WO2022065498A1

WO2022065498A1 - 画像表示用導光板

Info

Publication number: WO2022065498A1
Application number: PCT/JP2021/035484
Authority: WO
Inventors: 慎一郎金井; 秀一久保; 孝之渡邊; 芳男若山
Original assignee: 三菱ケミカル株式会社
Priority date: 2020-09-28
Filing date: 2021-09-28
Publication date: 2022-03-31
Also published as: TW202227272A; US20230258857A1; KR20230056788A; EP4219145A4; EP4219145A1; CN116194285A

Abstract

第１樹脂基材（１）、第１アンカーコート層（２）及び第１バリア層（３）をこの順に備える第１積層体（１１）と、ホログラム層（４）と、を有し、第１バリア層（３）が、ケイ素酸窒化物を主成分とし、Ｘ線光電分子光法（ＸＰＳ）により求められる第１バリア層（３）中の窒素元素組成が０ａｔｍ％超２５ａｔｍ％以下である、画像表示用導光板。

Description

画像表示用導光板

　本発明は、画像表示用導光板に関する。
　本願は、２０２０年９月２８日に日本に出願された特願２０２０－１６２０９０号及び特願２０２０－１６２４８４号、２０２０年９月２９日に日本に出願された特願２０２０－１６３１４５号、２０２０年１２月２３日に日本に出願された特願２０２０－２１３３４９号及び特願２０２０－２１３３５０号、並びに２０２１年２月２５日に日本に出願された特願２０２１－０２８８３１号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。

　表示装置において、画像表示用導光板が用いられる場合がある。例えば、ＶＲ（仮想現実、Ｖｉｒｔｕａｌ　Ｒｅａｌｉｔｙ）技術又はＡＲ（拡張現実、Ａｕｇｍｅｎｔｅｄ　Ｒｅａｌｉｔｙ）技術を用いた表示装置においては、ホログラム層が透明基材に支持された画像表示用導光板が用いられる。ホログラム層には、種々の光学機能、例えば、導波、反射及び回折等の機能を有するホログラムが形成される。
　ホログラム層を形成するホログラム材料に使われる材料としては、ラジカル重合性モノマー、多価酸又はアミン等の塩基等を含む感光性組成物が多く、樹脂基材を劣化させる場合がある。ホログラム材料は、吸湿によって劣化することも知られている。このため、ホログラム層を樹脂基材で支持する表示装置は、高温多湿環境下で劣化しやすい。

　特許文献１には、光学的に透明な樹脂製の基体上に、ホログラムを形成する光感性材料層を形成し、光感性材料層を水性ポリマー保護バリアで被覆することが記載されている。特許文献１には、水性ポリマー保護バリアは、湿気によるアタックに耐える目的で設けられていることが示唆されている。

日本国特開平５－１８１４００号公報

　しかし、特許文献１に記載された技術には、以下の問題がある。
　特許文献１に記載された技術では、光感性材料層において水性ポリマー保護バリアと反対側の表面には、樹脂製の基体が密着している。
　このため、高温環境下において光感性材料が樹脂製の基体を侵食するおそれがある。
　さらに、樹脂製の基体の内部には水分が含まれるため、水分が光感性材料層との密着面を通して、光感性材料層に拡散する。加えて、基体が外部に露出しているため、基体には外部から水分が浸透し続ける。この結果、光感性材料層には樹脂製の基体を経由して水分が浸透するので、水性ポリマー保護バリアによって水分が遮蔽されるとしても、基体側からの水分により光感性材料層が経時劣化することを抑制できない。

　本発明は、ホログラム層の劣化を抑制できる画像表示用導光板の提供を目的とする。

＜１＞　樹脂基材、アンカーコート層及びバリア層をこの順に備える積層体と、ホログラム層と、を有し、前記バリア層が、ケイ素酸窒化物を主成分とし、Ｘ線光電分子光法（ＸＰＳ）により求められる前記バリア層中の窒素元素組成が０ａｔｍ％超２５ａｔｍ％以下である、画像表示用導光板。
＜２＞　樹脂基材、アンカーコート層及びバリア層をこの順に備える積層体と、ホログラム層とがこの順に配置され、前記バリア層の厚みが１５０ｎｍ以下であり、前記アンカーコート層と前記バリア層との合計厚みが３００ｎｍ以下であり、かつ、前記アンカーコート層の粘弾性測定におけるｔａｎδピーク温度が８０℃以下である、画像表示用導光板。
＜３＞　樹脂基材、アンカーコート層及びバリア層をこの順に備える積層体と、ホログラム層と、を有し、前記アンカーコート層の厚みをＡ　ｎｍとし、前記アンカーコート層の粘弾性測定におけるｔａｎδピーク温度をＢ　℃としたときに、Ａ／Ｂが３以下である、画像表示用導光板。
＜４＞　樹脂基材、アンカーコート層及びバリア層をこの順に備える積層体と、ホログラム層と、を有し、前記アンカーコート層が、水酸基を有するバインダー樹脂と、イソシアネート化合物とを含有する樹脂組成物からなり、前記バインダー樹脂の水酸基（ＯＨ）に対する前記イソシアネート化合物のイソシアネート基（ＮＣＯ）のモル比ＮＣＯ／ＯＨが０．８以上である、画像表示用導光板。
＜５＞　樹脂基材及び保護層を備える積層体と、ホログラム層とがこの順に配置され、前記保護層の前記ホログラム層と接する側の表面粗さＳａが５．５ｎｍ未満である画像表示用導光板。
＜６＞　樹脂基材と、バリア層と、ホログラム層とがこの順に配置され、前記樹脂基材及び前記バリア層を含む積層体の前記ホログラム層と接する側における入射角６０度での鏡面光沢度が１２０％以上である画像表示用導光板。

　本発明によれば、ホログラム層の劣化を抑制できる画像表示用導光板を提供できる。

本発明の画像表示用導光板の一例を示す模式的な断面図である。

　本発明において、「～」を用いて数値範囲を表す場合、「～」の両側の数値はその数値範囲に含まれる。
　本発明において、「（メタ）アクリル」は「アクリル」及び「メタクリル」を包含する。例えば、「ポリ（メタ）アクリル系樹脂」は「ポリアクリル系樹脂」及び「ポリメタクリル系樹脂」を包含する。また、同様に、「（メタ）アクリレート」は「アクリレート」及び「メタクリレート」を包含し、「（メタ）アクリロイル」は「アクリロイル」及び「メタクリロイル」を包含し、「（メタ）アクリロイルオキシ」は「アクリロイルオキシ」及び「メタクリロイルオキシ」を包含する。

　以下、本発明の実施形態について説明する。ただし、本発明は後述する実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない限り種々の変形が可能である。

＜＜第１の実施形態＞＞
　本発明の第１の実施形態に係る画像表示用導光板は、樹脂基材、アンカーコート層及びバリア層をこの順に備える積層体と、ホログラム層と、を有し、前記バリア層が、ケイ素酸窒化物を主成分とし、Ｘ線光電分子光法（ＸＰＳ）により求められる前記バリア層中の窒素元素組成が０ａｔｍ％超２５ａｔｍ％以下である。
　本実施形態の画像表示用導光板は、バリア層が上記特徴を有することで、ホログラム層の劣化を抑制でき、かつ、良好な光学特性を有する。

　本実施形態の画像表示用導光板は、前記樹脂基材が、ポリ（メタ）アクリル系樹脂、エポキシ樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂及びポリカーボネート系樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種の樹脂を含んでいてもよい。

　本実施形態の画像表示用導光板は、前記アンカーコート層が、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂及びポリエステル系樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種の樹脂を含んでいてもよい。

　本実施形態の画像表示用導光板は、前記積層体が、前記樹脂基材の両表面にハードコート層を有していてもよい。

　本実施形態の画像表示用導光板は、前記積層体の全光線透過率が９０％以上であってもよい。

　本実施形態の画像表示用導光板は、前記積層体のヘーズが０．１％未満であってもよい。

　本実施形態の画像表示用導光板は、分光色彩計によって測定される前記積層体のｂ＊が０．５未満であってもよい。

　本実施形態の画像表示用導光板は、前記積層体の水蒸気透過率が０．０１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ未満であってもよい。

　以下、本実施形態に係る画像表示用導光板について詳細に説明する。
＜画像表示用導光板＞
　本実施形態の画像表示用導光板は、樹脂基材、アンカーコート層及びバリア層を備える積層体と、ホログラム層とを有する。樹脂基材、アンカーコート層、バリア層及びホログラム層は、厚み方向において、この順に配置される。積層体は、ホログラム層の少なくとも一方の表面に配置されていればよいが、ホログラム層の両表面に配置されていてもよい。ホログラム層の両表面に積層体が配置される場合、ホログラム層の一方の表面に配置される積層体を第１積層体といい、ホログラム層の他方の表面に配置される積層体を第２積層体という。この場合、ホログラム層は、第１積層体の第１バリア層と、第２積層体の第２バリア層との間に挟まれており、第１バリア層の他方の面には第１アンカーコート層及び第１樹脂基材が積層されており、第２バリア層の他方の面には第２アンカーコート層及び第２樹脂基材が積層されている。本実施形態において、第１積層体及び第２積層体を総称して、以下、単に「積層体」という場合がある。第１樹脂基材及び第２樹脂基材を総称して、以下、単に「樹脂基材」という場合がある。また、第１アンカーコート層及び第２アンカーコート層を総称して、以下、単に「アンカーコート層」という場合がある。さらに、第１バリア層及び第２バリア層を総称して、以下、単に「バリア層」という場合がある。

　樹脂基材とアンカーコート層との間、アンカーコート層とバリア層との間、及びバリア層とホログラム層との間には、１層以上の透明層が配置されていてもよい。上記透明層としては、例えば、ハードコート層が挙げられる。
　また、アンカーコート層、バリア層及び透明層は、樹脂基材の一方の表面に配置されていればよいが、樹脂基材の両表面に配置されていてもよい。すなわち、バリア層、アンカーコート層、樹脂基材、アンカーコート層、バリア層及びホログラム層が厚み方向においてこの順に配置される構成、又は、バリア層、アンカーコート層、透明層、樹脂基材、透明層、アンカーコート層、バリア層及びホログラム層が厚み方向においてこの順に配置される構成であってもよい。

　上記画像表示用導光板は、画像光を入射する入射部と、画像光による画像を表示する表示部とを有する。
　上記ホログラム層は、上記入射部と上記表示部との間に配置される。上記ホログラム層には、少なくとも上記入射部から入射される画像光を上記表示部に導波し、上記表示部から出射させるための回折格子パターンが形成されている。
　上記表示部における上記回折格子パターンは、上記画像表示用導光板の外部から入射する外光の少なくとも一部を透過させる。なお、外光は、上記表示部とは反対側の面から入射する。

　上記入射部に入射した画像光は、上記ホログラム層内に導波され、上記表示部から外部に出射される。一方、外光も上記樹脂基材及び上記表示部を透過する結果、上記表示部の観察者は、画像光及び外光の両方を、その視野内で観察できる。
　本実施形態の画像表示用導光板は、ＶＲ（仮想現実）技術又はＡＲ（拡張現実）技術を用いた表示装置等に用いることができ、例えば、車載用ディスプレイ又は屋外で使用させるスポーツサングラスに用いることができる。
　また、本実施形態の画像表示用導光板は、ディスプレイ用途の他に、自動車搭載用のヘッドアップディスプレイ（ＨＵＤ、Ｈｅａｄ－Ｕｐ　Ｄｉｓｐｌａｙ）のコンバイナ又は反射型液晶表示デバイス用の反射板に代表されるホログラム光学素子（ＨＯＥ、Ｈｏｌｏｇｒａｐｈｉｃ　Ｏｐｔｉｃａｌ　Ｅｌｅｍｅｎｔ）等の装置に用いることができる。

　以下、図１に示す例に基づいて、本実施形態の画像表示用導光板の一例の詳細構成を説明する。図１は、本実施形態の画像表示用導光板の一例を示す模式的な断面図である。

　図１に示す画像表示用導光板８では、厚み方向において、第１樹脂基材１、第１アンカーコート層２、第１バリア層３、ホログラム層４、第２バリア層５、第２アンカーコート層６及び第２樹脂基材７がこの順に配置される。
　画像表示用導光板８の平面視形状は、特に限定されない。例えば、画像表示用導光板８は、用いられる表示装置に取り付け可能な形状に整形されていてもよい。
　例えば、画像表示用導光板８は、表示装置に取り付ける形状よりも大きな矩形板であってもよい。この場合、画像表示用導光板８は、表示装置に組み立てられる前に、表示装置に取り付け可能な形状に切断されるなどして成形される。
　画像表示用導光板８は、平板状であってもよいし、必要に応じて湾曲板状であってもよい。
　以下では、画像表示用導光板８が平面視矩形状の平板からなる場合の例で説明する。

［第１積層体１１］
　第１積層体１１は、第１樹脂基材１、第１アンカーコート層２及び第１バリア層３をこの順に備える。画像表示用導光板８は、第１積層体１１をホログラム層４の表面に配置することにより、ホログラム層の劣化を抑制し、かつ、良好な光学特性を得られる。

（光学特性）
　第１積層体１１の全光線透過率は、特に限定されないが、９０％以上が好ましく、９１％以上がより好ましく、９２％以上がさらに好ましい。第１積層体１１の全光線透過率が９０％以上であると、画像表示用導光板８の輝度値がより良好となる。
　また、同様の観点から、第１積層体１１のヘーズは０．１％未満が好ましく、０．０８％未満がより好ましく、０．０６％未満がさらに好ましく、０．０５％未満がよりさらに好ましい。

　分光色彩計によって測定される第１積層体１１のｂ＊の絶対値は０．８未満が好ましく、０．６未満がより好ましく、０．５未満がさらに好ましい。さらにその中でも、０．４未満がより好ましく、０．３未満がさらに好ましく、０．１未満がよりさらに好ましい。第１積層体１１のｂ＊の絶対値が０．８未満であると、画像表示用導光板８の輝度値及び鮮明性がより良好となる。

（バリア性）
　第１積層体１１の水蒸気透過率は、０．０１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ未満が好ましく、０．００８ｇ／ｍ^２／ｄａｙ未満がより好ましく、０．００６ｇ／ｍ^２／ｄａｙ未満がさらに好ましく、０．００４ｇ／ｍ^２／ｄａｙ未満がよりさらに好ましい。第１積層体１１の水蒸気透過率が０．０１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ未満であると、ホログラム層４の劣化をより抑制できる。

［第１樹脂基材１］
　第１樹脂基材１は、画像表示用導光板８の厚み方向の最外部に配置される。第１樹脂基材１は、画像表示用導光板８における表示画像出射側の表面に配置される。
　第１樹脂基材１は、画像表示用導光板８の外形と同様の形状を有する。
　第１樹脂基材１は、ホログラム層４から出射される画像光と、後述する第２樹脂基材７及びホログラム層４を透過する外光とを透過する。

　第１樹脂基材１の厚みは、特に限定されないが、０．０５～１０ｍｍが好ましい。
　第１樹脂基材１の厚みの下限は特に限定されないが、耐擦傷性を良好にする観点から、０．１ｍｍ以上が好ましく、０．２ｍｍ以上がより好ましい。
　また、第１樹脂基材１の厚みの上限は特に限定されないが、成形加工性及び全光線透過率を良好にする観点から、５ｍｍ以下が好ましく、３ｍｍ以下がより好ましく、２ｍｍ以下がさらに好ましい。
　なお、本明細書において第１樹脂基材１の厚みは、触針を用いるダイヤルゲージ式又はマイクロメーター等で測定できる。

　第１樹脂基材１の全光線透過率は、特に限定されないが、８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましい。第１樹脂基材１の全光線透過率が８０％以上であると、画像表示用導光板８の輝度値がより良好となる。

　第１樹脂基材１は、光学特性、耐衝撃性、耐擦傷性及び成形加工性をより良好にする観点から、熱可塑性樹脂を含むことが好ましい。
　上記熱可塑性樹脂としては、例えば、エチレン、プロピレン及びブテン等のアルケンの単独重合体又は共重合体等のポリオレフィン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂等の非晶質ポリオレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）及びポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル系樹脂、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース及びセロファン等のセルロース系樹脂、ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン１２及び共重合ナイロン等のポリアミド系樹脂、エチレン－酢酸ビニル共重合体部分加水分解物（ＥＶＯＨ）、ポリイミド系樹脂、ポリエーテルイミド系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、フッ素系樹脂、ポリ（メタ）アクリル系樹脂、ポリスチレン等のスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール共重合体、ポリ塩化ビニル、セルロース、アセチルセルロース、ポリ塩化ビニリデン、ポリフェニレンスルフィド、ポリウレタン、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリノルボルネン、スチレン－イソブチレン－スチレンブロック共重合体（ＳＩＢＳ）、アリルジグリコールカーボネート、並びに生分解性樹脂等の有機材料が挙げられる。これらの熱可塑性樹脂は、１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。また、第１樹脂基材１は、上記熱可塑性樹脂からなる群から選ばれる２種以上の材料からなる層が積層された構成であってもよい。
　本実施形態においては、透明性の観点から、ポリ（メタ）アクリル系樹脂、エポキシ樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂及びポリカーボネート系樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましい。
　これらのなかでも、耐擦傷性及び成形加工性に優れている点でポリ（メタ）アクリル系樹脂が好ましい。

（ポリ（メタ）アクリル系樹脂）
　上記ポリ（メタ）アクリル系樹脂を構成する単量体としては、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸、アクリル酸、ベンジル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、ｉ－ブチル（メタ）アクリレート、ｔ－ブチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－メトキシエチル（メタ）アクリレート、２－エトキシエチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ノルボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、コハク酸２－（メタ）アクリロイルオキシエチル、マレイン酸２－（メタ）アクリロイルオキシエチル、フタル酸２－（メタ）アクリロイルオキシエチル、ヘキサヒドロフタル酸２－（メタ）アクリロイルオキシエチル、ペンタメチルピペリジル（メタ）アクリレート、テトラメチルピペリジル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、及びジエチルアミノエチル（メタ）アクリレートが挙げられる。これらの単量体は、単独で重合して使用してもよく、２種以上を重合して使用してもよい。

　また、上記ポリ（メタ）アクリル系樹脂を構成する単量体と共重合可能なその他の単量体を添加してもよい。上記その他の単量体は、単官能単量体、すなわち分子内に重合性の炭素－炭素二重結合を１個有する化合物であってもよいし、多官能単量体、すなわち分子内に重合性の炭素－炭素二重結合を少なくとも２個有する化合物であってもよい。
　上記単官能単量体としては、例えば、スチレン、α－メチルスチレン及びビニルトルエン等の芳香族アルケニル化合物、アクリロニトリル及びメタクリロニトリル等のアルケニルシアン化合物、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、並びにＮ－置換マレイミドが挙げられる。
　また、上記多官能単量体としては、例えば、エチレングリコールジメタクリレート、ブタンジオールジメタクリレート及びトリメチロールプロパントリアクリレート等の多価アルコールのポリ不飽和カルボン酸エステル、アクリル酸アリル、メタクリル酸アリル及びケイ皮酸アリル等の不飽和カルボン酸のアルケニルエステル、フタル酸ジアリル、マレイン酸ジアリル、トリアリルシアヌレート及びトリアリルイソシアヌレート等の多塩基酸のポリアルケニルエステル、並びにジビニルベンゼン等の芳香族ポリアルケニル化合物が挙げられる。
　上記単官能単量体及び上記多官能単量体は、１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

　上記ポリ（メタ）アクリル系樹脂は、前述した単量体成分を、懸濁重合、乳化重合又は塊状重合等の公知の方法で重合させることにより製造できる。

［第１アンカーコート層２］
　第１アンカーコート層２は、第１樹脂基材１と第１バリア層３との間に配置される。
　第１アンカーコート層２を設けることによって、第１樹脂基材１と第１バリア層３との密着性が向上し、バリア性が良好になる。

　第１アンカーコート層２は、後述する第１バリア層３がドライ成膜によって形成される場合に生じる残留応力を緩和する役割も果たす。さらには、湿熱環境下（例えば、４０℃、９０％ＲＨ）における第１バリア層３の変形を抑え、画像表示用導光板８のヘーズの上昇を防ぐこともできる。
　第１バリア層３の残留応力を十分に緩和する観点から、第１アンカーコート層２の厚みは、１ｎｍ以上が好ましく、３ｎｍ以上がより好ましく、５ｎｍ以上がさらに好ましい。
　一方、第１バリア層３が残留応力によって大きく変形しすぎないようにする観点から、第１アンカーコート層２の厚みは、２００ｎｍ以下が好ましく、１５０ｎｍ以下がより好ましく、１００ｎｍ以下がさらに好ましい。
　また、第１バリア層３の残留応力を十分に緩和し、第１バリア層３が残留応力によって大きく変形しすぎないようにする観点から、第１アンカーコート層２の厚みは、１～２００ｎｍが好ましく、３～１５０ｎｍがより好ましく、５～１００ｎｍがさらに好ましい。
　なお、第１アンカーコート層２の厚みは、画像表示用導光板８の断面をＴＥＭ観察することで測定できる。

　第１樹脂基材１がポリ（メタ）アクリル系樹脂のような吸湿性の高い樹脂で形成される場合には、湿熱環境下で第１樹脂基材１が膨張することがある。この第１樹脂基材１の湿熱環境下での膨張に追随できるようにする観点から、第１アンカーコート層２の粘弾性測定におけるｔａｎδピーク温度は、８０℃以下が好ましく、７５℃以下がより好ましい。
　一方、第１バリア層３の残留応力によって、第１アンカーコート層２が大きく変形しすぎないようにする観点から、第１アンカーコート層２の粘弾性測定におけるｔａｎδピーク温度は１０℃以上が好ましく、１５℃以上がより好ましく、２０℃以上がさらに好ましい。
　また、第１樹脂基材１の湿熱環境下での膨張に第１アンカーコート層２が追随できるようにし、第１バリア層３の残留応力によって、第１アンカーコート層２が大きく変形しすぎないようにする観点から、第１アンカーコート層２の粘弾性測定におけるｔａｎδピーク温度は、１０～８０℃が好ましく、１５～８０℃がより好ましく、２０～７５℃がさらに好ましい。
　なお、本明細書において、ｔａｎδピーク温度は、第１アンカーコート層２から厚み２００μｍのシートを作製し、動的粘弾性測定装置（ＤＶＡ－２００、アイティー計測制御社製）を用いて、周波数１Ｈｚ、昇温速度３℃／分、測定温度－５０～２００℃の条件で粘弾性測定を行ったときの、損失正接（ｔａｎδ）のピーク温度である。

　第１アンカーコート層２の全光線透過率は、特に限定されないが、８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましい。第１アンカーコート層２の全光線透過率が８０％以上であると、画像表示用導光板８の輝度値が良好となる。

　また、第１樹脂基材１及び第１バリア層３の平均屈折率をｎ１とした場合、第１アンカーコート層２の屈折率ｎ２は、ｎ１±０．２０の範囲内が好ましく、ｎ１±０．１５の範囲内がより好ましく、ｎ１±０．１０の範囲内がさらに好ましい。第１アンカーコート層２の屈折率ｎ２がｎ１±０．２０の範囲内であると、画像表示用導光板８の輝度値が良好となるとともに、色ムラを防止できる。
　なお、屈折率は、アッベ屈折計（ＮＡＲ－４Ｔ、アタゴ社製）で測定した屈折率である。

　第１アンカーコート層２の材料は、特に限定されないが、例えば、熱可塑性樹脂又は硬化性樹脂が挙げられる。
　熱可塑性樹脂としては、例えば、フッ素系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、熱可塑性ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルイミド系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリエーテルシリコン系樹脂、ポリエステル系樹脂及びポリフェニレンサルファイド系樹脂が挙げられる。
　硬化性樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂及びシリコーン系樹脂が挙げられる。
　なかでも、水蒸気バリア性の観点からは熱可塑性樹脂としてのアクリル系樹脂又はポリエステル系樹脂が好ましい。

　第１アンカーコート層２を構成する樹脂組成物には、シランカップリング剤、増感剤、架橋剤、紫外線吸収剤、重合禁止剤、界面活性剤、充填剤、離型剤及び上記以外の熱可塑性樹脂を添加してもよい。これらの添加物は、１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
　なかでも、第１アンカーコート層２は架橋剤を含むことが好ましい。架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架橋剤、過酸化物系架橋剤、エポキシ系架橋剤及びイミン系架橋剤が挙げられ、イソシアネート系架橋剤が好ましい。架橋剤の含有量は、上記熱可塑性樹脂又は上記硬化性樹脂１００質量部に対して、０～２０質量部が好ましく、５～１５質量部がより好ましい。

　第１アンカーコート層２の形成方法としては、例えば、第１樹脂基材１に第１アンカーコート層２を形成する樹脂組成物を塗布して、さらにその上に第１バリア層３を積層し、この積層体をプレス、ニップロール、熱ラミネート等の方法で処理して形成させることができる。第１アンカーコート層２が硬化性樹脂からなる場合は、第１アンカーコート層２の形成に際して、硬化工程を含んでもよい。

［第１バリア層３］
　第１バリア層３は、第１アンカーコート層２と後述するホログラム層４との間に配置される。
　第１バリア層３は、画像表示用導光板８の外部及び第１樹脂基材１から浸透する、水蒸気、酸素等のガスがホログラム層４に浸透して劣化させることを防止する。
　よって、第１バリア層３の酸素透過率及び水蒸気透過率は、小さければ小さいほど好ましい。
　第１バリア層３の酸素透過率は、１ｃｍ^３／ｍ^２／ｄａｙ／ａｔｍ以下が好ましい。
　また、第１バリア層３の水蒸気透過率は、１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下が好ましく、０．５ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下がより好ましく、０．１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下がさらに好ましい。
　ここで、酸素透過率は、酸素透過率測定装置（ＯＸ－ＴＲＡＮ　２／２１、ＭＯＣＯＮ社製）を用いて測定した酸素透過率である。また、水蒸気透過率は、水蒸気透過率測定装置（ＤＥＬＴＡＰＥＲＭ、Ｔｅｃｈｎｏｌｏｘ社製）を用いて測定した水蒸気透過率である。

　第１バリア層３は、ケイ素酸窒化物を主成分とする。ここで「第１バリア層３の主成分」とは、第１バリア層３を構成する全成分のうち５０質量％以上を占める成分をいう。第１バリア層３のケイ素酸窒化物の割合は、第１バリア層の全質量に対して、５０質量％以上であれば特に限定されないが、６０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましく、８０質量％以上がさらに好ましい

　Ｘ線光電分子光法（ＸＰＳ：Ｘ－ｒａｙ　Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ　Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）により求められる第１バリア層３中の窒素元素組成は、０ａｔｍ％超２５ａｔｍ％以下であり、２ａｔｍ％以上２３ａｔｍ％以下が好ましく、５ａｔｍ％以上２０ａｔｍ％以下がより好ましく、１０ａｔｍ％以上１７ａｔｍ％以下がさらに好ましい。窒素元素組成が上記範囲内であると、第１バリア層３の透明性が高くなるため、画像表示用導光板８の光学特性が良好となる。

　第１バリア層３がドライ成膜によって形成される場合、第１バリア層３を外側にする方向にカールするような残留応力が生じる場合がある。この残留応力が大きくなりすぎないようにする観点から、第１バリア層３の厚みは、１５０ｎｍ以下が好ましく、１３０ｎｍ以下がより好ましい。
　一方、バリア性を良好にする観点から、第１バリア層３の厚みは、５ｎｍ以上が好ましく、１０ｎｍ以上がより好ましい。

　また、第１バリア層３の残留応力による変形を防ぐ観点から、第１アンカーコート層２と第１バリア層３との合計厚みは、３００ｎｍ以下が好ましく、２５０ｎｍ以下がより好ましく、２００ｎｍ以下がさらに好ましい。
　一方、上記残留応力を第１アンカーコート層２で十分に緩和し、第１バリア層３によるバリア性も良好にする観点から、第１アンカーコート層２と第１バリア層３との合計厚みは、３０ｎｍ以上が好ましく、５０ｎｍ以上がより好ましい。

　第１バリア層３は、第１樹脂基材１よりも高い屈折率を有することが好ましい。例えば、第１樹脂基材１としてアクリル系樹脂を用いる場合は、第１バリア層３の屈折率は１．４８以上が好ましく、１．４８以上３．０以下がより好ましい。第１バリア層３が第１樹脂基材１よりも高い屈折率を有していれば、第１バリア層３を経由して第１樹脂基材１を透過する光は、光学的に密な第１バリア層３から光学的に粗な第１樹脂基材１に入射することになり、第１バリア層３から第１樹脂基材１に向かう光の出射角が、第１バリア層３と第１樹脂基材１との屈折率差に応じて大きくなる。これにより、本画像表示用導光板におけるＦＯＶ（Ｆｉｅｌｄ　ｏｆ　Ｖｉｅｗ）を広げることができる。

　第１バリア層３は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法又はプラズマＣＶＤ法等の従来知られている成膜方法で形成できる。なかでも、良好なバリア性が得られ、画像表示用導光板８の鮮明性を良好にする観点から、成膜方法としては、スパッタリング法が好ましい。
　第１アンカーコート層２と第１バリア層３との接着性を向上させるために、第１アンカーコート層２の表面にコロナ放電処理又は低温プラズマ処理を施したり、シランカップリング剤を塗布したり、又は飽和ポリエステルとイソシアネートとの混合物を塗布したりする等の表面処理を施してもよい。
　第１バリア層３を、例えば、真空蒸着法によって成膜する場合は、蒸発物質としてケイ素、一酸化ケイ素、二酸化ケイ素、ケイ素酸窒化物又はこれらの混合物を用い、１．０×１０^－３～２．０×１０^－１Ｐａの真空下で、電子ビーム、抵抗加熱又は高周波加熱方式で加熱蒸発させる。
　また、成膜方法としては、例えば、酸素ガス又は窒素ガスを供給しながら行う反応蒸着法も採用できる。
　また、スパッタリング法によって成膜する場合には、例えば、ターゲットとしてケイ素、一酸化ケイ素、二酸化ケイ素、ケイ素酸窒化物又はこれらの混合物を用い、１．０×１０^－２～５．０×１０^－１Ｐａの真空下で、成膜できる。
　また、上記スパッタリング法としては、例えば、酸素ガス、窒素ガス又はアルゴンガスを供給しながら行う反応性スパッタ法も採用できる。

　第１バリア層３中の窒素元素組成は、成膜時の窒素流量、電力及び成膜圧力によって調整できる。
　特に窒素元素組成を０ａｔｍ％超２５ａｔｍ％以下とするために、酸素流量Ｏ_２［ｓｃｃｍ］と窒素流量Ｎ_２［ｓｃｃｍ］の比Ｏ_２／Ｎ_２は０．１０～１．５が好ましく、０．１２～１．０がより好ましく、０．１５以上がさらに好ましい。
　また、電力は１０００～２０００Ｗが好ましい。Ｏ_２／Ｎ_２と電力は相互に影響するため、Ｏ_２／Ｎ_２が０．１０以上０．１５未満の場合は、電力を１０００Ｗ以上１５００Ｗ未満とすることが好ましく、Ｏ_２／Ｎ_２が０．１５以上１．５以下の場合は、電力を１５００Ｗ以上２０００Ｗ以下とすることが好ましい。
　また、成膜圧力は１．０×１０^－２～２．０×１０^－１Ｐａが好ましく、５．０×１０^－２～１．５×１０^－１Ｐａが好ましい。

　第１バリア層３を形成するケイ素酸窒化物には、その中に不純物としてカルシウム、マグネシウム又はそれらの酸化物が１０質量％以下混入していてもよい。

　また、第１バリア層３は、上記ケイ素酸窒化物以外に、無機材料を含んでいてもよい。上記無機材料としては、例えば、ケイ素酸化物、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）及びアルミニウム酸化物が挙げられる。

［ホログラム層４］
　ホログラム層４は、第１バリア層３の表面のうち第１アンカーコート層２が密着している面とは反対側の表面に配置される。ホログラム層４には、画像表示用導光板８が備えるべき機能に対応する回折格子が適宜形成されている。

　ホログラム層４の材料は特に限定されず、公知のホログラム形成用樹脂材料を用いることができる。
　ホログラム層４の材料としては、例えば、溶媒可溶性でカチオン重合可能なエチレンオキシド環を構造単位中に少なくともひとつ有する熱硬化性樹脂と、ラジカル重合可能なエチレン性モノマーとを含むホログラム記録材料（特開平９－６２１６９号公報、特開平１１－１６１１４１号公報及び特開２００２－３１０９３２号公報を参照）が挙げられる。
　具体的には、ホログラム層４は、ビスフェノール系エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と、トリエチレングリコールジアクリレート等の（メタ）アクリレートと、４、４’－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート等の光重合開始剤と、３，３’－カルボニルビス（７－ジエチルアミノ）クマリン等の波長増感剤と、２－ブタノン等の有機溶剤とを含む感光材料から形成されることが好ましい。

［第２積層体１２］
　第２積層体１２は、第２バリア層５、第２アンカーコート層６及び第２樹脂基材７をこの順に備える。第２積層体１２の各種物性は、第１積層体１１と相違していてもよい。

［第２バリア層５］
　第２バリア層５は、ホログラム層４を介して第１バリア層３の反対側に積層される。第２バリア層５としては、第１バリア層３の説明において例示されたものと同様の構成が用いられる。ただし、第２バリア層５の厚み及び材料等は、第１バリア層３と相違していてもよい。

［第２アンカーコート層６］
　第２アンカーコート層６は、第２バリア層５と第２樹脂基材７との間に配置される。第２アンカーコート層６としては、第１アンカーコート層２の説明において例示されたものと同様の構成が用いられる。ただし、第２アンカーコート層６の厚み及び材料等は、第１アンカーコート層２と相違していてもよい。

［第２樹脂基材７］
　第２樹脂基材７は、第２バリア層５の表面に積層されている。第２樹脂基材７としては、第１樹脂基材１の説明において例示されたものと同様の構成が用いられる。ただし、第２樹脂基材７の厚み及び材料等は、第１樹脂基材１と相違していてもよい。特に、第２樹脂基材７は、画像表示用導光板８における表示画像出射側と反対に位置する外光入射側の表面に配置されるので、第１樹脂基材１に比べて表面硬度が高い材料が用いられてもよい。

［画像表示用導光板８］
　画像表示用導光板８は、第１樹脂基材１とホログラム層４との間及び第２樹脂基材７とホログラム層４との間に、それぞれ第１アンカーコート層２と第１バリア層３、第２バリア層５と第２アンカーコート層６が配置される。
　画像表示用導光板８の外部のガスは、ある程度、第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７を透過したり、内部に蓄積したりする。このとき、第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７には、特に水分が蓄積しやすい。
　しかし、本実施形態の構成によれば、外部から第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７に浸透した水分を第１バリア層３及び第２バリア層５で遮蔽できるので、ホログラム層４への水蒸気の浸透が抑制され、ホログラム層４の劣化を防止できる。

　また、第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７の耐薬品性は、樹脂材料の種類によって程度の差はあるが、ガラスに比べると格段に低い。このため、第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７は、ガラスよりもより低い耐溶剤性及び耐ホログラム材料性を有している。
　第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７がホログラム層４と接触している場合、ホログラム層４の構成成分であるホログラム剤が第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７を透過したり、第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７の内部にホログラム剤が蓄積したりしやすい。第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７がホログラム剤に曝されると、第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７が劣化し、ＦＯＶ（Ｆｉｅｌｄ　ｏｆ　Ｖｉｅｗ）の低下及び鮮明度の低下が起こりやすくなる。
　しかし、本実施形態の構成によれば、第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７とホログラム層４との間に、それぞれ第１バリア層３及び第２バリア層５を設けることにより、第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７へのホログラム剤の浸透が抑制されることで、第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７の劣化も防止できる。

［ハードコート層］
　本実施形態の画像表示用導光板は、樹脂基材の表面の鉛筆硬度を高める目的で、又は、バリア層の表面粗さＳａを小さくする目的で、樹脂基材の、一方の表面又は両方の表面に、ハードコート層を有していてもよい。

　上記ハードコート層は硬化性樹脂組成物から形成されることが好ましい。上記硬化性樹脂組成物は、特に限定されないが、電子線、放射線若しくは紫外線等のエネルギー線を照射することにより硬化するもの又は加熱により硬化するものが好ましく、成形時間及び生産性の観点から、紫外線硬化性樹脂組成物がより好ましい。

　上記硬化性樹脂組成物を構成する硬化性樹脂として、例えば、アクリレート化合物、ウレタンアクリレート化合物、エポキシアクリレート化合物、カルボキシル基変性エポキシアクリレート化合物、ポリエステルアクリレート化合物、共重合系アクリレート、脂環式エポキシ樹脂、グリシジルエーテルエポキシ樹脂、ビニルエーテル化合物及びオキセタン化合物等が挙げられる。上記硬化性樹脂は、１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
　これらの硬化性樹脂のなかでも、上記ハードコート層に優れた表面硬度を付与できることから、多官能アクリレート化合物、多官能ウレタンアクリレート化合物若しくは多官能エポキシアクリレート化合物等のラジカル重合系の硬化性化合物、又はアルコキシシラン若しくはアルキルアルコキシシラン等の熱重合系の硬化性化合物が好ましい。

　上記ハードコート層を形成する硬化性樹脂組成物は、表面調整成分としてレベリング剤を含んでもよい。上記レベリング剤としては、例えば、フッ素系レベリング剤、シリコーン系レベリング剤及びアクリル系レベリング剤が挙げられる。これらのレベリング剤のなかでも、上記ハードコート層の表面にバリア層を積層した際に、優れた密着性を確保できることから、アクリル系レベリング剤が好ましい。

　上記硬化性樹脂組成物を紫外線で硬化させる場合は、光重合開始剤を使用する。上記光重合開始剤としては、例えば、ベンジル、ベンゾフェノン及びその誘導体、チオキサントン類、ベンジルジメチルケタール類、α－ヒドロキシアルキルフェノン類、ヒドロキシケトン類、アミノアルキルフェノン類並びにアシルホスフィンオキサイド類が挙げられる。上記光重合開始剤の添加量は、通常、上記硬化性樹脂組成物１００質量部に対して、０．１～８質量部である。

　上記ハードコート層を形成する硬化性樹脂組成物は、屈折率調整成分を含んでもよい。上記屈折率調整成分としては、例えば、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム若しくは酸化チタン等の高屈折率金属化合物の微粒子又はフッ化マグネシウム等の低屈折率金属化合物の微粒子等の屈折率調整成分の微粒子が挙げられる。ここで、上記屈折率調整成分の微粒子のサイズが５～５０ｎｍであると、上記ハードコート層の透明性及び全光線透過率を損なうことがないので好ましい。また、上記屈折率調整成分の微粒子を、あらかじめ上記硬化性樹脂組成物との混合物にしておいたものを、上記ハードコート層を形成する硬化性樹脂組成物に混合して、含ませてもよい。また、上記屈折率調整成分の微粒子を、あらかじめ上記硬化性樹脂組成物との混合物にしておいたものをそのまま、上記ハードコート層を形成する硬化性樹脂組成物としてもよい。上記屈折率調整成分の微粒子を、あらかじめ上記硬化性樹脂組成物との混合物としたものとしては、市販品が存在する。このような市販品としては、例えば、リオデュラスＴＹＺ、リオデュラスＴＹＴ及びリオデュラスＴＹＭ（以上、トーヨーケム社製）が挙げられる。

　ハードコート層を形成する硬化性樹脂組成物は、上述した成分の他に、例えば、ケイ素系化合物、フッ素系化合物又はこれらの混合化合物等の滑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、シリコーン系化合物等の難燃剤、フィラー、ガラス繊維及びシリカ等の添加剤を含んでもよい。これらの添加剤は、１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

　ハードコート層の厚みは、特に限定されないが、１～２０μｍが好ましい。ハードコート層の厚みが１μｍ以上であると、樹脂基材の表面により十分な硬度を付与できる。また、ハードコート層の厚みが２０μｍ以下であると、樹脂基材に成形加工性及び断裁性をさらに確保できる。さらに、ハードコート層の硬化収縮がさらに抑制されて、樹脂基材の反り及びうねりを生じさせない点でも好ましい。

　樹脂基材の屈折率をｎａとした場合、ハードコート層の屈折率ｎｂは、ｎａ±０．２０の範囲内が好ましく、ｎａ±０．１５の範囲内がより好ましく、ｎａ±０．１０の範囲内がさらに好ましい。ハードコート層の屈折率ｎｂがｎａ±０．２０の範囲内であると、画像表示用導光板８の輝度値がより良好になるとともに、色ムラをさらに防止できる。

　ハードコート層の形成方法としては、例えば、硬化性樹脂組成物の塗料として樹脂基材の表面に塗工した後、硬化膜とすることにより、樹脂基材の表面に形成、積層する方法が挙げられるが、この方法に限定されない。
　樹脂基材との積層方法としては、公知の方法が使用される。上記公知の方法としては、例えば、ディップコート法、ナチュラルコート法、リバースコート法、カンマコーター法、ロールコート法、スピンコート法、ワイヤーバー法、エクストルージョン法、カーテンコート法、スプレーコート法及びグラビアコート法が挙げられる。その他、例えば、離型層にハードコート層が形成された転写シートを用いて、ハードコート層を樹脂基材に積層する方法を採用してもよい。
　なお、ハードコート層と樹脂基材の密着性を向上させる目的で、樹脂基材の表面にあらかじめ下地膜（プライマー層）を設けておいてもよい。

＜画像表示用導光板の製造方法＞
　本実施形態の画像表示用導光板の製造方法の一例として、図１に示される画像表示用導光板８の製造方法について説明する。
　第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７が準備され（［基材準備工程］）、第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７の表面に、第１アンカーコート層２及び第２アンカーコート層６を介して第１バリア層３及び第２バリア層５がそれぞれ形成される（［バリア層形成工程］）。第１バリア層３及び第２バリア層５の製造方法としては、第１バリア層３及び第２バリア層５の材料に応じて適宜の製造方法が選択される。
　例えば、第１バリア層３が形成された第１樹脂基材１における第１バリア層３の表面に、ホログラム形成用の感光材料が塗布される。このとき、第１バリア層３の外周部には、ホログラム層４と同厚みの透明なシール層が設けられてもよい。シール層は、感光材料からホログラム層４が形成された後にホログラム層４の外周部をシールする。シール層は、透明材料からなり、例えば、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂又はエン・チオール樹脂等が用いられる。
　この後、感光材料上に、第２バリア層５が形成された第２樹脂基材７が、第２バリア層５を感光材料の方に向けられた状態で載置される（［導光板作製工程］）。
　ただし、上述の製造順序は一例である。例えば、第２バリア層５が形成された第２樹脂基材７に感光材料が塗布されてから、第１バリア層３が形成された第１樹脂基材１がホログラム層４上に載置されてもよい。
　この後、減圧プレスによって、第１樹脂基材１、第１アンカーコート層２、第１バリア層３、ホログラム層４、第２バリア層５、第２アンカーコート層６及び第２樹脂基材７の各層が貼り合わせられ、画像表示用導光板８が得られる。
　この後、感光材料に回折パターンに対応した干渉縞を形成し、感光材料中に、回折格子を形成する。

＜＜第２の実施形態＞＞
　本発明の第２の実施形態に係る画像表示用導光板は、樹脂基材、アンカーコート層及びバリア層をこの順に備える積層体と、ホログラム層とがこの順に配置され、前記バリア層の厚みが１５０ｎｍ以下であり、前記アンカーコート層と前記バリア層との合計厚みが３００ｎｍ以下であり、かつ、前記アンカーコート層の粘弾性測定におけるｔａｎδピーク温度が８０℃以下である。
　バリア層の厚みが１５０ｎｍ以下であると、バリア層の残留応力が大きくなりすぎないため、バリア層にクラックが生じることを防げる。
　また、アンカーコート層とバリア層との合計厚みが３００ｎｍ以下であると、バリア層が残留応力によって大きく変形しすぎることを防げる。
　さらに、アンカーコート層の粘弾性測定におけるｔａｎδピーク温度が８０℃以下であると、樹脂基材が湿熱環境下で膨張しても、アンカーコート層が追随するため、クラックが発生しにくい。
　よって、上記構成を備えることによって、バリア層の残留応力に起因するクラックや変形、さらには樹脂基材の湿熱環境下での膨張に起因するクラックを防ぐことができるため、バリア性が良好となり、ホログラム層の劣化を抑制できる。

　本実施形態の画像表示用導光板は、前記樹脂基材が、ポリ（メタ）アクリル系樹脂、エポキシ樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂及びポリカーボネート系樹脂からなる群から選ばれる１種以上の樹脂を含んでいてもよい。

　本実施形態の画像表示用導光板は、前記バリア層が無機材料を含んでいてもよい。

　本実施形態の画像表示用導光板は、前記バリア層が、ケイ素酸化物、ケイ素酸窒化物、ダイヤモンドライクカーボン及びアルミニウム酸化物からなる群から選ばれる１種以上の無機材料を含んでいてもよい。

　本実施形態の画像表示用導光板は、前記アンカーコート層が、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂及びポリエステル系樹脂からなる群から選ばれる１種以上の樹脂を含んでいてもよい。

　以下、本実施形態に係る画像表示用導光板について説明する。
＜画像表示用導光板＞
　本実施形態の画像表示用導光板の積層構成の概要は、上記第１の実施形態に係る画像表示用導光板と同様である。

［第１積層体１１］
　第１積層体１１は、第１樹脂基材１、第１アンカーコート層２及び第１バリア層３をこの順に備える。画像表示用導光板８は、第１積層体１１をホログラム層４の表面に配置することにより、ホログラム層の劣化を抑制できる。

（バリア性）
　第１積層体１１の水蒸気透過率は、０．１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ未満が好ましく、０．０８ｇ／ｍ^２／ｄａｙ未満がより好ましく、０．０５ｇ／ｍ^２／ｄａｙ未満がさらに好ましく、０．０３ｇ／ｍ^２／ｄａｙ未満がよりさらに好ましく、０．０１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ未満がいっそう好ましく、０．００５ｇ／ｍ^２／ｄａｙ未満がよりいっそう好ましい。
　第１積層体１１の水蒸気透過率が上記範囲内であると、ホログラム層４の劣化をより抑制できる。

［第１樹脂基材１］
　第１樹脂基材１の好適な厚み、全光線透過率及び材料は、上記第１の実施形態に係る第１樹脂基材１と同様である。

　第１樹脂基材１の表面粗さＳａは、特に限定されないが、０ｎｍを下限として、１０ｎｍ以下が好ましく、８ｎｍ以下がより好ましく、６ｎｍ以下がさらに好ましい。表面粗さＳａが１０ｎｍ以下であれば、第１積層体１１の表面粗さＳａを小さくすることができ、画像表示用導光板８の輝度値が良好となる。
　なお、本明細書において、表面粗さＳａは、白色干渉計（バートスキャン（ＶｅｒｔＳｃａｎ）、菱化システム社製）を用いて測定した表面粗さである。

［第１アンカーコート層２］
　第１アンカーコート層２の好適な厚み、ｔａｎδピーク温度、全光線透過率、屈折率及び材料と形成方法は、上記第１の実施形態に係る第１アンカーコート層２と同様である。

［第１バリア層３］
　第１バリア層３の好適な酸素透過率、水蒸気透過率、厚み、屈折率は、上記第１の実施形態に係る第１バリア層３と同様である。

　第１バリア層３は、無機材料を含むことが好ましい。なかでも、ケイ素酸化物、ケイ素酸窒化物、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）及びアルミニウム酸化物からなる群から選ばれる１種以上を含むことがより好ましい。さらに、全光線透過率及びバリア性を良好にする観点から、第１バリア層３は、ケイ素酸化物又はケイ素酸窒化物を含むことがさらに好ましい。

　第１バリア層３がケイ素酸化物又はケイ素酸窒化物からなる場合、第１バリア層３は、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法又はプラズマＣＶＤ法等の従来知られている方法で形成できる。なかでも、良好なバリア性が得られ、画像表示用導光板８の鮮明性を良好にする観点から、スパッタリング法が好ましい。
　第１アンカーコート層２と第１バリア層３との接着性を向上させるために、第１アンカーコート層２の表面にコロナ放電処理又は低温プラズマ処理を施したり、シランカップリング剤を塗布したり、飽和ポリエステルとイソシアネートとの混合物を塗布したりする等の表面処理を施してもよい。
　例えば、真空蒸着法によって成膜する場合は、蒸発物質としてケイ素、一酸化ケイ素、二酸化ケイ素、ケイ素酸窒化物又はこれらの混合物を用い、１．０×１０^－３～２．０×１０^－１Ｐａの真空下で、電子ビーム、抵抗加熱又は高周波加熱方式で加熱蒸発させる。
　また、酸素ガス、窒素ガスを供給しながら行う反応蒸着法も採用できる。
　また、例えば、スパッタリング法によって成膜する場合には、ターゲットとしてケイ素、一酸化ケイ素、二酸化ケイ素、ケイ素酸窒化物又はこれらの混合物を用い、１．０×１０^－２～５．０×１０^－１Ｐａの真空下で、成膜できる。
　また、酸素ガス、窒素ガス、アルゴンガスを供給しながら行う反応性スパッタ法も採用できる。

　第１バリア層３を形成するケイ素酸化物又はケイ素酸窒化物には、１０質量％以下であれば、その中に不純物としてカルシウム、マグネシウム又はそれらの酸化物が混入していてもよい。

　ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）は、一般的にはダイヤモンド状の構造と、グラファイト状の構造と、水素原子を構造に含むポリエチレン様の高分子構造と、の三元系の構造からなる非晶質炭素材料である。ＤＬＣの生成に当たり、炭素源としてエチレン、アセチレン又はベンゼン等の炭化水素を用いた場合には、通常、水素を含む基本的に三元系の構造となる。
　ＤＬＣは、硬質性、潤滑性、耐摩耗性、化学的安定性、耐熱性及び表面平滑性に優れている。ＤＬＣは、上述した緻密な高分子構造を形成するため、ガスバリア性及び水蒸気バリア性にも優れる。

　ＤＬＣによって第１バリア層３を形成する場合は、例えば、プラズマＣＶＤ法、イオンプレーティング法又はイオンビームスパッタリング法等の物理蒸着法等、周知の適宜コーティング方法を用いることができる。

　第１バリア層３がアルミニウム酸化物からなる場合、第１バリア層３は、例えば、Ａｌ_２Ｏ_３のみで形成されてもよいし、Ａｌ、ＡｌＯ及びＡｌ_２Ｏ_３からなる群から選択される２種以上が混じり合って形成されてもよい。アルミニウム酸化物層におけるＡｌ：Ｏの原子数比は、アルミニウム酸化物層の作製条件によって異なる。第１バリア層３として使用できるアルミニウム酸化物層は、バリア性能が損なわれない範囲で微量（全成分に対して高々３％まで）の他成分が含まれてもよい。

　アルミニウム酸化物によって第１バリア層３を形成する場合は特に限定されない。例えば、第１バリア層３を形成する方法として、真空蒸着法、スパッタ法若しくはイオンプレーティング等のＰＶＤ法（物理蒸着法）又はＣＶＤ法（化学蒸着法）が用いられてもよい。
　例えば、真空蒸着法においては、蒸着源材料としてＡｌ、Ａｌ_２Ｏ_３等が用いられ、蒸着源の加熱方式としては、抵抗加熱、高周波誘導加熱、電子ビ－ム加熱等が用いられてもよい。真空蒸着法においては、反応性ガスとして、酸素、窒素又は水蒸気等を導入したり、オゾン添加又はイオンアシスト等の手段を用いた反応性蒸着を用いたりしてもよい。さらに、成膜面にバイアスを加えたり、成膜面の温度を上昇したり、冷却したりしてもよい。スパッタ法その他の真空蒸着法以外のＰＶＤ法及びＣＶＤ法等の他の成膜方法においても同様である。

［ホログラム層４］
　ホログラム層４の好適な材料は、上記第１の実施形態に係るホログラム層４と同様である。

　また、第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７の耐薬品性は、樹脂材料の種類によって程度の差はあるが、ガラスに比べると格段に低い。このため、第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７は、ガラスよりもより低い耐溶剤性及び耐ホログラム材料性を有している。
　第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７がホログラム層４と接触している場合、ホログラム層４の構成成分であるホログラム剤が第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７を透過したり、第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７の内部にホログラム剤が蓄積したりしやすい。第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７がホログラム剤に曝されると、第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７が劣化し、ＦＯＶ（Ｆｉｅｌｄ　ｏｆ　Ｖｉｅｗ）の低下や、鮮明度の低下等が起こりやすくなる。
　しかし、本実施形態の構成によれば、第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７とホログラム層４との間に、それぞれ第１バリア層３及び第２バリア層５を設けることにより、第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７へのホログラム剤の浸透が抑制されることで、第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７の劣化も防止できる。

［ハードコート層］
　本実施形態の画像表示用導光板は、樹脂基材の表面の鉛筆硬度を高める目的で、又は、バリア層の表面粗さＳａを小さくする目的で、樹脂基材の、一方の表面又は両方の表面に、ハードコート層を有していてもよい。
　ハードコート層の好適な材料、厚み及び屈折率と形成方法は、上記第１の実施形態に係るハードコート層と同様である。

＜画像表示用導光板の製造方法＞
　本実施形態の画像表示用導光板の製造方法は、上記第１の実施形態に係る画像表示用導光板の製造方法と同様である。

＜＜第３の実施形態＞＞
　本発明の第３の実施形態に係る画像表示用導光板は、樹脂基材、アンカーコート層及びバリア層をこの順に備える積層体と、ホログラム層と、を有し、前記アンカーコート層の厚みをＡ　ｎｍとし、前記アンカーコート層の粘弾性測定におけるｔａｎδピーク温度をＢ　℃としたときに、Ａ／Ｂが３以下である。
　本実施形態の画像表示用導光板は、上記構成を備えることで、ホログラム層の劣化を抑制できるうえに、湿熱環境下でバリア層の残留応力による変形が起こりにくいため、湿熱環境下においても光学特性が変化しにくい。

　本実施形態の画像表示用導光板は、前記アンカーコート層の厚みが１ｎｍ以上２００ｎｍ以下であってもよい。

　本実施形態の画像表示用導光板は、前記アンカーコート層の粘弾性測定におけるｔａｎδピーク温度が１０℃以上８０℃以下であってもよい。

［第１積層体１１］
　第１積層体１１は、第１樹脂基材１、第１アンカーコート層２及び第１バリア層３をこの順に備える。画像表示用導光板８は、第１積層体１１をホログラム層４の表面に配置することにより、ホログラム層の劣化を抑制できる。
　第１積層体１１の好適な水蒸気透過率は、上記第１の実施形態に係る第１積層体１１と同様である。

（光学特性）
　第１積層体１１のヘーズは０．１％未満が好ましく、０．０８％未満がより好ましく、０．０６％未満がさらに好ましく、０．０５％未満がよりさらに好ましい。第１積層体１１のヘーズが０．１％未満であると、画像表示用導光板８の輝度値がより良好となる。
　また、第１積層体１１を４０℃９０％で１０日保管した後のヘーズは２％未満が好ましく、１％未満がより好ましく、０．５％未満がさらに好ましく、０．２％未満がよりさらに好ましく、０．１％未満が特に好ましい。

　第１アンカーコート層２のｔａｎδピーク温度が環境温度より低い場合、画像表示用導光板８を湿熱環境下に置くと、第１アンカーコート層２の弾性率が下がる。そして、第１アンカーコート層２が柔らかくなると、第１バリア層３の残留応力を抑えることができなくなるため、第１バリア層３が変形し、ヘーズが上昇しやすくなる。第１アンカーコート層２が厚い場合も、湿熱環境下で第１バリア層３の残留応力によって大きく変形しやすくなるため、ヘーズが上昇しやすくなる。
　一方で、第１アンカーコート層２のｔａｎδピーク温度が環境温度より高い場合は、湿熱環境下でも弾性率が低下しにくいため、第１バリア層３の残留応力による変形が起こりにくく、ヘーズの上昇が抑えられる。第１アンカーコート層２が薄い場合も、第１バリア層３の残留応力による変形が起こりにくいため、ヘーズの上昇が抑えられる。
　以上の観点から、第１アンカーコート層２の厚みをＡ［ｎｍ］とし、第１アンカーコート層２の粘弾性測定におけるｔａｎδピーク温度をＢ［℃］としたとき、Ａ／Ｂは３以下であり、２．５以下が好ましく、２以下がより好ましい。

［第１バリア層３］
　第１バリア層３の好適な酸素透過率、水蒸気透過率、厚み、屈折率は、上記第１の実施形態に係る第１バリア層３と同様である。
　また、第１バリア層３の好適な材料と形成方法は上記第２実施形態に係る第１バリア層３と同様である。

＜＜第４の実施形態＞＞
　本発明の第４の実施形態に係る画像表示用導光板は、樹脂基材、アンカーコート層及びバリア層をこの順に備える積層体と、ホログラム層と、を有し、前記アンカーコート層が、水酸基を有するバインダー樹脂と、イソシアネート化合物とを含有する樹脂組成物からなり、前記バインダー樹脂の水酸基（ＯＨ）に対する前記イソシアネート化合物のイソシアネート基（ＮＣＯ）のモル比ＮＣＯ／ＯＨが０．８以上である。
　本実施形態の画像表示用導光板は、アンカーコート層が上記特徴を有することで、ホログラム層の劣化を抑制できるうえに、良好な耐溶剤性を有する。

　本実施形態の画像表示用導光板は、前記アンカーコート層が、前記バインダー樹脂としてアクリル系樹脂、ウレタン系樹脂及びポリエステル系樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種の樹脂を含んでいてもよい。

　本実施形態の画像表示用導光板は、前記バリア層が、ケイ素酸化物、ケイ素酸窒化物、ダイヤモンドライクカーボン及びアルミニウム酸化物からなる群から選ばれる少なくとも１種の無機材料を含んでいてもよい。

　本実施形態の画像表示用導光板は、前記バリア層が、ケイ素酸窒化物を主成分とし、Ｘ線光電分子光法（ＸＰＳ）により求められる前記バリア層中の窒素元素組成が７ａｔｍ％以上であってもよい。

［第１積層体１１］
　第１積層体１１は、第１樹脂基材１、第１アンカーコート層２及び第１バリア層３をこの順に備える。画像表示用導光板８は、第１積層体１１をホログラム層４の表面に配置することにより、ホログラム層の劣化を抑制し、かつ、良好な耐溶剤性を得られる。
　なお、本発明における「耐溶剤性」とは、第１バリア層３側の表面にイソプロピルアルコールなどの溶剤を滴下し、ワイプで拭き取ったときに、第１バリア層３が第１樹脂基材１から剥離しないことをいう。より具体的には、実施例に記載の方法で評価される。
　第１積層体１１の好適な全光線透過率及び水蒸気透過率は、上記第１の実施形態に係る第１積層体１１と同様である。

［第１アンカーコート層２］
　第１アンカーコート層２の好適な厚み、全光線透過率、屈折率と形成方法は、上記第１の実施形態に係る第１アンカーコート層２と同様である。

　第１アンカーコート層２は、水酸基を有するバインダー樹脂と、イソシアネート化合物とを含む樹脂組成物からなる。バインダー樹脂がイソシアネート化合物によって架橋されることで、耐溶剤性が良好となる。

　水酸基を有するバインダー樹脂としては、特に限定されないが、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエーテル系樹脂及びポリエステル系樹脂が挙げられ、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂及びポリエステル系樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましい。バインダー樹脂は、一分子中に水酸基を２つ以上有するポリオールが好ましい。

　バインダー樹脂の水酸基価は、架橋密度を高くする観点から、０．１～３００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、１～２００ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましく、５～１５０ｍｇＫＯＨ／ｇがさらに好ましい。

　イソシアネート化合物は、芳香族又は脂肪族ジイソシアネート或いは３価以上のポリイソシアネートが好ましい。イソシアネート化合物としては、例えば、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、水素化ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、水素化キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネート、ジシクロヘキシルジイソシアネート、又はこれらの三量体が挙げられる。

　バインダー樹脂の水酸基（ＯＨ）に対するイソシアネート化合物のイソシアネート基（ＮＣＯ）のモル比ＮＣＯ／ＯＨは０．８以上であり、０．９以上が好ましく、１以上がより好ましい。上限は特に限定されないが、１０以下が好ましい。
　イソシアネート化合物のイソシアネート基がバインダー樹脂の水酸基より多く含まれると、イソシアネート化合物の一部が第１樹脂基材１表面の官能基とも反応して結合を形成するため、第１樹脂基材１と第１アンカーコート層２との密着性が良好になる。

　第１アンカーコート層２を構成する樹脂組成物には、上記水酸基を有するバインダー樹脂以外の樹脂、シランカップリング剤、増感剤、イソシアネート化合物以外の架橋剤、紫外線吸収剤、重合禁止剤、界面活性剤、充填剤、離型剤及び上記以外の熱可塑性樹脂を添加してもよい。これらの添加物は、１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
　上記水酸基を有するバインダー樹脂以外の樹脂としては、例えば、フッ素系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、シリコーン系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、熱可塑性ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルイミド系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリエーテルシリコン系樹脂及びポリフェニレンサルファイド系樹脂が挙げられる。
　上記イソシアネート化合物以外の架橋剤としては、例えば、過酸化物系架橋剤、エポキシ系架橋剤及びイミン系架橋剤が挙げられる。

［第１バリア層３］
　第１バリア層３の好適な酸素透過率、水蒸気透過率、厚み、屈折率は、上記第１の実施形態に係る第１バリア層３と同様である。
　また、第１バリア層３の好適な材料と形成方法は上記第２実施形態に係る第１バリア層３と同様である。
　なかでも、バリア性及び耐溶剤性の観点から、第１バリア層３はケイ素酸窒化物を主成分として含むことが好ましい。

　第１バリア層３がケイ素酸窒化物を含む場合、Ｘ線光電分子光法（ＸＰＳ：Ｘ－ｒａｙ　Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ　Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）により求められる第１バリア層３中の窒素元素組成は、７ａｔｍ％以上が好ましく、８ａｔｍ％以上がより好ましく、９ａｔｍ％以上がさらに好ましく、１０ａｔｍ％以上がよりさらに好ましい。窒素元素組成が７ａｔｍ％以上であると、第１バリア層３の耐溶剤性が良好となる。
　また、第１バリア層３中の窒素元素組成は、光学特性の観点から、４０ａｔｍ％以下が好ましく、３０ａｔｍ％以下がより好ましく、２５ａｔｍ％以下がさらに好ましい。

　第１バリア層３中の窒素元素組成は、成膜時の窒素流量、電力及び成膜圧力によって調整できる。
　特に窒素元素組成を７ａｔｍ％以上とするために、酸素流量Ｏ_２［ｓｃｃｍ］と窒素流量Ｎ_２［ｓｃｃｍ］の比Ｏ_２／Ｎ_２は０．１０～１．５が好ましく、０．１２～１．０がより好ましく、０．１５～１．０以上がさらに好ましい。
　また、電力は１０００～２０００Ｗが好ましい。Ｏ_２／Ｎ_２と電力は相互に影響するため、Ｏ_２／Ｎ_２が０．１０以上０．１５未満の場合は、電力を１０００Ｗ以上１５００Ｗ未満とすることが好ましく、Ｏ_２／Ｎ_２が０．１５以上１．５以下の場合は、電力を１５００Ｗ以上２０００Ｗ以下とすることが好ましい。
　また、成膜圧力は１．０×１０^－２～２．０×１０^－１Ｐａが好ましく、５．０×１０^－２～１．５×１０^－１Ｐａが好ましい。

＜＜第５の実施形態＞＞
　本発明の第５の実施形態に係る画像表示用導光板は、樹脂基材及び保護層をこの順に備える積層体と、ホログラム層とがこの順に配置され、前記保護層の前記ホログラム層と接する側の表面粗さＳａが５．５ｎｍ未満である。
　本実施形態の画像表示用導光板は、保護層が上記構成を備えることによって、ホログラム層の劣化を抑制できる。

　本実施形態の画像表示用導光板は、前記樹脂基材が、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂及びシクロオレフィン系樹脂からなる群から選ばれる１種以上の樹脂を含んでいてもよい。

　本実施形態の画像表示用導光板は、前記樹脂基材が、マトリックス中に硬質性の分散相を有する硬質樹脂（ａ）を含む樹脂層（Ａ）を備えていてもよい。

　本実施形態の画像表示用導光板は、前記樹脂基材が、前記樹脂層（Ａ）と、前記樹脂層（Ａ）とは主成分が異なる樹脂層（Ｂ）と、を積層していてもよい。

　本実施形態の画像表示用導光板は、前記樹脂基材の厚みが０．０５～５ｍｍであてもよい。

　本実施形態の画像表示用導光板は、前記樹脂基材の前記保護層と対向する側の面とは反対側の表面における鉛筆硬度が３Ｈ以上であってもよい。

　本実施形態の画像表示用導光板は、前記積層体が、前記樹脂基材と前記保護層との間に接着層を有していてもよい。

　以下、本実施形態に係る画像表示用導光板について説明する。
＜画像表示用導光板＞
　本実施形態の画像表示用導光板は、樹脂基材及び保護層を備える積層体と、ホログラム層とを少なくとも有する。樹脂基材、保護層及びホログラム層は、厚み方向において、この順に配置される。樹脂基材及び保護層は、ホログラム層の少なくとも一方の表面に配置されていればよいが、ホログラム層の両表面に配置されていてもよい。ホログラム層の両表面に積層体が配置される場合、ホログラム層の一方の表面に配置される積層体を第１積層体といい、ホログラム層の他方の表面に配置される積層体を第２積層体という。この場合、ホログラム層は、第１積層体の第１保護層と、第２積層体の第２保護層との間に挟まれており、第１保護層の他方の面には第１樹脂基材が積層されており、第２保護層の他方の面には第２樹脂基材が積層されている。本実施形態において、第１積層体及び第２積層体を総称して、以下、単に「積層体」という場合がある。第１樹脂基材及び第２樹脂基材を総称して、以下、単に「樹脂基材」という場合がある。また、第１保護層及び第２保護層を総称して、以下、単に「保護層」という場合がある。

　樹脂基材と保護層との間、及び保護層とホログラム層との間には１層以上の透明層が配置されていてもよい。透明層としては、例えば、接着層、ハードコート層等が挙げられる。
　また、保護層及び透明層は、樹脂基材の一方の表面に配置されていればよいが、樹脂基材の両表面に配置されていてもよい。すなわち、保護層、樹脂基材、保護層及びホログラム層が厚み方向においてこの順に配置される構成、又は、保護層、透明層、樹脂基材、透明層、保護層及びホログラム層が厚み方向においてこの順に配置される構成であってもよい。

［第１積層体１１］
　第１積層体１１は、第１樹脂基材１及び第１保護層３をこの順に備える。第１積層体１１は、第１樹脂基材１と第１保護層３との間に第１接着層２を有してもよい。画像表示用導光板８は、第１積層体１１をホログラム層４の表面に配置することにより、ホログラム層の劣化を抑制できる。

（バリア性）
　第１積層体１１の水蒸気透過率は、１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ未満が好ましく、０．５ｇ／ｍ^２／ｄａｙ未満がより好ましく、０．３ｇ／ｍ^２／ｄａｙ未満がさらに好ましく、０．１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ未満がよりさらに好ましく、０．０８ｇ／ｍ^２／ｄａｙ未満がいっそう好ましく、０．０５ｇ／ｍ^２／ｄａｙ未満がよりいっそう好ましい。
　第１積層体１１の水蒸気透過率が上記範囲内であると、ホログラム層４の劣化をより抑制できる。

［第１樹脂基材１］
　第１樹脂基材１の厚みは、特に限定されないが、０．０５～５ｍｍが好ましい。
　第１樹脂基材１の厚みの下限は特に限定されないが、耐擦傷性を良好にする観点から、０．１ｍｍ以上が好ましく、０．２ｍｍ以上がより好ましい。
　また、第１樹脂基材１の厚みの上限は特に限定されないが、成形加工性及び全光線透過率を良好にする観点から、３ｍｍ以下が好ましく、２ｍｍ以下がより好ましい。

　第１樹脂基材１の、第１保護層３と対向する側と反対側の表面の鉛筆硬度（以下、単に「第１樹脂基材１の表面の鉛筆硬度」ともいう。）は、特に限定されないが、３Ｈ以上が好ましく、４Ｈ以上がより好ましく、５Ｈ以上がさらに好ましい。第１樹脂基材１の表面の鉛筆硬度が高い（高硬度である）ことにより、画像表示用導光板８に優れた耐擦傷性を付与できる。

　また、第１樹脂基材１の、第１保護層３と対向する側の表面粗さＳａ（以下、単に「第１樹脂基材１の表面粗さＳａ」ともいう。）は、特に限定されないが、５．５ｎｍ未満が好ましい。第１樹脂基材１の表面粗さＳａが小さいことにより、後述する第１保護層３がより均一に形成されやすくなり、第１保護層３の表面粗さＳａもより小さくなる。これにより、第１保護層３の水蒸気バリア性がより良好となり、ホログラム層４の劣化を抑制できる。かかる観点から、第１樹脂基材１の表面粗さＳａは、０ｎｍを下限として、５．５ｎｍ未満が好ましく、５．０ｎｍ以下がより好ましく、４．５ｎｍ以下がさらに好ましく、４．０ｎｍ以下がいっそう好ましく、３．０ｎｍ以下がよりいっそう好ましく、２．５ｎｍ以下がさらにいっそう好ましく、２．０ｎｍ以下がまたいっそう好ましく、１．５ｎｍ以下が特に好ましい。

　第１樹脂基材１の全光線透過率は、特に限定されないが、８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましい。第１樹脂基材１の全光線透過率が８０％以上であれば、画像表示用導光板８の輝度値がより良好となる。

　第１樹脂基材１は、光学特性、耐衝撃性、耐擦傷性及び成形加工性をより良好にする観点から、熱可塑性樹脂を含むことが好ましい。
　熱可塑性樹脂は、溶融押出によってフィルム、シート又はプレートを形成し得る熱可塑性樹脂であれば特に限定されない。熱可塑性樹脂の好ましい例として、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ－１，４－シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート等の芳香族ポリエステル；ポリ乳酸系重合体等の脂肪族ポリエステルに代表されるポリエステル系樹脂；ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロオレフィン系樹脂等のポリオレフィン系樹脂；ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリフェニレンスルフィド系樹脂、ポリエステルアミド系樹脂、ポリエーテルエステル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、アクリロニトリル－スチレン共重合体、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合体、変性ポリフェニレンエーテル系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリイミド系樹脂及びこれらの共重合体が挙げられる。これらの熱可塑性樹脂は、１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。また、第１樹脂基材１は、上記熱可塑性樹脂からなる群から選ばれる２種以上の材料からなる層が積層された構成であってもよい。
　本発明においては、可視光線域における吸収がほとんどない等の観点から、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂及びシクロオレフィン系樹脂からなる群から選ばれる１種以上が好ましい。
　これらの中でも、透明性、耐擦傷性及び成形加工性に優れる観点から、アクリル系樹脂が好ましい。
　また、透明性、耐衝撃性及び成形加工性に優れる観点から、ポリカーボネート樹脂が好ましい。

（アクリル系樹脂）
　上記アクリル系樹脂を構成する好適な単量体は、第１の実施形態に係るポリ（メタ）アクリル系樹脂を構成する単量体と同様である。
　また、上記アクリル系樹脂を構成する単量体と共重合可能なその他の単量体を添加してもよい。その他の単量体として好適な化合物は、第１の実施形態に係る単官能単量体及び多官能単量体と同様である。

　上記アクリル系樹脂としては、耐環境性（吸湿による反り）が良好となる観点から、メチルメタクリレート－スチレン共重合体が好ましい。
　メチルメタクリレート－スチレン共重合体樹脂は、全単量体単位を基準として、メチルメタクリレート単位を３０～９５質量％、スチレン単位を５～７０質量％有するものが好ましく、メチルメタクリレート単位を４０～９５質量％、スチレン単位を５～６０質量％有するものがより好ましく、メチルメタクリレート単位を５０～９０質量％、スチレン単位を１０～５０質量％有するものがさらに好ましい。メチルメタクリレート単位の割合が上記下限以上であることによって、第１樹脂基材１の強度及び表面硬度が良好となり、耐擦傷性の良好な画像表示用導光板が得られる。一方、メチルメタクリレート単位の割合が上記上限以下であることによって、耐環境性が良好となる。

　上記アクリル系樹脂は、前述した単量体成分を、懸濁重合、乳化重合又は塊状重合等の公知の方法で重合させることにより製造できる。

（ポリカーボネート系樹脂）
　上記ポリカーボネート系樹脂としては、特に制限はなく、芳香族ポリカーボネート、脂肪族ポリカーボネート又は脂環族ポリカーボネートを用いることができる。

　上記芳香族ポリカーボネートとしては、例えば、ｉ）二価フェノールとカルボニル化剤とを界面重縮合法又は溶融エステル交換法等で反応させて得られるもの、ｉｉ）カーボネートプレポリマーを固相エステル交換法等で重合させて得られるもの、ｉｉｉ）環状カーボネート化合物を開環重合法で重合させて得られるもの等が挙げられる。これらの中でも、ｉ）二価フェノールとカルボニル化剤とを界面重縮合法又は溶融エステル交換法等で反応させて得られるものが、生産性の点で好ましい。

　上記ｉ）における二価フェノールとしては、例えば、ハイドロキノン、レゾルシノール、４，４’ジヒドロキシジフェニル、ビス（４－ヒドロキシフェニル）メタン、ビス｛（４－ヒドロキシ－３，５－ジメチル）フェニル｝メタン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）エタン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－１－フェニルエタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン（通称：ビスフェノールＡ）、２，２－ビス｛（４－ヒドロキシ－３－メチル）フェニル｝プロパン、２，２－ビス｛（４－ヒドロキシ－３，５－ジメチル）フェニル｝プロパン、２，２－ビス｛（４－ヒドロキシ－３，５－ジブロモ）フェニル｝プロパン、２，２－ビス｛（３－イソプロピル－４－ヒドロキシ）フェニル｝プロパン、２，２－ビス｛（４－ヒドロキシ－３－フェニル）フェニル｝プロパン、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－３－メチルブタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－３，３－ジメチルブタン、２，４－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－２－メチルブタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）ペンタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－４－メチルペンタン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－４－イソプロピルシクロヘキサン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン、９，９－ビス（４－ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９－ビス｛（４－ヒドロキシ－３－メチル）フェニル｝フルオレン、α，α’－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－ｏ－ジイソプロピルベンゼン、α，α’－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－ｍ－ジイソプロピルベンゼン、α，α’－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－ｐ－ジイソプロピルベンゼン、１，３－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－５，７－ジメチルアダマンタン、４，４’－ジヒドロキシジフェニルスルホン、４，４’－ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、４，４’－ジヒドロキシジフェニルスルフィド、４，４’－ジヒドロキシジフェニルケトン、４，４’－ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４’－ジヒドロキシジフェニルエステル等が挙げられる。これらの二価フェノールは、１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

　上記二価フェノールとしては、上述したものの中でも、ビスフェノールＡ、２，２－ビス｛（４－ヒドロキシ－３－メチル）フェニル｝プロパン、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－３－メチルブタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－３，３－ジメチルブタン、２，２－ビス（４ヒドロキシフェニル）－４－メチルペンタン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン及びα，α’－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－ｍ－ジイソプロピルベンゼンからなる群から選ばれる二価フェノールを単独で又は２種以上用いるのが好ましい。
　これらの中でも、ビスフェノールＡの単独使用、又は１，１－ビス（４ヒドロキシフェニル）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサンと、ビスフェノールＡ、２，２－ビス｛（４－ヒドロキシ－３－メチル）フェニル｝プロパン及びα，α’－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－ｍ－ジイソプロピルベンゼンからなる群から選ばれる１種以上の二価フェノールとの併用が好ましい。

　上記ｉ）におけるカルボニル化剤としては、例えば、ホスゲン等のカルボニルハライド、ジフェニルカーボネート等のカーボネートエステル、二価フェノールのジハロホルメート等のハロホルメートが挙げられる。これらのカルボニル化剤は、１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

［第１樹脂基材１の好ましい実施形態］
　第１樹脂基材１における第１の好ましい実施形態は、マトリックス中に硬質性の分散相を有する硬質樹脂（ａ）を含む樹脂層（Ａ）からなる。
　第１樹脂基材１における第２の好ましい実施形態は、マトリックス中に硬質性の分散相を有する硬質樹脂（ａ）を含む樹脂層（Ａ）と、樹脂層（Ａ）とは主成分が異なる樹脂層（Ｂ）と、を積層してなる。

（樹脂層（Ａ））
　樹脂層（Ａ）を形成する硬質樹脂（ａ）は、マトリックス樹脂と、硬質性の分散相（以下「硬質分散相」ともいう。）を含む。
　樹脂層（Ａ）が上記硬質樹脂（ａ）で形成されることにより、第１樹脂基材１の耐擦傷性を向上できる。
　また、上記硬質樹脂（ａ）で形成されることによって、樹脂層（Ａ）の表面粗さを小さくできる。よって、後述する第１保護層３の表面粗さＳａが小さくなるため、水蒸気バリア性が良好となり、ホログラム層４の劣化を抑制できる。
　樹脂層（Ａ）のマトリックス樹脂としては、上述したアクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂及びシクロオレフィン系樹脂からなる群から選ばれる１種以上が好ましい。
　これらの中でも、透明性、耐擦傷性及び成形加工性に優れている点で、アクリル系樹脂が好ましい。

　樹脂層（Ａ）を形成する硬質樹脂（ａ）に含まれる硬質分散相としては、上記アクリル系樹脂よりも耐熱性及び耐擦傷性の少なくとも一方が優れたものであればよく、なかでも熱硬化性樹脂が好ましい。

　熱硬化性樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、アミノ系樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、熱硬化性ポリイミド系樹脂、熱硬化性ポリウレタン系樹脂等の重縮合又は付加縮合系樹脂の他、熱硬化性アクリル系樹脂、ビニルエステル系樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂、ジアリルフタレート系樹脂等の不飽和モノマーのラジカル重合で得られる付加重合系樹脂が挙げられる。これらの熱硬化性樹脂は、１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
　これらの中でも不飽和モノマーが多官能性のものであれば、重合架橋により硬い材料の特性（アクリル系樹脂に不溶、高いガラス転移温度）が得られるため好ましい。不飽和モノマーの例としては、ポリオールとアクリル酸及び／又はメタクリル酸のポリエステル、さらには、これらのポリオールのポリアリール及びポリビニルエーテル等の架橋性モノマーが挙げられる。

　不飽和モノマーとしては、具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパンエトキシレート（ジ－、トリ－）アクリレート、トリメチロールプロパンジアリルエーテル、ペンタエリトリトールトリアリルエーテル、ペンタエリトリトールテトラアリルエーテル、ジ（トリメチロールプロパン）テトラアクリレート、ペンタエリトリトールテトラアクリレート、ペンタエリトリトールトリアクリレート、エトキシル化トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシル化ペンタエリトリトールテトラアクリレート、及びこれらの混合物が挙げられる。なかでも、上記不飽和モノマーとしては、アクリル系樹脂との親和性を考慮すると、トリメチロールプロパントリアクリラート（ＴＭＰＴＡ）、トリメチロールプロパントリメタクリラート（ＴＭＰＴＭＡ）が好ましい。

　第１樹脂基材１の耐擦傷性を向上させる観点から、樹脂層（Ａ）を形成する硬質樹脂（ａ）の鉛筆硬度は、３Ｈ以上が好ましく、４Ｈ以上がより好ましく、５Ｈ以上がさらに好ましい。
　上記硬質樹脂（ａ）の鉛筆硬度を３Ｈ以上とする方法としては、硬質樹脂（ａ）のマトリックス中に硬質性の分散相（以下「硬質分散相」ともいう。）を含ませる方法が挙げられる。

　硬質分散相の形状としては、粒子状、球状、線状又は繊維状等が挙げられ、硬質樹脂（ａ）のマトリックス中に均等に分散させやすい観点から、球状が好ましいが、これに限定されるものではない。

　硬質分散相の粒径は、適宜設定されるが、０．１～１０００μｍが好ましい。
　硬質分散相の粒径が０．１μｍ以上であれば、硬質樹脂（ａ）に硬度を付与できる。かかる観点から、硬質分散相の粒径は０．５μｍ以上がより好ましく、１μｍ以上がさらに好ましい。
　また、粒径が１０００μｍ以下であれば、硬質樹脂（ａ）で形成される樹脂層（Ａ）の表面粗さを小さくできる。よって、後述する第１保護層３の表面粗さＳａが小さくなるため、水蒸気バリア性が良好となり、ホログラム層４の劣化を抑制できる。かかる観点から、硬質分散相の粒径は５００μｍ以下がより好ましく、１００μｍ以下がさらに好ましく、５０μｍ以下がいっそう好ましい。
　なお、硬質分散相の粒径は、例えば、ＳＥＭ画像からの読取りや画像解析法により測定できる。

　また、硬質分散相の硬質樹脂（ａ）中における配合量は、硬質樹脂（ａ）の全質量の０．１～６０質量％が好ましい。
　硬質分散相の配合量が、硬質樹脂（ａ）の全質量の０．１質量％以上であれば、硬質樹脂（ａ）に硬度を付与できる。かかる観点から、硬質分散相の配合量は、硬質樹脂（ａ）の全質量の０．５質量％以上がより好ましく、１質量％以上がさらに好ましい。
　また、硬質分散相の配合量が、硬質樹脂（ａ）の全質量の６０質量％以下であれば、硬質樹脂（ａ）で形成される樹脂層（Ａ）の表面粗さを小さくできる。かかる観点から、硬質分散相の配合量は、硬質樹脂（ａ）の全質量の５０質量％以下がより好ましい。

　硬質樹脂（ａ）中に硬質分散相を含ませる方法は、特に限定されないが、例えば、次の方法が挙げられる。
ａ）硬質樹脂（ａ）のマトリックス樹脂材料に硬質分散相を構成する材料を添加する。
ｂ）次に、マトリックス樹脂材料を溶融混練して所定形状に成形する際に、硬質分散相を構成する材料を相分離及び架橋させることにより、硬質樹脂（ａ）のマトリックス中に硬質分散相を形成させる。
　又は、硬質分散相を構成する材料を予め粒子状等に架橋成形しておいたものを、マトリックス樹脂材料中に添加して、溶融混練して所定形状に成形することにより、硬質樹脂（ａ）のマトリックス中に硬質分散相を分散させる方法であってもよい。

　樹脂層（Ａ）を形成する硬質樹脂（ａ）は、上記マトリックス樹脂及び上記硬質分散相以外に、例えば、可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、滑剤、シリコーン系化合物等の難燃剤、フィラー、ガラス繊維、耐衝撃性改質剤等の各種添加剤を、本発明の効果を損なわない範囲で含んでもよい。

　樹脂層（Ａ）の形成方法は、フィルム、シート又はプレートを形成し得るものであれば特に限定されないが、例えば、溶融押出成形法、プレス成形法、射出成形法、カレンダー成形法等が挙げられる。

　第１樹脂基材１を形成する樹脂層（Ａ）の厚みは、特に限定されないが、０．０５～５ｍｍが好ましい。
　樹脂層（Ａ）の厚みが０．０５ｍｍ以上であれば、耐擦傷性の向上効果が得られる。かかる観点から、樹脂層（Ａ）の厚みは、０．１ｍｍ以上がより好ましく、０．２ｍｍ以上がさらに好ましい。
　また、樹脂層（Ａ）の厚みが５ｍｍ以下であれば、成形加工性が良好になる。かかる観点から、樹脂層（Ａ）の厚みは３ｍｍ以下がより好ましく、２ｍｍ以下がさらに好ましい。

（樹脂層（Ｂ））
　樹脂層（Ｂ）は、樹脂層（Ａ）とは主成分が異なる。樹脂層（Ａ）と樹脂層（Ｂ）とを積層することにより、第１樹脂基材１の耐衝撃性及び打ち抜き性等の二次加工性が良好となる。

　樹脂層（Ｂ）としては、上述したアクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂及びシクロオレフィン系樹脂からなる群から選ばれる１種以上が好ましい。
　これらの中でも、透明性、耐衝撃性及び成形加工性に優れている点で、ポリカーボネート樹脂が好ましい。

　樹脂層（Ｂ）は、樹脂層（Ａ）と積層することにより第１樹脂基材１に優れた耐衝撃性及び打ち抜き性等の二次加工性を付与する役割を果たす。かかる観点から、樹脂層（Ｂ）の厚みは、樹脂層（Ａ）の厚みとの比（樹脂層（Ａ）が２層以上ある場合はその合計厚みとの比）をもとに設定することが好ましい。
　樹脂層（Ｂ）の厚みと樹脂層（Ａ）の合計厚みの比（樹脂層（Ｂ）の厚み／樹脂層（Ａ）の合計厚み）（以下、単に「厚み比」ともいう。）は、特に限定されないが、２以上が好ましく、４以上がより好ましい。厚み比が２以上であれば、第１樹脂基材１に優れた耐衝撃性及び打ち抜き性等の二次加工性を付与できる。
　また、厚み比は４０以下が好ましく、２０以下がより好ましい。厚み比が４０以下であれば、使用環境下において、第１樹脂基材１の変形及び反りを抑制できる。

　樹脂層（Ａ）及び樹脂層（Ｂ）の積層構成は特に限定されないが、樹脂層（Ｂ）の両面に樹脂層（Ａ）が積層された構成が好ましい。
　樹脂層（Ａ）及び樹脂層（Ｂ）の積層構成を樹脂層（Ｂ）の両面に樹脂層（Ａ）が積層された構成とすれば、耐擦傷性が良好である樹脂層（Ａ）が第１樹脂基材１の表面に配置されるので、第１樹脂基材１の耐擦傷性が良好となる。また、樹脂層（Ｂ）の両面に樹脂層（Ａ）が積層された構成とすれば、第１樹脂基材１が高温下又は高温高湿下に長時間曝された場合でも、その反り及び変形が抑制されやすくなるので好ましい。

［第１接着層２］
　第１樹脂基材１と第１保護層３との密着性を向上させ、水蒸気バリア性をより良好にする観点から、第１樹脂基材１と第１保護層３との間に第１接着層２を設けることが好ましい。なお、第１樹脂基材１と第１保護層３との密着性が良好であれば、第１接着層２は必須ではない。
　第１接着層２の好適な材料、全光線透過率及び屈折率と形成方法は、上記第１の実施形態に係る第１アンカーコート層２と同様である。

　第１接着層２の厚みは、特に限定されないが、１～７００μｍが好ましい。
　なかでも、第１樹脂基材１と第１保護層３との接着力を良好にする観点から、第１接着層２の厚みは、３μｍ以上がより好ましい。
　また、画像表示用導光板８の色ムラを抑制する観点から、第１接着層２の厚みは、１００μｍ以下がより好ましい。

［第１保護層３］
　第１保護層３の好適な酸素透過率、水蒸気透過率及び屈折率は、上記第１の実施形態に係る第１保護層３と同様である。

　第１保護層３の、ホログラム層４と接する側の表面粗さＳａは、５．５ｎｍ未満である。表面粗さＳａが小さいことにより、第１保護層３が均一に形成されるため、水蒸気バリア性が良好となり、ホログラム層４の劣化を抑制できる。かかる観点から、第１保護層３の、ホログラム層４と接する側の表面粗さＳａは、０ｎｍを下限として、５．０ｎｍ以下が好ましく、４．５ｎｍ以下がより好ましく、４．０ｎｍ以下がさらに好ましい。

　第１保護層３の厚みは、特に限定されないが、１０～２００μｍが好ましい。
　なかでも、第１保護層３の機械的強度及びバリア性を良好にする観点から、第１保護層３の厚みは、３０μｍ以上がより好ましい。
　また、全光線透過率等の光学特性を良好にする観点から、第１保護層３の厚みは、１００μｍ以下がより好ましく、７５μｍ以下がさらに好ましく、５０μｍ以下がいっそう好ましい。

　第１保護層３は、無機材料を含むことが好ましい。無機材料としては、ケイ素酸化物、ケイ素酸窒化物、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）、アルミニウム酸化物及びガラスが挙げられる。これらの無機材料は、１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。良好なバリア性の確保の観点から、第１保護層３は、ケイ素酸化物及びケイ素酸窒化物からなる群から選択される１種以上を含むことが好ましく、ケイ素酸窒化物を含むことがより好ましい。
　第１保護層３がケイ素酸化物、ケイ素酸窒化物、ＤＬＣ又はアルミニウム酸化物を含む場合、その好適な材料及び形成方法は第１の実施形態の第１バリア層３と同様である。

　第１保護層３がケイ素酸化物又はケイ素酸窒化物からなる場合、第１保護層３の厚みは１０～３００ｎｍが好ましい。
　なかでも、第１保護層３のバリア性を良好にする観点から、第１保護層３の厚みは２０ｎｍ以上がより好ましい。
　また、第１保護層３の成膜性を良好にする観点から、第１保護層３の厚みは、２００ｎｍ以下がより好ましい。

　第１保護層３がアルミニウム酸化物からなる場合、第１保護層３の厚みは５～８００ｎｍが好ましい。

　第１保護層３としてガラスを用いる場合、ガラスの材質としては、例えば、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス、低アルカリガラス、ソーダライムガラス、ゾルゲルガラス、又はこれらのガラスに熱処理若しくは表面処理を施したもの等が挙げられる。ガラスとしては、硝材中の不純物による着色を避ける観点から無アルカリガラスが特に好ましい。

　第１保護層３としてガラスを用いる場合、第１保護層３の厚みは１０～２００μｍが好ましい。
　なかでも、第１保護層３の機械的強度及びバリア性を良好にする観点から、第１保護層３の厚みは３０μｍ以上がより好ましい。
　また、全光線透過率等の光学特性を良好にする観点から、第１保護層３の厚みは１００μｍ以下がより好ましく、７５μｍ以下がさらに好ましく、５０μｍ以下がいっそう好ましい。

　第１保護層３としてガラスを用いる場合、第１保護層３の形成方法は、適宜選択することができ、例えば、スロットダウンドロー法、フュージョン法、フロート法等を採用できる。また、ガラスは、市販のものをそのまま用いてもよいし、市販のガラスを所望の厚みになるように研磨して用いてもよい。市販のガラスとしては、例えば、ＥＡＧＬＥ２０００（コーニング社製）、ＡＮ１００（ＡＧＣ社製）及びＯＡ１０Ｇ（日本電気硝子社製）、Ｄ２６３（ショット社製）等が挙げられる。

［第２積層体１２］
　第２積層体１２は、第２保護層５及び第２樹脂基材７をこの順に備える。第２積層体１２は、第２保護層５と第２樹脂基材７との間に第２接着層６を有してもよい。第２積層体１２の各種物性は、第１積層体１１と相違していてもよい。

［第２接着層６］
　第２保護層５と第２樹脂基材７との密着性を向上させ、バリア性をより良好にする観点から、第２保護層５と第２樹脂基材７との間に第２接着層６を設けることが好ましい。なお、第２保護層５と第２樹脂基材７との密着性が良好であれば、第２接着層６は必須ではない。第２保護層５としては、第１保護層３の説明において例示されたものと同様の構成が用いられる。ただし、第２保護層５の厚み及び材料等は、第１保護層３と相違していてもよい。

［第２樹脂基材７］
　第２樹脂基材７は、第２接着層６を介して又は介さないで、第２保護層５の表面に積層されている。第２樹脂基材７としては、第１樹脂基材１の説明において例示されたものと同様の構成が用いられる。ただし、第２樹脂基材７の厚み及び材料等は、第１樹脂基材１と相違していてもよい。特に、第２樹脂基材７は、画像表示用導光板８における表示画像出射側と反対に位置する外光入射側の表面に配置されるので、第１樹脂基材１に比べて表面硬度が高い材料が用いられてもよい。

［画像表示用導光板８］
　画像表示用導光板８は、第１樹脂基材１とホログラム層４との間及び第２樹脂基材７とホログラム層４との間に、それぞれ、第１接着層２と第１保護層３、第２保護層５と第２接着層６が配置される。
　画像表示用導光板８の外部のガスは、ある程度、第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７を透過したり、内部に蓄積したりする。このとき、第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７には、特に水分が蓄積しやすい。
　しかし、本実施形態の構成によれば、外部から第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７に浸透した水分を第１保護層３及び第２保護層５で遮蔽できるので、ホログラム層４への水蒸気の浸透が抑制され、ホログラム層４の劣化を防止できる。

　また、第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７の耐薬品性は、樹脂材料の種類によって程度の差はあるが、ガラスに比べると格段に低い。このため、第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７は、ガラスよりもより低い耐溶剤性及び耐ホログラム材料性を有している。
　第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７がホログラム層４と接触している場合、ホログラム層４の構成成分であるホログラム剤が第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７を透過したり、第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７の内部にホログラム剤が蓄積したりしやすい。第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７がホログラム剤に曝されると、第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７が劣化し、ＦＯＶ（Ｆｉｅｌｄ　ｏｆ　Ｖｉｅｗ）の低下や、鮮明度の低下等が起こりやすくなる。
　しかし、本実施形態の構成によれば、第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７とホログラム層４との間に、それぞれ第１保護層３及び第２保護層５を設けることにより、第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７へのホログラム剤の浸透が抑制されることで、第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７の劣化も防止できる。

　さらに、上記硬化性樹脂組成物は、上記硬化性樹脂に無機成分を含ませた有機・無機ハイブリッド系硬化性樹脂組成物としてもよい。上記有機・無機ハイブリッド系硬化性樹脂組成物としては、上記硬化性樹脂に反応性官能基を有する無機成分を含ませた硬化性樹脂組成物から構成されるものが挙げられる。このような反応性官能基を有する無機成分を利用して、例えば、この無機成分が、ラジカル重合性モノマーと共重合及び架橋することで、単に有機バインダーに無機成分を含ませた有機・無機複合系硬化性樹脂組成物に比べて、硬化収縮が生じにくく、かつ高い表面硬度を発現できるので好ましい。さらに、硬化収縮の低減の観点から、反応性官能基を有する無機成分として紫外線反応性のコロイダルシリカを含む、有機・無機ハイブリッド系硬化性樹脂組成物が、より好ましい例として挙げられる。

＜＜第６の実施形態＞＞
　本発明の第６の実施形態に係る画像表示用導光板は、樹脂基材と、バリア層と、ホログラム層とがこの順に配置され、前記樹脂基材及び前記バリア層を含む積層体の前記ホログラム層と接する側における入射角６０度での鏡面光沢度が１２０％以上である。
　本実施形態の画像表示用導光板は、バリア層を備えることで、ホログラム層の劣化を抑制できる。また、積層体の鏡面光沢度を高くすることにより、画像表示用導光板の鮮明性が良好となる。

　本実施形態の画像表示用導光板は、前記樹脂基材が、ポリ（メタ）アクリル系樹脂、エポキシ樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂及びポリカーボネート系樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種を含んでいてもよい。

　本実施形態の画像表示用導光板は、前記無機材料が、ケイ素酸化物、ケイ素酸窒化物、ダイヤモンドライクカーボン、アルミニウム酸化物及びガラスからなる群から選ばれる少なくとも１種であってもよい。

　本実施形態の画像表示用導光板は、前記積層体が、前記樹脂基材と前記バリア層との間にアンカーコート層を有していてもよい。

　本実施形態の画像表示用導光板は、前記アンカーコート層が、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂及びポリエステル系樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種を含んでいてもよい。

　以下、本実施形態に係る画像表示用導光板について説明する。
＜画像表示用導光板＞
　本実施形態の画像表示用導光板は、樹脂基材、バリア層及びホログラム層を少なくとも有する。樹脂基材、バリア層及びホログラム層は、厚み方向において、この順に配置される。樹脂基材及びバリア層は、ホログラム層の少なくとも一方の表面に配置されていればよいが、ホログラム層の両表面に配置されていてもよい。ホログラム層の両表面に樹脂基材及びバリア層が配置される場合、ホログラム層の一方の表面に配置される樹脂基材及びバリア層を、それぞれ、第１樹脂基材及び第１バリア層といい、ホログラム層の他方の表面に配置される樹脂基材及びバリア層を、それぞれ、第２樹脂基材及び第２バリア層という。この場合、ホログラム層は、第１バリア層と第２バリア層との間に挟まれており、第１バリア層の他方の面には第１樹脂基材が積層されており、第２バリア層の他方の面には第２樹脂基材が積層されている。本実施形態において、第１樹脂基材及び第２樹脂基材を総称して、以下、単に「樹脂基材」という場合がある。また、第１バリア層及び第２バリア層を総称して、以下、単に「バリア層」という場合がある。

　樹脂基材とバリア層との間、及びバリア層とホログラム層との間には１層以上の透明層が配置されていてもよい。透明層としては、例えば、アンカーコート層、ハードコート層等が挙げられる。
　樹脂基材とバリア層との密着性を向上させる観点から、樹脂基材とバリア層との間にアンカーコート層を設けることが好ましい。すなわち、樹脂基材、アンカーコート層、バリア層及びホログラム層がこの順に配置されることが好ましい。
　アンカーコート層、バリア層及び透明層は、樹脂基材の一方の表面に配置されていればよいが、樹脂基材の両表面に配置されていてもよい。すなわち、バリア層、アンカーコート層、樹脂基材、アンカーコート層、バリア層及びホログラム層が厚み方向においてこの順に配置される構成、又は、バリア層、アンカーコート層、透明層、樹脂基材、透明層、アンカーコート層、バリア層及びホログラム層が厚み方向においてこの順に配置される構成であってもよい。

［第１積層体１１］
　第１積層体１１は、第１樹脂基材１、第１アンカーコート層２及び第１バリア層３をこの順に備える。画像表示用導光板８は、第１積層体１１をホログラム層４の表面に配置することにより、ホログラム層の劣化を抑制できる。なお、第１樹脂基材１と第１バリア層３との密着性が良好であれば、第１アンカーコート層２は必須ではない。

　第１積層体１１は、ホログラム層４から出射される画像光と、後述する第２積層体及びホログラム層４を透過する外光とを透過する。
　本発明者らは、第１積層体１１の鏡面光沢度を高くすることにより、第１積層体１１中の光学的な欠陥が減少し、光を拡散させる要因が減少するため、画像表示用導光板８の鮮明性を良好にできることを見出した。
　画像表示用導光板８の鮮明性を良好にする観点から、第１積層体１１のホログラム層４と接する側における入射角６０度での鏡面光沢度は、１２０％以上であり、１３０％以上が好ましく、１４０％以上がより好ましく、１５０％以上がさらに好ましい。
　なお、本発明における鏡面光沢度は、ＪＩＳ　Ｚ　８７４１：１９９７に準拠し、光源の入射角を６０度としたときの測定値である。

　第１積層体１１の全光線透過率は、特に限定されないが、８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましい。全光線透過率が８０％以上であれば、画像表示用導光板８の鮮明性及び輝度値がより良好となる。

　第１積層体１１のＪＩＳ　Ｚ　８７８１－４：２０１３に規定されるＣＩＥ１９７６　Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間における透過ｂ＊値は、特に限定されないが、０．９０以下が好ましく、０．５０以下がより好ましく、０．４０以下がさらに好ましく、０．３０以下がいっそう好ましい。

　第１積層体１１の屈折率は、特に限定されないが、１．４８以上が好ましい。第１積層体１１の屈折率が１．４８以上であれば、画像表示用導光板として用いた際の視野角をより拡大できる。なお、第１積層体１１の屈折率の上限は、特に限定されないが、通常、３．００以下である。
　なお、本発明における屈折率は、例えば、屈折率測定装置（モデル２０１０／Ｍ　プリズムカプラー　、メトリコン社製）で測定できる。

　第１積層体１１のホログラム層４と接する側の表面粗さＳａは、特に限定されないが、５ｎｍ以下が好ましく、３ｎｍ以下がより好ましく、２ｎｍ以下がさらに好ましく、１．５ｎｍ以下がいっそう好ましい。第１積層体１１のホログラム層４と接する側の表面粗さＳａが小さいほど、表面凹凸による光の拡散を抑制でき、画像の鮮明性をより向上できる。
　なお、本発明における表面粗さＳａは、白色干渉計（バートスキャン（ＶｅｒｔＳｃａｎ）、菱化システム社製）を用いて測定した表面粗さである。

　第１積層体１１のホログラム層４と接しない側の表面の鉛筆硬度は、特に限定されないが、３Ｈ以上が好ましく、４Ｈ以上がより好ましく、５Ｈ以上がさらに好ましい。第１積層体１１のホログラム層４と接しない側の表面の鉛筆硬度が高いほど、画像表示用導光板８により優れた耐擦傷性を付与できる。

　第１積層体１１の５０ｍｍ×１００ｍｍでの平行度は、特に限定されないが、０．０１～５μｍが好ましい。上記平行度が大きいほど、光の反射角度が乱れ、また、輝度の波長依存性が大きくなることで、画像のコントラストが変化し、画像の鮮明性が低下するといった問題が発生する。上記平行度が上記範囲内であれば、画像のコントラストが変化することによる画像の鮮明性低下をより抑制できる。上記平行度の評価は、フィゾー干渉計（レーザー干渉計）による測定によって行われる。

　第１積層体１１は、ホログラム層４の劣化を防ぐ観点から、酸素バリア性及び水蒸気バリア性のうち少なくとも一方を有することが好ましく、両方を有することがより好ましい。
　第１積層体１１の酸素透過率は、特に限定されないが、１ｃｍ^３／ｍ^２／ｄａｙ／ａｔｍ以下が好ましい。
　また、第１積層体１１の４０℃９０％における水蒸気透過率は、１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下が好ましく、０．５ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下がより好ましく、０．１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下がさらに好ましい。

　第１樹脂基材１の表面粗さＳａは、特に限定されないが、１０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以下がより好ましい。上記表面粗さＳａが小さいほど、第１積層体１１の表面粗さＳａを小さくすることができ、画像表示用導光板８の輝度値がより良好となる。

　第１樹脂基材１の鏡面光沢度は、特に限定されないが、１２０％以上が好ましく、１３０％以上がより好ましい。上記鏡面光沢度が大きいほど、第１積層体１１の鏡面光沢度を大きくすることができ、画像表示用導光板８の輝度値がより良好となる。

　第１樹脂基材１のＪＩＳ　Ｚ　８７８１－４：２０１３に規定されるＣＩＥ１９７６　Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間における透過ｂ＊値は、特に限定されないが、０．５０以下が好ましく、０．４０以下がより好ましい。上記透過ｂ＊値が小さいほど、第１積層体１１の透過ｂ＊値を小さくできる。

［第１アンカーコート層２］
　第１樹脂基材１と第１バリア層３との密着性を向上させる観点から、第１樹脂基材１と第１バリア層３との間に第１アンカーコート層２を設けることが好ましい。
　第１アンカーコート層２の好適な材料、全光線透過率及び屈折率と形成方法は、上記第１の実施形態に係る第１アンカーコート層２と同様である。

　第１アンカーコート層２の材料としては、水蒸気バリア性の観点から、熱可塑性樹脂としてのアクリル系樹脂が好ましい。また、第１アンカーコート層２の材料としては、第１積層体１１の鏡面光沢度を向上させる観点から、ウレタン系樹脂又はポリエステル系樹脂が好ましい。

　第１アンカーコート層２の厚みは、特に限定されないが、例えば、５～５００ｎｍであってもよい。
　第１樹脂基材１と第１バリア層３との接着力を良好にする観点から、第１アンカーコート層２の厚みは、５ｎｍ以上が好ましく、１０ｎｍ以上がより好ましい。
　また、画像表示用導光板８の色ムラを抑制する観点から、第１アンカーコート層２の厚みは、５００ｎｍ以下が好ましく、２００ｎｍ以下がより好ましい。

［第１バリア層３］
　第１バリア層３の好適な酸素透過率、水蒸気透過率及び屈折率は、上記第１の実施形態に係る第１バリア層３と同様である。

　第１バリア層３は、無機材料を含むことが好ましい。無機材料としては、ケイ素酸化物、ケイ素酸窒化物、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）、アルミニウム酸化物及びガラスが挙げられる。これらの無機材料は、１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。第１積層体１１の鏡面光沢度及びバリア性を良好にする観点から、第１バリア層３は、ケイ素酸化物及びケイ素酸窒化物からなる群から選ばれる１種以上を含むことが好ましく、ケイ素酸化物を含むことがより好ましい。

　第１バリア層３がケイ素酸化物、ケイ素酸窒化物、ＤＬＣ又はアルミニウム酸化物を含む場合、その好適な材料及び形成方法は第１の実施形態の第１バリア層３と同様である。
　第１バリア層３がケイ素酸化物、ケイ素酸窒化物又はアルミニウム酸化物を含む場合、その好適な厚みは第５実施形態の第１保護層３と同様である。
　なお、第１バリア層３をケイ素酸化物又はケイ素酸窒化物によって反応性スパッタ法により成膜する場合の全ガス流量は、１５０ｓｃｃｍ以下が好ましく、１２０ｓｃｃｍ以下がより好ましく、９０ｓｃｃｍ以下がさらに好ましい。全ガス流量が上記範囲であれば、第１積層体１１のホログラム層４と接する側における入射角６０度での鏡面光沢度をより高くできる。

　第１バリア層３がガラスを含む場合、その好適な材料及び形成方法は第５実施形態の第１保護層３と同様である。
　また、第１バリア層３をガラスによって形成する場合、第１樹脂基材１の外面側、つまりホログラム層４とは反対側に形成してもよい。

［第２積層体］
　第２積層体は、第２バリア層５、第２アンカーコート層６及び第２樹脂基材７をこの順に備える。なお、第２バリア層５と第２樹脂基材７との密着性が良好であれば、第２アンカーコート層６は必須ではない。第２積層体の各種物性は、第１積層体１１と相違していてもよい。

［第２アンカーコート層６］
　第２バリア層５と第２樹脂基材７との密着性を向上させる観点から、第２バリア層５と第２樹脂基材７との間に第２アンカーコート層６を設けることが好ましい。なお、第２バリア層５と第２樹脂基材７との密着性が良好であれば、第２アンカーコート層６は必須ではない。第２アンカーコート層６としては、第１アンカーコート層２の説明において例示されたものと同様の構成が用いられる。ただし、第２アンカーコート層６の厚み、材料等は、第１アンカーコート層２と相違していてもよい。

［第２樹脂基材７］
　第２樹脂基材７は、第２アンカーコート層６を介して、又は介さないで、第２バリア層５の表面に積層される。第２樹脂基材７としては、第１樹脂基材１の説明において例示されたものと同様の構成が用いられる。ただし、第２樹脂基材７の厚み及び材料等は、第１樹脂基材１と相違していてもよい。特に、第２樹脂基材７は、画像表示用導光板８における表示画像出射側と反対に位置する外光入射側の表面に配置されるので、第１樹脂基材１に比べて表面硬度が高い材料が用いられてもよい。

［画像表示用導光板８］
　画像表示用導光板８は、第１樹脂基材１とホログラム層４との間及び第２樹脂基材７とホログラム層４との間に、それぞれ、第１バリア層３及び第２バリア層５が配置される。
　第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７の耐薬品性は、樹脂材料の種類によって程度の差はあるが、ガラスに比べると格段に低い。このため、第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７は、ガラスよりもより低い耐溶剤性及び耐ホログラム材料性を有している。
　第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７がホログラム層４と接触している場合、ホログラム層４の構成成分であるホログラム剤が第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７を透過したり、第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７の内部にホログラム剤が蓄積したりしやすい。第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７がホログラム剤に曝されると、第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７が劣化し、ＦＯＶ（Ｆｉｅｌｄ　ｏｆ　Ｖｉｅｗ）の低下や、鮮明度の低下等が起こりやすくなる。
　しかし、本実施形態の構成によれば、第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７とホログラム層４との間に、それぞれ、第１バリア層３及び第２バリア層５を設けることにより、第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７へのホログラム剤の浸透が抑制されるので、第１樹脂基材１及び第２樹脂基材７の劣化が防止される。

　以下、試験例及び製造例によって本発明をより具体的に説明する。ただし、本発明は後述する試験例及び製造例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない限り種々の変形が可能である。

＜＜第１の実施形態の試験例及び製造例＞＞
　以下、第１の実施形態の試験例及び製造例について説明する。

＜試験例１＞
　樹脂基材の材料としては、ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート、商品名「アクリライト（登録商標）、三菱ケミカル社製）を用いる。樹脂基材は、幅２００ｍｍ×長さ２００ｍｍ×厚み１ｍｍの矩形板とする。
　ハードコート層の材料としては、アクリル系ＵＶ硬化樹脂（商品名「紫光ＵＶ１７００Ｂ」、三菱ケミカル社製）を用いる。
　アンカーコート層の材料としては、アクリル系樹脂１－１とイソシアネート化合物とを１０：１質量比で配合したアンカーコート液１－１（表１では「ＡＣ１－１」と表記、ｔａｎδピーク温度：７８℃）を用いる。
　バリア層の材料としては、ケイ素酸窒化物を用いる。

　上記材料を用いて、以下に説明する基材準備工程及びバリア層形成工程を行って、積層体を作製する。

［基材準備工程］
　基材準備工程では、樹脂基材の洗浄及び乾燥を行ったあと、樹脂基材上にハードコート層を形成する。
　樹脂基材を２００ｍｍ×２００ｍｍの矩形状に切り出し、中性洗浄剤（商品名「セミクリーン（登録商標）Ｍ－ＬＯ」、横浜油脂工業社製）の５％界面活性剤水溶液に浸漬させた状態で５分間超音波洗浄する。
　この後、樹脂基材は、超純水に浸漬させた状態で５分間超音波洗浄する。さらに、超純水による樹脂基材のすすぎを行い、樹脂基材は風乾後に８０℃のオーブンで窒素雰囲気下にて乾燥する。この後、風乾した評価サンプルは、ＵＶオゾン洗浄機にて１分間、ＵＶオゾン洗浄する。
　次いで、樹脂基材の両表面にハードコート層の材料であるアクリル系ＵＶ硬化樹脂をバーコーターで塗布し、９０℃で１分間乾燥後、積算光量５００ｍＪ／ｃｍ^２で両表面を露光し、厚み５μｍのハードコート層を設ける。

［バリア層形成工程］
　バリア層形成工程では、ハードコート層の表面にアンカーコート層を介してバリア層を形成する。
　ハードコート層の表面にアンカーコート液１－１をバーコーターで塗布し、６０℃で１分間乾燥し、厚み２００ｎｍのアンカーコート層を設ける。
　ターゲットとしてケイ素（株式会社高純度化学研究所製）を用いた反応性スパッタ法により、表１に記載の条件で、酸素ガス、窒素ガス、アルゴンガスを供給しながら厚さ１００ｎｍのケイ素酸窒化物の成膜を実施する。
　以上の操作により、ハードコート層／樹脂基材／ハードコート層／アンカーコート層（ＡＣ１－１、２００ｎｍ）／バリア層（ケイ素酸窒化物、１００ｎｍ）からなる試験例１の積層体が得られる。

＜試験例２＞
　試験例２では、アンカーコート層の材料をアクリル系樹脂１－２とイソシアネート化合物とを１０：１質量比で配合したアンカーコート液１－２（表１では「ＡＣ１－２」と表記、ｔａｎδピーク温度：５６℃）とし、アンカーコート層の厚みと、バリア層の厚み及び成膜条件を表１の通りに変更すること以外は、試験例１と同じ方法で積層体を作製する。
　すなわち、試験例２の積層体は、ハードコート層／樹脂基材／ハードコート層／アンカーコート層（ＡＣ１－２、１００ｎｍ）／バリア層（ケイ素酸窒化物、１００ｎｍ）からなる。

＜試験例３＞
　試験例３では、アンカーコート層の厚みと、バリア層の厚み及び成膜条件を表１の通りに変更すること以外は、試験例２と同じ方法で積層体を作製する。
　すなわち、試験例３の積層体は、ハードコート層／樹脂基材／ハードコート層／アンカーコート層（ＡＣ１－２、５０ｎｍ）／バリア層（ケイ素酸窒化物、３０ｎｍ）からなる。

＜試験例４＞
　試験例４では、アンカーコート層の材料をポリエステル系樹脂１－１とイソシアネート化合物とを１０：１質量比で配合したアンカーコート液１－３（表１では「ＡＣ１－３」と表記、ｔａｎδピーク温度：３２℃）とし、アンカーコート層の厚みと、バリア層の厚み及び成膜条件を表１の通りに変更すること以外は、試験例１と同じ方法で積層体を作製する。
　すなわち、試験例４の積層体は、ハードコート層／樹脂基材／ハードコート層／アンカーコート層（ＡＣ１－３、５０ｎｍ）／バリア層（ケイ素酸窒化物、４０ｎｍ）からなる。

＜試験例５＞
　試験例５では、アンカーコート層の材料をポリエステル系樹脂１－２とイソシアネート化合物とを１０：１質量比で配合したアンカーコート液１－４（表１では「ＡＣ１－４」と表記、ｔａｎδピーク温度：２０℃）とし、アンカーコート層の厚みと、バリア層の厚み及び成膜条件を表１の通りに変更すること以外は、試験例１と同じ方法で積層体を作製する。
　すなわち、試験例５の積層体は、ハードコート層／樹脂基材／ハードコート層／アンカーコート層（ＡＣ１－４、２５ｎｍ）／バリア層（ケイ素酸窒化物、１３０ｎｍ）からなる。

＜試験例６＞
　試験例６では、アンカーコート層の材料をアクリル系樹脂１－３とイソシアネート化合物とを１０：１質量比で配合したアンカーコート液１－５（表１では「ＡＣ１－５」と表記、ｔａｎδピーク温度：７２℃）とし、アンカーコート層の厚みと、バリア層の厚み及び成膜条件を表１の通りに変更すること以外は、試験例１と同じ方法で積層体を作製する。
　すなわち、試験例６の積層体は、ハードコート層／樹脂基材／ハードコート層／アンカーコート層（ＡＣ１－５、１５０ｎｍ）／バリア層（ケイ素酸窒化物、５０ｎｍ）からなる。

＜試験例７＞
　試験例７では、アンカーコート層の厚みと、バリア層の厚み及び成膜条件を表１の通りに変更すること以外は、試験例４と同じ方法で積層体を作製する。
　すなわち、試験例７の積層体は、ハードコート層／樹脂基材／ハードコート層／アンカーコート層（ＡＣ１－３、１００ｎｍ）／バリア層（ケイ素酸窒化物、２１０ｎｍ）からなる。

　表１に、試験例１～７の積層体の、樹脂基材の材料（樹脂基材　材料）、ハードコート層の材料（ハードコート層　材料）、アンカーコート層の材料（ＡＣ層　材料）、バリア層の成膜圧力（成膜圧力［Ｐａ］）、成膜時の電力（電力［Ｗ］）、Ａｒの流量（Ａｒ［ｓｃｃｍ］）、Ｏ_２の流量（Ｏ_２［ｓｃｃｍ］）及びＮ_２の流量（Ｎ_２［ｓｃｃｍ］）並びにバリア層の厚み（厚み［ｎｍ］）を示す。

＜測定及び評価方法＞
　試験例１～７で得られた積層体の各種物性値の測定方法及び評価方法を説明する。

（ｔａｎδピーク温度）
　試験例１～７のアンカーコート液１－１～１－５を８０℃で乾燥させ、厚み２００μｍのシートを作製する。
　作製したシートについて、動的粘弾性測定装置（ＤＶＡ－２００、アイティー計測制御社製）を用いて、周波数１Ｈｚ、昇温速度３℃／分、測定温度－５０～２００℃の条件で粘弾性測定を行い、損失正接（ｔａｎδ）のピーク温度［℃］を求める。

（バリア層の元素組成）
　試験例１～７の積層体について、Ｘ線光電子分光装置（Ｋ－Ａｌｐｈａ、サーモフィッシャーサイエンティフィック社製）を用いて、ＸＰＳ（Ｘ線光電子分光法）により結合エネルギーを測定し、Ｓｉ２Ｐ、Ｏ１Ｓ、Ｎ１Ｓ、Ｃ１Ｓに対応するピークの面積から換算することによって各元素組成［ａｔｍ％］を算出する。

　表２の「バリア層組成」の「Ｓｉ［ａｔｍ％］」、「Ｏ［ａｔｍ％］」、「Ｎ［ａｔｍ％］」、及び「Ｃ［ａｔｍ％］」の欄に、それぞれ、各元素組成［ａｔｍ％］の測定値を示す。

（全光線透過率及びヘーズ）
　試験例１～７の積層体について、ヘーズメーター（ＮＤＨ　７０００II、日本電色工業製）を用いて、積層体のバリア層側が光源側になるように設置し、測定方法ＪＩＳ（全光線透過率：ＪＩＳ　Ｋ７３６１－１、ヘーズ：ＪＩＳ７１３６）で、全光線透過率［％］及びヘーズ［％］を測定する。
　また、試験例１～７の積層体を、温度４０℃、相対湿度９０％ＲＨの条件に設定した恒温恒湿機に入れ、１０日経過した後の全光線透過率［％］、ヘーズ［％］を同様に測定する。

　表２の「全光線透過率［％］」及び「ヘーズ［％］」の「成膜直後」欄に、それぞれ、バリア層を成膜した直後の全光線透過率［％］とヘーズ［％］の測定値を示す。また、「全光線透過率［％］」及び「ヘーズ［％］」の「４０℃９０％１０日後」欄に、積層体を、温度４０℃、相対湿度９０％ＲＨの条件に設定した恒温恒湿機に入れ、１０日経過した後の全光線透過率［％］とヘーズ［％］の測定値を示す。

（ｂ＊）
　試験例１～７の積層体について、分光色彩計（ＳＤ　６０００、日本電色工業製）を用いて、積層体のバリア層側が光源側になるように設置し、以下の条件（測定方法：透過、正反射光処理：ＳＣＩ、光源：Ｃ、視野：２°）で、ｂ＊を測定する。
　また、試験例１～７の積層体を、温度４０℃、相対湿度９０％ＲＨの条件に設定した恒温恒湿機に入れ、１０日経過した後のｂ＊を同様に測定する。

　表２の「ｂ＊」の「成膜直後」欄及び「４０℃９０％１０日後」欄に、それぞれ、バリア層を成膜した直後のｂ＊の測定値及び積層体を、温度４０℃、相対湿度９０％ＲＨの条件に設定した恒温恒湿機に入れ、１０日経過した後のｂ＊の測定値を示す。

（水蒸気バリア性）
　水蒸気透過率測定装置（ＤＥＬＴＡＰＥＲＭ、Ｔｅｃｈｎｏｌｏｘ社製）を用い、試験例１～７の積層体のバリア層側が検出器側（樹脂基材側が水蒸気暴露側）になる向きにセットし、温度４０℃、相対湿度９０％ＲＨの条件で水蒸気透過率［ｇ／ｍ^２／ｄａｙ］を測定する。

　表２の「水蒸気透過率［ｇ／ｍ^２／ｄａｙ］」欄に、水蒸気透過率の測定値を示す。

＜結果の説明＞
　試験例１～５の積層体は、バリア層の窒素元素組成が０ａｔｍ％超２５ａｔｍ％以下であることにより、全光線透過率、ヘーズ及びｂ＊の全てにおいて良好な光学特性が得られる。これらの積層体は水蒸気透過率が低いことから、ホログラム層による劣化を防止する効果も高い。
　また、これらの積層体は、４０℃９０％で１０日保管しても光学特性が悪化しない。

＜製造例１＞
　以下に、試験例１の積層体を用いた画像表示用導光板８の製造例を示す。
　なお、ホログラム層４を形成するための感光材料としては、ビスフェノール系エポキシ樹脂ｊＥＲ（登録商標）１００７（三菱ケミカル社製、重合度ｎ＝１０．８、エポキシ当量：１７５０～２２００）の１００質量部と、トリエチレングリコールジアクリレートの５０質量部及び４、４’－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェートの５質量部と、３，３’－カルボニルビス（７－ジエチルアミノ）クマリンの０．５質量部とを、２-ブタノンの１００質量部に混合溶解したもの（以下「感光材料Ａ」ともいう。）が用いられる。

（導光板作製工程）
　製造例１の導光板作製工程では、試験例１の積層体２枚を用いて画像表示用導光板８が製造される。
　一方の積層体のバリア層の周縁部に、幅５ｍｍ、厚み５μｍのシール層が塗布される。
　シール層は、透明材料からなり、積層体のバリア層同士を互いに接着できる材料であれば、特に限定されないが、製造例１では、光接着剤（デンカ社製、商品名「ハードロック（登録商標）ＯＰ－１０４５Ｋ」）が用いられる。
　これにより、シール層で囲まれた開口部が５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさを有するシール層段差付き中間体が形成される。
　この後、この中間体上に、ホログラム層４を形成する感光材料Ａがスピンコートによって塗布される。感光材料Ａは、乾燥後厚みが５μｍになるように塗布される。
　この後、他方の積層体を、そのバリア層がシール層段差付き中間体のバリア層と対向するように、シール層を介してホログラム層４上に積層し、減圧下にてプレス貼合する。プレス貼合の条件は、絶対圧５ｋＰａ、温度７０℃、プレス圧０．０４ＭＰａである。
　この後、プレス貼合されたホログラム層４に回折格子を記録する。この工程では、ホログラム層４を含む積層体の温度が２０℃に保たれる。回折格子は、積層体に２つのレーザー光を照射し、それぞれの照射角度及び強度を調整することで、必要な回折パターンが形成されるように干渉縞が形成される。これにより、ホログラム層４に回折格子が記録される。
　この回折格子は、入射部に入射した画像光として入射された赤色、緑色、青色の波長領域の各光を回折して、画像光の画素に対応する位置において、表示部から出射させるカラー表示用回折格子である。
　この後、ホログラム層４を含む積層体を２０℃に保った状態で、積層体の片面の方向から紫外光（波長３６５ｎｍ、放射照度８０Ｗ／ｃｍ^２）を３０秒間全面照射する。紫外光の光源としては、高圧水銀ランプが用いられる。
　これにより、シール層が硬化し、製造例１の画像表示用導光板８が作製される。

＜＜第２の実施形態の試験例及び製造例＞＞
　以下、第２の実施形態の試験例及び製造例について説明する。

＜試験例８＞
　樹脂基材、ハードコート層及びバリア層の材料は、上記試験例１と同じである。
　アンカーコート層の材料としては、非晶性ポリエステル系樹脂とイソシアネート化合物とを１０：１質量比で配合したアンカーコート液２－１（表３では「ＡＣ２－１」と表記、ｔａｎδピーク温度：２０℃）を用いる。

　上記試験例１と同じ方法で基材準備工程を行った後、以下に説明するバリア層形成工程を行って、積層体を作製する。

［バリア層形成工程］
　バリア層形成工程では、ハードコート層の表面にアンカーコート層を介してバリア層を形成する。
　ハードコート層の表面にアンカーコート液２－１をバーコーターで塗布し、６０℃で１分間乾燥し、厚み２５ｎｍのアンカーコート層を設ける。
　ターゲットとしてケイ素（株式会社高純度化学研究所製）を用いた反応性スパッタ法により、表３及び表４に記載の条件で、酸素ガス、窒素ガス、アルゴンガスを供給しながら厚さ１３０ｎｍのケイ素酸窒化物の成膜を実施する。
　以上の操作により、ハードコート層／樹脂基材／ハードコート層／アンカーコート層（ＡＣ２－１、２５ｎｍ）／バリア層（ケイ素酸窒化物、１３０ｎｍ）からなる試験例８の積層体が得られる。

＜試験例９＞
　試験例９では、アンカーコート層の厚みと、バリア層の厚み及び成膜条件を表３及び表４の通りに変更すること以外は、試験例８と同じ方法で積層体を作製する。
　すなわち、試験例９の積層体は、ハードコート層／樹脂基材／ハードコート層／アンカーコート層（ＡＣ２－１、１００ｎｍ）／バリア層（ケイ素酸窒化物、５０ｎｍ）からなる。

＜試験例１０＞
　試験例１０では、アンカーコート層の材料をアクリル系樹脂とイソシアネート化合物とを１０：１質量比で配合したアンカーコート液２－２（表３では「ＡＣ２－２」と表記、ｔａｎδピーク温度：５６℃）とし、アンカーコート層の厚みと、バリア層の厚み及び成膜条件を表３及び表４の通りに変更すること以外は、試験例８と同じ方法で積層体を作製する。
　すなわち、試験例８の積層体は、ハードコート層／樹脂基材／ハードコート層／アンカーコート層（ＡＣ２－２、１００ｎｍ）／バリア層（ケイ素酸窒化物、１００ｎｍ）からなる。

＜試験例１１＞
　試験例１１では、アンカーコート層の厚みと、バリア層の厚み及び成膜条件を表３及び表４の通りに変更すること以外は、試験例１０と同じ方法で積層体を作製する。
　すなわち、試験例１１の積層体は、ハードコート層／樹脂基材／ハードコート層／アンカーコート層（ＡＣ２－２、５０ｎｍ）／バリア層（ケイ素酸窒化物、２０ｎｍ）からなる。

＜試験例１２＞
　試験例１２では、アンカーコート層の材料をアクリル系樹脂とイソシアネート化合物とを１０：１質量比で配合したアンカーコート液２－３（表３では「ＡＣ２－３」と表記、ｔａｎδピーク温度：７２℃）とし、アンカーコート層の厚みと、バリア層の厚み及び成膜条件を表３及び表４の通りに変更すること以外は、試験例８と同じ方法で積層体を作製する。
　すなわち、試験例１２の積層体は、ハードコート層／樹脂基材／ハードコート層／アンカーコート層（ＡＣ２－３、１００ｎｍ）／バリア層（ケイ素酸窒化物、１００ｎｍ）からなる。

＜試験例１３＞
　試験例１３では、アンカーコート層の厚みと、バリア層の厚み及び成膜条件を表３及び表４の通りに変更すること以外は、試験例１２と同じ方法で積層体を作製する。
　すなわち、試験例１３の積層体は、ハードコート層／樹脂基材／ハードコート層／アンカーコート層（ＡＣ２－３、５０ｎｍ）／バリア層（ケイ素酸窒化物、７０ｎｍ）からなる。

＜試験例１４＞
　試験例１４では、アンカーコート層の厚みを表３の通りに変更すること以外は、試験例８と同じ方法で積層体を作製する。
　すなわち、試験例１４の積層体は、ハードコート層／樹脂基材／ハードコート層／アンカーコート層（ＡＣ２－１、２００ｎｍ）／バリア層（ケイ素酸窒化物、１３０ｎｍ）からなる。

＜試験例１５＞
　試験例１５では、バリア層の厚みを表４の通りに変更すること以外は、試験例１１と同じ方法で積層体を作製する。
　すなわち、試験例１５の積層体は、ハードコート層／樹脂基材／ハードコート層／アンカーコート層（ＡＣ２－３、１００ｎｍ）／バリア層（ケイ素酸窒化物、１６０ｎｍ）からなる。

＜試験例１６＞
　試験例１６では、アンカーコート層の材料をアクリル系樹脂とイソシアネート化合物とを１０：１質量比で配合したアンカーコート液２－４（表３では「ＡＣ２－４」と表記、ｔａｎδピーク温度：８２℃）とし、アンカーコート層の厚みと、バリア層の厚み及び成膜条件を表３及び表４の通りに変更すること以外は、試験例８と同じ方法で積層体を作製する。
　すなわち、試験例１６の積層体は、ハードコート層／樹脂基材／ハードコート層／アンカーコート層（ＡＣ２－４、１００ｎｍ）／バリア層（ケイ素酸窒化物、１００ｎｍ）からなる。

　表３及び表４に、試験例８～１６の積層体の、樹脂基材の材料、ハードコート層の材料、アンカーコート層の材料及びアンカーコート層の厚み、バリア層の材料、並びにバリア層の成膜圧力、成膜時の電力、Ａｒ、Ｏ_２及びＮ_２の流量並びにバリア層の厚みを示す。

＜測定及び評価方法＞
　試験例８～１６で得られた積層体の各種物性値の測定方法及び評価方法を説明する。

（ｔａｎδピーク温度）
　試験例８～１６のアンカーコート液２－１～２－４を８０℃で乾燥させ、厚み２００μｍのシートを作製する。
　作製したシートについて、動的粘弾性測定装置（ＤＶＡ－２００、アイティー計測制御社製）を用いて、周波数１Ｈｚ、昇温速度３℃／分、測定温度－５０～２００℃の条件で粘弾性測定を行い、損失正接（ｔａｎδ）のピーク温度［℃］を求める。

　表３の「アンカーコート層」の「ｔａｎδピーク温度［℃］」欄に、損失正接（ｔａｎδ）のピーク温度［℃］の測定値を示す。

（外観評価）
　試験例８～１６の積層体について、上記バリア層形成工程でバリア層を成膜した直後の外観を観察し、下記の基準により評価する。
　また、試験例８～１６の積層体を、温度４０℃、相対湿度９０％ＲＨの条件に設定した恒温恒湿機に入れ、１日経過した後の外観を観察し、再度下記の基準により評価する。
　Ａ（ｇｏｏｄ）：バリア層表面にクラックがみられない。
　Ｂ（ｐｏｏｒ）：バリア層表面にクラックが発生している。

　表４の「外観評価」の「成膜直後」欄及び「４０℃９０％１日後」欄に、それぞれ、バリア層を成膜した直後の外観評価及び積層体を、温度４０℃、相対湿度９０％ＲＨの条件に設定した恒温恒湿機に入れ、１日経過した後の外観評価を示す。

（水蒸気バリア性）
　水蒸気透過率測定装置（ＤＥＬＴＡＰＥＲＭ、Ｔｅｃｈ　ｎｏｌｏｘ社製）を用い、試験例８～１６の積層体のバリア層側が検出器側（樹脂基材側が水蒸気暴露側）になる向きにセットし、温度４０℃、相対湿度９０％ＲＨの条件で水蒸気透過率［ｇ／ｍ^２／ｄａｙ］を測定する。

　表４の「水蒸気透過率［ｇ／ｍ^２／ｄａｙ］」欄に、水蒸気透過率の測定値を示す。

＜結果の説明＞
　試験例８～１３の積層体は、バリア層の厚みが１５０ｎｍ以下であり、アンカーコート層とバリア層との合計厚みが３００ｎｍ以下であり、かつ、アンカーコート層の粘弾性測定におけるｔａｎδピーク温度が８０℃以下である。
　これらの積層体は、バリア層の厚み、及びアンカーコート層とバリア層との合計厚みが上記範囲内であることによって、バリア層成膜による残留応力に起因するクラックや変形が発生しにくいため、成膜直後の外観が良好である。
　また、これらの積層体は、アンカーコート層の粘弾性測定におけるｔａｎδピーク温度が上記範囲内であることによって、湿熱環境下での樹脂基材の膨張に起因するクラックも発生しにくいため、４０℃９０％で１日経過後の外観も良好である。

＜製造例２＞
　試験例８の積層体を用いて、製造例１と同じ方法で導光板作製工程を行うことで、製造例２の画像表示用導光板８が製造される。

＜＜第３の実施形態の試験例及び製造例＞＞
　以下、第３の実施形態の試験例及び製造例について説明する。

＜試験例１７＞
　樹脂基材、ハードコート層及びバリア層の材料は、上記試験例１と同じである。
　アンカーコート層の材料としては、アクリル系樹脂３－１とイソシアネート化合物とを１０：１質量比で配合したアンカーコート液３－１（表５では「ＡＣ３－１」と表記、ｔａｎδピーク温度：７８℃）を用いる。

［バリア層形成工程］
　バリア層形成工程では、ハードコート層の表面にアンカーコート層を介してバリア層を形成する。
　ハードコート層の表面にアンカーコート液３－１をバーコーターで塗布し、６０℃で１分間乾燥し、厚み２００ｎｍのアンカーコート層を設ける。
　ターゲットとしてケイ素（株式会社高純度化学研究所製）を用いた反応性スパッタ法により、表５及び表６に記載の条件で、酸素ガス、窒素ガス、アルゴンガスを供給しながら厚さ１００ｎｍのケイ素酸窒化物の成膜を実施する。
　以上の操作により、ハードコート層／樹脂基材／ハードコート層／アンカーコート層（ＡＣ３－１、２００ｎｍ）／バリア層（ケイ素酸窒化物、１００ｎｍ）からなる試験例１７の積層体が得られる。

＜試験例１８＞
　試験例１８では、アンカーコート層の材料をアクリル系樹脂３－２とイソシアネート化合物とを１０：１質量比で配合したアンカーコート液３－２（表５では「ＡＣ３－２」と表記、ｔａｎδピーク温度：５６℃）とし、アンカーコート層の厚みと、バリア層の厚み及び成膜条件を表５及び表６の通りに変更すること以外は試験例１７と同じ方法で積層体を作製する。
　すなわち、試験例１８の積層体は、ハードコート層／樹脂基材／ハードコート層／アンカーコート層（ＡＣ３－２、１００ｎｍ）／バリア層（ケイ素酸窒化物、１００ｎｍ）からなる。

＜試験例１９＞
　試験例１９では、アンカーコート層の厚みと、バリア層の厚み及び成膜条件を表５及び表６の通りに変更すること以外は、試験例１８と同じ方法で積層体を作製する。
　すなわち、試験例１９の積層体は、ハードコート層／樹脂基材／ハードコート層／アンカーコート層（ＡＣ３－２、５０ｎｍ）／バリア層（ケイ素酸窒化物、３０ｎｍ）からなる。

＜試験例２０＞
　試験例２０では、アンカーコート層の材料をポリエステル系樹脂３－１とイソシアネート化合物とを１０：１質量比で配合したアンカーコート液３－３（表５では「ＡＣ３－３」と表記、ｔａｎδピーク温度：３２℃）とし、アンカーコート層の厚みと、バリア層の厚み及び成膜条件を表５及び表６の通りに変更すること以外は、試験例１７と同じ方法で積層体を作製する。
　すなわち、試験例２０の積層体は、ハードコート層／樹脂基材／ハードコート層／アンカーコート層（ＡＣ３－３、５０ｎｍ）／バリア層（ケイ素酸窒化物、４０ｎｍ）からなる。

＜試験例２１＞
　試験例２１では、アンカーコート層の材料をポリエステル系樹脂３－２とイソシアネート化合物とを１０：１質量比で配合したアンカーコート液３－４（表５では「ＡＣ３－４」と表記、ｔａｎδピーク温度：２０℃）とし、アンカーコート層の厚みと、バリア層の厚み及び成膜条件を表５及び表６の通りに変更すること以外は、試験例１７と同じ方法で積層体を作製する。
　すなわち、試験例２１の積層体は、ハードコート層／樹脂基材／ハードコート層／アンカーコート層（ＡＣ３－４、２５ｎｍ）／バリア層（ケイ素酸窒化物、１３０ｎｍ）からなる。

＜試験例２２＞
　試験例２２では、アンカーコート層の厚みと、バリア層の厚み及び成膜条件を表５及び表６の通りに変更すること以外は、試験例２０と同じ方法で積層体を作製する。
　すなわち、試験例２２の積層体は、ハードコート層／樹脂基材／ハードコート層／アンカーコート層（ＡＣ３－３、１００ｎｍ）／バリア層（ケイ素酸窒化物、２１０ｎｍ）からなる。

＜試験例２３＞
　試験例２３では、アンカーコート層の厚みと、バリア層の厚み及び成膜条件を表５及び表６の通りに変更すること以外は、試験例１７と同じ方法で積層体を作製する。
　すなわち、試験例２３の積層体は、ハードコート層／樹脂基材／ハードコート層／アンカーコート層（ＡＣ３－３、１００ｎｍ）／バリア層（ケイ素酸窒化物、４０ｎｍ）からなる。

　表５及び表６に、試験例１７～２３の積層体の、樹脂基材の材料、ハードコート層の材料、アンカーコート層の材料及びアンカーコート層の厚み、バリア層の材料、並びにバリア層の成膜圧力、成膜時の電力、Ａｒ、Ｏ_２及びＮ_２の流量並びにバリア層の厚みを示す。

＜測定及び評価方法＞
　試験例１７～２３で得られた積層体の各種物性値の測定方法及び評価方法を説明する。

（ｔａｎδピーク温度）
　試験例１７～２３のアンカーコート液３－１～３－４を８０℃で乾燥させ、厚み２００μｍのシートを作製する。
　作製したシートについて、動的粘弾性測定装置（ＤＶＡ－２００、アイティー計測制御社製）を用いて、周波数１Ｈｚ、昇温速度３℃／分、測定温度－５０～２００℃の条件で粘弾性測定を行い、損失正接（ｔａｎδ）のピーク温度［℃］を求める。

　表５の「アンカーコート層」の「ｔａｎδピーク温度［℃］」欄に、損失正接（ｔａｎδ）のピーク温度［℃］の測定値を示す。また、「（Ａ）／（Ｂ）」欄に、「アンカーコート層の厚み［ｎｍ］／損失正接（ｔａｎδ）のピーク温度［℃］」の計算値を示す。

（ヘーズ）
　試験例１７～２３の積層体について、ヘーズメーター（ＮＤＨ　７０００II、日本電色工業製）を用いて、積層体のバリア層側が光源側になるように設置し、測定方法ＪＩＳ（全光線透過率：ＪＩＳ　Ｋ７３６１－１、ヘーズ：ＪＩＳ７１３６）で、ヘーズ［％］を測定する。
　また、試験例１７～２３の積層体を、温度４０℃、相対湿度９０％ＲＨの条件に設定した恒温恒湿機に入れ、１０日経過した後のヘーズ［％］を同様に測定する。
　さらに、試験例１７～２３の積層体について、保管前後のヘーズの変化量（Δｈａｚｅ）を求める。

　表６の「ヘーズ［％］」の「成膜直後」欄にバリア層を成膜した直後の測定値を示す。また、「４０℃９０％１０日後」欄に、積層体を、温度４０℃、相対湿度９０％ＲＨの条件に設定した恒温恒湿機に入れ、１０日経過した後の測定値を示す。さらに、「Δｈａｚｅ」欄に、上記保管前後でのヘーズの変化量を示す。

（水蒸気バリア性）
　水蒸気透過率測定装置（ＤＥＬＴＡＰＥＲＭ、Ｔｅｃｈｎｏｌｏｘ社製）を用い、試験例１７～２３の積層体のバリア層側が検出器側（樹脂基材側が水蒸気暴露側）になる向きにセットし、温度４０℃、相対湿度９０％ＲＨの条件で水蒸気透過率［ｇ／ｍ^２／ｄａｙ］を測定する。

　表６の「水蒸気透過率［ｇ／ｍ^２／ｄａｙ］」欄に、水蒸気透過率の測定値を示す。

＜結果の説明＞
　試験例１７～２１の積層体は、アンカーコート層の厚み［ｎｍ］／ｔａｎδピーク温度［℃］が３以下であることにより、４０℃９０％で１０日経過してもバリア層の残留応力による変形が抑えられるため、光学特性が悪化しない。これらの積層体は水蒸気透過率が低いことから、ホログラム層による劣化を防止する効果も高い。

＜製造例３＞
　試験例１７の積層体を用いて、製造例１と同じ方法で導光板作製工程を行うことで、製造例３の画像表示用導光板８が製造される。

＜＜第４の実施形態の試験例及び製造例＞＞
　以下、第４の実施形態の試験例及び製造例について説明する。

＜試験例２４＞
　樹脂基材、ハードコート層及びバリア層の材料は、上記試験例１と同じである。
　アンカーコート層の材料としては、ポリエステル系樹脂４－１（商品名「バイロン６３ＳＳ」、東洋紡社製、水酸基価：５ｍｇＫＯＨ／ｇ）とイソシアネート化合物４－１（商品名「コロネートＨＸ」、東ソー社製、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート構造三量体）とを、ＮＣＯ（イソシアネート化合物４－１のイソシアネート基数）／ＯＨ（ポリエステル系樹脂４－１の水酸基数）＝１（モル比）になるように配合したアンカーコート液４－１（表７では「ＡＣ４－１」と表記）を用いる。

［バリア層形成工程］
　バリア層形成工程では、ハードコート層の表面にアンカーコート層を介してバリア層を形成する。
　ハードコート層の表面にアンカーコート液４－１をバーコーターで塗布し、６０℃で１分間乾燥し、厚み２５ｎｍのアンカーコート層を設ける。
　ターゲットとしてケイ素（株式会社高純度化学研究所製）を用いた反応性スパッタ法により、表７に記載の条件で、酸素ガス、窒素ガス、アルゴンガスを供給しながら厚さ１３０ｎｍのケイ素酸窒化物の成膜を実施する。
　以上の操作により、ハードコート層／樹脂基材／ハードコート層／アンカーコート層（ＡＣ４－１、２５ｎｍ）／バリア層（ケイ素酸窒化物、１３０ｎｍ）からなる試験例２４の積層体が得られる。

＜試験例２５＞
　試験例２５では、アンカーコート層の材料をアクリル系樹脂４－１（商品名「アクリット６ＡＮ－６０００」、大成ファインケミカル社製、水酸基価：１０８ｍｇＫＯＨ／ｇ）とイソシアネート化合物４－１とを、ＮＣＯ（イソシアネート化合物４－１のイソシアネート基数）／ＯＨ（アクリル系樹脂４－１の水酸基数）＝１（モル比）になるように配合したアンカーコート液４－２（表７では「ＡＣ４－２」と表記）とし、アンカーコート層の厚みを１５０ｎｍとし、バリア層の厚み及び成膜条件を表７の通りに変更すること以外は、試験例２４と同じ方法で積層体を作製する。
　すなわち、試験例２５の積層体は、ハードコート層／樹脂基材／ハードコート層／アンカーコート層（ＡＣ４－２、１５０ｎｍ）／バリア層（ケイ素酸窒化物、１００ｎｍ）からなる。

＜試験例２６＞
　試験例２６では、アンカーコート層の材料をアクリル系樹脂４－２（商品名「アクリット６ＢＦ－４００」、大成ファインケミカル社製、水酸基価：５９ｍｇＫＯＨ／ｇ）とイソシアネート化合物４－１とを、ＮＣＯ（イソシアネート化合物４－１のイソシアネート基数）／ＯＨ（アクリル系樹脂４－２の水酸基数）＝１（モル比）になるように配合したアンカーコート液４－３（表７では「ＡＣ４－３」と表記）とし、アンカーコート層の厚みを１００ｎｍとし、バリア層の厚み及び成膜条件を表７の通りに変更すること以外は、試験例２４と同じ方法で積層体を作製する。
　すなわち、試験例２６の積層体は、ハードコート層／樹脂基材／ハードコート層／アンカーコート層（ＡＣ４－３、１００ｎｍ）／バリア層（ケイ素酸窒化物、１００ｎｍ）からなる。

＜試験例２７＞
　試験例２７では、アンカーコート層の材料をアクリル系樹脂４－１とイソシアネート化合物４－１とを、ＮＣＯ（イソシアネート化合物４－１のイソシアネート基数）／ＯＨ（アクリル系樹脂４－１の水酸基数）＝０．５（モル比）になるように配合したアンカーコート液４－４（表７では「ＡＣ４－４」と表記）とし、バリア層の厚み及び成膜条件を表７の通りに変更すること以外は、試験例２４と同じ方法で積層体を作製する。
　すなわち、試験例２７の積層体は、ハードコート層／樹脂基材／ハードコート層／アンカーコート層（ＡＣ４－４、２５ｎｍ）／バリア層（ケイ素酸窒化物、１００ｎｍ）からなる。

＜試験例２８＞
　試験例２８では、アクリル系樹脂４－１とイソシアネート化合物４－１とを、ＮＣＯ（イソシアネート化合物４－１のイソシアネート基数）／ＯＨ（アクリル系樹脂４－１の水酸基数）＝０．７５（モル比）になるように配合したアンカーコート液４－５（表７では「ＡＣ４－５」と表記）とし、バリア層の厚み及び成膜条件を表７の通りに変更すること以外は、試験例２４と同じ方法で積層体を作製する。
　すなわち、試験例２８の積層体は、ハードコート層／樹脂基材／ハードコート層／アンカーコート層（ＡＣ４－５、２５ｎｍ）／バリア層（ケイ素酸窒化物、１００ｎｍ）からなる。

　表７に、試験例２４～２８の積層体の、樹脂基材の材料（樹脂基材　材料）、ハードコート層の材料（ハードコート層　材料）、アンカーコート層の材料（ＡＣ層　材料）、アンカーコート層におけるバインダー樹脂の水酸基に対するイソシアネート化合物のイソシアネート基のモル比（ＮＣＯ／ＯＨ）、バリア層の成膜圧力（成膜圧力［Ｐａ］）、成膜時の電力（電力［Ｗ］）、Ａｒの流量（Ａｒ［ｓｃｃｍ］）、Ｏ_２の流量（Ｏ_２［ｓｃｃｍ］）及びＮ_２の流量（Ｎ_２［ｓｃｃｍ］）並びにバリア層の厚み（厚み［ｎｍ］）を示す。

＜測定及び評価方法＞
　試験例２４～２８で得られた積層体の各種物性値の測定方法及び評価方法を説明する。

（バリア層の元素組成）
　試験例２４～２８の積層体について、Ｘ線光電子分光装置（Ｋ－Ａｌｐｈａ、サーモフィッシャーサイエンティフィック社製）を用いて、ＸＰＳ（Ｘ線光電子分光法）により結合エネルギーを測定し、Ｓｉ２Ｐ、Ｏ１Ｓ、Ｎ１Ｓ、Ｃ１Ｓに対応するピークの面積から換算することによって各元素組成［ａｔｍ％］を算出する。

　表８の「バリア層組成」の「Ｓｉ［ａｔｍ％］」、「Ｏ［ａｔｍ％］」、「Ｎ［ａｔｍ％］」、及び「Ｃ［ａｔｍ％］」の欄に、それぞれ、各元素組成［ａｔｍ％］の測定値を示す。

（耐溶剤性）
　耐溶剤性試験は、大栄科学精機製作所製の摩擦堅牢度試験機　ＲＴ－３００を用いて行う。試験機に平面形試験台を設置し、試験例２４～２８の積層体を幅２ｃｍ、長さ２０ｃｍの短冊状にカットしたものを、バリア層側を上向きにして試験台の上にセットする。試験機の摩擦子の摩擦面を覆うようにワイピングクロス（橋本クロス社製　Ｎ２３２５）を１枚セットし、摩擦子に８００ｇの荷重分銅を取り付ける（摩擦子２００ｇと分銅８００ｇの計１ｋｇ荷重）。短冊状の積層体のバリア層面にイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）を滴下し、摩擦子をバリア層面に下ろし、１０回往復させた後のバリア層表面を、日立ハイテクサイエンス社製の走査型白色干渉顕微鏡　ＶｅｒｔＳｃａｎで観察して以下の基準で耐溶剤性を評価する。
　　　Ａ（ｇооｄ）：バリア層の剥離がみられない。
　　　Ｂ（ｐооｒ）：バリア層の剥離がみられる。

　表８の「耐溶剤性」の欄に、評価結果を示す。

（水蒸気バリア性）
　水蒸気透過率測定装置（ＤＥＬＴＡＰＥＲＭ、Ｔｅｃｈｎｏｌｏｘ社製）を用い、試験例２４～２８の積層体のバリア層側が検出器側（樹脂基材側が水蒸気暴露側）になる向きにセットし、温度４０℃、相対湿度９０％ＲＨの条件で水蒸気透過率［ｇ／ｍ^２／ｄａｙ］を測定する。

　表８の「水蒸気透過率［ｇ／ｍ^２／ｄａｙ］」欄に、水蒸気透過率の測定値を示す。

＜結果の説明＞
　試験例２４～２６の積層体は、アンカーコート層のＮＣＯ／ＯＨ比が０．８以上であることにより、アンカーコート層の架橋密度が高くなり、溶剤への耐性が高くなるため、耐溶剤性試験におけるバリア層の剥離が抑制できる。これらの積層体は水蒸気透過率が低いことから、ホログラム層による劣化を防止する効果も高い。

＜製造例４＞
　試験例２４の積層体を用いて、製造例１と同じ方法で導光板作製工程を行うことで、製造例４の画像表示用導光板８が製造される。

＜＜第５の実施形態の試験例及び製造例＞＞
　以下、第５の実施形態の試験例及び製造例について説明する。

＜試験例２９＞
（樹脂基材Ａ－１の作製）
　アクリル系樹脂（Ａｒｋｅｍａ社製、商品名「Ａｌｔｕｇｌａｓ　ＨＴ１２１」、マトリックス樹脂：メチルメタクリレート－メチルアクリレート－スチレン共重合体、硬質分散相：ＴＭＰＴＡ－ＴＭＰＴＭＡ重合架橋型樹脂、硬質分散相径；５～１０μｍ）のペレットをそのまま樹脂組成物ａ－１として用いる。
　上記樹脂組成物ａ－１を押出機Ａに供給し、押出機において２４０℃で溶融混練した後、２５０℃に加熱された単層用のＴダイに供給してシート状に押出し、冷却固化して厚みが０．５ｍｍの樹脂基材Ａ－１を得る。

（保護層Ｅ－１の作製）
　樹脂基材Ａ－１を２００ｍｍ×３００ｍｍの矩形状に切り出して、以下の操作により、樹脂基材Ａ－１の一方の表面に、接着層Ｄ－１を介して保護層Ｅ－１を作製し、樹脂基材Ａ－１／接着層Ｄ－１／保護層Ｅ－１からなる積層体を得る。
　樹脂基材Ａ－１の一方の表面に、接着層Ｄ－１の材料であるアクリル系樹脂（大成ファインケミカル社製、商品名「アクリット６ＢＦ－４００」）の酢酸エチル溶液をバーコーターで塗布し、６０℃で１分間乾燥して、厚み１００ｎｍの接着層Ｄ－１を作製する。さらに、この接着層Ｄ－１の表面に、反応性スパッタ法により、ケイ素窒素酸化物から形成された厚さ１００ｎｍの保護層Ｅ－１を作製する。反応性スパッタ法は、ケイ素をターゲットとして用いて、１．０×１０^－１Ｐａの真空下で、酸素ガス、窒素ガス、アルゴンガスを供給しながら行う。なお、この際の全ガス流量は、７０ｓｃｃｍとする。
　表９に、樹脂基材、接着層及び保護層の材料及び厚みを示す。

（測定及び評価）
　表１０に、樹脂基材Ａ－２／保護層Ｅ－１からなる積層体について、樹脂基材表面の鉛筆硬度、樹脂基材の表面粗さ、保護層の表面粗さ及び水蒸気バリア性を示す。

＜試験例３０＞
（樹脂基材Ａ－１／Ｂ－１／Ａ－１の作製）
　試験例３０では、樹脂基材Ａ－１と樹脂基材Ｂ－１をＡ－１／Ｂ－１／Ａ－１の順で積層したものを樹脂基材として用いる。
　樹脂基材Ａ－１の材料は、試験例２９の樹脂組成物ａ－１を用いる。
　樹脂基材Ｂ－１の材料は、ポリカーボネート系樹脂Ａ（住化スタイロン社製、商品名「ＣＡＬＩＢＲＥ３０１－４」）のペレットと、ポリカーボネート系樹脂Ｂ（住化スタイロン社製、商品名「ＳＤポリカＳＰ３０３０」）のペレットと、ポリエステル系樹脂（ＳＫケミカル社製、商品名「ＳＫＹＧＲＥＥＮ　Ｊ２００３」）のペレットとを５５：２５：２０の質量比で混合した後、２６０℃に加熱された二軸押出機を用いてペレット化した樹脂組成物ｂ－１を用いる。

　樹脂組成物ａ－１及び樹脂組成物ｂ－１を、それぞれ、押出機Ａ及びＢに供給し、各押出機において、２４０℃及び２６０℃で溶融混練した後、２５０℃に加熱された２種３層用のＴダイに合流させ、Ａ－１／Ｂ－１／Ａ－１の構成になるようにシート状に押出し、冷却固化して、厚み０．８ｍｍ（Ａ－１：１００μｍ、Ｂ－１：６００μｍ）の樹脂基材Ａ－１／Ｂ－１／Ａ－１を製造する。

（保護層Ｅ－１の作製）
　樹脂基材Ａ－１／Ｂ－１／Ａ－１を２００ｍｍ×３００ｍｍの矩形状に切り出し、実施例１と同様にして、一方の樹脂基材Ａ－１上に接着層Ｄ－１を介して保護層Ｅ－１を作製し、樹脂基材Ａ－１／Ｂ－１／Ａ－１／接着層Ｄ－１／保護層Ｅ－１からなる積層体を得る。
　表９に、樹脂基材、接着層及び保護層の材料及び厚みを示す。

（測定及び評価）
　表１０に、樹脂基材Ａ－１／Ｂ－１／Ａ－１／接着層Ｄ－１／保護層Ｅ－１からなる積層体について、樹脂基材表面の鉛筆硬度、樹脂基材の表面粗さ、保護層の表面粗さ及び水蒸気バリア性を示す。

＜試験例３１＞
（ハードコート層Ｃ－１／樹脂基材Ａ－１／ハードコート層Ｃ－１の作製）
　試験例３１では、樹脂基材Ａ－１の両表面にハードコート層Ｃ－１を積層する。
　樹脂基材Ａ－１の材料は、試験例２９の樹脂組成物ａ－１を用いる。
　ハードコート層Ｃ－１の材料は、紫外線硬化性樹脂組成物Ａ（三菱ケミカル社製、商品名「紫光ＵＶ１７００Ｂ」）１００質量部に対して、光重合開始剤Ａ（ＢＡＳＦ社製、商品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１８４」）の４質量部及びレベリング剤Ａ（共栄社化学社製、商品名「ポリフローＮｏ．７５」）の０．５質量部を混合して、これらの混合物固形分が４０質量％となるようにＰＧＭ（プロピレングリコールモノメチルエーテル）で溶解希釈した紫外線硬化性樹脂組成物ｃ－１を用いる。

　樹脂基材Ａ－１の両表面に、紫外線硬化性樹脂組成物ｃ－１をバーコーターで塗布し、９０℃で１分間乾燥後、積算光量５００ｍＪ／ｃｍ^２で両表面を露光し、厚み１０μｍのハードコート層Ｃ－１を設けて、ハードコート層Ｃ－１／樹脂基材Ａ－１／ハードコート層Ｃ－１を得る。

（保護層Ｅ－１の作製）
　ハードコート層Ｃ－１／樹脂基材Ａ－１／ハードコート層Ｃ－１を２００ｍｍ×３００ｍｍの矩形状に切り出し、実施例１と同様にして、一方のハードコート層Ｃ－１上に接着層Ｄ－１を介して保護層Ｅ－１を作製し、ハードコート層Ｃ－１／樹脂基材Ａ－１／ハードコート層Ｃ－１／接着層Ｄ－１／保護層Ｅ－１からなる積層体を得る。
　表９に、樹脂基材、ハードコート層、接着層及び保護層の材料及び厚みを示す。

（測定及び評価）
　表１０に、ハードコート層Ｃ－１／樹脂基材Ａ－１／ハードコート層Ｃ－１／接着層Ｄ－１／保護層Ｅ－１からなる積層体について、樹脂基材表面の鉛筆硬度、樹脂基材の表面粗さ、保護層の表面粗さ及び水蒸気バリア性を示す。

＜試験例３２＞
（ハードコート層Ｃ－２／樹脂基材Ａ－１／Ｂ－１／Ａ－１／ハードコート層Ｃ－２の作製）
　試験例３２では、樹脂基材Ａ－１と樹脂基材Ｂ－１をＡ－１／Ｂ－１／Ａ－１の順で積層し、その両表面にハードコート層Ｃ－２を積層する。
　樹脂基材Ａ－１／Ｂ－１／Ａ－１は、試験例３０と同じものを用いる。
　ハードコート層Ｃ－２の材料は、紫外線硬化性樹脂組成物Ａ（三菱ケミカル社製、商品名「紫光ＵＶ１７００Ｂ」）と反応性官能基含有シリカ分散液（日産化学社製、商品名「オルガノシリカゾルＰＧＭ－ＡＣ－２１４０Ｙ」）とを、硬化性樹脂：シリカ＝５０：５０の質量比となるように混合し、これらの混合物固形分１００質量部に対して、光重合開始剤Ａ（ＢＡＳＦ社製、商品名「Ｏｍｎｉｒａｄ１８４」）の４質量部及びレベリング剤Ａ（共栄社化学社製「ポリフローＮｏ．７５」）の０．５質量部を混合して、これらの混合物固形分が４０質量％となるようにＰＧＭ（プロピレングリコールモノメチルエーテル）で溶解希釈した紫外線硬化性樹脂組成物ｃ－２を用いる。

　樹脂基材Ａ－１／Ｂ－１／Ａ－１の両表面に、紫外線硬化性樹脂組成物ｃ－２をバーコーターで塗布し、９０℃で１分間乾燥後、積算光量５００ｍＪ／ｃｍ^２で両表面を露光し、厚み１５μｍのハードコート層Ｃ－２を設けて、ハードコート層Ｃ－２／樹脂基材Ａ－１／Ｂ－１／Ａ－１／ハードコート層Ｃ－２を得る。

（保護層Ｅ－１の作製）
　ハードコート層Ｃ－２／樹脂基材Ａ－１／Ｂ－１／Ａ－１／ハードコート層Ｃ－２を２００ｍｍ×３００ｍｍの矩形状に切り出し、試験例２９と同様にして、一方のハードコート層Ｃ－２上に接着層Ｄ－１を介して保護層Ｅ－１を作製し、ハードコート層Ｃ－２／樹脂基材Ａ－１／Ｂ－１／Ａ－１／ハードコート層Ｃ－２／接着層Ｄ－１／保護層Ｅ－１からなる積層体を得る。
　表９に、樹脂基材、ハードコート層、接着層及び保護層の材料及び厚みを示す。

（測定及び評価）
　表１０に、ハードコート層Ｃ－２／樹脂基材Ａ－１／Ｂ－１／Ａ－１／ハードコート層Ｃ－２／接着層Ｄ－１／保護層Ｅ－１からなる積層体について、樹脂基材表面の鉛筆硬度、樹脂基材の表面粗さ、保護層の表面粗さ及び水蒸気バリア性を示す。

＜試験例３３＞
（樹脂基材Ａ－２の作製）
　厚み１．５ｍｍのアクリル系樹脂製プレート（三菱化学社製、商品名「アクリライトＬ」）を樹脂基材Ａ－２として用いる。

（保護層Ｅ－１の作製）
　樹脂基材Ａ－２を２００ｍｍ×３００ｍｍの矩形状に切り出し、試験例２９と同様にして、樹脂基材Ａ－２の一方の表面に、接着層Ｄ－１を介して保護層Ｅ－１を作製し、樹脂基材Ａ－２／接着層Ｄ－１／保護層Ｅ－１からなる積層体を得る。
　表９に、樹脂基材、接着層及び保護層の材料及び厚みを示す。

（測定及び評価）
　表１０に、樹脂基材Ａ－２／接着層Ｄ－１／保護層Ｅ－１からなる積層体について、樹脂基材表面の鉛筆硬度、樹脂基材の表面粗さ、保護層の表面粗さ及び水蒸気バリア性を示す。

＜試験例３４＞
（樹脂基材Ａ－２の作成）
　厚み１．５ｍｍのアクリル系樹脂製プレート（三菱化学社製、商品名「アクリライトＬ」）を樹脂基材Ａ－２として用いる。

（保護層Ｅ－１の作製）
　樹脂基材Ａ－２を２００ｍｍ×３００ｍｍの矩形状に切り出し、以下の操作により、樹脂基材Ａ－２の一方の表面に、保護層Ｅ－１を作製し、樹脂基材Ａ－２／保護層Ｅ－１からなる積層体を得る。
　樹脂基材Ａ－２の一方の表面に、反応性スパッタ法により、ケイ素窒素酸化物から形成された厚さ１００ｎｍの保護層Ｅ－１を作製する。反応性スパッタ法は、ケイ素をターゲットとして用いて、１．０×１０^－１Ｐａの真空下で、酸素ガス、窒素ガス、アルゴンガスを供給しながら行う。なお、この際の全ガス流量は、７０ｓｃｃｍとする。
　表９に、樹脂基材及び保護層の材料及び厚みを示す。

＜測定及び評価方法＞
　試験例２９～３４で得られた積層体の各種物性値の測定方法及び評価方法を説明する。

（樹脂基材表面の鉛筆硬度）
　試験例２９～３４で得られた樹脂基材の、保護層と対向する側とは反対側の表面の鉛筆硬度を、ＪＩＳ　Ｋ　５６００－５－４：１９９９に準拠して測定する。試験時の負荷荷重は７５０ｇｆとする。

（表面粗さＳａ）
　試験例２９～３４で用いた樹脂基材の表面粗さＳａ及び保護層のホログラム層と接する側の表面粗さＳａ（保護層の表面粗さＳａ）を、バートスキャン（ＶｅｒｔＳｃａｎ）を用いて測定する。
　装置：ＶｅｒｔＳｃａｎ（菱化システム社製）
　観察条件
　　対物レンズ：５倍
　　波長フィルター：５３０ｗｈｉｔｅ
　　測定モード：ｗａｖｅ
　　視野サイズ：６４０×４８０ピクセル
　　スキャンレンジ：７μｍ（スタート）
　　　　　　　　　　－７μｍ（ストップ）
　　ランプ開口絞り：５０％
　　コントラスト：６２％
　　ブライトネス：０％
　解析条件
　　補間：完全
　　面補正：４次式近似

（水蒸気バリア性）
　試験例２９～３４の積層体における水蒸気バリア性を、水蒸気透過率測定装置（ＤＥＬＴＡＰＥＲＭ、Ｔｅｃｈ　ｎｏｌｏｘ社製）を用いて測定する。
　積層体の保護層側が検出器側（樹脂基材側が水蒸気暴露側）になる向きにセットし、温度４０℃、相対湿度９０％ＲＨの条件で測定する。

＜結果の説明＞
　試験例２９～３３の積層体は、保護層の表面粗さＳａが５．５ｎｍ未満であり、水蒸気バリア性が良好である。なかでも、試験例２９及び試験例３３を比較すると、試験例２９の積層体は樹脂基材としてマトリックス中に硬質性の分散相を有する硬質樹脂（ａ）を含む樹脂層（Ａ）を用いているため、樹脂基材の表面粗さＳａがより小さく、保護層の表面粗さＳａもより小さくなったことにより、水蒸気バリア性がさらに良好となる。
　また、試験例２９～３２の積層体は、試験例３３の積層体に比べ、樹脂基材表面の鉛筆硬度が高いことから、耐擦傷性にも優れている。

＜製造例５＞
　試験例２９の積層体を用いて、製造例１と同じ方法で導光板作製工程を行うことで、製造例５の画像表示用導光板８が製造される。

＜＜第６の実施形態の試験例及び製造例＞＞
　以下、第６の実施形態の試験例及び製造例について説明する。

＜試験例３５＞
　樹脂基材、ハードコート層及びバリア層の材料は、上記試験例１と同じである。
　アンカーコート層の材料としては、アクリル系樹脂（大成ファインケミカル株式会社製「アクリット６ＢＦ－４００」）を用いる。

［バリア層形成工程］
　バリア層形成工程では、ハードコート層の表面にアンカーコート層を介してバリア層を形成する。
　ハードコート層の表面にアンカーコート層の材料であるアクリル系樹脂をバーコーターで塗布し、６０℃で１分間乾燥し、厚み１００ｎｍのアンカーコート層を設ける。
ターゲットとしてケイ素（株式会社高純度化学研究所製）を用いた反応性スパッタ法により、１．０×１０^－１Ｐａの真空下で、酸素ガス、窒素ガス、アルゴンガスを供給しながら厚さ１００ｎｍのケイ素窒素酸化物の成膜を実施する。全ガス流量は、７０ｓｃｃｍとする。

＜試験例３６＞
　試験例３６では、バリア層を形成する際の全ガス流量を１０５ｓｃｃｍにすること以外は試験例３５と同じ方法で、積層体を作製する。

＜試験例３７＞
　試験例３７では、アンカーコート層の材料をウレタン系樹脂（東洋紡社製「バイロンＵＲ－１３５０」）にすること以外は試験例３５と同じ方法で、積層体を作製する。

＜試験例３８＞
　試験例３８では、バリア層を形成する際の全ガス流量を１０５ｓｃｃｍにすること以外は試験例３７と同じ方法で、積層体を作製する。

＜試験例３９＞
　試験例３９では、アンカーコート層の乾燥温度を４０℃にすること以外は試験例３７と同じ方法で、積層体を作製する。

＜試験例４０＞
　試験例４０では、アンカーコート層の材料をポリエステル系樹脂（東洋紡社製「バイロン６３ＳＳ」）にすること以外は試験例３５と同じ方法で、積層体を作製する。

＜試験例４１＞
　試験例４１では、バリア層を形成する際の全ガス流量を１０５ｓｃｃｍにすること以外は試験例４０と同じ方法で、積層体を作製する。

＜試験例４２＞
　試験例４２では、アンカーコート層の乾燥温度を４０℃にすること以外は試験例４０と同じ方法で、積層体を作製する。

＜試験例４３＞
　試験例４３では、アンカーコート層の乾燥温度を４０℃にすること以外は試験例３５と同じ方法で、積層体を作製する。

　表１１及び表１２に、試験例３５～４３の樹脂基材の材料及び板厚み、ハードコート層の材料、アンカーコート層の材料、膜厚及び乾燥温度、並びにバリア層の材料、膜厚、成膜時の全ガス流量及び配置を示す。

＜測定及び評価方法＞
　試験例３５～４３で得られた積層体の各種物性値の測定方法及び評価方法を説明する。

（表面粗さＳａの測定）
　試験例３５～４３の積層体を測定サンプルとし、バートスキャン法を用いて表面粗さＳａを測定する。
　装置：白色干渉計（ＶｅｒｔＳｃａｎ、菱化システム社製）
　観察条件
　　対物レンズ：５倍
　　波長フィルター：５３０ｗｈｉｔｅ
　　測定モード：ｗａｖｅ
　　視野サイズ：６４０×４８０ピクセル
　　スキャンレンジ：７μｍ（スタート）
　　　　　　　　　　－７μｍ（ストップ）
　ランプ開口絞り：５０％
　コントラスト：６２％
　　ブライトネス：０％
　解析条件
　　補間：完全
　　面補正：４次式近似

　表１２の「表面粗さＳａ」欄に、試験例３５～４３の測定結果を示す。

（鏡面光沢度の測定）
　試験例３５～４３の積層体を測定サンプルとし、グロスメーター（スガ試験機株式会社製、製品名：ＧＳ－４Ｋ）を用いて、光源入射角度を６０度、受光器受光角度を６０度として鏡面光沢度を測定する。なお、測定に先立ち、光沢標準板である黒色平面光学研磨ガラス　Ｎｏ．２０１２－０１５－Ｂの鏡面光沢度が９２．２％となるように装置を校正する。

　表１２の「鏡面光沢度」欄に、試験例３５～４３の測定結果を示す。

（透過ｂ＊値の測定）
　試験例３５～４３の積層体を測定サンプルとし、日本電色工業株式会社製の分光色彩計「ＳＤ６０００」を用いて、光源はＣ、視野角２度で、透過ｂ＊値を測定する。

　表１２の「透過ｂ＊値」欄に、試験例３５～４３の測定結果を示す。

＜結果の説明＞
　試験例３５～４２の積層体は、鏡面光沢度が１２０％以上である。これらの積層体は、透過ｂ＊が低いことから、黄色味も低いことがわかる。
　一方、試験例４３の積層体は、アンカーコート層としてアクリル系樹脂を用い、かつ、アンカーコート層の乾燥温度を４０℃とすることにより、鏡面光沢度が１００％となる。試験例４３の積層体は、透過ｂ＊が高く、黄色味が強いことがわかる。
　試験例４３では、アンカーコート層として用いたアクリル系樹脂が、４０℃１分間の乾燥条件では十分に硬化せず、バリア層のスパッタ成膜時にアンカーコート層が賦形されながら硬化することで、膜内部に成膜ムラが生じるために、鏡面光沢度が低下すると考えられる。

＜製造例６～１４＞
　試験例３５～４３の積層体を用いて、製造例１と同じ方法で導光板作製工程を行うことで、製造例６～１４の画像表示用導光板８が製造される。

＜表示画像の鮮明性評価＞
　製造例６～１４の画像表示用導光板は、画像表示装置に取り付けられる。画像表示装置には、表示を行う画像光を画像表示用導光板８の入射部に入射する光学系、駆動電源、及び画像光を得るための画像情報等を供給する回路システムが設けられている。
　評価に用いる入力画像としては、白色画像と、文字表示画像と、が用いられる。
　評価は、白色画像と、文字表示画像との、見え方を目視で判定することにより行われる。文字画像としては、大きさ１０ｍｍ×１００ｍｍ以内の「ＡＢＣＤＥ」が表示される。
　白色画像において虹色が見えず、文字表示画像において、文字がはっきり見える場合、良い（ｇｏｏｄ、表２では「Ａ」と記載）と判定する。
　白色画像においてわずかに虹色が見えるが、文字表示画像において、文字がはっきり見える場合、可（ｆａｉｒ、表２では「Ｂ」と記載）と判定する。
　白色画像において少なくとも一部に虹色が見え、かつ文字表示画像において、文字の輪郭がぼやけて見える場合、不可（ｎｏ　ｇｏｏｄ、表２では「Ｃ」と記載）と判定する。

　表１３の「鮮明性」欄に、製造例６～１４の鮮明性評価結果を示す。

＜結果の説明＞
　表１３に示すように、製造例６～１３の画像表示用導光板は、積層体の鏡面光沢度が１２０％以上であることによって、鮮明性が「良い」又は「可」と判定できる。
　一方、製造例１４の画像表示用導光板は、積層体の鏡面光沢度が１００％と低いため、鮮明性が「不可」と判定できる。

　本発明の画像表示用導光板は、例えば、ＶＲアプリケーション及びＡＲアプリケーションの表示装置用途に有用であり、例えば、ヘッドアップディスプレイ、ウェアラブルディスプレイ、ヘッドマウントディスプレイ等の表示装置用途に有用である。

１：第１樹脂基材
２：第１アンカーコート層
３：第１バリア層（第１保護層）
４：ホログラム層
５：第２バリア層（第２保護層）
６：第２アンカーコート層
７：第２樹脂基材
８：画像表示用導光板
１１：第１積層体
１２：第２積層体

Claims

　樹脂基材、アンカーコート層及びバリア層をこの順に備える積層体と、ホログラム層と、を有し、前記バリア層が、ケイ素酸窒化物を主成分とし、Ｘ線光電分子光法（ＸＰＳ）により求められる前記バリア層中の窒素元素組成が０ａｔｍ％超２５ａｔｍ％以下である、画像表示用導光板。
　前記樹脂基材が、ポリ（メタ）アクリル系樹脂、エポキシ樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂及びポリカーボネート系樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種の樹脂を含む、請求項１に記載の画像表示用導光板。
　前記アンカーコート層が、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂及びポリエステル系樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種の樹脂を含む、請求項１又は２に記載の画像表示用導光板。
　前記積層体が、前記樹脂基材の両表面にハードコート層を有する、請求項１～３のいずれか１項に記載の画像表示用導光板。
　前記積層体の全光線透過率が９０％以上である、請求項１～４のいずれか１項に記載の画像表示用導光板。
　前記積層体のヘーズが０．１％未満である、請求項１～５のいずれか１項に記載の画像表示用導光板。
　分光色彩計によって測定される前記積層体のｂ＊が０．５未満である、請求項１～６のいずれか１項に記載の画像表示用導光板。
　前記積層体の水蒸気透過率が０．０１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ未満である、請求項１～７のいずれか１項に記載の画像表示用導光板。