JP2015216369A5 - - Google Patents

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  1. 第1の回路と、第2の回路を有
    前記第1の回路は
    シリコン基板に設けられた第1のトランジスタと
    前記第1のトランジスタ上の第2のトランジスタとを有し、
    前記第2の回路は
    前記シリコン基板に設けられたフォトダイオードと、
    前記フォトダイオード上の第3のトランジスタとを有し
    記シリコン基板は第1の絶縁層を有し、
    前記第1の絶縁層は前記フォトダイオードの側面を囲むように設けられ、
    前記第1のトランジスタはp−ch型トランジスタであり
    記第2のトランジスタおよび前記第3のトランジスタは酸化物半導体を有し、
    前記フォトダイオードの下側に受光面設けられていることを特徴とする撮像装置。
  2. 請求項1において、
    前記第1のトランジスタおよび前記第2のトランジスタは、CMOS回路を構成していることを特徴とする撮像装置。
  3. 請求項1または2において、
    前記第2の回路は、第4乃至第6のトランジスタを有し、
    前記第4乃至前記第6のトランジスタは、n−ch型トランジスタであり、
    前記第4乃至前記第6のトランジスタは酸化物半導体を有し、
    前記第3のトランジスタのソースまたはドレインの一方は前記フォトダイオードのアノードまたはカソードの一方に電気的に接続され、
    前記第3のトランジスタのソースまたはドレインの他方は前記第4のトランジスタのソースまたはドレインの一方と電気的に接続され、
    前記第3のトランジスタのソースまたはドレインの他方は前記第5のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
    前記第5のトランジスタのソースまたはドレインの一方は前記第6のトランジスタのソースまたはドレインの一方と電気的に接続されていることを特徴とする撮像装置。
  4. 請求項1乃至3のいずれか一項において、
    前記酸化物半導体は、Inと、Znと、M(MはAl、Ti、Sn、Ga、Y、Zr、La、Ce、NdまたはHf)と、を有することを特徴とする撮像装置。
  5. 請求項1乃至4のいずれか一項において、
    前記シリコン基板の前記第1のトランジスタが形成された面における結晶の面方位は(110)面であることを特徴とする撮像装置。
  6. 請求項1乃至のいずれか一項に記載の撮像装置と、表示装置、操作キー、または、シャッターボタンと、を有することを特徴とする電子機器。
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