JP2002336804A - 光学部品の洗浄方法及び露光装置 - Google Patents

光学部品の洗浄方法及び露光装置

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JP2002336804A
JP2002336804A JP2001144248A JP2001144248A JP2002336804A JP 2002336804 A JP2002336804 A JP 2002336804A JP 2001144248 A JP2001144248 A JP 2001144248A JP 2001144248 A JP2001144248 A JP 2001144248A JP 2002336804 A JP2002336804 A JP 2002336804A
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wiping
method
optical
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JP2001144248A
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Inventor
Keiji Matsuura
Masayuki Murayama
正幸 村山
恵二 松浦
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Nikon Corp
株式会社ニコン
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Abstract

(57)【要約】 【課題】光学部品に付着した種々の付着物を効果的に除
去することのできる光学部品の洗浄方法、及び露光性能
を向上することのできる露光装置を提供する。 【解決手段】光学部品は、光学素子と、この光学素子を
保持する金属製の保持部材とを備える。光学素子を洗浄
する場合(図4(a))には、拭き布として不織布を用
いて、まず、純水で洗浄し(水拭き工程)、その後、メ
タノールで洗浄する(メタノール拭き工程)。一方、保
持部材を洗浄する場合(図4(b))には、拭き布とし
て織布を用いて、まず、フッ素系洗浄剤で洗浄(フッ素
系洗浄剤拭き工程)し、その後、純水で洗浄する(水拭
き工程)。そして、最後にメタノールで洗浄する(メタ
ノール拭き工程)。

Description

【発明の詳細な説明】

【0001】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、光学素子
と、その光学素子を保持する金属製の保持部材との少な
くとも一方を備える光学部品の洗浄方法及び露光装置に
関するものである。

【0002】

【従来の技術】この種の光学部品は、例えば、マスク上
のパターンの像を基板に転写する露光装置に備えられ、
レンズエレメント、ミラー等の光学素子を有するものが
知られている。この光学素子は、金属製の保持部材によ
り保持され、保持部材は鏡筒に固定されている。

【0003】このような露光装置にあっては、その使用
環境によって、前記レンズエレメントを保持する鏡筒内
に汚染物質が侵入し、その汚染物質が光学部品の表面に
付着することがある。この汚染物質としては、例えば、
クリーンルームに極微量ながら浮遊するアンモニウムイ
オン、硫酸イオン(SOx系)、硝酸イオン(NOx
系)、及び塩素イオンや臭素イオン等のハロゲン系等の
イオン性物質及び、各種部品表面に残存したり、露光装
置やその他の装置に装備される各種駆動機構から生じた
りする油分等の分子量の大きい有機成分や無極性の有機
成分等が挙げられる。

【0004】そして、前記レンズエレメントに前記汚染
物質の存在下で露光光が照射されると、その汚染物質が
レンズエレメントや前記保持部材上に堆積して曇りを生
じることがあった。このようにレンズエレメントに曇り
が生じると、基板上に到達する露光光の照度低下や照度
むらが発生し、露光装置の露光性能の低下を招くことに
なる。また、保持部材上に堆積された付着物は、何らか
の要因で、その保持部材上から離脱されると、再び、露
光装置内あるいは、鏡筒内の雰囲気を汚染することにな
る。そして、保持部材から離脱された付着物がレンズエ
レメント等の光学素子上に堆積して、前記と同様に、露
光装置における露光性能の低下を招くおそれがあった。

【0005】そこで、従来では、前記レンズエレメント
や保持部材に付着した付着物を除去すべく、溶剤を用い
て拭き洗浄していた。

【0006】

【発明が解決しようとする課題】ところで、前記従来の
拭き洗浄に際しては、前記溶剤として、メタノール等の
アルコール系の溶剤を1種類のみ用いるのが一般的であ
った。これは、同溶剤が使い易く、混合溶剤を用いる場
合のように溶剤自身がレンズエレメントや保持部材を汚
染する要因になりにくいためである。

【0007】しかし、アルコール系溶剤のみでは、同溶
剤に対する溶解度の高い比較的低分子量あるいは極性の
有機成分については効果的に除去できるものの、同溶剤
に対する溶解度が低い前記イオン性物質や高分子量ある
いは無極性の有機成分については十分に除去するのが困
難なことがある。このため、付着物の一部がレンズエレ
メントや保持部材等に付着したままになるおそれがある
という問題があった。

【0008】なお、前述した露光装置に備えられる光学
部品に限らず、周囲の雰囲気に曝されて種々の付着物が
付着する光学部品にあっては、こうした実情も概ね共通
したものとなっている。

【0009】本発明は、このような従来の技術に存在す
る問題点に着目してなされたものである。その目的とし
ては、光学部品に付着した種々の付着物を効果的に除去
することのできる光学部品の洗浄方法を提供することに
ある。また、その他の目的としては、付着物が効果的に
除去された光学部品を用いて、露光性能の向上を図るこ
とができる露光装置を提供することにある。

【0010】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、光学部品の洗浄方法に係る本願請求項1に記載の発
明は、光学素子と、その光学素子を保持する金属製の保
持部材との少なくとも一方を備える光学部品の洗浄方法
において、前記光学部品を複数の溶剤を別々に用いて洗
浄することを特徴とするものである。

【0011】この本願請求項1に記載の発明では、光学
素子や保持部材に種々の付着物が付着したとしても、そ
の付着物の成分に応じて複数の溶剤を別々に用いること
で、光学部品に付着した付着物を効果的に除去すること
ができる。

【0012】また、本願請求項2に記載の発明は、前記
請求項1に記載の発明において、前記溶剤は、少なくと
も純水とアルコールとを含むことを特徴とするものであ
る。この本願請求項2に記載の発明では、前記請求項1
に記載の発明の作用に加えて、例えば、イオン性物質や
有機成分が光学部品に付着しているような場合、アルコ
ールにより、そのアルコールに可溶な有機成分を効果的
に除去できる。一方、純水により、アルコールに対する
溶解度の低いイオン性物質を効果的に除去できる。

【0013】また、本願請求項3に記載の発明は、前記
請求項2に記載の発明において、前記アルコールが炭素
数3以下のアルコールからなることを特徴とするもので
ある。

【0014】この本願請求項3に記載の発明では、前記
請求項2に記載の発明の作用に加えて、アルコールを用
いた洗浄後に光学部品を迅速に乾燥させることができ
る。従って、洗浄作業の作業性を向上することができ
る。

【0015】また、本願請求項4に記載の発明は、前記
請求項1〜請求項3のうちいずれか一項に記載の発明に
おいて、前記光学部品を純水で拭き洗浄する水拭き工程
と、その水拭き工程に引き続いて行われ、前記光学部品
をアルコールで拭き洗浄するアルコール拭き工程とを含
むことを特徴とするものである。

【0016】この本願請求項4に記載の発明では、前記
請求項1〜請求項3のうちいずれか一項に記載の発明の
作用に加えて、水拭き工程後において光学部品の表面に
残留する水分がアルコールとともに迅速に蒸発される。
このため、光学部品の乾燥を迅速に行うことができる。

【0017】また、本願請求項5に記載の発明は、前記
請求項4に記載の発明において、前記保持部材を洗浄す
る場合には、前記水拭き工程に先立って、前記保持部材
をフッ素系洗浄剤で拭き洗浄するフッ素系洗浄剤拭き工
程を、さらに含むことを特徴とするものである。

【0018】通常、保持部材は、光学素子に比べてその
加工表面が粗く、加工時に用いられた加工油等の高分子
物質が保持部材の表面に残留していることがある。これ
に対して、この本願請求項5に記載の発明では、前記請
求項4に記載の発明の作用に加えて、保持部材をフッ素
系洗浄剤で拭き洗浄することで、保持部材の表面に残留
し、アルコールに対しても、水に対しても溶解性の低い
高分子物質等を効果的に除去することができる。

【0019】また、本願請求項6に記載の発明は、前記
請求項1〜請求項5のうちいずれか一項に記載の発明に
おいて、前記光学素子を洗浄する場合には、不織布を用
いて拭き洗浄することを特徴とするものである。

【0020】この本願請求項6に記載の発明では、前記
請求項1〜請求項5のうちいずれか一項に記載の発明の
作用に加えて、一般に、不織布は、例えば織布に比べて
光学素子に付着して汚染源となりうる成分の含有量が少
なく、拭き洗浄による光学部材の汚染が抑制される。

【0021】また、本願請求項7に記載の発明は、前記
請求項1〜請求項5のうちいずれか一項に記載の発明に
おいて、前記保持部材を洗浄する場合には、織布を用い
て拭き洗浄することを特徴とするものである。

【0022】一般に、保持部材は、粗い表面を有してい
る。このような粗い表面を有する保持部材に対して、拭
き布として、例えば不織布を用いると、その不織布を構
成する繊維の一部が離脱して、保持部材上に付着するこ
とがある。これに対して、本願請求項7に記載の発明で
は、前記請求項1〜請求項5のうちいずれか一項に記載
の発明の作用に加えて、拭き作業時における拭き布から
の繊維の離脱が低減され、その繊維が保持部材に付着す
るのが抑制される。

【0023】また、本願請求項8に記載の発明は、前記
請求項1〜請求項7のうちいずれか一項に記載の発明に
おいて、前記光学部品が、マスク上に形成されたパター
ンの像を基板の上に転写する露光装置の一部材を構成す
ることを特徴とするものである。

【0024】また、露光装置に係る本願請求項9に記載
の発明は、前記請求項1〜請求項8のうちいずれか一項
に記載の光学部品の洗浄方法で洗浄された光学部品を備
え、マスク上に形成されたパターンの像を基板の上に転
写することを特徴とするものである。

【0025】これら本願請求項8または請求項9に記載
の発明では、前記請求項1〜請求項7のうちいずれか一
項に記載の発明の作用に加えて、光学部品の汚染の影響
が特に大きい露光装置にあって、その光学部品に付着し
た付着物を効果的に除去することができる。この結果、
露光装置の露光性能が向上され、露光装置で製造される
製品の歩留まりを向上させることができる。

【0026】

【発明の実施の形態】以下に、本発明の光学部品の洗浄
方法を露光装置に備えられる光学部品の洗浄方法に適用
した一実施形態について、図1〜図4を参照して説明す
る。

【0027】まず、露光装置の構成について、図1を参
照して簡単に説明する。図1に示すように、この露光装
置11は、露光光ELを出射する露光光源12を備えて
いる。露光光源12から出射された露光光ELは、光学
部品としてのフライアイレンズ13、図示しないリレー
レンズ、ミラー及びコンデンサレンズ等を介して半導体
素子等の回路パターン等が描かれ、レチクルステージR
ST上に載置されたマスクとしてのレチクルRに入射す
る。ここで、前記フライアイレンズ13、図示しないリ
レーレンズ、ミラー及びコンデンサレンズ等の合成系
は、レチクルRのパターン面を均一な照度で照明する照
明光学系14を構成する。なお、フライアイレンズ13
はオプティカルインテグレータとしての機能をもち、こ
のオプティカルインテグレータには、ロッドレンズも含
まれる。

【0028】前記レチクルRを通過した露光光ELは、
投影光学系PLの一部を構成し、光学素子としてのレン
ズエレメント21等を有する複数の光学部品20(図1
においては1個のみ図示)に入射する。投影光学系PL
は、レチクルR上の回路パターンの像をウエハステージ
WST上に載置された基板としてのウエハW上に投影し
て転写する。

【0029】また、前記光学部品20は、図2及び図3
に示すように、平面円形のレンズエレメント21と、そ
のレンズエレメント21を保持する保持部材としての金
属製の円環状の枠体22等とを備えている。

【0030】枠体22には、レンズエレメント21を支
持するための座面23が内周部22aの全周にわたって
形成されている。レンズエレメント21は、その周縁部
21aと前記座面23とが当接するように内周部22a
に収容され、複数(この例では3個)のクランプ24と
枠体22の上面に形成されたねじ孔25に螺入する複数
(この例では3個)のボルト26とを介して枠体22に
保持される。そして、各光学部品20は、鏡筒15(図
1参照)内に収容された状態で固定されている。

【0031】ここで、特に半導体素子にあっては近年ま
すます高集積化しており、その回路パターンにおける一
層の微細化の要求が高まってきている。この微細化要求
に対応するため、前記露光光ELとして、より波長の短
い遠紫外光、例えばKrFエキシマレーザ光(λ=24
8nm)、ArFエキシマレーザ光(λ=193n
m)、F2レーザ光(λ=157nm)等のパルス光を
用いた露光装置が開発されてきている。

【0032】ところが、前述のように、前記鏡筒15内
に侵入したイオン性物質や有機成分等の汚染物質が光学
部品20の表面に付着すると、レンズエレメント21
等、光学素子に曇りが生じる。このような光学素子への
汚染物質の堆積は露光光ELの波長λが短くなるほど顕
著となる。そこで、光学部品20の表面に付着した汚染
物質を除去すべく、溶剤を用いた各光学部品20の拭き
洗浄が行われる。

【0033】では次に、この光学部品20の洗浄方法に
ついて、図4を参照して説明する。なお、本実施形態で
は、レンズエレメント21等の光学素子の洗浄と、枠体
22等の保持部材の洗浄とを異なる方法で行うようにし
ている。

【0034】まず、レンズエレメント21の洗浄方法に
ついて説明する。このレンズエレメント21の洗浄に
は、拭き布として不織布(例えば、旭化成社製「シャレ
リアC0304」等)を用いる。ここで、この「シャレ
リアC0304」は、混率がアクリル70%、ポリエス
テル30%の繊維からなる三層構造の不織布である。す
なわち、繊度1.5デニールの超多孔質アクリル繊維か
らなるトラッピング層を中心に、その両面を繊度0.1
〜0.001デニールの断面多角形状をなす超極細アク
リル繊維からなるワイピング層でサンドイッチした構造
となっている。そして、この不織布の目付は40.0g
/m2、厚さは0.26mm程度となっている。なお、
この不織布は、予め、使用する溶剤(ここでは純水及び
メタノール)で洗浄後よく乾燥させておくことが望まし
い。そして、溶剤としては、純水(純度は抵抗値で10
MΩ・cm以上が望ましい)とメタノール(純度99.
7%以上が望ましい。)とを別々に用いる。

【0035】そして、レンズエレメント21を前記鏡筒
15から取り外した状態で、以下の手順で洗浄する。な
お、一部が外部に露出している光学素子を洗浄する場合
には、これを取り外すことなく、組み付けられた状態で
洗浄してもよい。

【0036】図4(a)に示すように、まず、レンズエ
レメント21を純水で洗浄する(水拭き工程)。そし
て、この水拭き工程に引き続き、最終工程としてメタノ
ールで洗浄する(メタノール拭き工程)。そして、レン
ズエレメント21の表面に残留するメタノールを完全に
揮散させて、そのレンズエレメント21の表面を乾燥さ
せる。なお、この洗浄は、局所排気装置により、作業場
所の空気を局所排気しつつ行うのが望ましい。

【0037】次に、枠体22の洗浄方法について説明す
る。この枠体22の洗浄には、拭き布として織布(例え
ば、鐘紡社製「ザヴィーナミニマッスク」等)を用い
る。ここで、この「ザヴィーナミニマッスク」は、混率
がポリエステル70%、6―ナイロン30%の超極細繊
維を用いた丸編物からなり、その目付は164〜176
g/m2、厚さは0.29〜0.35mmとなってい
る。なお、この不織布は、予め、使用する溶剤(ここで
は、フッ素系洗浄剤、純水及びメタノール)で洗浄後、
よく乾燥させておくことが望ましい。そして、溶剤とし
ては、フッ素系洗浄剤と純水とメタノールとをそれぞれ
別々に用いる。ここで、前記フッ素系洗浄剤としては、
例えば、旭硝子社製「アサヒクリンAK―225」(C
25CHCl2(HCFC―225ca)とCCl22
CF2CHClF2(HCFC―225cb)との混合
物)、三井デュポンフロロケミカル社製「バートレルX
F」(C5210(HFC―43―10mee))、住
友スリーエム社製「ノベックHFE7100」(C49
OCH3)、住友スリーエム社製「ノベックHFE72
00」(C49OC25)等が有用である。

【0038】そして、枠体22を前記鏡筒15から取り
外した状態で、以下の手順で洗浄する。なお、一部が外
部に露出している枠体22を洗浄する場合には、これを
取り外すことなく、組み付けられた状態で洗浄してもよ
い。

【0039】図4(b)に示すように、まず、枠体22
をフッ素系洗浄剤で洗浄する(フッ素系洗浄剤拭き工
程)。次いで、純水で洗浄する(水拭き工程)。そし
て、最終工程としてメタノールで洗浄する(メタノール
拭き工程)。そして、レンズエレメント21の表面に残
留するメタノールを完全に揮散させて、そのレンズエレ
メント21の表面を乾燥させる。なお、この洗浄は、局
所排気装置により、作業場所の空気を局所排気しつつ行
うのが望ましい。

【0040】従って、本実施形態によれば、以下のよう
な効果を得ることができる。 (イ)この洗浄方法では、光学部品20の洗浄の際、溶
剤として純水とメタノールとを別々に用いた。このた
め、光学部品20の表面にイオン性物質や比較的低分子
量の有機成分が付着しても、メタノールにより、そのメ
タノールに可溶な有機成分を効果的に除去できる。一
方、純水により、メタノールに対する溶解度の低いイオ
ン性物質を効果的に除去できる。

【0041】(ロ)この洗浄方法では、溶剤としてメタ
ノールを用いた。このメタノールは沸点が低く、メタノ
ール拭き工程後において、光学部品20を迅速に乾燥さ
せることができる。従って、洗浄作業の作業性を向上す
ることができる。

【0042】(ハ)この洗浄方法では、メタノール拭き
工程を水拭き工程後に行うこととした。このため、水拭
き工程後にレンズエレメント21あるいは枠体22の表
面に残留した水分がメタノールとともに迅速に蒸発さ
れ、レンズエレメント21あるいは枠体22の乾燥を迅
速に行うことができる。

【0043】(ニ)通常、枠体22は、レンズエレメン
ト21に比べてその加工表面が粗く、機械加工時に用い
られた加工油等の高分子物質が枠体22の表面に残留し
ていることがある。これに対して、この洗浄方法では、
枠体22をフッ素系洗浄剤で洗浄することで、枠体22
の表面に残留し、メタノールに対しても、純水に対して
も溶解性の低い加工油等の高分子物質等を効果的に除去
することができる。

【0044】(ホ)この洗浄方法では、レンズエレメン
ト21を洗浄する際、拭き布として不織布を用いた。こ
こで、一般に、不織布は、例えば織布に比べてレンズエ
レメント21に付着して汚染物質となりうる糊剤、油剤
等の加工助剤の含有量が少ない。従って、拭き洗浄する
ことでレンズエレメント21の表面に前記汚染物質が付
着するのを抑制することができる。

【0045】(ヘ)一般に、枠体22は粗い表面を有し
ている。このような粗い表面を有する枠体22に対し
て、拭き布として、例えば不織布を用いると、その不織
布を構成する繊維の一部が離脱して、枠体22上に付着
することがある。これに対して、この洗浄方法では、枠
体22を洗浄する際、拭き布として織布を用いた。織布
では、このような繊維の離脱が少なく、拭き作業時にそ
の繊維が枠体22の表面に付着するのを抑制することが
できる。

【0046】(ト)露光装置11に備えられる光学部品
20のレンズエレメント21及び枠体22を前記洗浄方
法で洗浄した。このため、光学部品20の表面における
汚染物質の付着による影響が特に大きい露光装置にあっ
て、その光学部品20に付着したイオン性物質や有機成
分等の不純物を効果的に除去することができる。この結
果、ウエハW上に到達する露光光ELの照度低下や照度
むらの発生が抑制され、露光装置11の露光性能を高く
保つことができ、露光装置11で製造される製品の歩留
まりを向上させることができる。

【0047】(変形例)なお、本発明の実施形態は、以
下のように変形してもよい。 ・ 前記実施形態では、枠体22を洗浄する際、織布を
用いて拭き洗浄する構成とした。しかし、例えば、鏡面
仕上げ等により表面粗さの小さい保持部材を洗浄する場
合には、拭き布として不織布を用いてもよい。ただし、
この場合にも、繊維の離脱量の少ない拭き布を用いるの
が望ましい。

【0048】・ また、前記実施形態では、レンズエレ
メント21を洗浄する際、不織布を用いて拭き洗浄する
構成とした。しかし、例えば、レンズエレメント21に
付着して汚染物質となりうる成分の含有量が少ないか、
あるいは、その成分を十分に洗浄して除去したものであ
る場合には、拭き布として織布を用いてもよい。

【0049】・ また、前記実施形態では、枠体22を
洗浄する際、フッ素系洗浄剤を用いて洗浄する構成とし
た。しかし、例えば、付着した汚染物質が純水及びメタ
ノールに可溶なものである保持部材を洗浄する場合に
は、フッ素系洗浄剤を用いたフッ素系洗浄剤拭き工程を
省略してもよい。

【0050】・ また、前記実施形態では、光学部品2
0を洗浄する際、水拭き工程後にメタノール拭き工程を
行う構成とした。しかし、これらの工程を逆に行う工程
としてもよい。

【0051】・ また、前記実施形態では、溶剤の1つ
としてメタノールを用いる構成とした。しかし、溶剤と
してはこのメタノールには限定されない。これを例え
ば、メタノール以外のアルコールを用いる構成としても
よい。なお、この場合、速乾性の観点から、炭素数が3
以下のアルコール、すなわち、エタノール、プロパノー
ル、イソプロパノールを用いるのが望ましい。

【0052】・ また、前記実施形態では、溶剤として
純水とアルコールとを用いる構成とした。しかし、光学
部品に付着した汚染物質の成分によっては、純水及びア
ルコール以外の溶剤を用いる構成としてもよい。

【0053】・ また、前記実施形態では、レンズエレ
メント21を有する光学部品20の洗浄方法の例を示し
た。しかし、本発明は、レンズエレメント21及び枠体
22以外の光学素子を有する光学部品の洗浄においても
同様に適用することができる。例えば、前記鏡筒15の
両端部に取着されるガバーガラス及びその保持部材や、
前記フライアイレンズ13、リレーレンズ、ミラー及び
コンデンサレンズ及びそれらの保持部材等の照明光学系
14を構成する各種光学部品及び露光光源12に取着さ
れる光学部品等であってもよい。特に、鏡筒15の両端
部に取着されるカバーガラスのうち、ウエハ側のカバー
ガラスを洗浄する場合には、本発明は好適である。その
理由は、露光光ELの短波長化に伴い解像度の高い化学
増幅型レジストがウエハに塗布され、この化学増幅型レ
ジストは、反応生成物が気化して脱ガスを発生し、この
脱ガスが露光光ELと反応して、カバーガラスに付着す
る可能性があるからである。

【0054】・ また、投影光学系としては、屈折タイ
プに限らず、反射屈折タイプ、反射タイプであってもよ
い。また、露光装置として、投影光学系を用いることな
く、マスクと基板とを密接させてマスクのパターンを露
光するコンタクト露光装置、マスクと基板とを近接させ
てマスクのパターンを露光するプロキシミティ露光装置
にも本発明を同様に適用することができる。

【0055】・ また、本発明の露光装置は、縮小露光
型の露光装置に限定されるものではなく、例えば等倍露
光型、拡大露光型の露光装置であってもよい。 ・ また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでな
く、光露光装置、EUV露光装置、X線露光装置、及び
電子線露光装置などで使用されるレチクルまたはマスク
を製造するために、マザーレチクルからガラス基板やシ
リコンウエハなどへ回路パターンを転写する露光装置に
も本発明を適用できる。ここで、DUV(深紫外)やV
UV(真空紫外)光などを用いる露光装置では一般に透
過型レチクルが用いられ、レチクル基板としては、石英
ガラス、フッ素がドープされた石英ガラス、蛍石、フッ
化マグネシウム、または水晶などが用いられる。また、
プロキシミティ方式のX線露光装置や電子線露光装置な
どでは、透過型マスク(ステンシルマスク、メンバレン
マスク)が用いられ、マスク基板としてはシリコンウエ
ハなどが用いられる。

【0056】・ また、半導体素子の製造に用いられる
露光装置だけでなく、液晶表示素子(LCD)などを含
むディスプレイの製造に用いられてデバイスパターンを
ガラスプレート上へ転写する露光装置、薄膜磁気ヘッド
等の製造に用いられて、デバイスパターンをセラミック
ウエハ等へ転写する露光装置、及びCCD等の撮像素子
の製造に用いられる露光装置などにも本発明を適用する
ことができる。

【0057】・ また、マスクと基板とが静止した状態
でマスクのパターンを基板へ転写し、基板を順次ステッ
プ移動させるステップ・アンド・リピート方式の一括露
光型の露光装置や、マスクと基板とを相対移動させた状
態でマスクのパターンを基板へ転写し、基板を順次ステ
ップ移動させるステップ・アンド・スキャン方式の走査
露光型の露光装置にも適用することができる。

【0058】・ また、露光装置の光源としては、例え
ばg線(λ=436nm)、i線(λ=365nm)、
Kr2レーザ(λ=146nm)、Ar2レーザ(λ=1
26nm)等を用いてもよい。また、DFB半導体レー
ザまたはファイバレーザから発振される赤外域、または
可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム(また
はエルビウムとイッテルビウムの双方)がドープされた
ファイバアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外
光に波長変換した高調波を用いてもよい。

【0059】・ また、露光装置11に備えられる以外
の光学部品であって、レンズ、ミラー、プルズム、平行
平板ガラス等の光学素子とその光学素子を保持する金属
製の保持部材との少なくとも一方を備える光学部品であ
れば、本発明を適用することができる。なお、このよう
にした場合には、それらの光学部品に付着する汚染物質
の成分に応じて、その汚染物質が効果的に除去できる複
数の溶剤を別々に用いることが望ましい。

【0060】

【発明の効果】以上詳述したように、本願請求項1に記
載の発明によれば、光学部品に付着した付着物の成分に
応じて複数の溶剤を別々に用いることで、その付着物を
効果的に除去することができる。

【0061】また、本願請求項2に記載の発明によれ
ば、前記請求項1に記載の発明の効果に加えて、例え
ば、イオン性物質や比較的低分子量、極性の有機成分が
光学部品に付着しているような場合、アルコールによ
り、そのアルコールに可溶な有機成分を効果的に除去で
きる。そして、純水により、イオン性物質を効果的に除
去できる。

【0062】また、本願請求項3に記載の発明によれ
ば、前記請求項2に記載の発明の効果に加えて、アルコ
ールを用いた洗浄後における光学部品を迅速に乾燥させ
ることができて、洗浄作業の作業性を向上することがで
きる。

【0063】また、本願請求項4に記載の発明によれ
ば、前記請求項1〜請求項3のうちいずれか一項に記載
の発明の効果に加えて、光学部品の乾燥を迅速に行うこ
とができる。

【0064】また、本願請求項5に記載の発明によれ
ば、前記請求項4に記載の発明の効果に加えて、加工表
面の粗い保持部材の表面に残留し、アルコールに対して
も、水に対しても溶解性の低い高分子物質等を効果的に
除去することができる。

【0065】また、本願請求項6に記載の発明によれ
ば、前記請求項1〜請求項5のうちいずれか一項に記載
の発明の作用に加えて、拭き洗浄による光学部材の汚染
を抑制することができる。

【0066】また、本願請求項7に記載の発明によれ
ば、前記請求項1〜請求項5のうちいずれか一項に記載
の発明の作用に加えて、拭き作業時に拭き布から離脱し
た繊維が保持部材に付着するのを抑制することができ
る。

【0067】また、本願請求項8または請求項9に記載
の発明によれば、前記請求項1〜請求項7のうちいずれ
か一項に記載の発明の効果に加えて、光学部品に付着し
た汚染物質を効果的に除去することができる。また、露
光装置の露光性能を向上することができる。また、露光
装置で製造される製品の歩留まりを向上させることがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図1】本発明の洗浄方法の一実施形態が適用される露
光装置の概略図。

【図2】同露光装置が備える光学部品の断面図。

【図3】同光学部品の分解斜視図。

【図4】(a)は光学素子、(b)は保持部材を洗浄す
る場合の洗浄手順を示すフローチャート。

【符号の説明】

11…露光装置、20…光学部品、21…光学素子とし
てのレンズエレメント、22…保持部材としての枠体、
R…マスクとしてのレチクル、W…基板としてのウエ
ハ。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 21/027 H01L 21/30 503G Fターム(参考) 2H095 BA01 BB22 BB23 BB30 3B116 AA03 AA46 BA08 CC03 CD11 3B201 AA03 AA46 BA08 BB93 BB95 CB11 CC11 CD11 5F046 AA28 BA03 CB12 CB20

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】光学素子と、その光学素子を保持する金属
    製の保持部材との少なくとも一方を備える光学部品の洗
    浄方法において、 前記光学部品を複数の溶剤を別々に用いて洗浄すること
    を特徴とする光学部品の洗浄方法。
  2. 【請求項2】前記溶剤は、少なくとも純水とアルコール
    とを含むことを特徴とする請求項1に記載の光学部品の
    洗浄方法。
  3. 【請求項3】前記アルコールが炭素数3以下のアルコー
    ルからなることを特徴とする請求項2に記載の光学部品
    の洗浄方法。
  4. 【請求項4】前記光学部品を純水で拭き洗浄する水拭き
    工程と、その水拭き工程に引き続いて行われ、前記光学
    部品をアルコールで拭き洗浄するアルコール拭き工程と
    を含むことを特徴とする請求項1〜請求項3のうちいず
    れか一項に記載の光学部品の洗浄方法。
  5. 【請求項5】前記保持部材を洗浄する場合には、前記水
    拭き工程に先立って、前記保持部材をフッ素系洗浄剤で
    拭き洗浄するフッ素系洗浄剤拭き工程を、さらに含むこ
    とを特徴とする請求項4に記載の光学部品の洗浄方法。
  6. 【請求項6】前記光学素子を洗浄する場合には、不織布
    を用いて拭き洗浄することを特徴とする請求項1〜請求
    項5のうちいずれか一項に記載の光学部品の洗浄方法。
  7. 【請求項7】前記保持部材を洗浄する場合には、織布を
    用いて拭き洗浄することを特徴とする請求項1〜請求項
    5のうちいずれか一項に記載の光学部品の洗浄方法。
  8. 【請求項8】前記光学部品が、マスク上に形成されたパ
    ターンの像を基板の上に転写する露光装置の一部材を構
    成することを特徴とする請求項1〜請求項7のうちいず
    れか一項に記載の光学部品の洗浄方法。
  9. 【請求項9】前記請求項1〜請求項8のうちいずれか一
    項に記載の光学部品の洗浄方法で洗浄された光学部品を
    備え、マスク上に形成されたパターンの像を基板の上に
    転写することを特徴とする露光装置。
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