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TECHNISCHES
GEBIET
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Die
Erfindung betrifft einen SiC-Wafer, der für elektronische Halbleiterteile
geeignet ist, eine SiC-Halbleitervorrichtung, ausgestattet mit diesem SiC-Wafer,
und ein Verfahren zur Herstellung eines SiC-Wafers.
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STAND DER
TECHNIK
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In
den letzten Jahren wurde sehr viel Forschung hinsichtlich Verbundhalbleiter
aus leichten Elementen wie Siliciumcarbid (SiC) und Galliumnitrid (GaN)
beobachtet. Weil sie aus leichten Elementen hergestellt sind, besitzen
solche Verbundhalbleiter hohe Bindungsenergie, und als Folge davon
sind sie gekennzeichnet durch eine große Energiebreite des verbotenen
Bandes (Bandlücke),
ein dielektrisches Durchschlagfeld und thermische Leitfähigkeit.
Wegen dieser breiten Bandlücke
erregen diese Verbundhalbleiter die Aufmerksamkeit als Materialien
für Leistungsgeräte mit hoher
Wirksamkeit und hohem Spannungswiderstand, als Hochfrequenzleistungsvorrichtungen,
Vorrichtungen mit hohen Arbeitstemperaturen und Vorrichtungen, die
blaues bis ultraviolettes Licht emittieren. Aufgrund ihrer hohen
Bindungsenergie schmelzen diese Verbindungen bei Atmosphärendruck
jedoch nicht einmal bei hoher Temperatur, wodurch es schwierig ist,
Bulk-Kristalle durch Umkristallisation aus einer Schmelze, was bei anderen
Halbleitern, wie Silicium (Si), angewendet wird, zu züchten. Z.B.
erfordert die Verwendung von SiC als Halbleitermaterial, dass Einkristalle
mit hoher Qualität
und bestimmter Größe erhalten
werden. Folglich werden gewöhnlich
Stücke
aus SiC-Einkristallen
durch ein Verfahren erhalten, bei dem eine chemische Reaktion Anwendung
findet, das sogenannte Atchison-Verfahren,
oder ein Verfahren, bei dem Sublimations-Umkristallisation angewendet wird, das sogenannte
Rayleigh-Verfahren.
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Heutzutage
werden durch diese Verfahren hergestellte Einkristalle aus Siliciumcarbid
für Substrate
verwendet, über
die SiC-Ingots durch ein modifiziertes Rayleigh-Verfahren, das Sublimations-Umkristallisation
beinhaltet, gewachsen werden, und diese SiC-Ingots werden dann geschnitten
und hochglanzpoliert, um ein SiC-Substrat herzustellen. Auf dieses
Substrat werden SiC-Einkristalle mit der angestrebten Größe durch
epitaxiales Dampfphasenwachstum oder epitaxiales Flüssigphasenwachstum aufgewachsen,
wodurch eine aktive Schicht mit kontrollierter Filmdicke und Verunreinigungsdichte
gebildet wird, und dieses Produkt wird verwendet, um SiC-Halbleitervorrichtungen,
wie pn-Anschlußdioden,
Schottky-Dioden und verschiedene Transistortypen herzustellen.
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Nichtsdestotrotz
beinhaltet unter den obigen Verfahren das Atchison-Verfahren Erwärmen einer Mischung
aus Quarz und Koks in einem elektrischen Ofen und Ausfällung von
Kristallen durch spontane Nukleation, so dass der Verunreinigungsgehalt
hoch ist und es schwierig ist, die kristallografische Ebene und
Form der resultierenden Kristalle zu kontrollieren. Das Rayleigh-Verfahren
beinhaltet außerdem das
Wachstum von Kristallen durch spontane Nukleation, wodurch es wiederum
schwierig ist, die kristallografische Ebene und Form zu kontrollieren.
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Mit
dem modifizierten Rayleigh-Verfahren, wie mit der Erfindung, offenbart
in der japanischen Patentveröffentlichung
S59-48792, wird ein großer SiC-Ingot
in der Form eines Einkristall-Polymorphs erhalten. Dieser Ingot
enthält
jedoch gewöhnlich
große
Defekte, sogenannte Mikroröhrchen
(kleine Hohlräume,
die in axialer <0001>-Richtung verlaufen) in einer Dichte
von etwa 1 bis 50 cm–2. Es treten auch Schraubenversetzungen
mit einem Burger-Vektor in axialer c-Richtung in einer Dichte von
etwa 103 bis 104 cm–2 auf.
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Ein
Substrat mit einer SiC {0001}-Ebene, oder versehen mit einem Off-Winkel
von 3 bis 8° aus dieser
Ebene, wird gewöhnlich
für epitaxiales
Wachstum verwendet. Es ist bekannt, dass die meisten der Mikroröhrchendefekte
oder Schraubenversetzungen, die in einem Substrat vorliegen, bis
zur epitaxialen SiC-Wachstumsschicht verlaufen und dass die Vorrichtungseigenschaften
deutlich verschlechtert sein werden, wenn eine SiC-Vorrichtung,
hergestellt unter Verwendung einer epitaxialen Wachstumsschicht, Mikroröhrchendefekte
enthält.
Mikroröhrchendefekte sind
daher das größte Hindernis
bei der Herstellung einer SiC-Halbleitervorrichtung
mit großer
Kapazität (große Stromstärke und
hoher Spannungswiderstand) bei einer großen Ausbeute.
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Wenn
homoepitaxiales Wachstum von SiC unter Verwendung eines gewöhnlichen
SiC-Substrats mit einer SiC {0001}-Ebene oder mit einem Off-Winkel
von einigen Grad von dieser Ebene durchgeführt wird, kann atomare Stufenbündelung
an der Kristalloberfläche
auftreten. Wenn das Ausmaß dieser
Stufenbündelung
groß ist,
kommt es zu einer Erhöhung
der Oberflächenrauigkeit
der epitaxialen SiC-Wachstumsschicht, und die Ebenheit leidet Schaden
an der Metall-Oxid-Halbleiter (MOS)-Grenzfläche, so dass es zu einer Abnahme der
Inversionsschicht-Kanalmobilität
des MOS-Feldeffekttransistors
(MOSFET) kommt. Ebenheit leidet auch Schaden an einer pn-Anschluß- oder
Schottky-Grenzfläche,
Feldbündelung
tritt an der Anschlussgrenzfläche
auf, und dies führt
zu Problemen, wie verringerter Spannungswiderstand und erhöhter Kriechstrom.
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Es
gibt eine Vielzahl an Kristallpolymorphen von SiC. Unter diesen
hat der 4H-Polytyp (4H-SiC) hohe Mobilität und seine Donor- und Akzeptor-Ionisierungsenergie
ist niedrig, was bedeutet, dass dies ein idealer SiC-Polytyp für die Herstellung
von SiC-Halbleitervorrichtungen sein kann. Nichtsdestotrotz ist,
wenn ein Inversionstyp von MOSFET hergestellt wird, unter Verwendung
einer epitaxialen Wachstumsschicht über einem Substrat mit einer 4H-SiC
{0001}-Ebene, oder
versehen mit einem Off-Winkel von 3 bis 8° aus dieser Ebene, die Kanalmobilität extrem
niedrig, etwa 1 bis 20 cm2/Vs, und dies
verhindert, dass ein Hochleistungstransistor erhalten wird.
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Um
diese Probleme zu lösen,
offenbart die japanische Patentveröffentlichung 2,804,860 die Durchführung von
Wachstum durch das modifizierte Rayleigh-Verfahren unter Verwendung
von Impfkristallen mit einer anderen Ebene als der (0001) von SiC,
wie eine (1-100)-Ebene, so dass ein SiC-Ingot mit weniger Mikroröhrchen erhalten
wird. Wenn epita×iales
Wachstum über
einer SiC (1-100)-Ebene durchgeführt
wird, kann dies jedoch in Stapelfehler resultieren, die planare
Defekte sind, die während des
Wachstums auftreten, wodurch es schwierig ist, SiC-Einkristalle
zu erhalten, die eine Qualität
besitzen, die hoch genug ist für
die Herstellung von Halbleitervorrichtungen.
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Zusätzlich zur
Verwendung eines SiC (1-100)-Substrats richtete sich die Forschung
in den letzten Jahren auch auf die Herstellung von SiC-Wafern unter
Verwendung eines 6H-Polytyp-SiC (11-20)-Substrats.
Wenn dieses 6H-Polytyp-SiC (11-20)-Substrat verwendet wird, erreichen
Mikroröhrchen
und Schraubenversetzungen, die sich in axialer <0001>-Richtung
ausdehnen, die epitaxiale Schicht auf dem Substrat nicht, was eine
Verringerung der Mikroröhrchendefekte
innerhalb dieser epitaxialen Schicht erlaubt.
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Die
europäische
Patentanmeldung
EP 1 243 674 offenbart
ein Verfahren zum Wachstum eines 4H-Polytyp-SiC-Einkristalls, worin
eine SiC-Schicht durch chemische Dampfabscheidung über ein 4H-Polytyp-SiC-Substrat
gewachsen wird, wobei die Orientierung der Kristallebene im wesentlichen {03-38}
ist, und eine aktive Schicht, zusammengesetzt aus SiC, durch chemische
Dampfabscheidung dieser Pufferschicht, sowie den Einkristall, erhalten durch
dieses Verfahren. Diese Anmeldung wurde veröffentlicht nach dem Anmeldungstag
der vorliegenden Erfindung.
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JP
03/171772 betrifft einen Transistor, umfassend einen Kollektor,
eine Basis und einen Emitter. Die Basisschicht und die Emitterschicht
sind gebildet durch epitaxiales 4H-SiC Schichtwachstum auf einer
Oberfläche
eines 4H-SiC-Substrats.
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OFFENBARUNG
DER ERFINDUNG
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Die
folgenden Probleme sind jedoch mit SiC-Wafern, hergestellt unter
Verwendung des oben erwähnten
6H-Polytyp-SiC (11-20)-Substrats,
aufgetreten. Wenn eine epitaxiale SiC-Schicht über ein konventionellen SiC
(11-20)-Substrat gewachsen wird, entwickelt sich Spannung an der
Grenzfläche zwischen
der epitaxialen SiC-Wachstumsschicht und dem SiC-Substrat aufgrund von Gitterversatz,
der auf den Unterschied der Verunreinigungsdichten zurückführbar ist.
Diese Spannung beeinträchtigt
die Kristallinität
der epitaxialen Wachstumsschicht und erschwert die Bemühungen,
eine epitaxiale SiC-Wachstumsschicht mit hoher Qualität herzustellen.
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Ferner
wird die Anisotropie der Elektronenmobilität ein Problem, wenn eine Vorrichtung
hergestellt wird unter Verwendung eines 6H-Polytyp-SiC (11-20)-Substrats.
Speziell ist unter den 6H-SiC-Kristallen die Elektronenmobilität in axialer <0001>-Richtung nur etwa
20 bis 30 % der Mobilität
in den <1-100>- und <11-20>-Richtungen. Dementsprechend
ist die Anisotropie für
das elektrische Leitvermögen
in der Ebene einer Wachstumsschicht auf eine 6H-SiC (11-20)-Ebene
drei- bis fünfmal größer. Noch
ein anderes Problem besteht darin, dass die Stapelfehler dazu neigen,
auf der Oberfläche
im Fall der (1-100)-Ebene oder (11-20)-Ebene exponiert zu sein.
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Die
vorliegende Erfindung wurde erzielt im Lichte dieser Situation und
eine Aufgabe davon besteht drin, einen SiC-Wafer bereitzustellen, mit dem weniger
Anisotropie hinsichtlich Elektronenmobilität auftritt, wenn er als eine
Halbleitervorrichtung verwendet wird, und weniger Spannung zwischen
dem SiC-Substrat und der epitaxialen SiC-Wachstumsschicht durch Gitterversatz
verursacht wird, sowie eine Halbleitervorrichtung bereitzustellen,
die mit diesem Wafer ausgestattet, und ein Verfahren zur Herstellung
eines SiC-Wafers.
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Um
die angegebene Aufgabe zu erzielen, ist der SiC-Wafer gemäß der vorliegenden
Erfindung dadurch gekennzeichnet, dass er ein 4H-Polytyp-SiC-Substrat
umfasst, in dem die Kristallebenenorientierung im wesentlichen {03-38}
ist; eine Pufferschicht, zusammengesetzt aus SiC, gebildet durch chemische
Dampfabscheidung über
dem SiC-Substrat; und eine aktive Schicht, zusammengesetzt aus SiC,
gebildet durch chemische Dampfabscheidung über der Pufferschicht; und
worin die Dicke der Pufferschicht mindestens 0,1 μm aber nicht
mehr als 15 μm
beträgt.
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Außerdem ist
das Verfahren zur Herstellung eines SiC-Wafers gemäß der vorliegenden
Erfindung dadurch charakterisiert, dass eine Pufferschicht, zusammengesetzt
aus SiC, durch chemische Dampfscheidung über ein 4H-Polytyp-SiC-Substrat
gewachsen wird, worin die Kristallebenenorientierung im wesentlichen
{03-38} ist; und dass eine aktive Schicht, zusammengesetzt aus SiC,
ferner durch chemische Dampfabscheidung über die Pufferschicht gewachsen
wird, und worin die Dicke der Pufferschicht mindestens 0,1 μm aber nicht
mehr als 15 μm.
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In
dem oben erwähnten
SiC-Wafer und dem Verfahren zur Herstellung dieses Wafers wird ein SiC-Substrat
verwendet, worin die Kristallebenenorientierung im wesentlichen
{03-38} ist. Hier ist die {03-38}-Ebene um etwa 35° zur axialen <0001>-Richtung, in die sich
die Mikroröhrchen
und Schraubenversetzungen ausdehnen, geneigt. Sogar wenn eine aktive
SiC-Schicht über
diesen SiC-Wafer epitaxial aufgewachsen wird, erreichen die Mikroröhrchen und
Schraubenversetzungen die Seiten und werden als eine Folge der Neigung
eliminiert, und dies unterdrückt
die Anzahl an Mikroröhrchen und
Schraubenversetzungen, die zur anderen Seite hindurch verlaufen,
sowie die Anzahl, die an der Oberfläche vorliegen.
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Auch
das Auftreten von Stapelfehlern kann stark unterdrückt werden,
wenn eine epitaxiale Wachstumsschicht über der SiC {03-38}-Ebene hergestellt
wird. Diese Stapelfehler treten in einer planaren Richtung auf,
die senkrecht zu axialen <0001>-Richtung verläuft, aber die {03-38}-Ebene
ist um etwa 55° zur
Ebene, in der diese Stapelfehler auftreten, geneigt. Daher liegen
weniger Stapelfehler, die mit diesem SiC-Wafer auftreten, an der
Oberfläche
des Wafers, ebenso wie oben, vor.
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Da
ein 4H-Polytypsubstrat verwendet wird, das weniger Anisotropie der
Elektronenmobilität
besitzt als ein 6H-Polytyp-SiC-Substrat,
gibt es eine Verringerung der Anisotropie der Elektronenmobilität in der
aktiven Schicht, die über
dem SiC-Wafer gewachsen ist. Da eine Pufferschicht, zusammengesetzt
aus SiC, über
einem SiC-Wafer gebildet ist, kann ferner, wenn eine aktive SiC-Schicht über den SiC-Wafer
der vorliegenden Erfindung gewachsen wird, das Auftreten von Spannung
in dieser aktiven SiC-Schicht aufgrund von Gitterfehlanpassung zwischen
dem SiC-Substrat und der aktiven SiC-Schicht verhindert werden.
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Mit
einem strukturierten SiC-Wafer, wie oben beschrieben, der Gebrauch
macht von einem 4H-Polytyp-SiC-Substrat mit einer Kristallebenenorientierung
von im wesentlichen {03-38}, und mit dem Verfahren zur Herstellung
dieses Wafers ist damit das Ergebnis ein SiC-Wafer, der geringere
Anisotropie der Elektronenmobilität aufweist, und weniger Spannung
wird verursacht durch Gitterfehlanpassung zwischen dem SiC-Substrat und der
epitaxialen SiC-Wachstumsschicht. Eine SiC-Halbleitervorrichtung, ausgestattet
mit einem derartigen SiC-Wafer wird
von hoher Qualität
sein.
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Die
Ebene, die für
das SiC-Substrat verwendet wird, ist nicht auf die {03-38}-Ebene
limitiert, und derselbe Effekt der Reduzierung der Anzahl von Mikroröhrchen und
Schraubenversetzungen, die bis zur anderen Seite reichen, die Unterdrückung von
Stapelfehlern usw. kann auch erreicht werden, wenn die Ebene zur
{03-38}-Ebene um einen speziellen Off-Winkel α geneigt ist. Günstige epitaxiale
Kristalle können
erhalten werden, wenn dieser Off-Winkel α innerhalb eines Bereiches von
etwa 10° ist.
Es ist bevorzugt, dass dieser Off-Winkel α nicht größer als 5° ist. Ein Off-Winkel α von 3° oder weniger
ist noch besser.
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KURZE BESCHREIBUNG
DER ABBILDUNGEN
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1 ist
eine Seitenansicht, die die Struktur in einer Ausführungsform
eines SiC-Wafers veranschaulicht;
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2 ist
ein Diagramm, das die {03-38}-Ebene von 4H-SiC veranschaulicht;
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3 ist
ein schematisches Diagramm, das die Mikroröhrchen und Schraubenversetzungen
in einem SiC-Substrat veranschaulicht;
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4A bis 4C sind
Graphen eines Oberflächenzustandes
einer aktiven SiC-Schicht, gewachsen über verschiedenen SiC-Substraten;
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5 ist
ein Graph der Beziehung zwischen der Dicke der Pufferschicht und
dem FWHM einer Röntgen-Rocking-Kurve;
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6 ist
eine Seitenansicht, die die Struktur einer SiC-Schottky-Diode veranschaulicht;
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7 ist
ein Graph der Stromstärke-Spannungs-Charakteristiken
einer Schottky-Diode, hergestellt unter Verwendung einer aktiven
SiC-Schicht, die auf einem 4H-SiC (0-33-8)-Substrat gewachsen ist;
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8 ist
ein Graph der Beziehung zwischen Spannungswiderstand und Elektrodenoberfläche einer
4H-SiC-Schottky-Diode;
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9 ist
eine Seitenansicht, die die Struktur eines MOSFET veranschaulicht;
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10 ist
ein Graph der Stromstärke-Spannungs-Charakteristiken
eines MOSFET, hergestellt unter Verwendung einer aktiven SiC-Schicht,
die auf einem 4H-SiC (03-38)-Substrat
gewachsen ist; und
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11 ist
eine Tabelle der Kanalmobilität
eines MOSFET, hergestellt unter Verwendung einer Vielzahl von SiC-Substraten.
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BESTE WEISE
ZUR DURCHFÜHRUNG
DER ERFINDUNG
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Bevorzugte
Ausführungsformen
des SiC-Wafers, der SiC-Halbleitervorrichtung
und des SiC-Wafer-Herstellungsverfahrens,
betreffend die vorliegende Erfindung, werden nun im Detail beschrieben
durch Bezugnahme auf die angefügten Abbildungen. Ähnliche
Elemente werden identisch bezeichnet und werden nicht redundant
beschrieben.
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Die
Gitterrichtung und Gitterebene von Kristallen wird manchmal in der
Beschreibung von Ausführungsformen
und Beispielen erwähnt,
und daher wird die Schreibweise, die für die Gitterrichtung und Gitterebene
verwendet wird, hier beschrieben. Eine einzelne Richtung wird bezeichnet
durch [ ], eine Klasse von Richtungen durch < >,
eine einfache Ebene durch ( ) und eine Familie von Ebenen durch
{ }. Negative Indizes werden bezeichnet, indem in der Kristallographie
ein Balken ("-") über einer
Zahl verwendet wird, aber der Einfachheit halber der Anfertigung
dieser Beschreibung wird ein negatives Zeichen vor eine Zahl gestellt.
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1 ist
eine Seitenansicht, die die Struktur in einer Ausführungsform
eines SiC-Wafers 1, betreffend die vorliegende Erfindung,
darstellt. Der SiC-Wafer 1 umfasst ein 4H-SiC {03-38}-Substrat 2, das
ein 4H-Polytyp ist (das H steht für hexagonal, und die 4 bezeichnet
eine Kristallstruktur, in der vier Atomlagen eine Periode ausmachen),
eine Pufferschicht 4, die zusammengesetzt ist aus SiC und
gebildet ist über
diesem 4H-SiC {03-38}-Substrat 2, und eine aktive Schicht 6,
zusammengesetzt aus SiC, verwendet für die Vorrichtungsherstellung
und gebildet über
der Pufferschicht 4. Der Leitfähigkeitstyp der Schichten 2 bis 6 kann
so sein, dass alle drei vom n-Typ sind, oder sie können alle
vom p-Typ sein. Die Leitfähigkeit
kann auch von Schicht zu Schicht variieren, abhängig von der Vorrichtungsstruktur,
die verwendet werden soll.
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Die
{03-38}-Ebene eines 4H-SiC-Einkristalls wird nun durch Bezugnahme
auf 2 beschrieben. Wie in der Abbildung gezeigt, ist
die {03-38}-Ebene um etwa 55° (54,74°) zur {0001}-Ebene
geneigt, und daher ist sie um etwa 35° (35,26°) zur axialen <0001>-Richtung geneigt.
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Die
4H-SiC {03-38}-Ebene ist polar, wie in 2 gezeigt,
und es gibt eine (03-38)-Ebene in der Nähe der (0001)-Si-Ebenenseite und eine (0-33-8)-Ebene
in der Nähe
der (000-1)-C-Ebenenseite.
Die Substratebene kann entweder die (03-38)-Ebene oder die (0-33-8)-Ebene sein.
Es muss jedoch acht gegebene werden, weil die bevorzugten Wachstumsbedingungen
ein wenig mit der Kristallebenenorientierung variieren.
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Die
Kristallebenenorientierung des 4H-SiC {03-38}-Substrats 2 kann
ein wenig zur {03-38}-Ebene geneigt sein. Speziell kann derselbe
Effekt wie mit der {03-38}-Ebene, wie unten beschrieben, unter der Verwendung
einer Ebene, die zur {03-38}-Ebene um einen speziellen Off-Winkel α geneigt
ist, erhalten werden. Ein bevorzugtes SiC-Substrat 2 kann
erhalten werden, indem dieser Off-Winkel α innerhalb eines Bereiches von
etwa 10° oder
weniger gehalten wird. Es ist bevorzugt, dass dieser Off-Winkel α 5° oder weniger
ist, und 3° oder
weniger ist noch besser.
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Als
nächstes
wird das Verfahren zur Herstellung des SiC-Wafers 1 in dieser Ausführungsform
beschrieben. Das 4H-SiC {03-38}-Substrat 2 wird z.B. hergestellt
durch Wachsen eines Ingots durch ein modifiziertes Rayleigh-Verfahren
auf der 4H-SiC (000-1)-Ebene,
Schneiden dieses Ingots, so dass er einen Winkel von 35° in <1-100>-Richtung in Bezug auf
die Wachstumsrichtung besitzt und dann Hochglanzpolieren des Schnittes.
Alternativ kann ein 4H-SiC {03-38}-Ingot gewachsen werden durch
ein modifiziertes Rayleigh-Verfahren unter Verwendung von 4H-SiC
{03-38}-Kristallen, hergestellt wie oben aus Impfkristallen, und
dann Schneiden dieses Ingots senkrecht zur Wachstumsrichtung.
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Hier
sollte die Dicke des 4H-SiC {03-38}-Substrats 2 innerhalb
eines Bereiches von etwa 150 μm
bis etwa 400 μm
liegen. Die effektive Donordichte oder die effektive Akzeptordichte
sollte innerhalb eines Bereiches von etwa 5 × 1017 cm–3 bis etwa
5 × 1019 cm–3 sein.
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Das
4H-SiC {03-38}-Substrat 2 bekommt dann einen Hochglanzabschluss,
wonach die Pufferschicht und die aktive Schicht 6 epitaxial
durch chemische Dampfabscheidung (CVD) gewachsen werden, was ausgezeichnete
Oberflächenebenheit
in den Wachstumsschichten und ausgezeichnete Kontrolle der Filmdicke
und des Verunreinigungsdotierens erfordert. Spezieller wird zunächst das
4H-SiC {03-38}-Substrat 2 mit einem organischen Lösungsmittel,
Königswasser,
Flusssäure
oder dgl. gewaschen, dann mit entionisiertem Wasser gewaschen, auf
einen mit einem SiC-Film bedeckten Graphitsuszeptor gestellt und
in einen CVD-Wachstumsapparat platziert. Dieses CVD-Wachstum wird
durchgeführt
in einem horizontalen Normaldruck-CVD-Apparat, in dem Wasserstoff
(H2) als Trägergas
verwendet wird, und das Erwärmen
des Suszeptors wird erzielt durch Hochfrequenzinduktionsheizen.
Nachdem das 4H-SiC {03-38}-Substrat 2 in einen Reaktionsofen platziert
wurde, werden Gasaustausch und Hochvakuumevakuierung einige Male
wiederholt, und das H2-Trägergas wird
eingeleitet und das CVD-Wachstumsprogramm gestartet.
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Zuerst
wird Dampfphasenätzung
mit HCl/H2-Gas bei etwa 1.300°C durchgeführt, danach wird
die Temperatur des 4H-SiC {03-38}- Substrats 2 auf etwa 1.500°C erhöht, das
Rohmaterialgas (Silan (SiH4), Propan (C3H8) oder dgl.) eingeleitet
und das Wachstum der Pufferschicht 4 und der aktiven Schicht 6 gestartet.
Mit dem CVD-Wachstum wird die n-Typ-SiC-Pufferschicht 4 mit einer effektiven
Donordichte von etwa 1016 cm–3 bis
etwa 1019 cm–3 in
einer Dicke von etwa 0,1 μm
bis etwa 15 μm
gewachsen, danach wird die aktive Schicht 6 vom n-Typ mit
einer effektiven Donordichte von etwa 1014 cm–3 bis
etwa 1016 cm–3 in
einer Dicke von etwa 5 μm
bis etwa 80 μm
gewachsen. Die Zugabe von Stickstoffgas während des Wachstums kontrolliert
die n-Typ-Leitfähigkeit.
Dasselbe trifft zu für
die Bildung einer p-Typ-Wachstumsschicht, wobei in diesem Fall Trimethylaluminium
(Al(CH3)3) oder
Diboran (B2H6) als ein
Verunreinigungsrohmaterial zugegeben wird.
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Die
Dicke der Pufferschicht 4 ist mindestens 0,1 μm und nicht
mehr als 15 μm,
wobei mindestens 0,3 μm
und nicht mehr als 15 μm
besonders bevorzugt ist. Es ist bevorzugt, dass die Verunreinigung, die
in der Pufferschicht 4 enthalten ist, ausgewählt ist aus
Stickstoff, Phosphor, Aluminium und Bor. Die Verunreinigungsdichte
in der Pufferschicht 4 ist bevorzugt niedriger als die
Verunreinigungsdichte in dem SiC-Substrat 2 und
erniedrigt sich bevorzugt schrittweise von der Grenzfläche mit
dem SiC-Substrat 2 in Richtung der Grenzfläche mit
der aktiven Schicht 6.
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Als
nächstes
wird der Effekt des SiC-Wafers 1 in dieser Ausführungsform
unter Bezugnahme auf 3 beschrieben. Gewöhnlich liegen
Mikroröhrchen
und Schraubenversetzungen in einem SiC-Substrat vor, und diese Mikroröhrchen usw.
verlaufen in axialer <0001>-Richtung des SiC-Substrats. In 3 bezeichnen
die Einpunkt-Strichlinien Mikroröhrchen 8 in
dem SiC-Substrat 2, während
die gestrichelten Linien Schaubenversetzungen 10 bedeuten.
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Im
Unterschied dazu wird ein SiC-Substrat 2 mit einer Kristallebenenorientierung
von {03-38} mit dem SiC-Wafer 1 in dieser Ausführungsform
verwendet. Diese {03-38}-Ebene ist um etwa 35° zur axialen <0001>-Richtung, in der die
Mikroröhrchen 8 und Schaubenversetzungen 10 verlaufen,
geneigt. Daher verlaufen, wenn eine Wachstumsschicht auf diesem 4H-SiC
{03-38}-Substrat 2 hergestellt wird, diese Mikroröhrchen 8 und
Schraubenversetzungen 10 mit einem Winkel und werden an
den Kristallseitenebenen eliminiert, ohne die Wachstumsschicht zu
erreichen, wodurch verhindert wird, dass sie durch die aktive Schicht 6 verlaufen
und dadurch an der Oberfläche auftreten.
Dementsprechend gibt es weniger Defekte in der aktiven Schicht 6 und
ihre Ebenheit ist besser.
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Außerdem kann
das Auftreten von Stapelfehlern stark verringert werden, wenn die
epitaxiale Wachstumsschicht auf dem 4H-SiC {03-38}-Substrat 2 hergestellt
wird. Ferner treten diese Stapelfehler in einer planaren Richtung
auf, die senkrecht zur axialen <0001>-Richtung ist, aber
die {03-38}-Ebene
ist um etwa 55° zur
Ebene, in der diese Stapelfehler auftreten, geneigt, so dass weniger
der auftretenden Stapelfehler an der Oberfläche erscheinen, ebenso wie
oben.
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Diese
Ausführungsform
macht Gebrauch von einem 4H-Polytyp, der weniger Anisotropie der Elektronenmobilität besitzt
als das 6H-Polytyp-SiC-Substrat oder dgl., so dass es eine Verringerung
in der Anisotropie der Elektronenmobilität in der aktiven Schicht 6,
die auf den SiC-Wafer 1 gewachsen ist, gibt. Die Mischung
von anderen Polytypen wird außerdem
vollständig
verhindert. Ferner kann, da die Pufferschicht 4, zusammengesetzt
aus SiC, über
dem SiC-Substrat 2 gebildet ist, das Auftreten von Spannung
aufgrund von Gitterfehlanpassung zwischen dem SiC-Substrat 2 und
der aktiven SiC-Schicht 6 in dieser aktiven SiC-Schicht 6 verhindert
werden.
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Die
sorgfältige
Forschung der Erfinder hat auch offenbart, dass, wenn die Dicke
der Pufferschicht 4 mindestens 0,1 μm ist, und insbesondere wenn
sie mindestens 0,3 μm
ist, Spannung, die durch Gitterfehlanpassung hervorgerufen wird,
effektiv reduziert werden kann, wodurch bessere Kristallinität der aktiven
Schicht 6 erzielt wird. Ferner wird das Beibehalten der
Dicke der Pufferschicht 4 auf 15 μm oder weniger die Wachstumszeit
und Kosten reduzieren.
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Es
ist bevorzugt, dass die Dichte der Verunreinigungen, die in der
Pufferschicht 4 enthalten sind, mindestens 2 × 1015 cm–3 aber nicht mehr als
3 × 1019 cm–3 ist. Der Grund dafür, dass
die Dichte der Verunreinigungen, die in der Pufferschicht 4 enthalten
sind, auf diesen Bereich eingestellt wird, liegt darin, dass, wenn
die Verunreinigungsdichte geringer als 2 × 1015 cm–3 ist,
lediglich eine minimale Reduzierung der Spannung, hervorgerufen
durch Gitterfehlanpassung, erreicht wird, aber wenn die Dichte größer als 3 × 1019 cm–3 ist, beeinflusst diese
hohe Konzentrationsdotierung die Kristallinität der Pufferschicht 4 nachteilig.
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Verschiedene
SiC-Halbleitervorrichtungen können
hergestellt werden unter Verwendung des SiC-Wafers 1 dieser
Ausführungsform.
Z.B. kann solch eine SiC-Halbleitervorrichtung
so aufgebaut sein, dass die Oberfläche eine Schottky-Grenze aus Metall/SiC
besitzt oder einen pn-Anschluss,
gebildet durch epitaxiales Wachstum oder Ionenimplantation. Die
Vorrichtung kann auch ein MOS-Typ mit einem Oxidfilm, gebildet durch
thermische Oxidation oder chemische Dampfabscheidung, als ein Gate-Isolationsfilm
sein oder kann einen Oxidfilm als Teil eines Oberflächenschutzfilms
aufweisen, der durch thermische Oxidation oder chemische Dampfabscheidung gebildet
wird.
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Wie
oben diskutiert, besitzt der SiC-Wafer 1 sehr kleine Anisotropie
der Elektronenmobilität,
und fast keine Spannung wird durch Gitterfehlanpassung zwischen
dem SiC-Substrat 2 und der aktiven Schicht 6 verursacht,
so dass diese Halbleitervorrichtung sehr hohe Leistung bietet.
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Spezieller
ist die Oberflächenebenheit
der aktiven Schicht 6 besonders gut, so dass es eine deutliche
Reduzierung der Feldkonzentration bei einem pn-Anschluss, gebildet
durch epitaxiales Wachstum, gibt oder einer Schottky-Grenzfläche, gebildet
auf der epitaxialen Wachstumsoberfläche, wodurch es leichter wird,
den Spannungswiderstand der Vorrichtung zu erhöhen. Darüber hinaus gibt es weniger
atomare Bindungen pro Oberflächeneinheit
in SiC {03-38}-Ebene als in der {0001}-SiC-Ebene, so dass es eine Reduzierung
in dem Grenzflächeniveau an
einer Oxidfilm/SiC-MOS-Grenzfläche
gibt, wodurch es möglich
ist, eine MOS-Grenzfläche
mit hoher Qualität
herzustellen, und einen MOS-Transistor mit höherer Leistung gestattet.
-
Zusätzlich zu
den oben erwähnten
weist die 4H-SiC {03-38}-Ebene
verschiedene andere Vorteile bezüglich
der Charakteristiken und des Verfahrens zu Herstellung auf.
-
Vor
allem erreichen Kristalle, in denen die 4H-SiC {03-38}-Ebene verwendet wird,
ihre Kristallinität
leichter durch Wärmebehandlung
(Tempern).
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Wenn
Halbleiter-Einkristalle Ionenimplantation unterzogen werden, erleiden
sie gewöhnlich
einen Implantationsschaden, so dass Wärmebehandlung (Tempern) durchgeführt werden
muss, um die beschädigte
Kristallinität
wiederherzustellen. Im Fall von SiC wird dieses Tempern durchgeführt bei
einer hohen Temperatur von 1.500 bis 1.700°C, um die elektrische Aktivierung
der ionenimplantierten Verunreinigungen ausreichend zu erhöhen.
-
Wenn
ein vollständig
amorpher Bereich durch Ionenimplantation in dem SiC gebildet wird, kann
die Kristallinität
nicht adäquat
wieder hergestellt werden. Selbst wenn Hochtemperaturtempern durchgeführt wird.
Folglich wird, wenn die Implantationsdosis groß und die Implantationsenergie
hoch ist, Hochtemperaturimplantation durchgeführt, bei der die Probe während der
Ionenimplantation erwärmt
wird. Sowohl Hochtemperaturtempern nach Ionenimplantation als auch
Hochtemperaturimplantation auferlegen jedoch der Herstellung der
Vorrichtung verschiedene Beschränkungen.
Sie erhöhen
auch die Herstellungskosten.
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Diese
Probleme mit Hochtemperaturtempern und Hochtemperaturimplantation
sind besonders ausgeprägt,
wenn die {0001}-SiC-Ebene oder eine Ebene, die dieser nahe ist,
verwendet wird. Im Gegensatz dazu ermöglicht die oben erwähnte 4H-SiC {03-38}-Ebene
die Lösung
der oben erwähnten
Probleme, die bei SiC angetroffen werden.
-
Wenn
z.B. Proben der 4H-SiC {0001}-Ebene und der 4H-SiC {03-38}-Ebene sowohl
getempert als auch unter denselben Bedingungen ionenimplantiert werden,
kann mit der Probe der 4H-SiC {03-38}-Ebene ausreichende elektrische
Aktivierung erzielt werden durch Tempern bei einer Temperatur, die
200 bis 400°C
niedriger ist als mit der Probe der {0001}-ebene. Es wurde gefunden,
dass, wenn ein vollständig amorpher
Bereich durch Ionenimplantation aufgrund der großen Implantationsdosis oder
aus einem anderen Grund gebildet wird, mit der 4H-SiC {03-38}-Ebene
die Rekristallisation problemlos fortschreitet und eine Zurückgewinnung
von 4H-SiC {03-38}-Einkristallen von guter Qualität durch
Tempern bei 1.000 bis 1.500°C
erreicht wird.
-
Es
wird angenommen, dass die oben erwähnten Probleme mit Ionenimplantation
und Tempern die Rekristallisationseffizienz vermindern, weil, wenn
die SiC <0001>-Ebene verwendet wird,
die Nukleation von kubischem 3C-SiC, das bei niedrigen Temperaturen
stabil ist, während
der Rekristallisation auftritt und Stapelfehler auftreten können. Im
Gegensatz dazu, wenn die 4H-SiC {03-38}-Ebene verwendet wird, gibt
es nahezu keine Möglichkeit
zur 3C-SiC-Nukleation oder dgl., und gute Rekristallisation kann
daher erzielt werden, sogar bei einer relativ niedrigen Temperatur.
-
Außerdem haben
Kristalle, in denen die 4H-SiC {03-38}-Ebene verwendet wird, bessere Spaltbarkeit.
-
4H-SiC
{03-38}-Kristalle spalten leicht in den <0001>-
und <03-316>-Richtungen, die senkrecht zueinander
sind. Nachdem verschiedene Vorrichtungsstrukturen hergestellt wurden,
ist daher das Abtrennen in quadratische, rechteckige oder andere Formen
extrem einfach. Dies steht in scharfem Kontrast zu {0001}-SiC-Kristallen,
die sehr schwierig zu spalten sind und die dreieckig werden können, wenn sie
gespalten werden. Kristalle, in denen die 4H-SiC {03-38}-Ebene verwendet
wird, haben die folgenden Charakteristiken in Bezug auf Verunreinigungsdotierung.
-
Wachstumsexperimente
wurden durchgeführt
mit CVD, wodurch sich zeigte, dass die Effizienz, mit der eine Verunreinigung
eingebaut wird, von der Kristallebenenorientierung des Substrats
abhängt.
Spezieller ausgedrückt
hat die Einbaueffizienz von Stickstoff die folgende Reihenfolge.
(000-1) > (0-33-8) > (03-38) > (0001)
-
Die
Einbaueffizienz von Aluminium und Bor hat die folgende Reihenfolge.
(0001) > (03-38) > (0-33-8) > (000-1)
-
Durch
diese Ergebnisse wurde gefunden, dass die (0001)-Si-Ebene am leichtesten
p-Typ wird, und die (000-1)-C-Ebene am leichtesten n-Typ wird. Im
Gegensatz dazu liegt die Verunreinigungseinbaueffizienz hinsichtlich
der (03-38)-Ebene und (0-33-8)-Ebene dazwischen. Daher können mit
der (03-38)-Ebene
und der (0-33-8)-Ebene Vorrichtungen hergestellt werden unter Aufrechterhaltung
guter Kontrolle über
n-Typ- und p-Typ-Leitfähigkeit.
Spezieller ist es durch Variieren der Bedingungen, wie die Menge
des zugegebenen Verunreinigungsrohmaterials, das Verhältnis des
Rohmaterialgasflusses (wie das C/Si-Verhältnis) und die Wachstumstemperatur, möglich, Valenzelektronenkontrolle über einen
weiten Bereich von etwa 1 × 1014 cm–3 bis 5 × 1019 cm–3 für sowohl n- als auch p-Typen
leicht zu erreichen.
-
Beispiele
werden nun für
die obige Ausführungsform
gegeben, aber die vorliegende Erfindung ist nicht darauf oder durch
die unten angegebenen Beispiele limitiert.
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[BEISPIEL 1]
-
Beispiel
1 wird beschrieben unter Bezugnahme auf die 1. In diesem
Beispiel wurde eine aktive Schicht 6 vom n-Typ durch chemische
Dampfabscheidung (CVD) über
ein n-Typ-4H-SiC {03-38}-Substrat 2 gewachsen, um zu überprüfen, wie
viele Mikroröhrchen
und Schraubenversetzungen von dem SiC-Substrat zur aktiven SiC-Schicht verlaufen,
und die Ebenheit der Oberfläche
der aktiven Schicht 6 zu überprüfen. Für das 4H-SiC {03-38}-Substrat 2 wurde
die aktive Schicht sowohl auf ein 4H-SiC (03-38)-Substrat als auch
ein 4H-SiC (0-33-8)-Substrat
aufgewachsen. Für
Vergleichszwecke wurde die aktive Schicht gleichzeitig auf Substrate
aufgewachsen, in denen die planare Richtung die 4H-SiC (1-100)-Ebene
war sowie eine Ebene, die 8° von
der (0001)-Ebene (<11-20>-Richtung) abwich (im
folgenden „8°-Off"), und diese Produkte
wurden bewertet.
-
Die
4H-SiC (03-38)-, (0-33-8)- und (1-100)-Substrate werden hergestellt
durch Wachsen eines Ingots durch ein modifiziertes Rayleigh-Verfahren
auf ein 4H-SiC (000-1)-Substrat,
Schneiden dieses Ingots bei Winkeln von 55°, 55° und 90° in der <1-100>-Richtung
in Bezug auf die Wachstumsrichtung und Hochglanzpolieren der Schnitte.
Die Substrate waren alle vom n-Typ und die effektive Donordichte,
bestimmt durch Kapazität-Spannung-Charakteristiken
einer Schottky-Sperrschicht, war 1 × 1018 cm–3 bis
3 × 1018 cm–3, und die Dicke war
etwa 380 μm.
-
Diese
Substrate wurden mit geschmolzenem Kaliumhydroxid (KOH) für 10 Minuten
bei 500°C
geätzt,
und als ein Ergebnis wurde gefunden, dass Defekte in einer Mikroröhrchendichte
von etwa 10 cm–2 bis 100 cm–2 und
einer Schraubenversetzungsdichte von etwa 5 × 103 cm–2 bis
2 × 104 cm–2 vorlagen. Die (03-38)-,
(0-33-8)- und (1-100)-Ebenen wurden schrägem Polieren unterworfen, um
eine Ebene, die um etwa 10° von
der (0001)-Ebene
geneigt ist, zu erzeugen, diese Ebene wurde geätzt und dann untersucht, und
die Defektdichte wurde abgeschätzt.
-
Das
Substrat, das dem KOH-Ätzen
unterzogen wurde, wurde dann nochmals hochglanzpoliert, und CVD-Wachstum
wurde durchgeführt.
Diese Substrate wurden mit einem organischen Lösungsmittel, Königswasser
und Flusssäure
gewaschen und dann mit entionisiertem Wasser abgespült, auf
einem mit einem SiC-Film
bedeckten Graphitsuszeptor gestellt und in einen CVD-Wachstumsapparat
platziert. Gasaustausch und Hochvakuumevakuierung wurden einige
Male wiederholt, und das H2-Trägergas
wurde eingeleitet und das CVD-Wachstumsprogramm gestartet.
-
Zuerst
wurde Dampfphasenätzen
mit HCl/H2-Gas bei 1.300°C durchgeführt, danach wurde die Temperatur
auf 1.500°C
erhöht,
das Rohmaterialgas (Silan (SiH4), Propan
(C3H8) oder dgl.)
eingeleitet und das Wachstum gestartet. Mit CVD-Wachstum wurde eine
SiC-Pufferschicht vom n-Typ mit einer effektiven Donordichte von
3 × 1017 cm–3 bis 4 × 1017 cm–3 in einer Dicke von
2,6 μm gewachsen,
und anschließend
wurde eine aktive Schicht vom n-Typ mit einer effektiven Donordichte
von 1 × 1016 cm–3 bis 2 × 1016 cm–3 in einer Dicke von
12 μm gewachsen.
-
Die
n-Typ-Leitfähigkeit
wurde kontrolliert durch Zugabe von Stickstoffgas während des
Wachstums. Die wichtigsten Wachstumsbedingungen sind unten angegeben.
Da die Verunreinigungseinbaueffizienz zwischen der (0001)-Ebene
und der (03-38)-Ebene und der (0-33-8)-Ebene gewöhnlich unterschiedlich ist,
sollte der Dotierungsgasfluss mittels der Kristallebenenorientierung
des Substrats eingestellt werden.
-
Pufferschicht:
-
- SiH4-Fluss: 0,30 sccm
- C3H8-Fluss:
0,20 sccm
- N2-Fluss: 1 × 10–2 bis
6 × 10–2 sccm
- H2-Fluss: 3,0 slm
- Substrattemperatur: 1.500°C
- Wachstumszeit: 60 Minuten
-
Aktive Schicht:
-
- SiH4-Fluss: 0,50 sccm
- C3H8-Fluss:
0,50 sccm
- N2-Fluss: 3 × 10–3 bis
2 × 10–2 sccm
- H2-Fluss: 3,0 slm
- Substrattemperatur: 1.500°C
- Wachstumszeit: 180 Minuten
-
Die
Oberfläche
der epitaxial gewachsenen aktiven Schicht 6 wurde untersucht
unter einem optischen Differenzial- Interferenzmikroskop, wodurch sich zeigte,
dass eine Spiegeloberfläche
erhalten wurde auf den 4H (03-38)-, (0-33-8)- und (0001)-8°-Off-Substraten,
aber unebene Streifen oder Rillen, die partiell in der <11-20>-Richtung verliefen,
wurden auf dem 4H (1-100)-Substrat beobachtet. Diese Streifendefekte
auf dem 4H (1-100)Substrat wurden auch in der Wachstumsschicht auf
der 6H (1-100)-Ebene beobachtet. Das Auftreten dieser Streifendefekte
wurde ein wenig reduziert, wenn das CVD-Wachstum unter Wachstumsbedingungen
von niedriger Sättigung
(wie ein niedriger Rohmaterialgasfluss) durchgeführt wurde oder durch Optimierung
der Oberflächenbehandlung
des Substrat vor dem Wachstum, aber konnte nicht vollständig verhindert
werden.
-
Die
Oberfläche
der aktiven Schicht eines Substrates, das 15 × 20 mm maß, wurde ebenfalls untersucht
und die Dichte der Oberflächendefekte (nicht
notwendigerweise Versetzungen und andere strukturelle Defekte) wurde
abgeschätzt,
und es wurde gefunden, dass diese 4 × 102 cm–2 mit
dem 4H (03-38)-Substrat waren, 3 × 102 cm–2 mit
dem 4H (0-33-8)-Substrat, 8 × 103 cm–2 mit dem (1-100)-Substrat
und 2 × 103 cm–2 mit dem (0001)-8°-Off-Substrat, so dass die aktive
Schicht auf dem 4H {03-38}-Substrat
am besten war.
-
4A bis 4C sind
Graphen der Oberflächenformprofile,
erhalten durch Untersuchung mit einem Kraftmikroskop (AFM), wobei 4A die Oberflächenform
der aktiven Schicht auf einem 4H-SiC (0-33-8)-Substrat, 4B auf
einem 4H-SiC (1-100)-Substrat und 4C auf
einem 4H-SiC (0001)-8°-Off-Substrat zeigt.
-
Unter
diesen war die Oberfläche
der aktiven Schicht, gebildet auf dem (1-100)-Substrat, sehr rau, wie
in 4B gezeigt, sogar wenn ein Bereich ohne die oben
erwähnten
tiefen Rillen (etwa 100 bis 300 nm tief) ausgewählt wurde. Außerdem zeigt 4C, dass
stufenähnliche
Unebenheiten, die von atomarer Stufenbündelung herrühren, auf
der Oberfläche
der aktiven Schicht vorlagen, die auf dem (0001)-8°-Off-Substrat
gebildet wurde.
-
Im
Unterschied dazu wurden mit der aktiven Schicht, die auf dem 4H
(0-33-8)-Substrat gebildet wurde, wie in 4A gezeigt,
keine Rillen, Hügel, Stufen
oder dgl. Beobachtet, und es wurde eine Oberfläche mit extrem guter Ebenheit
erhalten. Ähnlich
wurde eine Oberfläche
mit guter Ebenheit auch mit dem 4H (03-38)-Substrat erhalten. Der
mittlere quadratische Fehler der Oberflächenrauigkeit (Rms) betrug,
wenn eine 2 × 2 μm große Fläche durch
AFM untersucht wurde, 0,18 bis 0,19 nm mit der aktiven Schicht,
die auf einem {03-38}-Substrat gebildet wurde, 6,4 nm auf dem (1-100)-Substrat und 0,24
nm auf dem (0001)-8°-Off-Substrat,
so dass die auf dem 4H {03-38}-Substrat gebildete aktive Schicht
am besten war.
-
Als
nächstes
wurden die strukturellen Defekte in der aktiven Schicht 6 durch Ätzen der
gewachsenen Probe mit geschmolzenem KOH untersucht. Mit der aktiven
Schicht auf dem (0001)-8°-Off-Substrat war
die Mikroröhrchendichte
18 cm–2 und
die Schraubenversetzungsdichte 8 × 103 cm–2,
die im wesentlichen identisch waren mit den Werten für das Substrat
vor dem Wachstum, und die Positionen der Vertiefungen, erzeugt durch Ätzen, entsprachen ebenfalls
gut denen vor dem Wachstum.
-
Zahlreiche
(1 × 105 cm–2) polygonale Vertiefungen
wurden beobachtet, wenn die aktive Schicht auf dem (1-100)-Substrat
geätzt
wurde, und die Streifendefekte, die auf der Oberfläche der
aktiven Schicht erschienen, wurden sogar noch tiefer. Diese streifenähnlichen
Rillen verliefen in der <11-20>-Richtung, und es wurde daher angenommen,
dass sie von Stapelfehlern herrührten.
Die Anzahl dieser Rillen, die durch geschmolzenes KOH tief geätzt wurden,
war 3 bis 8 cm-1 mit dem (1-100)-Substrat
vor dem Wachstum, aber erhöhte
sich auf zwischen 30 und 200 cm-1 nach dem
Wachstum. Es wird daher angenommen, dass CVD-Wachstum das Auftreten
neuer Stapelfehler verursacht, wenn eine aktive Schicht auf ein
(1-100)-Substrat
aufgewachsen wird.
-
Im
Unterschied dazu war, wenn die aktive Schicht, gewachsen auf einem
{03-38}-Substrat, mit geschmolzenem KOH geätzt wurde, die Dichte an polygonalen
Vertiefungen, die Versetzungen wiederspiegelten, nur etwa 2 × 103 cm–2, und die Stapelfehlerdichte
war nicht mehr als 5 cm–1. Außerdem war die
Mikroröhrchendichte,
bestimmt durch Ätzen
einer Ebene dieser Probe, die bei einem Winkel poliert worden war,
weniger als 1 cm–2 und die Schaubenversetzungsdichte
weniger als 100 cm–2.
-
Speziell
beschränkt
die Verwendung eines 4H-SiC {03-38}-Substrat die Anzahl an Mikroröhrchen und
Schraubenversetzungen, die vom Substrat her verlaufen, deutlich,
und dadurch wird ermöglicht, epitaxiale
SiC-Kristalle von
hoher Qualität
mit e×trem wenig
Stapelfehlern herzustellen. Dies liegt daran, wie oben erwähnt, dass
die Mikroröhrchen
und Schraubenversetzungen hauptsächlich
in der <0001>-Richtung der SiC-Kristalle
(siehe 3) verlaufen, so dass, wenn wir eine {03-38}-Ebene
(siehe 2) verwenden, die eine Kristallebene ist, die
einen Winkeln von etwa 35° zu
dieser Richtung bildet, Mikroröhrchen
oder Schraubenversetzungen, die in dem SiC-Substrat vorliegen, sich
mit einem Winkel ausbreiten und an den Kristallseitenebenen eliminiert werden,
ohne dass sie zur obigen aktiven Schicht ausdehnen. Derselbe Effekt
wird erzielt unter Verwendung einer Ebene, die zur {03-38}-Ebene
durch einen Off-Winkel α innerhalb
eines speziellen Bereiches, wie oben erwähnt, geneigt ist.
-
[BEISPIEL 2]
-
In
diesem Beispiel wurde, um den Effekt, den die Pufferschicht auf
die aktive Schicht hat, zu untersuchen, eine 4H-SiC-Pufferschicht
vom n-Typ in verschiedenen Dicken auf einem 4H-SiC {03-38}-Substrat
vom n-Typ gebildet, anschließend
wurde eine hochreine epitaxiale Dickfilmwachstumsschicht (die aktive
Schicht) gebildet, und die Kristallinität davon wurde bewertet. Das
hier verwendete SiC-Substrat 2 war ein 4H-SiC {03-38}-Substrat
vom n-Typ, hergestellt durch Schneiden eines 4H-SiC-Ingots, gewachsen
auf 4H-SiC {03-38}-Impfkristallen durch das modifizierte Rayleigh-Verfahren.
Die effektive Donordichte, bestimmt aus den Kapazität-Spannungs-Charakteristiken
einer Schottky-Sperrschicht,
war 7 × 1018 cm–3 bis 8 × 1018 cm–3, und die Dicke war
etwa 340 μm.
-
Eine
4H-SiC-Pufferschicht vom n-Typ mit einer Donordichte von 4 × 1017 cm–3 bis 5 × 1017 cm–3 wurde über diesem
SiC-Substrat 2 gebildet,
und anschließend
wurde eine hochreine 4H-SiC-Schicht vom n-Typ (Donordichte: 4 × 1015 cm–3) in einer Dicke von
etwa 24 μm
gewachsen. Die n-Typ-Leitfähigkeit wurde
kontrolliert durch Zugabe von Stickstoffgas während des Wachstums. SiC-Wafer,
in denen die Dicke der Pufferschicht zwischen 0,1 und 22 μm variiert
wurde, wurden hergestellt und für
Vergleichszwecke wurde außerdem
ein SiC-Wafer hergestellt, in dem eine hochreine aktive SiC-Schicht
direkt auf ein Substrat gewachsen wurde, ohne eine Pufferschicht
bereitzustellen. Derselbe CVD-Apparat, wie in Beispiel 1, wurde
für das
CVD-Wachstum verwendet.
-
Zuerst
wurde Dampfphasenätzen
mit HCl/H2-Gas bei 1.400°C
durchgeführt,
anschließend wurde
die Temperatur auf 1.560°C
erhöht,
das Rohmaterialgas wurde eingeleitet und Wachstum gestartet. Die
wichtigsten Wachstumsbedingungen sind hier unten angegeben.
-
Pufferschicht:
-
- SiH4-Fluss: 0,30 sccm
- C3H8-Fluss:
0,20 sccm
- N2-Fluss: 9 × 10–2 sccm
- H2-Fluss: 3,0 slm
- Substrattemperatur: 1.560°C
- Wachstumszeit: 3 bis 520 Minuten
-
Aktive Schicht:
-
- SiH4-Fluss: 0,50 sccm
- C3H8-Fluss:
0,66 sccm
- N2-Fluss: 6 × 10–3 sccm
- H2-Fluss: 3,0 slm
- Substrattemperatur: 1.560°C
- Wachstumszeit: 360 Minuten
-
5 ist
ein Graph, der in Bezug auf die aktive Schicht 6 eines
SiC-Wafers von 4H-SiC (03-38), der Pufferschichten mit verschiedenen
Dicken aufweist, die Pufferschichtdickenabhängigkeit der Diffraktions-Peak-Halbwertsbreite (FWHM),
bestimmt aus Röntgendiffraktions-Rocking-Kurvenmessung, zeigt.
Fünf-Kristall-Röntgendiffraktion mittels Ge-Einkristall
(400)-Diffraktion wurde für
die Röntgendiffraktion
verwendet, und die Kristallinität
der Probe wurde aus dem Halbwertsbreitenwert des SiC {03-38}-Diffraktionspeaks
(2θ = 47,4°) bestimmt.
Der Halbwertsbreitenwert des Diffraktionspeaks, erhalten durch Messen
eines 4H-SiC (03-88)-Substrats, war etwa 22 bis 28 arcsec und Bemittelt
25 arcsec. Dieser Mittelwert ist durch die gepunktete Linie in 5 angegeben.
-
Mit
der aktiven SiC-Wafer-Schicht 6, in der eine hochreine
SiC-Schicht vom n-Typ (24 μm)
direkt auf einem Substrat ohne die Verwendung einer Pufferschicht
gewachsen wurde, war der Halbwertsbreitenwert der Röntgen-Rocking-Kurve
28 arcsec, was schlechter ist als der des SiC-Substrats 2 (gekennzeichnet
durch das schwarze Quadrat in 5). Diese
Situation wird verbessert durch den Einbau einer n-Typ-Pufferschicht.
Wenn insbesondere die Pufferschichtdicke 0,1 μm ist, wurde eine Halbwertsbreite (26
arcsec) erhalten, die etwas schlechter war als die des Halbwertsbreitenwertes
des Substrates (25 arcsec), aber wenn die Dicke der Pufferschicht
wenigstens 0,3 μm
war, war die Halbwertsbreite schmaler als die des Substrates, was
darauf hindeutet, dass die Kristallinität durch epitaxiales Wachstum
verbessert wurde.
-
Wenn
insbesondere die Dicke der Pufferschicht etwa 1,2 μm oder mehr
war, war die Halbwertsbreite etwa konstant bei 16 arcsec. Wenn die Versetzungsdichte
auf der {03-38}-Ebene durch geschmolzenes KOH-Ätzen bewertet wurde, wurde
gefunden, dass sie 3 × 104 cm–2 mit dem Substrat betrug,
3 × 104 cm–2 mit einer aktiven
Schicht, gewachsen ohne eine Pufferschicht, und von 1 × 103 cm–2 bis 4 × 103 cm–2 mit einer aktiven
Schicht, die mit einer Pufferschicht von wenigstens 2 μm ausgestattet
war, was deutlich den Effekt der Pufferschicht zeigt.
-
Es
wird angenommen, dass der Grund dafür, dass die Pufferschicht in
der Herstellung einer epitaxialen SiC-Wachstumsschicht von hoher Qualität so effektiv
ist, darin besteht, dass die Pufferschicht die Spannung reduziert,
die von Gitterfehlanpassung, die zwischen dem SiC-Substrat, dotiert
mit einer hohen Verunreinigungskonzentration, und der hochreinen
aktiven SiC-Schicht, dotiert in nur einer geringen Konzentration,
herrührt.
-
Mit
SiC-Kristallen, die eine Verunreinigung in einer Konzentration von
etwa 1018 cm–3 oder
höher enthalten,
verringert oder erhöht
sich die Gitterkonstante der SiC-Kristalle
im allgemeinen gemäß dem Typ
der verwendeten Verunreinigung. Ferner ist die proportionale Erhöhung oder Verringerung
der Gitterkonstante größer hinsichtlich
einer {03-38}-Ebene als hinsichtlich einer {0001}-Ebene. Wenn epitaxiales Wachstum
auf einem 4H-SiC {03-38}-Substrat durchgeführt wird, ist es daher wirkungsvoll,
die Gitterspannung, die von Gitterfehlanpassung herrührt, zu reduzieren
durch die Bereitstellung einer SiC-Pufferschicht mit einer Verunreinigungsdichte,
die zwischen den Verunreinigungsdichtewerten für das Substrat und der aktiven
Schicht, die auf dem Substrat für den
Zweck der Herstellung einer Vorrichtung gebildet ist, liegt.
-
Bei
der Herstellung eines vertikalen Leistungsgerätes wird gewöhnlich ein
Substrat, das mit einer Verunreinigung (Donor oder Akzeptor) in
einer hohen Konzentration dotiert wurde, verwendet, um den Widerstand
des Substrats zu verringern, so dass es am besten ist, eine SiC-Pufferschicht
bereitzustellen, die mit einer Verunreinigungsdichte dotiert wurde,
die niedriger ist als die des Substrats, aber höher als die der aktiven Schicht.
Stickstoff (N) dotiertes n-Typ-SiC
wurde in dem obigen Beispiel verwendet, aber es wurde gefunden,
dass die Pufferschicht denselben Effekt in Experimenten zeigt, in
denen Phosphor (P) dotiertes n-Typ-SiC und Aluminium (Al) und Bor
(B) dotiertes p-Typ-SiC verwendet wurden.
-
Wie
oben erwähnt,
ist die Dichte der Verunreinigung, die in der Pufferschicht 4 enthalten
ist, bevorzugt mindestens 2 × 1015 cm–3 und nicht mehr als 3 × 1019 cm–3, aber Spannung, die
von Gitterfehlanpassung aufgrund eines Unterschiedes in den Verunreinigungdichten
herrührt,
kann weiter unterdrückt werden
durch Reduzierung der Verunreinigungsdichte in der Pufferschicht 4 von
der Grenzfläche
mit dem SiC-Substrat 2 in Richtung der Grenzfläche mit
der aktiven SiC-Schicht 6.
-
[BEISPIEL 3]
-
In
diesem Beispiel wurde eine Hochspannungswiderstandsdiode mit der
Struktur, die in der Seitenansicht von 6 gezeigt
ist, hergestellt unter Verwendung von SiC-Wafern, hergestellt unter
Verwendung eines 4H-SiC {03-38}-Substrats und eines (0001)-8°-Off-Substrats.
Diese SiC-Substrate 2 wurden hergestellt durch Aufwachsen
eines Ingots durch modifiziertes Rayleigh-Verfahren auf 4H-SiC (000-1)-Impfkristallen,
Schneiden dieses Ingots bei einem Winkel von 54,7° in der Wachstumsrichtung und
dann Hochglanzpolieren des Schnittes. Die Substrate waren beide
vom n-Typ, die effektive Donordichte, bestimmt aus den Kapazitäts-Spannungs-Charakteristiken
einer Schottky-Sperrschicht, war 6 × 1018 cm–3 bis
7 × 1018 cm–3, und die Dicke war etwa
330 bis 340 μm.
Eine Stickstoff-dotierte 4H-SiC-Schicht vom n-Typ wurde epitaxial
durch CVD auf diese SiC-Substrate 2 gewachsen.
-
Genauso
wie in Beispiel 2 wurde die Pufferschicht 4 in einer Gesamtdicke
von etwa 1,5 μm
gebildet mit etwa 0,3 μm
für jede
Schicht, während
die Donordichte stufenweise variiert wurde von 3 × 1018 cm–3 bis 1 × 1016 cm–3, anschließend wurde
eine hochreine 4H-SiC-Schicht vom n-Typ, die aktive Schicht 6,
gebildet. Die Donordichte der aktiven Schicht war 6 × 1015 cm–3 und Dicke war 16 μm.
-
Die ähnliche
Pufferschicht und aktive Schicht wurden auf das 4H-SiC (0001)-8°-Off-Substrat
gewachsen, um einen SiC-Wafer herzustellen. Die wichtigsten Wachstumseigenschaften
sind hier unten angegeben. Da die Verunreinigungseinbaueffizienz des
Stickstoffs oder einer anderen Dotierungssubstanz von der SiC-Kristallebenenorientierung
abhängt, wenn
eine Vorrichtung hergestellt wird, muss der Rohmaterialgasfluss
und die Dotierungsrohmaterialzuführmenge
während
des CVD-Wachstums gemäß der Kristallebenenorientierung,
die verwendet wird, eingestellt werden.
-
Pufferschicht:
-
- SiH4-Fluss: 0,30 sccm
- C3H8-Fluss:
0,20 sccm
- N2-Fluss: 2 × 10–3 bis
0,5 sccm
- H2-Fluss: 3,0 slm
- Substrattemperatur: 1.520°C
- Wachstumszeit: 60 Minuten
-
Aktive Schicht:
-
- SiH4-Fluss: 0,50 sccm
- C3H8-Fluss:
0,50 sccm
- N2-Fluss: 1 × 10–3 bis
4 × 10–3 sccm
- H2-Fluss: 3,0 slm
- Substrattemperatur: 1.520°C
- Wachstumszeit: 240 Minuten
-
Außerdem wurden
eine Schottky-Elektrode 12 und eine ohmsche Elektrode 14 auf
jedem SiC-Wafer, hergestellt unter Verwendung des 4H-SiC (0-33-8)-Substrats
und eines (0001)-8°-Off-Substrats gebildet.
Die Schottky-Elektrode 12 wurde gebildet auf der Oberseite
der aktiven Schicht, während
die ohmsche Elektrode 14 auf der Unterseite des SiC-Substrats 2 gebildet
wurde. Titan (Ti: 180 nm) wurde verwendet für die Schottky-Elektrode 12,
während
Nickel (Ni: 200 nm) das wärmebehandelt
für 20 Minuten
bei 1.000°C
worden war, für
die ohmsche Elektrode 14 verwendet wurde. Die Schottky-Elektrode 12 war
kreisförmig
und ihr Durchmesser variierte zwischen 100 μm und 3 mm.
-
Ein
Hochwiderstand-p-Typ-Bereich (Schutzring) 16 wurde durch
Implantieren von Bor (B)-Ionen gebildet, um Feldbündelung
am Ende der Schottky-Elektrode 12 zu reduzieren, wodurch
eine Schottky-Diode hergestellt wurde. Die Borionen wurden in vier Schritten
implantiert, umfassend 120 keV, 80 keV, 50 keV und 30 keV mit einer
Gesamtdosis von 3 × 1013 cm–2.
-
Die
Breite des p-Typbereiches 16, wo der Schutzring gebildet
wurde, war 100 μm,
und die Breite des Anteils, wo dieser p-Typbereich 16 die Schottky-Elektrode 12 überlappte,
war 10 μm.
Die Ionenimplantation wurde bei Raumtemperatur durchgeführt, und
die Wärmebehandlung
(Tempern) für
implantierte Ionenaktivierung wurde durchgeführt für 30 Minuten bei 1.550°C in einer
Argongasatmosphäre.
Fotolithografie wurde verwendet, um ein Muster auf das Elektrodenmetall
und die ausgewählte
Ionenimplantationsmaske aufzubringen.
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7 ist
ein Graph der typischen Stromdichte-Spannungs-Charakteristiken der oben hergestellten
Schottky-Diode. Diese Diode wurde hergestellt aus einem SiC-Wafer
mit einer Pufferschicht, bereitgestellt über einem 4H-SiC (0-33-8)-Substrat, und der
Elektrodendurchmesser war 500 μm.
Mit Umkehrcharakteristiken wurde ein Spannungswiderstand von 2.200
V erzielt, und der Kriechstrom war, wenn –1.000 V angelegt wurden, nur
3 × 10–6 A/cm2. Mit Durchlasscharakteristiken war die
ON-Spannung (Spannungsabfall bei einer Stromdichte von 100 A/cm2) 1,2 V und der ON-Widerstand war 4 × 10–3 Ω/cm2, was beides extrem gut ist. Ähnliche
Diodencharakteristiken wurden erzielt mit dem 4H-SiC (0001)-8°-Off-Substrat,
wenn die Diode eine kleine Elektrodenoberfläche von 300 μm oder weniger
besitzt, aber ein großer
Unterschied wurde beobachtet zwischen den beiden, wenn die Diode
eine große Elektrodenoberfläche hatte.
-
8 ist
ein Graph der Elektrodenoberfläche,
abhängig
von dem Spannungswiderstand (Mittelwert) für eine Schottky-Diode, hergestellt
unter Verwendung von SiC-Wafern, in denen die aktive Schicht über 2 Typen
an SiC-Substraten gewachsen wurde: ein 4H-SiC (0-33-8)-Substrat
und ein 4H-SiC (0001)-8°- Off-Substrat. Wenigstens
12 Dioden wurden gemessen für
jede Elektrodenoberfläche,
um den mittleren Spannungswiderstand zu bestimmen. Mit einer Schottky-Diode,
hergestellt unter Verwendung einer Schicht, gewachsen auf einem
4H-SiC (0001)-8°-Off-Substrat,
gab es einen scharfen Abfall des Spannungswiderstandes, wenn die
Elektrodenoberfläche
5 × 10–3 cm2 bis 1 × 10–2 cm2 überschritt.
-
Im
Gegensatz dazu wurde, wenn eine epitaxiale Wachstumsschicht hergestellt
wurde durch Bereitstellen einer Pufferschicht über einem 4H-SiC (0-33-8)-Substrat,
hoher Spannungswiderstand beibehalten, sogar bei einer Elektrodenoberfläche von etwa
1 × 10–2 cm2, und sogar bei 7 × 10–2 cm2 wurde Spannungswiderstand von mindestens
1.700 V erhalten bei einer Ausbeute von mindestens 40 %. Wenn wir
nicht nur den Spannungswiderstand vergleichen, sondern auch die
mittlere Kriechstromdichte, wenn –1.000 V angelegt werden unter
Verwendung einer Diode mit einem Elektrodendurchmesser von 500 μm, sehen
wir, dass dieser Mittelwert 8 × 10–5 A/cm2 betrug mit einer Diode, hergestellt auf
einem 4H-SiC (0001)-8°-Off-Substrat,
wohingegen er mit 9 × 10–6 A/cm2 für
eine Diode auf der (0-33-8)-Ebene extrem niedrig war.
-
Es
wird angenommen, dass durch die Verwendung der 4H-SiC (0-33-8)-Ebene
die Anzahl an Mikroröhrchen
und Schraubenversetzungen, die vom SiC-Substrat zur aktiven Schicht
hindurch verlaufen, reduziert wird, und die Anwendung einer Pufferschicht
SiC-Kristalle mit hoher Qualität
ergibt. Darüber
hinaus ermöglicht
die Verwendung der 4H-SiC (0-33-8)-Ebene bessere Ebenheit der Wachstumsoberfläche und
hat auch den Effekt der Reduzierung der Feldbündelung an der Schottky-Elektrode/SiC-Grenzfläche.
-
Eine
Schottky-Diode mit derselben hohen Leistung wurde erhalten unter
Verwendung der (03-038)-Ebene. Obwohl dieses Beispiel die Herstellung
einer Schottky-Diode beinhaltet, ist die Verwendung eines 4H-SiC
{03-38}-Substrats auch mit einer Pindiode, eines pnpn- oder npnp-Thyristors
oder einer pn-Anschlussdiode,
gebildet durch Ionenimplantation oder epitaxiales Wachstum, wirksam.
-
[BEISPIEL 4]
-
Mit
diesem Beispiel wurde ein n-Kanalumkehr-MOSFET 20 mit der
Struktur, die in der Seitenansicht von 9 gezeigt
ist, hergestellt unter Verwendung von SiC-Wafern, gebildet unter
Verwendung eines 4H-SiC {03-38}-Substrats und eines (0001)-8°-Off-Substrats. Die SiC-Substrate 2 umfassten
ein 4H-SiC (03-38)-Substrat, 4H-SiC (0-33-8)-Substrat und ein 4H-SiC
(0001)-8°-Off-Substrat,
hergestellt durch Wachsen eines Ingots durch ein modifiziertes Rayleigh-Verfahren,
Schneiden dieses Ingots und dann Hochglanzpolieren des Schnittes.
-
Die
SiC-Substrate 2 waren alle vom p-Typ, die effektive Akzeptordichte,
bestimmt aus den Kapazitäts-Spannungs-Charakteristiken
einer Schottky'schen
Sperrschicht, war 2 × 1018 cm–3 bis 5 × 1018 cm–3, und die Dicke war
320 bis 340 μm.
Die bordotierte p-Typ SiC-Schicht war epitaxial aufgewachsen durch
CVD auf diese SiC-Substrate 2.
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Zuerst
wurde die Pufferschicht 4 gebildet mit einer Gesamtdicke
von 1,6 μm
mit etwa 0,4 μm
für jede
Schicht, während
die Akzeptordichte stufenweise variiert wurde von 8 × 1017 cm–3 bis 1 × 1016 cm–3, anschließend wurde
eine hochreine p-Typ-SiC-Schicht, die aktive Schicht 6,
gebildet. Die Akzeptordichte der aktiven Schicht 6 war
5 × 1015 cm–3 und die Dicke war
5 μm. Die
wichtigsten Wachstumsbedingungen sind hier unten angegeben.
-
Pufferschicht:
-
- SiH4-Fluss: 0,30 sccm
- C3H8-Fluss:
0,20 sccm
- N2-Fluss: 8 × 10–5 bis
7 × 10–3 sccm
- H2-Fluss: 3,0 slm
- Substrattemperatur: 1.500°C
- Wachstumszeit: 70 Minuten
-
Aktive Schicht:
-
- SiH4-Fluss: 0,48 sccm
- C3H8-Fluss:
0,64 sccm
- N2-Fluss: 4 × 10–6 bis
9 × 10–6 sccm
- H2-Fluss: 3,0 slm
- Substrattemperatur: 1.500°C
- Wachstumszeit: 120 Minuten
-
Um
die Source- und Drain-Bereiche zu bilden, wurden die oben hergestellten
SiC-Wafer dann Stickstoff (N)-Ionenimplantation unterworfen, um Niedrigwiderstand-n-Typ-Bereiche 22 und 24 zu
bilden. Die Stickstoffionen wurden implantiert in vier Schritten,
umfassend 140 keV, 80 keV, 50 keV und 25 keV, mit einer Gesamtdosis
von 8 × 1014 cm–2.
-
Ionenimplantation
wurde durchgeführt
bei Raumtemperatur und die Wärmebehandlung
für implantierte
Ionenimplantierung wurde durchgeführt für 30 Minuten bei 1.550°C in einer
Argongasatmosphäre.
Eine Isolierschicht 26 (Gate-Oxidfilm) wurde dann über dem
SiC-Wafer 1 durch Trockenoxidation gebildet. Wenn das SiC
(0001)-Off-Substrat verwendet wurde, umfassten die Oxidationsbedingungen 3 Stunden
bei 1.150°C,
aber mit der SiC {03-38}-Probe nur 1 Stunde bei 1.150°C. Die Dicke
der Isolierschicht 26 war 35 bis 46 nm.
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Als
nächstens
wurden eine Source-Elektrode 28 und eine Drain-Elektrode 30 auf
den n-Typ-Bereichen 22 bzw. 24 gebildet. Aluminium/Titan
(250 nm Al, 30 nm Ti) wurden für
die Source-Elektrode 28 und
Drain-Elektrode 30 verwendet, und diese wurden für 60 Minuten
bei 800°C
wärmebehandelt.
Eine Aluminium-Gate-Elektrode 32 (200 nm dick) wurde über der
Isolierschicht 26 gebildet, anschließend wurde eine Wärmebehandlung
durchgeführt
für 10
Minuten bei 450°C
in Formiergas (H2/N2).
Fotolithografie wurde verwendet, um das Elektrodenmetall und die
selektive Ionenimplantationsmaske mit einem Muster zu versehen.
-
Die
Kanallänge
des MOSFET 20 war 30 μm, und
die Kanalbreite war 200 μm.
Als Richtung für
den Stromablauffluss, wenn ein MOSFET auf einem 4H-SiC (0001)-8°-Off-Substrat
hergestellt wurde, wurde die Kristallebenenorientierung berücksichtigt, und
der Ablaufstrom wurde so eingestellt, dass er in der <11-20>-Richtung oder in <1-100>-Richtung floss. Wenn
MOSFET hergestellt wurde auf einer 4H-SiC {03-38}-Ebene, wurde der
Ablauf des Stroms so eingestellt, dass er in der <11-20>-Richtung oder in <03-316>-Richtung floss. Die Anisotropie der Kanalmobilität wurde
ebenfalls untersucht.
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10 ist
ein Graph der typischen Drain-Charakteristiken des oben hergestellten
MOSFET. Diese sind die Charakteristiken eines MOSFET mit einer aktiven
Schicht, gewachsen über
einem 4H-SiC (03-38)-Substrat, in dem der Kanal parallel zur <11-20>-Achse verläuft. Ein
linearer Bereich und ein gesättigter
Bereich können
klar beobachtet werden, und dieser MOSFET arbeitet gut als ein normal-off
MOSFET, der sich abschaltet bei einer Nullsperrvorspannung. FET-Operation
wurde bestätigt für alle MOSFETs,
in denen andere Proben verwendet wurden, aber Unterschiede wurden
in der Kanalmobilität
oder Schwellenspannung beobachtet.
-
11 zeigt
die Mittelwerte für
effektive Kanalmobilität,
bestimmt aus der linearen Region für jeden MOSFET. Kanalmobilität wurde
gemessen durch Bewerten von mindestens sechs MOSFETs für jede Probe
und Ermitteln des Mittelwertes daraus. Wie in 11 gesehen
werden kann, war die Kanalmobilität deutlich größer bei
allen MOSFETs, hergestellt auf dem 4H-SiC (03-38)-Substrat und dem
4H-SiC (0-33-8)-Substrat,
als mit den MOSFETs, hergestellt auf dem 4H-SiC (0001)-8°-Off-Substrat.
-
Z.B.,
wenn wir Kanalmobilität
in der <11-20>-Richtung vergleichen,
sehen wird, dass sie 4,8 cm2/Vs ist mit
einem MOSFET, hergestellt auf einem (0001)-8°-off-Substrat, wohingegen sie
93 cm2/Vs ist mit dem (03-38)-Substrat und
96 cm2/Vs mit dem (0-33-8)-Substrat, was
beides extrem hohe Kanalmobilitätswerte
sind.
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Die
Gründe
dafür scheinen
darin zu liegen, dass Oberflächenrauigkeit,
hervorgerufen durch Stufenbündelung,
reduziert ist durch die aktive Schicht 6 auf dem {03-38}-Substrat, was zu
einer extrem flachen MOS-Oberfläche
führt,
und Streuung, was ansonsten durch Oberflächenrauigkeit verursacht würde, ist
umgekehrt reduziert. Ferner offenbart ein Vergleich eines (0001)-Substrats
mit einem {03-38}-Substrat,
dass es weniger SiC-Bindungen pro Oberflächeneinheit in der {03-38}-Ebene
gibt, so dass die Grenzflächenniveaudichte,
gebildet an der MOS-Grenzflächen,
wenn ein Oxidfilm hergestellt wird, niedriger in der {03-38}-Ebene ist. Aus 11 kann
auch entnommen werden, dass die Anisotropie in der Kanalmobilität niedrig
ist.
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Die
obigen Ergebnisse zeigen, dass Kanalmobilität hoch und Anisotropie niedrig
sein wird mit einem MOSFET, hergestellt auf einem 4H-SiC {03-38}-Substrat,
so dass die Verwendung dieses Substrats effektiv ist bei der Herstellung Hochleistungs-MOSFETs,
IGBTs (Insulated Gate Bipolar Transistors), MOS-Gate-Thyristors,
usw.
-
Die
Isolierschicht 26, die für eine Gate-Elektrode verwendet
wird, wird gebildet durch thermische Oxidation, aber die Verwendung
von 4H-SiC {03-38} ist ebenfalls effektiv, wenn ein SiO2-Film
durch CVD abgeschieden wird. Außerdem
wurde ein Umkehr-MOSFET hier hergestellt, um die Charakteristiken
an der MOS-Grenzfläche
zu untersuchen, aber da gute Oxidfilm/SiC-Grenzflächeneigenschaften
erhalten werden, wenn 4H-SiC {03-38} verwendet wird, kann dies auch
auf die Herstellung anderer Vorrichtungen angewendet werden. Wenn
z.B. thermische Oxidation oder chemische Dampfabscheidung verwendet
wird, um einen Oberflächenschutzfilm
für eine
SiC-Halbleitervorrichtung,
in der die erste Schicht ein Oxidfilm ist, zu bilden, werden die
resultierenden Grenzflächeneigenschaften
extrem stabil und die Trägerbildungsrate
an der Grenzfläche
niedrig.
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INDUSTRIELLE
ANWENDBARKEIT
-
Wie
oben beschrieben, können
der SiC-Wafer, die SiC-Halbleitervorrichtung
und das Verfahren zur Herstellung des SiC-Wafers, betreffend die
vorliegende Erfindung, praktisch als ein SiC-Wafer usw. angewendet
werden, bei dem es wenig Anisotropie in Elektronenmobilität im Fall
der Verwendung als eine Halbleitervorrichtung gibt, und es gibt
wenig Spannung, hervorgerufen durch Gitterfehlanpassung zwischen
dem SiC-Substrat
und der epitaxialen SiC-Wachstumsschicht.
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Spezieller
reduziert sich bei Verwendung eines SiC-Substrats, dessen Kristallebenenorientierung
im wesentlichen {03-38} ist, die Anzahl an Mikroröhrchen und
Schraubenversetzungen, die bis zur Oberfläche verlaufen und dort vorliegen,
und reduziert außerdem
das Auftreten von Stapelfehlern und ihr Auftreten auf der Oberfläche. Ferner
erniedrigt die Verwendung eines 4H-Polytyp-Substrats die Anisotropie
von Elektronenmobilität
in der aktiven Schicht, die über
dem SiC-Wafer gewachsen
ist. Weil eine Pufferschicht, zusammengesetzt aus SiC, über dem SiC-Substrat
gebildet ist, ist es, wenn eine aktive SiC-Schicht auf dem Wafer
gewachsen ist, möglich, das
Auftreten von Spannungen der aktiven SiC-Schicht als Folge von Gitterfehlanpassung
zwischen dem SiC-Substrat und der aktiven SiC-Schicht zu verhindern.
-
Die
Verwendung des oben erwähnten SiC-Wafers
ermöglich
es, viele verschiedene Typen an SiC-Halbleitervorrichtungen herzustellen,
wie Leistungsgeräte
mit extrem hoher Leistung, hoher Effizienz und hohem Spannungswiderstand,
Hochfrequenz-Leistungsgeräte und Hochtemperatur-Geräte.