DK200001878A - Oximesterfotoinitiatorer - Google Patents

Oximesterfotoinitiatorer Download PDF

Info

Publication number
DK200001878A
DK200001878A DK200001878A DKPA200001878A DK200001878A DK 200001878 A DK200001878 A DK 200001878A DK 200001878 A DK200001878 A DK 200001878A DK PA200001878 A DKPA200001878 A DK PA200001878A DK 200001878 A DK200001878 A DK 200001878A
Authority
DK
Denmark
Prior art keywords
alkyl
phenyl
substituted
halogen
unsubstituted
Prior art date
Application number
DK200001878A
Other languages
English (en)
Inventor
Birbaum Jean-Luc
Oka Hidetaka
Kunimoto Kazuhiko
Kura Hisatoshi
Ohwa Masaki
Tanabe Junichi
Original Assignee
Ciba Sc Holding Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ciba Sc Holding Ag filed Critical Ciba Sc Holding Ag
Publication of DK200001878A publication Critical patent/DK200001878A/da

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D207/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D207/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D207/30—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D207/32—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D207/33—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D207/335—Radicals substituted by nitrogen atoms not forming part of a nitro radical
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C251/00—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
    • C07C251/32—Oximes
    • C07C251/50—Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups bound to carbon atoms of substituted hydrocarbon radicals
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K6/00—Preparations for dentistry
    • A61K6/80—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth
    • A61K6/884—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth comprising natural or synthetic resins
    • A61K6/887—Compounds obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C251/00—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
    • C07C251/32—Oximes
    • C07C251/62—Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified
    • C07C251/64—Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified by carboxylic acids
    • C07C251/66—Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified by carboxylic acids with the esterifying carboxyl groups bound to hydrogen atoms, to acyclic carbon atoms or to carbon atoms of rings other than six-membered aromatic rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C251/00—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
    • C07C251/32—Oximes
    • C07C251/62—Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified
    • C07C251/64—Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified by carboxylic acids
    • C07C251/68—Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified by carboxylic acids with at least one of the esterifying carboxyl groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C317/00—Sulfones; Sulfoxides
    • C07C317/26—Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton
    • C07C317/32—Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton with sulfone or sulfoxide groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the carbon skeleton
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
    • C07C323/23—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton
    • C07C323/46—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having at least one of the nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, further bound to other hetero atoms
    • C07C323/47—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having at least one of the nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, further bound to other hetero atoms to oxygen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C327/00—Thiocarboxylic acids
    • C07C327/20—Esters of monothiocarboxylic acids
    • C07C327/30—Esters of monothiocarboxylic acids having sulfur atoms of esterified thiocarboxyl groups bound to carbon atoms of hydrocarbon radicals substituted by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D209/56—Ring systems containing three or more rings
    • C07D209/80—[b, c]- or [b, d]-condensed
    • C07D209/82—Carbazoles; Hydrogenated carbazoles
    • C07D209/86—Carbazoles; Hydrogenated carbazoles with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to carbon atoms of the ring system
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D333/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
    • C07D333/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
    • C07D333/04—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom
    • C07D333/06—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D333/14—Radicals substituted by singly bound hetero atoms other than halogen
    • C07D333/20—Radicals substituted by singly bound hetero atoms other than halogen by nitrogen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D335/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
    • C07D335/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D335/10—Dibenzothiopyrans; Hydrogenated dibenzothiopyrans
    • C07D335/12—Thioxanthenes
    • C07D335/14—Thioxanthenes with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached in position 9
    • C07D335/16—Oxygen atoms, e.g. thioxanthones
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D339/00—Heterocyclic compounds containing rings having two sulfur atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D339/08—Six-membered rings
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M3/00—Printing processes to produce particular kinds of printed work, e.g. patterns
    • B41M3/003—Printing processes to produce particular kinds of printed work, e.g. patterns on optical devices, e.g. lens elements; for the production of optical devices

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Oral & Maxillofacial Surgery (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Plastic & Reconstructive Surgery (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Indole Compounds (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Pyrrole Compounds (AREA)
  • Prostheses (AREA)
  • Surgical Instruments (AREA)
  • Pens And Brushes (AREA)

Description

de eller substituerede, eller Ar, er 3,4,5-trimethoxyphenyl, phenoxyphenyl eller biphenyl, Ar2 bl.a. er
Figure DK200001878AD00021
som eventuelt er substitueret, eller er naphthyl eller anthracyl, som hver især er usub-stitueret eller substitueret, x er 2 eller 3, M,, når x er 2, eksempelvis er phenylen, naphthalen, anthracylen, som hver især eventuelt er substitueret, M,, når x er 3, er en trivalent gruppe, M2 eksempelvis er
Figure DK200001878AD00022
M3 eksempelvis er alkylen, cyclohexylen eller phenylen, n er 1-2, R3 eksempelvis er H eller alkyl, R3' bl.a. er alkyl, substitueret eller -O-afbrudt alkyl; R4 f.eks. er H eller alkyl, og R5 og Re uafhængig af hinanden bl.a. er H, alkyl eller phenyl, anvendes som fotoi-nitiatorer I fotopolymeriserbare sammensætninger især til fotoresister.
Patentkrav.
1. Forbindelser med formlerne I, II, III, IV og V
Figure DK200001878AD00031
hvori
Rt er C(4-9)cycloalkanoyl eller C(1-12)alkanoyl, som er usubstitueret eller substitueret med en eller flere halogen, phenyl eller CN, eller R, er C(4-6)alkenoyl, forudsat at dobbeltbindingen ikke er konjugeret med carbonylgruppen, eller Rt er benzoyl, som er usubstitueret eller substitueret med en eller flere C(1-6)alkyl, halogen, CN, OR3, SR4 eller NR5Re; eller Rt er C(2-6)alkoxycarbonyl, benzyloxycarbonyl; eller phenoxycarbo-nyl som er usubstitueret eller substitueret med en eller flere C(1-6)alkyl eller halogen, R2 er phenyl, som er usubstitueret eller substitueret med en eller flere C(1-6)alkyl, phenyl, halogen, OR3, SR4 eller NR5R6; eller R2 er C(1-20)alkyl eller C(2-20)alkyl eventuelt afbrudt af en eller flere -O- og/eller eventuelt substitueret med en eller flere halogen, OH, OR3, phenyl eller phenyl substitueret med OR3, SR4 eller NR5R6; eller R2 er C(3-8)cycloalkyl, C(2-20)alkanoyl; eller benzoyl, som er usubstitueret eller substitueret med en eller flere C(1-6)alkyl, phenyl, OR3, SR4 eller NR5R6; eller R2 er C(2-12)alkoxycarbonyl eventuelt afbrudt af en eller flere -O- og/eller eventuelt substitueret med en eller flere hydroxylgrupper, eller R2 er phenoxycarbonyl, som er usubstitueret eller substitueret med C(1-6)alkyl, halogen, phenyl, OR3, SR4 eller NR5R6; eller R2 er -CONRsRe, CN;
Ari er
Figure DK200001878AD00032
som hver især eventuelt er substitueret 1-4 gange med halogen, C(1-12)alkyl, C(3-8)-cycloalkyl, benzyl, OR3, SR4, SOR4, S02R4 eller NR5R6, hvori substituenterne OR3, SR4 eller NR5R6 eventuelt danner 5- eller 6-leddede ringe via grupperne R3, R4, R5 og/eller R6 med yderligere substituenter på phenylringen, idet dog (i) når SR4 er 2-SC(CH3)3 er R: ikke benzoyl; (ii) når SR4 er 2-SCH3 eller 4-SCH3 er Rt ikke 2-iodbenzoyl eller 4-meth-oxybenzoyl; (iii) NRsRs er ikke 4-N(CH3)2 eller 2-NHCO-phenyl; (iv) når NR5R6 er 2-NH2, 2-NHCOCH3, 4-NHCOCH3) 2-NHCOOCH3l er R, ikke acetyl; (v) når NR5R6 er 4-NHCO-phenyl, er R, ikke benzoyl; og (vi) når NR5RB er 4-N(CH2CH3)2, er R! ikke 3,5-bis(1,1-dimethylethyl)-4-hydroxy-benzoyl;
Figure DK200001878AD00041
eller An er eventuelt substitueret 1-3 gange med halogen, C(1-12)alkyl, C(3-8)cycloalkyl, benzyl, OR3, SOR4 eller S02R4, hvori substituenterne OR3 og/eller OR3' eventuelt danner en 6-leddet ring via grupperne R3 og/eller R3' med yderligere substituenter på phenylringen eller med et af carbonatomerne i phenylringen, idet dog (vii) når An er 2,4-dimethoxyphenyl, er Rt ikke acetyl eller benzoyl; (viii) når Ar, er 3,5-dibrom-2,4-dimethoxyphenyl, er Rt ikke chloracetyl; og (ix) når Ar, er 2,5-dimethoxyphenyl, 2-acetyloxy-3-methoxyphenyl, 2,4,5-trimeth-oxyphenyl, 2,6-diacetoxy-4-methylphenyl eller 2,6-diacetoxy-4-acetoxymeth-ylphenyl, er Ri ikke acetyl;
Figure DK200001878AD00042
eller An er som hver især er usubstitueret eller substitueret 1 til 9 gange med halogen, C(1-12)-alkyl, C(3-8)cycloalkyl; eller hver især er substitueret med phenyl eller med phenyl der er substitueret med en eller flere OR3, SR4 eller NR5R6, eller hver især er substitueret med benzyl, benzoyl, C(2-12)alkanoyl, C(2-12)alkoxycarbonyl eventuelt afbrudt af en eller flere -O- og/eller eventuelt substitueret med en eller flere hydroxylgrupper, eller som hver især er substitueret med phenoxycarbonyl, OR3, SR4, SOR4, S02R4 eller NRsRe, hvori substituenterne OR3, SR4 eller NR5R6 danner 5- eller 6-leddede ringe via grupperne R3, R4, R5 og/eller R6 med yderligere substituenter på den kondenserede aromatiske ring eller med et af carbonatomerne i den kondenserede aromatiske ring, idet dog (x) An ikke er 1-naphthyl, 2-naphthyl, 2-methoxy-1 -naphthyl, 4-methoxy-1-naphthyl, 2-hydroxy-1-naphthyl, 4-hydroxy-1-naphthyl, 1,4-diacetyloxy-2-naphthyl, 1,4,5,8-tetramethoxy-2-naphthyl, 9-phenanthryl, 9-anthryl og (xi) når An er 10-(4-chlorphenylthio)-9-anthryl, er R, ikke pivaloyl; eller An er benzoyl, naphthalencarbonyl, phenanthrencarbonyl, anthracencarbonyl eller pyrencarbonyl, som hver især er usubstitueret eller substitueret 1-9 gange med halogen, C(1-12)alkyl, C(3-8)cycloalkyl, phenyl, phenyl som er substitueret med en eller flere OR3l SR4 eller NR5R6; eller som hver især er substitueret med benzyl, benzoyl, C(1-12)alkanoyl; C(2-12)alkoxycarbonyl eventuelt afbrudt af en eller flere -O-og/eller eventuelt substitueret med en eller flere hydroxygrupper, phenoxycarbonyl, OR3, SR4i SOR4i S02R4 eller NR5R6, hvori substituenterne OR3, SR4 og NR5R6 eventuelt danner 5- eller 6-leddet ringe via grupperne R3, R4, R5 og/eller R6 med andre substituenter på den kondenserede aromatiske ring eller med et af carbonatomerne i den kondenserede aromatiske ring, idet dog (xii) når A, er benzoyl, er R! ikke acetyl, benzoyl eller 4-methylbenzoyl; (xiii) når Ai er 4-benzoyloxybenzoyl eller 4-chlormethylbenzoyl, er R4 ikke benzoyl; (xiv) når A, er 4-methylbenzoyl, 4-brombenzoyl eller 2,4-dimethylbenzoyl, er R, ikke acetyl; eller A! er 3,4,5-trimethoxyphenyl eller phenoxyphenyl; eller A4 er biphenylyl, eventuelt substitueret 1-9 gange med halogen, C(1-12)alkyl, C(4-9)cycloalkanoyl, -(CO)OR3, -(CO)NR5R6, -(CO)R8i OR3i SR4 og/eller NR5R6) hvori substituenterne C(1-12)alkyl, -(CO)R8, OR3, SR4 eller NR5R6 eventuelt danner 5- eller 6-leddede ringe via grupperne C(1-12)alkyl, R3, R4, R5, R8 og/eller R6 med yderligere substituenter på phenylringen eller med et af carbonatomerne i phenylringen, idet dog (xv) når A! er 2-biphenylyl, er Ri ikke benzoyl; eller An er
Figure DK200001878AD00061
begge eventuelt substitueret 1 til 4 gange med halogen, C(1-12)alkyl, C(3-8)cycloalkyl, benzyl, OR3, SR4 eller NR5R6, hvori substituenterne OR3, SR4 eller NR5R6 eventuelt danner 5- eller 6-leddede ringe via grupperne R3, R4, R5 og/eller R6 med yderligere substituenter på phenylringen eller med et af carbonatomerne i phenylringen eller med substituenten R8, eller Ar! er thienyl eller 1-methyl-2-pyrrolyl, forudsat at Ri er acetyl,
Figure DK200001878AD00062
Figure DK200001878AD00063
eller
Figure DK200001878AD00064
som hver især er usubstitueret eller substitueret 1 til 9 gange med halogen, C(1-12)alkyl, C(3-8)cycloalkyl, phenyl; phenyl som er substitueret med en eller flere OR3, SR4 eller NR5R6, eller som hver Især er substitueret med benzyl, benzoyl, C(2-12)alkanoyl; C(2-12)alkoxycarbonyl eventuelt afbrudt af en eller flere -O- og/eller eventuelt substitueret med en eller flere hydroxylgrupper; phenoxycarbonyl, OR3, SR4, SOR4, S02R4 eller NR5Re, hvori substituenterne OR3, SR4 eller NR5R6 eventuelt danner 5- eller 6-leddede ringe via grupperne R3, R4, R5 og/eller R6 med yderligere substituenter på den kondenserede aromatiske ring eller med et af carbonatomerne i den kondenserede aromatiske ring, idet dog (xvi) når A2 er 1-naphthyl, 2-naphthyl eller 1-hydroxy-2-naphthyl, er R2 ikke methyl, ethyl, n-propyl, butyl, phenyl eller CN; (xvii) når A2 er 2-hydroxy-1-naphthyl, 2-acetoxy-1-naphthyl, 3-phenanthryl, 9-phenanthryl eller 9-anthryl, er R2 ikke methyl; og (xiii) når Ar2 er 6-methoxy-2-naphthyl, er R, ikke (CH3)3CCO eller 4-chlorbenzoyl; x er 2 eller 3; M1f når x er 2, er
Figure DK200001878AD00071
Figure DK200001878AD00072
Figure DK200001878AD00073
eller
Figure DK200001878AD00074
som hver især eventuelt er substitueret 1 til 8 gange med halogen, C(1-12)alkyl, C(3-8)cycloalkyl; phenyl som er usubstitueret eller substitueret med en eller flere OR3, SR4 eller NR5R8, eller som hver især er substitueret med benzyl, benzoyl, C(2-12)alkanoyl; C(2-12)alkoxycarbonyl eventuelt afbrudt af en eller flere -O- og/eller eventuelt substitueret med en eller flere hydroxylgrupper, eller som hver især er substitueret med phenoxycarbonyl, OR3, SR4, SOR4, S02R4 eller NR5R6; idet dog (xix) Μί ikke er 1,3-phenylen, 1,4-phenylen, 1-acetoxy-2-methoxy-4,6-phenylen eller 1-methoxy-2-hydroxy-3,5-phenylen; M,, når x er 3, er
Figure DK200001878AD00075
eller
Figure DK200001878AD00076
som hver især eventuelt er substitueret 1 til 12 gange med halogen, C(1-12)alkyl, C(3-8)cycloalkyl; phenyl, som er usubstitueret eller substitueret med en eller flere OR3, SR4 eller NR5Re; eller som hver især er substitueret med benzyl, benzoyl, C(2-12)alkanoyl; C(2-12)alkoxycarbonyl eventuelt afbrudt af en eller flere -O- og/eller eventuelt substi- tueret med en eller flere hydroxylgrupper, eller som hver især er substitueret med phenoxycarbonyl, OR3, SR4l SOR4, S02R4 eller NRsRei M2 er
Figure DK200001878AD00081
Figure DK200001878AD00082
eller
Figure DK200001878AD00083
som hver især eventuelt er substitueret 1 til 8 gange med halogen, C(1-12)alkyl, C(3-8)cycloalkyl; phenyl som er usubstitueret eller substitueret med en eller flere OR3, SR4 eller NR5R6; eller som hver især er substitueret med benzyl, benzoyl, C(2-12)alkanoyl: C(2-12)a!koxycarbonyl eventuelt afbrudt af en eller flere -O- og/eller eventuelt substitueret med en eller flere hydroxylgrupper, eller som hver især er substitueret med phenoxycarbonyl, OR3, SR4, SOR4, S02R4 eller NR5R6; idet dog (xx) M2 ikke er
Figure DK200001878AD00084
M3 er C(1-12)alkylen, cyclohexylen, phenylen, -(C0)0-(C(2-12)alkylen)-0(C0)-, -(C0)0-(CH2CH20)n-(C0)- eller -(CO)-(C(2-12)alkylen)-(CO)-; n er 1-20; M4 er en direkte binding, -O-, -S-, -SS-, -NR3-, -(CO)-, C(1-12)alkylen, cyclohexylen, phenylen, naphthylen, C(2-12)alkylendioxy, C(2-12)alkylendisulfanyl, -(C0)0-(C(2-12)-alkylen)-O(CO)-, -(C0)0-(CH2CH20)n-(C0)- eller -(CO)-(C(2-12)alkylen)-(CO)-; eller M4 er C(4-12)alkylen eller C(4-12)lakylendioxy, som hver især eventuelt er afbrudt af 1 til 5 -O-, -S- og/eller -R3-, M5 er en direkte binding, -CH2-, -O-, -S-, -SS-, -NR3- eller -(CO)-;
Me er
Figure DK200001878AD00085
eller
Figure DK200001878AD00086
M7 er -O-, -S-, -SS- eller -NR3-; eller M7 er -0(C0)-(C(2-12)alkylen)-(C0)0-, -NR3(CO)-(C(2-12)alkylen)-(CO)NR3- eller C(2-12)alkylendioxy-, som hver især eventuelt er afbrudt af 1 til 5 -O-, -S- og/eller -NR3-; R3 er hydrogen eller C(1-20)alkyl; eller R3 er C(2-8)alkyl som er substitueret med -OH, -SH, -CN, C(3-6)alkenoxy, -OCH2CH2CN, -0CH2CH2(C0)0(C(1-4)alkyl), -O(CO)-C(1-4)alkyl, -0(C0)-phenyl, -(CO)OH eller-(C0)0(C(1-4)alkyl); eller R3 er C(2-12)alkyl som er afbrudt afen eller flere -O-, eller R3 er -(CH2CH20)n+iH, -(CH2CH20)n(C0)-C(1-8)alkyl, C(1-8)alkanoyl, C(3-12)alkenyl, C(3-6)alkenoyl, C(3-6)cycloalkyl; eller R3 er benzoyl som er usubstitueret eller substitueret med en eller flere C(1-6)alkyl, halogen, -OH eller C(1-4)alkoxy; eller R3 er phenyl eller naphthyl, som hver især er usubstitueret eller substitueret med halogen, -OH, C(1-12)alkyl, C(1-12)alkoxy eller -(CO)R7; eller R3 er phenyl-C(1-3)alkyl eller Si(C(1-6)alkyl)r(phenyl)3.r; r er 0, 1, 2 eller 3; R3' er C(1-20)alkyl; C(2-8)alkyl som er substitueret med -OH, -SH, -CN, C(3-6)alken-oxy, -OCH2CH2CN, -0CH2CH2(C0)0(C(1-4)alkyl), -0(C0)(-C(1-4)alkyl), -0(CO)-phen-yl, -(CO)OH eller -(C0)0(C(1-4)alkyl); eller R3' er C(2-12)alkyl som er afbrudt af en eller flere -0-; eller R3’ er -(CH2CH20)n+1H, -(CH2CH20)„(C0)-C(1-8)alkyl, C(2-8)alkanoyl, C(3-12)alkenyl, C(3-6)alkenoyl, C(3-8)cycloalkyl; eller R3' er benzoyl som er usubstitueret eller substitueret med en eller flere C(1-6)alkyl, halogen, -OH eller C(1-4)alkoxy; eller R3' er phenyl eller naphthyl, som hver især er usubstitueret eller substitueret med halogen, -OH, C(1-12)alkyl, C(1-12)alkoxy eller -(CO)R7; eller R3 er phenyl-C(1-3)alkyl eller Si(C(1-6)alkyl)r(phenyl)3_r; R4 er hydrogen, C(1-20)alkyl, C(3-12)alkenyl, C(3-8)cycloalkyl, phenyl-C(1-3)alkyl; C(2-8)alkyl som er substitueret med -OH, -SH, -CN, C(3-6)alkenoxy, -OCH2CH2CN, -0CH2CH2(C0)0(C(1 -4)alkyl), -0(C0)-C(1-4)alkyl, -0(C0)-phenyl, -(CO)OH eller -(C0)0(C(1-4)alkyl); eller R4 er C(2-12)alkyl som er afbrudt af en eller flere -O- eller -S-, eller R4 er -(CH2CH20)n+1H, -(CH2CH20)n(C0)-C(1-8)alkyl, C(2-8)alkanoyl, benzoyl, C(3-12)alkenyl, C(3-6)alkenoyl; eller R4 er phenyl eller naphthyl, som hver især er usubstitueret eller substitueret med halogen, C(1-12)alkyl, C(1-12)alkoxy, phenyl-C(1-3)alkyloxy, phenoxy, C(1-12)alkylsulfanyl, phenylsulfanyl, -N(C(1-12)alkyl)2, dipheny-lamino, -(CO)R7, -(CO)N(R7)2; R5 og Rø uafhængig af hinanden hver især betyder hydrogen, C(1-20)alkyl, C(2-4)hydroxyalkyl, C(2-10)alkoxyalkyl, C(3-5)alkenyl, C(3-8)cycloalkyl, phenyl-C(1-3)alkyl, C(2-8)alkanoyl, C(3-12)alkenoyl, benzoyl; eller R5 og R6 er phenyl eller naphthyl som hver især er usubstitueret eller substitueret med C(1-12)alkyl, C(1-12)alkoxy eller -(CO)R7; eller R5 og R6 sammen er C(2-6)alkylen eventuelt afbrudt af -O- eller -NR3- og/eller eventuelt substitueret med hydroxyl, C(1-4)alkoxy, C(2-4)alkanoyloxy eller benzyloxy; og R7 er hydrogen, C(1-20)alkyl; C(2-8)alkyl som er substitueret med halogen, phenyl, -OH, -SH, -CN, C(3-6)alkenoxy, -OCH2CH2CN, -0CH2CH2(C0)0(C(1-4)alkyl), -0(C0)-C(1-4)alkyl, -0(C0)-phenyl, -(CO)OH eller (C0)0(C(1-4)alkyl); eller R7 er C(2-12)alkyl som er afbrudt af en eller flere -O-, eller R7 er -(CH2CH20)n+iH, -(CH2CH20)n(C0)-C(1-8)alkyl, C(3-12)alkenyl, C(3-8)cycloalkyl; eller er phenyl eventuelt substitueret med en eller flere halogen, -OH, C(1-12)alkyl, C(1-12)alkoxy, phenoxy, C(1-12)alkylsulfanyl, phenylsulfanyl, -N(C(1-12)alkyl)2 eller diphenylamino;
Ra er C(1-12)alkyl eventuelt substitueret med en eller flere halogen, phenyl, CN, -OH, -SH, C(1-4)alkoxy, -(CO)OH eller -(C0)0(C(1-4)alkyl); eller Re er C(3-6)alkenyl; eller phenyl eventuelt substitueret med en eller flere C(1-6)alkyl, halogen, CN, OR3, SR4 eller NR5R6.
2. Forbindelser med formlerne I og II ifølge krav 1, hvori R, er C(2-6)alkoxycarbonyl eller benzyloxycarbonyl; C(1-12)alkanoyl som er usub-stitueret eller substitueret med en eller flere halogen eller phenyl; eller R, er C(4-6)alkenoyl, forudsat at dobbeltbindingen ikke er konjugeret med carbonylgruppen; eller Ri er benzoyl som er usubstitueret eller substitueret med en eller flere C(1-6)alkyl eller halogen.
An er
Figure DK200001878AD00101
eller
Figure DK200001878AD00102
som hver især eventuelt er substitueret 1 til 4 gange med halogen, C(1-12)alkyl, OR3, SR4 eller NR5R6, hvori substituenterne OR3, SR4 eller NR5R6 eventuelt danner 5- eller 6-leddede ringe via grupperne R3, R4, R5 og/eller R6 med yderligere substituenter på phenylringen eller med et af carbonatomerne i phenylringen, eller An er
Figure DK200001878AD00103
eventuelt substitueret 1 til 3 gange med halogen, C(1-12)alkyl, OR3, hvori substituenterne OR3 og/eller OR3' eventuelt danner en 6-leddet ring via grupperne R3 og/eller R3‘ med yderligere substituenter på phenylringen eller med et af carbonatomerne i phenylringen, eller An er naphthyl, som er usubstitueret eller substitueret 1 til 7 gange med halogen, C(1-12)alkyl, OR3, SR4 eller NR5R6, hvori substituenterne OR3, SR4 eller NR5R6 even- tuelt danner 5- eller 6-leddede ringe via grupperne R3l R4 og Rs og/eller R6 med yderligere substituenter på en kondenserede aromatiske ring eller med et af carbonatomer-ne i naphthylringen,
Figure DK200001878AD00111
eller An er biphenylyl, eventuelt substitueret 1 til 9 gange med halogen, C(1-12)alkyl, -(CO)R8, OR3i SR4 eller NRsRe, hvori substituenterne C(1-12)alkyl, OR3l SR4 eller NR5Re eventuelt danner 5-eller 6-leddede ringe via grupperne C(1-12)alkyl, R3, R4, R5 og/eller Re med yderligere substituenter på phenylringen eller med et af carbonato-meme i phenylringen, eller An er
Figure DK200001878AD00112
eller begge eventuelt substitueret 1 til 4 gange med halogen, C(1-12)alkyl, OR3, SR4, SOR4, S02R4 eller NRsRe, hvori substituenterne OR3, SR4 eller NR5R6 eventuelt danner 5-eller 6-leddede ringe via grupperne R3, R4, R5 og/eller R6 med yderligere substituenter på phenylringen eller med et af carbonatomerne i phenylringen eller med R8,
Mi er
Figure DK200001878AD00113
Figure DK200001878AD00114
eller
Figure DK200001878AD00115
som hver især eventuelt er substitueret 1 til 8 gange med halogen, C(1-12)alkyl, phenyl, OR3, SR4 eller NR5R6.
3. Forbindelser med formlen I eller II ifølge krav 1, hvori Ri er C(1-12)alkanoyl, benzoyl eller C(2-6)alkoxycarbonyl;
An er R4S-phenyl eller NR5R6-phenyl, som hver for sig eventuelt er substitueret med C(1-8)alkyl, OR3 eller SR4; eller An er
Figure DK200001878AD00121
eventuelt substitueret med 0R3; eller An er 1-naphthyl eller 2-naphthyl, som hver især eventuelt er substitueret med OR3, SR4 eller NR5R6; eller An er 3,4,5-trimethoxyphenyl eller phenoxyphenyl; eller An er biphenylyl, eventuelt substitueret med C(1-12)alkyl, OR3 og/eller NR5R6, hvori sub-stituenteme C(1-12)alkyl, OR3t SR4 eller NR5R6 eventuelt danner 5- eller 6-ledddede ringe via grupperne C(1-12)alkyl, R3, R,,, R5, og/eller R6 med yderligere substituenter på phenylringen eller med et af carbonatomerne i phenylringen, eller An er
Figure DK200001878AD00122
eller
Figure DK200001878AD00123
der begge eventuelt er substitueret med OR3 eller SR4i hvor substituenterne OR3 eller SR4 eventuelt danner 5- eller 6-leddede ringe via gruppen R3 og/eller med yderligere substituenter på phenylringen eller med et af carbonatomerne i phenylringen eller med substituenten R8, eller An er thienyl eller 1-methyl-2-pyrrolyl, forudsat at Ri er acetyl, x er 2, M, er
Figure DK200001878AD00124
som eventuelt er substitueret med OR3l M4 er en direkte blanding, -O-, -S-, -SS- eller C(2-12)alkylendioxy; R3 er C(1-8)alkyl, phenyl eller phenyl-C(1-3)alkyl; R3' er C(1-8)alkyl, C(3-12)alkenyl eller phenyl-C(1-3)alkyl; R4 er C(1-20)alkyl, phenyl-C(1-3)alkyl, benzoyl; eller phenyl eller naphthyl, som begge er usubstitueret eller substitueret med C(1-12)alkyl, phenyl-C(1-3)alkyloxy, -(CO)R7 eller -(CO)OR7; R5 og R6 uafhængigt af hinanden hver især betyder hydrogen, phenyl-C(1-3)alkyl, C(2-8)alkanoyl eller phenyl; R7 er C(1-20)alkyl eller phenyl;
Re er phenyl eventuelt substitueret med OR3.
4. Forbindelser med formlen III, IV eller V ifølge krav 1, hvori
Ri er C(2-6)alkoxycarbonyl eller benzyloxycarbonyl; C(1-12)alkanoyl, som er usub-stitueret eller substitueret med en eller flere halogen eller phenyl, eller R, er C(4-6)alkenoyl, forudsat at dobbeltbindingen ikke er konjugeret med carbonylgruppen, eller Ri er benzoyl, som er usubstitueret eller substitueret med en eller flere C(1-6)alkyl eller halogen, R2 er phenyl, som er usubstitueret eller substitueret med en eller flere C(1-6)alkyl, phenyl, halogen, OR3, SR4 eller NR5R6; eller R2 er C(1-20)alkyl, eventuelt afbrudt af en eller flere -O- og/eller eventuelt substitueret med en eller flere halogen, OH, OR3; phenyl eller phenyl substitueret med OR3, SR4 eller NR5R6;
Ar2 er
Figure DK200001878AD00131
Figure DK200001878AD00132
naphthyl eller naphthoyl, som hver især er usubstitueret eller substitueret 1 til 9 gange med halogen, C(1-12)alkyl, phenyl, OR3, SR4 eller NR5R6, hvori substituenterne OR3, SR4 eller NR5R6 eventuelt danner 5- eller 6-leddede ringe via grupperne R3, R4, R5 og/eller R6 med yderligere substituenter på den kondenserede aromatiske ring eller med et af carbonatomerne i naphthylringen, M2 er
Figure DK200001878AD00133
eller som hver især eventuelt er substitueret 1 til 8 gange med halogen, C(1-12)alkyl, phenyl, OR3, SR4 eller NR5R6, og M3 er C(1-12)alkylen eller phenylen.
5. Forbindelser med formlen III ifølge krav 1, hvori Ri er C(1-6)alkanoyl eller benzoyl; R2 er C(1-20)alkyl eller C(2-20)alkyl;
Ar2 er
Figure DK200001878AD00134
naphthyl eller naphthoyl, som hver især er usubstitueret eller substitueret med OR3 eller SR4, R3 og R3' er C(1-20)alkyl, og R, er phenyl.
6. Fotopolymeriserbar sammensætning indeholdende (a) mindst én ethylenisk umættet fotopolymeriserbar forbindelse og
(b) som fotoinitiator mindst én forbindelse med formlen I, II, III, IV og/eller V
Figure DK200001878AD00141
(II)
Figure DK200001878AD00142
hvori
Figure DK200001878AD00143
R er C(4-9)cycloalkanoyl, eller C(1-12)alkanoyl, som er usubstitueret eller substitueret med en eller flere halogen, phenyl eller CN, eller R er C(4-6)alkenoyl, forudsat at dobbeltbindingen ikke er konjugeret med carbonylgruppen, eller R er benzoyl, som er usubstitueret eller substitueret med en eller flere C(1-6)alkyl, halogen, CN, OR3, SR4 eller NR5Re; eller R, er C(2-6)alkoxycarbonyl, benzyloxycarbonyl; eller phenoxycarbo-nyl, som er usubstitueret eller substitueret med en eller flere C(1-6)alkyl eller halogen, R2 er phenyl, som er usubstitueret eller substitueret med en eller flere C(1-6)alkyl, phenyl, halogen, OR3, SR4 eller NRsRei eller R2 er C(1-20)alkyl eller C(2-20)alkyl eventuelt afbrudt af en eller flere -O- og/eller eventuelt substitueret med en eller flere halogen, OH, OR3, phenyl eller phenyl substitueret med OR3, SR4 eller NR5R6; eller R2 er C(3-8)cycloalkyl, C(2-20)alkanoyl; eller benzoyl, som er usubstitueret eller substitueret med en eller flere C(1-6)alkyl, phenyl, OR3, SR4 eller NR5R6; eller R2 er C(2-12)alkoxycarbonyl eventuelt afbrudt af en eller flere -O- og/eller eventuelt substitueret med en eller flere hydroxylgrupper, eller R2 er phenoxycarbonyl, som er usubstitueret eller substitueret med C(1-6)alkyl, halogen, phenyl, OR3, SR4 eller NR5R6; eller R2 er -CONR5R6, CN;
An er
Figure DK200001878AD00144
eller som hver især eventuelt er substitueret 1-4 gange med halogen, C(1-12)alkyl, C(3-8)-cycloalkyl, benzyl, OR3, SR4l SOR4, S02R4 eller NRSR6, hvori substituenteme OR3l SR4 eller NR5R6 eventuelt danner 5- eller 6-leddede ringe via grupperne R3l R4, R5 og/eller R6 med yderligere substituenter på phenylringen eller med et af carbonato-merne i phenylringen; eller
An er
Figure DK200001878AD00151
Figure DK200001878AD00152
eventuelt substitueret 1-3 gange med halogen, C(1-12)alkyl, C(3-8)cycloalkyl, benzyl, OR3, SOR4 eller S02R4, hvori substituenteme OR3 og/eller OR3' eventuelt danner en 6-leddet ring via grupperne R3 og/eller R3 med yderligere substituenter på phenylringen eller med et af carbonatomerne i phenylringen, eller
An er
Figure DK200001878AD00153
eller som hver især er usubstitueret eller substitueret 1 til 9 gange med halogen, C(1-12)-alkyl, C(3-8)cycloalkyl; eller hver især er substitueret med phenyl eller phenyl der er substitueret med en eller flere OR3l SR4 eller NR5R6, eller hver især er substitueret med benzyl, benzoyl, C(2-12)alkanoyl; C(2-12)alkoxycarbonyl eventuelt afbrudt afen eller flere -O- og/eller eventuelt substitueret med en eller flere hydroxylgrupper, eller som hver især er substitueret med phenoxycarbonyl, OR3, SR4, SOR4, S02R4 eller NR5R6, hvori substituenteme OR3, SR4 eller NR5R6 danner 5- eller 6-leddede ringe via grupperne R3, R4 og/eller R6 med yderligere substituenter på den kondenserede aromatiske ring eller med et af carbonatomerne i den kondenserede aromatiske ring, eller Aner benzoyl, naphthalencarbonyl, phenanthrencarbonyl, anthracencarbonyl eller pyrencarbonyl, som hver især er usubstitueret eller substitueret 1-9 gange med halogen, C(1-12)alkyl, C(3-8)cycloalkyl, phenyl, phenyl som er substitueret med en eller flere OR3, SR4 eller NR5R6; eller som hver især er substitueret med benzyl, benzoyl, C(2-12)alkanoyl; C(2-12)alkoxycarbonyl eventuelt afbrudt af en eller flere -O- og/eller eventuelt substitueret med en eller flere hydroxygrupper, phenoxycarbonyl, OR3, SR4, SOR4, S02R4 eller NR5R6, hvori substituenteme OR3, SR4 og NR5R6 eventuelt danner 5- eller 6-leddet ringe via grupperne R3, R4, R5 og/eller R6 med yderligere substituenter på den kondenserede aromatiske ring eller med et af carbonatomerne på den kondenserede aromatiske ring, idet dog når A1 er 4-benzoyloxybenzoyl, er Ri ikke benzoyl; eller A1 er 3,4,5-trimethoxyphenyl eller phenoxyphenyl; eller A1 er biphenylyl, eventuelt substitueret 1-9 gange med halogen, C(1-12)alkyl, C(4-9)cycloalkanoyl, -(CO)OR3l -(CO)NR5R6, -(CO)R8, OR3, SR4 og/eller NR5R8, hvori substituenterne C(1-12)alkyl, -(CO)R8, OR3i SR4 eller NR5R6 eventuelt danner 5- eller 6- leddede ringe via grupperne C(1-12)alkyl, R3, R4> R5, R8 og/eller R6 med yderligere substituenter på phenylringen eller med et af carbonatomerne i phenylringen, eller Ar, er
Figure DK200001878AD00161
eller
Figure DK200001878AD00162
begge eventuelt substitueret 1 til 4 gange med halogen, C(1-12)alkyl, C(3-8)cycloalkyl, benzyl, OR3, SR4 eller NR5R6, hvori substituenterne OR3, SR4 eller NR5R6 eventuelt danner 5- eller 6-leddede ringe via grupperne R3, R4, R5 og/eller R6 med yderligere substituenter på phenylringen eller med et af carbonatomerne i phenylringen eller med substituenten R8, eller An er 3,4,5-trimethoxyphenyl eller phenoxyphenyl; eller An er thienyl eller 1-methyl-2-pyrrolyl, forudsat at R, er acetyl,
Figure DK200001878AD00163
Figure DK200001878AD00164
eller
Figure DK200001878AD00165
som hver især er usubstitueret eller substitueret 1 til 9 gange med halogen, C(1-12)-aikyl, C(3-8)cycloalkyl, phenyl; phenyl som er substitueret med en eller flere OR3, SR4 eller NR5R6, eller som hver især er substitueret med benzyl, benzoyl, C(2-12)alkanoyl; C(2-12)alkoxycarbonyl eventuelt afbrudt af en eller flere -O- og/eller eventuelt substitueret med en eller flere hydroxylgrupper; phenoxycarbonyl, OR3, SR4, SOR4, S02R4 eller NR5R6, hvori substituenterne OR3, SR4 eller NR5R6 eventuelt danner 5- eller 6- leddede ringe via grupperne R3, R4, R5 og/eller Re med yderligere substituenter på den kondenserede aromatiske ring eller med et af carbonatomerne i den kondenserede aromatiske ring,
Figure DK200001878AD00171
idet dog når Ar2 er 1-naphthyl eller 2-naphthyl, er R2 ikke methyl eller phenyl, x er 2 eller 3;
Mn, når x er 2, er
Figure DK200001878AD00172
Figure DK200001878AD00173
r
Figure DK200001878AD00174
som hver især eventuelt er substitueret 1 til 8 gange med halogen, C(1-12)alkyl, C(3-8)cycloalkyl; phenyl som er usubstitueret eller substitueret med en eller flere OR3, SR4 eller NR5R6, eller som hver især er substitueret med benzyl, benzoyl, C(2-12)alkanoyl; C(2-12)alkoxycarbonyl eventuelt afbrudt af en eller flere -O- og/eller eventuelt substitueret med en eller flere hydroxylgrupper, eller som hver især er substitueret med phenoxycarbonyl, OR3, SR4, SOR4, S02R4 eller NR5R6; idet dog Mt ikke er 1,3-phenylen, 1,4-phenylen, 1-acetoxy-2-methoxy-4,6-phenylen eller 1-methoxy-2-hydroxy-3,5-phenylen; M,, når x er 3, er
Figure DK200001878AD00175
eller
Figure DK200001878AD00176
som hver især eventuelt er substitueret 1 til 12 gange med halogen, C(1-12)alkyl, C(3-8)cycloalkyl; phenyl som er usubstitueret eller substitueret med en eller flere OR3, SR4 eller NR5R6; eller som hver især er substitueret med benzyl, benzoyl, C(2-12)alkanoyl; C(2-12)alkoxycarbonyl eventuelt afbrudt af en eller flere -O- og/eller eventuelt substitueret med en eller flere hydroxylgrupper, eller som hver især er substitueret med phenoxycarbonyl, OR3, SR4, SOR4, S02R4 eller NR5R6; M2 er
Figure DK200001878AD00181
Figure DK200001878AD00182
eller
Figure DK200001878AD00183
som hver især er substitueret 1 til 8 gange med halogen, C(1-12)alkyl, C(3-8)cycloalkyl; phenyl som er usubstitueret eller substitueret med en eller flere OR3, SR4 eller NR5R6; eller som hver især er substitueret med benzyl, benzoyl, C(2-12)alkanoyl: C(2-12)alkoxycarbonyl eventuelt afbrudt af en eller flere -O- og/eller eventuelt substitueret med en eller flere hydroxylgrupper, eller som hver især er substitueret med phenoxycarbonyl, OR3, SR4, SOR4, S02R4 eller NR5R6; M3 er C(1-12)alkylen, cyclohexylen, phenylen, -(C0)0-(C(2-12)alkylen)-0(C0)-, -(C0)0-(CH2CH20)n-(C0)- eller -(CO)-(C(2-12)alkylen)-(CO)-; n er 1-20; M4 er en direkte binding, -O-, -S-, -SS-, -NR3-, -(CO)-, C(1-12)alkylen, cyclohexylen, phenylen, naphthylen, C(2-12)alkylendioxy, C(2-12)alkylendisulfanyl, -(C0)0-(C(2-12)-alkylen)-O(CO)-, -(C0)0-(CH2CH20)n-(C0)- eller -(CO)-(C(2-12)alkylen)-(CO)-; eller M4 er C(4-12)alkylen eller C(4-12)lakylendioxy, som hver især eventuelt afbrudt af 1 til 5 -O-, -S- og/eller -R3-, M5 er en direkte binding, -CH2-, -O-, -S-, -SS-, -NR3-eller -(CO)-; M6 er
Figure DK200001878AD00184
eller
Figure DK200001878AD00185
M7 er -O-, -S-, -SS- eller -NR3-; eller M7 er -0(C0)-(C(2-12)alkylen)-(C0)0-, -NR3(CO)-(C(2-12)alkylen)-(CO)NR3 eller C(2-12)alkylendioxy-, som hver især eventuelt er afbrudt af 1 til 5 -O-, -S- og/eller -NR3-; R3 er hydrogen eller C(1-20)alkyl; eller R3 er C(2-8)alkyl som er substitueret med -OH, -SH, -CN, C(3-6)alkenoxy, -OCH2CH2CN, -0CH2CH2(C0)0(C(1-4)alkyl), -O(CO)-C(1-4)alkyl, -0(C0)-phenyl, -(CO)OH eller -(C0)0(C(1-4)alkyl); eller R3 er C(2-12)alkyl som er afbrudt afen eller flere -O-, eller R3 er -(CH2CH20)n+iH, -(CH2CH20)n(C0)-C(1-8)alkyl, C(1-8)alkanoyl, C(3-12)alkenyl, C(3-6)alkenoyl, C(3-6)cycloalkyl; eller R3 er benzoyl som er usubstitueret eller substitueret med en eller flere C(1-6)alkyl, halogen, -OH eller C(1-4)alkoxy; eller R3 er phenyl eller naphthyl, som hver især er usubstitueret eller substitueret med halogen, -OH, C(1-12)alkyl, C(1-12)alkoxy eller -(CO)R7; eller R3 er phenyl-C(1-3)alkyl eller Si(C(1-6)alkyl)r(phenyl)3.r; r er 0, 1, 2 eller 3; R3' er C(1-20)alkyl; C(2-8)alkyl som er substitueret med -OH, -SH, -CN, C(3-6)alken-oxy, -OCH2CH2CN, -0CH2CH2(C0)0(C(1-4)alkyl), -0(C0)(-C(1-4)alkyl), -0(C0)-phen-yl, -(CO)OH eller -(C0)0(C(1-4)alkyl); eller R3' er C(2-12)alkyl som er afbrudt af en eller flere -0-; eller R3' er -(CH2CH20)n+iH, -(CH2CH20)n(C0)-C(1-8)alkyl, C(2-8)alkanoyl, C(3-12)alkenyl, C(3-6)alkenoyl, C(3-8)cycloalkyl; eller R3' er benzoyl som er usubstitueret eller substitueret med en eller flere C(1-6)alkyl, halogen, -OH eller C(1-4)alkoxy; eller R3' er phenyl eller naphthyl, som hver især er usubstitueret eller substitueret med halogen, -OH, C(1-12)alkyl, C(1-12)alkoxy eller -(CO)R7; eller R3 er phenyl-C(1-3)alkyl eller Si(C(1-6)alkyl)r(phenyl)3.r; R4 er hydrogen, C(1-20)alkyl, C(3-12)alkenyl, C(3-8)cycloalkyl, phenyl-C(1-3)alkyl; C(2-8)alkyl som er substitueret med -OH, -SH, -CN, C(3-6)alkenoxy, -OCH2CH2CN, -0CH2CH2(C0)0(C(1 -4)alkyl), -0(C0)-C(1-4)alkyl, -0(C0)-phenyl, -(CO)OH eller -(C0)0(C(1-4)alkyl); eller R4 er C(2-12)alkyl som er afbrudt af en eller flere -O- eller -S-, eller R4 er -(CH2CH20)n+1H, -(CH2CH20)n(C0)-C(1-8)alkyl, C(2-8)alkanoyl, benzoyl, C(3-12)alkenyl, C(3-6)alkenoyl; eller R4 er phenyl eller naphthyl, som hver især er usubstitueret eller substitueret med halogen, C(1-12)alkyl, C(1-12)alkoxy, phenyl-C(1-3)alkyloxy, phenoxy, C(1-12)alkylsulfanyl, phenylsulfanyl, -N(C(1-12)alkyl)2, dipheny-lamino, -(CO)R7, -(CO)OR7 eller -(CO)N(R7)2; R5 og R6 uafhængig af hinanden hver især betyder hydrogen, C(1-20)alkyl, C(2-4)hydroxyalkyl, C(2-10)alkoxyalkyl, C(3-5)alkenyl, C(3-8)cycloalkyl, phenyl-C(1-3)alkyl, C(2-8)alkanoyl, C(3-12)alkenoyl, benzoyl; eller R5 og R6 er phenyl eller naphthyl som hver især er usubstitueret eller substitueret med C(1-12)alkyl, C(1-12)alkoxy eller -(CO)R7; eller R5 og R6 sammen er C(2-6)alkylen eventuelt afbrudt af -O- eller -NR3- og/eller eventuelt substitueret med hydroxyl, C(1-4)alkoxy, C(2-4)alkanoyloxy eller benzoyloxy; og R7 er hydrogen, C(1-20)alkyl; C(2-8)alkyl som er substitueret med halogen, phenyl, -OH, -SH, -CN, C(3-6)alkenoxy, -OCH2CH2CN, -0CH2CH2(C0)0(C(1-4)alkyl), -0(C0)-C( 1 -4)alkyl, -0(C0)-phenyl, -(CO)OH eller (C0)0(C(1-4)alkyl); eller R7 er C(2-12)alkyl som er afbrudt af en eller flere -O-, eller R7 er -(CH2CH20)n+iH, -(CH2CH20)n(C0)-C(1 -8)alkyl, C(3-12)alkenyl, C(3-8)cycloalkyl; eller er phenyl eventuelt substitueret med en eller flere halogen, -OH, C(1-12)alkyl, C(1-12)alkoxy, phenoxy, C(1-12)alkylsulfanyl, phenylsulfanyl, -N(C(1-12)alkyl)2 eller diphenylamino;
Re er C(1-12)alkyl eventuelt substitueret med en eller flere halogen, phenyl, CN, -OH, -SH, C(1-4)alkoxy, -(CO)OH eller-(C0)0(C(1-4)alkyl); eller Re er C(3-6)alkenyl; eller phenyl eventuelt substitueret med en eller flere C(1-6)alkyl, halogen, CN, 0R3, SR4 eller NRSR6.
7. Fotopolymeriserbar sammensætning ifølge krav 6, som foruden fotoinitiatoren (b) indeholder mindst én yderligere fotoinitiator (c) og/eller andre additiver (d).
8. Fotopolymeriserbar sammensætning ifølge et hvilket som helst af kravene 6-7, indeholdende 0,05-25 vægt% af fotoinitiatoren (b), eller fotoinitiatorerne (b) og (c), beregnet på sammensætningen.
9. Fotopolymeriserbar sammensætning ifølge krav 7 eller 8, der som yderligere additiv (d) indeholder en fotosensibilisator, især en forbindelse valgt fra gruppen bestående af benzophenon og dets derivater, thioxanthon og dets derivater, anthraquinon og dets derivater eller cumarin og dets derivater.
10. Fotopolymeriserbar sammensætning ifølge et hvilket som helst af kravene 6-9, der yderligere indeholder en binderpolymer (e), især en copolymer af methacrylat og methacrylsyre.
11. Fremgangsmåde til fotopolymerisation af forbindelser indeholdende ethylenisk umættede dobbeltbindinger, ved hvilken en sammensætning ifølge et hvilket som helst af kravene 6-10 bestråles med elektromagnetisk stråling i området fra 150 til 600 nm eller med elektronstråler eller røntgenstråler.
12. Anvendelse en sammensætning ifølge et hvilket som helst af kravene 6-10 til fremstilling af pigmenterede og upigmenterede malinger og lakker, pulverovertræk, trykfarver, trykplader, klæbemidler, dentalmaterialer, fotoresister til elektroniske pro dukter såsom elektropletteringsresister, ætseresister, såvel flydende som tørne film, lodderesister, som resister til fremstilling af farvefiltre til forskellige display-anvendelser eller til dannelse af strukturer i fremstillingsprocesserne for plasmadisplay-paneler, elektroluminiscensdisplay og LCD, som sammensætning til indkapsling af elektriske og elektroniske komponenter, til fremstilling af magnetiske registreringsmaterialer, mi-kromekaniske dele, bølgeledere, optiske kontakter, pletteringsmasker, ætsemasker, farvesikringssystemer, overtræk til glasfiberkabler, skabelontrykstencils, til fremstilling af tredimensionelle genstande ved hjælp af stereolitografi og som billedregi-streringsmateriale, især til holografiske optagelser, mikroelektroniske kredsløb, affarvningsmaterialer, affarvningsmaterialer til billedregistreringsmaterialer, til billedregi-streringsmaterialer under anvendelse af mikrokapsler.
13. Fremgangsmåde ifølge krav 11 til fremstilling af pigmenterede og upigmenterede malinger og lakker, pulverovertræk, trykfarver, trykplader, klæbestoffer, dentalmaterialer, fotoresister til elektroniske produkter såsom elektropletteringsresist, ætseresist, både flydende og tørre film, lodderesist, som resist til fremstilling af farvefiltre til forskellige display-anvendelser eller til frembringelse af strukturer i produktionsprocesserne for plasmadisplay-paneler, elektroluminiscensdisplay og LCD, kompositsam-mensætninger, resister, herunder fotoresister, farvefiltermaterialer, sammensætninger til indkapsling af elektriske og elektroniske komponenter, til fremstilling af magnetisk registreringsmateriale, mikromekaniske dele, bølgeiedere, optiske kontakter, pletteringsmasker, ætsemasker, farvesikringssystemer, overtræk til glasfiberkabler, skabelontrykstencils, til fremstilling af tredimensionelle genstande ved hjælp af mikrolito-grafi, plettering, stereolitografi, til fremstilling af billedregistreringsmaterialer, især til holografiske optagelser, mikroelektroniske kredeløb, affarvningsmaterialer til billedregistreringsmaterialer under anvendelse af mikrokapsler.
14. Overtrukket substrat, som er overtrukket på mindst én overflade med en sammensætning ifølge krav 6.
15. Fremgangsmåde til den fotografiske produktion af reliefbilleder, ved hvilken et overtrukket substrat ifølge krav 14 underkastes billedvis eksponering, hvorefter de ueksponerede dele fjernes med en fremkalder.
16. Farvefilter fremstillet ved tilvejebringelse af røde, grønne og blå billedelementer og en sort matriks, alle omfattende en fotofølsom resin og et pigment på et transparent substrat, og tilvejebringelse af en transparent elektrode enten på overfladen af substratet eller på overfladen af farvefilterlaget, hvor den fotofølsomme resin omfatter en polyfunktionel acrylatmonomer, en organisk polymerbinder og en fotopolymerisati-onsinitiator med formlen I, II, III, IV eller V ifølge krav 1.
DK200001878A 1999-12-15 2000-12-14 Oximesterfotoinitiatorer DK200001878A (da)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP99811160 1999-12-15
EP99811160 1999-12-15
EP00810629 2000-07-17
EP00810629 2000-07-17

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DK200001878A true DK200001878A (da) 2001-06-16

Family

ID=26073957

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DK200001878A DK200001878A (da) 1999-12-15 2000-12-14 Oximesterfotoinitiatorer

Country Status (21)

Country Link
US (2) US6949678B2 (da)
JP (1) JP5289649B2 (da)
KR (1) KR100680729B1 (da)
CN (1) CN1252042C (da)
AT (1) AT500127A1 (da)
AU (1) AU782837B2 (da)
BE (1) BE1013872A5 (da)
BR (1) BR0006379A (da)
CA (1) CA2328376A1 (da)
CH (1) CH694731A5 (da)
CZ (1) CZ20004636A3 (da)
DE (1) DE10061947A1 (da)
DK (1) DK200001878A (da)
ES (1) ES2177438B1 (da)
FI (1) FI20002730A (da)
FR (1) FR2802528A1 (da)
GB (1) GB2358017B (da)
IT (1) IT1319688B1 (da)
MY (1) MY120488A (da)
NL (1) NL1016815C2 (da)
SE (1) SE522774C2 (da)

Families Citing this family (248)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999038035A1 (fr) * 1996-07-22 1999-07-29 Maikurooputo Co., Ltd. Procede de fabrication d'une mini-lentille plate et mince; mini-lentille ainsi produite
SG77689A1 (en) * 1998-06-26 2001-01-16 Ciba Sc Holding Ag New o-acyloxime photoinitiators
SG97168A1 (en) * 1999-12-15 2003-07-18 Ciba Sc Holding Ag Photosensitive resin composition
JP2001188107A (ja) * 1999-12-28 2001-07-10 Seiko Epson Corp マイクロレンズ基板の製造方法、マイクロレンズ基板、液晶パネル用対向基板、液晶パネルおよび投射型表示装置
ATE446322T1 (de) * 2001-06-11 2009-11-15 Basf Se Oxim ester photoinitiatoren mit kombinierter struktur
KR100453921B1 (ko) * 2001-06-21 2004-10-20 주식회사 엘지화학 광활성 알독심 에스테르계 화합물 및 이를 포함하는감광성 조성물
EP1331518A3 (en) * 2002-01-24 2004-04-07 JSR Corporation Radiation sensitive composition for forming an insulating film, insulating film and display device
TW200403523A (en) 2002-03-22 2004-03-01 Shinetsu Chemical Co Photoacid generators, chemically amplified resist compositions, and patterning process
DE10237950A1 (de) * 2002-08-20 2004-03-11 Tesa Ag UV-initiiert thermisch vernetzte Acrylathaftklebemassen
TW200714651A (en) * 2002-10-28 2007-04-16 Mitsubishi Chem Corp Photopolymerization composition and color filter using the same
US20050215656A1 (en) * 2002-11-28 2005-09-29 Taiyo Ink Manufacturing Co., Ltd. Photocurable and thermosetting resin composition and printed circuit boards made by using the same
JP4769461B2 (ja) * 2002-12-03 2011-09-07 チバ ホールディング インコーポレーテッド ヘテロ芳香族基を有するオキシムエステル光開始剤
JP4317375B2 (ja) * 2003-03-20 2009-08-19 株式会社日立製作所 ナノプリント装置、及び微細構造転写方法
JP4431336B2 (ja) * 2003-04-09 2010-03-10 株式会社日本触媒 樹脂組成物、光学フィルターおよびプラズマディスプレー
WO2004104051A1 (en) * 2003-05-26 2004-12-02 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Bimolecular photoinitiator systems
JP4106438B2 (ja) * 2003-06-20 2008-06-25 独立行政法人産業技術総合研究所 多層微細配線インターポーザおよびその製造方法
TW200519535A (en) * 2003-11-27 2005-06-16 Taiyo Ink Mfg Co Ltd Hardenable resin composition, hardened body thereof, and printed circuit board
US6960419B2 (en) * 2003-12-12 2005-11-01 Kodak Polychrome Graphics Llc Antihalation dye for negative-working printing plates
JP2005215147A (ja) * 2004-01-28 2005-08-11 Fuji Photo Film Co Ltd 重合性組成物
US7011529B2 (en) * 2004-03-01 2006-03-14 Anritsu Company Hermetic glass bead assembly having high frequency compensation
US20050253917A1 (en) * 2004-05-13 2005-11-17 Quanyuan Shang Method for forming color filters in flat panel displays by inkjetting
JP5140903B2 (ja) * 2004-07-02 2013-02-13 三菱化学株式会社 着色樹脂組成物、カラーフィルタ及び液晶表示装置
KR100633235B1 (ko) * 2004-07-05 2006-10-11 주식회사 엘지화학 패턴드 스페이서를 구비하는 디스플레이 패널
US20060021647A1 (en) * 2004-07-28 2006-02-02 Gui John Y Molecular photovoltaics, method of manufacture and articles derived therefrom
CA2575046A1 (en) * 2004-08-18 2006-02-23 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Oxime ester photoinitiators
JP3992725B2 (ja) * 2004-08-20 2007-10-17 株式会社Ａｄｅｋａ オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤
WO2006043638A1 (ja) * 2004-10-20 2006-04-27 Mitsubishi Chemical Corporation 感光性組成物、画像形成材料、画像形成材、及び画像形成方法
US7625063B2 (en) * 2004-11-04 2009-12-01 Applied Materials, Inc. Apparatus and methods for an inkjet head support having an inkjet head capable of independent lateral movement
US20060093751A1 (en) * 2004-11-04 2006-05-04 Applied Materials, Inc. System and methods for inkjet printing for flat panel displays
US20060092218A1 (en) * 2004-11-04 2006-05-04 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for inkjet printing
US7413272B2 (en) * 2004-11-04 2008-08-19 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for precision control of print head assemblies
JP3798008B2 (ja) * 2004-12-03 2006-07-19 旭電化工業株式会社 オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤
JP5421533B2 (ja) 2004-12-22 2014-02-19 チバ ホールディング インコーポレーテッド 強接着性コーティングの製造方法
US20060185587A1 (en) * 2005-02-18 2006-08-24 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for reducing ink conglomerates during inkjet printing for flat panel display manufacturing
JP4420226B2 (ja) 2005-02-18 2010-02-24 信越化学工業株式会社 化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
TWI332122B (en) 2005-04-06 2010-10-21 Shinetsu Chemical Co Novel sulfonate salts and derivatives, photoacid generators, resist compositions and patterning process
JP4533800B2 (ja) * 2005-05-31 2010-09-01 東洋インキ製造株式会社 感光性着色組成物およびカラーフィルタ
JP4627227B2 (ja) * 2005-06-22 2011-02-09 東京応化工業株式会社 感光性組成物およびブラックマトリクス
KR100939416B1 (ko) * 2005-07-13 2010-01-28 다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤 흑색 페이스트 조성물, 및 그것을 이용한 블랙 매트릭스패턴의 형성 방법 및 그의 블랙 매트릭스 패턴
JP4834665B2 (ja) * 2005-07-13 2011-12-14 太陽ホールディングス株式会社 銀ペースト組成物、及びそれを用いた導電性パターンの形成方法、並びにその導電性パターン
US20070015847A1 (en) * 2005-07-15 2007-01-18 Applied Materials, Inc. Red printing ink for color filter applications
US7544723B2 (en) * 2005-07-15 2009-06-09 Applied Materials, Inc. Blue printing ink for color filter applications
TWI428937B (zh) 2005-08-12 2014-03-01 Cambrios Technologies Corp 以奈米線為主之透明導體
TW200728379A (en) * 2005-09-06 2007-08-01 Taiyo Ink Mfg Co Ltd Resin composition, cured product of the same, and printed circuit board made of the same
US20070070109A1 (en) * 2005-09-29 2007-03-29 White John M Methods and systems for calibration of inkjet drop positioning
JP4650212B2 (ja) * 2005-10-31 2011-03-16 東洋インキ製造株式会社 光重合性組成物
EP1780199B1 (en) * 2005-10-31 2012-02-01 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Novel fluorohydroxyalkyl sulfonate salts and derivatives, photoacid generators, resist compositions, and patterning process
EP1780198B1 (en) * 2005-10-31 2011-10-05 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Novel fluorosulfonyloxyalkyl sulfonate salts and derivatives, photoacid generators, resist compositions, and patterning process
JP4650211B2 (ja) * 2005-10-31 2011-03-16 東洋インキ製造株式会社 光重合性組成物
KR100763744B1 (ko) * 2005-11-07 2007-10-04 주식회사 엘지화학 옥심 에스테르를 포함하는 트리아진계 광활성 화합물
EP2172455B1 (en) * 2005-12-01 2011-01-19 Basf Se Oxime ester photoinitiators
KR100814232B1 (ko) * 2005-12-01 2008-03-17 주식회사 엘지화학 옥심 에스테르를 포함하는 트리아진계 광활성 화합물을포함하는 착색 감광성 조성물
KR101351286B1 (ko) * 2005-12-20 2014-02-17 시바 홀딩 인크 옥심 에스테르 광개시제
CN101341172B (zh) * 2005-12-20 2013-01-16 西巴控股有限公司 肟酯光引发剂
US8614037B2 (en) 2006-01-17 2013-12-24 Fujifilm Corporation Dye-containing negative working curable composition, color filter and method of producing thereof
US7923057B2 (en) 2006-02-07 2011-04-12 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for reducing irregularities in color filters
CN101024624B (zh) * 2006-02-24 2013-09-11 富士胶片株式会社 肟衍生物、可光聚合的组合物、滤色片及其制造方法
US8293436B2 (en) * 2006-02-24 2012-10-23 Fujifilm Corporation Oxime derivative, photopolymerizable composition, color filter, and process for producing the same
JP4584164B2 (ja) * 2006-03-08 2010-11-17 富士フイルム株式会社 感光性組成物、感光性フィルム、永久パターン形成方法、及びプリント基板
TWI412576B (zh) 2006-04-06 2013-10-21 Showa Denko Kk Transparent conductive substrate
KR101063048B1 (ko) 2006-04-13 2011-09-07 다이요 홀딩스 가부시키가이샤 알칼리 현상형 솔더 레지스트, 그의 경화물 및 그것을 이용하여 얻어지는 인쇄 배선판
JP4827088B2 (ja) * 2006-04-13 2011-11-30 太陽ホールディングス株式会社 アルカリ現像型ソルダーレジスト及びその硬化物並びにそれを用いて得られるプリント配線板
TWI403840B (zh) 2006-04-26 2013-08-01 Fujifilm Corp 含染料之負型硬化性組成物、彩色濾光片及其製法
JP4548616B2 (ja) 2006-05-15 2010-09-22 信越化学工業株式会社 熱酸発生剤及びこれを含むレジスト下層膜材料、並びにこのレジスト下層膜材料を用いたパターン形成方法
JP4711886B2 (ja) * 2006-05-26 2011-06-29 富士フイルム株式会社 感光性組成物、感光性フィルム及びプリント基板
JP5124806B2 (ja) * 2006-06-27 2013-01-23 信越化学工業株式会社 光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法
JP5124805B2 (ja) * 2006-06-27 2013-01-23 信越化学工業株式会社 光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法
US20080022885A1 (en) * 2006-07-27 2008-01-31 Applied Materials, Inc. Inks for display device manufacturing and methods of manufacturing and using the same
US20080030562A1 (en) * 2006-08-02 2008-02-07 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for improved ink for inkjet printing
JP2008064890A (ja) * 2006-09-05 2008-03-21 Fujifilm Corp 感光性組成物、感光性フィルム、永久パターン形成方法、及びプリント基板
JP4586783B2 (ja) * 2006-09-22 2010-11-24 東洋インキ製造株式会社 感光性着色組成物およびカラーフィルタ
KR101035742B1 (ko) 2006-09-28 2011-05-20 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 신규 광산 발생제 및 이것을 이용한 레지스트 재료 및 패턴형성 방법
CN102324462B (zh) 2006-10-12 2015-07-01 凯博瑞奥斯技术公司 基于纳米线的透明导体及其应用
US8018568B2 (en) 2006-10-12 2011-09-13 Cambrios Technologies Corporation Nanowire-based transparent conductors and applications thereof
JP5030527B2 (ja) * 2006-10-20 2012-09-19 株式会社Ａｄｅｋａ オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤
JP4874767B2 (ja) * 2006-11-09 2012-02-15 富士フイルム株式会社 感光性組成物、感光性フィルム、永久パターン形成方法、及びプリント基板
US7838197B2 (en) * 2006-11-15 2010-11-23 Taiyo Ink Mfg. Co., Ltd. Photosensitive composition
US7803420B2 (en) * 2006-12-01 2010-09-28 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for inkjetting spacers in a flat panel display
JP4355725B2 (ja) 2006-12-25 2009-11-04 信越化学工業株式会社 ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
KR100910103B1 (ko) * 2006-12-27 2009-07-30 가부시키가이샤 아데카 옥심에스테르화합물 및 상기 화합물을 함유하는 광중합 개시제
CN101528682B (zh) 2006-12-27 2012-08-08 株式会社艾迪科 肟酯化合物和含有该化合物的光聚合引发剂
EP2116527A4 (en) 2007-01-23 2011-09-14 Fujifilm Corp OXIME COMPOUND, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COLOR FILTER, METHOD FOR MANUFACTURING THE COLOR FILTER, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT
US7857413B2 (en) 2007-03-01 2010-12-28 Applied Materials, Inc. Systems and methods for controlling and testing jetting stability in inkjet print heads
KR101175401B1 (ko) * 2007-04-04 2012-08-20 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 감광성 접착제 조성물, 필름상 접착제, 접착 시트, 접착제 패턴, 접착제층 부착 반도체 웨이퍼, 반도체 장치, 및, 반도체 장치의 제조방법
JP6098860B2 (ja) 2007-04-20 2017-03-22 シーエーエム ホールディング コーポレーション 複合透明導電体、及び機器
CN101622236B (zh) 2007-05-09 2014-06-18 株式会社艾迪科 环氧化合物、碱显影性树脂组合物以及碱显影性感光性树脂组合物
EP2207062B1 (en) 2007-07-17 2012-09-12 FUJIFILM Corporation Photosensitive compositions, curable compositions, novel compounds, photopolymerizable compositions, color filters, and planographic printing plate precursors
JP5274132B2 (ja) * 2007-07-17 2013-08-28 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、カラーフィルタ用硬化性組成物、パターン形成方法、カラーフィルタ、及びその製造方法
KR20100028020A (ko) 2007-08-01 2010-03-11 가부시키가이샤 아데카 알칼리 현상성 감광성 수지 조성물 및 β-디케톤 화합물
JP4890388B2 (ja) 2007-08-22 2012-03-07 富士フイルム株式会社 着色感光性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
JP5496482B2 (ja) * 2007-08-27 2014-05-21 富士フイルム株式会社 新規化合物、光重合性組成物、カラーフィルタ用光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版
US7637587B2 (en) * 2007-08-29 2009-12-29 Applied Materials, Inc. System and method for reliability testing and troubleshooting inkjet printers
JP5019071B2 (ja) 2007-09-05 2012-09-05 信越化学工業株式会社 新規光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法
JP4959495B2 (ja) * 2007-09-27 2012-06-20 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、それを用いた着色パターン、及び、カラーフィルタ
KR100825420B1 (ko) * 2007-10-24 2008-04-29 주식회사 코오롱 자외선 및 열 경화형 액정디스플레이 패널용 접착제의제조방법
US20090141505A1 (en) * 2007-11-30 2009-06-04 Taiyo Ink Mfg., Co,. Ltd. White heat-hardening resin composition, hardened material, printed-wiring board and reflection board for light emitting device
US8449635B2 (en) * 2007-12-06 2013-05-28 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive articles and methods for making same
JPWO2009081483A1 (ja) 2007-12-25 2011-05-06 株式会社Ａｄｅｋａ オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤
US8283000B2 (en) 2008-02-22 2012-10-09 Adeka Corporation Liquid crystal composition containing polymerizable compound and liquid crystal display using the liquid crystal composition
JP5305704B2 (ja) 2008-03-24 2013-10-02 富士フイルム株式会社 新規化合物、光重合性組成物、カラーフィルタ用光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版
JP5245956B2 (ja) 2008-03-25 2013-07-24 信越化学工業株式会社 新規光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法
JP5507054B2 (ja) 2008-03-28 2014-05-28 富士フイルム株式会社 重合性組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、及び固体撮像素子
JP5535444B2 (ja) 2008-03-28 2014-07-02 富士フイルム株式会社 固体撮像素子用緑色硬化性組成物、固体撮像素子用カラーフィルタ及びその製造方法
JP5137662B2 (ja) 2008-03-31 2013-02-06 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5437993B2 (ja) 2008-04-01 2014-03-12 株式会社Ａｄｅｋａ 三官能（メタ）アクリレート化合物及び該化合物を含有する重合性組成物
JP4569786B2 (ja) 2008-05-01 2010-10-27 信越化学工業株式会社 新規光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法
JP5222624B2 (ja) 2008-05-12 2013-06-26 富士フイルム株式会社 黒色感光性樹脂組成物、及びカラーフィルタ並びにその製造方法
CN102112438B (zh) * 2008-06-06 2014-07-23 巴斯夫欧洲公司 肟酯光敏引发剂
KR101646284B1 (ko) * 2008-06-06 2016-08-05 바스프 에스이 광개시제 혼합물
JP5171506B2 (ja) 2008-06-30 2013-03-27 富士フイルム株式会社 新規化合物、重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版
JP5186303B2 (ja) * 2008-07-31 2013-04-17 東京応化工業株式会社 レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
JP2010044273A (ja) 2008-08-14 2010-02-25 Fujifilm Corp カラーフィルタ及びその形成方法、並びに固体撮像素子
JP5274151B2 (ja) 2008-08-21 2013-08-28 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに、固体撮像素子
JP5284735B2 (ja) 2008-09-18 2013-09-11 株式会社Ａｄｅｋａ 重合性光学活性イミド化合物及び該化合物を含有する重合性組成物
JP4813537B2 (ja) 2008-11-07 2011-11-09 信越化学工業株式会社 熱酸発生剤を含有するレジスト下層材料、レジスト下層膜形成基板及びパターン形成方法
JP5344892B2 (ja) 2008-11-27 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インクジェット用インク組成物、及びインクジェット記録方法
JP5669386B2 (ja) 2009-01-15 2015-02-12 富士フイルム株式会社 新規化合物、重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版
JP5469471B2 (ja) * 2009-01-30 2014-04-16 富士フイルム株式会社 着色光重合性組成物、着色パターンの形成方法、カラーフィルタ、および液晶表示装置、
JP5435596B2 (ja) * 2009-02-13 2014-03-05 エルジー ケム． エルティーディ． 光活性化合物及びそれを含む感光性樹脂組成物
JP4344400B1 (ja) * 2009-02-16 2009-10-14 株式会社日本化学工業所 オキシムエステル化合物及びこれらを用いた感光性樹脂組成物
JP5371471B2 (ja) * 2009-02-16 2013-12-18 株式会社日本化学工業所 オキシムエステル化合物及びこれらを用いた感光性樹脂組成物
JP5371824B2 (ja) 2009-02-19 2013-12-18 富士フイルム株式会社 分散組成物の製造方法、遮光性カラーフィルタ用感光性樹脂組成物の製造方法、遮光性カラーフィルタの製造方法
US8004078B1 (en) * 2009-03-17 2011-08-23 Amkor Technology, Inc. Adhesive composition for semiconductor device
JP5479163B2 (ja) 2009-03-31 2014-04-23 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ用着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5554106B2 (ja) 2009-03-31 2014-07-23 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、固体撮像素子、および液晶表示装置
CN101525393B (zh) * 2009-04-02 2011-04-27 优缔精细化工（苏州）有限公司 一种肟酯光引发剂及其制备方法
CN102459171B (zh) 2009-06-17 2014-07-09 东洋油墨Sc控股株式会社 肟酯化合物、自由基聚合引发剂、聚合性组合物、负型抗蚀剂以及图像图案
JP5236587B2 (ja) 2009-07-15 2013-07-17 太陽ホールディングス株式会社 光硬化性樹脂組成物
KR101677505B1 (ko) 2009-08-26 2016-11-18 제이에스알 가부시끼가이샤 신규 화합물, 그 제조 방법, 이 신규 화합물을 함유하는 감방사선성 조성물 및 경화막
WO2011030688A1 (ja) * 2009-09-14 2011-03-17 日産化学工業株式会社 共重合体を含有する感光性樹脂組成物
JP5535814B2 (ja) 2009-09-14 2014-07-02 富士フイルム株式会社 光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、液晶表示装置、平版印刷版原版、並びに、新規化合物
JP5501175B2 (ja) 2009-09-28 2014-05-21 富士フイルム株式会社 分散組成物及びその製造方法、遮光性カラーフィルタ用感光性樹脂組成物及びその製造方法、遮光性カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5760374B2 (ja) * 2009-10-23 2015-08-12 三菱化学株式会社 ケトオキシムエステル系化合物及びその利用
CN102575167A (zh) 2009-11-18 2012-07-11 株式会社艾迪科 含有聚合性化合物的液晶组合物以及使用该液晶组合物的液晶显示元件
JP5701576B2 (ja) 2009-11-20 2015-04-15 富士フイルム株式会社 分散組成物及び感光性樹脂組成物、並びに固体撮像素子
JP4818458B2 (ja) 2009-11-27 2011-11-16 株式会社Ａｄｅｋａ オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤
JP2011158655A (ja) 2010-01-29 2011-08-18 Fujifilm Corp 重合性組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子
JP5640722B2 (ja) * 2010-02-05 2014-12-17 Jsr株式会社 新規化合物及びそれを含有する感放射線性組成物
SG183399A1 (en) 2010-02-24 2012-09-27 Cambrios Technologies Corp Nanowire-based transparent conductors and methods of patterning same
KR20110098638A (ko) 2010-02-26 2011-09-01 후지필름 가부시키가이샤 착색 경화성 조성물, 컬러필터와 그 제조방법, 고체촬상소자 및 액정표시장치
JP5638285B2 (ja) 2010-05-31 2014-12-10 富士フイルム株式会社 重合性組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、および固体撮像素子
EP2392621A3 (en) 2010-06-01 2013-01-09 FUJIFILM Corporation Pigment dispersion composition, red colored composition, colored curable composition, color filter for a solid state imaging device and method for producing the same, and solid state imaging device
JP5622564B2 (ja) 2010-06-30 2014-11-12 富士フイルム株式会社 感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子
JP5544239B2 (ja) 2010-07-29 2014-07-09 富士フイルム株式会社 重合性組成物
KR101053772B1 (ko) * 2010-10-01 2011-08-02 경북대학교 산학협력단 마이크로 플루이딕 칩 몰드를 제조하기 위한 성형 모듈, 이를 이용한 마이크로 플루이딕 칩 몰드 제조 방법 및 이에 의해 제조된 마이크로 플루이딕 칩 몰드
KR101830206B1 (ko) 2010-12-28 2018-02-20 후지필름 가부시키가이샤 차광막 형성용 티타늄 블랙 분산 조성물과 그 제조방법, 흑색 감방사선성 조성물, 흑색 경화막, 고체촬상소자, 및 흑색 경화막의 제조방법
US8816211B2 (en) * 2011-02-14 2014-08-26 Eastman Kodak Company Articles with photocurable and photocured compositions
RU2628076C2 (ru) 2011-05-25 2017-08-14 Америкэн Дай Сорс, Инк. Соединения с группами сложных эфиров оксима и/или ацильными группами
CN103608704B (zh) 2011-09-14 2016-03-16 富士胶片株式会社 着色放射线敏感性组合物、图案形成方法、彩色滤光片及其制备方法以及固态图像传感器
JP5934664B2 (ja) 2012-03-19 2016-06-15 富士フイルム株式会社 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、着色パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置
JP5775479B2 (ja) 2012-03-21 2015-09-09 富士フイルム株式会社 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置
JP6438385B2 (ja) * 2012-04-11 2018-12-12 イフォクレール ヴィヴァデント アクチェンゲゼルシャフトＩｖｏｃｌａｒ Ｖｉｖａｄｅｎｔ ＡＧ 複合樹脂組成物およびステレオリソグラフィーによる歯科構成部品の生成のためのプロセス
TWI472507B (zh) * 2012-05-03 2015-02-11 Korea Res Inst Chem Tech 新穎茀肟酯化合物、含彼之光聚合起始劑及光阻組合物
JP5950682B2 (ja) * 2012-05-09 2016-07-13 株式会社日本化学工業所 オキシム系光重合開始剤及びその使用方法
WO2014011713A2 (en) * 2012-07-10 2014-01-16 Dana-Farber Cancer Institue, Inc. Anti-proliferative compounds and uses thereof
JP5909468B2 (ja) 2012-08-31 2016-04-26 富士フイルム株式会社 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、及び固体撮像素子
JP5894943B2 (ja) 2012-08-31 2016-03-30 富士フイルム株式会社 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、マイクロレンズの製造方法、及び固体撮像素子
JP5934682B2 (ja) 2012-08-31 2016-06-15 富士フイルム株式会社 マイクロレンズ形成用又はカラーフィルターの下塗り膜形成用硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、固体撮像素子、及び、硬化性組成物の製造方法
CN103698976A (zh) * 2012-09-27 2014-04-02 李妤 新型激光数字全息高密度存储显示材料的制备
KR101563473B1 (ko) 2012-09-28 2015-10-26 다이토 케믹스 코포레이션 플루오렌계 화합물, 상기 플루오렌계 화합물을 포함하는 광중합 개시제, 및 상기 광중합 개시제를 포함하는 감광성 조성물
EP2927716A4 (en) 2012-11-30 2015-12-30 Fujifilm Corp HARDENABLE RESIN COMPOSITION AND IMAGE SENSOR PREPARATION METHOD AND PICTOR SENSOR THEREWITH
EP2927717A4 (en) 2012-11-30 2016-01-06 Fujifilm Corp CURABLE RESIN COMPOSITION, AND IMAGE SENSOR CHIP, AND METHOD OF MANUFACTURING SAME USING THE SAME
US9539072B2 (en) * 2012-12-17 2017-01-10 Global Filtration Systems Method of making a dental arch model
JP6170673B2 (ja) 2012-12-27 2017-07-26 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ用組成物、赤外線透過フィルタ及びその製造方法、並びに赤外線センサー
JP6061697B2 (ja) * 2013-01-24 2017-01-18 株式会社日本化学工業所 新規な光重合開始剤及びその使用方法
EP2960691B1 (en) 2013-02-19 2017-09-27 Fujifilm Corporation Near-infrared absorbing composition, near-infrared blocking filter, method for producing near-infrared blocking filter, camera module and method for manufacturing camera module
JP6095408B2 (ja) * 2013-02-20 2017-03-15 株式会社日本化学工業所 新規な光重合開始剤及びこれらを用いた感光性樹脂組成物
CN105247391B (zh) 2013-04-11 2018-06-12 富士胶片株式会社 近红外线吸收性组合物、近红外线截止滤波器及其制造方法、以及照相机模块及其制造方法
JP6097128B2 (ja) 2013-04-12 2017-03-15 富士フイルム株式会社 遠赤外線遮光層形成用組成物
CN104124835A (zh) * 2013-04-26 2014-10-29 新科实业有限公司 音圈马达的组装方法及组装装置
JP6159291B2 (ja) 2013-05-23 2017-07-05 富士フイルム株式会社 近赤外線吸収性組成物、これを用いた近赤外線カットフィルタおよびその製造方法、並びに、カメラモジュール
JP2015017244A (ja) 2013-06-12 2015-01-29 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、硬化膜、近赤外線カットフィルタ、カメラモジュールおよびカメラモジュールの製造方法
JP2015038979A (ja) * 2013-07-18 2015-02-26 富士フイルム株式会社 イメージセンサー及びその製造方法
JP6162084B2 (ja) 2013-09-06 2017-07-12 富士フイルム株式会社 着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、画像表示装置、ポリマー、キサンテン色素
KR102282647B1 (ko) 2013-09-10 2021-07-28 바스프 에스이 옥심 에스테르 광개시제
WO2015064958A1 (ko) * 2013-11-04 2015-05-07 한국화학연구원 신규한 옥심에스테르 비페닐 화합물, 이를 포함하는 광개시제 및 감광성 수지 조성물
KR101435652B1 (ko) * 2014-01-17 2014-08-28 주식회사 삼양사 신규한 β-옥심에스테르 플루오렌 화합물, 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물
CN104076606B (zh) * 2014-07-15 2019-12-03 常州强力电子新材料股份有限公司 一种含肟酯类光引发剂的感光性组合物及其应用
EP3165965B1 (en) 2014-07-15 2018-10-10 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Photosensitive composition and compound
KR101525460B1 (ko) * 2014-08-25 2015-06-04 애경화학 주식회사 신규한 구조를 갖는 옥심에스테르 광개시제 및 이를 포함하는 반응성 액정 조성물 및 감광성 조성물
JP6169545B2 (ja) 2014-09-09 2017-07-26 富士フイルム株式会社 重合性組成物、インクジェット記録用インク組成物、インクジェット記録方法、及び記録物
JP6086888B2 (ja) 2014-09-26 2017-03-01 富士フイルム株式会社 インクジェット記録用インク組成物、インクジェット記録方法、及び記録物
JP6169548B2 (ja) 2014-09-26 2017-07-26 富士フイルム株式会社 重合性組成物、インクジェット記録用インク組成物、インクジェット記録方法、及び記録物
CN107111232A (zh) * 2014-11-12 2017-08-29 三养社 用于液晶显示面板的黑色矩阵光致抗蚀剂组合物
WO2016076652A1 (ko) * 2014-11-12 2016-05-19 주식회사 삼양사 액정디스플레이 패널용 블랙매트릭스 포토레지스트 조성물
JP6408715B2 (ja) * 2015-02-06 2018-10-17 コリア リサーチ インスティテュート オブ ケミカル テクノロジー 新規のオキシムエステル誘導体化合物およびこれを含む光重合開始剤、ならびにフォトレジスト組成物
CN104817653B (zh) * 2015-04-22 2016-08-24 江南大学 一种香豆素肟酯类光引发剂及其制备方法
US10719016B2 (en) * 2015-08-21 2020-07-21 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Photosensitive resin composition, polyimide production method, and semiconductor device
CN105158984A (zh) * 2015-10-15 2015-12-16 深圳市华星光电技术有限公司 Va型液晶显示面板的制作方法
JP6621643B2 (ja) * 2015-10-22 2019-12-18 株式会社Adeka オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する重合開始剤
CN105199018B (zh) * 2015-11-06 2017-03-22 常州久日化学有限公司 肟酯类光引发剂及其制备和应用
TWI634135B (zh) 2015-12-25 2018-09-01 日商富士軟片股份有限公司 樹脂、組成物、硬化膜、硬化膜的製造方法及半導體元件
KR102134138B1 (ko) 2016-03-14 2020-07-15 후지필름 가부시키가이샤 조성물, 막, 경화막, 광학 센서 및 막의 제조 방법
WO2017183428A1 (ja) 2016-04-21 2017-10-26 富士フイルム株式会社 画像表示機能付きミラーおよびハーフミラー
TWI830588B (zh) 2016-08-01 2024-01-21 日商富士軟片股份有限公司 感光性樹脂組成物、硬化膜、積層體、硬化膜的製造方法、積層體的製造方法及半導體元件
JP6607221B2 (ja) * 2016-08-01 2019-11-20 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 感光性着色組成物およびカラーフィルタ
TW201821280A (zh) 2016-09-30 2018-06-16 日商富士軟片股份有限公司 積層體以及半導體元件的製造方法
WO2018084076A1 (ja) 2016-11-04 2018-05-11 富士フイルム株式会社 ウインドシールドガラス、ヘッドアップディスプレイシステム、およびハーフミラーフィルム
EP3335689A1 (en) * 2016-12-14 2018-06-20 DENTSPLY DETREY GmbH Dental composition
JP6867416B2 (ja) 2017-02-09 2021-04-28 富士フイルム株式会社 ハーフミラー、ハーフミラーの製造方法、および画像表示機能付きミラー
US20180259850A1 (en) * 2017-03-10 2018-09-13 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Method for forming patterned cured film, photosensitive composition, dry film, and method for producing plated shaped article
WO2018198559A1 (ja) 2017-04-28 2018-11-01 富士フイルム株式会社 画像表示機能付き防眩ミラー
US10546842B2 (en) * 2017-05-31 2020-01-28 Innolux Corporation Display device and method for forming the same
CN110692018B (zh) 2017-05-31 2023-11-03 富士胶片株式会社 感光性树脂组合物、聚合物前体、固化膜、层叠体、固化膜的制造方法及半导体器件
WO2018225544A1 (ja) * 2017-06-06 2018-12-13 日本化薬株式会社 光硬化性組成物及び電子部品用接着剤
JP7161997B2 (ja) 2017-09-07 2022-10-27 富士フイルム株式会社 投映像表示用ハーフミラーフィルム、投映像表示用の合わせガラス、および、画像表示システム
CN111095046B (zh) 2017-09-15 2022-07-22 富士胶片株式会社 组合物、膜、层叠体、红外线透射滤波器、固体摄像元件及红外线传感器
JP6934101B2 (ja) 2018-02-23 2021-09-08 富士フイルム株式会社 画像表示用合わせガラスの製造方法、画像表示用合わせガラス、および、画像表示システム
WO2019176409A1 (ja) 2018-03-13 2019-09-19 富士フイルム株式会社 硬化膜の製造方法、固体撮像素子の製造方法
WO2020049930A1 (ja) 2018-09-07 2020-03-12 富士フイルム株式会社 車両用ヘッドライトユニット、ヘッドライト用の遮光膜、ヘッドライト用の遮光膜の製造方法
KR102420769B1 (ko) 2018-09-20 2022-07-14 후지필름 가부시키가이샤 경화성 조성물, 경화막, 적외선 투과 필터, 적층체, 고체 촬상 소자, 센서, 및 패턴 형성 방법
CN112639616A (zh) 2018-09-28 2021-04-09 富士胶片株式会社 感光性树脂组合物、固化膜、层叠体、固化膜的制造方法及半导体器件
EP3869245A4 (en) 2018-10-17 2021-12-15 FUJIFILM Corporation PROJECTION IMAGE DISPLAY ELEMENT, WINDSHIELD GLASS AND HEADUP DISPLAY SYSTEM
EP3893053A4 (en) 2018-12-05 2022-02-23 FUJIFILM Corporation PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD, CURED FILM, MULTILAYER BODY AND DEVICE
EP3893054A4 (en) 2018-12-05 2022-01-05 FUJIFILM Corporation PATTERN MAKING METHOD, LIGHT SENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED FILM, LAMINATE AND DEVICE
WO2020122023A1 (ja) 2018-12-10 2020-06-18 富士フイルム株式会社 投映像表示用部材、ウインドシールドガラスおよびヘッドアップディスプレイシステム
JP7133703B2 (ja) 2019-03-06 2022-09-08 富士フイルム株式会社 投映像表示用積層フィルム、投映像表示用の合わせガラス、および、画像表示システム
KR102647598B1 (ko) 2019-03-15 2024-03-14 후지필름 가부시키가이샤 경화성 수지 조성물, 경화막, 적층체, 경화막의 제조 방법, 반도체 디바이스, 및, 폴리머 전구체
JP7229337B2 (ja) 2019-03-29 2023-02-27 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、硬化膜、インダクタ、アンテナ
CN110551098B (zh) * 2019-06-17 2021-03-12 湖北固润科技股份有限公司 包含五元芳杂环结构的肟酯类光引发剂及其制备和用途
WO2020252628A1 (zh) * 2019-06-17 2020-12-24 湖北固润科技股份有限公司 包含五元芳杂环结构的肟酯类光引发剂及其制备和用途
TW202104284A (zh) 2019-06-27 2021-02-01 日商富士軟片股份有限公司 組成物、膜及光感測器
CN114269556A (zh) 2019-08-29 2022-04-01 富士胶片株式会社 组合物、膜、近红外线截止滤波器、图案形成方法、层叠体、固体摄像元件、红外线传感器、图像显示装置、相机模块及化合物
WO2021039253A1 (ja) 2019-08-30 2021-03-04 富士フイルム株式会社 組成物、膜、光学フィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、赤外線センサ、並びに、センサモジュール
TW202112837A (zh) 2019-09-26 2021-04-01 日商富士軟片股份有限公司 導熱層的製造方法、積層體的製造方法及半導體器件的製造方法
CN114467048A (zh) 2019-09-27 2022-05-10 富士胶片株式会社 平视显示器用投影仪
TW202128839A (zh) 2019-11-21 2021-08-01 日商富士軟片股份有限公司 圖案形成方法、光硬化性樹脂組成物、積層體的製造方法及電子元件的製造方法
KR20220100914A (ko) 2019-12-25 2022-07-18 후지필름 가부시키가이샤 수지 조성물, 경화물, 자외선 흡수제, 자외선 차단 필터, 렌즈, 보호재, 화합물 및 화합물의 합성 방법
WO2021199748A1 (ja) 2020-03-30 2021-10-07 富士フイルム株式会社 組成物、膜及び光センサ
EP4130812A4 (en) 2020-03-30 2023-11-22 FUJIFILM Corporation REFLECTIVE FILM, WINDSHIELD GLASS AND HEAD-UP DISPLAY SYSTEM
WO2021246402A1 (ja) 2020-06-03 2021-12-09 富士フイルム株式会社 反射フィルム、合わせガラスの製造方法、および、合わせガラス
KR20230021725A (ko) 2020-08-21 2023-02-14 후지필름 가부시키가이샤 중합성 조성물, 중합체, 자외선 차폐 재료, 적층체, 화합물, 자외선 흡수제 및 화합물의 제조 방법
EP4216242A1 (en) 2020-09-18 2023-07-26 FUJIFILM Corporation Composition, magnetic-particle-containing film, and electronic component
EP4220669A4 (en) 2020-09-24 2024-03-20 Fujifilm Corp COMPOSITION, CURED PRODUCT CONTAINING MAGNETIC PARTICLES, SUBSTRATE INTRODUCED BY MAGNETIC PARTICLES AND ELECTRONIC MATERIAL
WO2022065006A1 (ja) 2020-09-28 2022-03-31 富士フイルム株式会社 積層体の製造方法、アンテナインパッケージの製造方法、積層体及び組成物
EP4261575A1 (en) 2020-12-09 2023-10-18 FUJIFILM Corporation Reflection film, windshield glass, and head-up display system
JPWO2022131191A1 (da) 2020-12-16 2022-06-23
EP4266093A1 (en) 2020-12-17 2023-10-25 FUJIFILM Corporation Composition, film, optical filter, solid-state imaging element, image display device, and infrared sensor
US20240025909A1 (en) 2020-12-17 2024-01-25 Adeka Corporation Compound and composition
WO2022196599A1 (ja) 2021-03-19 2022-09-22 富士フイルム株式会社 膜および光センサ
TW202248755A (zh) 2021-03-22 2022-12-16 日商富士軟片股份有限公司 負型感光性樹脂組成物、硬化物、積層體、硬化物的製造方法以及半導體元件
WO2022202394A1 (ja) 2021-03-22 2022-09-29 富士フイルム株式会社 組成物、磁性粒子含有硬化物、磁性粒子導入基板、電子材料
JPWO2022210175A1 (da) 2021-03-29 2022-10-06
KR20240035990A (ko) 2021-07-20 2024-03-19 가부시키가이샤 아데카 반도체용 막 형성 재료, 반도체용 부재 형성 재료, 반도체용 공정 부재 형성 재료, 하층막 형성 재료, 하층막 및 반도체 디바이스
WO2023032545A1 (ja) 2021-08-31 2023-03-09 富士フイルム株式会社 硬化物の製造方法、積層体の製造方法、及び、半導体デバイスの製造方法、並びに、処理液
CN117916279A (zh) 2021-09-29 2024-04-19 富士胶片株式会社 组合物、树脂、膜及光传感器
CN117897645A (zh) 2021-09-30 2024-04-16 富士胶片株式会社 平视显示系统及运输机
WO2023054565A1 (ja) 2021-09-30 2023-04-06 富士フイルム株式会社 磁性粒子含有組成物の製造方法、磁性粒子含有組成物、磁性粒子含有硬化物、磁性粒子導入基板、電子材料

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1180846A (en) * 1967-08-08 1970-02-11 Agfa Gevaert Nv Photopolymerisation of Ethylenically Unsaturated Organic Compounds
GB1537921A (en) * 1977-02-18 1979-01-10 Ward Blenkinsop & Co Ltd Substituted oxime esters and their use as photoinitiators
FR2393345A1 (fr) 1977-06-01 1978-12-29 Agfa Gevaert Nv Fabrication d'elements modifies sous forme d'images
GB2029423A (en) 1978-08-25 1980-03-19 Agfa Gevaert Nv Photo-polymerisable materials and recording method
GB2122608B (en) * 1982-06-01 1985-10-02 Zyma Sa (+)-cyanidan-3-ol derivatives
JPS59229553A (ja) * 1983-05-18 1984-12-24 Hitachi Chem Co Ltd 光重合性組成物
JPS604502A (ja) * 1983-06-22 1985-01-11 Daicel Chem Ind Ltd 光重合開始剤
JPS60108837A (ja) * 1983-11-17 1985-06-14 Fuji Photo Film Co Ltd 酸プレカ−サ−
JPS60166306A (ja) * 1984-02-09 1985-08-29 Daicel Chem Ind Ltd 光重合開始剤
JPS60192939A (ja) * 1984-03-14 1985-10-01 Fuji Photo Film Co Ltd 熱現像カラ−感光材料
JPS6124558A (ja) * 1984-07-11 1986-02-03 Daicel Chem Ind Ltd オキシムエステル化合物
JPS61107243A (ja) * 1984-10-30 1986-05-26 Fuji Photo Film Co Ltd 熱現像感光材料
US4590145A (en) * 1985-06-28 1986-05-20 Daicel Chemical Industries, Ltd. Photopolymerization initiator comprised of thioxanthones and oxime esters
JPS62184056A (ja) * 1986-02-10 1987-08-12 Asahi Chem Ind Co Ltd 感光性組成物
JPH0755925B2 (ja) * 1986-02-28 1995-06-14 旭化成工業株式会社 新規なオキシムエステル化合物及びその合成法
JP2505746B2 (ja) * 1986-05-20 1996-06-12 旭化成工業株式会社 感光性組成物
JPS62286961A (ja) * 1986-06-05 1987-12-12 Asahi Chem Ind Co Ltd 新規なオキシムエステル化合物及びその製造方法
JPH0812412B2 (ja) * 1986-06-24 1996-02-07 コニカ株式会社 熱現像処理安定性及び長期保存安定性の優れた熱現像感光材料
US5019482A (en) 1987-08-12 1991-05-28 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Polymer/oxime ester/coumarin compound photosensitive composition
JPH0372434A (ja) * 1989-04-19 1991-03-27 Fuji Photo Film Co Ltd 脱アシル化剤および脱アシル化方法
JPH05320117A (ja) * 1990-01-25 1993-12-03 Teijin Ltd オキシム誘導体のｒ光学異性体およびそれを有効成分とする除草剤
JP2962103B2 (ja) * 1993-06-23 1999-10-12 東レ株式会社 ｉ線用感光性ポリイミド前駆体組成物
SG77689A1 (en) * 1998-06-26 2001-01-16 Ciba Sc Holding Ag New o-acyloxime photoinitiators
SG97168A1 (en) * 1999-12-15 2003-07-18 Ciba Sc Holding Ag Photosensitive resin composition

Also Published As

Publication number Publication date
NL1016815C2 (nl) 2002-05-14
ES2177438A1 (es) 2002-12-01
AU782837B2 (en) 2005-09-01
NL1016815A1 (nl) 2001-06-18
US7381842B2 (en) 2008-06-03
JP2001233842A (ja) 2001-08-28
AU7226700A (en) 2001-06-21
MY120488A (en) 2005-10-31
KR20010082580A (ko) 2001-08-30
SE0004564D0 (sv) 2000-12-11
BR0006379A (pt) 2001-07-24
CN1299812A (zh) 2001-06-20
CA2328376A1 (en) 2001-06-15
FI20002730A (fi) 2001-06-16
US20050191567A1 (en) 2005-09-01
BE1013872A5 (fr) 2002-11-05
US6949678B2 (en) 2005-09-27
GB2358017B (en) 2002-03-13
FR2802528A1 (fr) 2001-06-22
IT1319688B1 (it) 2003-10-23
ES2177438B1 (es) 2004-10-16
FI20002730A0 (fi) 2000-12-13
US20010012596A1 (en) 2001-08-09
ITMI20002676A1 (it) 2002-06-12
SE0004564L (sv) 2002-06-12
CZ20004636A3 (cs) 2001-08-15
GB0029793D0 (en) 2001-01-17
DE10061947A1 (de) 2001-06-21
GB2358017A (en) 2001-07-11
CH694731A5 (de) 2005-06-30
KR100680729B1 (ko) 2007-02-12
AT500127A1 (de) 2005-10-15
JP5289649B2 (ja) 2013-09-11
CN1252042C (zh) 2006-04-19
SE522774C2 (sv) 2004-03-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DK200001878A (da) Oximesterfotoinitiatorer
JP4600600B1 (ja) 新規オキシムエステル化合物およびそれを含んでなるラジカル重合開始剤および重合性組成物およびそれを用いたネガ型レジストおよびそれを用いた画像パターン形成方法
JP2004534797A5 (da)
CN105694582B (zh) 一种光固化阻焊油墨
JP2011525480A5 (da)
JP2000080068A5 (da)
JP2008509967A5 (da)
CN108957950B (zh) 含芴氨基酮类光引发剂的uv光固化组合物
DE10061948A1 (de) Lichtempfindliche Harzzusammensetzung
JP2004536352A5 (da)
KR20070057652A (ko) 옥심 에스테르를 포함하는 트리아진계 광활성 화합물을포함하는 착색 감광성 조성물
JPH1062986A (ja) 感放射線性着色組成物
JP6725663B2 (ja) フルオレン類多官能光開始剤およびその製造ならびに使用、フルオレン類光開始剤含有感光性樹脂組成物およびその使用
JPH08305018A (ja) 改良された光重合性組成物
KR20090081208A (ko) 바인더 수지 및 이를 포함하는 감광성 수지조성물과, 이감광성 수지조성물에 의해 제조된 컬럼스페이서
JP2645110B2 (ja) 光重合可能な混合物
JP2019086781A (ja) 着色感光性樹脂組成物、これを用いて製造されるカラーフィルタおよび前記カラーフィルタを含む表示装置
JP2022528671A (ja) ヘキサアリールビスイミダゾール類光開始剤及びその使用
KR20210148258A (ko) 컬러 필터용 감광성 수지 조성물 및 컬러 필터
KR102061130B1 (ko) 피라졸린계 증감제 및 그 제조방법과 응용
JPH03205404A (ja) 光重合性組成物
KR20130038151A (ko) 옥심 에스테르 화합물 및 그것을 포함하는 광중합 개시제
JPH11209632A (ja) 赤色樹脂組成物、感光性赤色樹脂組成物、赤色画像形成用感光液、着色画像の製造法及びカラーフィルターの製造法
JP2008299111A (ja) 黒色感光性樹脂組成物、ブラックマトリクスの形成方法、カラーフィルタの製造方法及びカラーフィルタ
KR101730610B1 (ko) 포토레지스트용 접착증진제 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물

Legal Events

Date Code Title Description
AHS Application shelved for other reasons than non-payment