JP2010184833A - 炭化珪素単結晶基板および炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】貫通転位3の転位線の方向が揃えられ、貫通転位3の転位線の方向と[0001]c軸との為す角度θが22.5°以下となるようにする。[0001]c軸方向に転位線を持つ貫通転位3は、基底面転位の転位線の方向と垂直であるため、C面内の拡張転位とはならず、積層欠陥を発生させることがない。このため、貫通転位3の転位線の方向が[0001]c軸であるSiC単結晶基板1に対して電子デバイスを形成すれば、デバイス特性は良好となり、劣化が無く、歩留まりも向上したSiC半導体装置。
【選択図】図1
Description
本発明の第1実施形態について説明する。図1(a)は、本実施形態にかかるSiC単結晶エピタキシャルウェハの断面図であり、図1(b)は、SiC単結晶エピタキシャルウェハ内の貫通転位の転位線とc軸との為す角度の関係を示したベクトル図である。
本発明の第2実施形態について説明する。本実施形態では、第1実施形態に対して、貫通転位3の転位線の方向をより限定的に特定して揃える。なお、本実施形態にかかるSiC単結晶エピタキシャルウェハの構造などについては第1実施形態と同様であるため、異なる部分についてのみ説明する。
本発明の第3実施形態について説明する。本実施形態では、第1実施形態に対して、貫通転位3の転位線の方向をc軸を中心する方向に限定的に特定して揃える。なお、本実施形態にかかるSiC単結晶エピタキシャルウェハの構造などについては第1実施形態と同様であるため、異なる部分についてのみ説明する。
本発明の第4実施形態について説明する。本実施形態では、第1〜第3実施形態よりも更に貫通転位3の転位線の方向を特定して揃える。なお、本実施形態にかかるSiC単結晶エピタキシャルウェハの構造などについては第1実施形態と同様であるため、異なる部分についてのみ説明する。
本発明の第5実施形態について説明する。本実施形態では、第1実施形態に対して用いているSiC単結晶基板のオフ方向を規定したものである。なお、本実施形態にかかるSiC単結晶エピタキシャルウェハの構造などについては第1実施形態と同様であるため、異なる部分についてのみ説明する。
本発明の第6実施形態について説明する。本実施形態では、第5実施形態に対して、貫通転位3の転位線の方向をより限定的に特定して揃える。なお、本実施形態にかかるSiC単結晶エピタキシャルウェハの構造などについては第5実施形態と同様であるため、異なる部分についてのみ説明する。
本発明の第7実施形態について説明する。本実施形態も、第5実施形態に対して、貫通転位3の転位線の方向をより限定定期に特定して揃える。なお、本実施形態にかかるSiC単結晶エピタキシャルウェハの構造などについては第5実施形態と同様であるため、異なる部分についてのみ説明する。
本発明の第8実施形態について説明する。本実施形態は、第1実施形態に対して用いているSiC単結晶基板のオフ方向を第5実施形態とは異なる方向で規定したものである。なお、本実施形態にかかるSiC単結晶エピタキシャルウェハの構造などについては第1実施形態と同様であるため、異なる部分についてのみ説明する。
本発明の第9実施形態について説明する。本実施形態では、第8実施形態に対して、貫通転位3の転位線の方向をより限定的に特定して揃える。なお、本実施形態にかかるSiC単結晶エピタキシャルウェハの構造などについては第5実施形態と同様であるため、異なる部分についてのみ説明する。
本発明の第10実施形態について説明する。本実施形態も、第8実施形態に対して、貫通転位3の転位線の方向をより限定定期に特定して揃える。なお、本実施形態にかかるSiC単結晶エピタキシャルウェハの構造などについては第5実施形態と同様であるため、異なる部分についてのみ説明する。
本発明の第11実施形態について説明する。本実施形態も、第8実施形態に対して、貫通転位3の転位線の方向をより限定定期に特定して揃える。なお、本実施形態にかかるSiC単結晶エピタキシャルウェハの構造などについては第5実施形態と同様であるため、異なる部分についてのみ説明する。
本発明の第12実施形態について説明する。第1〜第11実施形態では、単に貫通転位3として説明したが、この貫通転位3の中に貫通刃状転位が含まれるようにすると好ましい。このような貫通刃状転位が含まれた貫通転位3が形成されている場合についても、上記第1〜第11実施形態と同様の効果となるが、図6に示したように、貫通刃状転位の場合には、貫通らせん転位よりもSiC単結晶エピタキシャルウェハに対して電子デバイス、例えばダイオードやMOSトランジスタなどのパワー素子を形成したときの故障時間が長くなる。これにより、よりデバイス特性を良好にすることが可能となる。
上記各実施形態では、SiC単結晶基板1の上に例えばCVD法にてエピタキシャル膜2を製造する場合に、貫通転位3の転位線の方向が不純物濃度との関係に基づいて特定方向を向くことを利用している。しかしながら、これは貫通転位3の転位線の方向を容易に揃えることができる手法として載せたに過ぎず、デバイス特性や歩留まりの観点からは、SiC単結晶基板1もしくはSiC単結晶エピタキシャルウェハのエピタキシャル膜2に形成された貫通転位3の転位線の方向が上記各実施形態で示した角度範囲を満たしていれば、上記効果を得ることができるため、各実施形態で説明した製造方法に限定されるものではない。
2 エピタキシャル膜
3 貫通転位
Claims (17)
- 転位線が(0001)C面を貫通する貫通転位(3)を含み、該貫通転位(3)の転位線の方向と[0001]c軸との為す角度が22.5°以下とされていることを特徴とする炭化珪素単結晶基板。
- 前記貫通転位(3)の転位線の方向は、[0001]c軸との為す角度が19.5°以下の特定方向に対して±3°の範囲内とされていることを特徴とする請求項1に記載の炭化珪素単結晶基板。
- 前記貫通転位(3)の転位線の方向は、[0001]c軸と平行な方向に対して±3°の範囲内とされていることを特徴とする請求項2に記載の炭化珪素単結晶基板。
- 前記貫通転位(3)の転位線の方向は、[0001]c軸と平行な方向とされていることを特徴とする請求項1に記載の炭化珪素単結晶基板。
- [11−20]方向をオフ方向とする炭化珪素単結晶基板(1)と、
前記炭化珪素単結晶基板(1)に成長させられたエピタキシャル膜(2)とを有し、
前記エピタキシャル膜(2)は、転位線が(0001)C面を貫通する貫通転位(3)を含み、該貫通転位(3)の転位線の方向が[0001]c軸から[11−20]方向の基板面の法線方向への角度が−3°以上かつ20°以下とされ、かつ、該貫通転位(3)が(1−100)面内にあることを特徴とする炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハ。 - 前記貫通転位(3)の転位線の方向が[0001]c軸から[11−20]方向の基板面の法線方向への角度が17°±3°の範囲とされていることを特徴とする請求項5に記載の炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハ。
- 前記貫通転位(3)の転位線の方向が[0001]c軸から[11−20]方向の基板面の法線方向への角度が8.7°±3°の範囲とされていることを特徴とする請求項5に記載の炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハ。
- [1−100]方向をオフ方向とする炭化珪素単結晶基板(1)と、
前記炭化珪素単結晶基板(1)に成長させられたエピタキシャル膜(2)とを有し、
前記エピタキシャル膜(2)は、転位線が(0001)C面を貫通する貫通転位(3)を含み、該貫通転位(3)の転位線の方向が[0001]c軸から[1−100]方向の基板面の法線方向への角度が−3°以上かつ22.5°以下とされ、かつ、該貫通転位(3)が(11−20)面内にあることを特徴とする炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハ。 - 前記貫通転位(3)の転位線の方向が[0001]c軸から[1−100]方向の基板面の法線方向への角度が19.5°±3°の範囲とされていることを特徴とする請求項8に記載の炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハ。
- 前記貫通転位(3)の転位線の方向が[0001]c軸から[1−100]方向の基板面の法線方向への角度が15°±3°の範囲とされていることを特徴とする請求項8に記載の炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハ。
- 前記貫通転位(3)の転位線の方向が[0001]c軸から[1−100]方向の基板面の法線方向への角度が7.6°±3°の範囲とされていることを特徴とする請求項8に記載の炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハ。
- 前記エピタキシャル膜(2)の不純物濃度の方が前記炭化珪素単結晶基板(1)の不純物濃度よりも低くされ、前記エピタキシャル膜(2)の不純物濃度が1×1017cm-3以下とされていることを特徴とする請求項5ないし11のいずれか1つに記載の炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハ。
- 前記貫通転位(3)には貫通刃状転位が含まれていることを特徴とする請求項5ないし12のいずれか1つに記載の炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハ。
- 前記貫通転位(3)には貫通刃状転位が含まれていることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1つに記載の炭化珪素単結晶基板。
- 請求項1ないし4および14のいずれか1つに記載の炭化珪素単結晶基板もしくは請求項5ないし13のいずれか1つに記載の炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハに対して電子デバイスが形成されていることを特徴とする炭化珪素半導体装置。
- 請求項5ないし7のいずれか1つに記載の炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハに対して、(1−100)面をチャネル面とする電界効果型トランジスタが電子デバイスとして形成されていることを特徴とする炭化珪素半導体装置。
- 請求項8ないし11のいずれか1つに記載の炭化珪素単結晶エピタキシャルウェハに対して、(11−20)面をチャネル面とする電界効果型トランジスタが電子デバイスとして形成されていることを特徴とする炭化珪素半導体装置。
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