CN113840881B - 具有低预固化粘度和后固化弹性性能的凝胶型热界面材料 - Google Patents

具有低预固化粘度和后固化弹性性能的凝胶型热界面材料 Download PDF

Info

Publication number
CN113840881B
CN113840881B CN202080036835.6A CN202080036835A CN113840881B CN 113840881 B CN113840881 B CN 113840881B CN 202080036835 A CN202080036835 A CN 202080036835A CN 113840881 B CN113840881 B CN 113840881B
Authority
CN
China
Prior art keywords
silicone oil
range
thermal interface
long chain
interface material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202080036835.6A
Other languages
English (en)
Other versions
CN113840881A (zh
Inventor
张锴
张立强
沈玲
刘亚群
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Honeywell International Inc
Original Assignee
Honeywell International Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Honeywell International Inc filed Critical Honeywell International Inc
Publication of CN113840881A publication Critical patent/CN113840881A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN113840881B publication Critical patent/CN113840881B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/36Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L83/00Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L83/04Polysiloxanes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/42Fillings or auxiliary members in containers or encapsulations selected or arranged to facilitate heating or cooling
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/12Polysiloxanes containing silicon bound to hydrogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22Oxides; Hydroxides of metals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K5/00Heat-transfer, heat-exchange or heat-storage materials, e.g. refrigerants; Materials for the production of heat or cold by chemical reactions other than by combustion
    • C09K5/08Materials not undergoing a change of physical state when used
    • C09K5/14Solid materials, e.g. powdery or granular
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/36Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
    • H01L23/373Cooling facilitated by selection of materials for the device or materials for thermal expansion adaptation, e.g. carbon
    • H01L23/3733Cooling facilitated by selection of materials for the device or materials for thermal expansion adaptation, e.g. carbon having a heterogeneous or anisotropic structure, e.g. powder or fibres in a matrix, wire mesh, porous structures
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/36Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
    • H01L23/373Cooling facilitated by selection of materials for the device or materials for thermal expansion adaptation, e.g. carbon
    • H01L23/3737Organic materials with or without a thermoconductive filler
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/14Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
    • C08G77/16Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups to hydroxyl groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/20Polysiloxanes containing silicon bound to unsaturated aliphatic groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22Oxides; Hydroxides of metals
    • C08K2003/2227Oxides; Hydroxides of metals of aluminium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K2201/00Specific properties of additives
    • C08K2201/001Conductive additives
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K2201/00Specific properties of additives
    • C08K2201/014Additives containing two or more different additives of the same subgroup in C08K
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/40Mountings or securing means for detachable cooling or heating arrangements ; fixed by friction, plugs or springs
    • H01L23/4006Mountings or securing means for detachable cooling or heating arrangements ; fixed by friction, plugs or springs with bolts or screws
    • H01L2023/4037Mountings or securing means for detachable cooling or heating arrangements ; fixed by friction, plugs or springs with bolts or screws characterised by thermal path or place of attachment of heatsink
    • H01L2023/4043Mountings or securing means for detachable cooling or heating arrangements ; fixed by friction, plugs or springs with bolts or screws characterised by thermal path or place of attachment of heatsink heatsink to have chip

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Lubricants (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

本公开提供了热界面材料,该热界面材料可用于将热量从发热电子装置诸如计算机芯片传送至散热结构诸如散热器和散热片。热界面材料是柔软的,并且具有后固化弹性性能以及高导热填料负载。热界面材料包含至少一种长链烷基硅油;至少一种长链乙烯基封端的烷基硅油;至少一种长链单端羟基封端的硅油;至少一种导热填料、至少一种偶联剂、至少一种催化剂、至少一种交联剂和至少一种加成抑制剂。

Description

具有低预固化粘度和后固化弹性性能的凝胶型热界面材料
技术领域
本公开整体涉及热界面材料,并且更具体地,涉及凝胶型热界面材料。
相关技术描述
热界面材料(TIM)被广泛用于耗散来自电子部件(诸如中央处理单元、视频图形阵列、服务器、游戏控制台、智能电话,LED板等)的热量。热界面材料通常用于将过量的热量从电子部件传送至散热器,诸如散热片。
图1中示出了包含热界面材料的典型电子封装结构10。电子封装结构10例示性地包括发热部件(诸如电子芯片12)以及一个或多个散热部件(诸如散热器14和散热片16)。例示性散热器14和散热片包括金属、金属合金或镀金属基板,诸如铜、铜合金、铝、铝合金或镀镍铜。TIM材料(诸如TIM 18和TIM 20)在发热部件和一个或多个散热部件之间提供热连接。电子封装结构10包括连接电子芯片12和散热器14的第一TIM 18。TIM 18通常被称为“TIM1”。电子封装结构10包括连接散热器14和散热片16的第二TIM 20。TIM 20通常被称为“TIM2”。在另一个实施方案中,电子封装结构10不包括散热器14,并且TIM(未示出)将电子芯片12直接连接到散热片16。将电子芯片12直接连接到散热片16的这种TIM通常被称为TIM1.5。
传统的热界面材料包括诸如间隙垫的部件。然而,间隙垫具有某些缺点,诸如不能满足非常小的厚度要求并且难以用于自动化生产。
其他热界面材料包括凝胶产品。凝胶产品可被自动分配以用于大规模生产,并且可形成为期望的形状和厚度。然而,具有高热导率的典型可固化热界面材料/凝胶产品由于高填料负载而不是柔软的并且在固化后不是弹性的。因此,在其中存在大的振动和显著的温度变化的某些环境中,热界面材料/凝胶将从界面剥离,从而导致热耗散性能劣化。
希望对前述方面加以改进。
发明内容
本公开提供了热界面材料,该热界面材料可用于将热量从发热电子装置诸如计算机芯片传送至散热结构诸如散热器和散热片。热界面材料是柔软的,并且具有后固化弹性性能以及高导热填料负载。热界面材料包含至少一种长链烷基硅油;至少一种长链乙烯基封端的烷基硅油;至少一种长链单端羟基封端的硅油;至少一种导热填料、至少一种偶联剂、至少一种催化剂、至少一种交联剂和至少一种加成抑制剂。
在一个示例性实施方案中,提供了一种热界面材料。热界面材料包含聚合物基质,该聚合物基质包含:至少一种长链烷基硅油;至少一种长链乙烯基封端的烷基硅油;以及至少一种单端羟基封端的硅油;其中长链烷基硅油;长链乙烯基封端的烷基硅油;以及长链单端羟基封端的硅油中的至少一者具有至少一个支链,该支链具有4个烷基碳至16个烷基碳;以及至少一种导热填料。在一个更具体的实施方案中,长链烷基硅油具有通式:
其中n在0至5000的范围内,x在2至32的范围内,并且m在5至2000的范围内,并且n+m在50至5000的范围内。在一个更具体的实施方案中,长链乙烯基封端的烷基硅油具有通式:
其中n在0至5000的范围内,x在2至32的范围内,并且m在5至5000的范围内,并且n+m在50至10000的范围内。在一个更具体的实施方案中,长链单端羟基封端的硅油具有通式:
其中R为烷基基团,n在5至1000的范围内,x在2至32的范围内,y在1至3的范围内,m在0至500的范围内,并且n+m在5至1000的范围内。
在一个更具体的实施方案中,长链单端羟基封端的硅油具有在1mgKOH/g至200mgKOH/g范围内的羟值。在另一个更具体的实施方案中,导热填料至少包含85重量%至97重量%之间的第一导热填料和第二导热填料。
在又一个更具体的实施方案中,在室温下施加50%应变2小时后,热界面材料具有75%与100%之间的后固化恢复率。在又一个更具体的实施方案中,热界面材料包含:0.5重量%至5重量%的长链烷基硅油;0.5重量%至5重量%的长链乙烯基封端的烷基硅油;0.5重量%至2重量%的长链单端羟基封端的硅油;以及50重量%至95重量%的导热填料。在一个更具体的实施方案中,热界面材料具有在25肖氏OO与50肖氏OO之间的硬度。
在上述任一实施方案的一个更具体的实施方案中,提供一种热界面材料。热界面材料包含:聚合物基质,该聚合物基质包含:至少一种长链硅油,该长链硅油具有4个烷基碳至16个烷基碳;其中至少一种长链硅油包括:长链烷基硅油;长链;乙烯基封端的烷基硅油;以及单端羟基封端的硅油;加成抑制剂;交联剂;催化剂;偶联剂;以及至少一种导热填料;其中热界面材料包含:3重量%至15重量%的聚合物基质;以及50重量%至95重量%的导热填料。在一个还更具体的实施方案中,热界面材料包含:0.5重量%至5重量%的长链烷基硅油;0.5重量%至5重量%的长链乙烯基封端的烷基硅油;0.5重量%至2重量%的长链单端羟基封端的硅油;0.01重量%至0.5重量%的催化剂;0.01重量%至1重量%的加成抑制剂;0.1重量%至1重量%的交联剂;0.1重量%至10重量%的偶联剂;以及50重量%至95重量%的导热填料。在上述任一实施方案中的一个更具体的实施方案中,导热填料包括第一导热填料和第二导热填料,其中第一导热填料为具有大于10微米的粒度的金属氧化物,并且第二导热填料为具有介于1微米与10微米之间的粒度的金属氧化物。
在上述任一实施方案的一个更具体的实施方案中,长链烷基硅油具有通式:
其中n在0至5000的范围内,x在2至32的范围内,并且m在5至2000的范围内,并且n+m在50至5000的范围内。在上述任一实施方案的一个更具体的实施方案中,长链乙烯基封端的烷基硅油具有通式:
其中n在0至5000的范围内,x在2至32的范围内,并且m在5至5000的范围内,并且n+m在50至10000的范围内。在上述任一实施方案的一个更具体的实施方案中,长链单端羟基封端的硅油具有通式:
其中R为烷基基团,n在5至1000的范围内,x在2至32的范围内,y在1至3的范围内,m在0至500的范围内,并且n+m在5至1000的范围内。
在一个示例性实施方案中,提供了一种电子部件。该电子部件包括:散热片;电子芯片;热界面材料,该热界面材料具有第一表面层和第二表面层,热界面材料定位在散热片与电子芯片之间,热界面材料包含:聚合物基质,该聚合物基质包含:至少一种长链硅油,该至少一种长链硅油具有4个烷基碳至16个烷基碳;其中至少一种长链硅油包括:长链烷基硅油;长链;乙烯基封端的烷基硅油;以及单端羟基封端的硅油;加成抑制剂;交联剂;催化剂;偶联剂;以及至少一种导热填料;其中热界面材料包含:3重量%至15重量%的聚合物基质;以及50重量%至95重量%的导热填料。
在一个更具体的实施方案中,长链烷基硅油具有通式:
其中n在0至5000的范围内,x在2至32的范围内,m在5至2000的范围内,并且n+m在50至5000的范围内。在另一个更具体的实施方案中,长链乙烯基封端的烷基硅油具有通式:
其中n在0至5000的范围内,x在2至32的范围内,并且m在5至5000的范围内,并且n+m在50至10000的范围内。在另一个更具体的实施方案中,长链单端羟基封端的硅油具有通式:
其中R为烷基基团,n在5至1000的范围内,x在2至32的范围内,y在1至3的范围内,m在0至500的范围内,并且n+m在5至1000的范围内。
在一个更具体的实施方案中,第一表面层与电子芯片的表面接触,并且第二表面层与散热片接触。在一个更具体的实施方案中,电子部件还包括定位在散热片与电子芯片之间的散热器,其中第一表面层与电子芯片的表面接触,并且第二表面层与散热器接触。在一个更具体的实施方案中,电子部件还包括定位在散热片和电子芯片之间的散热器,其中第一表面层与散热器的表面接触,并且第二表面层与散热片接触。
附图说明
通过参考结合附图对本发明的实施方案的以下描述,本公开的上述和其他特征和优点以及实现它们的方式将变得更加明显并且将更好地理解本发明本身,其中:
图1示意性地示出了典型电子封装结构;
图2为示出根据本公开的制备热界面材料的方法的流程图;
图3A涉及实施例1,并且示出了在施加压缩力时实施例1的样品;并且
图3B涉及实施例1,并且示出了在移除压缩力之后恢复的实施例1的样品。
在几个视图中,对应的标引字符表示对应的部分。本文提出的例证示出了本发明的示例性实施方案,并且此类例证不应理解为以任何方式限制本发明的范围。
具体实施方式
A.热界面材料
本公开提供了热界面材料,该热界面材料可用于将热量从发热电子装置诸如计算机芯片传送至散热结构诸如散热器和散热片。热界面材料是柔软的,并且具有后固化弹性性能以及高导热填料负载。热界面材料包含至少一种长链烷基硅油;至少一种长链乙烯基封端的烷基硅油;至少一种长链单端羟基封端的硅油;至少一种导热填料、至少一种偶联剂、至少一种催化剂、至少一种交联剂和至少一种加成抑制剂。出于本公开的目的,“长链”包括从主链延伸的烷基支链;烷基支链的范围为4个碳原子至16个碳原子。
1.硅油
a.一般描述
本发明提供了一种包含至少一种长链硅油的TIM材料的基质。硅油包含被催化剂交联的一个或多个可交联基团,诸如乙烯基和氢化物官能团。在一个实施方案中,一种或多种长链硅油包括第一长链硅油、第二长链硅油和第三长链硅油,其中第一长链硅油为长链烷基硅油,第二长链硅油为长链乙烯基封端的烷基硅油,并且第三长链硅油为长链单端羟基封端的硅油。硅油润湿导热填料并形成用于TIM的可分配流体。
在一个示例性实施方案中,硅油包括硅橡胶,诸如购自信越公司(Shin-Etsu)的KE系列产品,诸如购自蓝星公司(Bluestar)的诸如购自瓦克公司(Wacker)的 知/>诸如购自迈图公司(Momentive)的/>诸如购自道康宁公司(Dow Corning)的Dow/> 知/>诸如购自斯瑰尔思康公司(SquareSilicone)的/>诸如购自安必亚特种有机硅公司(AB specialty Silicones)的其他聚硅氧烷购自瓦克公司、信越公司、道康宁公司、迈图公司、蓝星公司、润禾公司(RUNHE)、安必亚特种有机硅公司、盖尔斯公司(Gelest)和联合化学技术公司(UnitedChemical Technologies)。
基于TIM的总重量计,TIM可包含一种或多种如下总量的长链硅油:低至3重量%、4重量%、5重量%,高至10重量%、12.5重量%、15重量%,或者在任意两个前述值之间限定的任意范围内,诸如3重量%至15重量%、4重量%至12.5重量%、或5重量%至10重量%。在一个示例性实施方案中,TIM包含约7.2重量%的量的至少一种长链硅油。在另一个示例性实施方案中,TIM包含约5重量%的量的至少一种长链硅油。
如本文所述,“长链”硅油包括从主链延伸并且碳数变化的至少一个支链或烷基支链。烷基支链具有通式:
CxH2x+1
其中x为大于1的整数。在一些实施方案中,x低至2、4、6、8、10、12,高至16、18、20、24、28、32,或在任意两个前述值之间限定的任意范围内,诸如在2与32之间、在6与16之间和在4与12之间。与具有相同分子量但不具有烷基支链的硅油相比,支链硅油可实现较低的粘度且分子链缠结较少。较低的粘度有助于在热界面材料配制中实现高负载的导热填料,特别是对于高分子量硅油(即,较高分子量意指较长的Si-O-Si链和较大的分子链缠结)。
b.长链烷基硅油
TIM包含长链烷基硅油。长链烷基硅油提供分子链之间的润滑性并减少配制物的分子链的缠结。示例性长链烷基硅油可为一种二甲基硅油,其部分甲基基团被长链烷基基团取代。示例性长链烷基硅油可具有如下所示的通式:
在上文所示的通式中,n在低至0、10、50、100、500,高至1000、2000、5000、10000的范围内,或在任意两个前述值之间限定的任意范围内;x低至2、4、6、8、10、12,高至16、18、20、24、28、32,或在任意两个前述值之间限定的任意范围内,诸如在2与32之间、在6与16之间和在4与12之间,并且m在5、10、50、200的范围内,或高至500、1000、2000、5000,或在任意两个前述值之间限定的任意范围内。此外,n+m在低至10、30、50、100、200、500,或高至1000、2000、5000、10000、15000的范围内,或在任意两个前述值之间限定的任意范围内,诸如在10与15000之间、在1000与5000之间和在500与2000之间。在一个示例性实施方案中,x在4与16之间的范围内。在另一个示例性实施方案中,x在5与15之间的范围内。在另一个示例性实施方案中,x在7与11之间的范围内。在一个示例性实施方案中,n在50与100之间的范围内。在另一个示例性实施方案中,n在100与500之间的范围内。在另一个示例性实施方案中,n在500与1000之间的范围内。在一个示例性实施方案中,m在10与100之间的范围内。在另一个示例性实施方案中,m在100与500之间的范围内。在一个示例性实施方案中,n+m在50与200之间的范围内。在另一个示例性实施方案中,n+m在200与1000之间的范围内。
示例性长链烷基硅油包括:BALD-BD1206(粘度为500cst)购自保尔德公司(Baoerde),RH-8206(粘度为900cst~1500cst)和RH-8207A(粘度为1000cst~1500cst)各自购自润禾公司,YD-8206(粘度为300cst~2500cst)购自艾利迪公司(Ailidi),OFX0203(粘度为1000cst~1500cst)购自道康宁公司,BS-220(粘度为5000cst)购自蓝烷公司(Bluesilane)。
示例性长链烷基硅油的重(Mw)均分子量可低至1000道尔顿、9000道尔顿、20000道尔顿,高至30000道尔顿、100000道尔顿、200000道尔顿,或在任意两个前述值之间限定的任意范围内,如由凝胶渗透色谱法(GPC)所测定的。
示例性长链烷基硅油的运动粘度可低至10cSt、100cSt、500cSt,高至5000cSt、50000cSt、100000cSt,或在任意两个前述值之间限定的任意范围内,如根据ASTM D445测量的。在一个示例性实施方案中,示例性长链烷基硅油的运动粘度在400cSt与600cSt之间。在另一个示例性实施方案中,示例性长链烷基硅油的运动粘度在500cSt与1000cSt之间。
基于TIM的总重量计,TIM可包含一种或多种如下量的长链烷基硅油:低至0.5重量%、0.75重量%、1重量%,高至2重量%、3.5重量%、5重量%,或者在任意两个前述值之间限定的任意范围内,诸如0.5重量%至5重量%、0.75重量%至3.5重量%、或1重量%至3.5重量%。在一个示例性实施方案中,TIM包含约3重量%的量的长链烷基硅油。在另一个示例性实施方案中,TIM包含约2重量%的量的长链烷基硅油。
c.长链乙烯基封端的烷基硅油
TIM的另一个示例性长链硅油可包括长链乙烯基封端的烷基硅油。长链乙烯基封端的烷基硅油可通过其封端的乙烯基官能团与交联剂形成交联基质。示例性长链乙烯基封端的烷基硅油可具有如下所示的通式:
在上文所示的通式中,n在低至0、10、50、100、200、500,高至1000、2000、5000、10000的范围内,或在任意两个前述值之间限定的任意范围内;x低至2、4、6、8、10、12,高至16、18、20、24、28、32,或在任意两个前述值之间限定的任意范围内,诸如在2与32之间、在6与16之间和在4与12之间,并且m在5、10、50、200的范围内,或高至500、1000、2000、5000,或在任意两个前述值之间限定的任意范围内。此外,n+m在低至10、30、50、100、200、500,或高至1000、2000、5000、10000、15000、20000的范围内,或在任意两个前述值之间限定的任意范围内,诸如在10与20000之间、在1000与5000之间和在500与2000之间。在一个示例性实施方案中,x在4与16之间的范围内。在另一个示例性实施方案中,x在5与15之间的范围内。在另一个示例性实施方案中,x在7与11之间的范围内。在一个示例性实施方案中,n在200与500之间的范围内。在另一个示例性实施方案中,n在1000与3000之间的范围内。在另一个示例性实施方案中,n在2000与5000之间的范围内。在一个示例性实施方案中,m在150与300之间的范围内。在另一个示例性实施方案中,m在300与500之间的范围内。在另一个示例性实施方案中,m在500与1500之间的范围内。在一个示例性实施方案中,n+m在200与1000之间的范围内。在另一个示例性实施方案中,n+m在1000与5000之间的范围内。在另一个示例性实施方案中,n在50与200之间的范围内。
乙烯基官能硅油包含具有Si-CH=CH2基团的有机硅组分。示例性乙烯基官能硅油包括乙烯基封端的硅油、以及其中Si-CH=CH2基团接枝到聚合物链上的乙烯基接枝的硅油、以及它们的组合。
示例性乙烯基封端的硅油包括乙烯基封端的聚二甲基硅氧烷,诸如DMS-V00(重均分子量(Mw)为186道尔顿)、DMS-V03(Mw为约500道尔顿)、DMS-V05(Mw为约800道尔顿)、DMS-V21(Mw为约6,000道尔顿)、DMS-V22(Mw为约9400道尔顿)、DMS—V25(Mw为约17,200道尔顿)、DMS-V25R(Mw为约17,200道尔顿)、DMS—V35(Mw为约49,500道尔顿)、DMS—V35R(Mw为约49,500道尔顿),它们各自购自盖尔斯公司(Gelest,Inc)。示例性乙烯基封端的硅油包括乙烯基封端的二苯基硅氧烷-二甲基硅氧烷共聚物,诸如PDV-0325(Mw为约15,500道尔顿)、PDV-0331(Mw为约27,000道尔顿)、PDV-0525(Mw为约14,000道尔顿)、PDV-1625(Mw为约9,500道尔顿)、PDV-1631(Mw为约19,000道尔顿)、PDV-2331(Mw为约12,500道尔顿),它们各自购自盖尔斯公司。示例性乙烯基封端的硅油包括乙烯基封端的聚苯基甲基硅氧烷,诸如购自盖尔斯公司的PMV-9925(Mw为约2000道尔顿-3000道尔顿)。示例性乙烯基封端的硅油包括乙烯基封端的二乙基硅氧烷-二甲基硅氧烷共聚物,诸如购自盖尔斯公司的EDV-2025(Mw为约16,500道尔顿-19,000道尔顿)。
示例性乙烯基封端的硅油包括乙烯基封端的聚二甲基硅氧烷,诸如DMS-V41(Mw为约62,700道尔顿)、DMS-V42(Mw为约72,000道尔顿)、DMS-V46(Mw为约117,000道尔顿)、DMS-V51(Mw为约140,000道尔顿)和DMS-V52(Mw为约155,000道尔顿),它们各自购自盖尔斯公司。
示例性乙烯基接枝的硅油包括乙烯基甲基硅氧烷均聚物,诸如VMS-005(Mw为约258道尔顿-431道尔顿)、VMS-T11(Mw为约1000道尔顿-1500道尔顿),两者均购自盖尔斯公司。示例性乙烯基接枝的硅油包括乙烯基甲基硅氧烷-二甲基硅氧烷共聚物,诸如三甲基硅烷氧基封端的硅油、硅醇封端的硅油和乙烯基封端的硅油。
在一个示例性实施方案中,乙烯基接枝的硅油为乙烯基甲基硅氧烷三元共聚物,包括乙烯基甲基硅氧烷-辛基甲基硅氧烷-二甲基硅氧烷三元共聚物诸如VAT-4326(Mw为约10,000道尔顿-12,000道尔顿)、或乙烯基甲基硅氧烷-甲氧基聚乙烯氧丙基甲基硅氧烷-二甲基硅氧烷三元共聚物诸如VBT-1323(Mw为约8,000道尔顿-12,000道尔顿)、或乙烯基甲基硅氧烷-苯基甲基硅氧烷-二甲基硅氧烷(Mw为约2,500道尔顿-3,000道尔顿);它们各自购自盖尔斯公司。示例性乙烯基接枝的硅油包括乙烯基甲基硅氧烷-二甲基硅氧烷共聚物,诸如三甲基硅烷氧基封端的硅油、硅醇封端的硅油和乙烯基封端的硅油。
在一个示例性实施方案中,乙烯基接枝的硅油是乙烯基甲基硅氧烷三元共聚物。在一个示例性实施方案中,乙烯基官能硅油包括乙烯基T树脂或乙烯基Q树脂。
在一个示例性实施方案中,硅油为乙烯基官能油,诸如购自润禾公司的RH-Vi303、RH-Vi301,诸如购自安必亚特种有机硅公司的VS 200、/>VS 1000。
示例性长链乙烯基封端的烷基硅油的重(Mw)均分子量可低至1000道尔顿、9000道尔顿、20000道尔顿,高至30000道尔顿、100000道尔顿、200000道尔顿,或在任意两个前述值之间限定的任意范围内,如由凝胶渗透色谱法(GPC)所测定的。
示例性长链乙烯基封端的烷基硅油的运动粘度可低至10cSt、100cSt、500cSt,高至5000cSt、50000cSt、100000cSt,或在任意两个前述值之间限定的任意范围内,如根据ASTM D445测量的。在一个示例性实施方案中,示例性长链乙烯基封端的烷基硅油具有2000cSt的运动粘度。在另一个示例性实施方案中,示例性长链乙烯基封端的烷基硅油具有1000cSt的运动粘度。在另一个示例性实施方案中,示例性长链乙烯基封端的烷基硅油具有5000cSt的运动粘度。
基于TIM的总重量计,TIM可包含一种或多种如下量的长链乙烯基封端的烷基硅油:低至0.5重量%、0.75重量%、1重量%,高至2重量%、3.5重量%、5重量%,或者在任意两个前述值之间限定的任意范围内,诸如0.5重量%至5重量%、0.75重量%至3.5重量%、或1重量%至3.5重量%。在一个示例性实施方案中,TIM包含约3重量%的量的长链乙烯基封端的烷基硅油。在另一个示例性实施方案中,TIM包含约2重量%的量的长链乙烯基封端的烷基硅油。
d.长链单端羟基封端的硅油
TIM的另一个示例性长链硅油可包括长链单端羟基封端的硅油。单端羟基官能团在导热填料上提供良好的润湿,并且长链硅油的末端有助于改善与本发明配制物中的其他硅油的相容性。另外,长链有机硅油在配制物的固化或其他加工期间降低硅油的潜在蒸发。基于此类功能,长链单端羟基封端的硅油可减小导热填料之间的摩擦。示例性长链单端羟基封端的硅油可具有如下所示的通式:
在上文所示的通式中,n在低至5、10、50、100、500,高至1000、2000、5000、10000的范围内,或在任意两个前述值之间限定的任意范围内;x低至2、4、6、8、10、12,高至16、18、20、24、28、32,或在任意两个前述值之间限定的任意范围内,诸如在2与32之间、在6与16之间和在4与12之间,并且m在0、5、10、50、100、200的范围内,或高至500、1000、2000、5000,或在任意两个前述值之间限定的任意范围内,诸如在5与5000之间、在5与50之间和在50与500之间。此外,n+m在低至10、30、50、100、200、500,或高至1000、2000、5000、10000、15000的范围内,或在任意两个前述值之间限定的任意范围内,诸如在10与10000之间、在1000与5000之间和在500与2000之间。在一个示例性实施方案中,x在4与16之间的范围内。在另一个示例性实施方案中,x在5与15之间的范围内。在另一个示例性实施方案中,x在7与11之间的范围内。在一个示例性实施方案中,n在10与100之间的范围内。在另一个示例性实施方案中,n在100与500之间的范围内。在另一个示例性实施方案中,n在500与2000之间的范围内。在另一个示例性实施方案中,n在2000与5000之间的范围内。在另一个示例性实施方案中,n在5000与10000之间的范围内。在一个示例性实施方案中,m为0。在另一个示例性实施方案中,m在1与20之间的范围内。在另一个示例性实施方案中,m在10与100之间的范围内。在另一个示例性实施方案中,m在50与500之间的范围内,y在1与3之间的范围内,并且R为烃基。当单端羟基封端的硅油的分子量不高于10000道尔顿时,或者单端羟基封端的硅油到最终热界面材料中的负载不高于2重量%并且m可为0。在一个示例性实施方案中,m+n在10与100之间的范围内。在另一个示例性实施方案中,m+n在100与500之间的范围内。在另一个示例性实施方案中,m+n在500与2000之间的范围内。在另一个示例性实施方案中,m+n在2000与5000之间的范围内。在另一个示例性实施方案中,m+n在5000与10000之间的范围内。
羟值是化学物质中游离羟基基团含量的量度,通常以氢氧化钾(KOH)的质量单位(以毫克为单位)表示,等效于一克化学物质的羟基含量。在一般的分析方法中,羟值(mgKOH/g)被定义为中和乙酸所需的氢氧化钾的质量(以毫克为单位),乙酸在一克长链单端羟基封端的硅油乙酰化时被吸收。用于测定羟值的传统分析方法涉及在吡啶溶剂中用乙酸酐乙酰化该物质的游离羟基基团。在反应完成后,添加水,并且将剩余的未反应乙酸酐转化成乙酸并通过用氢氧化钾滴定来测量。羟值可使用以下公式计算。
HV=[56.1*N*(VB-Vacet)]/Wacet
其中HV为羟值;VB为空白滴定所需的氢氧化钾溶液的量(mL);Vacet是乙酰化样品滴定所需的氢氧化钾溶液的量(mL);Wacet是用于乙酰化的样品的重量(以克计);N为滴定剂的当量浓度;56.1为氢氧化钾的分子量。
示例性长链单端羟基封端的硅油的羟值可低至0.001mg KOH/g、0.01mgKOH/g、0.1mgKOH/g、1mgKOH/g、5mgKOH/g,高至10mgKOH/g、20mgKOH/g、50mgKOH/g、100mgKOH/g,或在任意两个前述值之间限定的任意范围内,诸如0.01mgKOH/g至100mgKOH/g、1mgKOH/g至5mgKOH/g、1mgKOH/g至50mgKOH/g,如通过一般KOH(氢氧化钾)滴定方法所测定的。在一个示例性实施方案中,示例性长链单端羟基封端的硅油的羟值在5mgKOH/g至35mgKOH/g范围内。
示例性长链单端羟基封端的硅油的重(Mw)均分子量可低至500道尔顿、2000道尔顿、5000道尔顿,高至6000道尔顿、50000道尔顿、100000道尔顿,或在任意两个前述值之间限定的任意范围内,如由凝胶渗透色谱法(GPC)所测定的。
示例性长链单端羟基封端的硅油的运动粘度可低至10cSt、100cSt、300cSt,高至500cSt、1000cSt、5000cSt,或在任意两个前述值之间限定的任意范围内,如根据ASTM D445测量的。在一个示例性实施方案中,示例性长链单端羟基封端的硅油的运动粘度在100cSt与150cSt之间。
基于TIM的总重量计,TIM可包含一种或多种如下量的长链单端羟基封端的硅油:低至0.5重量%、0.67重量%、0.75重量%,高至1重量%、1.25重量%、2重量%,或者在任意两个前述值之间限定的任意范围内,诸如0.5重量%至2重量%、0.75重量%至1.25重量%、或1重量%至1.25重量%。在一个示例性实施方案中,TIM包含约1重量%的量的长链单端羟基封端的硅油。在另一个示例性实施方案中,TIM包含约1.2重量%的量的长链单端羟基封端的硅油。
2.催化剂
TIM还包含一种或多种用于催化加成反应的催化剂。示例性催化剂包括含铂材料和含铑材料。示例性含铂催化剂可具有如下所示的通式:
示例性含铂催化剂包括:铂环乙烯基甲基硅氧烷络合物(Ashby Karstedt催化剂)、铂羰基环乙烯基甲基硅氧烷络合物(Ossko催化剂)、二乙烯基四甲基二硅氧烷二甲基富马酸铂络合物、二乙烯基四甲基二硅氧烷二甲基马来酸铂络合物等。示例性铂羰基环乙烯基甲基硅氧烷络合物包括SIP6829.2,示例性铂二乙烯基四甲基二硅氧烷络合物包括SIP6830.3和SIP6831.2,示例性铂环乙烯基甲基硅氧烷络合物包括SIP6833.2,它们全部购自盖尔斯公司。另外的示例性含铂材料催化剂包括购自瓦克化学公司(Wacker Chemie AG)的Catalyst OL,以及购自联合化学技术公司(United Chemical Technologies Inc)的PC065、PC072、PC073、PC074、PC075、PC076、PC085、PC086、PC087、PC088。
示例性含铑材料包括三(二丁基硫醚)三氯化铑,产品代码为INRH078,购自盖尔斯公司。
不希望受到任何特定理论的束缚,据信铂催化剂与乙烯基硅油和含氢硅油反应。
基于硅油的总重量计,TIM可包含一种或多种如下量的催化剂:低至5ppm、10ppm、15ppm、20ppm,高至25ppm、30ppm、40ppm、50ppm、100ppm、200ppm、500ppm、1000ppm,或在任意两个前述值之间限定的任意范围内,诸如10ppm至30ppm、20ppm至100ppm、或5ppm至500ppm。
在一个示例性实施方案中,以与一种或多种硅油的混合物的形式提供催化剂。在一个示例性实施方案中,将含铂材料催化剂与官能硅油混合,诸如购自信越公司的KE-1012-A、KE-1031-A、KE-109E-A、KE-1051J-A、KE-1800T-A、KE1204A、KE1218A,诸如购自蓝星公司的RT Gel 4725SLD A,诸如购自瓦克公司的/>612A、/>LR 3153A、/>LR 3003A、/>LR 3005A、/>961A、927A、/>205A、/>9212A、/>2440,诸如购自迈图公司的/>LSR 2010A,诸如购自道康宁公司的/>RBL-9200A、/>RBL-2004A、/>RBL-9050A、/>RBL-1552A、/>FL 30-9201A、/>9202A、/>9204A、/>9206A、184A、Dow/>QP-1 A、Dow/>C6 A、Dow/>CV9204 A。
示例性催化剂包括氯铂酸。
基于TIM的总重量计,TIM可包含如下量的催化剂:低至0.01重量%、0.1重量%、0.2重量%,高至0.3重量%、0.4重量%、0.5重量%,或在任意两个前述值之间限定的任意范围内。在一个示例性实施方案中,TIM包含约0.01重量%的量的催化剂。
3.加成抑制剂
TIM包含一种或多种用于抑制或限制硅油交联的加成抑制剂。加成抑制剂包含至少一种炔基化合物,并且任选地,加成抑制剂还包含多乙烯基官能聚硅氧烷。
示例性加成抑制剂包括炔醇,诸如1-乙炔基-1-环己醇、2-甲基-3-丁炔-2-醇、2-苯基-3-丁炔-2-醇、2-乙炔基-异丙醇、2-乙炔基-丁烷-2-醇和3,5-二甲基-1-己炔-3-醇;甲硅烷基化炔醇,诸如三甲基(3,5-二甲基-1-己炔-3-氧基)硅烷、二甲基-双-(3-甲基-1-丁炔-氧基)硅烷、甲基乙烯基双(3-甲基-1-丁炔-3-氧基)硅烷和((1,1-二甲基-2-丙炔基)氧基)三甲基硅烷;不饱和羧酸酯,诸如马来酸二烯丙酯、马来酸二甲酯、富马酸二乙酯、富马酸二烯丙酯和马来酸双-2-甲氧基-1-甲基乙酯、马来酸单辛酯、马来酸单异辛酯、马来酸单烯丙酯、马来酸单甲酯、富马酸单乙酯、富马酸单烯丙酯、马来酸2-甲氧基-1-甲基乙酯;富马酸酯/醇混合物,诸如其中醇选自苄醇或1-辛醇和乙炔基环己基-1-醇的混合物;共轭烯炔,诸如2-异丁基-1-丁烯-3-炔、3,5-二甲基-3-己烯-1-炔、3-甲基-3-戊烯-1-炔、3-甲基-3-己烯-1-炔、1-乙炔基环己烯、3-乙基-3-丁烯-1-炔和3-苯基-3-丁烯-1-炔;乙烯基环硅氧烷,诸如1,3,5,7-四甲基-1,3,5,7-四乙烯基环四硅氧烷,以及共轭烯炔和乙烯基环硅氧烷的混合物。在一个示例性实施方案中,加成抑制剂选自2-甲基-3-丁炔-2-醇或3-甲基-1-戊炔-3-醇。
在一些示例性实施方案中,加成抑制剂还包括多乙烯基官能聚硅氧烷。示例性多乙烯基官能聚硅氧烷是乙炔基环己醇中的乙烯基封端的聚二甲基硅氧烷,诸如购自瓦克化学公司(Wacker Chemie AG)的Pt抑制剂88。不希望受到任何特定理论的束缚,据信铂催化剂与乙炔基环己醇和乙烯基封端的聚二甲基硅氧烷形成络合物,如下所示。
据信络合物的形成降低了室温下的催化剂活性,因此保持了TIM的可分配性和润湿性。在较高的固化步骤温度下,Pt会从络合物中释放出来,并且有助于乙烯基官能硅油和氢化物官能硅油的氢化硅烷化,提供对交联的更好地控制。
在一些示例性实施方案中,基于TIM的总重量计,TIM可包含一种或多种如下量的加成抑制剂:低至0.01重量%、0.02重量%、0.05重量%、0.1重量%、0.15重量%,高至0.2重量%、0.25重量%、0.3重量%、0.5重量%、1重量%、3重量%、5重量%,或者在任意两个前述值之间限定的任意范围内,诸如0.01重量%至1重量%、0.01重量%至0.5重量%、或0.05重量%至0.2重量%。在一个示例性实施方案中,TIM包含0.018重量%的量的加成抑制剂。在另一个示例性实施方案中,TIM包含0.02重量%的量的加成抑制剂。
不希望受到任何特定理论的束缚,据信在不存在加成抑制剂的情况下,基于加成氢化硅烷化机制,乙烯基官能硅油与氢化物官能硅油非常迅速地反应,以形成不能通过典型方法自动分配的固相。
在一个示例性实施方案中,将加成抑制剂与官能硅油混合,诸如购自信越公司的KE-1056、KE-1151、KE-1820、KE-1825、KE-1830、KE-1831、KE-1833、KE-1842、KE-1884、KE-1885、KE-1886、FE-57、FE-61,诸如购自道康宁公司的7395、/>7610、7817、/>7612、/>7780。
4.交联硅油(交联剂)
热凝胶还可包含交联硅油。交联硅油可包含Si-H基团。示例性硅油包括具有如下所示通式的含氢硅油。示例性含氢硅油在与初级硅油的加成反应中充当交联剂。
通过碘量滴定法测试交联硅油中Si-H基团的摩尔比。碘量滴定法包括:在锡纸包裹的锥形烧瓶中称量约0.1克氢化硅油。将20mL四氯化碳(CCl4)添加到烧瓶中以溶解硅油,并且将烧瓶进一步密封以避免曝光。然后,将过量的溴乙酸溶液(可用率为约10mL)与10mL水一起添加到烧瓶中。将烧瓶进一步密封以避免曝光。三十分钟后,打开密封并将25ml 10重量%的碘化钾(KI)水溶液添加到溶液中。然后将溶液振动1至2分钟。然后添加标准的0.1mol/L硫代硫酸钠(Na2S2O3)水溶液,一边振动一边滴定样品溶液。将1mL的1重量%淀粉水溶液添加到溶液中作为指示剂。当溶液的颜色(例如,蓝色)改变时,停止滴定并计算硫代硫酸钠的消耗量。然后对其他样品重复此过程。为了制备对照样品,在不使用硅油的情况下重复此过程。Si-H基团的含量(mmol/g)如下
其中:N2为Si-H基团的摩尔比(mmol/g);Vd为氢化硅油样品的硫代硫酸钠溶液滴定的体积(ml);Vc为空白样品的硫代硫酸钠溶液滴定的体积(ml);G2为氢化硅油的重量(g);M2为标准硫代硫酸钠溶液的摩尔浓度(mol/l)。
硅油中Si-H基团的摩尔比(mmol/g)的量可低至0.0001、0.001、0.01、0.1,高至1、5、10、50,或在上述任意两个值之间定义的任何范围内,诸如0.01至1、0.1至5或0.0001至50。在一个示例性实施方案中,Si-H基团的摩尔比的量为0.2至2。
在一个示例性实施方案中,交联硅油包括具有有机硅组分和Si-H基团的氢化物官能硅油。示例性氢化物官能硅油包括氢化物封端的硅油、以及其中Si-H基团接枝到聚合物链上的氢化物接枝的硅油、以及它们的组合。
在一个示例性实施方案中,氢化物封端的硅油是氢化物封端的聚二甲基硅氧烷,诸如DMS-H05、DMS-H21、DMS-H25、DMS-H31或DMS-H41,各自购自盖尔斯公司。在一个示例性实施方案中,氢化物封端的硅油是甲基氢硅氧烷-二甲基硅氧烷共聚物,诸如三甲基硅烷氧基封端的或氢化物封端的。示例性三甲基硅烷氧基封端的共聚物包括HMS-013、HMS-031、HMS-064、HMS-071、HMS-082、HMS-151、HMS-301、HMS-501;示例性氢化物封端的共聚物包括HMS-H271;它们各自购自盖尔斯公司。在一个示例性实施方案中,氢化物接枝的硅油是三甲基硅烷氧基封端的聚甲基氢硅氧烷,诸如HMS-991、HMS-992、HMS-993,各自购自盖尔斯公司。
在一个示例性实施方案中,氢化物接枝的硅油是三乙基硅烷氧基封端的聚乙基氢硅氧烷,诸如购自盖尔斯公司的HES-992。在一个示例性实施方案中,氢化物接枝的硅油是甲基氢硅氧烷-辛基甲基硅氧烷共聚物,诸如购自盖尔斯公司的HAM-301。
在一个示例性实施方案中,氢化物官能油是Q树脂或T树脂。示例性T树脂包括SST-3MH1.1,示例性Q树脂包括HQM-105和HQM-107,各自购自盖尔斯公司。
在一个示例性实施方案中,聚硅氧烷是氢化物官能油,诸如购自安必亚特种有机硅公司的XL-10、/>XL-12,诸如购自润禾公司的RH-DH04和RH-H503,诸如购自信越公司的KE-1012-B、KE-1031-B、KE-109E-B、KE-1051J-B、KE-1800T-B、KE1204B、KE1218B,诸如购自蓝星公司的/>RT Gel 4725 SLD B,诸如购自瓦克公司的612 B、/>LR 3153B、/>LR 3003B、/>LR3005B、/>961B、/>927B、/>205B、/>9212B、/>2440,诸如购自迈图公司的/>LSR 2010B,诸如购自道康宁公司的/>RBL-9200 B、/>RBL-2004B、/>RBL-9050B、/>RBL-1552 B、/>FL 30-9201 B、/>9202 B、/>9204B、/>9206 B、/>184B、Dow/>QP-1 B、Dow/>C6 B、DowCV9204 B。
在一个示例性实施方案中,聚硅氧烷包括硅橡胶,诸如购自信越公司的KE系列产品,诸如购自蓝星公司的诸如购自瓦克公司的/>知/>诸如购自迈图公司的/>诸如购自道康宁公司的Dow 和/>诸如购自安必亚特种有机硅公司的/>其他聚硅氧烷购自瓦克公司、信越公司、道康宁公司、迈图公司、蓝星公司、润禾公司、安必亚特种有机硅公司和盖尔斯公司。
如根据ASTM D445测量的,示例性交联硅油的运动粘度可低至0.5cSt、5cSt、100cSt、200cSt,高至1,000cSt、10,000cSt、100,000cSt,或在上述任意两个值之间定义的任何范围内,诸如在0.5cSt和100,000cSt、5cSt和10,000cSt、100cSt和1,000cSt或200cSt和1,000cSt之间。在一个示例性实施方案中,交联硅油的运动粘度在300cSt和700cSt之间。
基于热凝胶的总重量,交联硅油可以如下量存在:低至0.1重量%、0.2重量%、0.4重量%,高至0.6重量%、0.8重量%、1.0重量%,或在任意两个前述值之间限定的任意范围内,诸如0.1重量%至1.0重量%、0.1重量%至0.5重量%、或0.1重量%至0.4重量%。在一个示例性实施方案中,基于热凝胶的总重量,交联硅油为0.45重量%。
示例性硅油的重(Mw)均分子量可低至50道尔顿、100道尔顿、1000道尔顿、10,000道尔顿、50,000道尔顿、70,000道尔顿、100,000道尔顿,高至1,000,000道尔顿、10,000,000道尔顿、100,000,000道尔顿,或在上述任意两个值之间定义的任何范围内,诸如在50道尔顿和100,000,000道尔顿、1000道尔顿至10,000,000道尔顿或50,000道尔顿至1,000,000道尔顿之间。
通过将第二组分中交联硅油的Si-H基团的摩尔比(mmol/g)除以第二组分中交联硅油的重量(g),计算总配方中Si-H基团的总含量(TSi-H,mmol)。
通过TSi-H/T乙烯基计算的Si-H基团总含量(TSi-H)与乙烯基基团总含量(T乙烯基)的比率的量可低至0.0001、0.001、0.01,高至0.1、1、10、100,1000,或在任意两个前述值之间限定的任意范围内,诸如在0.001至0.1、0.01至1或0.001至100之间。在示例性配方中,Si-H基团的总含量(TSi-H)与乙烯基基团的总含量(T乙烯基)的比率可以在0.03至10之间。
5.偶联剂
TIM还可包含一种或多种偶联剂,这些偶联剂起到与填料和硅油的聚合物基质两者相互作用的作用,以促进两种材料的界面处的强粘结。这有助于分离填料颗粒聚集体,将填料颗粒分散到聚合物基质中,并且使导热填料更好地粘附到聚合物基质。示例性偶联剂包括具有通式Y-(CH2)n-Si-X3的硅烷偶联剂,其中Y为有机官能团,X为可水解基团并且n为10-20。有机官能团Y包括烷基、缩水甘油氧基、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、胺。可水解基团X包括烷氧基、乙酰氧基。在一些示例性实施方案中,硅烷偶联剂包括烷基三烷氧基硅烷。示例性烷基三烷氧基硅烷包括癸基三甲氧基硅烷、十一烷基三甲氧基硅烷、十六烷基三甲氧基硅烷、十八烷基三甲氧基硅烷。其他示例性偶联剂包括硅烷偶联剂和有机金属化合物,诸如包括钛酸盐偶联剂和锆酸盐偶联剂。示例性硅烷偶联剂包括具有脂族基团的硅烷偶联剂。示例性偶联剂包括2,2(双2-丙烯醇根合甲基)丁醇根合,三(二辛基)焦磷酸根合-O钛IV;2-丙醇根合,三(二辛基)-焦磷酸根合-O)钛IV与1摩尔亚磷酸二异辛酯的加合物;双(二辛基)焦磷酸根合-O,氧代乙二醇根合钛IV(加合)双(二辛基)(氢)亚磷酸酯-O;双(二辛基)焦磷酸根合-O,乙二醇根合钛IV(加合)双(二辛基)氢亚磷酸酯;2,2(双2-丙烯醇根合甲基)丁醇根合,三(二异辛基)焦磷酸根合-O锆IV;2,2-双(2-丙烯醇根合甲基)丁醇根,环二[2,2-(双2-丙烯醇根合甲基)丁醇根合],焦磷酸根合-O,O锆IV和十六烷基三甲氧基硅烷。在另一个示例性实施方案中,偶联剂为购自肯里奇化学公司(Kenrich Chemical Company)的KR-TTS。
在一个示例性实施方案中,TIM包括十六烷基三甲氧基硅烷作为偶联剂,如下式所示。
示例性偶联剂与示例性填料相互作用,如以下示例性反应中所示。氧化铝是用于以下反应中的代表性填料;然而,可使用其他另选的填料。如图所示,将偶联剂添加到水中并进行水解以去除乙醇盐基团。然后产物经历改性反应,其中水被去除并且偶联剂和氧化铝键合在一起。
在一些示例性实施方案中,基于TIM的总重量计,TIM可包含一种或多种如下量的偶联剂:低至0.1重量%、0.25重量%、0.5重量%、0.67重量%、0.75重量%,高至1重量%、1.5重量%、2重量%、5重量%、10重量%,或在任意两个前述值之间限定的任意范围内,诸如0.1重量%至10重量%、0.1重量%至1重量%或0.25重量%至0.67重量%。在一个示例性实施方案中,TIM包含0.6重量%的量的偶联剂。
上述TIM的组分(长链烷基硅油;长链乙烯基封端的烷基硅油;长链单端羟基封端的硅油;交联剂;催化剂;抑制剂;和偶联剂)形成聚合物基质,所述聚合物基质与一种或多种导热填料组合以形成TIM。基于TIM的总重量计,TIM的聚合物基质的量可低至3重量%、4重量%、5重量%,高至10重量%、12.5重量%、15重量%,或在任意两个前述值之间限定的任意范围内,诸如3重量%至15重量%、4重量%至12.5重量%、或5重量%至10重量%。在一个示例性实施方案中,TIM包含约8.42重量%的量的聚合物基质。在另一个示例性实施方案中,TIM包含约6.2重量%的量的聚合物基质。
6.导热填料
TIM包含一种或多种导热填料。示例性导热填料包括金属、合金、非金属、金属氧化物和陶瓷、以及它们的组合。金属包括但不限于铝、铜、银、锌、镍、锡、铟和铅。非金属包括但不限于碳、石墨、碳纳米管、碳纤维、石墨烯、氮化硼和氮化硅。金属氧化物或陶瓷包括但不限于氧化铝(铝氧化物)、氮化铝、氮化硼、氧化锌和氧化锡。
基于TIM的总重量计,TIM可包含一种或多种如下量的导热填料:低至10重量%、20重量%、25重量%、50重量%,高至75重量%、80重量%、85重量%、90重量%、95重量%、97重量%,或者在任意两个前述值之间限定的任意范围内,诸如10重量%至95重量%、50重量%至95重量%、或85重量%至97重量%。
示例性导热填料可具有以下平均粒度:低至0.1微米、1微米、10微米,高至50微米、75微米、100微米,或在任意两个前述值之间限定的任意范围内。
在一个示例性实施方案中,TIM可包含第一导热填料和第二导热填料,其中第一导热填料和第二导热填料各自具有大于1微米的平均粒度。
在一个示例性实施方案中,TIM可包含第一导热填料、第二导热填料和第三导热填料,其中第一导热填料具有大于10微米的平均粒度,第二导热填料具有以下平均粒度:低至1微米、2微米、4微米,高至6微米、8微米、10微米,或者在任意两个前述值之间限定的任意范围内,并且第三导热填料具有小于1微米的平均粒度。
在一个示例性实施方案中,相对于总TIM组合物,TIM包含如下量的第一导热填料:低至30重量%、35重量%、40重量%,高至45重量%、50重量%、60重量%,或者在任意两个前述值之间限定的任意范围内。第一导热填料可具有以下平均粒度:低至30微米、35微米、40微米,高至45微米、50微米、60微米,或者在任意两个前述值之间限定的任意范围内。相对于总TIM组合物,示例性TIM还包含如下量的第二导热填料:低至30重量%、35重量%、40重量%,高至45重量%、50重量%、60重量%,或者在任意两个前述值之间限定的任意范围内。第二导热填料可具有以下平均粒度:低至1微米、3微米、5微米,高至10微米、15微米、20微米,或在任意两个前述值之间限定的任意范围内。
在一个示例性实施方案中,相对于总TIM组合物,TIM包含如下量的第一导热填料:低至30重量%、35重量%、40重量%,高至45重量%、50重量%、60重量%,或者在任意两个前述值之间限定的任意范围内。第一导热填料具有以下平均粒度:低至30微米、35微米、40微米,高至45微米、50微米、60微米,或者在任意两个前述值之间限定的任意范围内。相对于总TIM组合物,示例性TIM还包含如下量的第二导热填料:低至5重量%、10重量%、15重量%,高至25重量%、30重量%、40重量%,或者在任意两个前述值之间限定的任意范围内。第二导热填料具有以下平均粒度:低至1微米、3微米、5微米,高至10微米、15微米、20微米,或在任意两个前述值之间限定的任意范围内。相对于总TIM组合物,示例性TIM还包含如下量的第三导热填料:低至5重量%、10重量%、15重量%,高至25重量%、30重量%、40重量%,或者在任意两个前述值之间限定的任意范围内。第三导热填料具有以下平均粒度:低至0.1微米、0.3微米、0.5微米,高至1微米、1.5微米、2微米,或在任何两个前述值之间限定的任何范围内。
示例性导热填料包括陶瓷填料或不同尺寸的金属填料,诸如铝、氧化铝和氧化锌。
6.热界面材料的示例性制剂
在第一非限制性示例性实施方案中,TIM包含约2重量%至约10重量%的至少一种长链硅油、约0.1重量%至约5重量%的偶联剂、约50重量%至约95重量%的导热填料、约0.1重量%至约5重量%的加成抑制剂、约0.1重量%至约5重量%的加成催化剂和约0.1重量%至1.0重量%的交联剂。
在第二非限制性示例性实施方案中,TIM包含约2重量%至约10重量%的至少一种长链硅油、约0.1重量%至约5重量%的偶联剂、约25重量%至约50重量%的第一导热填料、约25重量%至约50重量%的第二导热填料、约0.1重量%至约5重量%的加成抑制剂、约0.1重量%至约5重量%的加成催化剂和约0.1重量%至1.0重量%的交联剂。
在第三非限制性示例性实施方案中,TIM包含约2重量%至约10重量%的至少一种长链硅油、约0.1重量%至约5重量%的偶联剂、约25重量%至约50重量%的第一导热填料、约5重量%至约40重量%的第二导热填料、约5重量%至约40重量%的第三导热填料、约0.1重量%至约5重量%的加成抑制剂、约0.1重量%至约5重量%的加成催化剂和约0.1重量%至1.0重量%的交联剂。
7.热界面材料的示例性特性
在一些示例性实施方案中,如上所述的热界面材料具有后固化弹性性能(例如,压缩后恢复)、高热导率、粘度和硬度。通过在室温下对热界面材料/凝胶施加压缩力至基于热界面材料/凝胶原始厚度的50%应变/压缩2小时来测试热界面材料的后固化恢复率。然后,释放压缩力,并且将热界面材料/凝胶松弛1小时,之后测量热界面材料/凝胶的厚度。厚度差表示热界面材料/凝胶的恢复。
在一些示例性实施方案中,如上所述的热界面材料具有优异的后固化弹性/恢复性能。基于压缩之前的热界面材料/凝胶的厚度,热界面材料/凝胶的弹性/恢复性能在低至75%恢复率、80%恢复率、85%恢复率,高至90%恢复率、95%恢复率、100%恢复率的范围内,或者在任意两个前述值之间限定的任意范围内。在一个示例性实施方案中,热界面材料/凝胶具有约85%的恢复率。在另一个示例性实施方案中,热界面材料/凝胶具有约100%的恢复率。
在一些示例性实施方案中,如上所述的热界面材料的热导率低至1W/m.K、2W/m.K、3W/m.K,高至4W/mK、7W/m.K、10W/m.K,或在任意两个前述值之间限定的任意范围内。示例性热导率测试方法标准是ASTM D5470。在一个示例性实施方案中,如上所述的热界面材料具有约3.5W/m.K的热导率。在另一个示例性实施方案中,如上所述的热界面材料具有约4.7W/m.K的热导率。
在一些示例性实施方案中,如上所述的热界面材料在23℃下具有如以下的预固化粘度;低至100Pa.s、150Pa.s、200Pa.s,高至250Pa.s、275Pa.s、300Pa.s,或在任意两个前述值之间限定的任意范围内。示例性粘度测试方法标准是DIN 53018。在一个具体实施方案中,通过哈克(Haake)粘度计测试粘度。在一个示例性实施方案中,热界面材料具有大于120Pa.s的粘度。在另一个示例性实施方案中,热界面材料具有大于275Pa.s的粘度。
在一些示例性实施方案中,如上所述的热界面材料的后固化硬度值低至25肖氏OO、30肖氏OO、35肖氏OO,高至40肖氏OO、45肖氏OO、50肖氏OO,或在任意两个前述值之间限定的任意范围内,诸如在25肖氏OO与50肖氏OO之间,在25肖氏OO与45肖氏OO之间,或在25肖氏OO与40肖氏OO之间,例如,如通过肖氏OO型硬度计和ASTM D2240所测定的。在一个示例性实施方案中,热界面材料具有25肖氏OO的硬度。在另一个示例性实施方案中,热界面材料具有40肖氏OO的硬度。
B.形成热界面材料的方法
现在参见图1,示出了制备热界面材料的示例性方法100。如图所示,对长链烷基硅油;长链乙烯基硅油;长链单端羟基封端的硅油;偶联剂;催化剂;和抑制剂进行称重并且添加到搅拌器中,如方框102所示。然后将混合物在室温下混合15分钟,也如方框102所示。然后,在方框104处,将交联剂添加到混合器中,并且将混合物混合10分钟。之后,在方框106处,将最大尺寸的导热填料添加到混合器中并与混合物混合10分钟。然后,将次最大尺寸(例如,中等尺寸)的导热填料添加到混合器中,并且将后续混合物再混合10分钟,如方框108所示。然后,如方框110所示,将最小尺寸的导热填料添加到混合器中,并且将混合物再混合30分钟。然后向混合器和混合物施加真空,同时继续再混合30分钟,如方框112所示。之后,在方框114处,停止真空,并且在方框116处包装和/或随后固化所得的混合物/配制物。
C.利用热界面材料的应用
再次参考图1,在一些示例性实施方案中,热界面材料作为TIM 1定位在电子部件12和散热器14之间,如TIM 18所示。在一些示例性实施方案中,热界面材料作为TIM 2定位在散热器14和散热片16之间,如TIM20所示。在一些示例性实施方案中,热界面材料作为TIM1.5(未示出)定位在电子部件12和散热片16之间。
实施例
实施例1
实施例1、实施例2、实施例3、实施例4、比较实施例1(Comp.Ex.1)、比较实施例2(Comp.Ex.2)、比较实施例3(Comp.Ex.3)以及比较实施例4(Comp.Ex.4)的热界面材料根据下表1中提供的配制物制备。配制物相应的特性也在表1中示出并在下文进一步讨论。
表1:实施例1、实施例2、实施例3、实施例4、比较实施例1、比较实施例2、比较实施 例3和比较实施例4的配制物(重量%)
为了制备实施例1的配制物,将硅油、偶联剂、催化剂和抑制剂组合并在混合器中混合15分钟。然后添加交联剂,并将后续混合物混合10分钟。然后添加平均直径为40μm的导热填料,并将混合物混合10分钟。然后,添加平均直径为5μm的导热填料,并将所得的混合物混合30分钟。之后,对混合物施加真空混合30分钟以移除气泡并获得实施例1的样品。
为了制备实施例2的配制物,执行如上所述的实施例1的制备步骤,并且将平均直径为0.5μm的导热填料添加到混合物中,并在施加真空混合之前将所得混合物混合。
以类似于实施例1和2的方式制备比较实施例1和2;然而,使用粘度为500mPa.s的乙烯基封端的硅油代替实施例1和2的长链硅油。
如前所述,通过哈克粘度计测试样品的粘度。通过肖氏OO型硬度计测试硬度。通过基于ASTMD5470标准的TIM测试仪测试热导率。
通过以下方法进行恢复测试。将热凝胶样品压缩至2毫米(mm)的厚度并在150℃的烘箱中完全固化。然后将样品冲切成具有1英寸直径的圆形垫。然后,将圆形垫压缩至50%应变或圆形垫原始厚度(即,1mm)的50%,并在室温下保持压缩状态2小时。然后释放压缩力,并且将圆形垫松弛1小时,之后测量其厚度并且确定恢复率-如果测量的厚度为2mm,则恢复率为100%;如果厚度为1mm,则恢复率为0%。
如上表1中所示,与比较实施例1和比较实施例2相比,实施例1和2显示出固化前的粘度降低、硬度值降低以及热导率值相当。
此外,实施例1和2表现出相比于比较实施例1和2更大的恢复性能。具体地讲,实施例1和2分别表现出100%和85%的恢复率。相比之下,比较实施例1和2分别表现出50%和20%的较低恢复率。
实施例3显示,具有高导热填料负载(热导率大于7.5W/M K)的热界面材料也表现出相比于比较实施例3更好的弹性性能。然而,弹性性能小于实施例1和实施例2的弹性性能。
实施例4显示,具有AIN填料的热界面材料(热导率大于11W/m K)在固化前也表现出相比于比较实施例4更好的弹性性能和更低的粘度。然而,弹性性能小于实施例1和实施例2的弹性性能。
尽管已经将本发明描述为具有示例性设计,但是可在本公开的实质和范围内进一步修改本发明。因此,本申请旨在涵盖使用其一般原理的本发明的任何变化、使用或改编。此外,本申请旨在涵盖本发明所属领域的已知或惯常实践内的与本公开的此类偏离,并且其落入所附权利要求的范围内。
方面
方面1为一种热界面材料,所述热界面材料包含聚合物基质,所述聚合物基质包含:至少一种长链烷基硅油;至少一种长链乙烯基封端的烷基硅油;以及至少一种单端羟基封端的硅油;其中所述长链烷基硅油;所述长链乙烯基封端的烷基硅油;以及所述长链单端羟基封端的硅油中的至少一者具有至少一个支链,所述支链具有2个烷基碳至32个烷基碳;以及至少一种导热填料。
方面2为根据方面1所述的热界面材料,其中所述长链烷基硅油具有通式:
其中n在0至5000的范围内,x在2至32的范围内,并且m在5至2000的范围内,并且n+m在50至5000的范围内。
方面3为根据方面1或方面2所述的热界面材料,其中所述长链乙烯基封端的烷基硅油具有通式:
其中n在0至5000的范围内,x在2至32的范围内,并且m在5至5000的范围内,并且n+m在50至10000的范围内。
方面4为根据方面1至3中任一项所述的热界面材料,其中所述长链单端羟基封端的硅油具有通式:
其中R为烷基基团,n在5至1000的范围内,x在2至32的范围内,y在1至3的范围内,m在0至500的范围内,并且n+m在5至1000的范围内。
方面5为根据方面1至4中任一项所述的热界面材料,其中所述长链单端羟基封端的硅油具有在1mgKOH/g至200mgKOH/g范围内的羟值。
方面6为根据方面1至5中任一项所述的热界面材料,其中所述导热填料至少包含85重量%至97重量%之间的第一导热填料和第二导热填料。
方面7为根据方面1至6中任一项所述的热界面材料,其中在室温下施加50%应变2小时后,所述热界面材料具有75%与100%之间的后固化恢复率。
方面8为根据方面1至7中任一项所述的热界面材料,其中所述热界面材料包含0.5重量%至5重量%的所述长链烷基硅油;0.5重量%至5重量%的所述长链乙烯基封端的烷基硅油;
0.5重量%至2重量%的所述长链单端羟基封端的硅油;以及50重量%至95重量%的所述导热填料。
方面9为根据方面1至8中任一项所述的热界面材料,其中所述热界面材料具有在25肖氏OO与50肖氏OO之间的硬度。
方面10为一种热界面材料,所述热界面材料包含聚合物基质,所述聚合物基质包含:至少一种长链硅油,所述至少一种长链硅油具有4个烷基碳至16个烷基碳;其中所述至少一种长链硅油包括:长链烷基硅油;长链乙烯基封端的烷基硅油;以及单端羟基封端的硅油;加成抑制剂;交联剂;催化剂;偶联剂;以及
至少一种导热填料;其中所述热界面材料包含:3重量%至15重量%的所述聚合物基质;以及50重量%至95重量%的所述导热填料。
方面11为根据方面10所述的热界面材料,其中所述热界面材料包含0.5重量%至5重量%的所述长链烷基硅油;0.5重量%至5重量%的所述长链乙烯基封端的烷基硅油;
0.5重量%至2重量%的所述长链单端羟基封端的硅油;0.01重量%至0.5重量%的所述催化剂;0.01重量%至1重量%的所述加成抑制剂;0.1重量%至1重量%的所述交联剂;0.1重量%至10重量%的所述偶联剂;以及50重量%至95重量%的所述导热填料。
方面12为根据方面10或方面11所述的热界面材料,其中所述导热填料包括第一导热填料和第二导热填料,其中所述第一导热填料为具有大于10微米的粒度的金属氧化物、陶瓷或它们的组合,并且所述第二导热填料为具有介于1微米与10微米之间的粒度的金属氧化物。
方面13为根据方面10至12中任一项所述的热界面材料,其中所述长链烷基硅油具有通式:
其中n在0至5000的范围内,x在2至32的范围内,并且m在5至2000的范围内,并且n+m在50至5000的范围内。
方面14为根据方面10至13所述的热界面材料,其中所述长链乙烯基封端的烷基硅油具有通式:
其中n在0至5000的范围内,x在2至32的范围内,并且m在5至5000的范围内,并且n+m在50至10000的范围内。
方面15为根据方面10至14中任一项所述的热界面材料,其中所述长链单端羟基封端的硅油具有通式:
其中R为烷基基团,n在5至1000的范围内,x在2至32的范围内,y在1至3的范围内,m在0至500的范围内,并且n+m在5至1000的范围内。
方面16为一种电子部件,所述电子部件包括散热片;电子芯片;热界面材料,所述热界面材料具有第一表面层和第二表面层,所述热界面材料定位在所述散热片与所述电子芯片之间,所述热界面材料包含:聚合物基质,所述聚合物基质包含:
至少一种长链硅油,所述至少一种长链硅油具有4个烷基碳至16个烷基碳;其中所述至少一种长链硅油包括:长链烷基硅油;长链;乙烯基封端的烷基硅油;以及单端羟基封端的硅油;加成抑制剂;交联剂;催化剂;偶联剂;以及至少一种导热填料;其中所述热界面材料包含:3重量%至15重量%的所述聚合物基质;以及50重量%至95重量%的所述导热填料。
方面17为根据方面16所述的电子部件,其中所述长链烷基硅油具有通式:
其中n在0至5000的范围内,x在2至32的范围内,m在5至2000的范围内,并且n+m在50至5000的范围内。
方面18为根据方面16或方面17所述的电子部件,其中所述长链乙烯基封端的烷基硅油具有通式:
其中n在0至5000的范围内,x在2至32的范围内,并且m在5至5000的范围内,并且n+m在50至10000的范围内。
方面19为根据方面16至18中任一项所述的电子部件,其中所述长链单端羟基封端的硅油具有通式:
其中R为烷基基团,n在5至1000的范围内,x在2至32的范围内,y在1至3的范围内,m在0至500的范围内,并且n+m在5至1000的范围内。
方面20为根据方面16至19中任一项所述的电子部件,其中所述第一表面层与所述电子芯片的表面接触并且所述第二表面层与所述散热片接触。
方面21为根据方面16至20中任一项所述的电子部件,其中所述电子部件还包括定位在所述散热片与所述电子芯片之间的散热器,其中所述第一表面层与所述电子芯片的表面接触,并且所述第二表面层与所述散热器接触。
方面22为根据方面16至21中任一项所述的电子部件,所述电子部件还包括定位在所述散热片与所述电子芯片之间的散热器,其中所述第一表面层与所述散热器的表面接触,并且所述第二表面层与所述散热片接触。

Claims (10)

1.一种热界面材料,所述热界面材料包含:
聚合物基质,所述聚合物基质包含:
至少一种长链烷基硅油;
至少一种长链烷基乙烯基封端的烷基硅油;以及
至少一种长链烷基单端羟基封端的硅油;
其中所述长链烷基硅油;所述长链烷基乙烯基封端的烷基硅油;以及所述长链烷基单端羟基封端的硅油中的至少一者具有至少一个支链,所述支链具有2个烷基碳至32个烷基碳;以及
至少一种导热填料。
2.根据权利要求1所述的热界面材料,其中所述长链烷基硅油具有通式:
其中n在0至5000的范围内,x在2至32的范围内,并且m在5至2000的范围内,并且n+m在50至5000的范围内。
3.根据权利要求2所述的热界面材料,其中所述长链烷基乙烯基封端的烷基硅油具有通式:
其中n在0至5000的范围内,x在2至32的范围内,并且m在5至5000的范围内,并且n+m在50至10000的范围内。
4.根据权利要求3所述的热界面材料,其中所述长链烷基单端羟基封端的硅油具有通式:
其中R为亚烷基基团,n在5至1000的范围内,x在2至32的范围内,y在1至3的范围内,m在0至500的范围内,并且n+m在5至1000的范围内。
5.根据权利要求4所述的热界面材料,其中所述长链单端羟基封端的硅油具有1mgKOH/g至200mgKOH/g范围内的羟值。
6.根据权利要求4所述的热界面材料,其中所述导热填料基于热界面材料的总重量至少包括85重量%至97重量%之间的第一导热填料和第二导热填料。
7.根据权利要求1所述的热界面材料,其中在室温下施加50%应变2小时后,所述热界面材料具有75%与100%之间的后固化恢复率。
8.根据权利要求1所述的热界面材料,其中所述热界面材料包含:
0.5重量%至5重量%的所述长链烷基硅油;
0.5重量%至5重量%的所述长链烷基乙烯基封端的烷基硅油;
0.5重量%至2重量%的所述长链烷基单端羟基封端的硅油;以及
50重量%至95重量%的所述导热填料。
9.根据权利要求1所述的热界面材料,其中所述热界面材料具有在25肖氏OO与50肖氏OO之间的硬度。
10.一种电子部件,所述电子部件包括:
散热片;
电子芯片;
热界面材料,所述热界面材料具有第一表面层和第二表面层,所述热界面材料定位在所述散热片与电子芯片之间,所述热界面材料包含:
聚合物基质,所述聚合物基质包含:
至少一种长链硅油,所述至少一种长链硅油具有至少一个具有4个烷基碳至16个烷基碳的支链;
其中所述至少一种长链硅油包括:
长链烷基硅油;
长链烷基乙烯基封端的烷基硅油;以及
长链烷基单端羟基封端的硅油;
加成抑制剂;
交联剂;
催化剂;
偶联剂;以及
至少一种导热填料;
其中所述热界面材料包含:
3重量%至15重量%的所述聚合物基质;以及
50重量%至95重量%的所述导热填料。
CN202080036835.6A 2019-04-23 2020-04-20 具有低预固化粘度和后固化弹性性能的凝胶型热界面材料 Active CN113840881B (zh)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201962837442P 2019-04-23 2019-04-23
US62/837,442 2019-04-23
US16/844,916 US11373921B2 (en) 2019-04-23 2020-04-09 Gel-type thermal interface material with low pre-curing viscosity and elastic properties post-curing
US16/844,916 2020-04-09
PCT/US2020/028908 WO2020219368A1 (en) 2019-04-23 2020-04-20 Gel-type thermal interface material with low pre-curing viscosity and elastic properties post-curing

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN113840881A CN113840881A (zh) 2021-12-24
CN113840881B true CN113840881B (zh) 2023-08-01

Family

ID=72917242

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202080036835.6A Active CN113840881B (zh) 2019-04-23 2020-04-20 具有低预固化粘度和后固化弹性性能的凝胶型热界面材料

Country Status (7)

Country Link
US (1) US11373921B2 (zh)
EP (1) EP3959265A4 (zh)
JP (1) JP7551649B2 (zh)
KR (1) KR20210145288A (zh)
CN (1) CN113840881B (zh)
TW (1) TWI848098B (zh)
WO (1) WO2020219368A1 (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2024098435A1 (en) 2022-11-12 2024-05-16 Wacker Chemie Ag A polysiloxane composition

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4871782A (en) * 1988-07-29 1989-10-03 General Electric Company Low viscosity silicone foam compositions
JP2009292914A (ja) * 2008-06-04 2009-12-17 Momentive Performance Materials Inc 室温硬化性シリコーンゴム組成物
WO2012026466A1 (ja) * 2010-08-23 2012-03-01 ソニーケミカル&インフォメーションデバイス株式会社 電磁波吸収性熱伝導シート及び電磁波吸収性熱伝導シートの製造方法
CN102666663A (zh) * 2009-10-23 2012-09-12 道康宁东丽株式会社 新的有机聚硅氧烷共聚物
CN105218827A (zh) * 2015-10-21 2016-01-06 绍兴佳华高分子材料股份有限公司 一种有机基团改性超高分子量聚硅氧烷及其制备方法
CN106243720A (zh) * 2015-06-10 2016-12-21 信越化学工业株式会社 导热性有机硅油灰组合物
CN108137813A (zh) * 2015-07-24 2018-06-08 道康宁东丽株式会社 固化有机硅颗粒以及其中结合固化有机硅颗粒的美容材料
WO2018221662A1 (ja) * 2017-05-31 2018-12-06 モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 熱伝導性ポリオルガノシロキサン組成物
CN109417061A (zh) * 2016-07-26 2019-03-01 霍尼韦尔国际公司 凝胶型热界面材料

Family Cites Families (409)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1655133A (en) 1926-11-09 1928-01-03 Charles A Clase Inside micrometer gauge
US2451600A (en) 1945-02-03 1948-10-19 Atlantic Refining Co Tube gauge
US2810203A (en) 1954-08-06 1957-10-22 Sun Oil Co Tube calipering device
GB989845A (en) 1963-05-03 1965-04-22 Polymer Corp Improved butyl rubber-polyolefine blends
US4006530A (en) 1974-04-09 1977-02-08 Schlumberger Technology Corporation Apparatus for measuring the diameter of a well bore
JPS5314131A (en) 1975-05-02 1978-02-08 Nobuyasu Doi Luster tinnlead alloy electroplating method
CH588683A5 (zh) 1975-07-28 1977-06-15 Concast Ag
US4180498A (en) 1976-07-30 1979-12-25 Ciba-Geigy Corporation Hindered phenyl phosphites
CH630174A5 (de) 1978-04-05 1982-05-28 Hans Meyer Innenmessgeraet.
DE2933870A1 (de) 1979-08-21 1981-03-12 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München N.n'-bis-salicyloyl-hydrazin als metalldesaktivator.
JPS56113096A (en) * 1980-02-08 1981-09-05 Toshiba Corp Propeller fan
FR2518738B1 (fr) 1981-12-23 1985-10-18 Flopetrol Etu Fabrications Dispositif pour la mesure de dimensions internes d'un tube, notamment dans un puits et procede de mesure de deplacement applicable a un tel dispositif
IT1157405B (it) 1982-01-15 1987-02-11 Finike Italiana Marposs Comparatore per il controllo delle dimensioni lineari di pezzi meccanici
JPS5967387A (ja) 1982-10-08 1984-04-17 Hiyougoken すず、鉛及びすず―鉛合金メッキ浴
US4565610A (en) 1983-12-22 1986-01-21 Learonal, Inc. Bath and process for plating lead and lead/tin alloys
US4604424A (en) 1986-01-29 1986-08-05 Dow Corning Corporation Thermally conductive polyorganosiloxane elastomer composition
US4652624A (en) 1986-03-03 1987-03-24 Dow Corning Corporation Room-temperature-curing silicone sealants
JPH01500147A (ja) 1986-04-23 1989-01-19 バッテル・ディベロプメント・コーポレーション クロマトグラフ装置と方法
FR2607431B1 (fr) 1986-12-02 1989-03-10 Clextral Procede et installation de montage et demontage des vis d'une machine d'extrusion
US4832781A (en) 1988-01-07 1989-05-23 Varian Associates, Inc. Methods and apparatus for thermal transfer with a semiconductor wafer in vacuum
US4816086A (en) 1988-04-25 1989-03-28 Armstrong World Industries, Inc. Compositions useful in copper oxidation, and a method to prepare copper oxidation solutions
US4910050A (en) 1988-08-04 1990-03-20 Hughes Aircraft Company Method and composition for providing electrostatic discharge protection for spacecraft
JP2611364B2 (ja) 1988-08-26 1997-05-21 上村工業株式会社 無電解錫めっき浴及び無電解錫めっき方法
DE59005446D1 (de) 1989-12-18 1994-05-26 Riedel De Haen Ag Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer Lösung eines Buntmetallsulfonats.
JP2745438B2 (ja) 1990-07-13 1998-04-28 株式会社荏原製作所 加熱用伝熱材料及び発熱体とそれを用いた加熱装置
US5403580A (en) 1991-01-22 1995-04-04 Dow Corning Corporation Organosilicon gels and method of making
US5167851A (en) 1991-04-22 1992-12-01 Thermoset Plastics, Inc. Hydrophilic thermally conductive grease
US5084099A (en) 1991-06-17 1992-01-28 Tektronix, Inc. Phase change ink colorants and phase change inks produced therefrom
US5294923A (en) 1992-01-31 1994-03-15 Baker Hughes Incorporated Method and apparatus for relaying downhole data to the surface
JP3256587B2 (ja) 1992-02-21 2002-02-12 株式会社東芝 高熱伝導性放熱体およびその製造方法
JP3175979B2 (ja) 1992-09-14 2001-06-11 株式会社東芝 樹脂封止型半導体装置
US6197859B1 (en) 1993-06-14 2001-03-06 The Bergquist Company Thermally conductive interface pads for electronic devices
US5660917A (en) 1993-07-06 1997-08-26 Kabushiki Kaisha Toshiba Thermal conductivity sheet
US6090484A (en) 1995-05-19 2000-07-18 The Bergquist Company Thermally conductive filled polymer composites for mounting electronic devices and method of application
US5562814A (en) 1995-09-01 1996-10-08 Dale Electronics, Inc. Sludge-limiting tin and/or lead electroplating bath
AR012814A1 (es) 1996-01-22 2000-11-22 Dow Chemical Co Mezclas de poliolefinas de diferente cristalinidad, procedimiento para obtener articulos moldeados con dichas mezclas y los articulos moldeados obtenidos
AU723258B2 (en) 1996-04-29 2000-08-24 Parker-Hannifin Corporation Conformal thermal interface material for electronic components
US5950066A (en) 1996-06-14 1999-09-07 The Bergquist Company Semisolid thermal interface with low flow resistance
US5738936A (en) 1996-06-27 1998-04-14 W. L. Gore & Associates, Inc. Thermally conductive polytetrafluoroethylene article
US5930115A (en) 1996-08-26 1999-07-27 Compaq Computer Corp. Apparatus, method and system for thermal management of a semiconductor device
US5816699A (en) 1997-06-13 1998-10-06 Entek Manufacturing Inc. Twin screw extruder barrel with an easily removable seamless insert having a wear and corrosion resistant lining
JP3662715B2 (ja) 1997-06-16 2005-06-22 アルプス電気株式会社 導電性材料および導電ペーストと電子機器
JP4015722B2 (ja) 1997-06-20 2007-11-28 東レ・ダウコーニング株式会社 熱伝導性ポリマー組成物
US6432497B2 (en) 1997-07-28 2002-08-13 Parker-Hannifin Corporation Double-side thermally conductive adhesive tape for plastic-packaged electronic components
US6096414A (en) 1997-11-25 2000-08-01 Parker-Hannifin Corporation High dielectric strength thermal interface material
FR2775481B1 (fr) 1998-02-27 2003-10-24 Rhodia Chimie Sa Composition silicone adhesive reticulable et utilisation de cette composition pour le collage de substrats divers
JP3948642B2 (ja) 1998-08-21 2007-07-25 信越化学工業株式会社 熱伝導性グリース組成物及びそれを使用した半導体装置
US20040069454A1 (en) 1998-11-02 2004-04-15 Bonsignore Patrick V. Composition for enhancing thermal conductivity of a heat transfer medium and method of use thereof
US6432320B1 (en) 1998-11-02 2002-08-13 Patrick Bonsignore Refrigerant and heat transfer fluid additive
JP2000143808A (ja) 1998-11-17 2000-05-26 Fuji Kobunshi Kogyo Kk 熱伝導性・電気絶縁性シリコーンゲル組成物
US6299721B1 (en) 1998-12-14 2001-10-09 Gould Electronics Incl Coatings for improved resin dust resistance
JP2002532914A (ja) 1998-12-15 2002-10-02 パーカー−ハニフイン・コーポレーシヨン 相変化熱的インターフェース材料の塗布方法
US6238596B1 (en) 1999-03-09 2001-05-29 Johnson Matthey Electronics, Inc. Compliant and crosslinkable thermal interface materials
US6165612A (en) 1999-05-14 2000-12-26 The Bergquist Company Thermally conductive interface layers
US6391442B1 (en) 1999-07-08 2002-05-21 Saint-Gobain Performance Plastics Corporation Phase change thermal interface material
US20070241303A1 (en) 1999-08-31 2007-10-18 General Electric Company Thermally conductive composition and method for preparing the same
US6706219B2 (en) 1999-09-17 2004-03-16 Honeywell International Inc. Interface materials and methods of production and use thereof
US6605238B2 (en) 1999-09-17 2003-08-12 Honeywell International Inc. Compliant and crosslinkable thermal interface materials
US6975944B1 (en) 1999-09-28 2005-12-13 Alpha Mos Method and apparatus for monitoring materials used in electronics
US6496373B1 (en) 1999-11-04 2002-12-17 Amerasia International Technology, Inc. Compressible thermally-conductive interface
US6395811B1 (en) 1999-11-11 2002-05-28 3D Systems, Inc. Phase change solid imaging material
JP2001139818A (ja) 1999-11-12 2001-05-22 Dow Corning Toray Silicone Co Ltd 熱伝導性シリコーンゴム組成物
US6673434B2 (en) 1999-12-01 2004-01-06 Honeywell International, Inc. Thermal interface materials
US6797382B2 (en) 1999-12-01 2004-09-28 Honeywell International Inc. Thermal interface materials
US6451422B1 (en) 1999-12-01 2002-09-17 Johnson Matthey, Inc. Thermal interface materials
DE19959262A1 (de) 1999-12-09 2001-06-21 Altoflex S A Leitfähiges pastöses Material und dessen Verwendung
US7078109B2 (en) 2000-02-25 2006-07-18 Thermagon Inc. Heat spreading thermal interface structure
US7369411B2 (en) 2000-02-25 2008-05-06 Thermagon, Inc. Thermal interface assembly and method for forming a thermal interface between a microelectronic component package and heat sink
US6940721B2 (en) 2000-02-25 2005-09-06 Richard F. Hill Thermal interface structure for placement between a microelectronic component package and heat sink
US6372997B1 (en) 2000-02-25 2002-04-16 Thermagon, Inc. Multi-layer structure and method for forming a thermal interface with low contact resistance between a microelectronic component package and heat sink
US6984685B2 (en) 2000-04-05 2006-01-10 The Bergquist Company Thermal interface pad utilizing low melting metal with retention matrix
US6339120B1 (en) 2000-04-05 2002-01-15 The Bergquist Company Method of preparing thermally conductive compounds by liquid metal bridged particle clusters
US6797758B2 (en) 2000-04-05 2004-09-28 The Bergquist Company Morphing fillers and thermal interface materials
US6649325B1 (en) 2001-05-25 2003-11-18 The Bergquist Company Thermally conductive dielectric mounts for printed circuitry and semi-conductor devices and method of preparation
US20030207128A1 (en) 2000-04-10 2003-11-06 Tomoaki Uchiya Thermally conductive sheet
US6400565B1 (en) 2000-04-21 2002-06-04 Dell Products L.P. Thermally conductive interface member
EP1149864A1 (en) 2000-04-28 2001-10-31 STMicroelectronics S.r.l. Polymeric composition for packaging a semiconductor electronic device and packaging obtained therefrom
US6616999B1 (en) 2000-05-17 2003-09-09 Raymond G. Freuler Preapplicable phase change thermal interface pad
US6500891B1 (en) 2000-05-19 2002-12-31 Loctite Corporation Low viscosity thermally conductive compositions containing spherical thermally conductive particles
DE10196259T1 (de) 2000-05-31 2003-05-15 Honeywell Int Inc Füllverfahren
US6506332B2 (en) 2000-05-31 2003-01-14 Honeywell International Inc. Filling method
GB0014622D0 (en) 2000-06-16 2000-08-09 D C Heat Limited Clothing or footwear with heating element
JP2002003830A (ja) 2000-06-26 2002-01-09 Denki Kagaku Kogyo Kk 高熱伝導性組成物とその用途
US6610635B2 (en) 2000-09-14 2003-08-26 Aos Thermal Compounds Dry thermal interface material
US6475962B1 (en) 2000-09-14 2002-11-05 Aos Thermal Compounds, Llc Dry thermal grease
US20040206941A1 (en) 2000-11-22 2004-10-21 Gurin Michael H. Composition for enhancing conductivity of a carrier medium and method of use thereof
US20030151030A1 (en) 2000-11-22 2003-08-14 Gurin Michael H. Enhanced conductivity nanocomposites and method of use thereof
US6573328B2 (en) 2001-01-03 2003-06-03 Loctite Corporation Low temperature, fast curing silicone compositions
EP1354353B1 (en) 2001-01-22 2007-05-30 Parker Hannifin Corporation Clean release, phase change thermal interface
US20020187364A1 (en) 2001-03-16 2002-12-12 Shipley Company, L.L.C. Tin plating
US6469379B1 (en) 2001-03-30 2002-10-22 Intel Corporation Chain extension for thermal materials
US7060747B2 (en) 2001-03-30 2006-06-13 Intel Corporation Chain extension for thermal materials
US7329706B2 (en) 2001-05-14 2008-02-12 Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd. Heat-conductive silicone composition
EP1401641A4 (en) 2001-05-30 2007-12-12 Honeywell Int Inc BONDING MATERIALS AND MANUFACTURING METHOD AND USE THEREOF
CN1868736A (zh) 2001-05-30 2006-11-29 霍尼韦尔国际公司 界面材料及其生产方法和应用
US6818301B2 (en) 2001-06-01 2004-11-16 Psiloquest Inc. Thermal management with filled polymeric polishing pads and applications therefor
US7038009B2 (en) 2001-08-31 2006-05-02 Cool Shield, Inc. Thermally conductive elastomeric pad and method of manufacturing same
CN1260399C (zh) 2001-08-31 2006-06-21 罗姆和哈斯电子材料有限责任公司 电解镀锡溶液和用于电镀的方法
FR2831548B1 (fr) 2001-10-31 2004-01-30 Rhodia Chimie Sa Composition silicone adhesive reticulable comprenant comme agent thixotropant un compose a fonction amine cyclique portee par une chaine siloxanique
US20030112603A1 (en) 2001-12-13 2003-06-19 Roesner Arlen L. Thermal interface
US6620515B2 (en) 2001-12-14 2003-09-16 Dow Corning Corporation Thermally conductive phase change materials
KR100479857B1 (ko) 2001-12-28 2005-03-30 제일모직주식회사 반도체 패키지용 실리콘 수지 조성물
US6597575B1 (en) 2002-01-04 2003-07-22 Intel Corporation Electronic packages having good reliability comprising low modulus thermal interface materials
JP3844125B2 (ja) 2002-01-22 2006-11-08 信越化学工業株式会社 放熱部材、その製造方法及びその敷設方法
WO2003067658A2 (en) 2002-02-06 2003-08-14 Parker Hannifin Corporation Thermal management materials having a phase change dispersion
US6946190B2 (en) 2002-02-06 2005-09-20 Parker-Hannifin Corporation Thermal management materials
US6926955B2 (en) 2002-02-08 2005-08-09 Intel Corporation Phase change material containing fusible particles as thermally conductive filler
US7846778B2 (en) 2002-02-08 2010-12-07 Intel Corporation Integrated heat spreader, heat sink or heat pipe with pre-attached phase change thermal interface material and method of making an electronic assembly
US20030159938A1 (en) 2002-02-15 2003-08-28 George Hradil Electroplating solution containing organic acid complexing agent
US20040149587A1 (en) 2002-02-15 2004-08-05 George Hradil Electroplating solution containing organic acid complexing agent
TWI268292B (en) 2002-03-05 2006-12-11 Shipley Co Llc Limiting the loss of tin through oxidation in tin or tin alloy electroplating bath solutions
US6913686B2 (en) 2002-12-10 2005-07-05 Advanced Technology Materials, Inc. Methods for analyzing solder plating solutions
US20030171487A1 (en) 2002-03-11 2003-09-11 Tyco Electronics Corporation Curable silicone gum thermal interface material
US6815486B2 (en) 2002-04-12 2004-11-09 Dow Corning Corporation Thermally conductive phase change materials and methods for their preparation and use
US7208191B2 (en) 2002-04-23 2007-04-24 Freedman Philip D Structure with heat dissipating device and method
US20030203181A1 (en) 2002-04-29 2003-10-30 International Business Machines Corporation Interstitial material with enhanced thermal conductance for semiconductor device packaging
US7147367B2 (en) 2002-06-11 2006-12-12 Saint-Gobain Performance Plastics Corporation Thermal interface material with low melting alloy
US20030230403A1 (en) 2002-06-14 2003-12-18 Webb Brent J. Conductive thermal interface and compound
US6791839B2 (en) 2002-06-25 2004-09-14 Dow Corning Corporation Thermal interface materials and methods for their preparation and use
JP2005538535A (ja) 2002-07-15 2005-12-15 ハネウエル・インターナシヨナル・インコーポレーテツド 熱的インターコネクトおよびインターフェースシステム、製造方法およびその使用
JP4016326B2 (ja) 2002-08-02 2007-12-05 石原薬品株式会社 無電解スズメッキ浴
US6657297B1 (en) 2002-08-15 2003-12-02 The Bergquist Company Flexible surface layer film for delivery of highly filled or low cross-linked thermally conductive interface pads
US6761932B2 (en) 2002-08-23 2004-07-13 Basf Corporation Method to improve adhesion of primers to substrates
US7775685B2 (en) 2003-05-27 2010-08-17 Cree, Inc. Power surface mount light emitting die package
US6908682B2 (en) 2002-09-12 2005-06-21 3M Innovative Properties Company Photocured silicone sealant having improved adhesion to plastic
AU2003270740A1 (en) 2002-09-25 2004-04-19 The Intertech Group, Inc. Fiber reinforced cementitious material
US6783692B2 (en) 2002-10-17 2004-08-31 Dow Corning Corporation Heat softening thermally conductive compositions and methods for their preparation
JP2006504272A (ja) 2002-10-21 2006-02-02 レアード テクノロジーズ,インコーポレーテッド 熱伝導性emiシールド
US6956739B2 (en) 2002-10-29 2005-10-18 Parker-Hannifin Corporation High temperature stable thermal interface material
CN1296994C (zh) 2002-11-14 2007-01-24 清华大学 一种热界面材料及其制造方法
FR2848215B1 (fr) 2002-12-04 2006-08-04 Rhodia Chimie Sa Composition elastomere silicone, adhesive, monocomposante et reticulable par polyaddition
US7326042B2 (en) 2002-12-24 2008-02-05 Bostik Findley, Inc. Apparatus for packaging hot melt adhesives using a mold and carrier
JP4288469B2 (ja) 2003-03-12 2009-07-01 石原薬品株式会社 銅侵食防止用の無電解スズメッキ浴、及び銅侵食防止方法
US6924027B2 (en) 2003-03-31 2005-08-02 Intel Corporation Phase change thermal interface materials including exfoliated clay
US20070164424A1 (en) 2003-04-02 2007-07-19 Nancy Dean Thermal interconnect and interface systems, methods of production and uses thereof
US7013965B2 (en) 2003-04-29 2006-03-21 General Electric Company Organic matrices containing nanomaterials to enhance bulk thermal conductivity
JP4149846B2 (ja) 2003-05-08 2008-09-17 富士高分子工業株式会社 放熱シート
US6901675B2 (en) 2003-05-27 2005-06-07 Bristol Compressors, Inc. System and method for sizing a center bore of a laminated rotor
US7744991B2 (en) 2003-05-30 2010-06-29 3M Innovative Properties Company Thermally conducting foam interface materials
US7229683B2 (en) 2003-05-30 2007-06-12 3M Innovative Properties Company Thermal interface materials and method of making thermal interface materials
TWI251320B (en) 2003-07-04 2006-03-11 Fuji Polymer Ind Thermal conductive composition, a heat-dissipating putty sheet and heat-dissipating structure using the same
JP4337433B2 (ja) 2003-07-08 2009-09-30 パナソニック株式会社 プラズマディスプレイパネルのエージング方法およびエージング装置
KR100981571B1 (ko) 2003-07-26 2010-09-10 삼성전자주식회사 다중 입력 다중 출력 적응 안테나 어레이 방식을 사용하는이동 통신 시스템에서 신호 송수신 시스템 및 방법
US6951182B2 (en) 2003-07-29 2005-10-04 Onweller Arthur E Marine Mooring Line Vermin Shield
US7253523B2 (en) 2003-07-29 2007-08-07 Intel Corporation Reworkable thermal interface material
US6874573B2 (en) 2003-07-31 2005-04-05 National Starch And Chemical Investment Holding Corporation Thermal interface material
US6985690B2 (en) 2003-07-31 2006-01-10 Xerox Corporation Fuser and fixing members containing PEI-PDMS block copolymers
JP2005060822A (ja) 2003-08-08 2005-03-10 Rohm & Haas Electronic Materials Llc 複合基体の電気メッキ
CN1580116A (zh) 2003-08-15 2005-02-16 台盐实业股份有限公司 散热界面材料组成
US20050049350A1 (en) 2003-08-25 2005-03-03 Sandeep Tonapi Thin bond-line silicone adhesive composition and method for preparing the same
US8039961B2 (en) 2003-08-25 2011-10-18 Samsung Electronics Co., Ltd. Composite carbon nanotube-based structures and methods for removing heat from solid-state devices
US7550097B2 (en) 2003-09-03 2009-06-23 Momentive Performance Materials, Inc. Thermal conductive material utilizing electrically conductive nanoparticles
US20050072334A1 (en) 2003-10-07 2005-04-07 Saint-Gobain Performance Plastics, Inc. Thermal interface material
DE602004005493T2 (de) 2003-11-05 2007-11-29 Dow Corning Corp., Midland Wärmeleitfähiges schmierfett und verfahren und vorrichtungen, bei denen das schmierfett verwendet wird
JP4219793B2 (ja) 2003-11-25 2009-02-04 信越化学工業株式会社 放熱用シリコーングリース組成物
US7306823B2 (en) 2004-09-18 2007-12-11 Nanosolar, Inc. Coated nanoparticles and quantum dots for solution-based fabrication of photovoltaic cells
US7119143B2 (en) 2004-03-04 2006-10-10 Laird Technologies, Inc. Silicone pads for electronics thermal management
US20050228097A1 (en) 2004-03-30 2005-10-13 General Electric Company Thermally conductive compositions and methods of making thereof
EP1734079B1 (en) 2004-04-01 2016-01-20 Kaneka Corporation Single-component curable composition
JP5225581B2 (ja) 2004-05-07 2013-07-03 株式会社カネカ 硬化性と接着性の改善された硬化性組成物
JP4501526B2 (ja) 2004-05-14 2010-07-14 住友化学株式会社 高熱伝導性樹脂組成物
JPWO2005111146A1 (ja) 2004-05-17 2008-03-21 テクノポリマー株式会社 熱伝導性樹脂組成物及びその製造方法並びにハウジング
JP4480457B2 (ja) 2004-05-17 2010-06-16 株式会社カネカ 硬化性組成物
CN100578769C (zh) 2004-05-20 2010-01-06 通用电气公司 含有纳米材料以增强体积导热率的有机基体
US20050287362A1 (en) 2004-06-23 2005-12-29 3M Innovative Properties Company Halogen free tapes & method of making same
CN100546822C (zh) 2004-07-13 2009-10-07 汉高公司 用于高度充填的相变热界面材料的新型封装方案
WO2006023860A2 (en) 2004-08-23 2006-03-02 General Electric Company Thermally conductive composition and method for preparing the same
ES2367796T3 (es) 2004-08-31 2011-11-08 Basf Se Estabilización de materiales orgánicos.
US20060060980A1 (en) 2004-09-22 2006-03-23 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Ic package having ground ic chip and method of manufacturing same
JP2006089675A (ja) 2004-09-27 2006-04-06 Dow Corning Toray Co Ltd 熱伝導性シリコーンエラストマーおよび熱伝導性シリコーンエラストマー組成物
JP5478827B2 (ja) 2004-10-28 2014-04-23 ダウ・コーニング・コーポレイション 硬化可能な伝導組成物
US7328547B2 (en) 2004-10-29 2008-02-12 Bostik, Inc. Process for packaging plastic materials like hot melt adhesives
US20060094809A1 (en) 2004-11-02 2006-05-04 Simone Davide L Electrically and thermally conductive silicone adhesive compositions
WO2006051798A1 (ja) 2004-11-10 2006-05-18 Kaneka Corporation 硬化性組成物
CN101048444B (zh) 2004-12-16 2012-01-11 陶氏康宁公司 酰胺取代的聚硅氧烷及其制备方法和用途
WO2006083339A1 (en) 2005-02-01 2006-08-10 Dow Corning Corporation Curable coating compositions
US7241707B2 (en) 2005-02-17 2007-07-10 Intel Corporation Layered films formed by controlled phase segregation
CN100543103C (zh) 2005-03-19 2009-09-23 清华大学 热界面材料及其制备方法
US20060228542A1 (en) 2005-04-08 2006-10-12 Saint-Gobain Performance Plastics Corporation Thermal interface material having spheroidal particulate filler
US20060260948A2 (en) 2005-04-14 2006-11-23 Enthone Inc. Method for electrodeposition of bronzes
CN100404242C (zh) 2005-04-14 2008-07-23 清华大学 热界面材料及其制造方法
KR100934401B1 (ko) 2005-04-28 2009-12-29 멜텍스 가부시키가이샤 주석 도금액, 그 주석 도금액을 이용한 주석 도금 방법,주석 도금액 조정 방법 및 그 주석 도금액을 이용하여형성된 주석 도금층을 구비한 칩 부품
US20070116626A1 (en) 2005-05-11 2007-05-24 Molecular Nanosystems, Inc. Methods for forming carbon nanotube thermal pads
US20060264566A1 (en) 2005-05-19 2006-11-23 Wacker Chemical Corporation HCR room temperature curable rubber composition
US7898079B2 (en) 2005-05-26 2011-03-01 Nanocomp Technologies, Inc. Nanotube materials for thermal management of electronic components
JP2007002002A (ja) 2005-06-21 2007-01-11 Idemitsu Kosan Co Ltd 伝熱性樹脂組成物
US20070013054A1 (en) 2005-07-12 2007-01-18 Ruchert Brian D Thermally conductive materials, solder preform constructions, assemblies and semiconductor packages
US20070051773A1 (en) 2005-09-02 2007-03-08 Ruchert Brian D Thermal interface materials, methods of preparation thereof and their applications
JP4860229B2 (ja) 2005-10-11 2012-01-25 モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 熱伝導性グリース組成物
US20070097651A1 (en) 2005-11-01 2007-05-03 Techfilm, Llc Thermal interface material with multiple size distribution thermally conductive fillers
JP2007131798A (ja) 2005-11-14 2007-05-31 Kaneka Corp 硬化性組成物
CN1970666A (zh) 2005-11-24 2007-05-30 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 导热胶
CN1978582A (zh) 2005-12-09 2007-06-13 富准精密工业(深圳)有限公司 导热膏及使用该导热膏的电子装置
US7465605B2 (en) 2005-12-14 2008-12-16 Intel Corporation In-situ functionalization of carbon nanotubes
US7262369B1 (en) 2006-03-09 2007-08-28 Laird Technologies, Inc. Combined board level EMI shielding and thermal management
JP4933094B2 (ja) 2005-12-27 2012-05-16 信越化学工業株式会社 熱伝導性シリコーングリース組成物
US7964542B2 (en) 2006-01-12 2011-06-21 International Business Machines Corporation Enhanced thermo-oxidative stability thermal interface compositions and use thereof in microelectronics assembly
US20070166554A1 (en) 2006-01-18 2007-07-19 Ruchert Brian D Thermal interconnect and interface systems, methods of production and uses thereof
US20070179232A1 (en) 2006-01-30 2007-08-02 National Starch And Chemical Investment Holding Corporation Thermal Interface Material
US7440281B2 (en) 2006-02-01 2008-10-21 Apple Inc. Thermal interface apparatus
US7463496B2 (en) 2006-03-09 2008-12-09 Laird Technologies, Inc. Low-profile board level EMI shielding and thermal management apparatus and spring clips for use therewith
US20070219312A1 (en) 2006-03-17 2007-09-20 Jennifer Lynn David Silicone adhesive composition and method for preparing the same
US7955900B2 (en) 2006-03-31 2011-06-07 Intel Corporation Coated thermal interface in integrated circuit die
TWI313695B (en) 2006-04-20 2009-08-21 Taiwan Textile Res Inst Melted-spinning grains containing thermal-stable phase-change polymer and preparation method thereof
US7514485B2 (en) 2006-06-20 2009-04-07 Chemtura Corporation Compatibilizers for composites of PVC and cellulosic materials
JP2008050555A (ja) 2006-07-24 2008-03-06 Sumitomo Chemical Co Ltd 熱伝導性樹脂組成物およびその用途
US20080023665A1 (en) 2006-07-25 2008-01-31 Weiser Martin W Thermal interconnect and interface materials, methods of production and uses thereof
WO2008030690A1 (en) 2006-09-05 2008-03-13 3M Innovative Properties Company Thermally conductive grease
JP2008063412A (ja) 2006-09-06 2008-03-21 Showa Denko Kk 熱伝導性樹脂組成物およびシート
WO2008047809A1 (fr) 2006-10-17 2008-04-24 Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Graisse
KR100820902B1 (ko) 2006-11-08 2008-04-11 조인셋 주식회사 다층 열 전도성 패드
TWI344196B (en) 2006-11-15 2011-06-21 Ind Tech Res Inst Melting temperature adjustable metal thermal interface materials and use thereof
US7554793B2 (en) 2006-11-16 2009-06-30 Kemet Electronics Corporation Low temperature curable conductive adhesive and capacitors formed thereby
US8431647B2 (en) 2006-12-27 2013-04-30 Bluestar Silicones France Sas Adhesive silicone compositions and adhesive bonding/seaming therewith
KR101547343B1 (ko) 2007-02-20 2015-08-28 다우 코닝 코포레이션 수소결합 폴리오가노실록세인을 기반으로 하는 충전물 처리제
CN101067030A (zh) 2007-03-30 2007-11-07 广东华南精细化工研究院有限公司 新型聚烯烃高效耐热氧化复合型抗氧剂及其生产工艺和应用
EP2134823A1 (en) 2007-04-02 2009-12-23 3M Innovative Properties Company Thermal grease article and method
US8431655B2 (en) 2007-04-09 2013-04-30 Designer Molecules, Inc. Curatives for epoxy compositions
GB0707176D0 (en) 2007-04-16 2007-05-23 Dow Corning Hydrosilylation curable compositions
US7462294B2 (en) 2007-04-25 2008-12-09 International Business Machines Corporation Enhanced thermal conducting formulations
US7646778B2 (en) 2007-04-27 2010-01-12 Cisco Technology, Inc. Support of C-tagged service interface in an IEEE 802.1ah bridge
US20080291634A1 (en) 2007-05-22 2008-11-27 Weiser Martin W Thermal interconnect and interface materials, methods of production and uses thereof
US7765811B2 (en) 2007-06-29 2010-08-03 Laird Technologies, Inc. Flexible assemblies with integrated thermoelectric modules suitable for use in extracting power from or dissipating heat from fluid conduits
FR2919615A1 (fr) 2007-08-02 2009-02-06 Bluestar Silicones France Soc Composition elastomere silicone adhesive
DE102007037435B4 (de) 2007-08-08 2012-03-22 Sgl Carbon Se Schichtstoff
JP5269366B2 (ja) 2007-08-22 2013-08-21 コスモ石油ルブリカンツ株式会社 耐熱型熱伝導性グリース
CN101372614B (zh) 2007-08-24 2011-06-08 清华大学 碳纳米管阵列复合导热片及其制备方法
US20090068441A1 (en) 2007-08-31 2009-03-12 Swaroop Srinivas H Thermal interface materials
JP5535915B2 (ja) 2007-09-12 2014-07-02 スモルテック アーベー ナノ構造体による隣接層の接続および接合
US8586650B2 (en) 2007-09-14 2013-11-19 Henkel US IP LLC Thermally conductive composition
US8112884B2 (en) 2007-10-08 2012-02-14 Honeywell International Inc. Method for providing an efficient thermal transfer through a printed circuit board
WO2009054995A1 (en) 2007-10-22 2009-04-30 Flexible Ceramics, Inc. Fire resistant flexible ceramic resin blend and composite products formed therefrom
JP2009102577A (ja) 2007-10-25 2009-05-14 Polymatech Co Ltd 熱伝導性組成物
US20090111925A1 (en) 2007-10-31 2009-04-30 Burnham Kikue S Thermal interface materials, methods of production and uses thereof
US9795059B2 (en) 2007-11-05 2017-10-17 Laird Technologies, Inc. Thermal interface materials with thin film or metallization
US8445102B2 (en) 2007-11-05 2013-05-21 Laird Technologies, Inc. Thermal interface material with thin transfer film or metallization
JP5137538B2 (ja) 2007-11-28 2013-02-06 リンテック株式会社 粘接着剤組成物、粘接着シートおよび半導体装置の製造方法
JP2009138036A (ja) 2007-12-04 2009-06-25 Momentive Performance Materials Japan Kk 熱伝導性シリコーングリース組成物
US8076773B2 (en) 2007-12-26 2011-12-13 The Bergquist Company Thermal interface with non-tacky surface
US20110121435A1 (en) 2008-01-16 2011-05-26 Kazuyuki Mitsukura Photosensitive adhesive composition, filmy adhesive, adhesive sheet, adhesive pattern, semiconductor wafer with adhesive layer, semiconductor device, and process for producing semiconductor device
US20090184283A1 (en) 2008-01-18 2009-07-23 Deborah Duen Ling Chung Antioxidants for phase change ability and thermal stability enhancement
US7732829B2 (en) 2008-02-05 2010-06-08 Hymite A/S Optoelectronic device submount
US20090215225A1 (en) 2008-02-24 2009-08-27 Advanced Technology Materials, Inc. Tellurium compounds useful for deposition of tellurium containing materials
JP4656340B2 (ja) 2008-03-03 2011-03-23 信越化学工業株式会社 熱伝導性シリコーングリース組成物
WO2009131913A2 (en) 2008-04-21 2009-10-29 Honeywell International Inc. Thermal interconnect and interface materials, methods of production and uses thereof
US8632879B2 (en) 2008-04-25 2014-01-21 The University Of Kentucky Research Foundation Lightweight thermal management material for enhancement of through-thickness thermal conductivity
US10358535B2 (en) 2008-04-25 2019-07-23 The University Of Kentucky Research Foundation Thermal interface material
WO2009136508A1 (ja) 2008-05-08 2009-11-12 富士高分子工業株式会社 熱伝導性樹脂組成物
US8115303B2 (en) 2008-05-13 2012-02-14 International Business Machines Corporation Semiconductor package structures having liquid coolers integrated with first level chip package modules
JP5607298B2 (ja) 2008-07-29 2014-10-15 株式会社カネカ 熱伝導材料
KR20110034038A (ko) 2008-08-04 2011-04-04 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 접착제 조성물, 필름형 접착제, 접착 시트 및 반도체 장치
US8449679B2 (en) 2008-08-15 2013-05-28 Lam Research Corporation Temperature controlled hot edge ring assembly
US8394746B2 (en) 2008-08-22 2013-03-12 Exxonmobil Research And Engineering Company Low sulfur and low metal additive formulations for high performance industrial oils
EP2194165A1 (en) 2008-10-21 2010-06-09 Rohm and Haas Electronic Materials LLC Method for replenishing tin and its alloying metals in electrolyte solutions
JP2010120979A (ja) 2008-11-17 2010-06-03 Taika:Kk 熱伝導性シリコーンゲル硬化物
US20100129648A1 (en) 2008-11-26 2010-05-27 Jun Xu Electronic packaging and heat sink bonding enhancements, methods of production and uses thereof
CN101445627A (zh) 2008-12-11 2009-06-03 上海交通大学 高压直流电缆绝缘材料及其制备方法
US8138239B2 (en) 2008-12-23 2012-03-20 Intel Corporation Polymer thermal interface materials
JP5390202B2 (ja) 2009-01-21 2014-01-15 株式会社カネカ 放熱構造体
US7816785B2 (en) 2009-01-22 2010-10-19 International Business Machines Corporation Low compressive force, non-silicone, high thermal conducting formulation for thermal interface material and package
US9080000B2 (en) 2009-02-04 2015-07-14 Dow Corning Corporation Method of forming a non-random copolymer
CN104194733B (zh) 2009-03-02 2018-04-27 霍尼韦尔国际公司 热界面材料及制造和使用它的方法
KR20110133608A (ko) 2009-03-12 2011-12-13 다우 코닝 코포레이션 열계면 물질 및 이의 제조 및 사용을 위한 방법
WO2010107516A1 (en) 2009-03-16 2010-09-23 Dow Corning Corporation Thermally conductive grease and methods and devices in which said grease is used
DE102009001722B4 (de) 2009-03-20 2012-04-05 Infineon Technologies Ag Verfahren zum Aufbringen eines Wärmeleitmediums auf eine Wärmeableitfläche
CN102612490B (zh) 2009-04-03 2016-05-18 沃尔贝克材料有限公司 含有石墨烯片和石墨的聚合物组合物
US20100256280A1 (en) 2009-04-07 2010-10-07 Laird Technologies, Inc. Methods of forming resin and filler composite systems
JP2010248277A (ja) 2009-04-10 2010-11-04 Panasonic Corp 熱伝導性樹脂ペーストおよびそれを用いた光ディスク装置
JP5562574B2 (ja) 2009-04-14 2014-07-30 信越化学工業株式会社 熱伝導性接着剤
ES2733913T3 (es) 2009-05-05 2019-12-03 Parker Hannifin Corp Producto de espuma termoconductor
JP5577553B2 (ja) 2009-05-27 2014-08-27 協同油脂株式会社 放熱コンパウンド組成物
US8362607B2 (en) 2009-06-03 2013-01-29 Honeywell International Inc. Integrated circuit package including a thermally and electrically conductive package lid
KR100953679B1 (ko) 2009-06-15 2010-04-20 두성산업 주식회사 방열재 및 그 제조 방법
US8081468B2 (en) 2009-06-17 2011-12-20 Laird Technologies, Inc. Memory modules including compliant multilayered thermally-conductive interface assemblies
US8633478B2 (en) 2009-06-19 2014-01-21 Dow Corning Corporation Use of ionomeric silicone thermoplastic elastomers in electronic devices
US8535787B1 (en) 2009-06-29 2013-09-17 Juniper Networks, Inc. Heat sinks having a thermal interface for cooling electronic devices
CN101942197B (zh) 2009-07-09 2012-06-27 昆山伟翰电子有限公司 导热硅橡胶复合材料及其制作方法
US20120174956A1 (en) 2009-08-06 2012-07-12 Laird Technologies, Inc. Thermoelectric Modules, Thermoelectric Assemblies, and Related Methods
US20130199724A1 (en) 2009-10-09 2013-08-08 Designer Molecules, Inc. Curatives for epoxy compositions
JP5463116B2 (ja) 2009-10-14 2014-04-09 電気化学工業株式会社 熱伝導性材料
US9593209B2 (en) 2009-10-22 2017-03-14 Dow Corning Corporation Process for preparing clustered functional polyorganosiloxanes, and methods for their use
US8223498B2 (en) 2009-11-11 2012-07-17 Juniper Networks, Inc. Thermal interface members for removable electronic devices
TWI370532B (en) 2009-11-12 2012-08-11 Ind Tech Res Inst Chip package structure and method for fabricating the same
JP5318733B2 (ja) 2009-11-26 2013-10-16 コスモ石油ルブリカンツ株式会社 熱伝導性グリース
GB2508320B (en) 2009-12-09 2014-07-23 Intel Corp Polymer thermal interface materials
TWI475103B (zh) 2009-12-15 2015-03-01 Ind Tech Res Inst 散熱結構
JP5638089B2 (ja) 2009-12-21 2014-12-10 サン−ゴバン パフォーマンス プラスティックス コーポレイション 熱伝導性フォーム材料
CN101735619B (zh) 2009-12-28 2011-11-09 华南理工大学 一种无卤阻燃导热有机硅电子灌封胶及其制备方法
KR101023241B1 (ko) 2009-12-28 2011-03-21 제일모직주식회사 반도체용 접착제 조성물 및 이를 이용한 접착 필름
JP5497458B2 (ja) 2010-01-13 2014-05-21 電気化学工業株式会社 熱伝導性樹脂組成物
JP2011165792A (ja) 2010-02-08 2011-08-25 Teijin Dupont Films Japan Ltd 放熱性二軸延伸フィルム
US9260645B2 (en) 2010-02-23 2016-02-16 Laird Technologies, Inc. Thermal interface materials including thermally reversible gels
US9771508B2 (en) 2010-02-23 2017-09-26 Laird Technologies, Inc. Thermal interface materials including thermally reversible gels
US7990711B1 (en) 2010-02-24 2011-08-02 International Business Machines Corporation Double-face heat removal of vertically integrated chip-stacks utilizing combined symmetric silicon carrier fluid cavity and micro-channel cold plate
KR20120135217A (ko) 2010-03-15 2012-12-12 니폰 가야꾸 가부시끼가이샤 내열용 접착제
US8009429B1 (en) 2010-03-22 2011-08-30 Honeywell International Inc. Electrical component thermal management
US20110265979A1 (en) 2010-04-30 2011-11-03 Sihai Chen Thermal interface materials with good reliability
US8308861B2 (en) 2010-05-13 2012-11-13 E I Du Pont De Nemours And Company Phase change material compositions
US8647752B2 (en) 2010-06-16 2014-02-11 Laird Technologies, Inc. Thermal interface material assemblies, and related methods
CN102134474B (zh) 2010-12-29 2013-10-02 深圳市优宝惠新材料科技有限公司 导热硅脂组合物
US8917510B2 (en) 2011-01-14 2014-12-23 International Business Machines Corporation Reversibly adhesive thermal interface material
EP2668239B1 (en) 2011-01-26 2018-08-15 Dow Silicones Corporation High temperature stable thermally conductive materials
US8277774B2 (en) 2011-01-27 2012-10-02 Honeywell International Method for the preparation of high purity stannous oxide
JP5749536B2 (ja) 2011-03-28 2015-07-15 電気化学工業株式会社 熱伝導性成形体とその用途
EP2691398B1 (en) 2011-03-30 2016-09-28 InfaCare Pharmaceutical Corporation Methods for synthesizing metal mesoporphyrins
KR101800437B1 (ko) 2011-05-02 2017-11-22 삼성전자주식회사 반도체 패키지
US20120285673A1 (en) 2011-05-11 2012-11-15 Georgia Tech Research Corporation Nanostructured composite polymer thermal/electrical interface material and method for making the same
JP2012241063A (ja) 2011-05-17 2012-12-10 Nitto Denko Corp 半導体装置製造用の接着シート
US20120292005A1 (en) 2011-05-19 2012-11-22 Laird Technologies, Inc. Thermal interface materials and methods for processing the same
CN103748171B (zh) 2011-08-10 2016-03-16 株式会社艾迪科 含硅固化性组合物及其固化物
JP5687167B2 (ja) 2011-09-27 2015-03-18 コスモ石油ルブリカンツ株式会社 耐熱型熱伝導性グリース
CN103102689B (zh) 2011-11-15 2015-04-01 佛山市金戈消防材料有限公司 一种高导热有机硅灌封胶组合物及其应用
US20130127069A1 (en) 2011-11-17 2013-05-23 International Business Machines Corporation Matrices for rapid alignment of graphitic structures for stacked chip cooling applications
WO2013074920A1 (en) 2011-11-17 2013-05-23 Reliabulb, Llc Low thermal impedance interface for an led bulb
CN103131138B (zh) 2011-11-23 2016-05-11 合肥杰事杰新材料股份有限公司 一种热塑性聚酯组合物及其制备方法
CN103254647A (zh) 2012-02-20 2013-08-21 深圳德邦界面材料有限公司 一种导热缝隙界面材料及其制备方法
WO2013129600A1 (ja) 2012-03-02 2013-09-06 富士高分子工業株式会社 パテ状伝熱材及びその製造方法
CN102627943A (zh) 2012-04-11 2012-08-08 北京化工大学常州先进材料研究院 一种湿气/紫外光双固化有机硅胶粘剂
CN102634212B (zh) 2012-04-23 2015-11-25 湖州明朔光电科技有限公司 一种导热硅脂组合物
JP5783128B2 (ja) 2012-04-24 2015-09-24 信越化学工業株式会社 加熱硬化型熱伝導性シリコーングリース組成物
US8937384B2 (en) 2012-04-25 2015-01-20 Qualcomm Incorporated Thermal management of integrated circuits using phase change material and heat spreaders
TWI598385B (zh) 2012-05-10 2017-09-11 國立清華大學 絕緣化熱介面材料
CN103827277B (zh) 2012-05-11 2016-07-06 信越化学工业株式会社 导热性硅脂组合物
JP2014003152A (ja) 2012-06-18 2014-01-09 Dow Corning Toray Co Ltd サーマルインターフェース材の形成方法および放熱構造体
CN104428385B (zh) 2012-07-04 2016-05-18 Dic株式会社 热密封剂、使用该热密封剂的层叠体及太阳能电池模块
US8587945B1 (en) 2012-07-27 2013-11-19 Outlast Technologies Llc Systems structures and materials for electronic device cooling
KR102041096B1 (ko) 2012-07-30 2019-11-07 다우 실리콘즈 코포레이션 열 전도성 축합 반응 경화성 폴리오가노실록산 조성물 및 조성물의 제조 방법 및 사용 방법
GB201220099D0 (en) 2012-09-19 2012-12-26 Dow Corning Production of blend of polyolefin and organopolysiloxane
JP2014105283A (ja) 2012-11-28 2014-06-09 Shin Etsu Chem Co Ltd 熱伝導性シリコーングリース組成物
FR3000090A1 (fr) 2012-12-20 2014-06-27 Bluestar Silicones France Procede et compositions utiles pour l'etancheification et l'assemblage de composants d'un groupe moto-propulseur
JP5944306B2 (ja) 2012-12-21 2016-07-05 コスモ石油ルブリカンツ株式会社 高熱伝導性グリース
CN103087389B (zh) 2013-01-31 2015-06-10 合肥工业大学 一种高导热高韧性复合材料及其制备方法
JP6370812B2 (ja) 2013-02-11 2018-08-08 ダウ シリコーンズ コーポレーション クラスタ化官能性ポリオルガノシロキサン、これを生成するプロセス、及びこれを使用する方法
EP3004275B1 (en) 2013-02-11 2020-10-21 Dow Silicones Corporation In situ method for forming thermally conductive thermal radical cure silicone composition
JP5372270B1 (ja) 2013-02-19 2013-12-18 ビッグテクノス株式会社 熱放射性フィルム及び熱放射性粘着テープ
JP6263042B2 (ja) 2013-02-28 2018-01-17 コスモ石油ルブリカンツ株式会社 基油拡散防止性能を有する熱伝導性グリース
CN103102552A (zh) 2013-03-12 2013-05-15 泰山体育产业集团有限公司 一种相变保温聚烯烃泡沫材料及其制备方法
WO2014160067A1 (en) 2013-03-14 2014-10-02 Dow Corning Corporation Thermally curable silicone compositions as temporary bonding adhesives
US9070660B2 (en) 2013-03-15 2015-06-30 Intel Corporation Polymer thermal interface material having enhanced thermal conductivity
CN103214848B (zh) 2013-04-28 2015-07-22 深圳市新亚新材料有限公司 一种用于cpu散热的相变导热硅脂组合物及其制备方法
CN103333447A (zh) 2013-06-26 2013-10-02 苏州天脉导热科技有限公司 一种相变化热界面材料及其制备方法
US9464879B2 (en) 2013-06-28 2016-10-11 Buhler, Inc. Barrel measuring device
WO2015008330A1 (ja) 2013-07-16 2015-01-22 日立化成株式会社 感光性樹脂組成物、フィルム状接着剤、接着シート、接着剤パターン、接着剤層付半導体ウェハ及び半導体装置
CN103409116B (zh) 2013-07-30 2015-07-22 深圳德邦界面材料有限公司 一种绝缘增强型导热界面材料及其制备方法
CN103436027B (zh) 2013-09-09 2015-10-28 北京化工大学 一种导热电绝缘硅橡胶热界面材料及其制备方法
KR101917164B1 (ko) 2013-10-30 2018-11-09 에스케이이노베이션 주식회사 열전도성 폴리머의 제조방법
US20150125646A1 (en) 2013-11-05 2015-05-07 Espci Innov Self-Healing Thermally Conductive Polymer Materials
WO2015068551A1 (ja) 2013-11-08 2015-05-14 リンテック株式会社 保護膜形成用組成物、保護膜形成用シート、及び保護膜付きチップ
JP2015097134A (ja) 2013-11-15 2015-05-21 日東電工株式会社 回路付サスペンション基板
CN103756631B (zh) 2013-11-28 2015-06-03 常熟市恒信粘胶有限公司 双组份自粘性加成型阻燃导热室温固化有机硅灌封胶
KR20160094385A (ko) 2013-12-05 2016-08-09 허니웰 인터내셔날 인코포레이티드 조절된 pH를 갖는 주석(II) 메탄술포네이트 용액
CN104152103B (zh) 2013-12-23 2016-08-17 郑州中原应用技术研究开发有限公司 一种加成型双组分导热灌封胶及其制备方法
CN103709757A (zh) 2013-12-30 2014-04-09 无锡中石油润滑脂有限责任公司 一种绝缘导热硅脂及其制备方法
CN104449550B (zh) 2013-12-31 2016-08-17 弗洛里光电材料(苏州)有限公司 有机硅组合物及其应用
CN103773322A (zh) 2014-02-08 2014-05-07 中国电子科技集团公司第三十三研究所 一种相变微胶囊导热材料及其制备方法
EP3105300B1 (en) 2014-02-13 2019-08-21 Honeywell International Inc. Compressible thermal interface materials
CN106661331B (zh) 2014-03-06 2020-10-23 汉高股份有限及两合公司 单晶氧化铝填充的管芯粘结膏
CN103865271B (zh) 2014-03-20 2017-04-05 北京化工大学 一种纳米杂化材料改性的有机硅导热电子灌封胶的制备方法
CN103849356A (zh) 2014-03-20 2014-06-11 中国电子科技集团公司第三十三研究所 一种电气绝缘相变导热材料及其制备方法
JP6348434B2 (ja) 2014-03-28 2018-06-27 信越化学工業株式会社 シリコーン粘着剤組成物、その製造法及び粘着フィルム
JP2015212318A (ja) 2014-05-01 2015-11-26 信越化学工業株式会社 熱伝導性シリコーン組成物
US20150334871A1 (en) 2014-05-19 2015-11-19 Laird Technologies, Inc. Thermal interface materials with thin film sealants
CN104140678B (zh) 2014-06-29 2017-04-12 惠州市永卓科技有限公司 一种具有自粘性的导热硅脂及其制备方法
CN104098914B (zh) 2014-07-02 2017-09-29 深圳市安品有机硅材料有限公司 有机硅导热界面材料
CN106536609B (zh) 2014-07-07 2022-04-29 霍尼韦尔国际公司 具有离子清除剂的热界面材料
WO2016035680A1 (ja) 2014-09-01 2016-03-10 株式会社カネカ 自動車用ledランプヒートシンク
US9777205B2 (en) 2014-09-22 2017-10-03 Dow Global Technologies Llc Thermal grease based on hyperbranched olefinic fluid
US10355188B2 (en) 2014-10-23 2019-07-16 Kaneka Corporation LED lamp heat sink
JP6653662B2 (ja) 2014-10-24 2020-02-26 ナミックス株式会社 導電性組成物及びそれを用いた電子部品
CN104479623B (zh) 2014-12-03 2016-05-18 湖南皓志科技股份有限公司 一种高导热常温固化有机硅灌封胶
EP3227399B1 (en) 2014-12-05 2021-07-14 Honeywell International Inc. High performance thermal interface materials with low thermal impedance
CN104497574A (zh) 2014-12-10 2015-04-08 深圳市博恩实业有限公司 多功能有机硅热界面材料
CN104513487B (zh) 2014-12-10 2017-05-10 东莞兆舜有机硅科技股份有限公司 一种双组分导热硅凝胶及其用途
JP6648402B2 (ja) 2014-12-22 2020-02-14 住友ベークライト株式会社 熱伝導性シート、熱伝導性シートの硬化物および半導体装置
US10329424B2 (en) 2014-12-25 2019-06-25 Polymatech Japan Co., Ltd. Silicone composition
WO2016111139A1 (ja) 2015-01-06 2016-07-14 富士高分子工業株式会社 蓄熱性熱伝導シート
US10431858B2 (en) 2015-02-04 2019-10-01 Global Web Horizons, Llc Systems, structures and materials for electrochemical device thermal management
JP6264307B2 (ja) 2015-02-19 2018-01-24 信越化学工業株式会社 付加硬化型シリコーン組成物
CN104804705A (zh) 2015-05-06 2015-07-29 成都拓利化工实业有限公司 低释气量加成型无卤阻燃导热有机硅灌封胶及其制备方法
CN104861661A (zh) 2015-05-13 2015-08-26 浙江中天氟硅材料有限公司 一种低密度导热灌封胶及其制备方法
JP6510315B2 (ja) 2015-05-14 2019-05-08 デンカ株式会社 熱伝導性グリース用組成物、熱伝導性グリースおよび放熱部材
EP3305519B1 (en) 2015-06-03 2021-06-30 Kaneka Corporation Metal resin composite
US10692797B2 (en) 2015-06-30 2020-06-23 Laird Technologies, Inc. Thermal interface materials with low secant modulus of elasticity and high thermal conductivity
CN106467668B (zh) 2015-08-19 2021-07-30 广东生益科技股份有限公司 一种有机硅树脂铝基覆铜板及其制备方法
CN108026375B (zh) 2015-09-09 2021-05-11 株式会社钟化 导热性树脂组合物
CN105111750A (zh) 2015-09-09 2015-12-02 蓝星(成都)新材料有限公司 一种led灌封用有机硅密封胶
JP6497291B2 (ja) 2015-10-14 2019-04-10 信越化学工業株式会社 絶縁放熱シート
CN105349113A (zh) 2015-10-14 2016-02-24 文雪烽 一种导热界面材料
US10312177B2 (en) 2015-11-17 2019-06-04 Honeywell International Inc. Thermal interface materials including a coloring agent
CN105419339A (zh) 2015-12-01 2016-03-23 江苏晶河电子科技有限公司 一种高性能硅基导热凝胶及其制备方法
CN105566920A (zh) 2015-12-24 2016-05-11 平湖阿莱德实业有限公司 低渗油超软导热硅胶组合物及导热硅胶垫片及其制备方法
CN105670555A (zh) 2016-01-22 2016-06-15 何挺 一种高导热型的有机硅灌封胶
US10781349B2 (en) 2016-03-08 2020-09-22 Honeywell International Inc. Thermal interface material including crosslinker and multiple fillers
CN105925243A (zh) 2016-05-23 2016-09-07 东莞珂洛赫慕电子材料科技有限公司 一种室温固化型高导热柔性硅胶
CN105838322A (zh) 2016-05-26 2016-08-10 张学健 一种新型有机硅灌封胶
US20180016404A1 (en) 2016-07-15 2018-01-18 Gaco Western, LLC Silicone membranes
US20180030328A1 (en) 2016-07-26 2018-02-01 Honeywell International Inc. Gel-type thermal interface material
CN106221236B (zh) 2016-07-26 2019-09-10 深圳市金无曼工业新材料有限公司 可常温或加温凝胶化制备的双组份导热硅脂及其制备方法
EP3839005B1 (en) 2016-10-12 2023-07-19 Honeywell International Inc. Thermal interface materials including coloring agent
CN106633916B (zh) * 2016-12-26 2019-09-24 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 一种石墨烯基导热界面材料及其制备方法
JP7129181B2 (ja) 2017-03-17 2022-09-01 旭化成株式会社 ヘッドマウントディスプレイ用部材
CN107057370A (zh) 2017-05-18 2017-08-18 平湖阿莱德实业有限公司 一种高导热填隙界面材料及其制备方法
US11041103B2 (en) 2017-09-08 2021-06-22 Honeywell International Inc. Silicone-free thermal gel
CN107488436B (zh) * 2017-09-20 2022-04-22 深圳沃尔提莫电子材料有限公司 一种含液态金属导热填料的双组份导热硅胶片
US10344194B2 (en) 2017-09-27 2019-07-09 Momentive Performance Materials Inc. Thermal interface composition comprising ionically modified siloxane
EP3688111A4 (en) 2017-09-29 2021-07-28 Dow Silicones Corporation THERMAL CONDUCTIVE COMPOSITION
US10428256B2 (en) 2017-10-23 2019-10-01 Honeywell International Inc. Releasable thermal gel
CN108047722A (zh) * 2017-12-07 2018-05-18 航天特种材料及工艺技术研究所 一种相变导热硅脂及其制备方法
US11072706B2 (en) 2018-02-15 2021-07-27 Honeywell International Inc. Gel-type thermal interface material

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4871782A (en) * 1988-07-29 1989-10-03 General Electric Company Low viscosity silicone foam compositions
JP2009292914A (ja) * 2008-06-04 2009-12-17 Momentive Performance Materials Inc 室温硬化性シリコーンゴム組成物
CN102666663A (zh) * 2009-10-23 2012-09-12 道康宁东丽株式会社 新的有机聚硅氧烷共聚物
WO2012026466A1 (ja) * 2010-08-23 2012-03-01 ソニーケミカル&インフォメーションデバイス株式会社 電磁波吸収性熱伝導シート及び電磁波吸収性熱伝導シートの製造方法
CN106243720A (zh) * 2015-06-10 2016-12-21 信越化学工业株式会社 导热性有机硅油灰组合物
CN108137813A (zh) * 2015-07-24 2018-06-08 道康宁东丽株式会社 固化有机硅颗粒以及其中结合固化有机硅颗粒的美容材料
CN105218827A (zh) * 2015-10-21 2016-01-06 绍兴佳华高分子材料股份有限公司 一种有机基团改性超高分子量聚硅氧烷及其制备方法
CN109417061A (zh) * 2016-07-26 2019-03-01 霍尼韦尔国际公司 凝胶型热界面材料
WO2018221662A1 (ja) * 2017-05-31 2018-12-06 モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 熱伝導性ポリオルガノシロキサン組成物

Also Published As

Publication number Publication date
US20200343154A1 (en) 2020-10-29
TWI848098B (zh) 2024-07-11
US11373921B2 (en) 2022-06-28
EP3959265A1 (en) 2022-03-02
WO2020219368A1 (en) 2020-10-29
TW202104513A (zh) 2021-02-01
CN113840881A (zh) 2021-12-24
JP7551649B2 (ja) 2024-09-17
EP3959265A4 (en) 2023-08-09
KR20210145288A (ko) 2021-12-01
JP2022530372A (ja) 2022-06-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN109417061B (zh) 凝胶型热界面材料
TWI731123B (zh) 凝膠型熱介面材料
JP5534837B2 (ja) 熱伝導性シリコーンゴム組成物
CN108624060B (zh) 固晶用硅酮树脂组合物及固化物
JP6339761B2 (ja) 熱伝導性シリコーン組成物及び熱伝導性部材
CN111868206A (zh) 凝胶型热界面材料
CN111373013A (zh) 可剥离热凝胶
WO2010024305A1 (en) Thermally conductive silicone composition and semiconductor device
CN113840881B (zh) 具有低预固化粘度和后固化弹性性能的凝胶型热界面材料
JP2024510937A (ja) サーマルゲル組成物
JP5648290B2 (ja) 電子装置およびその製造方法
JP2007191698A (ja) エポキシ・シリコーン混成樹脂組成物及びその硬化物
WO2002086911A1 (en) Conductive, silicone-based compositions with improved initial adhesion and reduced microvoiding
CN118139930A (zh) 含金刚石颗粒的可固化导热组合物
TW202402954A (zh) 導熱性組成物及其硬化物
JP2024007486A (ja) 側鎖型変性シリコーン樹脂、及び樹脂組成物

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant