JP2012054602A - 露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】放射線源LAをも備えた、放射線の投影ビームPBを供給するための放射線システムEx、照明系ILと、部材PLに対してマスクを正確に位置決めするための第1の位置決め手段に接続された第1のオブジェクト・テーブル(マスク・テーブル)MTと、部材PLに対して基板を正確に位置決めするための第2の位置決め手段に接続された第2のオブジェクト・テーブル(基板テーブル)WTと、マスクMAの照射された部分を基板Wのターゲット部分Cに結像させるための投影システムPLとを備え、前記浸漬液を通過した前記放射線の投影ビームによって照明されるように配置される少なくとも1つのセンサを有する。
【選択図】図1
Description
放射線の投影ビームを提供するための放射線システムと、
パターン形成手段を支持するための支持構造であって、パターン形成手段が所望のパターンに従って投影ビームにパターンを形成するように働く支持構造と、
基板を保持するための基板テーブルと、
パターンが形成されたビームを基板のターゲット部分の上に投影するための投影システムと、
前記投影システムの最終要素と前記基板テーブル上に配置されたオブジェクトの間の空間の少なくとも一部分を液体で満たすための液体供給システムと
を有するリソグラフィ投影装置に関する。
マスク
マスクの概念はリソグラフィの分野では周知であり、それにはバイナリ・マスク、交互位相シフト・マスク(alternating PSM)及び減衰位相シフト・マスク(attenuated PSM)などのマスク・タイプ、並びに様々なハイブリッド型のマスク・タイプが含まれる。こうしたマスクを放射線ビーム中に配置すると、マスク・パターンに従って、マスク上に衝突する放射線の選択的透過(透過性マスクの場合)又は反射(反射性マスクの場合)が行われる。マスクの場合、その支持構造は、一般に入射する放射線ビーム中の所望の位置にマスクを保持できること、及び必要であればビームに対してマスクを移動できることを保証するマスク・テーブルである。
プログラマブル・ミラー・アレイ
このようなデバイスの一例は、粘弾性制御層及び反射面を有する、マトリクス状にアドレス指定可能な表面である。こうした装置の背景となる基本原理は、(例えば)反射面のアドレス指定された領域が入射光を回折光として反射し、アドレス指定されていない領域が入射光を非回折光として反射することにある。適切なフィルタを用いると、前記非回折光を反射ビームから濾去し、後に回折光のみを残すことができる。このようにして、マトリクス状にアドレス指定可能な表面のアドレス指定されたパターンに従ってビームにパターンが形成される。プログラマブル・ミラー・アレイの別の実施例は小さいミラーのマトリクス状の配列を使用するものであり、適切な局部電界を印加するか、あるいは電圧作動手段を用いることによりそれぞれのミラーを別々に軸線を中心に傾斜させることができる。ここでも、ミラーはマトリクス状にアドレス指定可能にされ、アドレス指定されたミラーが、入射する放射線ビームを、アドレス指定されていないミラーとは異なる方向に反射する。このようにして、マトリクス状にアドレス指定可能なミラーのアドレス指定パターンに従って、反射ビームにパターンが形成される。必要なマトリクス・アドレス指定は、適切な電子手段を用いて実施することができる。上述のどちらの場合も、パターン形成手段は1つ又は複数のプログラマブル・ミラー・アレイを備えることができる。本明細書で言及するミラー・アレイに関する他の情報は、例えば米国特許第5,296,891号及び第5,523,193号、並びにPCT特許出願WO98/38597号及びWO98/33096号から得られ、これらを参照によって本明細書に組み込む。プログラマブル・ミラー・アレイの場合、前記支持構造は、例えばフレーム又はテーブルとして実施されることができ、これらは必要に応じて固定することも移動させることもできる。
プログラマブルLCDアレイ
このような構成の例は米国特許第5,229,872号に示されており、これを参照によって本明細書に組み込む。この場合の支持構造は、上述のように、例えば必要に応じて固定することも移動させることもできるフレーム又はテーブルとして実施されることができる。
少なくとも一部分が放射線感光材料の層で被覆された基板を提供するステップと、
放射線システムを用いて放射線の投影ビームを提供するステップと、
パターン形成手段を用いて投影ビームの断面にパターンを付与するステップと、
パターンが形成された放射線ビームを放射線感光材料の層のターゲット部分の上に投影するステップと、
基板テーブル上のオブジェクトと、前記投影ステップで使用される投影システムの最終要素との間の空間の少なくとも一部分を満たすように液体を提供するステップと
を含むデバイス製造方法であって、前記放射線ビームを前記浸漬液を通してセンサ上に投影することを特徴とするデバイス製造方法が提供される。
・この特定の場合には放射線源LAをも備えた、放射線の投影ビーム(例えばDUV放射)PBを供給するための放射線システムEx、ILと、
・マスクMA(例えばレチクル)を保持するためのマスク・ホルダを備えた第1のオブジェクト・テーブル(マスク・テーブル)MTであって、部材PLに対してマスクを正確に位置決めするための第1の位置決め手段に接続された第1のオブジェクト・テーブル(マスク・テーブル)MTと、
・基板W(例えばレジスト塗布シリコン・ウェハ)を保持するための基板ホルダを備えた第2のオブジェクト・テーブル(基板テーブル)WTであって、部材PLに対して基板を正確に位置決めするための第2の位置決め手段に接続された第2のオブジェクト・テーブル(基板テーブル)WTと、
・マスクMAの照射された部分を基板Wの(例えば1つ又は複数のダイを含む)ターゲット部分Cに結像させるための投影システム(「レンズ」)PL(例えば屈折系)と、
を備えている。本明細書で図示する装置は、(例えば透過性マスクを有する)透過タイプのものである。しかし、一般に、例えば(反射性マスクを有する)反射タイプのものであってもよい。あるいは装置には先に言及したタイプのプログラマブル・ミラー・アレイなど、他の種類のパターン形成手段を用いてもよい。
1.ステップ・モードでは、マスク・テーブルMTを本質的に静止した状態に保ち、マスクの像全体を1回(すなわち、ただ1回の「フラッシュ」)でターゲット部分Cの上に投影する。次いで、異なるターゲット部分CをビームPBで照射することができるように、基板テーブルWTをx及び/又はy方向に移動させる。
2.走査モードでは、所与のターゲット部分Cを1回の「フラッシュ」で露光しないことを除けば、本質的に同じ方法が適用される。その代わり、マスク・テーブルMTは速度vで所与の方向(例えばy方向など、いわゆる「走査方向」)に移動可能であり、したがって投影ビームPBはマスクの像全体を走査する。それと同時に、基板テーブルWTを、速度V=Mv(ただし、MはレンズPLの倍率であり、一般にM=1/4又は1/5)で同じ方向又は反対方向に同時に移動させる。この方法では、解像度を損なうことなく、比較的大きいターゲット部分Cを露光することができる。
図16に示すように、本発明の実施例による基板レベルのセンサは、放射線受容要素(1102、1118)及び放射線検出要素(1108、1124、1140)を有している。露光放射線は、投影システムPLの最終要素から、投影システムPLの最終要素と基板Wの間の空間の少なくとも一部分を満たしている浸漬液11を通るように方向付けされる。これらの要素の詳細な構成は、検出される放射線の特性に依存する。光電池が放射線を直接受け取ることが望ましいケースで用いる場合には、基板レベルでのセンサは光電池のみを有するようにすることができる。あるいは、基板レベルでのセンサは、光電池と組み合わせてルミネセンス層を有することもできる。この構成では、第1の波長の放射線はルミネセンス層によって吸収され、少し後に第2の(より長い)波長の放射線をさらに放射する。この構成は、例えば光電池が第2の波長でより効率的に動作するように設計されている場合に有用である。
IL 照明器
IN 入口
LA 放射線源
MA マスク
MT マスク・テーブル
OUT 出口
PB 投影ビーム
PL 投影システム、レンズ
W 基板
WT 基板テーブル
10,30 リザーバ
11 液体
12 シール部材
14 出口
15 入口
16 シール装置
17,117 エッジ・シール部材
20 ピンプル・テーブル
40,46 ポート
100 別のエッジ・シール部材、ギャップ・シール部材
171 アクチュエータ、モータ
172,173 楔形部材
176 軸
177 板ばね
210 中間板
220 センサ
50、500、500a、500b、500c、500d 別のエッジ・シール部材
510 チャネル、ダクト
700 接着剤のビーズ
1102,1118 放射線受容要素
1104 透過板
1106 量子変換層
1108,1124 放射線検出要素
1110 基板
1114 ボンディング・ワイヤ
1116 クッション・シート
1122 発光材料、蛍光体
Claims (12)
- 放射線の投影ビームを提供するための放射線システムと、
パターン形成手段を支持するための支持構造であって、該パターン形成手段が所望のパターンに従って前記投影ビームにパターンを形成するように働く支持構造と、
基板を保持するための基板テーブルと、
パターンが形成された前記ビームを前記基板のターゲット部分の上に投影するための投影システムと、
前記投影システムの最終要素と前記基板テーブル上に配置されたオブジェクトの間の空間の少なくとも一部分を満たすための液体供給システムと、
を有するリソグラフィ投影装置であって、
前記浸漬液を通過した前記放射線の投影ビームによって照明されるように配置される少なくとも1つのセンサを有することを特徴とするリソグラフィ投影装置。 - 前記基板テーブルが、前記投影システムと前記センサの間の中間板を支持するための支持表面を有し、前記センサと接触しない請求項1に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記基板テーブルが前記ビームを検知するための透過イメージ・センサをさらに有し、前記中間板を前記センサと前記投影システムの間に配置することができる請求項2に記載の装置。
- 前記センサが前記基板テーブル上に配置される請求項1から3までのいずれか一項に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記センサが、前記投影システムに対して前記基板テーブルの位置を調整するために用いられるアライメント・センサである請求項1から4までのいずれか一項に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記アライメント・センサの測定格子が500nm未満のピッチを有する請求項5に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記アライメント・センサが斜めに照明されるようになっている請求項5又は6に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記センサが透過イメージ・センサである請求項1、2又は4に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記センサが焦点センサである請求項1、2又は4に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記センサが、スポット若しくは線量センサ、又は一体化された干渉計とスキャナ、又はアライメント・マークである請求項1、2又は4に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記基板テーブルが、センサのエッジの少なくとも一部分を囲み、かつ前記センサの主要な表面と実質的に同一平面上にある、前記投影システムに面する主要な表面を提供するためのエッジ・シール部材をさらに有し、前記液体供給システムが液体を前記センサの局部領域に供給する請求項1から10までのいずれか一項に記載のリソグラフィ投影装置。
- 少なくとも一部分が放射線感光材料の層で被覆された基板を提供するステップと、
放射線システムを用いて放射線の投影ビームを提供するステップと、
パターン形成手段を用いて前記投影ビームの断面にパターンを付与するステップと、
パターンが形成された前記放射線ビームを放射線感光材料の層のターゲット部分の上に投影するステップと、
基板テーブル上のオブジェクトと、前記投影ステップで使用される投影システムの最終要素との間の空間の少なくとも一部分を満たすように液体を提供するステップと、
を含むデバイス製造方法であって、
前記放射線ビームを前記浸漬液を通してセンサ上に投影することを特徴とするデバイス製造方法。
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