KR102132780B1 - 표시 장치 및 그 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

표시 장치는 접이축을 기준으로 접히는 터치스크린 패널을 포함하고, 상기 터치스크린 패널은, 상기 접이축에 위치하는 적어도 하나의 제1 터치 전극을 포함하고, 상기 접이축에 위치하는 적어도 하나의 제1 터치 전극 각각은, 상기 접이축을 따라 투명 기판 위에 형성된 제1 그래핀 층, 상기 투명 기판 위에 형성되어 상기 제1 그래핀 층의 측면으로 접합하는 제1 메탈 메시 층, 및 상기 제1 그래핀 층과 상기 제1 메탈 메시 층의 경계부 위에 형성된 제1 접합 메탈 메시 층을 포함한다.

Description

표시 장치 및 그 제조 방법{DISPLAY DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}
본 발명은 표시 장치 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 접이식 표시 장치(foldable display) 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
최근, 휘어지고 접혀지는 특징을 가진 접이식 표시 장치(foldable display device)가 개발되고 있다. 접이식 표시 장치는 휴대가 간편하면서도 큰 크기의 화면을 구현할 수 있는 장점이 있다.
이러한 접이식 표시 장치는 모바일 폰, PMP(Portable Multimedia Player), 네비게이션, UMPC(Ultra Mobile PC), 전자 책, 전자 신문 등과 같은 모바일 장비뿐만 아니라 TV, 모니터 등의 다양한 분야에 응용될 수 있다. 접이식 표시 장치가 반복적으로 접혀지고 펴지는 과정에서 접히는 부분에 크랙(crack)이 생기지 않도록 하기 위한 연구가 진행되고 있다.
최근에는 표시 장치의 입력 장치로서 종래의 마우스나 키보드 등의 입력 장치를 대체하여 터치스크린이 적용되고 있다. 접이식 표시 장치에도 터치스크린이 적용되고 있다. 터치스크린에는 가시광선에 대해 높은 광 투과율, 착색 없는 순수한 투명도, 높은 전기 전도율 및 환경 특성이 뛰어난 물질로 만들어진 투명 전극이나 투명 배선이 필수적으로 사용된다. 이러한 특성들을 가지는 물질로 대표적인 것이 인듐 주석 산화물(Indium Tin Oxide, 이하 ITO)이다.
그러나, ITO는 유연 특성이 좋지 못하여 접이식 표시 장치의 접히는 부분에 사용될 경우에 크랙 및 손상이 발생하기 쉽기 때문에 접이식 표시 장치의 접히는 부분에 사용하기에 부적합하다.
접이식 표시 장치의 접히는 부분은 높은 광 투광율과 높은 전기 전도율을 가지면서 크랙 및 손상에 강인하여야 한다.
본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는 접히는 부분이 높은 광 투광율과 높은 전기 전도율을 가지면서 크랙 및 손상에 강인한 접이식 표시 장치 및 그 제조 방법을 제공함에 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는 접이축을 기준으로 접히는 터치스크린 패널을 포함하고, 상기 터치스크린 패널은, 상기 접이축에 위치하는 적어도 하나의 제1 터치 전극을 포함하고, 상기 접이축에 위치하는 적어도 하나의 제1 터치 전극 각각은, 상기 접이축을 따라 투명 기판 위에 형성된 제1 그래핀 층, 상기 투명 기판 위에 형성되어 상기 제1 그래핀 층의 측면으로 접합하는 제1 메탈 메시 층, 및 상기 제1 그래핀 층과 상기 제1 메탈 메시 층의 경계부 위에 형성된 제1 접합 메탈 메시 층을 포함한다.
상기 터치스크린 패널은, 상기 접이축에 위치하지 않는 복수의 제1 터치 전극을 더 포함하고, 상기 접이축에 위치하지 않는 복수의 제1 터치 전극 각각은, 상기 제1 메탈 메시 층으로 형성될 수 있다.
상기 제1 메탈 메시 층은 구리(Cu), 알루미늄(Al), 몰리브덴(Mo), 은(Ag) 중 어느 하나로 이루어질 수 있다.
상기 제1 접합 메탈 메시 층은 구리(Cu), 알루미늄(Al), 몰리브덴(Mo), 은(Ag) 중 어느 하나로 이루어질 수 있다.
상기 터치스크린 패널은, 상기 제1 그래핀 층과 상기 제1 접합 메탈 메시 층 위에 형성되는 굴절률 매칭 층을 더 포함할 수 있다.
상기 적어도 하나의 터치 전극 각각은, 상기 투명 기판 위에 형성되는 투명 전도막을 더 포함하고, 상기 제1 그래핀 층 및 상기 제1 메탈 메시 층은 상기 투명 전도막 위에 형성될 수 있다.
상기 터치스크린 패널은, 상기 제1 메탈 메시 층, 상기 제1 그래핀 층 및 상기 제1 접합 메탈 메시 층 위에 형성된 절연층을 더 포함할 수 있다.
상기 터치스크린 패널은, 상기 접이축에 위치하는 적어도 하나의 제2 터치 전극을 더 포함하고, 상기 접이축에 위치하는 적어도 하나의 제2 터치 전극 각각은, 상기 접이축을 따라 상기 절연층 위에 형성된 제2 그래핀 층을 포함할 수 있다.
상기 접이축에 위치하는 적어도 하나의 제2 터치 전극 각각은, 상기 절연층 위에 형성되어 상기 제2 그래핀 층의 측면으로 접합하는 제2 메탈 메시 층, 및 상기 제2 그래핀 층과 상기 제2 메탈 메시 층의 경계부 위에 형성된 제2 접합 메탈 메시 층을 더 포함할 수 있다.
상기 터치스크린 패널은, 상기 접이축에 위치하지 않는 복수의 제2 터치 전극을 더 포함하고, 상기 접이축에 위치하지 않는 복수의 제2 터치 전극 각각은, 상기 제2 메탈 메시 층으로 형성될 수 있다.
상기 제2 메탈 메시 층은 구리(Cu), 알루미늄(Al), 몰리브덴(Mo), 은(Ag) 중 어느 하나로 이루어질 수 있다.
상기 제2 접합 메탈 메시 층은 구리(Cu), 알루미늄(Al), 몰리브덴(Mo), 은(Ag) 중 어느 하나로 이루어질 수 있다.
상기 터치스크린 패널은, 상기 제2 그래핀 층과 상기 제2 접합 메탈 메시 층 위에 형성되는 굴절률 매칭 층을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에 따른 접이축을 기준으로 접히는 터치스크린 패널을 포함하는 표시 장치의 제조 방법은 투명 기판 위에 제1 메탈 메시 층을 형성하는 단계, 상기 투명 기판 위에서 상기 접이축에 해당하는 영역에 제1 그래핀 층을 형성하는 단계, 및 상기 제1 그래핀 층과 상기 제1 메탈 메시 층의 경계부 위에 제1 접합 메탈 메시 층을 형성하는 단계를 포함한다.
상기 투명 기판 위에 제1 메탈 메시 층을 형성하는 단계는, 상기 접이축에 위치하는 적어도 하나의 제1 터치 전극에 포함되는 제1 메탈 메시 층을 형성하는 단계, 및 상기 접이축에 위치하지 않는 복수의 제1 터치 전극을 상기 제1 메탈 메시 층으로 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 제1 그래핀 층과 상기 제1 접합 메탈 메시 층 위에 굴절률 매칭 층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 제1 메탈 메시 층, 상기 제1 그래핀 층 및 상기 제1 접합 메탈 메시 층 위에 절연층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 절연층 위에 제2 메탈 메시 층을 형성하는 단계는, 상기 절연층 위에서 상기 접이축에 해당하는 영역에 제2 그래핀 층을 형성하는 단계, 및 상기 제2 그래핀 층과 상기 제2 메탈 메시 층의 경계부 위에 제2 접합 메탈 메시 층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 제2 그래핀 층과 상기 제2 접합 메탈 메시 층 위에 굴절률 매칭 층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 절연층 위에 제2 메탈 메시 층을 형성하는 단계는, 상기 접이축에 위치하는 적어도 하나의 제2 터치 전극에 포함되는 제2 메탈 메시 층을 형성하는 단계, 및 상기 접이축에 위치하지 않는 복수의 제2 터치 전극을 상기 제2 메탈 메시 층으로 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
접이식 표시 장치의 접히는 부분이 높은 광 투광율과 높은 전기 전도율을 가지면서 크랙 및 손상에 강인하게 구성될 수 있다.
접이식 표시 장치의 굴곡 특성이 향상된다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 접이식 표시 장치의 외관을 개략적으로 나타낸다.
도 2는 도 1의 접이식 표시 장치가 접힌 상태를 개략적으로 나타낸다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 접이식 표시 장치의 개략적인 단면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 접이식 표시 장치에 포함된 터치스크린 패널의 개략적인 평면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 터치스크린 패널의 터치 전극의 형태를 나타내는 예시도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치스크린 패널의 접히는 부분에서 터치 전극의 형태를 나타내는 예시도이다.
도 7은 도 4의 터치스크린 패널의 접히는 부분에서 터치 전극의 VII-VII 선에 따른 단면을 나타내는 단면도이다.
도 8 내지 10은 도 7의 터치스크린 패널의 제조 방법을 설명하기 위한 공정 사시도이다.
도 11은 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치스크린 패널의 접히는 부분에서 터치 전극의 단면을 나타내는 단면도이다.
도 12는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 터치스크린 패널의 접히는 부분에서 터치 전극의 단면을 나타내는 단면도이다.
도 13은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 터치스크린 패널의 접히는 부분에서 터치 전극의 단면을 나타내는 단면도이다.
도 14는 본 발명의 다른 실시예에 따른 접이식 표시 장치에 포함된 터치스크린 패널의 개략적인 평면도이다.
도 15는 도 14의 터치스크린 패널의 접히는 부분에서 터치 전극의 XV-XV 선에 따른 단면을 나타내는 단면도이다.
도 16 내지 22는 도 15의 터치스크린 패널의 제조 방법을 설명하기 위한 공정 사시도이다.
도 23은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 터치스크린 패널의 접히는 부분에서 터치 전극의 단면을 나타내는 단면도이다.
이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예들에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예들에 한정되지 않는다.
또한, 여러 실시예들에 있어서, 동일한 구성을 가지는 구성요소에 대해서는 동일한 부호를 사용하여 대표적으로 제1 실시예에서 설명하고, 그 외의 실시예에서는 제1 실시예와 다른 구성에 대해서만 설명하기로 한다.
본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 붙이도록 한다.
도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었다. 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우뿐 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 어떤 부분이 다른 부분 "바로 위에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다. 마찬가지로, 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "아래에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 아래에" 있는 경우뿐 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 접이식 표시 장치의 외관을 개략적으로 나타낸다. 도 2는 도 1의 접이식 표시 장치가 접힌 상태를 개략적으로 나타낸다.
도 1 및 2를 참조하면, 여기서 나타낸 접이식 표시 장치(100)의 외관은 하나의 실시예이다. 접이식 표시 장치(100)의 외관은 다양하게 변형될 수 있다.
접이식 표시 장치(100)의 외관은 제1 부분(181), 제2 부분(182), 및 제1 부분(181)과 제2 부분(182)을 연결하는 힌지(hinge)부(183)를 가지는 몸체(180)를 포함한다. 힌지부(183)의 중심이 접이식 표시 장치(100)가 접힐 때의 접이축(H)이 된다. 접이식 표시 장치(100)의 용도에 따라 성능의 향상을 위하여, 표시 장치의 화면 상부에는 광학 필름(195)이 더 부착될 수 있다. 예를 들어, 광학 필름(195)으로 편광 필름, 반사 방지 필름, 눈부심 방지 필름 중 적어도 하나가 화면 상부에 부착될 수 있다.
몸체(180)의 내측에 도 3과 같은 패널부(500)가 장착될 수 있다.
이제, 도 3을 참조하여 패널부(500)에 대하여 설명한다. 이하, 설명의 편의를 위해, 접이식 표시 장치(100)의 몸체(180)의 제1 부분(181), 제2 부분(182) 및 힌지부(183)는 생략하고, 패널부(500)의 구성에 대해서만 설명한다. 그리고 설명의 편의를 위해, 이하의 평면도에서는 접이축(H)을 수평 방향으로 표시하였고, 단면도에서는 접이축(H)을 수직 방향으로 표시하였다. 이는 패널부(500) 또는 터치스크린 패널(300)의 접히는 위치를 설명하기 위한 것으로, 하나의 접이축(H)을 의미하는 것이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 접이식 표시 장치의 개략적인 단면도이다.
도 3을 참조하면, 접이식 표시 장치(100)를 펼쳤을 때의 패널부(500)를 나타낸다. 접이식 표시 장치(100)에 포함되는 패널부(500)는 제1 보호 윈도우(101), 제1 보호 윈도우(101) 위에 위치하는 표시 패널(200), 표시 패널(200) 위에 위치하는 터치스크린 패널(300) 및 터치스크린 패널(300) 위에 위치하는 제2 보호 윈도우(102)를 포함한다.
제1 보호 윈도우(101) 및 제2 보호 윈도우(102)는 투명 재질로서 유연하며 탄성 복원이 가능한 고분자 재질로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 제1 보호 윈도우(101) 및 제2 보호 윈도우(102)는 PMMA(polymethyl methacrylate), PDMS(Polydimethylsiloxane), 투명한 실리콘 수지 및 테프론 중에서 어느 하나의 재료로 이루어질 수 있다.
표시 패널(200)에는 복수의 디스플레이 소자가 포함된다. 복수의 디스플레이 소자는 유기 발광 디스플레이(organic light-emitting diode, OLED), 액정 디스플레이(liquid crystal display, LCD), 전계 발광 디스플레이(field emission display, FED) 및 플라즈마 디스플레이(plasma display panel, PDP)와 같은 디스플레이 소자 중 어느 하나일 수 있다. 즉, 표시 패널(200)은 유기 발광 디스플레이, 액정 디스플레이, 전계 발광 디스플레이 및 플라즈마 디스플레이 중 어느 하나의 표시 패널일 수 있다.
표시 패널(200) 위에 터치스크린 패널(300)이 접착제로 접착될 수 있다.
이하, 접이식 표시 장치(100)에 포함되는 터치스크린 패널(300)에 대하여 설명한다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 접이식 표시 장치에 포함된 터치스크린 패널의 개략적인 평면도이다. 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 터치스크린 패널의 터치 전극의 형태를 나타내는 예시도이다. 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치스크린 패널의 접히는 부분에서 터치 전극의 형태를 나타내는 예시도이다. 도 7은 도 4의 터치스크린 패널의 접히는 부분에서 터치 전극의 VII-VII 선에 따른 단면을 나타내는 단면도이다.
도 4 내지 7을 참조하면, 터치스크린 패널(300)은 투명 기판(301) 위에 형성된 복수의 터치 전극(310, 320) 및 감지 회로부(340)를 포함한다. 복수의 터치 전극(310, 320)은 투명 기판(301) 위에 형성된 감지 배선(330)을 통해 감지 회로부(340)에 연결된다.
복수의 터치 전극(310, 320)은 터치 검출 신호가 인가되는 복수의 구동 전극(310) 및 터치 위치를 검출하기 위한 복수의 센싱 전극(320)을 포함한다. 복수의 구동 전극(310)은 제1 방향으로 형성되고, 복수의 센싱 전극(320)은 제1 방향과 수직인 제2 방향으로 형성될 수 있다.
복수의 구동 전극(310)과 복수의 센싱 전극(320) 사이에는 절연층이 개재되어 복수의 구동 전극(310)과 복수의 센싱 전극(320)을 분리시킨다. 복수의 구동 전극(310)과 복수의 센싱 전극(320)이 절연층으로 분리됨으로써, 구동 전극(310)과 센싱 전극(320) 사이에 정전 용량이 형성되고, 감지 회로부(340)가 정전 용량의 변화를 감지하여 터치 위치를 검출할 수 있다.
접이축(H)은 복수의 센싱 전극(320)을 가로지르는 제1 방향일 수 있다.
이때, 접이축(H)에 위치하지 않는 센싱 전극(예를 들어, A 부분의 센싱 전극)은 도 4에 도시한 바와 같이 메탈 메시(metal mesh) 층(321)으로 이루어질 수 있다. 메탈 메시 층은 높은 전도도의 금속을 미세하게 패터닝하여 제조될 수 있다.
메탈 메시 층(321)은 프린팅(printing) 방식, 임프린팅(imprinting) 방식, 리소그라피(lithography) 방식 등으로 제조될 수 있다. 프린팅 방식은 그라비어(gravure) 또는 오프셋(offset) 방식을 이용하여 기판 상에 투명 전도성 물질(또는 금속 물질)로 투명 전극(또는 배선)을 직접 형성하는 방식이다. 임프린팅 방식은 투명 전도성 막 또는 금속 막 상에 미세 패턴을 형성한 후, 미세 패턴을 통해 투명 전도성 막(또는 금속 막)을 에치(etch)하여 투명 전극(또는 배선)을 형성하는 방식이다. 리소그래피 방식은 광, 레이저 또는 전자 빔 등의 소스를 통해 기판 상에 미세 패턴을 형성하고, 미세 패턴을 이용하여 투명 전도성 막(또는 금속 막)을 에치하여 투명 전극(또는 배선)을 형성하는 방식이다.
메탈 메시 층(321)을 이루는 다수의 금속 패턴은 구리(Cu), 알루미늄(Al), 몰리브덴(Mo), 은(Ag) 등의 금속 물질로 0.1μm 내지 10μm의 선폭을 가지도록 형성될 수 있다. 메탈 메시 층(321)으로 이루어지는 복수의 센싱 전극(320)은 높은 전도도 및 높은 투명도를 가지게 된다.
물론, 접이축(H)에 위치하지 않는 복수의 구동 전극(310)도 메탈 메시 층(321)으로 이루어질 수 있다. 메탈 메시 층(321)으로 이루어지는 복수의 구동 전극(310)은 높은 전도도 및 높은 투명도를 가지게 된다.
접이축(H)에 위치하는 센싱 전극(예를 들어, B 부분의 센싱 전극)은 도 5 및 6에 도시한 바와 같이 접이축(H)을 따라 투명 기판(301) 위에 형성된 그래핀(graphene) 층(322), 그래핀 층(322)의 측면으로 접합되는 메탈 메시 층(321) 및 그래핀 층(322)과 메탈 메시 층(321)의 경계부 위에 형성된 접합 메탈 메시 층(323)을 포함한다.
투명 기판(301)은 PET(polyethylene terephthalate), PC(Polycarbonate) 등의 투명한 고분자 화합물로 이루어질 수 있다.
그래핀 층(322)은 하나 이상의 그래핀 단층 구조물로 이루어질 수 있다. 그래핀은 탄소 원자로 이루어진 육방정계 단층 구조물이다. 그래핀은 화학적으로 매우 안정하며, 전도대(conduction band)와 가전자대(valance band)가 오직 한 점(즉, Dirac point)에서 겹쳐지는 반금속(semi-metal) 특성을 갖는다. 또한 그래핀은 이차원 탄도 이동(2-dimensional ballistic transport) 특성을 갖는다. 전하가 물질 내에서 이차원 탄도 이동한다는 것은 산란(scattering)에 의한 저항이 거의 없는 상태로 이동한다는 것을 의미한다. 따라서 그래핀 내에서 전하의 이동도(mobility)는 매우 높다. 그 밖에도 그래핀은 구리보다 100배 이상 큰 전류 밀도(약 108 A/㎠)를 갖는다. 그리고 한 층의 그래핀은 투과율이 97.9%로 높은 투명도를 갖는다. 또한, 그래핀은 다른 금속 물질에 비해 높은 탄성 복원력을 갖는다. 예를 들어, 탄성 복원력이 Si는 0.7% 이내, ITO가 0.58~1.15%, Au가 0.46%, poly-ZnO가 0.03%, Polymide가 4% 정도인 반면, 그래핀의 탄성 복원력은 15% 이상이다.
그래핀 층(322)은 열 CVD(thermal chemical vapor deposition), PE-CVD(plasma enhanced-CVD), MBE(molecular beam epitaxy) 등 다양한 방법으로 형성될 수 있다.
열 CVD 법을 사용하는 경우, 700℃이상의 고온에서 CH4, C2H4 또는 C2H2 등의 수산화탄소 가스나 액체 형태인 벤젠(C6H6)의 증기를 증착 챔버 내에 주입함으로써 그래핀 층(322)을 형성할 수 있다.
PE-CVD 법을 이용하는 경우, 열 CVD 법에서 사용하는 가스와 동일한 반응 가스를 사용하여 열 CVD 법보다 낮은 온도에서 그래핀 층(322)을 형성할 수 있다. 이때, 플라즈마를 형성하기 위해 DC(direct current) 파워, RF(radio frequency) 파워 및 마이크로파(microwave) 파워 등 다양한 소스가 사용될 수 있다.
MBE 법을 이용하는 경우, UHV(ultra high vacuum) 조건 하에서 기판 온도를 600 1000 정도로 유지하고, 전자빔(E-beam) 등을 이용하여 증착 챔버 내에 탄소 플럭스(flux)를 형성함으로써 그래핀 층(322)을 형성할 수 있다.
메탈 메시 층(321)은 투명 기판(301) 위에 형성되어 그래핀 층(322)의 측면으로 접합된다. 그래핀 층(322)의 측면으로 접합되는 메탈 메시 층(321)은 접이축(H)에 위치하지 않는 센싱 전극을 이루는 메탈 메시 층(321)이 형성될 때 함께 형성될 수 있다. 즉, 접이축(H)에 위치하지 않는 센싱 전극을 이루는 메탈 메시 층(321)과 그래핀 층(322)의 측면으로 접합되는 메탈 메시 층(321)은 동일한 물질로 이루어질 수 있다.
접합 메탈 메시 층(323)은 그래핀 층(322)과 메탈 메시 층(321)의 경계부 위에 형성된다. 접합 메탈 메시 층(323)은 프린팅 방식, 임프린팅 방식, 리소그라피 방식 등으로 제조될 수 있다. 접합 메탈 메시 층(323)은 구리(Cu), 알루미늄(Al), 몰리브덴(Mo), 은(Ag) 등의 금속 물질로 이루어질 수 있다. 접합 메탈 메시 층(323)은 메탈 메시 층(321)과 동일한 물질로 이루어질 수 있다.
메탈 메시 층(321)과 그래핀 층(322)의 접합에 의한 접촉 저항이 증가할 수 있다. 접합 메탈 메시 층(323)이 그래핀 층(322)과 메탈 메시 층(321)의 경계부 위에 형성됨으로써, 메탈 메시 층(321)과 그래핀 층(322) 간의 접촉 저항을 낮출 수 있고, 메탈 메시 층(321)과 그래핀 층(322)의 접합력을 높일 수 있다.
메탈 메시 층(321) 및 접합 메탈 메시 층(323)이 구리(Cu)로 이루어지는 경우, 탄소(C)를 잘 흡착하는 구리(Cu)의 특성에 의해 메탈 메시 층(321) 및 접합 메탈 메시 층(323)과 그래핀 층(322)의 접합력은 더욱 향상될 수 있다.
메탈 메시 층(321), 그래핀 층(322) 및 접합 메탈 메시 층(323)은 수~수십 nm 정도의 두께로 형성될 수 있다.
이와 같이, 접이식 표시 장치(100)에서 접이축(H)에 위치하는 적어도 하나의 센싱 전극(320)에서 접히는 부분이 그래핀 층(322)으로 형성됨으로써 접히는 부분이 높은 광 투광율과 높은 전기 전도율을 가지면서 크랙 및 손상에 강인해진다.
이하, 도 8 내지 10을 참조하여 접이축(H)에 위치하는 센싱 전극(320)을 제조하는 방법에 대하여 설명한다.
도 8 내지 10은 도 7의 터치스크린 패널의 제조 방법을 설명하기 위한 공정 사시도이다.
도 8을 보면, 투명 기판(301) 위에 메탈 메시 층(321)이 형성된다. 메탈 메시 층(321)은 프린팅 방식, 임프린팅 방식, 리소그라피 방식 등으로 제조될 수 있다. 접이축(H)에 위치하는 센싱 전극(320)과 접이축(H)에 위치하지 않는 센싱 전극(320)의 메탈 메시 층(321)은 동시에 형성될 수 있다. 접이축(H)에 해당하는 영역에는 메탈 메시 층(321)이 형성되지 않는다. 메탈 메시 층(321)이 프린팅 방식이나 임프린팅 방식으로 형성되는 경우에는 접이축(H)에 해당하는 영역에 메탈 메시 층(321)이 형성되지 않도록 형성되는 패턴을 이용할 수 있다. 메탈 메시 층(321)이 리소그라피 방식으로 형성되는 경우에는 접이축(H)에 해당하는 영역에 전도막을 형성한 후 투명 기판(301) 위에 메탈 메시 층(321)을 형성하고, 전도막을 리프트 오프(lift off)시켜 접이축(H)에 해당하는 영역에 메탈 메시 층(321)이 형성되지 않도록 할 수 있다.
접이축(H)에 해당하는 영역, 즉 그래핀 층(322)이 형성될 영역의 폭은 패널부(500)의 접히는 부분의 반경에 따라 결정될 수 있다. 패널부(500)의 접히는 부분의 반경은 대략 1~3mm 정도일 수 있으며, 그래핀 층(322)이 형성될 영역의 폭은 1~3mm 이하일 수 있다.
도 9를 보면, 투명 기판(301)에 그래핀 층(322)이 형성된다. 그래핀 층(322)은 접이축(H)에 해당하는 영역에 형성된다. 그래핀 층(322)의 측면으로 메탈 메시 층(321)이 접합된다. 그래핀 층(322)은 열 CVD, PE-CVD, MBE 등의 방법으로 형성될 수 있다.
도 10을 보면, 그래핀 층(322)과 메탈 메시 층(321)의 경계부 위에 접합 메탈 메시 층(323)이 형성된다. 접합 메탈 메시 층(323)은 프린팅 방식, 임프린팅 방식, 리소그라피 방식 등으로 제조될 수 있다. 접합 메탈 메시 층(323)은 메탈 메시 층(321)과 동일한 물질로 이루어질 수 있다. 접합 메탈 메시 층(323)은 그래핀 층(322)과 메탈 메시 층(321)의 접촉 저항을 낮추고 접합력을 높일 수 있는 정도에서 최소한의 폭으로 형성될 수 있다.
도 11은 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치스크린 패널의 접히는 부분에서 터치 전극의 단면을 나타내는 단면도이다.
도 7과 비교하여, 터치스크린 패널(300)은 그래핀 층(322)과 접합 메탈 메시 층(323) 위에 형성되는 굴절률 매칭 층(325)을 더 포함할 수 있다.
접이축(H)을 따라 형성된 그래핀 층(322)과 메탈 메시 층(321) 간의 굴절률 차이가 발생할 수 있다. 이러한 굴절률 차이를 최소화할 수 있는 굴절률 매칭 층(325)이 그래핀 층(322)과 접합 메탈 메시 층(323) 위에 형성될 수 있다. 굴절률 매칭 층(325)은 그래핀 층(322)과 접합 메탈 메시 층(323)을 둘러싸도록 형성될 수 있다. 굴절률 매칭 층(325)으로는 SiO2, ZnO2, AR(Anti-Reflection) 필름 코팅막 등이 이용될 수 있다. 굴절률 매칭 층(325)이 형성됨으로써 굴절률 차이에 의해 그래핀 층(322)이 시인되지 않도록 할 수 있다.
도 12는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 터치스크린 패널의 접히는 부분에서 터치 전극의 단면을 나타내는 단면도이다.
도 7과 비교하여, 터치스크린 패널(300)은 투명 기판(301)에 형성되는 투명 전도막(324)을 더 포함할 수 있다. 투명 전도막(324)은 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(indium zinc oxide) 또는 ITZO(indium tin zinc oxide) 등으로 이루어질 수 있다.
투명 기판(301) 위에 투명 전도막(324)이 형성되고, 투명 전도막(110) 위에 메탈 메시 층(321) 및 그래핀 층(322)이 형성된다. 투명 전도막(110) 위에 메탈 메시 층(321) 및 그래핀 층(322)이 형성됨으로써, 접이축(H)에 위치하는 센싱 전극(320)은 높은 전도도 및 높은 투명도를 가질 수 있다.
물론, 접이축(H)에 위치하지 않는 센싱 전극(320)에서도 투명 기판(301) 위에 투명 전도막(324)이 형성되고, 투명 전도막(110) 위에 메탈 메시 층(321)이 형성될 수 있다. 투명 전도막(110) 위에 메탈 메시 층(321)이 형성됨으로써, 접이축(H)에 위치하지 않는 센싱 전극(320)도 높은 전도도 및 높은 투명도를 가질 수 있다.
도 13은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 터치스크린 패널의 접히는 부분에서 터치 전극의 단면을 나타내는 단면도이다.
도 12와 비교하여, 터치스크린 패널(300)은 그래핀 층(322)과 접합 메탈 메시 층(323) 위에 형성되는 굴절률 매칭 층(325)을 더 포함할 수 있다. 굴절률 매칭 층(325)은 그래핀 층(322)과 접합 메탈 메시 층(323)을 둘러싸도록 형성될 수 있다. 굴절률 매칭 층(325)으로는 SiO2, ZnO2, AR(Anti-Reflection) 필름 코팅막 등이 이용될 수 있다. 굴절률 매칭 층(325)이 형성됨으로써 굴절률 차이에 의해 그래핀 층(322)이 시인되지 않도록 할 수 있다.
도 14는 본 발명의 다른 실시예에 따른 접이식 표시 장치에 포함된 터치스크린 패널의 개략적인 평면도이다. 도 15는 도 14의 터치스크린 패널의 접히는 부분에서 터치 전극의 XV-XV 선에 따른 단면을 나타내는 단면도이다.
도 14 및 15를 참조하면, 터치스크린 패널(300)은 도 4에서 설명한 바와 동일하게 구성되므로, 터치스크린 패널(300)의 구성에 대한 설명은 생략한다.
다만, 접이축(H)이 복수의 구동 전극(310) 중 어느 하나와 복수의 센싱 전극(320)을 가로지르는 제1 방향인 것이 차이점이다. 즉, 터치스크린 패널(300)의 접히는 부분이 구동 전극(310) 및 센싱 전극(320)이 겹치는 부분인 경우이다.
도 15를 보면, 투명 기판(301) 위에 제1 그래핀 층(312) 및 제1 메탈 메시 층(311)이 형성된다. 제1 그래핀 층(312)은 접이축(H)을 따라 형성된다. 제1 메탈 메시 층(311)은 투명 기판(301) 위에 형성되어 제1 그래핀 층(312)의 측면으로 접합된다. 제1 그래핀 층(312)과 제1 메탈 메시 층(311)의 경계부 위에 제1 접합 메탈 메시 층(313)이 형성된다.
제1 메탈 메시 층(311), 제1 그래핀 층(312) 및 제1 접합 메탈 메시 층(313)이 접이축(H)에 위치하는 구동 전극(310)을 구성한다. 한편, 접이축(H)에 위치하지 않는 구동 전극(310)은 제1 메탈 메시 층(311)으로 구성될 수 있다.
제1 메탈 메시 층(311), 제1 그래핀 층(312) 및 제1 접합 메탈 메시 층(313) 위에 절연층(315)이 형성된다. 즉, 구동 전극(310) 위에 절연층(315)이 형성된다. 절연층(315)으로는 산화 실리콘(SiO2), 질화 실리콘(SiNx) 등의 무기 절연 물질이 이용될 수 있다. 또는 절연층(315)으로 셀룰로오스(cellulose) 유도체, 올레핀(olefin)계 수지, 아크릴(acryl)계 수지, 염화비닐계 수지, 스틸렌(styrene)계 수지, 폴리에스테르(polyester)계 수지, 폴리아미드(polyamide)계 수지, 폴리카보네이트(polycarbonate)계 수지, 폴리시클로올레핀(polycycloolefin) 수지, 에폭시(epoxt) 수지 등의 유기 절연 물질이 이용될 수 있다.
절연층(315) 위에 제2 그래핀 층(322) 및 제2 메탈 메시 층(321)이 형성된다. 제2 그래핀 층(322)은 접이축(H)을 따라 형성된다. 제2 메탈 메시 층(321)은 절연층(315) 위에 형성되어 제2 그래핀 층(322)의 측면으로 접합된다. 제2 그래핀 층(322)과 제2 메탈 메시 층(321)의 경계부 위에 제2 접합 메탈 메시 층(323)이 형성된다.
제2 메탈 메시 층(321), 제2 그래핀 층(322) 및 제2 접합 메탈 메시 층(323)이 접이축(H)에 위치하는 센싱 전극(320)을 구성한다. 한편, 접이축(H)에 위치하지 않는 센싱 전극(320)은 제2 메탈 메시 층(321)으로 구성될 수 있다.
제1 메탈 메시 층(311), 제1 접합 메탈 메시 층(313), 제2 메탈 메시 층(321) 및 제2 접합 메탈 메시 층(323)은 프린팅 방식, 임프린팅 방식, 리소그라피 방식 등으로 제조될 수 있다. 제1 메탈 메시 층(311), 제1 접합 메탈 메시 층(313), 제2 메탈 메시 층(321) 및 제2 접합 메탈 메시 층(323)은 구리(Cu), 알루미늄(Al), 몰리브덴(Mo), 은(Ag) 등의 금속 물질로 이루어질 수 있다. 제1 메탈 메시 층(311)은 제1 접합 메탈 메시 층(313)과 동일한 물질로 이루어질 수 있다. 제2 메탈 메시 층(321)은 제2 접합 메탈 메시 층(323)과 동일한 물질로 이루어질 수 있다.
제1 그래핀 층(312) 및 제2 그래핀 층(322)은 열 CVD, PE-CVD, MBE 등 다양한 방법으로 형성될 수 있다.
접이식 표시 장치(100)에서 접이축(H)에 위치하는 구동 전극(310) 및 적어도 하나의 센싱 전극(320)에서 접히는 부분이 그래핀 층(322)으로 형성됨으로써, 접히는 부분이 높은 광 투광율과 높은 전기 전도율을 가지면서 크랙 및 손상에 강인해진다.
이하, 도 16 내지 22를 참조하여 접이축(H)에 위치하는 구동 전극(310) 및 센싱 전극(320)을 제조하는 방법에 대하여 설명한다.
도 16 내지 22는 도 15의 터치스크린 패널의 제조 방법을 설명하기 위한 공정 사시도이다.
도 16을 보면, 투명 기판(301) 위에 제1 메탈 메시 층(311)이 형성된다. 제1 메탈 메시 층(311)은 프린팅 방식, 임프린팅 방식, 리소그라피 방식 등으로 제조될 수 있다. 접이축(H)에 위치하는 구동 전극(310)과 접이축(H)에 위치하지 않는 구동 전극(310)의 제1 메탈 메시 층(311)은 동시에 형성될 수 있다. 접이축(H)에 해당하는 영역에는 제1 메탈 메시 층(311)이 형성되지 않는다.
도 17을 보면, 투명 기판(301)에 제1 그래핀 층(312)이 형성된다. 제1 그래핀 층(312)은 접이축(H)에 해당하는 영역에 형성된다. 제1 그래핀 층(312)의 측면으로 제1 메탈 메시 층(311)이 접합된다. 제1 그래핀 층(312)이 형성되는 영역의 폭은 1~3mm 이하일 수 있다. 제1 그래핀 층(312)은 열 CVD, PE-CVD, MBE 등의 방법으로 형성될 수 있다.
도 18을 보면, 제1 그래핀 층(312)과 제1 메탈 메시 층(311)의 경계부 위에 제1 접합 메탈 메시 층(313)이 형성된다. 제1 접합 메탈 메시 층(313)은 프린팅 방식, 임프린팅 방식, 리소그라피 방식 등으로 제조될 수 있다. 제1 접합 메탈 메시 층(313)은 제1 메탈 메시 층(311)과 동일한 물질로 이루어질 수 있다. 제1 접합 메탈 메시 층(313)은 제1 그래핀 층(312)과 제1 메탈 메시 층(311)의 접촉 저항을 낮추고 접합력을 높일 수 있는 정도에서 최소한의 폭으로 형성될 수 있다.
도 19를 보면, 제1 메탈 메시 층(311), 제1 그래핀 층(312) 및 제1 접합 메탈 메시 층(313) 위에 절연층(315)이 형성된다. 즉, 구동 전극(310) 위에 절연층(315)이 형성된다.
도 20을 보면, 절연층(315) 위에 제2 메탈 메시 층(321)이 형성된다. 제2 메탈 메시 층(321)은 프린팅 방식, 임프린팅 방식, 리소그라피 방식 등으로 제조될 수 있다. 접이축(H)에 위치하는 센싱 전극(320)과 접이축(H)에 위치하지 않는 센싱 전극(320)의 제2 메탈 메시 층(321)은 동시에 형성될 수 있다. 접이축(H)에 해당하는 영역에는 제2 메탈 메시 층(321)이 형성되지 않는다.
도 21을 보면, 절연층(315)에 제2 그래핀 층(322)이 형성된다. 제2 그래핀 층(322)은 접이축(H)에 해당하는 영역에 형성된다. 제2 그래핀 층(322)의 측면으로 제2 메탈 메시 층(321)이 접합된다. 제2 그래핀 층(322)이 형성되는 영역의 폭은 1~3mm 이하일 수 있다. 제2 그래핀 층(322)은 열 CVD, PE-CVD, MBE 등의 방법으로 형성될 수 있다.
도 22를 보면, 제2 그래핀 층(322)과 제2 메탈 메시 층(323)의 경계부 위에 제2 접합 메탈 메시 층(323)이 형성된다. 제2 접합 메탈 메시 층(323)은 프린팅 방식, 임프린팅 방식, 리소그라피 방식 등으로 제조될 수 있다. 제2 접합 메탈 메시 층(323)은 제2 메탈 메시 층(321)과 동일한 물질로 이루어질 수 있다. 제2 접합 메탈 메시 층(323)은 제2 그래핀 층(322)과 제2 메탈 메시 층(321)의 접촉 저항을 낮추고 접합력을 높일 수 있는 정도에서 최소한의 폭으로 형성될 수 있다.
도 23은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 터치스크린 패널의 접히는 부분에서 터치 전극의 단면을 나타내는 단면도이다.
도 22와 비교하여, 터치스크린 패널(300)은 제2 그래핀 층(322)과 제2 접합 메탈 메시 층(323) 위에 형성되는 굴절률 매칭 층(325)을 더 포함할 수 있다.
접이축(H)을 따라 형성된 제1 그래핀 층(312)과 제1 메탈 메시 층(311) 간의 굴절률 차이 및 제2 그래핀 층(322)과 제2 메탈 메시 층(321) 간의 굴절률 차이가 발생할 수 있다. 이러한 굴절률 차이를 최소화할 수 있는 굴절률 매칭 층(325)이 제2 그래핀 층(322)과 제2 접합 메탈 메시 층(323) 위에 형성될 수 있다. 굴절률 매칭 층(325)은 제2 그래핀 층(322)과 제2 접합 메탈 메시 층(323)을 둘러싸도록 형성될 수 있다. 굴절률 매칭 층(325)으로는 SiO2, ZnO2, AR(Anti-Reflection) 필름 코팅막 등이 이용될 수 있다. 굴절률 매칭 층(325)이 형성됨으로써 굴절률 차이에 의해 제1 그래핀 층(312) 및 제2 그래핀 층(322)이 시인되지 않도록 할 수 있다.
지금까지 참조한 도면과 기재된 발명의 상세한 설명은 단지 본 발명의 예시적인 것으로서, 이는 단지 본 발명을 설명하기 위한 목적에서 사용된 것이지 의미 한정이나 특허청구범위에 기재된 본 발명의 범위를 제한하기 위하여 사용된 것은 아니다. 그러므로 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시 예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.
100 : 접이식 표시 장치
101 : 제1 보호 윈도우
102 : 제2 보호 윈도우
200 : 표시 패널
300 : 터치스크린 패널
310 : 구동 전극
320 : 센싱 전극
330 : 감지 배선
340 : 감지 회로부
311, 321 : 메탈 메시 층
312, 322 : 그래핀 층
313, 323 : 접합 메탈 메시 층
325 : 굴절률 매칭 층
H : 접이축

Claims (20)

  1. 접이축을 기준으로 접히는 터치스크린 패널을 포함하고,
    상기 터치스크린 패널은,
    상기 접이축에 위치하는 적어도 하나의 제1 터치 전극을 포함하고,
    상기 접이축에 위치하는 적어도 하나의 제1 터치 전극 각각은,
    상기 접이축을 따라 투명 기판 위에 형성된 제1 그래핀 층;
    상기 투명 기판 위에 형성되어 상기 제1 그래핀 층의 측면으로 접합하는 제1 메탈 메시 층; 및
    상기 제1 그래핀 층과 상기 제1 메탈 메시 층의 경계부 위에 형성된 제1 접합 메탈 메시 층을 포함하고,
    상기 터치스크린 패널은 상기 제1 그래핀 층과 상기 제1 접합 메탈 메시 층 위에 형성되는 굴절률 매칭 층을 더 포함하는 표시 장치.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 터치스크린 패널은,
    상기 접이축에 위치하지 않는 복수의 제1 터치 전극을 더 포함하고,
    상기 접이축에 위치하지 않는 복수의 제1 터치 전극 각각은,
    상기 제1 메탈 메시 층으로 형성되는 표시 장치.
  3. 제2 항에 있어서,
    상기 제1 메탈 메시 층은 구리(Cu), 알루미늄(Al), 몰리브덴(Mo), 은(Ag) 중 어느 하나로 이루어지는 표시 장치.
  4. 제3 항에 있어서,
    상기 제1 접합 메탈 메시 층은 구리(Cu), 알루미늄(Al), 몰리브덴(Mo), 은(Ag) 중 어느 하나로 이루어지는 표시 장치.
  5. 삭제
  6. 접이축을 기준으로 접히는 터치스크린 패널을 포함하고,
    상기 터치스크린 패널은,
    상기 접이축에 위치하는 적어도 하나의 제1 터치 전극을 포함하고,
    상기 접이축에 위치하는 적어도 하나의 제1 터치 전극 각각은,
    상기 접이축을 따라 투명 기판 위에 형성된 제1 그래핀 층;
    상기 투명 기판 위에 형성되어 상기 제1 그래핀 층의 측면으로 접합하는 제1 메탈 메시 층;
    상기 제1 그래핀 층과 상기 제1 메탈 메시 층의 경계부 위에 형성된 제1 접합 메탈 메시 층; 및
    상기 투명 기판 위에 형성되는 투명 전도막을 더 포함하고,
    상기 제1 그래핀 층 및 상기 제1 메탈 메시 층은 상기 투명 전도막 위에 형성되는 표시 장치.
  7. 접이축을 기준으로 접히는 터치스크린 패널을 포함하고,
    상기 터치스크린 패널은,
    상기 접이축에 위치하는 적어도 하나의 제1 터치 전극을 포함하고,
    상기 접이축에 위치하는 적어도 하나의 제1 터치 전극 각각은,
    상기 접이축을 따라 투명 기판 위에 형성된 제1 그래핀 층;
    상기 투명 기판 위에 형성되어 상기 제1 그래핀 층의 측면으로 접합하는 제1 메탈 메시 층; 및
    상기 제1 그래핀 층과 상기 제1 메탈 메시 층의 경계부 위에 형성된 제1 접합 메탈 메시 층을 포함하고,
    상기 터치스크린 패널은,
    상기 제1 메탈 메시 층, 상기 제1 그래핀 층 및 상기 제1 접합 메탈 메시 층 위에 형성된 절연층; 및
    상기 접이축에 위치하는 적어도 하나의 제2 터치 전극을 더 포함하고,
    상기 접이축에 위치하는 적어도 하나의 제2 터치 전극 각각은,
    상기 접이축을 따라 상기 절연층 위에 형성된 제2 그래핀 층;
    상기 절연층 위에 형성되어 상기 제2 그래핀 층의 측면으로 접합하는 제2 메탈 메시 층; 및
    상기 제2 그래핀 층과 상기 제2 메탈 메시 층의 경계부 위에 형성된 제2 접합 메탈 메시 층을 포함하고,
    상기 터치스크린 패널은 상기 제2 그래핀 층과 상기 제2 접합 메탈 메시 층 위에 형성되는 굴절률 매칭 층을 더 포함하는 표시 장치.
  8. 삭제
  9. 삭제
  10. 제7 항에 있어서,
    상기 터치스크린 패널은,
    상기 접이축에 위치하지 않는 복수의 제2 터치 전극을 더 포함하고,
    상기 접이축에 위치하지 않는 복수의 제2 터치 전극 각각은,
    상기 제2 메탈 메시 층으로 형성되는 표시 장치.
  11. 제10 항에 있어서,
    상기 제2 메탈 메시 층은 구리(Cu), 알루미늄(Al), 몰리브덴(Mo), 은(Ag) 중 어느 하나로 이루어지는 표시 장치.
  12. 제11 항에 있어서,
    상기 제2 접합 메탈 메시 층은 구리(Cu), 알루미늄(Al), 몰리브덴(Mo), 은(Ag) 중 어느 하나로 이루어지는 표시 장치.
  13. 삭제
  14. 접이축을 기준으로 접히는 터치스크린 패널을 포함하는 표시 장치의 제조 방법에 있어서,
    투명 기판 위에 제1 메탈 메시 층을 형성하는 단계;
    상기 투명 기판 위에서 상기 접이축에 해당하는 영역에 제1 그래핀 층을 형성하는 단계;
    상기 제1 그래핀 층과 상기 제1 메탈 메시 층의 경계부 위에 제1 접합 메탈 메시 층을 형성하는 단계; 및
    상기 제1 그래핀 층과 상기 제1 접합 메탈 메시 층 위에 굴절률 매칭 층을 형성하는 단계를 포함하는 표시 장치의 제조 방법.
  15. 제14 항에 있어서,
    상기 투명 기판 위에 제1 메탈 메시 층을 형성하는 단계는,
    상기 접이축에 위치하는 적어도 하나의 제1 터치 전극에 포함되는 제1 메탈 메시 층을 형성하는 단계; 및
    상기 접이축에 위치하지 않는 복수의 제1 터치 전극을 상기 제1 메탈 메시 층으로 형성하는 단계를 포함하는 표시 장치의 제조 방법.
  16. 삭제
  17. 접이축을 기준으로 접히는 터치스크린 패널을 포함하는 표시 장치의 제조 방법에 있어서,
    투명 기판 위에 제1 메탈 메시 층을 형성하는 단계;
    상기 투명 기판 위에서 상기 접이축에 해당하는 영역에 제1 그래핀 층을 형성하는 단계;
    상기 제1 그래핀 층과 상기 제1 메탈 메시 층의 경계부 위에 제1 접합 메탈 메시 층을 형성하는 단계;
    상기 제1 메탈 메시 층, 상기 제1 그래핀 층 및 상기 제1 접합 메탈 메시 층 위에 절연층을 형성하는 단계;
    상기 절연층 위에 제2 메탈 메시 층을 형성하는 단계;
    상기 절연층 위에서 상기 접이축에 해당하는 영역에 제2 그래핀 층을 형성하는 단계;
    상기 제2 그래핀 층과 상기 제2 메탈 메시 층의 경계부 위에 제2 접합 메탈 메시 층을 형성하는 단계; 및
    상기 제2 그래핀 층과 상기 제2 접합 메탈 메시 층 위에 굴절률 매칭 층을 형성하는 단계를 포함하는 표시 장치의 제조 방법.
  18. 삭제
  19. 삭제
  20. 제17 항에 있어서,
    상기 절연층 위에 제2 메탈 메시 층을 형성하는 단계는,
    상기 접이축에 위치하는 적어도 하나의 제2 터치 전극에 포함되는 제2 메탈 메시 층을 형성하는 단계; 및
    상기 접이축에 위치하지 않는 복수의 제2 터치 전극을 상기 제2 메탈 메시 층으로 형성하는 단계를 포함하는 표시 장치의 제조 방법.
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