JP2021028831A - タッチスクリーンセンサ - Google Patents
タッチスクリーンセンサ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2021028831A JP2021028831A JP2020179404A JP2020179404A JP2021028831A JP 2021028831 A JP2021028831 A JP 2021028831A JP 2020179404 A JP2020179404 A JP 2020179404A JP 2020179404 A JP2020179404 A JP 2020179404A JP 2021028831 A JP2021028831 A JP 2021028831A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- micropattern
- conductive
- touch screen
- area
- screen sensor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
- G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
- G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
- G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
- G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
- G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
- G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
- G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
- G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
- G06F3/0446—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using a grid-like structure of electrodes in at least two directions, e.g. using row and column electrodes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
- G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
- G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
- G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
- G06F3/0412—Digitisers structurally integrated in a display
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
- G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
- G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
- G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
- G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
- G06F3/0445—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using two or more layers of sensing electrodes, e.g. using two layers of electrodes separated by a dielectric layer
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
- G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
- G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
- G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
- G06F3/045—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means using resistive elements, e.g. a single continuous surface or two parallel surfaces put in contact
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B5/00—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form
- H01B5/14—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form comprising conductive layers or films on insulating-supports
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0073—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
- H05K3/0079—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces characterised by the method of application or removal of the mask
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/02—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
- H05K3/06—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
- H05K3/061—Etching masks
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
- G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
- G06F2203/04103—Manufacturing, i.e. details related to manufacturing processes specially suited for touch sensitive devices
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
- G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
- G06F2203/04112—Electrode mesh in capacitive digitiser: electrode for touch sensing is formed of a mesh of very fine, normally metallic, interconnected lines that are almost invisible to see. This provides a quite large but transparent electrode surface, without need for ITO or similar transparent conductive material
Abstract
Description
本願は、2008年2月28日に出願された米国特許仮出願第61/032,269号(その開示は参照によりその全体が本明細書に組み込まれる)、2008年2月28日に出願された同第61/032,273号(その開示は参照によりその全体が本明細書に組み込まれる)、2008年8月1日に出願された同第61/085,496号(その開示は参照によりその全体が本明細書に組み込まれる)、及び2008年8月1日に出願された同第61/085,764号(その開示は参照によりその全体が本明細書に組み込まれる)の利益を請求する。
2.(マスキング材料又は続く金属めっきのための種材料の)インクジェット印刷
3.(続く金属めっきのための種材料の)グラビア印刷
4.微小複製(基材中に微小溝を形成し、次に導電性材料又は続く金属めっきのための種材料を充填する)、又は
5.マイクロコンタクト印刷(基材表面上の自己組織化単分子膜(SAM)パターンのスタンピング又は輪転印刷)。
以下の記載による金薄膜の微小パターンが、無色のガラスの薄いシート(およそ1ミリメートルの厚さ)上に堆積される。微小パターン240が、図11及び図12に描かれている。金層の厚さ又は高さは、約100ナノメートルである。マイクロパターン240は、水平の細い配線242を含む一連の水平(x軸)メッシュバー241を伴い、配線242は、幅がおよそ2マイクロメートルである。これらの水平メッシュ配線242の4本が、より大きな構造の接触パッド260と電気通信している。メッシュバーは、およそ6ミリメートルの幅である。したがって、13本の等間隔な配線244が、6ミリメートルの幅(y軸)を横断し、13本の等間隔な配線242が6ミリメートルの長さ(x軸)を横断し、配線の正方形グリッドのピッチは500マイクロメートルである。図12に描かれているように、いくつかの配線は、およそ25マイクロメートル(場所の特定の容易化のために、図では誇張されている)の断絶部250を有する。500マイクロメートルピッチにおける、2マイクロメートル幅の不透明配線を有する正方形グリッドでは、不透明配線の空間占有率は、0.80%であり、したがって、99.20%の開口をもたらす。同じ正方形グリッドであるが、500マイクロメートル毎に25マイクロメートルの断絶部を有するものでは、空間占有率は0.78%であり、したがって、99.22%の開口をもたらす。したがって、この構造は、99.22%の開口を有する1mm×6mm区域、及び99.20%の開口を有する6mm×6mm区域を含む。メッシュを有するガラス物品の平均可視透過率は、およそ0.92×0.992=91%である(0.92という係数は、パターンの導電体が堆積されていない領域における光透過率の界面反射損失に関連する)。水平バー方向に沿って、4本の金の配線によって互いに接続された、一連の完全なグリッド区域が存在する。スパッタ金薄膜に関し、5E−06Ωcmの実効バルク抵抗値を想定すると、2マイクロメートル幅、500マイクロメートル長の金薄膜の区分は、およそ125Ωの抵抗率を有する。完成したグリッドを有する区域は、バーの方向に電流が流れるために、およそ115Ω/スクエアの有効シート抵抗を有する。完成したグリッドを有する区域を接続する4本の配線は、区域間において、およそ62.5Ωの抵抗を生じる。導電配線要素の上記の配置は、図13にプロットされるように、バー方向に沿って、空間的に異なる単位長さ当たりの抵抗を生じる。図14は、水平メッシュバーの配列の、同等の回路を例示する。回路は、抵抗によって接続される、一連のプレートを有する。
以下の記載による金薄膜の微小パターンが、無色のガラスの薄いシート(およそ1ミリメートルの厚さ)上に堆積される。微小パターン340が、図15に描かれている。金の厚さは、約100ナノメートルである。微小パターン340は、一連の交互配置された楔形又は三角形の形状の透明導電性区域を有する。各楔形は、細い金属の配線342、344で作製されるメッシュからなり、配線342、344(図15a〜15c参照)は、およそ2マイクロメートルの幅である。メッシュの楔形は、その底辺においておよそ1センチメートルの幅であり、長さはおよそ6センチメートルである。配線342、344の正方形グリッドのピッチは、500マイクロメートルである。楔形内のメッシュの選択される区域(図15a〜図15b参照)内において、およそ25マイクロメートル長の断絶部350が、楔形内の局部的シート抵抗(その長軸に沿って通過する電流のため)に影響を与えるように、意図的に設置される。図15a及び図15bに描かれているように、区域15a、及び15b(図15では、区域はおよそ1センチメートルで分離している)、断絶部350は、長軸方向において、シート抵抗を1.2倍超増加させるメッシュに含まれる。全体的な構造はまた、区域15c(図15cに描かれている)を含み、これは、区域15a及び15bから、電気的に絶縁され、離間しており、また区域15a及び15bのものよりも低いシート抵抗値のメッシュを有する。メッシュ区域15cは、99.20%の開口を有し、一方でメッシュ区域15a及び15bは、それぞれ、99.20%及び99.21%の開口率を有する。全体的な構造はまた、区域15a、15b、及び15cよりも大きなピッチのメッシュを有するが、同じ幅の配線を有する、区域15d及び15e(図15d及び15eに描かれている)を含み、より高いシート抵抗及び可視光透過率をもたらす。
タッチスクリーンセンサのための透明センサ素子400が、図17に例示される。センサ素子400は、互いに積層され、明確にするために図17では分離されて描かれている、パターン化された2つの導電層410、414(例えば、X軸層、及びY軸層)、光学的に透明な2つの接着剤層412、416、及び基部プレート418を含む。層410及び414は、透明導電メッシュバーを含み、ここで一方の層はx軸方向に配向され、他方の層はy軸方向に配向されている(図2参照)。基部プレート418は、面積が6センチメートル×6センチメートル、厚さが1ミリメートルのガラスのシートである。好適な、光学的に透明な接着剤は、ミネソタ州セントポールの 3M Company 製の、Optically Clear Laminating Adhesive 8141 である。X層及びY層のそれぞれに関し、金属の微小パターンを有する透明なポリマーフィルムが使用される。以下の記載による金薄膜の微小パターンが、PETの薄いシート上に堆積される。好適なPET基材としては、厚さおよそ125マイクロメートルの、デラウェア州ウィルミントンの DuPont 製の ST504 PET が挙げられる。
タッチスクリーンセンサのための透明センサ素子が記載される。図17に描かれているように、センサ素子は、パターン化された2つの導電層、光学的に透明な2つの接着剤層、及び基部プレートを含む。基部プレートは、図17に描かれるように互いに積層される、面積が6センチメートル×6センチメートル、かつ厚さが1ミリメートルである、ガラスのシートである。好適な、光学的に透明な接着剤は、3M Company 製の、Optically Clear Laminating Adhesive 8141 である。X層及びY層のそれぞれに関し、金属の微小パターンを有する透明なポリマーフィルムが使用される。以下の記載による金薄膜の微小パターンが、PETの薄いシート上に堆積される。好適なPET基材としては、厚さおよそ125マイクロメートルの、DuPont 製の ST504 PET が挙げられる。
タッチスクリーンセンサのための透明センサ素子が記載される。図17に描かれているように、センサ素子は、パターン化された2つの導電層、光学的に透明な2つの接着剤層、及び基部プレートを含む。基部プレートは、図17に描かれるように互いに積層される、面積が6センチメートル×6センチメートル、かつ厚さが1ミリメートルである、ガラスのシートである。好適な、光学的に透明な接着剤は、3M Company 製の、Optically Clear Laminating Adhesive 8141 である。X層及びY層のそれぞれに関し、金属の微小パターンを有する透明なポリマーフィルムが使用される。以下の記載による金薄膜の微小パターンが、PETの薄いシート上に堆積される。好適なPET基材としては、厚さおよそ125マイクロメートルの、DuPont 製の ST504 PET が挙げられる。
ポリマーフィルム基材が提供された(ポリエチレンテレフタレート(PET)(ST504、デラウェア州ウィルミントンの E.I. DuPont de Nemours and Company))。ST504 PET フィルムの光学的特性が、Haze-Gard によって決定された。ヘイズ及び透過率は、それぞれ、およそ0.67%及び92.9%であった。
エラストマースタンプを成形するための、2つの異なるマスターツールが、フォトリソグラフィーを使用して、10センチメートル直径シリコンウエファー上にフォトレジスト(Shipley1818、ペンシルバニア州フィラデルフィアの Rohm and Haas Company)のパターンを調製することによって、製造された。異なるマスターツールは、本明細書において「六角形(Hex)」及び「正方形」と称される、2つの異なるメッシュ形状に基づいていた。六角形とは、規則的な六角形の形状を有する囲まれた領域を画定する線のネットワークを含むパターンを指す。正方形とは、正方形の形状を有する囲まれた領域を画定する線のネットワークを含むパターンを指す。エラストマースタンプは、未硬化ポリジメチルシロキサン(PDMS、Sylgard(商標)184、ミシガン州ミッドランドの Dow Corning)をツールにおよそ3.0ミリメートルの厚さまで注ぐことによって、マスターツールに対して成形された。マスターと接触している未硬化シリコーンは、真空に曝露することによって脱気され、その後70℃で2時間にわたって硬化された。マスターツールから剥いだ後、PDMSスタンプには、およそ1.8マイクロメートルの高さで隆起した形状を含むレリーフパターンが付与された。六角形メッシュ及び正方形メッシュスタンプの両方に関して、隆起した構造は、上記の対応するメッシュ形状を画定する線であった。
スタンプは、その裏側(レリーフパターンのない平坦な表面)を、エタノール中のオクタデシルチオール(「ODT」O0005、マサチューセッツ州ウェルズリーヒルズ(Wellesley Hills)の TCI AMERICA)の溶液に20時間接触させることによってインクを付された。10mMのODT溶液が正方形メッシュパターンのスタンプに使用され、5mMのODT溶液が、六角形メッシュパターンのスタンプに使用された。
金属化ポリマーフィルム基材が、上記のインクを付されたスタンプでスタンピングされた。スタンピングでは、最初にフィルムサンプルの縁部をスタンプ表面に接触させ、次に直径およそ3.0センチメートルのフォームローラーを使用して、フィルムをローラーでスタンプ全体に接触させることにより、金属化されたフィルムを、上を向いたスタンプのレリーフパターン化された表面に接触させた。ローリング工程が、実行に要したのは1秒未満だった。ローリング工程の後に、基材をスタンプと10秒間接触させた。次に、基材がスタンプから剥がされ、工程に要したのは1秒未満だった。
スタンピングの後、印刷されたパターンを有する金属化フィルム基材が、選択的エッチング及び金属パターン化のために、エッチング溶液に浸漬された。金薄膜を有する印刷された金属化フィルム基材に関し、エッチング液は、1グラムのチオ尿素(T8656、ミズーリ州セントルイスの Sigma-Aldrich)、0.54ミリリットルの濃縮塩化水素酸(HX0603−75、ニュージャージー州ギブズタウンの EMD Chemicals)、0.5ミリリットルの過酸化水素(30%、5240−05、ニュージャージー州フィリップスバーグの Mallinckrodt Baker)、及び21グラムの脱イオン水を含んでいた。金薄膜をパターン化するために、印刷された金属化フィルム基材が、エッチング溶液に50秒間浸漬された。銀薄膜を有する印刷された金属化フィルム基材に関し、エッチング液は、0.45グラムのチオ尿素(T8656、ミズーリ州セントルイスの Sigma-Aldrich)、1.64グラムの硝酸第二鉄(216828、ミズーリ州セントルイスの Sigma-Aldrich)、及び200ミリリットルの脱イオン水を含んでいた。銀薄膜をパターン化するために、印刷された金属化フィルム基材が、エッチング溶液に3分間浸漬された。金をパターンエッチングした後、2.5グラムの過マンガン酸カリウム(PX1551−1、ニュージャージー州ギブズタウンの EMD Chemicals)、4グラムの水酸化カリウム(484016、ミズーリ州セントルイスの Sigma-Aldrich)及び100ミリリットルの脱イオン水の溶液を使用して、残留クロムがエッチングされた。
選択的エッチング及び金属パターン化の後、金属パターンは、光学顕微鏡(DS−Fi1デジタルカメラ及び NIS-Elements D ソフトウェアを装備した Model ECLIPSE LV100D、ニューヨーク州メルビルのNikon)、走査型電子顕微鏡(SEM、Model JSM-6400、日本、東京のJEOL Ltd)、及びHaze-Gard(Haze-Gard plus、メリーランド州コロンビアの BYK Gardner)を使用して特性評価された。金属パターンの線構造の幅を決定するために顕微鏡技術が使用された。メッシュグリッドコーティングフィルムの透過率及びヘイズを決定するために、Haze-Gard が使用された。Haze-Gard測定は、パターン化されたフィルムを光学的に透明な接着剤(3M製品)でガラス上に積層した後に行われた。金属パターンの線構造の可視性の度合いを表すために、高、中、低の可視率が与えられた(人の裸眼による観察)。
金薄膜の六角形メッシュグリッドパターンが、上記の手順に従って作製及び特性評価された。インク溶液は、5mMの濃度でエタノールに溶解したオクタデシルチオールを含んでいた。インク溶液を、スタンプの裏側に20時間接触させた。スタンピング時間は10秒間であった。図1は、完成した金薄膜微小パターンから記録されたSEM顕微鏡写真を示す。実際の線幅はおよそ1.63マイクロメートルであった。開口の割合が、測定された線幅、及び設計された縁部間の幅400マイクロメートルに基づいて再計算され、これは99.2%であった。金六角形メッシュグリッドコーティングフィルムの光学的特性は、Haze-Gard によって決定された。ヘイズ及び透過率は、それぞれ、およそ1.14%及び91.6%であった。線幅1.63マイクロメートル、及び縁部間の幅400マイクロメートルを有する金六角形メッシュパターンは容易に見ることができるため、この実施例には、高い可視性が与えられた。
金薄膜の六角形メッシュグリッドパターンが、実施例1に記載される手順に従って、作製及び特性評価された。各実施例の実際の線幅は、SEMを使用して測定され、表1に記載された。次に、開口の割合が、実際の線幅、及び設計された縁部間の幅に基づいて再計算され、表1に記載された。表1はまた、Haze-Gard によって測定された、各実施例のヘイズ値及び透過率値、並びに各実施例に与えられた可視率を示す。
金薄膜の正方形メッシュグリッドパターンが、上記の手順に従って作製及び特性評価された。インク溶液は、10mMの濃度でエタノールに溶解したオクタデシルチオールを含んでいた。インク溶液を、スタンプの裏側に20時間接触させた。スタンピング時間は10秒間であった。光学顕微鏡を使用すると、実際の線幅はおよそ4.73マイクロメートルであった。開口の割合は、測定された線幅及び設計されたピッチ320マイクロメートルに基づいて再計算され、これは97.0%であった。金の正方形メッシュグリッドコーティングフィルムの光学的特性は、Haze-Gard によって決定された。ヘイズ及び透過率は、それぞれ、およそ1.58%及び88.6%であった。線幅4.73マイクロメートル、及びピッチ320マイクロメートルを有する金正方形メッシュパターンは容易に見ることができるため、この実施例には、高い可視性が与えられた。
金薄膜の正方形メッシュグリッドパターンが、実施例11に記載される手順に従って、作製及び特性評価された。各実施例の実際の線幅は、光学顕微鏡を使用して測定され、表1に記載された。次に、開口の割合が、実際の線幅、及び設計されたピッチに基づいて再計算され、表1に記載された。表1はまた、Haze-Gard によって測定された、各実施例のヘイズ値及び透過率値、並びに各実施例に与えられた可視率を示す。
銀薄膜の六角形メッシュグリッドパターンが、上記の手順に従って作製及び特性評価された。銀コーティングされた基材は、スパッタリングによって調製された。インク溶液は、5mMの濃度でエタノールに溶解したオクタデシルチオールを含んでいた。インク溶液を、スタンプの裏側に20時間接触させた。スタンピング時間は10秒間であった。図2は、完成した銀薄膜微小パターンから記録されたSEM顕微鏡写真を示す。実際の線幅はおよそ2.43マイクロメートルであった。開口の割合が、測定された線幅、及び設計された縁部間の幅600マイクロメートルに基づいて再計算され、これは99.2%であった。金六角形メッシュグリッドコーティングフィルムの光学的特性は、Haze-Gard によって決定された。ヘイズ及び透過率は、それぞれ、およそ1.19%及び91.8%であった。線幅2.43マイクロメートル、及び縁部間の幅600マイクロメートルを有する銀六角形メッシュパターンは容易に見ることができるため、この実施例には、高い可視性が与えられた。
銀薄膜の六角形メッシュグリッドパターンが、実施例19に記載される手順に従って、作製及び特性評価された。各実施例の実際の線幅は、SEMを使用して測定され、表1に記載された。次に、開口の割合が、実際の線幅、及び設計された縁部間の幅に基づいて再計算され、表1に記載された。表1はまた、Haze-Gard によって測定された、各実施例のヘイズ値及び透過率値、並びに各実施例に与えられた可視率を示す。
銀薄膜の正方形メッシュグリッドパターンが、上記の手順に従って作製及び特性評価された。銀コーティングされた基材が、熱蒸着によって調製された。インク溶液は、10mMの濃度でエタノールに溶解したオクタデシルチオールを含んでいた。インク溶液を、スタンプの裏側に20時間接触させた。スタンピング時間は10秒間であった。光学顕微鏡を使用し、実際の線幅はおよそ5.9マイクロメートルであった。開口の割合が、測定された線幅、及び設計されたピッチ320マイクロメートルに基づいて再計算され、これは96.3%であった。銀正方形メッシュグリッドコーティングフィルムの光学的特性は、Haze-Gard によって決定された。ヘイズ及び透過率は、それぞれ、およそ1.77%及び88.9%であった。線幅5.9マイクロメートル、及びピッチ320マイクロメートルを有する銀正方形メッシュパターンは容易に見ることができるため、この実施例には、高い可視性が与えられた。
銀薄膜の正方形メッシュグリッドパターンが、実施例28に記載される手順に従って、作製及び特性評価された。各実施例の実際の線幅は、光学顕微鏡を使用して測定され、表1に記載された。次に、開口の割合が、実際の線幅、及び設計されたピッチに基づいて再計算され、表1に記載された。表1はまた、Haze-Gard によって測定された、各実施例のヘイズ値及び透過率値、並びに各実施例に与えられた可視率を示す。
同一出願人による米国特許仮出願第61/032,273号に記載されるマイクロコンタクト印刷及びエッチングを使用して、透明センサ素子が製作され、図27、図28、及び図29に概して示されるタッチセンサ駆動装置と組み合わされた装置は次に、ディスプレイと接続されたコンピューター処理ユニットと一体化されて、装置を試験した。装置は、複数の、単独の及び又は同時の指接触の位置を検出することができ、これは、ディスプレイに図形的に示された。この実施例は、マイクロコンタクト印刷及びエッチング技術(同時係属米国特許出願第61/032,273参照)を使用して、タッチセンサで使用される微小導電体パターンを形成した。
第1のパターン化された基材
厚さ125マイクロメートル(μm)を有するポリエチレンテレフタレート(PET)から作製される第1の可視光基材が、熱蒸着コーターを使用して、100nm銀薄膜で蒸気コーティングされて、第1の銀金属化フィルムを生成した。PETは、デラウェア州ウィルミントンのE.I. du Pont de Nemours から、製品番号 ST504 として市販されていた。銀は、ウィスコンシン州ミルウォーキーの Cerac Inc. から、99.99%純度の3mmショットとして市販されていた。
第2のパターン化された基材は、第2の可視光基材を使用する第1のパターン化された基材として作製されて、第2の銀金属化フィルムを製造した。第2の非連続的な六角形メッシュパターンの間に置かれた、第2の連続的な六角形メッシュパターンを有する第2スタンプが製造された。
2層投影型静電容量タッチスクリーン透明センサ素子を製造するために、上記で作製された第1及び第2のパターン化された基材が、以下のように使用された。
透明センサ素子が、タッチセンサ駆動装置に接続された。ガラス表面に指接触が成された際、コンピューターモニターは、接触感知区域内で生じている接触の位置を、モニターの対応する位置における色の変化(白色から緑色)の形態でレンダリングした。ガラス表面に指2本の接触が同時に成された際、コンピューターモニターは、接触感知区域内で生じている接触の位置を、モニターの対応する位置における色の変化(白色から緑色)の形態でレンダリングした。ガラス表面に指3本の接触が同時に成された際、コンピューターモニターは、接触感知区域内で生じている接触の位置を、モニターの対応する位置における色の変化(白色から緑色)の形態でレンダリングした。
微小複製された電極の一実施形態は、約2mm〜約5mmの中心間の間隔で分離された、幅約0.5〜約5マイクロメートル(図5のY寸法)の平行な導電体を含む。隣接する導電体の群は、例えば、図8及び図9に関して記載されるプロセスを使用して、1mm〜10mmの合計幅を有する電極を形成するように、電気的に相互接続されてもよい。
Claims (38)
- 可視光透明基材と、
前記可視光透明基材の上又は中に配置される導電性微小パターンであって、前記微小パターンは、
マイクロメートルの単位で約X+0.5の導電体配線幅、及び
約[95−X]%〜99.5%の開口率(0≦X≦4.5)を有する、導電性微小パターンと、
を含む、タッチスクリーンセンサ。 - 前記微小パターンが、約[98.5−(2.5X÷3.5)]%〜[99.5−(X÷3.5)]%(0≦X≦3.5)の開口率を有する、請求項1に記載のタッチスクリーンセンサ。
- 10%未満のヘイズ値、及び75%超の透過率を有する、請求項1に記載のタッチスクリーンセンサ。
- 5%未満のヘイズ値、85%超の透過率を有する、請求項1に記載のタッチスクリーンセンサ。
- 前記導電体配線幅が、約6マイクロメートル未満であり、約300マイクロメートル未満のピッチを有する、請求項1に記載のタッチスクリーンセンサ。
- 前記導電体配線が、金、銀、パラジウム、プラチナ、アルミニウム、銅、ニッケル、スズ、これらの合金、酸化インジウムスズ、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項1に記載のタッチスクリーンセンサ。
- 前記導電体配線が、約500ナノメートル未満の厚さを有する、請求項1に記載のタッチスクリーンセンサ。
- 可視光透明基材と、
前記可視光透明基材の上又は中に配置される導電性微小パターンであって、前記微小パターンは、接触感知領域内に第1区域微小パターンを含む、導電性微小パターンと、を含み、
前記第1区域微小パターンは、約0.5〜5マイクロメートルの幅を有する金属の線形導電性構造を含み、
前記第1区域微小パターンは、可視光透明であり、約95%〜99.5%の開口を有し、
1ミリメートル×1ミリメートルの正方形区域を有する前記センサの前記第1区域微小パターンに関し、前記正方形区域のいずれも、前記正方形区域全体の平均から約75%超異なる遮蔽面積率を有さない、タッチスクリーンセンサ。 - 前記金属の線形導電性構造が、約500ナノメートル未満の厚さを有する、請求項8に記載のタッチスクリーンセンサ。
- 前記導電性微小パターンが、電気的に絶縁された導電体堆積物を含む、請求項8に記載のタッチスクリーンセンサ。
- 前記第1区域微小パターンが、第1の方向において、5〜100Ω/スクエアの第1シート抵抗値を有する、請求項8に記載のタッチスクリーンセンサ。
- 可視光透明基材と、
前記可視光透明基材の上又は中に配置される導電性微小パターンであって、前記微小パターンは、接触感知領域内に第1区域微小パターンを含む、導電性微小パターンと、
を含み、
前記第1区域微小パターンは、約0.5〜5マイクロメートルの幅を有する金属の線形導電性構造を含み、
前記第1区域微小パターンは、可視光透明であり、約95%〜99.5%の開口を有し、
5ミリメートル×5ミリメートルの正方形区域を有する前記センサの前記第1区域微小パターンに関し、前記正方形区域のいずれも、前記正方形区域全体の平均から50%超異なる遮蔽面積率を有さない、タッチスクリーンセンサ。 - 前記金属の線形導電性構造が、約500ナノメートル未満の厚さを有する、請求項12に記載のタッチスクリーンセンサ。
- 前記導電性微小パターンが、電気的に絶縁された導電体堆積物を含む、請求項12に記載のタッチスクリーンセンサ。
- 可視光透明基材と、
前記可視光透明基材の上又は中に配置される導電性微小パターンであって、前記微小パターンは、接触感知領域内に第1区域微小パターンを含む、導電性微小パターンと、
を含み、
前記第1区域微小パターンは、約0.5〜10マイクロメートルの幅を有する導電配線を含み、
前記第1区域微小パターンは、可視光透明であり、90%〜99.9%の開口を有し、 5ミリメートル×5ミリメートルの正方形区域を有する前記第1区域微小パターンに関し、前記正方形区域のいずれも、前記正方形区域全体の平均から約75%超異なる遮蔽面積率を有さない、タッチスクリーンセンサ。 - 前記区域のいずれも、前記区域全体の平均から約50%超異なる遮蔽面積率を有さない、請求項15に記載のタッチスクリーンセンサ。
- 前記区域のいずれも、前記区域全体の平均から約25%超異なる遮蔽面積率を有さない、請求項15に記載のタッチスクリーンセンサ。
- 前記区域のいずれも、前記区域全体の平均から約10%超異なる遮蔽面積率を有さない、請求項15に記載のタッチスクリーンセンサ。
- 前記導電性微小パターンが、約1〜5マイクロメートルの幅を有する導電配線を含む、請求項15に記載のタッチスクリーンセンサ。
- 前記導電性微小パターンが、1〜3マイクロメートルの幅を有する導電配線を含む、請求項19に記載のタッチスクリーンセンサ。
- 前記第1区域微小パターンが、95%〜99.5%の開口を有する、請求項15に記載のタッチスクリーンセンサ。
- 前記第1区域微小パターンが、97%〜98%の開口を有する、請求項15に記載のタッチスクリーンセンサ。
- 可視光透明基材と、
前記可視光透明基材の上又は中に配置される導電性微小パターンであって、前記微小パターンは、接触感知領域内に第1区域微小パターンを含む、導電性微小パターンと、
を含み、
前記第1区域微小パターンは、約1〜10マイクロメートルの幅を有する金属の線形導電性構造を含み、
第1区域微小パターンは、可視光透明であり、約90%〜99.5%の開口を有し、
前記第1区域微小パターンは、本来ならば連続的かつ一様なメッシュの内部の導電配線において、選択的な断絶部を含む、タッチスクリーンセンサ。 - 前記第1区域微小パターンが、5ミリメートル×5ミリメートルの正方形区域に分割されることができ、前記正方形区域のいずれも、前記正方形区域全体の平均から約75%超異なる遮蔽面積率を有さない、請求項23に記載のタッチスクリーンセンサ。
- 前記正方形区域のいずれも、前記正方形区域全体の平均から約50%超異なる遮蔽面積率を有さない、請求項24に記載のタッチスクリーンセンサ。
- 前記正方形区域のいずれも、前記正方形区域全体の平均から25%超異なる遮蔽面積率を有さない、請求項24に記載のタッチスクリーンセンサ。
- 前記区域のいずれも、前記正方形区域全体の平均から10%超異なる遮蔽面積率を有さない、請求項24に記載のタッチスクリーンセンサ。
- 可視光透明基材と、
前記可視光透明基材の上又は中に配置される接触感知導電性微小パターンと、
を含み、
前記微小パターンは、約1〜10マイクロメートルの幅を有する導電配線を含む、タッチスクリーンセンサ。 - 前記導電性微小パターンが、マイクロコンタクト印刷された導電性微小パターンである、請求項28に記載のタッチスクリーンセンサ。
- 前記微小パターンが、約1〜8マイクロメートルの幅を有する導電配線を含む、請求項28に記載のタッチスクリーンセンサ。
- 前記微小パターンが、約1〜6マイクロメートルの幅を有する導電配線を含む、請求項28に記載のタッチスクリーンセンサ。
- 前記微小パターンが、約1〜4マイクロメートルの幅を有する導電配線を含む、請求項28に記載のタッチスクリーンセンサ。
- 前記微小パターンが、約1〜2マイクロメートルの幅を有する導電配線を含む、請求項28に記載のタッチスクリーンセンサ。
- 前記導電性微小パターンが、接触感知領域内に第1区域微小パターンを含み、前記第1区域微小パターンが可視光透明であり、90%〜99.9%の開口を有する、請求項28に記載のタッチスクリーンセンサ。
- 前記導電性微小パターンが、接触感知領域内に第1区域微小パターンを含み、前記第1区域微小パターンが可視光透明であり、90%〜99.95%の開口を有する、請求項28に記載のタッチスクリーンセンサ。
- 5ミリメートル×5ミリメートルの正方形区域を有する前記第1区域微小パターンに関し、前記正方形区域のいずれも、前記正方形区域全体の平均から約75%超異なる遮蔽面積率を有さない、請求項33に記載のタッチスクリーンセンサ。
- 前記導電性微小パターンが、マイクロコンタクト印刷された導電性微小パターンである、請求項30に記載のタッチスクリーンセンサ。
- 前記導電性微小パターンが、微小複製された導電性微小パターンである、請求項28に記載のタッチスクリーンセンサ。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022124524A JP7350948B2 (ja) | 2008-02-28 | 2022-08-04 | タッチスクリーンセンサ |
JP2023148288A JP2023165013A (ja) | 2008-02-28 | 2023-09-13 | タッチスクリーンセンサ |
Applications Claiming Priority (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US3226908P | 2008-02-28 | 2008-02-28 | |
US3227308P | 2008-02-28 | 2008-02-28 | |
US61/032,269 | 2008-02-28 | ||
US61/032,273 | 2008-02-28 | ||
US8576408P | 2008-08-01 | 2008-08-01 | |
US8549608P | 2008-08-01 | 2008-08-01 | |
US61/085,496 | 2008-08-01 | ||
US61/085,764 | 2008-08-01 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019048195A Division JP6850821B6 (ja) | 2008-02-28 | 2019-03-15 | タッチスクリーンセンサ |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022124524A Division JP7350948B2 (ja) | 2008-02-28 | 2022-08-04 | タッチスクリーンセンサ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021028831A true JP2021028831A (ja) | 2021-02-25 |
JP7121092B2 JP7121092B2 (ja) | 2022-08-17 |
Family
ID=41012807
Family Applications (12)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010548855A Withdrawn JP2011513846A (ja) | 2008-02-28 | 2009-02-26 | タッチスクリーンセンサ |
JP2014190968A Active JP5997227B2 (ja) | 2008-02-28 | 2014-09-19 | タッチスクリーンセンサ |
JP2016132556A Active JP6640044B2 (ja) | 2008-02-28 | 2016-07-04 | タッチスクリーンセンサ |
JP2018000135A Active JP6595015B6 (ja) | 2008-02-28 | 2018-01-04 | タッチスクリーンセンサ |
JP2018000136A Active JP6595016B2 (ja) | 2008-02-28 | 2018-01-04 | タッチスクリーンセンサ |
JP2019048195A Active JP6850821B6 (ja) | 2008-02-28 | 2019-03-15 | タッチスクリーンセンサ |
JP2019173689A Active JP6707703B2 (ja) | 2008-02-28 | 2019-09-25 | タッチスクリーンセンサ |
JP2020079088A Active JP6735001B1 (ja) | 2008-02-28 | 2020-04-28 | タッチスクリーンセンサ |
JP2020091078A Active JP6735003B1 (ja) | 2008-02-28 | 2020-05-26 | タッチスクリーンセンサ |
JP2020179404A Active JP7121092B2 (ja) | 2008-02-28 | 2020-10-27 | タッチスクリーンセンサ |
JP2022124524A Active JP7350948B2 (ja) | 2008-02-28 | 2022-08-04 | タッチスクリーンセンサ |
JP2023148288A Pending JP2023165013A (ja) | 2008-02-28 | 2023-09-13 | タッチスクリーンセンサ |
Family Applications Before (9)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010548855A Withdrawn JP2011513846A (ja) | 2008-02-28 | 2009-02-26 | タッチスクリーンセンサ |
JP2014190968A Active JP5997227B2 (ja) | 2008-02-28 | 2014-09-19 | タッチスクリーンセンサ |
JP2016132556A Active JP6640044B2 (ja) | 2008-02-28 | 2016-07-04 | タッチスクリーンセンサ |
JP2018000135A Active JP6595015B6 (ja) | 2008-02-28 | 2018-01-04 | タッチスクリーンセンサ |
JP2018000136A Active JP6595016B2 (ja) | 2008-02-28 | 2018-01-04 | タッチスクリーンセンサ |
JP2019048195A Active JP6850821B6 (ja) | 2008-02-28 | 2019-03-15 | タッチスクリーンセンサ |
JP2019173689A Active JP6707703B2 (ja) | 2008-02-28 | 2019-09-25 | タッチスクリーンセンサ |
JP2020079088A Active JP6735001B1 (ja) | 2008-02-28 | 2020-04-28 | タッチスクリーンセンサ |
JP2020091078A Active JP6735003B1 (ja) | 2008-02-28 | 2020-05-26 | タッチスクリーンセンサ |
Family Applications After (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022124524A Active JP7350948B2 (ja) | 2008-02-28 | 2022-08-04 | タッチスクリーンセンサ |
JP2023148288A Pending JP2023165013A (ja) | 2008-02-28 | 2023-09-13 | タッチスクリーンセンサ |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8179381B2 (ja) |
EP (5) | EP4071785A1 (ja) |
JP (12) | JP2011513846A (ja) |
KR (13) | KR101720916B1 (ja) |
CN (3) | CN102016767A (ja) |
TW (1) | TWI446229B (ja) |
WO (1) | WO2009154812A2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022065498A1 (ja) | 2020-09-28 | 2022-03-31 | 三菱ケミカル株式会社 | 画像表示用導光板 |
Families Citing this family (510)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7821425B2 (en) | 2002-07-12 | 2010-10-26 | Atmel Corporation | Capacitive keyboard with non-locking reduced keying ambiguity |
GB0319714D0 (en) | 2003-08-21 | 2003-09-24 | Philipp Harald | Anisotropic touch screen element |
GB2418493B (en) | 2003-08-21 | 2006-11-15 | Harald Philipp | Capacitive position sensor |
GB2428306B (en) | 2005-07-08 | 2007-09-26 | Harald Philipp | Two-dimensional capacitive position sensor |
US7932898B2 (en) | 2005-09-20 | 2011-04-26 | Atmel Corporation | Touch sensitive screen |
TW200805128A (en) | 2006-05-05 | 2008-01-16 | Harald Philipp | Touch screen element |
US7903092B2 (en) * | 2006-05-25 | 2011-03-08 | Atmel Corporation | Capacitive keyboard with position dependent reduced keying ambiguity |
US8619054B2 (en) * | 2006-05-31 | 2013-12-31 | Atmel Corporation | Two dimensional position sensor |
US8786554B2 (en) * | 2006-07-10 | 2014-07-22 | Atmel Corporation | Priority and combination suppression techniques (PST/CST) for a capacitive keyboard |
US7830160B2 (en) * | 2006-10-20 | 2010-11-09 | Atmel, Corporation | Capacitive position sensor |
US20080094077A1 (en) * | 2006-10-20 | 2008-04-24 | Harald Philipp | Capacitive Position Sensor |
GB2446702A (en) * | 2007-02-13 | 2008-08-20 | Qrg Ltd | Touch Control Panel with Pressure Sensor |
CN101681213B (zh) * | 2007-03-29 | 2013-08-21 | 瑟克公司 | 用于电容式触控板的驱动屏蔽 |
TWI444876B (zh) * | 2007-04-05 | 2014-07-11 | Qrg Ltd | 二維位置感應器 |
DE112008001800B4 (de) * | 2007-07-12 | 2020-07-30 | Atmel Corporation | Zweidimensionales Touchpanel |
GB2451267A (en) * | 2007-07-26 | 2009-01-28 | Harald Philipp | Capacitive position sensor |
GB2451352A (en) | 2007-07-26 | 2009-01-28 | Qrg Ltd | Proximity sensor with an automatic switch-off function |
US9600124B2 (en) * | 2007-07-31 | 2017-03-21 | Atmel Corporation | Sensor and method of sensing |
WO2009027629A1 (en) | 2007-08-26 | 2009-03-05 | Qrg Limited | Capacitive sensor with reduced noise |
FR2925717B1 (fr) * | 2007-12-19 | 2010-06-18 | Stantum | Capteur tactile transparent multicontatcs a base de depot surfacique metallise |
EP2260366B1 (en) | 2008-02-28 | 2018-09-19 | 3M Innovative Properties Company | Touch screen sensor having varying sheet resistance |
TW201005613A (en) * | 2008-04-10 | 2010-02-01 | Atmel Corp | Capacitive position sensor |
US8526767B2 (en) | 2008-05-01 | 2013-09-03 | Atmel Corporation | Gesture recognition |
US8378981B2 (en) * | 2008-05-19 | 2013-02-19 | Atmel Corporation | Capacitive sensing with high-frequency noise reduction |
US9569037B2 (en) * | 2008-05-19 | 2017-02-14 | Atmel Corporation | Capacitive sensing with low-frequency noise reduction |
TW201003498A (en) * | 2008-07-04 | 2010-01-16 | Wintek Corp | Resistive touch panel with multi-touch recognition ability |
KR101329638B1 (ko) * | 2008-07-31 | 2013-11-14 | 군제 가부시키가이샤 | 평면체 및 터치 스위치 |
JP5253288B2 (ja) * | 2009-05-08 | 2013-07-31 | グンゼ株式会社 | 面状体及びタッチスイッチ |
US8726497B2 (en) | 2008-08-01 | 2014-05-20 | 3M Innovative Properties Company | Methods of making composite electrodes |
US8159467B2 (en) * | 2008-08-21 | 2012-04-17 | Wacom Co. Ltd. | Meshed touchscreen pattern |
WO2010038034A1 (en) * | 2008-10-04 | 2010-04-08 | Peter Timothy Sleeman | Cap acitive matrix touch sensor |
US8638314B2 (en) * | 2008-10-17 | 2014-01-28 | Atmel Corporation | Capacitive touch buttons combined with electroluminescent lighting |
US20100097329A1 (en) * | 2008-10-21 | 2010-04-22 | Martin Simmons | Touch Position Finding Method and Apparatus |
US8659557B2 (en) * | 2008-10-21 | 2014-02-25 | Atmel Corporation | Touch finding method and apparatus |
US8056044B2 (en) | 2008-10-21 | 2011-11-08 | Atmel Corporation | Signal processing |
US8866790B2 (en) * | 2008-10-21 | 2014-10-21 | Atmel Corporation | Multi-touch tracking |
US8605037B2 (en) * | 2008-10-21 | 2013-12-10 | Atmel Corporation | Noise reduction in capacitive touch sensors |
US8054090B2 (en) | 2008-10-22 | 2011-11-08 | Atmel Corporation | Noise handling in capacitive touch sensors |
US8610009B2 (en) | 2008-10-22 | 2013-12-17 | Atmel Corporation | Capacitive touch sensors |
WO2010048433A1 (en) * | 2008-10-22 | 2010-04-29 | Atmel Corporation | Sensor and method of sensing |
US9244568B2 (en) * | 2008-11-15 | 2016-01-26 | Atmel Corporation | Touch screen sensor |
WO2010075308A2 (en) | 2008-12-26 | 2010-07-01 | Atmel Corporation | Multiple electrode touch sensitive device |
JP2010165032A (ja) * | 2009-01-13 | 2010-07-29 | Hitachi Displays Ltd | タッチパネルディスプレイ装置 |
WO2010099132A2 (en) | 2009-02-26 | 2010-09-02 | 3M Innovative Properties Company | Touch screen sensor and patterned substrate having overlaid micropatterns with low visibility |
US8237456B2 (en) | 2009-03-02 | 2012-08-07 | Atmel Corporation | Capacitive sensing |
US9317140B2 (en) * | 2009-03-30 | 2016-04-19 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Method of making a multi-touch input device for detecting touch on a curved surface |
US8982051B2 (en) * | 2009-03-30 | 2015-03-17 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Detecting touch on a surface |
US9495042B2 (en) * | 2009-04-14 | 2016-11-15 | Atmel Corporation | Two-dimensional position sensor |
JP5366051B2 (ja) | 2009-04-20 | 2013-12-11 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 情報入力装置、表示装置 |
US8154529B2 (en) | 2009-05-14 | 2012-04-10 | Atmel Corporation | Two-dimensional touch sensors |
CN102803562B (zh) | 2009-06-25 | 2015-09-30 | 3M创新有限公司 | 湿式蚀刻自组装单层图案化基材和金属图案化制品的方法 |
US8253706B2 (en) | 2009-06-26 | 2012-08-28 | Atmel Corporation | Apparatus using a differential analog-to-digital converter |
JP5345007B2 (ja) * | 2009-06-29 | 2013-11-20 | 株式会社ワコム | 位置検出装置、位置検出回路及び位置検出方法 |
JP5747027B2 (ja) | 2009-06-30 | 2015-07-08 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 図形を有する電子ディスプレイ及び金属微小パターン化基材 |
US8451237B2 (en) * | 2009-07-06 | 2013-05-28 | Atmel Corporation | Sensitivity control as a function of touch shape |
JP5361579B2 (ja) * | 2009-07-09 | 2013-12-04 | 信越ポリマー株式会社 | 大型ディスプレイ用のセンサパネル及びその製造方法 |
US20110007011A1 (en) * | 2009-07-13 | 2011-01-13 | Ocular Lcd Inc. | Capacitive touch screen with a mesh electrode |
US8490013B2 (en) | 2009-07-30 | 2013-07-16 | Atmel Corporation | Method and apparatus for single touch zoom using spiral rotation |
US8621942B2 (en) * | 2009-08-03 | 2014-01-07 | Atmel Corporation | Force sensor with compressible electrode |
US9836167B2 (en) * | 2009-08-03 | 2017-12-05 | Atmel Corporation | Electrode layout for touch screens |
US8279189B2 (en) | 2009-08-11 | 2012-10-02 | Atmel Corporation | Touch-sensitive user interface |
US8576182B2 (en) * | 2009-09-01 | 2013-11-05 | Atmel Corporation | Methods and apparatuses to test the functionality of capacitive sensors |
US8552315B2 (en) * | 2009-09-03 | 2013-10-08 | Atmel Corporation | Two-dimensional position sensor |
US8730199B2 (en) | 2009-09-04 | 2014-05-20 | Atmel Corporation | Capacitive control panel |
CN102033669B (zh) * | 2009-09-24 | 2013-08-14 | 群康科技(深圳)有限公司 | 电容式触控面板 |
US8552994B2 (en) * | 2009-09-25 | 2013-10-08 | Atmel Corporation | Method and apparatus to measure self-capacitance using a single pin |
US8797290B2 (en) * | 2009-10-22 | 2014-08-05 | Atmel Corporation | Sense electrode spine interpolation |
US9041682B2 (en) * | 2009-10-23 | 2015-05-26 | Atmel Corporation | Driving electrodes with different phase signals |
US9632628B2 (en) * | 2009-10-23 | 2017-04-25 | Atmel Corporation | Interdigitated touchscreen electrodes |
US9916045B2 (en) | 2009-10-26 | 2018-03-13 | Amtel Corporation | Sense electrode design |
US8564552B2 (en) | 2009-10-26 | 2013-10-22 | Atmel Corporation | Touchscreen electrode arrangement with varied proportionate density |
US9372579B2 (en) * | 2009-10-27 | 2016-06-21 | Atmel Corporation | Touchscreen electrode arrangement |
US8599150B2 (en) | 2009-10-29 | 2013-12-03 | Atmel Corporation | Touchscreen electrode configuration |
US20110102331A1 (en) * | 2009-10-29 | 2011-05-05 | Qrg Limited | Redundant touchscreen electrodes |
TWI407340B (zh) * | 2009-12-22 | 2013-09-01 | Au Optronics Corp | 觸控顯示面板 |
JP5613448B2 (ja) * | 2010-04-30 | 2014-10-22 | 富士フイルム株式会社 | タッチパネル及び導電シート |
JP5476237B2 (ja) * | 2010-07-05 | 2014-04-23 | 富士フイルム株式会社 | タッチパネル及び導電シート |
WO2011093420A1 (ja) | 2010-01-28 | 2011-08-04 | 富士フイルム株式会社 | 導電シート、導電シートの使用方法及びタッチパネル |
KR101040851B1 (ko) | 2010-03-23 | 2011-06-14 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 터치 스크린 패널 |
US9489072B2 (en) | 2010-04-15 | 2016-11-08 | Atmel Corporation | Noise reduction in capacitive touch sensors |
US8941395B2 (en) | 2010-04-27 | 2015-01-27 | 3M Innovative Properties Company | Integrated passive circuit elements for sensing devices |
US8860686B2 (en) | 2010-04-30 | 2014-10-14 | Atmel Corporation | Multi-chip touch screens |
US8766929B2 (en) | 2010-05-14 | 2014-07-01 | Atmel Corporation | Panel for position sensors |
KR101093651B1 (ko) * | 2010-05-25 | 2011-12-15 | 전자부품연구원 | 금속박막을 이용한 터치패널 및 그 제조방법 |
US8797280B2 (en) | 2010-05-26 | 2014-08-05 | Atmel Corporation | Systems and methods for improved touch screen response |
WO2011156447A1 (en) | 2010-06-11 | 2011-12-15 | 3M Innovative Properties Company | Positional touch sensor with force measurement |
US8797281B2 (en) | 2010-06-16 | 2014-08-05 | Atmel Corporation | Touch-screen panel with multiple sense units and related methods |
US10306758B2 (en) | 2010-07-16 | 2019-05-28 | Atmel Corporation | Enhanced conductors |
US9081427B2 (en) | 2010-07-16 | 2015-07-14 | Atmel Corporation | Position-sensing panel and method |
US8723834B2 (en) | 2010-07-28 | 2014-05-13 | Atmel Corporation | Touch sensitive screen configurations |
WO2012024217A1 (en) | 2010-08-18 | 2012-02-23 | 3M Innovative Properties Company | Optical assemblies including stress-relieving optical adhesives and methods of making same |
US10831317B2 (en) | 2010-08-20 | 2020-11-10 | Neodrón Limited | Electronic ink touch sensitive display |
US8823656B2 (en) | 2010-08-30 | 2014-09-02 | Atmel Corporation | Touch tracking across multiple touch screens |
US8723818B2 (en) | 2010-09-10 | 2014-05-13 | Atmel Corporation | Touch screen poly layer electrode distribution |
US9252768B2 (en) | 2010-09-13 | 2016-02-02 | Atmel Corporation | Position-sensing panel |
TWI427521B (zh) | 2010-09-15 | 2014-02-21 | Au Optronics Corp | 電容式觸控感測器及電容式觸控裝置 |
US9626045B1 (en) | 2010-09-27 | 2017-04-18 | Atmel Corporation | Position-sensing panel and related methods |
US9019207B1 (en) | 2010-09-28 | 2015-04-28 | Google Inc. | Spacebar integrated with trackpad |
US8754854B1 (en) | 2010-09-28 | 2014-06-17 | Google Inc. | Keyboard integrated with trackpad |
US8400209B2 (en) | 2010-10-22 | 2013-03-19 | Atmel Corporation | Proximity detection |
US8564314B2 (en) | 2010-11-02 | 2013-10-22 | Atmel Corporation | Capacitive touch sensor for identifying a fingerprint |
US8786572B2 (en) | 2010-11-04 | 2014-07-22 | Atmel Corporation | Touch position-sensing panel and method |
US8486284B2 (en) * | 2010-11-17 | 2013-07-16 | Kai-Ti Yang | Method for forming a touch sensing pattern and signal wires |
TWI567802B (zh) * | 2010-11-19 | 2017-01-21 | 富士軟片股份有限公司 | 觸控面板、觸控面板的製造方法以及導電膜 |
FR2968103B1 (fr) * | 2010-11-26 | 2013-04-26 | Stantum | Capteur tactile transparent et procédé de fabrication associe |
US9223445B2 (en) | 2010-12-02 | 2015-12-29 | Atmel Corporation | Position-sensing and force detection panel |
US9077344B2 (en) | 2010-12-07 | 2015-07-07 | Atmel Corporation | Substrate for electrical component and method |
KR20140030120A (ko) | 2010-12-16 | 2014-03-11 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 투명한 미세 패턴화된 rfid 안테나 및 이를 포함하는 물품 |
CN107844224B (zh) * | 2011-01-18 | 2021-10-22 | 富士胶片株式会社 | 显示装置及显示装置的制造方法 |
JP5946847B2 (ja) | 2011-01-19 | 2016-07-06 | エルジー イノテック カンパニー リミテッド | タッチパネル及びその製造方法 |
KR20140009318A (ko) | 2011-02-02 | 2014-01-22 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 암화 다층 반도체 트레이스가 구비된 패턴닝된 기판 |
US8933906B2 (en) * | 2011-02-02 | 2015-01-13 | 3M Innovative Properties Company | Patterned substrates with non-linear conductor traces |
JP5615856B2 (ja) * | 2011-02-18 | 2014-10-29 | 富士フイルム株式会社 | 導電シート及びタッチパネル |
KR20140012670A (ko) | 2011-02-18 | 2014-02-03 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 광학적으로 투명한 접착제, 사용 방법 및 이로부터의 물품 |
US8947404B2 (en) | 2011-03-09 | 2015-02-03 | Atmel Corporation | Stylus |
US9007332B2 (en) | 2011-03-22 | 2015-04-14 | Atmel Corporation | Position sensing panel |
US20120242606A1 (en) * | 2011-03-23 | 2012-09-27 | Synaptics Incorporated | Trace design for reduced visibility in touch screen devices |
US8797285B2 (en) | 2011-04-18 | 2014-08-05 | Atmel Corporation | Panel |
US9218561B2 (en) | 2011-05-25 | 2015-12-22 | Atmel Corporation | Touch sensor with RFID |
KR101875020B1 (ko) * | 2011-05-31 | 2018-07-06 | 엘지디스플레이 주식회사 | 정전용량 방식 터치 스크린 패널 |
KR101978666B1 (ko) | 2011-06-10 | 2019-05-15 | 미래나노텍(주) | 터치 스크린 센서 기판, 터치 스크린 센서 및 이를 포함하는 패널 |
KR101742108B1 (ko) | 2011-07-11 | 2017-06-15 | 후지필름 가부시키가이샤 | 도전 시트, 터치 패널, 표시 장치, 및 이 도전 시트의 제조 방법 |
JP5681674B2 (ja) * | 2011-07-11 | 2015-03-11 | 富士フイルム株式会社 | 導電シート、タッチパネル及び表示装置 |
JP5806559B2 (ja) * | 2011-09-06 | 2015-11-10 | 富士フイルム株式会社 | 導電シート、タッチパネル及び表示装置 |
US8624607B2 (en) | 2011-07-29 | 2014-01-07 | Atmel Corporation | Measuring voltage |
US9501179B2 (en) * | 2011-08-04 | 2016-11-22 | Atmel Corporation | Touch sensor for curved or flexible surfaces |
US10044353B2 (en) | 2011-08-10 | 2018-08-07 | Atmel Corporation | Substantially edgeless touch sensor |
US9287865B2 (en) | 2011-08-10 | 2016-03-15 | Atmel Corporation | Capacitive touch sensor control unit with sampling capacitors for differential integration |
US8421666B2 (en) | 2011-08-11 | 2013-04-16 | Atmel Corporation | Analog to digital converter with adjustable conversion window |
US8416117B2 (en) | 2011-08-11 | 2013-04-09 | Atmel Corporation | Analog to digital converter with dual integrating capacitor systems |
US10222912B2 (en) | 2011-09-06 | 2019-03-05 | Atmel Corporation | Touch sensor with touch object discrimination |
US8847898B2 (en) * | 2011-09-07 | 2014-09-30 | Atmel Corporation | Signal-to-noise ratio in touch sensors |
US8847612B2 (en) | 2011-09-08 | 2014-09-30 | Atmel Corporation | Integrated test system for a touch sensor |
US8804347B2 (en) | 2011-09-09 | 2014-08-12 | Apple Inc. | Reducing the border area of a device |
US9310941B2 (en) | 2011-10-04 | 2016-04-12 | Atmel Corporation | Touch sensor input tool with offset between touch icon and input icon |
JP5809117B2 (ja) | 2011-10-05 | 2015-11-10 | 富士フイルム株式会社 | 導電シート、タッチパネル、表示装置 |
KR20130037943A (ko) * | 2011-10-07 | 2013-04-17 | 삼성전기주식회사 | 터치패널 및 그 제조방법 |
CN104024995B (zh) * | 2011-10-25 | 2017-05-17 | 尤尼皮克塞尔显示器有限公司 | 改变高分辨率导电图案的光学性质的方法 |
US9164598B2 (en) | 2011-10-28 | 2015-10-20 | Atmel Corporation | Active stylus with surface-modification materials |
US9389701B2 (en) | 2011-10-28 | 2016-07-12 | Atmel Corporation | Data transfer from active stylus |
US9164603B2 (en) | 2011-10-28 | 2015-10-20 | Atmel Corporation | Executing gestures with active stylus |
US9182856B2 (en) | 2011-10-28 | 2015-11-10 | Atmel Corporation | Capacitive force sensor |
US9250719B2 (en) | 2011-10-28 | 2016-02-02 | Atmel Corporation | Active stylus with filter |
US8866767B2 (en) | 2011-10-28 | 2014-10-21 | Atmel Corporation | Active stylus with high voltage |
US10082889B2 (en) | 2011-10-28 | 2018-09-25 | Atmel Corporation | Multi-electrode active stylus tip |
US9965107B2 (en) | 2011-10-28 | 2018-05-08 | Atmel Corporation | Authenticating with active stylus |
US9557833B2 (en) | 2011-10-28 | 2017-01-31 | Atmel Corporation | Dynamic adjustment of received signal threshold in an active stylus |
US9256311B2 (en) * | 2011-10-28 | 2016-02-09 | Atmel Corporation | Flexible touch sensor |
US9606641B2 (en) | 2015-03-09 | 2017-03-28 | Atmel Corporation | Adaptive transmit voltage in active stylus |
US9086745B2 (en) | 2011-10-28 | 2015-07-21 | Atmel Corporation | Dynamic reconfiguration of electrodes in an active stylus |
US10725563B2 (en) | 2011-10-28 | 2020-07-28 | Wacom Co., Ltd. | Data transfer from active stylus to configure a device or application |
US8947379B2 (en) | 2011-10-28 | 2015-02-03 | Atmel Corporation | Inductive charging for active stylus |
US8581886B2 (en) | 2011-10-28 | 2013-11-12 | Atmel Corporation | Tuning algorithm for noise reduction in an active stylus |
US9354728B2 (en) | 2011-10-28 | 2016-05-31 | Atmel Corporation | Active stylus with capacitive buttons and sliders |
US8797287B2 (en) | 2011-10-28 | 2014-08-05 | Atmel Corporation | Selective scan of touch-sensitive area for passive or active touch or proximity input |
US9874920B2 (en) | 2011-10-28 | 2018-01-23 | Atmel Corporation | Power management system for active stylus |
US9946408B2 (en) | 2011-10-28 | 2018-04-17 | Atmel Corporation | Communication between a master active stylus and a slave touch-sensor device |
US9116558B2 (en) | 2011-10-28 | 2015-08-25 | Atmel Corporation | Executing gestures with active stylus |
US9160331B2 (en) | 2011-10-28 | 2015-10-13 | Atmel Corporation | Capacitive and inductive sensing |
US9280218B2 (en) | 2011-10-28 | 2016-03-08 | Atmel Corporation | Modulating drive signal for communication between active stylus and touch-sensor device |
US10162400B2 (en) | 2011-10-28 | 2018-12-25 | Wacom Co., Ltd. | Power management system for active stylus |
US10725564B2 (en) | 2011-10-28 | 2020-07-28 | Wacom Co., Ltd. | Differential sensing in an active stylus |
US9389707B2 (en) | 2011-10-28 | 2016-07-12 | Atmel Corporation | Active stylus with configurable touch sensor |
US9690431B2 (en) | 2011-10-28 | 2017-06-27 | Atmel Corporation | Locking active stylus and touch-sensor device |
US11347330B2 (en) | 2011-10-28 | 2022-05-31 | Wacom Co., Ltd. | Adaptive transmit voltage in active stylus |
US8933899B2 (en) | 2011-10-28 | 2015-01-13 | Atmel Corporation | Pulse- or frame-based communication using active stylus |
US9189121B2 (en) | 2011-10-28 | 2015-11-17 | Atmel Corporation | Active stylus with filter having a threshold |
US10423248B2 (en) | 2011-10-28 | 2019-09-24 | Wacom Co., Ltd. | Touch-sensitive system with motion filtering |
US8872792B2 (en) | 2011-10-28 | 2014-10-28 | Atmel Corporation | Active stylus with energy harvesting |
US9459709B2 (en) | 2011-10-28 | 2016-10-04 | Atmel Corporation | Scaling voltage for data communication between active stylus and touch-sensor device |
US8963561B2 (en) | 2011-11-03 | 2015-02-24 | Atmel Corporation | Randomizing one or more micro-features of a touch sensor |
KR20130051803A (ko) * | 2011-11-10 | 2013-05-21 | 삼성전기주식회사 | 터치패널 |
US9337833B2 (en) | 2011-11-14 | 2016-05-10 | Atmel Corporation | Driven shield for shaping an electric field of a touch sensor |
US8711292B2 (en) | 2011-11-22 | 2014-04-29 | Atmel Corporation | Integrated touch screen |
US9262019B2 (en) * | 2011-11-22 | 2016-02-16 | Atmel Corporation | Touch sensor with conductive lines having different widths |
US9965106B2 (en) | 2011-11-22 | 2018-05-08 | Atmel Corporation | Touch screen with electrodes positioned between pixels |
US9825104B2 (en) | 2011-11-22 | 2017-11-21 | Atmel Corporation | Low-birefringence substrate for touch sensor |
US8947105B2 (en) | 2011-12-01 | 2015-02-03 | Atmel Corporation | Capacitive coupling of bond pads |
US9024645B2 (en) | 2011-12-06 | 2015-05-05 | Atmel Corporation | Substantially edgeless touch sensor |
WO2013086139A1 (en) * | 2011-12-07 | 2013-06-13 | Duke University | Synthesis of cupronickel nanowires and their application in transparent conducting films |
US9507447B2 (en) | 2011-12-08 | 2016-11-29 | Atmel Corporation | Touch sensor with inductive charging |
US9411472B2 (en) | 2011-12-08 | 2016-08-09 | Atmel Corporation | Touch sensor with adaptive touch detection thresholding |
US9207814B2 (en) | 2011-12-14 | 2015-12-08 | Atmel Corporation | Single-layer touch sensor |
US8860690B2 (en) | 2011-12-15 | 2014-10-14 | Atmel Corporation | Touch sensor with capacitive nodes having a capacitance that is approximately the same |
CN103907082B (zh) | 2011-12-16 | 2016-09-21 | 富士胶片株式会社 | 导电片以及触摸面板 |
US20130155001A1 (en) * | 2011-12-19 | 2013-06-20 | Esat Yilmaz | Low-Resistance Electrodes |
US9634660B2 (en) | 2011-12-20 | 2017-04-25 | Atmel Corporation | Touch sensor with reduced anti-touch effects |
US9372580B2 (en) | 2011-12-21 | 2016-06-21 | Atmel Corporation | Enhanced touch detection methods |
JP2013149232A (ja) | 2011-12-22 | 2013-08-01 | Fujifilm Corp | 導電シート及びタッチパネル |
JP5875484B2 (ja) | 2011-12-22 | 2016-03-02 | 富士フイルム株式会社 | 導電シート及びタッチパネル |
US10299377B2 (en) | 2011-12-22 | 2019-05-21 | Fujifilm Corporation | Conductive sheet and touch panel |
TWI479386B (zh) * | 2011-12-23 | 2015-04-01 | Lg Chemical Ltd | 導電基板及包含其之電子裝置 |
US9312855B2 (en) | 2012-01-10 | 2016-04-12 | Atmel Corporation | Touch sensor tracks |
US9071249B2 (en) | 2012-01-11 | 2015-06-30 | Atmel Corporation | Corrosion resistant touch sensor |
US20130181910A1 (en) * | 2012-01-17 | 2013-07-18 | Esat Yilmaz | Dual-Substrate-Sensor Stack |
US9244570B2 (en) | 2012-01-17 | 2016-01-26 | Atmel Corporation | System and method for reducing the effects of parasitic capacitances |
US20130181911A1 (en) * | 2012-01-17 | 2013-07-18 | Esat Yilmaz | On-Display-Sensor Stack |
US8890824B2 (en) | 2012-02-07 | 2014-11-18 | Atmel Corporation | Connecting conductive layers using in-mould lamination and decoration |
US9160332B2 (en) | 2012-02-07 | 2015-10-13 | Atmel Corporation | Method and system for mechanical coupling of flexible printed circuit to a sensor |
CN104106024B (zh) * | 2012-02-10 | 2017-06-09 | 3M创新有限公司 | 用于触摸传感器电极的网格图案 |
TWI451374B (zh) * | 2012-02-17 | 2014-09-01 | Innocom Tech Shenzhen Co Ltd | 顯示器螢幕裝置與其製作方法、觸控顯示裝置 |
US9471185B2 (en) | 2012-02-21 | 2016-10-18 | Atmel Corporation | Flexible touch sensor input device |
US8943682B2 (en) | 2012-02-28 | 2015-02-03 | Eastman Kodak Company | Making micro-wires with different heights |
US8773393B2 (en) * | 2012-02-28 | 2014-07-08 | Eastman Kodak Company | Touch screen with dummy micro-wires |
US8819927B2 (en) | 2012-02-28 | 2014-09-02 | Eastman Kodak Company | Method of making a transparent conductor structure |
US8836668B2 (en) | 2012-02-28 | 2014-09-16 | Eastman Kodak Company | Transparent touch-responsive capacitor with variable-height micro-wires |
US9282647B2 (en) | 2012-02-28 | 2016-03-08 | Eastman Kodak Company | Method of making micro-channel structure for micro-wires |
US8884918B2 (en) | 2012-02-28 | 2014-11-11 | Eastman Kodak Company | Electronic device having metallic micro-wires |
US8773392B2 (en) * | 2012-02-28 | 2014-07-08 | Eastman Kodak Company | Transparent touch-responsive capacitor with variable-pattern micro-wires |
US8865292B2 (en) | 2013-01-22 | 2014-10-21 | Eastman Kodak Company | Micro-channel structure for micro-wires |
CN104160368B (zh) * | 2012-03-06 | 2017-03-08 | 三菱电机株式会社 | 触摸屏、触摸面板、显示装置以及电子仪器 |
US9154127B2 (en) | 2012-03-06 | 2015-10-06 | Atmel Corporation | Touch sensor with conductive lines having portions with different widths |
CN202720612U (zh) * | 2012-03-07 | 2013-02-06 | 深圳市汇顶科技有限公司 | 单层式二维触摸传感器及触控终端 |
US9069423B2 (en) | 2012-03-07 | 2015-06-30 | Atmel Corporation | Buffer-reference self-capacitance measurement |
US8896327B2 (en) | 2012-04-12 | 2014-11-25 | Atmel Corporation | Current mirror self-capacitance measurement |
US9372582B2 (en) | 2012-04-19 | 2016-06-21 | Atmel Corporation | Self-capacitance measurement |
CN102722279A (zh) * | 2012-05-09 | 2012-10-10 | 崔铮 | 金属网格导电层及其具备该导电层的触摸面板 |
EP2662758A3 (en) * | 2012-05-09 | 2015-03-04 | LG Innotek Co., Ltd. | Electrode member and touch window including the same |
US9306560B2 (en) | 2012-05-14 | 2016-04-05 | Atmel Corporation | Self-capacitance detection using trans-conductance reference |
US8952927B2 (en) | 2012-05-18 | 2015-02-10 | Atmel Corporation | Self-capacitance measurement with compensated capacitance |
US9921691B2 (en) | 2012-05-18 | 2018-03-20 | Atmel Corporation | Burst-mode self-capacitance measurement with compensated capacitance |
US9013444B2 (en) | 2012-05-18 | 2015-04-21 | Atmel Corporation | Self-capacitance measurement with isolated capacitance |
US9459737B2 (en) | 2012-05-23 | 2016-10-04 | Atmel Corporation | Proximity detection using multiple inputs |
US20130320994A1 (en) | 2012-05-30 | 2013-12-05 | 3M Innovative Properties Company | Electrode testing apparatus |
US9046942B2 (en) | 2012-06-01 | 2015-06-02 | Atmel Corporation | Combined accumulator and maximum/minimum comparator |
TWI467456B (zh) * | 2012-06-07 | 2015-01-01 | Mstar Semiconductor Inc | 觸控面板 |
KR101343241B1 (ko) * | 2012-06-25 | 2013-12-18 | 삼성전기주식회사 | 터치패널 |
US8917261B2 (en) | 2012-06-26 | 2014-12-23 | Atmel Corporation | Pixel occlusion mitigation |
US8941014B2 (en) | 2012-06-28 | 2015-01-27 | Atmel Corporation | Complex adhesive boundaries for touch sensors |
US8803004B2 (en) | 2012-06-28 | 2014-08-12 | Atmel Corporation | Complex adhesive boundaries for touch sensors |
US9262023B2 (en) | 2012-07-09 | 2016-02-16 | Atmel Corporation | Drive signals for a touch sensor |
JP5224203B1 (ja) | 2012-07-11 | 2013-07-03 | 大日本印刷株式会社 | タッチパネルセンサ、タッチパネル装置および表示装置 |
US8736551B2 (en) | 2012-07-12 | 2014-05-27 | Atmel Corporation | Touch-sensor-controller sensor hub |
CN104781286B (zh) | 2012-07-13 | 2017-03-08 | 3M创新有限公司 | 包含烷氧基化多(甲基)丙烯酸酯单体的硬质涂层 |
US9116584B2 (en) | 2012-07-24 | 2015-08-25 | Atmel Corporation | Dielectric layer for touch sensor stack |
US9098152B2 (en) | 2012-07-24 | 2015-08-04 | Atmel Corporation | Dielectric layer for touch sensor stack |
US9069414B2 (en) | 2012-08-02 | 2015-06-30 | Nano-Optic Devices, Llc | Touchscreen sensor for touchscreen display unit |
TWI464644B (zh) * | 2012-08-03 | 2014-12-11 | Touchplus Information Corp | 觸控面板 |
JP5887024B2 (ja) * | 2012-08-08 | 2016-03-16 | キネストラル・テクノロジーズ・インコーポレイテッドKinestral Technologies,Inc. | 複合電気導電層を有したエレクトロクロミック多層デバイス |
US9091868B2 (en) | 2012-08-08 | 2015-07-28 | Kinestral Technologies, Inc. | Electrochromic multi-layer devices with composite current modulating structure |
US9507233B2 (en) | 2012-08-08 | 2016-11-29 | Kinestral Technologies, Inc. | Electrochromic multi-layer devices with current modulating structure |
US9354737B2 (en) | 2012-08-09 | 2016-05-31 | Atmel Corporation | Active stylus self-capacitance measurement |
TWI489335B (zh) * | 2012-08-09 | 2015-06-21 | Wistron Corp | 導電基板及觸控面板 |
US9167688B2 (en) | 2012-08-10 | 2015-10-20 | Eastman Kodak Company | Micro-wire pattern for electrode connection |
US9131606B2 (en) | 2012-08-10 | 2015-09-08 | Eastman Kodak Company | Micro-channel pattern for effective ink distribution |
US9005744B2 (en) | 2012-08-10 | 2015-04-14 | Eastman Kodak Company | Conductive micro-wire structure |
US9563304B2 (en) | 2012-08-15 | 2017-02-07 | Atmel Corporation | Active stylus with passive mutual measurements |
US8502796B1 (en) | 2012-08-27 | 2013-08-06 | Atmel Corporation | Interpolated single-layer touch sensor |
US9035663B2 (en) | 2012-09-11 | 2015-05-19 | Atmel Corporation | Capacitive position encoder |
US8928624B2 (en) | 2012-09-13 | 2015-01-06 | Atmel Corporation | Differential sensing for capacitive touch sensors |
US9916047B2 (en) | 2012-09-14 | 2018-03-13 | Atmel Corporation | Pattern of electrodes for a touch sensor |
US9310924B2 (en) | 2012-09-26 | 2016-04-12 | Atmel Corporation | Increasing the dynamic range of an integrator based mutual-capacitance measurement circuit |
US9250754B2 (en) * | 2012-09-27 | 2016-02-02 | Google Inc. | Pressure-sensitive trackpad |
US9921626B2 (en) | 2012-09-28 | 2018-03-20 | Atmel Corporation | Stylus communication with near-field coupling |
US9395836B2 (en) | 2012-10-01 | 2016-07-19 | Atmel Corporation | System and method for reducing borders of a touch sensor |
US9256301B2 (en) | 2012-10-10 | 2016-02-09 | Atmel Corporation | Active stylus with noise immunity |
US9098155B2 (en) | 2012-10-12 | 2015-08-04 | Atmel Corporation | Self-capacitance measurement using compensation capacitor |
US9841862B2 (en) | 2012-10-16 | 2017-12-12 | Atmel Corporation | Stylus position system |
US10031590B2 (en) | 2012-10-16 | 2018-07-24 | Atmel Corporation | Active stylus with a parallel communication channel |
US9958966B2 (en) | 2012-10-16 | 2018-05-01 | Atmel Corporation | Active stylus communication and position system |
US9213455B2 (en) | 2012-10-17 | 2015-12-15 | Atmel Corporation | Stylus with resonant circuit |
US10013096B2 (en) | 2012-10-18 | 2018-07-03 | Atmel Corporation | Touch sensor with simultaneously driven drive electrodes |
US20140112499A1 (en) * | 2012-10-23 | 2014-04-24 | Yellow Matter Entertainment, LLC | Audio production console and related process |
KR102009880B1 (ko) * | 2012-10-23 | 2019-08-12 | 엘지디스플레이 주식회사 | 메탈 메쉬형 터치 스크린 패널 |
CN102903423B (zh) * | 2012-10-25 | 2015-05-13 | 南昌欧菲光科技有限公司 | 透明导电膜中的导电结构、透明导电膜及制作方法 |
US8988376B2 (en) | 2012-10-31 | 2015-03-24 | Atmel Corporation | Charge compensation for capacitive touch sensor nodes |
US9647658B2 (en) | 2012-11-07 | 2017-05-09 | Atmel Corporation | Resistive interpolation for a touch sensor with opaque conductive material |
US9164607B2 (en) * | 2012-11-30 | 2015-10-20 | 3M Innovative Properties Company | Complementary touch panel electrodes |
US9229553B2 (en) * | 2012-11-30 | 2016-01-05 | 3M Innovative Properties Company | Mesh patterns for touch sensor electrodes |
WO2014088798A1 (en) | 2012-12-07 | 2014-06-12 | 3M Innovative Properties Company | Electrically conductive articles |
US9939965B2 (en) | 2012-12-11 | 2018-04-10 | Atmel Corporation | Sending drive signals with an increased number of pulses to particular drive lines |
US9116586B2 (en) * | 2012-12-13 | 2015-08-25 | Atmel Corporation | Uniform-density coplanar touch sensor |
US9244559B2 (en) | 2012-12-14 | 2016-01-26 | Atmel Corporation | Integrated pixel display and touch sensor |
JP6001089B2 (ja) * | 2012-12-18 | 2016-10-05 | 富士フイルム株式会社 | 表示装置及び導電性フイルムのパターンの決定方法 |
TWM459451U (zh) * | 2012-12-18 | 2013-08-11 | Inv Element Inc | 窄邊框之觸控面板結構 |
US9442535B2 (en) | 2012-12-21 | 2016-09-13 | Atmel Corporation | Touch sensor with integrated antenna |
US10040018B2 (en) | 2013-01-09 | 2018-08-07 | Imagine Tf, Llc | Fluid filters and methods of use |
WO2014110715A1 (en) * | 2013-01-15 | 2014-07-24 | Nokia Corporation | Input device |
CN103093245B (zh) * | 2013-01-21 | 2016-01-20 | 信帧电子技术(北京)有限公司 | 视频图像中识别信号灯的方法 |
US9099227B2 (en) | 2013-01-22 | 2015-08-04 | Eastman Kodak Company | Method of forming conductive films with micro-wires |
US20150060113A1 (en) | 2013-01-22 | 2015-03-05 | Yongcai Wang | Photocurable composition, article, and method of use |
KR20150109338A (ko) * | 2013-01-25 | 2015-10-01 | 도판 인사츠 가부시키가이샤 | 터치 패널 및 표시 장치 |
US9274152B2 (en) | 2013-01-30 | 2016-03-01 | Atmel Corporation | Current-based charge compensation in a touch sensor |
KR20140100089A (ko) * | 2013-02-05 | 2014-08-14 | 삼성디스플레이 주식회사 | 터치 스크린 패널 및 그 제조 방법 |
US20140218637A1 (en) * | 2013-02-06 | 2014-08-07 | Nanchang O-Film Tech. Co., Ltd. | Conductive film, manufacturing method thereof, and touch screen including the conducting film |
US9052766B2 (en) | 2013-02-14 | 2015-06-09 | Synaptics Incorporated | Mesh sensor design for reduced visibility in touch screen devices |
US8717325B1 (en) | 2013-02-18 | 2014-05-06 | Atmel Corporation | Detecting presence of an object in the vicinity of a touch interface of a device |
US9061463B2 (en) | 2013-02-28 | 2015-06-23 | Eastman Kodak Company | Embossed micro-structure with cured transfer material method |
US9345144B2 (en) | 2013-02-28 | 2016-05-17 | Eastman Kodak Company | Making multi-layer micro-wire structure |
US8828503B1 (en) | 2013-02-28 | 2014-09-09 | Eastman Kodak Company | Making multi-layer micro-wire structure |
US9426885B2 (en) | 2013-02-28 | 2016-08-23 | Eastman Kodak Company | Multi-layer micro-wire structure |
US9304636B2 (en) | 2013-09-20 | 2016-04-05 | Eastman Kodak Company | Micro-wire touch screen with unpatterned conductive layer |
US9296013B2 (en) | 2013-02-28 | 2016-03-29 | Eastman Kodak Company | Making multi-layer micro-wire structure |
US9056450B2 (en) | 2013-03-04 | 2015-06-16 | Uni-Pixel Displays, Inc. | Method of mounting a flexographic printing plate with structured patterned backing tape |
US20140246226A1 (en) * | 2013-03-04 | 2014-09-04 | Uni-Pixel Displays, Inc. | Method of fabricating copper-nickel micro mesh conductors |
US9132622B2 (en) | 2013-03-04 | 2015-09-15 | Uni-Pixel Displays, Inc. | Method of printing uniform line widths with angle effect |
US9864463B2 (en) | 2013-03-05 | 2018-01-09 | Atmel Corporation | Touch panel deformation compensation |
US8895429B2 (en) | 2013-03-05 | 2014-11-25 | Eastman Kodak Company | Micro-channel structure with variable depths |
US9907168B2 (en) | 2013-03-05 | 2018-02-27 | Eastman Kodak Company | Ribbed large-format imprinting method |
US9085194B2 (en) | 2013-03-05 | 2015-07-21 | Eastman Kodak Company | Embossing stamp for optically diffuse micro-channel |
US9229260B2 (en) | 2013-04-15 | 2016-01-05 | Eastman Kodak Company | Imprinted bi-layer micro-structure |
US9167700B2 (en) * | 2013-03-05 | 2015-10-20 | Eastman Kodak Company | Micro-channel connection method |
US9101056B2 (en) | 2013-03-05 | 2015-08-04 | Eastman Kodak Company | Imprinted bi-layer micro-structure method with bi-level stamp |
US20150085456A1 (en) | 2013-03-05 | 2015-03-26 | Ronald Steven Cok | Imprinted multi-level micro-wire circuit structure |
US9645695B2 (en) * | 2013-03-07 | 2017-05-09 | Mitsubishi Electric Corporation | Display apparatus |
CN105027046B (zh) | 2013-03-08 | 2017-05-10 | 富士胶片株式会社 | 导电膜 |
US10241623B2 (en) | 2013-03-14 | 2019-03-26 | Neodrón Limited | Reduction of touch sensor pattern visibility using beamsplitters |
US9448659B2 (en) | 2013-03-14 | 2016-09-20 | Atmel Corporation | Simultaneous touch sensor scanning and display refreshing for minimizing display degradation for display-embedded touch sensors |
US9298222B2 (en) | 2013-03-15 | 2016-03-29 | Atmel Corporation | Touch sensor with plastic cover lens |
US9198285B2 (en) | 2013-03-20 | 2015-11-24 | Nanchang O-Film Tech. Co., Ltd. | Touch screen and conductive layer thereof |
US20150226547A1 (en) * | 2014-02-10 | 2015-08-13 | Uni-Pixel Displays, Inc. | Method of aligning transparent substrates using moiré interference |
US9791980B2 (en) | 2013-03-27 | 2017-10-17 | Atmel Corporation | Touch sensor with edge-balanced macro-feature design |
US9021952B2 (en) | 2013-03-27 | 2015-05-05 | Uni-Pixel Displays, Inc. | Laser-assisted alignment of multi-station flexographic printing system |
US9132623B2 (en) | 2013-03-27 | 2015-09-15 | Unipixel Displays, Inc. | Method of marking a transparent substrate for visual alignment |
CN103165226B (zh) * | 2013-03-28 | 2015-04-08 | 南昌欧菲光科技有限公司 | 透明导电膜及其制备方法 |
US9081454B2 (en) | 2013-03-28 | 2015-07-14 | Atmel Corporation | Touch sensor with capacitive voltage divider |
CN103176660B (zh) * | 2013-03-28 | 2015-09-30 | 南昌欧菲光科技有限公司 | 位置传感器 |
US9201551B2 (en) * | 2013-03-28 | 2015-12-01 | Nanchang O-Film Tech. Co., Ltd. | Capacitive touch screen |
US9066426B2 (en) * | 2013-03-28 | 2015-06-23 | Nanchang O-Film Tech. Co., Ltd. | Transparent conductive film |
US9392700B2 (en) | 2013-03-28 | 2016-07-12 | Nanchang O-Film Tech. Co., Ltd. | Transparent conductive film and preparation method thereof |
CN103208326B (zh) * | 2013-03-30 | 2014-12-17 | 深圳欧菲光科技股份有限公司 | 导电膜及其制备方法以及包含该导电膜的触摸屏 |
CN103207702B (zh) * | 2013-03-30 | 2016-08-24 | 深圳欧菲光科技股份有限公司 | 触摸屏及其制造方法 |
US9089061B2 (en) | 2013-03-30 | 2015-07-21 | Shenzhen O-Film Tech Co., Ltd. | Conductive film, method for making the same, and touch screen including the same |
US9058084B2 (en) | 2013-04-15 | 2015-06-16 | Eastman Kodak Company | Hybrid single-side touch screen |
US9086770B2 (en) | 2013-04-15 | 2015-07-21 | Atmel Corporation | Touch sensor with high-density macro-feature design |
US10955973B2 (en) | 2013-04-16 | 2021-03-23 | Atmel Corporation | Differential sensing for touch sensors |
CN104123028B (zh) * | 2013-04-29 | 2017-08-15 | 祥达光学(厦门)有限公司 | 触控面板结构 |
US9231588B2 (en) | 2013-04-30 | 2016-01-05 | Atmel Corporation | Touchscreen routing flow for single layer pattern |
JP6180174B2 (ja) * | 2013-05-08 | 2017-08-16 | グンゼ株式会社 | タッチパネル、表示装置及び電子機器 |
US9110550B2 (en) | 2013-05-08 | 2015-08-18 | Atmel Corporation | Method for restructuring distorted capacitive touch data |
US20140338191A1 (en) * | 2013-05-15 | 2014-11-20 | Uni-Pixel Displays, Inc. | Method of manufacturing an integrated touch sensor with decorative color graphics |
US9557361B2 (en) | 2013-05-29 | 2017-01-31 | Atmel Corporation | Edgeless single-layer touch sensor |
US9568524B2 (en) | 2013-05-29 | 2017-02-14 | Atmel Corporation | Multi-state capacitive button |
CN103295670B (zh) * | 2013-05-30 | 2015-11-25 | 南昌欧菲光科技有限公司 | 透明导电膜 |
CN103294272B (zh) * | 2013-05-30 | 2016-04-13 | 南昌欧菲光科技有限公司 | 透明导电膜 |
CN103279240B (zh) * | 2013-05-30 | 2016-03-09 | 南昌欧菲光科技有限公司 | 触控面板 |
US8736571B1 (en) | 2013-06-04 | 2014-05-27 | Atmel Corporation | Mesh design for touch sensors |
US9448666B2 (en) | 2013-06-08 | 2016-09-20 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Dark film lamination for a touch sensor |
US20150289421A1 (en) * | 2013-06-20 | 2015-10-08 | Joel Ho | Apparatus for an emp shield for computing devices |
US9335873B2 (en) | 2013-06-20 | 2016-05-10 | Atmel Corporation | Method of compensating for retransmission effects in a touch sensor |
US9389727B2 (en) | 2013-06-26 | 2016-07-12 | Atmel Corporation | Method and system to determine when a device is being held |
US9542046B2 (en) | 2013-06-26 | 2017-01-10 | Atmel Corporation | Changing the detection range of a touch sensor |
US9223201B2 (en) | 2013-06-27 | 2015-12-29 | Uni-Pixel Displays, Inc. | Method of manufacturing a photomask with flexography |
US9081443B2 (en) | 2013-06-27 | 2015-07-14 | Atmel Corporation | Shieldless touch sensor noise cancellation |
US9274656B2 (en) | 2013-06-27 | 2016-03-01 | Atmel Corporation | Fast scanning for mutual capacitance screens |
US9535545B2 (en) | 2013-06-28 | 2017-01-03 | Atmel Corporation | Common mode noise suppression during hovering and proximity detection |
US9612677B2 (en) | 2013-06-28 | 2017-04-04 | Atmel Corporation | Pseudo driven shield |
US9880674B2 (en) | 2013-06-28 | 2018-01-30 | Atmel Corporation | Pattern of electrodes for a touch sensor |
US9213407B2 (en) | 2013-07-01 | 2015-12-15 | Atmel Corporation | Ring accessory |
US9167076B2 (en) | 2013-07-01 | 2015-10-20 | Atmel Corporation | Ring accessory |
US9207802B2 (en) | 2013-07-01 | 2015-12-08 | Atmel Korea Llc | Suppression of unintended touch objects |
KR102053258B1 (ko) | 2013-07-16 | 2019-12-06 | 엘지이노텍 주식회사 | 터치 윈도우 |
US9639214B2 (en) * | 2013-07-22 | 2017-05-02 | Synaptics Incorporated | Utilizing chip-on-glass technology to jumper routing traces |
US9442599B2 (en) * | 2013-07-25 | 2016-09-13 | Atmel Corporation | System and method for using signals resulting from signal transmission in a touch sensor |
US9310944B2 (en) * | 2013-07-25 | 2016-04-12 | Atmel Corporation | Oncell single-layer touch sensor |
US10001884B2 (en) | 2013-07-29 | 2018-06-19 | Atmel Corporation | Voltage driven self-capacitance measurement |
US9152285B2 (en) | 2013-07-30 | 2015-10-06 | Atmel Corporation | Position detection of an object within proximity of a touch sensor |
US9874980B2 (en) | 2013-07-31 | 2018-01-23 | Atmel Corporation | Dynamic configuration of touch sensor electrode clusters |
US9870104B2 (en) | 2013-07-31 | 2018-01-16 | Atmel Corporation | Dynamic clustering of touch sensor electrodes |
US9274644B2 (en) | 2013-08-26 | 2016-03-01 | Atmel Corporation | Synchronization of active stylus and touch sensor |
WO2015031246A1 (en) | 2013-08-28 | 2015-03-05 | 3M Innovative Properties Company | Curable isobutylene adhesive copolymers |
KR102132780B1 (ko) | 2013-08-28 | 2020-07-13 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 및 그 제조 방법 |
CN104423737A (zh) * | 2013-08-30 | 2015-03-18 | 天津富纳源创科技有限公司 | 电容式触控装置及控制方法 |
CN104423738A (zh) * | 2013-08-30 | 2015-03-18 | 天津富纳源创科技有限公司 | 电容式触控装置的控制方法 |
US9128554B2 (en) | 2013-08-30 | 2015-09-08 | Atmel Corporation | Chained differential sensing for touch sensors |
US9954526B2 (en) | 2013-09-09 | 2018-04-24 | Atmel Corporation | Generic randomized mesh design |
US9465489B2 (en) | 2013-09-10 | 2016-10-11 | Atmel Corporation | Randomized mesh design |
US9107316B2 (en) | 2013-09-11 | 2015-08-11 | Eastman Kodak Company | Multi-layer micro-wire substrate structure |
US20150268756A1 (en) * | 2013-09-11 | 2015-09-24 | Ronald Steven Cok | Multi-area micro-wire structure |
US9513759B2 (en) | 2013-09-11 | 2016-12-06 | Eastman Kodak Company | Multi-layer micro-wire structure |
US9465501B2 (en) | 2013-09-11 | 2016-10-11 | Eastman Kodak Company | Multi-layer micro-wire substrate method |
US9213423B2 (en) | 2013-09-13 | 2015-12-15 | Atmel Corporation | Method and system for determining stylus tilt in relation to a touch-sensing device |
US9304617B2 (en) | 2013-09-19 | 2016-04-05 | Atmel Corporation | Mesh design for touch sensors |
US9465490B2 (en) | 2013-09-19 | 2016-10-11 | Atmel Corporation | Curved surface sensor pattern |
US9782955B2 (en) | 2013-09-24 | 2017-10-10 | 3M Innovative Properties Company | Transferable transparent conductive patterns and display stack materials |
US9063426B2 (en) | 2013-09-25 | 2015-06-23 | Uni-Pixel Displays, Inc. | Method of manufacturing a flexographic printing plate with support structures |
US20160231861A1 (en) * | 2013-09-25 | 2016-08-11 | Sharp Kabushiki Kaisha | Conductive sheet, touch panel device, display device, and method for manufacturing conductive sheet |
US9619044B2 (en) | 2013-09-25 | 2017-04-11 | Google Inc. | Capacitive and resistive-pressure touch-sensitive touchpad |
CN105593796B (zh) | 2013-09-30 | 2019-01-04 | 3M创新有限公司 | 用于图案化的纳米线透明导体上的印刷导电图案的保护性涂层 |
KR102222194B1 (ko) | 2013-10-17 | 2021-03-04 | 엘지이노텍 주식회사 | 터치 윈도우 및 이를 포함하는 디스플레이 장치 |
EP2863291A1 (en) * | 2013-10-18 | 2015-04-22 | Applied Materials, Inc. | Transparent body for a touch panel manufacturing method and system for manufacturing a transparent body for a touch screen panel |
US20150107878A1 (en) * | 2013-10-21 | 2015-04-23 | Carestream Health, Inc. | Invisible patterns for transparent electrically conductive films |
US9354740B2 (en) | 2013-10-23 | 2016-05-31 | Atmel Corporation | Object orientation determination |
US9436304B1 (en) | 2013-11-01 | 2016-09-06 | Google Inc. | Computer with unified touch surface for input |
US9329705B2 (en) | 2013-11-06 | 2016-05-03 | Atmel Corporation | Stylus with asymmetric electronic characteristics |
US9152254B2 (en) | 2013-11-21 | 2015-10-06 | Atmel Corporation | Electrical connection for active-stylus electrode |
US20160253020A1 (en) | 2013-11-21 | 2016-09-01 | 3M Innovative Properties Company | Electronic device with force detection |
KR102211968B1 (ko) | 2013-12-02 | 2021-02-05 | 삼성디스플레이 주식회사 | 터치 패널, 표시 장치 및 터치 패널의 제조 방법 |
US9164136B2 (en) | 2013-12-02 | 2015-10-20 | Atmel Corporation | Capacitive measurement circuit for a touch sensor device |
US9155201B2 (en) | 2013-12-03 | 2015-10-06 | Eastman Kodak Company | Preparation of articles with conductive micro-wire pattern |
US9298327B2 (en) | 2013-12-09 | 2016-03-29 | Atmel Corporation | Integrated shielding in touch sensors |
US9128577B2 (en) | 2013-12-10 | 2015-09-08 | Atmel Corporation | Hybrid capacitive touch system design and method |
US9367086B2 (en) | 2013-12-10 | 2016-06-14 | Atmel Corporation | Smart watch with adaptive touch screen |
TWI512804B (zh) * | 2013-12-12 | 2015-12-11 | Ind Tech Res Inst | 電極結構及其製作方法、使用此電極結構的觸控元件及觸控顯示器 |
CN105814528A (zh) * | 2013-12-13 | 2016-07-27 | 3M创新有限公司 | 包括具有改善的弯曲强度的多层叠堆的触摸传感器 |
CN107918235A (zh) * | 2013-12-31 | 2018-04-17 | 上海天马微电子有限公司 | 一种阵列基板及显示装置 |
CN105899623B (zh) | 2014-01-15 | 2018-08-10 | 3M创新有限公司 | 包含烷氧基化的多(甲基)丙烯酸酯单体和经表面处理的纳米粒子的硬质涂膜 |
CN105900048B (zh) * | 2014-01-16 | 2019-01-18 | 三菱制纸株式会社 | 光透导电材料 |
US8896573B1 (en) | 2014-01-21 | 2014-11-25 | Atmel Corporation | Line spacing in mesh designs for touch sensors |
US8947391B1 (en) | 2014-02-14 | 2015-02-03 | Atmel Corporation | Line spacing in mesh designs for touch sensors |
US9454252B2 (en) | 2014-02-14 | 2016-09-27 | Atmel Corporation | Touch-sensor mesh design for display with complex-shaped sub-pixels |
US9354734B2 (en) | 2014-03-04 | 2016-05-31 | Atmel Corporation | Common-mode hover detection |
US9785292B2 (en) | 2014-03-07 | 2017-10-10 | Atmel Corporation | Variable-pitch tracking for touch sensors |
JP6009488B2 (ja) * | 2014-03-28 | 2016-10-19 | 富士フイルム株式会社 | シート状導電体、およびこれを用いるタッチパネル |
TWI557622B (zh) * | 2014-03-31 | 2016-11-11 | Sensing circuit structure and manufacturing method thereof | |
US9280246B2 (en) | 2014-04-08 | 2016-03-08 | Atmel Corporation | Line spacing in mesh designs for touch sensors |
US10416801B2 (en) | 2014-04-08 | 2019-09-17 | Atmel Corporation | Apparatus, controller, and device for touch sensor hand-configuration analysis based at least on a distribution of capacitance values |
KR20150117859A (ko) | 2014-04-11 | 2015-10-21 | 삼성전기주식회사 | 터치 패널 |
US9516744B2 (en) | 2014-04-16 | 2016-12-06 | Eastman Kodak Company | Wrap-around micro-wire circuit method |
US9195358B1 (en) | 2014-04-16 | 2015-11-24 | Eastman Kodak Company | Z-fold multi-element substrate structure |
CN106233235A (zh) | 2014-04-17 | 2016-12-14 | 3M创新有限公司 | 带有 z 形电极图案的电容触摸传感器 |
US10042483B2 (en) | 2014-04-18 | 2018-08-07 | Atmel Corporation | Touch system with code hopping algorithms and code division multiplexing |
US9754704B2 (en) | 2014-04-29 | 2017-09-05 | Eastman Kodak Company | Making thin-film multi-layer micro-wire structure |
CN105094469A (zh) * | 2014-04-25 | 2015-11-25 | 天津富纳源创科技有限公司 | 电容式触摸屏 |
US9288901B2 (en) * | 2014-04-25 | 2016-03-15 | Eastman Kodak Company | Thin-film multi-layer micro-wire structure |
US9861920B1 (en) | 2015-05-01 | 2018-01-09 | Imagine Tf, Llc | Three dimensional nanometer filters and methods of use |
US9927927B2 (en) | 2014-05-05 | 2018-03-27 | Atmel Corporation | Implementing a virtual controller outside an area of a touch sensor |
US9389708B2 (en) | 2014-05-08 | 2016-07-12 | Atmel Corporation | Active stylus with force sensor |
US9733731B2 (en) | 2014-05-12 | 2017-08-15 | Atmel Corporation | Timing synchronization of active stylus and touch sensor |
KR101943176B1 (ko) | 2014-05-16 | 2019-01-28 | 후지필름 가부시키가이샤 | 터치 패널 및 그 제조 방법 |
US9417729B2 (en) | 2014-06-09 | 2016-08-16 | Atmel Corporation | Charge compensation during touch sensing |
JP2015232819A (ja) * | 2014-06-10 | 2015-12-24 | 株式会社ジャパンディスプレイ | センサ付き表示装置 |
US9436328B2 (en) | 2014-06-20 | 2016-09-06 | Atmel Corporation | Single-layer touch sensor |
US10730047B2 (en) | 2014-06-24 | 2020-08-04 | Imagine Tf, Llc | Micro-channel fluid filters and methods of use |
WO2016002279A1 (ja) * | 2014-06-30 | 2016-01-07 | 富士フイルム株式会社 | タッチパネル及びその製造方法 |
US9183968B1 (en) | 2014-07-31 | 2015-11-10 | C3Nano Inc. | Metal nanowire inks for the formation of transparent conductive films with fused networks |
US10394350B2 (en) * | 2014-08-11 | 2019-08-27 | Atmel Corporation | Fabricated electrical circuit on touch sensor substrate |
US9798396B2 (en) | 2014-08-18 | 2017-10-24 | Atmel Corporation | Low-power and low-frequency data transmission for stylus and associated signal processing |
US11079862B2 (en) | 2014-08-18 | 2021-08-03 | Wacom Co., Ltd. | Low-power and low-frequency data transmission for stylus and associated signal processing |
US9569016B2 (en) | 2014-08-18 | 2017-02-14 | Atmel Corporation | Low-power and low-frequency data transmission for stylus |
KR102255163B1 (ko) | 2014-08-18 | 2021-05-25 | 삼성디스플레이 주식회사 | 접촉 감지 장치 |
US9161456B1 (en) | 2014-09-03 | 2015-10-13 | Eastman Kodak Company | Making imprinted micro-wire rib structure |
US10124275B2 (en) | 2014-09-05 | 2018-11-13 | Imagine Tf, Llc | Microstructure separation filters |
US9933903B2 (en) * | 2014-10-02 | 2018-04-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Input device and input/output device |
CN104407729B (zh) * | 2014-10-14 | 2018-01-09 | 业成光电(深圳)有限公司 | 电子装置、触控屏、透明导电膜及透明导电膜的制备方法 |
CN104376899B (zh) * | 2014-10-14 | 2017-01-11 | 业成光电(深圳)有限公司 | 电子装置、触控屏、透明导电膜及透明导电膜的制备方法 |
US9285942B1 (en) | 2014-10-27 | 2016-03-15 | Atmel Corporation | Optical-band visibility for touch-sensor mesh designs |
US9405419B2 (en) | 2014-11-11 | 2016-08-02 | Eastman Kodak Company | Electrically-conductive articles with electrically-conductive metallic connectors |
US10394392B2 (en) | 2015-01-14 | 2019-08-27 | Atmel Corporation | Object detection and scan |
US10758849B2 (en) | 2015-02-18 | 2020-09-01 | Imagine Tf, Llc | Three dimensional filter devices and apparatuses |
CN107407997A (zh) * | 2015-02-27 | 2017-11-28 | 株式会社藤仓 | 触摸传感器用配线体、触摸传感器用配线基板以及触摸传感器 |
CN106033278A (zh) * | 2015-03-18 | 2016-10-19 | 南京瀚宇彩欣科技有限责任公司 | 触控显示模块与显示器 |
KR101681745B1 (ko) | 2015-03-26 | 2016-12-01 | 가천대학교 산학협력단 | 투명전극 소재 |
JP6504445B2 (ja) * | 2015-03-31 | 2019-04-24 | 大日本印刷株式会社 | タッチパネルセンサ用中間部材、及び、タッチパネルセンサの製造方法 |
US9483129B1 (en) | 2015-05-12 | 2016-11-01 | Atmel Corporation | Active stylus with fractional clock-cycle timing |
US10317594B2 (en) | 2015-05-29 | 2019-06-11 | 3M Innovative Properties Company | Optical constructions |
CN106283056A (zh) * | 2015-06-08 | 2017-01-04 | 蓝思科技股份有限公司 | 一种适用于工件表面金属镀层的褪镀液及褪镀方法 |
EP3313661B1 (en) | 2015-06-29 | 2022-07-27 | 3M Innovative Properties Company | Ultrathin barrier laminates and devices |
US9696826B2 (en) | 2015-06-30 | 2017-07-04 | Atmel Corporation | Stylus with low-power detector |
US10118842B2 (en) | 2015-07-09 | 2018-11-06 | Imagine Tf, Llc | Deionizing fluid filter devices and methods of use |
US10479046B2 (en) | 2015-08-19 | 2019-11-19 | Imagine Tf, Llc | Absorbent microstructure arrays and methods of use |
KR102456050B1 (ko) | 2015-09-16 | 2022-10-20 | 삼성디스플레이 주식회사 | 터치 패널 |
US9904377B2 (en) | 2015-10-28 | 2018-02-27 | Atmel Corporation | Communication between active stylus and touch sensor |
US9927910B2 (en) | 2015-10-30 | 2018-03-27 | Atmel Corporation | Suspension of touch sensor scan based on an expected interference |
US10732758B2 (en) | 2015-11-02 | 2020-08-04 | Neodrón Limited | Touchscreen communication interface |
US10359895B2 (en) * | 2015-11-17 | 2019-07-23 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Optically transparent electroconductive material |
KR20170058742A (ko) * | 2015-11-19 | 2017-05-29 | 현대자동차주식회사 | 터치 입력장치, 이를 포함하는 차량, 및 그 제조방법 |
KR102415044B1 (ko) * | 2015-12-11 | 2022-07-01 | 삼성디스플레이 주식회사 | 터치 스크린 패널, 이의 제조 방법 및 터치 스크린 패널을 포함하는 터치 표시 장치 |
US9857930B2 (en) | 2015-12-16 | 2018-01-02 | 3M Innovative Properties Company | Transparent conductive component with interconnect circuit tab comprising cured organic polymeric material |
US9864456B2 (en) | 2015-12-21 | 2018-01-09 | Amtel Corporation | Touch sensor electrode driving |
CN108430763B (zh) | 2015-12-22 | 2021-07-16 | 3M创新有限公司 | 具有分立的粘合剂贴片的粘结层 |
US10013101B2 (en) | 2016-01-08 | 2018-07-03 | Atmel Corporation | Touch sensor and associated control method for decreased capacitive loads |
KR102082485B1 (ko) * | 2016-01-26 | 2020-02-27 | 동우 화인켐 주식회사 | 투명 전극 및 이를 포함하는 전자 소자 |
US9983748B2 (en) | 2016-02-17 | 2018-05-29 | Atmel Corporation | Connecting electrodes to voltages |
US9898153B2 (en) | 2016-03-02 | 2018-02-20 | Google Llc | Force sensing using capacitive touch surfaces |
US10175741B2 (en) | 2016-03-03 | 2019-01-08 | Atmel Corporation | Touch sensor mode transitioning |
WO2017176498A1 (en) * | 2016-04-05 | 2017-10-12 | 3M Innovative Properties Company | Nanowire contact pads with enhanced adhesion to metal interconnects |
US20170308194A1 (en) * | 2016-04-20 | 2017-10-26 | Atmel Corporation | Touch Sensor Mesh Designs |
US10120489B2 (en) | 2016-04-28 | 2018-11-06 | Atmel Corporation | Touch sensor mesh designs |
CN106020527B (zh) * | 2016-05-05 | 2019-01-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 电极结构及其制作方法、触摸面板和触摸显示装置 |
US9983749B2 (en) | 2016-05-19 | 2018-05-29 | Atmel Corporation | Touch detection |
JP7132130B2 (ja) * | 2016-05-23 | 2022-09-06 | コニカ ミノルタ ラボラトリー ユー.エス.エー.,インコーポレイテッド | 透明相関金属電極を形成するための方法 |
CN109311288B (zh) | 2016-05-25 | 2021-01-12 | 3M创新有限公司 | 用于触摸传感器的基底 |
US10120513B2 (en) | 2016-05-26 | 2018-11-06 | Atmel Corporation | Touch sensor compensation circuit |
US9927901B2 (en) | 2016-06-09 | 2018-03-27 | Atmel Corporation | Force sensor array |
US9939930B2 (en) | 2016-06-09 | 2018-04-10 | Atmel Corporation | Active stylus with multiple sensors for receiving signals from a touch sensor |
US10234974B2 (en) | 2016-06-15 | 2019-03-19 | Atmel Corporation | Touch device |
US10719177B2 (en) | 2016-06-21 | 2020-07-21 | Atmel Corporation | Excitation voltages for touch sensors |
CN106293208B (zh) * | 2016-07-29 | 2023-07-28 | 厦门天马微电子有限公司 | 集成触控显示面板和显示装置 |
US10061375B2 (en) | 2016-08-02 | 2018-08-28 | Atmel Corporation | Power mode configuration for touch sensors |
TWI746603B (zh) * | 2016-08-09 | 2021-11-21 | 南韓商東友精細化工有限公司 | 透明電極、包括其的觸控感測器及影像顯示裝置 |
WO2018047493A1 (ja) * | 2016-09-12 | 2018-03-15 | 富士フイルム株式会社 | 導電性フィルム、タッチパネルセンサー、および、タッチパネル |
WO2018057744A1 (en) * | 2016-09-23 | 2018-03-29 | 3M Innovative Properties Company | Articles with resistance gradients for uniform switching |
KR101866736B1 (ko) * | 2016-09-23 | 2018-06-15 | 현대자동차주식회사 | 터치 입력장치 및 그 제조방법 |
US10318050B2 (en) | 2016-11-18 | 2019-06-11 | Atmel Corporation | Touch sensor signal integration |
US10809843B2 (en) | 2016-11-18 | 2020-10-20 | Atmel Corporation | Touch sensor signal integration |
CN110114745A (zh) * | 2016-12-20 | 2019-08-09 | 3M创新有限公司 | 用于电容式触摸传感器的电极图案 |
JP7103718B2 (ja) * | 2016-12-20 | 2022-07-20 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | メッシュ電極 |
CN108304088A (zh) * | 2017-01-13 | 2018-07-20 | 宏碁股份有限公司 | 显示装置及其制作方法 |
US10423276B2 (en) | 2017-01-30 | 2019-09-24 | Atmel Corporation | Applying a signal to a touch sensor |
US10983647B2 (en) * | 2017-08-10 | 2021-04-20 | Sharp Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing circuit board |
CN107491222A (zh) * | 2017-09-01 | 2017-12-19 | 业成科技(成都)有限公司 | 触控面板 |
US11112922B2 (en) * | 2017-12-22 | 2021-09-07 | 1004335 Ontario Inc. carrying on business as A D Metro | Capacitive touch sensor apparatus having branching electrodes |
CN108288638A (zh) | 2018-01-25 | 2018-07-17 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种触控基板及其制备方法、触控显示装置 |
KR101952769B1 (ko) * | 2018-02-28 | 2019-02-27 | 동우 화인켐 주식회사 | 터치 센서 |
KR102532982B1 (ko) | 2018-03-07 | 2023-05-16 | 동우 화인켐 주식회사 | 입력 센서 및 이를 포함하는 표시장치 |
KR102053704B1 (ko) | 2018-03-16 | 2019-12-09 | 동우 화인켐 주식회사 | 고해상도 터치 센서 |
EP3786882A4 (en) | 2018-04-26 | 2022-01-19 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | MOTION STATE RECOGNITION LEARNING DEVICE, MOTION STATE RECOGNITION DEVICE, METHOD AND PROGRAM |
CN110831418A (zh) * | 2018-08-09 | 2020-02-21 | 鸿富锦精密工业(武汉)有限公司 | 机箱面板及采用该机箱面板的机箱 |
KR102639185B1 (ko) | 2018-11-07 | 2024-02-23 | 삼성디스플레이 주식회사 | 입력 감지 유닛을 포함하는 표시 장치 |
CN111197153B (zh) * | 2018-11-16 | 2023-01-10 | 安徽精卓光显技术有限责任公司 | 金属网格的制备方法及金属网格片 |
CN111033455A (zh) * | 2019-04-10 | 2020-04-17 | 深圳市汇顶科技股份有限公司 | 一种触控屏中引线的制作方法、触控屏及电子设备 |
EP3966897A4 (en) | 2019-05-06 | 2023-11-01 | 3M Innovative Properties Company | PATTERNED ARTICLE INCLUDING ELECTRICALLY CONDUCTIVE ELEMENTS |
CN110379576B (zh) * | 2019-07-25 | 2021-12-07 | 东莞福哥电子有限公司 | 一种多阻值的电阻体印刷方法 |
JPWO2021117775A1 (ja) * | 2019-12-10 | 2021-06-17 | ||
JP2021163393A (ja) * | 2020-04-03 | 2021-10-11 | シャープ株式会社 | 表示装置 |
US11567311B1 (en) | 2020-05-14 | 2023-01-31 | Apple Inc. | Devices with displays having transparent openings |
WO2021247602A1 (en) | 2020-06-02 | 2021-12-09 | Microchip Technology Incorporated | Capacitive sensing utilizing a differential value indication |
US11864452B1 (en) | 2021-08-24 | 2024-01-02 | Apple Inc. | Black masking layer in displays having transparent openings |
CN113759580B (zh) * | 2021-11-10 | 2022-02-18 | 惠科股份有限公司 | 显示面板及其制作方法和显示装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02126315A (ja) * | 1988-11-07 | 1990-05-15 | Daicel Chem Ind Ltd | デジタル式タッチパネル |
JP2004192093A (ja) * | 2002-12-09 | 2004-07-08 | Micro Gijutsu Kenkyusho:Kk | 透明タッチパネル及びその製造方法 |
JP2006344163A (ja) * | 2005-06-10 | 2006-12-21 | Nissha Printing Co Ltd | 静電容量型タッチパネル |
US20070018076A1 (en) * | 2005-07-21 | 2007-01-25 | Ipo Displays Corp. | Electromagnetic digitizer sensor array structure |
JP2007048278A (ja) * | 2005-07-21 | 2007-02-22 | Toppoly Optoelectronics Corp | 電磁デジタイザセンサアレイ構造 |
Family Cites Families (80)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3227308A (en) | 1962-11-06 | 1966-01-04 | Continental Can Co | Food container for use in space ships |
US4087625A (en) * | 1976-12-29 | 1978-05-02 | International Business Machines Corporation | Capacitive two dimensional tablet with single conductive layer |
US5126007A (en) | 1990-11-16 | 1992-06-30 | At&T Bell Laboratories | Method for etching a pattern in layer of gold |
US5113041A (en) * | 1990-12-28 | 1992-05-12 | At&T Bell Laboratories | Information processing |
US5492611A (en) * | 1991-03-20 | 1996-02-20 | Fujitsu Limited | Miniaturized oxygen electrode |
JPH0769767B2 (ja) | 1991-10-16 | 1995-07-31 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション | フィンガ・タッチまたはスタイラスの位置を検出するためのタッチ・オーバーレイ、および検出システム |
FR2708170B1 (fr) | 1993-07-19 | 1995-09-08 | Innovation Dev Cie Gle | Circuits électroniques à très haute conductibilité et de grande finesse, leurs procédés de fabrication, et dispositifs les comprenant. |
US5512131A (en) | 1993-10-04 | 1996-04-30 | President And Fellows Of Harvard College | Formation of microstamped patterns on surfaces and derivative articles |
GB9406702D0 (en) * | 1994-04-05 | 1994-05-25 | Binstead Ronald P | Multiple input proximity detector and touchpad system |
US5594222A (en) * | 1994-10-25 | 1997-01-14 | Integrated Controls | Touch sensor and control circuit therefor |
GB9422911D0 (en) * | 1994-11-14 | 1995-01-04 | Moonstone Technology Ltd | Capacitive touch detectors |
US5859392A (en) * | 1996-02-09 | 1999-01-12 | Lsi Logic Corporation | Method and apparatus for reducing noise in an electrostatic digitizing tablet |
JP3464590B2 (ja) | 1997-06-06 | 2003-11-10 | 住友大阪セメント株式会社 | 透明導電膜付き基板およびその製造方法 |
JP3490304B2 (ja) | 1997-10-17 | 2004-01-26 | シャープ株式会社 | 無線通信装置 |
US7663607B2 (en) | 2004-05-06 | 2010-02-16 | Apple Inc. | Multipoint touchscreen |
JP2000081510A (ja) * | 1998-09-04 | 2000-03-21 | Toyobo Co Ltd | 赤外線吸収フィルタ |
EP0969517B1 (en) | 1998-07-04 | 2005-10-12 | International Business Machines Corporation | Electrode for use in electro-optical devices |
US6549193B1 (en) * | 1998-10-09 | 2003-04-15 | 3M Innovative Properties Company | Touch panel with improved linear response and minimal border width electrode pattern |
JP4211099B2 (ja) | 1998-11-09 | 2009-01-21 | 三菱化学株式会社 | 透明導電性積層シートの製造方法 |
JP2000174486A (ja) * | 1998-12-04 | 2000-06-23 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | 透光性電磁波シールドフィルムおよび透光性電磁波シールドパネルの製造方法 |
EP1081739B1 (en) * | 1999-03-05 | 2010-06-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Image forming device |
US6297811B1 (en) | 1999-06-02 | 2001-10-02 | Elo Touchsystems, Inc. | Projective capacitive touchscreen |
US6212769B1 (en) | 1999-06-29 | 2001-04-10 | International Business Machines Corporation | Process for manufacturing a printed wiring board |
US6652981B2 (en) | 2000-05-12 | 2003-11-25 | 3M Innovative Properties Company | Etching process for making electrodes |
JP2002014772A (ja) * | 2000-06-30 | 2002-01-18 | Minolta Co Ltd | タッチパネル、表示パネル及び表示装置 |
US6498590B1 (en) * | 2001-05-24 | 2002-12-24 | Mitsubishi Electric Research Laboratories, Inc. | Multi-user touch surface |
US7338613B2 (en) * | 2001-09-10 | 2008-03-04 | Surface Logix, Inc. | System and process for automated microcontact printing |
US6995752B2 (en) * | 2001-11-08 | 2006-02-07 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Multi-point touch pad |
KR20040068572A (ko) * | 2001-12-06 | 2004-07-31 | 코닌클리즈케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이. | 박막 트랜지스터의 소스 및 드레인 형성 방법 |
AU2003216481A1 (en) * | 2002-03-01 | 2003-09-16 | Planar Systems, Inc. | Reflection resistant touch screens |
US6871268B2 (en) | 2002-03-07 | 2005-03-22 | International Business Machines Corporation | Methods and systems for distributed caching in presence of updates and in accordance with holding times |
US7463246B2 (en) * | 2002-06-25 | 2008-12-09 | Synaptics Incorporated | Capacitive sensing device |
US7019734B2 (en) * | 2002-07-17 | 2006-03-28 | 3M Innovative Properties Company | Resistive touch sensor having microstructured conductive layer |
US7202859B1 (en) * | 2002-08-09 | 2007-04-10 | Synaptics, Inc. | Capacitive sensing pattern |
EP1583715A2 (en) * | 2002-12-06 | 2005-10-12 | Eikos, Inc. | Optically transparent nanostructured electrical conductors |
JP2004272651A (ja) * | 2003-03-10 | 2004-09-30 | Kawaguchiko Seimitsu Co Ltd | タッチパネル及びそれを備えた画面入力型表示装置 |
US7129935B2 (en) * | 2003-06-02 | 2006-10-31 | Synaptics Incorporated | Sensor patterns for a capacitive sensing apparatus |
EP1631992A2 (en) * | 2003-06-12 | 2006-03-08 | Patterning Technologies Limited | Transparent conducting structures and methods of production thereof |
US7265686B2 (en) * | 2003-07-15 | 2007-09-04 | Tyco Electronics Corporation | Touch sensor with non-uniform resistive band |
GB0319714D0 (en) * | 2003-08-21 | 2003-09-24 | Philipp Harald | Anisotropic touch screen element |
JP2005084475A (ja) * | 2003-09-10 | 2005-03-31 | Dainippon Printing Co Ltd | 光学フィルタおよびこれを用いたディスプレイ |
GB0323902D0 (en) | 2003-10-11 | 2003-11-12 | Koninkl Philips Electronics Nv | Method for patterning a substrate surface |
US8435603B2 (en) * | 2003-12-05 | 2013-05-07 | Conductive Inkjet Technology Limited | Formation of solid layers on substrates |
US7339579B2 (en) * | 2003-12-15 | 2008-03-04 | 3M Innovative Properties Company | Wiring harness and touch sensor incorporating same |
US7307624B2 (en) * | 2003-12-30 | 2007-12-11 | 3M Innovative Properties Company | Touch sensor with linearized response |
KR100590727B1 (ko) * | 2004-02-24 | 2006-06-19 | 한국기계연구원 | 임프린트된 나노구조물을 이용한 미세접촉 인쇄기법과이의 나노 구조물 |
KR100586659B1 (ko) * | 2004-04-01 | 2006-06-07 | 주식회사 디피아이 솔루션스 | 유기 전극 코팅용 조성물 및 이를 이용한 고투명성 유기전극의 제조방법 |
WO2005104141A1 (ja) | 2004-04-20 | 2005-11-03 | Takiron Co., Ltd. | タッチパネル用透明導電成形体およびタッチパネル |
US20050257957A1 (en) * | 2004-05-15 | 2005-11-24 | Kaluk Vasoya | Printed wiring board with conductive constraining core including resin filled channels |
US7382139B2 (en) | 2004-06-03 | 2008-06-03 | Synaptics Incorporated | One layer capacitive sensing apparatus having varying width sensing elements |
JP4463013B2 (ja) * | 2004-06-09 | 2010-05-12 | 日本写真印刷株式会社 | 狭額縁タッチパネル用の回路形成装置及びこれを用いた回路形成方法 |
JP2006011522A (ja) * | 2004-06-22 | 2006-01-12 | Seiko Epson Corp | 入力装置の製造方法、電気光学装置の製造方法、入力装置、電気光学装置、電子機器 |
US7196281B2 (en) * | 2004-11-12 | 2007-03-27 | Eastman Kodak Company | Resistive touch screen having conductive mesh |
US7160583B2 (en) * | 2004-12-03 | 2007-01-09 | 3M Innovative Properties Company | Microfabrication using patterned topography and self-assembled monolayers |
TWI403761B (zh) | 2005-02-15 | 2013-08-01 | Fujifilm Corp | 透光性導電性膜之製法 |
JP2006261322A (ja) * | 2005-03-16 | 2006-09-28 | Jsr Corp | 電磁波シールドフィルムおよびその製造方法 |
US7278388B2 (en) | 2005-05-12 | 2007-10-09 | Ford Global Technologies, Llc | Engine starting for engine having adjustable valve operation |
US20070016081A1 (en) | 2005-07-12 | 2007-01-18 | Globalmedia Group, Llc | Chroma-photon staining |
US7410825B2 (en) | 2005-09-15 | 2008-08-12 | Eastman Kodak Company | Metal and electronically conductive polymer transfer |
US7932898B2 (en) * | 2005-09-20 | 2011-04-26 | Atmel Corporation | Touch sensitive screen |
GB0519170D0 (en) * | 2005-09-20 | 2005-10-26 | Philipp Harald | Capacitive touch sensor |
US7864160B2 (en) | 2005-10-05 | 2011-01-04 | 3M Innovative Properties Company | Interleaved electrodes for touch sensing |
US8012567B2 (en) * | 2006-01-12 | 2011-09-06 | 3M Innovative Properties Company | Light-collimating film |
KR101163789B1 (ko) * | 2006-02-07 | 2012-07-09 | 삼성전자주식회사 | 투명전극 및 그의 제조방법 |
US8264466B2 (en) | 2006-03-31 | 2012-09-11 | 3M Innovative Properties Company | Touch screen having reduced visibility transparent conductor pattern |
US20090165296A1 (en) * | 2006-04-04 | 2009-07-02 | Yoash Carmi | Patterns of conductive objects on a substrate and method of producing thereof |
TWI322374B (en) * | 2006-04-14 | 2010-03-21 | Ritdisplay Corp | Light transmission touch panel and manufacturing method thereof |
TW200805128A (en) | 2006-05-05 | 2008-01-16 | Harald Philipp | Touch screen element |
US8552989B2 (en) | 2006-06-09 | 2013-10-08 | Apple Inc. | Integrated display and touch screen |
US7796123B1 (en) | 2006-06-20 | 2010-09-14 | Eastman Kodak Company | Touchscreen with carbon nanotube conductive layers |
KR100797092B1 (ko) | 2006-07-31 | 2008-01-22 | 한국기계연구원 | 미세 접촉 인쇄를 이용한 유기박막 구동소자의 제조방법 |
JP2008041445A (ja) * | 2006-08-07 | 2008-02-21 | Asahi Glass Co Ltd | 透明導電膜の製造方法および透明導電膜 |
US20080095988A1 (en) * | 2006-10-18 | 2008-04-24 | 3M Innovative Properties Company | Methods of patterning a deposit metal on a polymeric substrate |
US8764996B2 (en) * | 2006-10-18 | 2014-07-01 | 3M Innovative Properties Company | Methods of patterning a material on polymeric substrates |
US7968804B2 (en) * | 2006-12-20 | 2011-06-28 | 3M Innovative Properties Company | Methods of patterning a deposit metal on a substrate |
US7920129B2 (en) * | 2007-01-03 | 2011-04-05 | Apple Inc. | Double-sided touch-sensitive panel with shield and drive combined layer |
TW200901014A (en) | 2007-06-28 | 2009-01-01 | Sense Pad Tech Co Ltd | Touch panel device |
KR101502978B1 (ko) * | 2007-12-07 | 2015-03-18 | 아그파-게바에르트 엔.브이. | 태양광 노출에 대한 안정성이 개선된 층 구성체 |
US20090174675A1 (en) | 2008-01-09 | 2009-07-09 | Dave Gillespie | Locating multiple objects on a capacitive touch pad |
US8599150B2 (en) * | 2009-10-29 | 2013-12-03 | Atmel Corporation | Touchscreen electrode configuration |
-
2009
- 2009-02-26 EP EP22170165.9A patent/EP4071785A1/en active Pending
- 2009-02-26 KR KR1020167024080A patent/KR101720916B1/ko active IP Right Grant
- 2009-02-26 CN CN200980114050XA patent/CN102016767A/zh active Pending
- 2009-02-26 EP EP23204279.6A patent/EP4300190A3/en active Pending
- 2009-02-26 WO PCT/US2009/035250 patent/WO2009154812A2/en active Application Filing
- 2009-02-26 KR KR1020167024087A patent/KR101717033B1/ko active IP Right Grant
- 2009-02-26 KR KR1020167024082A patent/KR101720917B1/ko active IP Right Grant
- 2009-02-26 EP EP19196444.4A patent/EP3614418B1/en active Active
- 2009-02-26 EP EP15195152.2A patent/EP3040822B1/en active Active
- 2009-02-26 KR KR1020167024090A patent/KR101720919B1/ko active IP Right Grant
- 2009-02-26 KR KR1020167024076A patent/KR101727444B1/ko active IP Right Grant
- 2009-02-26 CN CN201710515322.3A patent/CN107272978B/zh active Active
- 2009-02-26 JP JP2010548855A patent/JP2011513846A/ja not_active Withdrawn
- 2009-02-26 EP EP09767125.9A patent/EP2263141B1/en active Active
- 2009-02-26 KR KR1020167024085A patent/KR101720918B1/ko active IP Right Grant
- 2009-02-26 KR KR1020177018262A patent/KR101822351B1/ko active IP Right Grant
- 2009-02-26 CN CN201510072134.9A patent/CN104636016B/zh active Active
- 2009-02-26 KR KR1020167024084A patent/KR101717032B1/ko active IP Right Grant
- 2009-02-26 KR KR1020107021376A patent/KR20100137483A/ko not_active Application Discontinuation
- 2009-02-26 KR KR1020167024081A patent/KR101832652B1/ko active IP Right Grant
- 2009-02-26 KR KR1020177018261A patent/KR101822350B1/ko active IP Right Grant
- 2009-02-26 US US12/393,185 patent/US8179381B2/en active Active
- 2009-02-26 KR KR1020167024083A patent/KR101717031B1/ko active IP Right Grant
- 2009-02-26 KR KR1020127016997A patent/KR101730206B1/ko active IP Right Grant
- 2009-02-27 TW TW098106620A patent/TWI446229B/zh active
-
2012
- 2012-04-12 US US13/445,061 patent/US8384691B2/en active Active
-
2014
- 2014-09-19 JP JP2014190968A patent/JP5997227B2/ja active Active
-
2016
- 2016-07-04 JP JP2016132556A patent/JP6640044B2/ja active Active
-
2018
- 2018-01-04 JP JP2018000135A patent/JP6595015B6/ja active Active
- 2018-01-04 JP JP2018000136A patent/JP6595016B2/ja active Active
-
2019
- 2019-03-15 JP JP2019048195A patent/JP6850821B6/ja active Active
- 2019-09-25 JP JP2019173689A patent/JP6707703B2/ja active Active
-
2020
- 2020-04-28 JP JP2020079088A patent/JP6735001B1/ja active Active
- 2020-05-26 JP JP2020091078A patent/JP6735003B1/ja active Active
- 2020-10-27 JP JP2020179404A patent/JP7121092B2/ja active Active
-
2022
- 2022-08-04 JP JP2022124524A patent/JP7350948B2/ja active Active
-
2023
- 2023-09-13 JP JP2023148288A patent/JP2023165013A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02126315A (ja) * | 1988-11-07 | 1990-05-15 | Daicel Chem Ind Ltd | デジタル式タッチパネル |
JP2004192093A (ja) * | 2002-12-09 | 2004-07-08 | Micro Gijutsu Kenkyusho:Kk | 透明タッチパネル及びその製造方法 |
JP2006344163A (ja) * | 2005-06-10 | 2006-12-21 | Nissha Printing Co Ltd | 静電容量型タッチパネル |
US20070018076A1 (en) * | 2005-07-21 | 2007-01-25 | Ipo Displays Corp. | Electromagnetic digitizer sensor array structure |
JP2007048278A (ja) * | 2005-07-21 | 2007-02-22 | Toppoly Optoelectronics Corp | 電磁デジタイザセンサアレイ構造 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022065498A1 (ja) | 2020-09-28 | 2022-03-31 | 三菱ケミカル株式会社 | 画像表示用導光板 |
Also Published As
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6850821B2 (ja) | タッチスクリーンセンサ | |
JP6367821B2 (ja) | タッチセンサ電極用のメッシュパターン | |
JP6143797B2 (ja) | タッチセンサ電極用のメッシュパターン | |
US20140152579A1 (en) | Complementary touch panel electrodes |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20201125 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20201125 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210914 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20210922 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20211214 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20220216 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220303 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20220311 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220614 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220705 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220804 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7121092 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |