JPS604502A - 光重合開始剤 - Google Patents
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- 239000003999 initiator Substances 0.000 title claims abstract description 17
- -1 oxime ester Chemical class 0.000 claims abstract description 18
- ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N bis(4-aminophenyl)methanone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N)C=C1 ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 5
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000005493 quinolyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 claims description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 4
- RBKHNGHPZZZJCI-UHFFFAOYSA-N (4-aminophenyl)-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 RBKHNGHPZZZJCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- GMZRHQOQCJMESC-UHFFFAOYSA-N (propan-2-ylideneamino) acetate Chemical compound CC(C)=NOC(C)=O GMZRHQOQCJMESC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- GSEZYWGNEACOIW-UHFFFAOYSA-N bis(2-aminophenyl)methanone Chemical compound NC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1N GSEZYWGNEACOIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 abstract 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 32
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 8
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 5
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 5
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 5
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 5
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 4
- GNKZMNRKLCTJAY-UHFFFAOYSA-N 4'-Methylacetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=C(C)C=C1 GNKZMNRKLCTJAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- HUDYANRNMZDQGA-UHFFFAOYSA-N 1-[4-(dimethylamino)phenyl]ethanone Chemical compound CN(C)C1=CC=C(C(C)=O)C=C1 HUDYANRNMZDQGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSAYZAUNJMRRIR-UHFFFAOYSA-N 2-acetylnaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC(C(=O)C)=CC=C21 XSAYZAUNJMRRIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N xanthone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3OC2=C1 JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NAJHCMCBUYKMGY-UHFFFAOYSA-N 1-[4-(dibutylamino)phenyl]ethanone Chemical compound CCCCN(CCCC)C1=CC=C(C(C)=O)C=C1 NAJHCMCBUYKMGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYVWLZCLIOJYIN-UHFFFAOYSA-N 1-[4-(diethylamino)phenyl]butan-1-one Chemical compound CCCC(=O)C1=CC=C(N(CC)CC)C=C1 XYVWLZCLIOJYIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NXXNVJDXUHMAHU-UHFFFAOYSA-N 1-anthracen-9-ylethanone Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)C)=C(C=CC=C3)C3=CC2=C1 NXXNVJDXUHMAHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJKVQEKCUACUMD-UHFFFAOYSA-N 2-Acetylpyridine Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=N1 AJKVQEKCUACUMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004105 2-pyridyl group Chemical group N1=C([*])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- JHUUPUMBZGWODW-UHFFFAOYSA-N 3,6-dihydro-1,2-dioxine Chemical compound C1OOCC=C1 JHUUPUMBZGWODW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAZWDJGLIYNYMU-UHFFFAOYSA-N Leucocrystal Violet Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 OAZWDJGLIYNYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical group COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMZOHLNSFFJNFS-UHFFFAOYSA-N [4-(butylamino)phenyl]-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(NCCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 DMZOHLNSFFJNFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IDLJKTNBZKSHIY-UHFFFAOYSA-N [4-(diethylamino)phenyl]-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 IDLJKTNBZKSHIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEUGBYXJXMVRFO-UHFFFAOYSA-N [4-(dimethylamino)phenyl]-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 BEUGBYXJXMVRFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 125000006226 butoxyethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001664 diethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 1
- 125000005448 ethoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000010907 mechanical stirring Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- SJNXJRVDSTZUFB-UHFFFAOYSA-N naphthalen-2-yl(phenyl)methanone Chemical compound C=1C=C2C=CC=CC2=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 SJNXJRVDSTZUFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920005596 polymer binder Polymers 0.000 description 1
- 239000002491 polymer binding agent Substances 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光重合開始剤に関するものであ勺、詳しくは、
活性光線の露光によ勺、露光部のみが光重合により硬化
し、且つ基材への密着性に優れた光重合性樹脂組成物に
使用される光重合開始剤に関する。
活性光線の露光によ勺、露光部のみが光重合により硬化
し、且つ基材への密着性に優れた光重合性樹脂組成物に
使用される光重合開始剤に関する。
光重合性樹脂組成物は活性光線硬化型インキ。
塗料あるいはフォトレジストとして使用されているが、
これらにおける大きな問題点として露光時の塗膜の硬化
性が挙げられる。即ち、塗膜の厚みによってその硬化性
が著しく影響を受ける。例えば、フォトレジストやスク
リーン印刷インキの場合、塗膜の厚みが10〜100
/nrLにも達するため塗膜内面の硬化が不良になシや
すい。
これらにおける大きな問題点として露光時の塗膜の硬化
性が挙げられる。即ち、塗膜の厚みによってその硬化性
が著しく影響を受ける。例えば、フォトレジストやスク
リーン印刷インキの場合、塗膜の厚みが10〜100
/nrLにも達するため塗膜内面の硬化が不良になシや
すい。
又、顔料あるいは染料を光重合性樹脂組成物に加えた場
合においてはこの傾向は著しく、塗膜表面rタンクが残
る等、期待した硬化性能が現われない。
合においてはこの傾向は著しく、塗膜表面rタンクが残
る等、期待した硬化性能が現われない。
この様な硬化性の問題に関して光重合開始剤を種々組合
せることによって改善が試みられている。例えばベンゾ
フェノン又はその誘導体と4.4′−ビス(ジエチルア
ミノ)ベンゾ1フエノンとの組合せ(特公昭53−!+
79[]2、特公昭54−25943)、キサントンと
4,4′−ビス(ジアルキルアミノ)ベンゾフェノンと
の組合せ(特開昭52−92246)などが提案されて
いる。
せることによって改善が試みられている。例えばベンゾ
フェノン又はその誘導体と4.4′−ビス(ジエチルア
ミノ)ベンゾ1フエノンとの組合せ(特公昭53−!+
79[]2、特公昭54−25943)、キサントンと
4,4′−ビス(ジアルキルアミノ)ベンゾフェノンと
の組合せ(特開昭52−92246)などが提案されて
いる。
しかしながら、これらの光重合開始剤は有効ではあるが
、特に染料又は顔料を配合した場合には塗膜の厚みが1
0μm以上になると硬化不良を起しやすく、基材との密
着性が悪くなる等未だ十分ではなかった。
、特に染料又は顔料を配合した場合には塗膜の厚みが1
0μm以上になると硬化不良を起しやすく、基材との密
着性が悪くなる等未だ十分ではなかった。
本発明者等はこの様な問題を解決するために鋭意検討し
た結果、p−アミノフェニルケトンとオキシムエステル
との混合物を光重合開始剤として使用することによル、
塗膜の硬化性に極めて優れ、基材との密着性にも優れた
光重合性組成物が得られることを見い出し、本発明に到
達した。
た結果、p−アミノフェニルケトンとオキシムエステル
との混合物を光重合開始剤として使用することによル、
塗膜の硬化性に極めて優れ、基材との密着性にも優れた
光重合性組成物が得られることを見い出し、本発明に到
達した。
即ち本発明はp−アミノフェニルケトンおよびオキシム
エステルからなる光重合開始剤を提供するものである。
エステルからなる光重合開始剤を提供するものである。
この本発明の光重合開始剤は、光重合性化合物、高分子
バインダーあるいはその他の添加剤等とともに光重合性
樹脂組成物を形成するが、以下これらを含めて具体的に
説明する。
バインダーあるいはその他の添加剤等とともに光重合性
樹脂組成物を形成するが、以下これらを含めて具体的に
説明する。
本発明の光重合開始剤が好適に用いられる光重合性化合
物は分子内に1個以上の重合性二重結合を有する光重合
可能な化合物からなるものである。そのような化合物と
しては、例えばスチレン、α−メチルスチレン、クロロ
スチレンなどのスチレン系化合物、メチル(メタ)アク
リレート、エチル(メタ)アクリレート、n−および1
−プロピル(メタ)アクリレート、n−sθC−および
t−ブチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフ
リル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ
)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレ
ート、ラウリル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ
)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ブ
トキシエチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(
メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリ
レート、メトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキ
シエチル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコー
ル(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール(
メタ)アクリレートなどの一官能(メタ)アクリレート
化合物、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエ
チレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、ポリプロレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メ
タ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)
アクリレート、1.6−ヘキサンシオールジ(メタ)ア
クリレートなどの三官能(メタ)アクリレート、トリメ
チロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチ
ロールエタントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリス
リトールテトラ(メタ)アクリレートなどの三官能以上
の(メタ)アクリレートなどが代表例として挙げられる
。これらの重合性化合物は単独又は組合せて使用するこ
とができ、光重合性樹脂組成物中、5〜80重量%、好
ましくは10〜50重量%の割合で使用される。
物は分子内に1個以上の重合性二重結合を有する光重合
可能な化合物からなるものである。そのような化合物と
しては、例えばスチレン、α−メチルスチレン、クロロ
スチレンなどのスチレン系化合物、メチル(メタ)アク
リレート、エチル(メタ)アクリレート、n−および1
−プロピル(メタ)アクリレート、n−sθC−および
t−ブチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフ
リル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ
)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレ
ート、ラウリル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ
)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ブ
トキシエチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(
メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリ
レート、メトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキ
シエチル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコー
ル(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール(
メタ)アクリレートなどの一官能(メタ)アクリレート
化合物、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエ
チレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、ポリプロレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メ
タ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)
アクリレート、1.6−ヘキサンシオールジ(メタ)ア
クリレートなどの三官能(メタ)アクリレート、トリメ
チロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチ
ロールエタントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリス
リトールテトラ(メタ)アクリレートなどの三官能以上
の(メタ)アクリレートなどが代表例として挙げられる
。これらの重合性化合物は単独又は組合せて使用するこ
とができ、光重合性樹脂組成物中、5〜80重量%、好
ましくは10〜50重量%の割合で使用される。
高分子バインダーとしては、ポリスチレン。
ポリメチルメタクリレート、メチルメタアクリレート−
エチルアクリレート共重合体、ポリ(メタ)アクリル酸
、スチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、(メタ)ア
クリル酸−メチルメタアクリレート共重合体、ポリビニ
ルブチラール、セルロースエステル、ポリアクリルアミ
ド、飽和ポリエステル等があり、目的に応じて選択され
る。
エチルアクリレート共重合体、ポリ(メタ)アクリル酸
、スチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、(メタ)ア
クリル酸−メチルメタアクリレート共重合体、ポリビニ
ルブチラール、セルロースエステル、ポリアクリルアミ
ド、飽和ポリエステル等があり、目的に応じて選択され
る。
本発明のp−アミノフェニルケトンとしては(式中Rお
よびR′はそれぞれ水素または1〜4個の炭素原子を有
する低級アルキル基であル、そしてR“は例えば1〜4
個の炭素原子を有するアルキルまたは単炭素環アリール
、好ましである)で表わされる化合物が好ましい。適当
なp−アミノフェニルケトンにはp−アミノベンゾフェ
ノン、p−ブチルアミノベンゾフェノン、p−ジメチル
アミノアセトフェノン、p−ジメチルアミンプロピオフ
ェノン、p−ジエチルアミノブチロフェノン、p−ジブ
チルアミノアセトフェノン、p−ジメチルアミノベンゾ
フェノン、p−ジエチルアミノフエニ/l/−p−)リ
ルケトン、p−ジエチルアミノベンゾフェノン、p、p
’−ビス(エチルアミノ)ベンゾフェノン、 p、p’
−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン〔ミヒラーケ
トンLp、p’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノ
ンおよびD 、pL−ビス(ジブチルアミノ)ベンゾフ
ェノンが挙げられる。
よびR′はそれぞれ水素または1〜4個の炭素原子を有
する低級アルキル基であル、そしてR“は例えば1〜4
個の炭素原子を有するアルキルまたは単炭素環アリール
、好ましである)で表わされる化合物が好ましい。適当
なp−アミノフェニルケトンにはp−アミノベンゾフェ
ノン、p−ブチルアミノベンゾフェノン、p−ジメチル
アミノアセトフェノン、p−ジメチルアミンプロピオフ
ェノン、p−ジエチルアミノブチロフェノン、p−ジブ
チルアミノアセトフェノン、p−ジメチルアミノベンゾ
フェノン、p−ジエチルアミノフエニ/l/−p−)リ
ルケトン、p−ジエチルアミノベンゾフェノン、p、p
’−ビス(エチルアミノ)ベンゾフェノン、 p、p’
−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン〔ミヒラーケ
トンLp、p’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノ
ンおよびD 、pL−ビス(ジブチルアミノ)ベンゾフ
ェノンが挙げられる。
本発明のオキシムエステルは一般式
ここでR□〜R3は芳香族又は脂肪族の炭化水素あるい
は複素環化合物等種々の有機化合物残基があるが、好ま
しくは以下に示す1)〜6)のものが例示される。
は複素環化合物等種々の有機化合物残基があるが、好ま
しくは以下に示す1)〜6)のものが例示される。
即ち、R1,R2としては次の1)〜4)が挙げられる
。ここでRよ、R2は同一でも、異なっていてもよい。
。ここでRよ、R2は同一でも、異なっていてもよい。
1)炭素数1〜10、好ましくは1〜5の直鎖状あるい
は分岐状のアルキル基 2) 置換又は非置換のフェニル基、ナフチル基。
は分岐状のアルキル基 2) 置換又は非置換のフェニル基、ナフチル基。
アンスリル基であり、置換基としては炭素数1〜10、
好ましくは1〜5の直鎖状あるいは分四状のアルキル基
、炭ni1〜5のアルコキシル基、ハロゲン、アミン基
、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、メルカプト基
等3)2−ピリジル基等のピリジル基、又は6−キノリ
ル基等のキノリル基あるいは2)と同様の置換基を有す
るピリジル基又はキノリル基4】R1と得が結合して環
を形成するフルオレニル基等、あるいは2)と同様の置
換基を有する該フルオレニル基等 又、R3としては次の5)〜6)が例示される。
好ましくは1〜5の直鎖状あるいは分四状のアルキル基
、炭ni1〜5のアルコキシル基、ハロゲン、アミン基
、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、メルカプト基
等3)2−ピリジル基等のピリジル基、又は6−キノリ
ル基等のキノリル基あるいは2)と同様の置換基を有す
るピリジル基又はキノリル基4】R1と得が結合して環
を形成するフルオレニル基等、あるいは2)と同様の置
換基を有する該フルオレニル基等 又、R3としては次の5)〜6)が例示される。
5) メチル基、エチル基、プロピル基、1−プロピル
基、ブチル基、t−ブチル基等の炭素数1〜5のアルキ
ル基 6)フェニル基又は置換フェニル基であル、置換基は前
述の2)で示した置換基と同様である。
基、ブチル基、t−ブチル基等の炭素数1〜5のアルキ
ル基 6)フェニル基又は置換フェニル基であル、置換基は前
述の2)で示した置換基と同様である。
以上、述べたオキシムエステルには種々のケトン−O−
アシルオキシムがあり、具体的にはジメチルケトン−〇
−アセチルオキシム、ジエチルケトン−〇−アセチルオ
キシム、アセトフェノン−〇−アセチルオキシム、アセ
トフェノン−〇−ベンゾイルオキシム、アセトフェノン
−〇−(p−メチルベンゾイル)オキシム、p−メチル
アセトフェノン−〇 −(p −トIJルカルポニル)
オキシム、2−ナフチルメチルケトン−〇−アセチルオ
キシム、2−ナフチルフェニルケトン−〇−プロピルカ
ルボニルオキシム、9−アンスリルメチルケトン−〇−
アセチルオキシム、2−ナフチルメチルケトン−〇−ベ
ンゾイルオキシム、ベンゾフェノン−〇−アセチルオ夫
シム、ベンゾフェノン−〇−フェニルアセチルオキシム
、ベンゾフェノン−0−(p−クロロベンゾイル)オキ
シム、p−ジメチルアミノアセトフェノン−〇−アセチ
ルオキシム、p、p’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾ
フェノン−〇−アセチルオキシム、p、p’−ビス(ジ
エチルアミノ)ベンゾフェノン−〇−ベンゾイルオキシ
ム、フルオレノン−o−(p−メチルベンゾイル)オキ
シム、フルオレノン−〇−アセチルオキシム、2−ピリ
ジルメチルケトン−〇−アセチルオキシム、ジ(2−ピ
リジル)ケトン−07アセチルオキシム、6−キツリル
メチルケトンー〇−エチルカルボニルオキシム、6−キ
ツリルフエニルケトンー〇−アセチルオキシム等がある
。
アシルオキシムがあり、具体的にはジメチルケトン−〇
−アセチルオキシム、ジエチルケトン−〇−アセチルオ
キシム、アセトフェノン−〇−アセチルオキシム、アセ
トフェノン−〇−ベンゾイルオキシム、アセトフェノン
−〇−(p−メチルベンゾイル)オキシム、p−メチル
アセトフェノン−〇 −(p −トIJルカルポニル)
オキシム、2−ナフチルメチルケトン−〇−アセチルオ
キシム、2−ナフチルフェニルケトン−〇−プロピルカ
ルボニルオキシム、9−アンスリルメチルケトン−〇−
アセチルオキシム、2−ナフチルメチルケトン−〇−ベ
ンゾイルオキシム、ベンゾフェノン−〇−アセチルオ夫
シム、ベンゾフェノン−〇−フェニルアセチルオキシム
、ベンゾフェノン−0−(p−クロロベンゾイル)オキ
シム、p−ジメチルアミノアセトフェノン−〇−アセチ
ルオキシム、p、p’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾ
フェノン−〇−アセチルオキシム、p、p’−ビス(ジ
エチルアミノ)ベンゾフェノン−〇−ベンゾイルオキシ
ム、フルオレノン−o−(p−メチルベンゾイル)オキ
シム、フルオレノン−〇−アセチルオキシム、2−ピリ
ジルメチルケトン−〇−アセチルオキシム、ジ(2−ピ
リジル)ケトン−07アセチルオキシム、6−キツリル
メチルケトンー〇−エチルカルボニルオキシム、6−キ
ツリルフエニルケトンー〇−アセチルオキシム等がある
。
これらのオキシムエステルあるいは前述のp−アミノフ
ェニルケトンはそれぞれ2種以上併用してもよい。
ェニルケトンはそれぞれ2種以上併用してもよい。
又、本発明の光重合開始剤にベンゾイン、ベンゾインア
ルキルエーテル、ベンゾフェノン、ベンジル−2,4,
5−)リフェニルビイミダゾール又はこれらの誘導体等
公知の光増感剤を加えて使用することもできる。
ルキルエーテル、ベンゾフェノン、ベンジル−2,4,
5−)リフェニルビイミダゾール又はこれらの誘導体等
公知の光増感剤を加えて使用することもできる。
本発明におけるp−アミノフェニルケトンとオキシムエ
ステルとの使用比率は、それらの種類あるいは光重合性
化合物等の種類により適宜選択されるが、おおよそ重量
比でp−アミノフェニルケトン/オキシムエステル=1
/j00〜10/1の比率で、好ましくは1750〜1
/2の比率で使用される。
ステルとの使用比率は、それらの種類あるいは光重合性
化合物等の種類により適宜選択されるが、おおよそ重量
比でp−アミノフェニルケトン/オキシムエステル=1
/j00〜10/1の比率で、好ましくは1750〜1
/2の比率で使用される。
又、本発明の光重合開始剤は光重合性組成物(固形分)
中0.1〜20重量係、好ましくは1〜10重isの範
囲で使用される。
中0.1〜20重量係、好ましくは1〜10重isの範
囲で使用される。
本発明の光重合開始剤を含有する光重合性樹脂組成物は
、公知の方法により基材に塗布された後、活性光線を照
射され、光重合反応が誘起される。
、公知の方法により基材に塗布された後、活性光線を照
射され、光重合反応が誘起される。
使用される活性光源としては、200〜300 nmに
強い発光をもつ遠紫外光源(Hg−Xe灯、低圧水銀灯
)やエキシマ−レーザーさらに300nm以上の発光ス
ペクトルを有するHg灯、キセノン灯。
強い発光をもつ遠紫外光源(Hg−Xe灯、低圧水銀灯
)やエキシマ−レーザーさらに300nm以上の発光ス
ペクトルを有するHg灯、キセノン灯。
高圧水銀灯、さらにはN2レーザー、アルゴンレーザー
、 He−Neレーザー等が挙げられる0次に本発明を
実施例によシ説明する。
、 He−Neレーザー等が挙げられる0次に本発明を
実施例によシ説明する。
実施例 1
ポリメチルメタクリレート(スミペックス−BH) 5
0 t)IJ#−0−ルプロパントリアクリレート 2
5 fテトラエチレングリコールジアクリレート20t
ミヒラーケトン 0.15r ベンゾトリアゾール 0.20f ロイコクリスタルバイオレツト 0.15fN−メチル
ジェタノールアミン 0.05fビクトリアブルー 0
・042 ベンゾフェノン−〇−アセチルオキシム 3.02メチ
ルエチルケトン 137を 上記組成物を機械的攪拌によシ十分混合した後、銅板に
厚さ25μ扉で塗工した後、75℃で5分間乾燥させる
。次にステップタプレツ) (FujiFi1m製15
段)を重ねて、超高圧水銀灯(2KW)を45zの距離
から10秒照射した。これをクロロセンにて未露光部を
洗い出すことによシ現像した。その結果、8段までの良
好な画像を生じた。
0 t)IJ#−0−ルプロパントリアクリレート 2
5 fテトラエチレングリコールジアクリレート20t
ミヒラーケトン 0.15r ベンゾトリアゾール 0.20f ロイコクリスタルバイオレツト 0.15fN−メチル
ジェタノールアミン 0.05fビクトリアブルー 0
・042 ベンゾフェノン−〇−アセチルオキシム 3.02メチ
ルエチルケトン 137を 上記組成物を機械的攪拌によシ十分混合した後、銅板に
厚さ25μ扉で塗工した後、75℃で5分間乾燥させる
。次にステップタプレツ) (FujiFi1m製15
段)を重ねて、超高圧水銀灯(2KW)を45zの距離
から10秒照射した。これをクロロセンにて未露光部を
洗い出すことによシ現像した。その結果、8段までの良
好な画像を生じた。
実施例 2
ポリメチルメタクリレート 502
トリメチロールプロパントリアクリレート 45 1ミ
ヒラーケトン 0.105’ p−メチルアセトフェノン−〇−アセチルオキシム 5
.52ベンゾトリアゾール 0・201 ビクトリアブルー 0.04f メチルエチルケトン 1372 上記組成物を実施例1と同様に塗工、乾燥。
ヒラーケトン 0.105’ p−メチルアセトフェノン−〇−アセチルオキシム 5
.52ベンゾトリアゾール 0・201 ビクトリアブルー 0.04f メチルエチルケトン 1372 上記組成物を実施例1と同様に塗工、乾燥。
露光、現像すると10段までの良好な画像が得られた。
実施例 3
ポリ(メチルメタクリレート/メタクリル酸戸70/3
01 ’ 505’トリメチロールプロパントリアクリ
レート 40?ミヒラーケトン 0.10 f p−メチルアセトフェノン−〇−アセチルオキシム 4
.01ビクトリアブルー 0.04 r l、4−ジオキサン 1372 上記組成物を実施例1と同様に塗工、乾燥。
01 ’ 505’トリメチロールプロパントリアクリ
レート 40?ミヒラーケトン 0.10 f p−メチルアセトフェノン−〇−アセチルオキシム 4
.01ビクトリアブルー 0.04 r l、4−ジオキサン 1372 上記組成物を実施例1と同様に塗工、乾燥。
露光した後、1チ炭酸ソーダ水溶液(40℃)で現像す
ると10段までの良好な画像が得られた。
ると10段までの良好な画像が得られた。
実施例 4
ポリメチルメタクリレート5o1
トリメチロールプロパントリアクリレート 40 Fミ
ヒラーケトン 0.57 p、p’−ヒス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン−〇
−ア歓升隘hクム3.5 2 ビクトリアブルー 0.04r メチルエチルケトン 1372 上記組成物を実施例1と同様に塗工、乾燥。
ヒラーケトン 0.57 p、p’−ヒス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン−〇
−ア歓升隘hクム3.5 2 ビクトリアブルー 0.04r メチルエチルケトン 1372 上記組成物を実施例1と同様に塗工、乾燥。
露光、現像すると10段までの良好な画像が得られた。
実施例 5
実施例2の組成物を銅板上に5μmの厚さで塗工、乾燥
した後、クロムマスク(石英製)を重ねて、500W
Htz−Xe灯(ウシオ電機製)を照射して、クロロセ
ンで現像すると5μmt−での良好な画像が生じた。
した後、クロムマスク(石英製)を重ねて、500W
Htz−Xe灯(ウシオ電機製)を照射して、クロロセ
ンで現像すると5μmt−での良好な画像が生じた。
比較例 1
ポリメチルメタクリレート 5o 2
トリメチロールプロパントリアクリレート 45 1ベ
ンゾフェノン−〇−アセチルオキシム 5.02ベンゾ
トリアゾール 0.20 f ビクトリアブルー 0.045’ メチルエチルケトン 137 ? 上記組成物を実施例1と同様の処理をすると、60秒照
射しても殆どが未露光部と同様に洗い出されて画像を生
じなかった。
ンゾフェノン−〇−アセチルオキシム 5.02ベンゾ
トリアゾール 0.20 f ビクトリアブルー 0.045’ メチルエチルケトン 137 ? 上記組成物を実施例1と同様の処理をすると、60秒照
射しても殆どが未露光部と同様に洗い出されて画像を生
じなかった。
出願人代理人 古 谷 馨
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 p−アミノフェニルケトンおよびオキシムエステル
からなる光重合開始剤。 2 オキシムエステルが下記一般式で示されるものであ
る特許請求の範囲第1項記載の光重合開始剤。 (式中R工、R2は同一でも、異なっていてもよく、炭
素数1〜10のアルキル基、置換または非置換のフェニ
ル基、す7チル基、アンスリル基。 ピリジル基あるいはキノリル基、あるいはRよとR2が
結合して環を形成してもよく、R5は炭素数1〜5のア
ルキル基、あるいは置換または非置換のフェニル基であ
る。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11243783A JPS604502A (ja) | 1983-06-22 | 1983-06-22 | 光重合開始剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11243783A JPS604502A (ja) | 1983-06-22 | 1983-06-22 | 光重合開始剤 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS604502A true JPS604502A (ja) | 1985-01-11 |
JPH0461006B2 JPH0461006B2 (ja) | 1992-09-29 |
Family
ID=14586604
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11243783A Granted JPS604502A (ja) | 1983-06-22 | 1983-06-22 | 光重合開始剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS604502A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001233842A (ja) * | 1999-12-15 | 2001-08-28 | Ciba Specialty Chem Holding Inc | オキシムエステルの光開始剤 |
WO2005080337A1 (ja) * | 2004-02-23 | 2005-09-01 | Mitsubishi Chemical Corporation | オキシムエステル系化合物、光重合性組成物及びこれを用いたカラーフィルター |
JP2006036750A (ja) * | 2004-02-23 | 2006-02-09 | Mitsubishi Chemicals Corp | オキシムエステル系化合物、光重合性組成物及びこれを用いたカラーフィルター |
WO2008059670A1 (fr) * | 2006-11-15 | 2008-05-22 | Taiyo Ink Mfg. Co., Ltd. | Composition de résine photodurcissable/thermodurcissable, object durci et plaque de câblage imprimée |
WO2008059935A1 (fr) * | 2006-11-15 | 2008-05-22 | Taiyo Ink Mfg. Co., Ltd. | Composition de résine photodurcissable/thermodurcissable, produit durci et planche de câblage imprimé |
Citations (5)
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JPS5533195A (en) * | 1978-08-25 | 1980-03-08 | Agfa Gevaert Nv | Improved photopolymerizable recording material |
JPS5589365A (en) * | 1978-12-28 | 1980-07-05 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | Photo-setting coating composition |
JPS55100543A (en) * | 1979-01-24 | 1980-07-31 | Agfa Gevaert Nv | Photosensitive composition containing ethylenic unsaturated comound* initiator* and sensitizer |
JPS59229553A (ja) * | 1983-05-18 | 1984-12-24 | Hitachi Chem Co Ltd | 光重合性組成物 |
-
1983
- 1983-06-22 JP JP11243783A patent/JPS604502A/ja active Granted
Patent Citations (5)
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