JP2001504973A - 新規な多状態メモリ - Google Patents

新規な多状態メモリ

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Abstract

(57)【要約】 メモリ状態の振る舞いにおける最大多状態緻密化及びより大きな裕度が、広いダイナミックレンジをカバーする融通性のある自己適合及び自己適応性の検出モードにより達成される。高密度の多状態エンコードの場合、この解決策は、データを再構成及び処理するためのA−D型変換を含むアナログ技術を示す完全アナログ処理と境を接している。本発明の教示によれば、メモリアレーは、高忠実度で読み取られ、実際の最終デジタルデータを与えず、むしろ、アナログ記憶状態を正確に反映する生のデータを与え、この情報がメモリコントローラヘ送られて、実際の最終デジタルデータが分析及び検出される。

Description

【発明の詳細な説明】 新規な多状態メモリ関連出願 本発明は、1996年4月26日に出願された米国特許出願第08/639, 128号の一部継続出願であり、この出願は、次いで、1994年2月2日に出 願された来国特許出願第08/193,707号の継続出願であり、そして更に この出願は、現在の米国特許第5,313,421号である1992年1月14 日に出願された米国特許出願第07/820,364号の継続出願である。発明の分野 本発明は、半導体メモリデバイスに係り、より詳細には、多状態メモリに係る 。先行技術の説明 良く知られたように、半導体メモリセルでは、所望のスレッシュホールド電圧 を有するようにセルをプログラミングすることによりデータが記憶される。簡単 なメモリセルは、2つの状態即ち論理1又は論理0の一方を記憶し、この場合に 、セルは、読み取り条件が確立されたときに各々ターンオンするか又はターンオ ンしないようにプログラムされ、従って、読み取り動作は、メモリセルに論理1 が記憶されたか又は論理0が記憶されたかを決定することができる。もっと精巧 な半導体メモリセルは、2つ以上の複数の論理状態の1つに各々関連した種々の スレッシュホールド電圧をメモリセルに記憶する能力を備えることにより2つ以 上の複数のメモリ状態の1つを記憶することができる。このような多状態メモリ セル及びアレーが、例えば、ドクター・エリアホフ・ハラリの発明に関して発行 された米国特許第5,043,940号及び第5,434,825号に説明され ている。 高密度の多状態メモリデバイスの概念を充分活用するために、余裕/弁別オー バーヘッドに対して最小のスレッシュホールド分離でメモリの状態をできるだけ 緻密にパックしなければならない。このオーバーヘッドを指示するファクタは、 ノイズ、ドリフト(特に共通モードとは逆にランダム)、感知速度(ΔT=C*Δ V/I)、及び安全余裕保護帯域、並びに基準ソース/感知回路の精度及び安 定性である。このオーバーヘッドは、メモリセルの書き込み精度(これも基準ソ ースに対する)に関連したメモリ状態巾に追加されねばならない。書き込み後に 照合動作が行なわれそして照合動作に不合格となるセルが再書き込みされる閉ル ープ書き込みでは、書き込みに更に時間を費やすことにより、基準ソースに対す るメモリセルの相対的な精度を任意に高くすることができる。従って、種々の記 憶感知点をいかに正確に且つ安定して互いに分離できるか、両メモリ状態の安定 特性、及び基準点/エレメントがいかに確立されるかによって、状態パッキング が更に指示される。発明の要旨 メモリ状態の振る舞いにおける最大の多状態緻密度及び大きな裕度は、広いダ イナミックレンジをカバーする柔軟性のある自己適合及び自己適応性の検出モー ドによって達成される。高密度の多状態エンコード動作の場合に、この解決策は 、データを再構成及び処理するためのA−D型変換を含むアナログ技術を指示す る完全アナログ処理と境を接している。本発明の技術によれば、メモリアレーが 高い忠実度で読み取られるが、これは、実際の最終的なデジタルデータを与える のではなく、アナログ記憶状態を正確に反映する生のデータを与え、この情報が メモリコントローラに送られて、実際の最終的デジタルデータの分析及び検出が 行なわれる。 本発明の1つの目標は、データ及びデータの「質」(即ち余裕(margins))の両 方を感知し、確立することのできる自己適合、適応性及び追跡能力を与えること である。本発明のある実施形態によれば、各セクター内に追跡セルが含まれる。 これらの追跡セルは、種々の状態の各々に対して最適な弁別点を確実に確立する ために既知の状態にセットされる。ある実施形態では、これは、状態当たり1つ 程度のセルを用いて行なわれる。しかしながら、最適な弁別点を確立するために 良好な統計値が必須な場合には、このような最適点を統計学的に確立するに充分 なセルの小さな集団が使用される。これらの追跡セルからのデータは、セクター からコントローラに読み込まれるべき第1の情報となり、残りのセクターデータ に対して最適な弁別点が確立される。これらのセルがデータの経過及び消耗に関 して残りのセクターを追跡するようにするために、それらは、その関連セクター に対して使用される同じ論理−物理データ状態変換(回転)書き込みを受ける。 本発明の種々の別の実施形態によれば、エンコードされた状態のアナログ尺度 を与えるに充分な分解能での多状態データの並列な全チャンクA/D変換と、比 較器の感知に対して最適なダイナミックレンジを与えることが主たる機能である マスター基準セル(1つ又は複数)と、セクター内消耗レベリング及び高い耐久 性能力の両方を与える論理−物理データスクランブルと、各状態ごとに1つあり 、各セクターに含まれ、種々の状態に対する最適な比較点を与えると共に、共通 モードシフト(例えばトラップ解除)に適応できるようにするセクター内追跡セ ルグループとを備えた高密度の多状態メモリが教示される。ある実施形態によれ ば、コントローラは、各追跡セルグループの中間点をオンザフライで見出すため にデータ処理「エンジン」を組み込んでいる。又、コントローラは、データ状態 弁別及び余裕度フィルタ点も確立する。セクターデータは、コントローラに通さ れ、エンコードされたメモリ状態及びその質(余裕度)が各物理的ビットごとに 与えられる。もし所望であれば、コントローラは、質情報に基づいて余裕ビット データをクリーンアップ(スクラブ)するためにどんな処理を行なわねばならな いか判断する(例えば、全セクター消去、及び再書き込み・対・選択的書き込み のみを行う)。又、もし所望であれば、本発明は、読み取りスクラブに遭遇する たびに増加される小型のカウンタを各セクターに含む。カウンタが最大許容値に 到達したときに、余裕ビットが再書き込みではなくマップアウトされ、そしてカ ウンタが0にリセットされる。これは、真の「不良」ビットに対するフィルタを 形成する。同様の特徴を逆に適用し、読み取りで使用された同じ回路を逆に動作 して使用して、多状態データをセクターに書き戻し、自己適合データエンコード 動作が与えられる。更に、照合を実行するために2つの別の実施形態が教示され る。即ち状態の範囲を通して順次に走査するための基準階段状電流を使用して、 そのターゲットデータに対応する電流ステップが感知回路に与えられたときに各 セルを条件付で終了し;そしてN個の考えられる状態のN−1個の基準電流の全 セットを使用して、全てのセルを同時に照合しそして条件付で終了する。ある実 施形態では、二重セルオプションが各セクターに含まれて、繰り返し駆動トラッ プ及びチャンネル消耗に関連したΔVtシフトレベルを与え、トラップ解除シフ トが 読み取りのダイナミックレンジを越えるか又は他の潜在的な読み取りエラーを生 じる前にセクターリタイアをトリガーする。これは、ホットカウントをベースと するセクターリタイアに取って代わり、有用な耐久性を著しく高める。 本発明のある実施形態の別の特徴として、2つのソース側注入セルの実施形態 で実現できるセルごとの列指向のステアリングの解決策は、高レベル多状態の性 能を著しく高め、その書き込み及び読み取り速度の両方を改善する。これは、各 セルの特定の状態に必要とされるカスタムステアリング条件を並列に適用するこ とにより達成される。これは、書き込みに必要な個々のプログラミング段階の数 を実質的に減少すると共に、完全な逐次サーチオペレーションを実行する必要な く、読み取りに対する強力な2進サーチ方法を許す。性能改善は、増加されたチ ャンクサイズを通して更に支持され、これは、低電流ソース側の注入機構により 可能となり、これは、4番目ごとのフローティングゲート素子を動作できるよう にし、これにより、チャンクサイズを増加する。図面の簡単な説明 図1aは、選択されたメモリセルの動的な感知を使用する本発明の1つの実施 形態を示す回路図である。 図1bは、図1aの実施形態におけるメモリセルの状態の感知に関連した電圧 を示すグラフである。 図2は、複数のセルの読み取りに関連したトリップ時間が2進コードに変換さ れる本発明の1つの実施形態を示すブロック図である。 図3は、電流比較器を使用した静的な感知解決策を用いる本発明の別の実施形 態を示す図である。 図4aは、4レベル多状態エンコードに対する例示的な状態範囲及びカウンタ /A/D分解能を示す図である。 図4bは、8レベル多状態エンコードに対する例示的な状態範囲及びカウンタ /A/D分解能を示す図である。 図5は、本発明による1つの実施形態の動作を示すフローチャートである。 図6は、本発明の1つの実施形態に関連したユーザデータ及びオーバーヘッド データを示すビットマップである。 図7は、図5において追跡セルデータを処理する段階の1つの実施形態を詳細 に示すフローチャートである。 図8は、図3の実施形態に使用するのに適したプログラミング及び照合要素を 示すブロック図である。 図9は、図8に示す本発明による1つの実施形態の動作を示すフローチャート である。 図10は、図10a及び10bから成るもので、図8の実施形態に使用するの に適した本発明による別の実施形態のフローチャートである。 図11は、改良された照合処理を行えるようにする本発明の別の実施形態を示 す図である。 図12は、本発明の二重セルの実施形態を示す図である。 図13は、本発明のある実施形態に関連して使用するのに適したセルの1つの 実施形態を示す図である。 図14は、図13のセル実施形態を用いた本発明のセル読み取り動作の1つの 実施形態を示す図である。 図15は、図14の実施形態に基づく本発明の1つの実施形態を示すフローチ ャートである。 図16は、図14の実施形態に関連して使用できる本発明の別の実施形態であ って、複数のビットに対して同時に感知が実行される本発明の別の実施形態を示 す図である。 図17は、読み取り及び多状態プログラミングの両方に対して共通の要素が使 用される本発明の1つの実施形態を示す図である。 図18は、ある制御要素が複製され、あるセットがプログラミングに使用され 、そして他のセットが読み取り/照合動作に使用されるような本発明の別の実施 形態を示す図である。 図19は、本発明の教示に従って使用するのに適したアレーの1つの実施形態 を示す図である。 図20は、本発明に使用するのに適した別のアレーを示す図である。 図21は、本発明のある実施形態による消去されたセルレベルの分布を示すグ ラフである。好ましい実施形態の詳細な説明 A/D感知 本発明における第1段階は、メモリ状態の全アナログ値(例えば、実際に記憶 されたフローティングゲート電圧VFGを反映する実際のセル電流)を収集する ことである。多数の物理的なセル(例えば、256個のセルのチャンク)に記憶 されたデータを同時に迅速に感知しそしてデジタル形態に変換するための2つの 別の実施形態について以下に説明する。各セルは、多数の多状態(例えば、4つ 以上の状態)を記憶することができ、そして感知は、広いダイナミックレンジに わたることができる。これらの両実施形態の基礎として、電流駆動能力がその記 憶されたフローティングゲート電荷(電圧)に比例するというメモリセルのアナ ログ特性がある。従って、各メモリ状態は、その電流駆動能力(実際には、余裕 能力を含む狭い電流駆動範囲)によって特徴付けられる。それ故、種々の状態を 感知しそして弁別することは、種々の駆動レベル範囲間を区別することになる。 この区別を達成する2つの実施形態について以下に説明する。 図1a及び1bを参照して、第1の実施形態を説明する。これは、動的な感知 に関するもので、選択されたメモリセル(例えばセル102)のビットライン( 例えばビットライン101)を予め荷電し(例えば2.5Vに)、次いで、好まし くは制御された傾斜(例えば5μ秒の立上がり時間)又はステップ状階段(例え ば5μ秒にわたる)を用いて、選択されたセルの行(例えばワードライン103 )をターンオンし、その選択されたセルを通してそれらの電流駆動能力に比例す る割合で各ビットラインを放電できるようにする。ビットラインは、所定電圧( 例えば1V)まで放電すると、それに対応する感知増幅器(例えば感知増幅器1 04)をフリップし、感知の達成を指示する。感知の開始から感知増幅器をフリ ップするに要する時間は、セル駆動のアナログ尺度であり、時間が長いほど、駆 動力が低い(即ち、セルは、図1bに示すように、フローティングゲートに更に 負の電荷をもつように更にプログラムされる)。 テーブル1は、フローティングゲートセルI−Vデータを用いたシミュレーシ ョンに基づき感知増幅器のトリップ時間・対・セルの電流駆動能力を例示する。テーブル1 ICELL(μアンペア) 20 30 40 50 60 70 80 90 100 トリップ時間(μ秒) 5.4 4.9 4.7 4.4 4.2 3.9 3.7 3.5 3.4 テーブル1の例では、ビットライン101が5Vに予め荷電されそして2.5 Vでトリップされ、負荷キャパシタンスは1.25pFであり、そして制御ゲー トの増加率は1.25V/μ秒で、階段状に7Vまで傾斜する。障害のために、 メモリセルのドレインを2V以上に露出することは望ましくない。それ故、1つ の実施形態では、メモリセルのドレインから分離された感知キャパシタ105に 5Vの子電荷が印加され、ドレインは、低い電圧(例えば1.5V)に荷電する ことしか許されない。列のセグメント化の状態では、このドレイン電圧の減少は 、1つの実施形態において、サンディスク・コーポレーションに譲渡された米国 特許第5,315,541号に開示されたように、グローバルビットラインから ローカルビットラインへ転送される電圧を制限するためにセグメント選択トラン ジスタを用いてローカルで行なわれる。 1つの実施形態では、図2に示すように、トリップ時間は、A/D解決策を用 いて2進コードへ同時に変換される。時間は、クロック205を用いて計測され 、クロック205は、ここでは一例として8ビットカウンタとして示されたマス ターカウンタ204を増加する。このカウンタ204は、ライン209(この例 では8本のライン)を駆動し、これらのラインは、転送ゲート202−1ないし 202−Nを経てレジスタ201−1ないし201−Nへ各々信号供給し、各セ ルごとに1つのレジスタが感知される(例えば256ビットメモリチャンクサイ ズの場合は256個の8ビットレジスタ)。感知の開始に、カウンタ204は、 0に初期化され、次いで、レジスタがカウントを反映するようにカウントアップ を開始する。 セル感知の点(即ち感知増幅器のトリップ時間)において、対応する感知増幅 器がフリップし、これは、対応するレジスタをカウンタ204から分離し、これ により、そのレジスタに時間(及びその関連2進コード)を凍結する。このよう に、各レジスタは、A/Dの分解能に対するメモリセルのアナログ記憶レベルの 2進表示を含む(例えば、8ビットの場合、これは約256分の1部、即ち約0 .4%の分解能を与える)。 充分な分解能及びダイナミックレンジの両方を確保するために、クロック周波 数(即ちサンプリングレート)を適切に選択しなければならない。それがあまり に速過ぎると、最大カウントにヒットする前に考えられる全ての記憶されたメモ リセルデータ値に対して感知増幅器がフリップするに必要な全時間範囲にわたる ことができず、一方、それが遅過ぎると、分解能が悪くなると共に、隣接状態間 を弁別できなくなるおそれが生じる。メモリセルの駆動特性とのある関係を与え るために、1つの実施形態において、クロック205の周波数は、適当な駆動レ ベルにセットされたメモリセル(又はメモリセルのグループ)により制御される 。このように、クロック205は、プロセス変化及び動作条件(例えば、電圧及 び温度)を追跡し、セルのダイナミックレンジ及びそれに関連したメモリ状態に わたるように最適なクロックレートを設定する。 この実施形態は、比較的簡単で且つ効果的であるが、動的であるという性質に より制限を有する。ワードライン及び/又はビットラインの遅延並びにそれらの 変化に関連した時間的制約は、相対的エラー及び絶対的エラーの両方に貢献する 。例えば、ワードラインのRC時定数が傾斜時間(即ち、ステップ間隔)に対して 長い場合には、著しい時間差が存在し、ワード又はステアリングライン(或いは 選択に対してワードラインとして働き且つ容量性結合に対してステアリングライ ンとして働く単一ライン)に沿ったセルが所与のワードラインステアリング駆動 電圧を経験する。その結果、このようなラインに沿って異なる位置にあるセルが 異なる時間に応答することになる。又、セル駆動電流から比較器のトリップ時間 への変換は、厳密に直線的ではない。というのは、放電率及び特性が、ビットラ インのバイアスレベルと共に変化するセルの駆動レベルに依存するからである( ビットラインの電圧レベルが低下するときに減少する傾向のある状態では、ビッ トラインの放電時間が延びる)。又、ビットラインのキャパシタンスは、接合の CV特性から生じる著しい電圧依存性をもつことになる。比較器のトリップ時間 のこの非直線性は、最低から最高の荷電メモリ状態へ向かうときの状態及び余裕 の分離において時間的な非直線性を生じる(が、ダイナミックレンジ内に最大 の状態適合を得ると共に、均一な余裕をもつためには、メモリの状態を荷電方向 に均一に離間することが望まれる)。 第2の実施形態は、図3の実施形態に示すように、電流比較器を用いた静的な 感知解決策を使用することによりこれらの制約を取り除く。図2の実施形態の固 定基準電圧Vrefは、階段状基準電流(Iref)ソース310に置き換えられてお り、これは、最小レベルIminから始まって、クロック305の各カウントでΔ Iだけ増加する(即ち、n個のクロックパルス後に、Iref=Imin+n*ΔI)。 所与のメモリセルに対し、基準電流がセル電流をちょうど越えるときに、電流比 較感知増幅器104−1ないし104−Nの関連する1つがフリップし、カウン タ304(これは、階段状電流発生器310と同期して増加する)の対応カウン トをレジスタの対応する1つへと凍結する。1つの実施形態では、階段状電流ソ ース310の倍率(例えば、その最大電流)は、プロセス及び動作条件を追跡し ながら最適なダイナミックレンジを与えるために、フローティングゲートメモリ (例えば強く消去された)の1つ又は集団を用いて確立され、即ち電流ソースの 調整は、電流ソースの調整に関連して専用に使用される1つ以上のフローティン グゲートセルの特性を監視することを含む。 この第2の実施形態は、ビットがより複雑であるが、良好な制御、直線性を与 えると共に、動的な作用に対する感度を最小にし又は排除する。これは、動的な 感知の場合にワードラインの繰り返し制御される傾斜付けの必要性を排除し、タ イミングどり及びそれに関連した制御動作の多くを簡単化することを含む。 感知が完了し、そしてデータが全てのレジスタ301−1ないし301−Nへ 凍結されると、それが例えばシリアルにシフトされて出される。これを行う簡単 な方法は、レジスタ301−1ないし301−Nをシフトレジスタの形態に一緒 に結合することである。上記の例では、各レジスタに記憶されたデータは、各々 、8つのビットを含み、1つのコントローラクロックサイクルでメモリチップか ら(例えば、要求を発しているデバイスヘ送信するために、サンディスク・コー ポレーションに譲渡された米国特許第5,430,859号に開示されたように 、メモリコントローラへ)全データをシフトして出すためには8ライン巾のバス を必要とし、従って、8個の出力パッド/ピンを必要とする。コントローラへの デ ータレートはあまり重要でないが、パッド/ピンの数を少なく保つことが重要な 場合には、8つのビットを分割し、例えば、2つのコントローラクロックサイク ルで4つのパッドを経て4つのMSBビットを最初にシフトアウトした後に4つ のLSBビットをシフトアウトするか、或いは4つのコントローラクロックサイ クルで2つの出力パッドを経て2ビットのグループを4回シフトアウトすること ができる。 追跡/データスクランブル 上述したように、本発明の1つの目標は、データ及びデータの「質」(即ち余 裕)の両方を感知し、確立することのできる自己適合、適応性及び追跡能力を与 えることである。本発明のある実施形態によれば、サンディスク・コーポレーシ ョンに譲渡された米国特許第5,172,338号に開示されたように、追跡セ ルが各セクター内に含まれる。これらの追跡セルは、種々の状態の各々について 最適な弁別点を確実に設定するために、既知の状態にセットされる。ある実施形 態では、これは、状態当たり1つ程度のセルを用いて行なわれる。しかしながら 、最適な弁別点を設定するのに良好な統計値が必須な場合には、このような最適 な点を統計学的に設定するに充分なセルの小さな集団が使用される。例えば、1 つの実施形態では、各状態ごとに10個の物理的なセルが使用され、この場合に 、4状態エンコードでは、全部で40個の物理的なセルがセクターのオーバーヘ ッド部分の一部分として使用される。 以下に述べるように、これらの追跡セルからのデータは、残りのセクターデー タに対して最適な弁別点を設定するためにセクターからコントローラへ読み込ま れるべき第1の情報となる。しかしながら、これらのセルがデータ経過及び消耗 について残りのセクターを追跡するようにするために、それらが繰り返し消去さ れそして同じ固定された予め指定された状態へと書き込まれる。これは、消耗量 がその状態に固有であって、残りのセクターの消耗/経過を反映しないからであ る。1つの実施形態では、均一性を確保し(即ちセクター内消耗レベリング)そ してこのような消耗を最小に保持することについての消耗の管理が、各々の論理 状態(例えば、論理状態L0、L1、L2及びL3)をそれに対応する物理状態 (例えば、物理状態P0、P1、P2及びP3)に連続的又は周期的に再指定す る何らかの方法により取り扱われ、その一例がテーブル2に示されている。これ らの物理状態P0ないしP3は、各メモリセルの特定の導通レベルに対応し、例 えば、P0は最も高い導通状態であり、P1は次に高い導通状態であり、P2は その次に高い状態であり、そしてP3は最も低い導通状態である。2状態エンコ ードに適用されそして「プログラム/逆プログラム」と称するこの概念の説明が サンディスク・コーポレーションに譲渡された米国特許第5,270,979号 に開示されている。 状態の再指定及びその後の書き込み(1つの実施形態では各書き込みが後で行 なわれ、そして別の実施形態では特定回数の書き込みが先に行なわれる)は、例 えば、回転により又はランダム数をベースとして行なわれる。これは、多数のサ イクルにわたる平均で、考えられる全電荷の約半分しかセルヘ搬送されず、そし て各セルの消耗がそのセクター内の他の全てのセルと実質的に同一であることを 保証する。論理状態と物理状態との間のランダム数指定を使用する実施形態は、 論理−物理データ再指定アルゴリズムと可変ユーザデータとの間の同期の可能性 を排除し、このような消耗レベリングを克服するという利点を有する。 テーブル2 論理状態 物理状態指定 #1 #2 #3 #4 L0 P0 P3 P2 P1 L1 P1 P0 P3 P2 L2 P2 P1 P0 P3 L3 P3 P2 P1 P0 所与の各論理状態に対する全ての追跡セルは、同じ物理状態に再指定され、例 えば、論理状態L1を記憶する役割が指定された1つの追跡グループの10個の セルは、全て、スクランブルアルゴリズムで指令される特定の書き込みサイクル に対し、P0、P1、P2又はP3のいずれかにセットされる。追跡セルが残り のセクターと同じスクランブル動作を経るとすれば、それらは、そのセクターの 消耗を反映するだけでなく、物理状態から論理状態へ変換して戻すための変換手 段も形成する。各追跡グループには、予め指定された一定の論理状態の責任が与 えられるので、コントローラが種々の追跡セルグループ(例えば、各々10個の セルの4つのグループ)を暗号解読するときには、そのセクターに対する変換も 同時に確立する。 分解能要求 分解能が高いほど、感知時間が長くなり(A/Dにおけるステップが多くなり) 、より大きなレジスタに、より大きなダイエリアが関連することになり、コント ローラへのデータの搬出に関連したコストが高くなり(より大きな並列性がより 多くのパッドを指示し、ひいては、エリアペナルティとなるか、又は同じ数のパ ッドでは、全てのデータをシフトアウトするのにより長い時間がかかり、ひいて は、性能ペナルティとなり)、そしてコントローラでのデータの処理に関連した コストが多くなる。分解能が不充分であると、共通モード集団余裕シフトにおい て鮮明度が制限され(トラップ/トラップ解除作用のために)、比較点の設定に大 きなエラーを招くことになる。この大きなエラーを多状態見積に含ませて、状態 と状態との間に大きな分離を強制的にとらせ、その結果、状態を少なくし、即ち 多状態の拡張性を低くしなければならない。 適度な目標分解能は、状態と状態との分離の約3%に等しいA/D分解能であ る。これは、1つの集団内の充分に小さいセル電流シフトへの鮮明度を与えて、 意味のある修正を行える(即ち不充分な分解能による集団内のテールビットから の余裕欠陥を回避する)ようにし、そして設定及び測定状態に関連した種々のノ イズ及びエラー項に対して無意味となるような高い分解能を課すものではない。 状態範囲及びカウンタ/A/D分解能の特定例が、4レベル及び8レベルの多 状態エンコードについて各々図4a及び4bに示されている。読み取り用として 図4a及び4bに使用されるセル電流/フローティングゲート電圧の関係は、今 日利用できる0.5ミクロンベースのフラッシュ半導体製造技術を用いて本発明 の教示により構成されたセル特性をあらわすもので、これは、例えば、4.25 Vにゼロ電流切片(投影スレッシュホールド)をもつ約20μアンペア/ボルト のI/V傾斜を有している。 ここに示す例では、4状態セルに対する状態−状態分離が30μアンペアであ り、A/D分解能が1μアンペアであり、そしてカバーされるダイナミックレン ジが0ないし128μアンペアである。これは、状態−状態分離の約1/30の 分解能(3.3%)を与える。所与の中間状態に書き込まれるセルの集団は、分 解能の10ステップにわたる10μアンペアのウインドウに拘束される。それ故 、1A/Dステップビットは、書きこまれた集団分布の10%分解能を与え、そ して時間に伴うその大きさの共通モードシフトは、10%の分解能ステップで修 正することができる。それ故、4状態の場合には、7ビットA/Dが適当である 。 図4bの8状態に例でも状況は同様であるが、状態−状態分離は15μアンペ アであり、A/D分解能は0.5μアンペアであって、同じ0ないし128μア ンペアのダイナミックレンジをカバーする。これは、8ビットA/Dが適当であ るところの同じ割合の集団分解能を与える。 適応性多状態弁別 各セクター読み取り動作に対するデータの流れ及びコントローラによる処理に ついて以下に説明する。高速度をサポートするために、1つの実施形態では、こ の動作がハードウェア及び/又はファームウェアで行なわれる。説明上、4状態 エンコードの例であって、7ビットの感知分解能(ステップ当たり約1μアンペ アで128ステップを与える)をもちそして4つの状態の各々に対して10個の 追跡セルをもつ例を使用する。図4aは、分解能の各ビットが約1μアンペアに 対応するような4状態エンコード動作を示す(従って、約100μアンペアの全 範囲)。図4aに示す実施形態では、4つの状態、即ち物理的状態P0、P1、 P2及びP3が示されている。状態P0は、読み取り条件のもとで90μアンペ ア以上のセル電流をもつようにセルを設定することにより(例えば、セルをその 値に消去することにより)確立される。読み取り時には、セル電流が85μアン ペア以上になったときに状態P0が検出され、従って、書き込みよりも読み取り に対して若干緩い裕度が許される。図4aには、状態P1、P2及びP3に対す るプログラミングレベルも、これら状態に各々に対して緩い読み取り電流レベル として示されている。各状態間には適当な保護帯域が配置され、例えば、75μ アンペアと85μアンペアとの間の読み取り中のセル電流は、隣接状態P0及び P1のいずれに関連させるか非常に曖昧である。 図5のフローチャート及び図6を参照してこの実施形態の動作を説明する。先 ず、基準追跡セルのデータは、各セルごとに1つの8ビットセット(即ち1バイ ト)でコントローラへシフトされる。このデータは、次いで、図7のフローチャ ートに詳細に示すように、テーブル2に示す論理状態L0に指定された第1追跡 セルグループから始めて処理される。これらビットの機能は、追跡セルの集団の 中心がL0状態のどこに配置されるかを最初に確立することにより、L0状態に 対する最適な比較点を確立することである。これは、10個のL0セルの各次々 のデータを連続的に加算して、これら10個のセルのデータの累積値を与えるこ とにより、状態集団当たり10個のセルに対して実行することができる。高いか 低いかに関わりなく分離された不良セルからのエラーの機会を最小にするために 、最大及び最小レジスタを同時に維持することが望ましい。これは、データの各 次々の断片を既に比較された比較器データと比較し、そして各比較動作において 、高い(低い)方を最大(最小)比較器へ記憶することにより行なわれる。10 個の全てのセルからのデータがシフトインされると、それが処理され、例えば、 最大及び最小を和から減算しそしてその結果を8で除算し(即ち、3回右へシフ トし)、L0指定追跡セルの平均記憶レベルを与えることにより、フィルタ点を 確立する。最も近い数値への丸めは、1つの実施形態では、右へ3回シフトする が、シフトされた第3ビットを一時的に記憶し、そしてそのビットをシフトされ た値と加算することにより、達成される。次いで、これは、L1、L2及びL3 の追跡セル集団に対して繰り返され、その点において、システムは、各状態に対 する物理−論理変換を決定する。1つの実施形態において、この変換は、L0、 L1、L2及びL3状態を下降する順に順序付けし、そしてそれをテーブル2に 示す対応する物理状態指定とマッチングさせることにより行なわれる。例えば、 L0が物理状態P0に対応する場合には、それが4つの状態の最も高い値を有し 、L0が物理状態P1に対応する場合には、それが次に高い値を有し、等々とな り、状態L1、L2及びL3についても同様である。順序付けの後に、順序がL 0、L1、L2、L3ある場合には、テーブル2の状態指定#1が使用される。 一方、順序がL1、L2、L3、L0である場合には、テーブル2の指定#2が 使用され、等々となる。この実施形態では、4つの物理レベルP0、P1、P2 及びP3間 の最適な弁別点は、P0とP1との間、P1とP2との間、そしてP2とP3と の問の中間点を計算することにより確立される。P0及びP1、P1及びP2等 々の加算の後まで個々の10セルグループに対する8での除算を延期することに よって若干良好な精度が達成され、その点において、P0とP1を加算して16 で除算する(丸めのための構成で右へ4つシフトする)ことによりP0及びP1 の平均が得られ、そしてP1及びP2、P2及びP3についても同様に行い、こ れにより、3つの比較値C1、C2、C3を各々確立し、これらは、図4aにお いて、状態P0、P1、P2及びP3間の電流点80、50及び20として示さ れている。 これは、次いで、ここでシフトインされる残りのセクターのデータに対する最 適な比較点即ちフィルタ点を与える。データが通過するときには、これらの比較 点にセットされた1組の比較器を経てシフトされ(図5及び7のフローチャート を参照して以下に述べるように)、それらの状態、即ちC1より高い(状態P0と する)、C1とC2との間(状態P1とする)、C2とC3との間(状態P2とする )、又はC3より低い(状態P3とする)を確立する。これらは、次いで、上記 のように、使用される特定の論理−物理指定に基づき、それに対応する論理状態 に変換される。1つの実施形態においては、比較器にロードされる比較点C1、 C2及びC3は、追跡セルを経てセクター自体により確立された適応性のもので ある。このように、感知動作は、セクター内のセルの集団の特性、それらの動作 電圧及び温度状態、経過及び消耗、並びに例えば、書き込みサイクル中に累積し たゲート酸化物トラップ電荷のトラップ解除により生じる共通モードドリフトを 追跡する。このようなトラップ解除は追跡セルにも存在するので、それらは、ト ラップ解除の程度に関わりなく、感知のための最適な点を確立する。但し、それ らの導通がセル状態感知能力のダイナミックレンジ内に保持され(即ち、種々の 状態間を依然として弁別でき)、そして機構が最小の分散状態の真の共通モード にある場合である。 1つの実施形態では、比較点のこの適応性調整が連続的にリアルタイムで実行 される。別の実施形態では、L0状態及び他の状態L1−L3の最適な比較点が メンテナンス動作の一部分として周期的に確立され、そしてシステム性能への影 響を減少するために、実際のデータが読み取られるときにはリアルタイムではな い。この後者の解決策は、追跡セルデータの処理に関連した繰り返しのオーバー ヘッド時間を排除することにより性能を改善する。1つの実施形態では、これは 、読み取り/余裕チェックの一部分として所定の読み取り間隔ベースで呼び出さ れ、及び/又は読み取り余裕又は欠陥の稀な事象において呼び出される。これは 、追跡セルを経て最適な読み取り基準条件を用いたデータ再書き込みによりデー タを回復するか又は余裕を回復する能力を与える。 1つの実施形態において、セクターは、図6に示すように、ユーザデータ及び オーバーヘッドバイトを含むように分割される。オーバーヘッドバイトは、多状 態メモリにおける各論理状態に対してプログラムされると分かっている1つ以上 のセルの状態を監視するための複数の基準追跡セルを備えている。又、オーバー ヘッドは、もし必要であれば、アドレス情報、ECCビット、ビット及び/又は セクターマッピング関係情報、並びにセクターへの書き込み回数のようなヘッダ 情報も含む。再び、図5を参照すれば、基準追跡セルの特性に基づいて確立され た比較点を用いて残りのセクターデータが読み取られそして処理されるときには 、データが受け入れられるかどうかについて判断がなされる。もし受け入れられ ない場合には、米国特許第5,602,987号に開示されたように、総欠陥管 理が呼び出される。一方、データが受け入れられる場合には、データが「クリー ン」であるかどうか、即ちデータ余裕又はECC関係の問題がない充分に質の高 いものであるかどうかの判断がなされる。その答えがイエスの場合には、そのデ ータは、それ以上の介在なしにホストへ送られ、逆に、その答えがノー(即ちデ ータがクリーンでない)の場合には、必要なエラー修正即ち「クリーンアップ」 段階が呼び出され、これにより、データがホストに送られるだけでなく、修正さ れたデータがその後の読み取りの際にクリーンであることが保証される。 データの質の評価及び応答 上述したように、本発明から導出される1つの特徴は、データ自体だけではな く、上記の比較点に対する各データ点の「質」即ちその余裕も同時に決定できる ことである。データのビットが正しく読み取られたときでも、比較点にあまりに 接近し過ぎた場合には、それが将来あるときに信頼し得ないものとなり、ノイズ 感度、付加的な余裕シフト、或いは電源又は温度変動から生じる動作条件の変化 のために誤った読みを与えることになり得る。それ故、本発明により達成される 質の測定は、特殊な「余裕のもとでの読み取り(read-under-margin)」オペレー ションを用いて公知技術でもある程度取り扱われた欠陥予見能力を与える。この ような公知の「余裕のもとでの読み取り」オペレーションは、一般に、特殊な条 件又は環境のもとで呼び出されるマルチパス読み取りを伴い、そして必要とされ る余裕差動を確立するために特殊な回路(基準/感知回路又は特殊なセルバイア スオペレーションに対して制御された変化を含む)を必要とする。このような差 動手段の精度又は分解能はしばしば制限され、絶対的に必要とされる以上の大き な余裕を強制する。多状態の場合には、これは、状態当たり広いメモリスレッシ ュホールド電圧ウインドウ、ひいては、状態間の広い電圧分離を指示し、これに より、所与のセルの動的な電圧範囲に対して少数の状態しか使用できず、ひいて は、セル当たりのメモリ記憶密度を低くする。しかしながら、本発明の新規な解 決策では、データの余裕即ち「質」は、各読み取り動作の当然の副産物であり、 それを開始するための特殊なモード又は事象を必要とせず、システムが余裕デー タのいかなる検出にも瞬時に反応できるようにする。本質的に、「予見データ回 復」の能力は、各読み取り動作に自動的に含まれる。しかしながら、このような 余裕処理動作を考慮するのではなく、本発明による非常に稀な事象に対する非常 に稀な動作、即ち高密度の多状態を達成するためになされる妥協は、このような 余裕度の実質的に高いインシデンスを許すことであり、このような余裕度は、標 準的な読み取り動作の一部分としてこの余裕度の尺度を与えることにより管理で きるようになる。 1つの実施形態において、このような余裕度検出を行なう特定の方法は、各々 の比較値C1、C2、C3の周りで、図4aに示すC1+del、C1−del 、C2+del等の値の付加的な対を「不良余裕フィルタ」及びその関連比較器 (図示せず)として含む。比較点C1、C2、C3と、それに関連した±del 点との間に入るデータは、余裕としてタグ付けされる(例えば、比較値C2とC 3との間に入る状態P2が、C2とC2−deltaとの間又はC3+delt aとC3との間にあることが検出された場合には、それが余裕としてタグ付けさ れ る)。従って、4状態データの各断片は、テーブル3に示すように、3ビットの 結果をもつことになり、最初の2ビットA及びBは、実際のデータに対するもの であり、そして第3ビットQは、その余裕度即ち「質」に対するものである(例 えば、OKの場合は0、そして余裕の場合は1)。 テーブル3 結果 余裕度問題なし 余裕データ A 0 0 1 1 0 0 11 B 0 1 0 1 0 1 01 Q 0 0 0 0 1 1 11 1つの実施形態では、データの質は、付加的な情報、例えば、感知されたパラ メータ(例えばセル電流)がその状態の集団の中心に対して高過ぎるか又は低過 ぎるかの情報を含む(例えば、状態P2の場合、C2−deltaとC2との間 にあることが分かった場合は、高過ぎ、一方、C3とC3+deltaとの間に ある場合は、低過ぎる)。これは、余裕度の方向を条件とするクリーンアップ反 応を許す。例えば、メモリセルの余裕度が、著しく過剰にプログラムされる方向 にシフトされた結果である場合には、動作の進行は、そのデータを全セクターデ ータスクラブ動作の一部分として再消去及びプログラムすることである。一方、 メモリセルの余裕度が、著しく過剰に消去される方向にシフトされるものである 場合には、メモリセルの状態に対する適切な余裕の回復が、必要な余裕即ち「質 」を再度得るようにその1つのメモリセルのみを若干プログラミングすることに より達成される。後者の例は、トラップされたチャンネル電子(セル又はセルの グループへの多数回の書き込みの後に累積し得る)を弛緩する場合であり、これ は、より過剰にプログラムされた状態又はあまり過剰にプログラムされない状態 からセル余裕をドリフトさせる。このような場合に、セルの状態余裕を再度得る ために何らかのプログラミングオペレーションを追加すれば充分であり、プログ ラミングの前のセクターの消去は必要とされない。 1つの実施形態では、読み取りスクラブに関連した修正動作が行なわれるたび にその機能が増加されるべきセクターヘッダーの一部分として各セクター内にカ ウントが記憶される。このカウントが最大許容レベルCMAXに到達すると、呼 び出された修正動作は、余裕/欠陥ビットをマップアウトすることであり、一方 、このCMAX値に到達する前には、このようなマッピングを伴わずにデータが 再書き込みされる。この実施形態は、不快な余裕度が過剰なビット及びセクター マッピングを生じるのを回避する一方、マップアウトされるべき真の不良ビット をフィルタ除去することにより、全セクターがサービスからリタイアする前にセ クターをより長く保持する。あるセクターに対してCMAXカウントに到達しそ して欠陥余裕ビットがマップアウトされると、カウンタはゼロにリセットされ、 そして手順が繰り返される。 多状態書き込み 図8の回路図及びそれに関連した図9のフローチャートを参照して、多状態デ ータの書き込みを以下に説明する。図8を参照すれば、破線内に配置された要素 は、各セクターごとに複製される要素を示す。データ無条件セクター消去に続い て、データは、チャンクごとにそのセクターに書き込まれる。第1のチャンクで 始めて、第1の中間状態、即ち状態P1が、プログラムされた状態に入れられ、 これは、短い低電圧VCGパルス(例えば、2Vの制御ゲートバイアスにおいて 約4μ秒)を用いて開始され、その後、状態P1に適したレベルにセットされた 基準電流に対して照合読み取りが行なわれる。このプログラミングを受け取るた めのターゲットとされるが充分にプログラムされた状態にあるチャンク内のビッ トに対し、内部回路は、これらビットのそれ以上のプログラミングを封鎖し、一 方、まだ充分プログラムされていないターゲットセルは、次のプログラミングパ ルスを受け、これは、第1のパルスと同じ巾であるが、増分的に高いVCG(例 えば、200mV高い)を有し、その後、再び照合が行なわれる。増分的に高い VCGでプログラミングし、その後、照合を行うこの手順は、チャンク内のター ゲットとする全ての状態P1セルが照合されるまで、又は最大のVCGに到達す る(この場合は、欠陥管理が呼び出される)まで続けられる。次いで、次の中間 状態、即ち状態P2が、第1の中間状態P1と同様に書き込まれるが、その状態 に関連した基準電流設定を使用しそしてその状態を最短の時間内に確実にプログ ラミングするに適したVCGレベルで始めて書き込まれる。この手順は、各状態 に対し、チャンクの全ての状態がプログラムされて照合されるまで繰り返され、 そして残りのチャンクに対しチャンクごとに全プロセスが繰り返される。 図10のフローチャートに示す別の実施形態は、速度の増加を与える。この実 施形態では、ビットのチャンク内の全ての状態が単一のVCG階段状進行におい て次のように同時にプログラムされる。チャンクに書き込まれるべきデータは、 読み出し動作を厳密に反映するように、対応するレジスタ(例えば、図8のレジ スタ43)へシフトされ、そしてそれに対応するビットRSラッチ46がセット されて、それに関連するビットラインドライバをイネーブルする。各物理データ 状態P0、P1、P2、P3には、そのレジスタカウント及びそれに対応する電 流レベルが関連される。各プログラミングパルスの後に、読み取り動作と同様に 階段状の基準電流が呼び出され、マスターカウンタが同時に増加される。各レジ スタに関連する比較回路(転送ゲート41及びXORゲート42で形成された) は、レジスタ43に記憶された入力データ(即ちカウント)をマスターカウンタ 44のデータと比較する。一致が生じたときには、照合に対するプログラム封鎖 特徴がイネーブルされる。実際の封鎖は、対応するセルが、その関連基準電流設 定に対して読み取り照合をパスするに充分なほどプログラムされた(即ちその関 連物理状態へとプログラムされた)ときだけ行なわれる。照合が首尾良く終わる と、NANDゲート45がRSラッチ46をリセットし、それに関連したビット ラインドライバ47をディスエイブルすると共に、そのセルに対するその後の全 てのプログラミングが残りのセクター書き込み動作に対してディスエイブルされ る結果となる。照合が不合格となった場合には、セルが次のVCG増加プログラ ミングパルスを受け取り、その後、再び走査電流ソース/マスターカウンタ照合 手順が行なわれる。 状態を完全なアナログ精度で分析するために全階段状電流の使用を必要とした 読み取りとは異なり、書き込み/照合オペレーションは、1組のメモリ状態に特 有の、例えば、予め定められた状態P1、P2、P3に特有の基準電流設定及び それに関連したカウントの使用を必要とするだけである(消去状態であるP0は 、最初から除外され、プログラミングされることが禁止される)。これは、図4 a の読み取り動作に対して例示された128の設定に代わって(128の設定は、 質の決定を行えるようにする)、4状態の場合に3つの設定をもたせることによ り、照合プロセスをスピードアップする助けとなる。それ故、図10の例に示す ように、各照合は、3ステップの階段状オペレーションより成り、第1のステッ プは、物理状態P1に関連した第1の基準電流レベルを設定し(例えば、そのレ ベルまで迅速に増加し)(これは、マスターカウンタをそれに対応するカウント 値に同時に設定する(例えば、その値までカウントする)ことを含む)、読み取 り/感知オペレーションを実行し、そしてレジスタ値がマスターカウンタの値に 一致すると共に、プログラムされた(対応する基準電流設定に対して)として読 み取られるセルをそれ以上プログラミングしないようにロックすることを含む。 3ステップオペレーションのその後の各ステップは、次のデータ電流レベルを設 定し(例えば、そのレベルまで迅速にカウントアップし)、そして第1ステップと 同様に、それに対応して基準電流設定を行い、読み取り/感知オペレーションを 繰り返し、3つの全てのステップを完了させる。 8ビットが完全に一致する必要がなく、充分な数のMSB(最上位ビット又は 最高電流重みビット)が一致するだけでよいことに注意されたい。これは、許さ れた状態及びそれに対応するセル電流ターゲットがA/Dの分解能よりも著しく 少ないときにほぼ適用できる。この場合に、MSBビットが種々の状態の各々を 独特に区別する限り(例えば、4つの状態に対して最低2つのMSBビットがあ りそして16の状態に対して4つのMSBビットがある)、排他的ORに対して それらのMSBビットが必要とされるだけである。これは、排他的ORに関連し たあるエリアを節約するが、各状態に対する電流指定の融通性をある程度制限す る。 このプログラム/3ステップ照合プロセスは、上記のように、チャンク内の全 てのセルが照合されるか、又は最大VCGレベルの到達するまで、各次々のプロ グラムステップでVCGを増加して繰り返される。次いで、この全体的な動作が セクターの残りの全てのチャンクに対して繰り返され、その点で、セクターの多 状態データ書き込みが完了となる。 この新規な解決策の著しい効果は、分解能の改善に必要とされる以外の書き込 み性能(例えば、プログラミングレートを低速化するためのより大きな及びより 小さなVCGステップ、又は低いドレインプログラミング電圧VPD)に実質的 に影響せず且つ付加的な状態の各々を感知/照合するに必要な付加的な時間を伴 わずに、多数の多状態(例えば16)まで拡張できることある。後者のオペレー ションである読み取りオペレーションは、プログラミングより著しく高速となる 傾向があり、それ故、書き込み性能に実質的に影響を及ぼしてはならない。 照合プロセスをスピードアップする別の実施形態が図11に示されている。単 一の調整可能な基準電流ソースに代わって多数の電流ソース(又はマスター電流 ソースの並列なタップ点)が使用される。1つの実施形態では、完全な消去状態 に対し電流点が必要とされないので、状態の数をnとすれば、電流ソースの数は (n−1)である。チャンク内の各セルに対しサイズKのデータ入力レジスタが 使用される。但し、2^K=nである。書き込みの始めにコントローラによりデ ータレジスタに書き込まれる情報は、特定の状態に基づき、照合中にn−1個の 電流レベルの1つを選択するのに使用される。照合の際には、チャンクの全ての セルが、もし首尾良く行えれば、セルごとに、それ以上のプログラミングを封鎖 して、単一の照合オペレーションにおいて対応する特定の基準ターゲットと同時 に比較される。これは、上記実施形態の場合のマルチステップシリアルオペレー ションに対して、1つのパラレルオペレーションで全照合が完了し得るようにし 、照合速度を実質的に改善する。多数の電流ソース、カウント及びそれに関連し た選択回路をチャンクの各ビット内に必要とすることは、コストがかかる。マル チステップ実施形態の場合のように、データ入力レジスタの必要性は、既存の読 み出しレジスタの一部分(例えばMSB部分)によって満足することができる。 図8の実施形態に使用された排他的ORは、ここでは、適当な電流ソースを選択 するための単純なデコード動作に置き換えられる。 二重セル弛緩アラーム 本発明の適応性多状態弁別感知の付加的な特徴は、末端の状態に対する境界、 即ち最も高い状態(例えば、物理状態P0)に対する上限境界及び最も低い状態 に対する下限境界を設定できることである(この最も低い状態がまだカットオフ でないと仮定すれば)。末端の状態(例えば、追跡セルのサブセット内に反映さ れる)がこれらの境界を横切るときには、データが、使用可能なダイナミックレ ンジに対し安全検出範囲から外れたと考えられ、セクターデータをリフレッシュ (再書き込み)するか、或いはセクターをマップアウトして予備セクターに置き 換えることが必要である。しかしながら、これは、セクター当たりに経験する書 き込みオペレーションの数の累積カウント(「ホットカウント」と称する)を維持 する必要性を排除するものではない。というのは、書き込み時において、書き込 まれたときにこのような過剰なシフトが生じるという警報がないからである。こ のような警報は、「ホットカウントセーリング(ceihng)」、即ち許容累積セル消耗 量に対する上限境界を設定し、過剰なトラップ電荷と、弛緩と称するその後のト ラップ解除による関連余裕ロスとのおそれを前もって警報するという機能である 。このような弛緩が臨界値を越えた場合には、それによりセクター内において通 常は低導通レベルから高導通レベルまで生じる全てのセルの共通モードシフト( セクター内の全てのセルの消耗を均一に保つために、ある形態のデータ状態回転 が使用されることに注意されたい)が、最も高い2つの状態(完全消去状態及び そのすぐ下の状態)間の弁別を防止するに充分なほど大きくなり、即ちシステム のダイナミックレンジを越えてドリフトする。このような欠陥を回避するために 、このような高いトラップレベルへ繰り返し至るセクタをリタイアさせねばなら ない。 ホットカウントは、このようなトラップの間接的な指示である。というのは、 経験するサイクル数に加えて、累積トラップが、書き込みオペレーションのデュ ーティサイクル、書き込みと書き込みとの間の時間、動作及び非動作温度露出等 の他のファクタ、即ち経過/詳細を感知するからである。セクターをマップアウ トするための基準としてホットカウントが使用される場合には、欠陥が生じない ことを確保するために最悪の場合の条件を仮定しなければならない。しかしなが ら、実際には、このようなメモリを使用するシステムは、実際の使用状態のもと でこのような最悪の場合の経過を経験することは、たとえあっても稀である。そ れ故、累積ホットカウントに基づいてセクターをマップアウトすることは、実際 の用途にとって著しく尚早となることがしばしばある。 別の実施形態は、各セクター内に含まれた「二重セル」トラップゲージを使用 することであり、その機能は、弛緩の役割を果たすチャンネルトラップシフトの 量を直接検出することである。これは、セクター内のセルによって実際に見られ る消耗量の直接的な尺度を与え、これは、累積書き込みサイクル即ちホットカウ ントと、セクター露出の経過との両方を含む。このセルのシフトが臨界値に到達 したときだけ、セクターがリタイアし、この判断を行うのにホットカウント情報 は必要とされない。これは、実際のシステム使用において、ホットカウントを経 て安全に与えられるものよりも相当に高い耐久性能を許す。というのは、累積的 消耗の一般的な指示しか与えることができず(消耗を直接計測できず、露出のみ を計測するので)、それ故、著しい保護帯域を設けねばならない(即ち最悪の場 合の消耗を受け入れるために最小数の書き込みを許す)ホットカウントとは異な り、二重セルの直接的な消耗尺度は、このような耐久性保護帯域の量を最小にで きるからである。 本発明の二重セルの1つの実施形態が図12に示されており、これは、単一の フローティングゲート601及び2つの個別の感知チャンネルを有するセル60 0で構成され、一方のチャンネル602は、読み取り/書き込みチャンネル(R /W)であり、そして他方のチャンネル603は、読み取り専用(RO)チャン ネルである。セル600は、例えば、2つの隣接するメモリセルを取り上げそし てそれらのフローティングゲートを一緒に結合することにより、実際のメモリセ ルにマッチングするように設計される。セル600のプログラミングは、ビット ラインBL2をプログラミング電圧(例えば約7V)に上昇し、そしてビットラ インBL1を接地する一方、ビットラインBL0をフローティング(又は接地) させることにより、読み取り/書き込みチャンネルを経て実行される。このよう に、ホット電子プログラミングに関連した全てのストレス及びトラップは、読み 取り/書き込みチャンネル602に拘束される。読み取り/書き込みチャンネル 602のA/D読み取りの後に、読み取り専用チャンネル603のA/D読み取 りを使用しそしてその差を見出すと(例えば、減算により)、チャンネルトラップ の尺度(デルタ)が与えられる。セクターの寿命の早期に、低い繰り返し露出の 状態では、このデルタがゼロに近いが、次々に繰り返すと、差が成長し、読み取 り専用チャンネル603は、読み取り/書き込みチャンネル602に比して高 いA/Dカウント(見掛け上、より大きく消去された)を与える。 有効な比較のために設定されそして使用される状態は、1つの実施形態では、 セルの最も広い範囲及び平均的な消耗の両方を与える中央の中間状態である。デ ルタが臨界値(例えば、図5a及び5bの例では20カウント、これは4及び8 状態エンコードに対し20μアンペア及び10μアンペアのセル電流シフトに各 々対応する)を越えると、セクターは、消耗/弛緩或いは他の潜在的な読み取り 及び信頼性の問題に対してその限界にあり、そしてリタイアされる。 要約すれば、高密度の多状態をサポートするための以上に述べた重要なポイン トは、次の通りである。 1.エンコードされた状態のアナログ尺度を与えるに充分な分解能での多状態 データの並列、全チャンク、A/D変換。 2.比較感知のための最適なダイナミックレンジを与えることが主たる機能で あるマスター基準セル(1つ又は複数)。 3.セクター内消耗レベリング及び約2倍の高い耐久性の両方を与える論理− 物理データスクランブル動作。 4.各状態ごとに1つづつあり、各セクターに含まれ、種々の状態の最適な比 較点を与えるとともに、共通モードシフト(例えば、弛緩)に適用できるように するセクターない追跡セルグループ。又、これは、データ回転の変換も与える。 5.データ処理「エンジン」を組み込んだコントロータ。これは、 a)各追跡セルグループの中間点をオンザフライで見出し、 b)データ状態弁別及び余裕度フィルタ点を確立し、 c)セクターデータがそれに通されて、各物理ビットに対して、エンコードさ れたメモリ状態及びその質(余裕度)の両方を与え、 d)任意であるが、質の情報に基づいて余裕ビットデータをクリーンアップ( スクラブ)するために、どんな処置をとらねばならないかを判断する(例えば、全 セクター消去と、再書き込み・対・選択的書き込みノミを行う)。 6.任意であるが、読み取りスクラブに遭遇するたびに増加される小さなカウ ンタを各セクターに含ませる。カウントが許容最大値に到達すると、余裕ビット (1つ又は複数)が、再書き込みされるのではなく、マップアウトされ、そして カウンタが0にリセットされる。これは、真の「不良」ビットに対するフィルタを 形成する。 7.読み取りに用いたのと同じ回路であるが逆に動作する回路を使用して、多 状態データをセクターへ書き戻すように同じ手段が逆に適用され、自己適合デー タエンコードを与える。更に、照合を実行する2つの別の実施形態が教示される 。 7a.階段状の基準電流を使用して、状態の範囲を順次に走査し、そのターゲ ットデータに対応する電流ステップが感知回路に送られたときに各セルを条件付 で終了する。 7b.N個の考えられる状態のN−1個の基準電流の全セットを使用して、全 てのセルを同時に照合しそして条件付で終了する。 8.各セクターに二重セルオプションを含ませて、繰り返し駆動トラップ及び チャンネル消耗に関連したΔVtシフトレベルを与え、トラップ解除シフトが読 み取りダイナミックレンジを越えるか又は他の潜在的な読み取りエラーが生じる 前にセクターリタイアをトリガーする。これは、ホットカウントをベースとする セクターリタイアに置き換わるもので、有効な耐久性を著しく増大する。 列指向のステアリングを使用することによる多状態速度の向上 多状態の重要な目標は、書き込み(データプログラミング)及び読み取りの両 方に関して2状態デバイスに競合し得る速度を達成することである。2進エンコ ードデータに比して、多状態の場合に同等の高い性能を維持することが困難な理 由は、多状態エンコードに関連して著しく緊密な余裕が要求される(全メモリウ インドウ見積に限度があるとすれば)と共に、セル当たりの情報内容が、多状態 レベルの直線的に増加する数に対し対数的にしか増加しない(即ち、2nレベル は、nビットの情報しか与えない)ことに起因する。従って、余裕と共に、性能 は、多状態のレベル増加に関連した利益の減少を犠牲とする。 図10を参照して上述した実施形態では、各状態を次々に且つ入念に通過する ことにより書き込み性能が著しく影響され、その進行中には、状態を入念に設定 するために順次の多パルス/チェック方法を必要とするが、多数の実施形態にお いて、上記のように、照合速度を増加することができる。例えば、4状態を実施 するためには、物理状態P0を消去設定し、7パルス/チェックステップまでの 第1の階段状VCGが物理状態P1を設定し、それに続いて6パルス/チェック ステップまでの第2グループが物理状態P2を設定し、最後のプログラミングス テップで終了して、物理状態P3を設定し、そして全部で14のパルスを与えて 、2進書き込みの場合の1パルス/ビットに代わって7パルス/ビットで2ビッ トの情報を書き込む。これを8レベルの多状態に投影すると、パルスの全数が3 0以上となり、10パルス/ビット以上へと更に低速化する。 これまでのところ、読み取り性能は、2つの理由で影響を受けいていない。そ の第1は、n−1個の感知増幅器(例えば、4状態の場合に3つの感知増幅器) への多脚セル電流ミラーを使用する同時多状態感知の特徴である。第2は、待ち 時間よりも、実際のセル読み取り時間が流れ読み取りの実施により隠され、電流 データが感知されている間に既に読み取られたデータの大きなチャンク(例えば 、256ビット)を同時にシフトアウトするような大量データ記憶に適した流れ 読み取り特徴である。 より積極的に拡張される多状態実施の場合には、上記両方の特徴が不充分なも のとなる。第1の特徴については、静的電流感知の使用が次第に魅力的なもので なくなる。というのは、感知余裕が減少する間に物理的な拡張及びメモリウイン ドウ増加要求に伴いIR降下が増加し、そして高い値の多電流レベルに関連して 消費電力が高くなるためである。多状態を感知する更に魅力的な方法は、電圧余 裕をとることであり、これは、最小のセル電流しか必要としない(例えば、動的 な形式の感知を使用し)が、状態にわたる制御ゲート電圧余裕レベルの範囲を通 してステップすることを指示し(n個の状態の場合、これは、最低n−1ステッ プを意味し)、その一例が上記のアナログ動的感知実施形態で与えられる。しか しながら、これは、流れ読み取り特徴に影響を及ぼす。というのは、ここでは、 種々の余裕レベルを通して実際にステップした後に感知を行うことで消費される 時間が著しく増加するからである。これを大量記憶における高い静止データレー トに対する次々の需要と組合せたときには、流れ読み取りを用いて性能向上を達 成することが益々困難になる。更に、書き込み性能は、内部読み取り速度の制約 により著しく影響を受けることになる。というのは、読み取りは、個々の状態を 確実に設定し(プログラム/照合ループを経て)そして後書き込みセクターデー タチェックを行うときの一体的要素だからである。 従って、上記構成に基づき拡張のために多状態を積極的に使用する場合には、 性能が低下し続ける。上記のアナログ感知実施形態は、高度な並列性をサポート することにより性能を改善する。大きな並列性は、セル状態の数の増加に関連し た性能の低下を遅らせる1つの方法である。しかしながら、実質的な接地アレー (同時にアドレスできるセル間に分離を課する)を、512バイトセクターサイ ズ粒度の制約に加えて使用すると、どれほど離れて並列性を維持できるかの限界 が課せられる。 以下に述べる本発明の実施形態は、プログラミング及び読み取りの両方に必要 とされる個々のステップの数を実質的に削減する一方、本発明により教示される アナログ/電圧余裕感知に関連した所望の特徴を保持することにより、上記性能 制約に対する解決策を提供する。 種々の多状態レベル間を区別できる主たる制御エレメントが制御ゲート(又は 同等の用語で「ステアリングゲート」)であるとすると、読み取り及び書き込みの 両方に使用される個々のステップの数を減少するための鍵は、セルごとに、各セ ルの特定のデータ状態要求に関連した制御ゲート電圧値をセルの全グループ(チ ャンク)に同時に適用することである。 行指向のセクターにおいて、制御ゲートは、これが各セルを個々に調整できる ようにするために、行ライン方向に延びることができない。というのは、それが 、同時に動作されるべき全てのセルに共通になるからである。むしろ、列(ビッ トライン)方向に延びることが必要であり、これは、セルごとに個々に調整でき るようにすると共に、関連セルビットラインの感知結果に個々に応答できるよう にする。このようなセルの1つの実施形態の基本的な要素が図13に示されてい る。制御ゲート71は、ビットライン72−1及び72−2に平行に延びるので 、制御ゲート71は、選択ライン(これは、EPROM及びFLASHメモリの 場合に有効である)として働くことができない。というのは、ビットラインに沿 った独特のセル選択が、選択ラインがビットラインに垂直に延びることを指示す るからである。これは、選択ラインが異なるレイヤに延びるよう強制し、このレ イヤは、1つの実施形態では、poly3ラインであり、制御(ステアリング) ゲー トは、poly2ラインであり、そしてフローティングゲートは、poly1か ら形成される。本発明のこの観点に関連して使用するのに適したセル構造の特定 の実施形態について以下に説明する。 セル読み取りオペレーション 図13のようなセルは、図14の実施形態及び図15のフローチャートに示す ように、A−D型の2進サーチにおいて制御ゲートを使用して読み取られる。各 感知回路は、感知増幅器(SA)比較器81より成り、その一方の入力リードは 、ビットライン82−2を経てメモリセル99から入力信号を受け取り、そして 別の入力リードは、基準信号Irefを発生するグローバル基準回路(図示せず) から入力信号を受け取る。比較器81の出力は、対応するnビットの「制御ゲー トレジスタエレメント(CGRE)」83を更新するのに使用され、そのビット数 は、必要な感知分解能により決定される(例えば、64分の1の分解能が所望さ れる場合には、6ビットレジスタが使用される)。CGRE83に記憶された値 は、対応する「次のステップのプロセッサ(NSP)」84を経て次の制御ゲート 読み取りVCG電圧を次々の近似形態で供給するのに使用される。 図15のフローチャートに示された読み取り動作の流れを以下に説明する。C GRE83は、6ビットの2進レジスタエレメントであり、制御ゲート(NSP 84を通る)における対応するダイナミックレンジは、125mVステップで0 Vないし7.875Vである。読み取りは、CGREにロードされた2進値10 0000(Nold)でスタートし、4Vの中間点VCGを与える。感知増幅器8 1からの出力は、次の関係式に基づき、条件要素89を経て、制御ゲートレジス タ83へフィードバックされる。 Nnew=Nold+Output*DN 但し、(フローチャートの便宜上)Outputは、次のように定義される。 Icell≧Irefの場合は、−1そして Icell<Irefの場合は、+1である。 そしてDN=010000であり、次のCGRE(又はVCG)を与える。 Icell≧Irefの場合は、010000(又は2V)そして Icell<Irefの場合は、110000(又は6V)。 このように、セル電流がIrefより高い場合には、次のVCGが低くなり、セ ル電流を減少する。上記次のVCGと共に、次のNnew=Noldであり、そして次 のDN=DN/2は、「次のステップのプロセッサ」84により発生される。こ の2進サーチは、更に5回(全部で6回)続けられ、最後のCGRE83値は、 フローティングゲートメモリ状態のデジタル等価物となる。メモリセルが8レベ ル(3つの論理ビット/セル)の多状態エンコードを使用する場合には、これは 、状態−状態弁別、保護帯域、余裕、等々に対し状態と状態との間に3ビットの 分解能を与える。次いで、データは、上記アナログ感知実施形態で述べたのと同 様に処理することができ、ここでの相違は、迅速な2進サーチ方法(一度に1ス テップの順次サーチではなく)であり、これは、64分の1の分解能に対し10 倍の性能改善をもたらす(全部で約64個のステップに代わって6個のステップ) 。 1つの実施形態において、感知は、ビットの全チャンクに拡張され(例えば、 チャンク当たり128ビット)、各感知回路は、図16の実施形態に示すように 、それ自身の対応するSA、CGRE及びNSP要素を含み、各感知回路の動作 は、その対応するメモリセルを条件とする。このように、2進サーチ解決策の長 所は、失われる読み取り性能の大部分を回復するように使用できることである。 例えば、上記例を2状態読み取りと比較すると、2進サーチの各個々のステップ が2状態感知に匹敵する時間を要すると仮定すれば、多状態読み取りで費やされ る全時間は、6つの2進読み取りに等しい。8状態エンコードの場合には、3ビ ットの情報が抽出され、論理ビット当たりの読み取り時間は、2進状態読み取り の2倍だけとなる。余裕情報も同時に使用できるとすれば(上記のように)、これ は、流れ読み取りの実施に合致する優れた読み取り性能レベルを与える。 セルプログラミングオペレーション−プログラミング段階特有 ある実施形態では、読み取りに使用される同じ要素が多状態プログラミングを 加速するのにも適用され、この場合も、図17の例に示すように、ターゲットと するメモリ状態にセルごとに最適化される。ここでは、CGREX83は、特定 の状態に対する最適な安全出発値(これは、セクター内に記憶された1組の更新 可能なパラメータから得られる)で初期化される。プログラミングの大きさ(例 えば、プログラミングVt)がVCGの増加と共に増加するようなメモリセルで は、この最適な安全出発点は、メモリセルがそのターゲット状態をオーバーシュ ートするように(即ちその許容状態範囲をオーバーシュートするように)甚だし くプログラムすることのない許容VCGの最大値である。この最適値より低い値 でスタートすることは、安全ではあるが、より多くのプログラミング時間を要す る。というのは、早期のプログラミングパルスは、ターゲット状態に向かって充 分な大きさのプログラミングを与えず、従って、書き込み速度を減少する。1つ の実施形態では、読み取りの場合とは異なるVCGとCGREとの関係を使用し て、プログラミングのダイナミックレンジが満足される(例えば、図17の実施 形態に示すように一定電圧Kprogを追加することにより)。各プログラミン グパルスに続いて、照合動作が実行される。上記のセルのクラスにおいて、プロ グラミング余裕の目標が達成されない場合には、CGRE値が、次のプログラミ ングステップに対してNSP要素191を経てVCGの対応する増分的電圧増加 で1だけ増加され、一方、余裕が達成された場合には、その関連ビットラインへ のプログラミング電圧のそれ以上の印加をディスエイブルすると共にVCGの印 加も任意に排除することにより、そのビットに対するそれ以上のプログラミング が封鎖される。 1つの実施形態では、このオペレーションは、チャンク内の全てのビットに対 して同時に実行され、各ビットは、プログラムされるべき対応データを条件とし てその最適なVCGでスタートする。このように、プログラミングは、完全な逐 次の8レベル多状態プログラミング実施形態の場合に最初に指示された30以上 のプログラミングステップに代わって、多状態のレベルとは比較的独立して(例 えば、この実施形態では、4ないし8又は16レベルの多状態セルを同等の数の パルスでプログラムできる)、約6ステップで完了される。これは、5倍の書き 込み速度の改善を表わすだけでなく、3ビットがエンコードされるとすれば、こ れは、2進エンコードの2倍に過ぎないビット当たり2パスという有効数のプロ グラミング/照合パスを与える。全書き込みオペレーションの性能は、プログラ ム/照合より高いそしてそれを越える付加的な時間オーバーヘッドを含むので、 プログラム速度のこの小さな差は、実際には、2進エンコード書き込みに比して 全書き込み速度の僅かな減少に換算されるに過ぎない。セルプログラミングオペレーション−照合段階特有 又、セルの照合は、図17を参照して上述した同じCGRE/NSPエンジン を使用し、ターゲット照合電圧(即ちプログラムされるべきデータに対応する値) をその関連CGREにロードすることにより、状態特有に行うことができる。こ の実施形態では、読み取り2進サーチの流れの間にVCGが変化する読み取りオ ペレーションとは異なり、照合オペレーション中に、状態特有のVCG照合電圧 が、全プログラム/照合流の間に一定に保持される(即ち、照合のためのNSP は不変のままである)。このように、チャンク内の全てのセルは、各セルが照合 オペレーションにパスするときに、セルごとに、それ以上のプログラミングが封 鎖されて、同時に照合される。 このデータ条件の高性能照合実施形態は、上述した高性能のデータ条件のプロ グラミング実施形態を補足するもので、多レベル多状態メモリを設定するための 高度に並列な高速の方法を提供する。1つの実施形態において、この能力を良好 に活用するために、図18に示すように、2つの異なるCGRE/NSP回路が 使用される。CGRE/NSP回路91は、プログラミングをサポートするのに 使用され、そしてCGRE/NSP回路92は、照合に使用され、プログラミン グオペレーションと照合オペレーションとの間を切り換えるときにこれら2つの 回路を制御ゲートにおいて高速度でマルチプレクスすることができる。 個々のセルごとのVCG電源をこの実施形態の場合のように使用すると、高レ ベルの多状態を高速度でサポートする優れた解決策を提供するが、これら全ての VCG電圧を迅速に与えることに関して負担をかけることになる。1つの実施形 態では、全ての考えられる電圧ステップが発生され、電圧供給ラインのバスにお いて同時に使用することができる。この実施形態では、各CGRE値を使用して 、これら供給ラインのどれをその対応する制御ゲートに接続すべきかデコードす る。この実施形態は、管理すべきVGCレベルがあまり多くないときに魅力的な ものとなる。主として、8つの状態を弁別するのに7つの比較点しか必要とされ ない(そして16個の状態を弁別するのに15個の比較点しか必要とされない)の で、これはほとんどの場合に適当である。しかしながら、これは、感知点に動的 に同調しそして余裕を決定するための高速度の融通性を制限する。このような完 全な 分析を達成する必要性が非常に稀な場合には(例えば、ECCがメモリ状態の欠 陥又は余裕度の問題を指示するときには)、このような能力を稀にしか要求しな い(例えば、稀なECCフラグに基づき)別の混成実施形態が形成される。これ らの稀な発生時に、これらの比較点は、より時間浪費な手順を使用するが、余裕 を完全に分析するように増分的にシフトされる。というのは、ここでは、同時に 使用できる限定された1組の供給レベル(例えば、7ないし15のレベル)に含 まれない電圧値を供給する必要があるからである。これは、同時に使用できない 新たな電圧レベルを一時的に発生するよう指示し、これは、時間を浪費すると共 に、この特殊な電圧レベルを供給するために、同時並列のチャンクオペレーショ ンを、個々のビット又は小さなビットグループに基づくオペレーションへ潜在的 に分断する。 多数のVCG電圧の可能性及び/又は全てのVCG電圧の可能性が要求される 場合には(即ち、全ダイナミックレンジの融通性に対する完全リアルタイム余裕 付け能力)、図17の実施形態と同様の1つの別の実施形態が、各感知回路ごと にサンプル・ホールド回路を含むように、CGREX83及びNSP191要素 を拡張し、その補数信号は、共通の単一の階段状電圧ソースにより供給される。 各NSPにより供給される電圧は、それに対応する記憶されたVGRE値を条件 とする。このような実施形態では、ドリフトのおそれのあるサンプル・ホールド 回路の動的特性と、全動的電圧範囲を走査/サンプリングするための時間要件が 、プログラミング電圧Vpgのエラーを発生しないように注意を払わねばならな い。この実施形態の効果は、エリア及び電力のペナルティをあまり被らないこと である。 進行中の動作を条件とし、関連感知増幅器の結果及び及び既に記憶された値( 並びに読み取りの場合は進行中のステップ)に基づいて、CGREデータの各々 を同時に処理することが望ましい。これは、次々の近似に対する操作(基本的に 、感知された結果及び電流反復ステップを条件としてアップ/ダウンカウント機 能を与える)を含む読み取りの場合に最も複雑となる。プログラミング及び照合 については、その要求は簡単であり、各CGREをそれに対応するデータ値に初 期化することに関して主として複雑さが生じ、いったん初期化されると、照合に つ いてはそれ以上何も必要とされず、プログラミングの場合に各次々のプログラミ ング/照合ステップごとに1だけ増加することを必要とするだけである。これら の複雑さにも関わらず、必要な回路エリア及び回路の複雑さは、多数の感知増幅 器を使用する解決策と著しく相違してはならない。公知の解決策は、多数の感知 増幅器を使用する(例えば、8レベルの多状態の場合に7個までの感知増幅器を 必要とする)。この実施形態によれば、多数の感知回路及びそれに関連した電流 ミラー及び基準脚は、ここでは、1つの感知増幅回路、関連デコーダ機能を伴う 若干のレジスタ、サンプル・ホールド回路、並びに若干ののりづけロジックに置 き換えられる。 他の主たる複雑な要素は、チャンク巾のCGREレジスタに記憶されたデータ の主本体をシフトアウトして処理するものである。使用される1つの実施形態は 、この点については、上記のアナログ感知実施形態で述べたものと同様である。 セルの実施形態 最初に、メモリセルは、とりわけ、物理的に小さなサイズ及び拡張性に関して 競合し得るものでなければならない。しかしながら、それ以外は、図13に示す ように行選択可能であるが列スレアリング可能である要素について上述したセル の要件に基づき、選択が制限される。 更に、このようなセル/アレーを最小面積で実現するためには、仮想接地構造 を組み込まねばならず、これは適正なものではない。というのは、従来の1/2 接点/セルアレーの使用に関連して約50%の面積が付加されるからである。同 じ方向に延びるビットライン及びステアリングラインの共同の要求は、ビットラ インが物理的にステアリングラインの上に延びしかも周期的にその下に拡散接点 まで下降する状態では、それらが積み重なるのではなく横に並んで延びることを 指示する。これは、当然、アクティブなトランジスタがビットラインから横に変 位された仮想接地アレーにおいて生じるが、従来の接触セルアレーでは、アクテ ィブなトランジスタは、ビットライン接点自体から変位される間に、ビットライ ン導体の真下に横たわる。この理由で、このようなアレーの選択/ステアリング 機能は一般に行指向であり、矛盾が排除される。 上記の全ての要求に合致する1つのメモリセルは、列指向のpoly2ステア リングゲート及び行指向のpoly3選択ゲートを有する仮想接地分割ゲートセ ルである。説明上、これは、セル実施形態1と称する。このようなセルは、po ly3選択トランジスタが強力にターンオンされるか又は絞り下げられるかに基 づいて各々従来のドレイン側プログラミング又はソース側プログラミングのいず れかを用いてプログラムすることができる。消去も行指向であり、poly3を 消去ラインとして使用し、従って、行指向のセクターを達成する。そのソース側 プログラミングバージョンがサンディスク・コーポレーションに譲渡された米国 特許第5,313,421号に開示されている。説明上、このバージョンをセル 実施形態1aと称する。 別の適当なセルは、上記セル実施形態1aの二重フローティングゲート形態で あり、これは、サンディスク・コーポレーションに譲渡された1996年2月2 8日出願の米国特許出願第08/607,951号に開示されたようなもので、 真のクロスポイントセル(4*λ2/物理ビット)を形成する。説明上、このバ ージョンは、セル実施形態2と称する。しかしながら、3ゲート構造体の直列特 性(2つのフローティングゲートチャンネルが直列である)により、ソース側プ ログラミングを使用するように制限され、いかに多くの多状態レベルを実現でき るかが更に制限される。しかし、その本来の小さいセルサイズ、自己整列特徴、 ひいては、拡張性により、簡単でしかも若干大きなセル実施形態1aと同等に魅 力的である。 列ピッチ/セグメント化オプション 互いに平行に延びるビットライン及びステアリングライン(制御ゲート)の両 方を各セル内に設ける要求のために、バス/ピッチ要求の問題を引き起こす。物 理的に最小のセルを得るために、これは、セルの横方向範囲(水平の巾)を最小 特徴ピッチ(即ち約2*λ)に接近させ、上記2つのラインをそのピッチに強制 的に適合させることを指示する。セルレベルでは、これは問題でない。というの は、ステアリングライン及びビットラインは、横に並んで延びる傾向にあり、そ して更に重要なことに、それらは異なるレイヤ(各々poly3及びBN+)に あって、接近/オーバーレイの制約を排除するからである。しかしながら、ロー カルからグローバルな相互接続レベルへ進むことが挑戦である。 超高密度のフラッシュメモリの場合、長いビットラインの列をメモリセルアレ ーにインターフェイスする1つの方法は、列セグメント化によるものである。こ の解決策は、連続的に(垂直に)延びるメタルラインをグローバルなビットライ ンとして使用し、これらラインは、セグメント選択スイッチングトランジスタを 経てメモリサブアレー即ち「セグメント」(例えば16セクター)に作用するロー カル拡散部へと周期的に下降する。このように、アレーセグメントは互いに分離 され、漏れ電流及びキャパシタンスの大きな累積的寄生を排除すると共に、列に 関連した欠陥及び反復性障害の閉じ込めを与える。又、これは、使用するセグメ ント選択解決策に基づき、グローバルビットラインのピッチ要求をセル当たり1 つから2セル当たり1つへ緩和する機会を与える(例えば、サンディスク・コー ポレーションに譲渡された米国特許第5,315,541号)。 ステアリングラインに対し、セルの列当たり1つのステアリングラインを必要 とするセル実施形態1を使用したセル/アレーについて最初に説明する。1つの 可能性は、これを連続的なグローバルラインとし、即ち全メモリアレーを通して 連続的(垂直)に延びるようにすることである。メモリセルのサブアレー部分を 経て延びる場合には、何の障害も生じることなく、既存のピッチ内に容易に適合 する。しかしながら、これらのサブアレーに隣接するセグメント選択部分に交差 するよう試みるときには、障害を引き起こすことがある。この解決策に伴う他の 問題は、関連RC時定数が大きく(長い抵抗性ラインを荷電及び放電する速度に 影響する)そして反復障害に対するアレーの障害が増加することである。 これらの理由で、ステアリング機能についてもセグメント化が望ましい。従っ て、1セルのピッチでせいぜい1つのメタルラインが延び得るとすれば、グロー バルメタルビットライン及びグローバルステアリングラインの両方をセルの対間 に共用することができる。グローバルメタルビットラインの場合のこのような共 用が上記米国特許第5,315,541号に開示されている。これは、セグメン ト対当たり4本のデコードラインにより転送ネットワークが駆動され、従って、 各メタルビットラインを2セルのピッチで延ばすことのできる食い違いインター レース型セグメント化構造体を使用する。 ステアリングラインについても同様の共用を得ることができ、その一例が図1 9に示されている(これは、多数の考えられる構成の1つに過ぎない)。この実施 形態では、転送マトリクスを駆動する4つのステアリング転送ラインがあり、セ グメント内の2つのセル列ごとに1つのグローバルなステアリングラインがある 。セルが選択されたときには、ステアリング転送ネットワークは、対応するロー カルステアリングラインを独特のグローバルステアリングラインに接続する(例 えばSDTI4を経て接続されたSk)。各々の選択されたグローバルステアリ ングラインは、次いで、チャンク選択(即ち列又はy選択)回路によりCGRE 回路に接続される。 現在アクティブでないステアリングラインは、フローティング状態にあるか又 は接地に保持される。接地される場合には、これは、現在動作されていないセル のサブセットに関連したローカルステアリングラインのサブセットを他のSDT ラインの適当なイネーブル動作により接地に保持する可能性を生じさせる。例え ば、図19を参照すれば、Skを選択されたグローバルステアリングラインとし 、そしてSDTI4を選択された転送ラインとする。選択された行の非選択セル にステアリング電位を印加することが望ましくない場合には、SDTI3を接地 に保持しなければならない。しかしながら、SDTI1及びSDTI2の両方を ターンオンし、選択されたセルの各側の隣接セルがステアリングラインを接地す ることができるようにする。 選択された行の非選択セルが高いステアリング電位を受けることが望ましくな い理由は、主としてプログラミング中に、チャンネルが導通するときに現れる。 しかしながら、ここでは、非選択セルにおけるバイアス状態がソース及びドレイ ンに対して交換され、そして低いソース−ドレイン電位を見ることになり、寄生 的プログラミングが排除される。これが与えられると、別の実施形態において、 セグメント当たり4つのSDT選択ラインが単一のSDTラインに置き換えられ 、デコードを簡単化すると共に、配置面積を潜在的に減少する(セルピッチが狭 いために、面積の減少は、主として、選択トランジスタ及び垂直相互接続に関連 した指示により決定されるが)。 フローティングローカルステアリングラインをもつ(例えば全ての非選択セグ メントにおいて)場合には、問題が生じる。これらラインのいずれかが高い電位 にドリフトするか又はそのような電位に保たれて、障害を促進することは望まし くない。しかしながら、選択時に完全にカットオフ状態に保たれる適切に設計さ れた転送トランジスタでは、拡散部漏洩がフローティングステアリングプレート を接地(即ち基板電位)に維持する。更に、アクティブに駆動された全てのステ アリングラインが完全に放電されてから、それらが分離されるよう確保すること により、全てのステアリングラインは、実際に選択/駆動されるとき以外、常に 接地に近いものとなるよう確保される。 障害に加えて、非選択セルの制御ゲートの高い電圧は、過剰な隣接セル漏洩を 導入して、適切な多状態設定及び感知に影響を及ぼすおそれを招く。しかしなが ら、これは、上記のセル実施形態1の場合に、電圧感知が使用されるときには、 それらのpoly3選択機能が感知に関連したステアリング機能とは独立したも のとなることにより、問題にならない。これは、選択トランジスタを絞ることが できるようにし(即ち、≦5μアンペアのような最小のターンオンレベルにバイ アスできるようにし)、制御ゲートがフローティングゲートトランジスタのター ンオン(又は余裕)電圧に到達するか又はそれを越えるときに状態決定条件が生 じる。この選択トランジスタ制限電流戦略は、フローティングゲートチャンネル をいかに強く導通できるかとは独立して、寄生的隣接セル漏洩問題が完全に排除 されるように確保する。 この同じ戦略を、図20に示すように、二重フローティングゲートセル実施形 態2に適用することができる。この実施形態では、2つのフローティングゲート 素子より成りそして4*λのピッチをとる単位メモリセルに、単一ビットライン 拡散部が関連される(他の隣接ビットライン拡散部は隣接セルに関連される)。そ れ故、グローバルなメタルビットラインは、当然、4*λ当たり1つのラインに 減少される。又、これは、セグメントトランジスタマトリクスのレイアウトを容 易にし(例えば、1対1のセグメントトランジスタを経てローカルBN+ネット ワークへ至る非インターレース、完全拘束型セグメント化)、そしてアレーセグ メント当たり1つのセグメント選択ラインしか必要としない。ステアリング転送 マトリクスは、セグメント当たり2本の転送ラインで駆動され、4*λ当たり1 ラインのピッチでレイアウトされたグローバル(メタル)ステアリングライン に接続される。 転送ラインがイネーブルされたときには、各交互のセルごとに、セル内の両方 の制御ゲートに対し、ステアリング選択トランジスタをターンオンする。選択さ れた各セル内のこれら2つの制御ゲートの各々は、独特のグローバルステアリン グラインにより駆動され、このラインは、上記セル実施形態1の場合と同様に、 セグメント選択及びCGRE回路により順次駆動される。又、セル実施形態1の 場合と同様に、フローティングローカルステアリングラインの問題が、同様の分 解能で存在する。 いずれのセル実施形態でも、完全に速度を利用するためには、チャンクサイズ をできるだけ大きくし、並列性を最大にすることが重要である。セル実施形態1 及び1aの両方の解決策に固有の低いセル読み取り及びプログラミング電流のた めに、ピーク電力が問題となることはなく、又、隣接セルの漏れも著しいものに はならない。従って、同時に動作することのできるチャンク当たりのフローティ ングゲートの数は、セグメントデコードの制約のみにより制限される。上記のセ グメント化解決策では、これは、両方のセル形態において4番目ごとのフローテ ィングゲートを同時にアドレスして動作できるようにする。 セル実施形態1の場合には、4番目ごとの拡散部がドレイン電位とされ、ドレ インと次に駆動される接地との間には逆D/Sバイアス状態のもとに3つのセル が存在する。第1組のセルが動作を完了すると、隣接する組へと進む。4番目の 繰り返しの後に、全行が完了する。 1つおきのセルが選択される二重フローティングゲート実施形態2の場合には 、バイアス解決策が異なる。2つの隣接する拡散部がドレイン電位へ駆動された 後に、2つの隣接する拡散部が接地へと駆動され、このパターンが何回も繰り返 される。このように、グローバルなD/Sバイアスが鏡像関係で1つおきの選択 されたセルへと印加され、奇数の選択されたセルのフローティングゲートが偶数 の選択されたセルと対向する。適当なバイアスがグローバルステアリングライン に付与されて、ターゲットとするフローティングゲートの動作を満足する。それ が行なわれると、両グローバルビット/接地ライン並びにターゲット/非ターゲ ットのフローティングゲートステアリングラインに対するバイアス条件が、選択 さ れたセルの他のフローティングゲートに作用するように対応的に交換される。そ れが終了すると、交互の組のセルに対して同様の動作が繰り返され、全行のプロ グラミングを4つのパスで完了する。 この解決策の電力の考え方を与えるために、8状態(セル当たり3ビット)で エンコードされる1500のフローティングゲート素子の物理的な行において、 一度に375の物理的ビット又は1125の論理的ビットが動作される。プログ ラミングを完了するのに9個のパルスが必要であると仮定すれば、これは、プロ グラミングパルス当たり125の論理ビット即ち約16バイトというプログラミ ングレートと、読み取りに対して得ることのできる同様の性能利得とを与える。 既存の2状態ベースのフラッシュ製品と比較すれば、これは、プログラミングパ ルス当たり約32バイトをプログラムし、多状態解決策は潜在的に書き込み速度 において2の係数内に入る。 明細書のこの部分で上述したように、2つのソース側注入セルの実施形態(標 準及び二重フローティングゲート実施形態)で実現可能なセルごとの列指向のス テアリング解決策は、高レベル多状態の性能を著しく増加し、書き込み及び読み 取りの両方の速度を改善する。これは、各セルの特定の状態に対して必要とされ るカスタムステアリング条件を並列に適用することによって達成される。これは 、完全な逐次サーチオペレーションを実行する必要なく、書き込みに必要とされ る個々のプログラミングステップの数を著しく減少し、そして読み取りに対し強 力な2進サーチ方法を許す。ここでは、低電流ソース側注入機構を経て可能にさ れる増加されたチャンクサイズにより性能改善が更に達成され、これは、4番目 ごとのフローティングゲート素子を動作することができ、これにより、チャンク サイズが増加する。アレー及びセグメント化構造の特定例について説明したが、 同様の能力を与える種々様々な別のオプションも考えられる。 上記概念を、セル内に最大密度の多状態即ち「論理的スケール」をサポートす る上記のA−D型の感知解決策を組合せることにより、ギガビット密度世代の製 品に適した低コストの性能的に競合し得る大量記憶メモリを達成する強力な解決 策が提供される。例えば、2状態オペレーションの約50%の有効なプログラミ ング及び読み取りレートを達成することにより、多状態性能と2状態性能との間 のギャップを実質的に橋絡し、従って、残りのオーバーヘッド(即ち、チャンク の読み取り又はプログラミング/照合ステップに直接関係ない部分)が含まれた ときに、2状態との性能の相違が全ての実際的な目的に対して問題のないものと なる。これを、8ないし16の多レベル(3ないし4ビット)/セル能力と組合 せると、同等の2進エンコードメモリのメガバイト当たりのコストの一部分(1 /2ないし1/3)で超高密度の大量記憶装置を競合し得るように実現できるこ とになる。 セル消去オペレーション−消去分布緻密化 上述の独立したビットライン指向のステアリング特徴は、ある実施形態では、 初期の広い消去セル集団分布を大幅に緻密化するように利用される。図19及び 20に示すメモリセル/アレー実施形態ををベースとする大量記憶メモリにおい て、セクター又はセクターグループ内の全てのセルは、poly2ステアリング 電位に対して充分に高い正のバイアスをpoly3消去電極に印加することによ り同時に消去される。その結果、上記米国特許出願第08/607,951号に 開示されたように、poly1フローティングゲートからpo1y3消去アノー ドへ電子のトンネルが形成される。 この実施形態の重要な特徴は、合成されたチャンネル/ドレイン成分の容量性 結合である。ステアリング素子に比してフローティングゲートへの結合を比較的 低くし、これにより、消去を含む種々のセルオペレーションに対してあまり影響 を及ぼさないようにすることが望ましい。例えば、消去中のチャンネル電位がp oly2と同じ(例えば両方とも接地)である場合には、チャンネルは、消去オ ペレーションにおいてステアリングゲートに僅かな助成しか与えず、若干強い消 去を生じるが、その電位がステアリングゲートより更に正である(例えば、ステ アリングゲートのバイアスが消去中に負に下げられ、例えば約−7Vに下げられ 、poly3の消去レベルが同じ量だけ下げられ、一方、チャンネル電位が接地 に保持される)場合には、消去に対して若干僅かに貢献するだけとなる。しかし 、poly3が消去電位まで上昇すると、セルを消去するように主に貢献するも のは、ステアリング素子及びその電位となる。 ステアリングゲートの電位に対するこの強力な依存性は、列指向のステアリン グ実施形態において各セルに対する消去の程度を個々に制御するための直接的な 手段を形成する。その動作は、次の通りである。消去動作の始めに、全てのステ アリングラインは、それらの消去イネーブル電位(例えば、−7V)にバイアス され、そして消去されるべき選択された行(一般的にこれは消去のターゲットと なる行のグループの1つの行である)は、セル消去プロセス(フローティングゲ ートの幾つか又は全部から電子の一部分を除去する)を開始するに充分であるが 、その行内のセルを必要な全消去余裕まで消去するには不充分な正の電位(例え ば5V)へパルス作動される。このパルス作動が完了すると、その行は、消去時 読み取り余裕(read-at-erase-margins)状態へとバイアスされ、そして各セルは 、その余裕まで消去されたかどうか調べるべくチェックされる。このように消去 された(その後の消去パルスの後に生じる)セルに対し、それに対応するステア リングラインは、その後、その消去工程の残りの時間中に全てのその後の消去パ ルスに対し、非消去イネーブル即ち「封鎖」状態(例えば0V)へバイアスされる 。この特徴は、ビット/ステアリングライン列の各々に関連したラッチをフリッ プすることにより達成できる。1つ以上のセルがまだ充分消去されていない場合 には、消去パルスが好ましくは増分的に高いpoly3電圧で繰り返され(例え ば、0.5V高いが、別の実施形態では、時間増加が使用される)、その後、再 び、消去時読み取り余裕オペレーションが行なわれる。 このパルス/チェックループは、全てのセルが充分に消去されるまで(或いは 最大電圧、パルス等の他の何らかの状態が生じるまで、そのときには、欠陥管理 オプションが呼び出される)必要に応じて繰り返され、その行に対する消去オペ レーションを終了する。次いで、この手順は、ターゲットとする全ての行/セク ターが消去されるまで、一度に1行づつ、消去のターゲットである他の全ての行 において繰り返される。 このように、セクター又はセクターグループ内の全てのセルは、充分に消去さ れると共に、ターゲットとする緻密消去分布へと拘束される。この能力は、繰り 返し書き込みサイクルのもとでの消耗を減少し、耐久性を高める。これは、消去 後の多状態プログラミングオペレーションをスピードアップする上で特に有用で ある。というのは、ここでは、著しく過剰消去されたセルをその充分に消去され た状態へもっていくのに時間を費やす必要がないからである。 この実施形態の欠点は、消去に相当の時間を費やし、全ての行(又はセクター )に同時に付与される潜在的に1つの単一消去パルスを、一度に1つの行しか消 去できないために行ごとの一連の消去パルス/チェックオペレーションに置き換 えることである。この解決策は、消去に関連した時間が隠され、書き込み性能へ の影響を排除するときに最も実用的となる。今日、大量記憶システムが消去に関 連した性能ロスを排除する方法は、前もって消去する解決策及びRAM変換テー ブルによる動的アドレスマッピングを含めて多数の方法が存在する。このような システムでは、書き込みの始めの緻密消去分布が、特に多状態に対して書き込み 性能を顕著に高めることができる。 上記説明は、各ステアリングラインが1つのセルに独特に関連されると仮定し ている。しかしながら、レイアウトピッチの制約により、特にセグメント化され たステアリング構造で実施されるときには、多数のセルが1つのグローバルなス テアリング信号を共用し、その例が図19及び20に示されており、ここでは、 各対のセルがステアリング駆動セグメント転送選択トランジスタを経て1つのグ ローバルなステアリングラインに関連される。このような共用を使用する2つの 実施形態は、次の通りである。 1つの実施形態は、各消去動作において共用を行い、上記のように1つの行の 全てのセルを同時に消去することができる。しかしながら、この場合に、共通の ステアリングラインを共用するセルのグループ(又は二重フローティングゲート セルの場合にはフローティングゲートトランジスタ)に対する消去封鎖は、その グループの全てのセルが必要な消去状態余裕を達成したときしか呼び出すことが できない。その結果、各グループ内の最も弱いセルが充分な消去を達成するのを 待機するので、セルの一部分が過剰消去されることになる。例えば、各共用グル ープが4つのセルより成る場合には、一般に3つのセルが過剰消去される。図2 1は、5000個のセルの集団に対するこの共用解決策の影響をモデリングする もので、その消去電圧は、1シグマが0.7Vの通常の分布をたどる。2セルの 共用の場合には、セルの50%が最小の過剰消去を有し、そして残りは1シグマ が約1Vの通常の分布をたどる。これを元の分布(即ち封鎖を伴わない)と比較 すると、封鎖を伴う場合に、いかなる過剰消去レベルでも、非常に少数のセルが 過剰消去を受けるだけであり(即ち、それらはシグマテールを更に上り)、そして 最悪の場合の過剰消去電圧は、元の分布の最悪の場合の過剰消去電圧約4.7V よりも約1.3V低くなる。4セル共用の場合にも状況は同様で、2セル共用に 対して過剰消去のレベルが若干増加する。 第2の実施形態は、セグメントレベル選択能力の利点を取り入れるものであり 、共用制限を完全に回避する。1つのグローバルなステアリングラインが2つの ローカルなステアリングラインにより共用される前記実施形態(例えば図19及 び20)を特に参照すれば、この実施形態は、セグメントステアリングラインア ドレス能力を利用して、各消去動作中に各セル対の2つのローカルステアリング ラインの一方(即ちセルの行の価値の半分)のみを駆動する。アドレスされなか ったセルのローカルステアリングラインは、非消去イネーブル電圧状態(例えば 0V)に予め荷電されそしてフローティングされる。セルのアドレスされた半分 の行の価値がそれらの消去/照合/封鎖動作の完了により得られると、ステアリ ングアドレスが他方のまだアドレスされていないセルグループの半分へシフトさ れ、これらが次いで完全に消去され、一方、セルの第1グループは、非消去イネ ーブル状態に維持される。この解決策は、全行に単一の消去パルスを使用するの に比して全消去時間を倍増するが、消去に隠れた実施における書き込み性能には 何ら影響を及ぼさず、一方、所望の緻密消去分布を維持する。 別の実施形態では、上記制御型過剰消去の方法を用いて、多状態データが書き 込まれ、ホット電子プログラミング機構はデータ無条件プリセット動作に移され る。最適な書き込みバイアス条件及び障害防止は、特定のセル及びトンネル特性 に依存するが、このようなトンネル作用をベースとする書き込み解決策は、独立 して制御可能な列ステアリング特徴と、図19及び20に関連する上記メモリ概 念のビットごとの封鎖能力とで構成された基本的なセルアレー構造によって可能 とされる。 多状態メモリデバイス及びシステムに対して改善された性能及びコスト効率を 与える本発明の種々の実施形態を説明した。以上、本発明を詳細に述べたが、当 業者であれば、請求の範囲に記載した本発明の精神又は範囲から逸脱せずに種々 の変更や修正がなされ得ることが明らかであろう。 本明細書に引用した特許及び特許出願は、全て、参考としてここに援用するも のである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.複数のセクターに編成されて、複数の多状態の1つを各々記憶する複数の EEPROMメモリセルと、 上記複数のセクターの各々に関連され、上記多状態の各々に対する1つ以上の 追跡セルと、 上記追跡セルのプログラムされた状態に関連した生のデータを読み取るための 読み取り回路と、 上記生のデータをデジタル形態に変換するコンバータ回路と、 各々の上記追跡セルから読み取られてデジタル形態に変換された上記生のデー タに基づいて、複数の物理状態の各々に対し所望の読み取り点を確立するための メモリコントローラと、 を備えたことを特徴とする多状態メモリ。 2.複数のセクターに編成されて、複数の多状態の1つを各々記憶する複数の EEPROMメモリセルを備え、各セクターは行及び列のアレーより成り、 更に、セル動作回路を備え、この回路は、 列指向的に編成された感知回路と、 列指向的に編成されたステアリング素子と、 行指向的に編成された選択回路とを含み、 行に沿って選択された1つ以上のセルは、同時に読み取ることができ、 更に、基準ソースと、 選択されたセルに対する照合回路であって、その選択されたセルの関連ステア リング素子に対応書き込み状態の照合に対応する条件を適用し、そして上記基準 ソースを用いて読み取ったデータを受け取り、上記メモリセルの選択された1つ が、所望のプログラム状態に関連した導通特性まで充分にプログラムされたかど うかを決定するための照合回路と、 列指向的に編成された書き込み回路とを備え、 上記メモリセルの選択された1つ以上は、関連するステアリング素子セットで 対応する書き込み状態へと同時に書きこむことができ、そして更に、上記選択さ れたメモリセルがそれらの所望の状態へと充分にプログラムされたことを上記照 合回路が指示するときにプログラムされている上記行に沿った選択されたメモリ セルのプログラミングを終了するための終了回路を備えたことを特徴とする多状 態メモリ。 3.上記基準は、上記多状態の1つに各々関連した複数の基準値を表わすこと ができる調整可能な基準より成る請求項2に記載のメモリ。 4.上記基準は、階段状電流のソースである請求項3に記載のメモリ。 5.上記基準は、上記多状態の1つに各々関連した複数の基準値より成る請求 項2に記載のメモリ。 6.上記基準値の各々は電流ソースより成る請求項5に記載のメモリ。 7.上記書き込み回路は、選択された行に沿った選択されたセルのセットを書 き込むように動作し、そしてプログラミングのレベルが達成されたことを上記照 合回路が指示するときに上記選択されたセルのセットの各々の上記プログラミン グを独立して終了させる請求項3又は5に記載のメモリ。 8.各々の上記追跡セルから読み取られてデジタル形態に変換された上記生の データに基づいて、複数の物理状態の各々に対し所望の読み取り点を確立するた めのメモリコントローラを更に備えた請求項2に記載のメモリ。 9.セクターは、最小の消去可能な単位である請求項1又は8に記載のメモリ 。 10.上記メモリコントローラは、各セクターの物理−論理状態変換も決定す る請求項1又は8に記載のメモリ。 11.上記メモリコントローラは、各セルから読み取られるデータの質も決定 する請求項1又は8に記載のメモリ。 12.上記追跡セルは、上記読み取り比較点を確立するように周期的に読み取 られる請求項1又は8に記載のメモリ。 13.上記追跡セルは、上記読み取り比較点を確立するために欠陥の場合に読 み取られる請求項12に記載の多状態メモリ。 14.上記追跡セルは、上記読み取り比較点を確立するために通常の読み取り 動作の一部分として読み取られる請求項1又は8に記載のメモリ。 15.上記生のデータは、メモリセル電流測定値を含む請求項1又は8に記載 のメモリ。 16.上記比較点は、上記追跡セルから読み取られた生のデータに基づいて確 立された最適な余裕で確立される請求項1又は8に記載のメモリ。 17.上記メモリコントローラは、不充分な余裕の比較点も確立する請求項1 又は8に記載のメモリ。 18.上記不充分な余裕の比較点は、メモリセルから読み取られるデータの質 の尺度を与えるのに使用される請求項17に記載の多状態メモリ。 19.上記メモリコントローラは、読み取られたデータの余裕が不充分である という決定に応答して、上記データを再書き込みさせる請求項18に記載の多状 態メモリ。 20.上記データの再書き込みは、不充分な余裕の読み取られたデータがセル をより以上のプログラムされた状態へ移行する必要がある場合にセルベースで実 行される請求項19に記載の多状態メモリ。 21.上記データの再書き込みは、不充分な余裕の読み取られたデータがセル をより以下のプログラムされた状態へ移行する必要がある場合にセルベースで実 行される請求項19に記載の多状態メモリ。 22.上記再プログラミングは、セクターを消去しそしてセクターを再プログ ラミングすることにより行なわれる請求項21に記載の多状態メモリ。 23.不充分な余裕に応答してデータが再書き込みされる回数のカウントを維 持し、そして所定のカウントに達したときに、上記メモリセルの選択されたセル を再書き込みではなくマップアウトさせるためのカウンタを更に備えた請求項1 9に記載のメモリ。 24.上記カウンタをセクター当たり1つ含む請求項23に記載のメモリ。 25.上記メモリセル及び上記メモリコントローラは、単一の集積回路上に含 まれる請求項1又は8に記載のメモリ。 26.上記メモリセルは、1つ以上の集積回路に含まれ、そして上記メモリコ ントローラは、別の集積回路に含まれる請求項1又は8に記載のメモリ。 27.読み取り/書き込み経路と、 読み取り専用の経路と、 上記読み取り/書き込み経路及び上記読み取り専用の経路に共通のフローティ ングゲートとを備えたことを特徴とするメモリセル。 28.上記読み取り/書き込み経路及び上記読み取り専用の経路は、読み取り 中に使用される請求項27に記載のメモリセル。 29.複数のセクターに編成された複数のEEPROMメモリセルを備え、各 セクターは、少なくとも1つの消耗検出セルを含み、該セルは、 読み取り/書き込み経路と、 読み取り専用の経路と、 上記読み取り/書き込み経路及び上記読み取り専用の経路に共通のフローテ ィングゲートとを備え、 更に、読み取り中に上記読み取り/書き込み経路及び上記読み取り専用の経路 の導通特性の差を検出して、上記消耗検出セルの消耗量を測定するための制御回 路を備えたことを特徴とするメモリ。 30.上記セクターのうち、過剰な消耗を示す消耗検出セルに関連したセクタ ーに取って代わるための交換セクターを更に備えた請求項29に記載のメモリ。 31.上記制御回路は、メモリセルの各読み取り中に上記読み取り/書き込み 経路及び上記読み取り専用の経路の両方を動作させる請求項29に記載のメモリ 。 32.上記制御回路は、上記読み取り/書き込み経路及び上記読み取り専用の 経路の両方を周期的に動作させる請求項29に記載のメモリ。 33.上記読み取り/書き込み経路及び上記読み取り専用の経路の両方は、次 の事象、即ちデータ読み取り欠陥、データ読み取りの不充分な余裕度、時間の経 過、読み取りサイクルの数、書き込みサイクルの数及び消去サイクルの数の1つ 以上に基づいて動作される請求項32に記載のメモリ。 34.上記読み取り/書き込み経路及び上記読み取り専用の経路の両方は、ラ ンダム数発生器に基づいて動作される請求項32に記載のメモリ。 35.複数のワードライン及び複数のEEPROMメモリセルを備えたメモリ を動作する方法であって、各セルは、1つのワードライン及び1つのビットライ ンに独特に関連し、各メモリセルは、フローティングゲート電極、ステアリング 電極及び消去電極を有し、上記方法は、 行に沿って上記メモリセルの1つ以上を選択し、 上記選択された1つ以上のメモリセルの上記ステアリング電極に印加されるス テアリング電圧の大きさをセルごとに制御し、 上記選択された1つ以上のメモリセルの上記フローティングゲートから電荷を 除去するように、上記選択された1つ以上のメモリセルの消去電位を確立する、 という段階を備え、そして 各フローティングゲートからの電子の除去の大きさは、その関連ステアリング 電極に印加されるステアリング電位の大きさによりセルごとに確立されることを 特徴とする方法。 36.上記消去電位をパルス化し、 どのセルが充分に消去されたか決定し、そして 充分に消去されなかったセルに対して上記消去電位を再びパルス化し、そして 充分に消去されたセルへの上記消去電位の印加を終了する、 という繰り返し行なわれる段階を更に備えた請求項35に記載の方法。 37.上記消去は、上記選択されたメモリセルにデータを書き込むように働く 請求項35又は36に記載の方法。 38.上記データは、上記消去前の上記フローティングゲートの電荷の量に等 しいか又はそれより低い上記フローティングゲートの電荷によって表わされる請 求項37に記載の方法。 39.上記データは、多状態データより成る請求項38に記載の方法。 40.上記消去前に上記フローティングゲートに上記量の電荷を確立すること は、上記メモリセルのソース領域から上記メモリセルのフローティングゲートヘ のホット電子プログラミングによって行なわれる請求項38に記載の方法。 41.メモリセルのワードラインをメモリセルの複数のサブセットに分割し、 メモリセルの上記サブセットの各々を同時に消去し、そして 所与のサブセットの全メモリセルが充分に消去されたときには、メモリセルの 他のサブセットの消去が完了したかどうかに関わらず、メモリセルの上記サブセ ット各々の消去をセルごとに終了する、 という段階を更に備えた請求項35に記載の方法。
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