TW201915104A - 組成物、膜、積層體、紅外線透射濾波器、固體攝像元件及紅外線感測器 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種能夠形成在來自於可見光線之干擾少的狀態下可透射紅外線之膜之組成物。又，提供一種膜、積層體、紅外線透射濾波器、固體攝像元件及紅外線感測器。該組成物包含透射紅外線而遮蔽可見光之色材、紅外線吸收劑及硬化性化合物，紅外線吸收劑包含遮蔽波長大於1000nm且1200nm以下的範圍的光之材料。該組成物的波長400～1100nm的範圍內的吸光度的最小值A與波長1400～1500nm的範圍內的吸光度的最大值B之比亦即A/B為4.5以上。

Description

組成物、膜、積層體、紅外線透射濾波器、固體攝像元件及紅外線感測器

本發明關於一種適於製造紅外線透射濾波器等之組成物及使用了前述組成物之膜。又，關於一種適於紅外線透射濾波器等之積層體。又，關於一種紅外線透射濾波器、使用了紅外線透射濾波器之固體攝像元件及使用了紅外線透射濾波器之紅外線感測器。

固體攝像元件於各種用途中作為光感測器而被使用。例如，與可見光線相比，紅外線的波長較長而不易散射，還能夠使用於距離測定、三維測定等。又，紅外線對於人類、動物等的眼睛來講係看不見的，因此即使於夜間用紅外線光源照射被攝體亦不會被被攝體察覺，還能夠使用於拍攝夜間活動性野生動物之用途、為了防範而在不刺激對象之情況下進行拍攝之用途。如此，感測紅外線之光感測器（紅外線感測器）能夠擴展至各種用途，且期待開發能夠使用於紅外線感測器之膜。

專利文獻1中記載有一種組成物，形成了膜厚1μm的膜時，膜的厚度方向的透光率於波長400～750nm的範圍內的最大值為20%以下，膜的厚度方向的透光率於波長900～1300nm的範圍內的最小值為90%以上。

專利文獻2中記載有一種濾色器用著色感放射線性組成物，其包含（A）顏料、（B）光聚合起始劑及（C）聚合性化合物，在形成波長600nm中的分光透射率為30%之著色感放射線性組成物層之情況下，著色感放射線性組成物層滿足下述（1）～（5）的條件。 （1）400nm中的分光透射率為20%以下； （2）550nm中的分光透射率為10%以下； （3）700nm中的分光透射率為70%以上； （4）表示分光透射率50%之波長為650nm～680nm的範圍； （5）著色感放射線性組成物層具有0.55μm～1.8μm的範圍的膜厚。

專利文獻3中記載有一種著色組成物，其為包含著色劑和樹脂之著色組成物，波長400～830nm的範圍內的吸光度的最小值A與波長1000～1300nm的範圍內的吸光度的最大值B之比亦即A/B為4.5以上，著色劑含有一種以上的在波長800～900nm的範圍內具有吸收極大之第1著色劑及兩種以上的在波長400～700nm的範圍內具有吸收極大之第2著色劑。 [先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本特開2014-130338號公報 [專利文獻2]日本特開2013-077009號公報 [專利文獻3]國際公開WO2015/166779號公報

如此，近年來，正在對遮蔽可見光並透射紅外線之膜進行各種研究。

另一方面，近年來，正在研究嘗試使用更長波的紅外線進行感知和成像。 然而，如專利文獻1～3等中所記載之迄今為止眾所周知之膜中，得知若使用波長大於1400nm之紅外線作為光源應用於光感測器等時易於產生干擾。

因此，本發明的目的在於提供一種能夠形成在干擾少的狀態下可透射紅外線之膜之組成物。又，本發明的目的在於提供一種膜、積層體、紅外線透射濾波器、固體攝像元件及紅外線感測器。

本發明人進行詳細研究之結果，發現藉由使用後述組成物能夠實現上述課題，從而完成了本發明。亦即，本發明為如下所述。 ＜1＞一種組成物，其包含透射紅外線而遮蔽可見光之色材、紅外線吸收劑及硬化性化合物，該組成物中， 紅外線吸收劑包含遮蔽波長大於1000nm且1200nm以下的範圍的光之材料， 組成物的波長400～1100nm的範圍內的吸光度的最小值A與波長1400～1500nm的範圍內的吸光度的最大值B之比亦即A/B為4.5以上。 ＜2＞如＜1＞所述之組成物，其中 遮蔽波長大於1000nm且1200nm以下的範圍的光之材料係在波長大於1000nm且為1200nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物。 ＜3＞如＜2＞所述之組成物，其中 在波長大於1000nm且1200nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物中，波長1400nm中的吸光度A1400與極大吸收波長中的吸光度Amax之比亦即吸光度Amax/吸光度A1400為4.5以上。 ＜4＞如＜1＞所述之組成物，其中 遮蔽波長大於1000nm且1200nm以下的範圍的光之材料係選自二亞胺化合物、方酸菁化合物、克酮鎓化合物、花青化合物、二硫醇金屬錯合物、硼化鑭化合物、金屬平板粒子、量子點及含稀土類原子之陶瓷中之至少一種。 ＜5＞如＜1＞～＜4＞中任一所述之組成物，其中 紅外線吸收劑還包含在波長大於900nm且1000nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物。 ＜6＞如＜1＞～＜5＞中任一所述之組成物，其中 紅外線吸收劑還包含在波長大於700nm且900nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物。 ＜7＞一種膜，其係由如＜1＞～＜6＞中任一所述之組成物所獲得。 ＜8＞如＜7＞所述之膜，其中 膜的厚度方向上的光的透射率在波長400～1100nm的範圍內的最大值為20%以下，膜的厚度方向上的光的透射率在波長1400～1500nm的範圍內的最小值為70%以上。 ＜9＞一種積層體，其具有包含透射紅外線而遮蔽可見光之色材之層、及包含遮蔽波長大於1000nm且1200nm以下的範圍的光之材料之層，該積層體中， 積層體的波長400～1100nm的範圍內的吸光度的最小值A與波長1400～1500nm的範圍內的吸光度的最大值B之比亦即A/B為4.5以上。 ＜10＞如＜9＞所述之積層體，其中 積層體的厚度方向上的光的透射率在波長400～1100nm的範圍內的最大值為20%以下，積層體的厚度方向上的光的透射率在波長1400～1500nm的範圍內的最小值為70%以上。 ＜11＞一種紅外線透射濾波器，其具有如＜7＞或＜8＞所述之膜或如＜9＞或＜10＞所述之積層體。 ＜12＞一種固體攝像元件，其具有如＜7＞或＜8＞所述之膜或如＜9＞或＜10＞所述之積層體。 ＜13＞一種紅外線感測器，其具有如＜7＞或＜8＞所述之膜或如＜9＞或＜10＞所述之積層體。 [發明效果]

依本發明，能夠提供一種能夠形成在來自於可見光線之干擾少的狀態下可透射紅外線之膜之組成物。又，能夠提供一種膜、積層體、固體攝像元件、及紅外線感測器。

本說明書中，總固體成分係指從整個組成物中去除溶劑之後的成分的總質量。 本說明書中，紅外線係指波長700～2,500nm的光（電磁波）。 關於本說明書中的基團（原子團）的標記，未記述經取代及未經取代之標記同時包含不具有取代基之基團和具有取代基之基團。例如，“烷基”不僅包含不具有取代基之烷基（未經取代之烷基），還包含具有取代基之烷基（取代烷基）。 本說明書中“曝光”係指，只要無特別限定，除了利用光的曝光以外，利用電子束、離子束等粒子束之描繪亦包含於曝光中。又，作為使用於曝光之光，通常可列舉以水銀燈的明線光譜、準分子雷射為代表之遠紫外線、極紫外線（EUV光）、X射線、電子束等光化射線或放射線。 本說明書中，“（甲基）丙烯酸酯”表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯這兩者或其中任一個，“（甲基）丙烯酸”表示丙烯酸及甲基丙烯酸這兩者或其中任一個，“（甲基）丙烯醯基”表示丙烯醯基及甲基丙烯醯基這兩者或其中任一個。 本說明書中，化學式中的Me表示甲基，Et表示乙基，Pr表示丙基，Bu表示丁基，Ph表示苯基。 本說明書中，“製程”這一術語，不僅係獨立的製程,而且於無法與其他製程明確區分之情況下，只要可實現對該製程所期待之作用，則亦包含於本術語中。 本說明書中，重量平均分子量及數平均分子量作為藉由凝膠滲透色譜法（GPC）測定之聚苯乙烯換算值而定義。本說明書中，重量平均分子量（Mw）及數量平均分子量（Mn）例如能夠藉由使用HLC-8220（TOSOH CORPORATION製造），使用TSKgel Super AWM-H（TOSOH CORPORATION製造，6.0mmID（內徑）×15.0cm）作為管柱，並使用10mmol/L溴化鋰NMP（N-甲基吡咯啶酮）溶液作為洗提液來求出。 用於本發明之顏料係指難溶於溶劑之不溶性的色素化合物。典型地，係指在組成物中以作為粒子而分散之狀態存在之色素化合物。其中，溶劑可列舉任意的溶劑，例如可列舉在後述之溶劑欄中例示之溶劑。用於本發明之顏料例如對丙二醇單甲醚乙酸酯及水中的任何一個在25℃下之溶解度為0.1g/100g溶劑（Solvent）以下為較佳。

＜組成物＞ 本發明的組成物係包含透射紅外線而遮蔽可見光之色材、紅外線吸收劑及硬化性化合物之組成物，該組成物的特徵在於， 紅外線吸收劑包含遮蔽波長大於1000nm且1200nm以下的範圍的光之材料， 組成物的波長400～1100nm的範圍內的吸光度的最小值A與波長1400～1500nm的範圍內的吸光度的最大值B之比亦即A/B為4.5以上。

藉由本發明的組成物，能夠適當地形成具有如下分光特性之膜，亦即膜的厚度方向上的光的透射率在400～1100nm的範圍內的最大值為20%以下、且膜的厚度方向上的光的透射率在1400～1500nm的範圍內的最小值為70%以上。

上述吸光度的條件可藉由任何手段實現，例如，如在後面進行詳細敘述，組成物含有透射紅外線而遮蔽可見光之色材、遮蔽波長大於1000nm且1200nm以下的範圍的光之材料，並且藉由調整該等種類及含量，能夠適當地實現上述吸光度的條件。

關於本發明的組成物所具有之分光特性，上述之A/B的值係10以上為較佳，20以上為更佳，30以上為進一步較佳。上限例如能夠設為90以下。

一波長λ中的吸光度Aλ藉由以下式（1）而定義。 Aλ=-log（Tλ/100）･･････（1） Aλ係波長λ中的吸光度，Tλ係波長λ中的透射率（%）。 本發明中，吸光度的值可以為於溶液的狀態下進行測定之值，亦可以為使用本發明的組成物進行製膜之膜中的值。當於膜的狀態下測定吸光度時，使用如下膜進行測定為較佳，該膜係於玻璃基板上藉由旋轉塗佈等方法，以乾燥後的膜的厚度成為規定厚度之方式塗佈組成物，並用加熱板於100℃下乾燥120秒鐘而製備之膜。關於膜的厚度，能夠利用觸針式表面形狀測定儀（ULVAC公司製DEKTAK150）對具有膜之基板進行測定。

又，吸光度能夠使用以往公知的分光光度計來測定。吸光度的測定條件並無特別限定，於以波長400～1100nm的範圍內的吸光度的最小值A成為0.1～3.0之方式進行調整之條件下，測定波長1400～1500nm的範圍內的吸光度的最大值B為較佳。藉由於該種條件下測定吸光度，能夠進一步減小測定誤差。作為以波長400～1100nm的範圍內的吸光度的最小值A成為0.1～3.0之方式進行調整之方法，並無特別限定。例如，當於溶液的狀態下測定吸光度時，可列舉調整試樣槽的光路長度之方法。又，當於膜的狀態下測定吸光度時，可列舉調整膜厚之方法等。

以下示出藉由本發明的組成物形成之膜的分光特性、膜厚等的測定方法。 藉由旋轉塗佈等方法，以乾燥後的膜的厚度成為規定厚度之方式將本發明的組成物塗佈於玻璃基板上，並用加熱板於100℃下乾燥120秒鐘。關於膜的厚度，利用觸針式表面形狀測定儀（ULVAC公司製DEKTAK150）對具有膜之乾燥後的基板進行測定。利用紫外可見近紅外分光光度計（Hitachi High-Technologies Corporation製U-4100），對具有該膜之乾燥後的基板的波長300～1300nm的範圍內的透射率進行測定。

本發明的組成物使紅外線透射，藉此亦可稱為紅外線透射性組成物。以下，對可構成本發明的組成物之各成分進行說明。

＜＜透射紅外線而遮蔽可見光之色材＞＞ 本發明的組成物含有使紅外線透射而遮蔽可見光之色料（以下，亦稱為遮蔽可見光之色料）。 本發明中，遮蔽可見光之色材係吸收紫色至紅色波長區域的光之色材為較佳。又，本發明中，遮蔽可見光之色材係遮蔽波長450～650nm（較佳為波長400～700nm）的波長的光之色材為較佳。又，本發明中，遮蔽可見光之色材在波長為400nm以上且700nm以下的範圍內具有極大吸收波長為較佳。又，遮蔽可見光之色材係對波長1400～1500nm的範圍的光的透射性高的色材為較佳。 本發明中，遮蔽可見光之色材滿足以下（1）及（2）中的至少一個要件為較佳。 （1）：包含兩種以上的彩色著色劑，且由兩種以上的彩色著色劑的組合形成了黑色。 （2）：包含有機系黑色著色劑。（2）的態樣中，還含有彩色著色劑亦為較佳。 此外，本發明中，彩色著色劑係指除了白色著色劑及黑色著色劑以外的著色劑。彩色著色劑係在波長400nm以上且700nm以下的範圍內具有極大吸收波長之著色劑為較佳。又，“在波長400nm以上且700nm以下的範圍內具有極大吸收波長”係指在吸收光譜中，在波長400nm以上且700nm以下的範圍內具有顯示最大吸光度之波長。例如，在波長350～1300nm的範圍內的吸收光譜中，在波長400nm以上且700nm以下的範圍內具有顯示最大吸光度之波長為較佳。 又，在本發明中，作為遮蔽可見光之色材之有機系黑色著色劑係指，雖吸收可見光線，但紅外線的至少一部分透射之材料。因此，在本發明中，作為遮蔽可見光之色材之有機系黑色著色劑不包括吸收可見光線及紅外線兩者之黑色著色劑，例如碳黑或鈦黑。有機系黑色著色劑係在波長400nm以上且700nm以下的範圍內具有極大吸收波長之著色劑為較佳。

在本發明中，遮蔽可見光之色材中，例如波長450～650nm的範圍內的吸光度的最小值A1與波長1400～1500nm的範圍內的吸光度的最大值B1之比亦即A1/B1為4.5以上為較佳。

關於遮蔽可見光之色材的上述分光特性，可以用一種原材料來滿足，亦可以用複數種原材料的組合來滿足。例如，當為上述（1）的態樣時，組合複數種彩色著色劑來滿足上述分光特性為較佳。又，當為上述（2）的態樣時，可以係有機系黑色著色劑滿足上述分光特性。又，可以用有機系黑色著色劑與彩色著色劑的組合來滿足上述分光特性。

（彩色著色劑） 本發明中，彩色著色劑係選自紅色著色劑、綠色著色劑、藍色著色劑、黃色著色劑、紫色著色劑及橙色著色劑中之著色劑為較佳。

本發明中，彩色著色劑可以為顏料，亦可以為染料。較佳為顏料。 顏料的平均粒徑（r）滿足以下為較佳：較佳為20nm≤r≤300nm，更佳為25nm≤r≤250nm，特佳為30nm≤r≤200nm。在此所說之“平均粒徑”係指關於顏料的一次粒子集合而成之二次粒子的平均粒徑。 又，能夠使用之顏料的二次粒子的粒徑分佈（以下，亦簡稱為“粒徑分佈”。）係進入到（平均粒徑±100）nm之二次粒子為整體的70質量%以上，較佳為80質量%以上。此外，二次粒子的粒徑分佈能夠使用散射強度分佈來測定。

具有上述平均粒徑及粒徑分佈之顏料能夠藉由製成將市售的顏料和根據情況使用之其他顏料（二次粒子的平均粒徑通常超過300nm）一同、較佳為與樹脂及有機溶劑混合而得到之顏料混合液，例如使用珠磨機、輥磨機等粉碎機一邊粉碎一邊混合、分散來進行製備。如此所得之顏料通常呈顏料分散液的形態。

顏料係有機顏料為較佳，能夠列舉以下者。但本發明不限定於該等。 比色指數（C.I.）Pigment Yellow（顏料黃）1、2、3、4、5、6、10、11、12、13、14、15、16、17、18、20、24、31、32、34、35、35:1、36、36:1、37、37:1、40、42、43、53、55、60、61、62、63、65、73、74、77、81、83、86、93、94、95、97、98、100、101、104、106、108、109、110、113、114、115、116、117、118、119、120、123、125、126、127、128、129、137、138、139、147、148、150、151、152、153、154、155、156、161、162、164、166、167、168、169、170、171、172、173、174、175、176、177、179、180、181、182、185、187、188、193、194、199、213、214等（以上為黃色顏料）、 C.I.Pigment Orange（顏料橙）2、5、13、16、17:1、31、34、36、38、43、46、48、49、51、52、55、59、60、61、62、64、71、73等（以上為橙色顏料）、 C.I.Pigment Red（顏料紅）1、2、3、4、5、6、7、9、10、14、17、22、23、31、38、41、48:1、48:2、48:3、48:4、49、49:1、49:2、52:1、52:2、53:1、57:1、60:1、63:1、66、67、81:1、81:2、81:3、83、88、90、105、112、119、122、123、144、146、149、150、155、166、168、169、170、171、172、175、176、177、178、179、184、185、187、188、190、200、202、206、207、208、209、210、216、220、224、226、242、246、254、255、264、270、272、279等（以上為紅色顏料）、 C.I.Pigment Green（顏料綠）7、10、36、37、58、59等（以上為綠色顏料）、 C.I.Pigment Violet（顏料紫）1、19、23、27、32、37、42等（以上為紫色顏料）、 C.I.Pigment Blue（顏料藍）1、2、15、15:1、15:2、15:3、15:4、15:6、16、22、60、64、66、79、80等（以上為藍色顏料）、 該等有機顏料能夠單獨使用或組合使用多種。

作為染料，並無特別限制，能夠使用公知的染料。作為化學結構，能夠使用吡唑偶氮系、苯胺偶氮系、三芳基甲烷系、蒽醌系、蒽吡啶酮系、苯亞甲基系、氧雜菁系、吡唑并三唑偶氮系、吡啶酮偶氮系、花青系、吩噻系、吡咯并吡唑甲亞胺系、二苯并哌喃系、酞菁系、苯并吡喃系、靛藍系、亞甲基吡咯系等染料。又，亦可以使用該等染料的多聚體。又，亦能夠使用日本特開2015-028144號公報、日本特開2015-034966號公報中所記載之染料。

作為以兩種以上的彩色著色劑的組合來形成黑色時的彩色著色劑的組合，例如可列舉以下。 （1）含有黃色著色劑、藍色著色劑、紫色著色劑及紅色著色劑之態樣。 （2）含有黃色著色劑、藍色著色劑及紅色著色劑之態樣。 （3）含有黃色著色劑、紫色著色劑及紅色著色劑之態樣。 （4）含有黃色著色劑及紫色著色劑之態樣。 （5）含有綠色著色劑、藍色著色劑、紫色著色劑及紅色著色劑之態樣。 （6）含有紫色著色劑及橙色著色劑之態樣。 （7）含有綠色著色劑、紫色著色劑及紅色著色劑之態樣。 （8）含有綠色著色劑及紅色著色劑之態樣。

作為上述（1）態樣的具體例，可列舉含有作為黃色顏料的C.I.顏料黃139或C.I.顏料黃185、作為藍色顏料的C.I.顏料藍15：6、作為紫色顏料的C.I.顏料紫23、作為紅色顏料的C.I.顏料紅254或C.I.顏料紅224之態樣。 作為上述（2）態樣的具體例，可列舉含有作為黃色顏料的C.I.顏料黃139或C.I.顏料黃185、作為藍色顏料的C.I.顏料藍15：6、作為紅色顏料的C.I.顏料紅254或C.I.顏料紅224之態樣。 作為上述（3）態樣的具體例，可列舉含有作為黃色顏料的C.I.顏料黃139或C.I.顏料黃185、作為紫色顏料的C.I.顏料紫23、作為紅色顏料的C.I.顏料紅254或C.I.顏料紅224之態樣。 作為上述（4）態樣的具體例，可列舉含有作為黃色顏料的C.I.顏料黃139或C.I.顏料黃185、作為紫色顏料的C.I.顏料紫23之態樣。 作為上述（5）態樣的具體例，可列舉含有作為綠色顏料的C.I.顏料綠7或C.I.顏料綠36、作為藍色顏料的C.I.顏料藍15：6、作為紫色顏料的C.I.顏料紫23、作為紅色顏料的C.I.顏料紅254或C.I.顏料紅224之態樣。 作為上述（6）態樣的具體例，可列舉含有作為紫色顏料的C.I.顏料紫23、作為橙色顏料的C.I.顏料橙71之態樣。 作為上述（7）的具體例，可列舉含有作為綠色顏料的C.I.顏料綠7或C.I.顏料綠36、作為紫色顏料的C.I.顏料紫23、作為紅色顏料的C.I.顏料紅254或C.I.顏料紅224之態樣。 作為上述（8）的具體例，可列舉含有作為綠色顏料的C.I.顏料綠7或C.I.顏料綠36、作為紅色顏料的C.I.顏料紅254或C.I.顏料紅224之態樣。

作為各著色劑的比率（質量比）例如可列舉以下。 [表1]

（有機系黑色著色劑） 本發明中，作為有機系黑色著色劑，例如可列舉二苯并呋喃酮化合物、甲亞胺化合物、苝化合物、偶氮系化合物等，二苯并呋喃酮化合物、苝化合物為較佳。作為二苯并呋喃酮化合物，可列舉日本特表2010-534726號公報、日本特表2012-515233號公報、日本特表2012-515234號公報、國際公開WO2014/208348號公報、日本特表2015-525260號公報等中所記載之化合物，例如能夠作為BASF公司製“Irgaphor Black”而獲得。作為苝化合物，可列舉C.I.Pigment Black 31、32等。作為甲亞胺化合物，可列舉日本特開平1-170601號公報、日本特開平2-034664號公報等中所記載者，例如能夠作為Dainichiseika Color & Chemicals Mfg.Co.,Ltd.製“酞青黑A1103”而獲得。

本發明中，二苯并呋喃酮化合物係由下述式表示之化合物及該等的混合物為較佳。 [化學式1]式中，R¹ 及R² 分別獨立地表示氫原子或取代基，R³ 及R⁴ 分別獨立地表示取代基，a及b分別獨立地表示0～4的整數，當a為2以上時，複數個R³ 可以相同，亦可以不同，複數個R³ 可以鍵結而形成環，當b為2以上時，複數個R⁴ 可以相同，亦可以不同，複數個R⁴ 可以鍵結而形成環。

R¹ ～R⁴ 所表示之取代基表示鹵素原子、氰基、硝基、烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基、雜芳基、-OR³⁰¹ 、-COR³⁰² 、-COOR³⁰³ 、-OCOR³⁰⁴ 、-NR³⁰⁵ R³⁰⁶ 、-NHCOR³⁰⁷ 、-CONR³⁰⁸ R³⁰⁹ 、-NHCONR³¹⁰ R³¹¹ 、-NHCOOR³¹² 、-SR³¹³ 、-SO₂ R³¹⁴ 、-SO₂ OR³¹⁵ 、-NHSO₂ R³¹⁶ 或-SO₂ NR³¹⁷ R³¹⁸ ，R³⁰¹ ～R³¹⁸ 分別獨立地表示氫原子、烷基、烯基、炔基、芳基或雜芳基。

關於二苯并呋喃酮化合物的詳細內容，能夠參閱日本特表2010-534726號公報的0014～0037段的記載，並將該內容編入本說明書中。

本發明中，當作為遮蔽可見光之色材而使用有機系黑色著色劑時，與彩色著色劑組合使用為較佳。藉由同時使用有機系黑色著色劑與彩色著色劑，可輕鬆地得到優異之分光特性。作為與有機系黑色著色劑組合使用之彩色著色劑，例如可列舉紅色著色劑、藍色著色劑、紫色著色劑等，紅色著色劑及藍色著色劑為較佳。該等可以單獨使用，亦可以同時使用兩種以上。 又，彩色著色劑與有機系黑色著色劑的混合比例相對於有機系黑色著色劑100質量份，彩色著色劑為10～200質量份為較佳，15～150質量份為更佳。

本發明中，遮蔽可見光之色材中的顏料的含量相對於遮蔽可見光之色材的總量係95質量%以上為較佳，97質量%以上為更佳，99質量%以上為進一步較佳。

本發明的組成物中，遮蔽可見光之色材的含量係組成物的總固體成分的10～60質量%為較佳。上限係50質量%以下為較佳，45質量%以下為更佳。下限係20質量%以上為較佳，25質量%以上為更佳。

＜＜紅外線吸收劑＞＞ 本發明的組成物含有紅外線吸收劑。本發明中所使用之紅外線吸收劑包含遮蔽波長大於1000nm且1200nm以下的範圍的光之材料。

（遮蔽波長大於1000nm且1200nm以下的範圍的光之材料） 作為遮蔽波長大於1000nm且1200nm以下的範圍的光之材料，可列舉吸收波長大於1000nm且1200nm以下的範圍的光之材料、藉由使波長大於1000nm且1200nm以下的範圍的光反射而遮蔽之材料等。作為吸收波長大於1000nm且1200nm以下的範圍的光之材料，可列舉在波長大於1000nm且1200nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物。上述化合物的極大吸收波長設於1030～1170nm的範圍內為較佳，設於1050～1150nm的範圍內為更佳，設於1070～1130nm的範圍內為進一步較佳。又，上述化合物中，波長1400nm中的吸光度A₁₄₀₀ 與極大吸收波長中的吸光度A_max 之比亦即吸光度A_max /吸光度A₁₄₀₀ 為4.5以上為較佳，10以上為更佳，30以上為進一步較佳。上限例如為90以下為較佳。藉由該態樣，能夠提高波長大於1400nm之紅外線的透射性。

作為遮蔽波長大於1000nm且1200nm以下的範圍的光之材料，可列舉二亞胺化合物、方酸菁化合物、克酮鎓化合物、花青化合物、二硫醇金屬錯合物、硼化鑭、金屬平板粒子、量子點、含稀土類源自之陶瓷等，從兼顧可見透明性和紅外線遮蔽性之觀點考慮，二亞胺化合物為較佳。

作為用作遮蔽波長大於1000nm且1200nm以下的範圍的光之材料之二亞胺化合物，由下述式（Im）所表示之化合物為較佳。

式（Im） [化學式2]式中，R¹¹ ～R¹⁸ 分別獨立地表示烷基或芳基，V¹¹ ～V¹⁵ 分別獨立地表示烷基、芳基、鹵素原子、烷氧基或氰基，X表示抗衡陰離子，c表示為了取電荷的平衡而所需之數，n1～n5分別獨立地為0～4。

R¹¹ ～R¹⁸ 分別獨立地表示烷基或芳基。烷基的碳數係1～20為較佳，1～12為更佳，1～8為特佳。烷基可以為直鏈、支鏈、環狀中的任一種，直鏈或支鏈為較佳。芳基的碳數係6～25為較佳，6～15為更佳，6～12為進一步較佳。烷基及芳基可具有取代基，亦可以為未經取代。作為取代基，可列舉以下述取代基T所說明之基團。

V¹¹ ～V¹⁵ 分別獨立地表示烷基、芳基、鹵素原子、烷氧基或氰基。作為鹵素原子，可列舉氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。烷基的碳數係1～20為較佳，1～12為更佳，1～8為特佳。烷基可以為直鏈、支鏈、環狀中的任一種，直鏈或支鏈為較佳，直鏈為特佳。芳基的碳數係6～25為較佳，6～15為更佳，6～12為進一步較佳。烷氧基的碳數係1～20為較佳，1～12為更佳，1～8為特佳。烷氧基可以為直鏈、支鏈、環狀中的任一種，直鏈或支鏈為較佳，直鏈為特佳。

n1～n5分別獨立地為0～4。n1～n4係0～2為較佳，0或1為更佳。n5係0～3為較佳，0～2為更佳。

X表示抗衡陰離子。作為抗衡陰離子的例子，可列舉鹵化物離子（Cl^- 、Br^- 、I^- ）、對甲苯磺酸離子、乙基硫酸離子、SbF₆ ^- 、PF₆ ^- 、BF₄ ^- 、ClO₄ ^- 、三（鹵代烷基磺醯基）甲基化物陰離子（例如，（CF₃ SO₂ ）₃ C^- ）、二（鹵代烷基磺醯基）醯亞胺陰離子（例如（CF₃ SO₂ ）₂ N^- ）、四氰基硼酸鹽陰離子等。

c表示為了取電荷的平衡所需之數，例如2為較佳。

（取代基T） 烷基（較佳為碳數1～30的烷基）、烯基（較佳為碳數2～30的烯基）、炔基（較佳為碳數2～30的炔基）、芳基（較佳為碳數6～30的芳基）、胺基（較佳為碳數0～30的胺基）、烷氧基（較佳為碳數1～30的烷氧基）、芳氧基（較佳為碳數6～30的芳氧基）、雜芳氧基、醯基（較佳為碳數1～30的醯基）、烷氧基羰基（較佳為碳數2～30的烷氧基羰基）、芳氧基羰基（較佳為碳數7～30的芳氧基羰基）、醯氧基（較佳為碳數2～30的醯氧基）、醯胺基（較佳為碳數2～30的醯胺基）、烷氧羰基胺基（較佳為碳數2～30的烷氧羰基胺基）、芳氧羰基胺基（較佳為碳數7～30的芳氧羰基胺基）、胺磺醯基（較佳為碳數0～30的胺磺醯基）、胺甲醯基（較佳為碳數1～30的胺甲醯基）、烷硫基（較佳為碳數1～30的烷硫基）、芳硫基（較佳為碳數6～30的芳硫基）、雜芳硫基（較佳為碳數1～30）、烷基磺醯基（較佳為碳數1～30）、芳基磺醯基（較佳為碳數6～30）、雜芳基磺醯基（較佳為碳數1～30）、烷基亞磺醯基（較佳為碳數1～30）、芳基亞磺醯基（較佳為碳數6～30）、雜芳基亞磺醯基（較佳為碳數1～30）、脲基（較佳為碳數1～30）、羥基、羧基、磺基、磷酸基、羧酸醯胺基（較佳為係由-NHCOR^A1 表示之基團，R^A1 表示烴基或雜環基。烴基及雜環基亦可以具有取代基。作為取代基，鹵素原子為較佳，氟原子為更佳。）、磺酸醯胺基（較佳為係由-NHSO₂ R^A2 表示之基團。R^A2 表示烴基或雜環基。烴基及雜環基亦可以具有取代基。作為取代基，鹵素原子為較佳，氟原子為更佳。）、醯亞胺基（較佳為係由-SO₂ NHSO₂ R^A3 、-CONHSO₂ R^A4 、-CONHCOR^A5 或-SO₂ NHCOR^A6 表示之基團。R^A3 ～R^A6 分別獨立地表示烴基或雜環基。烴基及雜環基亦可以具有取代基。）、巰基、鹵素原子、氰基、烷基亞磺醯基、芳基亞磺醯基、肼基、亞胺基、雜芳基（較佳為碳數1～30）。 當該等基團係能夠進一步進行取代之基團時，亦可以具有取代基。作為取代基，可列舉以上述取代基T進行說明之基團。

作為二亞胺化合物的具體例，可列舉以下所示之化合物。表中的λmax係該化合物的極大吸收波長。又，作為二亞胺化合物的市售品，可列舉IRG-068（Nippon Kayaku Co.,Ltd.製）等。

[表2]

作為用作遮蔽波長大於1000nm且1200nm以下的範圍的光之材料之方酸菁化合物，可列舉由下述式（SQ1）或式（SQ2）所表示之化合物。 [化學式3]式中，As¹ 及As² 分別獨立地表示芳基、雜環基或由式（As-1）所表示之基團； [化學式4]式中，*表示鍵結鍵， Rs¹ ～Rs³ 分別獨立地表示氫原子或烷基， As³ 表示雜環基， n_s1 表示0以上的整數， Rs¹ 和Rs² 可以相互鍵結而形成環， Rs¹ 和As³ 可以相互鍵結而形成環， Rs² 和Rs³ 可以相互鍵結而形成環， n_s1 為2以上時，複數個Rs² 及Rs³ 分別相同，亦可不同。

As¹ 及As² 所表示之芳基的碳數係6～48為較佳，6～22為更佳，6～12為特佳。

As¹ 、As² 及As³ 所表示之雜環基係5員環或6員環的雜環基為較佳。又，雜環基係單環的雜環基或縮合數為2～8的縮合環的雜環基為較佳，單環的雜環基或縮合數為2～4的縮合環的雜環基為更佳，單環的雜環基或縮合數為2或3的縮合環的雜環基為更佳，單環的雜環基或縮合數為2的縮合環的雜環基為特佳。作為構成雜環基的環之雜原子，可例示氮原子、氧原子、硫原子，氮原子、硫原子為較佳。構成雜環基的環之雜原子的數為1～3為較佳，1～2為更佳。

式（As-1）中的Rs¹ ～Rs³ 分別獨立地表示氫原子或烷基。Rs¹ ～Rs³ 所表示之烷基的碳數係1～20為較佳，1～15為更佳，1～8為進一步較佳。烷基可以為直鏈、支鏈、環狀中的任一種，直鏈或支鏈為較佳。Rs¹ ～Rs³ 係氫原子為較佳。

式（As-1）中的n_s1 表示0以上的整數。n_s1 係0～2的整數為較佳，0或1為更佳，0為進一步較佳。

式（As-1）中，Rs¹ 和Rs² 可以相互鍵結而形成環，Rs¹ 和As³ 可以相互鍵結而形成環，Rs² 和Rs³ 可以相互鍵結而形成環。作為形成上述環時的連接基，係選自包含-CO-、-O-、-NH-、碳數1～10的伸烷基及該等的組合之組群中之2價的連接基為較佳。作為連接基的伸烷基可以為未經取代，亦可具有取代基。作為取代基可列舉上述取代基T。

式（SQ1）及式（SQ2）中，As¹ 及As² 所表示之基團具有取代基為較佳。作為取代基可列舉上述取代基T。

式（SQ1）及式（SQ2）中，As¹ 及As² 分別獨立地為芳基或雜環基，或As¹ 及As² 分別獨立地為由式（As-1）所表示之基團為較佳。

另外，式（SQ1）中，陽離子以如下方式非定域化而存在。 [化學式5]

又，式（SQ2）中，陽離子以如下方式非定域化而存在。 [化學式6]

又，用作遮蔽波長大於1000nm且1200nm以下的範圍的光之材料之方酸菁化合物係在1分子中具有2個以上的由式（SQ1a）或式（SQ2b）所表示之部分結構之化合物亦較佳。 [化學式7]式中，波線表示連接鍵。

作為方酸菁化合物的具體例，可列舉下述結構的化合物。 [化學式8]

作為用作遮蔽波長大於1000nm且1200nm以下的範圍的光之材料之克酮鎓化合物，係由下述式（Cr1）所表示之化合物為較佳。 [化學式9]式中，Ac¹ 及Ac² 分別獨立地表示芳基、雜環基或由式（Ac-1）所表示之基團； [化學式10]式中，*表示鍵結鍵， Rc¹ ～Rc³ 分別獨立地表示氫原子或烷基， Ac³ 表示雜環基， n_c1 表示0以上的整數， Rc¹ 和Rc² 可以相互鍵結而形成環， Rc¹ 和Ac³ 可以相互鍵結而形成環， Rc² 和Rc³ 可以相互鍵結而形成環， n_c1 為2以上時，複數個Rc² 及Rc³ 分別可以相同，亦可以不同。

Ac¹ 及Ac² 所表示之芳基的碳數係6～48為較佳，6～22為更佳，6～12為特佳。

Ac¹ 、Ac² 及Ac³ 所表示之雜環基係5員環或6員環的雜環基為較佳。又，雜環基係單環的雜環基或縮合數為2～8的縮合環的雜環基為較佳，單環的雜環基或縮合數為2～4的縮合環的雜環基為更佳，單環的雜環基或縮合數為2或3的縮合環的雜環基為更佳，單環的雜環基或縮合數為2的縮合環的雜環基為特佳。作為構成雜環基的環之雜原子，可例示氮原子、氧原子、硫原子，氮原子、硫原子為較佳。構成雜環基的環之雜原子的數係1～3為較佳，1～2為更佳。

式（Ac-1）中的Rc¹ ～Rc³ 分別獨立地表示氫原子或烷基。Rc¹ ～Rc³ 所表示之烷基的碳數係1～20為較佳，1～15為更佳，1～8為進一步較佳。烷基可以為直鏈、支鏈、環狀中的任一種，直鏈或支鏈為較佳。Rc¹ ～Rc³ 係氫原子為較佳。

式（Ac-1）中的n_c1 表示0以上的整數。n_c1 係0～2的整數為較佳，0或1為更佳，1為進一步較佳。

式（Ac-1）中，Rc¹ 和Rc² 可以相互鍵結而形成環，Rc¹ 和Ac³ 可以相互鍵結而形成環，Rc² 和Rc³ 可以相互鍵結而形成環。作為形成上述環時的連接基，選自包含-CO-、-O-、-NH-、碳數1～10的伸烷基及該等的組合之組群中之2價的連接基為較佳。作為連接基的伸烷基可以為未經取代，亦可具有取代基。作為取代基可列舉上述取代基T。

式（Cr1）中，Ac¹ 及Ac² 所表示之基團具有取代基為較佳。作為取代基可列舉上述取代基T。

式（Cr1）中，Ac¹ 及Ac² 分別獨立地為芳基或雜環基，或Ac¹ 及Ac² 分別獨立地為由式（Ac-1）所表示之基團為較佳。

另外，式（Cr1）中，陽離子以如下方式非定域化而存在。 [化學式11]

又，用作遮蔽波長大於1000nm且1200nm以下的範圍的光之材料之克酮鎓化合物係在1分子中具有2個以上的由式（Cr1a）所表示之部分結構之化合物亦為較佳。 [化學式12]式中，波線表示連接鍵。

作為克酮鎓化合物的具體例，可列舉下述結構的化合物。 [化學式13]

作為用作遮蔽波長1000nm且1200nm以下的範圍的光之材料之花青化合物，由下述式（Cy1）所表示之化合物為較佳。 [化學式14]

Rcy¹ ～Rcy⁵ 分別獨立地表示氫原子或取代基，Rcy¹ ～Rcy⁵ 中，2個可鍵結而形成環。n_cy1 表示0～2的整數，n_cy1 為2時，複數個Rcy⁴ 及Rcy⁵ 可以相同，亦可以不同。Acy¹ 及Acy² 分別獨立地表示芳基或雜環基。式中的Cy所表示之部位為陽離子部時，Y表示抗衡陰離子，c表示為了取電荷的平衡所需之數，式中的Cy所表示之部位為陰離子部時，Y表示抗衡陽離子，c表示為了取電荷的平衡所需之數，式中的Cy所表示之部位的電荷在分子內被中和時，c為0。

Rcy¹ ～Rcy⁵ 分別獨立地表示氫原子或取代基。作為取代基，可列舉上述取代基T。式（Cy1）中，Rcy¹ ～Rcy⁵ 中，2個可鍵結而形成環。作為上述形成環時的連接基，選自包含-CO-、-O-、-NH-、碳數1～10的伸烷基及該等的組合之組群中之2價的連接基為較佳。作為連接基的伸烷基可以為未經取代，亦可具有取代基。作為取代基可列舉上述取代基T。

n_cy1 表示0～2的整數，0或1為較佳。n_cy1 為2時，複數個Rcy⁴ 及Rcy⁵ 可以相同，亦可以不同。

Acy¹ 及Acy² 所表示之芳的碳數係6～48為較佳，6～22為更佳，6～12為特佳。Acy¹ 及Acy² 所表示之雜環基係5員環或6員環的雜環基為較佳。又，雜環基係單環的雜環基或縮合數為2～8的縮合環的雜環基為較佳，單環的雜環基或縮合數為2～4的縮合環的雜環基為更佳，單環的雜環基或縮合數為2或3的縮合環的雜環基為更佳，單環的雜環基或縮合數為2的縮合環的雜環基為特佳。作為構成雜環基的環之雜原子，可列舉氮原子、氧原子、硫原子，氧原子、硫原子為較佳。構成雜環基的環之雜原子的數1～3為較佳，1～2為更佳。Acy¹ 及Acy² 所表示之基可具有取代基。作為取代基可列舉上述取代基T。 Acy¹ 及Acy² 分別獨立地表示雜環基為較佳。

用作遮蔽波長大於1000nm且1200nm以下的範圍的光之材料之花青化合物，由下述式（Cy1a）所表示之化合物為較佳。 [化學式15]

Rcy¹ ～Rcy⁵ 分別獨立地表示氫原子或取代基，Rcy¹ ～Rcy⁵ 中，2個可鍵結而形成環。 Rcy¹¹ 及Rcy¹² 分別獨立地表示取代基。 n_cy1 表示0～2的整數，n_cy1 為2時，複數個Rcy⁴ 及Rcy⁵ 可以相同，亦可以不同。 n11表示0～4的整數，n11為2時，複數個Rcy¹¹ 可以相同，亦可以不同，n11個Rcy¹¹ 中2個可鍵結而形成環。 n12表示0～4的整數，n12為2時，複數個Rcy¹² 可以相同，亦可以不同，n12個Rcy¹² 中2個可鍵結而形成環。 Y¹ 表示抗衡陰離子。

作為Rcy¹ ～Rcy⁵ 、Rcy¹¹ 及Rcy¹² 所表示之取代基，客流上述取代基T。作為Y¹ 所表示之抗衡陰離子，可列舉以式（Cy1）所說明之抗衡陰離子。

作為花青化合物的具體例，可列舉下述結構的化合物。 [化學式16]

作為用作遮蔽波長大於1000nm且1200nm以下的範圍的光之材料之二硫醇金屬錯合物，由下述式（Dt1）所表示之化合物為較佳。 [化學式17]

式中，Rt¹ ～Rt⁴ 分別獨立地表示烷基、芳基或雜芳基。Rt¹ 和Rt² 可鍵結而形成環，Rt³ 和Rt⁴ 可鍵結而環。M表示金屬原子。Rt¹ ～Rt⁴ 所表示之烷基、芳基及雜芳基可具有取代基。作為取代基可列舉上述取代基T。Rt¹ ～Rt⁴ 分別獨立地表示芳基為較佳。作為M所表示之金屬原子，可列舉Ni、Pt、Co、Fe、Cu、Mo，Ni為較佳。

作為二硫醇金屬錯合物的具體例，可列舉下述結構的化合物。 [化學式18]

作為用作遮蔽波長大於1000nm且1200nm以下的範圍的光的材料之金屬平板粒子的材料，銀、金、鋁、銅、銠、鎳、白金等為較佳，銀為更佳。作為金屬平板粒子，只要係包括2個主平面之粒子則無特別限制，能夠依據目的而適當地選擇，例如可列舉六邊形狀、圓形狀、三角形狀。該等中，就可見光透射率高的方面而言，係六邊形狀以上的多邊形狀～圓形狀為更佳，六邊形狀或圓形狀為特佳。金屬平板粒子的厚度係20nm以下為較佳，14nm以下為更佳。作為金屬平板粒子的縱橫比，無特別限制，能夠依據目的適當地選擇，但從波長大於1000nm且1200nm以下的範圍的光的反射率變高的方面考慮，6～40為較佳，8～30為更佳。前述縱橫比係指將金屬平板粒子的一次粒子的平均粒徑（平均等效圓直徑）除以金屬平板粒子的平均粒子厚度而得之值。平均粒子厚度之相當於金屬平板粒子的主平面間距離，能夠利用原子力顯微鏡（AFM）進行測量。關於金屬平板粒子的詳細內容能夠參閱日本特開2013-195563號公報的0017～0027段的記載，並將該內容編入本說明書中。

作為用作遮蔽波長大於1000nm且1200nm以下的範圍的光的材料之量子點的材料，可列舉FeSi、Ge、InN、InAs、PbTe、PbSe、InSb等。作為量子點的形狀，無特別限定，可列舉圓球狀、鱗片狀、板狀、橢球狀、不規則形。

作為用作遮蔽波長大於1000nm且1200nm以下的範圍的光的材料之含稀土類源自之陶瓷，可列舉包含Yb、Ho、Tm等稀土類原子之陶瓷。作為具體例，可列舉包含Yb及Ho之Y₂ O₃ 、包含Yb及Tm之Y₂ O₃ 等。

在本發明的組成物中，遮蔽波長大於1000nm且1200nm以下的範圍的光的材料的含量係組成物的總固體成分的1～50質量%為較佳。上限係45質量%以下為較佳，40質量%以下為更佳。下限係2質量%以上為較佳，3質量%以上為更佳。 又，在作為遮蔽波長大於1000nm且1200nm以下的範圍的光的材料使用二亞胺化合物之情況下，二亞胺化合物的含量係組成物的總固體成分的2～40質量%為較佳。上限係35質量%以下為較佳，30質量%以下為更佳。下限係3質量%以上為較佳，5質量%以上為更佳。 又，作為遮蔽波長大於1000nm且1200nm以下的範圍的光的材料之二亞胺化合物與遮蔽可見光之色材的總計量係組成物的總固體成分的10～90質量%。上限係80質量%以下為較佳，70質量%以下為更佳。下限係15質量%以上為較佳，30質量%以上為更佳。 又，紅外線吸收劑與遮蔽可見光之色材的總計量中的、作為遮蔽波長大於1000nm且1200nm以下的範圍的光的材料的二亞胺化合物的含量係10～80質量%為較佳。上限係70質量%以下為較佳，50質量%以下為更佳。下限係12質量%以上為較佳，18質量%以上為更佳。

（在波長大於900nm且1000nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物） 本發明中的紅外線吸收劑包含在波長大於900nm且1000nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物為較佳。藉由包含該種化合物，能夠提高波長900～1000nm附近的紅外線的遮蔽性。上述化合物的極大吸收波長設於900～990nm的範圍為較佳，設於900～980nm的範圍為更佳，設於900～960nm的範圍為進一步較佳。又，上述化合物中，波長1020nm下的吸光度A₁₀₂₀ 與極大吸收波長下的吸光度A_max 之比、亦即吸光度A_max /吸光度A₁₀₂₀ 係4.5以上為較佳，10以上為更佳，30以上為進一步較佳。上限例如為90以下為較佳。藉由該態樣，能夠提高波長大於1000nm的紅外線的透射性。

在波長大於900nm且1000nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物係選自吡咯并吡咯化合物、花青化合物、方酸菁化合物、酞菁化合物、萘酞菁化合物中之至少一種化合物為較佳，吡咯并吡咯化合物為更佳。作為吡咯并吡咯化合物，可列舉國際公開WO2015/166873號公報的0010～0033段記載之化合物等。作為花青化合物，可列舉下述結構的化合物、日本特開2014-095007號公報所記載之化合物等。作為酞菁化合物，可列舉日本特開2014-021421號公報所記載之化合物等。作為方酸菁化合物，可列舉日本特開2014-077066號公報所記載之化合物、日本特開2013-147595號公報所記載之化合物等。將該等公報的內容編入本說明書中。又，作為市售品，亦能夠使用FDN-005、FDN-006、FDN-007（以上為YAMADA CHEMICAL CO., LTD.製、酞菁化合物）。 [化學式19]

作為在波長大於900nm且1000nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物使用之吡咯并吡咯化合物係由下述式（1）所表示之化合物為較佳。藉由使用該化合物，能夠期待能夠提高所獲得之膜的耐熱性或耐光性之效果。 [化學式20]式（1）中，X¹ 及X² 分別獨立地表示氫原子或取代基，A¹ 及A² 分別獨立地表示取代基，R¹ ～R¹⁰ 分別獨立地表示氫原子或取代基，R¹ ～R⁸ 中的至少一個表示取代基。

作為A¹ 及A² 所表示之取代基，可列舉芳基、雜芳基等，芳基為較佳。 作為芳基，碳數6～20的芳基為較佳，碳數6～12的芳基為更佳。苯基或萘基為特佳。 雜芳基可以為單環亦可以為多環。構成雜芳基之雜原子的數係1～3為較佳。構成雜芳基之雜原子係氮原子、氧原子或硫原子為較佳。雜芳基的碳數係3～30為較佳，3～18為更佳，3～12為更佳。作為雜芳基的具體例，例如可列舉咪唑基、吡啶基、喹啉基、呋喃基、噻吩基、苯并噁唑基、苯并咪唑基、苯并噻唑基、萘并噻唑基、間-咔唑基（meta-carbazolyl）、吖庚因基等。 上述芳基及雜芳基可具有取代基，亦可以為未經取代。從能夠提高對溶劑的溶解性之觀點考慮，芳基及雜芳基具有取代基為較佳。作為取代基，可列舉上述取代基T所說明之取代基、後述-L¹⁰⁰ -X¹⁰⁰ 所表示之基團等。 烷基碳數、1～40為較佳，1～30為更佳，1～25為特佳。烷基可以為直鏈、支鏈、環狀中的任一種、直鏈或支鏈為較佳，支鏈為特佳。 烯基的碳數係2～40為較佳。下限例如為3以上為更佳，5以上為進一步較佳，8以上為更進一步較佳，10以上為特佳。上限係35以下為更佳，30以下為進一步較佳。烯基可以為直鏈、支鏈、環狀中的任一種，直鏈或支鏈為較佳，支鏈為特佳。 烷氧基的碳數係1～40為較佳，1～30為更佳，1～25為特佳。烷氧基可以為直鏈、支鏈、環狀中的任一種，直鏈或支鏈為較佳，支鏈為特佳。

-L¹⁰⁰ -X¹⁰⁰ 中，L¹⁰⁰ 表示單鍵或2價的連接基，X¹⁰⁰ 表示反應性基。作為反應性基，選自乙烯基、（甲基）烯丙基、（甲基）丙烯醯基、環氧基、氧雜環丁基、異氰酸酯基、羥基、胺基、羧基、硫醇基、烷氧基甲矽烷基、羥甲基、磺酸基、苯乙烯基及順丁烯二醯亞胺基中之1種以上為較佳，乙烯基、（甲基）烯丙基、（甲基）丙烯醯基、羥基及羧基為較佳。又，作為反應性基，由下述式（A-1）所表示之基團、由下述式（A-2）所表示之基團、由下述式（A-3）所表示之基團亦較佳。 [化學式21]

式（A-1）中，R¹⁵ 、R¹⁶ 及R¹⁷ 分別獨立地表示氫原子、烷基、烯基、炔基或芳基。 烷基的碳數係1～18為較佳，1～10為更佳，1～6為進一步較佳，1～3為特佳，1為最佳。烷基可以為直鏈、支鏈、環狀中的任一種。 烯基的碳數係2～18為較佳，2～10為更佳，2～6為進一步較佳，2～3為特佳。烯基可以為直鏈、支鏈、環狀中的任一種。 炔基的碳數係2～18為較佳，2～10為更佳，2～6為進一步較佳，2～3為特佳。炔基可以為直鏈、支鏈、環狀中的任一種。 芳基的碳數係6～12為較佳，6～8為更佳，6為進一步較佳。 式（A-1）中，R¹⁵ 係氫原子或碳數1～18的烷基為較佳，氫原子為更佳。式（A-1）中，R¹⁶ 及R¹⁷ 分別獨立地表示氫原子或碳數1～18的烷基為較佳，氫原子為更佳。

式（A-2）中，R¹⁸ 、R¹⁹ 及R²⁰ 分別獨立地表示氫原子、甲基、氟原子或-CF₃ 。式（A-2）中，R¹⁸ 係甲基為較佳。式（A-2）中，R¹⁹ 及R²⁰ 係氫原子為較佳。

式（A-3）中，R²¹ 及R²² 分別獨立地表示氫原子、甲基、氟原子或-CF_{3 ，} 氫原子為較佳。式（A-3）中，Q表示1或2。

L¹⁰⁰ 表示2價的連接基時，L¹⁰⁰ 係碳數1～20的伸烷基、碳數6～18的伸芳基、碳數3～18的雜伸芳基、-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、或包括該等基團的組合之基團為較佳。

式（1）中，R¹ ～R¹⁰ 分別獨立地表示氫原子或取代基，R¹ ～R⁸ 中的至少一個表示取代基。R¹ ～R⁸ 的2～8個係取代基為較佳，2～6個係取代基為更佳，2～4個係取代基為特佳。

作為R¹ ～R⁸ 所表示之取代基，可列舉上述取代基T、上述-L¹⁰⁰ -X¹⁰⁰ 所表示之基團等，鹵素原子、烷基、烷氧基、芳基、氰基為較佳，鹵素原子為更佳。 作為鹵素原子，係氟原子、氯原子、溴原子、碘原子為較佳，氯原子為特佳。 作為烷基的碳數，1～40為較佳，1～30為更佳，1～25為特佳。烷基可以為直鏈、支鏈、環狀中的任一種，直鏈或支鏈為較佳，直鏈為特佳。 作為烷氧基的碳數，1～40為較佳，1～30為更佳，1～25為特佳。烷氧基可以為直鏈、支鏈、環狀中的任一種，直鏈或支鏈為較佳，直鏈為特佳。 作為芳基的碳數，6～20為較佳，6～12為更佳。

作為R⁹ 、R¹⁰ 所表示之取代基，可列舉上述取代基T。R⁹ 、R¹⁰ 所表示之取代基係吸電子基為較佳。作為吸電子基，例如係哈米特的取代基常數σp值（sigma para-value：對位取代基常數值）為正的取代基為較佳。σp值係0.20以上為較佳，0.25以上為更佳，0.3以上為進一步較佳，0.35以上為特佳。上限無特別限制，較佳為0.80以下。作為具體例，可列舉氰基（σp值=0.66）、羧基（-COOH：σp值=0.45）、烷氧羰基（例如-COOMe：σp值=0.45）、芳基氧羰基（例如-COOPh：σp值=0.44）、胺甲醯基（例如-CONH₂ ：σp值=0.36）、烷基羰基（例如-COMe：σp值=0.50）、芳基羰基（例如-COPh：σp值=0.43）、烷基磺醯基（例如-SO₂ Me：σp值=0.72）、芳基磺醯基（例如-SO₂ Ph：σp值=0.68）等。其中，Me表示甲基，Ph表示苯基。另外，關於哈米特的取代基常數σp值，例如能夠參閱日本特開2011-068731號公報的0017～0018段，並將該內容編入本說明書中。

R⁹ 、R¹⁰ 所表示之取代基係氰基、羧基、醯基、烷氧羰基、芳基氧羰基、胺甲醯基、烷基羰基、芳基羰基、烷基磺醯基、芳基磺醯基為較佳，氰基為更佳。

式（1）中，X¹ 及X² 分別獨立地表示氫原子或取代基。 作為X¹ 及X² 所表示之取代基，可列舉烷基、芳基、雜芳基、金屬原子、由-BR²³ R²⁴ 所表示之基團等，氫原子或由-BR²³ R²⁴ 所表示之基團為較佳，由-BR²³ R²⁴ 所表示之基團為更佳。 烷基的碳數係1～40為較佳，1～30為更佳，1～25為特佳。烷基可以為直鏈、支鏈、環狀中的任一種，直鏈或支鏈為較佳，直鏈為特佳。 作為芳基的碳數，6～20為較佳，6～12為更佳。 雜芳基可以為單環，亦可以為多環，單環為較佳。構成雜芳基之雜原子的數係1～3為較佳。構成雜芳基之雜原子係氮原子、氧原子或硫原子為較佳。雜芳基的碳數係3～30為較佳，3～18為更佳，3～12為更佳，3～5為特佳。 作為金屬原子，鎂、鋁、鈣、鋇、鋅、錫、釩、鐵、鈷、鎳、銅、鈀、銥、鉑為較佳，鋁、鋅、釩、鐵、銅、鈀、銥、鉑為更佳。

由-BR²³ R²⁴ 所表示之基團中，R²³ 及R²⁴ 分別獨立地表示取代基，R²³ 與R²⁴ 可相互鍵結而形成環。作為R²³ 及R²⁴ 所表示之取代基，可列舉上述取代基T、上述-L¹⁰⁰ -X¹⁰⁰ 所表示之基團。較佳為鹵素原子、烷基、芳基、雜芳基及上述-L¹⁰⁰ -X¹⁰⁰ 所表示之基團。 作為鹵素原子，氟原子、氯原子、溴原子、碘原子為較佳，氟原子為特佳。 作為烷基、芳基、雜芳基，與X¹ 及X² 所說明之烷基、芳基、雜芳基相同，較佳範圍亦相同。

R²³ 及R²⁴ 可相互鍵結而形成環。作為R²³ 與R²⁴ 鍵結而形成之環，例如可列舉以下所示之結構等。

[化學式22]

作為由式（1）所表示之化合物，例如可列舉以下所示之化合物、國際公開WO2015/166873號公報的0026～0033段所記載之化合物，並將該內容編入本說明書中。

[化學式23]

在本發明的組成物中，在波長大於900nm且1000nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物的含量係組成物的總固體成分的1～40質量%為較佳。上限係30質量%以下為較佳，20質量%以下為更佳。下限係3質量%以上為較佳，5質量%以上為更佳。 又，在波長大於900nm且1000nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物與遮蔽可見光之色材的總計量係組成物的總固體成分的10～60質量%為較佳。上限係55質量%以下為較佳，50質量%以下為更佳。下限係20質量%以上為較佳，25質量%以上為更佳。 又，紅外線吸收劑與遮蔽可見光之色材的總計量中的、在波長大於900nm且1000nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物的含量係5～40質量%為較佳。上限係30質量%以下為較佳，25質量%以下為更佳。下限係10質量%以上為較佳，15質量%以上為更佳。

（在波長大於700nm且900nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物） 本發明中的紅外線吸收劑還包含在波長大於700nm且900nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物為較佳。依據該態樣，能夠更有效地遮蔽可見區域的光，容易製造在來自於可見光線之干擾少的狀態下可選擇地透射波長大於1400nm的紅外線之膜。上述化合物的極大吸收波長具有750～900nm的範圍為較佳，具有800～880nm的範圍為更佳。

在波長大於700nm且900nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物可列舉吡咯并吡咯化合物、花青化合物、方酸菁化合物、酞菁化合物、萘酞菁化合物、部花青化合物、克酮鎓化合物、氧雜菁化合物等，吡咯并吡咯化合物、花青化合物及方酸菁化合物為較佳。 作為酞菁化合物，例如可列舉日本特開2012-077153號公報的0093段所記載之化合物、日本特開2006-343631號公報所記載之酞菁氧鈦、日本特開2013-195480號公報的0013～0029段所記載之化合物、日本專利第6081771號公報所記載之釩酞菁，並將該等內容編入本說明書中。又，作為酞菁化合物，亦能夠使用下述結構的化合物。作為萘酞菁化合物，例如可列舉日本特開2012-077153號公報的0093段所記載之化合物，並將該內容編入本說明書中。 [化學式24]

作為吡咯并吡咯化合物，由式（PP）所表示之化合物為較佳。 [化學式25]式中，R^1a 及R^1b 分別獨立地表示烷基、芳基或雜芳基，R² 及R³ 分別獨立地表示氫原子或取代基，R² 及R³ 可以相互鍵結而形成環，R⁴ 分別獨立地表示氫原子、烷基、芳基、雜芳基、-BR^4A R^4B 或金屬原子，R⁴ 可以與選自R^1a 、R^1b 及R³ 中之至少一個共價鍵結或配位鍵結，R^4A 及R^4B 分別獨立地表示取代基。關於式（PP）的詳細內容，能夠參閱日本特開2009-263614號公報的0017～0047段、日本特開2011-068731號公報的0011～0036段、國際公開WO2015/166873號公報的0010～0024段的記載，並將該等內容編入本說明書中。

式（PP）中，R^1a 及R^1b 分別獨立地為芳基或雜芳基為較佳，芳基為更佳。又，R^1a 及R^1b 所表示之烷基、芳基及雜芳基可具有取代基，亦可以為未經取代。作為取代基，可列舉上述取代基T。

式（PP）中，R² 及R³ 分別獨立地表示氫原子或取代基。作為取代基可列舉上述取代基T。R² 及R³ 中的至少一者係吸電子基為較佳，氰基、羧基、醯基、烷氧羰基、芳基氧羰基、胺甲醯基、烷基羰基、芳基羰基、烷基磺醯基、芳基磺醯基為更佳，氰基為進一步較佳。

式（PP）中，R² 表示吸電子基（較佳為氰基），R³ 表示雜芳基為較佳。雜芳基係5員環或6員環為較佳。又，雜芳基係單環或縮合環為較佳，單環或縮合數為2～8的縮合環為較佳，單環或縮合數為2～4的縮合環為更佳。構成雜芳基之雜原子的數為1～3為較佳，1～2為更佳。作為雜原子，例如可例示氮原子、氧原子、硫原子。雜芳基具有1個以上的氮原子為較佳。式（PP）中的2個R² 彼此可以相同，亦可以不同。又，式（PP）中的2個R³ 彼此可以相同，亦可以不同。

式（PP）中，R⁴ 係氫原子、烷基、芳基、雜芳基或由-BR^4A R^4B 所表示之基團為較佳，氫原子、烷基、芳基或由-BR^4A R^4B 所表示之基團為更佳，由-BR^4A R^4B 所表示之基團為進一步較佳。作為R^4A 及R^4B 所表示之取代基，係鹵素原子、烷基、烷氧基、芳基或雜芳基為較佳，烷基、芳基或雜芳基為更佳，芳基為特佳。該等基團還可具有取代基。式（PP）中的2個R⁴ 彼此可以相同，亦可以不同。R^4A 及R^4B 可相互鍵結而形成環。

作為由式（PP）所表示之化合物的具體例可列舉下述化合物。以下結構式中，Me表示甲基，Ph表示苯基。又，作為吡咯并吡咯化合物，可列舉日本特開2009-263614號公報的0016～0058段所記載之化合物、日本特開2011-068731號公報的0037～0052段所記載之化合物等，並將該等內容編入本說明書中。 [化學式26]

作為方酸菁化合物，由下述式（SQ）所表示之化合物為較佳。 [化學式27]式（SQ）中，A¹ 及A² 分別獨立地表示芳基、雜芳基或由式（A-1）所表示之基團； [化學式28]式（A-1）中，Z¹ 表示形成含氮雜環之非金屬原子團，R² 表示烷基、烯基或芳烷基，d表示0或1，波線表示連接鍵。關於式（SQ）的詳細內容，能夠參閱日本特開2011-208101號公報的0020～0049段、日本專利第6065169號公報的0043～0062段、國際公開WO2016/181987號公報的0024～0040段的記載，並將該等內容編入本說明書中。

另外，式（SQ）中陽離子以如下方式非定域化而存在。 [化學式29]

方酸菁化合物係由下述式（SQ-1）所表示之化合物為較佳。 [化學式30]環A及環B分別獨立地表示芳香族環， X^A 及X^B 分別獨立地表示取代基， G^A 及G^B 分別獨立地表示取代基， kA表示0～n_A 的整數，kB表示0～n_B 的整數， n_A 及n_B 分別表示可取代為環A或環B之最大的整數， X^A 和G^A 、X^B 和G^B 、X^A 和X^B 可以相互鍵結而形成環，G^A 及G^B 分別存在複數個時，可相互鍵結而形成環結構。

作為G^A 及G^B 所表示之取代基，可列舉上述取代基T。

作為X^A 及X^B 所表示之取代基，具有活性氫之基團為較佳，-OH、-SH、-COOH、-SO₃ H、-NR^X1 R^X2 、-NHCOR^X1 、-CONR^X1 R^X2 、-NHCONR^X1 R^X2 、-NHCOOR^X1 、-NHSO₂ R^X1 、-B（OH）₂ 及-PO（OH）₂ 為更佳，-OH、-SH及-NR^X1 R^X2 為進一步較佳。R^X1 及R^X2 分別獨立地表示氫原子或取代基。作為X^A 及X^B 所表示之取代基，可列舉烷基、芳基或雜芳基，烷基為較佳。

環A及環B分別獨立地表示芳香族環。芳香族環可以為單環，亦可以為縮合環。作為芳香族環的具體例，可列舉苯環、萘環、并環戊二烯（pentalene）環、茚環、薁環、庚搭烯（heptalene）環、茚烯（indacene）環、苝環、稠五苯（pentacene）環、苊烯環、菲環、蒽環、稠四苯環、䓛環、聯伸三苯環、茀環、聯苯環、吡咯環、呋喃環、噻吩環、咪唑環、噁唑環、噻唑環、吡啶環、吡嗪環、嘧啶環、噠嗪環、吲嗪環、吲哚環、苯并呋喃環、苯并噻吩環、異苯并呋喃環、喹嗪環、喹啉環、酞嗪環、萘啶環、喹噁啉環、喹噁唑啉環、異喹啉環、咔唑環、啡啶環、吖啶環、啡啉環、噻嗯環、色烯環、口山口星環、啡噁噻環、啡噻嗪環及啡嗪環，苯環或萘環為較佳。芳香族環可以為未經取代，亦可具有取代基。作為取代基，可列舉上述取代基T。

X^A 和G^A 、X^B 和G^B 、X^A 和X^B 可以相互鍵結而形成環，G^A 及G^B 分別存在複數個時，可以相互鍵結而形成環。作為環，5員環或6員環為較佳。環可以為單環，亦可以為縮合環。X^A 和G^A 、X^B 和G^B 、X^A 和X^B 、G^A 彼此或G^B 彼此鍵結而形成環時，該等可以直接鍵結而形成環，亦可以經由包含伸烷基、-CO-、-O-、-NH-、-BR-及該等的組合之2價的連接基鍵結而形成環。R表示氫原子或取代基。作為取代基，可列舉上述取代基T，烷基或芳基為較佳。

kA表示0～n_A 的整數，kB表示0～n_B 的整數，n_A 表示可取代為環A的最大的整數，n_B 表示可取代為環B之最大的整數。kA及kB分別獨立地為0～4為較佳，0～2為更佳，0～1為特佳。

方酸菁化合物係由下述式（SQ-10）、式（SQ-11）或式（SQ-12）所表示之化合物亦較佳。 式（SQ-10） [化學式31]式（SQ-11） [化學式32]式（SQ-12） [化學式33]

式（SQ-10）～（SQ-12）中，X獨立地為1個以上的氫原子可由鹵素原子、碳數1～12的烷基或烷氧基所取代之式（1）或式（2）所表示之2價的有機基。 -（CH₂ ）_n1 -･･････（1） 式（1）中，n1為2或3。 -（CH₂ ）_n2 -O-（CH₂ ）_n3 -･･････（2） 式（2）中，n2和n3分別獨立地為0～2的整數，n2+n3為1或2。 R¹ 及R² 分別獨立地表示烷基或芳基。烷基及芳基可具有取代基，亦可以為未經取代。作為取代基可列舉取代基T。 R³ ～R⁶ 分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、烷基或烷氧基。 n為2或3。

作為方酸菁化合物，可列舉下述結構的化合物。又，可列舉日本特開2011-208101號公報的0044～0049段中所記載之化合物、日本專利第6065169號公報的0060～0061段中所記載之化合物、國際公開WO2016/181987號公報的0040段中所記載之化合物、國際公開WO2013/133099號公報中所記載之化合物、國際公開WO2014/088063號公報中所記載之化合物、日本特開2014-126642號公報中所記載之化合物、日本特開2016-146619號公報中所記載之化合物、日本特開2015-176046號公報中所記載之化合物、日本特開2017-025311號公報中所記載之化合物、國際公開WO2016/154782號公報中所記載之化合物、日本專利5884953號公報中所記載之化合物、日本專利6036689號公報中所記載之化合物、日本專利5810604號公報中所記載之化合物、日本特開2017-068120號公報中所記載之化合物等，並將該等內容編入本說明書中。 [化學式34]

花青化合物為由式（C）表示之化合物為較佳。 式（C） [化學式35]式中，Z¹ 及Z² 分別獨立地為形成可以縮環之5員或6員的含氮雜環之非金屬原子團， R¹⁰¹ 及R¹⁰² 分別獨立地表示烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基， L¹ 表示具有奇數個次甲基之次甲基鏈， a及b分別獨立地為0或1， a為0之情況下，碳原子與氮原子以雙鍵鍵結，b為0之情況下，碳原子與氮原子以單鍵鍵結， 式中的由Cy表示之部位為陽離子部之情況下，X¹ 表示陰離子，c表示用於使電荷平衡所需之數，式中的由Cy表示之部位為陰離子部之情況下，X¹ 表示陽離子，c表示用於使電荷平衡所需之數，式中的由Cy表示之部位的電荷於分子內中和之情況下，c為0。

作為花青化合物，可列舉日本特開2009-108267號公報的0044～0045段中所記載之化合物、日本特開2002-194040號公報的0026～0030段中所記載之化合物、日本特開2015-172004號公報中所記載之化合物、日本特開2015-172102號公報中所記載之化合物、日本特開2008-088426號公報中所記載之化合物、日本特開2017-031394號公報中所記載之化合物等，並將該等內容編入本說明書中。

本發明中，作為在波長大於700nm且900nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物，亦能夠使用市售品。例如，可列舉SDO-C33（Arimoto Chemical Co.,Ltd.製）、EX Color IR-14、EX Color IR-10A、EX Color TX-EX-801B、EX Color TX-EX-805K（Nippon Shokubai Co.,Ltd.製）、ShigenoxNIA-8041、ShigenoxNIA-8042、ShigenoxNIA-814、ShigenoxNIA-820、ShigenoxNIA-839（HAKKO Chemical Co.,Ltd.製）、EpoliteV-63、Epolight3801、Epolight3036（EPOLIN公司製）、PRO-JET825LDI（FUJIFILM Co.,Ltd.製）、NK-3027、NK-5060（Hayashibara Co.,Ltd.製）、YKR-3070（Mitsui Chemicals,Inc.製）等。

本發明的組成物中，在波長大於700nm且900nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物的含量係組成物的總固體成分的0.5～30質量%為較佳。上限係20質量%以下為較佳，15質量%以下為更佳。下限係1質量%以上為較佳，2質量%以上為更佳。 又，在波長大於700nm且900nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物與在波長大於900nm且1000nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物的總計量係組成物的總固體成分的1～30質量%為較佳。上限係25質量%以下為較佳，20質量%以下為更佳。下限係3質量%以上為較佳，5質量%以上為更佳。 又，在波長大於700nm且900nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物與遮蔽可見光之色材的總計量係組成物的總固體成分的15～45質量%為較佳。上限係40質量%以下為較佳，35質量%以下為更佳。下限係18質量%以上為較佳，20質量%以上為更佳。 又，紅外線吸收劑與遮蔽可見光之色材的總計量中的、在波長大於700nm且900nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物的含量係1～40質量%為較佳。上限係38質量%以下為較佳，35質量%以下為更佳。下限係3質量%以上為較佳，5質量%以上為更佳。

＜＜硬化性化合物＞＞ 本發明的組成物含有硬化性化合物。作為硬化性化合物，可列舉聚合性化合物、樹脂、明膠和纖維素等天然高分子等。作為明膠，依據其合成方法，有酸處理明膠及鹼處理明膠（石灰處理等），均能夠較佳地使用。明膠的分子量係10,000～1,000,000為較佳。又，亦能夠使用利用明膠的胺基或羧基進行改質處理之改質明膠（例如，鄰苯二甲酸酯化明膠等）。作為明膠，能夠使用惰性明膠（例如，新田明膠750）及鄰苯二甲酸酯化明膠（例如，新田明膠801）等。樹脂可以為非聚合性的樹脂（不具有聚合性基之樹脂），亦可以為聚合性的樹脂（具有聚合性基之樹脂）。作為聚合性基，可列舉具有乙烯性不飽和鍵之基團、環氧基、羥甲基、烷氧基甲基等。作為具有乙烯性不飽和鍵之基團，可列舉乙烯基、（甲基）烯丙基、（甲基）丙烯醯基等。另外，聚合性的樹脂（具有聚合性基之樹脂）亦為聚合性化合物。

在本發明中，作為硬化性化合物，使用至少包含樹脂者為較佳，使用樹脂和單體類型的聚合性化合物為更佳，使用樹脂、具有含有烯屬不飽和鍵之基團之單體類型的聚合性化合物為進一步較佳。

本發明的組成物中，硬化性化合物的含量相對於組成物的總固體成分係0.1～80質量%為較佳。下限係0.5質量%以上為較佳，1質量%以上為更佳，5質量%以上為進一步較佳。上限係70質量%以下為較佳，60質量%以下為更佳，50質量%以下為進一步較佳，40質量%以下為更進一步較佳，30質量%以下為特佳。硬化性化合物可以僅為一種，亦可以為兩種以上。當為兩種以上時，總計量為上述範圍為較佳。

（聚合性化合物） 作為聚合性化合物，可列舉含有具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物、具有環氧基之化合物、具有羥甲基之化合物、具有烷氧基甲基之化合物等。聚合性化合物可以為單體，亦可以為樹脂。具有含有烯屬不飽和鍵之基團之單體類型的聚合性化合物能夠較佳地用作自由基聚合性化合物。又，具有環氧基之化合物、具有羥甲基之化合物、具有烷氧基甲基之化合物能夠較佳地用作陽離子聚合性化合物。

單體類型的聚合性化合物的分子量小於2000為較佳，100以上且小於2000為更佳，200以上且小於2000為進一步較佳。上限例如係1500以下為較佳。樹脂類型的聚合性化合物的重量平均分子量（Mw）係2,000～2,000,000為較佳。上限係1,000,000以下為較佳，500,000以下為更佳。下限係3,000以上為較佳，5,000以上為更佳。

作為樹脂類型的聚合性化合物，可列舉環氧樹脂、包含具有聚合性基之重複單元之樹脂等。作為具有聚合性基之重複單元，可列舉下述（A2-1）～（A2-4）等。 [化學式36]

R¹ 表示氫原子或烷基。烷基的碳數係1～5為較佳，1～3為進一步較佳，1為特佳。R¹ 係氫原子或甲基為較佳。

L⁵¹ 表示單鍵或2價的連接基。作為2價的連接基，可列舉伸烷基、伸芳基、-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-SO₂ -、-NR¹⁰ -（R¹⁰ 表示氫原子或烷基，氫原子為較佳）、或包含該等組合之基團。伸烷基的碳數係1～30為較佳，1～15為更佳，1～10為進一步較佳。伸烷基可以具有取代基，未經取代為較佳。伸烷基可以為直鏈、支鏈、環狀中的任一種。又，環狀的伸烷基可以為單環、多環中的任一個。伸芳基的碳數係6～18為較佳，6～14為更佳，6～10為進一步較佳。

P¹ 表示聚合性基。作為聚合性基，可列舉具有烯屬不飽和鍵之基團、環氧基、羥甲基、烷氧基甲基等。

作為含有具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物係3～15官能的（甲基）丙烯酸酯化合物為較佳，3～6官能的（甲基）丙烯酸酯化合物為更佳。作為包含具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物的例子，能夠參閱日本特開2013-253224號公報的0033～0034段的記載，並將該內容編入本說明書中。作為具有含有乙烯性不飽和基之基團之化合物，伸乙基氧基改質新戊四醇四丙烯酸酯（作為市售品為NK Ester ATM-35E；Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.製造）、二新戊四醇三丙烯酸酯（作為市售品為KAYARAD D-330；Nippon Kayaku Co.,Ltd.製造）、二新戊四醇四丙烯酸酯（作為市售品為KAYARAD D-320；Nippon Kayaku Co.,Ltd.製造）、二新戊四醇五（甲基）丙烯酸酯（作為市售品為KAYARAD D-310；Nippon Kayaku Co.,Ltd.製造）、二新戊四醇六（甲基）丙烯酸酯（作為市售品為KAYARAD DPHA；Nippon Kayaku Co.,Ltd.製造，A-DPH-12E；Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.製造）及該等的（甲基）丙烯醯基介隔乙二醇殘基和/或丙二醇殘基鍵結之結構為較佳。又，亦能夠使用該等寡聚物類型。又，能夠參閱日本特開2013-253224號公報的0034～0038段的記載，並將該內容編入本說明書中。又，可列舉日本特開2012-208494號公報的段落號0477（對應之美國專利申請公開第2012/0235099號說明書的段落號0585）中所記載之聚合性單體等，將該等內容編入本說明書中。又，二甘油EO（環氧乙烷）改質（甲基）丙烯酸酯（作為市售品為M-460；TOAGOSEI CO.,LTD.製造）、新戊四醇四丙烯酸酯（Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.製造，A-TMMT）、1,6-己二醇二丙烯酸酯（Nippon Kayaku Co.,Ltd.製造，KAYARAD HDDA）亦較佳。亦能夠使用該等的寡聚物類型。例如可列舉RP-1040（Nippon Kayaku Co.,Ltd.製）等。又，亦能夠使用ARONIX M-350、TO-2349（TOAGOSEI CO.,LTD.製）。

含有具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物還可具有羧基、磺基、磷酸基等酸基。作為市售品，例如可列舉TOAGOSEI CO.,LTD.製的ARONIX系列（例如M-305、M-510、M-520）等。

含有具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物係具有己內酯結構之化合物亦較佳之態樣。作為具有己內酯結構之化合物，能夠參閱日本特開2013-253224號公報的0042～0045段的記載，並將該內容編入本說明書中。具有己內酯結構之化合物例如由NIPPON KAYAKU CO.,Ltd.作為KAYARAD DPCA系列而在市場上出售，可列舉DPCA-20、DPCA-30、DPCA-60、DPCA-120等。

作為包含具有烯屬不飽和鍵之基團之化合物，亦能夠使用含有具有烯屬不飽和鍵之基團和伸烷氧基之化合物。含有具有烯屬不飽和鍵之基團和伸烷氧基之化合物，具有烯屬不飽和鍵之基團、具有伸乙基氧基及/或伸丙基氧基之化合物為較佳，含有具有烯屬不飽和鍵之基團和伸乙基氧基之化合物為更佳，具有4～20個伸乙基氧基之3～6官能（甲基）丙烯酸酯化合物為進一步較佳。作為含有具有烯屬不飽和鍵之基團和伸烷氧基之化合物的市售品，例如可列舉Sartomer Company, Inc製的作為具有4個伸乙氧基之4官能（甲基）丙烯酸酯之SR-494、作為具有3個異伸丁氧基之3官能（甲基）丙烯酸酯之KAYARAD TPA-330等。

作為含有具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物，如日本特公昭48-041708號公報、日本特開昭51-037193號公報、日本特公平2-032293號公報、日本特公平2-016765號公報中記載之胺甲酸酯丙烯酸酯（Urethane acrylate）類或、日本特公昭58-049860號公報、日本特公昭56-017654號公報、日本特公昭62-039417號公報、日本特公昭62-039418號公報記載的具有環氧乙烷系骨架之胺基甲酸酯化合物類亦較佳。又，能夠使用日本特開昭63-277653號公報、日本特開昭63-260909號公報、日本特開平1-105238號公報中所記載之於分子內具有胺基結構或硫化物結構之加成聚合性化合物類。作為市售品，可列舉UA-7200（Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.製造）、DPHA-40H（Nippon Kayaku Co.,Ltd.製造）、UA-306H、UA-306T、UA-306I、AH-600、T-600、AI-600（Kyoeisha Chemical Co., Ltd.製造）等。 又，作為包含具有烯屬不飽和鍵之基團之化合物，亦能夠使用日本特開2017-048367號公報、日本專利第6057891號公報、日本專利第6031807號公報中所記載之化合物。 又，作為包含具有烯屬不飽和鍵之基團之化合物，使用8UH-1006、8UH-1012（TAISEI FINE CHEMICAL CO,.LTD.製）、LIGHT ACRYLATEPOB-A0（Kyoeisha chemical Co.,Ltd.製）等亦較佳。

本發明的組成物含有包含具有烯屬不飽和鍵之基團之化合物時，包含具有烯屬不飽和鍵之基團之化合物的含量相對於組成物的總固體成分係0.1質量%以上為較佳，0.5質量%以上為更佳，1質量%以上為進一步較佳，5質量%以上為特佳。上限係80質量%以下為較佳，70質量%以下為更佳，60質量%以下為進一步較佳，50質量%以下為更進一步較佳，40質量%以下為更進一步較佳，30質量%以下為特佳。

作為具有環氧基之化合物（以下，亦稱為環氧化合物），可列舉單官能或多官能縮水甘油醚化合物、或多官能脂肪族縮水甘油醚化合物等。又，作為環氧化合物，亦能夠使用具有脂環式環氧基之化合物。

作為環氧化合物，可列舉在1分子中具有1個以上的環氧基之化合物。環氧化合物係在1分子中具有1～100個環氧基之化合物為較佳。環氧基的數量的上限例如能夠設為10個以下，亦能夠設為5個以下。環氧基的下限係2個以上為較佳。

環氧化合物可以為低分子化合物（例如分子量小於1000），亦可以為高分子化合物（macromolecule）（例如，分子量1000以上，聚合物時，重量平均分子量為1000以上）。環氧化合物的重量平均分子量係2000～100000為較佳。重量平均分子量的上限係10000以下為較佳，5000以下為更佳，3000以下為進一步較佳。

作為環氧化合物的市售品，可列舉EHPE3150（Daicel Chemical Industries Ltd.製）、EPICLON N-695（DIC CORPORATION CO., LTD.製）、ADEKA GLYCIROL ED-505（ADEKA CORPORATION製，含環氧基之單體）、MARPROOF G-0150M、G-0105SA、G-0130SP、G-0250SP、G-1005S、G-1005SA、G-1010S、G-2050M、G-01100、G-01758（NOF CORPORATION製，含環氧基之聚合物）等。又，作為環氧化合物，亦能夠使用日本特開2013-011869號公報的0034～0036段、日本特開2014-043556號公報的0147～0156段、日本特開2014-089408號公報的0085～0092段所記載之化合物。將該等內容編入本說明書中。

本發明的組成物含有環氧化合物時，環氧化合物的含量相對於組成物的總固體成分，係0.1質量%以上為較佳，0.5質量%以上為更佳，1質量%以上為進一步較佳，5質量%以上為特佳。上限係80質量%以下為較佳，70質量%以下為更佳，60質量%以下為進一步較佳，50質量%以下為更進一步較佳，40質量%以下為更進一步較佳，30質量%以下為特佳。

作為具有羥甲基之化合物（以下，亦稱為羥甲基化合物），可列舉羥甲基鍵結於氮原子或形成芳香族環之碳原子之化合物。又，作為具有烷氧基甲基之化合物（以下，亦稱為烷氧基甲基化合物），可列舉烷氧基甲基鍵結於氮原子或形成芳香族環之碳原子之化合物。作為烷氧基甲基或羥甲基鍵結於氮原子之化合物，烷氧基甲基化三聚氰胺、羥甲基化三聚氰胺、烷氧基甲基化苯並胍胺、羥甲基化苯並胍胺、烷氧基甲基化甘脲、羥甲基化甘脲、烷氧基甲基化脲及羥甲基化脲等為較佳。又，能夠參閱日本特開2004-295116號公報的0134～0147段、日本特開2014-089408的0095～0126段的記載，並將該等內容編入本說明書中。

本發明的組成物含有羥甲基化合物時，羥甲基化合物的含量相對於組成物的總固體成分係0.1質量%以上為較佳，0.5質量%以上為更佳，1質量%以上為進一步較佳，5質量%以上為特佳。上限係80質量%以下為較佳，70質量%以下為更佳，60質量%以下為進一步較佳，50質量%以下為更進一步較佳，40質量%以下為更進一步較佳，30質量%以下為特佳。

本發明的組成物含有烷氧基甲基化合物時，烷氧基甲基化合物的含量相對於組成物的總固體成分係0.1質量%以上為較佳，0.5質量%以上為更佳，1質量%以上為進一步較佳，5質量%以上為特佳。上限係80質量%以下為較佳，70質量%以下為更佳，60質量%以下為進一步較佳，50質量%以下為更進一步較佳，40質量%以下為更進一步較佳，30質量%以下為特佳。

（樹脂） 本發明的組成物能夠使用樹脂作為硬化性化合物。硬化性化合物使用至少包含樹脂者為較佳。樹脂亦能夠用作分散劑。另外，將用於使顏料等粒子分散之樹脂稱為分散劑。但是，樹脂的該等用途為一例，亦能夠以該等用途以外的目的使用樹脂。另外，具有聚合性基之樹脂還對應於聚合性化合物。

樹脂的重量平均分子量（Mw）係2,000～2,000,000為較佳。上限係1,000,000以下為較佳，500,000以下為更佳。下限係3,000以上為較佳，5,000以上為更佳。

作為樹脂，可列舉（甲基）丙烯酸樹脂、環氧樹脂、烯-硫醇樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醚樹脂、聚芳酯樹脂、聚碸樹脂、聚醚碸樹脂、聚苯樹脂、聚伸芳基醚氧化膦樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚醯胺-醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、環烯烴樹脂、聚酯樹脂、苯乙烯樹脂等。作為環氧樹脂，可列舉作為上述聚合性化合物一欄中說明之環氧化合物例示之化合物中聚合物類型的化合物。作為環狀烯烴樹脂的市售品，可列舉ARTON F4520（JSR CORPORATION製）等。又，樹脂亦能夠使用國際公開WO2016/088645號公報的實施例中所記載之樹脂、日本特開2017-057265號公報中所記載之樹脂、日本特開2017-032685號公報中所記載之樹脂、日本特開2017-075248號公報中所記載之樹脂、日本特開2017-066240號公報中所記載之樹脂，並將該等內容編入本說明書中。又，亦能夠較佳地使用具有茀骨架之樹脂。作為具有茀骨架之樹脂，可列舉下述結構的樹脂。以下的結構式中，A係選自均苯四甲酸二酐、二苯甲酮四羧酸二酐、聯苯四羧酸二酐及二苯醚四羧酸二酐中之四羧酸二酐的殘基，M係苯基或芐基。關於具有茀骨架之樹脂，能夠參閱美國專利申請公開第2017/0102610號公報的記載，並將該內容編入本說明書中。 [化學式37]

本發明中所使用之樹脂可以具有酸基。作為酸基，例如可列舉羧基、磷酸基、磺基、酚羥基等，羧基為較佳。該等酸基可以係僅一種，亦可以係兩種以上。具有酸基之樹脂亦能夠用作鹼可溶性樹脂。

作為具有酸基之樹脂，於側鏈具有羧基之聚合物為較佳。作為具體例，可列舉甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、巴豆酸共聚物、馬來酸共聚物、部分酯化馬來酸共聚物、酚醛清漆樹脂等鹼可溶性酚醛樹脂、於側鏈具有羧基之酸性纖維素衍生物、對具有羥基之聚合物加成酸酐而成之樹脂。尤其，（甲基）丙烯酸與能夠與其共聚之其他單體的共聚物作為鹼可溶性樹脂為較佳。作為能夠與（甲基）丙烯酸共聚之其他單體，可列舉烷基（甲基）丙烯酸酯、芳基（甲基）丙烯酸酯、乙烯化合物等。作為烷基（甲基）丙烯酸酯及芳基（甲基）丙烯酸酯，可列舉（甲基）丙烯酸甲酯、（甲基）丙烯酸乙酯、（甲基）丙烯酸丙酯、（甲基）丙烯酸丁酯、（甲基）丙烯酸異丁酯、（甲基）丙烯酸戊酯、（甲基）丙烯酸己酯、（甲基）丙烯酸辛酯、苯基（甲基）丙烯酸酯、芐基（甲基）丙烯酸酯、甲苯基（甲基）丙烯酸酯、萘基（甲基）丙烯酸酯、環己基（甲基）丙烯酸酯等，作為乙烯基化合物，可列舉苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、丙烯腈、乙酸乙烯酯、N-乙烯基吡咯啶酮、丙烯酸四氫糠酯、聚苯乙烯大分子單體、聚甲基丙烯酸甲酯大分子單體等。又，其他單體亦能夠使用日本特開平10-300922號公報中所記載之N位取代馬來醯亞胺單體，例如N-苯基馬來醯亞胺、N-環己基馬來醯亞胺等。此外，該等能夠與（甲基）丙烯酸共聚之其他單體可以係僅一種，亦可以係兩種以上。

具有酸基之樹脂還可以含有具有聚合性基之重複單元。具有酸基之樹脂進一步含有具有聚合性基之重複單元時，所有重複單元中的具有聚合性基之重複單元的含量係10～90莫耳%為較佳，20～90莫耳%為更佳，20～85莫耳%為進一步較佳。又，所有重複單元中的具有酸基之重複單元的含量係1～50莫耳%為較佳，5～40莫耳%為更佳，5～30莫耳%為進一步較佳。

作為具有酸基之樹脂能夠較佳地使用（甲基）丙烯酸苄酯/（甲基）丙烯酸共聚物、（甲基）丙烯酸苄酯/（甲基）丙烯酸/（甲基）丙烯酸2-羥基乙酯共聚物、包含（甲基）丙烯酸苄酯/（甲基）丙烯酸/其他單體的多元共聚物。又，亦能夠較佳地使用將2-羥乙基（甲基）丙烯酸酯聚合者，日本特開平7-140654號公報所記載之2-羥丙基（甲基）丙烯酸酯/聚苯乙烯大分子單體/甲基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸共聚物、2-羥基-3-苯氧基丙酯/聚甲基丙烯酸甲酯大分子單體/甲基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸2-羥基乙酯/聚苯乙烯大分子單體/甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸2-羥基乙酯/聚苯乙烯大分子單體/甲基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸共聚物等。

具有酸基之樹脂包含如下聚合物亦為較佳，該聚合物藉由對包含由下述式（ED1）表示之化合物和/或由下述式（ED2）表示之化合物（以下，還將將該等化合物稱為“醚二聚體”。）之單體成分進行聚合而成。

[化學式38]

式（ED1）中，R¹ 及R² 分別獨立地表示氫原子或可以具有取代基之碳數1～25的烴基。 [化學式39]式（ED2）中，R表示氫原子或碳數1～30的有機基。作為由式（ED2）所表示之化合物的具體例，能夠參閱日本特開2010-168539號公報的記載。

作為醚二聚體的具體例，例如能夠參閱日本特開2013-029760號公報的0317段，並將該內容編入本說明書中。醚二聚體可以係僅一種，亦可以係兩種以上。

具有酸基之樹脂可以包含來自於由下述式（X）表示之化合物之重複單元。 [化學式40]式（X）中，R₁ 表示氫原子或甲基，R₂ 表示碳數2～10的伸烷基，R₃ 表示氫原子或可以包含苯環之碳數1～20的烷基。n表示1～15的整數。

關於具有酸基之樹脂，能夠參閱日本特開2012-208494號公報的0558～0571段（相對應之美國專利申請公開第2012/0235099號說明書的0685～0700段）的記載、日本特開2012-198408號公報的0076～0099段的記載，並將該等內容編入本說明書中。又，具有酸基之樹脂亦能夠使用市售品。例如，可列舉Acrybase FF-426（FUJIKURA KASEI CO.,LTD.製）等。

具有酸基之樹脂的酸值為30～200mgKOH/g為較佳。下限係50mgKOH/g以上為較佳，70mgKOH/g以上為更佳。上限係150mgKOH/g以下為較佳，120mgKOH/g以下為更佳。

作為具有酸基之樹脂，例如可列舉下述結構的樹脂等。以下結構式中，Me表示甲基。 [化學式41]

本發明的組成物亦能夠含有作為分散劑之樹脂。關於分散劑，可列舉酸性分散劑（酸性樹脂）、鹼性分散劑（鹼性樹脂）。於此，酸性分散劑（酸性樹脂）表示酸基的量比鹼基的量多的樹脂。關於酸性分散劑（酸性樹脂），將酸基的量和鹼基的量的合計量設為100莫耳%時，酸基的量佔70莫耳%以上之樹脂為較佳，實質上僅包括酸基之樹脂為更佳。酸性分散劑（酸性樹脂）所具有之酸基係羧基為較佳。酸性分散劑（酸性樹脂）的酸值為40～105mgKOH/g為較佳，50～105mgKOH/g為更佳，60～105mgKOH/g為進一步較佳。又，鹼性分散劑（鹼性樹脂）表示鹼基的量比酸基的量多的樹脂。關於鹼性分散劑（鹼性樹脂），將酸基的量和鹼基的量的合計量設為100莫耳%時，鹼基的量大於50莫耳%之樹脂為較佳。鹼性分散劑所具有之鹼基係胺基為較佳。

用作分散劑之樹脂包含具有酸基之重複單元為較佳。用作分散劑之樹脂包含具有酸基之重複單元，從而藉由光微影法來形成圖案時，能夠進一步減少於像素的基底產生之殘渣。

用作分散劑之樹脂係接枝共聚物為較佳。接枝共聚物藉由接枝鏈而具有與溶劑的親和性，因此顏料的分散性及經時後的分散穩定性優異。接枝共聚物的詳細內容能夠參閱日本特開2012-255128號公報的0025～0094段的記載，並將該內容編入本說明書中。又，關於接枝共聚物的具體例，可列舉下述樹脂。以下的樹脂亦係具有酸基之樹脂（鹼可溶性樹脂）。又，作為接枝共聚物，可列舉日本特開2012-255128號公報的0072～0094段中所記載之樹脂，並將該內容編入本說明書中。 [化學式42]

又，本發明中，關於樹脂（分散劑），使用於主鏈及側鏈中的至少一個中包含氮原子之寡聚亞胺系分散劑亦為較佳。作為寡聚亞胺系分散劑，具有包括含有pKa14以下的官能基之部分結構X之結構單元和包括原子數40～10,000的側鏈Y之側鏈，且於主鏈及側鏈中的至少一個具有鹼性氮原子之樹脂為較佳。鹼性氮原子若為呈鹼性之氮原子，則並無特別限制。關於寡聚亞胺系分散劑，能夠參閱日本特開2012-255128號公報的0102～0166段的記載，並將該內容編入本說明書中。作為寡聚亞胺系分散劑，能夠使用下述結構的樹脂或日本特開2012-255128號公報的0168～0174段中所記載之樹脂。 [化學式43]

分散劑能夠作為市售品而獲得，作為該等的具體例，可列舉BYK2000（BYK Chemie Japan KK製）等。又，亦能夠使用日本特開2014-130338號公報的0041～0130段中所記載之顏料分散劑，並將該內容編入本說明書中。又，亦能夠使用具有上述酸基之樹脂等來作為分散劑。

在本發明的組成物含有樹脂之情況下，樹脂的含量相對於本發明的組成物的總固體成分為0.1～50質量%為較佳。下限係1質量%以上為較佳，3質量%以上為更佳，5質量%以上為進一步較佳，10質量%以上為特佳。上限為40質量%以下為更佳，30質量%以下為進一步較佳。又，具有酸基之樹脂的含量相對於本發明的組成物的總固體成分係0.1～50質量%為較佳。下限係1質量%以上為較佳，3質量%以上為更佳，5質量%以上為進一步較佳，10質量%以上為特佳。上限為40質量%以下為更佳，30質量%以下為進一步較佳。本發明的組成物可以僅包含一種樹脂，亦可以包含兩種以上。當含有兩種以上時，該等的合計量成為上述範圍為較佳。

本發明的組成物包含聚合性化合物（較佳為含有具有烯屬不飽和鍵之基團之單體類型的聚合性化合物）和樹脂時，聚合性化合物與樹脂的質量比較佳為聚合性化合物/樹脂=0.4～1.4。上述質量比的下限係0.5以上為較佳，0.6以上為更佳。上述質量比的上限係1.3以下為較佳，1.2以下為更佳。若上述質量比在上述範圍，則能夠形成矩形性更優異之圖案。 又，具有聚合性化合物（較佳為含有具有烯屬不飽和鍵之基團之單體類型的聚合性化合物）和酸基之樹脂的質量比較佳為聚合性化合物/具有酸基之樹脂=0.4～1.4。上述質量比的下限係0.5以上為較佳，0.6以上為更佳。上述質量比的上限係1.3以下為較佳，1.2以下為更佳。若上述質量比在上述範圍，則能夠形成矩形性更優異之圖案。

＜＜光聚合起始劑＞＞ 本發明的組成物能夠含有光聚合起始劑。作為光聚合起始劑，可列舉光自由基聚合起始劑、光陽離子聚合起始劑等。依據聚合性化合物的種類選擇使用為較佳。作為聚合性化合物，使用含有具有烯屬不飽和鍵之基團之化合物等自由基聚合性化合物時，作為光聚合起始劑使用光自由基聚合起始劑為較佳。又，作為聚合性化合物使用陽離子聚合性化合物時，作為光聚合起始劑使用光陽離子聚合起始劑為較佳。作為光聚合起始劑無特別限制，能夠從公知的光聚合起始劑中適當地選擇。例如，對從紫外區域至可見區域的光線具有感光性之化合物為較佳。

光聚合起始劑的含量相對於組成物的總固體成分係0.1～50質量%為較佳，0.5～30質量%為更佳，1～20質量%為進一步較佳。若光聚合起始劑的含量在上述範圍，則可獲得更良好的靈敏度和圖案形成性。本發明的組成物可以僅包含一種光聚合起始劑，亦可以包含兩種以上。當包含兩種以上光聚合起始劑時，該等的總計量為上述範圍為較佳。

（光自由基聚合起始劑） 作為光自由基聚合起始劑，例如可列舉鹵化烴衍生物（例如，具有三骨架之化合物、具有㗁二唑骨架之化合物等）、醯基膦化合物、六芳基雙咪唑、肟化合物、有機過氧化物、硫化合物、酮化合物、芳香族鎓鹽、α-羥基酮化合物、α-胺基酮化合物等。從曝光靈敏度的觀點考慮，光聚合起始劑係三鹵甲基三化合物、苄基二甲基縮酮化合物、α-羥基酮化合物、α-胺基酮化合物、醯基膦化合物、氧化膦化合物、茂金屬化合物、肟化合物、三芳基咪唑二聚體、鎓化合物、苯并噻唑化合物、二苯甲酮化合物、苯乙酮化合物、環戊二烯-苯-鐵錯合物、鹵甲基㗁二唑化合物及3-芳基取代香豆素化合物為較佳，選自肟化合物、α-羥基酮化合物、α-胺基酮化合物及醯基膦化合物中之化合物為更佳，肟化合物為進一步較佳。作為光自由基聚合起始劑，能夠參閱日本特開2014-130173號公報的0065～0111段的記載，並將該內容編入本說明書中。

作為α-羥基酮化合物的市售品，可列舉IRGACURE-184、DAROCUR-1173、IRGACURE-500、IRGACURE-2959、IRGACURE-127（以上為BASF公司製）等。作為α-胺基酮化合物的市售品，可列舉IRGACURE-907、IRGACURE-369、IRGACURE-379及IRGACURE-379EG（以上為BASF公司製）等。作為醯基膦化合物的市售品，可列舉IRGACURE-819、DAROCUR-TPO（以上為BASF公司製）等。

作為肟化合物，可列舉日本特開2001-233842號公報所記載之化合物、日本特開2000-080068號公報所記載之化合物、日本特開2006-342166號公報所記載之化合物、J.C.S.Perkin II（1979年，pp.1653-1660）之化合物、J.C.S.Perkin II（1979年，pp.156-162）記載之化合物、Journal of Photopolymer Science and Technology（1995年，pp.202-232）記載之化合物、日本特開2000-066385號公報所記載之化合物、日本特開2000-080068號公報所記載之化合物、日本特表2004-534797號公報所記載之化合物、日本特開2006-342166號公報所記載之化合物、日本特開2017-019766號公報所記載之化合物、日本專利第6065596號公報所記載之化合物、國際公開WO2015/152153號公報所記載之化合物、國際公開WO2017/051680公報所記載之化合物等。作為肟化合物的具體例，可列舉3-苯甲醯氧基亞胺基丁烷-2-酮、3-乙醯氧基亞胺基丁烷-2-酮、3-丙醯氧基亞胺基丁烷-2-酮、2-乙醯氧基亞胺基戊烷-3-酮、2-乙醯氧基亞胺基-1-苯基丙烷-1-酮、2-苯甲醯氧基亞胺基-1-苯基丙烷-1-酮、3-（4-甲苯磺醯氧基）亞胺基丁烷-2-酮及2-乙氧基羰氧基亞胺基-1-苯基丙烷-1-酮等。作為市售品，可列舉IRGACURE-OXE01、IRGACURE-OXE02、IRGACURE-OXE03、IRGACURE-OXE04（以上，BASF公司製）、TR-PBG-304（Changzhou Tronly New Electronic Materials CO.,LTD.，製）、ADEKA OPTOMER N-1919（ADEKA CORPORATION製，日本特開2012-014052號公報所記載之光聚合起始劑2）。又，作為肟化合物，使用無著色性之化合物或透明性高且不易變色之化合物亦為較佳。作為市售品，可列舉ADEKA ARKLS NCI-730、NCI-831、NCI-930（以上為ADEKA CORPORATION製）等。

本發明中，作為光聚合起始劑，亦能夠使用具有茀環之肟化合物。作為具有茀環之肟化合物的具體例，可列舉日本特開2014-137466號公報中所記載之化合物。將該內容編入本說明書中。

本發明中，作為光自由基聚合起始劑，亦能夠使用具有氟原子之肟化合物。作為具有氟原子之肟化合物的具體例，可列舉日本特開2010-262028號公報中所記載之化合物、日本特表2014-500852號公報中所記載之化合物24、36～40、日本特開2013-164471號公報中所記載之化合物（C-3）等。將該內容編入本說明書中。

本發明中，作為光自由基聚合起始劑，能夠使用具有硝基之肟化合物。具有硝基之肟化合物係二聚體亦為較佳。作為具有硝基之肟化合物的具體例，可列舉日本特開2013-114249號公報的0031～0047段、日本特開2014-137466號公報的0008～0012、0070～0079段中所記載之化合物、日本專利4223071號公報的0007～0025段中所記載之化合物、ADEKA ARKLS NCI-831（ADEKA CORPORATION製）。

本發明中，作為光自由基聚合起始劑，亦能夠使用具有苯并呋喃骨架之肟化合物。作為具體例，可列舉國際公開WO2015/036910號公報中所記載之OE-01～OE-75。

以下示出於本發明中較佳地使用之肟化合物的具體例，但本發明並不限定於該等。

[化學式44][化學式45]

肟化合物為於波長350nm～500nm的範圍具有極大吸收波長之化合物為較佳，於波長360nm～480nm的範圍具有極大吸收波長之化合物為更佳。又，從靈敏度的觀點考慮，肟化合物在波長365nm或405nm下之莫耳吸光係數高為較佳，1,000～300,000為更佳，2,000～300,000為進一步較佳，5,000～200,000為特佳。化合物的莫耳吸光係數能夠使用公知的方法來測量。例如，藉由分光光度計（Varian公司製造之Cary-5 spectrophotometer），並使用乙酸乙酯溶劑，以0.01g/L的濃度進行測量為較佳。

本發明作為光自由基聚合起始劑可以使用2官能或3官能以上的光自由基聚合起始劑。作為該種光自由基聚合起始劑的具體例，可列舉日本特表2010-527339號公報、日本特表2011-524436號公報、國際公開WO2015/004565號公報、日本特表2016-532675號公報的0417～0412段、國際公開WO2017/033680號公報的0039～0055段所記載之肟化合物的二聚體、日本特表2013-522445號公報所記載之化合物（E）及化合物（G）、國際公開WO2016/034963號公報所記載之Cmpd1～7等。

光自由基聚合起始劑包含肟化合物和α-胺基酮化合物亦為較佳。藉由同時使用兩者，顯影性提高，且可輕鬆地形成矩形性優異之圖案。當同時使用肟化合物和α-胺基酮化合物時，相對於肟化合物100質量份，α-胺基酮化合物為50～600質量份為較佳，150～400質量份為更佳。

光自由基聚合起始劑的含量相對於本發明的組成物的總固體成分為0.1～50質量%為較佳，0.5～30質量%為更佳，1～20質量%為進一步較佳。若光自由基聚合起始劑的含量在上述範圍內，則可得到更加良好的靈敏度和圖案形成性。本發明的組成物可以僅含有一種光自由基聚合起始劑，亦可以含有兩種以上。當含有兩種以上的光自由基聚合起始劑時，其合計量成為上述範圍為較佳。

（光陽離子聚合起始劑） 作為光陽離子聚合起始劑，可列舉光酸產生劑。作為光酸產生劑，能夠列舉藉由光照射進行分解而產生酸之、重氮鹽、鏻鹽、鋶鹽、錪鹽等鎓鹽化合物、醯亞胺磺酸鹽、肟磺酸鹽、重氮二碸、二碸、鄰硝基苄基磺酸鹽等磺酸鹽化合物等。關於光陽離子聚合起始劑的詳細內容，能夠參閱日本特開2009-258603號公報的0139～0214段的記載，並將該內容編入本說明書中。

光陽離子聚合起始劑的含量相對於本發明的組成物的總固體成分係0.1～50質量%為較佳，0.5～30質量%為更佳，1～20質量%為進一步較佳。若光陽離子聚合起始劑的含量為上述範圍，可獲得更良好的靈敏度和圖案形成性。本發明的組成物可以僅包含一種光陽離子聚合起始劑，亦可以包含兩種以上。當包含兩種以上的光陽離子聚合起始劑時，該等的總計量為上述範圍為較佳。

＜＜多官能硫醇＞＞ 本發明的組成物能夠含有多官能硫醇。多官能硫醇係具有2個以上的硫醇（SH）基之化合物。藉由將多官能硫醇與上述光自由基聚合起始劑同時使用，在光照射後的自由基聚合過程中，由於可作用為鏈轉移劑而產生不易受到氧阻礙聚合的硫基自由基，因此能夠提高組成物的靈敏度。尤其SH基鍵結於亞甲基、伸乙基等脂肪族基上之多官能脂肪族硫醇為較佳。

作為多官能硫醇，例如可列舉己烷二硫醇、癸烷二硫醇、1,4-丁二醇雙硫基丙酸酯、1,4-丁二醇雙硫基甘油酸酯、乙二醇雙硫基甘油酸酯、乙二醇雙硫基丙酸酯、三羥甲基丙烷三硫基甘油酸酯、三羥甲基丙烷三硫基丙酸酯、三羥甲基乙烷三（3-巰基丁酸酯）、三羥甲基丙烷三（3-巰基丁酸酯）、三羥甲基丙烷三（3-巰基丙酸酯）、新戊四醇四硫基甘油酯、新戊四醇四硫基丙酸酯、新戊四醇四（3-巰基丙酸酯）、二新戊四醇六（3-巰基丙酸酯）、三巰基丙酸三（2-羥基乙基）異氰尿酸酯、1,4-二甲基巰基苯、2、4、6-三巰基-s-三、2-（N,N-二丁基胺基）-4,6-二巰基-s-三等。又，亦可列舉下述結構的化合物。

[化學式46]

多官能硫醇的含量相對於本發明的組成物的總固體成分係0.1～20質量%為較佳，0.1～15質量%為更佳，0.1～10質量%為進一步較佳。本發明的組成物可以僅包含一種多官能硫醇，亦可以包含兩種以上。當包含兩種以上時，該等的總計量為上述範圍為較佳。

＜＜環氧樹脂硬化劑＞＞ 當本發明的組成物包含環氧基樹脂時，進一步包含環氧樹脂硬化劑為較佳。作為環氧樹脂硬化劑，例如可列舉胺系化合物、酸酐系化合物、醯胺系化合物、酚系化合物、多元羧酸等。作為環氧樹脂硬化劑，從耐熱性、硬化物的透明性等觀點考慮，多元羧酸為較佳，在分子內具有2個以上的羧酸酐基之化合物為最佳。作為環氧樹脂硬化劑的具體例，可列舉丁二酸等。關於環氧樹脂硬化劑的詳細內容，能夠參閱0072～0078段，將該內容編入本說明書中。

環氧樹脂硬化劑的含量相對於環氧樹脂100質量份，係0.01～20質量份為較佳，0.01～10質量份為更佳，0.1～6.0質量份為進一步較佳。

＜＜顏料衍生物＞＞ 本發明的組成物還能夠含有顏料衍生物。作為顏料衍生物，可具有由酸基、鹼基、具有鹽結構之基團或酞醯亞胺甲基取代了顏料的一部分之結構之化合物。作為顏料衍生物，由式（B1）表示之化合物為較佳。

[化學式47]式（B1）中，P表示色素結構，L表示單鍵或連接基，X表示酸基、鹼基、具有鹽結構之基團或酞醯亞胺甲基，m表示1以上的整數，n表示1以上的整數，當m為2以上時，複數個L及X可以彼此不同，當n為2以上時，複數個X可以彼此不同。

P表示色素結構，選自吡咯并吡咯色素結構、二酮基吡咯并吡咯色素結構、喹吖酮色素結構、蒽醌色素結構、二蒽醌色素結構、苯并異吲哚色素結構、噻靛藍色素結構、偶氮色素結構、喹啉黃色素結構、酞菁色素結構、萘酞菁色素結構、二㗁色素結構、苝色素結構、紫環酮色素結構、苯并咪唑啉酮色素結構、苯并噻唑色素結構、苯并咪唑色素結構及苯并㗁唑色素結構中之至少一種為較佳，選自吡咯并吡咯色素結構、二酮基吡咯并吡咯色素結構、喹吖酮色素結構及苯并咪唑啉酮色素結構中之至少一種為進一步較佳，吡咯并吡咯色素結構為特佳。

作為由L表示之連接基，可列舉烴基、雜環基、-NR-、-SO₂ -、-S-、-O-、-CO-或由該等組合組成之基團。R表示氫原子、烷基或芳基。

作為由X表示之酸基，可列舉羧基、磺基、羧酸醯胺基、磺酸醯胺基、醯亞胺基等。作為羧酸醯胺基，係由-NHCOR^X1 表示之基團為較佳。作為磺酸醯胺基，係由-NHSO₂ R^X2 表示之基團為較佳。作為醯亞胺基，係由-SO₂ NHSO₂ R^X3 、-CONHSO₂ R^X4 、-CONHCOR^X5 或-SO₂ NHCOR^X6 表示之基團為較佳。R^X1 ～R^X6 分別獨立地表示烴基或雜環基。由R^X1 ～R^X6 表示之烴基及雜環基還可以具有取代基。作為又一取代基，可列舉以上述之式（PP）進行了說明之取代基T，鹵素原子為較佳，氟原子為更佳。作為X表示之鹼基可列舉胺基。作為由X表示之鹽結構，可列舉上述之酸基或鹼基的鹽。

作為顏料衍生物，可列舉下述結構的化合物。又，亦能夠使用日本特開昭56-118462號公報、日本特開昭63-264674號公報、日本特開平1-217077號公報、日本特開平3-009961號公報、日本特開平3-026767號公報、日本特開平3-153780號公報、日本特開平3-045662號公報、日本特開平4-285669號公報、日本特開平6-145546號公報、日本特開平6-212088號公報、日本特開平6-240158號公報、日本特開平10-030063號公報、日本特開平10-195326號公報、國際公開WO2011/024896號公報的0086～0098段、國際公開WO2012/102399號公報的0063～0094段、國際公開WO2017/038252號公報的0082段等中所記載之化合物、日本專利第5299151號公報中所記載之化合物，並將該內容編入本說明書中。 [化學式48]

本發明的組成物含有顏料衍生物之情況下，顏料衍生物的含量相對於顏料100質量份，為1～50質量份為較佳。下限值為3質量份以上為較佳，5質量份以上為更佳。上限值為40質量份以下為較佳，30質量份以下為更佳。顏料衍生物的含量只要係上述範圍，則能夠提高顏料的分散性而有效地抑制顏料的凝聚。顏料衍生物可以僅使用一種，亦可以使用兩種以上。當使用兩種以上時，合計量成為上述範圍為較佳。

＜＜溶劑＞＞ 本發明的組成物能夠含有溶劑。作為溶劑，可列舉有機溶劑。溶劑只要滿足各成分的溶解性或組成物的塗佈性，則基本上並無特別限制。作為有機溶劑的例子，例如可列舉酯類、醚類、酮類、芳香族烴類等。關於該等的詳細內容，能夠參閱國際公開WO2015/166779號公報的0223段，並將該內容編入本說明書中。又，亦能夠較佳地使用環狀烷基經取代之酯系溶劑、環狀烷基經取代之酮系溶劑。作為有機溶劑的具體例，可列舉二氯甲烷、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙基溶纖劑乙酸酯、乳酸乙酯、二甘醇二甲醚、乙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、2-庚酮、環己酮、乙酸環己酯、環戊酮、乙基卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯、丙二醇單甲醚及丙二醇單甲醚乙酸酯等。本發明中，有機溶劑可以單獨使用一種，亦可以組合使用兩種以上。又，從溶解性提高之觀點考慮，3-甲氧基-N,N-二甲基丙醯胺、3-丁氧基-N,N-二甲基丙醯胺亦為較佳。但是，作為溶劑之芳香族烴類（苯、甲苯、二甲苯、乙苯等），有時因環境方面等的理由減少為較佳（例如，相對於有機溶劑總量，能夠設為50質量ppm（parts per million（百萬分率））以下，亦能夠設為10質量ppm以下，且亦能夠設為1質量ppm以下）。

本發明中，使用金屬含量較少之溶劑為較佳，溶劑的金屬含量例如係10質量ppb（parts per billion（十億分率））以下為較佳。可以依據需要而使用質量ppt（parts per trillion（兆分率））級的溶劑，該等高純度溶劑例如由Toyo Gosei Co.,Ltd提供（化學工業日報、2015年11月13日）。

作為從溶劑去除金屬等雜質之方法，例如能夠列舉蒸餾（分子蒸餾或薄膜蒸餾等）或使用過濾器之過濾。作為過濾中所使用之過濾器的孔徑，10μm以下為較佳，5μm以下為更佳，3μm以下為進一步較佳。過濾器的材質係聚四氟乙烯、聚乙烯或尼龍為較佳。

溶劑中可以含有異構物（原子數相同但結構不同之化合物）。又，異構物可以僅包含一種，亦可以包含複數種。

本發明中，有機溶劑中過氧化物含有率為0.8mmol/L以下為較佳，實質上不包含過氧化物為更佳。

溶劑的含量相對於本發明的組成物的總量係10～99質量%為較佳。上限係95質量%以下為較佳，90質量%以下為更佳。下限係30質量%以上為較佳，40質量%以上為更佳，50質量%以上為進一步較佳，60質量%以上為更進一步較佳，70質量%以上為特佳。

＜＜聚合抑制劑＞＞ 本發明的組成物能夠含有聚合抑制劑。作為聚合抑制劑，可列舉對苯二酚、對甲氧基苯酚、二-第三丁基-對甲酚、五倍子酚（pyrogallol）、第三丁基鄰苯二酚、苯醌、4,4’-硫代雙（3-甲基-6-第三丁基苯酚）、2,2’-亞甲基雙（4-甲基-6-第三丁基苯酚）、N-亞硝基苯基羥基胺鹽（銨鹽、亞鈰鹽等）。其中，對甲氧基苯酚為較佳。聚合抑制劑的含量相對於本發明的組成物的總固體成分為0.001～5質量%為較佳。

＜＜矽烷耦合劑＞＞ 本發明的組成物能夠含有矽烷偶合劑。本發明中，矽烷偶合劑係指具有水解性基和其以外的官能基之矽烷化合物。又，水解性基係指與矽原子直接鍵結，並藉由水解反應及縮合反應中的至少任一種而可產生矽氧烷鍵之取代基。作為水解性基，例如可列舉鹵素原子、烷氧基、醯氧基等，烷氧基為較佳。亦即，矽烷偶合劑係具有烷氧基甲矽烷基之化合物為較佳。又，作為水解性基以外的官能基，例如，可列舉乙烯基、（甲基）丙烯醯基、巰基、環氧基、氧雜環丁烷基、胺基、脲基、硫醚基、異氰酸酯基、苯基等，（甲基）丙烯醯基及環氧基為較佳。關於矽烷偶合劑，可列舉日本特開2009-288703號公報的0018～0036段中所記載之化合物、日本特開2009-242604號公報的0056～0066段中所記載之化合物，並將該等內容編入本說明書中。

矽烷偶合劑的含量相對於本發明的組成物的總固體成分為0.01～15.0質量%為較佳，0.05～10.0質量%為更佳。矽烷偶合劑可以係僅一種，亦可以係兩種以上。為兩種以上時，合計量成為上述範圍為較佳。

＜＜界面活性劑＞＞ 本發明的組成物能夠含有界面活性劑。作為界面活性劑，能夠使用氟系界面活性劑、非離子系界面活性劑、陽離子系界面活性劑、陰離子系界面活性劑、矽酮系界面活性劑等各種界面活性劑。界面活性劑能夠參閱國際公開WO2015/166779號公報的0238～0245段，並將該內容編入本說明書中。

本發明中，界面活性劑係氟系界面活性劑為較佳。本發明的組成物中含有氟系界面活性劑，藉此液特性（尤其，流動性）進一步提高，從而能夠進一步改善省液性。又，亦能夠形成厚度不均小之膜。

氟系界面活性劑中的含氟率為3～40質量%為較佳，更佳為5～30質量%，特佳為7～25質量%。從塗佈膜的厚度的均勻性及省液性方面考慮，氟含有率在該範圍內之氟系界面活性劑為有效，於組成物中的溶解性亦為良好。

作為氟系界面活性劑，具體而言可列舉日本特開2014-041318號公報的0060～0064段（相對應之國際公開2014/017669號公報的0060～0064段）等中所記載之界面活性劑、日本特開2011-132503號公報的0117～0132段中所記載之界面活性劑，並將該等內容編入本說明書中。作為氟系界面活性劑的市售品，例如可列舉MEGAFACE F171、F172、F173、F176、F177、F141、F142、F143、F144、R30、F437、F475、F479、F482、F554、F780、EXP、MFS-330（以上為DIC CORPORATION製）、Fluorad FC430、FC431、FC171（以上為Sumitomo 3M Limited製）、Surflon S-382、SC-101、SC-103、SC-104、SC-105、SC-1068、SC-381、SC-383、S-393、KH-40（以上為ASAHI GLASS CO.,LTD.製）、PolyFox PF636、PF656、PF6320、PF6520、PF7002（以上為OMNOVA公司製）等。

又，氟系界面活性劑還能夠較佳地使用具有含有氟原子之官能基之分子結構，且被加熱時含有氟原子之官能基的一部分被切斷而氟原子揮發之丙烯酸系化合物。作為該等氟系界面活性劑，可列舉DIC CORPORATION製的MEGAFACE DS系列（化學工業日報，2016年2月22日）（日經產業新聞，2016年2月23日）、例如MEGAFACE DS-21。

又，氟系界面活性劑使用具有氟化烷基或氟化伸烷基醚基之含氟原子乙烯醚化合物與親水性乙烯醚化合物的聚合物亦為較佳。該等氟系界面活性劑能夠參閱日本特開2016-216602號公報的記載，並將該內容編入本說明書中。

氟系界面活性劑亦能夠使用嵌段聚合物。例如可列舉日本特開2011-089090號公報中所記載之化合物。氟系界面活性劑還能夠較佳地使用含氟高分子化合物，該含氟高分子化合物包含來自於具有氟原子之（甲基）丙烯酸酯化合物之重複單元和來自於具有2個以上（5個以上為較佳）伸烷氧基（伸乙氧基、伸丙氧基為較佳）之（甲基）丙烯酸酯化合物之重複單元。下述化合物亦作為於本發明中所使用之氟系界面活性劑而例示。 [化學式49]上述化合物的重量平均分子量較佳為3,000～50,000，例如為14,000。上述化合物中，表示重複單元的比例之%為莫耳%。

又，氟系界面活性劑亦能夠使用於側鏈具有乙烯性不飽和基之含氟聚合物。作為具體例，可列舉日本特開2010-164965號公報的0050～0090段及0289～0295段中所記載之化合物、例如DIC CORPORATION製的MEGAFACE RS-101、MAGAFACE RS-102、MEGAFACE RS-718K、MEGAFACE RS-72-K等。氟系界面活性劑亦能夠使用日本特開2015-117327號公報的0015～0158段中所記載之化合物。

作為非離子系界面活性劑，可列舉甘油、三羥甲基丙烷、三羥甲基乙烷及該等乙氧基化物及丙氧基化物（例如，甘油丙氧基化物、甘油乙氧基化物等）、聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯油基醚，聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、山梨糖醇酐脂肪酸酯、Pluronic L10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2（BASF公司製）、Tetronic 304、701、704、901、904、150R1（BASF公司製）、Solsperse 20000（Lubrizol Japan Limited製）、NCW-101、NCW-1001、NCW-1002（Wako Pure Chemical Industries,LTD.製）、PIONIN D-6112、D-6112-W、D-6315（Takemoto Oil & Fat Co.,Ltd.製）、OLFIN E1010、Surfynol 104、400、440（Nissin Chemical Co.,Ltd.製）等。

界面活性劑的含量相對於本發明的組成物的總固體成分為0.001質量%～5.0質量%為較佳，0.005～3.0質量%為更佳。界面活性劑可以係僅一種，亦可以係兩種以上。為兩種以上時，合計量成為上述範圍為較佳。

＜＜紫外線吸收劑＞＞ 本發明的組成物能夠含有紫外線吸收劑。作為紫外線吸收劑，能夠使用共軛二烯化合物、胺基丁二烯化合物、甲基二苯甲醯化合物、香豆素化合物、水楊酸酯化合物、二苯甲酮化合物、苯并三唑化合物、丙烯腈化合物、甲亞胺化合物、吲哚化合物、三化合物等。該等的詳細內容能夠參閱日本特開2012-208374號公報的0052～0072段、日本特開2013-068814號公報的0317～0334段、日本特開2016-162946號公報的0061～0080段的記載，並將該等內容編入本說明書中。作為共軛二烯化合物的市售品，例如可列舉UV-503（DAITO CHEMICAL CO.,LTD.製）等。作為吲哚化合物可列舉下述結構的化合物。又，作為苯并三唑化合物，可以使用MIYOSHI OIL & FAT CO.,LTD.製MYUA系列（化學工業日報，2016年2月1日）。 [化學式50]

本發明中，作為紫外線吸收劑，亦能夠較佳地使用由式（UV-1）～式（UV-3）所表示之化合物。 [化學式51]

式（UV-1）中，R¹⁰¹ 及R¹⁰² 各自獨立地表示取代基，m1及m2分別獨立地表示0～4。式（UV-2）中，R²⁰¹ 及R²⁰² 各自獨立地表示氫原子或烷基，R²⁰³ 及R²⁰⁴ 各自獨立地表示取代基。式（UV-3）中，R³⁰¹ ～R³⁰³ 各自獨立地表示氫原子或烷基，R³⁰⁴ 及R³⁰⁵ 各自獨立地表示取代基。

作為由式（UV-1）～式（UV-3）表示之化合物的具體例，可列舉以下化合物。 [化學式52]

紫外線吸收劑的含量相對於本發明的組成物的總固體成分為0.01～10質量%為較佳，0.01～5質量%為更佳。本發明中，紫外線吸收劑可以僅使用一種，亦可以使用兩種以上。當使用兩種以上時，合計量成為上述範圍為較佳。

＜＜抗氧化劑＞＞ 本發明的組成物能夠含有抗氧化劑。作為抗氧化劑，可列舉酚化合物、亞磷酸酯化合物、硫醚化合物等。作為酚化合物，能夠使用作為酚系抗氧化劑而已知之任意的酚化合物。作為較佳的酚化合物，可列舉受阻酚化合物。於與酚性羥基相鄰之部位（鄰位）具有取代基之化合物為較佳。作為前述取代基，碳數1～22的取代或未經取代的烷基為較佳。又，抗氧化劑係於同一分子內具有酚基和亞磷酸酯基之化合物亦為較佳。又，抗氧化劑亦能夠較佳地使用磷系抗氧化劑。作為磷系抗氧化劑，可列舉三[2-[[2,4,8,10-四（1,1-二甲基乙基）二苯并[d,f][1,3,2]二㗁磷環庚烷-6-基]氧基]乙基]胺、三[2-[（4,6,9,11-四-第三丁基二苯并[d,f][1,3,2]二㗁磷環庚烷-2-基）氧基]乙基]胺、亞磷酸酯乙基雙（2,4-二-第三丁基-6-甲基苯基）等。作為抗氧化劑的市售品，例如可列舉ADKSTAB AO-20、ADKSTAB AO-30、ADKSTAB AO-40、ADKSTAB AO-50、ADKSTAB AO-50F、ADKSTAB AO-60、ADKSTAB AO-60G、ADKSTAB AO-80、ADKSTAB AO-330（以上為ADEKA CORPORATION製）等。又，作為抗氧化劑，亦能夠使用國際公開WO17/006600號公報中所記載之多官能受阻胺抗氧化劑。

抗氧化劑的含量相對於本發明的組成物的總固體成分為0.01～20質量%為較佳，0.3～15質量%為更佳。抗氧化劑可以僅使用一種，亦可以使用兩種以上。當使用兩種以上時，合計量成為上述範圍為較佳。

＜＜其他成分＞＞ 本發明的硬化性組成物可以依需要而含有增感劑、硬化促進劑、填料、熱硬化促進劑、增塑劑及其他助劑類（例如，導電性粒子、填充劑、消泡劑、阻燃劑、調平劑、剝離促進劑、香料、表面張力調節劑、鏈轉移劑等）。藉由適當地含有該等成分，能夠調整膜物性等性質。關於該等成分，例如能夠參閱日本特開2012-003225號公報的0183段之後（相對應之美國專利申請公開第2013/0034812號說明書的0237段）的記載，日本特開2008-250074號公報的0101～0104、0107～0109段等的記載，並將該等內容編入本說明書中。 又，本發明的組成物可以依需要而含有潛在的抗氧化劑。作為潛在的抗氧化劑，可列舉作為抗氧化劑而發揮功能之部位被保護基保護之化合物，且為以100～250℃進行加熱，或者酸/鹼觸媒的存在下，以80～200℃進行加熱而保護基脫離且作為抗氧化劑而發揮功能之化合物。作為潛在抗氧化劑，可列舉國際公開WO2014/021023號公報、國際公開WO2017/030005號公報、日本特開2017-008219號公報中所記載之化合物。作為市售品，可列舉ADEKA ARKLS GPA-5001（ADEKA CORPORATION製）等。

作為本發明的組成物的收納容器，並無特別限定，能夠使用公知的收納容器。又，作為收納容器，以抑制雜質混入原材料或組成物中為目的，使用由6種6層的樹脂構成容器內壁之多層瓶或將6種樹脂設為7層結構之瓶亦較佳。作為該等容器，例如可列舉日本特開2015-123351號公報中所記載之容器。

本發明的組成物的用途並無特別限定。例如能夠較佳地使用於紅外線透射濾波器等的形成中。

＜組成物的製備方法＞ 本發明的組成物能夠混合前述成分來製備。例如，製備組成物時，可以將所有成分同時溶解或分散於溶劑來製備組成物，亦可以依需要預先製備適當摻合有各成分之2個以上的溶液或分散液，使用時（塗佈時）將該等混合來作為組成物而製備。

又，當本發明的組成物包含顏料等粒子時，包含使粒子分散之製程為較佳。使粒子分散之製程中，作為使用於粒子的分散之機械力，可列舉壓縮、擠壓、衝擊、剪斷、氣蝕等。作為該等製程的具體例，可列舉珠磨機、混砂機（sand mill）、輥磨機、球磨機、塗料振盪器、微射流均質機、高速葉輪、砂磨機（Sand grinder）、噴流混合器、高壓濕式微粒化、超聲波分散等。又，砂磨機（珠磨機）中的粒子的粉碎中，於藉由使用直徑較小之微珠、加大微珠的填充率來提高粉碎效率之條件下進行處理為較佳。又，粉碎處理之後藉由過濾、離心分離等來去除粗粒子為較佳。又，使粒子分散之製程及分散機能夠較佳地使用“分散技術大全，JOHOKIKO Co.,LTD.發行，2005年7月15日”或“以Suspension（懸浮）（固/液分散系統）為中心之分散技術和工業應用的實際總合資料集，經營開發中心出版部發行，1978年10月10日”、日本特開2015-157893號公報的0022段中所記載之製程及分散機。又，於使粒子分散之製程中，可以藉由鹽磨製程進行粒子的微細化處理。鹽磨製程中所使用之原材料、機器、處理條件等例如能夠參閱日本特開2015-194521號公報、日本特開2012-046629號公報的記載。

製備組成物時，出於去除雜質或減少缺陷的目的，利用過濾器對組成物進行過濾為較佳。作為過濾器，只要係從以往就使用於過濾用途等之過濾器，則能夠無特別限定地使用。例如，可列舉使用了聚四氟乙烯（PTFE）等氟樹脂、尼龍（例如，尼龍-6、尼龍-6,6）等聚醯胺系樹脂、聚乙烯、聚丙烯（PP）等聚烯烴樹脂（含有高密度、超高分子量的聚烯烴樹脂）等原材料之過濾器。該等原材料中，聚丙烯（含有高密度聚丙烯）及尼龍為較佳。 過濾器的孔徑為0.01～7.0μm左右為適當，較佳為0.01～3.0μm左右，更佳為0.05～0.5μm左右。過濾器的孔徑若為上述範圍，則能夠可靠地去除微細的異物。又，使用纖維狀濾材亦為較佳。作為纖維狀濾材，例如可列舉聚丙烯纖維、尼龍纖維、玻璃纖維等。具體而言，可列舉ROKI TECHNO CO.,LTD.製SBP類型系列（SBP008等）、TPR類型系列（TPR002、TPR005等）、SHPX類型系列（SHPX003等）的過濾器濾芯。

使用過濾器時，可以組合不同之過濾器（例如，第1過濾器和第2過濾器等）。此時，利用各過濾器的過濾可以僅進行一次，亦可以進行兩次以上。 又，可以組合上述之範圍內不同孔徑的過濾器。此處的孔徑能夠參閱過濾器製造商的標稱值。作為市售的過濾器，例如能夠從由NIHON PALLLTD.（DFA4201NXEY等）、Advantec Toyo Kaisha,LTD.、Nihon Entegris K.K.（舊Japan Microlis Co.,Ltd.）或KITZ MICRO FILTER CORPORATION等提供之各種過濾器中選擇。 第2過濾器能夠使用由與第1過濾器相同的原材料等形成者。 又，利用第1過濾器之過濾可以僅對分散液進行，並將其他成分進行混合之後，利用第2過濾器進行過濾。

本發明的組成物的總固體成分（固體成分濃度）藉由應用方法來改變，例如1～50質量%較佳為。下限係10質量%以上為更佳。上限係30質量%以下為更佳。

本發明的組成物滿足如下分光特性為較佳：在製造燥後的膜厚為0.1～50μm（較佳為0.1～20μm，更佳為0.5～10μm）的膜時，前述膜厚的至少一個中，膜的厚度方向上的光的透射率的、波長400～1100nm的範圍內的最大值為20%以下（較佳為15%以下，更佳為10%以下），波長1400～1500nm的範圍內的最小值為70%以上（較佳為75%以上，更佳為80%以上）。

又，本發明的組成物滿足以下（1）～（4）中的至少1個分光特性為較佳。 （1）在製造乾燥後的膜厚為1μm的膜時，膜的厚度方向上的光的透射率的、波長400～1100nm的範圍內的最大值為20%以下（較佳為15%以下，更佳為10%以下），波長1400～1500nm的範圍內的最小值為70%以上（較佳為75%以上，更佳為80%以上）。 （2）在製造乾燥後的膜厚為2μm的膜時，膜的厚度方向上的光的透射率的、波長400～1100nm的範圍內的最大值為20%以下（較佳為15%以下，更佳為10%以下），波長1400～1500nm的範圍內的最小值為70%以上（較佳為75%以上，更佳為80%以上）。 （3）在製造乾燥後的膜厚為3μm的膜時，膜的厚度方向上的光的透射率的、波長400～1100nm的範圍內的最大值為20%以下（較佳為15%以下，更佳為10%以下），波長1400～1500nm的範圍內的最小值為70%以上（較佳為75%以上，更佳為80%以上）。 （4）在製造乾燥後的膜厚為5μm的膜時，膜的厚度方向上的光的透射率的、波長400～1100nm的範圍內的最大值為20%以下（較佳為15%以下，更佳為10%以下），波長1400～1500nm的範圍內的最小值為70%以上（較佳為75%以上，更佳為80%以上）。

又，關於本發明的組成物，前述各膜厚中的至少一個中，波長400～1100nm的範圍內的吸光度的最小值A例如為0.1～5為較佳，0.3～3為更佳。又，波長1400～1500nm的範圍內的吸光度的最大值B例如為0.01～0.5為較佳，0.02～0.3為更佳。

利用本發明的組成物所形成之膜能夠較佳地用作紅外線透射濾波器。例如，藉由將利用本發明的組成物所形成之膜組裝到紅外線感測器中，能夠高靈敏度地檢測水分。

＜圖案形成方法＞ 接著，對使用了本發明的組成物之圖案形成方法進行說明。圖案形成方法包含以下製程為較佳，該製程為使用本發明的組成物，在支撐體上形成組成物層之製程；及藉由光微影法或乾式蝕刻法，對組成物層形成圖案之製程。

藉由光微影法之圖案形成包含以下製程為較佳，該製程為使用本發明的組成物，在支撐體上形成組成物層之製程；將組成物層曝光成圖案狀之製程；及將未曝光部顯影去除而形成圖案之製程。又，使用乾式蝕刻法之圖案形成能夠藉由如下等方法來進行：使用本發明的組成物在支撐體上形成組成物層，並使支撐體上的組成物層硬化而形成硬化物層，接著在該硬化物層上形成圖案化之阻劑層，接著，將圖案化之阻劑層作為遮罩，使用蝕刻氣體對硬化物層進行乾式蝕刻。

＜＜形成組成物層之步驟＞＞ 在形成組成物層之步驟中，使用本發明的組成物在支撐體上形成組成物層。作為支撐體，例如可列舉由矽酮、無鹼玻璃、鈉玻璃、派熱克斯（註冊商標）玻璃、石英玻璃等材質構成之基板。又，使用InGaAs基板等亦較佳。InGaAs基板對波長大於1000nm之光的靈敏度良好，因此藉由在InGaAs基板上積層本發明的膜，容易獲得靈敏度優異之紅外線感測器。又，於支撐體上可以形成電荷耦合元件（CCD）、互補型金屬氧化物半導體（CMOS）、透明導電膜等。又，有時於支撐體上形成有隔離各像素之黑色矩陣。又，為了改善與上部層的密接性，防止物質擴散或使基板表面平坦，可依據需要，於支撐體上設置底塗層。

作為組成物對支撐體的應用方法，能夠利用公知的方法。例如，可列舉：滴加法（滴落塗佈）；狹縫塗佈法；噴塗法；輥塗法；旋轉塗佈法（旋塗）；流延塗佈法；狹縫及旋轉法；預濕法（例如，日本特開2009-145395號公報中所記載之方法）；噴墨法（例如，按需噴塗方式、壓電方式、熱方式）、噴嘴噴塗等吐出型印刷、柔性版印刷、網版印刷、凹版印刷、反轉膠版印刷、金屬遮罩印刷法等各種印刷法；使用模具等之轉引法、奈米壓印法等。作為藉由噴墨之應用方法，並無特別限定，例如可列舉“擴展、能夠使用之噴墨-專利中出現的無限可能性-、2005年2月發行、Sumitbe Techon Research Co.,LTD.”中示出之方法（尤其115頁～133頁）、在日本特開2003-262716號公報、日本特開2003-185831號公報、日本特開2003-261827號公報、日本特開2012-126830號公報、日本特開2006-169325號公報等中所記載之方法。又，關於樹脂組成物的塗佈方法，能夠參閱國際公開WO2017/030174號公報、國際公開WO2017/018419號公報的記載，並將該等內容編入本說明書中。

形成於支撐體上之組成物層可以進行乾燥（預烘烤）。藉由低溫製程而形成圖案之情況下，可以不進行預烘烤。當進行預烘烤時，預烘烤溫度係150℃以下為較佳，120℃以下為更佳，110℃以下為進一步較佳。下限例如能夠設為50℃以上，亦能夠設為80℃以上。預烘烤時間係10～3000秒為較佳，40～2500秒為更佳，80～2200秒為進一步較佳。乾燥能夠利用加熱板、烘箱等來進行。

（利用光微影法形成圖案之情況） ＜＜曝光步驟＞＞ 接著，將組成物層曝光成圖案狀（曝光製程）。例如，藉由對組成物層使用步進機等曝光裝置並經由具有規定的遮罩圖案之遮罩而進行曝光，能夠對組成物層進行圖案曝光。藉此，能夠對曝光部分進行硬化。作為能夠於曝光時使用之放射線（光），g射線、i射線等紫外線為較佳，i射線為更佳。照射量（曝光量）例如係0.03～2.5J/cm² 為較佳，0.05～1.0J/cm² 為更佳，0.08～0.5J/cm² 為最佳。關於曝光時的氧濃度，能夠適當選擇，除了於大氣下進行以外，例如可以於氧濃度為19體積%以下的低氧環境下（例如，15體積%、5體積%、實質上無氧）進行曝光，亦可以於氧濃度大於21體積%之高氧環境下（例如，22體積%、30體積%、50體積%）進行曝光。又，曝光照度能夠適當設定，通常能夠選自1000W/m² ～100000W/m² （例如，5000W/m² 、15000W/m² 、35000W/m² ）的範圍。氧濃度和曝光照度可以適當組合條件，例如能夠設為氧濃度10體積%且照度10000W/m² ，氧濃度35體積%且照度20000W/m² 等。

＜＜顯影步驟＞＞ 接著，顯影去除曝光後的組成物層中的未曝光部的組成物層來形成圖案。未曝光部的組成物層的顯影去除能夠使用顯影液來進行。藉此，曝光製程中的未曝光部的組成物層溶出於顯影液，而僅光硬化之部分殘留於支撐體上。作為顯影液，不會損壞基底的固體攝像元件或電路等之鹼顯影液為較佳。顯影液的溫度例如係20～30℃為較佳。顯影時間為20～180秒為較佳。又，為了提高殘渣去除性，可以重複進行多次如下製程，亦即按每60秒鐘甩掉顯影液，進而供給新的顯影液。

作為使用於顯影液之鹼劑，例如可列舉氨水、乙胺、二乙胺、二甲基乙醇胺、二乙二醇胺、二乙醇胺、羥基胺、乙二胺、氫氧化四甲基銨、氫氧化四乙基銨、氫氧化四丙基銨、氫氧化四丁基銨、氫氧化乙基三甲基銨、氫氧化芐基三甲基銨、二甲基雙（2-羥乙基）氫氧化銨、膽鹼、吡咯、哌啶、1,8-二氮雜雙環[5.4.0]-7-十一碳烯等有機鹼性化合物、氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、碳酸氫鈉、矽酸鈉、偏矽酸鈉等無機鹼性化合物。關於鹼劑，從環境方面及安全方面考慮，分子量大之化合物為較佳。顯影液可較佳地使用以純水將該等鹼劑稀釋而成之鹼性水溶液。鹼性水溶液的鹼劑的濃度為0.001～10質量%為較佳，0.01～1質量%為更佳。又，顯影液中可以添加使用界面活性劑。作為界面活性劑的例子，可列舉上述之界面活性劑，非離子界面活性劑為較佳。關於顯影液，從便於輸送或保管等觀點考慮，可以暫且作為濃縮液而製造，而於使用時稀釋成所需要的濃度。稀釋倍率並無特別限定，例如能夠設定為1.5～100倍的範圍。此外，當使用由該等鹼性水溶液形成之顯影液時，顯影後用純水清洗（沖洗）為較佳。

本發明中，可以在顯影步驟後進行在實施乾燥之後藉由加熱處理（後烘烤）或後曝光使其硬化之硬化步驟。

後烘烤為用於設為完全硬化者之顯影後的加熱處理。後烘烤下的加熱溫度例如係100～240℃為較佳，200～240℃為更佳。又，當作為發光光源而使用了有機電致發光（有機EL）元件時或由有機原材料構成圖像感測器的光電轉換膜時，加熱溫度係150℃以下為較佳，120℃以下為更佳，100℃以下為進一步較佳，90℃以下為特佳。下限例如能夠設為50℃以上。關於後烘烤，能夠以成為上述條件之方式利用加熱板或對流式烘箱（熱風循環式乾燥機）、高頻加熱機等加熱機構，以連續式或間歇式對顯影後的膜進行。

後曝光能夠藉由g射線、h射線、i射線、KrF和ArF等準分子雷射、電子束、X射線等來進行，但藉由現有高壓水銀燈於20～50℃左右的低溫下進行為較佳。作為照射時間，係10～180秒鐘，較佳為30秒鐘～60秒鐘。當同時利用後曝光和後加熱時，預先實施後曝光為較佳。

（藉由乾式蝕刻法進行圖案形成時） 藉由乾式蝕刻法之圖案形成能夠藉由如下等方法進行：對支撐體上之組成物層進行硬化而形成硬化物層，接著在該硬化物層上形成經圖案化之光阻層，接著將經圖案化之光阻層作為遮罩而使用蝕刻氣體對硬化物層進行乾式蝕刻。作為光阻層的形成過程，實施曝光後的加熱處理、顯影後的加熱處理（後烘烤處理）之形態為較佳。關於藉由乾式蝕刻法之圖案形成，能夠參閱日本特開2013-064993號公報的0010～0067段的記載，並將該內容編入本說明書中。

藉由進行以上說明之各步驟，能夠形成具有本發明的特定的分光之膜的圖案（像素）。

＜膜＞ 接著，對本發明的膜進行說明。 本發明的膜係使用上述之本發明的組成物而得之膜。本發明的膜能夠較佳地用作紅外線透射濾波器。例如，藉由將本發明的膜組裝到紅外線感測器中，能夠高靈敏度地檢測水分。 本發明的膜具有以下（1）的分光特性為較佳。依該態樣，能夠製成遮蔽波長400～1100nm的範圍的光，且能夠以來自於可見光線之干擾較少之狀態透射紅外線（較佳為波長大於1400nm之紅外線，更佳為波長1400～1500nm之紅外線）之膜。

（1）：膜的厚度方向上的光的透射率的、波長400～1100nm的範圍內的最大值為20%以下（較佳為15%以下，更佳為10%以下），波長1400～1500nm的範圍內的最小值為70%以上（較佳為75%以上，更佳為80%以上）。

本發明的膜的膜厚無特別限定，0.1～50μm為較佳，0.1～20μm為更佳，0.5～10μm為進一步較佳。

＜積層體＞ 接著，對本發明的積層體進行說明。本發明的積層體係具有包含透射紅外線而遮蔽可見光之色材之層（以下，還稱為第1層）和包含遮蔽波長大於1000nm且1200nm以下的範圍的光的材料之層（以下，還稱為第2層）， 其中，作為積層體的波長400～1100nm的範圍內的吸光度的最小值A與波長1400～1500nm的範圍內的吸光度的最大值B之比亦即A/B係4.5以上。上述之A/B的值係10以上為較佳，20以上為更佳，30以上為進一步較佳。上限例如能夠設為90以下。本發明的積層體能夠較佳地用作紅外線透射濾波器。例如，藉由將本發明的積層體組裝到紅外線感測器中，能夠高靈敏度地檢測水分。 另外，遮蔽可見光之色材、遮蔽波長大於1000nm且1200nm以下的範圍的光的材料能夠使用於上述本發明的組成物中進行說明之材料。

本發明的積層體中，積層體的厚度方向上的光的透射率的、波長400～1100nm的範圍內的最大值為20%以下（較佳為15%以下，更佳為10%以下），積層體的厚度方向上的光的透射率的、波長1400～1500nm的範圍內的最小值為70%以上（較佳為75%以上，更佳為80%以上）為較佳。

本發明的積層體係以下（1）～（4）中的任一態樣為較佳。 （1）第1層及第2層中的至少一者還包含在波長大於700nm且1000nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物。 （2）還具有包含在波長大於700nm且1000nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物之層（以下，還稱為第3層）。 （3）第1層及第2層中的至少一者包含在波長大於900nm且1000nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物及在波長大於700nm且900nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物。 （4）第1層及第2層中的一者包含在波長大於900nm且1000nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物，另一層包含在波長大於700nm且900nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物。

本發明的積層體的膜厚係1～5μm為較佳，1.5～3.5μm為更佳。

本發明的積層體中的各層的積層順序並無特別限定。可以從支撐體側以第1層、第2層的順序配置，亦可以以第2層、第1層的順序配置。又，當還具有第3層時，可以從支撐體側以第1層、第2層、第3層的順序配置，亦可以以第1層、第3層、第2層的順序配置，亦可以以第2層、第3層、第1層的順序配置，亦可以以第3層、第1層、第2層的順序配置，亦能夠以第3層、第2層、第1層的順序配置。

本發明的積層體中，第1層的厚度方向上的光的透射率的400～700nm的範圍內的最大值係20%以下（較佳為15%以下，更佳為10%以下）為較佳。

本發明的積層體中，第1層的膜厚係0.5～4μm為較佳，1～3μm為更佳。

本發明的積層體中，第2層的厚度方向上的光的透射率的400～700nm的範圍內的最大值為20%以下（較佳為15%以下，更佳為10%以下），並且厚度方向上的透光率的1400～1500nm的範圍內的最小值為70%以上（較佳為75%以上，更佳為80%以上）為較佳。 又，當第2層包含波長大於700nm且1000nm以下的範圍具有極大吸收波長之化合物時，第2層的厚度方向上的光的透射率的700～1100nm的範圍內的最大值係20%以下（較佳為15%以下，更佳為10%以下），並且厚度方向上的透光率的、1400～1500nm的範圍內的最小值為70%以上（較佳為75%以上，更佳為80%以上）為較佳。

本發明的積層體中，第2層的膜厚係0.4～4μm為較佳，0.6～3μm為更佳。

當本發明的積層體還具有第3層時，第3層的厚度係0.5～2μm為較佳，0.6～1.5μm為更佳。又，第3層的厚度方向上的光的透射率的700～1000nm的範圍內的最大值為20%以下（較佳為15%以下，更佳為10%以下），並且厚度方向上的透光率的1400～1500nm的範圍內的最小值為70%以上（較佳為75%以上，更佳為80%以上）為較佳。

＜紅外線透射濾波器＞ 接著，對本發明的紅外線透射濾波器進行說明。本發明的紅外線透射濾波器具有本發明的膜或積層體。

將本發明的紅外線透射濾波器積層於支撐體而使用為較佳。作為支撐體，可列舉上述者。

本發明的紅外線透射濾波器亦能夠與包含彩色著色劑之濾色器組合使用。濾色器能夠藉由使用包含彩色著色劑之著色組成物來製造。作為彩色著色劑，可列舉以本發明的組成物進行說明之彩色著色劑。著色組成物還能夠含有樹脂、聚合性化合物、光聚合起始劑、界面活性劑、溶劑、聚合抑制劑、紫外線吸收劑等。關於該等的詳細內容，可列舉以本發明的組成物進行說明之材料，並能夠使用該等。

本發明的紅外線透射濾波器亦能夠與具有與本發明的膜或積層體不同之分光特性之其他紅外線透射濾波器組合使用。

作為其他紅外線透射濾波器，可列舉滿足以下（1）～（3）中任一分光特性之過濾器等。 （1）：過濾器的厚度方向上的光的透射率的波長400～750nm的範圍內的最大值為20%以下（較佳為15%以下，更佳為10%以下），過濾器的厚度方向上的光的透射率的波長900～1300nm的範圍內的最小值為70%以上（較佳為75%以上，更佳為80%以上）之過濾器。該過濾器能夠遮蔽波長400～750nm的範圍的光，並透射波長大於850nm的紅外線。 （2）：過濾器的厚度方向上的光的透射率的波長400～830nm的範圍內的最大值為20%以下（較佳為15%以下，更佳為10%以下），過濾器的厚度方向上的光的透射率的波長1000～1300nm的範圍內的最小值為70%以上（較佳為75%以上，更佳為80%以上）之過濾器。該過濾器能夠遮蔽波長400～830nm的範圍的光，並透射波長大於940nm之紅外線。 （3）：過濾器的厚度方向上的光的透射率的波長400～950nm的範圍內的最大值為20%以下（較佳為15%以下，更佳為10%以下），過濾器的厚度方向上的光的透射率的波長1100～1300nm的範圍內的最小值為70%以上（較佳為75%以上，更佳為80%以上）之過濾器。該過濾器能夠遮蔽波長400～950nm的範圍的光，並透射波長大於1040nm之紅外線。

＜固體攝像元件＞ 本發明的固體攝像元件具有上述之本發明的膜或積層體。作為本發明的固體攝像元件的結構，只要係具有本發明的膜或積層體之結構，且係作為固體攝像元件而發揮功能之構成，則並無特別限定，例如，可列舉如下構成。

該結構為如下：於支撐體上具有由構成固體攝像元件（CCD影像感測器、CMOS影像感測器等）的受光區之複數個光電二極體及多晶矽等構成之轉移電極，於光電二極體及轉移電極上具有僅光電二極體的受光部開口之包含鎢等之遮光膜，遮光膜上具有以覆蓋整個遮光膜及光電二極體受光部的方式形成之包含氮化矽等之裝置保護膜，且於裝置保護膜上具有本發明的膜或積層體。進而，可以為於裝置保護膜上且於本發明的膜或積層體的下側（接近支撐體一側）具有聚光機構（例如，微透鏡等。以下相同）之結構、於本發明的膜或積層體上具有聚光機構之結構等。

＜紅外線感測器＞ 本發明的紅外線感測器包含上述之本發明的膜。作為紅外線感測器的結構，只要係能夠作為紅外線感測器而發揮功能之結構，則並無特別限定。以下，利用圖式對本發明的紅外線感測器的一實施形態進行說明。

圖1中，符號110為固體攝像元件。設置於固體攝像元件110上之攝像區域具有紅外線截止濾波器111和紅外線透射濾波器114。又，紅外線截止濾波器111上積層有濾色器112。於濾色器112及紅外線透射濾波器114的入射光hν側配置有微透鏡115。以覆蓋微透鏡115之方式形成有平坦化層116。

紅外線截止濾波器111係透射可見光線區域的光（例如，波長400～700nm的光）而遮蔽紅外區域的光之過濾器。濾色器112係形成有透射及吸收可見區域中的特定波長的光之像素之濾色器，且並無特別限定，能夠使用以往公知的像素形成用濾色器。例如，可使用形成有紅色（R）、綠色（G）、藍色（B）的像素之彩色濾波器等。例如，能夠參閱日本特開2014-043556號公報的0214～0263段的記載，並將該內容編入本說明書中。 紅外線透射濾波器114具有可見光線遮蔽性，且使特定波長的紅外線透射之過濾器，且由具有上述之分光特性之本發明的膜或積層體構成。

圖1所示之紅外線感測器中，可以於平坦化層116上進而配置有與紅外線截止濾波器111不同之紅外線截止濾波器（其他紅外線截止濾波器）。作為其他紅外線截止濾波器，可列舉含有銅之層和/或具有介電體多層膜者等。關於該等的詳細內容，可列舉上述者。又，作為其他紅外線截止濾波器，可以使用雙帶通濾波器。

又，圖1所示之實施形態中，濾色器112設置於比紅外線截止濾波器111更靠入射光hν側，但可以更換紅外線截止濾波器111與濾色器112的順序，而將紅外線截止濾波器111設置於比濾色器112更靠入射光hν側。

又，圖1所示之實施形態中，紅外線截止濾波器111與濾色器112相鄰而積層，但兩個過濾器無需一定相鄰，可以於之間設有其他層。

又，圖1所示之實施形態中，還可具有具有與紅外線透射濾波器114不同的分光特性之其他紅外線透射濾波器。

圖2所示之紅外線感測器係本發明的紅外線感測器的其他實施形態，該紅外線感測器在固體攝像元件110的撮像區域具有紅外線透射濾波器114及與紅外線透射濾波器114不同的第2紅外線透射濾波器120。並且，紅外線透射濾波器114及第2紅外線透射濾波器120的入射光hν側配置有微透鏡115。以覆蓋微透鏡115的方式形成有平坦化層116。 圖2所示之紅外線感測器中，作為第2紅外線透射濾波器120，可以具有兩種以上的具有不同分光特性之紅外線透射濾波器。

＜圖像顯示裝置＞ 本發明的膜或積層體還能夠使用於液晶顯示裝置或有機電致發光元件（有機EL）顯示裝置等圖像顯示裝置中。關於顯示裝置的定義或各顯示裝置的詳細內容，例如記載於“電子顯示裝置（佐佐木 昭夫著、Kogyo Chosakai Publishing Co., Ltd. 1990年發行）”、“顯示裝置（伊吹 順章著、Sangyo Tosho Publishing Co., Ltd.平成元年發行）”等中。又，關於液晶顯示裝置，例如記載於“下一代液晶顯示技術（內田 龍男編輯、Kogyo Chosakai Publishing Co., Ltd. 1994年發行）”中。能夠應用本發明之液晶顯示裝置的類型並無特別限制，例如能夠應用於記載於上述的“下一代液晶顯示技術”中之各種方式的液晶顯示裝置。

圖像顯示裝置可以係具有白色有機EL元件來作為顯示元件之圖像顯示裝置。作為白色有機EL元件，串聯結構為較佳。關於有機EL元件的串聯結構，記載於日本特開2003-045676號公報、三上名義監修、“有機EL技術開發的最前線-高亮度/高精度/長壽化/技術秘密集-”、技術資訊協會、326-328頁、2008年等中。有機EL元件所發光之白色光的光譜係於藍色區域（430nm～485nm）、綠色區域（530nm～580nm）及黃色區域（580nm～620nm）具有極大發光峰值為較佳。除了該些發光峰值以外，還於紅色區域（650nm～700nm）具有極大發光峰值為更佳。 [實施例]

以下，藉由實施例對本發明進行更加具體的說明，但本發明只要不脫離其宗旨，則並不限定於以下實施例。此外，只要無特別限定，則“份”、“%”為質量基準。

＜試驗例1＞

〔顏料分散液的製備〕 使用0.3mm直徑的氧化鋯珠，並利用珠磨機（帶減壓機構之高壓分散機NANO-3000-10（Nippon BEE Co.,Ltd.製））將下述組成的混合液混合並分散3小時而分別製備了顏料分散液A-1～A-2、顏料分散液B-1～B-5。 （顏料分散液A-1） ･紅色顏料（C.I.顏料紅254）與黃色顏料（C.I.顏料黃139與混合顏料（紅色顏料:黃色顏料=70:30（質量比））･･････18.0質量份 ･分散劑1･･････8.1質量份 ･丙二醇甲基醚乙酸酯（PGMEA）･･････73.1質量份

（顏料分散液A-2） ･藍色顏料（C.I.顏料藍15:6）與紫色顏料（C.I.顏料紫23）的混合顏料（青色顏料:紫色顏料=80:20（質量比））･･････18.0質量份 ･分散劑1･･････3.1質量份 ･鹼可溶性樹脂1･･････5.0質量份 ･環己酮･･････31.2質量份 ･PGMEA･･････42.7質量份

（顏料分散液B-1） ･顏料1･･････5.4質量份 ･衍生物1･･････2.1質量份 ･分散劑1･･････6.0質量份 ･PGMEA･･････86.5質量份

（顏料分散液B-2） ･顏料2･･････5.4質量份 ･衍生物1･･････2.1質量份 ･分散劑1･･････6.0質量份 ･PGMEA･･････86.5質量份

（顏料分散液B-3） ･顏料3･･････5.4質量份 ･衍生物2･･････2.1質量份 ･分散劑1･･････6.0質量份 ･PGMEA･･････86.5質量份

（顏料分散液B-4） ･顏料4･･････5.4質量份 ･衍生物3･･････2.1質量份 ･分散劑1･･････6.0質量份 ･PGMEA･･････86.5質量份

（顏料分散液B-5） ･顏料5･･････5.4質量份 ･衍生物4･･････2.1質量份 ･分散劑2･･････6.0質量份 ･PGMEA･･････86.5質量份

〔組成物的製備〕 （組成物101～108、201、301） 以下述表所記載之比例混合下述表所記載之成分而製備了組成物。下述表中示出相應成分的使用量（單位：質量份）。

[表3] [表4] [表5]

（組成物401） 在2.5mmol/L的檸檬酸鈉水溶液50mL中添加0.5g/L的聚苯乙烯磺酸水溶液2.5mL，加熱至35℃。在該溶液中添加10mmol/L的硼氫化鈉水溶液3mL，將0.5mmol/L的硝酸銀水溶液50mL以20mL/min進行攪拌的同時進行添加。將該溶液攪拌30分鐘，從而製作了種溶液。 接著，在該種溶液250mL中添加10mmol/L的抗壞血酸水溶液2mL，加熱至35℃。在該溶液中將0.5mmol/L的硝酸銀水溶液79.6mL以10mL/min進行攪拌的同時進行添加。將所獲得之溶液攪拌30分鐘之後，添加0.35mol/L的氫醌磺酸鉀水溶液71.1mL，並添加7質量%明膠水溶液200g。在該溶液中，添加了能夠將0.26mol/L的亞硫酸鈉水溶液107mL與0.47mol/L的硝酸銀水溶液107mL進行混合而得之亞硫酸銀的白色沈殿物混合液。攪拌至銀充分還原為止，並添加了0.17mol/L的NaOH水溶液72mL。如此獲得了銀平板粒子分散液A1。確認到在所獲得之銀平板粒子分散液A1中，生成了平均等效圓直徑130nm的銀的六邊平板粒子（以下，稱為Ag六邊平板粒子）。又，可知利用原子力顯微鏡（NanocuteII，Seiko Instruments Inc.製）測量了六邊平板粒子的厚度之結果，生成了平均10nm且縱橫比為13的平板粒子。 在所獲得之銀平板粒子分散液A160mL中添加1mol/L的NaOH0.5mL，並添加離子交換水90mL，利用離心分離器（KOKUSAN Co.，Ltd.製H-200N，Amble rotor BN）進行離心分離，使Ag六邊平板粒子沈殿。棄掉離心分離後的上清液，並添加水10mL，將沉澱之Ag六邊平板粒子以13000rpm的轉速經20分鐘再次分散於均質器SX-10（MITSUI ELECTRIC CO.,LTD製）中而獲得了組成物401。

用於製備顏料分散液及組成物之原料為如下。 顏料1：下述結構的化合物（在波長大於700nm且900nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物） [化學式53]顏料2：下述結構的化合物（在波長大於700nm且900nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物） [化學式54]顏料3：下述結構的化合物（在波長大於700nm且900nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物） [化學式55]顏料4：下述結構的化合物（在波長大於900nm且1000nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物） [化學式56]顏料5：下述結構的化合物（在波長大於700nm且900nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物） [化學式57]染料C-1：下述結構的化合物（在波長大於1000nm且1200nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物） [化學式58]染料C-2：Exiton社製IRA884（在波長大於700nm且900nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物） 染料C-3：下述結構的化合物（在波長大於700nm且900nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物） [化學式59]染料C-4：下述結構的化合物（在波長大於700nm且900nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物） [化學式60]染料C-5：下述結構的化合物（在波長大於700nm且900nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物） [化學式61]染料C-6：Nippon Kayaku Co.,Ltd.社製IRG-068（在波長大於1000nm且1200nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物） 染料C-7～C-14：下述結構的化合物（在波長大於1000nm且1200nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物） [化學式62]衍生物1～4：下述結構的化合物1～4 [化學式63]分散劑1：下述結構的樹脂（附註於主鏈之數值係重複單元的莫耳比，附註於側鏈之數值係重複單元的數。Mw=20900） [化學式64]分散劑2：下述結構的樹脂（附註於主鏈之數值係重複單元的莫耳比，附註於側鏈之數值係重複單元的數。Mw=32700） [化學式65]聚合性化合物1：下述結構的化合物（左側化合物與右側化合物的莫耳比為7:3的混合物） [化學式66]聚合性化合物2：下述結構的化合物 [化學式67]矽烷偶合劑1：下述結構的化合物 [化學式68]鹼可溶性樹脂1：下述結構的樹脂（附註於主鏈之數值係重複單元的莫耳比。Mw=11000） [化學式69]光聚合起始劑1：IRGACURE-OXE01（BASF公司製） 光聚合起始劑2：IRGACURE-OXE02（BASF公司製） 光聚合起始劑3：下述結構的化合物 [化學式70]光聚合起始劑4：IRGACURE-369（BASF公司製） 界面活性劑1：下述混合物（Mw=14000）。下述式中，表示重複單元的比例之%係莫耳%。 [化學式71]有機溶劑1：PGMEA

[吸光度及分光特性的評價] 關於實施例1～17、比較例1，以後烘烤後的膜厚成為1.0μm之方式將各組成物旋轉塗佈於玻璃基板上。接著，使用加熱板，在100℃下加熱了120秒鐘。接著，利用加熱板在200℃下進行300秒鐘的加熱處理（後烘烤），從而形成了膜。利用紫外可見近紅外分光光度計（Hitachi High-Technologies Corporation製U-4100），對具有上述膜之玻璃基板測量了波長400～1100nm的範圍內的吸光度的最小值A和波長1400～1500nm的範圍內的吸光度的最大值B。 關於實施例18，以後烘烤後的膜厚成為1.0μm之方式將組成物201旋轉塗佈於玻璃基板上。接著，利用加熱板，在100℃下加熱120秒鐘。接著，利用加熱板在200℃下進行300秒鐘加熱處理（後烘烤）而形成了膜。在該膜的表面以後烘烤後的膜厚成為0.1μm的方式將組成物401旋轉塗佈於玻璃基板上。接著，利用加熱板，在100℃下加熱120秒鐘。接著，利用加熱板在200℃下進行300秒鐘加熱處理（後烘烤）而形成膜，從而製造了積層體。利用紫外可見近紅外分光光度計（Hitachi High-Technologies Corporation製U-4100），對具有該積層體之玻璃基板測量了波長400～1100nm的範圍內的吸光度的最小值A和波長1400～1500nm的範圍內的吸光度的最大值B。

[過濾器的製作] （實施例1～17、比較例1） 以後烘烤後的膜厚成為1.0μm的方式在InGaAs基板上旋轉塗佈下述表的IR像素1的欄中記載之組成物。接著，利用加熱板在100℃下加熱120秒鐘。 接著，使用i射線步進器曝光裝置FPA-3000i5+（Canon Inc.製），並利用形成1.4μm見方的正方形像素圖案之光遮罩而從50mJ/cm² 至750mJ/cm² 按50mJ/cm² 上升而確定辨識上述正方形像素圖案之最佳曝光量，並以該最佳曝光量進行了曝光。 然後，將形成有經曝光之塗佈膜之InGaAs基板載置於旋轉噴淋顯影機（DW-30型、Chemitronics Co., Ltd.製）的水平旋轉台上，並利用CD-2060（四甲基氫氧化銨水溶液，FUJIFILM Electronic Materials Co., Ltd.製）於23℃下進行60秒鐘的攪拌顯影而形成了IR像素1的圖案。用純水對形成有IR像素1的圖案之InGaAs基板進行沖洗處理之後旋轉乾燥。繼而，使用200℃的加熱板而進行300秒鐘的加熱處理（後烘烤）。 接著，以後烘烤後的膜厚成為1.0μm的方式在形成有IR像素1的圖案之InGaAs基板上旋轉塗佈下述表的IR像素2的欄中記載之組成物。接著，利用加熱板在100℃下加熱了120秒鐘。接著，藉由與IR像素1相同的方法進行曝光及顯影而形成IR像素2的圖案，從而製造了過濾器。

（實施例18） 關於實施例18，以後烘烤後的膜厚成為1.0μm之方式將組成物201旋轉塗佈於InGaAs基板上。接著，利用加熱板在100℃下加熱120秒鐘。接著，利用加熱板在200℃下進行300秒鐘加熱處理（後烘烤）而形成了膜。在該膜的表面以後烘烤後的膜厚成為0.1μm之方式旋轉塗佈組成物401。接著，利用加熱板在100℃下加熱120秒鐘。接著，利用加熱板在200℃下進行300秒鐘加熱處理（後烘烤）而形成膜，從而製造了積層體。 接著，藉由利用i射線抗蝕劑之乾式蝕刻形成了1.4μm見方的正方形像素圖案的IR像素1。 接著，在形成有IR像素1的圖案之InGaAs基板上以後烘烤後的膜厚成為1.0μm之方式旋轉塗佈組成物201。接著，利用加熱板在100℃下加熱120秒鐘。接著，藉由與實施例1～17相同的方法進行曝光及顯影而形成IR像素2的圖案，從而製造了過濾器。

[評價1] 將所獲得之過濾器按公知的方法組裝到固體攝像元件。利用所獲得之固體攝像元件拍攝用水潤濕之白色器皿和乾燥後的白色器皿的圖像，並評價是否能夠區別用水潤濕之情況。 A：能夠明確區別乾燥後的器皿和用水潤濕之器皿。 B：能夠區別乾燥後的器皿和用水潤濕之器皿。 C：無法區別乾燥後的器皿和用水潤濕之器皿。

[表6] [表7] [表8]

在實施例1～18中，均能夠明確區別乾燥後的器皿和用水潤濕之器皿，分光識別良好。另一方面，比較例1中，無法區別乾燥後的器皿和用水潤濕之器皿，分光識別不充分。

在組成物101中，即使代替染料C-1置換成具有相同的遮蔽能力之硼化鑭化合物、金屬平板粒子、量子點及含稀土類源自之陶瓷，亦可獲得相同的效果。

[試驗例2] 以製膜後的膜厚成為1.0μm之方式利用旋轉塗佈法將紅外線截止濾波器形成用組成物塗佈於InGaAs基板上。接著，使用加熱板於100℃下加熱2分鐘。接著，使用i射線步進機曝光裝置FPA-3000i5+（Canon Co.,LTD.製），以1000mJ/cm² 的曝光量經由具有2μm四方的貝耶爾圖案的遮罩而進行了曝光。 接著，使用氫氧化四甲銨（TMAH）0.3質量%水溶液，於23℃下進行60秒鐘的攪拌式（paddle）顯影。接著，藉由旋轉噴淋進行沖洗，進而藉由純水來水洗。接著，使用加熱板，於200℃下加熱5分鐘而形成了2μm四方的拜耳圖案（紅外線截止濾波器）。 接著，以製膜後的膜厚成為1.0μm之方式利用旋轉塗佈法，將Red組成物塗佈於紅外線截止濾波器的貝耶爾圖案上。接著，使用加熱板，於100℃下加熱了2分鐘。接著，使用i射線步進機曝光裝置FPA-3000i5+（Canon Co.,LTD.製），以1000mJ/cm² 的曝光量經由具有2μm四方的貝耶爾圖案的遮罩而進行了曝光。接著，使用氫氧化四甲銨（TMAH）0.3質量%水溶液，於23℃下進行60秒鐘的攪拌式（paddle）顯影。接著，藉由旋轉噴淋進行沖洗，進而藉由純水來水洗。接著，使用加熱板，於200℃下加熱5分鐘，藉此於紅外線截止濾波器的貝耶爾圖案上對Red組成物進行圖案化。同樣地，依次對Green組成物、Blue組成物進行圖案化，從而形成了紅、綠及藍色著色圖案。 接著，以製膜後的膜厚成為2.0μm之方式利用旋轉塗佈法，將組成物101塗佈於上述圖案形成之膜上。接著，使用加熱板，於100℃下加熱了2分鐘。接著，使用i射線步進機曝光裝置FPA-3000i5+（Canon Co.,LTD.製），以1000mJ/cm² 的曝光量經由具有2μm四方的貝耶爾圖案的遮罩而進行了曝光。接著，使用氫氧化四甲銨（TMAH）0.3質量%水溶液，於23℃下進行60秒鐘的攪拌式（paddle）顯影。接著，藉由旋轉噴淋進行沖洗，進而藉由純水來水洗。接著，使用加熱板，於200℃下加熱5分鐘，藉此對紅外線截止濾波器的貝耶爾圖案的缺陷部分進行了紅外線透射濾波器的圖案化。根據該等公知的方法組裝了固體攝像元件。 利用所獲得之固體攝像元件拍攝用水潤濕之白色器皿和乾燥後的白色器皿的圖像，並評價是否能夠區別用水潤濕之情況，結果能夠明確區別乾燥後的器皿和用水潤濕之器皿。

試驗例2中所使用之Red組成物、Green組成物、Blue組成物及紅外線截止濾波器形成用組成物如以下。

（Red組成物） 將下述成分進行混合並攪拌之後，以孔徑0.45μm的尼龍製濾波器（NIHON PALLLTD.製）進行過濾而製備了Red組成物。 Red顏料分散液･･････51.7質量份 樹脂102･･････0.6質量份 聚合性化合物2･･････0.6質量份 光聚合起始劑1･･････0.4質量份 界面活性劑101･･････4.2質量份 紫外線吸收劑（UV-503、DAITO CHEMICAL CO.,LTD.製）･･････0.3質量份 PGMEA･･････42.6質量份

（Green組成物） 將下述成分進行混合並攪拌之後，以孔徑0.45μm的尼龍製濾波器（NIHON PALLLTD.製）進行過濾而製備了Green組成物。 Green顏料分散液･･････73.7質量份 鹼可溶性樹脂1･･････0.3質量份 聚合性化合物1･･････1.2質量份 光聚合起始劑1･･････0.6質量份 界面活性劑101･･････4.2質量份 紫外線吸收劑（UV-503、DAITO CHEMICAL CO.,LTD.製）･･････0.5質量份 PGMEA･･････19.5質量份

（Blue組成物） 將下述成分進行混合並攪拌之後，以孔徑0.45μm的尼龍製濾波器（NIHON PALLLTD.製）進行過濾而製備了Blue組成物。 Blue顏料分散液･･････44.9質量份 鹼可溶性樹脂1･･････2.1質量份 聚合性化合物1･･････1.5質量份 聚合性化合物2･･････0.7質量份 光聚合起始劑1･･････0.8質量份 界面活性劑101･･････4.2質量份 紫外線吸收劑（UV-503、DAITO CHEMICAL CO.,LTD.製）･･････0.3質量份 PGMEA･･････45.8質量份

（紅外線截止濾波器形成用組成物） 顏料分散液B-1･･････12.8質量份 顏料分散液B-4･･････33.3質量份 分散液D-1･･････13.5質量份 鹼可溶性樹脂1･･････3.0質量份 聚合性化合物1･･････0.9質量份 聚合性化合物2･･････2.1質量份 矽烷偶合劑1･･････0.9質量份 光聚合起始劑1･･････1.0質量份 界面活性劑101･･････4.2質量份 紫外線吸收劑（UV-503、DAITO CHEMICAL CO.,LTD.（株）製）･･････1.6質量份 PGMEA･･････26.7質量份

Red組成物、Green組成物、Blue組成物及紅外線截止濾波器形成用組成物中所使用之原料為如下。

・Red顏料分散液 藉由珠磨機（直徑為0.3mm的氧化鋯珠），對將9.6質量份的C.I.Pigment Red 254、4.3質量份的C.I.Pigment Yellow 139、6.8質量份的分散劑（Disperbyk-161，BYK Chemie公司製）、79.3質量份的PGMEA混合而成之混合液花費3小時進行混合並分散，從而製備了顏料分散液。然後，進一步使用附減壓機構之高壓分散機NANO-3000-10（Nippon Bee Chemical Co.,Ltd.製）於2000kg/cm³ 的壓力下以流量500g/min進行了分散處理。將該分散處理重複進行10次而得到了Red顏料分散液。

・Green顏料分散液 藉由珠磨機（直徑為0.3mm的氧化鋯珠），對將6.4質量份的C.I.Pigment Green 36、5.3質量份的C.I.Pigment Yellow 150、5.2質量份的分散劑（Disperbyk-161，BYK Chemie公司製）、83.1質量份的PGMEA混合而成之混合液花費3小時進行混合並分散，從而製備了顏料分散液。然後，進一步使用附減壓機構之高壓分散機NANO-3000-10（Nippon Bee Chemical Co.,Ltd.製）於2000kg/cm³ 的壓力下以流量500g/min進行了分散處理。將該分散處理重複進行10次而得到了Green顏料分散液。

・Blue顏料分散液 藉由珠磨機（直徑為0.3mm的氧化鋯珠），對將9.7質量份的C.I.Pigment Blue 15:6、2.4質量份的C.I.Pigment Violet 23、5.5質量份的分散劑（Disperbyk-161，BYK Chemie公司製）、82.4質量份的PGMEA混合而成之混合液花費3小時進行混合並分散，從而製備了顏料分散液。然後，進一步使用附減壓機構之高壓分散機NANO-3000-10（Nippon Bee Chemical Co.,Ltd.製）於2000kg/cm³ 的壓力下以流量500g/min進行了分散處理。將該分散處理重複10次而得到了Blue顏料分散液。

･分散液D-1 將錫摻雜氧化銦粉末（Mitsubishi Materials Corporation製，P4-ITO）28.1質量份、分散劑1（固體成分20%，溶劑：丙二醇單甲基醚乙酸酯）18.8質量份、環己酮18.8質量份的混合液利用油漆攪拌器（ASADA IRON WORKS.CO.,LTD.製），並利用直徑0.3mm的氧化鋯珠分散5小時，從而製備了分散液D-1。

・界面活性劑101：下述混合物（Mw=14000）的1質量%PGMEA溶液。下述式中，表示重複單元的比例之%為莫耳%。 [化學式72]

110‧‧‧固體攝像元件

111‧‧‧紅外線截止濾波器

112‧‧‧濾色器

114‧‧‧紅外線透射濾波器

115‧‧‧微透鏡

116‧‧‧平坦化層

120‧‧‧第2紅外線透射濾波器

hν‧‧‧入射光

圖1係表示本發明的紅外線感測器的一實施形態的結構之概略剖視圖。 圖2係表示本發明的紅外線感測器的另一實施形態的結構之概略剖視圖。

Claims (13)

1. 一種組成物，其包含透射紅外線而遮蔽可見光之色材、紅外線吸收劑及硬化性化合物，該組成物中， 該紅外線吸收劑包含遮蔽波長大於1000nm且1200nm以下的範圍的光之材料， 該組成物的波長400～1100nm的範圍內的吸光度的最小值A與波長1400～1500nm的範圍內的吸光度的最大值B之比亦即A/B為4.5以上。
2. 如申請專利範圍第1項所述之組成物，其中 遮蔽該波長大於1000nm且1200nm以下的範圍的光之材料係在波長大於1000nm且為1200nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物。
3. 如申請專利範圍第2項所述之組成物，其中 在該波長大於1000nm且1200nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物中，波長1400nm中的吸光度A₁₄₀₀ 與極大吸收波長中的吸光度A_max 之比亦即吸光度A_max /吸光度A₁₄₀₀ 為4.5以上。
4. 如申請專利範圍第1項所述之組成物，其中 遮蔽該波長大於1000nm且1200nm以下的範圍的光之材料係選自二亞胺化合物、方酸菁化合物、克酮鎓化合物、花青化合物、二硫醇金屬錯合物、硼化鑭化合物、金屬平板粒子、量子點及含稀土類原子之陶瓷中之至少一種。
5. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之組成物，其中 該紅外線吸收劑還包含在波長大於900nm且1000nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物。
6. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之組成物，其中 該紅外線吸收劑還包含在波長大於700nm且900nm以下的範圍內具有極大吸收波長之化合物。
7. 一種膜，其係由如申請專利範圍第1項至第6項中任一項所述之組成物所獲得。
8. 如申請專利範圍第7項所述之膜，其中 該膜的厚度方向上的光的透射率在波長400～1100nm的範圍內的最大值為20%以下，該膜的厚度方向上的光的透射率在波長1400～1500nm的範圍內的最小值為70%以上。
9. 一種積層體，其具有包含透射紅外線而遮蔽可見光之色材之層、及包含遮蔽波長大於1000nm且1200nm以下的範圍的光之材料之層，在該積層體中， 該積層體的波長400～1100nm的範圍內的吸光度的最小值A與波長1400～1500nm的範圍內的吸光度的最大值B之比亦即A/B為4.5以上。
10. 如申請專利範圍第9項所述之積層體，其中 該積層體的厚度方向上的光的透射率在波長400～1100nm的範圍內的最大值為20%以下，該積層體的厚度方向上的光的透射率在波長1400～1500nm的範圍內的最小值為70%以上。
11. 一種紅外線透射濾波器，其具有如申請專利範圍第7項所述之膜。
12. 一種固體攝像元件，其具有如申請專利範圍第7項所述之膜。
13. 一種紅外線感測器，其具有如申請專利範圍第7項所述之膜。