JP6143797B2 - タッチセンサ電極用のメッシュパターン - Google Patents
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Description
本出願は、その開示内容の全体を本明細書に援用する米国特許仮出願第61/597572(2012年2月10日出願)の利益を主張するものである。
1.レーザー硬化マスキング(金属フィルム上のマスク層の硬化、及び次にエッチング)
2.(マスキング材料又は続く金属めっきのための種材料の)インクジェット印刷
3.(続く金属めっきのための種材料の)グラビア印刷
4.微小複製(基材中に微小溝を形成し、次に導電性材料又は続く金属めっきのための種材料を充填する)、又は
5.マイクロコンタクト印刷(基材表面上の自己組織化単分子膜(SAM)パターンのスタンピング又は輪転印刷)。
1.基材が金属でめっきされる(例えば、銀又は銅が、ガラス又はPETフィルムにスパッタコーティングされる)。
2.紫外線硬化性マスキングインクが、めっきされた基材に均一にコーティングされる(例えば、スピンコーティング、及びディップコーティング)。
3.レーザーは印刷されたインクの一部を硬化して、タッチセンサの活性領域に微小導電体電極を形成し、また、電極をコネクタパッドに相互接続させる(より幅広い)線を硬化してもよい(レーザーのビーム幅は、フォトマスクによって減少させてもよい)。
4.未硬化インクが除去される(洗い落とされる)。
5.マスキングインクの下のパターンを除いて、基材にめっきされた金属がエッチングにより除去される。
1.種インク66が、基材67にインクジェット印刷される。
2.レーザー65は印刷されたインクの一部を硬化してタッチセンサの活性領域に微小導電体電極68を形成し、また、電極をコネクタパッドに相互接続させる(より幅広い)線を硬化してもよい(レーザーのビーム幅は、フォトマスクによって減少させてもよい)。
3.未硬化インクが除去される(洗い落とされる)。
4.種インクの硬化パターンは、無電解めっきされる(導電性金属で)。
1.基材が金属でコーティングされる(例えば、銀又は銅が、ガラス又はPETフィルムにスパッタコーティング又はめっきされる)。
2.自己組織化単分子膜のマスキングが、めっきされた基材にスタンピングされる。
3.マスキングの下のパターンを除いて、基材にコーティングされた金属がエッチングにより除去される。
1.電極の相互接続子との位置合わせは自動的であり、かつ非常に正確である。
2.相互接続子を、他の相互接続印刷プロセス(例えば、導電性インクのシルクスクリーン印刷)の場合よりも、遥かに細かくより狭い間隔で印刷することができる。
3.相互接続子の厚さ(基材の平面と垂直)は、従来の相互接続印刷プロセス(例えば、導電性インクのシルクスクリーン印刷)におけるよりも遥かに薄い。厚い相互接続子は、積層された層の間に可視の空隙を生じ、これは、積層された層の間の密封を弱める場合がある。
以下の記載による薄膜金の微小パターンが、無色のガラスの薄いシート(およそ1ミリメートルの厚さ)上に堆積される。微小パターン240が、図11及び図12に描かれている。金層の厚さ又は高さは、約100ナノメートルである。微小パターン240は、水平の細いトレース242を含む一連の水平(x軸)メッシュバー241を伴い、トレース242は、幅がおよそ2マイクロメートルである。これらの水平メッシュトレース242の4本が、より大きな構造の接触パッド260と電気通信している。メッシュバーは、およそ6ミリメートルの幅である。したがって、13本の等間隔なトレース244が、6ミリメートルの幅(y軸)を横断し、13本の等間隔なトレース242が6ミリメートルの長さ(x軸)を横断し、トレースの正方形グリッドのピッチは500マイクロメートルである。図12に描かれているように、いくつかのトレースは、およそ25マイクロメートル(場所の特定の容易化のために、図では誇張されている)の断絶部250を有する。500マイクロメートルピッチにおける、2マイクロメートル幅の不透明トレースを有する正方形グリッドでは、不透明トレースの空間占有率は、0.80%であり、したがって、99.20%の開放面積をもたらす。同じ正方形グリッドであるが、500マイクロメートル毎に25マイクロメートルの断絶部を有するものでは、空間占有率は0.78%であり、したがって、99.22%の開放面積をもたらす。したがって、この設計は、99.22%の開放面積を有する1mm×6mm区域、及び99.20%の開放面積を有する6mm×6mm区域を含む。メッシュを有するガラス物品の平均可視透過率は、およそ0.92×0.992=91%である(0.92という係数は、パターンの導電体が堆積されていない領域における光透過率の界面反射損失に関連する)。水平バー方向に沿って、4本の金のトレースによって互いに接続された、一連の完全なグリッド区域が存在する。スパッタ薄膜金に関し、5E−06Ωcmの有効バルク抵抗値を想定すると、2マイクロメートル幅、500マイクロメートル長の薄膜金の区分は、およそ125Ωの抵抗を有する。完成したグリッドを有する区域は、バーの方向に電流が流れるために、およそ115Ω/スクエアの有効面抵抗を有する。完成したグリッドを有する区域を接続する4本のトレースは、区域間において、およそ62.5Ωの抵抗を生じる。導電トレース要素の上記の配置は、図13にプロットされるように、バー方向に沿って、空間的に異なる単位長さ当たりの抵抗を生じる。図14は、水平メッシュバーの配列の、同等の回路を例示する。回路は、レジスタによって接続される、一連のプレートを有する。
以下の記載による薄膜金の微小パターンが、無色のガラスの薄いシート(およそ1ミリメートルの厚さ)上に堆積される。微小パターン340が、図15に描かれている。金の厚さは、約100ナノメートルである。微小パターン340は、一連の交互配置された楔形又は三角形の形状の透明導電性区域を有する。各楔形は、細い金属のトレース342、344で作製されるメッシュからなり、トレース342、344(図15a〜15c参照)は、およそ2マイクロメートルの幅である。メッシュの楔形は、その底辺においておよそ1センチメートルの幅であり、長さはおよそ6センチメートルである。トレース342、344の正方形グリッドのピッチは、500マイクロメートルである。楔形内のメッシュの選択される区域(図15a〜図15b参照)内において、およそ25マイクロメートル長の断絶部350が、楔形内の局部的面抵抗(その長軸に沿って通過する電流のため)に影響を与えるように、意図的に設置される。図15a及び図15bに描かれているように、区域15a、及び15b(図15では、区域はおよそ1センチメートルで分離している)、断絶部350は、長軸方向において、面抵抗を1.2倍超増加させるメッシュに含まれる。全体的な設計はまた、区域15c(図15cに描かれている)を含み、これは、区域15a及び15bから、電気的に絶縁され、離間しており、また区域15a及び15bのものよりも低い面抵抗値のメッシュを有する。メッシュ区域15cは、99.20%の開放面積を有し、一方でメッシュ区域15a及び15bは、それぞれ、99.20%及び99.21%の開放面積率を有する。全体的な設計はまた、区域15a、15b、及び15cよりも大きなピッチのメッシュを有するが、同じ幅のトレースを有する、区域15d及び15e(図15d及び15eに描かれている)を含み、より高い面抵抗及び可視光線透過率をもたらす。
タッチスクリーンセンサのための透明センサ要素400が、図17に例示される。センサ要素400は、互いに積層され、明確にするために図17では分離されて描かれている、パターン化された2つの導電層410、414(例えば、X軸層、及びY軸層)、光学的に透明な2つの接着剤層412、416、及び基部プレート418を含む。層410及び414は、透明導電メッシュバーを含み、ここで一方の層はx軸方向に配向され、他方の層はy軸方向に配向されている(図2参照)。基部プレート418は、面積が6センチメートル×6センチメートル、厚さが1ミリメートルのサイズのガラスのシートである。好適な、光学的に透明な接着剤は、3M Company,St.Paul,Minnesotaからの、Optically Clear Laminating Adhesive 8141である。X層及びY層のそれぞれに関し、金属の微小パターンを有する透明なポリマーフィルムが使用される。以下の記載による薄膜金の微小パターンが、PETの薄いシート上に堆積される。好適なPET基材としては、厚さおよそ125マイクロメートルの、DuPont,Wilmington,DelawareからのST504 PETが挙げられる。
タッチスクリーンセンサのための透明センサ要素が記載される。図17に描かれているように、センサ要素は、パターン化された2つの導電層、光学的に透明な2つの接着剤層、及び基部プレートを含む。基部プレートは、図17に描かれるように互いに積層される、面積が6センチメートル×6センチメートル、かつ厚さが1ミリメートルである、ガラスのシートである。好適な、光学的に透明な接着剤は、3M Companyからの、Optically Clear Laminating Adhesive 8141である。X層及びY層のそれぞれに関し、金属の微小パターンを有する透明なポリマーフィルムが使用される。以下の記載による薄膜金の微小パターンが、PETの薄いシート上に堆積される。好適なPET基材としては、サイズが厚さおよそ125マイクロメートルの、DuPontからのST504 PETが挙げられる。
タッチスクリーンセンサのための透明センサ要素が記載される。図17に描かれているように、センサ要素は、パターン化された2つの導電層、光学的に透明な2つの接着剤層、及び基部プレートを含む。基部プレートは、図17に描かれるように互いに積層される、面積が6センチメートル×6センチメートル、かつ厚さが1ミリメートルである、ガラスのシートである。好適な、光学的に透明な接着剤は、3M Companyからの、Optically Clear Laminating Adhesive 8141である。X層及びY層のそれぞれに関し、金属の微小パターンを有する透明なポリマーフィルムが使用される。以下の記載による薄膜金の微小パターンが、PETの薄いシート上に堆積される。好適なPET基材としては、厚さおよそ125マイクロメートルのサイズの、DuPontからのST504 PETが挙げられる。
ポリマーフィルム基材、ポリエチレンテレフタレート(PET)(ST504、デラウェア州ウィルミントンのE.I.DuPond de Nemours and Company)を提供した。ST504 PETフィルムの光学的特性が、Haze−Gardによって決定された。ヘイズ及び透過率は、それぞれ、およそ0.67%及び92.9%であった。
エラストマースタンプを成形するための、2つの異なるマスターツールが、フォトリソグラフィーを使用して、10センチメートル直径シリコンウェハ上にフォトレジスト(Shipley1818、Haas Company,Philadelphia,Pennsylvania)のパターンを調製することによって、製造された。異なるマスターツールは、本明細書において「六角形(Hex)」及び「正方形」と称される、2つの異なるメッシュ形状に基づいていた。六角形とは、規則的な六角形の形状を有する囲まれた領域を画定する線のネットワークを含むパターンを指す。正方形とは、正方形の形状を有する囲まれた領域を画定する線のネットワークを含むパターンを指す。エラストマースタンプは、未硬化ポリジメチルシロキサン(PDMS、SylgardTM 184、SylgardTM 184,Dow Corning,Midland Michigan)をツールにおよそ3.0ミリメートルの厚さまで注ぐことによって、マスターツールに対して成形された。マスターと接触した未硬化シリコーンは、真空に曝露することによって脱気し、その後70℃で2時間硬化させた。マスターツールから剥いだ後、PDMSスタンプには、およそ1.8マイクロメートルの高さで隆起した形状を含むレリーフパターンが付与された。六角形メッシュ及び正方形メッシュの両方に関して、隆起した形状は、上記の対応するメッシュ形状を画定する線であった。
スタンプは、その裏側(レリーフパターンのない平坦な表面)を、エタノール中のオクタデシルチオール(「ODT」O0005、TCI AMERICA,Wellesley Hills,MassachusettsのTCI AMERICA)の溶液に20時間接触させることによってインクを付された。ODT溶液10mMを正方形メッシュパターンのスタンプに使用し、ODT溶液5mMを六角形メッシュパターンのスタンプに使用した。
金属化ポリマーフィルム基材が、上記のインクを付されたスタンプでスタンピングされた。スタンピングでは、最初にフィルムサンプルの縁部をスタンプ表面に接触させ、次に直径およそ3.0センチメートルのフォームローラーを使用して、フィルムをローラーでスタンプ全体に接触させることにより、金属化されたフィルムを、上を向いたスタンプのレリーフパターン化された表面に接触させた。ローリング工程は、実行に1秒未満を必要とした。ローリング工程の後に、基材をスタンプと10秒間接触させた。次に、基材がスタンプから剥がされ、工程は1秒未満を必要とした。
スタンピングの後、印刷されたパターンを有する金属化フィルム基材が、選択的エッチング及び金属パターン化のために、エッチング溶液に浸漬された。金薄膜を有する印刷金属化フィルム基材の場合、エッチャントはチオ尿素(T8656、Sigma−Aldrich,St.Louis,Missouri)1g、濃塩酸(HX0603−75、EMD Chemicals,Gibbstown,New Jersey)0.54ミリリットル、過酸化水素(30%、5240−05、Mallinckrodt Baker,Phillipsburg,New Jersey)0.5ミリリットル、及び脱イオン水21グラムを含んでいた。金薄膜をパターン化するために、印刷金属化フィルム基材をエッチング溶液中に50秒間含浸した。銀薄膜を有する印刷金属化フィルム基材の場合、エッチャントは、チオ尿素(T8656、Sigma−Aldrich,St.Louis,Missouri)0.45グラム、硝酸第二鉄(216828、Sigma−Aldrich,St.Louis,Missouri)1.64グラム、及び脱イオン水200ミリリットルを含んでいた。銀薄膜をパターン化するために、印刷金属化フィルム基材をエッチング溶液中に3分間含浸した。金をパターンエッチングした後、2.5グラムの過マンガン酸カリウム(PX1551−1、EMD Chemicals,Gibbstown,New Jersey)、4グラムの水酸化カリウム(484016、Sigma−Aldrich,St.Louis,Missouri)及び100ミリリットルの脱イオン水の溶液を使用して、残りのクロムがエッチングされた。
選択的エッチング及び金属パターン化の後、金属パターンは、光学顕微鏡(Nikon,Melville,New YorkのDS−Fi1デジタルカメラ及びNIS−Elements Dソフトウェアを装備したModel ECLIPSE LV100D)、走査型電子顕微鏡(JEOL Ltd,Tokyo,JapanのSEM、Model JSM−6400)、及びHaze−Gard(Haze−Gard plus,BYK Gardner,Columbia,Maryland)を使用して特徴付けされた。金属パターンの線構造の幅を決定するために顕微鏡技術が使用された。メッシュグリッドコーティングフィルムの透過率及びヘイズを決定するために、Haze−Gardが使用された。Haze−Gard測定は、光学的に透明な接着剤(3M製品)を用いて、パターン化されたフィルムをガラス上に積層した後に行った。金属パターンの線構造の可視性の度合いを表すために、高、中、低の可視度が指定された(人の裸眼による観察)。
薄膜金の六角形メッシュグリッドパターンが、上記の手順に従って作製及び特徴付けされた。インク溶液は、5mMの濃度でエタノールに溶解したオクタデシルチオールを含んでいた。インク溶液を、スタンプの裏側に20時間接触させた。スタンピング時間は10秒間であった。図1は、完成した薄膜金微小パターンから記録されたSEM顕微鏡写真を示す。実際の線幅はおよそ1.63マイクロメートルであった。開放面積の割合が、測定された線幅、及び設計された縁部間の幅400マイクロメートルに基づいて再計算され、これは99.2%であった。金六角形メッシュグリッドコーティングフィルムの光学的特性は、Haze−Gardによって決定された。ヘイズ及び透過率は、それぞれ、およそ1.14%及び91.6%であった。線幅1.63マイクロメートル、及び縁部間の幅400マイクロメートルを有する金六角形メッシュパターンは容易に見ることができるため、この実施例には、高い可視性が指定された。
薄膜金の六角形メッシュグリッドパターンが、実施例1に記載される手順に従って、作製及び特徴付けされた。各実施例の実際の線幅は、SEMを使用して測定され、表1に記載された。次に、開放面積の割合が、実際の線幅、及び設計された縁部間の幅に基づいて再計算され、表1に記載された。表1はまた、Haze−Gardによって測定された、各実施例のヘイズ値及び透過率値、並びに各実施例に指定された可視度を示す。
薄膜金の正方形メッシュグリッドパターンが、上記の手順に従って作製及び特徴付けされた。インク溶液は、10mMの濃度でエタノールに溶解したオクタデシルチオールを含んでいた。インク溶液を、スタンプの裏側に20時間接触させた。スタンピング時間は10秒間であった。光学顕微鏡を使用すると、実際の線幅はおよそ4.73マイクロメートルであった。開放面積の割合は、測定された線幅及び設計されたピッチ320マイクロメートルに基づいて再計算され、これは97.0%であった。金の正方形メッシュグリッドコーティングフィルムの光学的特性は、Haze−Gardによって決定された。ヘイズ及び透過率は、それぞれ、およそ1.58%及び88.6%であった。線幅4.73マイクロメートル、及びピッチ320マイクロメートルを有する金正方形メッシュパターンは容易に見ることができるため、この実施例には、高い可視性が指定された。
薄膜金の正方形メッシュグリッドパターンが、実施例11に記載される手順に従って、作製及び特徴付けされた。各実施例の実際の線幅は、光学顕微鏡を使用して測定され、表1に記載された。次に、開放面積の割合が、実際の線幅、及び設計されたピッチに基づいて再計算され、表1に記載された。表1はまた、Haze−Gardによって測定された、各実施例のヘイズ値及び透過率値、並びに各実施例に指定された可視度を示す。
薄膜銀の六角形メッシュグリッドパターンが、上記の手順に従って作製及び特徴付けされた。銀コーティングされた基材は、スパッタリングによって調製された。インク溶液は、5mMの濃度でエタノールに溶解したオクタデシルチオールを含んでいた。インク溶液を、スタンプの裏側に20時間接触させた。スタンピング時間は10秒間であった。図2は、完成した薄膜銀微小パターンから記録されたSEM顕微鏡写真を示す。実際の線幅はおよそ2.43マイクロメートルであった。開放面積の割合が、測定された線幅、及び設計された縁部間の幅600マイクロメートルに基づいて再計算され、これは99.2%であった。金六角形メッシュグリッドコーティングフィルムの光学的特性は、Haze−Gardによって決定された。ヘイズ及び透過率は、それぞれ、およそ1.19%及び91.8%であった。線幅2.43マイクロメートル、及び縁部間の幅600マイクロメートルを有する銀六角形メッシュパターンは容易に見ることができるため、この実施例には、高い可視性が指定された。
薄膜銀の六角形メッシュグリッドパターンが、実施例19に記載される手順に従って、作製及び特徴付けされた。各実施例の実際の線幅は、SEMを使用して測定され、表1に記載された。次に、開放面積の割合が、実際の線幅、及び設計された縁部間の幅に基づいて再計算され、表1に記載された。表1はまた、Haze−Gardによって測定された、各実施例のヘイズ値及び透過率値、並びに各実施例に指定された可視度を示す。
薄膜銀の正方形メッシュグリッドパターンが、上記の手順に従って作製及び特徴付けされた。銀コーティングされた基材が、熱蒸着によって調製された。インク溶液は、10mMの濃度でエタノールに溶解したオクタデシルチオールを含んでいた。インク溶液を、スタンプの裏側に20時間接触させた。スタンピング時間は10秒間であった。光学顕微鏡を使用し、実際の線幅はおよそ5.9マイクロメートルであった。開放面積の割合が、測定された線幅、及び設計されたピッチ320マイクロメートルに基づいて再計算され、これは96.3%であった。銀正方形メッシュグリッドコーティングフィルムの光学的特性は、Haze−Gardによって決定された。ヘイズ及び透過率は、それぞれ、およそ1.77%及び88.9%であった。線幅5.9マイクロメートル、及びピッチ320マイクロメートルを有する銀正方形メッシュパターンは容易に見ることができるため、この実施例には、高い可視性が指定された。
薄膜銀の正方形メッシュグリッドパターンが、実施例28に記載される手順に従って、作製及び特徴付けされた。各実施例の実際の線幅は、光学顕微鏡を使用して測定され、表1に記載された。次に、開放面積の割合が、実際の線幅、及び設計されたピッチに基づいて再計算され、表1に記載された。表1はまた、Haze−Gardによって測定された、各実施例のヘイズ値及び透過率値、並びに各実施例に指定された可視度を示す。
同一出願人による米国特許仮出願第61/032,273号に記載されるマイクロコンタクト印刷及びエッチングを使用して、透明センサ要素が製作され、図27、図28、及び図29に概して示されるタッチセンサ駆動デバイスと組み合わされた。次いでデバイスを、ディスプレイに接続されたコンピュータ処理ユニットに統合してデバイスを試験した。デバイスは、単一及び/又は複数の同時の指の接触の位置を検出することができ、これはディスプレイ上で画像により証明された。この実施例は、マイクロコンタクト印刷及びエッチング技術(同時係属中の米国特許出願第61/032,273号も参照)を使用して、タッチセンサで使用される微小導電体パターンを形成した。
第1のパターン化基材
厚さ125マイクロメートル(μm)を有するポリエチレンテレフタレート(PET)から作製される第1の可視光線基材が、熱蒸着コーターを使用して、100nm銀薄膜で蒸気コーティングされて、第1の銀金属化フィルムを生成した。PETは、E.I.du Pont de Nemours,Wilmington,DEから、製品番号ST504として市販されていた。銀は、Cerac Inc.,Milwaukee,WIから、99.99%純度の3mmショットとして市販されていた。
第2の銀金属化フィルムを生成するために、第2の可視光線基材を使用して、第1のパターン化基材として第2のパターン化基材を作製した。第2の不連続六角形メッシュパターンとの間に介在する第2の連続六角形メッシュパターンを有する第2のスタンプを生成した。
上記のように作製された第1及び第2のパターン化基材を使用して、以下のように、2層投影型静電容量タッチスクリーン透明センサ要素を生成した。
透明センサ要素をタッチセンサ駆動デバイスに接続した。ガラス表面に指が接触すると、コンピュータモニタは、接触感知区域内で生じている接触の位置を、モニタの対応する場所の色の変化(白から緑)の形式でレンダリングした。ガラス表面に指が2つ同時に接触すると、コンピュータモニタは、接触感知区域内で生じている接触の位置を、モニタの対応する場所の色の変化(白から緑)の形式でレンダリングした。ガラス表面に指が3つ同時に接触すると、コンピュータモニタは、接触感知区域内で生じている接触の位置を、モニタの対応する場所の色の変化(白から緑)の形式でレンダリングした。
微小複製された電極の一実施形態は、約2mm〜約5mmの中心間の間隔で分離された、幅約0.5〜約5マイクロメートル(図5のY寸法)の平行な導電体を含む。隣接する導電体の群は、例えば、図8及び図9に関して記載されるプロセスを使用して、1mm〜10mmの合計幅を有する電極を形成するように、電気的に相互接続されてもよい。
次に図29〜36を参照して、様々な微小ワイヤ電極の多数の実施形態について記載する。上述の微小ワイヤ印刷技術によって、個々の電極パターンに対して多大な設計の柔軟性が利用可能になる。かかる設計の柔軟性は性能特性を向上させることができる。例えば、米国特許出願公開第US2010/0026,664号、「Touch Sensitive Devices with Composite Electrodes」に更に記載されているように、透過性と呼ばれる機能、即ち、電界が電極を通過して、指などの指示物体と容量結合することを可能にする傾向を改善するように、電極設計を調整することが可能である。いくつかの配置では、透過性である上部電極が、指示物体(即ち、指)と、上部及び下部電極が互いに交差する場所に位置付けられた下部電極との間での容量結合をより良好に可能にしてもよい。このことにより、電極のより良好な信号対雑音性能が可能になってもよい。しかしながら、電極の穴又は空隙により、電極がユーザーにとってより視覚的に目立つものになることがあり、これは一般的には望ましくない。以下に示す実施形態は、概ね、基準メッシュ上で構造化され、連続的及び非連続的な微小ワイヤ導電体の領域を含み、それにより、電気的性能の改善と、電極のパターン化をより目立たなくする一貫した視覚的特性の両方をもたらしてもよい。
Claims (3)
- 複数の複合電極の配列を備える上部電極層であって、各複合電極が第1の二次元メッシュパターンで配置された複数の連続的な微小ワイヤ導電体で構成される、上部電極層と、
複数の電極を備える下部電極層と、
を備え、前記上部及び下部電極が、絶縁体層によって分離されると共に、前記上部及び下部電極が交差するノードを有する電極マトリックスを共同で画定し、
前記上部電極層の前記複数の複合電極のそれぞれが前記複数の連続的な微小ワイヤ導電体から電気的に絶縁された複数の内部区域を形成し、前記複数の内部区域のそれぞれが第2の二次元メッシュパターンで配置された複数の不連続的な微小ワイヤ導電体で構成される、タッチスクリーンセンサ。 - タッチセンサで使用される微小ワイヤベースの電極であって、
内部区域を有するパターン化された複数の導電性微小ワイヤの二次元メッシュを備え、
前記内部区域のそれぞれが、パターン化された不連続的な複数の導電性微小ワイヤの二次元メッシュを有する、電極。 - タッチセンサで使用される微小ワイヤベースの電極であって、
第1の固有平均セル間隔を有する第1の二次元メッシュパターンを画定する複数の連続的な微小導電体であって、前記第1の二次元メッシュパターンが、複数の内部区域を有し、各内部区域が、第2の二次元メッシュパターンで配置された第2の固有平均セル間隔を有する不連続的な複数の微小導電体を有する、複数の連続的な微小導電体を含み、
前記複数の内部区域が、前記第2の固有平均セル間隔の領域の横寸法よりも大きい横寸法を有する領域を越えて延在する、微小ワイヤベースの電極。
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