JP5289649B2 - オキシムエステルの光開始剤 - Google Patents

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Description

産業上の利用分野
本発明は、新規なオキシムエステル化合物、及び光重合性組成物中の光開始剤としてのその用途に関する。
米国特許第3,558,309号明細書から、一定のオキシム誘導体は、光開始剤であることが公知である。米国特許第4,255,513号明細書には、オキシムエステル化合物が開示されている。米国特許第4,202,697号明細書は、アクリルアミノ置換されたオキシムエステルを開示している。特開平(7)−140,658号公報、Bull. Chem. Soc. Jpn. 1969, 42(10), 2981-3、Bull. Chem. Soc. Jpn. 1975, 48(8), 2393-4、Han'guk' Somyu Konghakhoechi 1990, 27(9), 672-85、Macromolecules, 1991, 24(15), 4322-7及びEuropean Polymer Journal, 1970, 933-943には、ある種のアルドキシムエステル化合物が記載されている。
米国特許第4,590,145号明細書及び特開昭(61)−24,558号公報には、いくつかのべンゾフェノンオキシムエステル化合物が開示されている。Chemical Abstracts No. 96:52526c、J. Chem. Eng. Data 9(3), 403-4 (1964)、J. Chin. Chem. Soc. (Taipei), 41(5), 573-8, (1994)、特開昭(62)−273,259号公報(=Chemical Abstract No. 109:83463w)、特開昭(62)−286,961号公報(=Derwent No. 88-025703/04)、特開昭(62)−201,859号公報(=Derwent No. 87-288481/41)、特開昭(62)-184,056(=Derwent No. 87-266739/38)、米国特許第5,019,482号明細書、及びJ. of Photochemistry and Photobilogy A, 107, 261-269(1997)には、ある種のp−アルコキシフェニルオキシムエステル化合物が記載されている。
発明が解決しようとする課題
光重合技術においては、高度に反応性に富み、製造が容易、かつ取扱いが容易な光開始剤に対する必要性が依存として存在する。加えて、そのような新規光開始剤は、例えば熱安定性及び貯蔵安定性のような特性に関して、業界の高い必要条件を満たさなければならない。
課題を解決する手段
驚くべきことに、式(I)、(II)、(III)、(IV)及び(V):
Figure 0005289649
〔式中、R1は、(C4〜C6)シクロアルカノイル;非置換であるか、又は1個又はそれ以上のハロゲン、フェニル若しくはCNで置換された(C1〜C12)アルカノイル;二重結合がカルボニル基と共役しない条件での(C4〜C6)アルケノイル;非置換であるか、又は1個又はそれ以上の(C1〜C6)アルキル、ハロゲン、CN、OR3、SR4若しくはNR56で置換されベンゾイル;(C2〜C6)アルコキシカルボニル;ベンジルオキシカルボニル;或いは非置換であるか、又は1個又はそれ以上の(C1〜C6)アルキル若しくはハロゲンで置換されたフェノキシカルボニルであり;
2は、非置換であるか、又は1個又はそれ以上の(C1〜C6)アルキル、フェニル、ハロゲン、OR3、SR4若しくはNR56で置換されたフェニル;(C1〜C20)アルキル又は場合により1個又はそれ以上の−O−で遮断され、及び/又は場合により1個又はそれ以上のハロゲン、OH、OR3、フェニル、又はOR3、SR4若しくはNR56で置換されたフェニルで置換された(C2〜C20)アルキル;(C3〜C8)シクロアルキル;(C2〜C20)アルカノイル;非置換であるか、又は1個又はそれ以上の(C1〜C6)アルキル、フェニル、OR3、SR4若しくはNR56で置換されたベンゾイル;場合により1個又はそれ以上の−O−で遮断され、及び/又は場合により1個又はそれ以上のヒドロキシル基で置換された(C2〜C12)アルコキシカルボニル;非置換であるか、又は(C1〜C6)アルキル、ハロゲン、フェニル、OR3、SR4若しくはNR56で置換されたフェノキシカルボニル;−CONR56;或いはCNであり;
Ar1は、
Figure 0005289649
であって、それぞれ、場合によりハロゲン、(C1〜C12)アルキル、(C3〜C8)シクロアルキル、ベンジル、OR3、SR4、SOR4、SO24若しくはNR56で1〜4回置換されていて、置換基OR3、SR4又はNR56は、場合により、基R3、R4、R5及び/又はR6を介して、フェニル環のそれ以外の置換基とともにか、又はフェニル環の炭素原子の一つとともに五若しくは六員環を形成するが;
(i)SR4が2−SC(CH33ならば、R1はベンゾイルではなく;
(ii)SR4が2−SCH3又は4−SCH3ならば、R1は、2−ヨードベンゾイル又は4−メトキシベンゾイルではなく;
(iii)NR56は、4−N(CH32又は2−NHCO−フェニルではなく;
(iv)NR56が2−NH2、2−NHCOCH3、4−NHCOCH3、2−NHCOOCH3ならば、R1はアセチルではなく;
(v)NR56が4−NHCO−フェニルならば、R1はベンゾイルではなく;そして
(vi)NR56が4−N(CH2CH32ならば、R1は3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシベンゾイルではない
ことを条件とするか;或いは
Ar1は、
Figure 0005289649
であって、場合により、ハロゲン、(C1〜C12)アルキル、(C3〜C8)シクロアルキル、ベンジル、OR3、SOR4又はSO24で1〜3回置換されていて、置換基OR3及び/又はOR3′は、場合により、基R3及び/又はR3′を介して、フェニル環のそれ以外の置換基とともにか、又はフェニル環の炭素原子の一つとともに六員環を形成するが;
(vii)Ar1が2,4−ジメトキシフェニルならば、R1はアセチル又はベンゾイルではなく;
(viii)Ar1が3,5−ジブロモ−2,4−ジメトキシフェニルならば、R1はクロロアセチルではなく;そして
(ix)Ar1が2,5−ジメトキシフェニル、2−アセチルオキシ−3−メトキシフェニル、2,4,5−トリメトキシフェニル、2,6−ジアセトキシ−4−メチルフェニル又は2,6−ジアセトキシ−4−アセトキシメチルフェニルならば、R1はアセチルではない
ことを条件とするか;或いは
Ar1は、
Figure 0005289649
であって、それぞれ、非置換であるか、又はハロゲン、(C1〜C12)アルキル若しくは(C3〜C8)シクロアルキルで1〜9回置換されているか;又はそれぞれ、フェニル、又は1個又はそれ以上のOR3、SR4若しくはNR56で置換されたフェニルで置換されているか;又はそれぞれ、ベンジル、ベンゾイル、(C2〜C12)アルカノイルでか、場合により1個若しくはそれ以上の−O−で遮断され、及び/又は場合により1個若しくはそれ以上のヒドロキシル基で置換された(C2〜C12)アルコキシカルボニルで置換されているか;又はそれぞれ、フェノキシカルボニル、OR3、SR4、SOR4、SO4若しくはNR56で置換されていて、置換基OR3、SR4又はNR56は、場合により、基R3、R4、R5及び/又はR6を介して、縮合芳香環のそれ以外の置換基とともにか、又は縮合芳香環の炭素原子の一つとともに五若しくは六員環を形成するが;
(x)Ar1は、1−ナフチル、2−ナフチル、2−メトキシ−1−ナフチル、4−メトキシ−1−ナフチル、2−ヒドロキシ−1−ナフチル、4−ヒドロキシ−1−ナフチル、1,4−ジアセチルオキシ−2−ナフチル、1,4,5,8−テトラメトキシ−2−ナフチル、9−フェナントリル、9−アントリルではなく;そして
(xi)Ar1が10−(4−クロロフェニルチオ)−9−アントリルならば、R1はピバロイルではない
ことを条件とするか;或いは
Ar1は、ベンゾイル、ナフタレンカルボニル、フェナントレンカルボニル、アントラセンカルボニル又はピレンカルボニルであって、それぞれ、非置換であるか、又はハロゲン、(C1〜C12)アルキル、(C3〜C8)シクロアルキル、フェニル、又は1個又はそれ以上のOR3、SR4若しくはNR56で置換されたフェニルで1〜9回置換されているか;又はそれぞれ、ベンジル、ベンゾイル、(C2〜C12)アルカノイルでか、場合により1個又はそれ以上の−O−で遮断され、及び/又は場合により1個又はそれ以上のヒドロキシル基、フェノキシカルボニル、OR3、SR4、SOR4、SO24若しくはNR56で置換された(C2〜C12)アルコキシカルボニルで置換されていて、置換基OR3、SR4及びNR56は、場合により、基R3、R4、R5及び/又はR6を介して、縮合芳香環のそれ以外の置換基とともにか、又は縮合芳香環の炭素原子の一つとともに五若しくは六員環を形成するが;
(xii)Ar1がベンゾイルならばR1は、アセチル、ベンゾイル又は4−メチルベンゾイルではなく;
(xiii)Ar1が4−ベンゾイルオキシベンゾイル又は4−クロロメチルベンゾイルならば、R1は、ベンゾイルではなく;
(xiv)Ar1が4−メチルベンゾイル、4−ブロモベンゾイル又は2,4−ジメチルベンゾイルならば、R1は、アセチルではない
ことを条件とするか;或いは、
Ar1は、3,4,5−トリメトキシフェニル又はフェノキシフェニルであるか;或いは、
Ar1は、場合によりハロゲン、(C1〜C12)アルキル、(C4〜C9)シクロアルカノイル、−(CO)OR3、−(CO)NR56、−(CO)R8、OR3、SR4及び/又はNR56で1〜9回置換されたビフェニリルであって、置換基(C1〜C12)アルキル、−(CO)R8、OR3、SR4又はNR56は、場合により、基(C1〜C12)アルキル、R3、R4、R5、R8及び/又はR6を介して、フェニル環のそれ以外の置換基とともにか、又はフェニル環の炭素原子の一つとともに五若しくは六員環を形成するが;
(xv)Ar1がビフェニリルならば、R1は、ベンゾイルではない
ことを条件とするか;或いは
Ar1は、
Figure 0005289649
であって、ともに、場合により、ハロゲン、(C1〜C12)アルキル、(C3〜C8)シクロアルキル、ベンジル、OR3、SR4又はNR56で1〜4回置換されていて、置換基OR3、SR4又はNR56は、場合により、基R3、R4、R5及び/又はR6を介して、フェニル環のそれ以外の置換基とともにか、又はフェニル環の炭素原子の一つ若しくは置換基R8とともに五若しくは六員環を形成するか;或いは、
Ar1は、R1がアセチルである条件で、チエニル又は1−メチル−2−ピロリルであり;
Ar2は、
Figure 0005289649
であって、それぞれ、非置換であるか、又はハロゲン、(C1〜C12)アルキル、(C3〜C8)シクロアルキル、フェニル、1個又はそれ以上のOR3、SR4若しくはNR56で置換されたフェニルで1〜9回置換されているか;又はそれぞれ、ベンジル;ベンゾイル;(C2〜C12)アルカノイル;場合により1個若しくはそれ以上の−O−で遮断され、及び/又は場合により1個若しくはそれ以上のヒドロキシル基で置換された(C2〜C12)アルコキシカルボニル;フェノキシカルボニル;OR3;SR4;SOR4;SO24若しくはNR56で置換されていて、置換基OR3、SR4又はNR56は、場合により、基R3、R4、R5及び/又はR6を介して、縮合芳香環のそれ以外の置換基とともにか、又は縮合芳香環の炭素原子の一つとともに五若しくは六員環を形成するが;
(xvi)Ar2が1−ナフチル、2−ナフチル又は1−ヒドロキシ−2−ナフチルならば、R2は、メチル、エチル、n−プロピル、ブチル、フェニル又はCNではなく;
(xvii)Ar2が2−ヒドロキシ−1−ナフチル、2−アセトキシ−1−ナフチル、3−フェナントリル、9−フェナントリル又は9−アントリルならば、R2はメチルではなく;そして
(xviii)Ar2が6−メトキシ−2−ナフチルならば、R1は、(CH33CCO又は4−クロロベンゾイルではない
ことを条件とし;
xは、2又は3であり;
1は、xが2であるとき、
Figure 0005289649
であって、それぞれ、場合により、ハロゲン、(C1〜C12)アルキル、(C3〜C8)シクロアルキル、非置換であるか、又は1個又はそれ以上のOR3、SR4若しくはNR56で置換されたフェニルで1〜8回置換されているか;或いはそれぞれ、ベンジル、ベンゾイル、(C2〜C12)アルカノイル、場合により1個若しくはそれ以上の−O−で遮断され、及び/又は場合により1個又はそれ以上のヒドロキシル基で置換された(C2〜C12)アルコキシカルボニルで置換されているか、或いはそれぞれ、フェノキシカルボニル、OR3、SR4、SOR4、SO24又はNR56で置換されているが、
(xix)M1は、1,3−フェニレン、1,4−フェニレン、1−アセトキシ−2−メトキシ−4,6−フェニレン又は1−メトキシ−2−ヒドロキシ−3,5−フェニレンではない
ことを条件とし;
1は、xが3であるとき、
Figure 0005289649
であって、それぞれ、場合により、ハロゲン、(C1〜C12)アルキル、(C3〜C8)シクロアルキル、非置換であるか、又は1個又はそれ以上のOR3、SR4若しくはNR5で置換されたフェニルで1〜12回置換されているか;或いはそれぞれ、ベンジル、ベンゾイル、(C2〜C12)アルカノイル、場合により1個又はそれ以上の−O−で遮断され、及び/又は場合により1個又はそれ以上のヒドロキシル基で置換された(C2〜C12)アルコキシカルボニルで置換されているか;或いはそれぞれ、フェノキシカルボニル、OR3、SR4、SOR4、SO24又はNR56で置換されており;
2は、
Figure 0005289649
であって、それぞれ、場合により、ハロゲン、(C1〜C12)アルキル、(C3〜C8)シクロアルキル、非置換であるか、又は1個又はそれ以上のOR3、SR4若しくはNR56で置換されたフェニルで1〜8回置換されているか;或いはそれぞれ、ベンジル、ベンゾイル、(C2〜C12)アルカノイル、場合により1個又はそれ以上の−O−で遮断され、及び/又は場合により1個又はそれ以上のヒドロキシル基で置換された(C2〜C12)アルコキシカルボニルで置換されているか;或いはそれぞれ、フェノキシカルボニル、OR3、SR4、SOR4、SO24又はNR56で置換されているが、
(xx)M2は、
Figure 0005289649
ではないことを条件とし;
3は、(C1〜C12)アルキレン、シクロヘキシレン、フェニレン、−(CO)O−(C2〜C12)アルキレン−O(CO)−、−(CO)O−(CH2CH2O)n−(CO)−又は−(CO)−(C2〜C12)アルキレン−(CO)−であり;
nは、1〜20であり;
4は、直接結合、−O−、−S−、−SS−、−NR3−、−(CO)−、(C1〜C12)アルキレン、シクロヘキシレン、フェニレン、ナフチレン、(C2〜C12)アルキレンジオキシ、(C2〜C12)アルキレンジスルファニル、−(CO)O−(C2〜C12)アルキレン−O(CO)−、−(CO)O−(CH2CH2O)n−(CO)−若しくは−(CO)−(C1〜C12)アルキレン−(CO)−であるか、又はM4は、それぞれが、場合により1〜5個の−O−、−S−及び/又は−NR3−で遮断された、(C4〜C12)アルキレン若しくは(C4〜C12)アルキレンジオキシであり;
5は、直接結合、−CH2−、−O−、−S−、−SS−、−NR3−又は−(CO)−であり;
6は、
Figure 0005289649
であり;
7は、−O−、−S−、−SS−若しくは−NR3−;又はそれぞれ、場合により1〜5個の−O−、−S−及び/又は−NR3−で遮断された、−O(CO)−(C2〜C12)アルキレン−(CO)O−、−NR3(CO)−(C2〜C12)アルキレン−(CO)NR3−若しくは(C2〜C12)アルキレンジオキシであり;
3は、水素若しくは(C1〜C20)アルキル;−OH、−SH、−CN、(C3〜C6)アルケンオキシ、−OCH2CH2CN−、−OCH2CH2(CO)O(C1〜C4)アルキル、−O(CO)−(C1〜C4)アルキル、−O(CO)フェニル、−(CO)OH若しくは−(CO)O(C1〜C4)アルキルで置換された(C2〜C8)アルキル;1個又はそれ以上の−O−で遮断された(C2〜C12)アルキル;−(CH2CH2O)n+1H;−(CH2CH2O)n(CO)−(C1〜C8)アルキル;(C1〜C8)アルカノイル;(C3〜C12)アルケニル;(C3〜C6)アルケノイル;(C3〜C8)シクロアルキル;非置換であるか、又は1個又はそれ以上の(C1〜C6)アルキル、ハロゲン、−OH若しくは(C1〜C4)アルコキシで置換されたベンゾイル;それぞれ、非置換であるか、又はハロゲン、−OH、(C1〜C12)アルキル、(C1〜C12)アルコキシ若しくは−(CO)R7で置換されたフェニル若しくはナフチル;フェニル−(C1〜C3)アルキル;或いはSi〔(C1〜C6)アルキル〕r(フェニル)3-rであり;
rは、0、1、2又は3であり、
3′は、(C1〜C20)アルキル;−OH、−SH、−CN、(C3〜C6)アルケンオキシ、−OCH2CH2CN、−OCH2CH2(CO)O(C1〜C4)アルキル、−O(CO)−(C1〜C4)アルキル、−O(CO)フェニル、−(CO)OH若しくは−(CO)O(C1〜C4)アルキルで置換された(C2〜C8)アルキル;1個又はそれ以上の−O−で遮断された(C2〜C12)アルキル;−(CH2CH2O)n+1H;−(CH2CH2O)n(CO)−(C1〜C8)アルキル;(C2〜C8)アルカノイル;(C3〜C12)アルケニル;(C3〜C6)アルケノイル;(C3〜C8)シクロアルキル;非置換であるか、又は1個又はそれ以上の(C1〜C6)アルキル、ハロゲン、−OH若しくは(C1〜C4)アルコキシで置換されたベンゾイル;それぞれ、非置換であるか、又はハロゲン、−OH、(C1〜C12)アルキル、(C1〜C12)アルコキシ又は−(CO)R7で置換されたフェニル若しくはナフチル;フェニル−(C1〜C3)アルキル;或いはSi〔(C1〜C6)アルキル〕r(フェニル)3-rであり;
4は、水素;(C1〜C20)アルキル;(C3〜C12)アルケニル;(C3〜C8)シクロアルキル;フェニル(C1〜C3)アルキル;−OH、−SH、−CN、(C3〜C6)アルケンオキシ、−OCH2CH2CN、−OCH2CH2(CO)O(C1〜C4)アルキル、−O(CO)−(C1〜C4)アルキル、−O(CO)フェニル、−(CO)OH若しくは−(CO)O(C1〜C4)アルキルで置換された(C2〜C8)アルキル;1個又はそれ以上の−O−若しくは−S−で遮断された(C2〜C12)アルキル;−(CH2CH2O)n+1H;−(CH2CH2O)n(CO)−(C1〜C8)アルキル;(C2〜C8)アルカノイル;ベンゾイル;(C3〜C12)アルケニル;(C3〜C6)アルケノイル;或いはそれぞれが、非置換であるか、又はハロゲン、(C1〜C12)アルキル、(C1〜C12)アルコキシ、フェニル(C1〜C3)アルコキシ、フェノキシ、(C1〜C12)アルキルフルファニル、フェニルスルファニル、−N〔(C1〜C12)アルキル〕2、ジフェニルアミノ、−(CO)R7、−(CO)OR7又は−(CO)N(R72で置換されたフェニル若しくはナフチルであり;
5及びR6は、互いに独立に、水素;(C1〜C20)アルキル;(C2〜C4)ヒドロキシアルキル;(C2〜C10)アルコキシアルキル;(C3〜C5)アルケニル;(C3〜C8)シクロアルキル;フェニル(C1〜C3)アルキル;(C2〜C8)アルカノイル;(C3〜C12)アルケノイル;ベンゾイル;それぞれが、非置換であるか、又は(C1〜C12)アルキル、(C1〜C12)アルコキシ又は−(CO)R7で置換されたフェニル若しくはナフチルであるか;或いはR5及びR6は一緒になって、場合により−O−若しくは−NR3−で遮断され、及び/又は場合によりヒドロキシル、(C1〜C4)アルコキシ、(C2〜C4)アルカノイルオキシ若しくはベンゾイルオキシで置換された(C2〜C6)アルキレンであり;
7は、水素;(C1〜C20)アルキル;ハロゲン、フェニル、−OH、−SH、−CN、(C3〜C6)アルケンオキシ、−OCH2CH2CN、−OCH2CH2(CO)O(C1〜C4)アルキル、−O(CO)−(C1〜C4)アルキル、−O(CO)フェニル、−(CO)OH若しくは−(CO)O(C1〜C4)アルキルで置換された(C2〜C8)アルキル;1個又はそれ以上の−O−で遮断された(C2〜C12)アルキル;−(CH2CH2O)n+1H;−(CH2CH2O)n(CO)−(C1〜C8)アルキル;(C3〜C12)アルケニル;(C3〜C8)シクロアルキル;或いは場合により1個又はそれ以上のハロゲン、−OH、(C1〜C12)アルキル、(C1〜C12)アルコキシ、フェノキシ、(C1〜C12)アルキルスルファニル、フェニルスルファニル、−N〔(C1〜C12)アルキル〕2若しくはジフェニルアミノで置換されたフェニルであり;
8は、場合により1個又はそれ以上のハロゲン、フェニル、CN、−OH、−SH、(C1〜C4)アルコキシ、−(CO)OH若しくは−(CO)O(C1〜C4)アルキルで置換された(C1〜C12)アルキル;(C3〜C6)アルケニル;或いは場合により1個又はそれ以上の(C1〜C6)アルキル、ハロゲン、CN、OR3、SR4若しくはNR56で置換されたフェニルである〕
で示される化合物は、光重合反応の際に、意外にも優れた性能を示すことが見出された。
置換された基であるフェニルは、1〜4回、例えば1、2又は3回、特に2回置換されている。フェニル環における置換基は、好ましくは、フェニル環の4位にか、又は3,4−、3,4,5−、2,6−、2,4−若しくは2,4,6−の立体配置で存在する。
置換されたアリール基であるAr1及びAr2は、それぞれ、1〜9回又は1〜7回置換されている。定義されたアリール基が、アリール環の自由な位置より多くの置換基を有し得ないことは明らかである。これらの基は、1〜9回、例えば1〜6回又は1〜4回、特に1、2又は3回置換されている。
(C1〜C20)アルキルは、直鎖又は分枝鎖状であり、例えば、(C1〜C18)−、(C1〜C14)−、(C1〜C12)−、(C1〜C8)−、(C1〜C6)−若しくは(C1〜C4)−アルキル、又は(C4〜C12)−若しくは(C4〜C8)−アルキルである。例は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、sec−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、2,4,4−トリメチルペンチル、2−エチルヘキシル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、オクタデシル及びイコシルである。
(C2〜C20)アルキル、(C1〜C12)アルキル、(C2〜C12)アルキル、(C1〜C6)アルキル、(C2〜C6)アルキル及び(C1〜C4)アルキルは、相当する数のC原子まで、(C1〜C20)アルキルについて上に示したのと同じ意味を有する。
1個又はそれ以上の−O−で遮断された(C2〜C20)アルキルは、−O−によって、例えば1〜9回、1〜5回、1〜3回又は1回若しくは2回遮断されている。2個のO原子は、少なくとも二つのメチレン基、すなわちエチレンによって隔てられる。アルキル基は、直鎖又は分枝鎖状である。例えば、下記の構造単位が生じることになる:−CH2−CH2−O−CH2CH3、−〔CH2CH2O〕y−CH3(式中、y=1〜9)、−(CH2−CH2O)7−CH2CH3、−CH2−CH(CH3)−O−CH2−CH2CH3又は−CH2−CH(CH3)−O−CH2−CH3。1又は2個の−O−で遮断された(C2〜C6)アルキルは、例えば−CH2CH2−O−CH2CH2−OCH2CH3又は−CH2CH2−O−CH2CH3である。
(C2〜C4)ヒドロキシアルキルは、1又は2個のO原子で置換された(C2〜C4)アルキルを意味する。アルキル基は、直鎖又は分枝鎖状である。例は、2−ヒドロキシエチル、1−ヒドロキシエチル、1−ヒドロキシプロピル、2−ヒドロキシプロピル、3−ヒドロキシプロピル、1−ヒドロキシブチル、4−ヒドロキシブチル、2−ヒドロキシブチル、3−ヒドロキシブチル、2,3−ジヒドロキシプロピル又は2,4−ジヒドロキシブチルである。
(C3〜C8)シクロアルキルは、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロオクチル、特にシクロペンチル及びシクロヘキシルである。
(C1〜C4)アルコキシは、直鎖又は分枝鎖状の、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブチルオキシ、sec−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、tert−ブチルオキシである。
(C2〜C10)アルコキシアルキルは、1個のO原子で遮断された(C2〜C10)である、(C2〜C10)アルキルは、相当する数のC原子まで、(C1〜C20)について上に示したのと同じ意味を有する。例は、メトキシメチル、メトキシエチル、メトキシプロピル、エトキシメチル、エトキシエチル、エトキシプロピル、プロポキシメチル、プロポキシエチル、プロポキシプロピルである。
(C2〜C20)アルカノイルは、直鎖又は分枝鎖であり、例えば、(C2〜C18)−、(C2〜C14)−、(C2〜C12)−、(C2〜C8)−、(C2〜C6)−若しくは(C2〜C4)−アルカノイル、又は(C4〜C12)−若しくは(C4〜C8)−アルカノイルである。例は、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、イソブタノイル、ペンタノイル、ヘキサノイル、ヘプタノイル、オクタノイル、ノナノイル、デカノイル、ドデカノイル、テトラデカノイル、ペンタデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、イコサノイル、好ましくはアセチルである。(C1〜C12)アルカノイル、(C2〜C12)アルカノイル、(C1〜C8)アルカノイル、(C2〜C8)アルカノイル及び(C2〜C4)アルカノイルは、相当する数のC原子まで、(C2〜C20)アルカノイルについて上に示したのと同じ意味を有する。
(C4〜C9)シクロアルカノイルは、例えば、シクロプロパノイル、シクロブタノイル、シクロペンタノイル、シクロヘキサノイル、シクロオクタノイルである。
(C2〜C4)アルカノイルオキシは、直鎖又は分枝鎖状の、例えばアセチルオキシ、プロピオニルオキシ、ブタノイルオキシ、イソブタノイルオキシ、好ましくはアセチルオキシである。
(C2〜C12)アルコキシカルボニルは、直鎖又は分枝鎖であり、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、n−ブチルオキシカルボニル、イソブチルオキシカルボニル、1,1−ジメチルプロポキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル、ヘプチルオキシカルボニル、オクチルオキシカルボニル、ノニルオキシカルボニル、デシルオキシカルボニル又はドデシルオキシカルボニル、特にメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、n−ブチルオキシカルボニル又はイソブチルオキシカルボニル、好ましくはメトキシカルボニルである。
(C2〜C6)アルコキシカルボニルは、相当する数のC原子まで、(C2〜C12)アルコキシカルボニルについて上に示したのと同じ意味を有する。
1個又はそれ以上の−O−で遮断された(C2〜C12)アルコキシカルボニルは、直鎖又は分枝鎖状である。2個のO原子は、少なくとも二つのメチレン基、すなわちエチレンによって隔てられている。
フェノキシカルボニルは、
Figure 0005289649
である。置換されたフェノキシカルボニル基は、1〜4回、例えば1、2又は3回、特に2又は3回置換されている。フェニル環における置換基は、好ましくは、フェニル環の4位にか、又は3,4−、3,4,5−、2,6−、2,4−若しくは2,4,6−位に、特に4−又は3,4−位に存在する。
フェニル(C1〜C3)アルキルは、例えば、ベンジル、フェニルエチル、α−メチルベンジル又はα,α−ジメチルベンジル、特にベンジルである。
(C3〜C12)アルケニル基は、モノ−又はポリ−不飽和であってよく、例えば、アリル、メタリル、1,1−ジメチルアリル、1−ブテニル、3−ブテニル、2−ブテニル、1,3−ペンタジエニル、5−ヘキセニル、7−オクテニル又はドデセニル、特にアリルである。(C3〜C5)アルケニル基は、相当する数のC原子まで、(C3〜C12)アルケニル基について上に示したのと同じ意味を有する。
(C3〜C6)アルケノキシ基は、モノ−又はポリ−不飽和であってよく、例えば、アリルオキシ、メタリルオキシ、ブテニルオキシ、ペンテノキシ、1,3−ペンタジエニルオキシ、5−ヘキセニルオキシである。
(C3〜C6)アルケノイル基は、モノ−又はポリ−不飽和であってよく、例えば、プロペノイル、2−メチルプロペノイル、ブテノイル、ペンテノイル、1,3−ペンタジエノイル、5−ヘキセノイルである。
ハロゲンは、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素、特にフッ素、塩素及び臭素、好ましくはフッ素及び塩素である。
フェノキシフェニルは、2−フェノキシフェニル、3−フェノキシフェニル又は4−フェノキシフェニルである。ビフェニリルは、2−ビフェニリル、3−ビフェニリル又は4−ビフェニリルである。チエニルは、1−チエニル又は2−チエニルである。
フェニル環における置換基OR3、SR4又はNR56が、基R3、R4、R5及び/又はR6を介して、フェニル環のそれ以外の置換基とともにか、又はフェニル環の炭素原子の一つとともに五若しくは六員環を形成するならば、二環又は四境(フェニル環を包含する)を含む構造が得られる。例は、
Figure 0005289649
である。
ビフェニリル基における置換基(C1〜C12)アルキル、−(CO)R8、OR3、SR4又はNR56が、基(C1〜C12)アルキル、基R3、R4、R5、R6及び/又はR8を介して、フェニル環のそれ以外の置換基とともにか、又はフェニル環の炭素原子の一つとともに五若しくは六員環を形成するならば、三環又は四環(ビフェニリル基を包含する)を含む構造が得られる。例は、
Figure 0005289649
である。
基R8(CO)−フェニルにおける置換基OR3、SR4又はNR56が、基R3、R4、R5及び/又はR6を介して、フェニル環のそれ以外の置換基とともにか、又はフェニル環の炭素原子の一つ若しくは置換基R8とともに五若しくは六員環を形成するならば、二環又は三環(フェニル基を包含する)を含む構造が得られる。R8がフェニルならば、例は、
Figure 0005289649
である。
好ましいのは、R1が、(C2〜C6)アルコキシカルボニル;ベンジルオキシカルボニル;非置換であるか、又は1個又はそれ以上のハロゲン若しくはフェニルで置換された(C1〜C12)アルカノイル;二重結合がカルボニル基と共役しない条件での(C4〜C6)アルケノイル;非置換であるか、又は1個又はそれ以上の(C1〜C6)アルキル若しくはハロゲンで置換されたベンゾイルであり;
Ar1が、
Figure 0005289649
であって、それぞれ、場合によりハロゲン、(C1〜C12)アルキル、OR3、SR4又はNR56で1〜4回置換されていて、置換基OR3、SR4又はNR56は、場合により、基R3、R4、R5及び/又はR6を介して、フェニル環のそれ以外の置換基とともにか、又はフェニル環の炭素原子の一つとともに五若しくは六員環を形成するか;或いは
Ar1が、
Figure 0005289649
であって、場合により、ハロゲン、(C1〜C12)アルキル又はOR3で1〜3回置換されていて、置換基OR3及び/又はOR3′は、場合により、基R3及び/又はR3′を介して、フェニル環のそれ以外の置換基とともにか、又はフェニル環の炭素原子の一つとともに六員環を形成するか;或いは
Ar1が、非置換であるか、又はハロゲン、(C1〜C12)アルキル、OR3、SR4若しくはNR56で1〜7回置換されたナフチルであって、置換基OR3、SR4又はNR56は、場合により、基R3、R4、R5及び/又はR6を介して、縮合芳香環のそれ以外の置換基とともにか、又はナフチル環の炭素原子の一つとともに五若しくは六員環を形成するか;或いは
Ar1が、ビフェニリルであって、場合により、ハロゲン、(C1〜C12)アルキル、−(CO)R8、OR3、SR4又はNR56で1〜9回置換されていて、置換基(C1〜C12)アルキル、OR3、SR4又はNR56は、場合により、基(C1〜C12)アルキル、R3、R4、R5及び/又はR6を介して、フェニル環のそれ以外の置換基とともにか、又はフェニル環の炭素原子の一つとともに五若しくは六員環を形成するか;或いは
Ar1が、
Figure 0005289649
であって、ともに、場合により、ハロゲン、(C1〜C12)アルキル、OR3、SR4、SOR4、SO24又はNR56で1〜4回置換されていて、置換基OR3、SR4又はNR56は、場合により、基R3、R4、R5及び/又はR6を介して、フェニル環のそれ以外の置換基とともにか、又はフェニル環の炭素原子の一つ若しくは置換基R8とともに五若しくは六員環を形成し;
1が、
Figure 0005289649
であって、それぞれ、場合により、ハロゲン、(C1〜C12)アルキル、フェニル、OR3、SR4又はNR56で1〜8回置換されている
請求項1記載の式(I)及び(II)の化合物である。
特に好ましいのは、R1が、(C1〜C12)アルカノイル、ベンゾイル又は(C2〜C6)アルコキシカルボニルであり;
Ar1が、それぞれ、場合により(C1〜C8)アルキル、OR3又はSR4で置換された、R4S−フェニル若しくはNR56−フェニルであるか;或いは場合によりOR3で置換された、
Figure 0005289649
であるか;それぞれ、場合によりOR3、SR4又はNR56で置換された、1−ナフチル若しくは2−ナフチルであるか;或いは3,4,5−トリメトキシフェニル又はフェノキシフェニルであるか;或いは場合により(C1〜C12)アルキル、OR3及び/又はNR56で置換された、ビフェニリルであって、置換基(C1〜C12)アルキル、OR3、SR4又はNR56は、場合により、基(C1〜C12)アルキル、R3、R4、R5及び/又はR6を介して、フェニル環のそれ以外の置換基とともにか、又はフェニル環の炭素原子の一つとともに五若しくは六員環を形成するか;或いは
Figure 0005289649
であって、ともに、場合により、OR3又はSR4で置換されていて、置換基OR3又はSR4は、基R3を介して、及び/又はフェニル環のそれ以外の置換基とともにか、又はフェニル環の炭素原子の一つ若しくは置換基R8とともに五若しくは六員環を形成するか;或いはR1がアセチルである条件で、チエニル又は1−メチル−2−ピロリルであり;
xが2であり;
1が、場合によりOR3で置換された
Figure 0005289649
であり;
4が、直接結合、−O−、−S−、−SS−又は(C2〜C12)アルキレンジオキシであり;
3が、(C1〜C8)アルキル、フェニル又はフェニル−(C1〜C3)アルキルであり;
3′が、(C1〜C8)アルキル、(C3〜C12)アルケニル又はフェニル−(C1〜C3)アルキルであり;
4が、(C1〜C20)アルキル;フェニル−(C1〜C3)アルキル;ベンゾイル;ともに非置換であるか、又は(C1〜C12)アルキル、フェニル−(C1〜C3)アルキルオキシ、−(CO)R7又は−(CO)OR7で置換されたフェニル若しくはナフチルであり;
5及びR6が、互いに独立に、水素、フェニル(C1〜C3)アルキル、(C2〜C8)アルカノイル又はフェニルであり;
7が、(C1〜C20)アルキル又はフェニルであり;
8が、場合によりOR3で置換されたフェニルである
式(I)及び(II)の化合物である。
更に好ましいのは、R1が、(C2〜C6)アルコキシカルボニル;ベンジルオキシカルボニル;非置換であるか、又は1個又はそれ以上のハロゲン若しくはフェニルで置換された(C1〜C12)アルカノイル;二重結合がカルボニル基と共役しない条件での(C4〜C6)アルケノイル;非置換であるか、又は1個又はそれ以上の(C1〜C6)アルキル若しくはハロゲンで置換されたベンゾイルであり;
2が、非置換であるか、又は1個又はそれ以上の(C1〜C6)アルキル、フェニル、ハロゲン、OR3、SR4若しくはNR56で置換されたフェニル;場合により1個又はそれ以上の−O−で遮断され、及び/又は場合により1個又はそれ以上のハロゲン、OH、OR3、フェニル、又はOR3、SR4若しくはNR56で置換されたフェニルで置換された(C1〜C20)アルキルであり;
Ar2が、
Figure 0005289649
であるか;ナフチル又はナフトイルであって、それぞれ、非置換であるか、又はハロゲン、(C1〜C12)アルキル、フェニル、OR3、SR4若しくはNR56で1〜9回置換されていて、置換基OR3、SR4又はNR56は、場合により、基R3、R4、R5及び/又はR6を介して、縮合芳香環のそれ以外の置換基とともにか、又はナフチル環の炭素原子の一つとともに五若しくは六員環を形成し;
2が、
Figure 0005289649
であって、それぞれ、場合により、ハロゲン、(C1〜C12)アルキル、フェニル、OR3、SR4若しくはNR56で1〜8回置換されており;そして
3が、(C1〜C12)アルキレン又はフェニレンである
式(III)、(IV)又は(V)の化合物である。
もう一つの好適実施態様は、R1が、(C1〜C6)アルカノイル又はベンゾイルであり;
2が、(C1〜C20)アルキル又は(C2〜C20)アルキルであり;
Ar2が、
Figure 0005289649
であるか;それぞれ、非置換であるか、又はOR3若しくはSR4で置換されたナフチル若しくはナフトイルであり;
3及びR3′が、(C1〜C20)アルキルであり;そして
4がフェニルである
式(III)の化合物である。
本発明による特に好適な化合物は、4−フェニルスルファニルベンズアルデヒド=オキシム−O−アセタート、2,5−ジエトキシベンズアルデヒド=オキシム−O−アセタート、2,6−ジメトキシベンズアルデヒド=オキシム−O−アセタート、2,4,6−トリメトキシベンズアルデヒド=オキシム−O−アセタート、2,3,4−トリメトキシ−ベンズアルデヒド=オキシム−O−アセテート、3−ベンジルスルファニルベンズアルデヒド=オキシム−O−アセタート、3−フェニルスルファニルベンズアルデヒド=オキシム−O−アセタート、4−メチルスルファニルベンズアルデヒド=オキシム−O−アセタート、4−(5−tert−ブチル−2−メチルフェニルスルファニル)ベンズアルデヒド=オキシム−O−アセタート、4−(4−ベンゾイルフェニルスルファニル)ベンズアルデヒド=オキシム−O−アセタート、2−エトキシ−4−メチル−5−メチルスルファニルベンズアルデヒド=オキシム−O−アセタート、2−オクチルオキシ−4−メチル−5−メチルスルファニルベンズアルデヒド=オキシム−O−アセタート、4−メトキシ−3−フェニルスルファニルベンズアルデヒド=オキシム−O−アセタート、3−フェノキシ−4−フェニルスルファニルベンズアルデヒド=オキシム−O−アセタート、3,4−ビスメチルスルファニルベンズアルデヒド=オキシム−O−アセタート、3−ベンジルスルファニルベンズアルデヒド=オキシム−O−アセタート、4,8−ジメトキシナフタレン−1−カルボアルデヒド=オキシム−O−アセタート、4−フェニルスルファニルナフタレン−1−カルボアルデヒド=オキシム−O−アセタート、6−メトキシビフェニリル−3−カルボアルデヒド=オキシム−O−アセタート、4−メトキシビフェニリル−3−カルボアルデヒド=オキシム−O−アセタート、2−メトキシ−5−(4−メトキシベンゾイル)ベンズアルデヒド=オキシム−O−アセタート、4−オクチルオキシビフェニリル−3−カルボアルデヒド=オキシム−O−アセタート、4−ジフェニルアミノベンズアルデヒド=オキシム−O−アセタート、9−オキソ−9.H.−チオキサンテン−2−カルボアルデヒド=オキシム−O−アセタート、9.H.−フルオレン−2−カルボアルデヒド=オキシム−O−アセタート、2,4−ビスペンチルオキシベンズアルデヒド=オキシム−O−アセタート、2,4,5−トリメトキシベンズアルデヒド=オキシム−O−アセタート、4−(4−ベンジルオキシフェニルスルファニル)ベンズアルデヒド=オキシム−O−アセタート、4−(ナフタレン−2−イルスルファニル)ベンズアルデヒド=オキシム−O−アセタート、2−メトキシ−4−メチルスルファニルベンズアルデヒド=オキシム−O−アセタート、チアントレン−2−カルボアルデヒド=オキシム−O−アセタート、2−オクチルオキシナフタレン−1−カルボアルデヒド=オキシム−O−アセタート、5,5′−チオビス(2−ベンジルオキシベンズアルデヒド=オキシム−O−アセタート)、5,5′−チオビス(2−メトキシベンズアルデヒド=オキシム−O−アセタート)、4,4′−ジエトキシビフェニリル−3,3′−ジカルボアルデヒド=ジオキシム−O,O′−ジアセタートである。
式(I)及び(II)の好適化合物は、少なくとも1個のアルキルチオ若しくはアリールチオ置換基(SR4)、アルキルアミノ若しくはアリールアミノ置換基(NR56)、アリール置換基、アルカノイル若しくはアロイル置換基、又は少なくとも2個のアルコキシ若しくはアリールオキシ置換基(OR3、OR3′)、及び同時に、オキシイミノ基の炭素原子に結合したアリール基に縮合芳香環を有することを特徴とする。
式(I)、(II)、(III)、(IV)及び(V)のオキシムエステルは、文献に記載された方法によって、例えば、対応するオキシムとアシル塩化物又は無水物との、塩基、例えばトリエチルアミン又はピリジンの存在下での、例えばtert−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)若しくはジメチルホルムアミドのような不活性溶媒中でか、或いはピリジンのような塩基性溶媒中での反応によって製造される。
Figure 0005289649
そのような反応は、当業者には周知であり、一般的には、−15〜+50℃、好ましくは0〜25℃の温度で実施される。
式(II)、(IV)及び(V)の化合物は、適切なオキシムを出発材料として用いることによって、同様にして得ることができる。
Figure 0005289649
1、Ar1、M1〜M3、R2、x及びAr2は、上記のとおりの意味を有する。
出発材料として必要とされるオキシムは、標準的な化学の教科書(例えばJ. March, Advanced Organic Chemistry, 4th Edition, Wiley Interscience, 1992)、又は専門的なモノグラフ、例えばS.R. Sandler & W. Karo, Organic functional group preparations, Vol. 3, Academic Pressに記載された、様々な方法によって得ることができる。
最も好都合な方法の一つは、例えば、アルデヒド又はケトンと、ヒドロキシルアミン、又はその塩との、エタノール若しくはエタノール水のような極性溶媒中での反応である。その場合、酢酸ナトリウム又はピリジンのような塩基を加えて、反応混合物のpHを制御する。反応速度がpH依存性であり、塩基は、開始時にか、又は反応の間連続的に加え得ることは周知である。ピリジンのような塩基性溶媒を、塩基及び/又は溶媒若しくは助溶剤として用いることもできる。反応温度は、一般的には、混合物の還流温度、通常、約60〜120℃である。
オキシムのもう一つの好都合な合成は、亜硝酸又は亜硝酸アルキルによる「活性」メチレン基のニトロソ化である。例えばOrganic Syntheses coll. Vol. VI(J. Wiley & Sons, New York, 1988),pp. 199 and 840に記載されたような、アルカリ性条件と、例えばOrganic Synthesis coll. Vol. V, pp. 32 and 373, coll. Vol. III, pp. 191 and 513, coll. Vol. II, pp. 202, 204 and 363に記載されたような、酸性条件との双方が、本発明における出発材料として用いられるオキシムの製造に適する。亜硝酸は、通常、亜硝酸ナトリウムから生成される。亜硝酸アルキルは、例えば、亜硝酸メチル、亜硝酸エチル、亜硝酸イソプロピル、亜硝酸ブチル又は亜硝酸イソアミルであることができる。
あらゆるオキシムエステルの基が、2種類の立体配置(Z)又は(E)で存在することができる。慣用の方法によって、異性体を分離することができるが、異性体混合物を光開始用の種として、そのままで用いることもできる。従って、本発明は、式(I)、(II)、(III)、(IV)及び(V)の化合物の立体配置上の異性体の混合物にも関する。
本発明によれば、式(I)、(II)、(III)、(IV)及び(V)の化合物は、エチレン性不飽和化合物、又はそのような化合物を含む混合物の光重合のための光開始剤として用いることができる。
本発明のもう一つの主題は、
(a)少なくとも1種類のエチレン性不飽和光重合性化合物と、
(b)光開始剤としての、式(I)、(II)、(III)、(IV)及び/又は(V):
Figure 0005289649
〔式中、R1は、(C4〜C9)シクロアルカノイル;非置換であるか、又は1個又はそれ以上のハロゲン、フェニル若しくはCNで置換された(C1〜C12)アルカノイル;二重結合がカルボニル基と共役しない条件での(C4〜C6)アルケノイル;非置換であるか、又は1個又はそれ以上の(C1〜C6)アルキル、ハロゲン、CN、OR3,SR4若しくはNR56で置換されベンゾイル;(C2〜C6)アルコキシカルボニル;ベンジルオキシカルボニル;或いは非置換であるか、又は1個又はそれ以上の(C1〜C6)アルキル若しくはハロゲンで置換されたフェノキシカルボニルであり;
2は、非置換であるか、又は1個又はそれ以上の(C1〜C6)アルキル、フェニル、ハロゲン、OR3、SR4若しくはNR56で置換されたフェニル;(C1〜C20)アルキル又は場合により1個又はそれ以上の−O−で遮断され、及び/又は場合により1個又はそれ以上のハロゲン、OH、OR3、フェニル、又はOR3、SR4若しくはNR56で置換されたフェニルで置換された(C2〜C20)アルキル;(C3〜C8)シクロアルキル;(C2〜C20)アルカノイル;非置換であるか、又は1個又はそれ以上の(C1〜C6)アルキル、フェニル、OR3、SR4若しくはNR56で置換されたベンゾイル;場合により1個又はそれ以上の−O−で遮断され、及び/又は場合により1個又はそれ以上のヒドロキシル基で置換された(C2〜C12)アルコキシカルボニル;非置換であるか、又は(C1〜C6)アルキル、ハロゲン、フェニル、OR3、SR4若しくはNR56で置換されたフェノキシカルボニル;−CONR56;或いはCNであり;
Ar1は、
Figure 0005289649
であって、それぞれ、場合によりハロゲン、(C1〜C12)アルキル、(C3〜C8)シクロアルキル、ベンジル、OR3、SR4、SOR4、SO24若しくはNR56で1〜4回置換されていて、置換基OR3、SR4又はNR56は、場合により、基R3、R4、R5及び/又はR6を介して、フェニル環のそれ以外の置換基とともにか、又はフェニル環の炭素原子の一つとともに五若しくは六員環を形成するか;或いは
Ar1は、
Figure 0005289649
であって、場合により、ハロゲン、(C1〜C12)アルキル、(C3〜C8)シクロアルキル、ベンジル、OR3、SOR4又はSO24で1〜3回置換されていて、置換基OR3及び/又はOR3′は、場合により、基R3及び/又はR3′を介して、フェニル環のそれ以外の置換基とともにか、又はフェニル環の炭素原子の一つとともに六員環を形成するか;或いは
Ar1は、
Figure 0005289649
であって、それぞれ、非置換であるか、又はハロゲン、(C1〜C12)アルキル若しくは(C3〜C8)シクロアルキルで1〜9回置換されているか;又はそれぞれ、フェニル、又は1個又はそれ以上のOR3、SR4若しくはNR56で置換されたフェニルで置換されているか;又はそれぞれ、ベンジル、ベンゾイル、(C2〜C12)アルカノイルでか、場合により1個若しくはそれ以上の−O−で遮断され、及び/又は場合により1個若しくはそれ以上のヒドロキシル基で置換された(C2〜C12)アルコキシカルボニルで置換されているか;又はそれぞれ、フェノキシカルボニル、OR3、SR4、SOR4、SO24若しくはNR56で置換されていて、置換基OR3、SR4又はNR56は、場合により、基R3、R4、R5及び/又はR6を介して、縮合芳香環のそれ以外の置換基とともにか、又は縮合芳香環の炭素原子の一つとともに五若しくは六員環を形成するか;或いは
Ar1は、ベンゾイル、ナフタレンカルボニル、フェナントレンカルボニル、アントラセンカルボニル又はピレンカルボニルであって、それぞれ、非置換であるか、又はハロゲン、(C1〜C12)アルキル、(C3〜C8)シクロアルキル、フェニル、又は1個又はそれ以上のOR3、SR4若しくはNR56で置換されたフェニルで1〜9回置換されているか;又はそれぞれ、ベンジル、ベンゾイル、(C2〜C12)アルカノイルでか、場合により1個又はそれ以上の−O−で遮断され、及び/又は場合により1個又はそれ以上のヒドロキシル基、フェノキシカルボニル、OR3、SR4、SOR4、SO24若しくはNR56で置換された(C2〜C12)アルコキシカルボニルで置換されていて、置換基OR3、SR4及びNR56は、場合により、基R3、R4、R5及び/又はR6を介して、縮合芳香環のそれ以外の置換基とともにか、又は縮合芳香環の炭素原子の一つとともに五若しくは六員環を形成するが;
Ar1が4−ベンゾイルオキシベンゾイルならば、R1は、ベンゾイルではないことを条件とするか;或いは、
Ar1は、場合によりハロゲン、(C1〜C12)アルキル、(C4〜C9)シクロアルカノイル、−(CO)OR3、−(CO)NR56、−(CO)R8、OR3、SR4及び/又はNR56で1〜9回置換されたビフェニリルであって、置換基(C1〜C12)アルキル、−(CO)R8、OR3、SR4又はNR56は、場合により、基(C1〜C12)アルキル、R3、R4、R5、R8及び/又はR6を介して、フェニル環のそれ以外の置換基とともにか、又はフェニル環の炭素原子の一つとともに五若しくは六員環を形成するか;或いは
Ar1は、
Figure 0005289649
であって、ともに、場合により、ハロゲン、(C1〜C12)アルキル、(C3〜C8)シクロアルキル、ベンジル、OR3、SR4若しくはNR56で1〜4回置換されていて、置換基OR3、SR4又はNR56は、場合により、基R3、R4、R5及び/又はR6を介して、フェニル環のそれ以外の置換基とともにか、又はフェニル環の炭素原子の一つ若しくは置換基R8とともに五若しくは六員環を形成するか;或いは、
Ar1は、3,4,5−トリメトキシフェニル又はフエノキシフェニルであるか;又はR1がアセチルである条件でのチエニル又は1−メチル−2−ピロリルであり;
Ar2は、
Figure 0005289649
であって、それぞれ、非置換であるか、又はハロゲン、(C1〜C12)アルキル、(C3〜C8)シクロアルキル、フェニル、1個又はそれ以上のOR3、SR4若しくはNR56で置換されたフェニルで1〜9回置換されているか;又はそれぞれ、ベンジル、ベンゾイル、(C2〜C12)アルカノイル、場合により1個若しくはそれ以上の−O−で遮断され、及び/又は場合により1個若しくはそれ以上のヒドロキシル基で置換された(C2〜C12)アルコキシカルボニル、フェノキシカルボニル、OR3、SR4、SOR4、SO24若しくはNR56で置換されていて、置換基OR3、SR4又はNR56は、場合により、基R3、R4、R5及び/又はR6を介して、縮合芳香環のそれ以外の置換基とともにか、又は縮合芳香環の炭素原子の一つとともに五若しくは六員環を形成するが;
Ar2が1−ナフチル又は2−ナフチルならば、R2は、メチル又はフェニルではなく;
xは、2又は3であり;
1は、xが2であるとき、
Figure 0005289649
であって、それぞれ、場合により、ハロゲン、(C1〜C12)アルキル、(C3〜C8)シクロアルキル、非置換であるか、又は1個又はそれ以上のOR3、SR4若しくはNR56で置換されたフェニルで1〜8回置換されているか;又はそれぞれ、ベンジル、ベンゾイル、(C2〜C12)アルカノイル、場合により1個若しくはそれ以上の−O−で遮断され、及び/又は場合により1個若しくはそれ以上のヒドロキシル基で置換された(C2〜C12)アルコキシカルボニルで置換されているか、又はそれぞれ、フェノキシカルボニル、OR3、SR4、SOR4、SO24又はNR56で置換されているが、
1は、1,3−フェニレン、1,4−フェニレン、1−アセトキシ−2−メトキシ−4,6−フェニレン又は1−メトキシ−2−ヒドロキシ−3,5−フェニレンではなく;
1は、xが3であるとき、
Figure 0005289649
であって、それぞれ、場合により、ハロゲン、(C1〜C12)アルキル、(C3〜C8)シクロアルキル、非置換であるか、又は1個又はそれ以上のOR3、SR4若しくはNR56で置換されたフェニルで1〜12回置換されているか;又はそれぞれ、ベンジル、ベンゾイル、(C2〜C12)アルカノイル、場合により1個若しくはそれ以上の−O−で遮断され、及び/又は場合により1個若しくはそれ以上のヒドロキシル基で置換された(C2〜C12)アルコキシカルボニルで置換されているか;又はそれぞれ、フェノキシカルボニル、OR3、SR4、SOR4、SO24又はNR56で置換されており;
2は、
Figure 0005289649
であって、それぞれ、場合により、ハロゲン、(C1〜C12)アルキル、(C3〜C8)シクロアルキル、非置換であるか、又は1個又はそれ以上のOR3、SR4若しくはNR56で置換されたフェニルで1〜8回置換されているか;又はそれぞれ、ベンジル、ベンゾイル、(C2〜C12)アルカノイル、場合により1個若しくはそれ以上の−O−で遮断され、及び/又は場合により1個若しくはそれ以上のヒドロキシル基で置換された(C2〜C12)アルコキシカルボニルで置換されているか;又はそれぞれ、フェノキシカルボニル、OR3、SR4、SOR4、SO24又はNR56で置換されており;
3は、(C1〜C12)アルキレン、シクロヘキシレン、フェニレン、−(CO)O−(C2〜C12)アルキレン−O(CO)−、−(CO)O−(CH2CH2O)n−(CO)−又は−(CO)−(C2〜C12)アルキレン−(CO)−であり;
nは、1〜20であり;
4は、直接結合、−O−、−S−、−SS−、−NR3−、−(CO)−、(C1〜C12)アルキレン、シクロヘキシレン、フェニレン、ナフチレン、(C2〜C12)アルキレンジオキシ、(C2〜C12)アルキレンジスルファニル、−(CO)O−(C2〜C12)アルキレン−O(CO)−、−(CO)O−(CH2CH2O)n−(CO)−若しくは−(CO)−(C2〜C12)アルキレン−(CO)−であるか;又はM4は、(C4〜C12)アルキレン若しくは(C4〜C12)アルキレンジオキシであって、それぞれ、場合により1〜5個の−O−、−S−及び/又は−NR3−で遮断されており;
5は、直接結合、−CH2−、−O−、−S−、−SS−、−NR3−若しくは−(CO)−であり;
6は、
Figure 0005289649
であり;
7は、−O−、−S−、−SS−若しくは−NR3−;又はそれぞれ、場合により1〜5個の−O−、−S−及び/又は−NR3−で遮断された、−O(CO)−(C2〜C12)アルキレン−(CO)O−、−NR3(CO)−(C2〜C12)アルキレン−(CO)NR3−若しくは(C2〜C12)アルキレンジオキシであり;
3は、水素;(C1〜C20)アルキル;−OH、−SH、−CN、(C3〜C6)アルケンオキシ、−OCH2CH2CN、−OCH2CH2(CO)O(C1〜C4)アルキル、−O(CO)−(C1〜C4)アルキル、−O(CO)−フェニル、−(CO)OH若しくは−(CO)O(C1〜C4)アルキルで置換された(C2〜C8)アルキル;1個若しくはそれ以上の−O−で遮断された(C2〜C12)アルキル;−(CH2CH2O)n+1H;−(CH2CH2O)n(CO)−(C1〜C8)アルキル;(C1〜C8)アルカノイル;(C3〜C12)アルケニル;(C3〜C6)アルケノイル;(C3〜C8)シクロアルキル;非置換であるか、又は1個若しくはそれ以上の(C1〜C6)アルキル、ハロゲン、−OH若しくは(C1〜C4)アルコキシで置換されたベンゾイル;それぞれ、非置換であるか、又はハロゲン、−OH、(C1〜C12)アルキル、(C1〜C12)アルコキシ若しくは−(CO)R7で置換されたフェニル若しくはナフチル;フェニル−(C1〜C3)アルキル;或いはSi〔(C1〜C6)アルキル〕r(フェニル)3−rであり;
rは、0、1、2又は3であり、
3′は、(C1〜C20)アルキル;−OH、−SH、−CN、(C3〜C6)アルケンオキシ、−OCH2CH2CN、−OCH2CH2(CO)O(C1〜C4)アルキル、−O(CO)−(C1〜C4)アルキル、−O(CO)−フェニル、−(CO)OH若しくは−(CO)O(C1〜C4)アルキルで置換された(C2〜C8)アルキル;1個若しくはそれ以上の−O−で遮断された(C2〜C12)アルキル;−(CH2CH2O)n+1H;−(CH2CH2O)n(CO)−(C1〜C8)アルキル;(C1〜C8)アルカノイル;(C3〜C12)アルケニル;(C3〜C6)アルケノイル;(C3〜C8)シクロアルキル;非置換であるか、又は1個又はそれ以上の(C1〜C6)アルキル、ハロゲン、−OH若しくは(C1〜C4)アルコキシで置換されたベンゾイル;それぞれ、非置換であるか、又はハロゲン、−OH、(C1〜C12)アルキル、(C1〜C12)アルコキシ又は−(CO)R7で置換されたフェニル若しくはナフチル;フェニル−(C1〜C3)アルキル;或いはSi〔(C1〜C6)アルキル〕r(フェニル)3-rであり;
4は、水素;(C1〜C20)アルキル;(C3〜C12)アルケニル;(C3〜C8)シクロアルキル;フェニル(C1〜C3)アルキル;−OH、−SH、−CN、(C3〜C6)アルケンオキシ、−OCH2CH2CN、−OCH2CH2(CO)O(C1〜C4)アルキル、−O(CO)−(C1〜C4)アルキル、−O(CO)フェニル、−(CO)OH若しくは−(CO)O(C1〜C4)アルキルで置換された(C2〜C8)アルキル;1個又はそれ以上の−O−若しくは−S−で遮断された(C2〜C12)アルキル;−(CH2CH2O)n+1H;−(CH2CH2O)n(CO)−(C1〜C8)アルキル;(C2〜C8)アルカノイル;ベンゾイル;(C3〜C12)アルケニル;(C3〜C6)アルケノイル;或いはそれぞれ、非置換であるか、又はハロゲン、(C1〜C12)アルキル、(C1〜C12)アルコキシ、フェニル(C1〜C3)アルキルオキシ、フェノキシ、(C1〜C12)アルキルフルファニル、フェニルスルファニル、−N〔(C1〜C12)アルキル〕2、ジフェニルアミノ、−(CO)R7、−(CO)OR7又は−(CO)N(R72で置換されたフェニル若しくはナフチルであり;
5及びR6は、互いに独立に、水素;(C1〜C20)アルキル;(C2〜C4)ヒドロキシアルキル;(C2〜C10)アルコキシアルキル;(C3〜C5)アルケニル;(C3〜C8)シクロアルキル;フェニル(C1〜C3)アルキル;(C2〜C8)アルカノイル;(C3〜C12)アルケノイル;ベンゾイル;それぞれ、非置換であるか、又は(C1〜C12)アルキル、(C1〜C12)アルコキシ又は−(CO)R7で置換されたフェニル若しくはナフチルであるか;或いは、まとまって、場合により−O−若しくは−NR3−で遮断され、及び/又は場合によりヒドロキシル、(C1〜C4)アルコキシ、(C2〜C4)アルカノイルオキシ若しくはベンゾイルオキシで置換された(C2〜C6)アルキレンであり;
7は、水素;(C1〜C20)アルキル;ハロゲン、フェニル、−OH、−SH、−CN、(C3〜C6)アルケンオキシ、−OCH2CH2CN、−OCH2CH2(CO)O(C1〜C4)アルキル、−O(CO)−(C1〜C4)アルキル、−O(CO)−フェニル、−(CO)OH若しくは−(CO)O(C1〜C4)アルキルで置換された(C2〜C8)アルキル;1個若しくはそれ以上の−O−で遮断された(C2〜C12)アルキル;−(CH2CH2O)n+1H;−(CH2CH2O)n(CO)−(C1〜C8)アルキル;(C3〜C12)アルケニル;(C3〜C8)シクロアルキル;或いは場合により1個又はそれ以上のハロゲン、−OH、(C1〜C12)アルキル、(C1〜C12)アルコキシ、フェノキシ、(C1〜C12)アルキルスルファニル、フェニルスルファニル、−N〔(C1〜C12)アルキル〕2若しくはジフェニルアミノで置換されたフェニルであり;
8は、場合により1個又はそれ以上のハロゲン、フェニル、CN、−OH、−SH、(C1〜C4)アルコキシ、−(CO)OH若しくは−(CO)O(C1〜C4)アルキルで置換された(C1〜C12)アルキル;(C3〜C6)アルケニル;或いは場合により1個又はそれ以上の(C1〜C6)アルキル、ハロゲン、CN、OR3、SR4若しくはNR56で置換されたフェニルである〕
で示される少なくとも1種類の化合物と
を含む光重合性組成物である。
該組成物は、光開始剤(b)に加えて、少なくとも1種類のそれ以上の光開始剤(c)、及び/又はその他の添加物(d)を含んでよい。
不飽和化合物(a)は、一つ又はそれ以上のオレフィン性二重結合を有してよい。それらは、低分子量(単量体性)又は高分子量(オリゴマー性)であってよい。二重結合を有する単量体の例は、アクリル酸アルキル、ヒドロキシアルキルもしくはアミノ、又はメタクリル酸アルキル、ヒドロキシアルキル若しくはアミノ、例えば、アクリル酸メチル、エチル、ブチル、2−エチルヘキシル若しくは2−ヒドロキシエチル、アクリル酸イソボルニル、メタクリル酸メチル、又はメタクリル酸エチルである。シリコーンアクリラートも好都合である。その他の例は、アクリルアミド、メタクリルアミド、N−置換(メタ)アクリルアミド、酢酸ビニルのようなビニルエステル、イソブチルビニルエーテルのようなビニルエーテル、スチレン、アルキル−及びハロ−スチレン、N−ビニルピロリドン、塩化ビニル、又は塩化ビニリデンである。
二つ又はそれ以上の二重結合を有する単量体の例は、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオプレングリコール、ヘキサメチレングリコール若しくはビスフェノールAの二アクリル酸エステル、及び4,4′−ビス(2−アクリロイルオキシエトキシ)ジフェニルプロパン、トリメチロールプロパントリアクリラート、ペンタエリトリトール=トリアクリラート若しくは=テトラアクリラート、アクリル酸ビニル、ジビニルベンゼン、コハク酸ジビニル、フタル酸ジアリル、リン酸トリアリル、シソシアヌル酸トリアリル、又はトリス(2−アクリロイルエチル)イソシアヌラートである。
比較的高分子量であるポリ不飽和化合物(オリゴマー)の例は、アクリル化エポキシ樹脂、アクリラート、ビニルエーテル又はエポキシの基を有するポリエステル、ポリウレタン、及びポリエーテルである。不飽和オリゴマーのこれ以上の例は、不飽和ポリエステル樹脂であって、通常、マレイン酸、フタル酸、及び1種類又はそれ以上のジオールから製造され、約500〜約3,000の分子量を有する。加えて、ビニルエーテルの単量体及びオリゴマー、並びにポリエステル、ポリウレタン、ボリエーテル、ポリビニルエーテル及びエポキシの主鎖を有するマレイン酸終端オリゴマーも用いることができる。特に適するのは、ビニルエーテルの基を有するオリゴマーと、国際公開特許第90/01512号公報に記載されたような重合体との組合せである。しかし、ビニルエーテルとマレイン酸官能化された単量体との共重合体も適する。この種の不飽和オリゴマーも、プレポリマーとして挙げることができる。
特に適する例は、エチレン性不飽和カルボン酸とポリオール又はポリエポキシドとのエステル、及び鎖中又は側鎖基にエチレン性不飽和機を有する重合体、例えば、不飽和のポリエステル、ポリアミド及びポリウレタン、並びにそれらの共重合体、側鎖中に(メタ)アクリル基を有する重合体及び共重合体、及び1種類又はそれ以上のそのような重合体の混合物である。
不飽和カルボン酸の例は、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、桂皮酸、及びリノレン酸又はオレイン酸のような不飽和脂肪酸である。アクリル酸及びメタクリル酸が好ましい。
適切なポリオールは、芳香族、及び特に脂肪族や脂環族のポリオールである。芳香族ポリオールの例は、ヒドロキノン、4,4′−ヒドロキシジフェニル、2,2−ジ(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、及びノボラックやレゾールである。ポリエポキシドの例は、上記のポリオール、特に芳香族ポリオール、及びエピクロロヒドリンに基づくものである。その他の適切なポリオールは、重合体鎖又は側鎖基中にヒドロキシル基を有する重合体や共重合体であって、例は、ポリビニルアルコール、及びその共重合体、又はポリヒドロキシアルキルメタクリラート、若しくはその共重合体である。適するそれ以上のポリオールは、ヒドロキシル末端基を有するオリゴエステルである。
脂肪族及び脂環族ポリオールの例は、好ましくは2〜12個の炭素原子を有するアルキレンジオール、例えば、エチレングリコール、1,2−又は1,3−プロパンジオール、1,2−、1,3−又は1,4−ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、オクタンジオール、ドデカンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、好ましくは200〜1,500の分子量を有するポリエチレングリコール、1,3−シクロペンタンジオール、1,2−、1,3−又は1,4−シクロヘキサンジオール、1,4−ジヒドロキシメチルシクロヘキサン、グリセリン、トリス(β−ヒドロキシエチル)アミン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリトリトール、ジペンタエリトリトール及びソルビトールである。
ポリオールは、1種類のカルボン酸でか、又は異なる不飽和カルボン酸と、部分的にか、若しくは完全にエステル化されてよく、部分エステル中では、自由なヒドロキシル基は、修飾され、例えば他のカルボン酸でエーテル化又はエステル化されてよい。
エステルの例は:トリメチロールプロパン=トリアクリラート、トリメチロールエタン=トリアクリラート、トリメチロールプロパン=トリメタクリラート、トリメチロールエタン=トリメタクリラート、テトラメチレングリコール=ジメタクリラート、トリエチレングリコール=ジメタクリラート、テトラエチレングリコール=ジアクリラート、ペンタエリトリトール=ジアクリラート、ペンタエリトリトール=トリアクリラート、ペンタエリトリトール=テトラアクリラート、ジペンタエリトリトール=ペンタアクリラート、ジペンタエリトリトール=ヘキサアクリラート、トリペンタエリトリトール=オクタアクリラート、ペンタエリトリトール=ジメタクリラート、ペンタエリトリトール=トリメタクリラート、ジペンタエリトリトール=ジメタクリラート、ジペンタエリトリトール=テトラメタクリラート、トリペンタエリトリトール=オクタメタクリラート、ペンタエリトリトール=ジイタコナート、ジペンタエリトリトール=トリスイタコナート、ジペンタエリトリトール=ペンタイタコナート、ジペンタエリトリトール=ヘキサイタコナート、エチレングリコールジアクリラート、1,3−ブタンジオールジアクリラート、1,3−ブタンジオールジメタクリラート、1,4−ブタンジオールジイタコナート、ソルビトールトリアクリラート、ソルビトールテトラアクリラート、ペンタエリトリトール修飾トリアクリラート、ソルビトールテトラメタクリラート、ソルビトールペンタアクリラート、ソルビトールヘキサアクリラート、アクリル酸及びメタクリル酸オリゴエステル、ジアクリル酸及びトリアクリル酸グリセロール、二アクリル酸1,4−シクロヘキサン、200〜1,500の分子量を有するポリエチレングリコールのビスアクリル酸及びビスメタクリル酸エステルである。
やはり成分(a)として適するのは、同一であるか、又は異なる不飽和カルボン酸の、好ましくは2〜6個、特に2〜4個のアミノ基を有する芳香族、脂環族及び脂肪族ポリアミンとのアミドである。そのようなポリアミンの例は、エチレンジアミン、1,2−若しくは1,3−プロピレンジアミン、1,2−、1,3−若しくは1,4−ブチレンジアミン、1,5−ペンチレンジアミン、1,6−ヘキシレンジアミン、オクチレンジアミン、ドデシレンジアミン、1,4−ジミノシクロヘキサン、イソホロンジアミン、フェニレンジアミン、ビスフェニレンジアミン、ジ−β−アミノエチルエーテル、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラアミン、及びジ(β−アミノエトキシ)−若しくはジ(β−アミノプロポキシ)−エタンである。適切なその他のポリアミンは、好ましくは側鎖中に追加のアミノ基を有する重合体及び共重合体、並びにアミノ末端基を有するオリゴアミドである。そのような不飽和アミドの例は、メチレンビスアクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビスアクリルアミド、ジエチレントリアミントリスメタクリルアミド、ビス(メタクリルアミドプロポキシ)エタン、β−メタクリルアミドエチル=メタクリラート及びN〔(β−ヒドロキシエトキシ)エチル〕アクリルアミドである。
適切な不飽和ポリエステル及びポリアミドは、例えば、マレイン酸と、ジオール又はジアミンとから誘導される。マレイン酸のいくつかは、他のカルボン酸で置き換えることができる。それらは、エチレン性不飽和共単量体、例えばスチレンとともに用いることができる。該ポリエステル及びポリアミドは、ジカルボン酸と、エチレン性不飽和ジオール又はジアミンとから、特に、例えば6〜20個の炭素原子を有する、比較的長い鎖を有するものとから誘導してもよい。ポリウレタンの例は、飽和又は不飽和ジイソシアン酸エステルと、不飽和であるか、又はそれぞれ飽和したジオールとで構成されるものである。
側鎖中に(メタ)アクリラート基を有する重合体は、同様に公知である。それらは、例えば、ノボラックに基づくエポキシ樹脂と、(メタ)アクリル酸との反応生成物であるか、又は(メタ)アクリル酸でエステル化されたビニルアルコール、若しくはそれらのヒドロキシアルキル誘導体の単独若しくは共重合体であるか、又は(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルでエステル化された、(メタ)アクリル酸エステルの単独及び共重合体であってよい。
側鎖中にアクリラート又はメタクリラート基を有する、適切なその他の重合体は、例えば、溶媒可溶性又はアルカリ可溶性のポリイミド前駆体、例えば、分子の骨格か、又はエステル基のいずれかに結合した光重合性側鎖基を有する、すなわちヨーロッパ特許第624,826号公報に記載の、ポリアミク酸エステル化合物である。そのようなオリゴマー又は重合体は、高感度のポリイミド前駆体レジストを製造するために、この新規な光開始剤、及び場合により反応性希釈剤、例えば多官能性(メタ)アクリラートとともに配合することができる。
本光重合性化合物は、単独でか、又は望みのいかなる混合物中でも用いることができる。(メタ)アクリル酸ポリオールの混合物を用いるのが好ましい。
成分(a)の例は、やはり、少なくとも2個のエチレン性不飽和基、及び少なくとも1個のカルボキシル官能を分子構造内に有する重合体又はオリゴマー、例えば、飽和若しくは不飽和多塩基酸無水物と、エポキシ化合物及び不飽和モノカルボン酸の反応生成物との反応によって得られる樹脂(例えば、EB9696, UCB Chemicals;KAYARAD TCR1025, Nippon Kayaku Co., Ltd.)、又は含カルボキシル基樹脂と、α,β−不飽和二重結合及びエポキシ基を有する不飽和化合物との間に形成される付加生成物(例えば、ACA200M, Daicel Industries, Ltd.)である。
希釈剤としては、単若しくは多官能性のエチレン性不飽和化合物、又は該化合物のいくつかの混合物を、上記組成物に、該組成物の固体部分に対して70重量%まで含ませることができる。
不飽和化合物(a)は、光重合性でない、薄膜形成性の成分との混合物としても用いることができる。これらは、例えば、物理的に乾燥する重合体、又は有機溶媒中のその溶液、例えばニトロセルロース又はアセト酪酸セルロースであってよい。しかし、化学的及び/又は熱的に硬化できる(熱硬化性)樹脂であってもよく、例は、ポリイソシアナート、ポリエポキシド及びメラミン樹脂、並びにポリイミド前駆体である。熱硬化性樹脂を同時に用いることは、混成系として知られる系で用いるのに重要であって、それらは、第一段階で、光重合され、第二段階で、熱的後処理によって架橋結合される。
本発明は、成分(a)として、水中に乳化又は溶解された、少なくとも1種類のエチレン性不飽和光重合性化合物を含む組成物も提供する。そのような放射線硬化性の水性プレポリマー分散の多くの変化形が、商業的に人手可能である。プレポリマーの分散は、水と、その中に分散した少なくとも1種類のプレポリマーとの分散であると解される。これらの系における水の濃度は、例えば、5〜80重量%、特に30〜60重量%である。放射線硬化性プレポリマー又はプレポリマー混合物の濃度は、例えば、95〜20重量%、特に70〜40重量%である。これらの組成物で、水及びプレポリマーについて示した百分率の合計は、それぞれの場合に100であり、助剤及び添加物は、意図される用途に応じて変動する量で加えられる。
水中に分散され、しばしば溶解されもする、放射線硬化性の薄膜形成プレポリマーは、それ自体は公知である、単又は多官能性のエチレン性不飽和プレポリマーの水性プレポリマー分散であり、遊離基によって開始することができ、例えば、プレポリマー100gあたり0.01〜1.0molの重合性二重結合含有量、及び例えば、少なくとも400、特に500〜10,000の平均分子量を有する。しかし、より高分子量のプレポリマーも、意図される適用に応じて考慮され得る。用いられるのは、例えば、重合性C−C二重結合を有し、10以下の酸価を有するポリエステル、重合性C−C二重結合を有するポリエーテル、1分子あたり少なくとも2個のエポキシド基を有するポリエポキシドと、少なくとも1種類のα,β−エチレン性不飽和カルボン酸との含ヒドロキシル反応生成物、ポリウレタン(メタ)アクリラート、及びα,β−エチレン性不飽和アクリル基を有する環式共重合体であって、ヨーロッパ特許第12,339号公報に記載されたとおりである。これらのプレポリマーの混合物も、同様に用いることができる。やはり適するのは、ヨーロッパ特許第33,896号公報に記載された重合性プレポリマーであって、少なくとも600の平均分子量、0.2〜15%のカルボキシル基含量、及びプレポリマー100gあたり0.01〜0.8molの重合性C−C二重結合を有する重合性プレポリマーのチオエーテル付加物である。特定の(メタ)アクリル酸アルキル重合体に基づく、その他の適する水性分散は、ヨーロッパ特許第41,125号公報に記載され、ウレタンアクリラートの適切な水分散性、放射線硬化性プレポリマーは、ドイツ国特許第2,936,039号公報に見出すことができる。
これらの放射線硬化性である水性プレポリマー分散に含ませ得るそれ以上の添加物は、分散助剤、乳化剤、酸化防止剤、例えば2,2−チオビス(4−メチル−6−tert−ブチルフェノール)又は2,6−ジ−tert−ブチルフェノール、光安定剤、染料、顔料、充填剤、例えばガラス又はアルミナであり、例えば、タルク、石膏、ケイ酸、ルチル、カーボンブラック、酸化亜鉛、酸化鉄、反応促進剤、平滑剤、潤滑剤、湿潤剤、濃化剤、艶消剤、消泡剤、その他塗料技術に慣用される助剤である。適切な分散助剤は、高分子量であり、極性基を有する水溶性有機化合物であって、例は、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン又はセルロースエーテルである。用いることができる乳化剤は、非イオン乳化剤、及び望みであれば、イオン性乳化剤もである。
ある場合には、2種類又はそれ以上の、本新規光開始剤の混合物を用いるのが好都合であり得る。当然、公知の光開始剤(c)との混合物、例えば、ショウノウキノン、ベンゾフェノン、ベンゾフェノン誘導体、アセトフェノン、アセトフェノン誘導体、例えばα−ヒドロキシシクロアルキルフェニルケトン若しくは2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパノン、ジアルコキシアセトフェノン、α−ヒドロキシ−若しくはα−アミノ−アセトフェノン、例えば(4−メチルチオベンゾイル)−1−メチルー1−モルホリノエタン、(4−モルホリノベンゾイル)−1−ベンジル−1−ジメチルアミノプロパン、4−アロイル−1,3−ジオキソラン、ベンゾインアルキルエーテル及びベンジルケタール、例えばジメチルベンジルケタール、フェニルグリオキサルエステル及びその誘導体、二量体のフェニルグリオキサルエステル、ジアセチル、ペルエステル、例えば、例えばヨーロッパ特許第126,541号公報に記載のようなベンゾフェノンテトラカルボン酸ペルエステル、モノアシルホスフィンオキシド、例えば(2,4,6−トリメチルベンゾイル)ジフェニルホスフィンオキシド、ビスアシルホスフィンオキシド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−(2,4,4−トリメチルペンチル)ホスフィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−2,4−ジペントキシフェニルホスフィンオキシド、トリスアシルホスフィンオキシド、ハロメチルトリアジン、例えば2−〔2−(4−メトキシフェニル)ビニル〕−4,6−ビストリクロロメチル〔1,3,5〕トリアジン、2−(4−メトキシフェニル)−4,6−ビストリクロロメチル〔1,3,5〕トリアジン、2−(3,4−ジメトキシフェニル)−4,6−ビストリクロロメチル〔1,3,5〕トリアジン、2−メチル−4,6−ビストリクロロメチル〔1,3,5〕トリアジン、2−(4−N,N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)〔1,3,5〕トリアジン、2−(4−メトキシナフチル)−4,6−ビストリクロロメチル〔1,3,5〕トリアジン、2−(1,3−ベンゾジオキソル−5−イル)−4,6−ビストリクロロメチル〔1,3,5〕トリアジン、2−〔2−〔4−(ペンチルオキシ)フェニル〕エテニル〕−4,6−ビストリクロロメチル〔1,3,5〕トリアジン、2−〔2−(3−メチル−2−フラニル)エテニル〕−4,6−ビストリクロロメチル〔1,3,5〕トリアジン、2−〔2−(5−メチル−2−フラニル)エテニル〕−4,6−ビストリクロロメチル〔1,3,5〕トリアジン、2−〔2−(2,4−ジメトキシフェニル)エテニル〕−4,6−ビストリクロロメチル〔1,3,5〕トリアジン、2−〔2−(2−メトキシフェニル)エテニル〕−4,6−ビストリクロロメチル〔1,3,5〕トリアジン、2−〔2−(4−イソプロピルオキシフェニル)エテニル〕−4,6−ビストリクロロメチル〔1,3,5〕トリアジン、2−〔2−(3−クロロ−4−メトキシフェニル)エテニル〕−4,6−ビストリクロロメチル〔1,3,5〕トリアジン、2−〔2−ブロモ−4−N,N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕−4,6−ビストリクロロメチル〔1,3,5〕トリアジン、2−〔2−クロロ−4−N,N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕−4,6−ビストリクロロメチル〔1,3,5〕トリアジン、2−〔3−ブロモ−4−N,N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕−4,6−ビストリクロロメチル〔1,3,5〕トリアジン、2−〔3−クロロ−4−N,N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕−4,6−ビストリクロロメチル〔1,3,5〕トリアジン、又は例えばG. Buhr, R. Dammel and C. Lindley, Polym. Mater. Sci. Eng. 61,269 (1989)、及びヨーロッパ特許第022788号公報に記載のような、その他のハロメチルトリアジン;米国特許第4,371,606号及び第4,371,607号明細書に記載のような、ハロメチルオキサゾール光開始剤;E.A. Bartmann, Synthesis 5, 490 (1993)に記載のような1,2−ジスルホン;ヘキサアリールビスイミダゾール、及びヘキサアリールビスイミダゾール/共開始剤系、例えば、2−メルカプトベンズチアゾール、フェロセニウム化合物、又はチタノセン、例えばビス(シクロペンタジエニル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−ピリルフェニル)チタンと組合せたo−クロロヘキサフェニル−ビスイミダゾールとの混合物を用いることもできる。
本新規光開始剤系を混成系で用いる場合、新規な遊離基硬化剤に加えて用いられるのは、陽イオン光開始剤、過酸化化合物、例えば過酸化ベンゾイル(その他の適する過酸化物は、米国特許第4,950,581号明細書第19列第17〜25行に記載されている)、例えば米国特許第4,950,581号明細書第18列第60行〜第19列第10行に記載のような、芳香族のスルホニウム、ホスホニウム若しくはヨードニウム塩、又はシクロペンタジエニル−アレーン−鉄(II)錯塩、例えば(η6−イソプロピルベンゼン)(η5−シクロペンタジエニル)−鉄(II)ヘキサフルオロホスファートはもとより、オキシムスルホン酸エステルであって、例えば、ヨーロッパ特許第780,729号公報に記載されているとおりである。例えばヨーロッパ特許第497,531号及び第441,232号公報に記載のような、ピリジニウム及び(イソ)キノリニウム塩も、この新規光開始剤と併用してよい。
単独、又は他の公知光開始剤及び増感剤との混合物中のいずれかでの、本新規光開始剤は、水又は水溶液中の分散若しくはエマルションの形態でも用いることができる。
本発明の主題は、式(I)、(II)、(III)、(IV)又は(V)の化合物に加えて、少なくとも1種類のα−アミノケトン、特に(4−メチルチオベンゾイル)−1−メチル−1−モルホリノエタンを含む組成物である。
光重合性組成物は、一般に、固体組成物に対して0.05〜25重量%、好ましくは0.01〜10重量%、特に0.01〜5重量%の光開始剤を含む。この量は、開始剤の混合物を用いるならば、加えられるすべての光開始剤の合計を意味する。したがって、この量は、光開始剤(b)、又は光開始剤(b)+(c)のいずれかを意味する。
光開始剤に加え、この光重合性混合物は、様々な添加物(d)を含んでよい。これらのものの例は、未熟な重合を防止しようとする熱阻害剤であって、その例は、ヒドロキノン、ヒドロキノン誘導体、p−メトキシフェノール、β−ナフトール、又は立体障害のあるフェノール、例えば2,6−ジ−tert−ブチル−p−クレゾールである。暗所での貯蔵の際の安定性を増大させるには、例えば、銅化合物、例えばナフテン酸、ステアリン酸若しくはオクトエ酸銅、リン化合物、例えばトリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、亜リン酸トリエチル、亜リン酸トリフェニル若しくは亜リン酸トリベンジル、第四級アンモニウム化合物、例えばテトラメチルアンモニウム=クロリド若しくはトリメチルベンジルアンモニウム=クロリド、又はヒドロキシルアミン誘導体、例えばN−ジエチルヒドロキシルアミンを用いることができる。重合の際に雰囲気酸素を排除するには、パラフィン、又は類似のろう様物質を加えることができ、これらは、重合体中の溶解度が不適切であって、重合の初期に表面に移動し、空気の進入を妨げる透明な表面層を形成する。コーティングの表層に酸素不透過層、例えばポリ(ビニルアルコール−co−酢酸ビニル)を塗布することもできる。少量で加えることができる光安定剤は、UV吸収剤、例えばヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、ヒドロキシフェニルベンゾフェノン、オキサルアミド又はヒドロキシフェニル−s−トリアジン型のものである。これらの化合物は、立体障害アミン(HALS)の存在又は不在下で、個々にか、又は混合物として用いることができる。
そのようなUV吸収剤及び光安定剤の例は、
1.2−(2′−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、例えば、2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール;2−(3′,5′−ジ−tert−ブチル−2′−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール;2−(5′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール;2−(2′−ヒドロキシ−5′−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェニル)ベンゾトリアゾール;2−(3′,5′−ジ−tert−ブチル−2′−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール;2−(3′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾドリアゾール;2−(3′−sec−ブチル−5′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール;2−(2′−ヒドロキシ−4′−オクトキシフェニル)ベンゾトリアゾール;2−(3′,5′−ジ−tert−アミル−2′−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール;2−(3′,5′−ビス(α,α−ジメチルベンジル)−2′−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール;2−(3′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−(2−オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3′−tert−ブチル−5′−〔2−(2−エチルヘキシルオキシ)カルボニルエチル〕−2′−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(3′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−(2−オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3′−tert−ブチル−5′−〔2−(2−エチルヘキシルオキシ)カルボニルエチル〕2′−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3′−ドデシル−2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール及び2−(3′−tert−ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−(2−イソオクチルオキシカルボニルエチル)フェニル)ベンゾトリアゾールの混合物;2,2′−メチレン−ビス〔4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−ベンゾトリアゾール−2−イルフェノール〕;2−〔3′−tert−ブチル−5′−(2−メトキシカルボニルエチル)−2′−ヒドロキシフェニル〕ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール300とのエステル交換反応生成物;〔R−CH2CH2−COO(CH232(式中、R=3′−tert−ブチル−4′−ヒドロキシ−5′−2H−ベンゾトリアゾール−2−イルフェニル;
2.2−ヒドロキシベンゾフェノン、例えば、4−ヒドロキシ−、4−メトキシ−、4−オクトキシ−、4−デシルオキシ−、4−ドデシルオキシ−、4−ベンジルオキシ−、4,2′,4′−トリヒドロキシ−及び2′−ヒドロキシ−4,4′−ジメトキシ−誘導体;
3.置換又は非置換安息香酸のエステル、例えば、サリチル酸4−tert−ブチルフェニル、サリチル酸フェニル、サリチル酸オクトフェニル、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス(4−tert−ブチルベンゾイル)レゾルシノール、ベンジルレゾルシノール、2,4−ジ−tert−ブチルフェニル=3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンゾアート、ヘキサデシル=3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンゾアート、オクタデシル=3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンゾアート、及び2−メチル−4,6−ジ−tert−ブチルフェニル=3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンゾアート;
4.アクリラート、例えば、イソオクチル又はエチルα−シアノ−β,β−ジフェニル=アクリラート、メチルα−カルボメトキシシンナマート、ブチル又はメチルα−シアノ−β−メチル−p−メトキシシンナマート、メチルα−カルボキシメトキシ−p−メトキシシンナマート、及びN−(β−カルボメトキシ−β−シアノビニル)−2−メチルインドリン;
5.立体障害アミン、例えば、セバシン酸ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)、コハク酸ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)、セバシン酸ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)n−ブチル−3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジルマロナート、1−ヒドロキシエチル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物、N,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−tert−オクチルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−s−トリアジンとの縮合生成物、トリス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ニトリロトリアセタート、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタン=テトラオアート、1,1′−(1,2−エタンジイル)ビス(3,3,5,5−テトラメチルピペラジノン)、4−ベンゾイル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)2−n−ブチル−2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルベンジル)マロナート、3−n−オクチル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザスピロ〔4.5〕デカン−2,4−ジオン、セバシン酸ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)、コハク酸ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)、N,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−モルホリノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジンとの縮合生成物、2−クロロ−4,6−ジ−(4−n−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)−1,3,5−トリアジンと1,2−ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンとの縮合生成物、2−クロロ−4,6−ジ−(4−n−ブチルアミノ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−1,3,5−トリアジンと1,2−ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンとの縮合生成物、8−アセチル−3−ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアゾスピロ〔4.5〕デカン−2,4−ジオン、3−ドデシル−1−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ピロリドン、及び3−ドデシル−1−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオン;
6.オキサルアミド、例えば、4,4′−ジオクチルオキシオキサニリド、2,2′−ジエトキシオキサニリド、2,2′−ジオクチルオキシ−5,5′−ジ−tert−ブチルオキサニリド、2,2′−ジドデシルオキシ−5,5′−ジ−tert−ブチルオキサニリド、2−エトキシ−2′−エチルオキサニリド、N,N′−ビス(3−ジメチルアミノプロピル)オキサルアミド、2−エトキシ−5−tert−ブチル−2′−エチルオキサニリド、及び2−エトキシ−2′−エチル−5,4′−ジ−tert−ブチルオカサニリドとのその混合物、o−及びp−メトキシ−、並びにo−及びp−エトキシ−ジ置換オキサニリドの混合物;
7.2−(2−ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、例えば、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロピルオキシフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス(4−メチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−〔2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−ブチルオキシプロピルオキシ)フェニル〕−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−〔2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−オクチルオキシプロピルオキシ)フェニル〕−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、及び2−〔4−ドデシル/トリデシルオキシ−(2−ヒドロキシプロピル)オキシ−2−ヒドロキシフェニル〕−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン;
8.亜リン酸エステル及びホスホン酸エステル、例えば、亜リン酸トリフェニル、亜リン酸ジフェニルアルキル、亜リン酸フェニルジアルキル、亜リン酸トリス(ノニルフェニル)、亜リン酸トリラウリル、亜リン酸トリオクタデシル、二亜リン酸ジステアリルペンタエリトリチル、亜リン酸トリス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)、二亜リン酸ジイソデシルペンタエリトリチル、二亜リン酸ビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ペンタエリトリチル、二亜リン酸ビス(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリトリチル、二亜リン酸ビス−イソデシルオキシペンタエリトリチル、二亜リン酸ビス(2,4−ジ−tert−ブチル−6−メチルフェニル)ペンタエリトリチル、二亜リン酸ビス(2,4,6−トリ−tert−ブチルフェニル)ペンタエリトリチル、三亜リン酸トリステアリルソルビチル、二亜リン酸テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−4,4′−ビフェニレン、6−イソオクチルオキシ−2,4,8,10−テトラ−tert−ブチル−12H−ジベンゾ〔d,g〕−1,3,2−ジオキサホスホシン、6−フルオロ−2,4,8,10−テトラ−tert−ブチル−12−メチルジベンゾ〔d,g〕−1,3,2−ジオキサホスホシン、亜リン酸ビス(2,4−ジ−tert−ブチル−6−メチルフェニル)メチル、及び亜リン酸ビス(2,4−ジ−tert−ブチル−6−メチルフェニル)エチル;
である。
光重合を促進するには、成分(d)として、アミン、例えば、トリエタノ−ルアミン、N−メチルジエタノールアミン、エチル−p−ジメチルアミノベンゾアート、2−(ジメチルアミノ)エチルベンゾアート、2−エチルヘキシル−p−ジメチルアミノベンゾアート、オクチル−p−N,N−ジメチルアミノベンゾアート、N−(2−ヒドロキシエチル)−N−メチル−p−トルイジン又はミヒラーケトンを加えることができる。アミンの作用は、ベンゾフェノン型の芳香族ケトンの添加によって強めることができる。酸素捕集剤として用い得るアミンの例は、ヨーロッパ特許第339,841号公報に記載されたとおり、置換N,N−ジアルキルアニリンである。その他の促進剤、助開始剤、及び自動酸化剤は、チオール、チオエーテル、ジスルフィド、ホスホニウム塩、酸化ホスフィン又はホスフィンであって、例えば、ヨーロッパ特許第438,123号、英国特許第2,180,358号公報、及び特開平第(6)−68,309号公報に記載されたとおりである。
更に、当技術に慣用される連鎖移動剤を、成分(d)として本発明による組成物に加えることもできる。その例は、メルカプタン、アミン及びベンゾチアゾールである。
光重合は、光増感剤又は助開始剤を(スペクトル感度を移動又は拡大する成分(d)として)更に加えることによって、促進することもできる。これらは、特に芳香族化合物、例えば、ベンゾフェノン及びその誘導体、チオキサントン及びその誘導体、アントラキノン及びその誘導体、クマリンやフェノチアジン及びその誘導体、そしてまた3−(アロイルメチレン)チアゾリン、ローダニン、ショウノウキノン、しかしまたエオシン、ローダミン、エリスロシン、キサンテン、チオキサンテン、アクリジン、例えば9−フェニルアクリジン、1,7−ビス(9−アクリジニル)ヘプタン、1,5−ビス(9−アクリジニル)ペンタン、シアニン、及びメロシアニン染料である。
そのような化合物の特定の例は、
1.チオキサントン
チオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン、2−ドデシルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、1−メトキシカルボニルチオキサントン、2−エトキシカルボニルチオキサントン、3−(2−メトキシエトキシカルボニル)チオキサントン、4−ブトキシカルボニルチオキサントン、3−ブトキシカルボニル−7−メチルチオキサントン、1−シアノ−3−クロロチオキサントン、1−エトキシカルボニル−3−クロロチオキサントン、1−エトキシカルボニル−3−エトキシチオキサントン、1−エトキシカルボニル−3−アミノチオキサントン、1−エトキシカルボニル−3−フェニルスルフリルチオキサントン、3,4−ジ−〔2−(2−メトキシエトキシ)エトキシカルボニル〕チオキサントン、1,3−ジメチル−2−ヒドロキシ−9H−チオキサンテン−9−オン2−エチルヘキシルエーテル、1−エトキシカルボニル−3−(1−メチル−1−モルホリノエチル)チオキサントン、2−メチル−6−ジメトキシメチルチオキサントン、2−メチル−6−(1,1−ジメトキシベンジル)チオキサントン、2−モルホリノメチルチオキサントン、2−メチル−6−モルホリノメチルチオキサントン、N−アリルチオキサントン−3,4−ジカルボキシイミド、N−オクチルチオキサントン−3,4−ジカルボキシイミド、N−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)チオキサントン−3,4−ジカルボキシイミド、1−フェノキシチオキサントン、6−エトキシカルボニル−2−メトキシチオキサントン、6−エトキシカルボニル−2−メチルチオキサントン、チオキサントン−2−カルボン酸ポリエチレングリコールエステル、2−ヒドロキシ−3−(3,4−ジメチル−9−オキソ−9H−チオキサントン−2−イルオキシ)−N,N,N−トリメチル−1−プロパンアミニウム=クロリド;
2.ベンゾフェノン
ベンゾフェノン、4−フェニルベンゾフェノン、4−メトキシベンゾフェノン、4,4′−ジメトキシベンゾフェノン、4,4′−ジメチルベンゾフェノン、4,4′−ジクロロベンゾフェノン、4,4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4′−ビス(メチルエチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4′−ビス(p−イソプロピルフェノキシ)ベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、4−(4−メチルチオフェニル)ベンゾフェノン、3,3′−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、メチル−2−ベンゾイルベンゾアート、4−(2−ヒドロキシエチルチオ)ベンゾフェノン、4−(4−トリルチオ)ベンゾフェノン、1−〔4−(4−ベンゾイルフェニルスルファニル)フェニル〕−2−メチル−2−(トルエン−4−スルホニル)プロパン−1−オン、4−ベンゾイル−N,N,N−トリメチルベンゼンメタンアミニウム=クロリド、2−ヒドロキシ−3−(4−ベンゾイルフェノキシ)−N,N,N−トリメチル−1−プロパンアミニウム=クロリド−水和物、4−(13−アクリロイル−1,4,7,10,13−ペンタオキサトリデシル)ベンゾフェノン、4−ベンゾイル−N,N−ジメチル−N−〔2−(1−オキソ−2−プロペニル)オキシ〕エチルベンゼンメタンアミニウム=クロリド;
3.クマリン
クマリン1、クマリン2、クマリン6、クマリン7、クマリン30、クマリン102、クマリン106、クマリン138、クマリン152、クマリン153、クマリン307、クマリン314、クマリン314T、クマリン334、クマリン337、クマリン500、3−ベンゾイルクマリン、3−ベンゾイル−7−メトキシクマリン、3−ベンゾイル−5,7−ジメトキシクマリン、3−ベンゾイル−5,7−ジプロポキシクマリン、3−ベンゾイル−6,8−ジクロロクマリン、3−ベンゾイル−6−クロロクマリン、3,3′−カルボニル−ビス〔5,7−ジ(ポロポキシ)クマリン〕、3,3′−カルボニル−ビス(7−ジエチルアミノクマリン)、3−イソブチロイルクマリン、3−ベンゾイル−5,7−ジメトキシクマリン、3−ベンゾイル−5,7−ジエトキシクマリン、3−ベンゾイル−5,7−ジブトキシクマリン、3−ベンゾイル−5,7−ジ(メトキシエトキシ)クマリン、3−ベンゾイル−5,7−ジ(アリルオキシ)クマリン、3−ベンゾイル−7−ジメチルアミノクマリン、3−ベンゾイル−7−ジエチルアミノクマリン、3−イソブチロイル−7−ジメチルアミノクマリン、5,7−ジメトキシ−3−(1−ナフトイル)クマリン、5,7−ジエトキシ−3−(1−ナフトイル)クマリン、3−ベンゾイルベンゾ〔f〕クマリン、7−ジエチルアミノ−3−チエノイルクマリン、3−(4−シアノベンゾイル)−5,7−ジメトキシクマリン、3−(4−シアノベンゾイル)−5,7−ジプロポキシクマリン、7−ジメチルアミノ−3−フェニルクマリン、7−ジエチルアミノ−3−フェニルクマリン、特開平第(9)−179,299号及び第(9)−325,209号公報に開示されたクマリン誘導体、例えば7−〔{4−クロロ−6−(ジエチルアミノ)−S−トリアジン−2−イル}アミノ〕−3−フェニルクマリン;
4.3−(アロイルメチレン)チアゾリン
3−メチル−2−ベンゾイルメチレン−β−ナフトチアゾリン、3−メチル−2−ベンゾイルメチレン−ベンゾチアゾリン、3−エチル−2−プロピオニルメチレン−β−ナフトチアゾリン;
5.ローダニン
4−ジメチルアミノベンザルローダニン、4−ジエチルアミノベンザルローダニン、3−エチル−5−(3−オクチル−2−ベンゾチアゾリニリデン)ローダニン、特開平第(8)−305,019号公報に開示された、式〔1〕、〔2〕、〔7〕のローダニン誘導体;
6.その他の化合物
アセトフェノン、3−メトキシアセトフェノン、4−フェニルアセトフェノン、ベンジル、4,4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンジル、2−アセチルナフタレン、2−ナフトアルデヒド、ダンシル酸誘導体、9,10−アントラキノン、アントラセン、ピレン、アミノピレン、ペリレン、フェナトレン、フェントレンキノン、9−フルオレノン、ジベンゾスベロン、クルクミン、キサントン、チオミヒラーケトン、α−(4−ジメチルアミノベンジリデン)ケトン、例えば2,5−ビス(4−ジエチルアミノベンジリデン)シクロペンタノン、2−(4−ジメチルアミノベンジリデン)インダン−1−オン、3−(4−ジメチルアミノフェニル)−1−インダン−5−イルプロペノン、3−フェニルチオフタルイミド、N−メチル−3,5−ジ(エチルチオ)フタルイミド、N−メチル−3,5−ジ(エチルチオ)フタルイミド、フェノチアジン、メチルフェノチアジン、アミン、例えばN−フェニルグリシン、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸ブトキシエチル、4−ジメチルアミノアセトフェノン、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、2−(ジメチルアミノ)エチルベンゾアート、ポリプロピレングリコール−4−(ジメチルアミノ)ベンゾアートである。
ベンゾフェノン及びその誘導体、チオキサントン及びその誘導体、アントラキノン及びその誘導体、又はクマリン誘導体よりなる群から選ばれる光増感剤化合物を、それ以上の添加物(d)として含む光重合性組成物が好ましい。
硬化工程は、ヨーロッパ特許第245,639号公報に記載されたとおり、光増感剤を、特に、(例えば二酸化チタンで)着色された組成物として加えることによって、また熱条件下で遊離基を形成する成分、例えば、2,2′−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)、トリアゼン、ジアゾスルフィド、ペンタアザジエン又はペルオキシ化合物、例えばヒドロペルオキシド又はペルオキシカルボナート、例えばtert−ブチルヒドロペルオキシドのようなアゾ化合物も加えることによって、支援することができる。
本発明による組成物は、それ以上の添加物(d)として、光還元性染料、例えば、キサンテン−、ベンゾキサンテン−、ベンゾチオキサンテン−、チアジン−、ピロニン−、ポルフィリン−若しくはアクリジン−染料、及び/又は照射によって切断できるトリハロゲンメチル化合物を含んでよい。類似の組成物は、例えばヨーロッパ特許第445,624号公報に記載されている。
当技術に公知のそれ以上の添加物、例えばビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン及び3−メルカプトプロピルトリメトキシシランを、化合物(d)として、例えば、流れ改質剤、付着促進剤として加えてよい。界面活性剤、光学的光沢剤、顔料、染料、湿潤剤、平滑助剤、分散剤、凝集防止剤、酸化防止剤又は充填剤は、添加物(d)についてのそれ以上の例である。
厚く、かつ着色されたコ−ティングを硬化させるには、例えば米国特許第5,013,768号明細書に記載のとおり、ガラス微小球、又は微粉化ガラス繊維を加えるのが適切である。
添加物(d)の選択は、適用の分野、及びその分野に対して必要とされる特性に応じてなされる。上記の添加物は、当技術に慣用され、そのため、それぞれの適用において常用される量で加えられる。
結合剤(e)もまた、本新規組成物に加えることができる。これは、光重合性化合物が液体、又は粘稠な物質であるときに、特に好都合である。結合剤の量は、例えば、全固体含量に対して2〜98重量%、好ましくは5〜95重量%、特に20〜90重量%であってよい。結合剤の選択は、適用の分野、及びその分野に対して必要とされる特性、例えば、水性及び有機溶媒系での展開の容量、下地への接着、及び酸素に対する感度に応じてなされる。
適切な結合剤の例は、約2,000〜2,000,000、好ましくは5,000〜1,000,000の分子量を有する重合体である。アルカリ展開性結合剤の例は、懸垂基としてのカルボン酸官能を有するアクリル系重合体、例えば、(メタ)アクリル酸、2−カルボキシエチル(メタ)アクリル酸、2−カルボキシプロピル(メタ)アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸及びフマル酸のような、エチレン的不飽和カルボン酸と、(メタ)アクリル酸のエステル、例えば(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル及び(メタ)アクリル酸ヒドロキシプロピル;ビニル芳香族化合物、例えばスチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン及びp−クロロスチレン;アミド型不飽和化合物;(メタ)アクリルアミドジアセトンアクリルアミド;N−メチロールアクリルアミド;N−ブトキシメタクリルアミド;並びにポリオレフィン型化合物、例えばブタジエン、イソプレン、クロロプレンなど;メタクリロニトリル;メチルイソプロペニルケトン;酢酸ビニル;プロピオン酸ビニル;又はピバル酸ビニルから選ばれる1種類又はそれ以上の単量体とを共重合させることによって得られる、慣用的に公知の共重合体である。共重合体の例は、アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルと、アクリル酸又はメタクリル酸と、及びスチレン又は置換スチレン、フェノール樹脂、例えばノボラック、(ポリ)ヒドロキシスチレンとの共重合体、並びにヒドロキシスチレンと、アクリル酸アルキル、アクリル酸及び/又はメタクリル酸との共重合体である。共重合体の好ましい例は、メタクリル酸メチル/メタクリル酸共重合体、メタクリル酸ベンジル/メタクリル酸共重合体、メタクリル酸メチル/アクリル酸エチル/メタクリル酸共重合体、メタクリル酸ベンジル/メタクリル酸/スチレン共重合体、メタクリル酸ベンジル/メタクリル酸/メタクリル酸ヒドロキシエチル共重合体、メタクリル酸メチル/メタクリル酸ブチル/メタクリル酸/スチレン共重合体、メタクリル酸メチル/メタクリル酸ベンジル/メタクリル酸/メタクリル酸ヒドロキシフェニル共重合体である。溶媒展開性結合剤重合体の例は、ポリメタクリル酸アルキル、ポリアクリル酸アルキル、ポリ(メタクリル酸ベンジル−co−メタクリル酸ヒドロキシエチル−co−メタクリル酸)、ポリ(メタクリル酸ベンジル−co−メタクリル酸);セルロースエステル及びセルロースエーテル、例えば酢酸セルロース、アセト酪酸セルロース、メチルセルロース、エチルセルロース;ポリプロピレンオキシド及びポリテトラヒドロフラン;ポリスチレン;ポリカーボネート;ポリウレタン;塩素化ポリオレフィン;ポリ塩化ビニル;塩化ビニル/ビニリデン共重合体;塩化ビニリデンとアクリロニトリル、メタクリル酸メチル及び酢酸ビニルとの共重合体;ポリ酢酸ビニル;エチレン/酢酸ビニル共重合体;ポリカプロラクタムやポリヘキサメチレンアジピンアミドのような重合体;並びにポリエチレングリコールテレフタラートやポリヘキサメチレングリコールスクシナートのようなポリエステル、及びポリイミド結合剤樹脂である。
本発明におけるポリイミド結合剤樹脂は、溶媒可溶性ポリイミド、又はポリイミド前駆体、例えばポリアミク酸のいずれであることもできる。
好ましいのは、結合剤重合体(e)として、メタクリル酸エステルとメタクリル酸との共重合体を含む、光重合性組成物である。
更に関心が持たれるのは、特にカラーフィルタに用いるための、例えば特開平第(10)−171,119号公報に記載のような、重合体による結合剤成分である。
この光重合性組成物は、様々な目的に、例えば、印刷インク、例えばスクリーン印刷インク、オフセット若しくはフレキソ印刷インクとして、透明仕上げとして、例えば木材又は金属に対する、白色若しくは有色仕上げとして、粉末コーティングとして、特に紙、木材、金属又はプラスチックに対する、塗装材料として、建築物のマーキングや道路マーキング、写真複製手法、ホログラフ記録の材料、画像記録手法、又は有機溶媒若しくは水性アルカリで現像できる印刷原版の製造、スクリーン印刷マスクの製造のための日光硬化性コーティングとして、歯科充填用組成物として、接着剤として、感圧接着剤として、積層用樹脂として、液体及び乾燥薄膜両様の、エッチングレジスト、はんだレジスト、電気めっきレジスト又はパーマネントレジストとして、プリント回路板や電子回路用の、光構成性誘電体及びはんだマスクとして、様々な表示用途のためにか、又はプラズマ表示パネルや電気発光表示装置の製造工程での構造の形成のために、カラーフィルタを製造するため(例えば米国特許第5,853,446号明細書、ヨーロッパ特許第863,534号、特開平第(9)−244,230号、第(10)−62,980号、第(8)−171,863号公報、米国特許第5,840,465号明細書、ヨーロッパ特許第855,731号、特開平第(5)−271,576号、特開平第(5)−67,405号公報に記載のような)、光学スイッチ、光学格子(干渉格子)、光回路の製造のため、大量硬化(透明成形用型でのUV硬化)又は立体平板印刷手法による三次元的物品の製造(例えば米国特許第4,575,330号明細書に記載のような)、複合材料(例えば、望みであれば、ガラス繊維及び/又はその他の繊維並びに他の助剤を含み得る、スチレン系ポリエステル)その他の厚層組成物の製造のため、電子部品及び集積回路の被覆又は密封のためのレジストとして、或いは光ファイバーのためか、又は光学レンズ、例えばコンタクトレンズ若しくはフレネルレンズ製造のためのコーティングとして用いることができる。本発明による組成物は、更に、医用機器、補助具又はインプラントの製造にも適する。更に、本発明による組成物は、例えばドイツ国特許第19,700,064号及びヨーロッパ特許第678,534号公報に記載のような、サーモトロピック特性を有するゲルの製造に適する。
本新規光開始剤は、乳化重合、パール重合若しくは懸濁重合のための開始剤として、液晶の単量体及びオリゴマーの規則的状態を固定するための重合開始剤として、又は有機材料に染料を固着させるための開始剤として、追加的に用いてよい。
コーティング材料では、モノ不飽和単量体も追加的に含んでよい、ポリ不飽和単量体とのプレポリマーの混合物を用いることが多い。ここでは、コーティング薄膜の特性を主として指定し、それを変えることによって、当業者が、硬化した薄膜の特性に影響を与えることができるのが、このプレポリマーである。ポリ不飽和単量体は、薄膜を不溶性にする橋かけ剤として機能する。モノ不飽和単量体は、反応性希釈剤として機能して、溶媒を用いる必要なしに、粘度を低下させるのに用いられる。
不飽和ポリエステル樹脂は、通常、モノ不飽和単量体、好ましくはスチレンとともに二成分系で用いられる。フォトレジストのためには、例えば、ドイツ国特許第2,308,830号公報に記載のようなポリマレイミド、ポリカルコン又はポリイミドが頻用される。
本新規光開始剤及びその混合物は、放射線硬化性粉末コーティングの重合にも用いることができる。粉末コーティングは、固体樹脂、及び反応性二重結合を有する単量体、例えばマレアート、ビニルエーテル、アクリラート、アクリルアミド、及びそれらの混合物に基づくことができる。遊離基によってUV硬化できる粉末コーティングは、不飽和ポリエステル樹脂と、固体のアクリルアミド(例えばメチルアクリルアミドグリコール酸メチル)及び新規遊離基光開始剤とを混合することによって配合することができ、そのような配合物は、例えばM. Wittig and Th. Gohmannによる論文"Radiation Curing of Powder Caotings", Conference Proceedings, Radtech Europe 1933に記載のとおりである。粉末コーティングは、例えばドイツ国特許第4,228,514号及びヨーロッパ特許第636,669号公報に記載のとおり、結合剤を含むこともできる。
遊離基によってUV硬化できる粉末コーティングは、不飽和ポリエステル樹脂と、固体のアクリラート、メタクリラート又はビニルエーテル、及び本新規光開始剤(又は光開始剤混合物)とを混合することによって配合することもできる。この粉末コーティングは、例えばドイツ国特許第4,228,514号及びヨーロッパ特許第636,669号公報に記載のような、結合剤を含んでもよい。このUV硬化性粉末コーティングは、白色又は有色の顔料を追加的に含んでよい。例えば、好ましくは二酸化ルチルチタンを、50重量%以下の濃度で用いて、優れた隠蔽力を有する硬化粉末コーティングを与えることができる。手順は、通常、下地、例えば金属又は木材への粉末の静電気若しくは摩擦電気による吹付け、熱による粉末の融解、及び滑らかな薄膜が形成された後の、例えば中圧水銀灯、金属ハロゲン化物灯火又はキセノン灯を用いた、紫外光及び/又は可視光によるコーティングの放射線硬化を含む。放射線硬化性粉末コーティングの、対応する熱硬化性のそれに勝る特別な利点は、粉末粒子を融解した後の流動時間を遅らせて、滑らかで、強い光沢のあるコーティングの形成を確保できることである。熱硬化系とは対照的に、放射線硬化性粉末コーティングは、その寿命を短縮するという望ましくない効果なしに、より低い温度で融解するよう配合することができる。そのため、熱に敏感な下地、例えば木材又はプラスチックに対するコーティングとしても適する。新規光開始剤系に加え、粉末コーティング配合物は、UV吸収剤も含んでよい。適切な例は、上記第1〜8項(〔219〕〜〔226〕)に列挙されている。
この新規な光硬化性組成物は、例えば、保護層を施すか、又は画像に対する露光によって画像を生成することが意図される、すべての種類、例えば木材、繊維、紙、セラミック、ガラス、(ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリオレフィン又は酢酸セルロースのような)プラスチックの、特に薄膜、またAl、Cu、Ni、Fe、Zn、Mg又はCoのような金属、及びGaAs、Si又はSiO2の形態での下地のためのコーティング材料として適する。
この新規な放射線感受性組成物は、更に、光に対して非常に高い感度を有し、アルカリ性水性媒体中で、膨潤なしに現像することができる、陰画レジストとしての用途があり、電気めっきレジスト、液体及び乾燥薄膜の双方でのエッチングレジスト、はんだレジストのような、電子工学用のフォトレジストとして、様々な表示の用途向けのカラーフィルタの製造、又はプラズマ表示パネル及び電気発光表示装置の製造工程での構造の形成のため、印刷原版、例えばオフセット印刷原版若しくはスクリーン印刷原版の製造のため、レリーフ印刷や平版印刷用の印刷用紙、グラビア印刷若しくはスクリーン印刷用紙の製造のため、レリーフコピーの製造、例えばブライユ点字でのテキストの製造のため、スタンプの製造のため、化学摩砕に用いるためのレジストとして、又は集積回路の製造の際のマイクロレジストとしても適する。該組成物は、更に、コンピュータチップ、プリント板その他の電気若しくは電子部品の製造の際の、光作図可能な誘電性の層若しくはコーティング、封入材料、及び隔離コーティングとして用いてもよい。あり得る層支持体、及び被覆下地の処理条件は、単に変化に応じてのことにすぎない。
該新規組成物は、感光性の熱硬化性樹脂組成物、及びその使用によってはんだレジスト図形を形成する方法にも関し、より詳しくは、プリント回路板の製造、金属製品の精密工作、ガラス及び石製品のエッチング、プラスチック製品の浮彫り、及び印刷原版の製造のための材料として役立ち、特にプリント回路板のためのはんだレジストとして役立つ新規な感光性の熱硬化性樹脂組成物に、並びに該樹脂組成物の層を、図形を有する遮光装置越しに放射線に選択的に露光させ、該層の非露光部分を現像する工程によって、はんだレジスト図形を形成する方法に関する。
はんだレジストは、与えられた部分を、溶融はんだが不適切な部分及び保護回路に接着するのを防ぐ目的で、プリント回路板にはんだ付けする際に用いられる物質である。そのため、高い接着性、絶縁抵抗、はんだ付け温度に対する耐性、溶媒に対する耐性、アルカリに対する耐性、酸に対する耐性、およびめっきに対する耐性のような特性を保有することが必要とされる。
本発明による光硬化性組成物は、優れた熱安定性を有し、酸素による阻害に充分に耐性であるため、例えばヨーロッパ特許第320,264号公報に記載のような、カラーフィルタ又は色モザイク系の形成に特に適する。カラーフィルタは、通常、LCD表示装置、投影装置系及び画像センサーの製造に用いられる。カラーフィルタは、例えば、テレビ受像機、ビデオモニター又はコンピュータの表示装置及び画像スキャナー用に、平坦パネル表示技術等々に用いることができる。
カラーフィルタは、通常、ガラスの基板上に赤、緑及び青色の画素、並びに黒色のマトリックスを形成することによって製造される。これらの工程に、本発明による光硬化性組成物を用いることができる。特に好ましい使用方法は、赤、緑及び青色の着色物質、染料及び顔料を、本発明の感光性樹脂組成物に添加し、該基板を該組成物で被覆し、コーティングを短時間の熱処理で乾燥し、該コーティングを放射線の放射に図形に応じて露光させ、次いで図形をアルカリ性現像剤水溶液中で現像し、場合により熱処理することを含む。こうして、赤、緑及び青色に着色されたコーティングを、望みのいかなる順序ででも、この方法で相互に逐次重ね合わせることによって、赤、緑及び青色の画素を有するカラーフィルタを製造することができる。
現像は、重合しなかった部域を適切なアルカリ現像液で洗い落とすことによって実施する。この工程を反復して、複数の色を有する画像を形成する。
本発明の感光性樹脂組成物では、少なくとも一つ又はそれ以上の絵画要素(picture elements)を、透明な基板上に形成し、次いで、透明な基板の、上記の絵画要素が形成されない一側面から露光を与える工程によって、上記の絵画要素を、遮光マスクとして利用することができる。この場合、例えば、全体的露光を与える場合、マスクの位置調整は、不要になり、その位置のずれに関する懸念が除去される。そして、上記の絵画要素が形成されない部分のすべてを硬化させることができる。更に、この場合、上記の絵画要素が形成されない部分の一部を、遮光マスクを部分的に用いることによって現像及び除去することも可能である。
いずれの場合も、先に形成される絵画要素と、後に形成されるそれとの間に間隙が全く形成されないことから、本発明の組成物は、例えば、カラーフィルタの形成材料に適する。具体的には、赤、緑及び青色の着色物質、染料及び顔料を、本発明の感光性樹脂組成物に加え、画像を形成する工程を反復して、赤、緑及び青色の絵画要素を形成する。そうして、例えば黒色の着色材料、染料及び顔料を加えた、感光性受理組成物を全体的な表面に与える。全体的な露光(または社交マスクを介しての部分露光)は、その上に与えて、黒色の絵画要素を、赤、緑及び青色の絵画要素の間の空間全体(又は遮光マスクの部分的領域以外の全体)に形成することができる。
感光性樹脂組成物を下地に塗布し、乾燥する工程に加えて、本発明の感光性樹脂組成物は、層移動材料にも用いることができる。すなわち、感光性樹脂組成物を、仮支持体、好ましくはポリ(エチレンテレフタラート)薄膜にか、又は酸素遮断層及び剥落層、又は剥落層及び酸素遮断層を与えたポリ(エチレンテレフタラート)薄膜に、層に応じて直接与える。通常、取扱いの際の保護のために、合成樹脂で製造された、除去可能な被覆シートをそれに積層する。更に、アルカリ可溶熱可塑性樹脂層、及び中間層を与え、更に感光性樹脂組成物の層をその上に与えた、層構造も仮支持体に施すことができる(特開平第(5)−173,320号公報)。
上記の被覆シートは、使用の際に除去し、感光性樹脂組成物の層を、恒久的支持体に積層する。次いで、酸素遮断層及び剥落層を与えたときは、該組成物の層と仮支持体との間で、剥落層及び酸素遮断層を与えたときは、剥落層と酸素遮断層との間で、また剥落層又は酸素遮断層のいずれも与えなかったときは、仮支持体と感光性樹脂組成物の層との間で剥落を実施し、仮支持体を除去する。
金属支持体、ガラス、セラミック及び合成樹脂薄膜を、カラーフィルタの支持体として用いることができる。透明であり、優れた寸法安定性を有する、ガラス及び合成樹脂薄膜は、特に好ましい。
感光性樹脂組成物の層の厚さは、通常、0.1〜50μm、特に0.5〜5μmである。
アルカリ性物質の希釈された溶液は、該組成物が、アルカリ可溶樹脂又はアルカリ可溶単量体若しくはオリゴマーを含有するならば、そして更に少量の水混和性有機溶媒をそれに加えることによって調製された、現像剤溶液も含まれるならば、本発明の感光性樹脂組成物の現像液として用いるととができる。
適切なアルカリ性材料の例は、アルカリ金属水酸化物(例えば、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウム)、アルカリ金属炭酸塩(例えば、炭酸ナトリウム及び炭酸カリウム)、アルカリ金属重炭酸塩(例えば、重炭酸ナトリウム及び重炭酸カリウム)、アルカリ金属ケイ酸塩(例えば、ケイ酸ナトリウム及びケイ酸カリウム)、アルカリ金属メタケイ酸塩(例えば、メタケイ酸ナトリウム及びメタケイ酸カリウム)、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、モルホリン、水酸化テトラアルキルアンモニウム(例えば水酸化テトラアルキルアンモニウム)、又はリン酸三ナトリウムを包含する。アルカリ性物質の濃度は、0.01〜30重量%であり、pHは、好ましくは8〜14である。
水混和性の適切な有機溶媒は、メタノール、エタノール、2−プロパノール、1−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノn−ブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル=アセタート、エチル−3−エトキシプロピオナート、メチル−3−メトキシプロピオナート、酢酸n−ブチル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、2−ペンタノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム及びN−メチルピロリジノンを包含する。水混和性有機溶媒の濃度は、0.1〜30重量%である。
更に、公知の界面活性剤を加えることができる。界面活性剤の濃度は、好まし くは、0.001〜10重量%である。
本発明の感光性樹脂組成物は、アルカリ性化合物を含有しない、2種類又はそれ以上の溶媒を包含する有機溶媒で現像することもできる。適切な溶媒は、メタノール、エタノール、2−プロパノール、1−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノn−ブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル=アセタート、エチル−3−エトキシプロピオナート、メチル−3−メトキシプロピオナート、酢酸n−ブチル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、2−ペンタノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム及びN−メチルピロリジノンを包含する。
現像剤溶液は、当業者に公知のすべての形態で、例えば、溶液、パドル又は吹付け溶液の形態で用いることができる。感光性樹脂組成物の層の硬化しなかった部分を除去するには、回転ブラシによる摩擦、及び湿潤スポンジによる摩擦のような方法を組み合せることができる。通常、現像液の温度は、好ましくは、ほぼ室温ないし40℃である。現像時間は、感光性樹脂組成物の具体的な種類、現像液のアルカリ度及び温度、並びに加えた場合の有機溶媒の種類及び濃度に従って可変的である。通常、それは10秒〜2分である。現像工程の後に、洗浄段階を置くことができる。
最終的な熱処理は、好ましくは、現像工程の後に実施する。したがって、露光によって光重合した層(以下、光硬化層と呼ぶ)を有する支持体を、電気炉又は乾燥機内で加熱するか、又は光硬化層を、赤外灯で照射するか、若しくは加熱プレート上で加熱する。加熱温度及び時間は、用いた組成物、及び形成された層の厚さに依存する。一般に、加熱は、好ましくは、約120〜約250℃で約5〜約60分間適用する。
着色されたカラーフィルタのレジスト組成物を包含する、本発明による組成物に含ませることができる顔料は、好ましくは、加工された顔料、例えば、アクリル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、マレイン酸樹脂およびエチルセルロース樹脂よりなる群から選ばれる少なくとも1種類の樹脂に、顔料を微細に分散させることによって製造された、粉末状又は糊状の製品である。
赤色顔料は、例えば、単独でのアントラキノン型顔料、単独でのペリレン型顔料、又はそれらのうち少なくとも1種類、及びジアゾ型黄色顔料若しくはイソインドリン型黄色顔料よりなる混合物、特に単独でのC.I.ピグメントレッド177番、単独でのC.I.ピグメントレッド155番、又はC.I.ピグメントレッド177番、C.I.ピグメントレッド155番、及びC.I.ピグメントイェロー83番若しくはC.I.ピグメントイェロー139番のうち少なくとも一員よりなる混合物を含む(「C.I.」とは、当業者には公知であり、公然と入手できる、色指数を意味する)。顔料に更に適する例は、C.I.ピグメントレッド105番、144番、149番、176番、177番、185番、202番、209番、214番、222番、242番、254番、255番、264番、272番、及びC.I.ピグメントイェロー24番、31番、53番、83番、93番、95番、109番、110番、128番、129番、138番、139番、166番、及びC.I.ピグメントオレンジ43番である。
緑色の顔料は、例えば、単独でのハロゲン化フタロシアニン型顔料、又はジアゾ型黄色顔料又はイソインドリン型黄色顔料とのその混合物、特に単独でのC.I.ピグメントグリーン7番、単独でのC.I.ピグメントグリーン36番、単独でのC.I.ピグメントグリーン37番、又はC.I.ピグメントグリーン7番、C.I.ピグメントグリーン36番、C.I.ピグメントグリーン37番、C.I.ピグメントグリーン136番及びC.I.ピグメントイェロー83番若しくはC.I.ピグメントイェロー139番のうち少なくとも一員よりなる混合物を含む。適するその他の緑色顔料は、C.I.ピグメントグリーン15番及び25番である。
適する青色顔料の例は、単独でか、又はジオキサジン型菫色顔料との組合せでかのいずれかで用いられるフタロシアニン型顔料、例えば、C.I.ピグメントブルー15:3番及びC.I.ピグメントバイオレット23番の組合せである。青色顔料のためのそれ以上の例は、C.I.ブルー15:3番、15:4番、15:6番、16番及び60番の類のもの、すなわち、フタロシアニンC.I.ピグメントブルー15:3番、又はフタロシアニンC.I.ピグメントブルー15:6番である。適するその他の顔料は、C.I.ピグメントブルー22番、28番、C.I.ピグメントバイオレット14番、19番、23番、29番、32番、37番、177番及びC.I.オレンジ73番の類のものである。
黒色マトリックスの光重合体組成物の顔料は、好ましくは、炭素、チタンブラック及び酸化鉄よりなる群から選ばれる少なくとも一員を含む。しかし、全体で黒色の外見を与えるその他の顔料の混合物も、用いることができる。例えば、C.I.ピグメントブラック1番及び7番は、単独でか、又は組み合せて用いることができる。
いかなる色についても、2種類より多くの顔料を用いることもできる。カラーフィルタの用途に特に適するのは、上記の顔料を樹脂中に微細に分散させることによって製造される、粉末状の加工された顔料である。
全固体成分(様々な色の顔料、及び樹脂)中の顔料の濃度は、例えば、5〜80重量%の範囲内、特に20〜45重量%の範囲内にある。
カラーフィルタレジスト組成物中の顔料は、好ましくは、可視光の波長(400〜700nm)より小さい平均粒度を有する。特に好ましいのは、<100nmの平均顔料直径である。
必要ならば、顔料は、分散剤で顔料を前処理して、液体配合物中の顔料の分散安定性を向上させることによって、感光性組成物中で安定化してよい。
カラーフィルタレジスト、そのようなレジスト組成物、及び加工条件に関する例は、T. Kudo et al., Jpn. J. Appl. Phys. Vol. 37 (1998) 3594;T. Kudo et al., J. Photopolym. Sci. Technol. Vol. 9 (1996) 109;K. Kobayashi, Solid State Technol. Nov. 1992, p. S15-S18;米国特許第5,368,976号、第5,800,952号、第5,882,843号、第5,879,855号、第5,866,298号、第5,863,678号明細書;特開平第(6)−230,212号公報;ヨーロッパ特許第320,264号公報;特開平第(9)−269,410号、第(10)−221,843号、第(1)−090,516号、第(10)−171,119号公報;米国特許第5,821,016号、第5,846,015号、第5,882,843号、第5,719,008号明細書;ヨーロッパ特許第881,541号又は第902,327号公報によって与えられる。
本発明の光開始剤は、カラーフィルタレジスト、例えば、例として上に示したものに用いることができるか、又はそのようなレジストでの公知の光開始剤に部分的若しくは完全に取って代わることができる。当業者には、本発明の新たな光開始剤の用途は、特定の結合剤樹脂、橋かけ剤、又はこれまでに示したカラーフィルタレジストの例の配合物に限定されずに、染料又は色顔料若しくは潜在性顔料と組合せた、ラジカル重合できるいかなる成分とも結合して用いて、感光性のカラーフィルタインク又はカラーフィルタレジストを形成することができる。
上記により、本発明の主題は、すべてが感光性樹脂及び顔料を含む、赤、緑及び青色(RGB)の色彩要素と、場合により黒色のマトリックスとを透明な基板の上に与え、かつ基板の表面、又はカラーフィルタ層の表面のいずれかに透明な電極を与えることによって製造されたカラーフィルタであって、該感光性樹脂が、多官能性アクリレート単量体、有機重合体結合剤、及び上記の式(I)、(II)、(III)、(IV)又は(V)の光重合開始剤を含むカラーフィルタでもある。該単量体及び結合剤成分もとより、適する顔料も、上記のとおりである。カラーフィルタの製造の際は、透明な電極層は、透明な基板の表面に塗布することができるか、又は赤、緑及び青色の絵画要素、並びに黒色のマトリックスの表面に与えることができるかのいずれかである。透明な基板は、例えば、その表面に電極を追加的に保有することができる、ガラス基板である。カラーフィルタのコントラストを向上させるために、異なる色の有色部域間に黒色のマトリックスを塗布するのが好ましい。
感光性組成物を用いて黒色のマトリックスを形成し、黒色の感光性組成物を、図形に応じた(すなわち適切なマスク越しの)露光によって写真平版で作図して、透明な基板の上の赤、緑及び青に着色した部域を分ける黒色の図形を形成することに代えて、無機の黒色マトリックスを用いることも、代替的に可能である。そのような無機黒色マトリックスは、沈着させた(すなわちスパッタリングした)金属(すなわちクロム)薄膜から、適切な結像法、例えば、エッチングレジストによる写真平版での作図を用い、エッチングレジストによって保護されない部域の無機層を食刻し、次いで、残存するエッチングレジストを除去することによって、透明な基板の上に形成することができる。
カラーフィルタ製造工程のどの段階で、いかに黒色マトリックスを塗布するかについては、公知の異なる方法がある。それは、上に既述のとおり、赤、緑及び青(RGB)のカラーフィルタの形成以前に透明な基板に直接塗布することも、RGBカラーフィルタを基板の上に形成した後に塗布することもできる。
米国特許第5,626,796号明細書による、液晶表示装置のためのカラーフィルタの異なる一実施態様では、黒色マトリックスは、液晶層によってそれから隔てられた、RGBカラーフィルタ要素を担持する基板に相対する基板に塗布することもできる。
透明な電極層を、RGBカラーフィルタ要素、及び場合により黒色マトリックスを塗布した後に沈着させるならば、米国特許第5,650,263号明細書に記載のとおり、保護層としての追加の外套薄膜を、電極層の沈着以前にカラーフィルタ層に塗布することができる。
カラーフィルタの外套層を形成するには、感光性樹脂又は熱硬化性組成物を用いる。本発明の感光性組成物は、そのような外套層を形成するのにも用いることができるが、それは、組成物の硬化した薄膜が、平坦さ、硬さ、化学的及び熱的耐性、とくに可視領域での透明度、基板への接着、並びに透明な導電性薄膜、例えばITO薄膜をその上に形成する適切さが優れているからである。保護層の形成の際は、保護層の不要部分、例えば基板を裁断するためのけがき線上のそれ、及び固体の画像センサーの結合パッド上のそれを、特開昭第(57)−42,009号、特開平第(1)−130,103号及び第(1)−134,306号公報に記載のとおり、基板から除去しなければならない必要性があった。この点で、上記の熱硬化性樹脂を用いて、優れた精度で保護層を選択的に形成するのは困難である。しかし、感光性組成物は、保護層の不要部分を写真平版によって用意に除去するのを可能にする。
当業者には明白なことに、本発明の感光性組成物は、カラーフィルタの製造のために、赤、緑及び青色の画素、並びに黒色のマトリックスを形成するのに、加工の際の上記の相違に関わりなく、塗布できる追加の層に関わりなく、かつカラーフィルタのデザインの相違に関わりなく用いることができる。本発明による組成物を用いて、着色された要素を形成することは、そのようなカラーフィルタの異なるデザイン及び製造法によって限定されると見なしてはならない。
好ましくは、本発明によるカラーフィルタレジスト組成物は、成分(a)として、少なくとも1種類の付加重合できる単量体化合物を追加的に含有する。
例えば、下記の化合物を、単独でか、又は本発明に用いられるエチレン性不飽和二重結合を有する、付加重合できる単量体としての、その他の単量体と組み合せて用いることができる。具体的には、それらは、(メタ)アクリル酸tert−ブチル、エチレングリコールジ(メタ)アクリラート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリラート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリラート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリラート、2−エチル−2−ブチルプロパンジオール=ジ(メタ)アクリラート、ペンタエリトリトールトリ(メタ)アクリラート、ペンタエリトリトールテトラ(メタ)アクリラート、ジペンタエリトリトールヘキサ(メタ)アクリラート、ジペンタエリトリトールペンタ(メタ)アクリラート、ポリ(オキシエチル化トリメチロールプロパン=トリ(メタ)アクリラート)、トリス(2−(メタ)アクリルオキシエチル)イソシアヌラート、1,4−ジイソプロペニルベンゼン、1,4−ジヒドロキシベンゼン(メタ)アクリラート、デカメチレングリコールジ(メタ)アクリラート、スチレン、フマル酸ジアリル、三メリト酸トリアリル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリルアミド、及びキシレンビス(メタ)アクリルアミドである。更に、ヒドロキシル基を有する化合物、例えば2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリラート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリラート、及びポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリラートと、ヘキサメチレンジイソシアナート、トルエンジイソシアナート及びキシレンジイソシアナートのようなジイソシアナートとの反応生成物を用いることができる。特に好ましいのは、ペンタエリトリトールテトラアクリラート、ジペンタエリトリトールへキサアクリラート、ジペンタエリトリトールペンタアクリラート、及びトリス(2−アシロイルオキシエチル)イソシアナートである。
カラーフィルタレジスト組成物では、光重合性組成物に含まれる単量体の総量は、組成物の全固体含有量、すなわち、溶媒なしのすべての成分の量に対して、好ましくは5〜80重量%、特に10〜70重量%である。
カラーフィルタレジスト組成物に用いられる、アルカリ性水溶液に可溶であり、水に不溶である結合剤としては、例えば、1個又はそれ以上の酸の基、及び一つ又はそれ以上の重合できる不飽和結合を分子内に有する、重合性化合物の単独重合体、又はその2種類若しくはそれ以上の共重合体、及びこれらの化合物と共重合できる一つ又はそれ以上の不飽和結合を有し、酸の基を全く含まない、1種類又はそれ以上の重合性化合物の共重合体を用いることができる。そのような化合物は、1個又はそれ以上の酸の基、及び一つ又はそれ以上の重合できる不飽和結合を分子内に有する、1種類又はそれ以上の低分子化合物と、これらの化合物と共重合できる一つ又はそれ以上の不飽和結合を有し、酸の基を全く含まない、1種類又はそれ以上の重合性化合物とを共重合させることによって得ることができる。酸の基の例は、−COOH基、−SO3H基、−SO2NHCO−基、フェノール性ヒドロキシル基、−SO2NH−基及び−CO−NH−CO−基である。これらのうち、−COOH基を有する高分子化合物が特に好ましい。
好ましくは、カラーフィルタレジスト組成物中の有機重合体結合剤は、付加重合できる単量体単位として、少なくとも1種類の、アクリル酸、メタクリル酸などのような不飽和有機酸化合物を含む、アルカリ可溶共重合体を含む。重合体結合剤のためのそれ以上の共単量体として、アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ベンジル、スチレンなどのような、不飽和有機酸エステル化合物を用いて、アルカリの溶解度、接着の固さ、化学的耐性等々のような特性を均衡させるのが好ましい。
有機重合体結合剤は、例えば米国特許第5,368,976号明細書に記載のような、ランダム共重合体又はブロック共重合体のいずれであることもできる。
1個又はそれ以上の酸の基、及び一つ又はそれ以上の重合できる不飽和結合を分子内に有する、重合性化合物は、下記の化合物を包含する:
アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、ビニル安息香酸、及び桂皮酸は、1個又はそれ以上の−COOH基、及び一つ又はそれ以上の重合できる不飽和結合を分子内に有する、重合性化合物の例である。
ビニルベンゼンスルホン酸、及び2−(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸は、1個又はそれ以上の−SO3H基、及び一つ又はそれ以上の重合できる不飽和結合を有する、重合性化合物の例である。
N−メチルスルホニル(メタ)アクリルアミド、N−エチルスルホニル(メタ)アクリルアミド、N−フェニルスルホニル(メタ)アクリルアミド、及びN−(p−メチルフェニルスルホニル)(メタ)アクリルアミドは、1個又はそれ以上の−SO2NHCO−基、及び一つ又はそれ以上の重合できる不飽和結合を有する、重合性化合物の例である。
1個又はそれ以上のフェノール性ヒドロキシル基、及び一つ又はそれ以上の重合できる不飽和結合を分子内に有する、重合性化合物の例は、ヒドロキシフェニル(メタ)アクリルアミド、ジヒドロキシフェニル(メタ)アクリルアミド、ヒドロキシフェニル−カルボニルオキシエチル(メタ)アクリラート、ヒドロキシフェニルチオエチル(メタ)アクリラート、ジヒドロキシフェニルカルボニルオキシエチル(メタ)アクリラート、ジヒドロキシフェニルオキシエチル(メタ)アクリラート、及びジヒドロキシ−フェニルチオエチル(メタ)アクリラートを包含する。
1個又はそれ以上の−SO2NH−基、及び一つ又はそれ以上の重合できる不飽和結合を分子内に有する、重合性化合物の例は、式(a)又は(b):
CH2=CHA1−Y1−A2−SO2−NH−A3 (a)
CH2=CHA4−Y2−A5−NH−SO2−A6 (b)
で表される化合物を包含するが、
式中、Y1及びY2は、それぞれ、−COO−、−CONA7−、又は単結合を表し;A1及びA4は、それぞれ、H又はCH3を表し;A2及びA5は、それぞれ、場合により置換基シクロアルキレン、アリーレン若しくはアラルキレンを有する(C1〜C12)アルキレン;エーテル基及びチオエーテル基が挿入された(C2〜C12)アルキレン;シクロアルキレン;アリーレン;又はアラルキレンを表し;A3及びA6は、それぞれ、H;場合により置換基シクロアルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を有する(C1〜C12)アルキルを表し;A7は、H;場合により置換基シクロアルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を有する(C1〜C12)アルキルを表す。
1個又はそれ以上の−CO−NH−CO−基、及び一つ又はそれ以上の重合できる不飽和結合を有する、重合性化合物は、マレイミド及びN−アクリルオイル−アクリルアミドを包含する。これらの重合性化合物は、重合によって、−CO−NH−CO−基を含む高分子化合物になり、主鎖とともに環が形成される。更に、それぞれ−CO−NH−CO−基を有する、メタクリル酸誘導体及びアクリル酸誘導体も、用いることができる。そのようなメタクリル酸誘導体及びアクリル酸誘導体は、例えば、N−アセチルメアクリルアミド、N−プロピオニルメタクリルアミド、N−ブタノイルメタクリルアミド、N−ペンタノイルメタクリルアミド、N−デカノイルメタクリルアミド、N−ドデカノイルメタクリルアミド、N−ベンゾイルメタクリルアミド、N−(p−メチルベンゾイル)メタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタクリルアミド、N−(ナフチルカルボニル)メタクリルアミド、N−(フェニルアセチル)メタクリルアミド、及び4−メタクリロイルアミノフタルイミド、並びにこれらと同じ置換基を有するアクリルアミド誘導体を包含する。これらの重合性化合物は、重合して、−CO−NH−CO−基を側鎖に有する化合物になる。
一つ又はそれ以上の重合できる不飽和結合を有し、酸の基を全く含まない、重合性化合物の例は、(メタ)アクリラート、(メタ)アクリルアミド、アクリル化合物、ビニルエーテル、ビニルエステル、スチレン及びクロトナートから選ばれる、重合できる不飽和結合を有する化合物を包含し、具体的には、(メタ)アクリル酸アルキル又は置換(メタ)アクリル酸アルキルのような(メタ)アクリラート、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸アミル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、エチルヘキシル(メタ)アクリラート、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸tert−オクチル、クロロエチル(メタ)アクリラート、(メタ)アクリル酸アリル、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリラート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリラート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリラート、2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリラート、5−ヒドロキシペンチル(メタ)アクリラート、トリメチロールプロパンモノ(メタ)アクリラート、ペンタエリトリトールモノ(メタ)アクリラート、(メタ)アクリル酸ベンジル、メトキシベンジル(メタ)アクリラート、クロロベンジル(メタ)アクリラート、(メタ)アクリル酸フルフリル、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリラート、フェノキシエチル(メタ)アクリラート、及び(メタ)アクリル酸アリール(例えば、(メタ)アクリル酸フェニル、(メタ)アクリル酸クレシル及び(メタ)アクリル酸ナフチル);(メタ)アクリルアミド類、例えば、(メタ)アクリルアミド、N−アルキル(メタ)アクリルアミド(アルキル基は、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、tert−ブチル、ヘプチル、オクチル、エチルヘキシル、シクロヘキシル、ヒドロキシエチル及びベンジルを包含する)、N−アリール(メタ)アクリルアミド(アリール基は、例えばフェニル、トリル、ニトロフェニル、ナフチル及びヒドロキシフェニルを包含する)、N,N−ジアルキル(メタ)アクリルアミド(アルキル機は、例えばメチル、エチル、ブチル、イソブチル、エチルヘキシル及びシクロヘキシルを包含する)、N,N−ジアリール(メタ)アクリルアミド(アリール機は、例えばフェニルを包含する)、N−メチル−N−フェニル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチル(メタ)アクリルアミド、N−2−アセトアミドエチル−N−アセチル(メタ)アクリルアミド、N−(フェニルスルホニル)(メタ)アクリルアミド、並びにN−(p−メチルフェニルスルホニル)(メタ)アクリルアミド;
アリルエステル(例えば、酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリル酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル及び乳酸アリル)、及びアリルオキシエタノールのようなアリル化合物;
アルキルビニルエーテル(アルキル基は、例えばヘキシル、オクチル、デシル、エチルヘキシル、メトキシエチル、エトキシエチル、クロロエチル、1−メチル−2,2−ジメチルプロピル、2−エチルブチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシエトキシエチル、ジメチルアミノエチル、ジエチルアミノエチル、ブチルアミノエチル、ベンジル及びテトラヒドロフルフリルを包含する)、及びビニルアリールエーテル(アリール基は、例えばフェニル、トリル、クロロフェニル、2,4−ジクロロフェニル、ナフチル及びアントラニルを包含する)のようなビニルエーテル;
ビニルエステル、例えば、ビニルブチラート、ビニルイソブチラート、トリメチル酢酸ビニル、ジエチル酢酸ビニル、ビニルバラート、カプロン酸ビニル、クロロ酢酸ビニル、ジクロロ酢酸ビニル、メトキシ酢酸ビニル、ブトキシ酢酸ビニル、フェニル酢酸ビニル、アセト酢酸ビニル、乳酸ビニル、ビニルo−フェニルブチラート、ビニル=シクロヘキシルカルボキシラート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロロ安息香酸ビニル、テトラクロロ安息香酸ビニル、及びナフトエ酸ビニル;
スチレン、アルキルスチレン(例えばメチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エトキシメチルスチレン及びアセトキシメチルスチレン)、アルコキシスチレン(例えばメトキシスチレン、4−メトキシ−3−メチルスチレン及びジメトキシスチレン)、及びハロゲノスチレン(例えばクロロスチレン、ジクロロスチレン、トリクロロスチレン、テトラクロロスチレン、ペンタクロロスチレン、ブロモスチレン、ジブロモスチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、トリフルオロスチレン、2−ブロモ−4−トリフルオロメチルスチレン及び4−フルオロ−3−トリフルオロメチルスチレン);
クロトン酸アルキル(例えばクロトン酸ブチル、クロトン酸ヘキシル及びモノクロトン酸グリセリン)のようなクロトン酸エステル;
イタコン酸ジアルキル(例えばイタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル及びイタコン酸ジブチル);マレイン酸又はフマル酸ジアルキル(例えば、マレイン酸ジメチル及びフマル酸ジブチル);並びに(メタ)アクリロニトリル
を包含する。
ヒドロキシスチレン単独若しくは共重合体、又はノボラック型フェノール樹脂、例えば、ポリヒドロキシスチレン及びポリ(ヒドロキシスチレン−co−ビニルシクロヘキサノール)、ノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、並びにハロゲン化フェノールノボラック樹脂も、用いることができる。より具体的には、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、例えば共単量体としてのスチレンとの、無水マレイン酸共重合体、及びマレイン酸共重合体、並びに部分エステル化されたメレイン酸共重合体を包含し、それぞれ、例えば、特公昭第(59)−44,615号(本明細書に用いられる限りでの用語「特公○」は、日本国特許公告公報を意味する)、第(54)−34,327号、第(58)−12,577号及び第(54)−25,957号、特開昭第(59)−53,836号、第(59)−71,048号、第(60)−159,743号、第(60)−258,539号、特開平第(1)−152,449号、第(2)−199,403号及び第(2)−199,404号公報に記載されており、これらの共重合体は、例えば米国特許第5,650,263号明細書に開示されたようなアミンと更に反応させることができ;更には、側鎖にカルボキシル基を有するセルロース誘導体を用いることができ、特に好ましいのは、(メタ)アクリル酸ベンジルと(メタ)アクリル酸との共重合体、並びに(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸、及び例えば、米国特許第4,139,391号明細書、特公昭第(59)−44,615号、特開昭第(60)−159,743号及び第(60)−258,539号公報に記載のような、その他の単量体の共重合体である。
上記の有機結合剤重合体のうち、カルボン酸基を有するものに関しては、カルボン酸基のいくつか又はすべてを、(メタ)アクリル酸グリシジル又は(メタ)アクリル酸エポキシと反応させて、感光度、被覆薄膜強さ、コーティング溶媒、及び化学的耐性、並びに下地への接着力を向上させる目的で、光重合性有機結合剤重合体を得ることができる。例は、特公昭第(50)−34,443号及び第(50)−34,444号号公報、米国特許第5,153,095号明細書、T. Kudo et al.のJ. Appl. Phys., Vol. 37 (1998), p. 3594-3603、米国特許第5,677,385号及び第5,650,233号明細書に開示されている。
結合剤の重量平均分子量は、好ましくは500〜1,000,000、例えば3,000〜1,000,000、より好ましくは5,000〜400,000である。
これらの化合物は、単独でか、又は2種類若しくはそれ以上の混合物として用いてよい。感光性樹脂組成物中の結合剤の含量は、全固体物質に対して、好ましくは10〜95重量%、より好ましくは15〜90重量%である。
更に、カラーフィルタでは、各色の全固体成分は、イオン性不純物捕集剤、例えば、エポキシ基を有する有機化合物を含有してよい。全固体成分中のイオン性不純物補修剤の濃度は、一般的には、0.1〜10重量%の範囲内にある。
カラーフィルタ、特に顔料及びイオン性不純物捕集剤の上記の組合せについてのその例は、ヨーロッパ特許第320,264号公報に示されている。本発明による光開始剤、すなわちヨーロッパ特許第320,624号公報に記載のカラーフィルタ配合物中の式(I)、(II)、(III)及び(IV)の化合物は、トリアジン開始剤化合物に取って換わり得ることが理解される。
本発明による組成物は、酸、例えば特開平第(10)−221,843号公報に記載のそれによって活性化される橋かけ剤、及び熱によってか、又は放射線によって酸を生成し、橋かけ反応を活性化する化合物を追加的に含むことができる。
本発明による組成物は、潜在性顔料も含むことができるが、これは、感光性の図形又はコーティングを含有する潜在性顔料の熱処理の際に、微細に分散した顔料に変換される。熱処理は、潜在性顔料を含有する光結像できる層の露光後又は現像後に、実施することができる。そのような潜在性顔料は、例えば米国特許第5,879,855号明細書に記載のような、化学的、熱的、光分解性又は放射線誘導の方法を用いて、不溶性の顔料に変換することができる、可溶性顔料前駆体である。そのような潜在性顔料のこの変換は、放射線露光の際にか、又は組成物への酸性化合物の添加によって酸を生成する化合物を加えることによって、増強することができる。そのため、本発明による組成物中に潜在的顔料を含む、カラーフィルタレジストを製造することもできる。
本発明の感光性組成物は、カラーフィルタを形成するのに適切に用いることができるが、この用途に限定されないと思われる。表示の用途や表示要素における記録材料、レジスト材料、保護層、誘電層、塗料、及び印刷インクにもやはり役立つ。
本発明による感光性組成物は、液晶表示装置、より詳しくは、スィッチングデバイスとして薄膜トランジスター(TFT)を有する能動性マトリックス型、及びスィッチングデバイスなしの受動的マトリックス型の表示装置を包含する、反射型液晶表示装置の層間絶縁層又は誘電層を製造するにも適する。
近年、液晶表示装置は、その薄い厚さ、及び軽量のために、例えば、携帯テレビセット、及び通信用ターミナルデバイスに広く用いられている。バックライトを用いる必要のない反射型液晶装置は、極度に薄く、軽量であり、電力消費を有意に削減できるため、持に需要が多い。しかし、現在利用できる透過型カラー液晶表示装置からバックライトを除去し、光反射板を表示装置の基板に加えたとしても、光の利用効率は低く、実用的な明るさを有することができないという問題を生じると思われる。
この問題に対する解決策として、光の利用効率を高めるために、様々な反射型液晶表示装置が示唆されている。例えば、ある種の反射型液晶表示装置は、反射機能を有する画素電極を含むよう設計されている。反射型液晶表示装置は、絶縁性の基板と、該絶縁物質から間隔を置いて対向する基板とを含む。基板間の空間は、液晶で充填する。絶縁性基板にはゲート電極を形成し、ゲート電極と絶縁性基板との双方を、ゲート絶縁薄膜で被覆する。次いで、半導体層を、ゲート絶縁薄膜上でゲート電極の上方に形成する。電源電極及びドレーン電極も、ゲート絶縁薄膜上に半導体層と接して形成する。電源電極、ドレーン電極、半導体層及びゲート電極は、互いに協働して、それによってスイッチングデバイスとしてのボトムゲート型TFTを構成する。
層間薄膜を、電源電極、ドレーン電極、半導体層及びゲート絶縁薄膜をそれで覆うように形成する。ドレーン電極上の層間絶縁薄膜全体に、接触孔を形成する。層間絶縁薄膜と、接触孔の内側の壁との双方にアルミニウム製の画素電極を形成する。TFTのドレーン電極は、結果的に、層間絶縁薄膜越しに画素電極と接触する。層間絶縁層は、一般的には、粗くした表面を有し、それによって、画素電極が、光を拡散して、より広い視野角度(可視角)を得る、反射板として作用するよう設計される。
反射型液晶表示装置は、画素電極が光反射板として作用することによって、光を用いることの効率を著しく高める。
上記の反射型液晶表示装置では、層間絶縁薄膜は、写真平版法によって凹凸を有するよう設計される。凹凸のマイクロメートル次元での微細な形状を形成かつ制御して、表面を粗くし、接触孔を形成するには、陽画及び陰画フォトレジストを用いた写真平版法を用いる。これらのレジストには、本発明による組成物が特に適する。
本発明による感光性組成物は、更に、液晶表示パネル内の液晶部分のセル間隙を制御する、スペーサを製造するのにも用いることができる。液晶表示装置内の液晶層を介して透過又は反射される光の特性は、セル間隙に依存することから、画素アレー全体の厚さの精度、及び均一度は、液晶表示装置ユニットの性能に関する死活的なパラメータである。液晶セルでは、セル内の基板間の間隔は、直径が数マイクロメートルのガラス又は重合体の球体を、スペーサとして基板の間にまばらに分布させることによって、一定に保たれる。したがって、これらのスペーサは、基板間の距離を一定の値に保つよう、基板間に保持される。この距離は、スペーサの直径によって決定される。スペーサは、基板間の最小の間隔を確保する、すなわち、基板間の距離の減少を妨げる。しかし、それらは、基板が互いに遠く隔てられるのを、すなわち基板間の距離の増大を防ぐことはできない。加えて、スペーサビーズを用いるこの方法は、スペーサビーズの直径の均一性、及びスペーサビーズのパネル上の均等な分散の困難とともに、画素アレー領域でのスペーサの位置に応じて、輝度及び/又は光学的開口度の減少という問題も有する。最近、大型の画像表示領域を有する液晶表示装置が、多大な関心を引き付けている。しかし、液晶セルの部域の増大は、一般に、セルを構成する基板の歪みを生じる。液晶の層構造は、基板の変形のために破壊される傾向がある。したがって、基板間の間隔を一定に保つために、スペーサを用いるときでさえ、大型の画像表示部域を有する液晶表示装置は、表示装置が妨害を受けるために実現不能になる。上記のスペーサ球体分散法に代えて、樹脂の列柱をスペーサとして、セル間隙に形成する方法が提唱されている。この方法では、樹脂の列柱をスペーサとして、画素アレー領域と対向電極との間の領域に形成して、規定されたセル間隙を形成する。カラーフィルタの製造工程に、例えば、接着特性を有する感光性材料が、写真平版法とともに一般的に用いられる。この方法は、スペーサビーズを用いる慣用の方法と比較すると、スペーサの位置、数及び高さを自由に制御し得る点で好都合である。カラー液晶表示パネルでは、そのようなスペーサを、カラーフィルタ要素の黒色マトリックス下の非結像部域に形成する。そのため、感光性組成物を用いて形成されたスペーサは、輝度及び光学的開口度を増大させない。
カラーフィルタ用スペーサで保護層を形成するための感光性組成物は、特開平第(12)−81701号公報に開示され、スペーサ材料のための乾燥薄膜型ホトレジスルも、特開平第(11)−174,459号及び第(11)−174,464号公報に開示されている。これらの文書に記載のとおり、感光性組成物、液体及び乾燥薄膜フォトレジストは、少なくともアルカリ又は酸可溶性結合剤重合体、ラジカル重合性単量体、及びラジカル開始剤を含んでいる。ある場合には、エポキシド及びカルボン酸のような熱架橋結合性成分を、追加的に包含してよい。
感光性組成物を用いてスペーサを形成する工程は、下記のとおりである:
感光性組成物を、基板、例えばカラーフィルタパネルに塗布し、基板を予備焼付けした後に、マスク越しに光に露出させる。次いで、基板を現像剤で現像し、作図して、望みのスペーサを形成する。組成物が何らかの熱硬化性成分を含有するときは、通常、後焼付けを実施して、組成物を熱硬化させる。
本発明による光硬化性組成物は、その高い感度のため、(上記のような)液晶表示装置用のスペーサを製造するのに適する。
本発明による感光性組成物は、液晶表示パネル、画像センサなどに用いられるマイクロレンズアレーを製造するのにも適する。マイクロレンズは、検出器、表示装置、及び発光デバイス(発光ダイオード、横穴及び縦穴レーザー)のような能動光電子工学デバイスに適合して、それらの光学的入出力の質を向上させる、受動光学的部品である。応用の分野は、広く、遠隔通信、情報技術、視聴覚サービス、太陽電池、検出器、固体光源、及び光学的相互連絡のような分野を網羅する。
現在の光学装置系は、様々な手法を用いて、マイクロレンズとマイクロ光学デバイスとの間の効率的な結合を達成している。
マイクロレンズアレーは、非発光性表示デバイス、例えば液晶表示デバイスの絵画要素の領域で、照明光を集光して、表示デバイスの輝度を上昇させ、入射光を集光するためにか、又は例えばファクシミリなどに用いられるライン画像センサの光電変換領域に画像を形成して、これらのデバイスの感度を向上させる手段としてか、又は液晶プリンター若しくは発光ダイオード(LED)プリンターに用いられる感光手段に印刷しようとする画像を形成するために用いられる。
最も一般的な用途は、電荷結合デバイス(CCD)のような固体画像感受デバイスの光検出デバイスの効率を向上させるために用いることである。検出器アレーでは、各検出器要素又は画素でのできるだけ多くの光の捕集が求められる。各画素の上端にマイクロレンズを取り付ければ、レンズは、進入する光を捕集し、レンズの大きさより小さい活動部域にその像を結ぶ。
従来の技術によれば、マイクロレンズアレーは、様々な方法で製造することができる;
(1)平面的立体配置のレンズ図形を、慣用の写真平版手法などによって、熱可塑性樹脂に描き、次いで、熱可塑性樹脂を、流動性を有するよう、該樹脂の軟化点を越える温度まで加熱し、それによって図形の辺縁にたるみを生じさせる(いわゆる「再流動」)、凸レンズを得る方法(例えば、特開昭第(60)−38,989号、特開昭第(60)−165,623号、特開昭第(61)−67,003号及び特開平第(12)−39,503号公報を参照されたい)。この方法では、用いた熱可塑性樹脂が感光性であるときに、この樹脂の露光によってレンズの図形を得ることができる。
(2)成形用型又はスタンパーの使用によって、プラスチック又はガラスの材料を形成する方法。この方法では、レンズ材料として、光硬化性樹脂及び熱硬化性樹脂を用いることができる(国際公開特許第99/38,035号公報を参照されたい)。
(3)心合わせ装置の使用によって、感光性樹脂を望みの図形で露光させたとき、未反応単量体が非露光領域から露光領域に移動する結果、露光領域の膨張が生じる現象に基づいて、凸レンズを形成する方法〔例えば、Journal of the Research Group in Microoptics Japanese Society of Applied Physics, Colloquium in Optics, Vol. 5, No. 2, pp. 118-123 (1987)及びVol. 6, No. 2, pp. 87-92 (1988)を参照されたい〕。
支持基板の上面に、感光性樹脂層が形成される。その後、別個の遮光マスクを用いて、感光性樹脂層の上面を、水銀灯などの光で照明して、感光性樹脂層を露光させる。その結果、感光性樹脂層の露光部分は、凸レンズの形状に膨張して、複数のマイクロレンズを有する集光層を形成する。
(4)感光性樹脂を近接露光の手法によって露光させる、凸レンズを得る方法であって、光マスクは、樹脂に接触させないで、図形辺縁にくもりを生じさせて、光化学反応生成物の量を、図形辺縁のくもりの度合いに応じて分布させる(例えば特開昭第(61)−153,602号公報を参照されたい)。
(5)感光性樹脂を特定の強度分布で露光させて、光の強さに応じてある分布図形の屈折率を形成する、レンズ効果を発生させる方法(例えば、特開昭第(60)−72,927号及び特開昭第(60)−166,946号公報を参照されたい)。
本発明による感光性組成物は、上記の方法のいかなる一つを用いても、光硬化性樹脂組成物を用いて、マイクロレンズアレーを形成することができる。
特定の一群の手法は、フォトレジストのような熱可塑性樹脂にマイクロレンズを形成することに集中している。一例が、PopovicらによってSPIE 898, pp. 23-25 (1988)という参考文献として出版されている。この手法は、再流動手法と名付けられ、レンズの足型を、例えばフォトレジストのような感光性樹脂での写真平版法によって、熱可塑性樹脂中に規定し、次いで、この材料をその再流動温度を越えて加熱する工程を含む。表面張力は、フォトレジストを、再流動前の最初のアイランドに等しい体積を有する球形キャップ内に引き付ける。このキャップが、平凸マイクロレンズである。この手法の長所は、とりわけ、単純性、複製可能性、及び発光性又は光検出用の光電子デバイスの頂端に直接集積できる可能性である。
ある場合には、再流動の前に、矩形の形状を有する定型化されたレンズユニット上に外套層を形成して、樹脂のアイランドの中央でのたるみ形成を、再流動工程での球形キャップへの再流動なしに回避する。外套は、恒久的保護層として作用する。コーティング層も、感光性組成物で形成する。
マイクロレンズアレーは、例えばヨーロッパ特許第0932256A2号公報に開示のような、成形用型又はスタンパーの使用によって製作することもできる。平面マイクロレンズアレーを製造する方法は、下記のとおりである:スタンパーの成形面に、離型剤を塗装し、その上に凸面部分を稠密に配置し、高い屈折率を有する光硬化性合成樹脂材料を、スタンパーの成形面で硬化させる。次に、ガラス基板を合成樹脂材料に押し付け、それによって、合成樹脂材料を伸展させ、紫外線での照射又は加熱によって合成樹脂材料を硬化させ、凸マイクロレンズを形成するよう成形する。その後、スタンパーを剥がす。次いで、低い屈折率を有する光硬化性合成樹脂材料を、接着層として凸マイクロレンズに追加的に塗装し、カバーガラス板へと作成したガラス基板を、合成樹脂材料に押し付け、それによってこれを伸展させる。次いで、合成樹脂材料を硬化させ、最後に、平面マイクロレンズを形成する。
米国特許第5,969,867号明細書に開示されたとおり、成形用型を用いた類似の方法が、プリズムシートの製造に適用されるが、これは、カラー液晶表示パネル用のバックライトユニットの一部として、輝度を高めるために用いられる。一方の側にプリズム列を形成するプリズムシートは、バックライトの発光面に取り付けられる。プリズムシートを製造するには、活性エネルギー線硬化性組成物を、金属、ガラス又は樹脂で作成されたレンズ成形用型に注型かつ伸展させ、プリズム列等々のレンズ形状を形成し、その後、透明な基板シートをその上に置き、活性エネルギー線放出源からの活性エネルギー線を、硬化用シート越しに照射する。次いで、製造されたレンズシートを、レンズ成形用型から離型して、レンズシートを得る。
レンズ切片を形成するのに用いられる活性エネルギー線硬化性組成物は、透明な基板への接着性、及び適切な光学的特徴性を包含する、様々な特性を保有しなければならない。
少なくとも従来の技術の何らかのフォトレジストによるレンズは、光学スペクトルの青端での光学的透過率が不良であるため、いくつかの用途に適さない。本発明による光硬化性組成物は、熱的にも光化学的にも、低い黄化特性を有するため、上記のマイクロレンズアレーの製造に適する。
新規な放射線感受性組成物は、特にバリヤーリブ、リン層及び電極の画像形成法のための、プラズマ表示パネル(PDP)の製造法に用いられる写真平版段階にも適する。
PDPは、気体放電による発光によって画像及び情報を表示するための、面表示装置である。それは、パネルの構成、及び操作の方法によって、二つの種類、すなわちDC(直流)型及びAC(交流)型が公知である。
例示のため、DC型カラーPDPの原理を簡潔に説明する。DC型カラーPDPでは、2枚の透明な基板(一般的にはガラス板)の間に介在する空間が、この透明基板の間に挿入された格子状のバリヤーリブによって、多数の微細なセルに分割される。個々のセルには、放電気体、例えばHe又はXeが密閉される。各セルの後方の壁には、リン層が存在し、放電気体の放電によって生成された紫外光によって励起されると、三原色からなる可視光を発する。2基板の内面には、関連するセル越しに互いに対向するよう、電極が配置される。一般に、陰極は、NESAガラスのような、透明な導電性材料の薄膜で形成される。前壁及び後壁に形成されたこれらの電極間に高電圧が印加されたとき、セルに密閉された放電気体は、プラズマ放電を誘発し、結果的に放射される紫外光によって、赤、青及び緑色の蛍光要素を発光し、画像の表示を実行するよう刺激する。フルカラー表示装置系では、それぞれ、上記の赤、青及び緑色の3種類の蛍光要素は、合同して、一つの絵画要素を形成する。
DC型PDPにおけるセルは、格子の構成バリヤーリブによって分割されるのに対し、AC型PDPにおけるそれは、基板面に互いに平行に配置されたバリヤーリブによって分割される。いずれの場合も、セルは、バリヤーリブによって分割される。これらのバリヤーリブは、発光放電を固定された部域内に閉じ込めて、隣接するセル間の誤った放電又はクロストークを除外し、理想的な表示を確保することが意図される。
本発明による組成物は、単又は多色であり得る画像記録若しくは画像複製(コピー、複写)のための、一つ又はそれ以上の層をなす材料の製造のための用途もある。更に、この材料は、カラーテスト装置系にも適する。この技術では、マイクロカプセルを含む配合物を適用し、画像生成のために、放射線硬化の後に熱処理を実施することができる。そのような装置系及び技術、並びにその用途は、例えば米国特許第5,376,459号明細書に開示されている。
光硬化は、印刷には非常に重要であるが、それは、インクの乾燥時間が、図画生産物の生産速度にとって決定的な要因であり、1秒の何分の1という次元でなければならないからである。UV硬化性インクは、スクリーン印刷及びオフセット印刷に特に重要である。
既述のとおり、新規混合物は、印刷原版の製造にも非常に適する。この用途は、例えば、可溶性の直鎖ポリアミド又はスチレン/ブタジエン及び/若しくはスチレン/イソプレンゴム、カルボキシル基を有するポリアクリラート若しくはポリメタクリル酸メチル、ポリビニルアルコール若しくはウレタンアクリラートと、光重合できる単量体、例えばアクリルアミド及び/又はメタクリルアミド、又はアクリラート及び/若しくはメタクリラートとの混合物、並びに光開始剤を用いる。これらの(乾燥又は湿潤)系の薄膜及びプレートを、印刷された原版の陰画(又は陽画)を覆って露光させ、次いで、非硬化部分を適切な溶媒又は水溶液を用いて洗い落とす。
光硬化が用いられるもう一つの分野は、例えば、金属の板及び管、缶又は瓶のキャップの場合は、金属の塗装であり、例えば、PVCを基材とする床又は壁の被覆物の重合体コーティングの光硬化である。紙コーティングの光硬化の例は、ラベル、レコードジャケット及びブックカバーの無色ワニス塗りである。
やはり関心が持たれるのは、複合組成物から製造された成形品を硬化させるのに、この新規光開始剤を用いることである。複合化合物は、自己支持型マトリックスの材料、例えばガラス繊維織物、又は代替的に、例えば植物繊維よりなり〔K. -P. Mieck, T. Reussmann in Kunststoffe 85 (1995), 366-370を参照されたい〕、これを光硬化配合物で含浸する。複合化合物を含む成形部品は、新規化合物を用いたとき、高水準の機械的安定性及び耐性を獲得する。新規化合物は、例えばヨーロッパ特許第7,086号公報に記載されたとおり、成型、含浸及びコ一ティング組成物における光硬化剤としても用いることができる。そのような組成物の例は、硬化活性及び黄化耐性に関して厳格な必要条件に付されるゲル被覆樹脂、及び繊維強化成型品、例えば、平面であるか、又は長手方向若しくは横断方向に波形を有する光拡散パネルである。そのような成型品を製造する手法、例えば、手作業のレイアップ、吹付けレイアップ、遠心注型、又はフィラメント巻取りは、例えば、P.H. Seldenによる"Glasfaserverstaerkte Kunststoff", p. 610, Springer Verlag Berlin-Heidelberg-New York 1967に記載されている。これらの手法によって製造できる物品の例は、ガラス繊維強化プラスチックの両面コーティングを有する、ボート、繊維ボード、又はチップボードパネル、管材、容器等々である。成型、含浸及びコーティング組成物のそれ以上の例は、ガラス繊維(GRP)含む成型品に対するUP樹脂ゲル被覆、例えば波形シート及びペーパーラミネートである。ペーパーラミネートは、尿素樹脂又はメラミン樹脂に基づいてよい。ラミネートの製造の前に、ゲル被覆を支持体(例えば薄膜)上に形成する。新規な光硬化性組成物は、樹脂の注型、又は物品、例えば電子部品の包埋にも用いることができる。
本発明による組成物及び化合物は、ホログラフィー、導波装置、光学スイッチの製造に用いることができ、照射部域と非照射部域との間の屈折率の差の発生の利点が利用される。
結像手法、及び情報担体の光学的形成のための光硬化性組成物の用途も重要である。そのような用途では、上に既述のとおり、支持体に貼付される層(湿潤又は乾燥)を、例えば光マスク越しに、UV又は可視光で画像に応じて照射し、層の非照射部域を、現像剤による処理によって除去する。金属への光硬化層の塗布は、電着によって実施することもできる。露光部域は、架橋結合によって重合体になり、そのため、不溶性であり、支持体に残留する。適切な着色が可視的な画像を生成する。支持体が金属化された層であるときは、金属は、露光及び現像の後に、非露光部域を食刻し去るか、又は電気めっきによって強化することができる。このようにして、電子回路及びフォトレジストを製造することができる。画像形成材料に用いた時は、この新規光開始剤は、いわゆるプリントアウト画像を生成し、そのため、照射により色の変化が誘発される優れた性能を与える。そのようなプリントアウト画像を形成するには、異なる染料、及び/又はそのロイコ形態を用い、そのようなプリントアウト画像系についての例は、例えば国際公開特許第96/41,240号、ヨーロッパ特許第706,091号、第511,403号公報、米国特許第3,579,339号及び第4,622,286号明細書に見出すことができる。
本発明は、上記のとおり、着色及び非着色塗料及びワニス、粉末コーティング、印刷インク、印刷原版、接着剤、歯科組成物、また電気めっきレジスト、エッチングレジスト(乾湿薄膜両用)、はんだレジストのような電子工学用フォトレジストの製造のため;様々な表示の用途に向けてカラーフィルタを製造するか、又はプラズマ表示パネルのための製造工程における構造(例えばバリヤーリブ、リン層、電極)、電気発光表示装置、及びLCD(例えば層間絶縁層、スペーサ、マイクロレンズアレー)を形成するためのレジストとして;電気及び電子部品を封入するための組成物として;磁気記録材料、マイクロメカニックスによる部品、導波装置、光学スイッチ、めっき用マスク、エッチングマスク、カラーテスト装置系、ガラス繊維ケーブルのコーティング、及びスクリーン印刷用ステンシルの製造のため;立体平版法によって三次元的対象を生成するため;並びに特にホログラフィーによる記録のための画像記録材料、微細電子回路、脱色材料、及び画像記録材料のための脱色材料として、マイクロカプセルを用いた画像記録材料のための組成物を提供する。
写真情報の記録に用いられる下地は、例えば、ポリエステルの薄膜、酢酸セルロース又は重合体被覆した紙を包含し;オフセット印刷用紙のための下地は、特別に処理されたアルミニウムであり;プリント回路の製造のための基板は、銅クラッドラミネートであり、集積回路の製造のための基板は、例えば、ケイ素ウェーハである。写真材料及びオフセット印刷用紙のための感光層の肉厚は、一般的には、約0.5〜10μmであるが、プリント回路のためには、0.1〜約100μmである。基板の塗装の後、溶媒を、一般的には乾燥によって、除去して、基板上にフォトレジストの塗膜を残留させる。
下地の塗装は、下地に液体組成物、溶液又は懸濁液を塗布することによって実施する。溶媒及び濃度の選択は、主として、組成物の種類、及び塗装手法に依存する。溶媒は、不活性でなければならない、すなわち、成分との化学的反応を生じてはならず、塗装後に、乾燥の際に再度除去できなければならない。適切な溶媒の例は、ケトン、エーテル及びエステル、例えばメチルエチルケトン、イソブチルメチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、N−メチルピロリドン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、1−メトキシ−2−プロパノール、1,2−ジメトキシエタン、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、2−メトキシプロピルアセタート、メチル−3−メトキシプロピオナート、2−ヘプタノン、2−ペンタノン及び乳酸エチルである。
溶液は、公知の塗装手法、例えば旋回塗装、浸漬塗装、へら塗装、カーテンと層、ブラシ塗装、吹付け、特に静電吹付け及び逆ロール塗装によって、また電気泳動沈着によっても、下地に均一に塗布する。感光層を、一時的な柔軟な支持体に塗布し、次いで、最終的な下地、例えば銅クラッド回路板を、又は積層により層を移動することによって、ガラス下地を塗装することもできる。
塗布された品質(塗膜厚さ)、及び下地(層支持体)の性質は、望みの適用分野に依存する。塗膜厚さの範囲は、一般的には、約0.1〜100μm以上、例えば0.1μm〜1cm、好ましくは0.5〜1,000μmの値を含む。
下地の塗装の後、一般的には乾燥によって、溶媒を除去して、フォトレジストの、基本的に乾燥したレジスト薄膜を下地に残留させる。
本新規組成物の感光度は、概して、約150〜600nm、例えば190〜600nm(UV〜可視領域)に広がることができる。適切な放射線は、例えば、日光、又は人工光源からの光の中に存在する。その結果、非常に多くの非常に異なる種類の光源が用いられる。点光源及びアレー(「ランプカーペット」)が適する。例は、炭素アーク灯、キセノンアーク灯、金属ハロゲン化物のドーピングを有し得る(金属ハロゲン灯)、低、中、高及び超高圧水銀灯、マイクロ波で刺激される金属蒸気灯、エキシマーランプ、高次アクチニド蛍光管、蛍光灯、アルゴン白熱灯、電子閃光、写真用フラッドランプ、発光ダイオード(LED)、電子ビーム及びX線である。灯火と、本発明により露光しようとする下地との間の距離は、意図される用途、並びに灯火の種類及び出力に応じて変動してよく、例えば2〜150cmであってよい。レーザー光源、例えばエキシマーレーザー、例えば157nm露光でのF2エキシマーレーザー、248nmでの露光用のKrFエキシマーレーザー、及び193nmでの露光用のArFエキシマーレーザーも適する。可視領域でのレーザーも、用いることができる。
用語「画像に応じた」露光は、予め決定された図形を含む光マスク、例えばスライド、クロムマスク、ステンシルマスク又は網線越しの露光と、レーザー又は光ビームによる露光との双方を包含し、これが、例えば、塗装された下地の表面上をコンピューダ制御下で移動し、このようにして画像、及びコンピュータ制御された電子ビームによる照射を生じる。例えば、A. Bertsch, J.Y. Jezequel, J.C. AndreがJournal of Photochemistry and Photobiology A: Chemistry 1997, 107, p.271-181で、またK.-P. NocolayがOffset Printing 1997, 6, p.34-37に記載したように、ディジタル画像を生成するよう画素ごとに記憶できる、液晶で製造されたマスクを用いることも可能である。
画像に応じた材料の露光の後、熱処理を短時間実施するのが、好都合であり得る。現像の後、熱による後焼付けを実施して、組成物を堅固にし、溶媒のすべての痕跡を除去することができる。用いられる温度は、一般的には、50〜250℃、好ましくは80〜220℃であり;熱処理の持続時間は、一般的には、0.25〜60分間である。
光硬化性組成物は、例えばドイツ国特許第4,013,358号公報に記載されたとおり、印刷原版及びフォトレジストを製造する方法に追加的に用い得る。そのような方法では、該組成物を、画像に応じた照射の前か、それと同時にか、又はその後に、少なくとも400nmの波長を有する可視光に、マスクなしに短時間露光させる。
露光、及び実行したならば、熱処理の後に、感光性コーティングの非露光部域を、現像剤により、それ自体は公知である方式で除去する。
既述のとおり、本新規組成物は、水性アルカリ又は有機溶媒によって現像することができる。特に適する水性アルカリ現像剤溶液は、水酸化テトラアルキルアンモニウム、又はアルカリ金属ケイ酸塩、リン酸塩、水酸化物及び炭酸塩の水溶液である。少量の湿潤剤及び/又は有機溶媒も、望みであれば、これらの溶液に加えてよい。現像剤液に少量加えてよい、代表的な有機溶媒の例は、シクロヘキサノン、2−エトキシエタノール、トルエン、アセトン、及びそのような溶媒の混合物である。下地に応じて、溶媒、例えば有機溶媒も、又は上記のとおり、そのような溶媒との水性アルカリの溶液も、現像剤として用いることができる。溶剤現像に特に役立つ溶媒は、メタノール、エタノール、2−プロパノール、1−プロパノール、ブタノール、ジアセトン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノn−ブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート、エチル−3−エトキシプロピオナート、メチル−3−メトキシプロピオナート、酢酸n−ブチル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、2−ペンタノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチルラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム及びN−メチルピロリドンを包含する。場合により、依然として清澄な溶液が得られ、感光性組成物の非露光部域の充分な溶解度が保たれるレベルまで、これらの溶媒に水を加えることができる。
したがって、本発明は、エチレン的不飽和二重結合を有する化合物、すなわち、少なくとも一つのエチレン的不飽和二重結合を有する単量体、オリゴマーまたは重合体性化合物を重合させる方法であって、これらの化合物に、上記の式(I)、(II)、(III)、(IV)又は(V)の少なくとも1種類の光開始剤を加え、得られた組成物を電磁放射線、特に、波長150〜600nm、特に190〜600nmの光、電子ビーム又はX線で照射する工程を含む方法も提供する。
本発明は、更に、少なくとも一表面が上記の組成物で塗装された、塗装下地を提供し、かつレリーフ画像を写真平版的に生成する方法であって、塗装した下地を画像に応じた露光に付し、次いで、非露光部分を現像剤で除去する方法を記載する。画像に応じた露光は、マスク越しの照射によってか、又は上に既述したレーザー若しくは電子ビームによって実施してよい。この文脈で特に好都合なのは、上に記述したレーザービーム露光である。
本発明の化合物は、優れた熱安定性、及び低い揮発性を有し、空気(酸素)の存在下での光重合にも適する。更に、それらは、光重合後の組成物に軽い黄化のみを生じるにすぎない。
下記の実施例は、本発明をより詳しく例示する。部及び百分率は、記載の残余及び請求項におけるとおり、別途示されない限り重量による。3個を越える炭素原子を有するアルキル基が、特定の異性体へのいかなる言及もなしに参照される場合は、それぞれの場合にn−異性体が意味される。
実施例1:4−フェニルスルファニルベンズアルデヒド=オキシム−O−アセタート
式(I)で:Ar1
Figure 0005289649
1=COCH3
1.a:4−フェニルスルファニルベンズアルデヒド
ベンゼンチオール11.0g(100mmol)のジメチルホルムアミド(DMF)溶液(30ml)に、無水Na2CO314.0g(132mmol)を85℃で徐々に加えた。次いで、4−クロロベンズアルデヒド(11.3g、80.0mol)を、85℃で20分間に加えた。反応溶液を、この温度で3時間攪拌した。反応混合物にH2Oを加えた後、未精製生成物を酢酸エチルで抽出した。有機層を、H2O及び食塩水で2回洗浄し、無水MgSO4上で乾燥し、濃縮した。残渣を、溶離剤としてのアセトン−ヘキサン(1:30〜1:10)とともにシリカゲルでのカラムクロマトグラフィーにかけた。淡黄色の油6.05gを得た(35%)。下記の1H−NMRスペクトル(CDCl3)データによって、構造を確認した:
δ〔ppm〕:7.24 (d, 2H), 7.42-7.44 (m, 3H), 7.53 (dd, 2H), 7.71 (d, 2H), 9.96 (s, 1H)..
1.b:4−フェニルスルファニルベンズアルデヒド=オキシム
4−フェニルスルファニルベンズアルデヒド4.20g(19.6mmol)、H2NOH−HC11.50g(21.6mmol)、及び酢酸ナトリウム2.71g(33.1mmol)に、H2O6.5ml、及びエタノール19.5mlを加えた。この反応混合物を還流まで2時間加熱した。H2Oを加えて、沈澱した無機塩を溶解した後、減圧下での蒸発によって、エタノールを除去した。未精製生成物を、CH2Cl2で2回抽出した。CH2Cl2層を、無水MgSO4上で乾燥し、次いで濃縮した。残渣を、溶離剤としてのCH2Cl2及びCH2Cl2−アセトン(10:1)とともにシリカゲルでのカラムクロマトグラフィーにかけた。白色固体3.86gを、第一面分として得た(86%)。この生成物を、下記のデータによって(E)オキシムであるとした:
1H−NMRスペクトル(CDCl3)=δ〔ppm〕:7.25 (d,2H), 7.32-7.35 (m,3H), 7.42 (d,2H), 7.47 (d,2H), 7.77 (s,1H),8.09 (s,1H)
白色固体0.29gを、第二画分として得た(6.6%)。この生成物を、下記のデータによって(Z)オキシムであるとした:
δ〔ppm〕:7.25 (d, 2H), 7.32-7.35 (m, 3H), 7.42 (d, 2H),7.47 (d, 2H), 7.77 (s, 1H),8.09 (s, 1H); 0.29g of white solid are obtained as the second fraction (6.6%). This product is assigned to be (Z) oxime by 1H-NMR spectrum (CDCl3).δ 〔ppm〕:7.25 (d, 2H), 7.32-7.38 (m, 4H),7.45 (d, 2H), 7.84 (d, 2H), 9.55(broad s, 1H)
1.c:4−フェニルスルファニルベンズアルデヒド=オキシム−O−アセタート
4−フェニルスルファニルベンズアルデヒド=オキシム1.57g(6.86mmol)、及び塩化アセチル617mg(7.90mmol)を、テトラヒドロフラン(THF)35mlに溶解した。この溶液に、トリエチルアミン1.2ml(8.61mmol)を室温で徐々に加えた。反応混合物を、室温で6時間攪拌し、次いでH2Oを加えて、得られた白色固体を溶解した。未精製生成物を酢酸エチルで抽出した。この有機層を、飽和NaHCO3水溶液及び食塩水で2回洗浄した後、無水MgSO4上で乾燥した。残渣を、溶離剤としてのアセトン−へキサン(1:20〜1:5)とともにシリカゲルでのカラムクロマトグラフィーにかけた。74〜76℃で融解する白色固体980mgを得た(53%)。下記の1H−NMR(CDCl3)データによって、構造を確認した:
δ〔ppm〕:2.22 (s, 3H), 7.23 (d, 2H), 7.37 (d, 2H), 7.38(t, 1H), 7.45 (d, 2H), 7.62 (d, 2H), 8.29(s, 1H).
実施例2:2,4−ジメチル−6−メチルスルファニルベンズアルデヒド=オキシム−O−ベンゾアート
式(I)で:Ar1=2,4−ジメチル−6−メチルチオフェニル、R1=ベンゾイル
2.a:1,3−ジメチル−5−メチルスルファニルベンゼン
3,5−ジメチルベンゼンチオール10.0g(0.072mol)、炭酸カリウム9.95g(0.072mol)、及び臭化テトラブチルアンモニウム0.46g(1.4mmol)を、アルゴン下でジメチルスルホキシド20mlに懸濁させた。ヨードメタン(10.2g、0.072mol)を滴加し、混合物を、環境温度で16時間攪拌した。混合物を水中に注いだ後、生成物を、エーテルで抽出し、水洗し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下で濃縮した。未精製生成物9.6g(0.063mol、88%)が、僅かに黄色の油として得られ、それ以上精製せずに、次の工程に用いた。
元素分析:C9 H12 S (152.26) C 〔%〕 H〔%〕 S〔%〕
計算値: 71.00 7.94 21.06
実側値: 70.82 8.01 20.91
2.b:2,4−ジメチル−6−メチルスルファニルベンズアルデヒド
乾燥ジクロロメタン120ml中の1,3−ジメチル−5−メチルスルファニルベンゼン(8.95g、0.059mol)の溶液を、窒素下で−15℃に冷却した。四塩化チタン(12.9ml、0.117mol)を滴加し、得られた暗い溶液を−78℃に冷却した。次いで、ジクロロメチルメチルエーテル(7.4ml、0.082mol)を30分間で滴加し、温度が0℃まで上昇するのを許した。0℃で20分間攪拌した後、反応混合物を氷80g及び濃塩酸10mlに注入した。有機相を分離し、中性になるまで水洗し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、減圧下で蒸発させた。2,4−ジメチル−6−メチルスルファニルベンズアルデヒド及び2,6−ジメチル−4−メチルスルファニルベンズアルデヒドの位置異性体混合物よりなる黄色固体(10.5g、99%)が得られ、これから、純粋な2,4−ジメチル−6−メチルスルファニルベンズアルデヒド(6.9g、65%)、融点=64〜66℃を、ヘキサンからの再結晶化によって単離した。1H−NMRスペクトル(CDCl3)=δ〔ppm〕:10.58 (s, 1H), 6.99 (s,1H),6.83 (s,1H), 2.60 (s,3H),2.46 (s, 3H), 2.36 (s,3H)
2.c:2,4−ジメチル−6−メチルスルファニルベンズアルデヒド=オキシム
水5ml及びエタノール1.7ml中の塩化ヒドロキシアンモニウム(1.24g、0.018mol)、及び酢酸ナトリウム(2.23g、0.027mol)の溶液を、エタノール25ml中の2,4−ジメチル−6−メチルスルファニルベンズアルデヒド(3.06g、0.017mol)の還流溶液に15分間で滴加した。3時間後、沈澱を濾取し、水洗し、減圧下で乾燥して、生成物1.3gを得た。濾液を蒸発させ、ジエチルエーテルに溶解し、水洗し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、蒸発によって濃縮して、2,4−ジメチル−6−メチルスルファニルベンズアルデヒド=オキシム1.7gの追加の収穫を得た。総収量は、3.0g(90%)であった。無色の固体、融点:115〜117℃
元素分析:C10 H13 NOS (195.29) C 〔%〕 H〔%〕 N〔%〕
計算値: 61.51 6.71 7.17
実測値: 61.79 6.92 7.05
2.d:2,4−ジメチル−6−メチルスルファニルベンズアルデヒド=オキシム−O−ベンゾアート
塩化ベンゾイル(1.19g、8.4mmol)、及びTHF15ml中の2,4−ジメチル−6−メチルスルファニルベンズアルデヒド=オキシム(1.50g、7.7mmol)の溶液を、氷浴で混合物を冷却しつつ、10℃のピリジン5mlに逐次加えた。環境温度で2.5時間攪拌した後、混合物を、水に注入し、ジエチルエーテルで抽出し、0.5%塩酸で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、蒸発させた。未精製生成物(2.0g、87%)を、ヘキサンから再結晶させて、2,4−ジメチル−6−メチルスルファニルベンズアルデヒド=オキシム−O−ベンゾアートの分析学的に純粋なサンプルを得た:無色結晶、融点64〜66℃。
δ〔ppm〕:9.02 (s, 1H), 8.16 (d, 2H), 7.61 (m, 1H), 7.50 (m, 2H), 7,06 (s, 1H), 6.95 (s, 1H), 2.57 (s, 3H), 2.47 (s, 3H), 2.35 (s, 3H).
実施例3〜69:
実施例3〜69の化合物は、実施例1に記載した方法に従って、対応するアルデヒド又はケトンから製造した。化合物及び1H−NMRデータを、表1、2及び3に示す。
Figure 0005289649
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実施例70:1−(4−メトキシナフチル)オクタン−1,2−ジオン=2−オキシム−O−アセタートの合成
式(III)で:Ar2=4−メトキシナフトイル;R1=COCH3;R2=C613
70.a:1−(4−メトキシナフチル)オクタン−1,2−ジオン=2−オキシム
1−(4−メトキシナフチル)オクタン−1−オン10.0g(35.2mmol)をtert−ブチルメチルエーテル35mlに溶解した。HClガスを、この溶液に氷浴にて冷却しつつ導入し、H2SO4水溶液(濃H2SO43.5ml及びH2O7ml)をメタノール(3ml)及びH2O(3ml)中のNaNO2(3.65g、52.7mmol)に加えることによって生成した、亜硝酸ガスを、氷浴温度で10分間導入した。次いで、反応溶液を氷上に注ぎ、未精製生成物をtert−ブチルメチルエーテルで抽出した。このエーテル相を、飽和NaHCO3水溶液及び食塩水で洗浄し、無水MgSO4上で乾燥し、次いで濃縮した。残渣を、溶離剤としての酢酸エチル−ヘキサン(10:90)とともにシリカゲルでのカラムクロマトグラフィーにかけた。黄色固体2.02gを得た(18%)。融点:92〜93℃。
1H−NMR(CDCl3)δ〔ppm〕: 0.90 (t, 3H), 1.31-1.55 (m, 6H), 1.59-1.65 (m , 2H), 2.79 (t, 2H), 4.06 (s, 3H), 6.80 (d, 1H), 7.51 (t, 1H), 7.58 (t, 1H), 7.72 (d, 1H), 7.75 (d, 1H), 8.33 (d, 1H), 8.44 (d, 1H).
70.b:1−(4−メトキシナフチル)オクタン−1,2−ジオン=2−オキシム−O−アセタート
1−(4−メトキシナフチル)オクタン−1,2−ジオン=2−オキシム1.51g(4.82g)をTHF15mlに溶解し、溶液を氷浴にて冷却した。塩化アセチル(0.49g、6.3mmol)及びトリエチルアミン(0.73g、7.2mmol)を逐次加えた。反応溶液を、0℃で2.5時間攪拌し、水中に注いだ。THF層を、分離し、飽和NaHCO3水溶液及び食塩水で洗浄した後、乾燥MgSO4上で乾燥した。濃縮した後、残渣を、溶離剤としての酢酸エチル−ヘキサン(10:90)とともにシリカゲルでのカラムクロマトグラフィーにかけた。黄色の油0.92gを得た(54%)。融点:68〜71℃。
δ〔ppm〕: 0.88 (t, 3H), 1.26-1.29 (m, 4H), 1.30-1.41(m, 2H), 1.58-1.63 (m , 2H), 2.24 (s, 3H), 2.84 (t, 2H), 4.08 (s, 3H), 6.84 (d, 1H), 7.55 (t, 1H), 7.66 (t, 1H), 8.06 (d, 1H), 8.34 (d, 1H), 8.96 (d, 1H).
実施例71〜72では、下記の増感剤を用いた:
S−1:2−イソプロピルチオキサントン及び4−イソプロピルチオキサントンの混合物〔Quantacure ITX((登録商標)〕
S−2:4′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン(ミヒラーケトン)
実施例71:
はんだレジストのモデルとして役立つ、光硬化性配合物を、下記の成分を混合することによって製造した:
47.30重量部の、3〜5%のカルボニル基を有するポリアクリラート〔GF Goodrichが提供するCarboset 525(登録商標)〕
37.64重量部のトリメチルプロパントリアクリラート
4.30重量部のポリビニルピロリドン(PVP 30)
10.76重量部のヘキサメトキシメチルアミン〔Cymel 301(登録商標)〕
319.00重量部の塩化メチレン
30.00重量部のメタノール
この混合物に、0.5%(固体含量に対して)のS−1、又は0.1%(固体含量に対して)のS−2のいずれか、及び2%(固体含量に対して)の、試験しようとする開始剤を加え、攪拌した。すべての操作は、黄色光の条件下で実施した。開始剤を加えたサンプルを、アルミニウム箔に塗布した。対流式オーブン内で60℃で15分間乾燥することによって、溶媒を除去した。乾燥した後、薄膜厚さは、35〜40μmであった。76μmの厚さのポリエステル薄膜を、乾燥薄膜に積層し、21段階の異なる光学密度を有する、標準化された試験陰画(Stoufferくさび)を頂部に置いた。サンプルを、第二のUV透過薄膜で覆い、減圧によって金属板に押し付けた。露光を、第一試験系列では2秒間、第二試験系列では5秒間、第三試験系列では10秒間、金属ハロゲン化灯(SMX−3000、ORC)を用いて実施した。露光の後、被覆薄膜及びマスクを除去し、露光した薄膜を、1.0%炭酸ナトリウム水溶液により、スプレー式現像装置(Walter Lemmen、モデルT21)を用いることによって、30℃で3分間現像した。用いた開始剤系の感度を、現像後に残留した(すなわち重合した)最高段階の番号を示すことによって特徴付けた。段階の番号が高いほど、試験した系の感度が高い。結果を表4に集めた。
Figure 0005289649
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実施例72:ポリ(メタクリル酸ベンジル−co−メタクリル酸)の製造
メタクリル酸ベンジル24g、メタクリル酸6g、及びアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)0.525gをプロピレングリコール1−モノエチルエーテル2−アセタート(PGMEA)90mlに溶解した。得られた反応混合物を、80℃に予め加熱した油浴に入れた。窒素下にて80℃で5時間攪拌した後、得られた粘稠な溶液を、室温まで冷却し、それ以上精製せずに用いた。固体含量は、約25%であった。
感度試験のための光硬化性組成物を、下記の成分を混合することによって製造した:
200.0重量部の、上記のとおり製造した、25%プロピレングリコール1−モノエチルエーテル2−アセタート(PGMEA)中の、ベンジルメタクリラートとメタクリル酸との共重合体(ベンジルメタクリラート:メタクリル酸=80:20重量比)
50.0重量部のジペンタエリトリトールヘキサアクリラート〔(DPHA)、UCB Chemicalsが提供〕
4.5重量部の光開始剤
1.8重量部の増感剤、及び
150.0重量部のプロピレングリコール1−モノエチルエーテル2−アセタート(PGMEA)
すべての操作は、黄色光の下で実施した。組成物を、鋼線巻付け棒を備えた電動塗布装置を用いてアルミニウム板に塗布した。対流式オーブン内で100℃で2分間加熱することによって、溶媒を除去した。乾燥薄膜の厚さは、約2μmであった。21段階の異なる光学密度を有する、標準化された試験陰画(Stouffer段階くさび)を、薄膜とレジストとの間に、約100μmの空気間隙を持たせて置いた。露光は、250Wの超高圧水銀灯(ウシオ、USH-250BY)を15cmの間隔で用いて実施した。試験陰画薄膜上で光量計(ORCのUV−35検出器を備えたUV光測定器モデルUV−M02)によって測定した、総露光線量は、500mJ/cm2であった。露光の後、露光した薄膜を、1%炭酸ナトリウム水溶液により、スプレー式現像装置(Walter Lemmen、モデルT21)を用いることによって30℃で100秒間現像した。用いた開始剤系の感度を、現像後に残留した(すなわち重合した)最高段階の番号を示すことによって特徴付けた。段階の番号が高いほど、試験した系の感度が高い。結果を表5に列挙した。
Figure 0005289649
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Claims (6)

  1. 式(I)又は(II):
    【化1】
    Figure 0005289649

    〔式中、R1は、アセチル又はベンゾイルであり;
    Ar1は、
    【化2】
    Figure 0005289649

    であり、これらのそれぞれは、場合により、(C1〜C8)アルキル、OR3若しくはSR4で置換されているが;
    (i)SR が、2−SC(CH ならば、R は、ベンゾイルではなく;
    (iii)NR は、4−N(CH ではなく;又は
    1は、
    【化34】
    Figure 0005289649

    であるか;或いは
    Ar1は、1−ナフチル又は2−ナフチルであり、これらのそれぞれは、OR3、SR4、又はNR56で置換されているが;
    (x)Ar が、2−メトキシ−1−ナフチル、4−メトキシ−1−ナフチル又は1,4,5,8−テトラメトキシ−2−ナフチルではなく;或いは
    Ar1は、3,4,5−トリメトキシフェニル又はフェノキシフェニルであるか;或いは、
    Ar1は、場合により、OR3で置換されたビフェニリルであるが;
    (xv)Ar が、2−ビフェニリルならば、R は、ベンゾイルではなく;又は
    1は、
    【化35】
    Figure 0005289649

    であるか;或いは
    Ar1は、
    【化7】
    Figure 0005289649

    であり、これらはともに、OR3で置換されているか、又は
    1
    【化36】
    Figure 0005289649

    であるか;或いは、
    Ar1は、R1がアセチルである条件でチエニルであり;
    xは、2であり;
    1は、
    【化43】
    Figure 0005289649

    であり、これは、場合により、OR3で置換されており;
    4は、直接結合、−O−、−S−又は(C2〜C12)アルキレンジオキシであり;
    3は、(C1〜C8)アルキル、フェニル又はフェニル−(C1〜C3)アルキルであり
    4は、(C1〜C20)アルキル又はフェニル−(C1〜C3)アルキルであるか、或いはR4は、それぞれが、非置換であるか、又は(C1〜C12)アルキル、フェニル−(C1〜C3)アルコキシ、−(CO)R7若しくは−(CO)OR7で置換された、フェニル若しくはナフチルであり;
    5及びR6は、互いに独立に、フェニル−(C1〜C3)アルキル、(C2〜C8)アルカノイル又はフェニルであり;
    7は、(C1〜C20)アルキル又はフェニルであり;
    8は、場合により、OR3で置換されたフェニルである〕
    で示される化合物(但し、
    【化44】
    Figure 0005289649

    を除く)
  2. (a)少なくとも1種類のエチレン性不飽和光重合性化合物と、
    (b)光開始剤としての、請求項1記載の式(I)又は(II)で示される少なくとも1種類の化合物と
    を含む光重合性組成物。
  3. エチレン性不飽和二重結合を有する化合物を光重合させる方法であって、請求項2記載の組成物を、150〜600nmの範囲の電磁放射線、又は電子ビーム若しくはX線で照射することを含む方法。
  4. 請求項2記載の組成物で少なくとも一つの面が被覆された被覆基材。
  5. レリーフ画像を写真で製造する方法であって、請求項4記載の被覆基材を、画像に応じた露光に付し、次いで、露光されなかった部分を現像剤によって除去することを含む方法。
  6. すべてが感光性樹脂及び顔料を含む、赤、緑及び青色の絵画要素と黒色のマトリックスとを透明な基材の上に与え、かつ該基材の表面、又はカラーフィルタ層の表面のいずれかに透明な電極を与えることによって製造されるカラーフィルタであって、該感光性樹脂が、多官能性アクリラート単量体、有機重合体結合剤、及び請求項1記載の式(I)又は(II)の光重合開始剤を含むカラーフィルタ。
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Families Citing this family (248)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999038035A1 (fr) * 1996-07-22 1999-07-29 Maikurooputo Co., Ltd. Procede de fabrication d'une mini-lentille plate et mince; mini-lentille ainsi produite
SG77689A1 (en) * 1998-06-26 2001-01-16 Ciba Sc Holding Ag New o-acyloxime photoinitiators
SG97168A1 (en) * 1999-12-15 2003-07-18 Ciba Sc Holding Ag Photosensitive resin composition
JP2001188107A (ja) * 1999-12-28 2001-07-10 Seiko Epson Corp マイクロレンズ基板の製造方法、マイクロレンズ基板、液晶パネル用対向基板、液晶パネルおよび投射型表示装置
ATE446322T1 (de) * 2001-06-11 2009-11-15 Basf Se Oxim ester photoinitiatoren mit kombinierter struktur
KR100453921B1 (ko) * 2001-06-21 2004-10-20 주식회사 엘지화학 광활성 알독심 에스테르계 화합물 및 이를 포함하는감광성 조성물
EP1331518A3 (en) * 2002-01-24 2004-04-07 JSR Corporation Radiation sensitive composition for forming an insulating film, insulating film and display device
TW200403523A (en) 2002-03-22 2004-03-01 Shinetsu Chemical Co Photoacid generators, chemically amplified resist compositions, and patterning process
DE10237950A1 (de) * 2002-08-20 2004-03-11 Tesa Ag UV-initiiert thermisch vernetzte Acrylathaftklebemassen
TW200714651A (en) * 2002-10-28 2007-04-16 Mitsubishi Chem Corp Photopolymerization composition and color filter using the same
US20050215656A1 (en) * 2002-11-28 2005-09-29 Taiyo Ink Manufacturing Co., Ltd. Photocurable and thermosetting resin composition and printed circuit boards made by using the same
JP4769461B2 (ja) * 2002-12-03 2011-09-07 チバ ホールディング インコーポレーテッド ヘテロ芳香族基を有するオキシムエステル光開始剤
JP4317375B2 (ja) * 2003-03-20 2009-08-19 株式会社日立製作所 ナノプリント装置、及び微細構造転写方法
JP4431336B2 (ja) * 2003-04-09 2010-03-10 株式会社日本触媒 樹脂組成物、光学フィルターおよびプラズマディスプレー
WO2004104051A1 (en) * 2003-05-26 2004-12-02 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Bimolecular photoinitiator systems
JP4106438B2 (ja) * 2003-06-20 2008-06-25 独立行政法人産業技術総合研究所 多層微細配線インターポーザおよびその製造方法
TW200519535A (en) * 2003-11-27 2005-06-16 Taiyo Ink Mfg Co Ltd Hardenable resin composition, hardened body thereof, and printed circuit board
US6960419B2 (en) * 2003-12-12 2005-11-01 Kodak Polychrome Graphics Llc Antihalation dye for negative-working printing plates
JP2005215147A (ja) * 2004-01-28 2005-08-11 Fuji Photo Film Co Ltd 重合性組成物
US7011529B2 (en) * 2004-03-01 2006-03-14 Anritsu Company Hermetic glass bead assembly having high frequency compensation
US20050253917A1 (en) * 2004-05-13 2005-11-17 Quanyuan Shang Method for forming color filters in flat panel displays by inkjetting
JP5140903B2 (ja) * 2004-07-02 2013-02-13 三菱化学株式会社 着色樹脂組成物、カラーフィルタ及び液晶表示装置
KR100633235B1 (ko) * 2004-07-05 2006-10-11 주식회사 엘지화학 패턴드 스페이서를 구비하는 디스플레이 패널
US20060021647A1 (en) * 2004-07-28 2006-02-02 Gui John Y Molecular photovoltaics, method of manufacture and articles derived therefrom
CA2575046A1 (en) * 2004-08-18 2006-02-23 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Oxime ester photoinitiators
JP3992725B2 (ja) * 2004-08-20 2007-10-17 株式会社Adeka オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤
WO2006043638A1 (ja) * 2004-10-20 2006-04-27 Mitsubishi Chemical Corporation 感光性組成物、画像形成材料、画像形成材、及び画像形成方法
US7625063B2 (en) * 2004-11-04 2009-12-01 Applied Materials, Inc. Apparatus and methods for an inkjet head support having an inkjet head capable of independent lateral movement
US20060093751A1 (en) * 2004-11-04 2006-05-04 Applied Materials, Inc. System and methods for inkjet printing for flat panel displays
US20060092218A1 (en) * 2004-11-04 2006-05-04 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for inkjet printing
US7413272B2 (en) * 2004-11-04 2008-08-19 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for precision control of print head assemblies
JP3798008B2 (ja) * 2004-12-03 2006-07-19 旭電化工業株式会社 オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤
JP5421533B2 (ja) 2004-12-22 2014-02-19 チバ ホールディング インコーポレーテッド 強接着性コーティングの製造方法
US20060185587A1 (en) * 2005-02-18 2006-08-24 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for reducing ink conglomerates during inkjet printing for flat panel display manufacturing
JP4420226B2 (ja) 2005-02-18 2010-02-24 信越化学工業株式会社 化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
TWI332122B (en) 2005-04-06 2010-10-21 Shinetsu Chemical Co Novel sulfonate salts and derivatives, photoacid generators, resist compositions and patterning process
JP4533800B2 (ja) * 2005-05-31 2010-09-01 東洋インキ製造株式会社 感光性着色組成物およびカラーフィルタ
JP4627227B2 (ja) * 2005-06-22 2011-02-09 東京応化工業株式会社 感光性組成物およびブラックマトリクス
KR100939416B1 (ko) * 2005-07-13 2010-01-28 다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤 흑색 페이스트 조성물, 및 그것을 이용한 블랙 매트릭스패턴의 형성 방법 및 그의 블랙 매트릭스 패턴
JP4834665B2 (ja) * 2005-07-13 2011-12-14 太陽ホールディングス株式会社 銀ペースト組成物、及びそれを用いた導電性パターンの形成方法、並びにその導電性パターン
US20070015847A1 (en) * 2005-07-15 2007-01-18 Applied Materials, Inc. Red printing ink for color filter applications
US7544723B2 (en) * 2005-07-15 2009-06-09 Applied Materials, Inc. Blue printing ink for color filter applications
TWI428937B (zh) 2005-08-12 2014-03-01 Cambrios Technologies Corp 以奈米線為主之透明導體
TW200728379A (en) * 2005-09-06 2007-08-01 Taiyo Ink Mfg Co Ltd Resin composition, cured product of the same, and printed circuit board made of the same
US20070070109A1 (en) * 2005-09-29 2007-03-29 White John M Methods and systems for calibration of inkjet drop positioning
JP4650212B2 (ja) * 2005-10-31 2011-03-16 東洋インキ製造株式会社 光重合性組成物
EP1780199B1 (en) * 2005-10-31 2012-02-01 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Novel fluorohydroxyalkyl sulfonate salts and derivatives, photoacid generators, resist compositions, and patterning process
EP1780198B1 (en) * 2005-10-31 2011-10-05 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Novel fluorosulfonyloxyalkyl sulfonate salts and derivatives, photoacid generators, resist compositions, and patterning process
JP4650211B2 (ja) * 2005-10-31 2011-03-16 東洋インキ製造株式会社 光重合性組成物
KR100763744B1 (ko) * 2005-11-07 2007-10-04 주식회사 엘지화학 옥심 에스테르를 포함하는 트리아진계 광활성 화합물
EP2172455B1 (en) * 2005-12-01 2011-01-19 Basf Se Oxime ester photoinitiators
KR100814232B1 (ko) * 2005-12-01 2008-03-17 주식회사 엘지화학 옥심 에스테르를 포함하는 트리아진계 광활성 화합물을포함하는 착색 감광성 조성물
KR101351286B1 (ko) * 2005-12-20 2014-02-17 시바 홀딩 인크 옥심 에스테르 광개시제
CN101341172B (zh) * 2005-12-20 2013-01-16 西巴控股有限公司 肟酯光引发剂
US8614037B2 (en) 2006-01-17 2013-12-24 Fujifilm Corporation Dye-containing negative working curable composition, color filter and method of producing thereof
US7923057B2 (en) 2006-02-07 2011-04-12 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for reducing irregularities in color filters
CN101024624B (zh) * 2006-02-24 2013-09-11 富士胶片株式会社 肟衍生物、可光聚合的组合物、滤色片及其制造方法
US8293436B2 (en) * 2006-02-24 2012-10-23 Fujifilm Corporation Oxime derivative, photopolymerizable composition, color filter, and process for producing the same
JP4584164B2 (ja) * 2006-03-08 2010-11-17 富士フイルム株式会社 感光性組成物、感光性フィルム、永久パターン形成方法、及びプリント基板
TWI412576B (zh) 2006-04-06 2013-10-21 Showa Denko Kk Transparent conductive substrate
KR101063048B1 (ko) 2006-04-13 2011-09-07 다이요 홀딩스 가부시키가이샤 알칼리 현상형 솔더 레지스트, 그의 경화물 및 그것을 이용하여 얻어지는 인쇄 배선판
JP4827088B2 (ja) * 2006-04-13 2011-11-30 太陽ホールディングス株式会社 アルカリ現像型ソルダーレジスト及びその硬化物並びにそれを用いて得られるプリント配線板
TWI403840B (zh) 2006-04-26 2013-08-01 Fujifilm Corp 含染料之負型硬化性組成物、彩色濾光片及其製法
JP4548616B2 (ja) 2006-05-15 2010-09-22 信越化学工業株式会社 熱酸発生剤及びこれを含むレジスト下層膜材料、並びにこのレジスト下層膜材料を用いたパターン形成方法
JP4711886B2 (ja) * 2006-05-26 2011-06-29 富士フイルム株式会社 感光性組成物、感光性フィルム及びプリント基板
JP5124806B2 (ja) * 2006-06-27 2013-01-23 信越化学工業株式会社 光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法
JP5124805B2 (ja) * 2006-06-27 2013-01-23 信越化学工業株式会社 光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法
US20080022885A1 (en) * 2006-07-27 2008-01-31 Applied Materials, Inc. Inks for display device manufacturing and methods of manufacturing and using the same
US20080030562A1 (en) * 2006-08-02 2008-02-07 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for improved ink for inkjet printing
JP2008064890A (ja) * 2006-09-05 2008-03-21 Fujifilm Corp 感光性組成物、感光性フィルム、永久パターン形成方法、及びプリント基板
JP4586783B2 (ja) * 2006-09-22 2010-11-24 東洋インキ製造株式会社 感光性着色組成物およびカラーフィルタ
KR101035742B1 (ko) 2006-09-28 2011-05-20 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 신규 광산 발생제 및 이것을 이용한 레지스트 재료 및 패턴형성 방법
CN102324462B (zh) 2006-10-12 2015-07-01 凯博瑞奥斯技术公司 基于纳米线的透明导体及其应用
US8018568B2 (en) 2006-10-12 2011-09-13 Cambrios Technologies Corporation Nanowire-based transparent conductors and applications thereof
JP5030527B2 (ja) * 2006-10-20 2012-09-19 株式会社Adeka オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤
JP4874767B2 (ja) * 2006-11-09 2012-02-15 富士フイルム株式会社 感光性組成物、感光性フィルム、永久パターン形成方法、及びプリント基板
US7838197B2 (en) * 2006-11-15 2010-11-23 Taiyo Ink Mfg. Co., Ltd. Photosensitive composition
US7803420B2 (en) * 2006-12-01 2010-09-28 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for inkjetting spacers in a flat panel display
JP4355725B2 (ja) 2006-12-25 2009-11-04 信越化学工業株式会社 ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
KR100910103B1 (ko) * 2006-12-27 2009-07-30 가부시키가이샤 아데카 옥심에스테르화합물 및 상기 화합물을 함유하는 광중합 개시제
CN101528682B (zh) 2006-12-27 2012-08-08 株式会社艾迪科 肟酯化合物和含有该化合物的光聚合引发剂
EP2116527A4 (en) 2007-01-23 2011-09-14 Fujifilm Corp OXIME COMPOUND, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COLOR FILTER, METHOD FOR MANUFACTURING THE COLOR FILTER, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT
US7857413B2 (en) 2007-03-01 2010-12-28 Applied Materials, Inc. Systems and methods for controlling and testing jetting stability in inkjet print heads
KR101175401B1 (ko) * 2007-04-04 2012-08-20 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 감광성 접착제 조성물, 필름상 접착제, 접착 시트, 접착제 패턴, 접착제층 부착 반도체 웨이퍼, 반도체 장치, 및, 반도체 장치의 제조방법
JP6098860B2 (ja) 2007-04-20 2017-03-22 シーエーエム ホールディング コーポレーション 複合透明導電体、及び機器
CN101622236B (zh) 2007-05-09 2014-06-18 株式会社艾迪科 环氧化合物、碱显影性树脂组合物以及碱显影性感光性树脂组合物
EP2207062B1 (en) 2007-07-17 2012-09-12 FUJIFILM Corporation Photosensitive compositions, curable compositions, novel compounds, photopolymerizable compositions, color filters, and planographic printing plate precursors
JP5274132B2 (ja) * 2007-07-17 2013-08-28 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、カラーフィルタ用硬化性組成物、パターン形成方法、カラーフィルタ、及びその製造方法
KR20100028020A (ko) 2007-08-01 2010-03-11 가부시키가이샤 아데카 알칼리 현상성 감광성 수지 조성물 및 β-디케톤 화합물
JP4890388B2 (ja) 2007-08-22 2012-03-07 富士フイルム株式会社 着色感光性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
JP5496482B2 (ja) * 2007-08-27 2014-05-21 富士フイルム株式会社 新規化合物、光重合性組成物、カラーフィルタ用光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版
US7637587B2 (en) * 2007-08-29 2009-12-29 Applied Materials, Inc. System and method for reliability testing and troubleshooting inkjet printers
JP5019071B2 (ja) 2007-09-05 2012-09-05 信越化学工業株式会社 新規光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法
JP4959495B2 (ja) * 2007-09-27 2012-06-20 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、それを用いた着色パターン、及び、カラーフィルタ
KR100825420B1 (ko) * 2007-10-24 2008-04-29 주식회사 코오롱 자외선 및 열 경화형 액정디스플레이 패널용 접착제의제조방법
US20090141505A1 (en) * 2007-11-30 2009-06-04 Taiyo Ink Mfg., Co,. Ltd. White heat-hardening resin composition, hardened material, printed-wiring board and reflection board for light emitting device
US8449635B2 (en) * 2007-12-06 2013-05-28 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive articles and methods for making same
JPWO2009081483A1 (ja) 2007-12-25 2011-05-06 株式会社Adeka オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤
US8283000B2 (en) 2008-02-22 2012-10-09 Adeka Corporation Liquid crystal composition containing polymerizable compound and liquid crystal display using the liquid crystal composition
JP5305704B2 (ja) 2008-03-24 2013-10-02 富士フイルム株式会社 新規化合物、光重合性組成物、カラーフィルタ用光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版
JP5245956B2 (ja) 2008-03-25 2013-07-24 信越化学工業株式会社 新規光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法
JP5507054B2 (ja) 2008-03-28 2014-05-28 富士フイルム株式会社 重合性組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、及び固体撮像素子
JP5535444B2 (ja) 2008-03-28 2014-07-02 富士フイルム株式会社 固体撮像素子用緑色硬化性組成物、固体撮像素子用カラーフィルタ及びその製造方法
JP5137662B2 (ja) 2008-03-31 2013-02-06 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5437993B2 (ja) 2008-04-01 2014-03-12 株式会社Adeka 三官能(メタ)アクリレート化合物及び該化合物を含有する重合性組成物
JP4569786B2 (ja) 2008-05-01 2010-10-27 信越化学工業株式会社 新規光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法
JP5222624B2 (ja) 2008-05-12 2013-06-26 富士フイルム株式会社 黒色感光性樹脂組成物、及びカラーフィルタ並びにその製造方法
CN102112438B (zh) * 2008-06-06 2014-07-23 巴斯夫欧洲公司 肟酯光敏引发剂
KR101646284B1 (ko) * 2008-06-06 2016-08-05 바스프 에스이 광개시제 혼합물
JP5171506B2 (ja) 2008-06-30 2013-03-27 富士フイルム株式会社 新規化合物、重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版
JP5186303B2 (ja) * 2008-07-31 2013-04-17 東京応化工業株式会社 レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
JP2010044273A (ja) 2008-08-14 2010-02-25 Fujifilm Corp カラーフィルタ及びその形成方法、並びに固体撮像素子
JP5274151B2 (ja) 2008-08-21 2013-08-28 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに、固体撮像素子
JP5284735B2 (ja) 2008-09-18 2013-09-11 株式会社Adeka 重合性光学活性イミド化合物及び該化合物を含有する重合性組成物
JP4813537B2 (ja) 2008-11-07 2011-11-09 信越化学工業株式会社 熱酸発生剤を含有するレジスト下層材料、レジスト下層膜形成基板及びパターン形成方法
JP5344892B2 (ja) 2008-11-27 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インクジェット用インク組成物、及びインクジェット記録方法
JP5669386B2 (ja) 2009-01-15 2015-02-12 富士フイルム株式会社 新規化合物、重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版
JP5469471B2 (ja) * 2009-01-30 2014-04-16 富士フイルム株式会社 着色光重合性組成物、着色パターンの形成方法、カラーフィルタ、および液晶表示装置、
JP5435596B2 (ja) * 2009-02-13 2014-03-05 エルジー ケム. エルティーディ. 光活性化合物及びそれを含む感光性樹脂組成物
JP4344400B1 (ja) * 2009-02-16 2009-10-14 株式会社日本化学工業所 オキシムエステル化合物及びこれらを用いた感光性樹脂組成物
JP5371471B2 (ja) * 2009-02-16 2013-12-18 株式会社日本化学工業所 オキシムエステル化合物及びこれらを用いた感光性樹脂組成物
JP5371824B2 (ja) 2009-02-19 2013-12-18 富士フイルム株式会社 分散組成物の製造方法、遮光性カラーフィルタ用感光性樹脂組成物の製造方法、遮光性カラーフィルタの製造方法
US8004078B1 (en) * 2009-03-17 2011-08-23 Amkor Technology, Inc. Adhesive composition for semiconductor device
JP5479163B2 (ja) 2009-03-31 2014-04-23 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ用着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5554106B2 (ja) 2009-03-31 2014-07-23 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、固体撮像素子、および液晶表示装置
CN101525393B (zh) * 2009-04-02 2011-04-27 优缔精细化工(苏州)有限公司 一种肟酯光引发剂及其制备方法
CN102459171B (zh) 2009-06-17 2014-07-09 东洋油墨Sc控股株式会社 肟酯化合物、自由基聚合引发剂、聚合性组合物、负型抗蚀剂以及图像图案
JP5236587B2 (ja) 2009-07-15 2013-07-17 太陽ホールディングス株式会社 光硬化性樹脂組成物
KR101677505B1 (ko) 2009-08-26 2016-11-18 제이에스알 가부시끼가이샤 신규 화합물, 그 제조 방법, 이 신규 화합물을 함유하는 감방사선성 조성물 및 경화막
WO2011030688A1 (ja) * 2009-09-14 2011-03-17 日産化学工業株式会社 共重合体を含有する感光性樹脂組成物
JP5535814B2 (ja) 2009-09-14 2014-07-02 富士フイルム株式会社 光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、液晶表示装置、平版印刷版原版、並びに、新規化合物
JP5501175B2 (ja) 2009-09-28 2014-05-21 富士フイルム株式会社 分散組成物及びその製造方法、遮光性カラーフィルタ用感光性樹脂組成物及びその製造方法、遮光性カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5760374B2 (ja) * 2009-10-23 2015-08-12 三菱化学株式会社 ケトオキシムエステル系化合物及びその利用
CN102575167A (zh) 2009-11-18 2012-07-11 株式会社艾迪科 含有聚合性化合物的液晶组合物以及使用该液晶组合物的液晶显示元件
JP5701576B2 (ja) 2009-11-20 2015-04-15 富士フイルム株式会社 分散組成物及び感光性樹脂組成物、並びに固体撮像素子
JP4818458B2 (ja) 2009-11-27 2011-11-16 株式会社Adeka オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤
JP2011158655A (ja) 2010-01-29 2011-08-18 Fujifilm Corp 重合性組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子
JP5640722B2 (ja) * 2010-02-05 2014-12-17 Jsr株式会社 新規化合物及びそれを含有する感放射線性組成物
SG183399A1 (en) 2010-02-24 2012-09-27 Cambrios Technologies Corp Nanowire-based transparent conductors and methods of patterning same
KR20110098638A (ko) 2010-02-26 2011-09-01 후지필름 가부시키가이샤 착색 경화성 조성물, 컬러필터와 그 제조방법, 고체촬상소자 및 액정표시장치
JP5638285B2 (ja) 2010-05-31 2014-12-10 富士フイルム株式会社 重合性組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、および固体撮像素子
EP2392621A3 (en) 2010-06-01 2013-01-09 FUJIFILM Corporation Pigment dispersion composition, red colored composition, colored curable composition, color filter for a solid state imaging device and method for producing the same, and solid state imaging device
JP5622564B2 (ja) 2010-06-30 2014-11-12 富士フイルム株式会社 感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子
JP5544239B2 (ja) 2010-07-29 2014-07-09 富士フイルム株式会社 重合性組成物
KR101053772B1 (ko) * 2010-10-01 2011-08-02 경북대학교 산학협력단 마이크로 플루이딕 칩 몰드를 제조하기 위한 성형 모듈, 이를 이용한 마이크로 플루이딕 칩 몰드 제조 방법 및 이에 의해 제조된 마이크로 플루이딕 칩 몰드
KR101830206B1 (ko) 2010-12-28 2018-02-20 후지필름 가부시키가이샤 차광막 형성용 티타늄 블랙 분산 조성물과 그 제조방법, 흑색 감방사선성 조성물, 흑색 경화막, 고체촬상소자, 및 흑색 경화막의 제조방법
US8816211B2 (en) * 2011-02-14 2014-08-26 Eastman Kodak Company Articles with photocurable and photocured compositions
RU2628076C2 (ru) 2011-05-25 2017-08-14 Америкэн Дай Сорс, Инк. Соединения с группами сложных эфиров оксима и/или ацильными группами
CN103608704B (zh) 2011-09-14 2016-03-16 富士胶片株式会社 着色放射线敏感性组合物、图案形成方法、彩色滤光片及其制备方法以及固态图像传感器
JP5934664B2 (ja) 2012-03-19 2016-06-15 富士フイルム株式会社 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、着色パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置
JP5775479B2 (ja) 2012-03-21 2015-09-09 富士フイルム株式会社 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置
JP6438385B2 (ja) * 2012-04-11 2018-12-12 イフォクレール ヴィヴァデント アクチェンゲゼルシャフトIvoclar Vivadent AG 複合樹脂組成物およびステレオリソグラフィーによる歯科構成部品の生成のためのプロセス
TWI472507B (zh) * 2012-05-03 2015-02-11 Korea Res Inst Chem Tech 新穎茀肟酯化合物、含彼之光聚合起始劑及光阻組合物
JP5950682B2 (ja) * 2012-05-09 2016-07-13 株式会社日本化学工業所 オキシム系光重合開始剤及びその使用方法
WO2014011713A2 (en) * 2012-07-10 2014-01-16 Dana-Farber Cancer Institue, Inc. Anti-proliferative compounds and uses thereof
JP5909468B2 (ja) 2012-08-31 2016-04-26 富士フイルム株式会社 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、及び固体撮像素子
JP5894943B2 (ja) 2012-08-31 2016-03-30 富士フイルム株式会社 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、マイクロレンズの製造方法、及び固体撮像素子
JP5934682B2 (ja) 2012-08-31 2016-06-15 富士フイルム株式会社 マイクロレンズ形成用又はカラーフィルターの下塗り膜形成用硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、固体撮像素子、及び、硬化性組成物の製造方法
CN103698976A (zh) * 2012-09-27 2014-04-02 李妤 新型激光数字全息高密度存储显示材料的制备
KR101563473B1 (ko) 2012-09-28 2015-10-26 다이토 케믹스 코포레이션 플루오렌계 화합물, 상기 플루오렌계 화합물을 포함하는 광중합 개시제, 및 상기 광중합 개시제를 포함하는 감광성 조성물
EP2927716A4 (en) 2012-11-30 2015-12-30 Fujifilm Corp HARDENABLE RESIN COMPOSITION AND IMAGE SENSOR PREPARATION METHOD AND PICTOR SENSOR THEREWITH
EP2927717A4 (en) 2012-11-30 2016-01-06 Fujifilm Corp CURABLE RESIN COMPOSITION, AND IMAGE SENSOR CHIP, AND METHOD OF MANUFACTURING SAME USING THE SAME
US9539072B2 (en) * 2012-12-17 2017-01-10 Global Filtration Systems Method of making a dental arch model
JP6170673B2 (ja) 2012-12-27 2017-07-26 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ用組成物、赤外線透過フィルタ及びその製造方法、並びに赤外線センサー
JP6061697B2 (ja) * 2013-01-24 2017-01-18 株式会社日本化学工業所 新規な光重合開始剤及びその使用方法
EP2960691B1 (en) 2013-02-19 2017-09-27 Fujifilm Corporation Near-infrared absorbing composition, near-infrared blocking filter, method for producing near-infrared blocking filter, camera module and method for manufacturing camera module
JP6095408B2 (ja) * 2013-02-20 2017-03-15 株式会社日本化学工業所 新規な光重合開始剤及びこれらを用いた感光性樹脂組成物
CN105247391B (zh) 2013-04-11 2018-06-12 富士胶片株式会社 近红外线吸收性组合物、近红外线截止滤波器及其制造方法、以及照相机模块及其制造方法
JP6097128B2 (ja) 2013-04-12 2017-03-15 富士フイルム株式会社 遠赤外線遮光層形成用組成物
CN104124835A (zh) * 2013-04-26 2014-10-29 新科实业有限公司 音圈马达的组装方法及组装装置
JP6159291B2 (ja) 2013-05-23 2017-07-05 富士フイルム株式会社 近赤外線吸収性組成物、これを用いた近赤外線カットフィルタおよびその製造方法、並びに、カメラモジュール
JP2015017244A (ja) 2013-06-12 2015-01-29 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、硬化膜、近赤外線カットフィルタ、カメラモジュールおよびカメラモジュールの製造方法
JP2015038979A (ja) * 2013-07-18 2015-02-26 富士フイルム株式会社 イメージセンサー及びその製造方法
JP6162084B2 (ja) 2013-09-06 2017-07-12 富士フイルム株式会社 着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、画像表示装置、ポリマー、キサンテン色素
KR102282647B1 (ko) 2013-09-10 2021-07-28 바스프 에스이 옥심 에스테르 광개시제
WO2015064958A1 (ko) * 2013-11-04 2015-05-07 한국화학연구원 신규한 옥심에스테르 비페닐 화합물, 이를 포함하는 광개시제 및 감광성 수지 조성물
KR101435652B1 (ko) * 2014-01-17 2014-08-28 주식회사 삼양사 신규한 β-옥심에스테르 플루오렌 화합물, 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물
CN104076606B (zh) * 2014-07-15 2019-12-03 常州强力电子新材料股份有限公司 一种含肟酯类光引发剂的感光性组合物及其应用
EP3165965B1 (en) 2014-07-15 2018-10-10 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Photosensitive composition and compound
KR101525460B1 (ko) * 2014-08-25 2015-06-04 애경화학 주식회사 신규한 구조를 갖는 옥심에스테르 광개시제 및 이를 포함하는 반응성 액정 조성물 및 감광성 조성물
JP6169545B2 (ja) 2014-09-09 2017-07-26 富士フイルム株式会社 重合性組成物、インクジェット記録用インク組成物、インクジェット記録方法、及び記録物
JP6086888B2 (ja) 2014-09-26 2017-03-01 富士フイルム株式会社 インクジェット記録用インク組成物、インクジェット記録方法、及び記録物
JP6169548B2 (ja) 2014-09-26 2017-07-26 富士フイルム株式会社 重合性組成物、インクジェット記録用インク組成物、インクジェット記録方法、及び記録物
CN107111232A (zh) * 2014-11-12 2017-08-29 三养社 用于液晶显示面板的黑色矩阵光致抗蚀剂组合物
WO2016076652A1 (ko) * 2014-11-12 2016-05-19 주식회사 삼양사 액정디스플레이 패널용 블랙매트릭스 포토레지스트 조성물
JP6408715B2 (ja) * 2015-02-06 2018-10-17 コリア リサーチ インスティテュート オブ ケミカル テクノロジー 新規のオキシムエステル誘導体化合物およびこれを含む光重合開始剤、ならびにフォトレジスト組成物
CN104817653B (zh) * 2015-04-22 2016-08-24 江南大学 一种香豆素肟酯类光引发剂及其制备方法
US10719016B2 (en) * 2015-08-21 2020-07-21 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Photosensitive resin composition, polyimide production method, and semiconductor device
CN105158984A (zh) * 2015-10-15 2015-12-16 深圳市华星光电技术有限公司 Va型液晶显示面板的制作方法
JP6621643B2 (ja) * 2015-10-22 2019-12-18 株式会社Adeka オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する重合開始剤
CN105199018B (zh) * 2015-11-06 2017-03-22 常州久日化学有限公司 肟酯类光引发剂及其制备和应用
TWI634135B (zh) 2015-12-25 2018-09-01 日商富士軟片股份有限公司 樹脂、組成物、硬化膜、硬化膜的製造方法及半導體元件
KR102134138B1 (ko) 2016-03-14 2020-07-15 후지필름 가부시키가이샤 조성물, 막, 경화막, 광학 센서 및 막의 제조 방법
WO2017183428A1 (ja) 2016-04-21 2017-10-26 富士フイルム株式会社 画像表示機能付きミラーおよびハーフミラー
TWI830588B (zh) 2016-08-01 2024-01-21 日商富士軟片股份有限公司 感光性樹脂組成物、硬化膜、積層體、硬化膜的製造方法、積層體的製造方法及半導體元件
JP6607221B2 (ja) * 2016-08-01 2019-11-20 東洋インキScホールディングス株式会社 感光性着色組成物およびカラーフィルタ
TW201821280A (zh) 2016-09-30 2018-06-16 日商富士軟片股份有限公司 積層體以及半導體元件的製造方法
WO2018084076A1 (ja) 2016-11-04 2018-05-11 富士フイルム株式会社 ウインドシールドガラス、ヘッドアップディスプレイシステム、およびハーフミラーフィルム
EP3335689A1 (en) * 2016-12-14 2018-06-20 DENTSPLY DETREY GmbH Dental composition
JP6867416B2 (ja) 2017-02-09 2021-04-28 富士フイルム株式会社 ハーフミラー、ハーフミラーの製造方法、および画像表示機能付きミラー
US20180259850A1 (en) * 2017-03-10 2018-09-13 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Method for forming patterned cured film, photosensitive composition, dry film, and method for producing plated shaped article
WO2018198559A1 (ja) 2017-04-28 2018-11-01 富士フイルム株式会社 画像表示機能付き防眩ミラー
US10546842B2 (en) * 2017-05-31 2020-01-28 Innolux Corporation Display device and method for forming the same
CN110692018B (zh) 2017-05-31 2023-11-03 富士胶片株式会社 感光性树脂组合物、聚合物前体、固化膜、层叠体、固化膜的制造方法及半导体器件
WO2018225544A1 (ja) * 2017-06-06 2018-12-13 日本化薬株式会社 光硬化性組成物及び電子部品用接着剤
JP7161997B2 (ja) 2017-09-07 2022-10-27 富士フイルム株式会社 投映像表示用ハーフミラーフィルム、投映像表示用の合わせガラス、および、画像表示システム
CN111095046B (zh) 2017-09-15 2022-07-22 富士胶片株式会社 组合物、膜、层叠体、红外线透射滤波器、固体摄像元件及红外线传感器
JP6934101B2 (ja) 2018-02-23 2021-09-08 富士フイルム株式会社 画像表示用合わせガラスの製造方法、画像表示用合わせガラス、および、画像表示システム
WO2019176409A1 (ja) 2018-03-13 2019-09-19 富士フイルム株式会社 硬化膜の製造方法、固体撮像素子の製造方法
WO2020049930A1 (ja) 2018-09-07 2020-03-12 富士フイルム株式会社 車両用ヘッドライトユニット、ヘッドライト用の遮光膜、ヘッドライト用の遮光膜の製造方法
KR102420769B1 (ko) 2018-09-20 2022-07-14 후지필름 가부시키가이샤 경화성 조성물, 경화막, 적외선 투과 필터, 적층체, 고체 촬상 소자, 센서, 및 패턴 형성 방법
CN112639616A (zh) 2018-09-28 2021-04-09 富士胶片株式会社 感光性树脂组合物、固化膜、层叠体、固化膜的制造方法及半导体器件
EP3869245A4 (en) 2018-10-17 2021-12-15 FUJIFILM Corporation PROJECTION IMAGE DISPLAY ELEMENT, WINDSHIELD GLASS AND HEADUP DISPLAY SYSTEM
EP3893053A4 (en) 2018-12-05 2022-02-23 FUJIFILM Corporation PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD, CURED FILM, MULTILAYER BODY AND DEVICE
EP3893054A4 (en) 2018-12-05 2022-01-05 FUJIFILM Corporation PATTERN MAKING METHOD, LIGHT SENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED FILM, LAMINATE AND DEVICE
WO2020122023A1 (ja) 2018-12-10 2020-06-18 富士フイルム株式会社 投映像表示用部材、ウインドシールドガラスおよびヘッドアップディスプレイシステム
JP7133703B2 (ja) 2019-03-06 2022-09-08 富士フイルム株式会社 投映像表示用積層フィルム、投映像表示用の合わせガラス、および、画像表示システム
KR102647598B1 (ko) 2019-03-15 2024-03-14 후지필름 가부시키가이샤 경화성 수지 조성물, 경화막, 적층체, 경화막의 제조 방법, 반도체 디바이스, 및, 폴리머 전구체
JP7229337B2 (ja) 2019-03-29 2023-02-27 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、硬化膜、インダクタ、アンテナ
CN110551098B (zh) * 2019-06-17 2021-03-12 湖北固润科技股份有限公司 包含五元芳杂环结构的肟酯类光引发剂及其制备和用途
WO2020252628A1 (zh) * 2019-06-17 2020-12-24 湖北固润科技股份有限公司 包含五元芳杂环结构的肟酯类光引发剂及其制备和用途
TW202104284A (zh) 2019-06-27 2021-02-01 日商富士軟片股份有限公司 組成物、膜及光感測器
CN114269556A (zh) 2019-08-29 2022-04-01 富士胶片株式会社 组合物、膜、近红外线截止滤波器、图案形成方法、层叠体、固体摄像元件、红外线传感器、图像显示装置、相机模块及化合物
WO2021039253A1 (ja) 2019-08-30 2021-03-04 富士フイルム株式会社 組成物、膜、光学フィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、赤外線センサ、並びに、センサモジュール
TW202112837A (zh) 2019-09-26 2021-04-01 日商富士軟片股份有限公司 導熱層的製造方法、積層體的製造方法及半導體器件的製造方法
CN114467048A (zh) 2019-09-27 2022-05-10 富士胶片株式会社 平视显示器用投影仪
TW202128839A (zh) 2019-11-21 2021-08-01 日商富士軟片股份有限公司 圖案形成方法、光硬化性樹脂組成物、積層體的製造方法及電子元件的製造方法
KR20220100914A (ko) 2019-12-25 2022-07-18 후지필름 가부시키가이샤 수지 조성물, 경화물, 자외선 흡수제, 자외선 차단 필터, 렌즈, 보호재, 화합물 및 화합물의 합성 방법
WO2021199748A1 (ja) 2020-03-30 2021-10-07 富士フイルム株式会社 組成物、膜及び光センサ
EP4130812A4 (en) 2020-03-30 2023-11-22 FUJIFILM Corporation REFLECTIVE FILM, WINDSHIELD GLASS AND HEAD-UP DISPLAY SYSTEM
WO2021246402A1 (ja) 2020-06-03 2021-12-09 富士フイルム株式会社 反射フィルム、合わせガラスの製造方法、および、合わせガラス
KR20230021725A (ko) 2020-08-21 2023-02-14 후지필름 가부시키가이샤 중합성 조성물, 중합체, 자외선 차폐 재료, 적층체, 화합물, 자외선 흡수제 및 화합물의 제조 방법
EP4216242A1 (en) 2020-09-18 2023-07-26 FUJIFILM Corporation Composition, magnetic-particle-containing film, and electronic component
EP4220669A4 (en) 2020-09-24 2024-03-20 Fujifilm Corp COMPOSITION, CURED PRODUCT CONTAINING MAGNETIC PARTICLES, SUBSTRATE INTRODUCED BY MAGNETIC PARTICLES AND ELECTRONIC MATERIAL
WO2022065006A1 (ja) 2020-09-28 2022-03-31 富士フイルム株式会社 積層体の製造方法、アンテナインパッケージの製造方法、積層体及び組成物
EP4261575A1 (en) 2020-12-09 2023-10-18 FUJIFILM Corporation Reflection film, windshield glass, and head-up display system
JPWO2022131191A1 (ja) 2020-12-16 2022-06-23
EP4266093A1 (en) 2020-12-17 2023-10-25 FUJIFILM Corporation Composition, film, optical filter, solid-state imaging element, image display device, and infrared sensor
US20240025909A1 (en) 2020-12-17 2024-01-25 Adeka Corporation Compound and composition
WO2022196599A1 (ja) 2021-03-19 2022-09-22 富士フイルム株式会社 膜および光センサ
TW202248755A (zh) 2021-03-22 2022-12-16 日商富士軟片股份有限公司 負型感光性樹脂組成物、硬化物、積層體、硬化物的製造方法以及半導體元件
WO2022202394A1 (ja) 2021-03-22 2022-09-29 富士フイルム株式会社 組成物、磁性粒子含有硬化物、磁性粒子導入基板、電子材料
JPWO2022210175A1 (ja) 2021-03-29 2022-10-06
KR20240035990A (ko) 2021-07-20 2024-03-19 가부시키가이샤 아데카 반도체용 막 형성 재료, 반도체용 부재 형성 재료, 반도체용 공정 부재 형성 재료, 하층막 형성 재료, 하층막 및 반도체 디바이스
WO2023032545A1 (ja) 2021-08-31 2023-03-09 富士フイルム株式会社 硬化物の製造方法、積層体の製造方法、及び、半導体デバイスの製造方法、並びに、処理液
CN117916279A (zh) 2021-09-29 2024-04-19 富士胶片株式会社 组合物、树脂、膜及光传感器
CN117897645A (zh) 2021-09-30 2024-04-16 富士胶片株式会社 平视显示系统及运输机
WO2023054565A1 (ja) 2021-09-30 2023-04-06 富士フイルム株式会社 磁性粒子含有組成物の製造方法、磁性粒子含有組成物、磁性粒子含有硬化物、磁性粒子導入基板、電子材料

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1180846A (en) * 1967-08-08 1970-02-11 Agfa Gevaert Nv Photopolymerisation of Ethylenically Unsaturated Organic Compounds
GB1537921A (en) * 1977-02-18 1979-01-10 Ward Blenkinsop & Co Ltd Substituted oxime esters and their use as photoinitiators
FR2393345A1 (fr) 1977-06-01 1978-12-29 Agfa Gevaert Nv Fabrication d'elements modifies sous forme d'images
GB2029423A (en) 1978-08-25 1980-03-19 Agfa Gevaert Nv Photo-polymerisable materials and recording method
GB2122608B (en) * 1982-06-01 1985-10-02 Zyma Sa (+)-cyanidan-3-ol derivatives
JPS59229553A (ja) * 1983-05-18 1984-12-24 Hitachi Chem Co Ltd 光重合性組成物
JPS604502A (ja) * 1983-06-22 1985-01-11 Daicel Chem Ind Ltd 光重合開始剤
JPS60108837A (ja) * 1983-11-17 1985-06-14 Fuji Photo Film Co Ltd 酸プレカ−サ−
JPS60166306A (ja) * 1984-02-09 1985-08-29 Daicel Chem Ind Ltd 光重合開始剤
JPS60192939A (ja) * 1984-03-14 1985-10-01 Fuji Photo Film Co Ltd 熱現像カラ−感光材料
JPS6124558A (ja) * 1984-07-11 1986-02-03 Daicel Chem Ind Ltd オキシムエステル化合物
JPS61107243A (ja) * 1984-10-30 1986-05-26 Fuji Photo Film Co Ltd 熱現像感光材料
US4590145A (en) * 1985-06-28 1986-05-20 Daicel Chemical Industries, Ltd. Photopolymerization initiator comprised of thioxanthones and oxime esters
JPS62184056A (ja) * 1986-02-10 1987-08-12 Asahi Chem Ind Co Ltd 感光性組成物
JPH0755925B2 (ja) * 1986-02-28 1995-06-14 旭化成工業株式会社 新規なオキシムエステル化合物及びその合成法
JP2505746B2 (ja) * 1986-05-20 1996-06-12 旭化成工業株式会社 感光性組成物
JPS62286961A (ja) * 1986-06-05 1987-12-12 Asahi Chem Ind Co Ltd 新規なオキシムエステル化合物及びその製造方法
JPH0812412B2 (ja) * 1986-06-24 1996-02-07 コニカ株式会社 熱現像処理安定性及び長期保存安定性の優れた熱現像感光材料
US5019482A (en) 1987-08-12 1991-05-28 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Polymer/oxime ester/coumarin compound photosensitive composition
JPH0372434A (ja) * 1989-04-19 1991-03-27 Fuji Photo Film Co Ltd 脱アシル化剤および脱アシル化方法
JPH05320117A (ja) * 1990-01-25 1993-12-03 Teijin Ltd オキシム誘導体のr光学異性体およびそれを有効成分とする除草剤
JP2962103B2 (ja) * 1993-06-23 1999-10-12 東レ株式会社 i線用感光性ポリイミド前駆体組成物
SG77689A1 (en) * 1998-06-26 2001-01-16 Ciba Sc Holding Ag New o-acyloxime photoinitiators
SG97168A1 (en) * 1999-12-15 2003-07-18 Ciba Sc Holding Ag Photosensitive resin composition

Also Published As

Publication number Publication date
NL1016815C2 (nl) 2002-05-14
ES2177438A1 (es) 2002-12-01
AU782837B2 (en) 2005-09-01
NL1016815A1 (nl) 2001-06-18
US7381842B2 (en) 2008-06-03
JP2001233842A (ja) 2001-08-28
AU7226700A (en) 2001-06-21
MY120488A (en) 2005-10-31
KR20010082580A (ko) 2001-08-30
SE0004564D0 (sv) 2000-12-11
BR0006379A (pt) 2001-07-24
CN1299812A (zh) 2001-06-20
CA2328376A1 (en) 2001-06-15
FI20002730A (fi) 2001-06-16
US20050191567A1 (en) 2005-09-01
BE1013872A5 (fr) 2002-11-05
US6949678B2 (en) 2005-09-27
GB2358017B (en) 2002-03-13
FR2802528A1 (fr) 2001-06-22
IT1319688B1 (it) 2003-10-23
ES2177438B1 (es) 2004-10-16
FI20002730A0 (fi) 2000-12-13
US20010012596A1 (en) 2001-08-09
ITMI20002676A1 (it) 2002-06-12
DK200001878A (da) 2001-06-16
SE0004564L (sv) 2002-06-12
CZ20004636A3 (cs) 2001-08-15
GB0029793D0 (en) 2001-01-17
DE10061947A1 (de) 2001-06-21
GB2358017A (en) 2001-07-11
CH694731A5 (de) 2005-06-30
KR100680729B1 (ko) 2007-02-12
AT500127A1 (de) 2005-10-15
CN1252042C (zh) 2006-04-19
SE522774C2 (sv) 2004-03-02

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