するように構成されている(すなわち、各モジュール1606は4つの超小型電子素子を備えることができ、これらの4つの超小型電子素子のそれぞれは、クロックサイクルにおいて4つのデータビットを並列に転送するように構成されている)。
図16に示す例では、構成要素1608は半導体チップであり、構成要素1610はディスプレイスクリーンであるが、他の任意の構成要素をシステム1600において用いることができる。もちろん、説明を明瞭にするために、図16には2つの追加の構成要素1608及び1610しか示されていないが、システム1600は、任意の数のそのような構成要素を備えることができる。
モジュール又は構成要素1606並びに構成要素1608及び1610は、破線で概略的に示す共通のハウジング1601内に実装することができ、必要に応じて互いに電気的に相互接続して所望の回路を形成することができる。ハウジング1601は、例えば、携帯電話又は携帯情報端末において使用可能なタイプのポータブルハウジングとして示され、スクリーン1610は、このハウジングの表面において露出することができる。構造1606が撮像チップ等の光感知素子を備える実施形態では、光をこの構造体に送るレンズ1611又は他の光学デバイスも設けることができる。ここでも、図16に示す単純化したシステムは単なる例示にすぎず、デスクトップコンピュータ、ルータ等のような固定構造と一般に考えられるシステムを含む他のシステムを、上記で議論した構造体を用いて作製することができる。
図5A〜図15Cを参照して上述した超小型電子パッケージ及び超小型電子アセンブリはまた、図17に示すシステム1700等の電子システムの構造においても利用することができる。図17は、同時係属中及び本発明の譲受人に譲渡された米国特許出願第13/440,515号の図14と実質的に同じ図である。この米国特許出願の開示内容は、本明細書に引用することによって本明細書の一部をなす。図17に示す例では、本発明の更なる実施形態によるシステム1700は、構成要素1606を複数の構成要素1706と取り替えたということを除き、図16に示すシステム1600と同じである。
構成要素1706のそれぞれは、図5A〜図15Cを参照して上述した超小型電子パッケージ又は超小型電子アセンブリのうちの1つ又は複数とすることができ、又はそれを含むことができる。特定の例において、構成要素1706のうちの1つ又は複数は、図5Eに示す超小型電子アセンブリ5の変形形態とすることができ、回路パネル60は露出した縁部のコンタクトを含み、それぞれの超小型電子アセンブリ5の回路パネル60は、ソケット1705に挿入するのに適切とすることができる。
それぞれのソケット1705は、ソケットの片側又は両側に複数のコンタクト1707を含むことができ、それにより、それぞれのソケット1705が、超小型電子アセンブリ5の上述の変形形態等、対応する構成要素1706の対応する露出した縁部のコンタクトとかみ合うのに適切となることができる。図示の例示的システム1700において、システムは、フレキシブルプリント回路基板等の第2の回路パネル1702又はマザーボードを含むことができ、第2の回路パネルは、構成要素1706を互いに相互接続する多数の導体1704を含むことができる。多数の導体1704のうち、1つのみを図17に示す。
特定の例において、システム1700等のモジュールは複数の構成要素1706を含むことができ、それぞれの構成要素1706は超小型電子アセンブリ5の上述の変形形態である。それぞれの構成要素1706は、それぞれの構成要素1706に及びそこから信号を伝達するように、第2の回路パネル1702に搭載され電気的に接続することができる。システム1700の具体的な例は単に例示的なものであり、構成要素1706間の電気的接続を行う任意の適切な構造も用いることができる。
上記で説明した超小型電子パッケージのいずれか又は全てにおいて、超小型電子素子のうちの1つ又は複数の背面は、製造の完了後に超小型電子パッケージの外表面において少なくとも部分的に露出させることができる。したがって、図5Aに関して上述した超小型電子パッケージ10において、超小型電子素子のうちの1つ又は複数の背面は、完成した超小型電子パッケージ10内の封入材の外表面において部分的又は全面的に露出させることができる。
上述した実施形態のいずれかにおいて、超小型電子パッケージ及び超小型電子アセンブリは、任意の適した熱伝導性材料から部分的又は全体的に作製されるヒートスプレッダを備えることができる。適した熱伝導性材料の例には、金属、グラファイト、熱伝導性接着剤、例えば、熱伝導性エポキシ樹脂、はんだ等、又はそのような材料の組み合わせが含まれるが、これらに限定されるものではない。一例では、ヒートスプレッダは、実質的に連続した金属シートとすることができる。
図5Bに示す例において、超小型電子パッケージ10は、なかでも熱接着剤、熱伝導性グリース、又ははんだ等の熱伝導性材料等を介して、超小型電子素子30a、30b、30c及び30dのうちの1つ又は複数の表面、例えば、第3の超小型電子素子30cの背面33に熱的に結合することができるヒートシンク又はヒートスプレッダ55を含むことができる。特定の例(図示せず)において、ヒートスプレッダ55はその1つ又は複数の表面に複数のフィンを含むことができる。
一実施形態では、ヒートスプレッダは、超小型電子素子のうちの1つ又は複数に隣接して配置された金属層を備えることができる。この金属層は、超小型電子パッケージの背面において露出することができる。代替的に、ヒートスプレッダは、超小型電子素子のうちの1つ又は複数の、少なくとも背面をカバーするオーバモールド又は封入材を含むことができる。一例では、ヒートスプレッダは、図5Aに示す超小型電子素子30a、30b、30c及び30d等の超小型電子素子のうちの1つ又は複数の、前面及び背面のうちの少なくとも一方と熱連通することができる。いくつかの実施形態では、ヒートスプレッダは、超小型電子素子のうちの隣接するものの隣接する縁部間に延在することができる。ヒートスプレッダは、周囲環境への放熱を改善することができる。
特定の実施形態では、金属製又は他の熱伝導性材料製の事前に形成されたヒートスプレッダを、熱伝導性接着剤又は熱伝導性グリース等の熱伝導性材料を用いて、超小型電子素子のうちの1つ又は複数の背面に取り付けるか又は配置することができる。接着剤が存在する場合、この接着剤は、例えば、コンプライアントに取り付けられた素子間の熱膨張差を吸収するように、ヒートスプレッダと、このヒートスプレッダが取り付けられた超小型電子素子との間の相対的な移動を可能にするコンプライアント材料とすることができる。ヒートスプレッダは、モノリシック構造とすることができる。代替的に、ヒートスプレッダは、互いに離間した複数のスプレッダ部を備えることができる。特定の実施形態では、ヒートスプレッダは、図5Aに示す超小型電子素子30a、30b、30c及び30d等の超小型電子素子のうちの1つ又は複数の背面の少なくとも一部分に直接接合されたはんだの層とすることができるか、又はこのはんだの層を含むことができる。
本発明は特定の実施形態を参照しながら本明細書において説明されてきたが、これらの実施形態は本発明の原理及び応用形態を例示するにすぎないことは理解されたい。それゆえ、添付の特許請求の範囲によって規定されるような本発明の趣旨及び範囲から逸脱することなく、例示的な実施形態に数多くの変更を加えることができること、及び他の構成を考案することができることは理解されたい。
様々な従属請求項及びそこに記載した特徴を、初期の請求項に提示したものとは異なる方法で組み合わせることができることが認識されるであろう。個々の実施形態に関して説明した特徴は、説明した実施形態の他のものと共有することができることも認識されるであろう。
本発明は、超小型電子パッケージ及び超小型電子パッケージを製造する方法を含むが、これらに限定されるものではない幅広い産業上の利用可能性を享有する。

Claims (47)

  1. 超小型電子パッケージであって、
    互いに反対側の第1の表面及び第2の表面と、前記第1の表面と前記第2の表面との間に延在する第1の開口部、第2の開口部及び第3の開口部とを有する基板であって、前記開口部は前記それぞれの開口部の長さの方向に延在する第1の軸、第2の軸及び第3の軸を有し、前記第1の軸及び前記第2の軸は互いに平行であり、前記第3の軸は前記第1の軸及び前記第2の軸を横切り、前記第2の表面は前記第1の軸と前記第2の軸との間に配置される中央領域を有する、基板と、
    第1の超小型電子素子、第2の超小型電子素子及び第3の超小型電子素子であって、前記超小型電子素子はそれぞれ前記基板の前記第1の表面に面する表面と、それぞれの前記超小型電子素子の前記表面において露出し、前記開口部のうちの少なくとも1つと位置合わせされる複数のコンタクトとを有し、各超小型電子素子はメモリ記憶アレイ機能を有する、第1の超小型電子素子、第2の超小型電子素子及び第3の超小型電子素子と、
    前記第2の表面において、該第2の表面の前記中央領域内に露出する複数の端子であって、該端子は該超小型電子パッケージを該パッケージの外部にある少なくとも1つの構成要素に接続するように構成される、複数の端子と、
    各超小型電子素子の前記コンタクトと前記端子との間に電気的に接続されるリードであって、各リードは前記開口部のうちの少なくとも1つと位置合わせされる部分を有する、リードと、
    を備え、
    前記端子は前記第1の超小型電子素子、前記第2の超小型電子素子又は前記第3の超小型電子素子のうちの少なくとも1つの超小型電子素子のメモリ記憶アレイの全ての利用可能なアドレス指定可能メモリ位置の中から、1つのアドレス指定可能メモリ位置を決定するのに該超小型電子パッケージ内の回路によって使用可能なアドレス情報を運ぶように構成される、超小型電子パッケージ。
  2. 前記超小型電子素子のそれぞれは、メモリ記憶アレイ機能を提供する能動素子の数をいかなる他の機能よりも多く具体化する、請求項1に記載の超小型電子パッケージ。
  3. 請求項1に記載の超小型電子パッケージであって、前記端子は、前記アドレス指定可能メモリ位置を決定するのに該超小型電子パッケージ内の前記回路によって使用可能な前記アドレス情報の全てを運ぶように構成される、請求項1に記載の超小型電子パッケージ。
  4. 前記端子は、前記超小型電子素子の動作モードを制御する情報を運ぶように構成される、請求項1に記載の超小型電子パッケージ。
  5. 請求項1に記載の超小型電子パッケージであって、前記端子は、該超小型電子パッケージに転送される前記コマンド信号の全てを運ぶように構成され、前記コマンド信号は、ライトイネーブル、行アドレスストローブ、及び列アドレスストローブ信号である、請求項1に記載の超小型電子パッケージ。
  6. 請求項1に記載の超小型電子パッケージであって、前記端子は、該超小型電子パッケージに転送されるクロック信号を運ぶように構成され、前記クロック信号は、前記アドレス情報を運ぶ信号をサンプリングするのに用いられるクロックである、請求項1に記載の超小型電子パッケージ。
  7. 請求項1に記載の超小型電子パッケージであって、前記端子は、該超小型電子パッケージに転送される前記バンクアドレス信号の全てを運ぶように構成される、請求項1に記載の超小型電子パッケージ。
  8. 前記基板は、該基板の平面内におけるCTEが12ppm/℃未満の材料から本質的になる要素である、請求項1に記載の超小型電子パッケージ。
  9. 前記基板は、該基板の平面内におけるCTEが30ppm/℃未満の材料から本質的になる誘電素子を含む、請求項1に記載の超小型電子パッケージ。
  10. 請求項1に記載の超小型電子パッケージであって、前記端子は第1の端子であり、前記第2の表面は、前記中央領域と、前記基板の前記第1の表面と前記第2の表面との間に延在する対向する第1の縁部及び第2の縁部との間の周辺領域を有し、該超小型電子パッケージは複数の第2の端子を更に備え、前記第2の端子のうちの少なくともいくつかは、前記第2の表面において、前記周辺領域のうちの少なくとも1つの周辺領域内に露出し、前記第2の端子は、該超小型電子パッケージを該超小型電子パッケージの外部にある少なくとも1つの構成要素に接続するように構成される、請求項1に記載の超小型電子パッケージ。
  11. 前記第2の端子のうちの少なくともいくつかは、前記アドレス情報以外の情報を運ぶように構成される、請求項10に記載の超小型電子パッケージ。
  12. 前記アドレス情報以外の情報を運ぶように構成された前記第2の端子のうちの少なくともいくつかは、前記第2の表面において前記中央領域内に露出する、請求項11に記載の超小型電子パッケージ。
  13. 前記リードのうちの少なくともいくつかは、前記開口部のうちの少なくとも1つを通って延在するワイヤボンドを含む、請求項1に記載の超小型電子パッケージ。
  14. 前記リードの全ては、前記開口部のうちの少なくとも1つを通って延在するワイヤボンドである、請求項13に記載の超小型電子パッケージ。
  15. 前記リードのうちの少なくともいくつかはリードのボンドを含む、請求項1に記載の超小型電子パッケージ。
  16. 前記超小型電子素子のメモリ記憶アレイ機能のそれぞれは、NANDフラッシュ、抵抗変化型RAM、相変化メモリ、磁気RAM、スタティックRAM、ダイナミックRAM、スピントルクRAM、又は連想メモリの技術において実施される、請求項1に記載の超小型電子パッケージ。
  17. 前記超小型電子素子のそれぞれは、ダイナミックランダムアクセスメモリ(「DRAM」)集積回路チップを含む、請求項1に記載の超小型電子パッケージ。
  18. 前記超小型電子素子のそれぞれは、前記超小型電子素子のうちの他のものと機能的及び機械的に対等である、請求項1に記載の超小型電子パッケージ。
  19. 請求項1に記載の超小型電子パッケージであって、該超小型電子パッケージにおける前記端子のうちの少なくともいくつか及び前記超小型電子素子のうちの1つ又は複数に電気的に接続される半導体素子を更に備え、前記半導体素子は、該超小型電子パッケージの前記端子のうちの1つ又は複数で受け取られる少なくとも1つの信号の再生と少なくとも部分的な復号化とのうちの少なくとも1つを行うように構成される、請求項1に記載の超小型電子パッケージ。
  20. 前記端子は4つ以下の列に配列される、請求項1に記載の超小型電子パッケージ。
  21. 前記列は前記第1の軸に平行である、請求項20に記載の超小型電子パッケージ。
  22. 前記端子は2つ以下の列に配列される、請求項1に記載の超小型電子パッケージ。
  23. 前記超小型電子素子のうちの少なくとも1つと熱連通するヒートスプレッダを更に備える、請求項1に記載の超小型電子パッケージ。
  24. 前記端子は理論的な中間軸の第1の側に配置される前記端子の第1の集合と、前記第1の側の反対側の前記理論的な中間軸の第2の側に配置される前記端子の第2の集合とを含み、前記第1の集合及び前記第2の集合はそれぞれ前記アドレス情報を運ぶように構成され、前記第1の集合内の前記信号割当ては、前記第2の集合内の前記端子の前記信号割当ての鏡像である、請求項1に記載の超小型電子パッケージ。
  25. 前記第1の集合及び前記第2の集合の前記端子は、それぞれの第1のグリッド及び第2のグリッド内の位置に配置され、前記第1のグリッド及び前記第2のグリッド内の端子の列は、前記基板の対向する第1の縁部及び第2の縁部に対して平行な方向に延在する、請求項24に記載の超小型電子パッケージ。
  26. 前記中間軸は、前記基板の前記第1の縁部及び前記第2の縁部に対して平行であり、かつ等距離にある線から、前記端子の任意の2つの隣接する列間の最小ピッチの3.5倍の距離以下である、請求項25に記載の超小型電子パッケージ。
  27. 前記中間軸は、前記基板の前記第1の縁部及び前記第2の縁部に対して平行であり、かつ等距離にある線の、前記端子の任意の2つの隣接する列間の最小ピッチの距離以下である、請求項25に記載の超小型電子パッケージ。
  28. 各グリッドは、前記端子の2つの隣接する平行な列を含む、請求項25に記載の超小型電子パッケージ。
  29. 前記第1の集合及び前記第2の集合の前記端子は、それぞれの第1のグリッド及び第2のグリッド内の位置に配置され、前記第1のグリッド及び前記第2のグリッド内の端子の列は、前記第1の軸及び前記第2の軸に対して平行な方向に延在する、請求項24に記載の超小型電子パッケージ。
  30. 前記第1の超小型電子素子及び前記第2の超小型電子素子の前記表面は、前記基板の前記第1の表面に対して平行な単一の面内に配置され、前記第3の超小型電子素子の前記表面は、前記第1の超小型電子素子及び第2の超小型電子素子のうちの少なくとも一方の超小型電子素子の背面の上に少なくとも部分的に重なる、請求項1に記載の超小型電子パッケージ。
  31. 前記超小型電子素子のうちの全ての前記表面は、前記基板の前記第1の表面に平行な単一の平面内に配列される、請求項1に記載の超小型電子パッケージ。
  32. 請求項1に記載の超小型電子パッケージであって、前記基板は第4の開口部を有し、前記第4の開口部は、前記第1の軸及び前記第2の軸を横切り、前記第4の開口部の長さの方向に延在する第4の軸を有し、該超小型電子パッケージは、
    前記基板の前記第1の表面に面する表面を有する第4の超小型電子素子であって、該第4の超小型電子素子はメモリ記憶アレイ機能を有し、該第4の超小型電子素子は、該第4の超小型電子素子の前記表面において露出し、前記開口部のうちの少なくとも1つと位置合わせされる複数のコンタクトを有する、第4の超小型電子素子と、
    前記第4の超小型電子素子の前記コンタクトと前記端子との間に電気的に接続される第2のリードであって、前記第2のリードはそれぞれ前記開口部のうちの少なくとも1つと位置合わせされる部分を有する、第2のリードと、
    を更に備える、請求項1に記載の超小型電子パッケージ。
  33. 請求項32に記載の超小型電子パッケージであって、前記第1の超小型電子素子、前記第2の超小型電子素子、前記第3の超小型電子素子及び前記第4の超小型電子素子はそれぞれ、前記それぞれの超小型電子素子の長さ方向に延在する対向する第1の縁部及び第2の縁部を有し、前記第1の縁部はそれぞれ、前記パッケージの質量中心に隣接する部分を有し、前記第1の縁部はそれぞれ、該超小型電子素子の他の超小型電子素子のうちの厳密に1つを通って延在する面を画定する、請求項32に記載の超小型電子パッケージ。
  34. 前記第1の開口部、前記第2の開口部、前記第3の開口部及び前記第4の開口部のそれぞれの前記軸は、前記開口部の他の開口部のうちの厳密に1つの開口部を通って延在する、請求項32に記載の超小型電子パッケージ。
  35. 前記第1の軸、前記第2の軸、前記第3の軸及び前記第4の軸はそれぞれ、前記軸の他の軸のうちの厳密に2つの軸を通って延在する、請求項32に記載の超小型電子パッケージ。
  36. 超小型電子パッケージであって、
    互いに反対側の第1の表面及び第2の表面と、前記第1の表面と前記第2の表面との間に延在する第1の開口部、第2の開口部及び第3の開口部とを有する基板であって、前記開口部はそれぞれの開口部の長さの方向に延在する第1の軸、第2の軸及び第3の軸を有し、前記第1の軸及び前記第2の軸は互いに平行であり、前記第3の軸は前記第1の軸及び前記第2の軸を横切り、前記第2の表面は前記第1の軸と前記第2の軸との間に配置される中央領域を有する、基板と、
    第1の超小型電子素子、第2の超小型電子素子及び第3の超小型電子素子であって、前記超小型電子素子はそれぞれ前記基板の前記第1の表面に面する表面と、それぞれの前記超小型電子素子の前記表面において露出し、前記開口部のうちの少なくとも1つと位置合わせされる複数のコンタクトとを有し、各超小型電子素子は、メモリ記憶アレイ機能を提供する能動素子の数をいかなる任意の他の機能よりも多くの数を具体化する、第1の超小型電子素子、第2の超小型電子素子及び第3の超小型電子素子と、
    前記第2の表面において、該第2の表面の前記中央領域内に露出する複数の端子であって、該端子は該超小型電子パッケージを該パッケージの外部にある少なくとも1つの構成要素に接続するように構成される、複数の端子と、
    各超小型電子素子の前記コンタクトと前記端子との間に電気的に接続されるリードであって、各リードは前記開口部のうちの少なくとも1つと位置合わせされる部分を有する、リードと、
    を備え、
    前記端子は前記第1の超小型電子素子、前記第2の超小型電子素子又は前記第3の超小型電子素子のうちの少なくとも1つの超小型電子素子のメモリ記憶アレイの全ての利用可能なアドレス指定可能メモリ位置の中から、1つのアドレス指定可能メモリ位置を決定するのに該超小型電子パッケージ内の回路によって使用可能なアドレス情報の大部分を運ぶように構成される、超小型電子パッケージ。
  37. 請求項36に記載の超小型電子パッケージであって、前記端子は、前記アドレス指定可能メモリ位置を決定するのに該超小型電子パッケージ内の前記回路によって使用可能な前記アドレス情報の少なくとも4分の3を運ぶように構成される、請求項36に記載の超小型電子パッケージ。
  38. 超小型電子パッケージであって、
    互いに反対側の第1の表面及び第2の表面と、前記第1の表面と前記第2の表面との間に延在する第1の開口部、第2の開口部及び第3の開口部と、前記第1の開口部及び前記第2の開口部の長さの方向に延在する第1の軸とを有する基板であって、前記第3の開口部は、前記第1の軸を横切り、前記第3の開口部の長さの方向に延在する第2の軸を有し、前記第2の表面はそれぞれの前記第1の開口部及び前記第2の開口部の隣接する端部に配置される平行な第1の線と第2の線との間に配置される中央領域を有する、基板と、
    第1の超小型電子素子、第2の超小型電子素子及び第3の超小型電子素子であって、前記超小型電子素子はそれぞれ前記基板の前記第1の表面に面する表面と、それぞれの前記超小型電子素子の前記表面において露出し、前記開口部のうちの少なくとも1つと位置合わせされる複数のコンタクトとを有し、各超小型電子素子はメモリ記憶アレイ機能を有する、第1の超小型電子素子、第2の超小型電子素子及び第3の超小型電子素子と、
    前記第2の表面において、該第2の表面の前記中央領域内に露出する複数の端子であって、該端子は該超小型電子パッケージを該パッケージの外部にある少なくとも1つの構成要素に接続するように構成される、複数の端子と、
    各超小型電子素子の前記コンタクトと前記端子との間に電気的に接続されるリードであって、各リードは前記開口部のうちの少なくとも1つと位置合わせされる部分を有する、リードと、
    を備え、
    前記端子は前記第1の超小型電子素子、前記第2の超小型電子素子又は前記第3の超小型電子素子のうちの少なくとも1つの超小型電子素子のメモリ記憶アレイの全ての利用可能なアドレス指定可能メモリ位置の中から、1つのアドレス指定可能メモリ位置を決定するのに該超小型電子パッケージ内の回路によって使用可能なアドレス情報を運ぶように構成される、超小型電子パッケージ。
  39. 前記超小型電子素子のそれぞれは、メモリ記憶アレイ機能を提供する能動素子の数をいかなる他の機能よりも多く具体化する、請求項38に記載の超小型電子パッケージ。
  40. 前記端子は理論的な中間軸の第1の側に配置される前記端子の第1の集合と、前記第1の側の反対側の前記理論的な中間軸の第2の側に配置される前記端子の第2の集合とを含み、前記第1の集合及び前記第2の集合はそれぞれ前記アドレス情報を運ぶように構成され、前記第1の集合内の前記端子の前記信号割当ては、前記第2の集合内の前記端子の前記信号割当ての鏡像である、請求項38に記載の超小型電子パッケージ。
  41. 前記第1の集合及び前記第2の集合の前記端子は、それぞれの第1のグリッド及び第2のグリッド内の位置に配置され、前記第1のグリッド及び前記第2のグリッド内の端子の列は、前記基板の対向する第1の縁部及び第2の縁部に対して平行な方向に延在する、請求項40に記載の超小型電子パッケージ。
  42. 請求項38に記載の超小型電子パッケージであって、前記基板は第4の開口部を有し、前記第2の軸は前記第4の開口部の長さの方向に延在し、該超小型電子パッケージは、
    前記基板の前記第1の表面に面する表面を有する第4の超小型電子素子であって、該第4の超小型電子素子はメモリ記憶アレイ機能を有し、該第4の超小型電子素子は、該第4の超小型電子素子の前記表面において露出し、前記開口部のうちの少なくとも1つと位置合わせされる複数のコンタクトを有する、第4の超小型電子素子と、
    前記第4の超小型電子素子の前記コンタクトと前記端子との間に電気的に接続される第2のリードであって、前記第2のリードはそれぞれ前記開口部のうちの少なくとも1つと位置合わせされる部分を有する、第2のリードと、
    を更に備える、請求項38に記載の超小型電子パッケージ。
  43. 前記中央領域は、前記第1の開口部、前記第2の開口部、前記第3の開口部及び前記第4の開口部の前記隣接する端部を越えて延在しない前記基板の長方形エリア内に配置される、請求項42に記載の超小型電子パッケージ。
  44. 超小型電子パッケージであって、
    互いに反対側の第1の表面及び第2の表面と、前記第1の表面と前記第2の表面との間に延在する第1の開口部及び第2の開口部とを有する基板であって、前記開口部は該開口部の長さの方向に延在する第1の横断軸及び第2の横断軸を有し、前記第2の表面は前記第1の開口部に隣接して配置される中央領域を有する、基板と、
    第1の超小型電子素子及び第2の超小型電子素子であって、前記超小型電子素子はそれぞれ前記基板の前記第1の表面に面する表面と、それぞれの前記超小型電子素子の前記表面において露出し、前記開口部のうちの少なくとも1つと位置合わせされる複数のコンタクトとを有し、各超小型電子素子はメモリ記憶アレイ機能を有する、第1の超小型電子素子及び第2の超小型電子素子と、
    前記第2の表面において、該第2の表面の前記中央領域内に露出する複数の端子であって、該端子は該超小型電子パッケージを該パッケージの外部にある少なくとも1つの構成要素に接続するように構成され、前記端子は理論的な中間軸の第1の側に配置される前記端子の第1の集合と、前記第1の側の反対側の、前記理論的な中間軸の第2の側に配置される前記端子の第2の集合とを含み、前記第1の開口部は前記端子の第1の集合と前記端子の第2の集合との間に少なくとも部分的に配置される、複数の端子と、
    各超小型電子素子の前記コンタクトと前記端子との間に電気的に接続されるリードであって、各リードは前記開口部のうちの少なくとも1つと位置合わせされる部分を有する、リードと、
    を備え、
    端子の前記第1の集合及び前記端子の第2の集合はそれぞれ、前記第1の超小型電子素子及び前記第2の超小型電子素子のうちの少なくとも1つの超小型電子素子のメモリ記憶アレイの全ての利用可能なアドレス指定可能メモリ位置の中から、1つのアドレス指定可能メモリ位置を決定するのに該超小型電子パッケージ内の回路によって使用可能なアドレス情報を運ぶように構成され、
    前記第1の集合内の前記端子の前記信号割当ては、前記第2の集合内の前記端子の前記信号割当ての鏡像である、超小型電子パッケージ。
  45. 前記超小型電子素子のそれぞれは、メモリ記憶アレイ機能を提供する能動素子の数をいかなる他の機能よりも多く具体化する、請求項44に記載の超小型電子パッケージ。
  46. 超小型電子パッケージであって、
    互いに反対側の第1の表面及び第2の表面と、前記第1の表面と前記第2の表面との間に延在する第1の開口部及び第2の開口部とを有する基板であって、前記第1の開口部は前記第1の開口部の長さの第1の方向に延在する軸を有し、前記第2の開口部は前記第1の方向を横切る第2の方向に延在する長さを有し、前記第2の開口部は前記第1の開口部に隣接する端部を有し、前記第2の表面は前記軸と、該軸に対して平行であり、前記第2の開口部の端部に接する線との間に配置される中央領域を有する、基板と、
    第1の超小型電子素子及び第2の超小型電子素子であって、前記超小型電子素子はそれぞれ前記基板の前記第1の表面に面する表面と、それぞれの前記超小型電子素子の前記表面において露出し、前記開口部のうちの少なくとも1つと位置合わせされる複数のコンタクトとを有し、各超小型電子素子はメモリ記憶アレイ機能を有する、第1の超小型電子素子及び第2の超小型電子素子と、
    前記第2の表面において、該第2の表面の前記中央領域内に露出する複数の端子であって、該端子は該超小型電子パッケージを該パッケージの外部にある少なくとも1つの構成要素に接続するように構成される、複数の端子と、
    各超小型電子素子の前記コンタクトと前記端子との間に電気的に接続されるリードであって、各リードは前記開口部のうちの少なくとも1つと位置合わせされる部分を有する、リードと、
    を備え、
    前記端子は前記第1の超小型電子素子及び前記第2の超小型電子素子のうちの少なくとも1つの超小型電子素子のメモリ記憶アレイの全ての利用可能なアドレス指定可能メモリ位置の中から、1つのアドレス指定可能メモリ位置を決定するのに該超小型電子パッケージ内の回路によって使用可能なアドレス情報を運ぶように構成される、超小型電子パッケージ。
  47. 前記超小型電子素子のそれぞれは、メモリ記憶アレイ機能を提供する能動素子の数をいかなる他の機能よりも多く具体化する、請求項46に記載の超小型電子パッケージ。
JP2014534636A 2011-10-03 2012-10-02 直交する窓を有するマルチダイワイヤボンドアセンブリのためのスタブ最小化 Expired - Fee Related JP5887417B2 (ja)

Applications Claiming Priority (9)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201161542553P 2011-10-03 2011-10-03
US61/542,553 2011-10-03
US13/354,772 2012-01-20
US13/354,772 US8278764B1 (en) 2011-10-03 2012-01-20 Stub minimization for multi-die wirebond assemblies with orthogonal windows
US13/439,317 US8659140B2 (en) 2011-10-03 2012-04-04 Stub minimization using duplicate sets of signal terminals in assemblies without wirebonds to package substrate
US13/439,317 2012-04-04
US13/440,515 US8441111B2 (en) 2011-10-03 2012-04-05 Stub minimization for multi-die wirebond assemblies with parallel windows
US13/440,515 2012-04-05
PCT/US2012/058434 WO2013052466A2 (en) 2011-10-03 2012-10-02 Stub minimization for multi-die wirebond assemblies with orthogonal windows

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2014528651A true JP2014528651A (ja) 2014-10-27
JP2014528651A5 JP2014528651A5 (ja) 2015-11-26
JP5887417B2 JP5887417B2 (ja) 2016-03-16

Family

ID=48044089

Family Applications (4)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014534615A Expired - Fee Related JP5887415B2 (ja) 2011-10-03 2012-09-28 平行な窓を有するマルチダイのワイヤボンドアセンブリのスタブ最小化
JP2014534614A Expired - Fee Related JP5887414B2 (ja) 2011-10-03 2012-09-28 平行な窓を有するマルチダイのワイヤボンドアセンブリのスタブ最小化
JP2014534635A Expired - Fee Related JP5887416B2 (ja) 2011-10-03 2012-10-02 直交する窓を有するマルチダイワイヤボンドアセンブリのためのスタブ最小化
JP2014534636A Expired - Fee Related JP5887417B2 (ja) 2011-10-03 2012-10-02 直交する窓を有するマルチダイワイヤボンドアセンブリのためのスタブ最小化

Family Applications Before (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014534615A Expired - Fee Related JP5887415B2 (ja) 2011-10-03 2012-09-28 平行な窓を有するマルチダイのワイヤボンドアセンブリのスタブ最小化
JP2014534614A Expired - Fee Related JP5887414B2 (ja) 2011-10-03 2012-09-28 平行な窓を有するマルチダイのワイヤボンドアセンブリのスタブ最小化
JP2014534635A Expired - Fee Related JP5887416B2 (ja) 2011-10-03 2012-10-02 直交する窓を有するマルチダイワイヤボンドアセンブリのためのスタブ最小化

Country Status (6)

Country Link
US (2) US8981547B2 (ja)
EP (4) EP2764544A1 (ja)
JP (4) JP5887415B2 (ja)
KR (4) KR101894823B1 (ja)
TW (6) TWI520301B (ja)
WO (4) WO2013052372A2 (ja)

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8823165B2 (en) 2011-07-12 2014-09-02 Invensas Corporation Memory module in a package
US8659142B2 (en) 2011-10-03 2014-02-25 Invensas Corporation Stub minimization for wirebond assemblies without windows
US8610260B2 (en) 2011-10-03 2013-12-17 Invensas Corporation Stub minimization for assemblies without wirebonds to package substrate
WO2013052372A2 (en) * 2011-10-03 2013-04-11 Invensas Corporation Stub minimization for multi-die wirebond assemblies with parallel windows
US8659141B2 (en) 2011-10-03 2014-02-25 Invensas Corporation Stub minimization using duplicate sets of terminals for wirebond assemblies without windows
JP5947904B2 (ja) 2011-10-03 2016-07-06 インヴェンサス・コーポレイション 直交するウインドウを有するマルチダイ・ワイヤボンド・アセンブリのためのスタブ最小化
US8659140B2 (en) 2011-10-03 2014-02-25 Invensas Corporation Stub minimization using duplicate sets of signal terminals in assemblies without wirebonds to package substrate
US9368477B2 (en) 2012-08-27 2016-06-14 Invensas Corporation Co-support circuit panel and microelectronic packages
JP2014165210A (ja) * 2013-02-21 2014-09-08 Fujitsu Component Ltd モジュール基板
US9070423B2 (en) 2013-06-11 2015-06-30 Invensas Corporation Single package dual channel memory with co-support
US9123555B2 (en) * 2013-10-25 2015-09-01 Invensas Corporation Co-support for XFD packaging
US9343385B2 (en) * 2014-07-30 2016-05-17 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. Semiconductor device comprising a chip substrate, a mold, and a buffer layer
US9691437B2 (en) 2014-09-25 2017-06-27 Invensas Corporation Compact microelectronic assembly having reduced spacing between controller and memory packages
KR102354986B1 (ko) 2015-07-08 2022-01-24 삼성전자주식회사 솔리드 스테이트 드라이브
US9484080B1 (en) 2015-11-09 2016-11-01 Invensas Corporation High-bandwidth memory application with controlled impedance loading
KR102413441B1 (ko) 2015-11-12 2022-06-28 삼성전자주식회사 반도체 패키지
US9679613B1 (en) 2016-05-06 2017-06-13 Invensas Corporation TFD I/O partition for high-speed, high-density applications
US10297575B2 (en) * 2016-05-06 2019-05-21 Amkor Technology, Inc. Semiconductor device utilizing an adhesive to attach an upper package to a lower die
EP3333852B1 (en) * 2016-12-06 2019-04-24 Axis AB Memory arrangement
KR102545473B1 (ko) * 2018-10-11 2023-06-19 삼성전자주식회사 반도체 패키지
US11495519B2 (en) * 2019-06-07 2022-11-08 Dana Canada Corporation Apparatus for thermal management of electronic components
JP7400537B2 (ja) 2020-02-27 2023-12-19 セイコーエプソン株式会社 半導体装置
JP7400536B2 (ja) 2020-02-27 2023-12-19 セイコーエプソン株式会社 半導体装置
US11742295B2 (en) 2020-12-28 2023-08-29 Global Unichip Corporation Interface of integrated circuit die and method for arranging interface thereof

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08227908A (ja) * 1994-12-20 1996-09-03 Hitachi Ltd 半導体装置及びその製造方法
JPH10107091A (ja) * 1996-10-02 1998-04-24 Nec Corp 電子部品の実装構造およびその製造方法
JP2000315776A (ja) * 1999-05-06 2000-11-14 Hitachi Ltd 半導体装置
US20050116358A1 (en) * 2003-11-12 2005-06-02 Tessera,Inc. Stacked microelectronic assemblies with central contacts

Family Cites Families (245)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3670208A (en) 1970-07-13 1972-06-13 Logic Dynamics Inc Microelectronic package, buss strip and printed circuit base assembly
US4747081A (en) 1983-12-30 1988-05-24 Texas Instruments Incorporated Video display system using memory with parallel and serial access employing serial shift registers selected by column address
US5163024A (en) 1983-12-30 1992-11-10 Texas Instruments Incorporated Video display system using memory with parallel and serial access employing serial shift registers selected by column address
US5210639A (en) 1983-12-30 1993-05-11 Texas Instruments, Inc. Dual-port memory with inhibited random access during transfer cycles with serial access
JPS6193694A (ja) * 1984-10-15 1986-05-12 松下電器産業株式会社 集積回路装置
JPH0115997Y2 (ja) 1984-11-27 1989-05-11
JPS63232389A (ja) 1987-03-20 1988-09-28 株式会社日立製作所 面実装パツケ−ジの配線方式
JPS641257A (en) 1987-06-23 1989-01-05 Fujitsu Ltd Semiconductor device
US5148266A (en) 1990-09-24 1992-09-15 Ist Associates, Inc. Semiconductor chip assemblies having interposer and flexible lead
US5679977A (en) 1990-09-24 1997-10-21 Tessera, Inc. Semiconductor chip assemblies, methods of making same and components for same
US5148265A (en) 1990-09-24 1992-09-15 Ist Associates, Inc. Semiconductor chip assemblies with fan-in leads
US5369552A (en) * 1992-07-14 1994-11-29 Ncr Corporation Multi-chip module with multiple compartments
US5731633A (en) 1992-09-16 1998-03-24 Gary W. Hamilton Thin multichip module
JPH07147386A (ja) 1993-09-29 1995-06-06 Toshiba Micro Electron Kk 半導体装置とその製造方法およびそれに用いる器具
JPH0823149A (ja) 1994-05-06 1996-01-23 Seiko Epson Corp 半導体装置及びその製造方法
US6177636B1 (en) 1994-12-29 2001-01-23 Tessera, Inc. Connection components with posts
SE509201C2 (sv) 1994-07-20 1998-12-14 Sandvik Ab Aluminiumoxidbelagt verktyg
US5929517A (en) 1994-12-29 1999-07-27 Tessera, Inc. Compliant integrated circuit package and method of fabricating the same
JPH11505957A (ja) 1995-05-26 1999-05-25 ランバス・インコーポレーテッド 半導体チップ用のチップ・ソケット・アセンブリおよびチップ・ファイル・アセンブリ
JP3869045B2 (ja) 1995-11-09 2007-01-17 株式会社日立製作所 半導体記憶装置
US5696031A (en) 1996-11-20 1997-12-09 Micron Technology, Inc. Device and method for stacking wire-bonded integrated circuit dice on flip-chip bonded integrated circuit dice
TW312044B (en) 1996-02-23 1997-08-01 Mitsubishi Electric Corp The semiconductor package
JPH09237800A (ja) 1996-02-29 1997-09-09 Toshiba Corp 半導体装置
US6460245B1 (en) 1996-03-07 2002-10-08 Tessera, Inc. Method of fabricating semiconductor chip assemblies
US20040061220A1 (en) 1996-03-22 2004-04-01 Chuichi Miyazaki Semiconductor device and manufacturing method thereof
JP2891665B2 (ja) 1996-03-22 1999-05-17 株式会社日立製作所 半導体集積回路装置およびその製造方法
EP0901695A4 (en) * 1996-05-24 2000-04-12 Tessera Inc CONNECTORS FOR MICROELECTRONIC ELEMENTS
US5793116A (en) * 1996-05-29 1998-08-11 Mcnc Microelectronic packaging using arched solder columns
US6130116A (en) * 1996-12-13 2000-10-10 Tessera, Inc. Method of encapsulating a microelectronic assembly utilizing a barrier
US6323436B1 (en) 1997-04-08 2001-11-27 International Business Machines Corporation High density printed wiring board possessing controlled coefficient of thermal expansion with thin film redistribution layer
JP3335575B2 (ja) 1997-06-06 2002-10-21 松下電器産業株式会社 半導体装置およびその製造方法
JPH1143503A (ja) 1997-07-25 1999-02-16 Nippon Mektron Ltd 変性アクリル系ゴムの製造法
JPH1187640A (ja) 1997-09-09 1999-03-30 Hitachi Ltd 半導体装置および電子装置
US6525414B2 (en) 1997-09-16 2003-02-25 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Semiconductor device including a wiring board and semiconductor elements mounted thereon
US5899705A (en) 1997-11-20 1999-05-04 Akram; Salman Stacked leads-over chip multi-chip module
US6343019B1 (en) 1997-12-22 2002-01-29 Micron Technology, Inc. Apparatus and method of stacking die on a substrate
US6742098B1 (en) 2000-10-03 2004-05-25 Intel Corporation Dual-port buffer-to-memory interface
US6261867B1 (en) * 1998-03-13 2001-07-17 Stratedge Corporation Method of making a package for microelectronic devices using iron oxide as a bonding agent
US6197665B1 (en) 1998-04-15 2001-03-06 Tessera, Inc. Lamination machine and method to laminate a coverlay to a microelectronic package
US5949700A (en) 1998-05-26 1999-09-07 International Business Machines Corporation Five square vertical dynamic random access memory cell
US6297960B1 (en) * 1998-06-30 2001-10-02 Micron Technology, Inc. Heat sink with alignment and retaining features
JP3420703B2 (ja) 1998-07-16 2003-06-30 株式会社東芝 半導体装置の製造方法
JP3179420B2 (ja) 1998-11-10 2001-06-25 日本電気株式会社 半導体装置
US6461895B1 (en) 1999-01-05 2002-10-08 Intel Corporation Process for making active interposer for high performance packaging applications
US6815251B1 (en) 1999-02-01 2004-11-09 Micron Technology, Inc. High density modularity for IC's
US6856013B1 (en) 1999-02-19 2005-02-15 Micron Technology, Inc. Integrated circuit packages, ball-grid array integrated circuit packages and methods of packaging an integrated circuit
JP3914651B2 (ja) 1999-02-26 2007-05-16 エルピーダメモリ株式会社 メモリモジュールおよびその製造方法
US6376769B1 (en) * 1999-05-18 2002-04-23 Amerasia International Technology, Inc. High-density electronic package, and method for making same
JP2000340737A (ja) 1999-05-31 2000-12-08 Mitsubishi Electric Corp 半導体パッケージとその実装体
KR100393095B1 (ko) 1999-06-12 2003-07-31 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 반도체패키지와 그 제조방법
US6252264B1 (en) 1999-07-30 2001-06-26 International Business Machines Corporation Integrated circuit chip with features that facilitate a multi-chip module having a number of the chips
JP2001053243A (ja) 1999-08-06 2001-02-23 Hitachi Ltd 半導体記憶装置とメモリモジュール
SG83742A1 (en) 1999-08-17 2001-10-16 Micron Technology Inc Multi-chip module with extension
US6255899B1 (en) 1999-09-01 2001-07-03 International Business Machines Corporation Method and apparatus for increasing interchip communications rates
US6307769B1 (en) 1999-09-02 2001-10-23 Micron Technology, Inc. Semiconductor devices having mirrored terminal arrangements, devices including same, and methods of testing such semiconductor devices
JP2001203318A (ja) 1999-12-17 2001-07-27 Texas Instr Inc <Ti> 複数のフリップチップを備えた半導体アセンブリ
US6710446B2 (en) 1999-12-30 2004-03-23 Renesas Technology Corporation Semiconductor device comprising stress relaxation layers and method for manufacturing the same
JP3768761B2 (ja) 2000-01-31 2006-04-19 株式会社日立製作所 半導体装置およびその製造方法
JP2001223324A (ja) 2000-02-10 2001-08-17 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
US6713854B1 (en) 2000-10-16 2004-03-30 Legacy Electronics, Inc Electronic circuit module with a carrier having a mounting pad array
AU2001242156A1 (en) * 2000-03-17 2001-09-24 Magna Interior Systems Inc. A cross car duct with integrated mode doors and hvac module
EP1189282A4 (en) 2000-03-21 2006-02-15 Mitsubishi Electric Corp SEMICONDUCTOR ARRANGEMENT, METHOD FOR THE PRODUCTION OF ELECTRONIC SWITCHING, ELECTRONIC SWITCHING, AND PORTABLE INFORMATION TERMINAL
US6518794B2 (en) 2000-04-24 2003-02-11 International Business Machines Corporation AC drive cross point adjust method and apparatus
US6384473B1 (en) * 2000-05-16 2002-05-07 Sandia Corporation Microelectronic device package with an integral window
TW445608B (en) 2000-05-19 2001-07-11 Siliconware Precision Industries Co Ltd Semiconductor package and manufacturing method thereof of lead frame without flashing
JP2001339043A (ja) 2000-05-30 2001-12-07 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置及びそれを用いた半導体モジュール
US6577004B1 (en) 2000-08-31 2003-06-10 Micron Technology, Inc. Solder ball landpad design to improve laminate performance
US6462423B1 (en) 2000-08-31 2002-10-08 Micron Technology, Inc. Flip-chip with matched lines and ground plane
JP2002076252A (ja) 2000-08-31 2002-03-15 Nec Kyushu Ltd 半導体装置
JP3874062B2 (ja) 2000-09-05 2007-01-31 セイコーエプソン株式会社 半導体装置
US6980184B1 (en) 2000-09-27 2005-12-27 Alien Technology Corporation Display devices and integrated circuits
JP2002118199A (ja) 2000-10-10 2002-04-19 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
US6658530B1 (en) 2000-10-12 2003-12-02 Sun Microsystems, Inc. High-performance memory module
DE10055001A1 (de) 2000-11-07 2002-05-16 Infineon Technologies Ag Speicheranordnung mit einem zentralen Anschlussfeld
JP4608763B2 (ja) 2000-11-09 2011-01-12 日本電気株式会社 半導体装置
US20020122902A1 (en) 2000-11-30 2002-09-05 Tetsuji Ueda Blank for an optical member as well as vessel and method of producing the same
US6628528B2 (en) 2000-11-30 2003-09-30 Theodore Zale Schoenborn Current sharing in memory packages
US6798044B2 (en) 2000-12-04 2004-09-28 Fairchild Semiconductor Corporation Flip chip in leaded molded package with two dies
US6528408B2 (en) * 2001-05-21 2003-03-04 Micron Technology, Inc. Method for bumped die and wire bonded board-on-chip package
DE10126310B4 (de) 2001-05-30 2006-05-18 Infineon Technologies Ag Leiterplattenvorrichtung, deren Verwendung und Halbleiterspeichervorrichtung
KR100415281B1 (ko) 2001-06-29 2004-01-16 삼성전자주식회사 양면 실장형 회로 기판 및 이를 포함하는 멀티 칩 패키지
JP5004385B2 (ja) 2001-08-03 2012-08-22 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体メモリチップとそれを用いた半導体メモリ装置
DE10139085A1 (de) * 2001-08-16 2003-05-22 Infineon Technologies Ag Leiterplattensystem, Verfahren zum Betreiben eines Leiterplattensystems, Leiterplatteneinrichtung und deren Verwendung, und Halbleitervorrichtung und deren Verwendung
US6977440B2 (en) 2001-10-09 2005-12-20 Tessera, Inc. Stacked packages
DE10297316T5 (de) 2001-10-09 2004-12-09 Tessera, Inc., San Jose Gestapelte Baugruppen
US6831301B2 (en) 2001-10-15 2004-12-14 Micron Technology, Inc. Method and system for electrically coupling a chip to chip package
KR100454123B1 (ko) 2001-12-06 2004-10-26 삼성전자주식회사 반도체 집적 회로 장치 및 그것을 구비한 모듈
US6692987B2 (en) 2001-12-12 2004-02-17 Micron Technology, Inc. BOC BGA package for die with I-shaped bond pad layout
SG118103A1 (en) 2001-12-12 2006-01-27 Micron Technology Inc BOC BGA package for die with I-shaped bond pad layout
US6686819B2 (en) 2002-02-01 2004-02-03 Intel Corporation Dual referenced microstrip
US6982485B1 (en) 2002-02-13 2006-01-03 Amkor Technology, Inc. Stacking structure for semiconductor chips and a semiconductor package using it
US6740821B1 (en) 2002-03-01 2004-05-25 Micron Technology, Inc. Selectively configurable circuit board
TW567593B (en) 2002-03-21 2003-12-21 Nanya Technology Corp Packaging method of memory and apparatus of the same
US7109588B2 (en) 2002-04-04 2006-09-19 Micron Technology, Inc. Method and apparatus for attaching microelectronic substrates and support members
KR100460063B1 (ko) 2002-05-03 2004-12-04 주식회사 하이닉스반도체 센터 패드 칩 적층 볼 그리드 어레이 패키지 및 그 제조방법
US6906415B2 (en) 2002-06-27 2005-06-14 Micron Technology, Inc. Semiconductor device assemblies and packages including multiple semiconductor devices and methods
JP2004063767A (ja) 2002-07-29 2004-02-26 Renesas Technology Corp 半導体装置
DE10234951B4 (de) 2002-07-31 2009-01-02 Qimonda Ag Verfahren zur Herstellung von Halbleiterschaltungsmodulen
US6765288B2 (en) 2002-08-05 2004-07-20 Tessera, Inc. Microelectronic adaptors, assemblies and methods
US7294928B2 (en) 2002-09-06 2007-11-13 Tessera, Inc. Components, methods and assemblies for stacked packages
JP4221238B2 (ja) 2002-09-26 2009-02-12 エルピーダメモリ株式会社 メモリモジュール
JP2004128155A (ja) 2002-10-01 2004-04-22 Renesas Technology Corp 半導体パッケージ
JP3742051B2 (ja) 2002-10-31 2006-02-01 エルピーダメモリ株式会社 メモリモジュール、メモリチップ、及びメモリシステム
TWI221664B (en) 2002-11-07 2004-10-01 Via Tech Inc Structure of chip package and process thereof
US7550842B2 (en) 2002-12-12 2009-06-23 Formfactor, Inc. Integrated circuit assembly
DE10259221B4 (de) 2002-12-17 2007-01-25 Infineon Technologies Ag Elektronisches Bauteil mit einem Stapel aus Halbleiterchips und Verfahren zur Herstellung desselben
JP2004221215A (ja) 2003-01-14 2004-08-05 Renesas Technology Corp 半導体装置
US6876088B2 (en) 2003-01-16 2005-04-05 International Business Machines Corporation Flex-based IC package construction employing a balanced lamination
US6961259B2 (en) 2003-01-23 2005-11-01 Micron Technology, Inc. Apparatus and methods for optically-coupled memory systems
US6879028B2 (en) 2003-02-21 2005-04-12 Freescale Semiconductor, Inc. Multi-die semiconductor package
JP4072505B2 (ja) 2003-02-28 2008-04-09 エルピーダメモリ株式会社 積層型半導体パッケージ
TW200419752A (en) 2003-03-18 2004-10-01 United Test Ct Inc Semiconductor package with heat sink
US7102217B2 (en) 2003-04-09 2006-09-05 Micron Technology, Inc. Interposer substrates with reinforced interconnect slots, and semiconductor die packages including same
JP3940694B2 (ja) 2003-04-18 2007-07-04 株式会社東芝 半導体装置及びその製造方法
JP4419049B2 (ja) 2003-04-21 2010-02-24 エルピーダメモリ株式会社 メモリモジュール及びメモリシステム
JP4046026B2 (ja) 2003-06-27 2008-02-13 株式会社日立製作所 半導体装置
TWI297203B (en) * 2003-06-30 2008-05-21 United Microelectronics Corp Microelectronic package
US7145226B2 (en) 2003-06-30 2006-12-05 Intel Corporation Scalable microelectronic package using conductive risers
US7183643B2 (en) 2003-11-04 2007-02-27 Tessera, Inc. Stacked packages and systems incorporating the same
US7034391B2 (en) 2003-11-08 2006-04-25 Chippac, Inc. Flip chip interconnection pad layout
US7989940B2 (en) 2003-12-19 2011-08-02 Tessera, Inc. System and method for increasing the number of IO-s on a ball grid package by wire bond stacking of same size packages through apertures
CN1638120A (zh) 2003-12-26 2005-07-13 恩益禧电子股份有限公司 半导体组装体及其制造方法
US7176043B2 (en) * 2003-12-30 2007-02-13 Tessera, Inc. Microelectronic packages and methods therefor
US7181584B2 (en) 2004-02-05 2007-02-20 Micron Technology, Inc. Dynamic command and/or address mirroring system and method for memory modules
JP4119866B2 (ja) 2004-05-12 2008-07-16 富士通株式会社 半導体装置
JP4647243B2 (ja) 2004-05-24 2011-03-09 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
KR20050119414A (ko) 2004-06-16 2005-12-21 삼성전자주식회사 에지 패드형 반도체 칩의 스택 패키지 및 그 제조방법
JP4865197B2 (ja) 2004-06-30 2012-02-01 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置およびその製造方法
US7260691B2 (en) 2004-06-30 2007-08-21 Intel Corporation Apparatus and method for initialization of a double-sided DIMM having at least one pair of mirrored pins
TWI238509B (en) * 2004-07-22 2005-08-21 Phoenix Prec Technology Corp Micro-electronic package structure
JP4058642B2 (ja) 2004-08-23 2008-03-12 セイコーエプソン株式会社 半導体装置
US6943057B1 (en) * 2004-08-31 2005-09-13 Stats Chippac Ltd. Multichip module package and fabrication method
TWI260079B (en) * 2004-09-01 2006-08-11 Phoenix Prec Technology Corp Micro-electronic package structure and method for fabricating the same
US7324352B2 (en) 2004-09-03 2008-01-29 Staktek Group L.P. High capacity thin module system and method
DE102004049356B4 (de) 2004-10-08 2006-06-29 Infineon Technologies Ag Halbleitermodul mit einem internen Halbleiterchipstapel und Verfahren zur Herstellung desselben
US20060081983A1 (en) 2004-10-14 2006-04-20 Giles Humpston Wafer level microelectronic packaging with double isolation
US20060087013A1 (en) 2004-10-21 2006-04-27 Etron Technology, Inc. Stacked multiple integrated circuit die package assembly
TWI256092B (en) 2004-12-02 2006-06-01 Siliconware Precision Industries Co Ltd Semiconductor package and fabrication method thereof
JP2006172122A (ja) 2004-12-15 2006-06-29 Toshiba Corp カード状記憶装置
KR100615606B1 (ko) * 2005-03-15 2006-08-25 삼성전자주식회사 메모리 모듈 및 이 모듈의 신호 라인 배치 방법
KR101070913B1 (ko) 2005-05-19 2011-10-06 삼성테크윈 주식회사 반도체 칩 적층 패키지
US7414312B2 (en) * 2005-05-24 2008-08-19 Kingston Technology Corp. Memory-module board layout for use with memory chips of different data widths
US7402911B2 (en) 2005-06-28 2008-07-22 Infineon Technologies Ag Multi-chip device and method for producing a multi-chip device
US7414917B2 (en) * 2005-07-29 2008-08-19 Infineon Technologies Re-driving CAwD and rD signal lines
SG130066A1 (en) * 2005-08-26 2007-03-20 Micron Technology Inc Microelectronic device packages, stacked microelectronic device packages, and methods for manufacturing microelectronic devices
US7326591B2 (en) * 2005-08-31 2008-02-05 Micron Technology, Inc. Interconnecting substrates for microelectronic dies, methods for forming vias in such substrates, and methods for packaging microelectronic devices
CN101278394B (zh) 2005-10-03 2010-05-19 罗姆股份有限公司 半导体装置
US7372169B2 (en) 2005-10-11 2008-05-13 Via Technologies, Inc. Arrangement of conductive pads on grid array package and on circuit board
JP4906047B2 (ja) 2005-11-28 2012-03-28 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
TWI279897B (en) 2005-12-23 2007-04-21 Phoenix Prec Technology Corp Embedded semiconductor chip structure and method for fabricating the same
US20080185705A1 (en) 2005-12-23 2008-08-07 Tessera, Inc. Microelectronic packages and methods therefor
US20070187836A1 (en) 2006-02-15 2007-08-16 Texas Instruments Incorporated Package on package design a combination of laminate and tape substrate, with back-to-back die combination
KR20070088177A (ko) 2006-02-24 2007-08-29 삼성테크윈 주식회사 반도체 패키지 및 그 제조 방법
US7368319B2 (en) * 2006-03-17 2008-05-06 Stats Chippac Ltd. Stacked integrated circuit package-in-package system
US20070241441A1 (en) 2006-04-17 2007-10-18 Stats Chippac Ltd. Multichip package system
US20070260841A1 (en) 2006-05-02 2007-11-08 Hampel Craig E Memory module with reduced access granularity
JP5026736B2 (ja) 2006-05-15 2012-09-19 パナソニックヘルスケア株式会社 冷凍装置
US7535110B2 (en) 2006-06-15 2009-05-19 Marvell World Trade Ltd. Stack die packages
JP2007013146A (ja) 2006-06-26 2007-01-18 Renesas Technology Corp 半導体集積回路装置
JP4362784B2 (ja) 2006-07-06 2009-11-11 エルピーダメモリ株式会社 半導体装置
SG139573A1 (en) 2006-07-17 2008-02-29 Micron Technology Inc Microelectronic packages with leadframes, including leadframes configured for stacked die packages, and associated systems and methods
US7793043B2 (en) 2006-08-24 2010-09-07 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Buffered memory architecture
DE102006042775B3 (de) 2006-09-12 2008-03-27 Qimonda Ag Schaltungsmodul und Verfahren zur Herstellung eines Schaltungsmoduls
JP4791924B2 (ja) 2006-09-22 2011-10-12 株式会社東芝 半導体記憶装置
US7472477B2 (en) 2006-10-12 2009-01-06 International Business Machines Corporation Method for manufacturing a socket that compensates for differing coefficients of thermal expansion
US7719121B2 (en) 2006-10-17 2010-05-18 Tessera, Inc. Microelectronic packages and methods therefor
US7870459B2 (en) 2006-10-23 2011-01-11 International Business Machines Corporation High density high reliability memory module with power gating and a fault tolerant address and command bus
US7692278B2 (en) 2006-12-20 2010-04-06 Intel Corporation Stacked-die packages with silicon vias and surface activated bonding
US7518226B2 (en) 2007-02-06 2009-04-14 Stats Chippac Ltd. Integrated circuit packaging system with interposer
JP2008198841A (ja) 2007-02-14 2008-08-28 Elpida Memory Inc 半導体装置
KR101257912B1 (ko) 2007-02-14 2013-04-24 삼성전자주식회사 반도체 메모리 장치와 이 장치의 단자 배치 방법, 및 이장치를 구비한 메모리 모듈과 이 모듈의 기판의 단자 및라인 배치 방법
CN101617371B (zh) 2007-02-16 2014-03-26 莫塞德技术公司 具有多个外部电源的非易失性半导体存储器
JP4751351B2 (ja) 2007-02-20 2011-08-17 株式会社東芝 半導体装置とそれを用いた半導体モジュール
JP4913640B2 (ja) 2007-03-19 2012-04-11 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
US7644216B2 (en) 2007-04-16 2010-01-05 International Business Machines Corporation System and method for providing an adapter for re-use of legacy DIMMS in a fully buffered memory environment
TW200842998A (en) 2007-04-18 2008-11-01 Siliconware Precision Industries Co Ltd Semiconductor device and manufacturing method thereof
US7696629B2 (en) 2007-04-30 2010-04-13 Chipmos Technology Inc. Chip-stacked package structure
TWI335055B (en) 2007-06-29 2010-12-21 Chipmos Technologies Inc Chip-stacked package structure
US7906853B2 (en) 2007-09-06 2011-03-15 Micron Technology, Inc. Package structure for multiple die stack
KR20090043898A (ko) 2007-10-30 2009-05-07 삼성전자주식회사 스택 패키지 및 그 제조 방법, 및 스택 패키지를 포함하는카드 및 시스템
US10074553B2 (en) 2007-12-03 2018-09-11 STATS ChipPAC Pte. Ltd. Wafer level package integration and method
US9460951B2 (en) 2007-12-03 2016-10-04 STATS ChipPAC Pte. Ltd. Semiconductor device and method of wafer level package integration
JP5207868B2 (ja) 2008-02-08 2013-06-12 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
TWM338433U (en) 2008-02-14 2008-08-11 Orient Semiconductor Elect Ltd Multi-chip package structure
JP2009200101A (ja) 2008-02-19 2009-09-03 Liquid Design Systems:Kk 半導体チップ及び半導体装置
US8228679B2 (en) 2008-04-02 2012-07-24 Spansion Llc Connections for electronic devices on double-sided circuit board
TWI362732B (en) 2008-04-07 2012-04-21 Nanya Technology Corp Multi-chip stack package
US8008764B2 (en) 2008-04-28 2011-08-30 International Business Machines Corporation Bridges for interconnecting interposers in multi-chip integrated circuits
US7855445B2 (en) 2008-04-29 2010-12-21 Silicon Laboratories, Inc. Circuit device including rotated stacked die
US8264085B2 (en) * 2008-05-05 2012-09-11 Infineon Technologies Ag Semiconductor device package interconnections
US7838975B2 (en) 2008-05-27 2010-11-23 Mediatek Inc. Flip-chip package with fan-out WLCSP
US7745920B2 (en) 2008-06-10 2010-06-29 Micron Technology, Inc. Packaged microelectronic devices and methods for manufacturing packaged microelectronic devices
US8276269B2 (en) 2008-06-20 2012-10-02 Intel Corporation Dual epoxy dielectric and photosensitive solder mask coatings, and processes of making same
JP2010056139A (ja) 2008-08-26 2010-03-11 Toshiba Corp 積層型半導体装置
JP5056718B2 (ja) 2008-10-16 2012-10-24 株式会社デンソー 電子装置の製造方法
KR20100046760A (ko) * 2008-10-28 2010-05-07 삼성전자주식회사 반도체 패키지
US7839163B2 (en) 2009-01-22 2010-11-23 International Business Machines Corporation Programmable through silicon via
TWM363079U (en) 2009-03-24 2009-08-11 Xintec Inc Semiconductor device and layout structure for array package
TWI401785B (zh) 2009-03-27 2013-07-11 Chipmos Technologies Inc 多晶片堆疊封裝
US8586870B2 (en) 2009-03-27 2013-11-19 Molex Incorporated Microelectronic component support with reinforced structure
CN102396030B (zh) 2009-04-17 2014-10-29 惠普公司 用于降低大的存储器覆盖区背景下的迹线长度和电容的方法和系统
KR101601847B1 (ko) 2009-05-21 2016-03-09 삼성전자주식회사 반도체 패키지
JP2010278318A (ja) 2009-05-29 2010-12-09 Renesas Electronics Corp 半導体装置
JP5635247B2 (ja) 2009-08-20 2014-12-03 富士通株式会社 マルチチップモジュール
JP5593053B2 (ja) 2009-10-09 2014-09-17 ピーエスフォー ルクスコ エスエイアールエル 半導体装置
TWI390645B (zh) 2009-10-22 2013-03-21 Powertech Technology Inc 背對背晶片組堆疊的封裝方法與構造
US8304286B2 (en) 2009-12-11 2012-11-06 Stats Chippac Ltd. Integrated circuit packaging system with shielded package and method of manufacture thereof
US8508954B2 (en) 2009-12-17 2013-08-13 Samsung Electronics Co., Ltd. Systems employing a stacked semiconductor package
JP2011155203A (ja) 2010-01-28 2011-08-11 Elpida Memory Inc 半導体装置
US8907457B2 (en) 2010-02-08 2014-12-09 Micron Technology, Inc. Microelectronic devices with through-substrate interconnects and associated methods of manufacturing
US8395195B2 (en) 2010-02-09 2013-03-12 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Bottom-notched SiGe FinFET formation using condensation
US8847376B2 (en) 2010-07-23 2014-09-30 Tessera, Inc. Microelectronic elements with post-assembly planarization
US8796135B2 (en) 2010-07-23 2014-08-05 Tessera, Inc. Microelectronic elements with rear contacts connected with via first or via middle structures
WO2012019909A1 (de) 2010-08-13 2012-02-16 Tesa Se Verfahren zur kapselung einer elektronischen anordnung
TWI533412B (zh) 2010-08-13 2016-05-11 金龍國際公司 半導體元件封裝結構及其形成方法
US8378478B2 (en) 2010-11-24 2013-02-19 Tessera, Inc. Enhanced stacked microelectronic assemblies with central contacts and vias connected to the central contacts
KR101118711B1 (ko) 2010-12-17 2012-03-12 테세라, 인코포레이티드 중앙 콘택을 구비한 적층형 마이크로전자 조립체
KR101061531B1 (ko) 2010-12-17 2011-09-01 테세라 리써치 엘엘씨 중앙 콘택을 구비하며 접지 또는 배전을 개선한 적층형 마이크로전자 조립체
US9143140B2 (en) 2011-02-15 2015-09-22 Cavium, Inc. Multi-function delay locked loop
US8466544B2 (en) 2011-02-25 2013-06-18 Stats Chippac, Ltd. Semiconductor device and method of forming interposer and opposing build-up interconnect structure with connecting conductive TMV for electrical interconnect of Fo-WLCSP
US8304881B1 (en) 2011-04-21 2012-11-06 Tessera, Inc. Flip-chip, face-up and face-down wirebond combination package
US8338963B2 (en) 2011-04-21 2012-12-25 Tessera, Inc. Multiple die face-down stacking for two or more die
US8970028B2 (en) 2011-12-29 2015-03-03 Invensas Corporation Embedded heat spreader for package with multiple microelectronic elements and face-down connection
US8890304B2 (en) 2011-06-08 2014-11-18 Tessera, Inc. Fan-out microelectronic unit WLP having interconnects comprising a matrix of a high melting point, a low melting point and a polymer material
US9117811B2 (en) 2011-06-13 2015-08-25 Tessera, Inc. Flip chip assembly and process with sintering material on metal bumps
KR20130005465A (ko) 2011-07-06 2013-01-16 삼성전자주식회사 반도체 스택 패키지 장치
US8421237B2 (en) 2011-07-07 2013-04-16 Cisco Technology, Inc. Stacked memory layers having multiple orientations and through-layer interconnects
US8502390B2 (en) 2011-07-12 2013-08-06 Tessera, Inc. De-skewed multi-die packages
US8823165B2 (en) 2011-07-12 2014-09-02 Invensas Corporation Memory module in a package
US8513817B2 (en) 2011-07-12 2013-08-20 Invensas Corporation Memory module in a package
US8659140B2 (en) 2011-10-03 2014-02-25 Invensas Corporation Stub minimization using duplicate sets of signal terminals in assemblies without wirebonds to package substrate
US8345441B1 (en) 2011-10-03 2013-01-01 Invensas Corporation Stub minimization for multi-die wirebond assemblies with parallel windows
JP5947904B2 (ja) 2011-10-03 2016-07-06 インヴェンサス・コーポレイション 直交するウインドウを有するマルチダイ・ワイヤボンド・アセンブリのためのスタブ最小化
US8659142B2 (en) 2011-10-03 2014-02-25 Invensas Corporation Stub minimization for wirebond assemblies without windows
WO2013052372A2 (en) * 2011-10-03 2013-04-11 Invensas Corporation Stub minimization for multi-die wirebond assemblies with parallel windows
US8441111B2 (en) 2011-10-03 2013-05-14 Invensas Corporation Stub minimization for multi-die wirebond assemblies with parallel windows
JP2014528652A (ja) 2011-10-03 2014-10-27 インヴェンサス・コーポレイション パッケージの中心から端子グリッドをオフセットすることによるスタブ最小化
US8610260B2 (en) 2011-10-03 2013-12-17 Invensas Corporation Stub minimization for assemblies without wirebonds to package substrate
US8436457B2 (en) 2011-10-03 2013-05-07 Invensas Corporation Stub minimization for multi-die wirebond assemblies with parallel windows
US8659141B2 (en) 2011-10-03 2014-02-25 Invensas Corporation Stub minimization using duplicate sets of terminals for wirebond assemblies without windows
TWM426922U (en) 2011-11-08 2012-04-11 Wistron Neweb Corp Memory card connector
US8848391B2 (en) 2012-08-27 2014-09-30 Invensas Corporation Co-support component and microelectronic assembly
US8848392B2 (en) 2012-08-27 2014-09-30 Invensas Corporation Co-support module and microelectronic assembly
US8787034B2 (en) 2012-08-27 2014-07-22 Invensas Corporation Co-support system and microelectronic assembly
US8902680B2 (en) 2013-01-23 2014-12-02 Micron Technology, Inc. Identifying stacked dice

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08227908A (ja) * 1994-12-20 1996-09-03 Hitachi Ltd 半導体装置及びその製造方法
JPH10107091A (ja) * 1996-10-02 1998-04-24 Nec Corp 電子部品の実装構造およびその製造方法
JP2000315776A (ja) * 1999-05-06 2000-11-14 Hitachi Ltd 半導体装置
US20050116358A1 (en) * 2003-11-12 2005-06-02 Tessera,Inc. Stacked microelectronic assemblies with central contacts

Also Published As

Publication number Publication date
TW201322414A (zh) 2013-06-01
TW201320296A (zh) 2013-05-16
WO2013052466A2 (en) 2013-04-11
JP5887416B2 (ja) 2016-03-16
TWI512935B (zh) 2015-12-11
US9423824B2 (en) 2016-08-23
JP5887417B2 (ja) 2016-03-16
WO2013052372A8 (en) 2014-05-15
KR20140088133A (ko) 2014-07-09
TW201330188A (zh) 2013-07-16
EP2764548A1 (en) 2014-08-13
WO2013052372A3 (en) 2013-10-31
TWI520302B (zh) 2016-02-01
US8981547B2 (en) 2015-03-17
TW201324732A (zh) 2013-06-16
WO2013052373A1 (en) 2013-04-11
KR101894823B1 (ko) 2018-09-04
EP2764543A2 (en) 2014-08-13
KR20140085495A (ko) 2014-07-07
US20140328016A1 (en) 2014-11-06
WO2013052458A1 (en) 2013-04-11
JP2014528650A (ja) 2014-10-27
KR20140085488A (ko) 2014-07-07
JP5887414B2 (ja) 2016-03-16
EP2764544A1 (en) 2014-08-13
TWI479639B (zh) 2015-04-01
US20150198971A1 (en) 2015-07-16
KR20140085487A (ko) 2014-07-07
WO2013052372A2 (en) 2013-04-11
TWI567927B (zh) 2017-01-21
JP2014530508A (ja) 2014-11-17
TWI490989B (zh) 2015-07-01
JP2014534624A (ja) 2014-12-18
KR101894825B1 (ko) 2018-10-04
EP2764546A2 (en) 2014-08-13
WO2013052466A3 (en) 2013-08-15
JP5887415B2 (ja) 2016-03-16
TW201322413A (zh) 2013-06-01
TW201611231A (zh) 2016-03-16
TWI520301B (zh) 2016-02-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5887417B2 (ja) 直交する窓を有するマルチダイワイヤボンドアセンブリのためのスタブ最小化
US8441111B2 (en) Stub minimization for multi-die wirebond assemblies with parallel windows
JP5966009B2 (ja) パッケージ基板に対するワイヤボンドなしでアセンブリ内の信号端子の2重の組を使用するスタブ最小化
WO2013052370A2 (en) Stub minimization for multi-die wirebond assemblies with parallel windows
JP5964440B2 (ja) ウインドウを用いないワイヤボンドアセンブリに対して端子の2重の組を使用するスタブ最小化
JP2017502494A (ja) Xfdパッケージングに対する同時サポート

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20151002

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20151002

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20151020

TRDD Decision of grant or rejection written
A975 Report on accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005

Effective date: 20160108

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20160114

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20160215

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5887417

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees