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기판 표면 내에 형성된 오목부를 충진하기 위한 방법 및 장치
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3-d nand 응용의 플러그 충진체 증착용 장치 및 방법
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표면 상에 재료를 증착하는 방법 및 본 방법에 따라 형성된 구조
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ウェハボートハンドリング装置、縦型バッチ炉および方法
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ウェハボートハンドリング装置、縦型バッチ炉および方法
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Susceptor shaft
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에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
배기 가스 분석을 포함한 기상 반응기 시스템을 사용하는 방법
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(ko)
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에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
석영 에피택셜 챔버를 세정하는 방법
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2019-06-11 |
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에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
개질 가스를 사용하여 전자 구조를 형성하는 방법, 상기 방법을 수행하기 위한 시스템, 및 상기 방법을 사용하여 형성되는 구조
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교번하는 에칭 및 패시베이션 프로세스
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에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
기판 처리 장치용 온도 제어 조립체 및 이를 사용하는 방법
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基板上の無機放射線パターン形成組成物の安定化界面
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에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
실리콘 게르마늄 구조를 형성하는 방법
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2019-07-17 |
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에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
라디칼 보조 점화 플라즈마 시스템 및 방법
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Asmip私人控股有限公司 |
形成拓扑受控的无定形碳聚合物膜的方法
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形成被塗覆基板之方法
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Asm Ip私人控股有限公司 |
实现高掺杂剂掺入的选择性沉积方法
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Asmip私人控股有限公司 |
基板处理设备
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Substrate processing apparatus and method
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2019-07-30 |
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Asmip私人控股有限公司 |
基板处理设备
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Vertical batch furnace assembly
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Vertical batch furnace assembly
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Vertical batch furnace assembly
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Patterning process of a semiconductor structure with enhanced adhesion
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Asm Ip私人控股有限公司 |
用于化学源容器的液位传感器
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Asm Ip私人控股有限公司 |
包括冷却装置的加热器组件及其使用方法
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(en)
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Asm Ip Holding B.V. |
Susceptor shaft
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2019-08-19 |
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Susceptor support
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成膜原料混合ガス生成装置及び成膜装置
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USD979506S1
(en)
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2019-08-22 |
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에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
홀을 구비한 구조체를 형성하기 위한 방법
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(en)
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Asm Ip Holding B.V. |
Methods for depositing a molybdenum nitride film on a surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures including a molybdenum nitride film
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(ko)
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2019-08-23 |
2021-03-05 |
에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
비스(디에틸아미노)실란을 사용하여 peald에 의해 개선된 품질을 갖는 실리콘 산화물 막을 증착하기 위한 방법
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JP7149241B2
(ja)
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2019-08-26 |
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信越化学工業株式会社 |
レジスト材料及びパターン形成方法
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信越化学工業株式会社 |
レジスト材料及びパターン形成方法
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(ko)
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2019-09-04 |
2025-05-12 |
에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
희생 캡핑 층을 이용한 선택적 증착 방법
|
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KR102733104B1
(ko)
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2019-09-05 |
2024-11-22 |
에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
기판 처리 장치
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US12469693B2
(en)
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2019-09-17 |
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Asm Ip Holding B.V. |
Method of forming a carbon-containing layer and structure including the layer
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US11562901B2
(en)
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2019-09-25 |
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Asm Ip Holding B.V. |
Substrate processing method
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(zh)
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2019-10-02 |
2023-12-22 |
Asm Ip私人控股有限公司 |
通过循环等离子体增强沉积工艺形成拓扑选择性氧化硅膜的方法
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TW202128273A
(zh)
|
2019-10-08 |
2021-08-01 |
荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 |
氣體注入系統、及將材料沉積於反應室內之基板表面上的方法
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KR20210042810A
(ko)
|
2019-10-08 |
2021-04-20 |
에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
활성 종을 이용하기 위한 가스 분배 어셈블리를 포함한 반응기 시스템 및 이를 사용하는 방법
|
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TWI846953B
(zh)
|
2019-10-08 |
2024-07-01 |
荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 |
基板處理裝置
|
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TWI846966B
(zh)
|
2019-10-10 |
2024-07-01 |
荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 |
形成光阻底層之方法及包括光阻底層之結構
|
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US12009241B2
(en)
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2019-10-14 |
2024-06-11 |
Asm Ip Holding B.V. |
Vertical batch furnace assembly with detector to detect cassette
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KR102446459B1
(ko)
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2019-10-15 |
2022-09-21 |
삼성에스디아이 주식회사 |
반도체 포토 레지스트용 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법
|
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KR102446362B1
(ko)
*
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2019-10-15 |
2022-09-21 |
삼성에스디아이 주식회사 |
반도체 포토 레지스트용 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법
|
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TWI834919B
(zh)
|
2019-10-16 |
2024-03-11 |
荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 |
氧化矽之拓撲選擇性膜形成之方法
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US11637014B2
(en)
|
2019-10-17 |
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Asm Ip Holding B.V. |
Methods for selective deposition of doped semiconductor material
|
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KR102845724B1
(ko)
|
2019-10-21 |
2025-08-13 |
에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
막을 선택적으로 에칭하기 위한 장치 및 방법
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KR20210050453A
(ko)
|
2019-10-25 |
2021-05-07 |
에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
기판 표면 상의 갭 피처를 충진하는 방법 및 이와 관련된 반도체 소자 구조
|
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US11646205B2
(en)
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2019-10-29 |
2023-05-09 |
Asm Ip Holding B.V. |
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에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
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荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 |
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에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
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에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
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에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
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에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
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環境負荷を低減するためのレジスト下層膜形成用組成物
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WO2024166869A1
(ja)
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2023-02-09 |
2024-08-15 |
日産化学株式会社 |
レジスト下層膜形成組成物
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JP2024116024A
(ja)
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2023-02-15 |
2024-08-27 |
信越化学工業株式会社 |
金属含有膜形成用化合物、金属含有膜形成用組成物、パターン形成方法
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TW202502879A
(zh)
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2023-02-27 |
2025-01-16 |
日商日產化學股份有限公司 |
阻劑下層膜形成用組成物
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EP4435516A1
(en)
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2023-03-16 |
2024-09-25 |
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. |
Method for forming resist underlayer film and patterning process
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US12474640B2
(en)
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2023-03-17 |
2025-11-18 |
Lam Research Corporation |
Integration of dry development and etch processes for EUV patterning in a single process chamber
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WO2024203800A1
(ja)
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2023-03-24 |
2024-10-03 |
日産化学株式会社 |
光学回折体製造用レジスト下層膜形成用組成物
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WO2024223449A1
(en)
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2023-04-25 |
2024-10-31 |
Merck Patent Gmbh |
Resist pattern filling liquid and method for manufacturing resist pattern using the same
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WO2024232380A1
(ja)
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2023-05-09 |
2024-11-14 |
日産化学株式会社 |
レジスト下層膜形成用組成物
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KR20240170272A
(ko)
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2023-05-26 |
2024-12-03 |
삼성에스디아이 주식회사 |
금속 함유 포토레지스트 현상액 조성물, 및 이를 이용한 현상 단계를 포함하는 패턴 형성 방법
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TW202502789A
(zh)
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2023-05-31 |
2025-01-16 |
德商馬克專利公司 |
用於euv微影製程之含有混合有機配位子的有機金屬錫氧羧酸酯團簇
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WO2025024029A1
(en)
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2023-07-27 |
2025-01-30 |
Versum Materials Us, Llc |
Metal organic resist photosensitivity improvement using carboxylic acid
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WO2025032041A1
(en)
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2023-08-10 |
2025-02-13 |
Merck Patent Gmbh |
Organometallic cluster containing sulfur for euv lithography background
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JP2025032887A
(ja)
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2023-08-28 |
2025-03-12 |
信越化学工業株式会社 |
金属含有膜形成用化合物、金属含有膜形成用組成物、及びパターン形成方法
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JP2025032875A
(ja)
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2023-08-28 |
2025-03-12 |
信越化学工業株式会社 |
金属含有膜形成用化合物、金属含有膜形成用組成物、及びパターン形成方法
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TW202511272A
(zh)
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2023-09-12 |
2025-03-16 |
美商英培雅股份有限公司 |
用於輻射圖案化組成物之前驅物溶液
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TW202530237A
(zh)
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2023-09-13 |
2025-08-01 |
德商馬克專利公司 |
具有改良熱及光穩定性之分子內穩定化單烷基金屬化合物及其用途
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KR102767194B1
(ko)
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2023-09-22 |
2025-02-14 |
전남대학교산학협력단 |
주석-산소 이중결합을 포함하는 주석 화합물, 이를 포함하는 포토레지스트 조성물
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WO2025099042A1
(en)
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2023-11-08 |
2025-05-15 |
Merck Patent Gmbh |
Organometallic sn oxo carboxylate clusters with carboxylate ligands that contain a linear or cyclic ester functionality
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JP2025093759A
(ja)
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2023-12-12 |
2025-06-24 |
東京エレクトロン株式会社 |
基板処理方法、プラズマ処理装置
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JP2025099570A
(ja)
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2023-12-22 |
2025-07-03 |
信越化学工業株式会社 |
金属含有膜形成用化合物、金属含有膜形成用組成物、パターン形成方法
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JP2025099887A
(ja)
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2023-12-22 |
2025-07-03 |
信越化学工業株式会社 |
金属含有膜形成用化合物、金属含有膜形成用組成物、パターン形成方法
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WO2025179152A1
(en)
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2024-02-23 |
2025-08-28 |
Inpria Corporation |
Organometallic compositions with polyene ligands, radiation sensitive coatings with bridging organic ligands and patterning
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US20250271755A1
(en)
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2024-02-28 |
2025-08-28 |
Inpria Corporation |
Controlled environment processing, rest steps, and baking processes for metal oxide-based resist patterning
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WO2025226903A1
(en)
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2024-04-25 |
2025-10-30 |
Inpria Corporation |
Peroxide-stabilized organotin photoresist compositions and patterning
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