JP2007528115A5

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Publication number: JP2007528115A5
Application number: JP2006506634A
Authority: JP
Filing date: 2004-03-29
Publication date: 2010-04-08
Anticipated expiration: 2024-03-29

Claims

デバイスステージによって保持されるデバイスと光学アセンブリとの間のギャップの環境を制御するための環境システムであって、
前記デバイスの近傍に位置付けられている流体バリアと、
前記ギャップを満たす液浸流体を送出し、前記デバイス及び前記デバイスステージの少なくとも一方と前記流体バリアとの間に直接に存在する液浸流体を回収する液浸流体システムとを備え、
前記流体バリアは前記ギャップを取り囲み、且つ、前記流体バリアは流体蒸気を含む前記液浸流体が前記ギャップ近傍の領域から出てゆくことを抑制する環境システム。
デバイスステージによって保持されるデバイスと光学アセンブリとの間のギャップの環境を制御するための環境システムであって、
前記デバイスの近傍に位置付けられている流体バリアと、
前記ギャップを満たす液浸流体を送出し、前記デバイス及び前記デバイスステージの少なくとも一方と前記流体バリアとの間に直接に存在する液浸流体を回収する液浸流体システムとを備え、
前記流体バリアが前記デバイス近傍に位置付けられる排出インレットを含み、
前記液浸流体システムが前記排出インレットと連通する低圧源を含む環境システム。
像をデバイスに転写するための露光装置であって、前記露光装置は光学アセンブリと、前記デバイスを保持するデバイスステージと、前記光学アセンブリ及び前記デバイスの間のギャップの環境を制御する請求項１又は２に記載の環境システムとを備える露光装置。
前記デバイスステージは、前記デバイスのデバイス露光面とほぼ面一であるステージ表面を含む請求項３に記載の露光装置。
基板を供給する工程と、請求項３に記載の装置にて前記基板に像を転写する工程とを含むデバイスを製造するための方法。
デバイス露光面を含むデバイスに像を転写するための露光装置であって、
前記デバイスの近傍に、光学アセンブリと前記デバイスとの間にギャップを有するように位置付けられる光学アセンブリと、
前記デバイスの近傍に位置付けられる流体バリア及び前記ギャップを満たす液浸流体を送出する液浸流体システムを含み、前記ギャップの環境を制御する環境システムと、
デバイスを保持するデバイスステージであって、前記デバイス露光面とほぼ面一であるステージ表面を含むデバイスステージとを備え、
前記デバイスステージは、前記デバイスを保持するデバイスホルダと、前記ステージ表面を画成するガードと、前記デバイス露光面が前記ステージ表面とほぼ面一になるように、前記デバイス及び前記デバイスホルダに対して前記ガードを移動させる駆動アセンブリとを含み、
前記ガードは、移動されて、前記デバイスへのアクセスをもたらすことが可能である第１の部分を含む露光装置。
デバイス露光面を含むデバイスに像を転写するための露光装置であって、
前記デバイスの近傍に、光学アセンブリと前記デバイスとの間にギャップを有するように位置付けられる光学アセンブリと、
前記デバイスの近傍に位置付けられる流体バリア及び前記ギャップを満たす液浸流体を送出する液浸流体システムを含み、前記ギャップの環境を制御する環境システムと、
デバイスを保持するデバイスステージであって、前記デバイス露光面とほぼ面一であるステージ表面を含むデバイスステージとを備え、
前記液浸流体システムは、前記デバイス及び前記デバイスステージの少なくとも一方と前記流体バリアとの間に直接存在する液浸流体を回収する露光装置。
基板を供給する工程と、請求項６又は７に記載の装置にて前記基板に像を転写する工程とを含むデバイスを製造するための方法。
デバイスステージによって保持されているデバイスと光学アセンブリとの間のギャップの環境を制御するための方法であって、
流体バリアを前記デバイスの近傍に位置付ける工程と、
液浸流体システムを用いて液浸流体で前記ギャップを満たす工程と、
前記デバイス及び前記デバイスステージの少なくとも一方と前記流体バリアとの間に直接存在する液浸流体を回収する工程とを含み、
前記流体バリアは前記デバイスの近傍に位置付けられた排出インレットを含み、
前記液浸流体を回収する工程が低圧源とを前記排出インレットとを接続する工程を含む方法。
像をデバイスに転写するための露光装置の製作方法であって、光学アセンブリを設ける工程と、請求項９に記載の方法によって前記ギャップの前記環境を制御する工程とを含む方法。
基板を供給する工程と、請求項１０に記載の方法によって製作された前記露光装置で像を前記基板に転写する工程とを含むデバイス製造方法。
デバイス露光面を含むデバイスに像を転写するための方法であって、
光学アセンブリを前記デバイスの近傍に、前記光学アセンブリと前記デバイスとの間にギャップを有するように位置付ける工程と、
前記デバイスの近傍に位置付けられる流体バリア及び前記ギャップを満たす液浸流体を送出する液浸流体システムを含む環境システムで、前記ギャップの環境を制御する工程と、
前記デバイス露光面とほぼ面一であるステージ表面を含むデバイスステージで、前記デバイスを保持する工程とを含み、
前記デバイスステージは前記デバイスを保持するデバイスホルダと、前記ステージ表面を画成するガードと、前記ステージ表面が前記デバイス露光面とほぼ面一になるように前記デバイス及び前記デバイスホルダに対して前記ガードを移動する駆動アセンブリとを含み、前記ガードの第１の部分を移動してデバイスに対するアクセスが提供される方法。
露光面を含むワークピースに像を転写するための露光装置であって、
前記ワークピースの前記露光面とほぼ面一であるステージ表面を含み、前記ワークピースを保持するステージと、
前記ワークピース及び前記ステージの少なくとも一方との間にギャップを有して位置付けられた光学アセンブリと、
前記ワークピース及び前記ステージの少なくとも一方に対向する第１の表面を有する囲い部材、前記ギャップを満たすために液浸流体を前記囲い部材内に送出する液浸流体システム、並びに、前記液浸流体の漏れを抑えるための前記囲い部材の前記第１の表面上のインレット部分を有し、前記ギャップの環境を制御する環境システムと、を備え、
前記ワークピース及び前記ステージの少なくとも一方と前記第１の表面との間の距離は、前記ワークピース及び前記ステージの少なくとも一方と前記光学アセンブリの終端面との間の距離よりも短く、
前記環境システムは、前記囲み部材の前記第１の表面上に液浸流体の漏れを抑えるためのアウトレット部分を含む露光装置。
前記アウトレット部分が加圧された気体を提供するように配置された請求項１３に記載の露光装置。
露光面を含むワークピースに像を転写するための露光装置であって、
前記ワークピースの前記露光面とほぼ面一であるステージ表面を含み、前記ワークピースを保持するステージと、
前記ワークピース及び前記ステージの少なくとも一方との間にギャップを有して位置付けられた光学アセンブリと、
前記ワークピース及び前記ステージの少なくとも一方に対向する第１の表面を有する囲い部材、前記ギャップを満たすために液浸流体を前記囲い部材内に送出する液浸流体システム、並びに、前記液浸流体の漏れを抑えるための前記囲い部材の前記第１の表面上のアウトレット部分を有し、前記ギャップの環境を制御する環境システムと、を備え、
前記ワークピース及び前記ステージの少なくとも一方と前記第１の表面との間の距離は、前記ワークピース及び前記ステージの少なくとも一方と前記光学アセンブリの終端面との間の距離よりも短く、
前記アウトレット部分が加圧された気体を提供するように配置された露光装置。
基板を供給する工程と、請求項１３〜１５のいずれか一項に記載の装置にて前記基板に像を転写する工程とを含むデバイスを製造するための方法。