JPH05100182A - レーザトラツプ集塵装置及び集塵方法 - Google Patents
レーザトラツプ集塵装置及び集塵方法Info
- Publication number
- JPH05100182A JPH05100182A JP3263615A JP26361591A JPH05100182A JP H05100182 A JPH05100182 A JP H05100182A JP 3263615 A JP3263615 A JP 3263615A JP 26361591 A JP26361591 A JP 26361591A JP H05100182 A JPH05100182 A JP H05100182A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- laser
- foreign matter
- light source
- laser light
- Prior art date
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- Pending
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】レチクル、ウエハ並びに照明光学系中の光学素
子や投影対物レンズのレンズ面等に付着したゴミやホコ
リを迅速に除去する。 【構成】レーザビームによる光トラッピング技術を応用
した。レーザ光源手段と、該レーザ光源手段からの光を
集光するための集光手段と、被検面上にて集光光を走査
するための走査手段と、被検面上での集光光からの反射
光を検出する光検出手段と、光検出手段からの信号によ
り異物であることを判別する判別手段と、該判別手段の
信号に応じてレーザ光源手段からのレーザ光出力を制御
する制御手段とを有する。異物の存在の判別に応じてレ
ーザ光源手段からの出力を制御し、より高エネルギーの
レーザ光により異物をトラップして移動させる。
子や投影対物レンズのレンズ面等に付着したゴミやホコ
リを迅速に除去する。 【構成】レーザビームによる光トラッピング技術を応用
した。レーザ光源手段と、該レーザ光源手段からの光を
集光するための集光手段と、被検面上にて集光光を走査
するための走査手段と、被検面上での集光光からの反射
光を検出する光検出手段と、光検出手段からの信号によ
り異物であることを判別する判別手段と、該判別手段の
信号に応じてレーザ光源手段からのレーザ光出力を制御
する制御手段とを有する。異物の存在の判別に応じてレ
ーザ光源手段からの出力を制御し、より高エネルギーの
レーザ光により異物をトラップして移動させる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザビームによる光
トラッピング技術を用いた集塵装置及び集塵方法に関す
る。
トラッピング技術を用いた集塵装置及び集塵方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】ＬＳＩや超ＬＳＩ等の半導体素子の製造
に用いられる露光装置では、回路パターンの一層の微細
化に伴ってより微細なパターンを鮮明に転写するための
改良が続けられている。そして、微細なパターンの加工
のためには、レチクルやウエハ上のみならず照明光学系
や投影対物光学系等の光学素子面上に付着するゴミやホ
コリ等の微小物体の除去が大きな課題となり、これらの
光学面の洗浄に多大の努力が払われてきている。
に用いられる露光装置では、回路パターンの一層の微細
化に伴ってより微細なパターンを鮮明に転写するための
改良が続けられている。そして、微細なパターンの加工
のためには、レチクルやウエハ上のみならず照明光学系
や投影対物光学系等の光学素子面上に付着するゴミやホ
コリ等の微小物体の除去が大きな課題となり、これらの
光学面の洗浄に多大の努力が払われてきている。
【０００３】
【本発明の解決すべき課題】従来の露光装置において
は、レチクルの使用直前にゴミやホコリの付着を検査し
て、露光に支障のある異物が発見された場合には再度洗
浄装置へ搬送され、代わりのレチクルが検査されて支障
のないことが判明してから露光に使用されている。この
ため、一旦ゴミやホコリの付着が発見されたレチクルに
ついては、露光装置から洗浄装置へと回送されなければ
ならず、レチクルの交換と搬送のために少なからぬ時間
を要し、スループットの改善に対する障害となってい
た。また、露光装置の照明光学系中においてはレーザ発
信装置の出射窓やダイクロイックミラー、或いは照明光
学系中のみならず投影対物光学系中のレンズや反射鏡の
表面においても、極めて高エネルギーの照明光の通過の
ためにゴミやホコリが付着し易く、照明効率の低下や照
明ムラの発生原因となっている。これら照明光学系中の
光学素子については、ヨゴレの付着した光学素子を取り
外して洗浄することが必要であり、その間露光装置の使
用は中断されざるを得なかった。
は、レチクルの使用直前にゴミやホコリの付着を検査し
て、露光に支障のある異物が発見された場合には再度洗
浄装置へ搬送され、代わりのレチクルが検査されて支障
のないことが判明してから露光に使用されている。この
ため、一旦ゴミやホコリの付着が発見されたレチクルに
ついては、露光装置から洗浄装置へと回送されなければ
ならず、レチクルの交換と搬送のために少なからぬ時間
を要し、スループットの改善に対する障害となってい
た。また、露光装置の照明光学系中においてはレーザ発
信装置の出射窓やダイクロイックミラー、或いは照明光
学系中のみならず投影対物光学系中のレンズや反射鏡の
表面においても、極めて高エネルギーの照明光の通過の
ためにゴミやホコリが付着し易く、照明効率の低下や照
明ムラの発生原因となっている。これら照明光学系中の
光学素子については、ヨゴレの付着した光学素子を取り
外して洗浄することが必要であり、その間露光装置の使
用は中断されざるを得なかった。
【０００４】本発明は、レチクル、ウエハ並びに照明光
学系中の光学素子や投影対物レンズのレンズ面等に付着
したゴミやホコリを迅速に除去することができ、露光装
置の使用に対する支障の発生を最小限にし得る集塵装置
及び方法を提供することにある。
学系中の光学素子や投影対物レンズのレンズ面等に付着
したゴミやホコリを迅速に除去することができ、露光装
置の使用に対する支障の発生を最小限にし得る集塵装置
及び方法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、レーザビーム
による光トラッピング技術を応用したものである。光ト
ラッピング技術の開発により、微小物体を非接触、非破
壊で捕捉・移動させることか可能となっており、この技
術を用いたトラッピング装置は、例えば特開平３−１１
０５１０号公報等により知られている。
による光トラッピング技術を応用したものである。光ト
ラッピング技術の開発により、微小物体を非接触、非破
壊で捕捉・移動させることか可能となっており、この技
術を用いたトラッピング装置は、例えば特開平３−１１
０５１０号公報等により知られている。
【０００６】本発明による集塵装置は、レーザ光源手段
と、該レーザ光源手段からの光を集光するための集光手
段と、被検面上にて集光光を走査するための走査手段
と、該被検面上での集光光からの反射光（散乱光を含
む）を検出する光検出手段と、該光検出手段からの信号
により異物であることを判別する判別手段と、該判別手
段の信号に応じて前記レーザ光源手段からのレーザ光出
力を制御する制御手段とを有するものである。
と、該レーザ光源手段からの光を集光するための集光手
段と、被検面上にて集光光を走査するための走査手段
と、該被検面上での集光光からの反射光（散乱光を含
む）を検出する光検出手段と、該光検出手段からの信号
により異物であることを判別する判別手段と、該判別手
段の信号に応じて前記レーザ光源手段からのレーザ光出
力を制御する制御手段とを有するものである。
【０００７】また本発明による集塵方法は、レーザ光源
手段からの光を被検面上にて集光すると共に、該集光光
を被検面上で走査し、該被検面上の異物からの反射光を
検出し、該光検出手段の出力信号に基づいて異物の存在
を判別し、該異物の存在の判別に応じて前記レーザ光源
手段からの出力を制御し、より高エネルギーのレーザ光
により前記異物をトラップして移動させるものである。
手段からの光を被検面上にて集光すると共に、該集光光
を被検面上で走査し、該被検面上の異物からの反射光を
検出し、該光検出手段の出力信号に基づいて異物の存在
を判別し、該異物の存在の判別に応じて前記レーザ光源
手段からの出力を制御し、より高エネルギーのレーザ光
により前記異物をトラップして移動させるものである。
【０００８】
【作 用】このように、被検面からの散乱光の振る舞い
が露光に支障のある所定のゴミやホコリの大きさの範囲
であることが判別手段により判別される場合には、制御
手段によりレーザ光源の出力を高めることによってその
ゴミやホコリを光トラップし、走査手段により集光光を
被検面上で移動させることによってゴミやホコリを該被
検面の有効領域外へ移動させる。露光光が通過する有効
領域外に移動されたゴミやホコリを所定の位置に集中さ
せて、装置全体のメンテナンスの際にまとめて取り除く
ことが可能であり、有効領域外の所定位置においてレー
ザ光の出力をさらに高めることによって焼却することも
可能である。
が露光に支障のある所定のゴミやホコリの大きさの範囲
であることが判別手段により判別される場合には、制御
手段によりレーザ光源の出力を高めることによってその
ゴミやホコリを光トラップし、走査手段により集光光を
被検面上で移動させることによってゴミやホコリを該被
検面の有効領域外へ移動させる。露光光が通過する有効
領域外に移動されたゴミやホコリを所定の位置に集中さ
せて、装置全体のメンテナンスの際にまとめて取り除く
ことが可能であり、有効領域外の所定位置においてレー
ザ光の出力をさらに高めることによって焼却することも
可能である。
【０００９】
【実施例】以下本発明を実施例に基づいて説明する。図
１は本発明による集塵装置を投影型露光装置に用いた例
を示す概略構成図である。この実施例では、投影対物レ
ンズのレンズ表面に付着するゴミやホコリを検出し、こ
れをレーザトラップにより除去するものである。図示の
とおり、レチクル１上に形成されたパターンが投影対物
レンズ２によりウエハ３上に投影露光され、所謂光リソ
グラフィ技術に基づく現像処理によってそのパターンが
ウエハ上に固定される。ここで投影対物レンズの最もレ
チクル１側のレンズ面には、レーザ光源手段４から供給
されるレーザ光がレンズ５を有する集光手段によって集
光され、走査手段６によって集光光が投影対物レンズの
レンズ表面上を走査する。レンズ表面での反射光は検出
手段７により検出されて、検出手段７からの信号に基づ
いて判別手段８はレンズ表面上にゴミやホコリ等の異物
の存在の有無を判別し、さらには所望の投影像に対する
影響を与える大きさの異物であるか否かをも判別する。
判別手段８により取り除くべき異物と判別されると、制
御手段９はレーザ光源手段４の出力を高め、この異物に
対する集光光のエネルギーを高めることによってこの異
物をトラップし、走査手段６の操作によって異物を投影
レンズの有効露光領域外の周囲に移動させる。
１は本発明による集塵装置を投影型露光装置に用いた例
を示す概略構成図である。この実施例では、投影対物レ
ンズのレンズ表面に付着するゴミやホコリを検出し、こ
れをレーザトラップにより除去するものである。図示の
とおり、レチクル１上に形成されたパターンが投影対物
レンズ２によりウエハ３上に投影露光され、所謂光リソ
グラフィ技術に基づく現像処理によってそのパターンが
ウエハ上に固定される。ここで投影対物レンズの最もレ
チクル１側のレンズ面には、レーザ光源手段４から供給
されるレーザ光がレンズ５を有する集光手段によって集
光され、走査手段６によって集光光が投影対物レンズの
レンズ表面上を走査する。レンズ表面での反射光は検出
手段７により検出されて、検出手段７からの信号に基づ
いて判別手段８はレンズ表面上にゴミやホコリ等の異物
の存在の有無を判別し、さらには所望の投影像に対する
影響を与える大きさの異物であるか否かをも判別する。
判別手段８により取り除くべき異物と判別されると、制
御手段９はレーザ光源手段４の出力を高め、この異物に
対する集光光のエネルギーを高めることによってこの異
物をトラップし、走査手段６の操作によって異物を投影
レンズの有効露光領域外の周囲に移動させる。
【００１０】この構成において、異物の判別手段８とし
ては、図示のようにレーザ光源からの光の正反射光を受
光する場合には、異物の存在により検出手段により受光
される光量が低下するので、検出光量の低下により異物
の存在の判別を行うことが可能である。また、レンズ表
面からの散乱光を検出する構成とする場合には、正反射
光以外の方向に散乱される光を検出することによって異
物の存在を判別することが可能である。このような散乱
光の検出により異物の存在を判別する装置としては、本
願と同一出願人による特公昭６３−６４７３８号公報に
開示された装置を用いることが有効である。
ては、図示のようにレーザ光源からの光の正反射光を受
光する場合には、異物の存在により検出手段により受光
される光量が低下するので、検出光量の低下により異物
の存在の判別を行うことが可能である。また、レンズ表
面からの散乱光を検出する構成とする場合には、正反射
光以外の方向に散乱される光を検出することによって異
物の存在を判別することが可能である。このような散乱
光の検出により異物の存在を判別する装置としては、本
願と同一出願人による特公昭６３−６４７３８号公報に
開示された装置を用いることが有効である。
【００１１】また、上記実施例の構成において、レーザ
光源手段からのレーザ光の波長を、投影露光に用いられ
る短波長の露光光とは異なる長波長光とし、特にウエハ
上に塗布されるレジストに感応しない長波長域の光とす
ることが有効である。これによれば、露光装置による露
光中においてもレジストを感光させることなしに、投影
対物レンズのレンズ表面の異物検査とレーザトラップに
よる異物の除去を行うことが可能である。
光源手段からのレーザ光の波長を、投影露光に用いられ
る短波長の露光光とは異なる長波長光とし、特にウエハ
上に塗布されるレジストに感応しない長波長域の光とす
ることが有効である。これによれば、露光装置による露
光中においてもレジストを感光させることなしに、投影
対物レンズのレンズ表面の異物検査とレーザトラップに
よる異物の除去を行うことが可能である。
【００１２】この様な構成により、レンズ表面上に付着
するゴミやホコリ等の異物をレンズ表面の有効露光領域
外へ移動させることができるので、投影対物レンズの結
像性能を劣化させることがない。しかも、異物の検出後
に直ちにレーザ出力を高めてレーザトラップにより異物
を除去することができるので、露光装置のスループット
をそれほど低下させることはない。
するゴミやホコリ等の異物をレンズ表面の有効露光領域
外へ移動させることができるので、投影対物レンズの結
像性能を劣化させることがない。しかも、異物の検出後
に直ちにレーザ出力を高めてレーザトラップにより異物
を除去することができるので、露光装置のスループット
をそれほど低下させることはない。
【００１３】図２に示した本発明による第２実施例は、
投影露光装置において所定のパターンが形成されたレチ
クルの表面におけるゴミやホコリ等の異物を除くための
装置である。この実施例の構成は、基本的には図１に示
した構成と同様である。すなわち、レーザ光源手段４か
ら供給されるレーザ光がレンズ５を有する集光手段によ
り集光され、走査手段６によって集光光がレチクル１の
表面上を走査する。レチクル面での反射光は検出手段７
により検出されて、検出手段７からの信号に基づいて判
別手段８はレンズ表面上にゴミやホコリ等の異物の存在
の有無を判別する。検出手段７としてはレチクル１から
の正反射光ではなく散乱光を受光する複数の検出器を設
ける構成とすることも可能である。散乱光の検出によ
り、投影されるレチクル像に悪影響を与える大きさの異
物であるか否かをも判別することが容易となる。判別手
段８により取り除くべき異物と判別されると、制御手段
９を介してレーザ光源手段４の出力を高め、この異物に
対する集光光のエネルギーを高めることによってこの異
物をトラップし、走査手段６の操作によって異物をレチ
クルの有効露光領域外の周囲に移動させる。
投影露光装置において所定のパターンが形成されたレチ
クルの表面におけるゴミやホコリ等の異物を除くための
装置である。この実施例の構成は、基本的には図１に示
した構成と同様である。すなわち、レーザ光源手段４か
ら供給されるレーザ光がレンズ５を有する集光手段によ
り集光され、走査手段６によって集光光がレチクル１の
表面上を走査する。レチクル面での反射光は検出手段７
により検出されて、検出手段７からの信号に基づいて判
別手段８はレンズ表面上にゴミやホコリ等の異物の存在
の有無を判別する。検出手段７としてはレチクル１から
の正反射光ではなく散乱光を受光する複数の検出器を設
ける構成とすることも可能である。散乱光の検出によ
り、投影されるレチクル像に悪影響を与える大きさの異
物であるか否かをも判別することが容易となる。判別手
段８により取り除くべき異物と判別されると、制御手段
９を介してレーザ光源手段４の出力を高め、この異物に
対する集光光のエネルギーを高めることによってこの異
物をトラップし、走査手段６の操作によって異物をレチ
クルの有効露光領域外の周囲に移動させる。
【００１４】ところで、ゴミやホコリがレーザ光を吸収
する物質である場合にはレーザトラップが難しいため、
予めレンズ面やレチクル面上にレーザトラップし易い高
屈折率の物質を集塵用物質として設けておくことが望ま
しい。その例は図３に示す如くであり、トラップし易い
集塵用物質１０が集光レーザビーム２０によりトラップ
されてレチクル１の表面上を移動し、異物３１や３２を
露光用の有効領域１ａ外へ移動させる。集塵用物質１０
は図示のとおりＬ字状の形とすることが有効である。
する物質である場合にはレーザトラップが難しいため、
予めレンズ面やレチクル面上にレーザトラップし易い高
屈折率の物質を集塵用物質として設けておくことが望ま
しい。その例は図３に示す如くであり、トラップし易い
集塵用物質１０が集光レーザビーム２０によりトラップ
されてレチクル１の表面上を移動し、異物３１や３２を
露光用の有効領域１ａ外へ移動させる。集塵用物質１０
は図示のとおりＬ字状の形とすることが有効である。
【００１５】以上の各実施例において、判別手段８の判
別信号に基づいて、レーザ光源手段４及び走査手段６の
動作を制御するために制御手段９を設けたが、所謂ＣＰ
Ｕにより装置全体を集中管理する演算制御手段を用いる
ことが有用であることは言うまでもない。そして、まず
被検面全体をレーザの集光ビームで走査して全面にわた
る異物の検査を行って異物の存在する位置を記憶するこ
ととし、全面の検査終了後にレーザのパワーを高めて、
検出された異物を順にトラップして移動させる構成とす
れば、より短時間に集塵を終えることが可能となる。
別信号に基づいて、レーザ光源手段４及び走査手段６の
動作を制御するために制御手段９を設けたが、所謂ＣＰ
Ｕにより装置全体を集中管理する演算制御手段を用いる
ことが有用であることは言うまでもない。そして、まず
被検面全体をレーザの集光ビームで走査して全面にわた
る異物の検査を行って異物の存在する位置を記憶するこ
ととし、全面の検査終了後にレーザのパワーを高めて、
検出された異物を順にトラップして移動させる構成とす
れば、より短時間に集塵を終えることが可能となる。
【００１６】尚、上記の実施例は、投影対物レンズのレ
ンズ面とレチクル表面における異物を集塵する場合の構
成であったが、露光装置の照明光学系中におけるダイク
ロイックミラー等の反射素子や、照明用レンズの表面、
又ウエハについても同様に、レーザ光を照射してその反
射光（散乱光を含む）によって異物の判別を行い、異物
に対してレーザのパワーを高めることによってトラップ
して移動し、集塵することが可能である。
ンズ面とレチクル表面における異物を集塵する場合の構
成であったが、露光装置の照明光学系中におけるダイク
ロイックミラー等の反射素子や、照明用レンズの表面、
又ウエハについても同様に、レーザ光を照射してその反
射光（散乱光を含む）によって異物の判別を行い、異物
に対してレーザのパワーを高めることによってトラップ
して移動し、集塵することが可能である。
【００１７】
【発明の効果】以上の如く本発明によれば、レチクル、
ウエハ並びに照明光学系中の光学素子や投影対物レンズ
のレンズ面等に付着したゴミやホコリを迅速に除去する
ことができ、露光装置の使用に対する支障の発生を最小
限に留めることができ、効率良い集塵が可能となる。
ウエハ並びに照明光学系中の光学素子や投影対物レンズ
のレンズ面等に付着したゴミやホコリを迅速に除去する
ことができ、露光装置の使用に対する支障の発生を最小
限に留めることができ、効率良い集塵が可能となる。
【図１】本発明による第１実施例の概略構成図。
【図２】本発明による第２実施例の概略構成図。
【図３】本発明によるレーザトラップによる集塵の例を
示す概略斜視図。
示す概略斜視図。
４…レーザ光源手段 ５…集光手段 ６…走査手段 ７…検出手段 ８…判別手段 ９…制御手段
Claims (2)
- 【請求項１】レーザ光源手段と、該レーザ光源手段から
の光を集光するための集光手段と、被検面上にて集光光
を走査するための走査手段と、該被検面上での集光光か
らの反射光を検出する光検出手段と、該光検出手段から
の信号により異物であることを判別する判別手段と、該
判別手段の信号に応じて前記レーザ光源手段からのレー
ザ光出力を制御する制御手段とを有することを特徴とす
るレーザトラップ集塵装置。 - 【請求項２】レーザ光源手段からの光を被検面上にて集
光すると共に、該集光光を被検面上で走査し、該被検面
上の異物からの反射光を検出し、該反射光の検出信号に
基づいて異物の存在を判別し、該異物の存在の判別に応
じて前記レーザ光源手段からの出力を制御し、より高エ
ネルギーのレーザ光により前記異物をトラップして移動
させることを特徴とする集塵方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3263615A JPH05100182A (ja) | 1991-10-11 | 1991-10-11 | レーザトラツプ集塵装置及び集塵方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3263615A JPH05100182A (ja) | 1991-10-11 | 1991-10-11 | レーザトラツプ集塵装置及び集塵方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05100182A true JPH05100182A (ja) | 1993-04-23 |
Family
ID=17391999
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3263615A Pending JPH05100182A (ja) | 1991-10-11 | 1991-10-11 | レーザトラツプ集塵装置及び集塵方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05100182A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007040862A (ja) * | 2005-08-04 | 2007-02-15 | Dainippon Printing Co Ltd | 異物検査装置および異物検査方法 |
| US7414240B2 (en) | 2004-10-22 | 2008-08-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Particle remover, exposure apparatus having the same, and device manufacturing method |
| JP2012129562A (ja) * | 2003-05-23 | 2012-07-05 | Nikon Corp | 露光装置及びデバイス製造方法 |
| AT13792U1 (de) * | 2012-07-11 | 2014-08-15 | High Q Laser Gmbh | Laserstrahlführungsanordnung, Laserstrahlführungselement und Verfahren zur Strahlführung von Laserstrahlung |
| US9645505B2 (en) | 2004-06-09 | 2017-05-09 | Nikon Corporation | Immersion exposure apparatus and device manufacturing method with measuring device to measure specific resistance of liquid |
| US9958786B2 (en) | 2003-04-11 | 2018-05-01 | Nikon Corporation | Cleanup method for optics in immersion lithography using object on wafer holder in place of wafer |
| CN112993120A (zh) * | 2020-08-14 | 2021-06-18 | 重庆康佳光电技术研究院有限公司 | 微器件的转移方法和转移系统 |
-
1991
- 1991-10-11 JP JP3263615A patent/JPH05100182A/ja active Pending
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