JPS604502A - 光重合開始剤 - Google Patents

光重合開始剤

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JPS604502A
JPS604502A JP11243783A JP11243783A JPS604502A JP S604502 A JPS604502 A JP S604502A JP 11243783 A JP11243783 A JP 11243783A JP 11243783 A JP11243783 A JP 11243783A JP S604502 A JPS604502 A JP S604502A
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JP
Japan
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meth
acrylate
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photopolymerization initiator
ketone
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JP11243783A
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Tatsuya Sugano
菅野 龍也
Koji Toya
遠矢 功治
Masanori Ito
正則 伊藤
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Daicel Corp
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Daicel Chemical Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光重合開始剤に関するものであ勺、詳しくは、
活性光線の露光によ勺、露光部のみが光重合により硬化
し、且つ基材への密着性に優れた光重合性樹脂組成物に
使用される光重合開始剤に関する。
光重合性樹脂組成物は活性光線硬化型インキ。
塗料あるいはフォトレジストとして使用されているが、
これらにおける大きな問題点として露光時の塗膜の硬化
性が挙げられる。即ち、塗膜の厚みによってその硬化性
が著しく影響を受ける。例えば、フォトレジストやスク
リーン印刷インキの場合、塗膜の厚みが10〜100 
/nrLにも達するため塗膜内面の硬化が不良になシや
すい。
又、顔料あるいは染料を光重合性樹脂組成物に加えた場
合においてはこの傾向は著しく、塗膜表面rタンクが残
る等、期待した硬化性能が現われない。
この様な硬化性の問題に関して光重合開始剤を種々組合
せることによって改善が試みられている。例えばベンゾ
フェノン又はその誘導体と4.4′−ビス(ジエチルア
ミノ)ベンゾ1フエノンとの組合せ(特公昭53−!+
79[]2、特公昭54−25943)、キサントンと
4,4′−ビス(ジアルキルアミノ)ベンゾフェノンと
の組合せ(特開昭52−92246)などが提案されて
いる。
しかしながら、これらの光重合開始剤は有効ではあるが
、特に染料又は顔料を配合した場合には塗膜の厚みが1
0μm以上になると硬化不良を起しやすく、基材との密
着性が悪くなる等未だ十分ではなかった。
本発明者等はこの様な問題を解決するために鋭意検討し
た結果、p−アミノフェニルケトンとオキシムエステル
との混合物を光重合開始剤として使用することによル、
塗膜の硬化性に極めて優れ、基材との密着性にも優れた
光重合性組成物が得られることを見い出し、本発明に到
達した。
即ち本発明はp−アミノフェニルケトンおよびオキシム
エステルからなる光重合開始剤を提供するものである。
この本発明の光重合開始剤は、光重合性化合物、高分子
バインダーあるいはその他の添加剤等とともに光重合性
樹脂組成物を形成するが、以下これらを含めて具体的に
説明する。
本発明の光重合開始剤が好適に用いられる光重合性化合
物は分子内に1個以上の重合性二重結合を有する光重合
可能な化合物からなるものである。そのような化合物と
しては、例えばスチレン、α−メチルスチレン、クロロ
スチレンなどのスチレン系化合物、メチル(メタ)アク
リレート、エチル(メタ)アクリレート、n−および1
−プロピル(メタ)アクリレート、n−sθC−および
t−ブチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフ
リル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ
)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレ
ート、ラウリル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ
)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ブ
トキシエチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(
メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリ
レート、メトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキ
シエチル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコー
ル(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール(
メタ)アクリレートなどの一官能(メタ)アクリレート
化合物、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエ
チレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、ポリプロレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メ
タ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)
アクリレート、1.6−ヘキサンシオールジ(メタ)ア
クリレートなどの三官能(メタ)アクリレート、トリメ
チロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチ
ロールエタントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリス
リトールテトラ(メタ)アクリレートなどの三官能以上
の(メタ)アクリレートなどが代表例として挙げられる
。これらの重合性化合物は単独又は組合せて使用するこ
とができ、光重合性樹脂組成物中、5〜80重量%、好
ましくは10〜50重量%の割合で使用される。
高分子バインダーとしては、ポリスチレン。
ポリメチルメタクリレート、メチルメタアクリレート−
エチルアクリレート共重合体、ポリ(メタ)アクリル酸
、スチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、(メタ)ア
クリル酸−メチルメタアクリレート共重合体、ポリビニ
ルブチラール、セルロースエステル、ポリアクリルアミ
ド、飽和ポリエステル等があり、目的に応じて選択され
る。
本発明のp−アミノフェニルケトンとしては(式中Rお
よびR′はそれぞれ水素または1〜4個の炭素原子を有
する低級アルキル基であル、そしてR“は例えば1〜4
個の炭素原子を有するアルキルまたは単炭素環アリール
、好ましである)で表わされる化合物が好ましい。適当
なp−アミノフェニルケトンにはp−アミノベンゾフェ
ノン、p−ブチルアミノベンゾフェノン、p−ジメチル
アミノアセトフェノン、p−ジメチルアミンプロピオフ
ェノン、p−ジエチルアミノブチロフェノン、p−ジブ
チルアミノアセトフェノン、p−ジメチルアミノベンゾ
フェノン、p−ジエチルアミノフエニ/l/−p−)リ
ルケトン、p−ジエチルアミノベンゾフェノン、p、p
’−ビス(エチルアミノ)ベンゾフェノン、 p、p’
−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン〔ミヒラーケ
トンLp、p’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノ
ンおよびD 、pL−ビス(ジブチルアミノ)ベンゾフ
ェノンが挙げられる。
本発明のオキシムエステルは一般式 ここでR□〜R3は芳香族又は脂肪族の炭化水素あるい
は複素環化合物等種々の有機化合物残基があるが、好ま
しくは以下に示す1)〜6)のものが例示される。
即ち、R1,R2としては次の1)〜4)が挙げられる
。ここでRよ、R2は同一でも、異なっていてもよい。
1)炭素数1〜10、好ましくは1〜5の直鎖状あるい
は分岐状のアルキル基 2) 置換又は非置換のフェニル基、ナフチル基。
アンスリル基であり、置換基としては炭素数1〜10、
好ましくは1〜5の直鎖状あるいは分四状のアルキル基
、炭ni1〜5のアルコキシル基、ハロゲン、アミン基
、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、メルカプト基
等3)2−ピリジル基等のピリジル基、又は6−キノリ
ル基等のキノリル基あるいは2)と同様の置換基を有す
るピリジル基又はキノリル基4】R1と得が結合して環
を形成するフルオレニル基等、あるいは2)と同様の置
換基を有する該フルオレニル基等 又、R3としては次の5)〜6)が例示される。
5) メチル基、エチル基、プロピル基、1−プロピル
基、ブチル基、t−ブチル基等の炭素数1〜5のアルキ
ル基 6)フェニル基又は置換フェニル基であル、置換基は前
述の2)で示した置換基と同様である。
以上、述べたオキシムエステルには種々のケトン−O−
アシルオキシムがあり、具体的にはジメチルケトン−〇
−アセチルオキシム、ジエチルケトン−〇−アセチルオ
キシム、アセトフェノン−〇−アセチルオキシム、アセ
トフェノン−〇−ベンゾイルオキシム、アセトフェノン
−〇−(p−メチルベンゾイル)オキシム、p−メチル
アセトフェノン−〇 −(p −トIJルカルポニル)
オキシム、2−ナフチルメチルケトン−〇−アセチルオ
キシム、2−ナフチルフェニルケトン−〇−プロピルカ
ルボニルオキシム、9−アンスリルメチルケトン−〇−
アセチルオキシム、2−ナフチルメチルケトン−〇−ベ
ンゾイルオキシム、ベンゾフェノン−〇−アセチルオ夫
シム、ベンゾフェノン−〇−フェニルアセチルオキシム
、ベンゾフェノン−0−(p−クロロベンゾイル)オキ
シム、p−ジメチルアミノアセトフェノン−〇−アセチ
ルオキシム、p、p’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾ
フェノン−〇−アセチルオキシム、p、p’−ビス(ジ
エチルアミノ)ベンゾフェノン−〇−ベンゾイルオキシ
ム、フルオレノン−o−(p−メチルベンゾイル)オキ
シム、フルオレノン−〇−アセチルオキシム、2−ピリ
ジルメチルケトン−〇−アセチルオキシム、ジ(2−ピ
リジル)ケトン−07アセチルオキシム、6−キツリル
メチルケトンー〇−エチルカルボニルオキシム、6−キ
ツリルフエニルケトンー〇−アセチルオキシム等がある
これらのオキシムエステルあるいは前述のp−アミノフ
ェニルケトンはそれぞれ2種以上併用してもよい。
又、本発明の光重合開始剤にベンゾイン、ベンゾインア
ルキルエーテル、ベンゾフェノン、ベンジル−2,4,
5−)リフェニルビイミダゾール又はこれらの誘導体等
公知の光増感剤を加えて使用することもできる。
本発明におけるp−アミノフェニルケトンとオキシムエ
ステルとの使用比率は、それらの種類あるいは光重合性
化合物等の種類により適宜選択されるが、おおよそ重量
比でp−アミノフェニルケトン/オキシムエステル=1
/j00〜10/1の比率で、好ましくは1750〜1
/2の比率で使用される。
又、本発明の光重合開始剤は光重合性組成物(固形分)
中0.1〜20重量係、好ましくは1〜10重isの範
囲で使用される。
本発明の光重合開始剤を含有する光重合性樹脂組成物は
、公知の方法により基材に塗布された後、活性光線を照
射され、光重合反応が誘起される。
使用される活性光源としては、200〜300 nmに
強い発光をもつ遠紫外光源(Hg−Xe灯、低圧水銀灯
)やエキシマ−レーザーさらに300nm以上の発光ス
ペクトルを有するHg灯、キセノン灯。
高圧水銀灯、さらにはN2レーザー、アルゴンレーザー
、 He−Neレーザー等が挙げられる0次に本発明を
実施例によシ説明する。
実施例 1 ポリメチルメタクリレート(スミペックス−BH) 5
0 t)IJ#−0−ルプロパントリアクリレート 2
5 fテトラエチレングリコールジアクリレート20t
ミヒラーケトン 0.15r ベンゾトリアゾール 0.20f ロイコクリスタルバイオレツト 0.15fN−メチル
ジェタノールアミン 0.05fビクトリアブルー 0
・042 ベンゾフェノン−〇−アセチルオキシム 3.02メチ
ルエチルケトン 137を 上記組成物を機械的攪拌によシ十分混合した後、銅板に
厚さ25μ扉で塗工した後、75℃で5分間乾燥させる
。次にステップタプレツ) (FujiFi1m製15
段)を重ねて、超高圧水銀灯(2KW)を45zの距離
から10秒照射した。これをクロロセンにて未露光部を
洗い出すことによシ現像した。その結果、8段までの良
好な画像を生じた。
実施例 2 ポリメチルメタクリレート 502 トリメチロールプロパントリアクリレート 45 1ミ
ヒラーケトン 0.105’ p−メチルアセトフェノン−〇−アセチルオキシム 5
.52ベンゾトリアゾール 0・201 ビクトリアブルー 0.04f メチルエチルケトン 1372 上記組成物を実施例1と同様に塗工、乾燥。
露光、現像すると10段までの良好な画像が得られた。
実施例 3 ポリ(メチルメタクリレート/メタクリル酸戸70/3
01 ’ 505’トリメチロールプロパントリアクリ
レート 40?ミヒラーケトン 0.10 f p−メチルアセトフェノン−〇−アセチルオキシム 4
.01ビクトリアブルー 0.04 r l、4−ジオキサン 1372 上記組成物を実施例1と同様に塗工、乾燥。
露光した後、1チ炭酸ソーダ水溶液(40℃)で現像す
ると10段までの良好な画像が得られた。
実施例 4 ポリメチルメタクリレート5o1 トリメチロールプロパントリアクリレート 40 Fミ
ヒラーケトン 0.57 p、p’−ヒス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン−〇
−ア歓升隘hクム3.5 2 ビクトリアブルー 0.04r メチルエチルケトン 1372 上記組成物を実施例1と同様に塗工、乾燥。
露光、現像すると10段までの良好な画像が得られた。
実施例 5 実施例2の組成物を銅板上に5μmの厚さで塗工、乾燥
した後、クロムマスク(石英製)を重ねて、500W 
Htz−Xe灯(ウシオ電機製)を照射して、クロロセ
ンで現像すると5μmt−での良好な画像が生じた。
比較例 1 ポリメチルメタクリレート 5o 2 トリメチロールプロパントリアクリレート 45 1ベ
ンゾフェノン−〇−アセチルオキシム 5.02ベンゾ
トリアゾール 0.20 f ビクトリアブルー 0.045’ メチルエチルケトン 137 ? 上記組成物を実施例1と同様の処理をすると、60秒照
射しても殆どが未露光部と同様に洗い出されて画像を生
じなかった。
出願人代理人 古 谷 馨

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 p−アミノフェニルケトンおよびオキシムエステル
    からなる光重合開始剤。 2 オキシムエステルが下記一般式で示されるものであ
    る特許請求の範囲第1項記載の光重合開始剤。 (式中R工、R2は同一でも、異なっていてもよく、炭
    素数1〜10のアルキル基、置換または非置換のフェニ
    ル基、す7チル基、アンスリル基。 ピリジル基あるいはキノリル基、あるいはRよとR2が
    結合して環を形成してもよく、R5は炭素数1〜5のア
    ルキル基、あるいは置換または非置換のフェニル基であ
    る。)
JP11243783A 1983-06-22 1983-06-22 光重合開始剤 Granted JPS604502A (ja)

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