JP2012248902A5 - 洗浄方法、液浸露光装置、及びデバイス製造方法 - Google Patents
洗浄方法、液浸露光装置、及びデバイス製造方法 Download PDFInfo
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Description
本発明は、投影光学系と液体とを介して基板にパターンを露光する液浸露光装置、その洗浄方法、及びデバイス製造方法に関するものである。
Claims (53)
- 液浸露光処理中に、基板ステージ上のホルダで保持された基板の上方からの液浸液の供給と、前記基板の上方からの前記液浸液の回収とによって、前記基板の表面の一部に液浸液の液浸領域を形成するとともに、前記基板上に投影光学系からの露光光を照射する液浸露光装置で用いられる洗浄方法であって、
洗浄処理中に、前記基板ステージ上の、前記ホルダで前記基板が保持される位置とは異なる位置に前記液浸液を供給するとともに、前記供給された前記液浸液を回収することを含む洗浄方法。 - 前記洗浄処理中に、前記液浸液により前記液浸露光装置の部品を洗浄する請求項1記載の洗浄方法。
- 前記部品は、前記投影光学系の先端の光学素子を含む請求項2記載の洗浄方法。
- 前記液浸露光装置は、前記液浸液を供給する供給口と前記液浸液を回収する回収口を備え、
前記基板ステージは、前記投影光学系の下方、前記供給口の下方、および前記回収口の下方で移動可能である請求項2又は3記載の洗浄方法。 - 前記部品は、前記回収口を有するノズルを含む請求項4に記載の洗浄方法。
- 前記部品は、前記供給口を有するノズルを含む請求項4又は5記載の洗浄方法。
- 前記供給口および前記回収口は、前記液浸露光処理において、前記基板の表面と対向するように設けられている請求項4〜6のいずれか一項記載の洗浄方法。
- 前記回収口は、前記供給口を囲むように設けられている請求項7記載の洗浄方法。
- 前記洗浄処理中に、前記液浸液を供給するとともに、前記液浸液を回収することによって、前記基板ステージ上の、前記異なる位置に前記液浸液の液浸領域が形成される請求項1〜8のいずれか一項記載の洗浄方法。
- 前記液浸液は純水を含む請求項1〜9のいずれか一項記載の洗浄方法。
- 前記洗浄処理は、前記液浸露光処理の後に実行される請求項1〜10のいずれか一項記載の洗浄方法。
- 前記洗浄処理は、前記液浸露光処理の前に実行される請求項1〜10のいずれか一項記載の洗浄方法。
- 前記液浸露光装置は、計測部材と、受光系とを有する計測系を備え、
前記計測部材は、前記基板ステージに設けられ、
前記投影光学系と前記計測部材との間の前記液浸液、および前記計測部材に設けられた光透過部を介して、前記投影光学系からの光が前記受光系に入射する請求項1〜12のいずれか一項記載の洗浄方法。 - 前記計測部材は、撥液性の上面を有する請求項13記載の洗浄方法。
- 前記計測部材は、撥液性材料のコーティングを含む請求項14記載の洗浄方法。
- 前記液浸露光装置は、前記基板ステージに設けられた基準部材と、前記基板上のアライメントマークを前記液浸液を介さずに検出する第1アライメント系を備え、
前記基準部材は、前記第1アライメント系によって検出される基準マークを有する請求項1〜12のいずれか一項記載の洗浄方法。 - 前記投影光学系と前記液浸液とを介して取得された投影位置情報と、前記第1アライメント系の検出結果とに基づいて、前記液浸露光処理中に、前記基板の位置合わせが行われる請求項16記載の洗浄方法。
- 前記液浸露光装置は、前記投影位置情報を取得するための第2アライメント系をさらに備え、
前記第2アライメント系による計測の際に、前記基準部材上に前記液浸液の液浸領域が形成され、前記投影光学系と前記基準部材との間が前記液浸液で満たされる請求項17記載の洗浄方法。 - 前記液浸露光装置は、前記基板ステージの溝部に配置され、前記供給口から供給された前記液浸液体を吸収可能な液体吸収部材を備える請求項1〜18のいずれか一項記載の洗浄方法。
- 前記液体吸収部材は、多孔性材料を含む請求項19記載の洗浄方法。
- 前記基板ステージの内部には、前記基板ステージの前記溝部に連通する流路が設けられ、前記流路は吸引装置に接続される請求項19または20記載の洗浄方法。
- 前記基板ステージは、前記供給口から供給された前記液浸液を回収可能な回収口を有する請求項1〜18のいずれか一項記載の洗浄方法。
- 前記基板ステージの内部には、前記基板ステージの前記回収口に連通する流路が設けられ、前記流路は吸引装置に接続される請求項22記載の洗浄方法。
- 前記基板ステージの内部には、前記基板ステージの溝部に連通する流路が設けられ、前記流路は吸引装置に接続される請求項1〜18のいずれか一項記載の洗浄方法。
- 液浸露光処理中に、基板の表面の一部に液浸液の液浸領域を形成するとともに、前記基板上に露光光を照射する液浸露光装置であって、
投影光学系と、
前記液浸液を供給する供給口と、
前記供給口から供給された前記液浸液を回収する回収口と、
前記投影光学系の下方、前記供給口の下方、及び前記回収口の下方で移動可能であり、前記液浸露光処理中に、前記基板をホルダで保持する基板ステージと、を備え、
洗浄処理中に、前記基板ステージ上の、前記ホルダで前記基板が保持される位置とは異なる位置に前記供給口から前記液浸液を供給するとともに、前記供給された前記液浸液を前記回収口から回収する液浸露光装置。 - 前記洗浄処理中に、前記液浸液により部品を洗浄する請求項25記載の液浸露光装置。
- 前記部品は、前記投影光学系の先端の光学素子を含む請求項26記載の液浸露光装置。
- 前記部品は、前記回収口を有するノズルを含む請求項26または27に記載の液浸露光装置。
- 前記部品は、前記供給口を有するノズルを含む請求項26〜28のいずれか一項記載の液浸露光装置。
- 前記供給口および前記回収口は、前記液浸露光処理において、前記基板の表面と対向するように設けられている請求項25〜29のいずれか一項記載の液浸露光装置。
- 前記回収口は、前記供給口を囲むように設けられている請求項30記載の液浸露光装置。
- 前記洗浄処理中に、前記液浸液を供給するとともに、前記液浸液を回収することによって、前記基板ステージ上の、前記異なる位置に前記液浸液の液浸領域が形成される請求項25〜31のいずれか一項記載の液浸露光装置。
- 前記洗浄処理は、前記液浸露光処理の後に実行される請求項25〜32のいずれか一項に記載の液浸露光装置。
- 前記洗浄処理は、前記液浸露光処理の前に実行される請求項25〜32のいずれか一項に記載の液浸露光装置。
- 前記液浸液は純水を含む請求項25〜34のいずれか一項記載の液浸露光装置。
- 計測部材と、受光系とを有する計測系を備え、
前記計測部材は、前記基板ステージに設けられ、
前記投影光学系と前記計測部材との間の前記液浸液、および前記計測部材に設けられた光透過部を介して、前記投影光学系からの光が前記受光系に入射する請求項25〜35のいずれか一項記載の液浸露光装置。 - 前記計測部材上に残留する前記液浸液を除去する第1液体除去装置をさらに備える請求項36記載の液浸露光装置。
- 前記計測部材は、撥液性の上面を有する請求項36または37記載の液浸露光装置。
- 前記計測部材は、撥液性材料のコーティングを含む請求項38記載の液浸露光装置。
- 前記基板ステージに設けられた基準部材と、
前記基板上のアライメントマークを前記液浸液を介さずに検出する第1アライメント系をさらに備え、
前記基準部材は、前記第1アライメント系によって検出される基準マークを有する請求項25〜35のいずれか一項記載の液浸露光装置。 - 前記投影光学系と前記液浸液とを介して取得された投影位置情報と、前記第1アライメント系の検出結果とに基づいて、前記液浸露光処理中に、前記基板の位置合わせが行われる請求項40記載の液浸露光装置。
- 前記投影位置情報を取得するための第2アライメント系と、をさらに備え、
前記第2アライメント系による計測の際に、前記基準部材上に前記液浸液の液浸領域が形成され、前記投影光学系と前記基準部材との間が前記液浸液で満たされる請求項41記載の液浸露光装置。 - 前記投影光学系の先端部の光学素子上に残留する前記液浸液を除去する、第2液体除去装置をさらに備える請求項25〜42のいずれか一項に記載の液浸露光装置。
- 前記基板ステージの溝部に配置され、前記供給口から供給された前記液浸液体を吸収可能な液体吸収部材をさらに備える請求項25〜43のいずれか一項記載の液浸露光装置。
- 前記液体吸収部材は、多孔性材料を含む請求項44記載の液浸露光装置。
- 前記基板ステージの内部には、前記基板ステージの前記溝部に連通する流路が設けられ、前記流路は吸引装置に接続される請求項44または45記載の液浸露光装置。
- 前記基板ステージは、前記供給口から供給された前記液浸液を回収可能な回収口を有する請求項25〜43のいずれか一項記載の液浸露光装置。
- 前記基板ステージの内部には、前記基板ステージの前記回収口に連通する流路が設けられ、前記流路は吸引装置に接続される請求項47記載の液浸露光装置。
- 前記基板ステージの内部には、前記基板ステージの溝部に連通する流路が設けられ、前記流路は吸引装置に接続される請求項25〜43のいずれか一項記載の液浸露光装置。
- 前記基板ステージの内部に設けられた前記流路はタンクに接続され、前記タンクに前記吸引装置に接続される請求項46,48,49のいずれか一項記載の液浸露光装置。
- 前記タンクの上部に前記吸引装置が接続され、前記タンクの下部に前記タンクから前記液浸液を排出する排出流路が設けられている請求項50記載の液浸露光装置。
- 前記液浸露光処理と前記洗浄処理を実行する制御装置をさらに備える請求項25〜51のいずれか一項記載の液浸露光装置。
- 請求項25〜52のいずれか一項に記載の液浸露光装置を用いるデバイス製造方法。
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