JP2011120222A5 - - Google Patents

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  1. クロック信号が入力される第1の期間と、前記クロック信号が入力されない第2の期間と、を有する論理回路であって、
    前記第2の期間に渡って、ソース端子及びドレイン端子に電位差が存在する状態でオフするトランジスタを有し、
    前記トランジスタのチャネル形成領域は、水素濃度が5×1019(atoms/cm)以下の酸化物半導体によって構成されることを特徴とする論理回路。
  2. イネーブル信号がハイレベルである第1の期間と、前記イネーブル信号がロウレベルである第2の期間と、を有する論理回路であって、
    第1の入力端子がイネーブル信号線に電気的に接続され、第2の入力端子がクロック信号線に電気的に接続されたANDゲートと、
    第1の入力端子がデータ信号線に電気的に接続され、第2の入力端子が前記ANDゲートの出力端子に電気的に接続されたフリップフロップと、を有し、
    前記フリップフロップは、前記第2の期間に渡って、ソース端子及びドレイン端子に電位差が存在する状態でオフするトランジスタを有し、
    前記トランジスタのチャネル形成領域は、水素濃度が5×1019(atoms/cm)以下の酸化物半導体によって構成されることを特徴とする論理回路。
  3. イネーブル信号がロウレベルである第1の期間と、前記イネーブル信号がハイレベルである第2の期間と、を有する論理回路であって、
    第1の入力端子がイネーブル信号線に電気的に接続され、第2の入力端子が反転クロック信号線に電気的に接続されたNORゲートと、
    第1の入力端子がデータ信号線に電気的に接続され、第2の入力端子が前記NORゲートの出力端子に電気的に接続されたフリップフロップと、を有し、
    前記フリップフロップは、前記第2の期間に渡って、ソース端子及びドレイン端子に電位差が存在する状態でオフするトランジスタを有し、
    前記トランジスタのチャネル形成領域は、水素濃度が5×1019(atoms/cm)以下の酸化物半導体によって構成されることを特徴とする論理回路。
  4. イネーブル信号がハイレベルである第1の期間と、前記イネーブル信号がロウレベルである第2の期間と、を有する論理回路であって、
    第1の入力端子がイネーブル信号線に電気的に接続され、第2の入力端子が反転クロック信号線に電気的に接続されたラッチと、
    第1の入力端子がデータ信号線に電気的に接続され、第2の入力端子が前記ラッチの出力端子に電気的に接続されたフリップフロップと、を有し、
    前記フリップフロップは、前記第2の期間に渡って、ソース端子及びドレイン端子に電位差が存在する状態でオフするトランジスタを有し、
    前記トランジスタのチャネル形成領域は、水素濃度が5×1019(atoms/cm)以下の酸化物半導体によって構成されることを特徴とする論理回路。
  5. 請求項2乃至請求項のいずれか一項において、
    前記フリップフロップがDelay型フリップフロップである論理回路。
  6. 請求項1乃至請求項5のいずれか一項において、
    前記論理回路はNチャネル型トランジスタとPチャネル型トランジスタとを有し、
    前記Pチャネル型トランジスタは、Siウェハーを用いて形成され、
    前記Nチャネル型トランジスタは、チャネル形成領域の水素濃度が5×10 19 (atoms/cm )以下の酸化物半導体を用いて形成されていることを特徴とする論理回路。
  7. 請求項1乃至請求項のいずれか一項において、
    前記論理回路と、
    前記論理回路を動作させる外部回路と、を有することを特徴とする半導体装置。
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