JP2012164996A5 - 露光装置、デバイス製造方法、及びクリーニング方法 - Google Patents
露光装置、デバイス製造方法、及びクリーニング方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012164996A5 JP2012164996A5 JP2012082672A JP2012082672A JP2012164996A5 JP 2012164996 A5 JP2012164996 A5 JP 2012164996A5 JP 2012082672 A JP2012082672 A JP 2012082672A JP 2012082672 A JP2012082672 A JP 2012082672A JP 2012164996 A5 JP2012164996 A5 JP 2012164996A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid
- cleaning
- exposure
- wall
- holding member
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims 28
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 29
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 17
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims 4
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims 3
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims 3
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
Claims (15)
- 基板保持部材に保持された基板を露光用の液体を介して露光光で露光する液浸露光装置であって、
投影光学系と、
前記基板の表面が対向する下面を有するノズル部材と、を備え、
前記ノズル部材は、液体供給口と、前記下面に設けられた液体回収口とを有し、
前記基板保持部材は、前記基板の裏面を支持する支持部材と、前記支持部材を囲むように設けられた第1壁と、前記第1壁を囲むように配置された第2壁と、前記第1壁と前記第2壁との間の空間から流体を吸引可能な第1吸引口を有し、
露光動作のときに、前記液体供給口から前記露光用の液体を供給し、
クリーニング動作のときに、前記第1壁の外側の空間に供給されたクリーニング用の液体の少なくとも一部を、前記基板保持部材の前記第1吸引口から回収する露光装置。 - 前記クリーニング用の液体は、前記露光用の液体を含む請求項1記載の露光装置。
- 前記クリーニング用の液体は、界面活性剤を含む液体を含む請求項1記載の露光装置。
- 前記クリーニング用の液体は、機能水を含む請求項1記載の露光装置。
- 前記クリーニング動作のときに、前記クリーニング用の液体に超音波が与えられる請求項1〜4のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記露光動作のときに、前記ノズル部材の前記液体供給口から、前記投影光学系の終端光学素子と前記ノズル部材との間に、前記露光用の液体が供給される請求項1〜5のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記クリーニング動作のときに、前記基板保持部材にクリーニング用部材が保持される請求項1〜6のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記基板保持部材は、前記第1壁の内側に形成され、流体を吸引可能な第2吸引口と、前記第1壁の内側に形成され、気体を供給可能な流通口と、を有し、
前記クリーニング動作のときに、前記第1吸引口及び前記第2吸引口による吸引動作が行われる請求項7記載の露光装置。 - 請求項1〜8のいずれか一項に記載の露光装置を用いるデバイス製造方法。
- 投影光学系と、基板保持部材と、前記基板保持部材に保持された基板の表面が対向する下面を有するノズル部材とを備え、前記ノズル部材の液体供給口から露光用の液体を供給するとともに、前記ノズル部材の前記下面に設けられた液体回収口から前記露光用の液体を回収することによって前記基板の表面に前記露光用の液体で液浸領域を形成するとともに、前記露光用の液体を介して前記投影光学系からの露光光で前記基板を露光する液浸露光装置で用いられるクリーニング方法であって、
前記基板保持部材にクリーニング用部材を支持することと、
前記クリーニング用部材の裏面を支持する支持部材を囲むように配置された前記基板保持部材の第1壁の外側にクリーニング用の液体を供給することと、
前記第1壁を囲むように配置された前記基板保持部材の第2壁と前記第1壁との間の空間から、前記クリーニング用の液体の少なくとも一部を、前記保持部材の第1吸引口を介して回収することと、
を含むクリーニング方法。 - 前記クリーニング用の液体は、前記露光用の液体を含む請求項10記載のクリーニング方法。
- 前記クリーニング用の液体は、界面活性剤を含む液体を含む請求項10記載のクリーニング方法。
- 前記クリーニング用の液体は、機能水を含む請求項10記載のクリーニング方法。
- 前記クリーニング動作のときに、前記クリーニング用の液体に超音波が与えられる請求項10〜13のいずれか一項記載のクリーニング方法。
- 前記基板保持部材は、前記第1壁の内側に形成され、流体を吸引可能な第2吸引口と、前記第1壁の内側に形成され、気体を供給可能な流通口と、を有し、
前記クリーニング動作のときに、前記第1吸引口及び前記第2吸引口による吸引動作が行われる請求項10〜14記載のクリーニング方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012082672A JP2012164996A (ja) | 2006-09-08 | 2012-03-30 | クリーニング用部材、クリーニング方法、並びにデバイス製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006244271 | 2006-09-08 | ||
JP2006244271 | 2006-09-08 | ||
JP2012082672A JP2012164996A (ja) | 2006-09-08 | 2012-03-30 | クリーニング用部材、クリーニング方法、並びにデバイス製造方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008533200A Division JP5029611B2 (ja) | 2006-09-08 | 2007-09-06 | クリーニング用部材、クリーニング方法、露光装置、並びにデバイス製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012164996A JP2012164996A (ja) | 2012-08-30 |
JP2012164996A5 true JP2012164996A5 (ja) | 2013-07-18 |
Family
ID=39157309
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008533200A Expired - Fee Related JP5029611B2 (ja) | 2006-09-08 | 2007-09-06 | クリーニング用部材、クリーニング方法、露光装置、並びにデバイス製造方法 |
JP2012082672A Withdrawn JP2012164996A (ja) | 2006-09-08 | 2012-03-30 | クリーニング用部材、クリーニング方法、並びにデバイス製造方法 |
JP2012106104A Pending JP2012147030A (ja) | 2006-09-08 | 2012-05-07 | クリーニング用部材、クリーニング方法、並びにデバイス製造方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008533200A Expired - Fee Related JP5029611B2 (ja) | 2006-09-08 | 2007-09-06 | クリーニング用部材、クリーニング方法、露光装置、並びにデバイス製造方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012106104A Pending JP2012147030A (ja) | 2006-09-08 | 2012-05-07 | クリーニング用部材、クリーニング方法、並びにデバイス製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7927428B2 (ja) |
JP (3) | JP5029611B2 (ja) |
KR (1) | KR20090060270A (ja) |
TW (1) | TW200822182A (ja) |
WO (1) | WO2008029884A1 (ja) |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI538014B (zh) * | 2005-12-08 | 2016-06-11 | 尼康股份有限公司 | A substrate holding device, an exposure apparatus, an exposure method, and an element manufacturing method |
US8705010B2 (en) | 2007-07-13 | 2014-04-22 | Mapper Lithography Ip B.V. | Lithography system, method of clamping and wafer table |
TWI514090B (zh) * | 2007-07-13 | 2015-12-21 | Mapper Lithography Ip Bv | 微影系統及用於支撐晶圓的晶圓台 |
NL1035942A1 (nl) * | 2007-09-27 | 2009-03-30 | Asml Netherlands Bv | Lithographic Apparatus and Method of Cleaning a Lithographic Apparatus. |
NL1036571A1 (nl) * | 2008-03-07 | 2009-09-08 | Asml Netherlands Bv | Lithographic Apparatus and Methods. |
US20100039628A1 (en) * | 2008-03-19 | 2010-02-18 | Nikon Corporation | Cleaning tool, cleaning method, and device fabricating method |
NL1036709A1 (nl) | 2008-04-24 | 2009-10-27 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and a method of operating the apparatus. |
NL1036766A1 (nl) * | 2008-04-25 | 2009-10-27 | Asml Netherlands Bv | Methods relating to immersion lithography and an immersion lithographic apparatus. |
TW201009895A (en) * | 2008-08-11 | 2010-03-01 | Nikon Corp | Exposure apparatus, maintaining method and device fabricating method |
JPWO2010050240A1 (ja) * | 2008-10-31 | 2012-03-29 | 株式会社ニコン | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
DE102009013180B3 (de) * | 2009-03-14 | 2010-07-01 | Fette Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Abreinigung eines Absaugsystems für eine Rundläuferpresse |
NL2005610A (en) * | 2009-12-02 | 2011-06-06 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and surface cleaning method. |
JP5778093B2 (ja) * | 2011-08-10 | 2015-09-16 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 基板テーブルアセンブリ、液浸リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
WO2013086217A1 (en) | 2011-12-06 | 2013-06-13 | Masco Corporation Of Indiana | Ozone distribution in a faucet |
JP2013150995A (ja) * | 2012-01-24 | 2013-08-08 | Shibuya Kogyo Co Ltd | レーザ加工装置 |
US10953441B2 (en) | 2013-03-15 | 2021-03-23 | Kla Corporation | System and method for cleaning optical surfaces of an extreme ultraviolet optical system |
CN115093008B (zh) | 2015-12-21 | 2024-05-14 | 德尔塔阀门公司 | 包括消毒装置的流体输送系统 |
KR102022076B1 (ko) * | 2017-09-21 | 2019-09-23 | 한양대학교 에리카산학협력단 | Pva 브러쉬 세정 방법 및 장치 |
JP6975601B2 (ja) * | 2017-09-26 | 2021-12-01 | 日本特殊陶業株式会社 | 基板保持部材および基板保持方法 |
US11139196B2 (en) * | 2017-10-12 | 2021-10-05 | Asml Netherlands B.V. | Substrate holder for use in a lithographic apparatus |
US11448976B2 (en) | 2017-12-13 | 2022-09-20 | Asml Netherlands B.V. | Substrate holder for use in a lithographic apparatus |
WO2020094388A1 (en) | 2018-11-09 | 2020-05-14 | Asml Holding N.V. | Apparatus for and method cleaning a support inside a lithography apparatus |
JP2022190831A (ja) * | 2021-06-15 | 2022-12-27 | 株式会社荏原製作所 | 基板洗浄装置、基板処理装置、ブレークイン装置、基板に付着する微粒子数の推定方法、基板洗浄部材の汚染度合い判定方法およびブレークイン処理の判定方法 |
WO2023241893A1 (en) * | 2022-06-15 | 2023-12-21 | Asml Netherlands B.V. | Substrate support and lithographic apparatus |
CN115995409B (zh) * | 2023-01-31 | 2024-02-27 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 清洗装置 |
Family Cites Families (93)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4509852A (en) | 1980-10-06 | 1985-04-09 | Werner Tabarelli | Apparatus for the photolithographic manufacture of integrated circuit elements |
JP2868652B2 (ja) * | 1991-09-24 | 1999-03-10 | キヤノン株式会社 | 半導体露光装置 |
JP4029183B2 (ja) | 1996-11-28 | 2008-01-09 | 株式会社ニコン | 投影露光装置及び投影露光方法 |
JP4029182B2 (ja) | 1996-11-28 | 2008-01-09 | 株式会社ニコン | 露光方法 |
CN1244018C (zh) | 1996-11-28 | 2006-03-01 | 株式会社尼康 | 曝光方法和曝光装置 |
DE69717975T2 (de) | 1996-12-24 | 2003-05-28 | Asml Netherlands Bv | In zwei richtungen ausgewogenes positioniergerät, sowie lithographisches gerät mit einem solchen positioniergerät |
JP3747566B2 (ja) * | 1997-04-23 | 2006-02-22 | 株式会社ニコン | 液浸型露光装置 |
JP4210871B2 (ja) | 1997-10-31 | 2009-01-21 | 株式会社ニコン | 露光装置 |
WO1999027568A1 (fr) | 1997-11-21 | 1999-06-03 | Nikon Corporation | Graveur de motifs a projection et procede de sensibilisation a projection |
JP4264676B2 (ja) | 1998-11-30 | 2009-05-20 | 株式会社ニコン | 露光装置及び露光方法 |
AU2747999A (en) | 1998-03-26 | 1999-10-18 | Nikon Corporation | Projection exposure method and system |
JP2000323396A (ja) | 1999-05-13 | 2000-11-24 | Canon Inc | 露光方法、露光装置、およびデイバイス製造方法 |
WO2001035168A1 (en) | 1999-11-10 | 2001-05-17 | Massachusetts Institute Of Technology | Interference lithography utilizing phase-locked scanning beams |
JP4714403B2 (ja) | 2001-02-27 | 2011-06-29 | エーエスエムエル ユーエス,インコーポレイテッド | デュアルレチクルイメージを露光する方法および装置 |
TW529172B (en) | 2001-07-24 | 2003-04-21 | Asml Netherlands Bv | Imaging apparatus |
CN100462844C (zh) | 2002-08-23 | 2009-02-18 | 株式会社尼康 | 投影光学系统、微影方法、曝光装置及使用此装置的方法 |
SG121818A1 (en) | 2002-11-12 | 2006-05-26 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
EP1420300B1 (en) | 2002-11-12 | 2015-07-29 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
CN100568101C (zh) * | 2002-11-12 | 2009-12-09 | Asml荷兰有限公司 | 光刻装置和器件制造方法 |
EP2495613B1 (en) | 2002-11-12 | 2013-07-31 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus |
JP4423559B2 (ja) | 2002-12-03 | 2010-03-03 | 株式会社ニコン | 汚染物質除去方法 |
JP4352874B2 (ja) | 2002-12-10 | 2009-10-28 | 株式会社ニコン | 露光装置及びデバイス製造方法 |
SG10201803122UA (en) * | 2003-04-11 | 2018-06-28 | Nikon Corp | Immersion lithography apparatus and device manufacturing method |
JP2004327484A (ja) * | 2003-04-21 | 2004-11-18 | Canon Inc | ウエハチャック異物除去方法 |
TWI474380B (zh) | 2003-05-23 | 2015-02-21 | 尼康股份有限公司 | A method of manufacturing an exposure apparatus and an element |
EP2261741A3 (en) | 2003-06-11 | 2011-05-25 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7370659B2 (en) * | 2003-08-06 | 2008-05-13 | Micron Technology, Inc. | Photolithographic stepper and/or scanner machines including cleaning devices and methods of cleaning photolithographic stepper and/or scanner machines |
JP2005072404A (ja) | 2003-08-27 | 2005-03-17 | Sony Corp | 露光装置および半導体装置の製造方法 |
JP4305095B2 (ja) | 2003-08-29 | 2009-07-29 | 株式会社ニコン | 光学部品の洗浄機構を搭載した液浸投影露光装置及び液浸光学部品洗浄方法 |
WO2005031820A1 (ja) | 2003-09-26 | 2005-04-07 | Nikon Corporation | 投影露光装置及び投影露光装置の洗浄方法、メンテナンス方法並びにデバイスの製造方法 |
JP4335213B2 (ja) | 2003-10-08 | 2009-09-30 | 株式会社蔵王ニコン | 基板搬送装置、露光装置、デバイス製造方法 |
JP4295712B2 (ja) | 2003-11-14 | 2009-07-15 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置及び装置製造方法 |
EP1697798A2 (en) | 2003-12-15 | 2006-09-06 | Carl Zeiss SMT AG | Projection objective having a high aperture and a planar end surface |
WO2005059645A2 (en) | 2003-12-19 | 2005-06-30 | Carl Zeiss Smt Ag | Microlithography projection objective with crystal elements |
CN100555083C (zh) | 2003-12-23 | 2009-10-28 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 用于浸入式光刻的可除去薄膜 |
US7050146B2 (en) | 2004-02-09 | 2006-05-23 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7557900B2 (en) | 2004-02-10 | 2009-07-07 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, device manufacturing method, maintenance method, and exposure method |
US7091502B2 (en) | 2004-05-12 | 2006-08-15 | Taiwan Semiconductor Manufacturing, Co., Ltd. | Apparatus and method for immersion lithography |
KR101421915B1 (ko) | 2004-06-09 | 2014-07-22 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 |
US7489419B2 (en) * | 2004-06-15 | 2009-02-10 | Infoprint Solutions Company, Llc | Method and system for specifying halftone spot shapes |
KR101342303B1 (ko) | 2004-06-21 | 2013-12-16 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 장치 및 그 부재의 세정 방법, 노광 장치의 메인터넌스 방법, 메인터넌스 기기, 그리고 디바이스 제조 방법 |
US8698998B2 (en) | 2004-06-21 | 2014-04-15 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, method for cleaning member thereof, maintenance method for exposure apparatus, maintenance device, and method for producing device |
DE102004033208B4 (de) | 2004-07-09 | 2010-04-01 | Vistec Semiconductor Systems Gmbh | Vorrichtung zur Inspektion eines mikroskopischen Bauteils mit einem Immersionsobjektiv |
US7307263B2 (en) | 2004-07-14 | 2007-12-11 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, radiation system, contaminant trap, device manufacturing method, and method for trapping contaminants in a contaminant trap |
JP2006032750A (ja) * | 2004-07-20 | 2006-02-02 | Canon Inc | 液浸型投影露光装置、及びデバイス製造方法 |
US7224427B2 (en) | 2004-08-03 | 2007-05-29 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Megasonic immersion lithography exposure apparatus and method |
JP4772306B2 (ja) | 2004-09-06 | 2011-09-14 | 株式会社東芝 | 液浸光学装置及び洗浄方法 |
WO2006030908A1 (ja) * | 2004-09-17 | 2006-03-23 | Nikon Corporation | 基板保持装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
US7385670B2 (en) | 2004-10-05 | 2008-06-10 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, cleaning system and cleaning method for in situ removing contamination from a component in a lithographic apparatus |
JP2006120674A (ja) | 2004-10-19 | 2006-05-11 | Canon Inc | 露光装置及び方法、デバイス製造方法 |
US20060081273A1 (en) | 2004-10-20 | 2006-04-20 | Mcdermott Wayne T | Dense fluid compositions and processes using same for article treatment and residue removal |
KR101285951B1 (ko) | 2004-10-26 | 2013-07-12 | 가부시키가이샤 니콘 | 기판 처리 방법, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 |
JP2006134999A (ja) | 2004-11-04 | 2006-05-25 | Sony Corp | 液浸型露光装置、及び、液浸型露光装置における保持台の洗浄方法 |
US7362412B2 (en) | 2004-11-18 | 2008-04-22 | International Business Machines Corporation | Method and apparatus for cleaning a semiconductor substrate in an immersion lithography system |
KR101339887B1 (ko) | 2004-12-06 | 2013-12-10 | 가부시키가이샤 니콘 | 메인터넌스 방법, 메인터넌스 기기, 노광 장치, 및디바이스 제조 방법 |
US9224632B2 (en) * | 2004-12-15 | 2015-12-29 | Nikon Corporation | Substrate holding apparatus, exposure apparatus, and device fabricating method |
US7880860B2 (en) | 2004-12-20 | 2011-02-01 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP2006173527A (ja) * | 2004-12-20 | 2006-06-29 | Sony Corp | 露光装置 |
JP4551758B2 (ja) * | 2004-12-27 | 2010-09-29 | 株式会社東芝 | 液浸露光方法および半導体装置の製造方法 |
JP2006222284A (ja) * | 2005-02-10 | 2006-08-24 | Toshiba Corp | パターン形成方法、及び半導体装置の製造方法 |
JP2006310706A (ja) | 2005-05-02 | 2006-11-09 | Nikon Corp | 光学部品の洗浄方法、液浸投影露光装置および露光方法 |
US20060250588A1 (en) | 2005-05-03 | 2006-11-09 | Stefan Brandl | Immersion exposure tool cleaning system and method |
US7315033B1 (en) | 2005-05-04 | 2008-01-01 | Advanced Micro Devices, Inc. | Method and apparatus for reducing biological contamination in an immersion lithography system |
US20070085989A1 (en) | 2005-06-21 | 2007-04-19 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and exposure method, maintenance method, and device manufacturing method |
US20070002296A1 (en) | 2005-06-30 | 2007-01-04 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Immersion lithography defect reduction |
US7262422B2 (en) | 2005-07-01 | 2007-08-28 | Spansion Llc | Use of supercritical fluid to dry wafer and clean lens in immersion lithography |
JP2007029973A (ja) | 2005-07-25 | 2007-02-08 | Sony Corp | レーザ加工装置とその加工方法及びデブリ回収装置とその回収方法 |
JP4641469B2 (ja) | 2005-09-06 | 2011-03-02 | キヤノン株式会社 | 画像形成装置、画像形成装置の制御方法、プログラム |
JP2007088328A (ja) | 2005-09-26 | 2007-04-05 | Toshiba Corp | 液浸型露光装置の洗浄方法 |
JP2007103658A (ja) | 2005-10-04 | 2007-04-19 | Canon Inc | 露光方法および装置ならびにデバイス製造方法 |
US7986395B2 (en) | 2005-10-24 | 2011-07-26 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Immersion lithography apparatus and methods |
CN1963673A (zh) | 2005-11-11 | 2007-05-16 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 浸润式微影曝光设备及方法 |
JP2007142217A (ja) | 2005-11-18 | 2007-06-07 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co Ltd | イマージョン式リソグラフィ露光装置およびその方法 |
JP2007150102A (ja) | 2005-11-29 | 2007-06-14 | Fujitsu Ltd | 露光装置及び光学素子の洗浄方法 |
US8125610B2 (en) | 2005-12-02 | 2012-02-28 | ASML Metherlands B.V. | Method for preventing or reducing contamination of an immersion type projection apparatus and an immersion type lithographic apparatus |
US7462850B2 (en) | 2005-12-08 | 2008-12-09 | Asml Netherlands B.V. | Radical cleaning arrangement for a lithographic apparatus |
US7405417B2 (en) | 2005-12-20 | 2008-07-29 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus having a monitoring device for detecting contamination |
US20070146658A1 (en) | 2005-12-27 | 2007-06-28 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and method |
US7522263B2 (en) | 2005-12-27 | 2009-04-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and method |
JP4704221B2 (ja) | 2006-01-26 | 2011-06-15 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP2007227543A (ja) | 2006-02-22 | 2007-09-06 | Toshiba Corp | 液浸光学装置、洗浄方法及び液浸露光方法 |
JP2007227580A (ja) | 2006-02-23 | 2007-09-06 | Sony Corp | 液浸型露光装置および液浸型露光方法 |
JP2007266074A (ja) | 2006-03-27 | 2007-10-11 | Toshiba Corp | 半導体装置の製造方法及び液浸リソグラフィーシステム |
US8027019B2 (en) | 2006-03-28 | 2011-09-27 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP2007294817A (ja) | 2006-04-27 | 2007-11-08 | Sokudo:Kk | 基板処理方法、基板処理システムおよび基板処理装置 |
US7628865B2 (en) | 2006-04-28 | 2009-12-08 | Asml Netherlands B.V. | Methods to clean a surface, a device manufacturing method, a cleaning assembly, cleaning apparatus, and lithographic apparatus |
US7969548B2 (en) | 2006-05-22 | 2011-06-28 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and lithographic apparatus cleaning method |
JP2007317987A (ja) | 2006-05-29 | 2007-12-06 | Sokudo:Kk | 基板処理装置および基板処理方法 |
US7841352B2 (en) | 2007-05-04 | 2010-11-30 | Asml Netherlands B.V. | Cleaning device, a lithographic apparatus and a lithographic apparatus cleaning method |
US8947629B2 (en) | 2007-05-04 | 2015-02-03 | Asml Netherlands B.V. | Cleaning device, a lithographic apparatus and a lithographic apparatus cleaning method |
US7916269B2 (en) | 2007-07-24 | 2011-03-29 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and contamination removal or prevention method |
US9019466B2 (en) | 2007-07-24 | 2015-04-28 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, reflective member and a method of irradiating the underside of a liquid supply system |
NL1035942A1 (nl) | 2007-09-27 | 2009-03-30 | Asml Netherlands Bv | Lithographic Apparatus and Method of Cleaning a Lithographic Apparatus. |
-
2007
- 2007-09-06 WO PCT/JP2007/067426 patent/WO2008029884A1/ja active Application Filing
- 2007-09-06 KR KR1020097003335A patent/KR20090060270A/ko not_active Application Discontinuation
- 2007-09-06 JP JP2008533200A patent/JP5029611B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2007-09-07 US US11/851,864 patent/US7927428B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2007-09-07 TW TW096133348A patent/TW200822182A/zh unknown
-
2010
- 2010-04-07 US US12/755,860 patent/US20100195068A1/en not_active Abandoned
-
2012
- 2012-03-30 JP JP2012082672A patent/JP2012164996A/ja not_active Withdrawn
- 2012-05-07 JP JP2012106104A patent/JP2012147030A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2012164996A5 (ja) | 露光装置、デバイス製造方法、及びクリーニング方法 | |
JP2012164995A5 (ja) | 露光装置、露光方法、デバイス製造方法 | |
JP2012134552A5 (ja) | ノズル部材、露光装置、デバイス製造方法、及び露光方法。 | |
JP2014078748A5 (ja) | ||
JP2012134512A5 (ja) | 露光装置、露光装置のメンテナンス方法、露光方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2012044223A5 (ja) | ノズル部材、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2011258965A5 (ja) | 露光装置 | |
JP2010093298A5 (ja) | ||
JP2010109391A5 (ja) | ||
JP2012129566A5 (ja) | 露光装置、及びデバイス製造方法 | |
JP2012156539A5 (ja) | 露光装置、デバイス製造方法、及びクリーニング方法 | |
JP2010171453A5 (ja) | ||
JP2016053721A5 (ja) | ||
JP2012164992A5 (ja) | ||
JP2017027088A5 (ja) | ||
JP2011035429A5 (ja) | ||
ES2413186B1 (es) | Un aparato de limpieza robótico autopropulsado para la limpieza de la superficie sumergida de una piscina o un depósito | |
JP2012138624A5 (ja) | 液浸リソグラフィ装置、及び洗浄方法 | |
JP2010171451A5 (ja) | ||
JP2010183109A5 (ja) | ||
JP2010283405A5 (ja) | ノズル部材、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2012129556A5 (ja) | 露光装置、デバイス製造方法、及び露光方法。 | |
TW200717196A (en) | Immersion lithography apparatus, lithography apparatus and methods for cleaning the same | |
JP2010093302A5 (ja) | ||
JP2015528132A5 (ja) |