CN111065656B - 固化性组合物、膜、红外线透射滤波器、固体摄像元件及光传感器 - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 192
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 title claims abstract description 25
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims abstract description 21
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title abstract description 18
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 274
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 claims abstract description 101
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 68
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract description 30
- 238000004040 coloring Methods 0.000 claims abstract description 11
- -1 perylene compound Chemical class 0.000 claims description 156
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims description 71
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 47
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims description 40
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 26
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000001062 red colorant Substances 0.000 claims description 13
- 239000000038 blue colorant Substances 0.000 claims description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 109
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 109
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 71
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 59
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 54
- 238000000034 method Methods 0.000 description 49
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 43
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 40
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 37
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 37
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 36
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 31
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 31
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 27
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 27
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 25
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 21
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 21
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 21
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 21
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 20
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 20
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 19
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 18
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 17
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 17
- 239000000047 product Substances 0.000 description 17
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 16
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 16
- 238000011161 development Methods 0.000 description 14
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 14
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 14
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 14
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 13
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 13
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 12
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 12
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 12
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 12
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 12
- 230000008569 process Effects 0.000 description 12
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 12
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 11
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 11
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 11
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 11
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 11
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 11
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 11
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- 241000894007 species Species 0.000 description 11
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 10
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 10
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 10
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 10
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 10
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 9
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 9
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 9
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 9
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 9
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 9
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 9
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 8
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 8
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 8
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 8
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 8
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 8
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 8
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 8
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 8
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 8
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 7
- 125000004849 alkoxymethyl group Chemical group 0.000 description 7
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 7
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 7
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 7
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 7
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 7
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 7
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 7
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 6
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 6
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 6
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 6
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 6
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 6
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 6
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 5
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 5
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 5
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 description 5
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 5
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 5
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 5
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 5
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 5
- 239000001060 yellow colorant Substances 0.000 description 5
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WFOVEDJTASPCIR-UHFFFAOYSA-N 3-[(4-methyl-5-pyridin-4-yl-1,2,4-triazol-3-yl)methylamino]-n-[[2-(trifluoromethyl)phenyl]methyl]benzamide Chemical compound N=1N=C(C=2C=CN=CC=2)N(C)C=1CNC(C=1)=CC=CC=1C(=O)NCC1=CC=CC=C1C(F)(F)F WFOVEDJTASPCIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 4
- 125000005529 alkyleneoxy group Chemical group 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 4
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 4
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 4
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 4
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000530 Gallium indium arsenide Inorganic materials 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 3
- 125000005392 carboxamide group Chemical group NC(=O)* 0.000 description 3
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N cyclobenzothiazole Natural products C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000071 diazene Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 3
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 3
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 3
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 3
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 3
- 101150008094 per1 gene Proteins 0.000 description 3
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 3
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 3
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 3
- 125000005551 pyridylene group Chemical group 0.000 description 3
- RQGPLDBZHMVWCH-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,2-b]pyrrole Chemical compound C1=NC2=CC=NC2=C1 RQGPLDBZHMVWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical group O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FLBAYUMRQUHISI-UHFFFAOYSA-N 1,8-naphthyridine Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CN=C21 FLBAYUMRQUHISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 1-benzofuran Chemical group C1=CC=C2OC=CC2=C1 IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMQFZQVZKBIPCQ-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)butyl 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCC(CC)(COC(=O)CCS)COC(=O)CCS IMQFZQVZKBIPCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GIAFURWZWWWBQT-UHFFFAOYSA-N 2-(2-aminoethoxy)ethanol Chemical compound NCCOCCO GIAFURWZWWWBQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IPNDIMIIGZSERC-UHFFFAOYSA-N 4-(2-sulfanylacetyl)oxybutyl 2-sulfanylacetate Chemical compound SCC(=O)OCCCCOC(=O)CS IPNDIMIIGZSERC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 5-phenylbenzene-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1C(O)=O JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical class NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAOANFGURTXYPE-UHFFFAOYSA-N C(CC)(=S)OCCCCO Chemical compound C(CC)(=S)OCCCCO OAOANFGURTXYPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101100129922 Caenorhabditis elegans pig-1 gene Proteins 0.000 description 2
- 101100520057 Drosophila melanogaster Pig1 gene Proteins 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 description 2
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004466 alkoxycarbonylamino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004644 alkyl sulfinyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 125000005577 anthracene group Chemical group 0.000 description 2
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005162 aryl oxy carbonyl amino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005135 aryl sulfinyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 description 2
- MYONAGGJKCJOBT-UHFFFAOYSA-N benzimidazol-2-one Chemical compound C1=CC=CC2=NC(=O)N=C21 MYONAGGJKCJOBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N benzo-alpha-pyrone Natural products C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N benzopyrrole Natural products C1=CC=C2NC=CC2=C1 SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 2
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 2
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N indole Natural products CC1=CC=CC2=C1C=CN2 PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine Natural products C1=CC=C2CC=NC2=C1 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M lithium bromide Chemical compound [Li+].[Br-] AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N methanol Natural products OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 description 2
- 239000001061 orange colorant Substances 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 2
- GUVXZFRDPCKWEM-UHFFFAOYSA-N pentalene Chemical compound C1=CC2=CC=CC2=C1 GUVXZFRDPCKWEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 125000001484 phenothiazinyl group Chemical group C1(=CC=CC=2SC3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 2
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 2
- OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N phosphorous acid Chemical class OP(O)O OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000612 phthaloyl group Chemical group C(C=1C(C(=O)*)=CC=CC1)(=O)* 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYNROBRQIVCIQF-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,2-b]pyrrole-5,6-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)C(=O)N=C21 FYNROBRQIVCIQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N succinic acid Chemical compound OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000003568 thioethers Chemical group 0.000 description 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 2
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHQAGBQXOWLTLL-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxy-3-phenoxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(O)COC1=CC=CC=C1 HHQAGBQXOWLTLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSWBUABBMRVQAC-UHFFFAOYSA-N (2-nitrophenyl)methanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CC1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O YSWBUABBMRVQAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRUDPRFGMHTPFJ-UHFFFAOYSA-N (3-oxobutan-2-ylideneamino) acetate Chemical compound CC(=O)ON=C(C)C(C)=O MRUDPRFGMHTPFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKCKRZWCOYHBEC-UHFFFAOYSA-N (3-oxobutan-2-ylideneamino) benzoate Chemical compound CC(=O)C(C)=NOC(=O)C1=CC=CC=C1 SKCKRZWCOYHBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFFCVOSCPLKMLG-UHFFFAOYSA-N (3-oxobutan-2-ylideneamino) propanoate Chemical compound CCC(=O)ON=C(C)C(C)=O JFFCVOSCPLKMLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQLZSJJJXHJANW-UHFFFAOYSA-N (3-oxopentan-2-ylideneamino) acetate Chemical compound CCC(=O)C(C)=NOC(C)=O HQLZSJJJXHJANW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N (z)-1-[(z)-octadec-9-enoxy]octadec-9-ene Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCOCCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical group C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZRRRFSJFQTGGB-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazinane-2,4,6-trithione Chemical compound S=C1NC(=S)NC(=S)N1 WZRRRFSJFQTGGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(2-hydroxyethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound OCCN1C(=O)N(CCO)C(=O)N(CCO)C1=O BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC=NC2=C1 BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVZBYEKCIDMLRV-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(methylsulfanyl)benzene Chemical compound CSC1=CC=C(SC)C=C1 CVZBYEKCIDMLRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene Chemical group C1=CC=C2SC=CC2=C1 FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1CCCCC1 BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC=C1 HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIYWOHBEPVGIQN-UHFFFAOYSA-N 1h-benzo[g]indole Chemical compound C1=CC=CC2=C(NC=C3)C3=CC=C21 HIYWOHBEPVGIQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KAJBSGLXSREIHP-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis[(2-sulfanylacetyl)oxymethyl]butyl 2-sulfanylacetate Chemical compound SCC(=O)OCC(CC)(COC(=O)CS)COC(=O)CS KAJBSGLXSREIHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound C1CCCCN2CCCN=C21 GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWQNFXDYOCUEER-UHFFFAOYSA-N 2,3-ditert-butyl-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1C(C)(C)C QWQNFXDYOCUEER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXOFYPKXCSULTL-UHFFFAOYSA-N 2,4,7,9-tetramethyldec-5-yne-4,7-diol Chemical compound CC(C)CC(C)(O)C#CC(C)(O)CC(C)C LXOFYPKXCSULTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 2,4-D Chemical compound OC(=O)COC1=CC=C(Cl)C=C1Cl OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOCCOC(C)=O VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSOFJLDXOMMNNK-UHFFFAOYSA-N 2-(hydroxymethyl)-2-methylpropane-1,3-diol 3-sulfanylbutanoic acid Chemical compound CC(S)CC(O)=O.CC(S)CC(O)=O.CC(S)CC(O)=O.OCC(C)(CO)CO QSOFJLDXOMMNNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 2-Hydroxy-4'-(2-hydroxyethoxy)-2-methylpropiophenone Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=C(OCCO)C=C1 GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXGVMFHEKMGWMA-UHFFFAOYSA-N 2-benzofuran Chemical group C1=CC=CC2=COC=C21 UXGVMFHEKMGWMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVUNTIMPQCQCAQ-UHFFFAOYSA-N 2-dodecanoyloxyethyl dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OCCOC(=O)CCCCCCCCCCC ZVUNTIMPQCQCAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBEKRAXYEBAHQF-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;3-sulfanylbutanoic acid Chemical compound CC(S)CC(O)=O.CC(S)CC(O)=O.CC(S)CC(O)=O.CCC(CO)(CO)CO WBEKRAXYEBAHQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-[4-[[4-(2-hydroxy-2-methylpropanoyl)phenyl]methyl]phenyl]-2-methylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)C(C)(O)C)=CC=C1CC1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-phenylpropan-2-ol Chemical compound CC(C)(O)CC1=CC=CC=C1 RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- IKEHOXWJQXIQAG-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 IKEHOXWJQXIQAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOUQAVYLRNOXDO-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(C(C)(C)C)C(O)=C1 XOUQAVYLRNOXDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYAKNSNAABYQBU-UHFFFAOYSA-N 2h-dibenzofuran-1-one Chemical class O1C2=CC=CC=C2C2=C1C=CCC2=O JYAKNSNAABYQBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBNVWXKPFORCRI-UHFFFAOYSA-N 2h-naphtho[2,3-f]quinolin-1-one Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=C4C(=O)CC=NC4=CC=C3C=C21 XBNVWXKPFORCRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOQZNLPSEKLHJX-UHFFFAOYSA-N 3,3,3-tris(sulfanyl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CC(S)(S)S OOQZNLPSEKLHJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVYXPOCADCXMLP-UHFFFAOYSA-N 3-butoxy-n,n-dimethylpropanamide Chemical compound CCCCOCCC(=O)N(C)C LVYXPOCADCXMLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQYSALLXMHVJAV-UHFFFAOYSA-M 3-heptyl-2-[(3-heptyl-4-methyl-1,3-thiazol-3-ium-2-yl)methylidene]-4-methyl-1,3-thiazole;iodide Chemical compound [I-].CCCCCCCN1C(C)=CS\C1=C\C1=[N+](CCCCCCC)C(C)=CS1 DQYSALLXMHVJAV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LBVMWHCOFMFPEG-UHFFFAOYSA-N 3-methoxy-n,n-dimethylpropanamide Chemical compound COCCC(=O)N(C)C LBVMWHCOFMFPEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butylbenzene-1,2-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(O)=C1O JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 5-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carbonyl)-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C(C=2C=C3C(=O)OC(=O)C3=CC=2)=O)=C1 VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVCSARBUZVPSQF-UHFFFAOYSA-N 5-(2,4-dioxooxolan-3-yl)-7-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C(C(OC2=O)=O)C2C(C)=CC1C1C(=O)COC1=O FVCSARBUZVPSQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXDGHAZCSMVIFX-UHFFFAOYSA-N 6-(dibutylamino)-1h-1,3,5-triazine-2,4-dithione Chemical compound CCCCN(CCCC)C1=NC(=S)NC(=S)N1 IXDGHAZCSMVIFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPKVSFHMZHXKIX-UHFFFAOYSA-N 9h-xanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3OC2=C1.C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3OC2=C1 XPKVSFHMZHXKIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Natural products CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYNSBQPICQTCGU-UHFFFAOYSA-N Benzopyrane Chemical compound C1=CC=C2C=CCOC2=C1 KYNSBQPICQTCGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYSPOOPLPCVGLD-UHFFFAOYSA-N C1(=CC=C(C=C1)S(=O)(=O)OC(C(C=N)=O)C)C Chemical compound C1(=CC=C(C=C1)S(=O)(=O)OC(C(C=N)=O)C)C SYSPOOPLPCVGLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZZJDDBAOPTKFL-UHFFFAOYSA-N C1=CC=C2C=CC=C12.C1=CC=C2C=CC=C12 Chemical group C1=CC=C2C=CC=C12.C1=CC=C2C=CC=C12 WZZJDDBAOPTKFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRIURVCWOKNXEW-UHFFFAOYSA-N C1=CC=CC=C2C=CC=CC=C12.C1=CC=CC=C2C=CC=CC=C12 Chemical group C1=CC=CC=C2C=CC=CC=C12.C1=CC=CC=C2C=CC=CC=C12 GRIURVCWOKNXEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MAFVTAHGTHCRHH-UHFFFAOYSA-N C=1C=CCN2C=CC=CC12.C=1C=CCN2C=CC=CC12 Chemical group C=1C=CCN2C=CC=CC12.C=1C=CCN2C=CC=CC12 MAFVTAHGTHCRHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOEMSRWQFGPZQS-UHFFFAOYSA-N CCC(O)=S.CCC(O)=S.CCC(O)=S.CCC(CO)(CO)CO Chemical compound CCC(O)=S.CCC(O)=S.CCC(O)=S.CCC(CO)(CO)CO NOEMSRWQFGPZQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100043731 Caenorhabditis elegans syx-3 gene Proteins 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLLIJHXUHJATK-UHFFFAOYSA-N Cyclohexyl acetate Chemical compound CC(=O)OC1CCCCC1 YYLLIJHXUHJATK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100535673 Drosophila melanogaster Syn gene Proteins 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical group OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPVVYTCTZKCSOJ-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol distearate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCCOC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC FPVVYTCTZKCSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical group C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000000177 Indigofera tinctoria Nutrition 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical compound SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100368134 Mus musculus Syn1 gene Proteins 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002302 Nylon 6,6 Polymers 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101150074181 PER2 gene Proteins 0.000 description 1
- 101150017365 Per3 gene Proteins 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 229920002035 Pluronic® L 10 Polymers 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical group CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006069 SO3H Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 1
- LCXXNKZQVOXMEH-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofurfuryl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CCCO1 LCXXNKZQVOXMEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002359 Tetronic® Polymers 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical group C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPQRMIPRAHPPNE-UHFFFAOYSA-N [(1-oxo-1-phenylpropan-2-ylidene)amino] acetate Chemical compound CC(=O)ON=C(C)C(=O)C1=CC=CC=C1 DPQRMIPRAHPPNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNZDJSGUWLGTLA-UHFFFAOYSA-N [(1-oxo-1-phenylpropan-2-ylidene)amino] benzoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(C)=NOC(=O)C1=CC=CC=C1 ZNZDJSGUWLGTLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N [1,10]phenanthroline Chemical group C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPCHGLDQZXOZFW-UHFFFAOYSA-N [2-[[4-methyl-3-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]carbonylamino]phenyl]carbamoyloxymethyl]-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound CC1=CC=C(NC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C)C=C1NC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C YPCHGLDQZXOZFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUDUCNPHDIMQCY-UHFFFAOYSA-N [3-(2-sulfanylacetyl)oxy-2,2-bis[(2-sulfanylacetyl)oxymethyl]propyl] 2-sulfanylacetate Chemical compound SCC(=O)OCC(COC(=O)CS)(COC(=O)CS)COC(=O)CS RUDUCNPHDIMQCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOBBTVPTPXRUBP-UHFFFAOYSA-N [3-(3-sulfanylpropanoyloxy)-2,2-bis(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)propyl] 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCC(COC(=O)CCS)(COC(=O)CCS)COC(=O)CCS JOBBTVPTPXRUBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAAUVJUJVBJRSQ-UHFFFAOYSA-N [3-(3-sulfanylpropanoyloxy)-2-[[3-(3-sulfanylpropanoyloxy)-2,2-bis(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)propyl] 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCC(COC(=O)CCS)(COC(=O)CCS)COCC(COC(=O)CCS)(COC(=O)CCS)COC(=O)CCS YAAUVJUJVBJRSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNSXNCFKSZZHEA-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical class C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C KNSXNCFKSZZHEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIVQCJOGAHNXBO-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] propanoate Chemical compound CCC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HIVQCJOGAHNXBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 125000004054 acenaphthylenyl group Chemical group C1(=CC2=CC=CC3=CC=CC1=C23)* 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000641 acridinyl group Chemical group C1(=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 1
- 150000001253 acrylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004448 alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 125000005129 aryl carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 description 1
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 1
- 125000003828 azulenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- JGFLAAWSLCPCDY-UHFFFAOYSA-N benzene;cyclopenta-1,3-diene;iron Chemical compound [Fe].C1C=CC=C1.C1=CC=CC=C1 JGFLAAWSLCPCDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000649 benzylidene group Chemical group [H]C(=[*])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- NDKBVBUGCNGSJJ-UHFFFAOYSA-M benzyltrimethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 NDKBVBUGCNGSJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000003339 best practice Methods 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Chemical group 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- RKTGAWJWCNLSFX-UHFFFAOYSA-M bis(2-hydroxyethyl)-dimethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].OCC[N+](C)(C)CCO RKTGAWJWCNLSFX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000001055 blue pigment Substances 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical group 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000012663 cationic photopolymerization Methods 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N choline Chemical compound C[N+](C)(C)CCO OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001231 choline Drugs 0.000 description 1
- QZHPTGXQGDFGEN-UHFFFAOYSA-N chromene Chemical group C1=CC=C2C=C[CH]OC2=C1 QZHPTGXQGDFGEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005578 chrysene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 229960002887 deanol Drugs 0.000 description 1
- WXZKPELXXQHDNS-UHFFFAOYSA-N decane-1,1-dithiol Chemical compound CCCCCCCCCC(S)S WXZKPELXXQHDNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 229940105990 diglycerin Drugs 0.000 description 1
- GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N diglycerol Chemical compound OCC(O)COCC(O)CO GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 239000012972 dimethylethanolamine Substances 0.000 description 1
- PPSZHCXTGRHULJ-UHFFFAOYSA-N dioxazine Chemical compound O1ON=CC=C1 PPSZHCXTGRHULJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- YDMWUMUNUXUYKT-UHFFFAOYSA-N ethyl [(1-oxo-1-phenylpropan-2-ylidene)amino] carbonate Chemical compound CCOC(=O)ON=C(C)C(=O)C1=CC=CC=C1 YDMWUMUNUXUYKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- KVFVBPYVNUCWJX-UHFFFAOYSA-M ethyl(trimethyl)azanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](C)(C)C KVFVBPYVNUCWJX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 239000003205 fragrance Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940100608 glycol distearate Drugs 0.000 description 1
- VPVSTMAPERLKKM-UHFFFAOYSA-N glycoluril Chemical compound N1C(=O)NC2NC(=O)NC21 VPVSTMAPERLKKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001046 glycoluril group Chemical class [H]C12N(*)C(=O)N(*)C1([H])N(*)C(=O)N2* 0.000 description 1
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005553 heteroaryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005150 heteroarylsulfinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005143 heteroarylsulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005368 heteroarylthio group Chemical group 0.000 description 1
- ALPIESLRVWNLAX-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-dithiol Chemical compound CCCCCC(S)S ALPIESLRVWNLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000717 hydrazino group Chemical group [H]N([*])N([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 1
- 125000003427 indacenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003454 indenyl group Chemical group C1(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 229940097275 indigo Drugs 0.000 description 1
- COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N indigo powder Natural products N1C2=CC=CC=C2C(=O)C1=C1C(=O)C2=CC=CC=C2N1 COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003406 indolizinyl group Chemical group C=1(C=CN2C=CC=CC12)* 0.000 description 1
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002183 isoquinolinyl group Chemical group C1(=NC=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000002372 labelling Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007974 melamines Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 1
- HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N methyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OC HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N methyl 3-methoxypropanoate Chemical compound COCCC(=O)OC BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004674 methylcarbonyl group Chemical group CC(=O)* 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 238000000199 molecular distillation Methods 0.000 description 1
- SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N n-[4-(1,3-benzoxazol-2-yl)phenyl]-4-nitrobenzenesulfonamide Chemical class C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1S(=O)(=O)NC1=CC=C(C=2OC3=CC=CC=C3N=2)C=C1 SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAHPIMYBWVSMKQ-UHFFFAOYSA-N n-hydroxy-n-phenylnitrous amide Chemical class O=NN(O)C1=CC=CC=C1 DAHPIMYBWVSMKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N naphthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC4=CC=CC=C4C=C3C(N=C3C4=CC5=CC=CC=C5C=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=C2C(C=CC=C2)=C2)C2=C1N=C1C2=CC3=CC=CC=C3C=C2C4=N1 LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- SKEQOTBKQUCUGK-UHFFFAOYSA-N o-(2-hydroxyethyl) propanethioate Chemical compound CCC(=S)OCCO SKEQOTBKQUCUGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XVKLLVZBGMGICC-UHFFFAOYSA-N o-[3-propanethioyloxy-2,2-bis(propanethioyloxymethyl)propyl] propanethioate Chemical compound CCC(=S)OCC(COC(=S)CC)(COC(=S)CC)COC(=S)CC XVKLLVZBGMGICC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002114 octoxynol-9 Polymers 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N omega-Hydroxydodecanoic acid Natural products OCCCCCCCCCCCC(O)=O ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004010 onium ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000001053 orange pigment Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical group C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 1
- AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N oxophosphane Chemical compound P=O AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 238000010951 particle size reduction Methods 0.000 description 1
- IKXKTLBKRBLWNN-UHFFFAOYSA-N pentacene Chemical group C1=CC=CC2=CC3=CC4=CC5=CC=CC=C5C=C4C=C3C=C21.C1=CC=CC2=CC3=CC4=CC5=CC=CC=C5C=C4C=C3C=C21 IKXKTLBKRBLWNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- DGBWPZSGHAXYGK-UHFFFAOYSA-N perinone Chemical compound C12=NC3=CC=CC=C3N2C(=O)C2=CC=C3C4=C2C1=CC=C4C(=O)N1C2=CC=CC=C2N=C13 DGBWPZSGHAXYGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N phenanthrene Chemical group C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RDOWQLZANAYVLL-UHFFFAOYSA-N phenanthridine Chemical group C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=NC2=C1 RDOWQLZANAYVLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 1
- GJSGGHOYGKMUPT-UHFFFAOYSA-N phenoxathiine Chemical group C1=CC=C2OC3=CC=CC=C3SC2=C1 GJSGGHOYGKMUPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- LFSXCDWNBUNEEM-UHFFFAOYSA-N phthalazine Chemical group C1=NN=CC2=CC=CC=C21 LFSXCDWNBUNEEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000412 polyarylene Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920000259 polyoxyethylene lauryl ether Polymers 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 1
- PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N pyridazine Chemical group C1=CC=NN=C1 PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N quinoline yellow Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C3C(C4=CC=CC=C4C3=O)=O)=CC=C21 IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000001567 quinoxalinyl group Chemical group N1=C(C=NC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001054 red pigment Substances 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 229960001860 salicylate Drugs 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000001953 sensory effect Effects 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 description 1
- 125000000446 sulfanediyl group Chemical group *S* 0.000 description 1
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 1
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 1
- 125000001273 sulfonato group Chemical class [O-]S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 1
- 125000006836 terphenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006158 tetracarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 229940073455 tetraethylammonium hydroxide Drugs 0.000 description 1
- LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M tetraethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](CC)(CC)CC LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LPSKDVINWQNWFE-UHFFFAOYSA-M tetrapropylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CCC[N+](CCC)(CCC)CCC LPSKDVINWQNWFE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 1
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVTCUIZCVUGJHS-VQHVLOKHSA-N trans-dipyrrin Chemical compound C=1C=CNC=1/C=C1\C=CC=N1 OVTCUIZCVUGJHS-VQHVLOKHSA-N 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000001132 ultrasonic dispersion Methods 0.000 description 1
- 150000003672 ureas Chemical class 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000001834 xanthenyl group Chemical group C1=CC=CC=2OC3=CC=CC=C3C(C12)* 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract
本发明提供一种能够形成能够在来自于可见光线的干扰少的状态下使紫外线及红外线透射的膜的固化性组合物。并且,提供一种膜、红外线透射滤波器、固体摄像元件及光传感器。该固化性组合物包含色材和固化性化合物。色材含有95质量%以上的在波长365nm下的吸光度D1与在波长420~1000nm的范围内的吸光度的最大值D2的比即D1/D2为0.6以下的化合物。固化性组合物中的色材的含量相对于固化性组合物的总固体成分为20~70质量%。固化性组合物在波长300~380nm的范围内的吸光度的最小值A与在波长420~650nm的范围内的吸光度的最小值B的比即A/B为0.8以下,前述吸光度的最小值B与在波长1000~1300nm的范围内的吸光度的最大值C的比即B/C为4.5以上。
Description
技术领域
本发明涉及一种适于制造红外线透射滤波器等的固化性组合物及膜。并且,涉及一种红外线透射滤波器、使用红外线透射滤波器的固体摄像元件及使用红外线透射滤波器的光传感器。
背景技术
固体摄像元件在各种用途中作为光传感器进行应用。例如,与可见光相比,红外线波长长,因此不易散射,也能够在距离测量、三维测量等中进行应用。并且,人、动物等的眼睛看不到红外线,因此夜间利用红外线光源对被摄体进行照射,也不会使被摄体察觉,能够用于对夜行性野生动物进行摄影的用途,还能够用于作为防犯用途不刺激对方而进行摄影的用途。如此,对红外线感应的光传感器能够在各种用途中展开,并且正在研究对能够遮挡可见光并且使红外线透射的膜的开发(例如,参考专利文献1~4)。
另一方面,专利文献5中记载有关于包含双-氧代二氢-亚吲哚基-苯并二呋喃酮着色剂和苝着色剂的黑色着色剂混合物的发明。并且,专利文献5中记载有将该黑色着色剂混合物用于滤色器用黑矩阵、液晶显示器装置用黑色状间隔物(black column spacer)、显示器装置的黑色边框(black bezel)等。
以往技术文献
专利文献
专利文献1:国际公开WO2016/190162号公报
专利文献2:日本特开2016-177079号公报
专利文献3:日本特开2016-177273号公报
专利文献4:国际公开WO2014/208348号公报
专利文献5:日本特表2015-525260号公报
发明内容
发明要解决的技术课题
如此,近年来,对遮挡可见光并使红外线透射的膜进行各种研究。
另一方面,近年来研究使用红外线和紫外线两者进行传感(sencing)或成像(imaging)。然而,得知了如专利文献1~4等中所记载的至今为止已知的膜对紫外线的透射性低。如此,至今为止已知的膜难以在遮挡可见光而来自于可见光的干扰少的状态下使紫外线和红外线两者透射。
并且,专利文献5中所记载的发明也难以在遮挡可见光而来自于可见光的干扰少的状态下使紫外线和红外线两者透射。
因此,本发明的目的在于提供一种能够形成能够在来自于可见光的干扰少的状态下使紫外线及红外线透射的膜的固化性组合物。并且,目的在于提供一种膜、红外线透射滤波器、固体摄像元件及光传感器。
用于解决技术课题的手段
本发明人等进行了详细的研究,其结果发现,通过使用后述的固化性组合物能够达成上述课题,从而完成了本发明。即,本发明如下。
<1>一种固化性组合物,其包含色材和固化性化合物,其中
固化性组合物在波长300~380nm的范围内的吸光度的最小值A与在波长420~650nm的范围内的吸光度的最小值B的比即A/B为0.8以下,固化性组合物在波长420~650nm的范围内的吸光度的最小值B与在波长1000~1300nm的范围内的吸光度的最大值C的比即B/C为4.5以上,色材在色彩的总质量中含有95质量%以上的在波长365nm下的吸光度D1与在波长420~1000nm的范围内的吸光度的最大值D2的比即D1/D2为0.6以下的化合物,色材的含量相对于固化性组合物的总固体成分为20~70质量%。
<2>如<1>所述的固化性组合物,其中,
色材的总质量中的酞菁化合物的含量为5质量%以下。
<3>如<1>或<2>所述的固化性组合物,其中,
色材的总质量中的蓝色着色剂的含量为5质量%以下。
<4>如<1>~<3>中任一项所述的固化性组合物,其中,
色材包含1色以上的彩色着色剂。
<5>如<1>~<4>中任一项所述的固化性组合物,其中,
色材包含红色着色剂。
<6>如<1>~<5>中任一项所述的固化性组合物,其中,
色材包含苝化合物。
<7>如<1>~<6>中任一项所述的固化性组合物,其中,
色材包含近红外线吸收色素。
<8>如<1>~<7>中任一项所述的固化性组合物,其中,
固化性化合物包含聚合性化合物,进一步包含光聚合引发剂。
<9>一种膜,其包含20~70质量%的色材,其中,
色材在色材的总质量中含有95质量%以上的在波长365nm下的吸光度D1与在波长420~1000nm的范围内的吸光度的最大值D2的比即D1/D2为0.6以下的化合物,上述膜在波长300~380nm的范围内的透射率的最大值为10%以上,在波长420~650nm的范围内的透射率的最大值为20%以下,在波长1000~1300nm的范围内的透射率的最大值为70%以上。
<10>一种膜,其使用<1>~<8>中任一项所述的固化性组合物而获得。
<11>一种红外线透射滤波器,其具有<9>或<10>所述的膜。
<12>一种固体摄像元件,其具有<9>或<10>所述的膜。
<13>一种光传感器,其具有<9>或<10>所述的膜。
发明效果
根据本发明,能够提供一种能够形成能够在来自于可见光的干扰少的状态下使紫外线及红外线透射的膜的固化性组合物。并且,能够提供一种膜、固体摄像元件及光传感器。
附图说明
图1是表示本发明的光传感器的一实施方式的构成的概略剖视图。
具体实施方式
本说明书中,总固体成分是指从组合物的整体中去除溶剂后的成分的合计量。
本说明书中的基团(原子团)的标记中,未标有经取代及未经取代的标记包含不具有取代基的基团,并且包含具有取代基的基团。例如,“烷基”不仅包含不具有取代基的烷基(未经取代的烷基),而且也包含具有取代基的烷基(经取代的烷基)。
本说明书中,“曝光”只要没有特别指定,不仅包含使用光的曝光,使用电子束、离子束等粒子线的描绘也包含于曝光中。并且,作为曝光中所使用的光,可以举出汞灯的明线光谱、以准分子激光为代表的远紫外线、极紫外线(EUV光)、X射线、电子束等光化射线或放射线。
本说明书中,“(甲基)丙烯酸酯”表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯两者或任一者,“(甲基)丙烯酸”表示丙烯酸及甲基丙烯酸两者或任一者,“(甲基)丙烯酰基”表示丙烯酰基及甲基丙烯酰基两者或任一者。
本说明书中,化学式中的Me表示甲基,Et表示乙基,Pr表示丙基,Bu表示丁基,Ph表示苯基。
本说明书中,“工序”这一术语不仅包含独立的工序,即使在无法与其他工序明确区分的情况下,只要能够达成该工序的所期望的作用,则包含于本术语中。
本说明书中,重均分子量及数均分子量以通过凝胶渗透色谱(GPC)测定的聚苯乙烯换算值来定义。本说明书中,重均分子量(Mw)及数均分子量(Mn)例如能够通过使用HLC-8220(TOSOH CORPORATION制造),使用TSKgel SuperAWM―H(TOSOH CORPORATION制造,6.0mmID(内径)×15.0cm)作为管柱,并使用10mmol/L溴化锂NMP(N-甲基吡咯烷酮)溶液作为洗脱液而求出。
本发明中所使用的颜料是指难溶于溶剂的不溶性的色素化合物。典型地,是指在组合物中以作为粒子而分散的状态存在的色素化合物。其中,溶剂可以举出任意的溶剂,例如可以举出在后述的溶剂栏中例示的溶剂。本发明中所使用的颜料例如优选为对丙二醇单甲醚乙酸酯及水中的任一个在25℃下的溶解度均是0.1g/100g溶剂(Solvent)以下。
<固化性组合物>
本发明的固化性组合物包含色材和固化性化合物,其特征为,固化性组合物在波长300~380nm的范围内的吸光度的最小值A与在波长420~650nm的范围内的吸光度的最小值B的比即A/B为0.8以下,固化性组合物在波长420~650nm的范围内的吸光度的最小值B与在波长1000~1300nm的范围内的吸光度的最大值C的比即B/C为4.5以上,色材在色材的总质量中含有95质量%以上的在波长365nm下的吸光度D1与在波长420~1000nm的范围内的吸光度的最大值D2的比即D1/D2为0.6以下的化合物,色材的含量相对于固化性组合物的总固体成分为20~70质量%。
根据本发明的固化性组合物,能够优选地形成具有如下光谱特性的膜:在波长300~380nm的范围内的透射率的最大值为10%以上,在波长420~650nm的范围内的透射率的最大值为20%以下,在波长1000~1300nm的范围内的透射率的最大值为70%以上。因此,由本发明的固化性组合物形成的膜能够在来自于可见光的干扰少的状态下使紫外线及红外线透射。
并且,本发明的固化性组合物的上述吸光度比A/B的值为0.8以下,因此对曝光中所使用的光(例如i射线等)的透射性高。因此,当本发明的固化性组合物包含聚合性化合物作为固化性化合物,且进一步包含光聚合引发剂时,能够通过曝光使膜的底部(支撑体侧)为止牢固地固化,能够进一步提高所得到的膜对支撑体的密合性等。
上述吸光度的条件可以通过任何手段来达成,通过调整色材的种类及含量能够优选地达成上述吸光度的条件。
关于本发明的固化性组合物所具有的光谱特性,上述吸光度比A/B的值优选为0.7以下,更优选为0.6以下。下限可以为0。并且,上述吸光度比B/C的值优选为10以上,更优选为20以上,进一步优选为30以上,尤其优选为设为35以上。上限例如优选为设为200以下,进一步优选为设为90以下。
在某一波长λ下的吸光度Aλ由以下式(1)定义。
Aλ=-log(Tλ/100)……(1)
Aλ为在波长λ下的吸光度,Tλ为在波长λ下的透射率(%)。
本发明中,吸光度的值可以为以溶液的状态测定的值,也可以为以使用本发明的固化性组合物制膜的膜中的值。当以膜的状态测定吸光度时,优选为使用如以下那样制备的膜进行测定:通过旋涂等方法在玻璃基板上涂布固化性组合物,以使干燥后的膜的厚度成为规定的厚度,并使用加热板于100℃下干燥120秒钟。关于膜的厚度,能够使用触针式表面形状测定器(ULVAC,Inc.制造的DEKTAK150)对具有膜的基板进行测定。
以下示出由本发明的固化性组合物形成的膜的光谱特性、膜厚等的测定方法。
通过旋涂等方法,将本发明的固化性组合物涂布于玻璃基板上,以使干燥后的膜的厚度成为规定的厚度,并使用加热板于100℃下干燥120秒钟。关于膜的厚度,使用触针式表面形状测定器(ULVAC Inc.制造的DEKTAK150)对具有膜的干燥后的基板进行测定。使用分光光度计(U-4100,Hitachi High-Technologies Corporation制造)对具有该膜的干燥后的基板测定波长300~1300nm的范围的透射率。
本发明的固化性组合物更优选为满足以下(IR1)~(IR3)中的任一光谱特性。
(IR1):在波长300~380nm的范围内的吸光度的最小值A1与在波长420~650nm的范围内的吸光度的最小值B1的比即A1/B1为0.8以下(优选为0.7以下,更优选为0.6以下),在波长420~650nm的范围内的吸光度的最小值B1与在波长800~1300nm的范围内的吸光度的最大值C1的比即B1/C1为4.5以上(优选为10以上,更优选为20以上,进一步优选为30以上)。根据该方式,能够形成能够遮挡波长420~650nm的范围的光并且波长300~380nm的范围的光及波长超过750nm的光能够透射的膜。
(IR2):在波长300~380nm的范围内的吸光度的最小值A2与在波长420~750nm的范围内的吸光度的最小值B2的比即A2/B2为0.8以下(优选为0.7以下,更优选为0.6以下),在波长420~750nm的范围内的吸光度的最小值B2与在波长900~1300nm的范围内的吸光度的最大值C2的比即B2/C2为4.5以上(优选为10以上,更优选为20以上,进一步优选为30以上)。根据该方式,能够形成能够遮挡波长420~750nm的范围的光并且波长300~380nm的范围的光及波长超过850nm的光能够透射的膜。
(IR3):在波长300~380nm的范围内的吸光度的最小值A3与在波长420~830nm的范围内的吸光度的最小值B3的比即A3/B3为0.8以下(优选为0.7以下,更优选为0.6以下),在波长420~830nm的范围内的吸光度的最小值B3与在波长1000~1300nm的范围内的吸光度的最大值C3的比即B3/C3为4.5以上(优选为10以上,更优选为20以上,进一步较优选为30以上)。根据该方式,能够形成能够遮挡波长420~830nm的范围的光并且波长300~380nm的范围的光及波长超过900nm的光能够透射的膜。
本发明的固化性组合物使红外线透射,因此也被称为红外线透射性组合物。以下,对能够构成本发明的固化性组合物的各成分进行说明。
<<色材>>
本发明的固化性组合物包含色材。色材的含量相对于固化性组合物的总固体成分为20~70质量%。下限优选为30质量%以上,更优选为40质量%以上,进一步优选为50质量%以上。上限优选为65质量%以下,更优选为60质量%以下。
并且,本发明中所使用的色材在色材的总质量中含有95质量%以上的在波长365nm下的吸光度D1与在波长420~1000nm的范围内的吸光度的最大值D2的比即D1/D2为0.6以下的化合物,优选为含有96质量%以上,进一步优选为含有97质量%以上。上述化合物的上述吸光度比D1/D2的值优选为0.5以下,更优选为0.4以下,进一步优选为0.3以下。另外,本发明中,色材的吸光度是膜中的值。色材的吸光度是使用包含测定对象的色材和任意的树脂的组合物来形成测定对象的色材的含量为50质量%的膜并测定前述膜在波长300~1300nm的范围的吸光度而计算出的值。作为测定装置,可以举出分光光度计U-4100(Hitachi High-Technologies Corporation制造)。膜厚能够选择任意的膜厚,例如能够设为0.5μm。
作为上述吸光度比D1/D2为0.6以下的化合物,可以举出红色着色剂、黄色着色剂、紫色着色剂、橙色着色剂、有机黑色着色剂、后述的近红外线吸收色素栏中说明的化合物等。这些化合物可以为颜料,也可以为染料。颜料优选为有机颜料。
作为有机颜料,例如可以举出如下:
C.I.颜料红(Pigment Red)1、2、3、4、5、6、7、9、10、14、17、22、23、31、38、41、48:1、48:2、48:3、48:4、49、49:1、49:2、52:1、52:2、53:1、57:1、60:1、63:1、66、67、81:1、81:2、81:3、83、88、90、105、112、119、122、123、144、146、149、150、155、166、168、169、170、171、172、175、176、177、178、179、184、185、187、188、190、200、202、206、207、208、209、210、216、220、224、226、242、246、254、255、264、270、272、279等红色颜料;
C.I.颜料黄(Pigment Yellow)1、2、3、4、5、6、10、11、12、13、14、15、16、17、18、20、24、31、32、34、35、35:1、36、36:1、37、37:1、40、42、43、53、55、60、61、62、63、65、73、74、77、81、83、86、93、94、95、97、98、100、101、104、106、108、109、110、113、114、115、116、117、118、119、120、123、125、126、127、128、129、137、138、139、147、148、150、151、152、153、154、155、156、161、162、164、166、167、168、169、170、171、172、173、174、175、176、177、179、180、181、182、185、187、188、193、194、199、213、214等黄色颜料;
C.I.颜料橙(Pigment Orange)2、5、13、16、17:1、31、34、36、38、43、46、48、49、51、52、55、59、60、61、62、64、71、73等橙色颜料;
C.I.颜料紫(Pigment Violet)1、19、23、27、32、37、42等紫色颜料。
作为染料并没有特别限制,能够使用公知的染料。例如可以举出具有吡唑偶氮系、苯胺基偶氮系、三芳基甲烷系、蒽醌系、蒽吡啶酮系、苯亚甲基系、氧杂菁系、吡唑并三唑偶氮系吡啶酮偶氮系、花青系、啡噻嗪系、吡咯并吡唑次甲基偶氮系、呫吨(xanthene)系、苯并吡喃系、靛蓝系、吡咯亚甲基系等化学结构的染料。并且,也可以使用这些染料的多聚体。并且,也能够使用日本特开2015-028144号公报、日本特开2015-034966号公报中所记载的染料。
作为有机黑色着色剂,可以举出次甲基偶氮化合物、苝化合物、偶氮系化合物等,优选为苝化合物。作为次甲基偶氮化合物,可以举出日本特开平1-170601号公报、日本特开平2-034664号公报等中所记载的化合物。作为市售品,可以举出Dainichiseika Color&Chemicals Mfg.Co.,Ltd.制造的“CHROMO FINE BLACK A1103”等。
作为苝化合物,可以举出式(Per1)~式(Per3)所表示的化合物。
式(Per1)
[化学式1]
式(Per2)
[化学式2]
式(Per3)
[化学式3]
式中RP1及RP2分别独立地表示亚苯基、亚萘基或亚吡啶基(pyridylene)。
RP1及RP2所表示的亚苯基、亚萘基及亚吡啶基可以未经取代,也可以具有取代基。作为取代基,可以举出卤素原子、氰基、硝基、烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基、杂芳基、-ORP101、-CORP102、-COORP103、-OCORP104、-NRP105RP106、-NHCORP107、-CONRP108RP109、-NHCONRP110RP111、-NHCOORP112、-SRP113、-SO2RP114、-SO2ORP115、-NHSO2RP116及-SO2NRP117RP118,优选为烷基、烷氧基、羟基、硝基及卤素原子。RP101~RP118分别独立地表示氢原子、烷基、烯基、炔基、芳基或杂芳基。当这些基团为能够进一步取代的基团时可以进一步具有取代基。作为进一步的取代基,可以举出上述基团。
RP11~RP18分别独立地表示氢原子或取代基。作为RP11~RP18所表示的取代基,可以举出上述取代基,优选为卤素原子。作为卤素原子,优选为F、Cl、Br。
RP21及RP22分别独立地表示取代基。作为RP21及RP22所表示的取代基,可以举出上述取代基,优选为芳烷基。芳烷基可以进一步具有取代基。
作为苝化合物的具体例,可以举出下述结构的化合物。作为苝化合物,也能够使用C.I.颜料黑(Pigment Black)31、32。
[化学式4]
作为上述吸光度比D1/D2超过0.6的化合物,可以举出酞菁化合物、双苯并呋喃酮化合物等。作为酞菁化合物,可以举出铝酞菁化合物、铜酞菁化合物、锌酞菁化合物、酞菁氧钛化合物等。并且,还可以举出比色指数(C.I.)颜料绿(Pigment Green)7、36、58、59、C.I.颜料蓝(Pigment Blue)15:1、15:2、15:3、15:4、15:6等。作为双苯并呋喃酮化合物,可以举出下述式所表示的化合物。作为双苯并呋喃酮化合物的市售品,可以举出BASF公司制造的“Irgaphor Black”等。色材的总量中的这些化合物的含量为5质量%以下,优选为4质量%以下,更优选为3质量%以下,尤其优选为实质上不含有这些化合物。另外,本发明中,上述实质上不含有化合物是指色材的总质量中之上述的化合物的含量为0.5质量%以下,优选为0.1质量%以下,更优选为不含有。
[化学式5]
式中、R1及R2分别独立地表示氢原子或取代基,R3及R4分别独立地表示取代基,a及b分别独立地表示0~4的整数,当a为2以上时,多个R3可以相同也可以不同,多个R3可以键合而形成环,当b为2以上时,多个R4可以相同也可以不同,多个R4可以键合而形成环。
R1~R4所表示的取代基表示卤素原子、氰基、硝基、烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基、杂芳基、-OR301、-COR302、-COOR303、-OCOR304、-NR305R306、-NHCOR307、-CONR308R309、-NHCONR310R311、-NHCOOR312、-SR313、-SO2R314、-SO2OR315、-NHSO2R316或-SO2NR317R318,R301~R318分别独立地表示氢原子、烷基、烯基、炔基、芳基或杂芳基。当这些基团为能够进一步取代的基团时可以进一步具有取代基。
本发明中所使用的色材中,色材的总质量中的酞菁化合物的含量优选为5质量%以下,更优选为3质量%以下,进一步优选为1质量%以下,尤其优选为实质上不含有。另外,本发明中,实质上不含有酞菁化合物是指色材的总质量中的酞菁化合物的含量为0.5质量%以下,优选为0.1质量%以下,更优选为不含有(即,0质量%)。酞菁化合物中在波长300~380nm的范围具有大的吸收的化合物多,因此通过减少色材的总质量中的酞菁化合物的含量,能够提高所得到的膜的紫外区域的透射性,容易达成目标分光。
本发明中所使用的色材中,色材的总质量中的蓝色着色剂的含量优选为5质量%以下,更优选为3质量%以下,进一步优选为1质量%以下,尤其优选为实质上不含有。另外,本发明中,实质上不含有蓝色着色剂是指色材的总质量中的蓝色着色剂的含量为0.5质量%以下,优选为0.1质量%以下,更优选为不含有(即,0质量%)。蓝色着色剂中在波长300~380nm的范围具有大的吸收的化合物多,因此通过减少色材的总质量中的蓝色着色剂的含量,能够提高所得到的膜的紫外区域的透射性,容易达成目标分光。
本发明中所使用的色材优选为包含1色以上的彩色着色剂。根据该方式,能够进一步提高所得到的膜的可见区域的遮光性。作为彩色着色剂,优选为红色着色剂、黄色着色剂、紫色着色剂、橙色着色剂,更优选为至少包含红色着色剂。另外,本发明中,彩色着色剂是指除白色着色剂及黑色着色剂以外的着色剂。
当本发明的固化性组合物含有彩色着色剂时,彩色着色剂的含量相对于固化性组合物的总固体成分,优选为20~80质量%。上限优选为70质量%以下,更优选为65质量%以下。下限优选为30质量%以上,更优选为40质量%以上。
并且,本发明中所使用的色材优选为包含苝化合物。苝化合物是在波长300~380nm的范围内的吸收小且在可见区域具有吸收的化合物,因此不会损害紫外线的透射性,且能够进一步提高所得到的膜的可见区域的遮光性。作为苝化合物,优选为上述式(Per1)~式(Per3)所表示的化合物。
当本发明的固化性组合物含有苝化合物时,苝化合物的含量相对于固化性组合物的总固体成分,优选为5~60质量%。上限优选为55质量%以下,更优选为50质量%以下。下限优选为10质量%以上,更优选为15质量%以上。并且,当本发明的固化性组合物含有彩色着色剂和苝化合物时,其合计含量相对于固化性组合物的总固体成分,优选为20~80质量%。上限优选为70质量%以下,更优选为65质量%以下。下限优选为30质量%以上,更优选为40质量%以上。
作为本发明中所使用的色材的优选方式,可以举出以下。
(1):包含红色着色剂和有机黑色着色剂的方式
(2):包含红色着色剂、紫色着色剂及有机黑色着色剂的方式
(3):包含红色着色剂、紫色着色剂、黄色着色剂及有机黑色着色剂的方式
(4):在(1)、(2)、(3)的方式中进一步包含近红外线吸收色素的方式。
根据上述(1)、(2)、(3)的方式,容易得到满足上述(IR2)的光谱特性的固化性组合物。根据上述(4)的方式,容易得到满足上述(IR3)的光谱特性的固化性组合物。
在上述(1)的方式中,红色着色剂与有机黑色着色剂的质量比优选为红色着色剂:有机黑色着色剂=10~40:50~90,更优选为25~35:55~85,进一步优选为20~30:60~80。
在上述(2)的方式中,红色着色剂、紫色着色剂及有机黑色着色剂的质量比优选为红色着色剂:紫色着色剂:有机黑色着色剂=1~20:1~20:50~95,更优选为3~15:3~15:60~90,进一步优选为5~10:5~10:70~85。
在上述(3)的方式中,红色着色剂、紫色着色剂、黄色着色剂及有机黑色着色剂的质量比优选为红色着色剂:紫色着色剂:黄色着色剂:有机黑色着色剂=1~20:1~20:1~20:50~95,更优选为3~15:3~15:3~15:60~90,进一步优选为5~10:5~10:5~10:70~85。
在上述(4)的方式中,色材的总质量中的近红外线吸收色素的含量优选为5~50质量%,更优选为10~45质量%,进一步优选为15~40质量%。
本发明的固化性组合物能够含有近红外线吸收色素作为色材。在红外线透射滤波器中,近红外线吸收色素具有将透射的光(近红外线)限定在更长波长侧的作用。
本发明中,作为近红外线吸收色素,能够优选地使用在近红外区域(优选为波长超过700nm且1000nm以下)的波长区域具有极大吸收波长的化合物。并且,本发明中所使用的近红外线吸收色素优选为在波长365nm下的吸光度D1与在波长420~1000nm的范围内的吸光度的最大值D2的比即D1/D2为0.6以下的化合物。近红外线吸收色素可以为颜料,也可以为染料。
近红外线吸收色素优选为选自吡咯并吡咯化合物、花青化合物、方酸化合物、夸特锐烯化合物、部花青化合物、克酮鎓化合物、氧杂菁化合物、二亚胺化合物、二硫醇化合物、三芳基甲烷化合物、吡咯亚甲基化合物、次甲基偶氮化合物及蒽醌化合物中的至少1种,更优选为吡咯并吡咯化合物、花青化合物、方酸化合物及夸特锐烯化合物中的至少1种,进一步优选为选自吡咯并吡咯化合物、花青化合物及方酸化合物中的至少1种,尤其优选为吡咯并吡咯化合物及方酸化合物。作为二亚胺化合物,例如可以举出日本特表2008-528706号公报中所记载的化合物,该内容被编入本说明书中。并且,花青化合物、二亚胺化合物及方酸化合物可以使用日本特开2010-111750号公报的段落号0010~0081中所记载的化合物,该内容被编入本说明书中。并且,花青化合物例如能够参考“功能性色素,大河原信/松冈贤/北尾悌次郎/平嶋恒亮·著,Kodansha Scientific Ltd.”,该内容被编入本说明书中。并且,作为近红外线吸收色素,也能够使用日本特开2016-146619号公报中所记载的化合物,该内容被编入本说明书中。
作为吡咯并吡咯化合物,优选为式(PP)所表示的化合物。
[化学式6]
式中,R1a及R1b各自独立地表示烷基、芳基或杂芳基,R2及R3各自独立地表示氢原子或取代基,R2及R3可以相互键合而形成环,R4各自独立地表示氢原子、烷基、芳基、杂芳基、-BR4AR4B或金属原子,R4可以与选自R1a、R1b及R3中的至少一个进行共价键合或配位键合,R4A及R4B各自独立地表示取代基。R4A及R4B可以相互键合而形成环。关于式(PP)的详细内容,能够参考日本特开2009-263614号公报的段落号0017~0047、日本特开2011-068731号公报的段落号0011~0036、国际公开WO2015/166873号公报的段落号0010~0024的记载,这些内容被编入本说明书中。
式(PP)中,R1a及R1b优选为各自独立地是芳基或杂芳基,更优选为芳基。并且,R1a及R1b所表示的烷基、芳基及杂芳基可以具有取代基,也可以未经取代。作为取代基,可以举出日本特开2009-263614号公报的段落号0020~0022中所记载的取代基或以下取代基T。
(取代基T)
烷基(优选为碳原子数1~30的烷基)、烯基(优选为碳原子数2~30的烯基)、炔基(优选为碳原子数2~30的炔基)、芳基(优选为碳原子数6~30的芳基)、氨基(优选为碳原子数0~30的氨基)、烷氧基(优选为碳原子数1~30的烷氧基)、芳氧基(优选为碳原子数6~30的芳氧基)、杂芳氧基、酰基(优选为碳原子数1~30的酰基)、烷氧基羰基(优选为碳原子数2~30的烷氧基羰基)、芳氧基羰基(优选为碳原子数7~30的芳氧基羰基)、酰氧基(优选为碳原子数2~30的酰氧基)、酰胺基(优选为碳原子数2~30的酰胺基)、烷氧基羰基氨基(优选为碳原子数2~30的烷氧基羰基氨基)、芳氧基羰基氨基(优选为碳原子数7~30的芳氧基羰基氨基)、氨磺酰基(优选为碳原子数0~30的胺磺酰基)、氨基甲酰基(优选为碳原子数1~30的氨基甲酰基)、烷硫基(优选为碳原子数1~30的烷硫基)、芳硫基(优选为碳原子数6~30的芳硫基)、杂芳硫基(优选为碳原子数1~30)、烷基磺酰基(优选为碳原子数1~30)、芳基磺酰基(优选为碳原子数6~30)、杂芳基磺酰基(优选为碳原子数1~30)、烷基亚磺酰基(优选为碳原子数1~30)、芳基亚磺酰基(优选为碳原子数6~30)、杂芳基亚磺酰基(优选为碳原子数1~30)、脲基(优选为碳原子数1~30)、羟基、羧基、磺酸基、磷酸基、羧酰胺基、(优选为-NHCORA1所表示的基团,RA1表示烃基或杂环基。烃基及杂环基可以进一步具有取代基。作为取代基,优选为卤素原子,更优选为氟原子。)、磺酰胺基(优选为-NHSO2RA2所表示的基团。RA2表示烃基或杂环基。烃基及杂环基可以进一步具有取代基。作为取代基,优选为卤素原子,更优选为氟原子。)、酰亚胺酸基(优选为-SO2NHSO2RA3、-CONHSO2RA4、-CONHCORA5或-SO2NHCORA6所表示的基团。RA3~RA6分别独立地表示烃基或杂环基。烃基及杂环基可以进一步具有取代基。)、巯基、卤素原子、氰基、烷基亚磺酰基、芳基亚磺酰基、肼基、亚氨基、杂芳基(优选为碳原子数1~30)。
当这些基团为能够进一步取代的基团时可以进一步具有取代基。作为取代基,可以举出在上述取代基T中说明的基团。
作为R1a、R1b所表示的基团的具体例,可以举出具有烷氧基作为取代基的芳基、具有羟基作为取代基的芳基、具有酰氧基作为取代基的芳基等。
式(PP)中,R2及R3各自独立地表示氢原子或取代基。作为取代基,可以举出上述取代基T。R2及R3中的至少一者优选为吸电子基团。哈米特取代基常数σ值(西格玛值)为正的取代基作为吸电子基团发挥作用。在此,利用哈米特方程式求出的取代基常数中有σp值和σm值。这些值能够在很多一般的书籍中查看。本发明中,能够将哈米特取代基常数σ值为0.2以上的取代基作为吸电子基团而例示。σ值优选为0.25以上,更优选为0.3以上,进一步优选为0.35以上。上限并没有特别限制,但优选为0.80以下。作为吸电子基团的具体例,可以举出氰基(σp值=0.66)、羧基(-COOH:σp值=0.45)、烷氧基羰基(例如,-COOMe:σp值=0.45)、芳氧基羰基(例如,-COOPh:σp值=0.44)、氨基甲酰基(例如,-CONH2:σp值=0.36)、烷基羰基(例如,-COMe:σp值=0.50)、芳基羰基(例如,-COPh:σp值=0.43)、烷基磺酰基(例如,-SO2Me:σp值=0.72)、芳基磺酰基(例如,-SO2Ph:σp值=0.68)等,优选为氰基。其中,Me表示甲基,Ph表示苯基。另外,关于哈米特取代基常数σ值,例如能够参考日本特开2011-068731号公报的段落号0017~0018,该内容被编入本说明书中。
式(PP)中,R2表示吸电子基团(优选为氰基),R3优选为表示杂芳基。杂芳基优选为5元环或6元环。并且,杂芳基优选为单环或稠环,优选为单环或缩合数为2~8的稠环,更优选为单环或缩合数为2~4的稠环。构成杂芳基的杂原子的数量优选为1~3,更优选为1~2。作为杂原子,例如可以例示出氮原子、氧原子、硫原子。杂芳基优选为具有1个以上的氮原子。式(PP)中的2个R2彼此可以相同也可以不同。并且,式(PP)中的2个R3彼此可以相同也可以不同。
式(PP)中,R4优选为氢原子、烷基、芳基、杂芳基或-BR4AR4B所表示的基团,更优选为氢原子、烷基、芳基或-BR4AR4B所表示的基团,进一步优选为-BR4AR4B所表示的基团。作为R4A及R4B所表示的取代基,优选为卤素原子、烷基、烷氧基、芳基或杂芳基,更优选为烷基、芳基或杂芳基,尤其优选为芳基。这些基团可以进一步具有取代基。式(PP)中的2个R4彼此可以相同也可以不同。R4A及R4B可以相互键合而形成环。
作为式(PP)所表示的化合物的具体例,可以举出下述化合物。以下结构式中,Me表示甲基,Ph表示苯基。并且,作为吡咯并吡咯化合物,可以举出日本特开2009-263614号公报的段落号0016~0058中所记载的化合物、日本特开2011-068731号公报的段落号0037~0052中所记载的化合物、国际公开WO2015/166873号公报的段落号0010~0033中所记载的化合物等,这些内容被编入本说明书中。
[化学式7]
[化学式8]
作为方酸化合物,优选为下述式(SQ)所表示的化合物。
[化学式9]
式(SQ)中,A1及A2分别独立地表示芳基、杂芳基或式(A-1)所表示的基团;
[化学式10]
式(A-1)中,Z1表示形成含氮杂环的非金属原子团,R2表示烷基、烯基或芳烷基,d表示0或1,波浪线表示连结键。关于式(SQ)的详细内容,能够参考日本特开2011-208101号公报的段落号0020~0049、日本专利第6065169号公报的段落号0043~0062、国际公开WO2016/181987号公报的段落号0024~0040的记载,这些内容被编入本说明书中。
另外,式(SQ)中,阳离子如以下那样非定域化而存在。
[化学式11]
方酸化合物优选为下述式(SQ-1)所表示的化合物。
[化学式12]
环A及环B分别独立地表示芳环,XA及XB分别独立地表示取代基,GA及GB分别独立地表示取代基,kA表示0~nA的整数,kB表示0~nB的整数,nA及nB分别表示能够在环A或环B上取代的最大的整数,XA与GA、XB与GB、XA与XB可以相互键合而形成环,当GA及GB分别存在多个时,可以相互键合而形成环结构。
作为GA及GB所表示的取代基,可以举出在上述式(PP)中说明的取代基T。
作为XA及XB所表示的取代基,优选为具有活性氢的基团,更优选为-OH、-SH、-COOH、-SO3H、-NRX1RX2、-NHCORX1、-CONRX1RX2、-NHCONRX1RX2、-NHCOORX1、-NHSO2RX1、-B(OH)2及-PO(OH)2,进一步优选为-OH、-SH及-NRX1RX2。RX1及RX1分别独立地表示氢原子或取代基。作为XA及XB所表示的取代基,可以举出烷基、芳基或杂芳基,优选为烷基。
环A及环B分别独立地表示芳环。芳环可以为单环,也可以为稠环。作为芳环的具体例,可以举出苯环、萘环、并环戊二烯(pentalene)、茚环、薁环、庚搭烯(heptalene)环、茚烯(indacene)环、苝环、稠五苯(pentacene)环、苊烯环、菲环、蒽环、稠四苯环、(chrysene)环、联亚三苯环、芴环、联苯环、吡咯环、呋喃环、噻吩环、咪唑环、噁唑环、噻唑环、吡啶环、吡嗪环、嘧啶环、哒嗪环、吲哚嗪环、吲哚环、苯并呋喃环、苯并噻吩环、异苯并呋喃环、喹嗪(quinolizine)环、喹啉环、酞嗪环、萘啶(naphthyridine)环、喹喔啉环、喹喔唑啉环、异喹啉环、咔唑环、菲啶环、吖啶环、菲咯啉环、噻嗯环、色烯环、呫吨环、吩噁噻环、吩噻嗪环及吩嗪环,优选为苯环或萘环。芳环可以未经取代,也可以具有取代基。作为取代基,可以举出在上述式(PP)中说明的取代基T。
XA与GA、XB与GB、XA与XB可以相互键合而形成环,当GA及GB存在多个时,可以相互键合而形成环。作为环,优选为5元环或6元环。环可以为单环,也可以为稠环。当XA与GA、XB与GB、XA与XB、GA彼此或GB彼此键合而形成环时,这些可以直接键合而形成环,也可以经由亚烷基、-CO-、-O-、-NH-、-BR-及包含这些的组合的2价的连接基团键合而形成环。R表示氢原子或取代基。作为取代基,可以举出在上述式(PP)中说明的取代基T,优选为烷基或芳基。
kA表示0~nA的整数,kB表示0~nB的整数,nA表示能够在环A上取代的最大的整数,nB表示能够在环B上取代的最大的整数。kA及kB优选为分别独立地是0~4,更优选为0~2,尤其优选为0~1。
方酸化合物也优选为下述式(SQ-10)、式(SQ-11)或式(SQ-12)所表示的化合物。
式(SQ-10)
[化学式13]
式(SQ-11)
[化学式14]
式(SQ-12)
[化学式15]
式(SQ-10)~(SQ-12)中,X独立地为1个以上的氢原子可以经卤素原子、碳原子数1~12的烷基或烷氧基取代的式(S1)或式(S2)所表示的2价的有机基团。
-(CH2)n1-……(S1)
式(S1)中,n1为2或3。
-(CH2)n2-O-(CH2)n3-……(S2)
式(S2)中,n2和n3分别独立地为0~2的整数,n2+n3为1或2。
R1及R2分别独立地表示烷基或芳基。烷基及芳基可以具有取代基,也可以未经取代。作为取代基,可以举出在上述式(PP)中说明的取代基T。
R3~R6分别独立地表示氢原子、卤素原子、烷基或烷氧基。
n为2或3。
作为方酸化合物,可以举出下述结构的化合物。并且,可以举出日本特开2011-208101号公报的段落号0044~0049中所记载的化合物、日本专利第6065169号公报的段落号0060~0061中所记载的化合物、国际公开WO2016/181987号公报的段落号0040中所记载的化合物、国际公开WO2013/133099号公报中所记载的化合物、国际公开WO2014/088063号公报中所记载的化合物、日本特开2014-126642号公报中所记载的化合物、日本特开2016-146619号公报中所记载的化合物、日本特开2015-176046号公报中所记载的化合物、日本特开2017-025311号公报中所记载的化合物、国际公开WO2016/154782号公报中所记载的化合物、日本专利第5884953号公报中所记载的化合物、日本专利第6036689号公报中所记载的化合物、日本专利第5810604号公报中所记载的化合物、日本特开2017-068120号公报中所记载的化合物等,这些内容被编入本说明书中。
[化学式16]
花青化合物优选为式(C)所表示的化合物。
式(C)
[化学式17]
式中,Z1及Z2分别独立地为形成可以稠合的5元或6元的含氮杂环的非金属原子团,R101及R102分别独立地表示烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基,L1表示具有奇数个次甲基的次甲基链,a及b分别独立地为0或1,当a为0时,碳原子与氮原子以双键键合,当b为0时,碳原子与氮原子以单键键合,当式中的Cy所表示的部位为阳离子部时,X1表示阴离子,c表示为了取电荷的平衡所需要的数量,当式中的Cy所表示的部位为阴离子部时,X1表示阳离子,c表示为了取电荷的平衡所需要的数量,当式中的Cy所表示的部位的电荷在分子内被中和时,c为0。
作为花青化合物的具体例,可以举出以下所示的化合物。并且,作为花青化合物,可以举出日本特开2009-108267号公报的段落号0044~0045中所记载的化合物、日本特开2002-194040号公报的段落号0026~0030中所记载的化合物、日本特开2015-172004号公报中所记载的化合物、日本特开2015-172102号公报中所记载的化合物、日本特开2008-088426号公报中所记载的化合物、日本特开2017-031394号公报中所记载的化合物等,这些内容被编入本说明书中。
[化学式18]
本发明中,作为近红外线吸收色素,也能够使用市售品。例如,可以举出SDO-C33(Arimoto Chemical Co.Ltd.制造)、EX Color IR-14、EX Color IR-10A、EX Color TX-EX-801B、EX Color TX-EX-805K(Nippon Shokubai Co.,Ltd.制造)、ShigenoxNIA-8041、ShigenoxNIA-8042、ShigenoxNIA-814、ShigenoxNIA-820、ShigenoxNIA-839(HAKKOChemical Co.,Ltd.制造)、EpoliteV-63、Epolight3801、Epolight3036(EPOLIN公司制造)、PRO-JET825LDI(FUJIFILM Co.,Ltd.制造)、NK-3027、NK-5060(Hayashibara Co.,Ltd.制造)、YKR-3070(Mitsui Chemicals,Inc.制造)等。
当本发明的固化性组合物含有近红外线吸收色素时,近红外线吸收色素的含量相对于固化性组合物的总固体成分,优选为1~50质量%。上限优选为40质量%以下,更优选为30质量%以下。下限优选为3质量%以上,更优选为5质量%以上。
并且,相对于彩色着色剂与有机黑色着色剂的合计100质量份,优选为含有10~70质量份的近红外线吸收色素。上限优选为60质量份以下,更优选为50质量份以下。下限优选为20质量份以上,更优选为30质量份以上。
并且,色材总质量中的近红外线吸收色素的含量优选为5~60质量%。上限优选为50质量%以下,更优选为40质量%以下。下限优选为10质量%以上,更优选为15质量%以上。近红外线吸收色素可以单独使用1种,也可以同时使用2种以上。当同时使用2种以上的近红外线吸收色素时,优选为这些的合计在上述范围。
<<固化性化合物>>
本发明的固化性组合物含有固化性化合物。作为固化性化合物,可以举出聚合性化合物、树脂等。树脂可以为非聚合性的树脂(不具有聚合性基团的树脂),也可以为聚合性的树脂(具有聚合性基团的树脂)。作为聚合性基团,可以举出具有不饱和键的基团、环氧基、羟甲基、烷氧基甲基等。作为具有烯属不饱和键的基团,可以举出乙烯基、(甲基)烯丙基、(甲基)丙烯酰基等。
本发明中,作为固化性化合物,优选为使用至少包含树脂的固化性化合物,更优选为使用树脂与单体类型的聚合性化合物,进一步优选为使用树脂与含有具有烯属不饱和键的基团的单体类型的聚合性化合物。
在本发明的固化性组合物中,固化性化合物的含量相对于固化性组合物的总固体成分,优选为0.1~50质量%。下限例如更优选为0.5质量%以上,进一步优选为1质量%以上。上限例如更优选为40质量%以下,进一步优选为30质量%以下。固化性化合物可以仅为1种,也可以为2种以上。在2种以上的情况下,优选为合计量成为上述范围。
(聚合性化合物)
作为聚合性化合物,可以举出含有具有烯属不饱和键的基团的化合物、具有环氧基的化合物、具有羟甲基的化合物、具有烷氧基甲基的化合物等。聚合性化合物可以为单体,也可以为树脂。含有具有烯属不饱和键的基团的单体类型的聚合性化合物能够优选地用作自由基聚合性化合物。并且,具有环氧基的化合物、具有羟甲基的化合物、具有烷氧基甲基的化合物能够优选地用作阳离子聚合性化合物。
单体类型的聚合性化合物的分子量优选为小于2000,更优选为100以上且小于2000,进一步优选为200以上且小于2000。上限例如优选为1500以下。树脂类型的聚合性化合物的重均分子量(Mw)优选为2,000~2,000,000。上限优选为1,000,000以下,更优选为500,000以下。下限优选为3,000以上,更优选为5,000以上。
作为树脂类型的聚合性化合物,可以举出环氧树脂或包含具有聚合性基团的重复单元的树脂等。作为具有聚合性基团的重复单元,可以举出下述式(A2-1)~(A2-4)等。
[化学式19]
R1表示氢原子或烷基。烷基的碳原子数优选为1~5,进一步优选为1~3,尤其优选为1。R1优选为氢原子或甲基。
L51表示单键或2价的连接基团。作为2价的连接基团,可以举出亚烷基、亚芳基、-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-SO2-、-NR10-(R10表示氢原子或烷基,优选为氢原子)或包含这些组合的基团。亚烷基的碳原子数优选为1~30,更优选为1~15,进一步优选为1~10。亚烷基可以具有取代基,但优选为未经取代。亚烷基可以为直链、支链、环状中的任一种。并且,环状的亚烷基可以为单环、多环中的任一种。亚芳基的碳原子数优选为6~18,更优选为6~14,进一步优选为6~10。
P1表示聚合性基团。作为聚合性基团,可以举出具有烯属不饱和键的基团、环氧基、羟甲基、烷氧基甲基等。
作为含有具有烯属不饱和键的基团的化合物,优选为3~15官能的(甲基)丙烯酸酯化合物,更优选为3~6官能的(甲基)丙烯酸酯化合物。作为包含具有烯属不饱和键的基团的化合物的例子,能够参考日本特开2013-253224号公报的段落号0033~0034的记载,该内容被编入本说明书中。作为含有具有烯属不饱和键的基团的化合物,优选为乙氧基改性季戊四醇四丙烯酸酯(作为市售品为NK Ester ATM-35E;Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造)、二季戊四醇三丙烯酸酯(在市售品为KAYARAD D-330;Nippon Kayaku Co.,Ltd.制造)、二季戊四醇四丙烯酸酯(作为市售品为KAYARAD D-320;Nippon Kayaku Co.,Ltd.制造)、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯(作为市售品为KAYARAD D-310;Nippon Kayaku Co.,Ltd.制造)、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯(作为市售品为KAYARAD DPHA;Nippon KayakuCo.,Ltd.制造,A-DPH-12E;Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造)及这些(甲基)丙烯酰基经由乙二醇残基和/或丙二醇残基键合的结构。并且,也能够使用这些低聚物类型。并且,能够参考日本特开2013-253224号公报的段落号0034~0038的记载,该内容被编入本说明书中。并且,可以举出日本特开2012-208494号公报的段落号0477(对应的美国专利申请公开第2012/0235099号说明书的段落号0585)中所记载的聚合性单体等,这些内容被编入本说明书中。并且,也优选为二甘油EO(环氧乙烷)改性(甲基)丙烯酸酯(作为市售品为M-460;TOAGOSEI CO.,LTD.制造)、季戊四醇四丙烯酸酯(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造,A-TMMT)、1,6-己二醇二丙烯酸酯(Nippon Kayaku Co.,Ltd.制造,KAYARAD HDDA)。也能够使用这些的低聚物类型。例如可以举出RP-1040(Nippon Kayaku Co.,Ltd.制造)等。并且,作为自由基聚合性化合物,也能够使用ARONIX M-350、TO-2349(TOAGOSEI CO.,LTD.制造)。
包含具有烯属不饱和键的基团的化合物可以进一步具有羧基、磺酸基、磷酸基等酸基。作为市售品,例如可以举出TOAGOSEI CO.,LTD.制造的ARONIX系列(例如,M-305、M-510、M-520)等。
关于包含具有烯属不饱和键的基团的化合物,具有己内酯结构的化合物也是优选的方式。作为具有己内酯结构的化合物,能够参考日本特开2013-253224号公报的段落号0042~0045的记载,该内容被编入本说明书中。具有己内酯结构的化合物例如可以举出由Nippon Kayaku Co.,Ltd.以KAYARAD DPCA系列市售的DPCA-20、DPCA-30、DPCA-60、DPCA-120等。
作为包含具有烯属不饱和键的基团的化合物,也能够使用含有具有烯属不饱和键的基团和亚烷氧基的化合物。作为含有具有烯属不饱和键的基团和亚烷氧基的化合物,优选为含有具有烯属不饱和键的基团和亚乙氧基和/或亚丙氧基的化合物,更优选为含有具有烯属不饱和键的基团和亚乙氧基的化合物,进一步优选为具有4~20个亚乙氧基的3~6官能(甲基)丙烯酸酯化合物。作为含有具有烯属不饱和键的基团和亚烷氧基的化合物的市售品,例如可以举出Sartomer Company,Inc.制造的作为具有4个亚乙氧基的4官能(甲基)丙烯酸酯的SR-494、作为具有3个亚异丁氧基的3官能(甲基)丙烯酸酯的KAYARAD TPA-330等。
作为包含具有烯属不饱和键的基团的化合物,也优选为日本特公昭48-041708号公报、日本特开昭51-037193号公报、日本特公平2-032293号公报、日本特公平2-016765号公报中所记载的聚氨酯丙烯酸酯类、或日本特公昭58-049860号公报、日本特公昭56-017654号公报、日本特公昭62-039417号公报、日本特公昭62-039418号公报中所记载的具有环氧乙烷系骨架的氨基甲酸酯化合物类。并且,能够使用日本特开昭63-277653号公报、日本特开昭63-260909号公报、日本特开平1-105238号公报中所记载的在分子内具有氨基结构或硫醚结构的加成聚合性化合物类。作为市售品,可以举出UA-7200(Shin-NakamuraChemical Co.,Ltd.制造)、DPHA-40H(Nippon Kayaku Co.,Ltd.制造)、UA-306H、UA-306T、UA-306I、AH-600、T-600、AI-600(KyoeishaChemical Co.,Ltd.制造)等。
并且,作为包含具有烯属不饱和键的基团的化合物,也能够使用日本特开2017-048367号公报、日本专利第6057891号公报、日本专利第6031807号公报中所记载的化合物。
并且,作为包含具有烯属不饱和键的基团的化合物,也优选为使用8UH-1006、8UH-1012(以上为Taisei Fine Chemical Co.,Ltd.制造)、LIGHTACRYLATE POB-A0(KyoeishaChemical Co.,Ltd.制造)等。
当本发明的固化性组合物含有包含具有烯属不饱和键的基团的化合物时,包含具有烯属不饱和键的基团的化合物的含量相对于固化性组合物的总固体成分,优选为0.1~50质量%。下限例如更优选为0.5质量%以上,进一步优选为1质量%以上。上限例如更优选为40质量%以下,进一步优选为30质量%以下。
并且,单体类型的包含具有烯属不饱和键的基团的化合物的含量相对于固化性组合物的总固体成分,优选为0.1~50质量%。下限例如更优选为0.5质量%以上,进一步优选为1质量%以上。上限例如更优选为40质量%以下,进一步优选为30质量%以下。
作为具有环氧基的化合物(以下也称为环氧化合物),可以举出单官能或多官能缩水甘油醚化合物或多官能脂肪族缩水甘油醚化合物等。并且,作为环氧化合物,也能够使用具有脂环式环氧基的化合物。
作为环氧化合物,可以举出在1个分子中具有1个以上的环氧基的化合物。环氧化合物优选为在1个分子中具有1~100个环氧基的化合物。环氧基的数量的上限例如能够设为10个以下,也能够设为5个以下。环氧基的下限优选为2个以上。
环氧化合物可以为低分子化合物(例如,分子量小于1000),也可以为高分子化合物(macromolecule)(例如,分子量为1000以上,在聚合物的情况下,重均分子量为1000以上)的任一种。环氧化合物的重均分子量优选为2000~100000。重均分子量的上限优选为10000以下,更优选为5000以下,进一步优选为3000以下。
作为环氧化合物的市售品,可以举出EHPE3150(Daicel Corporation制造)、EPICLON N-695(DIC Corporation制造)、ADEKA GLYCIROL ED-505(ADEKA CORPORATION制造,含有环氧基的单体)、Marproof G-0150M、G-0105SA、G-0130SP、G-0250SP、G-1005S、G-1005SA、G-1010S、G-2050M、G-01100、G-01758(NOF CORPORATION制造,含有环氧基的聚合物)等。并且,作为环氧化合物,也能够使用日本特开2013-011869号公报的段落号0034~0036、日本特开2014-043556号公报的段落号0147~0156、日本特开2014-089408号公报的段落号0085~0092中所记载的化合物。这些内容被编入本说明书中。
当本发明的固化性组合物含有环氧化合物时,环氧化合物的含量相对于固化性组合物的总固体成分,优选为0.1~50质量%。下限例如更优选为0.5质量%以上,进一步优选为1质量%以上。上限例如更优选为40质量%以下,进一步优选为30质量%以下。
作为具有羟甲基的化合物(以下也称为羟甲基化合物),可以举出羟甲基键合于氮原子或形成芳环的碳原子的化合物。并且,作为具有烷氧基甲基的化合物(以下也称为烷氧基甲基化合物),可以举出烷氧基甲基键合于氮原子或形成芳环的碳原子的化合物。作为烷氧基甲基或羟甲基键合于氮原子的化合物,优选为烷氧基甲基化三聚氰胺、羟甲基化三聚氰胺、烷氧基甲基化苯并胍胺、羟甲基化苯并胍胺、烷氧基甲基化甘脲、羟甲基化甘脲、烷氧基甲基化脲及羟甲基化脲等。并且,能够参考日本特开2004-295116号公报的0134~0147段、日本特开2014-089408的0095~0126段的记载,这些内容被编入本说明书中。
当本发明的固化性组合物含有羟甲基化合物时,羟甲基化合物的含量相对于固化性组合物的总固体成分,优选为0.1~50质量%。下限例如更优选为0.5质量%以上,进一步优选为1质量%以上。上限例如更优选为40质量%以下,进一步优选为30质量%以下。
当本发明的固化性组合物含有烷氧基甲基化合物时,烷氧基甲基化合物的含量相对于固化性组合物的总固体成分,优选为0.1~50质量%。下限例如更优选为0.5质量%以上,进一步优选为1质量%以上。上限例如更优选为40质量%以下,进一步优选为30质量%以下。
(树脂)
本发明的固化性组合物能够使用树脂作为固化性化合物。固化性化合物优选为使用至少包含树脂的固化性化合物。树脂也能够用作分散剂。另外,将用于分散颜料等的树脂也称为分散剂。但是,树脂的这种用途为一例,也能够以这种用途以外的目的使用树脂。另外,具有聚合性基团的树脂也属于聚合性化合物。
树脂的重均分子量(Mw)优选为2,000~2,000,000。上限优选为1,000,000以下,更优选为500,000以下。下限优选为3,000以上,更优选为5,000以上。
作为树脂,可以举出(甲基)丙烯酸树脂、环氧树脂、烯-硫醇树脂、聚碳酸酯树脂、聚醚树脂、聚芳酯树脂、聚砜树脂、聚醚砜树脂、聚亚苯基树脂、聚亚芳基醚氧化膦树脂、聚酰亚胺树脂、聚酰胺酰亚胺树脂、聚烯烃树脂、环状烯烃树脂、聚酯树脂、苯乙烯树脂等。作为环氧树脂,可以举出在上述聚合性化合物栏中说明的作为环氧化合物而例示的化合物中聚合物类型的化合物。作为环状烯烃树脂的市售品,可以举出ARTON F4520(JSRCorporation制造)等。并且,也能够使用国际公开WO2016/088645号公报的实施例中所记载的树脂、日本特开2017-057265号公报中所记载的树脂、日本特开2017-032685号公报中所记载的树脂、日本特开2017-075248号公报中所记载的树脂、日本特开2017-066240号公报中所记载的树脂,这些内容被编入本说明书中。并且,也能够优选地使用具有茀骨架的树脂。作为具有茀骨架的树脂,可以举出下述结构的树脂。以下结构式中,A为选自均苯四甲酸二酐、二苯甲酮四羧酸二酐、联苯四羧酸二酐及二苯醚四羧酸二酐中的羧酸二酐的残基,M为苯基或苄基。关于具有茀骨架的树脂,能够参考美国专利申请公开第2017/0102610号公报的记载,该内容被编入本说明书中。
[化学式20]
本发明中所使用的树脂可以具有酸基。作为酸基,例如可以举出羧基、磷酸基、磺酸基、酚性羟基等,优选为羧基。这些酸基可以仅为1种,也可以为2种以上。具有酸基的树脂也能够用作碱溶性树脂。
作为具有酸基的树脂,优选为侧链上具有羧基的聚合物。作为具体例,可以举出甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、巴豆酸共聚物、马来酸共聚物、部分酯化马来酸酐共聚物、酚醛清漆树脂等碱溶性酚树脂、侧链上具有羧基的酸性纤维素衍生物、在具有羟基的聚合物中使酸酐加成而得到的树脂。尤其,(甲基)丙烯酸和能够与其共聚合的其他单体的共聚物优选地作为碱溶性树脂。作为能够与(甲基)丙烯酸共聚合的其他单体,可以举出(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸芳基酯、乙烯基化合物等。作为(甲基)丙烯酸烷基酯及(甲基)丙烯酸芳基酯,可以举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸甲苯酯、(甲基)丙烯酸萘酯、(甲基)丙烯酸环己酯等,作为乙烯基化合物,可以举出苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、丙烯腈、乙酸乙烯酯、N-乙烯基吡咯烷酮、甲基丙烯酸四氢糠基酯、聚苯乙烯大分子单体、聚甲基丙烯酸甲酯大分子单体等。并且,其他单体也能够使用日本特开平10-300922号公报中所记载的N位取代马来酰亚胺单体,例如N-苯基马来酰亚胺、N-环己基马来酰亚胺等。另外,能够与这些(甲基)丙烯酸共聚合的其他单体可以仅为1种,也可以为2种以上。
具有酸基的树脂可以进一步含有具有聚合性基团的重复单元。当具有酸基的树脂进一步含有具有聚合性基团的重复单元时,所有重复单元中的具有聚合性基团的重复单元的含量优选为10~90摩尔%,更优选为20~90摩尔%,进一步优选为20~85摩尔%。并且,所有重复单元中的具有酸基的重复单元的含量优选为1~50摩尔%,更优选为5~40摩尔%,进一步优选为5~30摩尔%。
作为具有酸基的树脂,能够优选地使用包含(甲基)丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸/(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯共聚物、(甲基)丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸/其他单体的多元共聚物。并且,也能够优选地使用(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯的共聚物、日本特开平7-140654号公报中所记载的(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯/聚苯乙烯大分子单体/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸2-羟基-3-苯氧基丙酯/聚甲基丙烯酸甲酯大分子单体/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸2-羟基乙酯/聚苯乙烯大分子单体/甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸2-羟基乙酯/聚苯乙烯大分子单体/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物等。
具有酸基的树脂也优选为包含如下聚合物,该聚合物是使包含下述式(ED1)所表示的化合物和/或下述式(ED2)所表示的化合物(以下,有时将这些化合物也成为“醚二聚物”。)的单体成分聚合而成。
[化学式21]
式(ED1)中,R1及R2各自独立地表示氢原子或可以具有取代基的碳原子数1~25的烃基。
[化学式22]
式(ED2)中,R表示氢原子或碳原子数1~30的有机基团。作为式(ED2)所表示的化合物的具体例,能够参考日本特开2010-168539号公报的记载。
作为醚二聚物的具体例,例如能够参考日本特开2013-029760号公报的段落号0317,该内容被编入本说明书中。醚二聚物可以仅为1种,也可以为2种以上。
具有酸基的树脂可以包含来自于下述式(X)所表示的化合物的重复单元。
[化学式23]
式(X)中,R1表示氢原子或甲基,R2表示碳原子数2~10的亚烷基,R3表示氢原子或可以包含苯环的碳原子数1~20的烷基。n表示1~15的整数。
关于具有酸基的树脂,能够参考日本特开2012-208494号公报的段落号0558~0571(对应的美国专利申请公开第2012/0235099号说明书的段落号0685~0700)的记载、日本特开2012-198408号公报的段落号0076~0099的记载,这些内容被编入本说明书中。并且,具有酸基的树脂也能够使用市售品。例如,可以举出Acrybase FF-426(FUJIKURAKASEICO.,LTD.制造)等。
具有酸基的树脂的酸值优选为30~200mgKOH/g。下限优选为50mgKOH/g以上,更优选为70mgKOH/g以上。上限优选为150mgKOH/g以下,更优选为120mgKOH/g以下。
作为具有酸基的树脂,例如可以举出下述结构的树脂等。以下结构式中,Me表示甲基。
[化学式24]
本发明的固化性组合物也能够包含作为分散剂的树脂。分散剂可以举出酸性分散剂(酸性树脂)、碱性分散剂(碱性树脂)。在此,酸性分散剂(酸性树脂)表示酸基的量多于碱性基的量的树脂。酸性分散剂(酸性树脂)优选为将酸基的量与碱性基的量的合计量设为100摩尔%时酸基的量占据70摩尔%以上的树脂,更优选为实质上仅包含酸基的树脂。酸性分散剂(酸性树脂)所具有的酸基优选为羧基。酸性分散剂(酸性树脂)的酸值优选为40~105mgKOH/g,更优选为50~105mgKOH/g,进一步优选为60~105mgKOH/g。并且,碱性分散剂(碱性树脂)表示碱性基的量多于酸基的量的树脂。碱性分散剂(碱性树脂)优选为将酸基的量与碱性基的量的合计量设为100摩尔%时碱性基的量超过50摩尔%的树脂。碱性分散剂所具有的碱性基优选为氨基。
用作分散剂的树脂优选为包含具有酸基的重复单元。通过用作分散剂的树脂包含具有酸基的重复单元,在通过光刻法形成图案时,能够进一步减少像素的基底中所产生的残渣。
用作分散剂的树脂也优选为接枝共聚物。接枝共聚物通过接枝链而具有与溶剂的亲和性,因此颜料的分散性及经时后的分散稳定性优异。接枝共聚物的详细内容能够参考日本特开2012-255128号公报的段落号0025~0094的记载,该内容被编入本说明书中。并且,接枝共聚物的具体例可以举出下述树脂。以下树脂也是具有酸基的树脂(碱溶性树脂)。并且,作为接枝共聚物,可以举出日本特开2012-255128号公报的段落号0072~0094中所记载的树脂,该内容被编入本说明书中。
[化学式25]
并且,本发明中,树脂(分散剂)也优选为使用在主链及侧链中的至少一者中包含氮原子的低聚亚胺系分散剂。作为低聚亚胺系分散剂,优选为具有如下结构单元和包含原子数40~10,000的侧链Y的侧链,并且在主链及侧链中的至少一者中具有碱性氮原子的树脂,该结构单元含有具有pKa14以下的官能团的部分结构X。碱性氮原子只要是呈碱性的氮原子,则没有特别限制。关于低聚亚胺系分散剂,能够参考日本特开2012-255128号公报的段落号0102~0166的记载,该内容被编入本说明书中。作为低聚亚胺系分散剂,能够使用下述结构的树脂或日本特开2012-255128号公报的段落号0168~0174中所记载的树脂。
[化学式26]
分散剂也能够作为市售品而获得,作为其具体例,可以举出BYK2000(BYKJapanKK.制造)等。并且,也能够使用日本特开2014-130338号公报的段落号0041~0130中所记载的颜料分散剂,该内容被编入本说明书中。并且,也能够将上述具有酸基的树脂等用作分散剂。
当本发明的固化性组合物含有树脂时,树脂的含量相对于固化性组合物的总固体成分,优选为0.1~50质量%。下限优选为1质量%以上,更优选为3质量%以上,进一步优选为5质量%以上。上限例如更优选为40质量%以下,进一步优选为30质量%以下。
并且,具有酸基的树脂的含量相对于本发明的固化性组合物的总固体成分,优选为0.1~50质量%。下限优选为1质量%以上,更优选为3质量%以上,进一步优选为5质量%以上。上限优选为40质量%以下,更优选为30质量%以下。本发明的固化性组合物可以仅包含1种树脂,也可以包含2种以上。当包含2种以上时,优选为该等的合计量成为上述范围。
当本发明的固化性组合物包含聚合性化合物(优选为含有具有烯属不饱和键的基团的单体类型的聚合性化合物)和树脂时,聚合性化合物与树脂的质量比优选为聚合性化合物/树脂=0.4~1.4。上述质量比的下限优选为0.5以上,更优选为0.6以上。上述质量比的上限优选为1.3以下,更优选为1.2以下。若上述质量比在上述范围内,则能够形成矩形性更加优异的图案。
并且,聚合性化合物(优选为含有具有烯属不饱和键的基团的单体类型的聚合性化合物)与具有酸基的树脂的质量比优选为聚合性化合物/具有酸基的树脂=0.4~1.4。上述质量比的下限优选为0.5以上,更优选为0.6以上。上述质量比的上限优选为1.3以下,更优选为1.2以下。若上述质量比在上述范围内,则能够形成矩形性更加优异的图案。
<<光聚合引发剂>>
本发明的固化性组合物能够含有光聚合引发剂。作为光聚合引发剂,可以举出光自由基聚合引发剂、光阳离子聚合引发剂等。优选为根据聚合性化合物的种类选择使用。当使用含有具有烯属不饱和键的基团的化合物等自由基聚合性化合物作为聚合性化合物时,优选为使用光自由基聚合引发剂作为光聚合引发剂。并且,当使用阳离子聚合性化合物作为聚合性化合物时,优选为使用光阳离子聚合引发剂作为光聚合引发剂。作为光聚合引发剂并没有特别限制,能够从公知的光聚合引发剂中适当选择。例如,优选为对紫外区域至可见区域的光线具有感光性的化合物。
光聚合引发剂的含量相对于固化性组合物的总固体成分,优选为0.1~50质量%,更优选为0.5~30质量%,进一步优选为1~20质量%。若光聚合引发剂的含量在上述范围内,则可得到更良好的灵敏度和图案形成性。本发明的固化性组合物可以仅包含1种光聚合引发剂,也可以包含2种以上。当包含2种以上的光聚合引发剂时,优选为这些的合计量成为上述范围。
(光自由基聚合引发剂)
作为光自由基聚合引发剂,例如可以举出卤化烃衍生物(例如,具有三嗪骨架的化合物、具有噁二唑骨架的化合物等)、酰基膦化合物、六芳基联咪唑、肟化合物、有机过氧化物、硫代化合物、酮化合物、芳香族鎓盐、α-羟基酮化合物、α-氨基酮化合物等。从曝光灵敏度的观点而言,光聚合引发剂优选为三卤甲基三嗪(trihalo methyl triazine)化合物、苄基二甲基缩酮化合物、α-羟基酮化合物、α-氨基酮化合物、酰基膦化合物、氧化膦化合物、茂金属化合物、肟化合物、三芳基咪唑二聚物、鎓化合物、苯并噻唑化合物、二苯甲酮化合物、苯乙酮化合物、环戊二烯-苯-铁络合物、卤甲基噁二唑化合物及3-芳基取代香豆素化合物,更优选为选自肟化合物、α-羟基酮化合物、α-氨基酮化合物及酰基膦化合物中的化合物,进一步优选为肟化合物。作为自由基聚合引发剂,能够参考日本特开2014-130173号公报的0065~0111段的记载,该内容被编入本说明书中。
作为α-羟基酮化合物的市售品,可以举出IRGACURE-184、DAROCUR-1173、IRGACURE-500、IRGACURE-2959、IRGACURE-127(以上为BASF公司制造)等。作为α-氨基酮化合物的市售品,可以举出IRGACURE-907、IRGACURE-369、IRGACURE-379及IRGACURE-379EG(以上为BASF公司制造)等。作为酰基膦化合物的市售品,可以举出IRGACURE-819、DAROCUR-TPO(以上为BASF公司制造)等。
作为肟化合物,能够使用日本特开2001-233842号公报中所记载的化合物、日本特开2000-080068号公报中所记载的化合物、日本特开2006-342166号公报中所记载的化合物、J.C.S.Perkin II(1979年,第1653页-第1660页)中所记载的化合物、J.C.S.Perkin II(1979年,第156页-第162页)中所记载的化合物、Journal of Photopolymer Science andTechnology(1995年,第202页-第232页)中所记载的化合物、日本特开2000-066385号公报中所记载的化合物、日本特开2000-080068号公报中所记载的化合物、日本特表2004-534797号公报中所记载的化合物、日本特开2006-342166号公报中所记载的化合物、日本特开2017-019766号公报中所记载的化合物、日本专利第6065596号公报中所记载的化合物、国际公开WO2015/152153号公报中所记载的化合物、国际公开WO2017/051680公报中所记载的化合物等。作为肟化合物的具体例,可以举出3-苯甲酰氧基亚氨基丁烷-2-酮、3-乙酰氧基亚氨基丁烷-2-酮、3-丙酰氧基亚氨基丁烷-2-酮、2-乙酰氧基亚氨基戊烷-3-酮、2-乙酰氧基亚氨基-1-苯基丙烷-1-酮、2-苯甲酰氧基亚氨基-1-苯基丙烷-1-酮、3-(4-甲苯磺酰氧基)亚氨基丁烷-2-酮及2-乙氧基羰氧基亚氨基-1-苯基丙烷-1-酮等。作为市售品,可以举出IRGACURE-OXE01、IRGACURE-OXE02、IRGACURE-OXE03、IRGACURE-OXE04(以上为BASF公司制造)、TR-PBG-304(Changzhou Tronly New Electronic Materials CO.,LTD.制造)、Adeka Optomer N-1919(ADEKA CORPORATION制造,日本特开2012-014052号公报中所记载的光聚合引发剂2)。并且,作为肟化合物,也优选为使用无着色性的化合物或透明性高且不易变色的化合物。作为市售品,可以举出ADEKA ARKLS NCI-730、NCI-831、NCI-930(以上为ADEKA CORPORATION制造)等。
本发明中,作为光聚合引发剂,也能够使用具有芴环的肟化合物。作为具有芴环的肟化合物的具体例,可以举出日本特开2014-137466号公报中所记载的化合物。该内容被编入本说明书中。
本发明中,作为光自由基聚合引发剂,也能够使用具有氟原子的肟化合物。作为具有氟原子的肟化合物的具体例,可以举出日本特开2010-262028号公报中所记载的化合物、日本特表2014-500852号公报中所记载的化合物24、36~40、日本特开2013-164471号公报中所记载的化合物(C-3)等。该内容被编入本说明书中。
本发明中,作为光自由基聚合引发剂,能够使用具有硝基的肟化合物。也优选为具有硝基的肟化合物设为二聚体。作为具有硝基的肟化合物的具体例,可以举出日本特开2013-114249号公报的段落号0031~0047、日本特开2014-137466号公报的段落号0008~0012、0070~0079中所记载的化合物、日本专利第4223071号公报的段落号0007~0025中所记载的化合物、ADEKA ARKLS NCI-831(ADEKA CORPORATION制造)。
本发明中,作为光自由基聚合引发剂,也能够使用具有苯并呋喃骨架的肟化合物。作为具体例,可以举出国际公开WO2015/036910号公报中所记载的OE-01~OE-75。
以下示出本发明中优选地使用的肟化合物的具体例,但本发明并不限定于这些。
[化学式27]
[化学式28]
肟化合物优选为在波长350~500nm的范围具有极大吸收波长的化合物,更优选为在波长360~480nm的范围具有极大吸收波长的化合物。并且,从灵敏度的观点而言,肟化合物优选为在波长365nm或波长405nm下的摩尔吸光系数高,更优选为1,000~300,000,进一步优选为2,000~300,000,尤其优选为5,000~200,000。化合物的摩尔吸光系数能够使用公知的方法进行测定。例如,优选为通过分光光度计(Varian公司制造的Cary-5分光光度计(spectrophotometer)),使用乙酸乙酯溶剂以0.01g/L的浓度测定。
本发明中,作为光自由基聚合引发剂,可以使用2官能或3官能以上的光自由基聚合引发剂。作为这种光自由基聚合引发剂的具体例,可以举出日本特表2010-527339号公报、日本特表2011-524436号公报、国际公开WO2015/004565号公报、日本特表2016-532675号公报的段落号0417~0412、国际公开WO2017/033680号公报的段落号0039~0055中所记载的肟化合物的2聚物或日本特表2013-522445号公报中所记载的化合物(E)及化合物(G)、国际公开WO2016/034963号公报中所记载的Cmpd1~7等。
光自由基聚合引发剂也优选为包含肟化合物和α-氨基酮化合物。通过将两者同时使用,显影性得到提高,容易形成矩形性优异的图案。当将肟化合物和α-氨基酮化合物同时使用时,相对于肟化合物100质量份,α-氨基酮化合物优选为50~600质量份,更优选为150~400质量份。
光自由基聚合引发剂的含量相对于本发明的固化性组合物的总固体成分,优选为0.1~50质量%,更优选为0.5~30质量%,进一步优选为1~20质量%。若光自由基聚合引发剂的含量在上述范围内,则可得到更良好的灵敏度和图案形成性。本发明的固化性组合物可以仅包含1种光自由基聚合引发剂,也可以包含2种以上。当包含2种以上的光自由基聚合引发剂时,优选为这些的合计量成为上述范围。
(光阳离子聚合引发剂)
作为光阳离子聚合引发剂,可以举出光产酸剂。作为光产酸剂,能够举出通过光照射分解而产生酸的重氮鎓盐、鏻盐、锍盐、碘盐等鎓盐化合物、酰亚胺磺酸盐、肟磺酸盐、重氮二砜、二砜、邻硝基苄基磺酸盐等磺酸盐化合物等。关于光阳离子聚合引发剂的详细内容,能够参考日本特开2009-258603号公报的段落号0139~0214的记载,该内容被编入本说明书中。
光阳离子聚合引发剂的含量相对于本发明的固化性组合物的总固体成分,优选为0.1~50质量%,更优选为0.5~30质量%,进一步优选为1~20质量%。若光阳离子聚合引发剂的含量在上述范围内,则可得到更良好的灵敏度和图案形成性。本发明的固化性组合物可以仅包含1种光阳离子聚合引发剂,也可以包含2种以上。当包含2种以上的光阳离子聚合引发剂时,优选为这些的合计量成为上述范围。
<<多官能硫醇>>
本发明的固化性组合物能够含有多官能硫醇。多官能硫醇是具有2个以上的硫醇(SH)基的化合物。多官能硫醇通过与上述光自由基聚合引发剂同时使用而在光照射后的自由基聚合过程中作为链转移剂发挥作用,产生不易受到由氧引起的聚合阻碍的硫自由基,因此能够提高近红外线透射滤波器用组合物的灵敏度。尤其,优选为SH基键合于亚甲基、亚乙基等脂肪族基的多官能脂肪族硫醇。
作为多官能硫醇,例如可以举出己烷二硫醇、癸烷二硫醇、1,4-丁二醇双硫代丙酸酯、1,4-丁二醇双硫代乙醇酸酯、乙二醇双硫代乙醇酸酯、乙二醇双硫代丙酸酯、三羟甲基丙烷三硫代乙醇酸酯、三羟甲基丙烷三硫代丙酸酯、三羟甲基乙烷三(3-巯基丁酸酯)、三羟甲基丙烷三(3-巯基丁酸酯)、三羟甲基丙烷三(3-巯基丙酸酯)、季戊四醇四硫代乙醇酸酯、季戊四醇四硫代丙酸酯、季戊四醇四(3-巯基丙酸酯)、二季戊四醇六(3-巯基丙酸酯)、三巯基丙酸三(2-羟基乙基)异氰脲酸酯、1,4-二甲基巯基苯、2,4,6-三巯基-s-三嗪、2-(N,N-二丁基氨基)-4,6-二巯基-s-三嗪等。并且,还可以举出下述结构的化合物。
[化学式29]
多官能硫醇的含量相对于本发明的固化性组合物的总固体成分,优选为0.1~20质量%,更优选为0.1~15质量%,进一步优选为0.1~10质量%。近红外线透射滤波器用组合物可以仅包含1种多官能硫醇,也可以包含2种以上。当包含2种以上时,优选为这些的合计量成为上述范围。
<<环氧树脂固化剂>>
当本发明的固化性组合物包含环氧树脂时,优选为进一步包含环氧树脂固化剂。作为环氧树脂固化剂,例如可以举出胺系化合物、酸酐系化合物、酰胺系化合物、酚系化合物、多元羧酸等。作为环氧树脂固化剂,从耐热性、固化物的透明性的观点而言,优选为多元羧酸,最优选在分子内具有两个以上的羧酸酐基的化合物。作为环氧树脂固化剂的具体例,可以举出丁二酸等。关于环氧树脂固化剂的详细内容,能够参考段落号0072~0078,该内容被编入本说明书中。
环氧树脂固化剂的含量相对于环氧树脂100质量份,优选为0.01~20质量份,更优选为0.01~10质量份,进一步优选为0.1~6.0质量份。
<<颜料衍生物>>
本发明的固化性组合物能够进一步包含颜料衍生物。作为颜料衍生物,可以举出具有将颜料的一部经酸基、碱性基、具有盐结构的基团或邻苯二甲酰甲基取代的结构的化合物。作为颜料衍生物,优选为式(B1)所表示的化合物。
[化学式30]
式(B1)中,P表示色素结构,L表示单键或连接基团,X表示酸基、碱性基、具有盐结构的基团或邻苯二甲酰甲基,m表示1以上的整数,n表示1以上的整数,当m为2以上时多个L及X可以彼此不同,当n为2以上时多个X可以彼此不同。
作为P所表示的色素结构,优选为选自吡咯并吡咯色素结构、二酮吡咯并吡咯色素结构、喹吖啶酮色素结构、蒽醌色素结构、二蒽醌色素结构、苯并异吲哚色素结构、噻嗪靛蓝色素结构、偶氮色素结构、喹酞酮色素结构、酞菁色素结构、萘酞菁色素结构、二噁嗪色素结构、苝色素结构、紫环酮色素结构、苯并咪唑酮色素结构、苯并噻唑色素结构、苯并咪唑色素结构及苯并噁唑色素结构中的至少1种,进一步优选为选自吡咯并吡咯色素结构、二酮吡咯并吡咯色素结构、喹吖啶酮色素结构及苯并咪唑酮色素结构中的至少1种,尤其优选为吡咯并吡咯色素结构。
作为L所表示的连接基团,可以举出烃基、杂环基、-NR-、-SO2-、-S-、-O-、-CO-或包含这些的组合的基团。R表示氢原子、烷基或芳基。
作为X所表示的酸基,可以举出羧基、磺酸基、羧酰胺基、磺酰胺基、酰亚胺酸基等。作为羧酰胺基,优选为-NHCORX1所表示的基团。作为磺酰胺基,优选为-NHSO2RX2所表示的基团。作为酰亚胺酸基,优选为-SO2NHSO2RX3、-CONHSO2RX4、-CONHCORX5或-SO2NHCORX6所表示的基团。RX1~RX6分别独立地表示烃基或杂环基。RX1~RX6所表示的烃基及杂环基可以进一步具有取代基。作为进一步的取代基,可以举出在上述式(PP)中说明的取代基T,优选为卤素原子,更优选为氟原子。作为X所表示的碱性基,可以举出氨基。作为X所表示的盐结构,可以举出上述酸基或碱性基的盐。
作为颜料衍生物,可以举出下述结构的化合物。并且,也能够使用日本特开昭56-118462号公报、日本特开昭63-264674号公报、日本特开平1-217077号公报、日本特开平3-009961号公报、日本特开平3-026767号公报、日本特开平3-153780号公报、日本特开平3-045662号公报、日本特开平4-285669号公报、日本特开平6-145546号公报、日本特开平6-212088号公报、日本特开平6-240158号公报、日本特开平10-030063号公报、日本特开平10-195326号公报、国际公开WO2011/024896号公报的段落号0086~0098、国际公开WO2012/102399号公报的段落号0063~0094、国际公开WO2017/038252号公报的段落号0082等中所记载的化合物、日本专利第5299151号公报中所记载的化合物,该等内容被编入本说明书中。
[化学式31]
当本发明的固化性组合物含有颜料衍生物时,颜料衍生物的含量相对于颜料100质量份,优选为1~50质量份。下限值优选为3质量份以上,更优选为5质量份以上。上限值优选为40质量份以下,更优选为30质量份以下。若颜料衍生物的含量在上述范围内,则能够提高颜料的分散性而有效地抑制颜料的凝聚。颜料衍生物可以仅使用1种,也可以使用2种以上。当使用2种以上时,优选为合计量成为上述范围。
<<溶剂>>
本发明的固化性组合物能够含有溶剂。作为溶剂,可以举出有机溶剂。溶剂只要满足各成分的溶解性或组合物的涂布性,则基本上并没有特别限制。作为有机溶剂的例子,例如可以举出酯类、醚类、酮类、芳香族烃类等。关于该等的详细内容,能够参考国际公开WO2015/166779号公报的段落号0223,该内容被编入本说明书中。并且,也能够优选地使用环状烷基经取代的酯系溶剂、环状烷基经取代的酮系溶剂。作为有机溶剂的具体例,可以举出二氯甲烷、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙基溶纤剂乙酸酯、乳酸乙酯、二乙二醇二甲醚、乙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、2-庚酮、环己酮、乙酸环己酯、环戊酮、乙基卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯、丙二醇单甲醚及丙二醇单甲醚乙酸酯等。本发明中,有机溶剂可以单独使用1种,也可以将2种以上组合使用。并且,从提高溶解性的观点而言,也优选为3-甲氧基-N,N-二甲基丙酰胺、3-丁氧基-N,N-二甲基丙酰胺。但是,有时出于环境方面等原因,优选为减少作为溶剂的芳香族烃类(苯、甲苯、二甲苯、乙苯等)(例如,相对于有机溶剂总量,能够设为50质量ppm(百万分率(parts per million))以下,也能够设为10质量ppm以下,也能够设为1质量ppm以下)。
本发明中,优选为使用金属含量少的溶剂,溶剂的金属含量例如优选为10质量ppb(十亿分率(parts per billion))以下。根据需要也可以使用质量ppt(兆分率(parts pertrillion))级别的溶剂,这种高纯度溶剂例如由TOYO Gosei Co.,Ltd.提供(化学工业日报,2015年11月13日)。
作为从溶剂中去除金属等杂质的方法,例如能够举出蒸馏(分子蒸馏或薄膜蒸馏等)或使用过滤器的过滤。作为过滤中所使用的过滤器的过滤器孔径,优选为10μm以下,更优选为5μm以下,进一步优选为3μm以下。过滤器的材质优选为聚四氟乙烯、聚乙烯或尼龙。
溶剂可以包含异构物(原子数相同但结构不同的化合物)。并且,异构物可以仅包含1种,也可以包含多种。
本发明中,有机溶剂中过氧化物的含有率优选为0.8mmol/L以下,更优选为实质上不包含过氧化物。
溶剂的含量相对于本发明的固化性组合物的总量,优选为10~90质量%。下限优选为20质量%以上,更优选为30质量%以上,进一步优选为40质量%以上,更进一步优选为50质量%以上,尤其优选为60质量%以上。
<<阻聚剂>>
本发明的固化性组合物能够含有阻聚剂。作为阻聚剂,可以举出对苯二酚、对甲氧基苯酚、二-叔丁基-对甲酚、邻苯三酚、叔丁基邻苯二酚、苯醌、4,4’-硫代双(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、2,2’-亚甲基双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、N-亚硝基苯基羟基胺盐(铵盐、亚铈盐等)。其中,优选为对甲氧基苯酚。阻聚剂的含量相对于本发明的固化性组合物的总固体成分,优选为0.001~5质量%。
<<硅烷偶联剂>>
本发明的固化性组合物能够含有硅烷偶联剂。本发明中,硅烷偶联剂是指具有水解性基和其以外的官能团的硅烷化合物。并且,水解性基是指与硅原子直接连结且能够通过水解反应及缩合反应中的至少任一种反应产生硅氧烷键的取代基。作为水解性基,例如可以举出卤素原子、烷氧基、酰氧基等,优选为烷氧基。即,硅烷偶联剂优选为具有烷氧基硅基的化合物。并且,作为水解性基以外的官能团,例如可以举出乙烯基、(甲基)丙烯酰基、巯基、环氧基、氧杂环丁基、氨基、脲基、硫化物基、异氰酸酯基、苯基等,优选为(甲基)丙烯酰基及环氧基。硅烷偶联剂可以举出日本特开2009-288703号公报的段落号0018~0036中所记载的化合物、日本特开2009-242604号公报的段落号0056~0066中所记载的化合物,这些内容被编入本说明书中。
硅烷偶联剂的含量相对于本发明的固化性组合物的总固体成分,优选为0.01~15质量%,更优选为0.05~10质量%。硅烷偶联剂可以仅为1种,也可以为2种以上。在2种以上的情况下,优选为合计量成为上述范围。
<<表面活性剂>>
本发明的固化性组合物能够含有表面活性剂。作为表面活性剂,能够使用氟系表面活性剂、非离子系表面活性剂、阳离子系表面活性剂、阴离子系表面活性剂、聚硅氧系表面活性剂等各种表面活性剂。表面活性剂能够参考国际公开WO2015/166779号公报的段落号0238~0245,该内容被编入本说明书中。
本发明中,表面活性剂优选为氟系表面活性剂。通过在近红外线透射滤波器用组合物中含有氟系表面活性剂,液体特性(尤其是流动性)进一步得到提高,能够进一步改善省液性。并且,也能够形成厚度不均匀少的膜。
氟系表面活性剂中的氟含有率优选为3~40质量%,更优选为5~30质量%,尤其优选为7~25质量%。氟含有率在该范围内的氟系表面活性剂在涂布膜的厚度的均匀性或省液性的观点上有效,在组合物中的溶解性也良好。
作为氟系表面活性剂,具体而言,可以举出日本特开2014-041318号公报的段落号0060~0064(对应的国际公开2014/017669号公报的段落号0060~0064)等中所记载的表面活性剂、日本特开2011-132503号公报的段落号0117~0132中所记载的表面活性剂,这些内容被编入本说明书中。作为氟系表面活性剂的市售品,例如可以举出MEGAFACE F171、F172、F173、F176、F177、F141、F142、F143、F144、R30、F437、F475、F479、F482、F554、F780、EXP、MFS-330(以上为DIC Corporation制造)、Fluorad FC430、FC431、FC171(以上为Sumitomo 3MLimited制造)、Surflon S-382、SC-101、SC-103、SC-104、SC-105、SC-1068、SC-381、SC-383、S-393、KH-40(以上为ASAHI GLASS CO.,LTD.制造)、PolyFox PF636、PF656、PF6320、PF6520、PF7002(以上为OMNOVA Solutions Inc.制造)等。
并且,氟系表面活性剂也能够优选地使用丙烯酸系化合物,该丙烯酸系化合物为具有含有氟原子的官能团的分子结构且施加热时含有氟原子的官能团部分被切断而氟原子挥发。作为这种氟系表面活性剂,可以举出DIC Corporation制造的MEGAFACE DS系列(化学工业日报,2016年2月22日)(日经产业新闻,2016年2月23日),例如MEGAFACE DS-21。
并且,氟系表面活性剂也优选为使用具有氟化烷基或氟化亚烷基醚基的含氟原子的乙烯醚化合物与亲水性乙烯醚化合物的聚合物。这种氟系表面活性剂能够参考日本特开2016-216602号公报的记载,该内容被编入本说明书中。
氟系表面活性剂也能够使用嵌段聚合物。例如可以举出日本特开2011-089090号公报中所记载的化合物。氟系表面活性剂也能够优选地使用含氟高分子化合物,该含氟高分子化合物包含来自于具有氟原子的(甲基)丙烯酸酯化合物的重复单元和来自于具有2个以上(优选为5个以上)亚烷氧基(优选为亚乙氧基、亚丙氧基)的(甲基)丙烯酸酯化合物的重复单元。下述化合物也可以作为本发明中所使用的氟系表面活性剂而例示。
[化学式32]
上述化合物的重均分子量优选为3,000~50,000,例如为14,000。上述化合物中,表示重复单元的比例的%为摩尔%。
并且,氟系表面活性剂还可以使用侧链上具有烯属不饱和基的含氟聚合物。作为具体例,可以举出日本特开2010-164965号公报的段落号0050~0090及段落号0289~0295中所记载的化合物,例如DIC Corporation制造的MEGAFACE RS-101、RS-102、RS-718K、RS-72-K等。氟系表面活性剂也能够使用日本特开2015-117327号公报的段落号0015~0158中所记载的化合物。
作为非离子系表面活性剂,可以举出甘油、三羟甲基丙烷、三羟甲基乙烷及这些的乙氧基化物及丙氧基化物(例如,甘油丙氧基化物、甘油乙氧基化物等)、聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯油基醚、聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、脱水山梨糖醇脂肪酸酯、Pluronic L10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2(BASF公司制造)、Tetronic 304、701、704、901、904、150R1(BASF公司制造)、Solsperse 20000(Lubrizol Japan Limited.制造)、NCW-101、NCW-1001、NCW-1002(Wako Pure Chemical Industries,Ltd.制造)、PIONIN D-6112、D-6112-W、D-6315(Takemoto Oil&Fat Co.,Ltd.制造)、Olfine E1010、Surfynol 104、400、440(NissinChemical Co.,Ltd.制造)等。
表面活性剂的含量相对于本发明的固化性组合物的总固体成分,优选为0.001质量%~5.0质量%,更优选为0.005~3.0质量%。表面活性剂可以仅为1种,也可以为2种以上。在2种以上的情况下,优选为合计量成为上述范围。
<<紫外线吸收剂>>
本发明的固化性组合物能够含有紫外线吸收剂。作为紫外线吸收剂,能够使用共轭二烯化合物、氨基丁二烯化合物、甲基二苯甲酰基(methyl dibenzoyl)化合物、香豆素化合物、水杨酸酯化合物、二苯甲酮化合物、苯并三唑化合物、丙烯腈化合物、次甲基偶氮化合物、吲哚化合物、三嗪化合物等。关于这些的详细内容,能够参考日本特开2012-208374号公报的段落号0052~0072、日本特开2013-068814号公报的段落号0317~0334、日本特开2016-162946号公报的段落号0061~0080的记载,这些内容被编入本说明书中。作为共轭二烯化合物的市售品,例如可以举出UV-503(DAITO CHEMICAL CO.,LTD.制造)等。作为吲哚化合物,可以举出下述结构的化合物。并且,作为苯并三唑化合物,可以使用MIYOSHI OIL&FATCO.,LTD.制造的MYUA系列(化学工业日报,2016年2月1日)。
[化学式33]
本发明中,作为紫外线吸收剂,也能够优选地使用式(UV-1)~式(UV-3)所表示的化合物。
[化学式34]
式(UV-1)中,R101及R102各自独立地表示取代基,m1及m2分别独立地表示0~4。式(UV-2)中,R201及R202各自独立地表示氢原子或烷基,R203及R204各自独立地表示取代基。式(UV-3)中,R301~R303各自独立地表示氢原子或烷基,R304及R305各自独立地表示取代基。
作为式(UV-1)~式(UV-3)所表示的化合物的具体例,可以举出以下化合物。
[化学式35]
紫外线吸收剂的含量相对于本发明的固化性组合物的总固体成分,优选为0.01~10质量%,更优选为0.01~5质量%。本发明中,紫外线吸收剂可以仅使用1种,也可以使用2种以上。当使用2种以上时,优选为合计量成为上述范围。
<<抗氧化剂>>
本发明的固化性组合物能够含有抗氧化剂。作为抗氧化剂,可以举出酚化合物、亚磷酸酯化合物、硫醚化合物等。作为酚化合物,能够使用作为酚系抗氧化剂而已知的任意的酚化合物。作为优选的酚化合物,可以举出受阻酚化合物。优选为在与酚性羟基相邻的部位(邻位)具有取代基的化合物。作为前述取代基,优选为碳原子数1~22的经取代或未经取代的烷基。并且,抗氧化剂也优选为在同一分子内具有酚基和亚磷酸酯基的化合物。并且,抗氧化剂也能够优选地使用磷系抗氧化剂。作为磷系抗氧化剂,可以举出三[2-[[2,4,8,10-四(1,1-二甲基乙基)二苯并[d,f][1,3,2]二噁磷杂庚英(dioxaphosphepin)-6-基]氧基]乙基]胺、三[2-[(4,6,9,11-四-叔丁基二苯并[d,f][1,3,2]二噁磷杂庚英-2-基)氧基]乙基]胺、双(2,4-二-叔丁基-6-甲基苯酚)亚磷酸乙酯等。作为抗氧化剂的市售品,例如可以举出ADKSTAB AO-20、ADKSTAB AO-30、ADKSTAB AO-40、ADKSTAB AO-50、ADKSTAB AO-50F、ADKSTAB AO-60、ADKSTAB AO-60G、ADKSTAB AO-80、ADKSTAB AO-330(以上为ADEKACORPORATION)等。并且,作为抗氧化剂,也能够使用国际公开WO17/006600号公报中所记载的多官能受阻胺抗氧化剂。
抗氧化剂的含量相对于本发明的固化性组合物的总固体成分,优选为0.01~20质量%,更优选为0.3~15质量%。抗氧化剂可以仅使用1种,也可以使用2种以上。当使用2种以上时,优选为合计量成为上述范围。
<<其他成分>>
本发明的固化性组合物根据需要可以含有敏化剂、固化促进剂、填料、热固化促进剂、增塑剂及其他助剂类(例如,导电性粒子、填充剂、消泡剂、阻燃剂、流平剂、剥离促进剂、香料、表面张力调整剂、链转移剂等)。通过适当含有这些成分,能够调整膜物性等性质。这些成分例如能够参考日本特开2012-003225号公报的段落号0183以后(对应的美国专利申请公开第2013/0034812号说明书的段落号0237)的记载、日本特开2008-250074号公报的段落号0101~0104、0107~0109等的记载,这些内容被编入本说明书中。
并且,本发明的固化性组合物根据需要可以含有潜在抗氧化剂。作为潜在抗氧化剂,可以举出作为抗氧化剂发挥功能的部位被保护基保护的化合物的、通过在100~250℃下加热或者在酸/碱催化剂存在下于80~200℃下加热而保护基脱离从而作为抗氧化剂发挥功能的化合物。作为潜在抗氧化剂,可以举出国际公开WO2014/021023号公报、国际公开WO2017/030005号公报、日本特开2017-008219号公报中所记载的化合物。作为市售品,可以举出ADEKA ARKLS GPA-5001(ADEKA CORPORATION制造)等。
作为本发明的组合物的容纳容器并没有特别限定,能够使用公知的容纳容器。并且,作为容纳容器,以抑制杂质混入原材料或组合物中为目的,也优选为使用由6种6层的树脂构成容器内壁的多层瓶或将6种树脂设为7层结构的瓶。作为这种容器,例如可以举出日本特开2015-123351号公报中所记载的容器。
本发明的固化性组合物的用途并没有特别限定。例如能够优选地用于形成红外线透射滤波器等。
<固化性组合物的制备方法>
本发明的固化性组合物能够将前述成分进行混合而制备。在制备组合物时,可以将所有成分同时溶解或分散于溶剂中而制备组合物,也可以根据需要预先制备将各成分适当调配而成的2种以上的溶液或分散液,并在使用时(涂布时)将这些进行混合而制备成组合物。
并且,当本发明的固化性组合物包含颜料等粒子时,优选为包括使粒子分散的工艺。在使粒子分散的工艺中,作为粒子的分散中所使用的机械力,可以举出压缩、压搾、冲击、剪切、气蚀(cavitation)等。作为这些工艺的具体例,可以举出珠磨机、混砂机(sandmill)、辊磨机、球磨机、涂料搅拌器(paint shaker)、微流化器(microfluidizer)、高速叶轮、砂磨机、喷流混合器(flowjet mixer)、高压湿式微粒化、超音波分散等。并且,在混砂机(珠磨机)中的粒子的粉碎中,优选为在通过使用直径小的珠子、加大珠子的填充率等来提高了粉碎效率的条件下进行处理。并且,在粉碎处理后,优选为通过过滤、离心分离等去除粗粒子。并且,使粒子分散的工艺及分散机够优选地使用“分散技术大全集,JOHOKIKO CO.,LTD.发行,2005年7月15日”或“以悬浮液(固/液分散系)为中心的分散技术与工业应用的实际:综合资料集,经营开发中心出版部发行,1978年10月10日”、日本特开2015-157893号公报的段落号0022中所记载的工艺及分散机。并且,在使粒子分散的工艺中,可以通过盐磨(salt milling)工序进行粒子的微细化处理。盐磨工序中所使用的材料、设备、处理条件等例如能够参考日本特开2015-194521号公报、日本特开2012-046629号公报的记载。
当制备组合物时,以去除异物或减少缺陷等为目的,优选为用过滤器将组合物进行过滤。作为过滤器,只要是一直以来用于过滤用途等的过滤器,则能够无特别限制地进行使用。例如可以举出使用聚四氟乙烯(PTFE)等氟树脂、尼龙(例如尼龙-6、尼龙-6,6)等聚酰胺系树脂、聚乙烯、聚丙烯(PP)等聚烯烃树脂(包括高密度、超高分子量的聚烯烃树脂)等材料的过滤器。在这些材料之中,优选为聚丙烯(包括高密度聚丙烯)及尼龙。
过滤器的孔径为0.01~7.0μm左右为适当,优选为0.01~3.0μm左右,进一步优选为0.05~0.5μm左右。若过滤器的孔径在上述范围内,则能够可靠地去除微细的异物。并且,也优选为使用纤维状的滤材。作为纤维状的滤材,例如可以举出聚丙烯纤维、尼龙纤维、玻璃纤维等。具体而言,可以举出ROKI GROUP CO.,LTD.制造的SBP类型系列(SBP008等)、TPR类型系列(TPR002、TPR005等)、SHPX类型系列(SHPX003等)的滤芯。
在使用过滤器时,可以组合不同的过滤器(例如,第1过滤器和第2过滤器等)。此时,用各过滤器的过滤可以仅进行1次,也可以进行2次以上。
并且,可以在上述范围内组合不同孔径的过滤器。此时的孔径能够参考过滤器厂商的额定值。作为市售的过滤器,例如能够从由NIHON PALL LTD.(DFA4201NIEY等)、Advantec Toyo Kaisha,Ltd.、Japan Entegris Inc.(旧Japan Microlis Co.,Ltd.)或KITZ MICRO FILTER CORPORATION等提供的各种过滤器中选择。
第2过滤器能够使用由与第1过滤器相同的材料等形成的过滤器。
并且,用第1过滤器的过滤可以仅对分散液进行,在混合其他成分之后,用第2过滤器进行过滤。
本发明的固化性组合物的总固体成分(固形分浓度)可通过适用方法来变更,例如优选为1~50质量%。下限更优选为10质量%以上。上限更优选为30质量%以下。
在制造干燥后的膜厚为0.1~50μm(优选为0.1~20μm,更优选为0.5~10μm)的膜时,优选为本发明的固化性组合物在前述膜厚的至少1个中满足在波长300~380nm的范围内的透射率的最大值为10%以上(优选为15%以上,更优选为20%以上),在波长420~650nm的范围内的透射率的最大值为20%以下(优选为15%以下,更优选为10%以下),在波长1000~1300nm的范围内的透射率的最大值为70%以上(优选为75%以上,更优选为80%以上)的光谱特性。
并且,在制造干燥后的膜厚为0.1~50μm(优选为0.1~20μm,更优选为0.5~10μm)的膜时,更优选为本发明的固化性组合物在前述膜厚的至少1个中具有以下任一光谱特性。
(1)在波长300~380nm的范围内的透射率的最大值为10%以上(优选为15%以上,更优选为20%以上),在波长420~650nm的范围内的透射率的最大值为20%以下(优选为15%以下,更优选为10%以下),在波长800~1300nm的范围内的透射率的最大值为70%以上(优选为75%以上,更优选为80%以上)。
(2)在波长300~380nm的范围内的透射率的最大值为10%以上(优选为15%以上,更优选为20%以上),在波长420~750nm的范围内的透射率的最大值为20%以下(优选为15%以下,更优选为10%以下),在波长900~1300nm的范围内的透射率的最大值为70%以上(优选为75%以上,更优选为80%以上)。
(3)在波长300~380nm的范围内的透射率的最大值为10%以上(优选为15%以上,更优选为20%以上),在波长420~830nm的范围内的透射率的最大值为20%以下(优选为15%以下,更优选为10%以下),在波长1000~1300nm的范围内的透射率的最大值为70%以上(优选为75%以上,更优选为80%以上)。
使用本发明的固化性组合物而形成的膜能够优选地用作红外线透射滤波器。
<图案形成方法>
接着,对使用本发明的固化性组合物的图案形成方法进行说明。图案形成方法优选为包括以下工序:使用本发明的固化性组合物,在支撑体上形成组合物层的工序;通过光刻法或干式蚀刻法,对组合物层形成图案的工序。
利用光刻法的图案形成优选为包括以下工序:使用本发明的固化性组合物,在支撑体上形成组合物层的工序;及将组合物层曝光成图案状的工序;将未曝光部显影去除而形成图案的工序。并且,利用干式蚀刻法的图案形成能够利用如下方法来进行:使用本发明的固化性组合物,在支撑体上形成组合物层,并使支撑体上的组合物层固化而形成固化物层,接着,在该固化物层上形成经图案化的抗蚀剂层,接着,将经图案化的抗蚀剂层作为掩模,使用蚀刻气体对固化物层进行干式蚀刻等。以下,对各工序进行说明。
<<形成组合物层的工序>>
在形成组合物层的工序中,使用本发明的固化性组合物,在支撑体上形成组合物层。作为支撑体,例如可以举出由硅、无碱玻璃、钠玻璃、Pyrex(注册商标)玻璃、石英玻璃等材质构成的基板。并且,也优选为使用InGaAs基板等。InGaAs基板对波长超过1000nm的光的灵敏度良好,因此通过在InGaAs基板上层叠本发明的膜,容易得到灵敏度优异的光传感器。并且,支撑体上可以形成有电荷耦合器件(CCD)、互补金属氧化物半导体(CMOS)、透明导电膜等。并且,有时在支撑体上形成有将各像素隔离的黑矩阵(black matrix)。并且,支撑体上根据需要可以为了改善与上部的层的密合性、防止物质的扩散或基板表面的平坦化而设置下涂层。
作为将组合物适用于支撑体的方法,能够使用公知的方法。例如,可以举出滴加法(滴铸);狭缝涂布法;喷雾法;辊涂法;旋转涂布法(旋涂);流延涂布法;狭缝旋涂法;预湿法(例如,日本特开2009-145395号公报中所记载的方法);喷墨(例如按需方式、压电方式、热方式)、喷嘴喷射等喷出系印刷、柔版印刷、丝网印刷、凹版印刷、逆转偏移印刷、金属掩模印刷法等各种印刷法;使用模具等的转印法;纳米压印法等。作为喷墨中的适用方法并没有特别限定,例如可以举出“可推广、使用的喷墨-专利中出现的无限可能性-,2005年2月发行,Sumibe Techno-Research Co.,Ltd.”所示的方法(尤其第115页~第133页)或日本特开2003-262716号公报、日本特开2003-185831号公报、日本特开2003-261827号公报、日本特开2012-126830号公报、日本特开2006-169325号公报等中所记载的方法。并且,关于树脂组合物的涂布方法,能够参考国际公开WO2017/030174号公报、国际公开WO2017/018419号公报的记载,这些内容被编入本说明书中。
形成于支撑体上的组合物层可以进行干燥(预烘烤)。当通过低温工艺形成图案时,可以不进行预烘烤。当进行预烘烤时,预烘烤温度优选为150℃以下,更优选为120℃以下,进一步优选为110℃以下。下限例如能够设为50℃以上,也能够设为80℃以上。预烘烤时间优选为10~3000秒,更优选为40~2500秒,进一步优选为80~2200秒。干燥能够利用加热板、烘箱等来进行。
(利用光刻法形成图案的情况)
<<曝光工序>>
接着,将组合物层曝光成图案状(曝光工序)。例如,使用步进器等曝光装置,对组合物层经由具有规定的掩模图案的掩模进行曝光,由此能够对组合物层进行图案曝光。由此,能够使曝光部分进行固化。作为曝光时能够使用的放射线(光),优选为g射线、i射线等紫外线,更优选为i射线。照射量(曝光量)例如优选为0.03~2.5J/cm2,更优选为0.05~1.0J/cm2,最优选为0.08~0.5J/cm2。关于曝光时的氧浓度,能够适当选择,除了在大气下进行曝光以外,例如可以在氧浓度为19体积%以下的低氧环境下(例如,15体积%、5体积%、实质上无氧)进行曝光,也可以在氧浓度超过21体积%的高氧环境下(例如,22体积%、30体积%、50体积%)进行曝光。并且,曝光照度能够适当设定,通常能够从1000W/m2~100000W/m2(例如,5000W/m2、15000W/m2、35000W/m2)的范围选择。氧浓度和曝光照度可以适当组合条件,例如能够设为氧浓度10体积%且照度10000W/m2、氧浓度35体积%且照度20000W/m2等。
<<显影工序>>
接着,显影去除曝光后的组合物层中的未曝光部的组合物层而形成图案。未曝光部的组合物层的显影去除能够使用显影液来进行。由此,曝光工序中的未曝光部的组合物层溶出于显影液中,只有经光固化的部分残留于支撑体上。作为显影液,优选为不对基底的固体摄像元件或电路等带来损伤的碱显影液。显影液的温度例如优选为20~30℃。显影时间优选为20~180秒。并且,为了提高残渣去除性,可以重复多次每隔60秒甩掉显影液,进而供给新的显影液的工序。
作为显影液中所使用的碱剂,例如可以举出氨水、乙胺、二乙胺、二甲基乙醇胺、二甘醇胺(diglycolamine)、二乙醇胺、羟胺、乙二胺、四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、乙基三甲基氢氧化铵、苄基三甲基氢氧化铵、二甲基双(2-羟基乙基)氢氧化铵、胆碱、吡咯、哌啶、1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一碳烯等有机碱性化合物、或氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸氢钠、硅酸钠、偏硅酸钠等无机碱性化合物。在环境方面及安全方面上,碱剂优选为分子量大的化合物。显影液可以优选地使用将这些碱剂在纯水中稀释而得到的碱性水溶液。碱性水溶液的碱剂的浓度优选为0.001~10质量%,更优选为0.01~1质量%。并且,显影液中可以使用表面活性剂。作为表面活性剂的例子,可以举出上述表面活性剂,优选为非离子系表面活性剂。从方便移送或保管等观点而言,显影液可以暂时制造成浓缩液,并在使用时稀释成所需要的浓度。稀释倍率并没有特别限定,例如能够设定为1.5~100倍的范围。另外,当使用包含这种碱性水溶液的显影液时,优选为显影后用纯水清洗(冲洗)。
本发明中,可以在显影工序之后,实施干燥之后进行通过加热处理(后烘烤)或后曝光进行固化的固化工序。
后烘烤是用于使固化完全进行的显影后的加热处理。后烘烤中的加热温度例如优选为100~240℃,更优选为200~240℃。并且,使用有机电致发光(有机EL)元件作为作为发光光源的情况或由有机材材构成作为影像传感器的光电转换膜的情况,加热温度优选为150℃以下,更优选为120℃以下,进一步优选为100℃以下,尤其优选为90℃以下。下限例如能够设为50℃以上。能够以成为上述条件的方式,使用加热板或对流烘箱(热风循环式干燥机)、高频加热机等加热机构,以连续式或间歇式对显影后的膜进行后烘烤。
后曝光能够利用g射线、h射线、i射线、KrF或ArF等准分子激光、电子束、X射线等来进行,优选为利用以往的高压汞灯在20~50℃左右的低温下进行。作为照射时间,为10秒~180秒,优选为30秒~60秒。当将后曝光和后加热同时使用时,优选为先实施后曝光。
(利用干式蚀刻法形成图案的情况)
利用干式蚀刻法的图案形成能够利用如下方法来进行:使支撑体上的组合物层固化而形成固化物层,接着,在该固化物层上形成经图案化的抗蚀剂层,接着,将经图案化的抗蚀剂层作为掩模,使用蚀刻气体对固化物层进行干式蚀刻等。作为抗蚀剂层的形成工艺,优选为实施曝光后的加热处理、显影后的加热处理(后烘烤处理)的方式。关于利用干式蚀刻法的图案形成,能够参考日本特开2013-064993号公报的段落号0010~0067的记载,该内容被编入本说明书中。
通过进行以上说明的各工序,能够形成具有本发明的特定的分光的膜的图案(像素)。
<膜>
接着,对本发明的膜进行说明。
本发明的膜的特征为,包含20~70质量%的色材,其中前述色材在色材的总质量中含有95质量%以上的在波长365nm下的吸光度D1与在波长420~1000nm的范围内的吸光度的最大值D2的比即D1/D2为0.6以下的化合物,膜在波长300~380nm的范围内的透射率的最大值为10%以上,在波长420~650nm的范围内的透射率的最大值为20%以下,在波长1000~1300nm的范围内的透射率的最大值为70%以上。
关于本发明的膜中所包含的色材,可以举出上述材料。本发明的膜能够优选地用作红外线透射滤波器。
并且,本发明的膜的另一方式是使用上述本发明的固化性组合物而得到的膜。
本发明的膜能够在来自于可见光的干扰少的状态下使紫外线及红外线透射,通过将该膜组装于光传感器等,能够同时进行利用红外线的传感和使用紫外线的传感。并且,与可见光相比,紫外线还能够以精度良好地观察对象物的表面状态等。本发明的膜优选为具有以下(1)~(3)中任一光谱特性。
(1)在波长300~380nm的范围内的透射率的最大值为10%以上(优选为15%以上,更优选为20%以上),在波长420~650nm的范围内的透射率的最大值为20%以下(优选为15%以下,更优选为10%以下),在波长800~1300nm的范围内的透射率的最大值为70%以上(优选为75%以上,更优选为80%以上)。根据该方式,能够遮挡波长420~650nm的范围的光并使波长300~380nm的范围的光及波长超过750nm的光透射。
(2)在波长300~380nm的范围内的透射率的最大值为10%以上(优选为15%以上,更优选为20%以上),在波长420~750nm的范围内的透射率的最大值为20%以下(优选为15%以下,更优选为10%以下),在波长900~1300nm的范围内的透射率的最大值为70%以上(优选为75%以上,更优选为80%以上)。根据该方式,能够遮挡波长420~750nm的范围的光并使波长300~380nm的范围的光及波长超过850nm的光透射。
(3)在波长300~380nm的范围内的透射率的最大值为10%以上(优选为15%以上,更优选为20%以上),在波长420~830nm的范围内的透射率的最大值为20%以下(优选为15%以下,更优选为10%以下),波长1000~1300nm的范围内的透射率的最大值为70%以上(优选为75%以上,更优选为80%以上)。根据该方式,能够遮挡波长420~830nm的范围的光并使波长300~380nm的范围的光及波长超过900nm的光透射。
本发明的膜的膜厚并没有特别限定,但优选为0.1~50μm,更优选为0.1~20μm,进一步优选为0.5~10μm。
<红外线透射滤波器>
接着,对本发明的红外线透射滤波器进行说明。本发明的红外线透射滤波器具有本发明的膜。本发明的红外线透射滤波器优选为层叠于支撑体而使用。作为支撑体,可以举出上述支撑体。
本发明的红外线透射滤波器也能够与包含彩色着色剂的滤色器组合而使用。滤色器能够使用包含彩色着色剂的着色组合物来制造。着色组合物能够进一步含有树脂、聚合性化合物、光聚合引发剂、表面活性剂、溶剂、阻聚剂、紫外线吸收剂等。关于这些的详细内容,可以举出在本发明的固化性组合物中说明的材料,并且能够使用这些。
<固体摄像元件>
本发明的固体摄像元件具有上述本发明的膜。作为本发明的固体摄像元件的构成,只要是具有本发明的膜的构成,并且是作为固体摄像元件发挥功能的构成,则没有特别限定,例如可以举出如下构成。
是如下构成:在支撑体上具有构成固体摄像元件(CCD影像传感器、CMOS影像传感器等)的受光区的多个光电二极管及包含多晶硅等的传输电极,在光电二极管及传输电极上具有只有光电二极管的受光部开口的包含钨等的遮光膜,在遮光膜上具有以覆盖遮光膜全面及光电二极管受光部的方式形成且包含氮化硅等的器件保护膜,在器件保护膜上具有本发明的膜或层叠体。另外,也可以为在器件保护膜上且本发明的膜或层叠体的下侧(靠近支撑体的一侧)具有聚光机构(例如,微透镜等。以下相同)的构成、或在本发明的膜或层叠体上具有聚光机构的构成等。
<光传感器>
本发明的光传感器包括上述本发明的膜。作为光传感器的构成,只要是作为光传感器发挥功能的构成,则没有特别限定。以下,使用附图对本发明的光传感器的一实施方式进行说明。
图1中,符号110为固体摄像元件。设置于固体摄像元件110上的摄像区域具有近红外线截止滤波器111和红外线透射滤波器114。并且,在近红外线截止滤波器111上层叠有滤色器112。在滤色器112及红外线透射滤波器114的入射光hν侧配置有微透镜115。以覆盖微透镜115的方式形成有平坦化层116。
近红外线截止滤波器111是使可见区域的光(例如,波长400~700nm的光)透射并屏蔽红外区域的光的滤波器。滤色器112是形成有透射及吸收可见区域中的特定波长的光的像素的滤色器,并没有特别限定,能够使用先前公知的像素形成用滤色器。例如可以使用形成有红色(R)、绿色(G)、蓝色(B)的像素的滤色器等。例如,能够参考日本特开2014-043556号公报的段落号0214~0263的记载,该内容被编入本说明书中。红外线透射滤波器114是具有可见光屏蔽性且使特定波长的红外线透射的滤波器,由具有上述光谱特性的本发明的膜构成。
在图1所示的传感器中,平坦化层116上还可以配置与近红外线截止滤波器111不同的近红外线截止滤波器(其他近红外线截止滤波器)。作为其他近红外线截止滤波器,可以举出具有含有铜的层和/或介电体多层膜的近红外线截止滤波器等。关于这些的详细情况,可以举出上述内容。并且,作为其他近红外线截止滤波器,也可以使用双频带滤波器(dual band pass filter)。
并且,在图1所示的实施方式中,滤色器112设置于比近红外线截止滤波器111更靠入射光hν侧,但也可以将近红外线截止滤波器111和滤色器112的顺序倒过来,将近红外线截止滤波器111设置于比滤色器112更靠入射光hν侧。
并且,在图1所示的实施方式中,近红外线截止滤波器111与滤色器112相邻而层叠,但两各滤波器无需一定相邻,在其之间可以设置有其他层。
<图像显示装置>
本发明的膜或层叠体也能够用于液晶显示装置或有机电致发光(有机EL)显示装置等图像显示装置。关于显示装置的定义或各显示装置的详细内容,例如记载于“电子显示器器件(佐佐木昭夫著,Kogyo Chosakai Publishing Co.,Ltd.1990年发行)”、“显示器器件(伊吹顺章著,Sangyo Tosho Publishing Co.,Ltd.平成元年发行)”等。并且,关于液晶显示装置,例如记载于“下一代液晶显示器技术(内田龙男编辑,Kogyo ChosakaiPublishing Co.,Ltd.1994年发行)”。能够适用本发明的液晶显示装置的类型并没有特别限制,例如能够适用于上述“下一代液晶显示器技术”中所记载的各方式的液晶显示装置。
图像显示装置也可以为具有白色有机EL元件作为显示元件的图像显示装置。作为白色有机EL元件,优选为串联结构。关于有机EL元件的串联结构,记载于日本特开2003-045676号公报、三上明义监修、“有机EL技术开发的最前线-高亮度·高精度·长寿命化·技巧集-”、Technical Information Institute Co.,Ltd.、第326页-第328页、2008年等。有机EL元件所发出的白色光的光谱优选为在蓝色区域(430nm-485nm)、绿色区域(530nm-580nm)及黄色区域(580nm-620nm)具有强的极大发光峰。除了这些的发光峰以外,更优选为进一步在红色区域(650nm-700nm)具有极大发光峰。
实施例
以下,利用实施例对本发明进行进一步具体的说明,但本发明只要不超出其主旨,则不限定于以下实施例。另外,只要没有特别指定,“份”、“%”为质量基准。并且,色材的吸光度是使用包含测定对象的色材和后述的树脂B-1的组合物将测定对象的色材的含量为50质量%的膜形成于玻璃上,并测定波长300~1300nm的范围的吸光度而进行计算。作为测定装置,使用了分光光度计U-4100(Hitachi High-Technologies Corporation制造)。膜厚设为0.5μm。
<分散液的制备>
混合下述表1中所记载的原料之后,加入直径0.3mm的二氧化锆珠230质量份,使用涂料搅拌器进行5小时的分散处理,通过过滤分离出珠子而制造出分散液。下述表中所记载的数值为质量份。
[表1]
<固化性组合物的制备>
混合下述表2中所记载的原料而制备出固化性组合物。下述表中所记载的数值为质量份。
[表2]
上述表1、2中所记载的原料如下。以下结构式中,Me表示甲基,Ph表示苯基。
(色材)
Pig1:下述结构的化合物。Pig1是近红外线吸收色素,是在波长365nm下的吸光度D1与在波长420~1000nm的范围内的吸光度的最大值D2的比即D1/D2为0.6以下的化合物。
Pig2:下述结构的化合物。Pig2是近红外线吸收色素,是在波长365nm下的吸光度D1与在波长420~1000nm的范围内的吸光度的最大值D2的比即D1/D2为0.6以下的化合物。
[化学式36]
染料1:下述结构的化合物。染料1是近红外线吸收色素,是在波长365nm下的吸光度D1与在波长420~1000nm的范围内的吸光度的最大值D2的比即D1/D2为0.6以下的化合物。
[化学式37]
染料2:下述结构的化合物。染料2是近红外线吸收色素,是在波长365nm下的吸光度D1与在波长420~1000nm的范围内的吸光度的最大值D2的比即D1/D2为0.6以下的化合物。
[化学式38]
PR254:C.I.颜料红(Pigment Red)254(是红色着色剂,在波长365nm下的吸光度D1与在波长420~1000nm的范围内的吸光度的最大值D2的比即D1/D2为0.6以下的化合物。)
PV23:C.I.颜料紫(Pigment Violet)23(是紫色着色剂,在波长365nm下的吸光度D1与在波长420~1000nm的范围内的吸光度的最大值D2的比即D1/D2为0.6以下的化合物。)
PY139:C.I.颜料黄(Pigment Yellow)139(是黄色着色剂,在波长365nm下的吸光度D1与在波长420~1000nm的范围内的吸光度的最大值D2的比即D1/D2为0.6以下的化合物。)
PBk31:C.I.颜料黑(Pigment Black)31(是有机黑色化合物,苝化合物,在波长365nm下的吸光度D1与在波长420~1000nm的范围内的吸光度的最大值D2的比即D1/D2为0.6以下的化合物。)
PBk32:C.I.颜料黑(Pigment Black)32(是有机黑色化合物,苝化合物,在波长365nm下的吸光度D1与在波长420~1000nm的范围内的吸光度的最大值D2的比即D1/D2为0.6以下的化合物。)
黑色材料:下述化合物的混合物(是有机黑色化合物,苝化合物,在波长365nm下的吸光度D1与在波长420~1000nm的范围内的吸光度的最大值D2的比即D1/D2为0.6以下的化合物。)
[化学式39]
PB15:6:C.I.颜料蓝(Pigment Blue)15:6(是蓝色着色剂,酞菁化合物,在波长365nm下的吸光度D1与在波长420~1000nm的范围内的吸光度的最大值D2的比即D1/D2超过0.6的化合物。)
IB:IRGAFORE BLACK(是有机黑色着色剂,双苯并呋喃酮化合物,在波长365nm下的吸光度D1与在波长420~1000nm的范围内的吸光度的最大值D2的比即D1/D2超过0.6的化合物。)
(颜料衍生物)
syn1:下述结构的化合物。
[化学式40]
(分散剂)
A-1:下述结构的树脂。主链中所附记的数值为摩尔比,侧链中所附记的数值为重复单元的数量。Mw=20,000。
A-2:下述结构的树脂。主链中所附记的数值为摩尔比,侧链中所附记的数值为重复单元的数量。Mw=24,000。
[化学式41]
(树脂)
B-1:下述结构的树脂(Mw=11,000,主链中所附记的数值为摩尔比。Me为甲基。)
[化学式42]
B-2:下述结构的树脂(Mw=11,000,主链中所附记的数值为摩尔比。)
[化学式43]
B-3:下述结构的树脂。(Mw=4400,酸值=95mgKOH/g,以下结构式中,M为苯基,A为联苯四羧酸酐残基。)
[化学式44]
(聚合性化合物)
C-1:下述结构的化合物(左侧化合物与右侧化合物的摩尔比为7:3的混合物)
[化学式45]
C-2:下述结构的化合物
[化学式46]
(光聚合引发剂)
D-1、D-2:下述结构的化合物
[化学式47]
(表面活性剂)
E-1:下述混合物(Mw=14000)。下述式中,表示重复单元的比例的%为摩尔%。
[化学式48]
(阻聚剂)
F-1:对甲氧基苯酚
(溶剂)
S-1:丙二醇单甲醚乙酸酯(PGMEA)
S-2:环己酮
<光谱特性>
在玻璃基板上涂布各固化性组合物,以使干燥后的膜厚成为下述表中所记载的膜厚,接着,使用i射线步进器曝光装置FPA-i5+(Canon Inc.制造)以1000mJ/cm2的曝光量向涂布膜的全面照射365nm的波长的光,接着使用碱显影液(CD-2000,FUJIFILM ElectronicMaterials Co.,Ltd.制造),在25℃、40秒钟的条件下进行显影,接着,利用流水冲洗30秒钟之后旋转干燥,接着使用加热板于220℃下烘烤5分钟而形成了膜。使用分光光度计U-4100(Hitachi High-Technologies Corporation制造)测定了所得到的膜的透射率及吸光度。将结果示于以下表。另外,表中,吸光度A为在波长300~380nm的范围内的吸光度的最小值,吸光度B为在波长420~650nm的范围内的吸光度的最小值,吸光度C为在波长1000~1300nm的范围内的吸光度的最大值。并且,吸光度比A/B为上述吸光度A与上述吸光度B的比(吸光度A/吸光度B),吸光度比B/C为上述吸光度B与上述吸光度C的比(吸光度B/吸光度C)。并且,透射率A为在波长300~380nm的范围内的透射率的最大值,透射率B为在波长420~650nm的范围内的透射率的最大值,透射率C为在波长1000~1300nm的范围内的透射率的最大值。
<密合性的评价>
通过旋涂在8英吋(20.32cm)的硅基板上均匀地涂布CT-4000L(FUJIFILMElectronic Materials Co.,Ltd.制造)而形成涂布膜,并将所形成的涂布膜在220℃的烘箱中加热处理1小时而使涂布膜固化来形成了下涂层。另外,将旋涂的涂布转速调整为使加热处理后的涂布膜的膜厚成为约0.1μm。
接着,使用旋涂机将上述中所得到的固化性组合物涂布于上述硅基板的下涂层上,以使干燥后膜厚成为下述表中所记载的膜厚,并使用加热板在100℃下干燥了120秒钟。
接着,使用i射线步进器曝光装置FPA-i5+(Canon Inc.制造),透过具有1.0μm见方或1.1μm见方的岛状图案的掩模以50~1700mJ/cm2的曝光量向涂布膜照射了365nm的波长的光。曝光后,使用碱显影液(CD-2000,FUJIFILM Electronic Materials Co.,Ltd.制造),在25℃、40秒钟的条件下进行了显影。然后,利用流水冲洗30秒钟之后,喷雾干燥而得到了图案。
使用扫描型电子显微镜(Hitachi,Ltd.制造的S-9220)将所得到的图案从图案上方进行观察,进行了图案尺寸测量。并且,使用光学显微镜,按以下基准进行了密合性的评价。
5:密合的像素的最小尺寸相对于掩模的设计尺寸为90%以下
4:密合的像素的最小尺寸相对于掩模的设计尺寸超过90%且99%以下
3:密合的像素的最小尺寸相对于掩模的设计尺寸超过99%且105%以下
2:密合的像素的最小尺寸相对于掩模的设计尺寸超过105%且110%以下
1:相对于掩模的设计尺寸超过110%的图案的一部分未密合。
<传感性的评价>
通过旋涂在8英吋(20.32cm)的硅基板上均匀地涂布CT-4000L(FUJIFILMElectronic Materials Co.,Ltd.制造)而形成涂布膜,并将所形成的涂布膜在220℃的烘箱中加热处理1小时而使涂布膜固化来形成了下涂层。另外,旋涂的涂布转速调整为使加热处理后的涂布膜的膜厚成为约0.1μm。
接着,使用旋涂机将上述中所得到的固化性组合物涂布于上述硅基板的下涂层上,以使干燥后膜厚成为下述表中所记载的膜厚,并使用加热板在100℃下干燥了120秒钟。
接着,使用i射线步进器曝光装置FPA-i5+(Canon Inc.制造),透过具有2μm见方的岛状图案的掩模以1000mJ/cm2的曝光量向涂布膜照射了365nm的波长的光。曝光后,使用碱显影液(CD-2000、FUJIFILM Electronic Materials Co.,Ltd.制造),在25℃、40秒钟的条件下进行了显影。然后,利用流水冲洗30秒钟之后,喷雾干燥而得到了图案。
将形成有图案的硅基板按照公知的方法组装于光传感器中。实施例1~8中,能够检测太阳光的紫外线量,也能够使用近红外线进行距离传感。比较例1~3无法检测太阳光的紫外线量。并且,将实施例1~8以产业用使用时,能够同时实施基于紫外光的产品的划痕、斑点检查和基于红外光的异物的检查两者。
[表3]
如上所述,与比较例1~3相比,实施例1~8的传感性优异。进而,由上述评价结果可明确,与比较例1~3相比,实施例1~8的密合性优异。
在代替硅基板而在玻璃基板上涂布实施例的固化性组合物而进行制膜的情况下,也得到了与上述相同的效果。
<试验例2>
利用旋涂法将近红外线截止滤波器形成用组合物涂布于硅基板上,以使制膜后的膜厚成为0.5μm。接着,使用加热板在100℃下加热了2分钟。接着,使用i射线步进器曝光装置FPA-3000i5+(Canon Inc.制造),经由具有2μm见方的拜耳图案的掩模以1000mJ/cm2的曝光量进行了曝光。
接着,使用氢氧化四甲基铵(TMAH)0.3质量%水溶液在23℃下进行了60秒钟浸置显影。然后,利用旋转喷淋器进行了冲洗。接着,使用加热板在200℃下加热5分钟,由此形成了2μm见方的拜耳图案(近红外线截止滤波器)。
接着,利用旋涂法将红色(Red)组合物涂布于近红外线截止滤波器的拜耳图案上,以使制膜后的膜厚成为0.5μm。接着,使用加热板在100℃下加热了2分钟。接着,使用i射线步进器曝光装置FPA-3000i5+(Canon Inc.制造),经由具有2μm见方的拜耳图案的掩模以1000mJ/cm2的曝光量进行了曝光。接着,使用氢氧化四甲基铵(TMAH)0.3质量%水溶液在23℃下进行了60秒钟旋覆浸没式显影。然后,利用旋转喷淋器进行了冲洗。接着,使用加热板于200℃下加热5分钟,由此在近红外线截止滤波器的拜耳图案上将红色(Red)组合物图案化。同样地,将绿色(Green)组合物、蓝色(Blue)组合物依次图案化,形成了红色、绿色及蓝色的着色图案。
接着,利用旋涂法将实施例1的固化性组合物涂布于上述图案形成的膜上,以使制膜后的膜厚成为1.0μm。接着,使用加热板在100℃下加热了2分钟。接着,使用i射线步进器曝光装置FPA-3000i5+(Canon Inc.制造),经由具有2μm见方的拜耳图案的掩模以1000mJ/cm2的曝光量进行了曝光。接着,使用氢氧化四甲基铵(TMAH)0.3质量%水溶液在23℃下进行了60秒钟旋覆浸没式显影。然后,利用旋转喷淋器进行了冲洗。接着,使用加热板在200℃下加热5分钟,由此在近红外线截止滤波器的拜耳图案的遗漏部分进行了红外线透射滤波器的图案化。将其按照公知的方法组装于光传感器中。
试验例2中所使用的红色(Red)组合物、绿色(Green)组合物、蓝色(Blue)组合物及近红外线截止滤波器形成用组合物如下。
(红色(Red)组合物)
将下述成分混合并搅拌之后,利用孔径0.45μm的尼龙制过滤器(NIHON PALL LTD.制造)进行过滤而制备出红色(Red)组合物。
红色(Red)颜料分散液……51.7质量份
树脂104……0.6质量份
聚合性化合物104……0.6质量份
光聚合引发剂101……0.4质量份
表面活性剂101……4.2质量份
紫外线吸收剂(UV-503,DAITO CHEMICAL CO.,LTD.制造)……0.3质量份
PGMEA……42.6质量份
(绿色(Green)组合物)
将下述成分混合并搅拌之后,利用孔径0.45μm的尼龙制过滤器(NIHON PALL LTD.制造)进行过滤而制备出绿色(Green)组合物。
绿色(Green)颜料分散液……73.7质量份
树脂104……0.3质量份
聚合性化合物101……1.2质量份
光聚合引发剂101……0.6质量份
表面活性剂101……4.2质量份
紫外线吸收剂(UV-503,DAITO CHEMICAL CO.,LTD.制造)……0.5质量份
PGMEA……19.5质量份
(蓝色(Blue)组合物)
将下述成分混合并搅拌之后,利用孔径0.45μm的尼龙制过滤器(NIHON PALL LTD.制造)进行过滤而制备出蓝色(Blue)组合物。
蓝色(Blue)颜料分散液……44.9质量份
树脂104……2.1质量份
聚合性化合物101……1.5质量份
聚合性化合物104……0.7质量份
光聚合引发剂101……0.8质量份
表面活性剂101……4.2质量份
紫外线吸收剂(UV-503、DAITO CHEMICAL CO.,LTD.制造)……0.3质量份
PGMEA……45.8质量份
(近红外线截止滤波器形成用组合物)
分散液IR-1……60质量份
聚合性化合物101……6质量份
树脂101……4.45质量份
光聚合引发剂101……1.99质量份
表面活性剂101……4.17质量份
阻聚剂1(对甲氧基苯酚)……0.003质量份
PGMEA……23.39质量份
红色(Red)组合物、绿色(Green)组合物、蓝色(Blue)组合物及近红外线截止滤波器形成用组合物中所使用的原料如下。
·红色(Red)颜料分散液
利用珠磨机(二氧化锆珠0.3mm直径),将混合9.6质量份的C.I.颜料红(PigmentRed)254、4.3质量份的C.I.颜料黄(Pigment Yellow)139、6.8质量份的分散剂(Disperbyk-161,BYK-Chemie GmbH公司制造)及79.3质量份的PGMEA而成的混合液混合及分散3小时而制备出颜料分散液。然后,进一步使用附减压机构的高压分散机NANO-3000-10(Nippon BEECo.,Ltd.制造),在2000kg/cm3的压力下设为500g/min的流量而进行了分散处理。重复10次该分散处理而得到了红色(Red)颜料分散液。
·绿色(Green)颜料分散液
利用珠磨机(二氧化锆珠0.3mm直径),将混合6.4质量份的C.I.颜料绿(PigmentGreen)36、5.3质量份的C.I.颜料黄(Pigment Yellow)150、5.2质量份的分散剂(Disperbyk-161,BYK-Chemie GmbH制造)、83.1质量份的PGMEA而成的混合液混合及分散3小时而制备出颜料分散液。然后,进一步使用附减压机构的高压分散机NANO-3000-10(Nippon BEE Co.,Ltd.制造),在2000kg/cm3的压力下设为500g/min的流量而进行了分散处理。重复10次该分散处理而得到了绿色(Green)颜料分散液。。
·蓝色(Blue)颜料分散液
利用珠磨机(二氧化锆珠0.3mm直径),将混合9.7质量份的C.I.颜料蓝(PigmentBlue)15:6、2.4质量份的C.I.颜料紫(Pigment Violet)23、5.5质量份的分散剂(Disperbyk-161,BYK-Chemie GmbH公司制造)及82.4质量份的PGMEA而成的混合液混合及分散3小时而制备出颜料分散液。然后,进一步使用附减压机构的高压分散机NANO-3000-10(Nippon BEE Co.,Ltd.制造),在2000kg/cm3的压力下设为500g/min的流量而进行了分散处理。重复10次该分散处理而得到了蓝色(Blue)颜料分散液。
·分散液IR-1:上述分散液IR-1
·聚合性化合物101:KAYARAD DPHA(Nippon Kayaku Co.,Ltd.制造)
·聚合性化合物104:下述结构的化合物
[化学式49]
·树脂101:CYCLOMER P(ACA)230AA(Daicel Corporation制造)
·树脂104:下述结构的树脂(酸值:70mgKOH/g,Mw=11000,结构单位中的比为摩尔比)
[化学式50]
·光聚合引发剂101:IRGACURE-OXE01(BASF公司制造)
·表面活性剂101:下述混合物(Mw=14000)的1质量%PGMEA溶液。下述式中,表示重复单元的比例的%为摩尔%。
[化学式51]
符号说明
110-固体摄像元件,111-近红外线截止滤波器,112-滤色器,114-红外线透射滤波器,115-微透镜,116-平坦化层。
Claims (10)
1.一种固化性组合物,其包含色材和固化性化合物,其中,
所述固化性组合物在波长300nm~380nm的范围内的吸光度的最小值A与在波长420nm~650nm的范围内的吸光度的最小值B的比即A/B为0.8以下,
所述固化性组合物在波长420nm~650nm的范围内的吸光度的最小值B与在波长1000nm~1300nm的范围内的吸光度的最大值C的比即B/C为4.5以上,
所述色材在色材的总质量中含有95质量%以上的下述化合物,即,在波长365nm处的吸光度D1与在波长420nm~1000nm的范围内的吸光度的最大值D2的比即D1/D2为0.6以下的化合物,
所述D1/D2为0.6以下的化合物包含红色着色剂和有机黑色着色剂,所述有机黑色着色剂包含苝化合物,
所述色材的含量相对于所述固化性组合物的总固体成分为20质量%~70质量%。
2.根据权利要求1所述的固化性组合物,其中,
所述色材的总质量中的酞菁化合物的含量为5质量%以下。
3.根据权利要求1或2所述的固化性组合物,其中,
所述色材的总质量中的蓝色着色剂的含量为5质量%以下。
4.根据权利要求1或2所述的固化性组合物,其中,
所述色材包含近红外线吸收色素。
5.根据权利要求1或2所述的固化性组合物,其中,
所述固化性化合物包含聚合性化合物及光聚合引发剂。
6.一种膜,其通过使用权利要求1至5中任一项所述的固化性组合物而获得。
7.一种膜,其包含20质量%~70质量%的色材,所述膜中,
所述色材在色材的总质量中含有95质量%以上的下述化合物,即,在波长365nm处的吸光度D1与在波长420nm~1000nm的范围内的吸光度的最大值D2的比即D1/D2为0.6以下的化合物,
所述D1/D2为0.6以下的化合物包含红色着色剂和有机黑色着色剂,所述有机黑色着色剂包含苝化合物,
所述膜在波长300nm~380nm的范围内的透射率的最大值为10%以上,在波长420nm~650nm的范围内的透射率的最大值为20%以下,在波长1000nm~1300nm的范围内的透射率的最大值为70%以上。
8.一种红外线透射滤波器,其具有权利要求6或7所述的膜。
9.一种固体摄像元件,其具有权利要求6或7所述的膜。
10.一种光传感器,其具有权利要求6或7所述的膜。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017-183374 | 2017-09-25 | ||
JP2017183374 | 2017-09-25 | ||
PCT/JP2018/032829 WO2019058964A1 (ja) | 2017-09-25 | 2018-09-05 | 硬化性組成物、膜、赤外線透過フィルタ、固体撮像素子および光センサ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN111065656A CN111065656A (zh) | 2020-04-24 |
CN111065656B true CN111065656B (zh) | 2022-03-29 |
Family
ID=65811275
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201880055515.8A Active CN111065656B (zh) | 2017-09-25 | 2018-09-05 | 固化性组合物、膜、红外线透射滤波器、固体摄像元件及光传感器 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20200174364A1 (zh) |
JP (1) | JP6956193B2 (zh) |
KR (1) | KR102219158B1 (zh) |
CN (1) | CN111065656B (zh) |
TW (1) | TW201915103A (zh) |
WO (1) | WO2019058964A1 (zh) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP6569220B2 (ja) | 2013-06-24 | 2019-09-04 | 東レ株式会社 | タッチパネル用黒色樹脂組成物 |
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-
2018
- 2018-09-05 WO PCT/JP2018/032829 patent/WO2019058964A1/ja active Application Filing
- 2018-09-05 JP JP2019543535A patent/JP6956193B2/ja active Active
- 2018-09-05 CN CN201880055515.8A patent/CN111065656B/zh active Active
- 2018-09-05 KR KR1020207003398A patent/KR102219158B1/ko active IP Right Grant
- 2018-09-14 TW TW107132385A patent/TW201915103A/zh unknown
-
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- 2020-02-07 US US16/784,672 patent/US20200174364A1/en not_active Abandoned
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20200027973A (ko) | 2020-03-13 |
WO2019058964A1 (ja) | 2019-03-28 |
JP6956193B2 (ja) | 2021-11-02 |
JPWO2019058964A1 (ja) | 2020-11-19 |
KR102219158B1 (ko) | 2021-02-23 |
CN111065656A (zh) | 2020-04-24 |
TW201915103A (zh) | 2019-04-16 |
US20200174364A1 (en) | 2020-06-04 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |