JP2000174486A

JP2000174486A - 透光性電磁波シールドフィルムおよび透光性電磁波シールドパネルの製造方法

Info

Publication number: JP2000174486A
Application number: JP10346073A
Authority: JP
Inventors: Takehiko Matsuyama; 武彦松山; Yasuhiko Kondo; 康彦近藤; Hiroaki Kawasaki; 裕章川崎
Original assignee: Sumitomo Rubber Industries Ltd
Current assignee: Sumitomo Rubber Industries Ltd
Priority date: 1998-12-04
Filing date: 1998-12-04
Publication date: 2000-06-23

Abstract

(57)【要約】【課題】透光性と電磁波の遮蔽効果との双方に優れた
電磁波シールドフィルムおよび電磁波シールドパネル
を、低コストでかつ簡易に製造することができる新規な
製造方法を提供する。【解決手段】(1) 転写効率の良い転写体を用いた凹版オ
フセット印刷法によって、透明フィルムと金属層との積
層体の金属層の表面にエッチングレジストインキを印刷
してエッチングレジストパターンを形成する工程と、
(2) このパターンが形成されていない部分の金属層をエ
ッチングによって除去し、透明フィルムの片面に所定の
電磁波シールドパターン部を形成して、透光性電磁波シ
ールド部材を得る工程と、(3) 透明フィルムの電磁波シ
ールドパターン部を形成した面等に透明粘着層を形成し
て、透光性電磁波シールドフィルムを得る工程と、(4)
上記透明粘着層上に透明基板等を貼り合わせる工程とを
含む製造方法である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ＣＲＴ、ＰＤＰ
（プラズマディスプレイ）、液晶ディスプレイ等のディ
スプレイ装置から照射される電磁波を効果的に遮蔽し得
る、優れた透光性と電磁波の遮蔽効果とを有する透光性
電磁波シールドフィルムの製造方法と、その透光性電磁
波シールドフィルムを用いた透光性電磁波シールドパネ
ルの製造方法とに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、上記ディスプレイ装置の前面等に
設置される透光性電磁波シールドフィルムは、透明フィ
ルム表面の金属層上にフォトレジストを塗布してエッチ
ングレジストの層を形成し、ついで露光・現像作業を行
って電磁波シールドパターン部が形成される以外の部分
のエッチングレジストの層を除去した後、その除去によ
って露出した金属層をエッチングし、最後に残りのエッ
チングレジストの層を除去して所定の電磁波シールドパ
ターン部を形成する、いわゆるフォトリソグラフ法によ
って電磁波シールド部材を作製し、そして、この電磁波
シールド部材の電磁波シールドパターン部を形成した面
またはその反対面に透明粘着層を形成することにより製
造されている。

【０００３】また透光性電磁波シールドパネルは、上記
透光性電磁波シールドフィルムにおける粘着層に、ディ
スプレイパネルまたは透明基板を貼り合わせることによ
り製造されている（特開平５−１６２８１号公報、特開
平１０−１６３６７３号公報など）。かかる製造方法に
より得られた電磁波シールドパネルなどは、電磁波の遮
蔽効果（シールド効果）に優れ、しかも視野角が広く、
視認性および透光性に優れている。これは、電磁波シー
ルド部材の作製に際し、上記フォトリソグラフ法によっ
て厚肉で、かつ非常に線幅の小さい微細な電磁波シール
ドパターン部を高い精度で形成することができるからで
ある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記フ
ォトリソグラフ法による電磁波シールド部材の作製にお
いては、電磁波シールドパターン部のパターンに対応す
るエッチングレジストの層（以下、エッチングレジスト
パターンという）を形成する際に、フォトレジストの塗
布工程や露光・現像工程といった特別な作業を必要とす
るため工程が複雑で量産に適さないことや、それらの作
業に用いる紫外線露光機や現像機などの設備に費用がか
かかること等が原因で、電磁波シールドパネルの低価格
化には限界があった。

【０００５】また近年、ＰＤＰ等の大型画面（例えば、
大型テレビなど）の需要が急増しており、その大型画面
に対応した大型の電磁波シールドパネルを製造する必要
がある。しかし、上記フォトリソグラフ法では、大型の
露光装置や現像エッチング装置などの新たな設備投資が
必要であったり、塗布工程および露光・現像工程にます
ます時間がかかるなど、その必要性に十分対応すること
ができない問題もあった。

【０００６】本発明の目的は、上記の問題点を解決し、
透光性と電磁波の遮蔽効果との両方に優れた透光性電磁
波シールドパネル（透光性電磁波シールドフィルムも含
む、以下同じ）、特にＰＤＰ等の大型画面用の透光性電
磁波シールドパネルを簡易にかつ低コストで製造するこ
とができる新規な製造方法を提供することである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、フォトリソグラフ
法によって形成していたエッチングレジストパターン
を、印刷法によって透明フィルムの金属層上に印刷形成
したのち、従来と同様にしてエッチング作業を行えば、
簡易にかつ安価に電磁波シールド部材を作製でき、ひい
ては電磁波シールドパネルの価格の低減することができ
るという新たな知見を得た。

【０００８】すなわち、印刷法によるエッチングレジス
トパターンの形成は、エッチングレジストインキを用い
て、印刷法によって透明フィルムの金属層上にパターン
印刷することによって行われる。このため、かかる印刷
法によれば、従来のフォトリソグラフ法で行っていた塗
布工程や露光・現像工程を必要としないため簡易な方法
であり、またそれらの作業に用いる露光機などの設備投
資も必要でないため、電磁波シールドパネルの低価格化
を実現することができると考えたのである。

【０００９】また、前述したＰＤＰ等の大型画面用の電
磁波シールドパネルの製造にも、このような利点を有す
ることから、充分に対応することができると考えたので
ある。採用する印刷法としては種々の印刷方法が考えら
れるが、本発明者らは、まず一般的なスクリーン印刷法
を用いてエッチングレジストパターンを印刷することを
試みた。

【００１０】ところが、上記スクリーン印刷法によりエ
ッチングパターンを形成した場合には、充分な電磁波の
遮蔽効果と充分な透光性とを有する電磁波シールドパネ
ルを製造することができないことが明らかとなった。そ
の理由としては、以下のことが考えられる。前述のよう
に、電磁波シールドパネルに優れた透光性と電磁波の遮
蔽効果とを付与するには、厚肉で、かつ非常に線幅の小
さい微細な電磁波シールドパターン部を高い精度で形成
する必要がある。

【００１１】しかしながら、スクリーン印刷法では、印
刷時にスクリーン版が引き伸ばされるため、メッシュが
伸縮し、印刷寸法や印刷位置に±２０μｍ程度のバラツ
キが生じるおそれがあるため、線幅の小さい（具体的に
は線幅５０μｍ以下）パターンを高い精度で形成するの
は困難であって、透光性に優れた電磁波シールド部材を
作製することができないという問題があった。

【００１２】また仮に、このスクリーン印刷法を用いて
線幅が５０μｍ以下のエッチングレジストパターンを印
刷した場合には、パターンの線幅にバラツキが生じた
り、電磁波シールドパターン部のパターンに途切れる
（断線）個所が多数発生するなどの新たな問題が生じ
て、電磁波シールド部材の電磁波の遮蔽効果が低下する
とともに、視認性も低下するという問題があった。

【００１３】次に本発明者らは、スクリーン印刷法に比
べて高い印刷精度をもつ平板オフセット印刷法や凸版オ
フセット印刷法について検討を行ったところ、これらの
印刷法では、一回の印刷で形成できるエッチングレジス
トパターンのインキの層の厚みは約０．５μｍ程度にし
か過ぎないため、当該インキの層の下部の金属層をエッ
チング液から保護する効果が不十分となって、次に行う
エッチング作業によって必要なパターン部分の金属層を
も除去されてしまい、電磁波シールドパターン部を形成
することすらできないという場合があった。

【００１４】エッチングレジストとしての充分な特性を
確保するには、このインキの層の厚みは少なくとも数μ
ｍ以上は必要であり、上記の平板オフセット印刷法や凸
版オフッセット印刷法では、かかる厚みを得るために印
刷を繰り返し行う必要があった。そのため、エッチング
レジストパターンの形成に時間がかかり、電磁波シール
ドパネルの量産に適さない、すなわち低価格化を実現で
きないことが明らかとなった。

【００１５】さらに本発明者らは、エッチングレジスト
パターンを形成する印刷法について引き続く検討を重ね
た結果、凹版の凹部にエッチングレジストインキを充填
し、ついでこのエッチングレジストインキを転写体表面
に一旦転移させた後、被印刷物上に印刷する、いわゆる
凹版オフセット印刷法によれば、数μｍ以上の適度な厚
みを有し、かつ非常に線幅の小さい微細なエッチングレ
ジストパターンのインキの層を、上記の他のオフセット
印刷法に比べて少ない印刷回数で印刷することができる
という事実を見出した。

【００１６】すなわち、凹版オフセット印刷法によれ
ば、凹版の凹部の深さを適宜変更することによってイン
キの層の厚みを任意に調節することができるので、エッ
チングレジストとしての充分な特性を確保し得るインキ
の層の厚みを、一回の印刷で行うことができるのであ
る。ところが、凹版オフセット印刷法に用いられる転写
体は、通常、ニトリル−ブタジエンゴムなどのゴム材料
から構成されていることから、転写体から金属層上への
エッチングレジストインキの転写効率が悪く、転写体か
ら金属層上への転写の際にエッチングレジストインキが
分裂して、そのレジスト用インキの一部が転写体表面に
残存する現象（いわゆる、インキの泣き別れ）が発生す
るという新たな問題が生じた。

【００１７】このインキの泣き別れの発生は、電磁波シ
ールド部材における電磁波シールドパターン部内に断線
個所を発生させ、その結果、製造される電磁波シールド
パネルは、透光性は良好であるものの、電磁波の遮蔽効
果や視認性に悪影響を及ぼすおそれがあった。そこで本
発明者らは、凹版オフセット印刷法に使用する転写体に
ついてさらに検討した結果、驚くべきことに、少なくと
もその表面がシリコーンゴムからなる転写体を使用し
て、凹版オフセット印刷法により、透明フィルムの片面
の金属層上に、エッチングレジストパターンのインキの
層を印刷すれば、上述のようなインキの泣き別れが発生
せずに、線幅の小さい微細なエッチングレジストパター
ンを高い精度で形成することができ、ひいては透光性と
電磁波の遮蔽効果との両方に優れた透光性電磁波シール
ドパネルを簡易にかつ低コストで製造することができる
という事実を見出し、本発明を完成するに至った。

【００１８】すなわち、本発明の電磁波シールドフィル
ムの製造方法は、(1) 少なくともその表面がシリコーン
ゴムからなる転写体を用いた凹版オフセット印刷法によ
って、透明フィルムと金属層との積層体の金属層の表面
に、エッチングレジストインキを印刷して、電磁波シー
ルドパターン部のパターンに対応するエッチングレジス
トパターンを形成する工程と、(2) エッチングレジスト
パターンが形成されていない部分の金属層をエッチング
によって除去し、透明フィルムの片面に所定の電磁波シ
ールドパターン部を形成して、透光性電磁波シールド部
材を得る工程と、(3) 上記透明フィルムの、電磁波シー
ルドパターン部を形成した面またはその反対の面に、透
明粘着層を形成する工程と、を含むことを特徴とする。

【００１９】また、本発明の透光性電磁波シールドパネ
ルの製造方法は、(1) 少なくともその表面がシリコーン
ゴムからなる転写体を用いた凹版オフセット印刷法によ
って、透明フィルムと金属層との積層体の金属層の表面
に、エッチングレジストインキを印刷して、電磁波シー
ルドパターン部のパターンに対応するエッチングレジス
トパターンを形成する工程と、(2) エッチングレジスト
パターンが形成されていない部分の金属層をエッチング
によって除去し、透明フィルムの片面に所定の電磁波シ
ールドパターン部を形成して、透光性電磁波シールド部
材を得る工程と、(3) 上記透明フィルムの、電磁波シー
ルドパターン部を形成した面またはその反対の面に、透
明粘着層を形成して、透光性電磁波シールドフィルムを
得る工程と、(4) 上記透明粘着層上にディスプレイパネ
ルまたは透明基板を貼り合わせる工程とを含むことを特
徴とする。

【００２０】本発明の製造方法によれば、これまでフォ
トリソグラフ法で形成していたエッチングレジストの層
を、エッチングレジストインキを用いて凹版オフセット
印刷法によって印刷形成することにより、フォトリソグ
ラフ法に比べて工程が簡素化されるとともに、コストを
大幅に低減させることができる。また上記凹版オフセッ
ト印刷法は、電磁波シールドパターン部のパターンを極
めて微細に、かつ高い精度で形成することができる。

【００２１】よって、透光性電磁波シールド部材にかか
るコストが低減され、ひいては透光性電磁波シールドパ
ネルの生産性の向上と価格の低減化とを図ることができ
る。また本発明の製造方法は、このような利点を有する
ことから、ＰＤＰ等の大型画面用の電磁波シールドパネ
ルの製造にも適している。本発明の製造方法において、
視野角や視認性などを損なう問題がなく、透光性と電磁
波の遮蔽効果との両方に優れた透光性電磁波シールドパ
ネルを得るには、電磁波シールドパターン部が形成され
ている領域の全面積と形成されていない領域の全面積と
の比、および電磁波シールドパターン部のパターンの線
幅と厚みが所定の範囲になるように、上記工程を行うの
が好ましい。

【００２２】すなわち、電磁波シールドパターン部が、
パターンの線幅が５〜４０μｍで、膜厚が０．５〜５０
μｍであり、かつ電磁波シールドパターン部の全面積Ｓ
ｓと、透明フィルム上における電磁波シールドパターン
部が形成されていない領域の全面積Ｓｋとが、式(1) ：１≦Ｓｋ／Ｓｓ≦９．０ …(1) なる関係を満たすように形成されるのが好ましい。

【００２３】本発明の製造方法によって得られる透光性
電磁波シールドパネルは、透光性および電磁波の遮蔽効
果に優れていることから、当該電磁波シールドパネルで
ＣＲＴの表示画面やＰＤＰの大型表示画面などを覆って
も、視認性が良好で、かつ表示画面が暗くなることがな
く、表示画面から照射される電磁波を高度に遮蔽するこ
とができる。

【００２４】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
まず、積層体および上記工程(1) に使用する種々の部材
について説明する。（積層体）本発明に用いる透明フィルムとしては、可視
光線に対する充分な透光性と、ディスプレイ装置の表示
画面から発せられる熱に耐え得る充分な耐熱性とを具備
した樹脂フィルムなどがあげられる。かかる樹脂フィル
ムはロール状に連続処理して使用することができるの
で、作業性およびコスト面の改善を図ることができる。

【００２５】具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリスチレン等のポリオレフィン類；ポリ塩化ビニ
ル（ＰＶＣ）、ポリ塩化ビニリデン等のビニル類；ポリ
エチレンテレフタレート（ＰＥＴ）に代表されるポリエ
ステル類；ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、
ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）、ポリエーテルス
ルホン（ＰＥＳ）、ポリイミド樹脂などの樹脂フィルム
や、それらの樹脂フィルムに近赤外線をカットする機能
を付与したものがあげられる。上記例示の樹脂フィルム
のうち、とりわけ透過性が非常に良好で、かつ安価に入
手できるポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴ
フィルム）が好ましい。

【００２６】透明フィルムの厚みは特に限定されない
が、電磁波シールド部材１の透光性を維持するという観
点から、通常０．０２〜５ｍｍの範囲で設定される。金
属層を構成する材料としては、例えば銀、銅、ニッケ
ル、パラジウム、金、アルミニウム、タングステン、ク
ロム、チタン等からなる膜が挙げられ、これらは単独で
または２種以上を混合して用いられる。上記例示の材料
のうち、導電性、耐酸化性、製造コストなどを考慮する
と銅が好適に用いられる。

【００２７】透明フィルムと金属層との積層体を形成す
る方法としては、特に限定されないが、例えば透明フィ
ルムの片面に金属箔を貼り付ける方法や、メッキにより
透明フィルムの片面に金属層を形成する方法などがあげ
られる。金属層の厚みは、電磁シールドパターン部の厚
みに応じて設定されるが、通常、０．５〜５０μｍの範
囲に設定されるのがよい。

【００２８】金属層の厚み、すなわち前記パターン部の
膜厚Ｗｔが０．５μｍを下回ると、電磁波シールドパタ
ーン部内に断線が発生しやすくなるとともに、良好な導
電性も得られず、電磁波の遮蔽効果が低下するおそれが
ある。また、金属層Ｍの機械的強度が劣り剥がれ易く、
電磁波シールドパネルとして用いた場合に電磁波シール
ドパターン部が剥がれるおそれがある。

【００２９】一方、金属層の電気抵抗を下げるという観
点から膜厚Ｗｔは大きい方が好ましいが、膜厚Ｗｔが５
０μｍを超えると、視野角によって画面の明るさが変わ
りやすくなり（すなわち、視野角が狭いことを意味す
る）、このような電磁波シールドパネルをディスプレイ
装置前面に設置した場合には、表示画面が見えにくくな
るおそれがある。

【００３０】膜厚Ｗｔは上記範囲の中でも、好ましくは
１〜３０μｍ、より好ましくは２〜１５μｍの範囲にあ
るのがよい。また本発明において、電磁波シールドパネ
ルの視認性を良好にするために、透明フィルムと金属
層との間に、あるいは透明フィルムの表面に形成した
金属層上に黒色層を設けるのがよい。

【００３１】すなわち、の黒色層の場合には、透明フ
ィルムの観察面からの外光の反射を防止し、画面のコン
トラストを大きく向上させることができる。また、の
黒色層の場合には、透明フィルムの反対側の観察面から
の外光の反射を防止し、画面のコントラストを大きく向
上させることができる。とくに、透明フィルムと金属層
との間に設けるの黒色層が多用される。大型テレビの
ＰＤＰ用の透光性電磁波シールドパネルとして用いる場
合には、このの黒色層を形成し、透明フィルムの観察
面からの外光の反射を防止するのがよい。

【００３２】例えば金属層が銅層である場合に、上記
の黒色層は、透明フィルムの表面にパラジウム（メッキ
触媒）を含む層を形成し、ついで銅メッキを行うことに
よって、上記層中のパラジウムを黒化させることにより
形成される。また、上記の黒色層は、透明フィルムの
片面への銅層の形成が銅箔を貼り付け、そして銅箔を水
酸化ナトリウムと次亜塩素酸ナトリウムとの混合液中に
浸漬させるブラックオキサイド処理によって銅箔の表面
層を黒化させることにより形成される。（工程(1) のエッチンレジストパターンの形成）まず、
凹版オフセット印刷法に使用する転写体および凹版につ
いて説明する。

【００３３】上記凹版オフセット印刷法に使用する転写
体としては、少なくともその表面がシリコーンゴムにて
形成されているものなら特に制限はなく、多孔質の弾性
層を有する一層または複数層の支持体上に、シリコーン
ゴムからなる表面ゴム層を設けたブランケットなどが使
用可能である。具体的に説明すると、上記転写体の形状
としては、シート状のブランケットを円筒状の胴（ロー
ラ）に巻き付けたもの、ローラ状のものなどがあげられ
る。また、印刷ずれの生じないものであれば、パット印
刷等に用いられる曲面状の弾性体や、その弾性体にシー
ト状のブランケットを取り付けたものなどであってもよ
い。

【００３４】転写体の表面をシリコーンゴムにて形成す
ると、凹版から受け取ったエッチングレジストインキを
ほぼ１００％、電磁波シールドパターン部の元になる金
属層表面に転写できるため、一回の印刷で十分な膜厚を
有するエッチングレジストパターンを形成することがで
きる。このシリコーンゴムとしては付加型、室温硬化型
（ＲＴＶ）型、電子線硬化型等の種々のものがあげられ
るが、硬化の際に副生成物を発生するおそれがない室温
硬化型（ＲＴＶ）型の付加型シリコームゴムが寸法精度
の面において優れており、好適に使用される。

【００３５】ゴムの硬度はエッチングレジストパターン
の印刷に影響を及ぼしており、硬度が高いとエッチング
レジストインキを受理する部分の変形量が減るため、凹
版の凹部内のインキを十分に転写できないおそれがあ
る。逆に、硬度が低いと変形量が大きくなり、高精度で
印刷ができなくなるおそれがある。そのため、ゴム硬度
は、ＪＩＳ−Ａ硬度で１０〜７０度であるのが好まし
く、２０〜６０度であるのがより好ましい。このゴムの
硬度を調整するために、例えばシリコーンオイルやシリ
コーンゲル等を適宜配合してもよい。

【００３６】また転写体の表面形状は、特に印刷パター
ンが微細になるほど印刷形状に大きく影響を及ぼすこと
から、表面粗さが１０点平均粗さで１．０μｍ以下であ
るのが好ましく、より好ましくは０．５μｍ以下であ
る。転写体の支持体としては、その表面が平坦なもので
あればよく、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリエステ
ル、ポリカーボネイト（ＰＣ）等のプラスチックや、ア
ルミニウム、ステンレス等の金属板などを使用すること
ができる。

【００３７】凹版オフセット印刷法に用いられる凹版と
しては、その表面が平滑性であるものなら特に制限はな
く、例えば基板の表面に電磁波シールドパターン部に対
応した凹部を形成した、平板状のものや、平板状のもの
を巻き付けたもの、円筒状のもの、あるいは円柱状のも
のがあげられる。中でも円筒状のものを使用すると輪転
印刷が可能になり、ロールトゥロールで生産することが
できる。また生産コストの低減を図ることができる。

【００３８】凹版の表面が平滑でないと、後述するドク
ターブレードによってかき取ることができず、残ったイ
ンキによって非画線部分に汚れが生じ、その汚れが次工
程でエッチングレジストとして機能して、電磁波シール
ドパターン部以外の必要としない部分に金属層が残って
しまうおそれがある。上記基板としては、例えばソーダ
ライムガラス、ノンアルカリガラス、石英、低アルカリ
ガラス、低膨張ガラス等のガラス板のほか、ステンレ
ス、銅、低膨張合金アンバー等の金属板など、従来公知
の種々のものを使用できる。中でも、安価で、かつパタ
ーンのエッジ形状を非常にシャープに形成することが可
能な、ソーダライムガラス等のガラス板を用いるのが特
に好ましい。

【００３９】凹版の凹部は、従来どおり、フォトリソグ
ラフィ法、エッチング法、電鋳法などによって形成する
ことができる。上記凹版の凹部の深さは、エッチングレ
ジストパターンの寸法および印刷後の膜厚により適宜選
択されるが、通常、エッチングレジストパターンのイン
キの層の厚みが乾燥後の厚さで１〜１００μｍ程度、好
ましくは２〜５０μｍ程度となるように、前記凹部の深
さを２〜２００μｍ程度、好ましくは４〜１００μｍ程
度の範囲に設定するのがよい。

【００４０】凹版の凹部の線幅および線間隔は、後述す
る電磁波シールドパターン部の形状に応じて適宜設定さ
れる。また、凹版の種類に応じて、導電性ペーストをか
き取るドクターブレードを凹版に有していてもよい。そ
の際ブレード刃としては、例えばステンレスなどの金属
や、ゴム、樹脂、セラミックなどが用いられる。

【００４１】また上記凹版の凹部表面には、凹版から転
写体への導電性ペーストの転移性を高めるために、被覆
層を形成しておくのが好ましい。被覆層を構成する材料
としては、付加型シリコーンゴムまたは紫外線硬化型シ
リコーンゴムなどが使用される。エッチングレジストパ
ターンの形成に使用するエッチングレジストインキとし
ては、後述するエッチング液に対して充分な耐薬品性を
有し、かつエッチング終了後に、アルカリ（例えば濃度
１〜３重量％の水酸化ナトリウム水溶液など）または有
機溶媒（例えばメタノール、アセトン、トルエンなど）
などによって簡単に除去できるものが好ましい。

【００４２】また、エッチングレジスト除去後は金属層
（例えば銅箔）の表面が剥き出しになるので、電磁波シ
ールド部材の反射を防止するために表面を意図的に酸化
させるなどして、表面の反射率を低下させておくのが好
ましい。エッチングレジストインキに使用し得る樹脂と
しては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、フェノール
樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリビニルブチ
ラール樹脂、あるいはエチルセルロース樹脂などがあげ
られ、とくにアクリル樹脂、またはフェノール樹脂が好
ましい。

【００４３】次に、エッチングレジストパターンを形成
する工程(1) を図面を用いて説明する。上記エッチング
レジストレジストパターンの形成は、例えば図２に示す
凹版オフセット印刷機によって、図３（ａ）〜（ｃ）に
示す工程を経て凹版から転写体へ、転写体から積層体の
金属層上へエッチングレジストインキが転写されること
により行われる。

【００４４】なお、図２に示す凹版オフセット印刷機
は、平板状の凹版を用いたオフセット印刷機の一例を示
すもので、図中の符号Ｂｋはその表面がシリコーンゴム
にて形成された、ローラ状の転写体（あるいはローラに
シート状にブランケットを捲き付けた転写体であっても
よい）、符号Ｍは金属層、符号２１は凹版、符号２２は
凹版の凹部、符号２３はドクターブレード、符号２は透
明フィルム、符号Ｌは透明フィルム２と金属層Ｍとの積
層体である。

【００４５】図３(a) に示すように、まず、電磁波シー
ルドパターン部のパターンに対応した凹版２１の凹部２
２に、必要な量のエッチングレジストインキＩをドクタ
ーブレード２３を用いて充填する。このエッチングレジ
ストインキＩの充填は、予め凹版２１の凹部２２に充分
なエッチングレジストインキＩを供給しておき、ドクタ
ーブレード２３によって余分なエッチングレジストイン
キＩを掻き取るようにすればよい。

【００４６】なお、凹版２１の凹部２２の表面には図示
していないが、インキの転移性を向上するため、表面自
由エネルギーが小さい被覆層を形成しておくのが好まし
い。かかる被覆層を構成する材料として、例えば付加型
シリコーンゴムまたは紫外線硬化型シリコーンゴムなど
が使用される。これらのシリコーンゴムは比較的薄い膜
厚であっても、凹版２１から転写体Ｂｋへのエッチング
レジストインキＩの転移性に優れている。

【００４７】次に、図３（ｂ）に示すように、転写体Ｂ
ｋを凹版２１に所定の圧力で押しつけながら図中の実線
の矢印方向に回転させ、凹版２１の凹部２２内のエッチ
ングレジストインキＩをインキの分断を発生させること
なく、転写体Ｂｋの周りに転移させる。その際、上記転
写体Ｂｋは凹版２１に通常０．１〜５ｋｇ／ｃｍ²、好
ましくは１〜２ｋｇ／ｃｍ²の範囲で押圧されているの
がよい。

【００４８】前述のように、本発明に使用する転写体Ｂ
ｋは、少なくともその表面がシリコーンゴムにて形成さ
れたものであり、かかる転写体Ｂｋは凹版２１から受け
取ったエッチングレジストインキＩをほぼ１００％、電
磁波シールドパターン部の元になる金属層Ｍの表面に転
写できるため、一回の印刷で十分な膜厚を有するインキ
膜を形成することができる。

【００４９】従って、本発明では、印刷精度を低下させ
る原因となるインキの分断は、凹版２１から転写体Ｂｋ
へエッチングレジストインキＩを転移する際の一回だけ
になるため、印刷の精度が非常に良好になり、パターン
の線幅が２０μｍ程度の微細なパターン印刷が可能とな
る。そして、図３（ｃ）に示すように、転写体Ｂｋを透
明フィルム２上の金属層Ｍの表面に所定の圧力で押しつ
けながら図中の実線の矢印方向に回転させ、転写体Ｂｋ
の周りに転移させたエッチングレジストインキＩを分断
させることなく完全に、金属層Ｍ上に転写させる。そし
て、金属層Ｍ上に、前記凹版２１の凹部２２のパター
ン、すなわち、電磁波シールドパターン部１０のパター
ンに対応するエッチングレジストパターンＰが印刷、形
成される。

【００５０】上記転写体Ｂｋは金属層Ｍに通常０．１〜
５ｋｇ／ｃｍ²、好ましくは１〜２ｋｇ／ｃｍ²の範囲
で押圧されているのがよい。金属層Ｍ上に印刷形成され
たエッチンレジストパターンＰのインキの層の厚みは、
通常１〜１００μｍ、好ましくは２〜５０μｍの範囲に
あるのがよい。そして、このインキの層は、通常６０〜
２００℃で１〜３０分間、好ましくは８０〜１５０℃で
５〜１０分間程度加熱して、硬化される。

【００５１】この例の製造方法によれば、製造コスト上
で問題となっていたフォトリソグラフ法に代えて、凹版
オフセット印刷法によるわずか一回の印刷によって、上
記フォトリソグラフ法によるものと同程度に高精度のエ
ッチンレジストの層を、電磁波シールドパターン部１０
の元になる金属層Ｍ上に形成することができる。従っ
て、透光性と電磁波の遮蔽効果との双方に優れた電磁波
シールド部材１を低コストでかつ簡易に製造でき、ひい
ては電磁波シールドパネルＡの低価格化を実現すること
ができる。

【００５２】本発明の構成は、以上で説明した例に限定
されず、例えば平板状の凹版に代えて、例えば図４に示
すように、円柱状の凹版を用いたオフセット印刷機によ
って、金属層Ｍ上にエッチングレジストインキＩを印刷
して、エッチングレジストパターンＰを形成してもよ
い。なお、この円柱状の凹版を用いたオフセット印刷機
は、円柱状の凹版２１の近傍には、この円柱状の凹版２
１と当接可能なようにローラからなる転写体Ｂｋが配置
されており、この転写体Ｂｋの近傍には金属層Ｍを積層
した透明フィルム２が配置されている。また上記円柱状
の凹版２１には凹部にエッチングレジストインキＩを充
填するドクターブレード２３が設けられており、このブ
レード２３はインキ溜を有している。図４中の符号２４
は厚胴であり、エッチングレジストインキＩの転写体Ｂ
ｋから金属層Ｍへの転写時の圧力を調節するためのもの
である。

【００５３】凹版２１からの転写体Ｂｋへの転移工程、
および転写体Ｂｋの表面から金属層Ｍの転写工程におけ
る印圧としては、とくに限定されないが、通常０．１〜
５ｋｇ／ｃｍ²程度で印刷すればよい。凹版２１から転
写体ＢｋへのエッチングレジストインキＩの転移速度
は、転写体ＢｋのエッチングレジストインキＩの転移性
を高めるという観点から、通常５〜３００ｍｍ／ｓｅｃ
前後に設定されるのがよい。

【００５４】また、転写体Ｂｋから金属層Ｍへのエッチ
ングレジストインキＩの転写速度は、通常５〜３００ｍ
ｍ／ｓｅｃ前後の範囲に設定されるのがよい。かかる条
件により、凹版２１の凹部２２内に充填されたエッチン
グレジストインキＩは、インキの分断を最小限に押えて
転写体Ｂｋに転移し、続いて転写体Ｂｋから透明フィル
ム２上の金属層Ｍの表面に良好に転写される。

【００５５】次に、上記工程(2) について説明する。エ
ッチングに使用するエッチング液としては、従来公知の
ものが使用可能で、例えば塩化第二鉄等の塩化鉄系や、
塩化銅系などがあげられる。エッチング処理の方法とし
ては従来公知の種々の方法が使用でき、例えば金属層Ｍ
上にエッチングレジストを形成させた透明フィルム２
を、５〜１００ｍｍ／秒程度の速度で移動させつつ、金
属層Ｍ表面にエッチング液を２〜５ｋｇ／ｃｍ ²程度の
圧力で吹きかける方法などがあげられる。

【００５６】このエッチング処理によって、図５(a) お
よび(b) に示すように、上記金属層Ｍのうち、エッチン
グパターンパターンＰが形成されていない部分の金属層
Ｍが除去して電磁波シールドパターン部１０に対応する
パターンを形成し、ついで、そのパターン上のエッチン
グレジストをアルカリ（例えば濃度１〜３重量％の水酸
化ナトリウム水溶液など）または有機溶媒（例えばメタ
ノール、アセトン、トルエンなど）などによって除去
し、洗浄、乾燥してやると、透明フィルム２の片面に電
磁波シールドパターン部１０を形成する透光性電磁波シ
ールド部材１が得られる。

【００５７】また、エッチングレジスト除去後は金属層
（例えば銅箔）の表面が剥き出しになるので、透光性電
磁波シールド部材１の反射を防止するために、層の表面
を意図的に酸化させるなどして、表面の反射率を低下さ
せるのが好ましい。すなわち、透光性電磁波シールド部
材１は外光の反射が低い黒色にするのが好ましい。さら
に、本発明においては、電磁波シールドパネルＡの物性
（透過率や視認性など）に悪影響を及ぼさない範囲であ
れば、エッチング後にレジストが残存していてもよい。
この場合、カーボンブラック（アセチレンブラック等の
良導電性カーボンブラックが好ましい）、有機黒色顔料
（ペリレン系ブラック等）、黒色染料（アニリンブラッ
ク等）などの黒色顔料をあらかじめエッチングレジスト
インキに配合しておくのが好ましい。

【００５８】本発明にかかる透光性電磁波シールドパネ
ルＡとしては、図１(a) に示すように、透明フィルム２
の片面に電磁波シールドパターン部１０を形成した透光
性電磁波シールド部材１と、透明基板５０とを透明粘着
層２５を介して貼り合わせたものが例示される。本発明
にかかる透光性電磁波シールドフィルムＢとしては、例
えば図１(b) に示すように、例えば透明フィルム２の電
磁波シールドパターン部１０を形成した面に、透明粘着
層２５を形成し、ついでその透明粘着層２５上に、剥離
が容易なフィルム７５を貼り合わせたものが例示され
る。（透光性電磁波シールド部材）透光性電磁波シールド部
材１における電磁波シールドパターン部１０のパターン
形状には、例えば図６に示すストライプ状のパターン１
１、図７および８に示す格子状のパターン１２，１３等
があげられる。

【００５９】電磁波シールドパターン部１０のパターン
形状は、上記ストライプ状および格子状のほかに、幾何
学模様であってもよい。すなわち、例えば正三角形、二
等辺三角形、直角三角形等の三角形；正方形、長方形、
ひし形、平行四辺形、台形等の四角形；（正）六角形、
（正）八角形、（正）十二角形、（正）二十角形等の
（正）Ｎ角形；円、楕円、星型等の種々の図形単位を繰
り返して得られる幾何学模様を電磁波シールドパターン
部１０としてもよい。かかる幾何学模様において、前記
図形単位は２種以上を組み合わせたものであってもよ
い。また、電磁波シールド部材の除電をスムーズに行う
観点から、幾何学模様中の各図形単位がそれぞれ連続し
ていることが好ましい。

【００６０】幾何学模様からなるパターン形状の具体例
としては、例えば図９に示すように円形模様（図９(a)
）、ひし形模様（図９(b) ）、正六角形模様（図９(c)
）などのパターンがあげられる。なお、図６〜９中に
おいて、ハッチングを施した部分は電磁波シールドパタ
ーン部１０を示し、ハッチングを施していない部分は電
磁波パターン部が形成されていない領域２０を示す。

【００６１】電磁波シールドパターン部１０を構成する
パターンの線幅Ｗｓ、線間隔Ｗｋ（隣合ったパターン部
１０間の間隔）および膜厚Ｗｔと、パターン部１０の全
面積Ｓｓとパターン部が形成されていない領域２０の全
面積Ｓｋとの比Ｓｋ／Ｓｓとは、それぞれ電磁波の遮蔽
効果を充分なものとすることができ、かつ電磁波シール
ド部材の透光性を確保するためにパターン部１０自体が
肉眼で認識できない範囲で設定される。

【００６２】電磁波シールドパターン部１０のパターン
形状が長方形の格子状である場合において、パターンの
線間隔ＷｋにはＷｋとＷｋ’の２種の間隔が存在する
が、この場合、線間隔ＷｋとＷｋ’とのそれぞれが後述
する所定の範囲内にあるのが好ましい。なお、電磁波シ
ールドパターン部１０のパターン形状が幾何学模様であ
る場合において、線幅Ｗｓとは、幾何学模様を構成する
１ユニット(すなわち、三角形、四角形、Ｎ角形、円、
楕円等の構成単位)の幅をいう。線間隔Ｗｋとはユニッ
ト間の距離をいい、１ユニットの面積の平方根(すなわ
ち、１ユニットを正方形と擬制したときの１辺の長さ)
を求め、隣接するユニットとの中心位置での距離から前
記平方根を引いた値をユニット間の距離とする。

【００６３】本発明において、電磁波シールドパターン
部１０のパターン形状は、電磁波シールドパターン部１
０の全面積Ｓｓと、透明フィルムの表面のうち電磁波シ
ールドパターン部１０が形成されていない領域２０の全
面積Ｓｋとの比Ｓｋ／Ｓｓが式(1) ：１≦Ｓｋ／Ｓｓ≦９．０なる関係を満たし、かつパターンの線幅Ｗｓが５〜４０
μｍ、好ましくは５〜２５μｍで、膜厚Ｗｔが０．５〜
５０μｍとなるように設定するのが好ましい。

【００６４】パターンの膜厚Ｗｔが０．５μｍを下回る
と、断線が発生しやすくなるとともに、良好な導電性も
得られず、電磁波の効果の低下につながる。また、機械
的強度が劣り、電磁波シールドパネルとして用いた場合
に電磁波シールドパターン部１０が剥がれるおそれがあ
る。逆に、膜厚Ｗｔが５０μｍを超えると、電磁波シー
ルド部材を見る角度（視野角）によって画面の明るさ
（開口率として以下に後述する）が変わるおそれがあ
る。

【００６５】膜厚Ｗｔは上記範囲の中でも特に１〜３０
μｍであるのが好ましく、２〜１５μｍであるのがより
好ましく、さらに好ましくは２〜１０μｍの範囲にある
のがよい。また、上記比Ｓｋ／Ｓｓが１を下回ると透光
性が不十分になるおそれがある。逆に、比Ｓｋ／Ｓｓが
９．０を超えると電磁波の遮蔽効果が不十分になるおそ
れがある。比Ｓｋ／Ｓｓは上記範囲の中でも特に１〜５
であるのが好ましく、１〜３であるのがより好ましい。

【００６６】パターンの線幅Ｗｓが５μｍを下回るよう
に形成するのは困難であり、断線が生じやすくなるた
め、電磁波の遮蔽効果の低下につながる。逆に、線幅Ｗ
ｓが４０μｍを超えると、充分な電磁波の遮蔽効果と良
好な開口率Ｐ（画面の明るさを表す指標である）とを両
立することができないおそれがある。この開口率Ｐと
は、下記式(2) ：

【００６７】

【数１】Ｐ＝１００Ｓｋ／（Ｓｓ＋Ｓｋ）（式中、Ｓｓは電磁波シールドパターン部１０の全面
積、Ｓｋは電磁波シールドパターン部が形成されていな
い領域２０の全面積、Ｐは開口率を示す。）によって算
出されるもので、この開口率Ｐの値が高ければ高いほ
ど、電磁波シールド部材の光の透過性が高くなり、ディ
スプレイの表示画面が明るくなるが、その反面、電磁波
の遮蔽性能は低下し、充分な電磁波の遮蔽効果が電磁波
シールド部材に付与されなくなる。

【００６８】そこで本発明では、電磁波シールドパネル
における電磁波の遮蔽効果と開口率Ｐとの兼ね合いを考
慮して、ＫＥＣ（関西電子工業振興センター）法に基づ
いて測定した周波数１〜１０００ＭＨｚにおける減衰率
が６０ｄＢ以上であるとともに、上記開口率Ｐが５０〜
９０％の範囲にあるような電磁波シールドパターン部１
０のパターン形状を印刷形成するのがよい。

【００６９】また、電磁波シールドパターン部１０のパ
ターン形状がストライプ状または格子状の場合には、上
記開口率Ｐは前記式(2) の他に、式(3) ：

【００７０】

【数２】開口率Ｐ（％）＝（Ｗｋ／Ｗｋ＋Ｗｓ）²×１００（式中、Ｗｓはパターンの線幅、Ｗｋはパターンの線間
隔を示す。）によって算出することができる。次に、上
記工程(3) について説明する。

【００７１】透明粘着層２５としては、本発明に係る透
光性シールドパネルなどに用いる点を考慮すれば、可視
光領域（４００〜７００ｎｍ）で９０％以上の透過率を
有するとともに、ディスプレイパネルまたは透明基板５
０に対してＪＩＳＺ０２３７^-1991に規定される粘
着性が０．３ｋｇ／ｃｍ以上であり、かつ、優れた耐光
性を有するものが好ましく、かかる透明粘着層２５の形
成には、アクリル系の粘着剤が使用される。

【００７２】透明粘着層２５の形成は、例えば上記粘着
剤を原液のまま、あるいは粘度が高い場合には適宜溶媒
にて希釈し、透明フィルムの表面の、電磁波シールドパ
ターン部を形成した面またはそ反対の面上にロールコー
タ法などの従来公知の方法によって一回ないし数回塗布
することにより行われる。とりわけ、電磁波シールドパ
ターン部１０を形成した面に透明粘着層２５を形成した
場合には、電磁波シールドパネルとして使用したときに
使用者が電磁波シールドパターン部に触れることがない
ため、長期にわたって優れた電磁波の遮蔽効果を維持す
ることができる。

【００７３】透明粘着層２５の厚みは、乾燥後の厚みで
通常０．５〜５０μｍ、好ましくは１〜２０μｍ程度で
あるのがよい。本発明にかかる透光性電磁波シールドフ
ィルムＢには、必要に応じて上記透明粘着層２５上に剥
離が容易なフィルム７５を貼り合わせていてもよい。こ
のような形態によって使用時までの保存性を高めること
ができる。

【００７４】上記剥離が容易なフィルム７５としては、
例えばグラシン紙、セロハンフィルム、アセテートフィ
ルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレフィルムな
どの従来公知のフィルムを使用することができる。透明
粘着層２５からの剥離をより容易にするために、フィル
ムの片面または両面をシリコーン樹脂などで離型処理す
るのが好ましい。

【００７５】次に、上記工程(4) について説明する。透
明基板５０としては、例えばガラス板または樹脂シート
があげられ、とりわけ透明性の高い樹脂シートが使用さ
れる。具体的には、アクリル樹脂、ポリカーボネート、
ポリエチレン、酢酸ビニル樹脂、ポリスチレン、ポリプ
ロピレン、ポリエステル、ポリスルホン、ポリエーテル
スルホン、ポリ塩化ビニル、オレフィン・マレイミド共
重合体、ノルボルネン系樹脂等からなる樹脂シートがあ
げられる。

【００７６】透光性電磁波シールドパネルＡは、上記工
程(3) で形成した透明粘着層２５上に透明基板５０を貼
り合わせるか、あるいはテレビ等のディスプレイパネル
に直接貼付することにより作製される。上記透明基板を
貼り合わせて作製した透光性電磁波シールドパネルＡ
は、ディスプレイパネルに貼付するか、あるいは装着す
ることにより使用される。

【００７７】本発明の製造方法によれば、所定のディス
プレイの大きさに対応した透明フィルム２を準備し、そ
の透明フィルム２上に、上述した工程(1) 〜(4) を経て
簡易に、かつ安価に製造することができる。例えば、大
型テレビのＰＤＰ用の透光性電磁波シールドパネルを製
造する場合には、ＰＤＰの大きさに対応した透明フィル
ム２を準備し、その透明フィルム２上に、上述した工程
(1) 〜(4) の作業を経て電磁波シールドパターン部、透
明粘着層を形成すればよい。

【００７８】

〔透光性電磁波シールドパネルの製造〕

実施例１上記の凹版と転写体とを、凹版オフセット印刷機〔住友
ゴム工業（株）製〕に使用して、凹版オフセット印刷法
により、前記透明フィルム表面の金属層上にエッチング
レジストインキを印刷して、凹版の凹部に対応した、す
なわち電磁波シールドパターン部のパターンに対応し
た、線幅２０μｍ、ピッチ間隔１２０μｍで、かつ格子
部分が正方形である格子状パターンのエッチングレジス
トパターンを形成した。

【００７９】こうして得られたエッチングレジストパタ
ーンを、クリーンオーブン中にて１００℃で２０分加熱
して硬化させた後、エッチングレジストパターンが形成
されていない剥き出しになっている金属層部分（非画線
部）を、シャワー噴霧式のエッチング装置〔ヨシタニ社
製，ＥＸ−４０Ｅ〕を用いて、下記の条件にてエッチン
グ処理して、線幅１０μｍ、線間隔１２０μｍ、厚み１
０μｍで、かつ格子部分が正方形である格子状パターン
の電磁波シールドパターン部を有する透光性電磁波シー
ルド部材を得た。（エッチング条件）・エッチング液：塩化第二鉄溶液（濃度４２°Ｂｅ，液
温４０℃）・シャワー噴霧量：１．５ｋｇ／ｃｍ² ・処理時間：１分間ついで、上記得られた電磁波シールド部材の電磁波シー
ルドパターン部上に、粘着材としてのアクリル系粘着剤
〔第日本インキ工業（株）製のファインタック〕をロー
ルコータにて塗布し、厚み約３０μｍの透明粘着層を形
成して、電磁波シールドフィルムを得た。

【００８０】そして、上記電磁波シールドフィルムの透
明粘着層上にガラス板を貼り合わせて電磁波シールドパ
ネルを得た。実施例２〜６、９線幅およびピッチ間隔を適宜変更して、下記表１および
２に示す印刷仕様（厚み、線幅、線間隔）の電磁波シー
ルドパターン部のパターンを形成した以外は実施例１と
同様にして、電磁波シールドパターン部材および透明粘
着層を形成し、電磁波シールドパネルを得た。実施例７透明フィルムとしてＰＥＴフィルムに代えてポリカーボ
ネイトフィルムを使用し、また透明基板としてガラス板
に代えて透明アクリル樹脂シートを使用した以外は実施
例１と同様にして、電磁波シールドパターン部材および
透明粘着層を形成し、電磁波シールドパネルを得た。実施例８透明フィルムとして、ＰＥＴフィルムに代えて近赤外線
（ＩＲ）カットＰＥＴフィルムを用いた以外は実施例１
と同様にして、電磁波シールドパターン部材および透明
粘着層を形成し、電磁波シールドパネルを得た。比較例１凹版オフセット印刷法に代えてスクリーン印刷法にして
線幅１１０μｍ、ピッチ間隔１１００μｍで格子状のエ
ッチングレジストパターンを形成した以外は実施例１と
同様にして、電磁波シールドパターン部材および透明粘
着層を形成し、電磁波シールドパネルを得た。比較例２シリコーンブランケットに代えて、ＮＢＲブラッケット
を用いた以外は実施例１と同様にして下記表１に示す線
幅Ｗｓ、線間隔Ｗｋおよび膜厚Ｗｔの電磁波シールドパ
ターン部材および透明粘着層を形成し、電磁波シールド
パネルを得た。

【００８１】なお上記ＮＢＲブランケットは、比較例２
には、表面がアクリロニトリル−ブタジエンゴム（ＮＢ
Ｒ、ＪＩＳＡ硬度４０、表面の十点平均粗さ４μｍ、
表面エネルギー３７ｄｙｎ／ｃｍ）である。比較例３凹版オフセット印刷法に代えてフォトリソグラフ法によ
って、実施例１と同様の電磁波シールドパターン部材
（但し、厚みは１８μｍ）および透明粘着層を形成し、
電磁波シールドパネルを得た。

【００８２】すなわち、透明フィルムの銅層表面の全面
に、スピンコータを用いて感光性のエッチングレジスト
インキ〔紫外線硬化型，太陽インキ社製の商品名ＰＥＲ
−２０Ｋ２７〕を塗布した後、電磁波シールドパター
ン部のパターンが形成されたマスクをかぶせた。つい
で、マスク越しにその背後から紫外線を露光してエッチ
ングレジストを硬化させパターニングし、アルカリ系の
現像液で現像して、電磁波シールドパターン部以外の部
分を除去して、線幅１０μｍ、線間隔１１０μｍである
電磁波シールドパターン部を有する電磁波シールド部材
を得た。

【００８３】そして、実施例１と同様にして電磁波シー
ルド部材の電磁波シールドパターン部上に透明粘着層を
形成し、その透明粘着層上に透明基板を貼り合わせるこ
とにより、電磁波シールドパネルを得た。〔透光性電磁波シールド部材の物性評価〕上記実施例お
よび比較例で得られた透光性電磁波シールドパネルにつ
いて、以下の物性を評価した。（電磁波の遮蔽性）「ノイズ対策シールド材料と手法
測定・分析から対策実例まで」第２版（住友スリーエ
ムノイズ対策研究会著）、１６０〜１６１頁に記載の
ＫＥＣ（関西電子工業振興センター）法に準拠して、周
波数１ＭＨｚ〜１０ＧＨｚの電磁波を照射し、電磁波の
減衰率を算出し、１ＧＨｚの電磁波における減衰率（ｄ
Ｂ）を透光性電磁波シールド部材の電磁波の遮蔽効果と
した。

【００８４】電磁波の遮蔽効果は減衰率（ｄＢ）が大き
いほど優れていることを示す。評価の基準は以下のとお
りである。 ◎：６０ｄＢ以上、電磁波の遮蔽効果が極めて良好であ
った。 ○：５０ｄＢ以上６０ｄＢ未満、電磁波の遮蔽効果が良
好であった。 △：４０ｄＢ以上５０ｄＢ未満、電磁波の遮蔽効果が実
用上不十分であった。

【００８５】 ×：２０ｄＢ以上４０ｄＢ未満、電磁波の遮蔽効果が不
十分であった。 ××：０ｄＢ〜２０ｄＢ未満、電磁波の遮蔽効果が極め
て不十分であった。（透光性の評価）分光顕微鏡（大塚電子（株）製の「Ｍ
ＣＰＤ２０００」）にて、波長４００〜７００ｎｍの光
（可視光線）の透過率（％）を測定し、その平均値から
透光性の評価を行った。透過率が大きいほど透光性が優
れていることを示す。

【００８６】 ◎：９０％以上、透光性が極めて良好であった。 ○：８０％以上９０％未満、透光性が良好であった。 △：７０％以上８０％未満、透光性が実用上不十分であ
った。 ×：５０％以上７０％未満、透光性が不十分であった。 ××：５０％未満、透光性が極めて不十分であった。（開口率の測定）前記式(3) ：

【００８７】

【数３】開口率Ｐ（％）＝（Ｗｋ／Ｗｋ＋Ｗｓ）²×１００（式中、Ｗｓ、Ｗｋは前記と同じである。）によって開
口率Ｐ（％）を算出した。前述したように、この開口率
Ｐの値が高ければ高いほど、ディスプレイの表示画面が
明るくなるが、その反面、電磁波の遮蔽効果は低下する
ことから、両者を両立するために、周波数１ＭＨｚ〜１
０００ＭＨｚの電磁波を照射したときに、電磁波の減衰
率が５０ｄＢ以上で、かつ開口率５０％以上であれば、
両者の特性はともに良好であると評価した。（視認性の評価）透光性電磁波シールドパネルをＰＤＰ
画面の最前面に張り付けて、目視観察を行い、以下の基
準で評価した。

【００８８】 ○：電磁波シールドパターン部に全くムラやメッシュ等
が確認されない。 △：電磁波シールドパターン部にかすかにムラやメッシ
ュ等が確認された。 ×：電磁波シールドパターン部の全面にわたりムラやメ
ッシュ等が確認された。（製造コストの比較）実施例１〜９における透光性電磁
波シールドパネルの製造に要したコストを１として、比
較例１〜３における透光性電磁波シールドパネルの製造
コストの比を求めた。

【００８９】各実施例および比較例の電磁波シールドパ
ネルの各物性の評価結果を、透明フィルムの種類、エッ
チングレジストパターンの形成方法、そのパターンの印
刷仕様（線幅Ｗｓ、線間隔Ｗｋ、膜厚Ｗｔ）およびＳｋ
／Ｓｓの値とともに表１および２に示す。

【００９０】

【表１】

【００９１】

【表２】

【００９２】表１および２から明らかなように、シリコ
ーンブランケットを用いた凹版オフセット印刷法にて製
造した実施例１〜９の電磁波シールドパネルは、電磁波
シールドパターン部の線幅Ｗｓが５０μｍ以下と微細な
パターンによって印刷形成されているとともに、透光性
と電磁波の遮蔽効果とがともに優れ、製造コストをも低
く抑えることができた。

【００９３】また、実施例１〜９の電磁波シールドパネ
ルは、電磁波シールドパターン部の線幅Ｗｓ、膜厚Ｗｔ
およびＳｋ／Ｓｓ比が前述した所定の範囲内にあるの
で、視認性と視野角（開口率５０％以上）とを損なうこ
となく、透光性と電磁波の遮蔽効果とがともに優れてお
り、両者を両立することができるとともに、製造コスト
を低く抑えることもできた。

【００９４】これに対し、スクリーン印刷法を用いた比
較例１では、微細なパターンを高い精度で印刷形成する
ことができず、電磁波の遮蔽性や視認性の評価に問題が
生じた。また、ＮＢＲブランケットを用いた比較例２で
は、エッチングレジストインキの転移量が少ないために
エッチングレジストパターンにピンホールが多発する結
果、得られる電磁波シールドパターン部に断線個所が発
生して、電磁波の遮蔽性および視認性の評価に問題が生
じた。

【００９５】さらに、フォトリソグラフ法によって電磁
波シールドパターン部を形成した比較例３では、電磁波
シールドパターン部の各物性が良好で、かつ微細なパタ
ーンを形成できるものの、製造コストが凹版オフセット
印刷法に比べて極めて高いという問題が生じた。

【００９６】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明の製造方法
によれば、透光性と電磁波の遮蔽効果とに優れた電磁波
シールドフィルムおよび電磁波シールドパネルを簡易に
かつ低コストで製造することができる。従って、本発明
の製造方法は、パソコン等のディスプレイ用をはじめ、
ＰＤＰ等の大型画面用の電磁波シールドパネルの製造方
法としても好適である。

【図面の簡単な説明】

【図１】同図(a) は透光性電磁波シールドパネルＡを示
す斜視図と、そのＺ−Ｚ部分拡大断面図とである。同図
(b) は透光性電磁波シールドフィルムＢの拡大断面図で
ある。

【図２】平板状の凹版を用いたオフセット印刷機を示す
説明図である。

【図３】図２の凹版オフセット印刷機によってエッチン
グレジストインキを透明フィルムの金属層上に印刷し
て、電磁波シールドパターン部のパターンに対応するエ
ッチングレジストパターンを形成する工程を示す説明図
である。

【図４】円筒状の凹版を用いた凹版オフセット印刷法に
よってエッチングレジストインキを透明フィルムの金属
層上に印刷して、電磁波シールドパターン部のパターン
に対応するエッチングレジストパターンを形成する工程
を示す説明図である。

【図５】エッチングレジストパターンの断面図と、電磁
波シールドパターン部のパターンを示す断面図とであ
る。

【図６】ストライプ状パターンの一例を示す模式図であ
る。

【図７】格子状パターンの一例を示す模式図である。

【図８】格子状パターンの他の例を示す模式図である。

【図９】同図(a) 〜(c) は、幾何学模様からなるパター
ンの一例を示す模式図である。

【符号の説明】

Ａ透光性電磁波シールドパネルＢ透光性電磁波シールドフィルムＭ金属層２透明フィルムＬ透明フィルムと金属層との積層体ＩエッチングレジストインキＰエッチングレジストパターン１透光性電磁シールド部材Ｂｋ転写体１０電磁波シールドパターン部２５透明粘着層５０透明基板Ｗｓ線幅Ｗｔ膜厚

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 4F100 AB01B AB17 AG00 AK42 AR00A AR00C AR00D BA02 BA03 BA04 BA07 BA10B BA10C BA10D DC11B DC21B EH712 EJ15B EJ152 GB41 JD08 JD08B JL13C JN01A JN01D YY00B 5E321 AA04 BB21 BB23 CC16 GG05 GH01

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】(1) 少なくともその表面がシリコーンゴム
からなる転写体を用いた凹版オフセット印刷法によっ
て、透明フィルムと金属層との積層体の金属層の表面
に、エッチングレジストインキを印刷して、電磁波シー
ルドパターン部のパターンに対応するエッチングレジス
トパターンを形成する工程と、(2) エッチングレジスト
パターンが形成されていない部分の金属層をエッチング
によって除去し、透明フィルムの片面に所定の電磁波シ
ールドパターン部を形成して、透光性電磁波シールド部
材を得る工程と、(3) 上記透明フィルムの、電磁波シー
ルドパターン部を形成した面またはその反対の面に、透
明粘着層を形成する工程と、を含むことを特徴とする透
光性電磁波シールドフィルムの製造方法。
【請求項２】パターンの線幅が５〜４０μｍで、膜厚が
０．５〜５０μｍであり、かつ電磁波シールドパターン
部の全面積Ｓｓと、透明フィルム上における電磁波シー
ルドパターン部が形成されていない領域の全面積Ｓｋと
が、式(1) ：１≦Ｓｋ／Ｓｓ≦９．０ …(1) なる関係を満たすように上記電磁波シールドパターン部
を形成する、請求項１記載の透光性電磁波シールドフィ
ルムの製造方法。
【請求項３】(1) 少なくともその表面がシリコーンゴム
からなる転写体を用いた凹版オフセット印刷法によっ
て、透明フィルムと金属層との積層体の金属層の表面
に、エッチングレジストインキを印刷して、電磁波シー
ルドパターン部のパターンに対応するエッチングレジス
トパターンを形成する工程と、(2) エッチングレジスト
パターンが形成されていない部分の金属層をエッチング
によって除去し、透明フィルムの片面に所定の電磁波シ
ールドパターン部を形成して、透光性電磁波シールド部
材を得る工程と、(3) 上記透明フィルムの、電磁波シー
ルドパターン部を形成した面またはその反対の面に、透
明粘着層を形成して、透光性電磁波シールドフィルムを
得る工程と、(4) 上記透明粘着層上にディスプレイパネ
ルまたは透明基板を貼り合わせる工程とを含むことを特
徴とする透光性電磁波シールドパネルの製造方法。
【請求項４】パターンの線幅が５〜４０μｍで、膜厚が
０．５〜５０μｍであり、かつ電磁波シールドパターン
部の全面積Ｓｓと、透明フィルム上における電磁波シー
ルドパターン部が形成されていない領域の全面積Ｓｋと
が、式(1) ：１≦Ｓｋ／Ｓｓ≦９．０ …(1) なる関係を満たすように上記電磁波シールドパターン部
を形成する、請求項３記載の透光性電磁波シールドパネ
ルの製造方法。