JP5845917B2 - 樹脂組成物、画像形成材料及び画像形成方法 - Google Patents

Description

本発明は、樹脂組成物、画像形成材料及び画像形成方法に関する。

従来、近赤外線吸収材料として種々の化合物が知られており、その製造方法や、それを含む組成物も知られている。
例えば、特許文献１には、置換アセチレン類化合物を用いることを特徴とする、所定の一般式（１）で表されるカルコゲノピリリウム化合物の製造方法が開示されている。
例えば、特許文献２には、所定の一般式〔１〕で表されるスクアリリウム化合物が開示されている。
例えば、特許文献３には、所定の一般式〔１〕で表されるスクアリリウム化合物が開示されている。
例えば、特許文献４には、メチルエチルケトン中で極大吸収波長における透過濃度が１．０であるときに４２０ｎｍにおける透過濃度が０．０３未満である染料を含有することを特徴とする画像形成材料が開示されている。

特開２００１−０１１０７０号公報 特開昭６１−１６７６８０号公報 特開昭６１−１６７６８１号公報 特開２００１−１１７２０１号公報

本発明の課題は、９００ｎｍ帯に最大吸収波長を有する近赤外線吸収材料の分散性に優れる樹脂組成物を提供することである。

上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、
請求項１に係る発明は、
下記式（Ｉ）で表されるペリリウム系スクアリリウム化合物（以下、「式（Ｉ）で表される化合物」とも称する。）と、樹脂と、を含有する樹脂組成物。

式（Ｉ）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４はそれぞれ独立に、炭素数２以上５以下のアルキル基を表す。

請求項２に係る発明は、
下記式（Ｉ）で表されるペリリウム系スクアリリウム化合物と、熱可塑性樹脂と、を含有する画像形成材料。

式（Ｉ）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４はそれぞれ独立に、炭素数２以上５以下のアルキル基を表す。

請求項３に係る発明は、
前記熱可塑性樹脂のガラス転移温度が５０℃以上１５０℃以下である、請求項２に記載の画像形成材料。

請求項４に係る発明は、
さらに、顔料を含有する、請求項２又は請求項３に記載の画像形成材料。

請求項５に係る発明は、
請求項２〜請求項４のいずれか１項に記載の画像形成材料に、波長７６０ｎｍ以上９７０ｎｍ以下の光を照射して、前記画像形成材料を記録媒体に定着させる工程を含む画像形成方法。

請求項１に係る発明によれば、前記式（Ｉ）で表される化合物以外のペリリウム系スクアリリウム化合物を含有する樹脂組成物に比べ、近赤外線吸収材料の分散性に優れる樹脂組成物が提供される。

請求項２に係る発明によれば、前記式（Ｉ）で表される化合物以外のペリリウム系スクアリリウム化合物を含有する画像形成材料に比べ、近赤外線吸収材料の分散性に優れる画像形成材料が提供される。
請求項３に係る発明によれば、熱可塑性樹脂が上記特定の熱可塑性樹脂でない場合に比べ、記録媒体への定着性に優れる画像形成材料が提供される。
請求項４に係る発明によれば、前記式（Ｉ）で表される化合物以外のペリリウム系スクアリリウム化合物を含有する画像形成材料に比べ、含まれる顔料に応じた色味に優れる画像形成材料が提供される。

請求項５に係る発明によれば、前記式（Ｉ）で表される化合物以外のペリリウム系スクアリリウム化合物を含有する画像形成材料を用いた場合に比べ、記録媒体への定着性に優れる画像形成方法が提供される。

式（Ｉ−１）で表される化合物の可視近赤外吸収スペクトルである。 式（Ｉ）で表される化合物、又は式（Ｉ）で表される化合物以外のペリリウム系スクアリリウム化合物を用いて得たラテックスパッチの反射スペクトルである。

以下、本発明の樹脂組成物、画像形成材料及び画像形成方法の実施形態について詳細に説明する。

＜樹脂組成物、画像形成材料＞
本実施形態に係る樹脂組成物は、前記式（Ｉ）で表される化合物と、樹脂と、を含有する。本実施形態に係る樹脂組成物は、目的に応じて、その他の成分を含んでもよい。
本実施形態に係る樹脂組成物は、前記式（Ｉ）で表される化合物以外のペリリウム系スクアリリウム化合物を含有する樹脂組成物に比べ、近赤外線吸収材料であるペリリウム系スクアリリウム化合物の分散性に優れる。そのため、本実施形態に係る樹脂組成物は、前記式（Ｉ）で表される化合物以外のペリリウム系スクアリリウム化合物を含有する樹脂組成物に比べ、近赤外線吸収材料であるペリリウム系スクアリリウム化合物の含有量が少なくても、近赤外の光（例えば、波長７６０ｎｍ以上９７０ｎｍ以下の光）を効率的に吸収する。

（ペリリウム系スクアリリウム化合物）
本実施形態に係る樹脂組成物に含まれるペリリウム系スクアリリウム化合物は、下記式（Ｉ）で表される化合物である。

式（Ｉ）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４はそれぞれ独立に、炭素数２以上５以下のアルキル基を表す。

前記式（Ｉ）で表される化合物は、テトラヒドロフラン溶液中の最大吸収波長が９０８ｎｍであり、波長７６０ｎｍ以上９７０ｎｍ以下の光の吸収性に優れる。そのため、前記式（Ｉ）で表される化合物は、近赤外線吸収材料として有用である。
また、前記式（Ｉ）で表される化合物は、前記式（Ｉ）で表される化合物以外のペリリウム系スクアリリウム化合物に比べ、樹脂に対する分散性に優れる。そのため、前記式（Ｉ）で表される化合物は、樹脂組成物に含まれる近赤外線吸収材料として有用である。

前記式（Ｉ）で表される化合物は、例えば、テトラヒドロフラン、クロロホルム等の溶媒への溶解性に優れる。このことから、前記式（Ｉ）で表される化合物は、テトラヒドロフラン、クロロホルム等の溶媒への溶解性に優れる樹脂となじみがよいと考えられ、前記樹脂への分散性に優れると考えられる。
具体的には、テトラヒドロフランへの溶解性に優れる樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、スチレン−アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリビニル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリアルキルメタクリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリブタジエン樹脂などが挙げられる。

前記式（Ｉ）におけるＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４の少なくとも１つが、メチル基又は水素原子であるペリリウム系スクアリリウム化合物は、前記式（Ｉ）で表される化合物に比べて、樹脂に対する分散性がよくない。そのため、当該ペリリウム系スクアリリウム化合物を含む樹脂組成物は、本実施形態に係る樹脂組成物に比べて、波長７６０ｎｍ以上９７０ｎｍ以下の光の吸収効率に劣る。
他方、前記式（Ｉ）におけるＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４の少なくとも１つが、炭素数６以上のアルキル基であるペリリウム系スクアリリウム化合物は、グラム吸光係数が低下する傾向にある。そのため、当該ペリリウム系スクアリリウム化合物を含む樹脂組成物は、本実施形態に係る樹脂組成物に比べて、ペリリウム系スクアリリウム化合物の質量濃度が同じな場合においては波長７６０ｎｍ以上９７０ｎｍ以下の光の吸収効率に劣る。

前記式（Ｉ）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４で表される炭素数２以上５以下のアルキル基としては、例えば、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基などが挙げられる。
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４で表されるアルキル基は、前記式（Ｉ）で表される化合物の合成の容易性および分子の安定性の観点から、Ｒ^１とＲ^３とが同一でＲ^２とＲ^４とが同一であることが望ましく、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４のすべてが同一であることがより望ましい。
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４で表されるアルキル基は、前記式（Ｉ）で表される化合物が樹脂に対する分散性に優れる観点と、前記式（Ｉ）で表される化合物の合成の容易性および分子の安定性の観点とから、すべてが同一の炭素数２以上４以下のアルキル基であることが望ましく、すべてが同一の炭素数４のアルキル基（ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、及びｔｅｒｔ−ブチル基のいずれか）であることがより望ましい。

前記式（Ｉ）で表される化合物としては、例えば、以下の式（Ｉ−１）乃至（Ｉ−１２）で表される化合物が挙げられる。

前記式（Ｉ−１）で表される化合物は、例えば下記の反応スキームに従って合成される。前記式（Ｉ−２）乃至（Ｉ−１２）で表される化合物などの他の前記式（Ｉ）で表される化合物も、下記の反応スキームにおける化合物（Ａ）の置換基Ｒ’を変更して、下記の反応スキームに準じて合成される。

上記スキームに示した方法は、第１から第５までの段階を経て前記式（Ｉ−１）で表される化合物を合成する方法である。
第１段階では、（Ａ）４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルアセチレンと、有機マグネシウムハロゲン化物と、ギ酸誘導体とを用いて、（Ｂ）１，５−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ペンタ−１，４−ジイン−３−オールを得る。
第２段階では、（Ｂ）１，５−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ペンタ−１，４−ジイン−３−オールを酸化して、（Ｃ）１，５−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ペンタ−１，４−ジイン−３−オンを得る。
第３段階では、（Ｃ）１，５−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ペンタ−１，４−ジイン−３−オンと、ナトリウムエトキシドと、硫黄と、水素化ホウ素ナトリウムとを用いて、（Ｄ）２，６−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４Ｈ−チオピラン−４−オンを得る。
第４段階では、（Ｄ）２，６−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４Ｈ−チオピラン−４−オンと、メチルマグネシウムハロゲン化物と、過塩素酸とを用いて、（Ｅ）２，６−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−メチルチオピリリウムの過塩素酸塩を得る。
第５段階では、（Ｅ）２，６−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−メチルチオピリリウムの過塩素酸塩と、スクアリン酸とを用いて、（Ｆ）前記式（Ｉ−１）で表される化合物を得る。

以下に各段階の反応の具体例を説明する。
第１段階の反応は、（Ａ）４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルアセチレンに有機マグネシウムハロゲン化物（以下、「グリニャール試薬」とも呼称する。）を作用させ、次いでギ酸誘導体を作用させる。
第１段階の反応はグリニャール試薬を用いる反応であるので、水分を含まない溶媒を用いて不活性雰囲気下で反応を行うことが望ましい。

第１段階の反応に用いる溶媒は、（Ａ）４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルアセチレン、グリニャール試薬、及びギ酸誘導体を溶解し、グリニャール試薬に対して不活性な溶媒であればよい。溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒が挙げられる。
グリニャール試薬としては、臭化エチルマグネシウム又はヨウ化エチルマグネシウムが望ましい。グリニャール試薬は（Ａ）４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルアセチレンに対して０．５倍モル以上１．５倍モル以下で用いるのが望ましい。
ギ酸誘導体としては、例えば、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸ｎ−プロピル等のギ酸エステル類、又はギ酸アミド類が挙げられる。ギ酸誘導体としては、ギ酸メチル及びギ酸エチルが望ましい。

第１段階の反応は、一般的に知られたグリニャール反応と同じに、（Ａ）４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルアセチレンとグリニャール試薬のうち一方を他方に、冷却しながら滴下して反応を行うことが望ましい。また、（Ａ）４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルアセチレンとグリニャール試薬の反応混合物と、ギ酸誘導体を混合する際にも同じく、一方を他方に冷却しながら滴下して反応を行うことが望ましい。どちらの場合においても望ましい反応温度は、−２０℃以上１０℃以下であり、特に望ましくは−１０℃以上５℃以下である。
いずれの滴下の工程においても、混合が終了した後で反応混合物を冷却することを停止して、室温（例えば２３℃乃至２５℃）若しくはそれ以上の温度にて反応を完結させてもよい。反応を完結させるために行うこの操作において、望ましい温度範囲は１０℃以上４０℃以下であり、特に望ましくは１５℃以上３０℃以下である。

第１段階の反応において反応混合物は金属塩類を含むので、（Ｂ）１，５−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ペンタ−１，４−ジイン−３−オールは有機溶媒により抽出されることが望ましい。
抽出に用いる有機溶媒は、水と混合しにくく（Ｂ）１，５−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ペンタ−１，４−ジイン−３−オールを溶解するものであればよい。望ましくは、ジエチルエーテルやジイソプロピルエーテル等のエーテル系溶媒、塩化メチレンやクロロホルム等のハロゲン化炭化水素溶媒、酢酸エチルや酢酸ブチル等のエステル系溶媒、トルエンやキシレン等の芳香族炭化水素系溶媒である。
（Ｂ）１，５−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ペンタ−１，４−ジイン−３−オールを含む抽出液をそのまま若しくは濃縮して、精製することなく第２段階に進んでもよく、精製を行って第２段階に進んでもよい。精製法としては、例えば、減圧下におけるものを含む蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー等が挙げられる。

第２段階の反応において、（Ｂ）１，５−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ペンタ−１，４−ジイン−３−オールの酸化に用いる酸化試薬としては、例えば、過マンガン酸カリウム、二酸化マンガン、二クロム酸カリウム、クロム酸ナトリウムなどの金属系酸化試薬；キリアニ試薬（Ｋｉｌｌｉａｎｉ ｒｅａｇｅｎｔ）と呼ばれる二クロム酸ナトリウムと硫酸との混合水溶液；デス−マーチンパーヨージナン（Ｄｅｓｓ−Ｍａｒｔｉｎ ｐｅｒｉｏｄｉｎａｎｅ）と呼ばれる有機系酸化試薬（１，１，１−トリアセトキシ−１，１−ジヒドロ−１，２−ベンズヨードオキソール−３（１Ｈ）−オン。下記に構造を示す。）が挙げられる。

デス−マーチンパーヨージナンは、ザ・ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー（Ｔｈｅ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）誌第５８巻２８９９ページ（１９９３年）掲載の論文に記された方法により、収率よく合成される。また、ランカスター（Ｌａｎｃａｓｔｅｒ）社などから市販されている。

第２段階の反応において、酸化試薬は、（Ｂ）１，５−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ペンタ−１，４−ジイン−３−オールに対して１倍モル以上５倍モル以下で用いるのが望ましい。

第２段階の反応において、酸化反応に用いる溶媒は、（Ｂ）１，５−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ペンタ−１，４−ジイン−３−オールを溶解し、それ自体が酸化されやすいものでなければよい。例えば、アセトン、メチルエチルケトン等のジアルキルケトン類、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化溶媒、トルエンやキシレン等の芳香族炭化水素系溶媒が挙げられる。
第２段階の反応の反応温度および反応時間は、例えば、−１０℃以上３０℃以下、１時間以上３時間以下である。

第２段階の反応に前記の金属系酸化試薬またはキリアニ試薬を用いた場合には、反応後に金属化合物を濾別するか、または反応後の金属化合物が反応混合物中に溶解しているのであれば（Ｃ）１，５−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ペンタ−１，４−ジイン−３−オンを有機溶媒により抽出するか、あるいはその両方の操作を行うことが望ましい。抽出に用いる溶媒は、水と混合しにくく（Ｃ）１，５−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ペンタ−１，４−ジイン−３−オンを溶解するものであればよく、例えば、ジエチルエーテルやジイソプロピルエーテル等のエーテル系溶媒、塩化メチレンやクロロホルム等のハロゲン化炭化水素溶媒、酢酸エチルや酢酸ブチル等のエステル系溶媒、トルエンやキシレン等の芳香族炭化水素系溶媒が挙げられる。

第２段階の反応で得た（Ｃ）１，５−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ペンタ−１，４−ジイン−３−オンを含む液を精製することなく第３段階に進んでもよく、精製を行ってから第３段階に進んでもよい。精製法としては、減圧下におけるものを含む蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー等が挙げられる。

第３段階の反応は、（Ｃ）１，５−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ペンタ−１，４−ジイン−３−オンにナトリウムエトキシドを作用させ、次いで硫黄と水素化ホウ素ナトリウムとを作用させ、付加環化反応を行って（Ｄ）２，６−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４Ｈ−チオピラン−４−オンを得る。

第３段階の反応に用いる溶媒としては、例えば、アルコール類、アセトニトリルやベンゾニトリル等のニトリル系溶媒、ジエチルエーテルやテトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、トルエンやキシレン等の芳香族炭化水素系溶媒が挙げられる。望ましくはアルコール類、エーテル系溶媒、またはアルコールとエーテルとの混合溶媒である。さらに、第３段階の反応は禁水性試薬を用いる反応であるので、水分を含まない溶媒を用いて不活性雰囲気下で反応を行うことが望ましい。

第４段階の反応は、（Ｄ）２，６−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４Ｈ−チオピラン−４−オンに、メチルマグネシウムハロゲン化物を作用させ、次いで過塩素酸を作用させ、（Ｅ）２，６−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−メチルチオピリリウムの過塩素酸塩を得る。

第４段階の反応は、グリニャール試薬の一種であるメチルマグネシウムハロゲン化物を用いるので、水分を含まないエーテル系の溶媒を用いて不活性雰囲気下にて行うのが望ましい。
第４段階の反応に用いる溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン等が挙げられる。メチルマグネシウムハロゲン化物としては、例えば、ヨウ化メチルマグネシウム、臭化メチルマグネシウム、塩化メチルマグネシウムが挙げられる。メチルマグネシウムハロゲン化物は、（Ｄ）２，６−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４Ｈ−チオピラン−４−オンに対して０．９倍モル以上６倍モル以下で用いるのが望ましい。

第４段階の反応において、（Ｄ）２，６−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４Ｈ−チオピラン−４−オンとメチルマグネシウムハロゲン化物との反応は、冷却した前者にメチルマグネシウムハロゲン化物を滴下して行うことが望ましい。反応温度としては、−２０℃以上３５℃以下が望ましく、特に望ましくは−１０℃以上２５℃以下である。滴下が終了した後で、反応混合物を冷却することを停止して、室温（例えば２３℃乃至２５℃）若しくはそれ以上の温度にて反応を完結させてもよい。反応を完結させるために行うこの操作において、望ましい温度範囲は２０℃以上１００℃以下であり、特に望ましくは２５℃以上７０℃以下である。

上記の反応で得た反応混合物は金属塩類を含むので、反応生成物は、飽和塩化アンモニウム水溶液などにより有機層に抽出されることが望ましい。抽出用の有機溶媒としては、ジエチルエーテルやジイソプロピルエーテル等のエーテル系溶媒、塩化メチレンやクロロホルム等のハロゲン化炭化水素溶媒、酢酸エチルや酢酸ブチル等のエステル系溶媒、トルエンやキシレン等の芳香族炭化水素系溶媒が挙げられる。そして、抽出された有機層に過塩素酸等の水溶液を滴下して、（Ｅ）２，６−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−メチルチオピリリウムの過塩素酸塩等を結晶化させる。結晶化の工程は、反応混合物を一晩程度静置して行うことが望ましい。

第５段階の反応に用いるスクアリン酸（３，４−ジヒドロキシ−３−シクロブテン−１，２−ジオン）は、（Ｅ）２，６−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−メチルチオピリリウムの過塩素酸塩等に対して０．４倍モル以上０．６倍モル以下で用いるのが望ましい。

第５段階の反応に用いる溶媒としては、例えばアルコール類が挙げられ、望ましくは１−プロパノール、１−ブタノール、１−オクタノール等の炭素原子を３個以上有する１級アルコールである。
アルコール類に他の溶媒を混合する場合、混合する溶媒としては、例えば、トルエン、キシレンが挙げられる。混合される限りにおいて混合比は制限されないが、望ましくはアルコールに対して体積で０．５倍以上２倍以下である。

第５段階の反応は、反応の進行を助ける目的で、反応により発生する水を溶媒とともに留去しながら行ってもよく、少量の塩基性化合物を加えて行ってもよい。塩基性化合物としては、例えば、トリエチルアミン、ピリジン、ピペリジン、キノリンが挙げられる。
（Ｆ）前記式（Ｉ−１）で表される化合物を精製・単離する方法としては、例えば、再結晶、カラムクロマトグラフィー、昇華精製などが挙げられ、中でも再結晶により単離を行うことが望ましい。

（樹脂）
次に、本実施形態に係る樹脂組成物に含まれる樹脂について説明する。
本実施形態に係る樹脂組成物に含まれる樹脂は、その種類を特に問わず、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂などの中から樹脂組成物の用途に合わせて選択すればよい。樹脂は、１種単独で用いてもよく、２種以上併用してもよい。
本実施形態に係る樹脂組成物は、その用途は特に限定されないが、具体的には、例えば、後述する画像形成材料の他に、赤外光の吸収により発熱する発熱体用の塗料や、可視光を透過させ赤外光を遮断する赤外線フィルター用のフィルター膜形成用組成物が挙げられる。

本実施形態に係る樹脂組成物は、目的に応じてその他の成分を含んでもよい。その他の成分としては、公知の各種の添加物が挙げられ、例えば、可塑剤、分散剤、粘度調整剤、ｐＨ調整剤、酸化防止剤、防腐剤、防黴剤、有機溶剤、顔料などが挙げられる。

本実施形態に係る樹脂組成物の製造方法は、特に制限されない。例えば、前記式（Ｉ）で表される化合物と樹脂とその他の成分とを溶剤に溶解あるいは分散させる方法；樹脂を粒子状となるように溶液中に分散し、前記式（Ｉ）で表される化合物とその他の材料とを加え、共に凝集させる方法；樹脂の原料のモノマーを、前記式（Ｉ）で表される化合物とその他の材料とが共存する溶液中で重合させる方法；樹脂が熱可塑性樹脂であれば、前記式（Ｉ）で表される化合物と樹脂とその他の材料とを共に溶融混練し、成形あるいは粉砕する方法；等が挙げられる。

以下、本実施形態に係る樹脂組成物の一例である本実施形態に係る画像形成材料について説明する。
本実施形態に係る画像形成材料は、前記式（Ｉ）で表される化合物と、熱可塑性樹脂とを含有する。前記式（Ｉ）で表される化合物は、光を吸収し熱を発する。熱可塑性樹脂は、加熱により軟化し又は溶融し、その後再固化し、記録媒体上に画像形成材料を定着させる。

前記式（Ｉ）で表される化合物は、前記式（Ｉ）で表される化合物以外のペリリウム系スクアリリウム化合物に比べ、樹脂に対する分散性に優れる。
したがって、本実施形態に係る画像形成材料は、前記式（Ｉ）で表される化合物以外のペリリウム系スクアリリウム化合物を含有する画像形成材料に比べ、近赤外線吸収材料の分散性に優れる。
そして、前記式（Ｉ）で表される化合物は、テトラヒドロフラン溶液中の最大吸収波長が９０８ｎｍである。
以上のことから、本実施形態に係る画像形成材料は、前記式（Ｉ）で表される化合物以外のペリリウム系スクアリリウム化合物を含有する画像形成材料に比べ、波長７６０ｎｍ以上９７０ｎｍ以下の光の吸収性に優れる。

一方で、前記式（Ｉ）で表される化合物は、４００ｎｍ以上７５０ｎｍ以下の可視光の波長領域における吸光度が低いため、本実施形態に係る画像形成材料は、前記式（Ｉ）で表される化合物による色味を呈し難い。
したがって、本実施形態に係る画像形成材料が、さらに顔料を含有する場合、顔料による色味が保たれた画像形成材料が提供される。

本実施形態に係る画像形成材料が光定着トナーである場合、少量の前記式（Ｉ）で表される化合物の含有で波長７６０ｎｍ以上９７０ｎｍ以下の光を効率的に吸収する、記録媒体への定着性に優れる光定着トナーが提供される。
また、本実施形態に係る画像形成材料がさらに顔料を含有する光定着トナーである場合、顔料による色味が保たれた光定着トナーが提供される。

本実施形態に係る画像形成材料が不可視トナーである場合、少量の前記式（Ｉ）で表される化合物の含有で波長７６０ｎｍ以上９７０ｎｍ以下の光を効率的に吸収する、情報読み取り性に優れる不可視トナーが提供される。
また、本実施形態に係る画像形成材料が不可視トナーである場合、光の照射によって記録媒体に定着される不可視性に優れる不可視トナーが提供される。
なお、本明細書において「不可視性」とは、ヒトの目視により認識されにくいことを意味し、まったく認識されないこと（不可視）が理想的である。

本実施形態に係る画像形成材料は、前記式（Ｉ）で表される化合物の含有量が、画像形成材料の全質量を基準として、０．０５質量％以上１０質量％以下であることが望ましく、０．５質量％以上５質量％以下がより望ましい。前記式（Ｉ）で表される化合物は、熱可塑性樹脂に対する分散性に優れるので、画像形成材料における含有量が少なくても波長７６０ｎｍ以上９７０ｎｍ以下の光を効率的に吸収する。
本実施形態に係る画像形成材料は、前記式（Ｉ）で表される化合物の含有量が低いほど、不可視性により優れる画像形成材料となり、顔料を含有する場合には顔料による色味がより保たれた画像形成材料となる。

（熱可塑性樹脂）
本実施形態に係る画像形成材料は、熱可塑性樹脂を含有する。本実施形態に係る画像形成材料は、熱可塑性でない樹脂を含有する場合に比べて、少ない光エネルギーで十分な定着効果を得る。

熱可塑性樹脂としては、例えば、天然由来の高分子からなる熱可塑性樹脂や、合成高分子からなる熱可塑性樹脂が挙げられる。具体的には例えば、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、スチレン−アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリビニル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリアルキルメタクリレート樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂が挙げられる。熱可塑性樹脂は、１種単独で用いてもよく、２種以上併用してもよい。
これらの熱可塑性樹脂の中でも、前記式（Ｉ）で表される化合物の分散性の観点から、ポリエステル樹脂、スチレン−アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリビニル樹脂、ポリアルキルメタクリレート樹脂、アクリル樹脂が望ましい。

熱可塑性樹脂は、その重量平均分子量が１０００以上１０００００以下の範囲であることが望ましく、５０００以上５００００以下の範囲であることがより望ましい。重量平均分子量が１０００以上であると、オフセットや融着などの問題が起こりにくく、重量平均分子量が１０００００以下であると、定着に必要な熱量が大き過ぎず、光の照射によって効率的に定着される。

熱可塑性樹脂は、ガラス転移温度が５０℃以上１５０℃以下の範囲であることが望ましい。ガラス転移温度が上記の範囲であれば、ガラス転移温度が上記範囲外である場合と比較して、適切な熱量で熱可塑性樹脂が軟化し又は溶融し、その後再固化し、画像形成材料が記録媒体に定着する。熱可塑性樹脂のガラス転移温度は、５５℃以上７０℃以下の範囲がより望ましい。

（顔料）
本実施形態に係る画像形成材料は、目的とする画像を形成するために必要な色味を画像形成材料に付与するために、顔料を含有していてもよい。顔料としては、特に制限はなく、公知の種々の顔料を使用してよい。顔料は、１種単独で用いてもよく、２種以上併用してもよい。

（その他の成分）
本実施形態に係る画像形成材料が電子写真用トナー（光定着トナー、不可視トナー等）である場合、必要に応じて、帯電制御剤、オフセット防止剤等をさらに含有していてもよい。
帯電制御剤には、正帯電用のものと負帯電用のものがある。正帯電用としては、例えば、第４級アンモニウム系化合物が挙げられる。負帯電用としては、例えば、アルキルサリチル酸の金属錯体、極性基を含有したレジンタイプの帯電制御剤が挙げられる。
オフセット防止剤としては、例えば、低分子量ポリエチレン、低分子量ポリプロピレンが挙げられる。

本実施形態に係る画像形成材料が電子写真用トナーである場合、流動性、粉体保存性の向上、摩擦帯電制御、転写性能、クリーニング性能向上等のために、無機粉粒子あるいは有機粒子を外添剤としてトナー表面に添加してもよい。
無機粉粒子としては、例えば、シリカ、アルミナ、チタニア、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、リン酸カルシウム、酸化セリウム等が挙げられる。これらの無機粉粒子には、例えば、必要に応じて、公知の表面処理を施してもよい。
有機粒子としては、例えば、フッ化ビニリデン、メチルメタクリレート、スチレン−メチルメタクリレート等を構成成分とする乳化重合体またはソープフリー重合体が挙げられる。

本実施形態に係る画像形成材料が電子写真用トナーである場合、当該画像形成材料は、従来の電子写真用トナーの製造方法によって製造される。例えば、前記式（Ｉ）で表される化合物と熱可塑性樹脂とその他の材料を共に溶融混練し、粉砕する方法（混練粉砕法）；熱可塑性樹脂の原料のモノマーを、前記式（Ｉ）で表される化合物とその他の材料とが共存する溶液中で重合させ、これらを凝集させる方法；熱可塑性樹脂の原料のモノマーを重合させた後、前記式（Ｉ）で表される化合物とその他の材料とを加え、これらを凝集させる方法；熱可塑性樹脂を粒子状となるように溶液中に分散し、前記式（Ｉ）で表される化合物とその他の材料と共に凝集させる方法；等が挙げられる。

次に、電子写真用トナー以外の画像形成材料について説明する。
本実施形態に係る樹脂組成物としては、電子写真用トナー以外の画像形成材料も挙げられる。このような画像形成材料として、例えば、近赤外線吸収インクが挙げられる。前記近赤外線吸収インクとしては、例えば、インクジェットプリンター用インク；活版印刷、オフセット印刷、フレキソ印刷、グラビア印刷又はシルク印刷用のインク；等が挙げられる。

前記近赤外線吸収インクがインクジェットプリンター用インクである場合、水を含有する水性インクの態様でもよい。この場合、インクの乾燥防止及び浸透性を向上させるために、水溶性の有機溶剤を更に含有していてもよい。
水としては、例えば、イオン交換水、限外濾過水、純水等が挙げられる。有機溶剤としては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、グリセリン等の多価アルコール類；Ｎ−アルキルピロリドン類；酢酸エチル、酢酸アミル等のエステル類；メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等の低級アルコール類；メタノール、ブタノール、フェノールのエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイド付加物等のグリコールエーテル類が挙げられる。有機溶剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上併用してもよい。
有機溶剤は、吸湿性、保湿性、前記式（Ｉ）で表される化合物の溶解性、浸透性、インクの粘度、氷点等を考慮して選択される。インクジェットプリンター用インク中の有機溶剤の含有割合は、１質量％以上６０質量％以下であることが望ましい。

前記近赤外線吸収インクがインクジェットプリンター用インクである場合、インクジェットプリンターのシステムに要求される諸条件を満たすために、インクの成分として従来知られている添加物を含有していてもよい。添加物としては、例えば、ｐＨ調整剤、比抵抗調整剤、酸化防止剤、防腐剤、防黴剤、金属封鎖剤が挙げられる。ｐＨ調整剤としては、例えば、アルコールアミン類、アンモニウム塩類、金属水酸化物が挙げられる。比抵抗調整剤としては、例えば、有機塩類、無機塩類が挙げられる。金属封鎖剤としては、例えば、キレート剤が挙げられる。

前記近赤外線吸収インクがインクジェットプリンター用インクである場合、ノズル部の閉塞やインク吐出方向の変化等が生じない程度に、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、カルボキシメチルセルロース、スチレン−アクリル酸樹脂、スチレン−マレイン酸樹脂等の水溶性樹脂を含有していてもよい。

前記近赤外線吸収インクが活版印刷、オフセット印刷、フレキソ印刷、グラビア印刷又はシルク印刷用のインクである場合、当該インクはポリマーや有機溶剤を含有する油性インクの態様でもよい。
ポリマーとしては、例えば、蛋白質、ゴム、セルロース類、シエラック、コパル、でん粉、ロジン等の天然樹脂；ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂等の熱可塑性樹脂；レゾール型フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル等の熱硬化性樹脂が挙げられる。
有機溶剤としては、前記インクジェットプリンター用インクの説明において例示された有機溶剤が挙げられる。

前記近赤外線吸収インクが活版印刷、オフセット印刷、フレキソ印刷、グラビア印刷又はシルク印刷用のインクである場合、要求される諸条件を満たすために、インクの成分として従来知られている添加物を含有していてもよい。添加物としては、例えば、印刷皮膜の柔軟性や強度を向上させるための可塑剤、乾燥防止剤、粘度調整剤、分散剤、粘度調整などのための溶剤が挙げられる。

＜画像形成方法＞
本実施形態に係る画像形成方法は、本実施形態に係る画像形成材料に、波長７６０ｎｍ以上９７０ｎｍ以下の光を照射して、前記画像形成材料を記録媒体に定着させる工程を含む。
本実施形態に係る画像形成材料に含まれる前記式（Ｉ）で表される化合物は、波長７６０ｎｍ以上９７０ｎｍ以下の光の吸収性に優れることから、本実施形態に係る画像形成方法は、効率よく記録媒体に画像形成材料を定着させる画像形成方法を提供する。

光の光源としては、半導体レーザー、固体レーザー、液体レーザー、ガスレーザー等が挙げられる。現在広く用いられている近赤外光領域に発振波長を有する半導体レーザーは、８００ｎｍ帯と９００ｎｍ帯の２つの発振波長を有し、９００ｎｍ帯の方が８００ｎｍ帯よりも発光効率が高い傾向がある。
本実施形態に係る画像形成材料は、そこに含まれる前記式（Ｉ）で表される化合物の最大吸収波長が９０８ｎｍであることにより、波長７６０ｎｍ以上９７０ｎｍ以下の光の吸収性に優れ、中でも９００ｎｍ帯の光の吸収性に優れる。
したがって、本実施形態に係る画像形成方法によれば、上記の半導体レーザーと組み合せて、記録媒体に画像形成材料をより効率的に定着させる画像形成方法が提供される。

本実施形態に係る画像形成方法は、より少ない光エネルギーで効率よく画像形成材料を記録媒体に定着させる観点から、照射する光の波長が８００ｎｍ以上９５０ｎｍ以下であることが望ましい。

記録媒体としては、紙、プラスチック板、布、金属板等が挙げられる。記録媒体の材質や特性は、定着時の熱に耐え得る範囲が望ましい。

記録媒体に画像形成材料を付与する方法としては、例えば、電子写真方式、インクジェット方式、活版印刷、オフセット印刷、フレキソ印刷、グラビア印刷、シルク印刷等が挙げられる。記録媒体上で画像形成材料を光の照射によって効率的に加熱する観点からは、記録媒体に画像形成材料以外の液体（水等）が付与されないことが望ましく、したがって記録媒体に画像形成材料を付与する方法としては、電子写真方式が望ましい。

本実施形態に係る画像形成方法としては、例えば、記録媒体に画像形成材料を付与し、記録媒体の画像形成材料が付与された面に、出力１Ｊ／ｃｍ^２のレーザー光を３ミリ秒照射することで画像定着を行う方法が挙げられる。

以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されるものではない。

＜実施例１＞
（式（Ｉ−１）で表される化合物の合成）
前記式（Ｉ−１）で表される化合物を、以下の合成スキームに従って合成した。

窒素雰囲気下、臭化エチルマグネシウムの１３％テトラヒドロフラン溶液（約１Ｍ）２５６ｇを氷水にて冷却しながら、（Ａ）４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルアセチレン３９．５ｇを６０ｍｌのテトラヒドロフランに溶解した溶液を滴下した。滴下終了後、反応容器を氷水浴からはずして室温（２３℃乃至２５℃）にて３時間攪拌し、再び氷水浴にて冷却しながらギ酸エチル９．２５ｇを滴下した。滴下終了後、テトラヒドロフラン２０ｍｌを加え、６Ｎ塩酸を５１ｍｌ滴下した。反応の終わった混合物から有機物を抽出し、分離した有機層を水洗、濃縮してヘキサンにて結析させて、（Ｂ）１，５−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ペンタ−１，４−ジイン−３−オールを３２．３ｇ得た。本段階の収率は、７５％であった。
なお、各段階の中間生成物の構造は、ＮＭＲスペクトルや質量スペクトル等により確認した。

窒素雰囲気下、デス−マーチンパーヨージナン２７．５ｇを１７０ｍｌのアセトン（超脱水）に溶解した溶液を氷水にて冷却しながら、（Ｂ）１，５−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ペンタ−１，４−ジイン−３−オール１９．５ｇをアセトン（超脱水）７０ｍｌに溶解した溶液を加えて、室温（２３℃乃至２５℃）下３時間攪拌した。反応混合物に水酸化ナトリウム５ｇを２５ｍｌの水に溶解した溶液を加え、吸引濾過により黄色の沈殿を除去し、アセトンで洗浄した。アセトン濾液を減圧蒸留により濃縮し、得られた濃縮液に酢酸エチル３００ｍｌを注ぎ入れて有機物を抽出し、分離した有機層を水洗した。濃縮した有機層を順次にアセトンとヘキサンの混合溶媒、アセトンとエタノールの混合溶媒から再結晶することにより精製して、（Ｃ）１，５−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ペンタ−１，４−ジイン−３−オンを１６．０ｇ得た。本段階の収率は、８２．５％であった。

窒素雰囲気下、ナトリウムエトキシドの２０％エタノール溶液１．３６６ｇに無水エタノール４０ｍｌ、硫黄（結晶性粉末）１４２ｍｇ及び水素化ホウ素ナトリウム１７１ｍｇを順次に加えた。この混合液を室温（２３℃乃至２５℃）下約２時間撹拌し、硫黄が完全に溶けた溶液Ｉを得た。
窒素雰囲気下、ナトリウムエトキシドの２０％エタノール溶液０．９５４ｇに無水エタノール４０ｍｌ及び（Ｃ）１，５−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ペンタ−１，４−ジイン−３−オン１．３７ｇを順次に加え、室温（２３℃乃至２５℃）下１４分間撹拌して、溶液ＩＩを得た。この溶液ＩＩを前記溶液Ｉに加えた。この反応混合液を室温（２３℃乃至２５℃）下１５分間攪拌してから、水２００ｍｌに注ぎ入れ、トルエンと酢酸エチルの混合溶媒（体積比１：１）で有機物を抽出し、分離した有機層を水洗した。そして、無水硫酸ナトリウムにて乾燥し、濃縮した後、アセトンとヘキサンの混合溶媒から再結晶することにより精製し、（Ｄ）２，６−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４Ｈ−チオピラン−４−オンを１．０７ｇ得た。本段階の収率は、７１％であった。

窒素雰囲気下、（Ｄ）２，６−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４Ｈ−チオピラン−４−オン７１６ｍｇを無水テトラヒドロフラン１２ｍｌに溶解し、室温（２３℃乃至２５℃）下撹拌しながら臭化メチルマグネシウムの１Ｍテトラヒドロフラン溶液１２ｍｌを滴下した。この反応混合液を撹拌しながら加熱し、３時間還流反応させてから室温まで冷却した。反応混合物を氷水浴にて冷却しながら１０％過塩素酸水溶液を３０ｍｌ加えたのち一晩静置して結析させた。析出した結晶を濾取して、（Ｅ）２，６−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−メチルチオピリリウムの過塩素酸塩を７８４ｍｇ得た。本段階の収率は、８６．８％であった。

（Ｅ）２，６−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−メチルチオピリリウムの過塩素酸塩３８０ｍｇとスクアリン酸４５．６ｍｇをトルエン９ｍｌと１−ブタノール６ｍｌとの混合溶媒に分散し、ピリジン３２ｍｇを加えて３時間加熱還流させた。反応中にできた水を共沸蒸留により除去した。反応混合物を放冷後濃縮してシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、（Ｆ）前記式（Ｉ−１）で表される化合物を２３２ｍｇ得た。本段階の収率は、７０％であった。全５段階の総合収率は、２６％であった。

（化合物の同定）
上記で得た黒茶色の固体を、赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ錠剤法）、^１Ｈ−ＮＭＲペクトル、質量スペクトル、可視近赤外吸収スペクトルにより同定した。その結果、前述の黒茶色の固体が前記式（Ｉ−１）で表される分子構造を有することを確認できた。同定データを以下に示し、可視近赤外吸収スペクトルを図１に示す。

赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ錠剤法）：
ν_ｍａｘ ＝３０３３（＝Ｃ−Ｈ），２９５８（ＣＨ_３），２８６６（ＣＨ_３），２３４６，１７２６，１５９３，１５６０（Ｃ＝Ｃ ｒｉｎｇ），１４７４，１４１０，１３５２（ＣＨ_３），１３３３，１３１２，１２６９，１２４２，１２１０，１１９６，１１２４（Ｃ−Ｏ⁻），１０８４，１００５，９７０，８８９，８３２，７９６，７５０，７２６ｃｍ^−１

^１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ_３）：
７．９０（ｂｒｓ，２Ｈ），７．５５，７．５２（ｄ，１６Ｈ，Ｈ_ａｒｏｍ），１．８４（ｂｒｓ，４Ｈ），１．３６（ｓ，３６Ｈ，１２×ＣＨ_３）

質量スペクトル（ＦＤ）：
ｍ／ｚ ＝ ８２７（Ｍ^＋，１００％）

可視近赤外吸収スペクトル（図１）：
最大吸収波長（λ_ｍａｘ）＝９０８ｎｍ（テトラヒドロフラン溶液中）
最大吸収波長におけるモル吸光係数（ε_ｍａｘ）＝２．６９×１０^５Ｍ^−１ｃｍ^−１（テトラヒドロフラン溶液中）

（テトラヒドロフランに対する溶解度の測定）
前記式（Ｉ−１）で表される化合物のテトラヒドロフラン（２４±１℃）に対する溶解度を下記の方法で測定した。
１０．００ｍｇの前記式（Ｉ−１）で表される化合物（黒茶色の固体）と５．００ｍｌのテトラヒドロフランをスクリュー管瓶中に混ぜてから、蓋で密閉したままで超音波を３０分間照射し、室温中に一晩静置した。得られた溶液を孔径２５ｎｍのメンブレンフィルターで濾過し、フィルター上に残った黒茶色の固体の乾燥質量を測った。これにより、５．００ｍｌのテトラヒドロフランに溶けた前記式（Ｉ−１）で表される化合物の質量が分かり、テトラヒドロフランに対する溶解度が計算できる。
その結果を表１に示す。表１中の評価基準は以下の通りである。
Ａ：テトラヒドロフランに対する溶解度≧１ｍｇ／ｍｌ
Ｂ：０．１ｍｇ／ｍｌ≦テトラヒドロフランに対する溶解度＜１ｍｇ／ｍｌ
Ｃ：テトラヒドロフランに対する溶解度＜０．１ｍｇ／ｍｌ

＜実施例２＞
実施例１と同様にして、ただし、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルアセチレンの代わりに４−ｎ−ブチルフェニルアセチレンを使用して、前記式（Ｉ−２）で表される化合物を合成した。

合成した化合物が前記式（Ｉ−２）で表される化合物であることは、赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ錠剤法）、^１Ｈ−ＮＭＲペクトル、質量スペクトル、可視近赤外吸収スペクトルにより同定した。以下に、分子量、最大吸収波長及び最大吸収波長におけるモル吸光係数の測定結果を示す。
分子量：８２７．２
最大吸収波長（λ_ｍａｘ）＝９１０ｎｍ（テトラヒドロフラン溶液中）
最大吸収波長におけるモル吸光係数（ε_ｍａｘ）＝２．１×１０^５Ｍ^−１ｃｍ^−１（テトラヒドロフラン溶液中）

前記式（Ｉ−２）で表される化合物について、実施例１と同様にして、テトラヒドロフランに対する溶解度を測定した。その結果を表１に示す。

＜実施例３＞
実施例１と同様にして、ただし、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルアセチレンの代わりに４−エチルフェニルアセチレンを使用して、前記式（Ｉ−３）で表される化合物を合成した。

合成した化合物が前記式（Ｉ−３）で表される化合物であることは、赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ錠剤法）、^１Ｈ−ＮＭＲペクトル、質量スペクトル、可視近赤外吸収スペクトルにより同定した。以下に、分子量、最大吸収波長及び最大吸収波長におけるモル吸光係数の測定結果を示す。
分子量：７１５．０
最大吸収波長（λ_ｍａｘ）＝９０８ｎｍ（テトラヒドロフラン溶液中）
最大吸収波長におけるモル吸光係数（ε_ｍａｘ）＝１．８×１０^５Ｍ^−１ｃｍ^−１（テトラヒドロフラン溶液中）

前記式（Ｉ−３）で表される化合物について、実施例１と同様にして、テトラヒドロフランに対する溶解度を測定した。その結果を表１に示す。

＜比較例１＞
特開２００１−０１１０７０号公報における実施例３の方法によって、下記式（ＩＩ−１）で表されるペリリウム系スクアリリウム化合物を合成した。以下、この化合物を「式（ＩＩ−１）で表される化合物」とも称する。

合成した化合物が前記式（ＩＩ−１）で表される化合物であることは、赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ錠剤法）、^１Ｈ−ＮＭＲペクトル、質量スペクトル、可視近赤外吸収スペクトルにより同定した。以下に、分子量、最大吸収波長及び最大吸収波長におけるモル吸光係数の測定結果を示す。
分子量：６０２．８
最大吸収波長（λ_ｍａｘ）＝９０１ｎｍ（テトラヒドロフラン溶液中）
最大吸収波長におけるモル吸光係数（ε_ｍａｘ）＝２．０７×１０^５Ｍ^−１ｃｍ^−１（テトラヒドロフラン溶液中）

前記式（ＩＩ−１）で表される化合物について、実施例１と同様にして、テトラヒドロフランに対する溶解度を測定した。その結果を表１に示す。

＜比較例２＞
実施例１と同様にして、ただし、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルアセチレンの代わりに４−エチニルトルエンを使用して、下記式（ＩＩ−２）で表されるペリリウム系スクアリリウム化合物を合成した。以下、この化合物を「式（ＩＩ−２）で表される化合物」とも称する。

合成した化合物が前記式（ＩＩ−２）で表される化合物であることは、赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ錠剤法）、^１Ｈ−ＮＭＲペクトル、質量スペクトル、可視近赤外吸収スペクトルにより同定した。以下に、分子量、最大吸収波長及び最大吸収波長におけるモル吸光係数の測定結果を示す。
分子量：６５８．９
最大吸収波長（λ_ｍａｘ）＝９０５ｎｍ（テトラヒドロフラン溶液中）
最大吸収波長におけるモル吸光係数（ε_ｍａｘ）＝１．９×１０^５Ｍ^−１ｃｍ^−１（テトラヒドロフラン溶液中）

前記式（ＩＩ−２）で表される化合物について、実施例１と同様にして、テトラヒドロフランに対する溶解度を測定した。その結果を表１に示す。

＜比較例３＞
実施例１と同様にして、ただし、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルアセチレンの代わりに４−ヘキシルフェニルアセチレンを使用して、下記式（ＩＩ−３）で表されるペリリウム系スクアリリウム化合物を合成した。以下、この化合物を「式（ＩＩ−３）で表される化合物」とも称する。

合成した化合物が前記式（ＩＩ−３）で表される化合物であることは、赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ錠剤法）、^１Ｈ−ＮＭＲペクトル、質量スペクトル、可視近赤外吸収スペクトルにより同定した。以下に、分子量、最大吸収波長及び最大吸収波長におけるモル吸光係数の測定結果を示す。
分子量：９３９．４
最大吸収波長（λ_ｍａｘ）＝９１０ｎｍ（テトラヒドロフラン溶液中）
最大吸収波長におけるモル吸光係数（ε_ｍａｘ）＝２．０×１０^５Ｍ^−１ｃｍ^−１（テトラヒドロフラン溶液中）

前記式（ＩＩ−３）で表される化合物について、実施例１と同様にして、テトラヒドロフランに対する溶解度を測定した。その結果を表１に示す。

表１に示す結果から、前記式（Ｉ−１）で表される化合物、前記式（Ｉ−２）で表される化合物、及び前記式（Ｉ−３）で表される化合物は、前記式（ＩＩ−１）で表される化合物、及び前記式（ＩＩ−２）で表される化合物と比較して、テトラヒドロフランに対する溶解性に優れることがわかる。

＜実施例１１＞
（擬似トナー分散液の作製）
前記式（Ｉ−１）で表される化合物１．８３ｍｇとトナー用樹脂（ポリスチレンアクリル酸ｎ−ブチル）１８１．２ｍｇをテトラヒドロフラン２０．０ｍｌに溶解し、得た溶液からマイクロピペットを用いて５００μｌを吸い上げ、予め炭酸カリウム２０ｍｇを含有し、４００ｒｐｍで撹拌されていた蒸留水５０ｍｌに一気に注入し、再沈を行った。１分後、色素が樹脂中に分散したスラリーを得た。このスラリー（擬似トナー分散液）の体積平均粒径は９５ｎｍであった。

（擬似トナー分散液の紙への塗布）
内径３６ｍｍのガラス濾過器を用い、前記擬似トナー分散液を孔径が５０ｎｍのＭＦ−ミリポアメンブレンフィルター（紙、メルク株式会社製、型番ＶＭＷＰ）で濾過し、空気乾燥及び熱圧着（１２０℃）して、トナー載り量＝４．５ｇ／ｍ^２、単位面積当たりの前記式（Ｉ−１）で表される化合物の量＝０．０４５ｇ／ｍ^２（１質量％に相当）のラテックスパッチを作製した。

（評価）
［反射スペクトル］
上記で得たラテックスパッチについて、日立製作所製の分光光度計Ｕ−４１００にて反射スペクトルを測定した。その反射スペクトルを図２に示す。また、９２０ｎｍにおける初期反射率（％）を表２に示す。初期反射率（％）は、小さいほど光の吸収性に優れることを示す。

［色差］
色差（ΔＥ）とは、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系において色差と呼ばれるものである。記録媒体（例えば紙）との色差（ΔＥ）は、反射分光濃度計（エックスライト株式会社製、ｘ−ｒｉｔｅ９３９）を用いた測定で得られるＬ、ａ、ｂから以下の式で算出される。

ここで、Ｌ_１、ａ_１、ｂ_１は、画像形成材料の塗布前における記録媒体表面のＬ値、ａ値及びｂ値である。Ｌ_２、ａ_２、ｂ_２は、画像形成材料を塗布して記録媒体表面に画像を形成した時の画像部におけるＬ値、ａ値及びｂ値である。
実施例１１のラテックスパッチについて、得られた色差（ΔＥ）を表１に示す。
色差（ΔＥ）は、その値が小さいほど視認されにくいこと、即ち、不可視性に優れることを意味する。

＜実施例１２＞
実施例１１と同様にして、ただし前記式（Ｉ−１）で表される化合物の代わりに前記式（Ｉ−２）で表される化合物を使用して、擬似トナー分散液の作製、擬似トナー分散液の紙への塗布、及び評価を行った。その反射スペクトルを図２に示す。また、９２０ｎｍにおける初期反射率（％）を表２に示す。

＜実施例１３＞
実施例１１と同様にして、ただし前記式（Ｉ−１）で表される化合物の代わりに前記式（Ｉ−３）で表される化合物を使用して、擬似トナー分散液の作製、擬似トナー分散液の紙への塗布、及び評価を行った。その反射スペクトルを図２に示す。また、９２０ｎｍにおける初期反射率（％）を表２に示す。

＜比較例１１＞
実施例１１と同様にして、ただし前記式（Ｉ−１）で表される化合物の代わりに前記式（ＩＩ−１）で表される化合物を使用して、擬似トナー分散液の作製、擬似トナー分散液の紙への塗布、及び評価を行った。その反射スペクトルを図２に示す。また、９２０ｎｍにおける初期反射率（％）を表２に示す。

＜比較例１２＞
実施例１１と同様にして、ただし前記式（Ｉ−１）で表される化合物の代わりに前記式（ＩＩ−２）で表される化合物を使用して、擬似トナー分散液の作製、擬似トナー分散液の紙への塗布、及び評価を行った。その反射スペクトルを図２に示す。また、９２０ｎｍにおける初期反射率（％）を表２に示す。

＜比較例１３＞
実施例１１と同様にして、ただし前記式（Ｉ−１）で表される化合物の代わりに前記式（ＩＩ−３）で表される化合物を使用して、擬似トナー分散液の作製、擬似トナー分散液の紙への塗布、及び評価を行った。その反射スペクトルを図２に示す。また、９２０ｎｍにおける初期反射率（％）を表２に示す。

表２及び図２に示す結果から、前記式（Ｉ）で表される化合物と樹脂とを含む分散液を用いた実施例１１、実施例１２及び実施例１３は、前記式（Ｉ）で表される化合物以外のペリリウム系スクアリリウム化合物と樹脂とを含む分散液を用いた比較例１１、比較例１２及び比較例１３と比較して、不可視性を維持したまま、９００ｎｍ帯における光の吸収性に優れることがわかる。

Claims (5)

1. 下記式（Ｉ）で表されるペリリウム系スクアリリウム化合物と、樹脂と、を含有する樹脂組成物。
   
   
   （式（Ｉ）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４はそれぞれ独立に、炭素数２以上５以下のアルキル基を表す。）
2. 下記式（Ｉ）で表されるペリリウム系スクアリリウム化合物と、熱可塑性樹脂と、を含有する画像形成材料。
   
   
   （式（Ｉ）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４はそれぞれ独立に、炭素数２以上５以下のアルキル基を表す。）
3. 前記熱可塑性樹脂は、ガラス転移温度が５０℃以上１５０℃以下である、請求項２に記載の画像形成材料。
4. さらに、顔料を含有する、請求項２又は請求項３に記載の画像形成材料。
5. 請求項２〜請求項４のいずれか１項に記載の画像形成材料に、波長７６０ｎｍ以上９７０ｎｍ以下の光を照射して、前記画像形成材料を記録媒体に定着させる工程を含む画像形成方法。