TW201429814A - 抗脫層及損壞之強化玻璃容器 - Google Patents

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Natesan Venkataraman
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Abstract

本文中描述之玻璃容器抗脫層、具有改善之強度及提高之抗損壞性。在一個實施例中，玻璃容器可包括主體，該主體具有內表面、外表面及壁厚度，該壁厚度在外表面與內表面之間延伸。至少主體之內表面可具有小於或等於10之脫層因數。主體亦可具有壓縮應力層，該壓縮應力層自主體之外表面延伸至壁厚度中。壓縮應力層可具有大於或等於150MPa之表面壓縮應力。光滑塗層可定位在主體之外表面之至少一部分周圍，以使得主體之具有光滑塗層之外表面具有小於或等於0.7之摩擦係數。

Description

抗脫層及損壞之強化玻璃容器 【相關申請案之交叉引用】
本說明書主張2012年11月30日申請且題為「Strengthened Glass Containers Resistanct to Delamination and Damage」之美國臨時專利申請案第61/731,783號的優先權，該案全文以引用之方式併入本文中。本說明書亦主張2013年6月7日申請之題為「Delamination Resistant Glass Containers」之美國專利申請案第13/912,457號及2013年2月28日申請之題為「Glass Articles With Low-Friction Coatings」之美國專利申請案第13/780,754號及2013年11月8日申請之題為「Strenthened Glass Containers Resistant To Delaminaiton And Damage」之美國專利申請案第14/075,593號的優先權，所有該等申請案以引用之方式併入本文中。
本說明書大體上係關於玻璃容器，且更具體言之，係關於用於儲存藥物配方之玻璃容器。
在歷史上，因為玻璃相對於其他材料之密封性、光學 透明度及極好化學耐久性，玻璃已用作封裝藥物之較佳材料。具體言之，用於藥物封裝之玻璃必須具有適當化學耐久性，以便不影響含在玻璃中之藥物配方的穩定性。具有適當化學耐久性之玻璃包括在具有經歷史證明之化學耐久性之ASTM標準「IA型」及「IB型」玻璃組成物內的彼等玻璃組成物。
雖然IA型及IB型玻璃組成物通常用於藥物封裝，但該等玻璃組成物具有許多缺點，該等缺點包括藥物封裝之內表面傾向於在暴露至藥物溶液後流出玻璃顆粒或「脫層」。
另外，在藥物封裝中使用玻璃亦可受玻璃之機械效能限制。具體言之，當封裝接觸到處理設備、搬運設備及/或其他封裝時，玻璃藥物封裝之製造及填充中使用之高處理速度可導致封裝表面上之機械損壞，諸如，磨損。該機械損壞明顯降低玻璃藥物封裝之強度，導致裂縫將出現在玻璃中之可能性增加，從而可能破壞含在封裝中之藥物的無菌度或導致封裝的完全破壞。
因此，需要展現出改善之脫層抗性、提高之強度及/或損壞容忍度中至少兩者的組合的用作藥物封裝之替代玻璃容器。
根據一個實施例，玻璃容器可包括主體，該主體具有內表面、外表面及壁厚度，該壁厚度在外表面與內表面之間延伸。至少主體之內表面可具有小於或等於10之脫層因數。壓縮應力層可自主體之外表面延伸至壁厚度中。壓縮應力層 可具有大於或等於150MPa之表面壓縮應力。光滑塗層可定位在主體之外表面之至少一部分周圍，其中主體之具有光滑塗層之外表面具有小於或等於0.7之摩擦係數。
在另一實施例中，玻璃容器可包括主體，該主體具有內表面、外表面及壁厚度，該壁厚度在外表面與內表面之間延伸。主體可由根據ASTM標準E438-92之I型B級玻璃形成。壓縮應力層可自主體之外表面延伸至壁厚度中。壓縮應力層可具有大於或等於150MPa之表面壓縮應力。障壁層可定位於主體之內表面上，以使得含在玻璃容器中之組成物不接觸主體之內表面。光滑塗層可定位在主體之外表面之至少一部分周圍。主體之具有光滑塗層之外表面可具有小於或等於0.7之摩擦係數。
在另一實施例中，玻璃容器可包括主體，該主體具有內表面、外表面及壁厚度，該壁厚度自外表面延伸至內表面。主體可由玻璃組成物形成，該玻璃組成物不含以下組成成分：該等組成成分形成物種，該物種在對應於約200泊至約100千泊之範圍中的黏度之溫度下顯著揮發。壓縮應力層可自主體之外表面延伸至壁厚度中。壓縮應力層可具有大於或等於150MPa之表面壓縮應力。光滑塗層可定位在主體之外表面之至少一部分周圍。主體之具有光滑塗層之外表面可具有小於或等於0.7之摩擦係數。
在另一實施例中，玻璃容器可包括主體，該主體具有內表面、外表面及壁厚度，該壁厚度在外表面與內表面之間延伸。至少主體之內表面可具有小於或等於10之脫層因數。 主體可由根據ASTM標準E438-92之I型B級玻璃在緩和玻璃中之揮發性物種的蒸發的處理條件下形成。壓縮應力層可自主體之外表面延伸至壁厚度中。壓縮應力層可具有大於或等於150MPa之表面壓縮應力。光滑塗層可定位在主體之外表面之至少一部分周圍。主體之具有光滑塗層之外表面可具有小於或等於0.7之摩擦係數。
將在隨後之詳細描述中闡述本文中所描述之玻璃容器之實施例之額外特徵及優點，並且對於熟習此項技術者而言，額外之特徵及優點將部分地自描述中顯而易見或藉由實踐本文(包括隨後的實施方式、申請專利範圍及隨附圖式)中所描述之實施例來認識到。
應理解，前文一般描述及下文詳細描述兩者皆描述各種實施例，且前文一般描述及下文詳細描述意在提供用於理解所主張標的之性質與特性的概述或框架。包括隨附圖式以提供各種實施例之進一步理解，且隨附圖式併入本說明書中且構成本說明書的一部分。圖式圖示本文中所描述之各種實施例，並且圖式與描述一起用以解釋所主張標的的原理和操作。
100‧‧‧玻璃容器
102‧‧‧主體
104‧‧‧內表面
106‧‧‧外表面
108‧‧‧內部體積
110‧‧‧壁部分
112‧‧‧底面部分
114‧‧‧根部部分
120‧‧‧內部區域
130‧‧‧表面區域
131‧‧‧障壁塗層
160‧‧‧光滑塗層
162‧‧‧外表面
164‧‧‧玻璃接觸表面
170‧‧‧聚合物層
174‧‧‧界面
180‧‧‧偶合劑層
190‧‧‧界面層
202‧‧‧壓縮應力層
204‧‧‧玻璃核心層
205a‧‧‧第一表面
205b‧‧‧第二表面
206a‧‧‧玻璃包覆層
206b‧‧‧玻璃包覆層
300‧‧‧測試架
310‧‧‧第一玻璃容器
312‧‧‧第一夾具
314‧‧‧第一固定臂
316‧‧‧第一底座
320‧‧‧第二玻璃容器
322‧‧‧第二夾具
324‧‧‧第二固定臂
326‧‧‧第二底座
330‧‧‧接觸點
400‧‧‧裝置
402‧‧‧玻璃樣本腔
404‧‧‧熔爐
406‧‧‧轉子流量計
408‧‧‧吸附劑阱
410‧‧‧空氣淨化氣體
440‧‧‧線
442‧‧‧線
500‧‧‧水平壓縮裝置
502a‧‧‧壓板
502b‧‧‧壓板
504‧‧‧機械負荷
506‧‧‧熔融玻璃包覆組成物
508‧‧‧熔融玻璃核心組成物
510‧‧‧溝槽
512‧‧‧溝槽
516‧‧‧外形成表面
518‧‧‧外形成表面
520‧‧‧根部
522‧‧‧外形成表面
524‧‧‧外形成表面
A‧‧‧離散點
B‧‧‧離散點
C‧‧‧離散點
DLR1‧‧‧深度
DLR2‧‧‧深度
DoL‧‧‧層深度
DSR‧‧‧深度
MP‧‧‧中點線
TW‧‧‧壁厚度
TLR‧‧‧厚度
第1圖示意性圖示根據本文中描述之一或多個實施例之玻璃容器的橫截面；第2圖示意性圖示第1圖之玻璃容器之一部分側壁中之壓縮應力層；第3圖示意性圖示由層合玻璃形成之玻璃容器之一 部分側壁；第4圖示意性圖示用於測試玻璃容器之水平壓縮強度之水平壓縮裝置；第5圖示意性圖示根據本文中所圖示及描述之一或多個實施例，具有定位在玻璃容器之內表面之至少一部分上的障壁塗層的玻璃容器；第6圖示意性圖示具有持久層均勻性之玻璃容器之一部分側壁；第7圖示意性圖示具有持久表面均勻性之玻璃容器之一部分側壁；第8圖示意性圖示具有定位在玻璃容器之外表面上之光滑塗層的玻璃容器；第9圖示意性圖示用於決定兩個玻璃容器之間的摩擦係數之測試架；第10圖示意性圖示用於評估塗覆至玻璃容器之塗層的熱穩定性之裝置；第11圖以圖表形式圖示根據本文中所圖示及描述之一或多個實施例，用於在400nm至700nm之可見光譜中量測之經塗佈小瓶及未經塗佈小瓶之光透射率資料；第12A圖示意性圖示根據本文中所圖示及描述之一或多個實施例之定位在玻璃容器的外表面上之韌性有機光滑塗層；第12B圖示意性圖示根據本文中所圖示及描述之一或多個實施例之定位在玻璃容器的外表面上之韌性有機光滑 塗層；第13圖示意性圖示可用於形成聚醯亞胺塗層之二胺單體的化學結構；第14圖示意性圖示可用於形成聚醯亞胺塗層之另一二胺單體的化學結構；第15圖示意性圖示可用作塗覆至玻璃容器之聚醯亞胺塗層之一些單體的化學結構；第16圖以圖表形式圖示組成物及溫度對IB型玻璃及無硼玻璃之揮發的影響；第17圖示意性圖示根據本文中所圖示及描述之一或多個實施例之矽烷結合至基板的反應步驟；第18圖示意性圖示根據本文中所圖示及描述之一或多個實施例之聚醯亞胺結合至矽烷的反應步驟；第19圖以圖表形式圖示根據本文中所圖示及描述之一或多個實施例，小瓶之作為水平壓縮測試中之施加負荷之函數的破壞概率；第20圖含有根據本文中所圖示及描述之一或多個實施例，報告IB型玻璃小瓶及由參考玻璃組成物形成之小瓶之負荷及量測之摩擦係數的表，該等小瓶經離子交換且塗佈；第21圖以圖表形式圖示根據本文中所圖示及描述之一或多個實施例，由參考玻璃組成物在原有狀態、在經離子交換狀態(未塗佈)、在經離子交換狀態(塗佈且磨損)、在經離子交換狀態(未塗佈但磨損)下形成之管及由IB型玻璃在原有狀態及經離子交換狀態下形成之管的作為四點彎曲 中施加之應力之函數的破壞概率；第22圖示意性圖示根據本文中所圖示及描述之一或多個實施例之用於APS/Novastrat® 800塗層的氣相層析-質譜儀輸出資料；第23圖以圖表形式圖示根據本文中所圖示及描述之一或多個實施例之用於DC806A塗層的氣相層析-質譜儀輸出資料；第24圖為根據本文中所圖示及描述之一或多個實施例，報告在凍幹狀態下測試之不同光滑塗層組成物的表；第25圖為根據本文中所圖示及描述之一或多個實施例，報告在瓶對瓶架中測試之裸玻璃小瓶及具有矽氧樹脂塗層之小瓶的摩擦係數的圖表；第26圖為根據本文中所圖示及描述之一或多個實施例，報告在瓶對瓶架中塗佈有APS/PMDA-ODA(聚(4,4'-氧二亞苯基-苯均四醯亞胺)聚醯亞胺)塗層且在不同之施加負荷下多次磨損之小瓶的摩擦係數的圖表；第27圖為根據本文中所圖示及描述之一或多個實施例，報告在瓶對瓶架中塗佈有APS塗層且在不同之施加負荷下多次磨損之小瓶的摩擦係數的圖表；第28圖為根據本文中所圖示及描述之一或多個實施例，報告瓶對瓶架中在小瓶暴露至300℃達12小時後塗佈有APS/PMDA-ODA(聚(4,4'-氧二亞苯基-苯均四醯亞胺)聚醯亞胺)塗層且在不同之施加負荷下多次磨損之小瓶的摩擦係數的圖表； 第29圖為根據本文中所圖示及描述之一或多個實施例，報告瓶對瓶架中在小瓶暴露至300℃達12小時後塗佈有APS塗層且在不同之施加負荷下多次磨損之小瓶的摩擦係數的圖表；第30圖為根據本文中所圖示及描述之一或多個實施例，報告瓶對瓶架中塗佈有PMDA-ODA(聚(4,4'-氧二亞苯基-苯均四醯亞胺)聚醯亞胺)塗層且在不同之施加負荷下多次磨損之IB型小瓶的摩擦係數的圖表；第31圖以圖表形式圖示根據本文中所圖示及描述之一或多個實施例，APS/Novastrat® 800塗佈小瓶在凍幹之前及之後的摩擦係數；第32圖以圖表形式圖示根據本文中所圖示及描述之一或多個實施例，APS/Novastrat® 800塗佈小瓶在高壓滅菌之前及之後的摩擦係數；第33圖以圖表形式圖示暴露至不同溫度條件之經塗佈玻璃容器及未經塗佈玻璃容器之摩擦係數；第34圖以圖表形式圖示根據本文中所圖示及描述之一或多個實施例，小瓶之作為水平壓縮測試中之施加負荷之函數的破壞概率；第35圖為圖示摩擦係數隨著光滑塗層之偶合劑之組成物的變化之改變的表，該光滑塗層塗覆至本文所描述之玻璃容器；第36圖以圖表形式圖示經塗佈玻璃容器在去熱解之前及之後的摩擦係數、施加力及摩擦力； 第37圖以圖表形式圖示根據本文中所圖示及描述之一或多個實施例，經塗佈玻璃容器在去熱解之前及之後的摩擦係數、施加力及摩擦力；第38圖以圖表形式圖示根據本文中所圖示及描述之一或多個實施例，小瓶之作為水平壓縮測試中之施加負荷之函數的破壞概率；第39圖以圖表形式圖示根據本文中所圖示及描述之一或多個實施例，經塗佈玻璃容器在去熱解之前及之後的摩擦係數、施加力及摩擦力；第40圖以圖表形式圖示針對不同去熱解條件之經塗佈玻璃容器之摩擦係數、施加力及摩擦力；第41圖以圖表形式圖示根據本文中所圖示及描述之一或多個實施例，根據本文中所圖示及描述之一或多個實施例，在改變熱處理時間之後的摩擦係數；第42圖以圖表形式圖示根據本文中所圖示及描述之一或多個實施例，在400nm至700nm之可見光譜中量測之經塗佈小瓶及未經塗佈小瓶之光透射率資料；第43圖以圖表形式圖示根據本文中所圖示及描述之一或多個實施例，經塗佈玻璃容器在去熱解之前及之後的摩擦係數、施加力及摩擦力；第44圖以圖表形式圖示根據本文中所圖示及描述之一或多個實施例，小瓶之作為水平壓縮測試中之施加負荷之函數的破壞概率；第45圖為根據本文中所圖示及描述之一或多個實施 例之塗層的顯微圖；第46圖為根據本文中所圖示及描述之一或多個實施例之塗層的顯微圖；第47圖為根據本文中所圖示及描述之一或多個實施例之塗層的顯微圖；第48圖以圖表形式圖示比較實例之塗佈狀態小瓶之作為施加刮痕的長度(x坐標)之函數的摩擦係數、刮痕深度、施加之法線力及摩擦力(y坐標)；第49圖以圖表形式圖示比較實例之熱處理小瓶之作為施加刮痕的長度(x坐標)之函數的摩擦係數、刮痕深度、施加之法線力及摩擦力(y坐標)；第50圖以圖表形式圖示比較實例之塗佈狀態小瓶之作為施加刮痕的長度(x坐標)之函數的摩擦係數、刮痕深度、施加之法線力及摩擦力(y坐標)；第51圖以圖表形式圖示比較實例之熱處理小瓶之作為施加刮痕的長度(x坐標)之函數的摩擦係數、刮痕深度、施加之法線力及摩擦力(y坐標)；第52圖以圖表形式圖示在塗佈狀態條件下的具有助黏劑層之小瓶之作為施加刮痕的長度(x坐標)之函數的摩擦係數、刮痕深度、施加之法線力及摩擦力(y坐標)；第53圖以圖表形式圖示在塗佈狀態條件下的具有助黏劑層之小瓶之作為施加刮痕的長度(x坐標)之函數的摩擦係數、刮痕深度、施加之法線力及摩擦力(y坐標)；第54圖以圖表形式圖示在去熱解之後具有助黏劑層 之小瓶之作為施加刮痕的長度(x坐標)之函數的摩擦係數、刮痕深度、施加之法線力及摩擦力(y坐標)；第55圖以圖表形式圖示在去熱解之後具有助黏劑層之小瓶之作為施加刮痕的長度(x坐標)之函數的摩擦係數、刮痕深度、施加之法線力及摩擦力(y坐標)；第56圖以圖表形式圖示根據本文中所圖示及描述之一或多個實施例，具有助黏劑層之小瓶之作為水平壓縮測試中的施加負荷之函數的破壞概率；及第57圖以圖表形式圖示根據本文中所圖示及描述之一或多個實施例，具有助黏劑層之小瓶之作為水平壓縮測試中的施加負荷之函數的破壞概率。
現在將詳細參看玻璃容器之實施例，在隨附圖式中圖示該等實施例的實例。在可能的情況下，將在整個圖式中使用相同元件符號指示相同或相似部分。本文中描述之玻璃容器抗脫層、具有改善之強度及提高之抗損壞性。在一個特定實施例中，具有脫層抗性、改善之強度及提高之抗損壞性的玻璃容器可包括主體，該主體具有內表面、外表面及壁厚度，該壁厚度在外表面與內表面之間延伸。至少主體之內表面可具有小於或等於10之脫層因數。主體亦可具有壓縮應力層，該壓縮應力層自主體之外表面延伸至壁厚度中。壓縮應力層可具有大於或等於150MPa之表面壓縮應力。光滑塗層可定位在主體之外表面之至少一部分周圍，以使得主體之具有光滑塗層之外表面具有小於或等於0.7之摩擦係數。在本文中將 具體參看附加圖式更詳細描述具有脫層抗性、改善之強度及提高之抗損壞性的玻璃容器。
在本文中描述之玻璃組成物之實施例中，除非另外指明，組成成分(例如，SiO2、Al2O3、B2O3等)之濃度在氧化物基礎上以莫耳百分比(莫耳%)為單位指定。
術語「實質上不含」在用於描述玻璃組成物中之特定組成成分之濃度及/或缺乏時意指組成成分並非有意添加至玻璃組成物。然而，玻璃組成物可含有量小於0.1莫耳%之作為污染物或雜質的微量組成成分。
如本文中所使用，術語「化學耐久性」係指玻璃組成物在暴露至指定化學條件時抵抗降解的能力。具體言之，本文中描述之玻璃組成物之化學耐久性可根據三個已建材料測試標準評估：日期為2001年3月且題為「Testing of glass-Resistance to attack by a boiling aqueous solution of hydrochloric acid-Method of test and classification」之DIN12116、1991年題為「Glass--Resistance to attack by a boiling aqueous solution of mixed alkali--Method of test and classification」之ISO 695、1985年題為「Glass--Hydrolytic resistance of glass grains at 121 degrees C--Method of test and classification」之ISO 720及1985年之「Glass--Hydrolytic resistance of glass grains at 98 degrees C--Method of test and classification」之ISO 719。本文中進一步詳細描述每一標準及每一標準內之等級。或者，玻璃組成物之化學耐久性可根據題為「Surface Glass Test」之USP<660>及/或題為「Glass Containers For Pharmaceutical Use」之評估玻璃表面之耐久性之歐洲藥典3.2.1評估。
如本文中所使用，術語「應變點」及「T應變」係指玻璃黏度為3×1014泊之溫度。
如本文中所使用，術語「軟化點」係指玻璃組成物之黏度為1×107.6泊之溫度。
用於儲存藥物及/或其他消費產品之習知玻璃容器在填充、封裝及/或運送期間可經受損壞。該損壞可為表面刮傷、磨損及/或刮痕之形式，當該表面刮傷、磨損及/或刮痕足夠深時，該損壞可導致玻璃容器之貫穿性裂縫或甚至完全破壞，從而破壞玻璃封裝之內容物。
另外，一些習知玻璃容器可能易脫層，特別是在玻璃容器由鹼金屬硼矽酸鹽玻璃形成時。脫層係指玻璃顆粒在一系列浸漬、腐蝕及/或風化反應後自玻璃表面釋放的現象。大體而言，玻璃顆粒為玻璃之富二氧化矽薄片，該等薄片源於封裝之內表面，是由於將改質劑離子浸漬至含在封裝內之溶液中。該等薄片通常可為約1nm至約2微米(μm)厚及大於約50μm寬。由於該等薄片主要包含二氧化矽，故薄片在自玻璃表面釋放後通常不會進一步降解。
迄今為止，假設脫層係由於當玻璃暴露至用於將玻璃重新成形為容器形狀之高溫時，發生在鹼金屬硼矽酸鹽玻璃中之相分離。
然而，現在咸信，富二氧化矽玻璃薄片自玻璃容器之內表面的脫層係由於緊接成形後玻璃容器的組成特徵。具體 言之，鹼金屬硼矽酸鹽玻璃之高二氧化矽含量使得玻璃具有相對高之熔化溫度及成形溫度。然而，玻璃組成物中之鹼金屬成分及硼酸鹽組分在低得多的溫度下熔化及/或蒸發。詳言之，玻璃中之硼酸鹽物種為高揮發性的且在形成及重新成形玻璃所需之高溫下自玻璃表面蒸發。
具體言之，玻璃原料在高溫下且在直接火焰中重新成形為玻璃容器。較高設備速度所需之高溫導致更多揮發性硼酸鹽物種自玻璃之部分表面蒸發。當該蒸發在玻璃容器之內部體積內發生時，揮發之硼酸鹽物種重新沉積在玻璃容器表面之其他區域中，從而導致玻璃容器表面中之組成不均勻性，特別是相對於玻璃容器之內部的近表面區域(亦即，玻璃容器之內表面處之或直接鄰近玻璃容器之內表面之彼等區域)。舉例而言，當封閉玻璃管之一個末端以形成容器之底部或底面時，硼酸鹽物種可自管之底部部分蒸發且重新沉積在管之其他位置。材料自容器之根部及底面部分之蒸發在容器之該等區域經受更全面的重新成形且因此暴露至最高溫度時特別明顯。作為結果，容器之暴露至較高溫度之區域可具有富二氧化矽表面。容器之易受硼沉積影響之其他區域可在表面處具有富硼層。易受硼沉積影響之區域可導致玻璃表面上之硼結合，該等區域處於大於玻璃組成物之退火點但小於玻璃在重新成形期間經受之最高溫度的溫度下。含在容器中之溶液可自富硼層浸出硼。當富硼層自玻璃浸出時，高二氧化矽玻璃網路(凝膠)保持在水合作用期間膨脹且應變且最終自表面剝離。
本文中描述之玻璃容器緩和上述問題。具體言之，玻璃容器具有脫層抗性、改善之強度及提高之抗損壞性。本文中將進一步詳細描述每一效能屬性及用於實現效能屬性之方法。
現參看第1圖及第2圖，以橫截面示意性圖示用於儲存藥物配方之玻璃容器100的一個實施例。玻璃容器100大體上包含主體102。主體102在內表面104與外表面106之間延伸且主體102大體上封閉內部體積108。在第1圖中所示之玻璃容器100的實施例中，主體102大體上包含壁部分110及底面部分112。壁部分110經由根部部分114過渡至底面部分112。主體102具有在內表面104至外表面106之間延伸的壁厚度TW，如第1圖中所示。
雖然第1圖中圖示玻璃容器100具有特定形狀形式(亦即，小瓶)，但應理解，玻璃容器100可具有其他形狀形式，包括(但不限於)Vacutainers®、濾筒、注射器、安瓿、瓶、燒瓶、管形瓶、管、燒杯等。進一步，應理解，本文中描述之玻璃容器可用於各種應用，包括(但不限於)用作藥物封裝、飲料容器等。
強度
仍參看第1圖及第2圖，在本文中描述之一些實施例中，主體102包括壓縮應力層202，該壓縮應力層202自至少主體102之外表面106延伸至壁厚度TW中至距主體102之外表面106層深度DOL。壓縮應力層202大體上提高玻璃容器100之強度且壓縮應力層202亦改善玻璃容器之損壞容忍 度。具體言之，在沒有破壞之情況下，具有壓縮應力層202之玻璃容器相比於非強化玻璃容器大體上能夠經受較大表面損壞程度，諸如，刮痕、切屑等，原因在於壓縮應力層202緩和裂縫自壓縮應力層202中之表面損壞傳播。
在本文中描述之實施例中，壓縮應力層之層深度可大於或等於約3μm。在一些實施例中，層深度可大於10μm或甚至大於20μm。在一些實施例中，層深度可大於或等於約25μm或甚至大於或等於約30μm。舉例而言，在一些實施例中，層深度可大於或等於約25μm且高達約150μm。在一些其他實施例中，層深度可大於或等於約30μm且小於或等於約150μm。在其他實施例中，層深度可大於或等於約30μm且小於或等於約80μm。在一些其他實施例中，層深度可大於或等於約35μm且小於或等於約50μm。
壓縮應力層202大體上具有大於或等於150MPa之表面壓縮應力(亦即在外表面106處量測之壓縮應力)。在一些實施例中，表面壓縮應力可大於或等於200MPa或甚至大於或等於250MPa。在一些實施例中，表面壓縮應力可大於或等於300MPa或甚至大於或等於350MPa。例如，在一些實施例中，表面壓縮應力可大於或等於約300MPa且小於或等於約750MPa。在一些其他實施例中，表面壓縮應力可大於或等於約400MPa且小於或等於約700MPa。在其他實施例中，表面壓縮應力可大於或等於約500MPa且小於或等於約650MPa。離子交換玻璃物件中之應力可用FSM(基本應力計，Fundamental Stress Meter)儀器量測。該儀器將光耦合至雙折 射玻璃表面中且耦合出該玻璃表面。量測之雙折射率則經由材料常數、應力光學係數或應力光彈性係數(SOC或PEC)與應力相關。獲得兩個參數：最大表面壓縮應力(CS)及交換層深度(DOL)。或者，壓縮應力及層深度可使用折射近場應力量測技術量測。
雖然在本文中將壓縮應力層202圖示且描述為自外表面106延伸至主體102之厚度TW中，但應理解，在一些實施例中，主體102可進一步包含第二壓縮應力層，該第二壓縮應力層自內表面104延伸至主體102之厚度TW中。在該實施例中，第二壓縮應力層之層深度及表面壓縮應力可關於主體102之厚度TW之中心線反映壓縮應力層202的彼等層深度及表面壓縮應力。
若干不同技術可用於在玻璃容器100之主體102中形成壓縮應力層202。舉例而言，在主體102由離子交換玻璃形成之實施例中，壓縮應力層202可藉由離子交換形成於主體102中。在該等實施例中，壓縮應力層202藉由以下操作形成：將玻璃容器置放於熔融鹽浴中，以促進熔融鹽中之相對大離子與玻璃中之相對較小離子的交換。若干不同交換反應可用於實現壓縮應力層202。在一個實施例中，浴可含有熔融KNO3鹽，而形成玻璃容器100之玻璃含有鋰離子及/或鈉離子。在該實施例中，浴中之鉀離子與玻璃中之相對較小的鋰離子及/或鈉離子交換，從而形成壓縮應力層202。在另一實施例中，浴可含有NaNO3鹽且形成玻璃容器100之玻璃含有鋰離子。在該實施例中，浴中之鈉離子與玻璃中之相對較小 的鋰離子交換，從而形成壓縮應力層202。
在一個特定實施例中，壓縮應力層202可藉由將玻璃容器浸沒在100%之KNO3熔融鹽浴中，或在替代案中，將玻璃容器浸沒在KNO3與NaNO3之混合物中而形成。舉例而言，在一個實施例中，熔融鹽浴可包括KNO3與高達約10%之NaNO3。在該實施例中，形成容器之玻璃可包括鈉離子及/或鋰離子。熔融鹽浴之溫度可大於或等於350℃且小於或等於500℃。在一些實施例中，熔融鹽浴之溫度可大於或等於400℃且小於或等於500℃。在其他實施例中，熔融鹽浴之溫度可大於或等於450℃且小於或等於475℃。玻璃容器可保持在熔融鹽浴中達一時間週期，該時間週期足以促進鹽浴中之相對大離子與玻璃中之相對較小離子交換，且從而實現所需之表面壓縮應力及層深度。舉例而言，玻璃可保持在熔融鹽浴中達一段時間，該時間段大於或等於0.05小時至小於或等於約20小時，以便實現所需層深度及表面壓縮應力。在一些實施例中，玻璃容器可保持在熔融鹽浴中大於或等於4小時且小於或等於約12小時。在其他實施例中，玻璃容器可保持在熔融鹽浴中大於或等於約5小時且小於或等於約8小時。在一個示例性實施例中，玻璃容器可在包含100%之KNO3之熔融鹽浴中於大於或等於約400℃且小於或等於約500℃之溫度下離子交換達大於或等於約5小時且小於或等於約8小時之時間週期。
通常，離子交換製程在大於150℃低於玻璃之應變點(T應變)之溫度下執行，以便最小化歸因於高溫之應力鬆弛。 然而，在一些實施例中，壓縮應力層202在於大於玻璃之應變點之溫度下的熔融鹽浴中形成。該類型之離子交換強化在本文中被稱為「高溫離子交換強化」。在高溫離子交換強化中，玻璃中之相對較小離子與來自熔融鹽浴之相對較大離子交換，如上所述。當在高於應變點之溫度下交換相對較小離子與相對較大離子時，釋放或「鬆弛」合應力。然而，用較大離子替代玻璃中之較小離子在玻璃中形成表面層，該表面層具有比玻璃之剩餘部分低之熱膨脹係數(CTE)。當玻璃冷卻時，玻璃表面與玻璃之剩餘部分之間的CTE差形成壓縮應力層202。該高溫離子交換技術尤其適用於強化玻璃物件，諸如，玻璃容器，該等玻璃物件具有複雜幾何形狀且該高溫離子交換技術通常相對於典型離子交換製程降低強化製程時間且亦使得較大層深度成為可能。
仍參看第1圖及第2圖，在替代實施例中，壓縮應力層202可藉由熱回火引入玻璃容器100之主體102中。壓縮應力層經由熱回火藉由加熱玻璃容器且相對於玻璃主要部分差分地冷卻玻璃表面得以形成。具體言之，快速冷卻之玻璃具有比更慢冷卻之玻璃大的莫耳體積(或低密度)。因此，若玻璃表面有意快速冷卻，則玻璃表面將具有較大體積，且當熱必須經由表面逸出主要部分時，玻璃之內部(亦即，玻璃之外表面下方之剩餘部分)將必然以較慢速率冷卻。藉由自外表面106至主體102之壁厚度TW形成莫耳體積(或熱歷程/密度)之連續梯度，產生具有拋物線應力分佈(亦即，壓縮應力隨距主體102之外表面106的距離增加而拋物線地降 低)之壓縮應力層202。熱回火製程大體上比離子交換製程更快且更便宜。然而，歸因於熱回火製程之表面壓縮應力大體上低於歸因於離子交換工藝之表面壓縮應力。在熱回火玻璃容器之實施例中，合成壓縮應力層自外表面106延伸至層深度DOL，該DOL高達玻璃容器之壁厚度TW之22%。舉例而言，在一些實施例中，DOL可為壁厚度TW之約5%至約22%，或甚至DOL可為壁厚度TW之約10%至約22%。
在典型熱回火製程中，玻璃容器100首先經加熱至玻璃容器100之軟化點，且此後，用流體(諸如，用氣噴嘴等)將主體102之外表面106快速冷卻至軟化點以下，以在主體102之外表面106與主體102之剩餘部分之間形成溫差，如上所述。主體之外表面106與剩餘部分之間的溫差產生壓縮應力層202，該壓縮應力層202自外表面106延伸至主體102之壁厚度TW中。例如，玻璃可最初經加熱至高於玻璃之軟化點的50℃至150℃，且此後藉由將流體引入玻璃中而快速冷卻至室溫。流體可包括(但不限於)空氣、油或油基流體。
現參看第1圖至第3圖，在另一實施例中，玻璃容器100可由層合玻璃管形成，該層合玻璃管促進壓縮應力層202形成於至少主體102之外表面106中。層合玻璃大體上包含玻璃核心層204及至少一個玻璃包覆層206a。在第3圖中所示之玻璃容器100之實施例中，層合玻璃包括一對玻璃包覆層206a、206b。在該實施例中，玻璃核心層204大體上包含第一表面205a及與第一表面205a相對之第二表面205b。第一玻璃包覆層206a融合至玻璃核心層204之第一表面205a， 且第二玻璃包覆層206b融合至玻璃核心層204之第二表面205b。玻璃包覆層206a、玻璃包覆層206b在沒有安置在玻璃核心層204與玻璃包覆層206a、玻璃包覆層206b之間的任何額外材料(諸如，黏著劑、塗層等)的情況下融合至玻璃核心層204。
在第3圖中所示之實施例中，玻璃核心層204由具有平均核心熱膨脹係數CTE核心之第一玻璃組成物形成，且玻璃包覆層206a、玻璃包覆層206b由具有平均熱膨脹係數CTE包覆之第二不同玻璃組成物形成。在本文中描述之實施例中，CTE核心不等於CTE包覆，以使得壓縮應力層存在於核心層或包覆層中之至少一者中。在一些實施例中，CTE核心大於CTE包覆，此情況導致玻璃包覆層206a、玻璃包覆層206b在未經離子交換或熱回火的情況下經受壓縮應力。在一些其他實施例中，諸如，當層合玻璃包含單一核心層及單一包覆層時，CTE包覆可大於CTE核心，此情況導致玻璃核心層在未經離子交換或熱回火的情況下經受壓縮應力。
形成玻璃容器之層合玻璃管可如美國專利第4,023,953號中所述得而形成，該案以引用之方式併入本文中。在實施例中，形成玻璃核心層204之玻璃由具有平均熱膨脹係數CTE核心之玻璃組成物形成，該CTE核心大於玻璃包覆層206a、玻璃包覆層206b中之任一者之平均熱膨脹係數CTE包覆。當玻璃核心層204及玻璃包覆層206a、玻璃包覆層206b冷卻時，玻璃核心層204及玻璃包覆層206a、玻璃包覆層206b之平均熱膨脹係數之差導致壓縮應力層在玻璃包覆層 206a、玻璃包覆層206b中擴展。當層合玻璃用於形成容器時，該等壓縮應力層自玻璃容器100之外表面106延伸至壁厚度TW中且形成玻璃容器之內表面104至壁厚度TW中。在一些實施例中，壓縮應力層可自玻璃容器之主體之外表面延伸至壁厚度TW中至層深度，該層深度為約1μm至壁厚度TW之約90%。在一些其他實施例中，壓縮應力層可自玻璃容器之主體之外表面延伸至壁厚度TW中至層深度，該層深度為約1μm至壁厚度TW之約33%。在其他實施例中，壓縮應力層可自玻璃容器之主體之外表面延伸至壁厚度TW中至層深度，該層深度為約1μm至壁厚度TW之約10%。
在形成層合管之後，管可使用習知管轉換技術形成為容器形狀。
在玻璃容器由層合玻璃形成之一些實施例中，至少一個包覆層形成玻璃容器之主體之內表面，以使得至少一個玻璃包覆層直接接觸儲存於玻璃容器中之產品。在該等實施例中，至少一個包覆層可由抗脫層之玻璃組成物形成，如本文中進一步詳細描述。因此，應理解，至少一個包覆層可具有小於或等於10之脫層因數，如本文中進一步詳細描述。
在另一替代實施例中，玻璃容器可藉由塗覆塗層至玻璃主體而強化。舉例而言，無機材料(諸如，二氧化鈦)塗層可藉由煙灰沉積製程或藉由氣相沉積製程塗覆至玻璃主體之外表面的至少一部分。二氧化鈦塗層具有比沉積有二氧化鈦之玻璃低的熱膨脹係數。當塗層及玻璃冷卻時，二氧化鈦比玻璃縮減更少，因此，玻璃主體之表面承受張力。在該等 實施例中，應理解，表面壓縮應力及層深度自塗層表面，而非經塗佈之玻璃主體表面量測。雖然本文中已將無機塗層材料描述為包含二氧化鈦，但應理解，亦可考慮具有適合之低熱膨脹係數之其他無機塗層材料。在實施例中，無機塗層可具有相對於相同經塗佈容器小於0.7之摩擦係數。無機塗層亦可在大於或等於250℃之溫度下熱穩定，如本文中進一步描述。
在另一替代實施例中，玻璃主體可由具有高模數塗層之玻璃主體強化，該塗層具有等於或大於底層玻璃主體之熱膨脹係數。強化藉由彈性模數賦予抗損壞性之差實現，而熱膨脹之差賦予玻璃表面中之壓縮應力(平衡高模數塗層中之張力)。在該等實施例中，應理解，表面壓縮應力及層深度自塗層主體之表面，而非經塗佈玻璃主體之表面量測。高模數使得難以待引入刮痕及損壞，且底層壓縮層防止刮痕及缺陷傳播。證明該效應之示例性材料為33膨脹硼矽酸鹽玻璃上之藍寶石塗層或沉積在51膨脹硼矽酸鹽玻璃上之氧化鋯塗層。
基於前述，應理解，玻璃容器可包括壓縮應力層，該壓縮應力層自至少主體之外表面延伸至玻璃容器之壁厚度中。壓縮應力層改善玻璃容器相對於不包括壓縮應力層之玻璃容器的機械強度。壓縮應力層亦改善玻璃容器之損壞容忍度，以使得在沒有破壞的情況下，玻璃容器相對於不包括壓縮應力層之玻璃容器能夠經受更大表面損壞(亦即，延伸至玻璃容器之更深壁厚度中之刮痕、切屑等)。進一步地，亦 應理解，壓縮應力層可藉由離子交換、藉由熱回火、藉由用層合玻璃形成玻璃容器或藉由塗覆塗層至玻璃容器之主體得以形成於玻璃容器中。在一些實施例中，壓縮應力層可藉由該等技術之組合形成。
脫層抗性
本文中描述之玻璃容器100在長期暴露至儲存於容器中之某些化學組成物後亦抵抗脫層。如上所述，在延長暴露至溶液之後，脫層可導致將富二氧化矽玻璃薄片釋放至含在玻璃容器內之溶液中。因此，在特定條件下暴露至溶液之後，脫層抗性可以存在於含在玻璃容器內的溶液中的玻璃顆粒的數目為特徵。為評估玻璃容器之長期脫層抗性，使用加速脫層測試。測試可對離子交換玻璃容器及非離子交換玻璃容器兩者執行。測試可由以下步驟組成：在室溫下沖洗玻璃容器1分鐘；及在約320℃下去熱解容器1小時。此後，20mM之甘氨酸與pH為10之水的溶液置放在玻璃容器中填充達80%至90%，封閉玻璃容器，且玻璃容器快速加熱至100℃且玻璃容器接著在2大氣壓力下以1℃/分鐘之升溫速率自100℃加熱至121℃。玻璃容器及溶液在該溫度下保持60分鐘、以0.5℃/分鐘之速率冷卻至室溫，且重複加熱循環及保持。玻璃容器隨後加熱至50℃且保持十天或更多天用於高溫調節。加熱之後，玻璃容器自至少18"之距離下降至堅固表面(諸如，層合地磚底面)上以移除弱黏附至玻璃容器之內表面的任何薄片或顆粒。下降距離可適當縮放以防止較大尺寸之小瓶在衝擊時破裂。
此後，含在玻璃容器中之溶液經分析以決定每升溶液中存在之玻璃顆粒之數目。具體言之，來自玻璃容器之溶液直接傾倒至附接至真空吸引器之Millipore Isopore Membrane過濾器(保持在具有#AP1002500部分及#M000025A0部分之總成中的Millipore #ATTP02500)之中心上，以在10秒至15秒內經由過濾器抽出5mL溶液。此後，另一5mL水用作清洗液以自過濾介質移除緩衝殘留物。顆粒薄片接著藉由差分干涉對比顯微學(DIC)以反射模式計數，如根據光顯微學及數位成像之基本原理之「Differential interference contrast(DIC)microscopy and modulation contrast microscopy」中所述(紐約，Wiley-Liss，第153頁至第168頁)。視域設置為約1.5mm×1.5mm，且大於50μm之顆粒經手動計數。在影像之間無重疊的情況下，以3×3型樣對每一過濾膜之中心進行9次此量測。若分析過濾介質之較大面積，則結果可經標準化成等效面積(亦即，20.25mm2)。自光學顯微鏡收集之影像用影像分析程式(Media Cybernetic’s ImagePro Plus6.1版)檢查以量測及計數存在之玻璃薄片的數目。此舉如下實現：加亮影像內之所有特徵，該等特徵藉由簡單灰度分段而顯得比背景暗；隨後量測所有加亮特徵之長度、寬度、面積及周長，該等特徵具有大於25微米之長度；隨後自資料移除任何明顯非玻璃顆粒；隨後將量測資料輸出至試算表中。隨後，抽取且量測長度大於25微米且比背景亮之所有特徵；量測具有大於25微米之長度之所有加亮特徵的長度、寬度、面積、周長及X-Y縱橫比；自資料移除任何明顯非玻璃顆粒；及量 測資料經添加至試算表中之先前輸出之資料。試算表內之資料隨後以特徵長度分類且根據大小分成區間。報告之結果係針對長度大於50微米之特徵的。該等群組中之每一者隨後經計數，且計數經報告用於樣本中之每一者。
測試最低100mL之溶液。如此，來自複數個小容器之溶液可合併以使溶液之總量為100mL。對於具有大於10mL之體積之容器，在相同處理條件下，針對由相同玻璃組成物形成之10個容器的試驗重複測試，且針對10個容器對顆粒計數之結果求平均以決定平均顆粒計數。或者，在小容器情況下，針對10個小瓶的試驗重複測試，該等小瓶中之每一者經分析，且對在多次試驗中之顆粒計數求平均以決定每試驗之平均顆粒計數。對多個容器之顆粒計數求平均解釋各個容器之脫層行為之潛在變化。表1概述用於測試之容器之樣本體積及數目的一些非限制性實例：
應理解，上述測試用於識別歸因於脫層自玻璃容器之一或多個內壁流出之顆粒，且不識別由於成形製程而存在於容器中之雜質顆粒或由於溶液與玻璃之間的反應自封閉在玻璃容器中之溶液沉澱出的顆粒。具體言之，基於顆粒之縱橫比(亦即，顆粒之最大長度與顆粒之厚度之比，或最大尺寸與最小尺寸之比)，脫層顆粒可不同於雜質玻璃顆粒。脫層產生顆粒薄片或片晶，該等顆粒薄片或片晶為不規則形狀且通常具有大於約50μm但常常大於約200μm之最大長度。薄片之厚度通常大於約100nm且可大到約1μm。因此，薄片之最小縱橫比通常大於約50。縱橫比可大於約100，且有時大於約1000。相反，雜質玻璃顆粒將大體上具有低縱橫比，該縱橫比小於約3。因此，基於在用顯微鏡觀察期間之縱橫比，由脫層產生之顆粒可不同於雜質顆粒。其他常見非玻璃顆粒包括毛髮、纖維、金屬顆粒、塑膠顆粒及其他污染物且因此在檢查期間排除。結果之確認可藉由評估測試之容器之內部區域得以實現。在觀察時，提出表皮腐蝕/凹陷/薄片移除之證據，如「Nondestructive Detection of Glass Vial Inner Surface Morphology with Differential Interference Contrast Microscopy」(藥物科學雜誌101(4)2012年第1378頁至第1384頁)所述。
在加速脫層測試之後存在之顆粒的數目可用於建立測試之小瓶組的脫層因數。玻璃容器之試驗被視為具有脫層因數10，該等試驗在加速脫層測試後求出每試驗小於10個玻璃顆粒之平均，該等玻璃顆粒具有約50μm之最小長度及大於約50之縱橫比。玻璃容器之試驗被視為具有脫層因數9，該等試驗在加速脫層測試後求出每試驗小於9個玻璃顆粒之平均，該等玻璃顆粒具有約50μm之最小長度及大於約50之縱橫比。玻璃容器之試驗被視為具有脫層因數8，該等試驗在加速脫層測試後求出每試驗小於8個玻璃顆粒之平均，該等玻璃顆粒具有約50μm之最小長度及大於約50之縱橫比。玻璃容器之試驗被視為具有脫層因數7，該等試驗在加速脫層測試後求出每試驗小於7個玻璃顆粒之平均，該等玻璃顆粒具有約50μm之最小長度及大於約50之縱橫比。玻璃容器之試驗被視為具有脫層因數6，該等試驗在加速脫層測試後求出每試驗小於6個玻璃顆粒之平均，該等玻璃顆粒具有約50μm之最小長度及大於約50之縱橫比。玻璃容器之試驗被視為具有脫層因數5，該等試驗在加速脫層測試後求出每試驗小於5個玻璃顆粒之平均，該等玻璃顆粒具有約50μm之最小長度及大於約50之縱橫比。玻璃容器之試驗被視為具有脫層因數4，該等試驗在加速脫層測試後求出每試驗小於4個玻璃顆粒之平均，該等玻璃顆粒具有約50μm之最小長度及大於約50之縱橫比。玻璃容器之試驗被視為具有脫層因數3，該等試驗 在加速脫層測試後求出每試驗小於3個玻璃顆粒之平均，該等玻璃顆粒具有約50μm之最小長度及大於約50之縱橫比。玻璃容器之試驗被視為具有脫層因數2，該等試驗在加速脫層測試後求出每試驗小於2個玻璃顆粒之平均，該等玻璃顆粒具有約50μm之最小長度及大於約50之縱橫比。玻璃容器之試驗被視為具有脫層因數1，該等試驗在加速脫層測試後求出每試驗小於1個玻璃顆粒之平均，該等玻璃顆粒具有約50μm之最小長度及大於約50之縱橫比。玻璃容器之試驗被視為具有脫層因數0，該等試驗在加速脫層測試後求出每試驗小於0個玻璃顆粒之平均，該等玻璃顆粒具有約50μm之最小長度及大於約50之縱橫比。因此，應理解，脫層因數越低，玻璃容器之脫層抗性越好。在本文中描述之一些實施例中，玻璃容器之主體之至少內表面具有10或更低之脫層因數(例如，脫層因數3、脫層因數2、脫層因數1或脫層因數0)。在一些其他實施例中，玻璃容器之整個主體(包括內表面及外表面兩者)具有10或更低之脫層因數(例如，脫層因數3、脫層因數2、脫層因數1或脫層因數0)。
在一些實施例中，具有10或更低之脫層因數之玻璃容器可藉由以下操作獲得：形成在主體之內表面上具有障壁塗層的玻璃容器，以使得障壁塗層為主體之內表面。參看第5圖，例如，示意性圖示具有沉積在主體102之至少一部分內表面104上之障壁塗層131的玻璃容器100。障壁塗層131不脫層或以其他方式降解且防止儲存在玻璃容器100之內部體積108中之產品(諸如，藥物組成物等)接觸主體102之 內表面104，從而緩和玻璃容器之脫層。障壁塗層大體上對水溶液為非滲透的、不溶於水且水解穩定。
在本文中描述之一些實施例中，障壁塗層131為永久地黏附至玻璃容器100之內表面104的韌性無機塗層。障壁塗層131可為金屬氮化物塗層、金屬氧化物塗層、金屬硫化物硫化物塗層、SiO2、類金剛石碳化物、石墨烯或碳化物塗層。舉例而言，在一些實施例中，韌性無機塗層可由至少一種金屬氧化物(諸如，Al2O3、TiO2、ZrO2、SnO、SiO2、Ta2O5、Nb2O5、Cr2O3、V2O5、ZnO或HfO2)形成。在一些其他實施例中，韌性無機塗層可由兩種或兩種以上金屬氧化物(諸如，Al2O3、TiO2、ZrO2、SnO、SiO2、Ta2O5、Nb2O5、Cr2O3、V2O5、ZnO或HfO2)之組合形成。在一些其他實施例中，障壁塗層131可包含沉積在玻璃容器之內表面上之第一金屬氧化物之第一層及沉積在第一層上方之第二金屬氧化物之第二層。在該等實施例中，障壁塗層131可使用各種沉積技術(包括(但不限於)原子層沉積、化學氣相沉積、物理氣相沉積等)沉積。或者，障壁塗層可用一或多種液體塗覆技術(諸如，浸塗、噴塗或電漿塗佈)塗覆。噴塗技術可包括高容低壓(HVLP)噴塗及低容低壓(LVLP)噴塗、靜電噴塗、無氣噴塗、具有無氣噴塗之超音波霧化、氣溶膠噴射塗佈及噴墨塗佈。電漿塗佈技術可包括標準一次電漿塗佈與二次電漿塗佈、微波輔助電漿塗佈及大氣電漿塗佈等。
雖然本文中已描述障壁塗層131之實施例包含無機材料，但應理解，在一些實施例中，障壁塗層131可為有機 塗層。舉例而言，在障壁塗層131為有機塗層之實施例中，有機塗層可包含：聚苯並咪唑；聚雙噁唑；聚雙噻唑；聚醚醯亞胺；聚喹啉；聚噻吩；聚苯硫醚；聚碸；聚氰酸酯；聚對二甲苯；氟化聚烯烴，包括聚四氟乙烯及其他含氟聚烯烴；全氟烷氧基聚合物；聚醚醚酮(PEEK)；聚醯胺；環氧樹脂；多酚；聚氨酯丙烯酸酯；環烯烴共聚物及環烯聚合物；聚烯烴，包括聚乙烯、氧化聚乙烯、聚丙烯、聚乙烯/丙烯共聚物、聚乙烯/乙酸乙烯酯共聚物、聚氯乙烯、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚苯乙烯、聚異戊二烯、聚酸酐、聚順丁烯二酐、聚甲醛、聚縮醛及聚縮醛共聚物；二甲基或二苯基或甲基/苯基聚矽氧烷混合物；全氟化矽氧烷及其他經取代矽氧烷；聚醯亞胺；聚碳酸酯；聚酯；石蠟及蠟；或上述各者之各種組合。在一些實施例中，用作障壁塗層131之有機塗層可包括二甲基、二苯基或甲基/苯基聚矽氧烷混合物。或者，有機塗層可為聚碳酸酯或聚對苯二甲酸乙二酯。在一些實施例中，障壁塗層131可由層狀結構形成，該結構包含上述聚合物及/或共聚物中之一或多者。
障壁塗層可連同由任何玻璃組成物形成之玻璃容器使用。然而，障壁塗層特別適用於與由玻璃組成物形成之玻璃容器一起使用，在成形為玻璃容器後，該等玻璃組成物不展現出脫層抗性。該等玻璃組成物可包括(但不限於)根據題為「Standard Specification for Glasses in Laboratory Apparatus」之ASTM標準E438-92(2011)指定為I型A級玻璃組成物、I型B級玻璃組成物及II型玻璃組成物的彼等 玻璃組成物。在ASTM標準下，該等玻璃組成物可具有必要化學耐久性，但不展現出脫層抗性。舉例而言，下表2列出不展現出脫層抗性之I型B級玻璃組成物之許多非限制性實例。如此，如本文中所述，障壁塗層可用於由該等組成物形成之容器之至少內表面上，以使得容器具有10或更低之脫層因數。
在一些替代實施例中，具有10或更低之脫層因數之玻璃容器藉由以下操作實現：成形玻璃容器，以使得玻璃容器具有均勻組成特徵，此舉進而降低玻璃容器對脫層之易感性，如2013年6月7日申請之題為「Delamination Resistant Glass Containers」之且讓與Corning Incorporated之未決美國專利申請案第13/912,457號中所述。具體言之，鹹信玻璃容器之脫層可能至少部分歸因於玻璃容器之至少內部中之玻璃組成物中的不均勻性，如上所述。最小化該等組成不均勻性產生具有10或更低之脫層因數的玻璃容器。
現參看第1圖及第6圖，在一些實施例中，本文中描述之玻璃容器在壁部分、根部部分及底面部分中之每一者中具有穿過玻璃主體102之厚度的均勻組成物，以使得主體之至少內表面104具有10或更低之脫層因數。具體言之，第6圖示意性圖示玻璃容器100之壁部分110的部分橫截面。玻璃容器100之玻璃主體102具有內部區域120，該內部區域120自玻璃容器100之內表面104下方約10nm(在第2圖中圖示為DLR1)延伸至壁部分110之厚度中至距玻璃容器之內表面104深度DLR2。歸因於實驗假影，自內表面104下方約10nm延伸之內部區域不同於表面下方最初5nm至10nm之組成物。在開始動態二次離子質譜(DSIMS)分析以決定玻璃之組成物時，由於以下三點，最初5nm至10nm不包括在分析中：由於外來碳而來自表面之離子的可變濺鍍速率、部分歸因於可變濺鍍速率的穩態電荷之確立及在確立穩態濺鍍 狀態時物質之混合。因此，排除分析之前兩個資料點。因此，應理解，內部區域120具有等於DLR2-DLR1之厚度TLR。內部區域內之玻璃組成物具有持久層均勻性，該持久層均勻性連同內部區域之厚度TLR足以防止玻璃主體在長期暴露至含在玻璃容器之內部體積中之溶液後脫層。在一些實施例中，厚度TLR為至少約100nm。在一些實施例中，厚度TLR為至少約150nm。在一些其他實施例中，厚度TLR為至少約200nm或甚至約250nm。在一些其他實施例中，厚度TLR為至少約300nm或甚至約350nm。在其他實施例中，厚度TLR為至少約500nm。在一些實施例中，內部區域120可延伸至至少約1μm或甚至至少約2μm之厚度TLR。
雖然本文中描述內部區域自玻璃容器100之內表面104下方10nm延伸至壁部分110之厚度中至距玻璃容器之內表面104深度DLR2，但應理解，其他實施例係可能的。舉例而言，假設不管上述實驗假影，具有持久層均勻性之內部區域可實際上自玻璃容器100之內表面104延伸至壁部分之厚度中。因此，在一些實施例中，厚度TLR可自內表面104延伸至深度DLR2。在該等實施例中，厚度TLR可為至少約100nm。在一些實施例中，厚度TLR為至少約150nm。在一些其他實施例中，厚度TLR為至少約200nm或甚至約250nm。在一些其他實施例中，厚度TLR為至少約300nm或甚至約350nm。在其他實施例中，厚度TLR為至少約500nm。在一些實施例中，內部區域120可延伸至至少約1μm或甚至至少約2μm之厚度TLR。
在玻璃容器經成形以使得玻璃容器具有持久層均勻性之實施例中，片語「持久層均勻性」意謂內部區域中之玻璃組成物之組成成分(例如，SiO2、Al2O3、Na2O等)的濃度不自含有內部區域之玻璃層之厚度中點處的相同組成成分的濃度改變一定量，該量將導致玻璃主體在長期暴露至含在玻璃容器內之溶液後脫層。舉例而言，在玻璃容器由單一玻璃組成物形成之實施例中，玻璃主體含有單一玻璃層，且內部區域中之組成成分的濃度與沿中點線MP之點處之相同組分的濃度相比較以決定是否存在持久層均勻性，該中點線MP均勻地等分內表面104與外表面106之間的玻璃主體。然而，在玻璃容器由層合玻璃形成之實施例中，其中層合玻璃之玻璃包覆層形成玻璃容器之內表面，內部區域中之組成成分的濃度與沿中點線之點處之相同組分的濃度相比，該中點線均勻地等分形成玻璃容器之內表面的玻璃包覆層。在本文中描述之實施例中，玻璃主體之內部區域中之持久層均勻性使得內部區域120中之玻璃組成物之組成成分中的每一者的層濃度的極限值(亦即，最小或最大)大於或等於在含有內部區域120之玻璃層的中點處的相同組成成分之約80%且小於或等於約120%。如本文中所使用，持久層均勻性係指當玻璃容器在成形狀態條件下時或在應用於玻璃容器之至少內表面之一或多個表面處理(諸如，蝕刻等)後玻璃容器之狀態。在其他實施例中，玻璃主體之內部區域中之持久層均勻性使得內部區域120中之玻璃組成物之組成成分中的每一者之層濃度的極限值大於或等於在含有內部區域120之玻璃層之厚度 的中點處的相同組成成分之約90%且小於或等於約110%。在其他實施例中，玻璃主體之內部區域中之持久層均勻性使得內部區域120中之玻璃組成物之組成成分中的每一者之層濃度的極限值大於或等於在含有內部區域120之玻璃層之玻璃厚度的中點處的相同組成成分之約92%且小於或等於約108%。在一些實施例中，持久層均勻性不包括玻璃組成物之以小於約2莫耳%之量存在的組成成分。
如本文中所使用，術語「成形狀態條件」係指在玻璃容器已由玻璃原料成形之後但在容器暴露至任何額外處理步驟(諸如，離子交換強化、塗佈、硫酸銨處理等)之前的玻璃容器100之組成物。在一些實施例中，術語「成形狀態條件」包括在玻璃容器已成形且暴露至蝕刻處理以選擇性地移除玻璃容器之至少內表面之全部或部分後的玻璃容器100之組成物。在本文中描述之實施例中，玻璃組成物中之組成成分之層濃度藉由使用動態二次離子質譜(DSIMS)收集穿過玻璃主體之所關注之區域中的厚度的組成物樣本得以決定。在本文中描述之實施例中，組成物分佈自玻璃主體102之內表面104的區域取樣。取樣區域具有1mm2之最大面積。該技術產生取樣區域之作為自玻璃主體之內表面的深度之函數的玻璃中的物種的組成分佈。
形成具有如上所述之持久層均勻性之玻璃容器大體上改善玻璃容器之脫層抗性。具體言之，提供在組成物中為均勻之內部區域(亦即，內部區域中之組成成分之濃度的極限值在含有內部區域之玻璃層之厚度中點處的相同組成成分 的+/-20%內)避免可能易受浸漬影響之玻璃組成物之組成成分的局部集中，此舉進而緩和在該等組成成分自玻璃表面浸出之情況下，來自玻璃容器之內表面之玻璃顆粒的損失。
如本文中所述，在成形狀態條件中具有持久層均勻性之容器不含塗層，包括塗覆至玻璃主體之內表面的無機塗層及/或有機塗層。因此，應理解，玻璃容器之主體由實質上單一組成物形成，該組成物自主體之內表面延伸至至少250nm或甚至至少300nm之深度。術語「單一組成物」係指玻璃為單一材料組成物(相較於塗覆至相同組成物或不同組成物之另一材料的塗覆材料而言)之事實，主體之部分自內表面延伸至主體之厚度中距該玻璃至少250nm或甚至至少300nm之深度。舉例而言，在一些實施例中，容器之主體可由單一玻璃組成物建構。在其他實施例中，容器之主體可由層合玻璃建構，以使得主體之內表面具有自內表面延伸至至少250nm或甚至至少300nm之深度的單一組成物。玻璃容器可包括內部區域，該區域自內表面或自內表面下方10nm延伸至至少100nm之深度，如上所述。該內部區域可具有持久層均勻性。
現參看第1圖及第7圖，在一些實施例中，本文中描述之玻璃容器在主體102之內表面104上亦可具有均勻表面組成物，以使得當玻璃容器處於成形狀態條件時，至少主體102之內表面104(包括壁部分、根部部分及底面部分)具有10或更小之脫層因數。第7圖示意性圖示玻璃容器100之壁部分110的部分橫截面。玻璃容器100具有遍佈玻璃容器之 整個內表面延伸的表面區域130。表面區域130具有自玻璃容器100之內表面104朝向外表面延伸至玻璃主體之厚度的深度DSR。因此，應理解，表面區域130具有等於深度DSR之厚度TSR。在一些實施例中，表面區域自玻璃容器100之內表面104延伸至至少約10nm之深度DSR。在一些其他實施例中，表面區域130可延伸至至少約50nm之深度DSR。在一些其他實施例中，表面區域130可延伸至約10nm至約50nm之深度DSR。因此，應理解，表面區域130比內部區域120延伸至更淺深度。表面區域之玻璃組成物具有持久表面均勻性，該持久表面均勻性連同內部區域之深度DSR足以防止玻璃主體在長期暴露至含在玻璃容器之內部體積中的溶液後脫層。
在本文中描述之實施例中，片語「持久表面均勻性」意謂表面區域中之離散點處之玻璃組成物的組成成分(例如，SiO2、Al2O3、Na2O等)的濃度不自表面區域中之任何第二離散點處之相同組成成分的濃度改變一定量，該量將導致玻璃主體在長期暴露至含在玻璃容器內的溶液後脫層。在本文中描述之實施例中，表面區域中之持久表面均勻性使得對於玻璃容器之內表面104上之離散點而言，當玻璃容器100處於成形狀態條件時，離散點處之表面區域130中之組成成分中的每一者之表面濃度之極限值(亦即，最小或最大)大於或等於玻璃容器100之內表面104上之任何第二離散點處的表面區域130中之相同組成成分的約70%且小於或等於該等相同組成成分的約130%。舉例而言，第7圖圖示壁部分110之內表面104上之三個離散點(A、B及C)。每一點與相鄰 點間隔至少約3mm。「A」點處之表面區域130中之組成成分中的每一者之表面濃度之極限值大於或等於「B」點及「C」點處之表面區域130中的相同組成成分的約70%且小於或等於該等相同組成成分的約130%。當參看容器之根部部分時，離散點可大致集中於根部之頂點，其中相鄰點沿容器之底面部分及沿容器之壁部分在距根部的頂點至少3mm處定位，點之間的距離受容器之半徑及側壁之高度(亦即，側壁過渡至容器之肩部的點)限制。
在一些實施例中，表面區域中之持久表面均勻性使得針對玻璃容器100之內表面104上之任何離散點的表面區域130中之玻璃組成物之組成成分中的每一者之表面濃度的極限值大於或等於玻璃容器100之內表面104上之任何第二離散點處的表面區域130中的相同組成成分之約75%且小於或等於該等相同組成成分之約125%。在一些其他實施例中，表面區域中之持久表面均勻性使得針對玻璃容器100之內表面104上之任何離散點的表面區域130中之玻璃組成物之組成成分中的每一者之表面濃度的極限值大於或等於玻璃容器100之內表面104上之任何第二離散點處的表面區域130中的相同組成成分之約80%且小於或等於該等相同組成成分之約120%。在其他實施例中，表面區域中之持久表面均勻性使得針對玻璃容器100之內表面104上之任何離散點的表面區域130中之玻璃組成物之組成成分中的每一者之表面濃度的極限值大於或等於玻璃容器100之內表面104上之任何第二離散點處的表面區域130中的相同組成成分之約85%且小於或 等於該等相同組成成分之約115%。在本文中描述之實施例中，表面區域中之玻璃組成物之組成成分的表面濃度由x射線光電子光譜法量測。在一些實施例中，表面區域中之持久表面均勻性不包括玻璃組成物之以小於約2莫耳%之量存在的組分。
表面區域130中之玻璃組成成分之表面濃度的均勻性大體上指示玻璃組成物自玻璃容器100之內表面104脫層且流出玻璃顆粒之傾向。當玻璃組成物在表面區域130中具有持久表面均勻性時(亦即，當內表面104上之離散點處之表面區域130中的玻璃組成成分的表面濃度的極限值在內表面104上之任何第二離散點處之表面區域130中的相同組成成分之+/-30%內時)，玻璃組成物具有改善之脫層抗性。
具有持久層均勻性及/或持久表面均勻性的玻璃容器可使用各種技術實現。舉例而言，在一些實施例中，至少玻璃容器之主體102之內表面104經蝕刻，此舉產生具有持久層均勻性及/或持久表面均勻性之玻璃容器，以使得至少玻璃容器之內表面具有10或更小之脫層因數。具體言之，如上所述，玻璃中歸因於來自玻璃之物種之揮發及揮發物種在容器成形期間之後續重新沉積的組成變化被認為是導致脫層之一個機理。玻璃容器之內表面上之經揮發及重新沉積之物種的薄表皮為組成不均勻的且弱水解的，以使得鹼金屬物種及硼物種在暴露至藥物組成物期間自表皮快速消耗。該行為留下具有高表面面積之富二氧化矽層。將該富二氧化矽層暴露至藥物組成物使得層膨脹且最終自主體之內表面剝落(亦即， 脫層)。然而，蝕刻玻璃容器之主體的內表面移除該薄表皮層且將持久層均勻性及/或持久表面均勻性賦予至少玻璃容器之主體的內表面。
在本文中描述之一些實施例中，玻璃容器之主體經蝕刻以自玻璃主體之內表面移除玻璃材料層。蝕刻足以移除經揮發及重新沉積之物種的薄表皮層，且從而為至少玻璃容器之主體之內表面提供持久層均勻性及/或持久表面均勻性，以使得至少玻璃主體之內表面具有10或更小之脫層因數。舉例而言，在一些實施例中，玻璃容器之主體經蝕刻以自玻璃主體之內表面移除玻璃材料至1μm或甚至1.5μm之深度。在一些其他實施例中，玻璃容器之主體可經蝕刻以移除玻璃材料至大於1.5μm(包括(但不限於)2μm、3μm或甚至5μm)之深度。在該等實施例中，至少玻璃容器之內表面可由玻璃組成物形成，該等玻璃組成物符合根據題為「Standard Specification for Glasses in Laboratory Apparatus」之ASTM標準E438-92(2011)之I型A級(IA型)玻璃或I型B級(IB型)玻璃的標準。硼矽酸鹽玻璃符合I型(A或B)標準且硼矽酸鹽玻璃通常用於藥物封裝。硼矽酸鹽玻璃之實例包括(但不限於)Corning® Pyrex® 7740、Corning® Pyrex® 7800、Wheaton 180、Wheaton 200及Wheaton 400、Schott Duran®、Schott Fiolax®、KIMAX® N-51A、Gerresheimer GX-51 Flint及其他。
在一個實施例中，蝕刻可藉由將玻璃容器之內表面暴露至酸溶液或酸溶液之組合得以完成。酸溶液可包括(但不 限於)硫酸、硝酸、鹽酸、氫氟酸、氫溴酸及磷酸。舉例而言，酸溶液可包括1.5M氫氟酸與0.9M硫酸之混合物。該等酸溶液有效移除經揮發及重新沉積之有機溶液的薄表皮層，而不在玻璃容器之內表面上留下耗乏「浸出層」。或者，蝕刻可藉由將玻璃容器之內表面暴露至鹼溶液或鹼溶液之組合得以完成。適當鹼溶液包括(例如)氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化銨或上述各者之組合。或者，蝕刻可依次藉由酸溶液然後鹼溶液(或反之亦然)得以完成。
雖然本文中描述一個特定蝕刻處理，但應理解，亦可使用其他蝕刻處理。舉例而言，美國專利第2,106,744號、美國專利公開案第2011/0165393號、美國專利公開案第2013/0122306號及美國專利公開案第2012/0282449號中揭示之蝕刻處理亦可用於蝕刻至少玻璃容器之內表面。
在其他實施例中，玻璃容器可藉由由玻璃組成物成形玻璃容器而具備持久層均勻性及/或持久表面均勻性，其中玻璃組成物之組成成分在以下溫度下形成具有相對低之蒸汽壓之物種(亦即，具有低揮發性之物種)：由玻璃原料將玻璃容器重新成形為所需容器形狀所要求之溫度。由於該等組成成分在重新成形溫度下形成具有相對低蒸汽壓之物種，組成成分不太可能自玻璃表面揮發及蒸發，從而形成玻璃容器，該玻璃容器遍佈玻璃容器之內表面且遍及玻璃容器之厚度具有組成均勻表面。
玻璃組成物之某些組成成分可在玻璃成形溫度及重新成形溫度下充分揮發，此舉進而可導致組成不均勻性及後 續脫層。玻璃組成物之成形溫度及重新成形溫度大體上對應於玻璃組成物具有範圍在約200泊至約100千泊中之黏度的溫度。因此，在一些實施例中，成形玻璃容器之玻璃組成物不含形成物種之組成成分，該等組成成分在對應於範圍在約200泊至約100千泊中之黏度的溫度下顯著揮發(亦即，形成具有大於約10-3atm之平衡分壓力之氣相物種)。在一些實施例中，成形玻璃容器之玻璃組成物不含組成成分，該等組成成分在對應於範圍在約1千泊至約50千泊中之黏度的溫度下顯著揮發。在一些其他實施例中，成形玻璃容器之玻璃組成物不含組成成分，該等組成成分在對應於範圍在約1千泊至約20千泊中之黏度的溫度下顯著揮發。在一些其他實施例中，成形玻璃容器之玻璃組成物不含組成成分，該等組成成分在對應於範圍在約1千泊至約10千泊中之黏度的溫度下顯著揮發。在不希望受理論約束的情況下，在該等條件下顯著揮發之化合物包括(但不限於)硼及硼化合物、磷及磷化合物、鋅及鋅化合物、氟及氟化合物、氯及氯化合物、錫及錫化合物以及鈉及鈉化合物。
在本文中描述之一些實施例中，例如，玻璃容器大體上由鋁矽酸鹽玻璃組成物(諸如，鹼金屬鋁矽酸鹽玻璃組成物或鹼土金屬鋁矽酸鹽玻璃組成物)形成。如上文所述，玻璃中之含硼物種在用於導致所得玻璃容器脫層之玻璃成形及重新成形的高溫下高度揮發。此外，含硼玻璃組成物亦易受相分離影響。因此，在本文中描述之實施例中，形成玻璃容器之玻璃組成物的硼濃度經限制以緩和脫層及相分離兩者。 在一些實施例中，形成玻璃容器之玻璃組成物包括小於或等於約1.0莫耳%之硼之氧化物及/或含硼化合物，包括(但不限於)B2O3。在一些該等實施例中，硼之氧化物及/或含硼化合物在玻璃組成物中之濃度可小於或等於約0.5莫耳%、小於或等於約0.4莫耳%或甚至小於或等於約0.3莫耳%。在一些該等實施例中，硼之氧化物及/或含硼化合物在玻璃組成物中之濃度可小於或等於約0.2莫耳%或甚至小於或等於約0.1莫耳%。在一些其他實施例中，玻璃組成物實質上不含硼及含硼化合物。
磷(如同硼)大體上形成玻璃組成物中之物種，該等物種在用於玻璃成形及重新成形之高溫下高度揮發。如此，玻璃組成物中之磷可導致成品玻璃容器中之組成不均勻性，此情況進而可導致脫層。因此，在本文中描述之實施例中，磷及含磷化合物(諸如，P2O5等)在形成玻璃容器之玻璃組成物中之濃度經限制以緩和脫層。在一些實施例中，製造玻璃容器之玻璃組成物包括小於或等於約0.3莫耳%之磷之氧化物及/或含磷化合物。在一些該等實施例中，磷之氧化物及/或含磷化合物在玻璃組成物中之濃度可小於或等於約0.2莫耳%或甚至小於或等於約0.1莫耳%。在一些其他實施例中，玻璃組成物實質上不含磷及含磷化合物。
鋅(如同硼及磷)大體上形成玻璃組成物中之物種，該等物種在用於玻璃成形及重新成形之高溫下高度揮發。如此，玻璃組成物中之鋅可導致成品玻璃容器中之組成不均勻性，此情況進而可導致脫層。因此，在本文中描述之實施例 中，鋅及含鋅化合物(諸如，ZnO等)在形成玻璃容器之玻璃組成物中之濃度經限制以緩和脫層。在一些實施例中，製造玻璃容器之玻璃組成物包括小於或等於約0.5莫耳%之鋅之氧化物及/或含鋅化合物。在一些其他實施例中，製造玻璃容器之玻璃組成物包括小於或等於約0.3莫耳%之鋅之氧化物及/或含鋅化合物。在一些該等實施例中，鋅之氧化物或含鋅化合物在玻璃組成物中之濃度可小於或等於約0.2莫耳%或甚至小於或等於約0.1莫耳%。在一些其他實施例中，玻璃組成物實質上不含鋅及含鋅化合物。
鉛及鉍亦形成玻璃組成物中之物種，該等物種在用於玻璃成形及重新成形之高溫下高度揮發。因此，在本文中描述之實施例中，鉛、鉍、含鉛化合物及含鉍化合物在形成玻璃容器之玻璃組成物中之濃度經限制以緩和脫層。在一些實施例中，鉛之氧化物、鉍之氧化物、含鉛化合物及/或含鉍化合物各自以小於或等於約0.3莫耳%之濃度存在於玻璃組成物中。在一些實施例中，鉛之氧化物、鉍之氧化物、含鉛化合物及/或含鉍化合物各自以小於或等於約0.2莫耳%之濃度或甚至小於約0.1莫耳%之濃度存在於玻璃組成物中。在一些其他實施例中，玻璃組成物實質上不含鉛及/或鉍以及含鉛及/或鉍化合物。
含有氯、氟及錫之氧化物之物種亦在用於玻璃成形及重新成形之高溫下高度揮發。因此，在本文中描述之實施例中，氯、氟及錫之氧化物及含錫、氯或氟之化合物以不影響所得玻璃之脫層抗性的濃度存在於玻璃組成物中。具體而 言，氯、氟及錫之氧化物及含錫、氯或氟之化合物以小於或等於約0.5莫耳%或甚至小於或等於約0.3莫耳%之濃度存在於形成玻璃容器的玻璃組成物中。在一些實施例中，玻璃組成物實質上不含錫、氯及氟以及含錫、氯或氟之化合物。
雖然如上所述，玻璃容器之一些實施例可不含易揮發之組成成分，但在某些其他實施例中，玻璃容器可由玻璃組成物形成，該等玻璃組成物包括該等揮發性成分，諸如在玻璃容器包括障壁層時。
成形容器之玻璃組成物未經相分離。如本文中所使用，術語「相分離」係指將玻璃組成物分離成單獨相，其中每一相具有不同組成特徵。舉例而言，眾所周知，鹼金屬硼矽酸鹽玻璃在高溫(諸如，成形溫度及重新成形溫度)下相分離成富硼相及富二氧化矽相。在本文中描述之一些實施例中，硼之氧化物在玻璃組成物中之濃度足夠低(亦即，小於或等於約1.0莫耳%)，以使得玻璃組成物不經受相分離。
在一個示例性實施例中，玻璃容器由脫層抗性玻璃組成物形成，諸如，2012年10月25日申請且題為「Alkaline Earth Alumino-Silicate Glass Compositions with Improved Chemical and Mechanical Durability」之美國專利申請案第13/660,141號(代理人案號SP11-241)中所述之鹼土金屬鋁矽酸鹽玻璃組成物，該案之全文以引用之方式併入本文中。該第一示例性玻璃組成物大體上包括SiO2、Al2O3、至少一種鹼土金屬氧化物及包括至少Na2O及K2O之鹼金屬氧化物的組合。在一些實施例中，玻璃組成物亦可不含硼及含硼化合物。該等組 分之組合使得以下玻璃組成物成為可能：該玻璃組成物抗化學降解且亦適用於藉由離子交換之化學強化。在一些實施例中，玻璃組成物可進一步包含少量一或多種額外氧化物，諸如(例如)SnO2、ZrO2、ZnO等。該等組分可作為澄清劑添加及/或進一步增強玻璃組成物之化學耐久性。
在第一示例性玻璃組成物之實施例中，玻璃組成物大體上包含量大於或等於約65莫耳%且小於或等於約75莫耳%之SiO2。在一些實施例中，SiO2以大於或等於約67莫耳%且小於或等於約75莫耳%之量存在於玻璃組成物中。在一些其他實施例中，SiO2以大於或等於約67莫耳%且小於或等於約73莫耳%之量存在於玻璃組成物中。在該等實施例中之每一實施例中，存在於玻璃組成物中之SiO2的量可大於或等於約70莫耳%或甚至大於或等於約72莫耳%。
第一示例性玻璃組成物亦包括Al2O3。Al2O3連同存在於玻璃組成物中之鹼金屬氧化物(諸如，Na2O等)改善玻璃對離子交換強化之易感性。此外，添加Al2O3至組成物降低鹼金屬成分(諸如，Na及K)浸出玻璃之傾向，且同樣，添加Al2O3提高組成物之抗水解降解性。此外，添加大於約12.5莫耳%之Al2O3亦可提高玻璃之軟化點，從而降低玻璃的成形性。因此，本文中描述之玻璃組成物大體上包括量大於或等於約6莫耳%且小於或等於約12.5莫耳%之Al2O3。在一些實施例中，Al2O3在玻璃組成物中之量大於或等於約6莫耳%且小於或等於約10莫耳%。在一些其他實施例中，Al2O3在玻璃組成物中之量大於或等於約7莫耳%且小於或等於約10莫耳 %。
第一示例性玻璃組成物亦包括至少兩種鹼金屬氧化物。鹼金屬氧化物促進玻璃組成物之離子交換性，且如此促進玻璃之化學強化。鹼金屬氧化物亦降低玻璃之軟化點，從而抵消軟化點歸因於玻璃組成物中之SiO2之較高濃度的提高。鹼金屬氧化物亦幫助改善玻璃組成物之化學耐久性。鹼金屬氧化物大體上以大於或等於約5莫耳%且小於或等於約12莫耳%之量存在於玻璃組成物中。在一些該等實施例中，鹼金屬氧化物之量可大於或等於約5莫耳%且小於或等於約10莫耳%。在一些其他實施例中，鹼金屬氧化物之量可大於或等於約5莫耳%且小於或等於約8莫耳%。在本文中描述之所有玻璃組成物中，鹼金屬氧化物包含至少Na2O及K2O。在一些實施例中，鹼金屬氧化物進一步包含Li2O。
玻璃組成物之離子交換性主要賦予玻璃組成物在離子交換之前最初存在於玻璃組成物中之鹼金屬氧化物Na2O之量。具體言之，為在離子交換強化時玻璃組成物後實現所需壓縮應力及層深度，玻璃組成物包括Na2O，Na2O之量基於玻璃組成物之分子量大於或等於約2.5莫耳%且小於或等於10莫耳%。在一些實施例中，玻璃組成物可包括量大於或等於約3.5莫耳%且小於或等於約8莫耳%之Na2O。在一些該等實施例中，玻璃組成物可包括量大於或等於約6莫耳%且小於或等於約8莫耳%之Na2O。
如上所述，玻璃組成物中之鹼金屬氧化物亦包括K2O。存在於玻璃組成物中之K2O的量亦與玻璃組成物之離 子交換性有關。具體言之，當存在於玻璃組成物中之K2O的量提高時，可經由離子交換獲得之壓縮應力降低。因此，需要限制存在於玻璃組成物中之K2O的量。在一些實施例中，K2O之量以玻璃組成物之分子量計大於約0莫耳%且小於或等於約2.5莫耳%。在一些該等實施例中，存在於玻璃組成物中之K2O的量以玻璃組成物之分子量計小於或等於約0.5莫耳%。
在一些實施例中，第一示例性玻璃組成物中之鹼金屬氧化物進一步包含Li2O。玻璃組成物中包括Li2O進一步降低玻璃的軟化點。在鹼金屬氧化物包括Li2O之實施例中，Li2O可以大於或等於約1莫耳%且小於或等於約3莫耳%之量存在。在一些實施例中，Li2O可以大於約2莫耳%且小於或等於約3莫耳%之量存在於玻璃組成物中。然而，在一些其他實施例中，玻璃組成物可實質上不含鋰及含鋰化合物。
第一示例性玻璃組成物中之鹼土金屬氧化物改善玻璃批料之可熔性且提高玻璃組成物之化學耐久性。鹼土金屬氧化物存在於玻璃組成物中亦降低玻璃對脫層之易感性。在本文中描述之玻璃組成物中，玻璃組成物大體上包括至少一種鹼土金屬氧化物，該鹼土金屬氧化物濃度大於或等於約8莫耳%或甚至8.5莫耳%且小於或等於約15莫耳%。在一些實施例中，玻璃組成物可包含約9莫耳%至約15莫耳%之鹼土金屬氧化物。在一些該等實施例中，玻璃組成物中之鹼土金屬氧化物的量可為約10莫耳%至約14莫耳%。
第一示例性玻璃組成物中之鹼土金屬氧化物可包括 MgO、CaO、SrO、BaO或上述各者之組合。舉例而言，在本文中描述之實施例中，鹼土金屬氧化物可包括MgO。在一些實施例中，MgO可以玻璃組成物之分子量計大於或等於約2莫耳%且小於或等於約7莫耳%或以玻璃組成物之分子量計甚至大於或等於約3莫耳%且小於或等於約5莫耳%之量存在於玻璃組成物中。
在一些實施例中，第一示例性玻璃組成物中之鹼土金屬氧化物亦包括CaO。在該等實施例中，CaO以玻璃組成物之分子量計約2莫耳%至小於或等於7莫耳%之量存在於玻璃組成物中。在一些實施例中，CaO以玻璃組成物之分子量計約3莫耳%至小於或等於7莫耳%之量存在於玻璃組成物中。在一些該等實施例中，CaO可以大於或等於約4莫耳%且小於或等於約7莫耳%之量存在於玻璃組成物中。在一些其他實施例中，CaO可以大於或等於約5莫耳%且小於或等於約6莫耳%之量存在於玻璃組成物中，諸如當在鹼土金屬氧化物中以CaO替代MgO以降低液相線溫度及提高液相線黏度時。在其他實施例中，CaO可以大於或等於約2莫耳%且小於或等於約5莫耳%之量存在於玻璃中，諸如當在鹼土金屬氧化物中以SrO替代MgO以降低液相線溫度及提高液相線黏度時。
在本文中描述之一些實施例中，鹼土金屬氧化物進一步包含SrO或BaO中之至少一者。包括SrO降低玻璃組成物之液相線溫度，且因此包括SrO改善玻璃組成物之成形性。在一些實施例中，玻璃組成物可包括量大於0莫耳%且小於或等於約6.0莫耳%之SrO。在一些其他實施例中，玻璃組成物 可包括量大於約0莫耳%且小於或等於約5莫耳%之SrO。在一些該等實施例中，玻璃組成物可包括大於或等於約2莫耳%且小於或等於約4莫耳%之SrO，諸如當在鹼土金屬氧化物中以CaO替代MgO以降低液相線溫度且提高液相線黏度時。在一些其他實施例中，玻璃組成物可包括約1莫耳%至約2莫耳%之SrO。在其他實施例中，SrO可以大於或等於約3莫耳%且小於或等於約6莫耳%之量存在於玻璃組成物中，諸如當在鹼土金屬氧化物中以SrO替代MgO以降低液相線溫度且提高液相線黏度時。
在玻璃組成物包括BaO之實施例中，BaO可以大於約0莫耳%且小於約2莫耳%之量存在。在一些該等實施例中，BaO可以小於或等於約1.5莫耳%或甚至小於或等於約0.5莫耳%之量存在於玻璃組成物中。然而，在一些其他實施例中，玻璃組成物實質上不含鋇及鋇之化合物。
在本文中描述之玻璃組成物之實施例中，玻璃組成物大體上含有小於約1莫耳%之硼或硼之氧化物，諸如，B2O3。舉例而言，在一些實施例中，玻璃組成物可包含大於或等於約0莫耳%之B2O3及小於或等於1莫耳%之B2O3。在一些其他實施例中，玻璃組成物可包含大於或等於約0莫耳%之B2O3及小於或等於0.6莫耳%之B2O3。在其他實施例中，玻璃組成物實質上不含硼及硼之化合物，諸如，B2O3。具體言之，已決定形成具有相對低量之硼或硼之化合物(亦即，小於或等於1莫耳%)或不具有硼或硼之化合物的玻璃組成物顯著提高玻璃組成物之化學耐久性。另外，亦已決定形成具有相對低 量之硼或硼之化合物或不具有硼或硼之化合物之玻璃組成物藉由降低實現壓縮應力及/或層深度之特定值所需之加工時間及/或溫度而改善玻璃組成物的離子交換性。
在本文中描述之玻璃組成物之一些實施例中，玻璃組成物實質上不含磷及含磷化合物，包括(但不限於)P2O5。具體言之，已決定配製不具有磷或磷之化合物之玻璃組成物提高玻璃組成物的化學耐久性。
除SiO2、Al2O3、鹼金屬氧化物及鹼土金屬氧化物之外，本文中描述之第一示例性玻璃組成物可視情況進一步包含一或多種澄清劑，諸如(例如)SnO2、As2O3及/或Cl-(來自NaCl等)。當澄清劑存在於玻璃組成物中時，澄清劑可以小於或等於約1莫耳%或甚至小於或等於約0.5莫耳%之量存在。舉例而言，在一些實施例中，玻璃組成物可包括SnO2作為澄清劑。在該等實施例中，SnO2可以大於約0莫耳%且小於或等於約0.30莫耳%之量存在於玻璃組成物中。
此外，本文中描述之玻璃組成物可包含一或多種額外金屬氧化物，以進一步改善玻璃組成物之化學耐久性。舉例而言，玻璃組成物可進一步包括ZnO或ZrO2，ZnO或ZrO2中之每一者進一步改善玻璃組成物抗之化學侵蝕性。在該等實施例中，額外金屬氧化物可以大於或等於約0莫耳%且小於或等於約2.0莫耳%之量存在。舉例而言，當額外金屬氧化物為ZrO2時，ZrO2可以小於或等於約1.5莫耳%之量存在。或者或另外，額外金屬氧化物可包括量小於或等於約2.0莫耳%之ZnO。在一些實施例中，ZnO可經包括作為鹼土金屬氧化 物中之一或多者之替代物。舉例而言，在玻璃組成物包括鹼土金屬氧化物MgO、CaO及SrO之實施例中，MgO之量可減少以降低液相線溫度且提高液相線黏度，如上所述。在該等實施例中，ZnO可添加至玻璃組成物中作為MgO之部分替代，除CaO或SrO中之至少一者之外或代替CaO或SrO中之至少一者。
基於前述，應理解，在一個實施例中，第一示例性玻璃組成物可包括約65莫耳%至約75莫耳%之SiO2、約6莫耳%至約12.5莫耳%之Al2O3及約5莫耳%至約12莫耳%之鹼金屬氧化物，其中鹼金屬氧化物包含Na2O及K2O。K2O可以小於或等於0.5莫耳%之量存在。玻璃組成物亦可包括約8.0莫耳%至約15莫耳%之鹼土金屬氧化物。玻璃組成物可易受離子交換強化影響。
在第一示例性玻璃組成物之另一實施例中，玻璃組成物包括約67莫耳%至約75莫耳%之SiO2、約6莫耳%至約10莫耳%之Al2O3、約5莫耳%至約12莫耳%之鹼金屬氧化物及約9莫耳%至約15莫耳%之鹼土金屬氧化物。鹼金屬氧化物包含至少Na2O及K2O。玻璃組成物不含硼及硼之化合物且玻璃組成物易受離子交換影響，從而促進化學強化玻璃以改善機械耐久性。
在第一示例性玻璃組成物之又一實施例中，玻璃組成物可包括約67莫耳%至約75莫耳%之SiO2、約6莫耳%至約10莫耳%之Al2O3、約5莫耳%至約12莫耳%之鹼金屬氧化物及約9莫耳%至約15莫耳%之鹼土金屬氧化物。鹼土金屬氧 化物包含SrO及BaO中之至少一者。玻璃組成物不含硼及硼之化合物且玻璃組成物易受離子交換影響，從而促進化學強化玻璃以改善機械耐久性。
在本文中描述之一些實施例中，具有持久表面均勻性及/或持久層均勻性之玻璃容器可利用成形製程獲得，該成形製程賦予均勻溫度歷程至至少玻璃容器之主體的內表面。舉例而言，在一個實施例中，玻璃容器之主體可以成形溫度及/或成形速度成形，該等成形溫度及/或成形速度緩和形成來自主體之玻璃組成物之化學物種的揮發性。具體言之，將玻璃流形成為所需形狀要求控制玻璃黏度及成形速度兩者。較高黏度要求較慢成形速度，而較低黏度使得更快成形速度成為可能。玻璃之整體組成物及溫度係影響黏度之最大驅動物。藉由調整溫度而匹配成形製程中之每一階段處之黏度來將相同成形製程用於不同玻璃係可能的。因此，降低玻璃熔體之揮發性的一個方法係以較低溫度(較高黏度)操作製程。該方法係不利的，因為該方法亦要求降低成形設備之產量及產能，最終導致提高之成本。第16圖圖示溫度為兩個示例性組成物中之揮發的主要驅動物，且在所有情況下，降低溫度(且因此降低速度)降低揮發損失之驅動力。與管至小瓶轉化過程相關聯之黏度範圍為自200P(切割操作及打孔操作時之最高溫度)至20000P(管成形步驟及精整步驟處之最低溫度)。對於典型51膨脹硼矽酸鹽，該等黏度為大約1100℃至1650℃。由於揮發在較低溫度下顯著降低，故所關注之主要溫度範圍在1350℃至1650℃之間。
在另一實施例中，具有持久表面均勻性及/或持久層均勻性的玻璃容器可藉由模製成形主體獲得。存在用於使用模具將玻璃熔體成形為容器形狀的許多方法。所有方法均依賴將熔融玻璃之均勻熱「塊」引入成形機器中。在吹制模製中，塊首先使用穿過孔之加壓空氣吹制(此舉成形唇緣/成品)以形成預製件(比最終產品小)。預製件(或型坯)隨後置放於第二模具中，其中預製件進一步經吹制為接觸模具表面且界定容器的最終形狀。在壓吹模製中，塊由界定唇緣/成品之環固持，且柱塞經按壓穿過塊以形成預製件。預製件隨後置放在第二模具中且預製件經吹制以接觸模具表面，從而形成最終容器形狀。模製成形製程大體上在成形期間將均勻溫度歷程賦予主體，此舉進而可將持久表面均勻性及/或持久層均勻性賦予至少玻璃主體之內表面，從而降低玻璃主體對脫層之易感性。舉例而言，熔融玻璃可成形為容器形狀且玻璃溫度在冷卻期間受控，以使得玻璃主體自玻璃熔體單一地冷卻。玻璃主體之溫度自熔體降低至凝固而無任何中間物溫度提高時發生單一冷卻。此舉導致相對於將管轉化成小瓶之製程的較少揮發。該類型冷卻可使用模製成形製程(諸如，吹氣模製、壓吹模製、吹制模製)促進。在一些實施例中，該等技術可用於自I型B級玻璃組成物形成具有10或更小之脫層因數的玻璃容器。
本文中描述之玻璃組成物藉由混合玻璃原料批料(例如，SiO2、Al2O3、鹼金屬氧化物、鹼土金屬氧化物等之粉末)得以形成，以使得該批玻璃原料批料具有所需組成物。此後， 玻璃原料批料經加熱以形成熔融玻璃組成物，該組成物隨後經冷卻且凝固以形成玻璃組成物。在凝固期間(亦即，當玻璃組成物為塑性可變形時)，玻璃組成物可使用標準成形技術成形，以將玻璃組成物成形為所需最終形式。或者，玻璃組成物可經成形為堆料形式，諸如，片、管等，且玻璃組成物隨後可經再加熱且成形為玻璃容器100。
本文中描述之玻璃組成物可經成形為各種形式，諸如(例如)片、管等。化學耐久玻璃組成物尤其適用於形成用於含有藥物配方(諸如，液體、粉末等)的藥物封裝。舉例而言，本文中描述之玻璃組成物可用於成形玻璃容器，諸如，小瓶、安瓿、濾筒、注射器主體及/或用於儲存藥物配方之任何其他玻璃容器。此外，經由離子交換化學強化玻璃組成物之能力可用於改善該藥物封裝的機械耐久性。因此，應理解，在至少一個實施例中，玻璃組成物併入藥物封裝中，以改善藥物封裝之化學耐久性及/或機械耐久性。
進一步地，在一些實施例中，玻璃容器可由玻璃組成物形成，該等玻璃組成物為化學耐久且抗降解的，如由DIN 12116標準、ISO 695標準、ISO 719標準、ISO 720標準、USP<660>測試及/或歐洲藥典3.2.1測試所決定。
具體言之，DIN 12116標準為在置放於酸性溶液中時玻璃之抗分解性之量測。DIN 12116標準分成各個級。S1級指示高達0.7mg/dm2之重量損失；S2級指示自0.7mg/dm2至達1.5mg/dm2之重量損失；S3級指示自1.5mg/dm2至達15mg/dm2之重量損失；且S4級指示大於15mg/dm2之重量損 失。本文中描述之玻璃組成物具有根據DIN 12116之S3級或更佳之抗酸性，其中一些實施例具有至少S2級及或更佳或甚至S1級之抗酸性。應理解，較低級排序具有改善之抗酸效能。因此，等級在S1處之組成物具有比等級在S2處之組成物更佳之抗酸性。
ISO 695標準為在置放於鹼性溶液中時玻璃之抗分解性之量測。ISO 695標準分成各個級。A1級指示高達75mg/dm2之重量損失；A2級指示自75mg/dm2至達175mg/dm2之重量損失；且A3級指示大於175mg/dm2之重量損失。本文中描述之玻璃組成物具有根據ISO 695之A2級或更佳之抗鹼性，其中一些實施例具有A1級抗鹼性。應理解，較低級排序具有改善之抗鹼效能。因此，等級在A1處之組成物具有比等級在A2處之組成物更佳之抗鹼性。
成形玻璃容器之玻璃組成物為化學耐久且抗降解的，如由ISO 720標準所決定。ISO 720標準為玻璃在蒸餾水中之抗降解性(亦即，玻璃之抗水解性)的量測。根據ISO 720協定評估玻璃之非離子交換樣本。用修正之ISO 720協定評估玻璃之離子交換樣本，其中玻璃經壓碎成ISO 720標準中要求之晶粒大小、在450℃之溫度下在100% KNO3之熔融鹽浴中離子交換至少5小時以在玻璃之各個晶粒中誘發壓縮應力層，且隨後根據ISO 720標準測試。ISO 720標準分成各個類型。HGA1型指示Na2O之高達62μg之萃取當量；HGA2型指示Na2O之大於62μg且高達527μg之萃取當量；且HGA3型指示Na2O之大於527μg且高達930μg之萃取當量。本文 中描述之玻璃組成物具有HGA2型或更佳之ISO 720抗水解性，其中一些實施例具有HGA1型抗水解性或更佳抗水解性。應理解，較低級排序具有改善之抗水解效能。因此，等級在HGA1處之組成物具有比等級在HGA2處之組成物更佳之抗水解性。
成形玻璃容器之玻璃組成物亦為化學耐久且抗降解的，如由ISO 719標準所決定。ISO 719標準為玻璃在蒸餾水中之抗降解性(亦即，玻璃之抗水解性)的量測。根據ISO 719協定評估玻璃之非離子交換樣本。用修正之ISO 719協定評估玻璃之離子交換樣本，其中玻璃經壓碎成ISO 719標準中要求之晶粒大小、在450℃之溫度下在100% KNO3之熔融鹽浴中離子交換至少5小時以在玻璃之各個晶粒中誘發壓縮應力層，且隨後根據ISO 719標準測試。ISO 719標準分成各個類型。HGB1型指示Na2O之高達31μg之萃取當量；HGB2型指示Na2O之大於31μg且高達62μg之萃取當量；HGB3型指示Na2O之大於62μg且高達264μg之萃取當量；HGB4型指示Na2O之大於264μg且高達620μg之萃取當量；且HGB5型指示Na2O之大於620μg且高達1085μg之萃取當量。本文中描述之玻璃組成物具有HGB2型或更佳之ISO 719抗水解性，其中一些實施例具有HGB1型抗水解性或更佳抗水解性。應理解，較低級排序具有改善之抗水解效能。因此，等級在HGB1處之組成物具有比等級在HGB2處之組成物更佳之抗水解性。
對於USP<660>測試及/或歐洲藥典3.2.1測試，本文 中描述之玻璃容器具有1型化學耐久性。如上所述，對完整玻璃容器，而非壓碎玻璃晶粒執行USP<660>測試及/或歐洲藥典3.2.1測試，且如此，USP<660>測試及/或歐洲藥典3.2.1測試可用於直接評估玻璃容器之內表面的化學耐久性。
應理解，當參看根據ISO 719、ISO 720、ISO 695及DIN 12116之上述等級時，具有特定等級「或更佳」之玻璃組成物或玻璃物件意謂玻璃組成物之效能與特定等級一樣好或比特定等級好。舉例而言，具有「HGB2」或更佳之ISO 719抗水解性之玻璃物件可具有HGB2或HGB1之ISO 719等級。
抗損壞性
如上所述，當容器經處理及填充時，玻璃容器可經受損壞，諸如，碰撞損壞、刻痕及/或磨損。此類損壞通常由各個玻璃容器之間的接觸或玻璃容器與製造設備之間的接觸引起。該損壞大體上降低容器之機械強度，且該損壞可導致貫穿性裂縫，該等裂縫可破壞容器之內容物的完整性。為防止該損壞，玻璃容器100進一步包括光滑塗層160，該塗層160定位在主體102之外表面106之至少一部分周圍，如第8圖中所示。在一些實施例中，光滑塗層160可定位在至少玻璃容器之主體102之外表面106上，而在其他實施例中，一或多個中間塗層可定位在光滑塗層與主體102之外表面106之間，諸如當無機塗層用於使主體102的表面承受壓縮應力時。光滑塗層降低主體102之具有塗層之部分的摩擦係數，且如此，光滑塗層降低玻璃主體102之外表面106上之磨損及表面損壞的發生。實質上，塗層允許容器相對於另一物體(或 容器)「滑動」，從而降低玻璃上之表面損壞的可能性。此外，光滑塗層160亦緩衝玻璃容器100之主體102，從而緩和鈍性碰撞損壞對玻璃容器之影響。
如本文中所使用，術語光滑意謂塗覆至玻璃容器之外表面的塗層具有比未經塗佈之玻璃容器低的摩擦係數，從而為玻璃容器提供改善之抗損壞性，諸如，刮傷、磨損等。
可在經塗佈玻璃容器處於塗佈狀態條件(亦即，在無任何額外處理的情況下塗覆塗層之後)時或在一或多個加工處理(諸如與在藥物填充線上執行之處理相似或相同的彼等處理，包括(但不限於)沖洗、凍幹、去熱解、高壓滅菌等)之後量測經塗佈玻璃容器之各種特性(亦即，摩擦係數、水平壓縮強度、4點彎曲強度、透明度、無色性等)。
去熱解為將熱源自物質移除之製程。玻璃物件(諸如，藥物封裝)之去熱解可藉由施加於樣本之熱處理執行，其中樣本經加熱至高溫達一段時間。舉例而言，去熱解可包括以下步驟：將玻璃容器加熱至約250℃與約380℃之間的溫度達約30秒至約72小時之一時間段，該時間段包括(但不限於)20分鐘、30分鐘、40分鐘、1小時、2小時、4小時、8小時、12小時、24小時、48小時及72小時。在熱處理之後，玻璃容器冷卻至室溫。通常用於藥物工業之一個習知去熱解條件為在約250℃之溫度下熱處理約30分鐘。然而，考慮到若利用較高溫度，則熱處理之時間可減少。如本文中描述，經塗佈玻璃容器可暴露至高溫達一時間段。本文中描述之高溫及加熱時間段可能足以或可能不足以去熱解玻璃容 器。然而，應理解，本文中描述之一些溫度及加熱時間段足以去熱解經塗佈玻璃容器，諸如，本文中描述之經塗佈玻璃容器。舉例而言，如本文中所描述，經塗佈玻璃容器可暴露至約250℃、約260℃、約270℃、約280℃、約290℃、約300℃、約310℃、約320℃、約330℃、約340℃、約350℃、約360℃、約370℃、約380℃、約390℃或約400℃之溫度達約30分鐘之時間段。
如本文中所使用，凍幹條件(亦即，冷凍乾燥)係指樣本填充有含有蛋白質之液體且樣本隨後在-100℃下冷凍、然後在真空下於-15℃水昇華20小時之製程。
如本文中所使用，高壓滅菌條件係指在100℃下蒸汽淨化樣本10分鐘，然後為20分鐘停止週期，在該停止周期中樣本暴露至121℃環境，然後在121℃下熱處理30分鐘。
經塗佈玻璃容器具有光滑塗層之部分的摩擦係數(μ)可具有比由相同玻璃組成物形成之未經塗佈玻璃容器的表面低的摩擦係數。摩擦係數(μ)為兩個表面之間的摩擦之定量量測且摩擦係數(μ)為第一表面及第二表面之機械特性及化學特性(包括表面粗糙度以及環境條件，諸如(但不限於)溫度及濕度)的函數。如本文中所使用，經塗佈玻璃容器100之摩擦係數量測經報告作為第一玻璃容器之外表面(具有介於約16.00mm與約17.00mm之間的外直徑)與第二玻璃容器之外表面之間的摩擦係數，該第二玻璃容器與第一玻璃容器相同，其中第一玻璃容器及第二玻璃容器具有相同主體及相同塗層組成物(當塗覆時)，且第一玻璃容器及第二玻璃 容器在製造之前、在製造期間及在製造之後暴露至相同環境。除非本文中另外指明，否則摩擦係數係指以在瓶對瓶測試架上量測之30N之正常負荷量測的最大摩擦係數，如本文中所使用。然而，應理解，在特定施加負荷下展現出最大摩擦係數之經塗佈玻璃容器亦將在較小負荷下展現出相同或更佳(亦即，更低)之最大摩擦係數。舉例而言，若經塗佈玻璃容器在50N之施加負荷下展現出0.5或更低之最大摩擦係數，則經塗佈玻璃容器亦將在25N之施加負荷下展現出0.5或更低之最大摩擦係數。
在本文中描述之實施例中，玻璃容器(經塗佈及未經塗佈兩者)之摩擦係數係用瓶對瓶測試架量測。第9圖中示意性圖示測試架300。相同裝置亦可用於量測定位在架中之兩個玻璃容器之間的摩擦力。瓶對瓶測試架300包含以交叉配置佈置之第一夾具312及第二夾具322。第一夾具312包含附接至第一底座316之第一固定臂314。第一固定臂314附接至第一玻璃容器310且第一固定臂314將第一玻璃容器310相對於第一夾具312固持為靜止。類似地，第二夾具322包含附接至第二底座326之第二固定臂324。第二固定臂324附接至第二玻璃容器320且第二固定臂324將第二玻璃容器320相對於第二夾具322固持為靜止。第一玻璃容器310定位在第一夾具312上，且第二玻璃容器320定位在第二夾具322上，以使得第一玻璃容器310之長軸及第二玻璃容器320之長軸相對於彼此呈約90°角定位且定位在由x-y軸界定之水平面上。
第一玻璃容器310定位為在接觸點330處接觸第二玻璃容器320。法線力施加至與由x-y軸界定之水平面正交的方向。可藉由靜重或施加至第二夾具322之其他力對靜止的第一夾具312施加法線力。例如，重量可定位在第二底座326上，且第一底座316可置放在穩定表面上，從而在接觸點330處誘發第一玻璃容器310與第二玻璃容器320之間的可量測力。或者，可用機械裝置(諸如，UMT(通用機械測試機)機器)施加力。
第一夾具312或第二夾具322可相對於另一者在一方向上移動，該方向與第一玻璃容器310及第二玻璃容器320之長軸呈45°角。舉例而言，第一夾具312可固持為靜止的，且第二夾具322可移動，以使得第二玻璃容器320在x軸之方向上移動跨越第一玻璃容器310。相似設置由R.L.De Rosa等人在The Journal of Adhesion(78：113-117，2002年)中之「Scratch Resistant Polyimide Coatings for Alumino Silicate Glass surfaces」中描述。為量測摩擦係數，移動第二夾具322所需之力及施加至第一玻璃容器310及第二玻璃容器320之法線力用測力器量測，且摩擦係數經計算作為摩擦力與法線力之商。架在25℃及50%之相對濕度之環境下操作。
在本文中描述之實施例中，經塗佈玻璃容器具有光滑塗層之部分相對於類塗佈玻璃容器具有小於或等於約0.7之摩擦係數，如用上述瓶對瓶架所決定。在其他實施例中，摩擦係數可小於或等於約0.6或甚至小於或等於約0.5。在一些實施例中，經塗佈玻璃容器具有光滑塗層之部分具有小於或 等於約0.4或甚至小於或等於約0.3之摩擦係數。具有小於或等於約0.7之摩擦係數之經塗佈玻璃容器大體上展現出改善之抗摩擦損壞性，且因此，該經塗佈玻璃容器具有改善之機械特性。舉例而言，習知玻璃容器(不具有光滑塗層)可具有大於0.7之摩擦係數。
在本文中描述之一些實施例中，經塗佈玻璃容器具有光滑塗層之部分的摩擦係數可比由相同玻璃組成物形成之未經塗佈玻璃容器的表面的摩擦係數小至少20%。舉例而言，經塗佈玻璃容器具有光滑塗層之部分的摩擦係數可比由相同玻璃組成物形成之未經塗佈之玻璃容器的表面的摩擦係數小至少20%、小至少25%、小至少30%、小至少40%或甚至小至少50%。
在一些實施例中，在暴露至約250℃、約260℃、約270℃、約280℃、約290℃、約300℃、約310℃、約320℃、約330℃、約340℃、約350℃、約360℃、約370℃、約380℃、約390℃或約400℃之溫度達30分鐘之時間段(亦即，去熱解條件)之後，經塗佈玻璃容器具有光滑塗層之部分可具有小於或等於約0.7之摩擦係數。在其他實施例中，在暴露至約250℃、約260℃、約270℃、約280℃、約290℃、約300℃、約310℃、約320℃、約330℃、約340℃、約350℃、約360℃、約370℃、約380℃、約390℃或約400℃之溫度達30分鐘之時間段之後，經塗佈玻璃容器具有光滑塗層之部分可具有小於或等於約0.7(亦即，小於或等於約0.6、小於或等於約0.5、小於或等於約0.4或甚至小於或等於約0.3)之 摩擦係數。在一些實施例中，在暴露至約260℃之溫度達30分鐘之後，經塗佈玻璃容器具有光滑塗層之部分的摩擦係數可能不會增加大於約30%。在其他實施例中，在暴露至約250℃、約260℃、約270℃、約280℃、約290℃、約300℃、約310℃、約320℃、約330℃、約340℃、約350℃、約360℃、約370℃、約380℃、約390℃或約400℃之溫度達30分鐘之時間段之後，經塗佈玻璃容器具有光滑塗層之部分的摩擦係數可能不會增加大於約30%(亦即，約25%、約20%、約15%或甚至約10%)。在其他實施例中，在暴露至約250℃、約260℃、約270℃、約280℃、約290℃、約300℃、約310℃、約320℃、約330℃、約340℃、約350℃、約360℃、約370℃、約380℃、約390℃或約400℃之溫度達30分鐘之時間段之後，經塗佈玻璃容器具有光滑塗層之部分的摩擦係數可能不會增加大於約0.5(亦即，約0.45、約0.4、約0.35、約0.3、約0.25、約0.2、約0.15、約0.1或甚至約0.5)。在一些實施例中，在暴露至約250℃、約260℃、約270℃、約280℃、約290℃、約300℃、約310℃、約320℃、約330℃、約340℃、約350℃、約360℃、約370℃、約380℃、約390℃或約400℃之溫度達30分鐘之時間段之後，經塗佈玻璃容器具有光滑塗層之部分的摩擦係數可能根本不增加。
在一些實施例中，在浸沒於約70℃溫度之水浴中達10分鐘之後，經塗佈玻璃容器具有光滑塗層之部分可具有小於或等於約0.7之摩擦係數。在其他實施例中，在浸沒於約70℃溫度之水浴中達5分鐘、10分鐘、20分鐘、30分鐘、40 分鐘、50分鐘或甚至1小時之後，經塗佈玻璃容器具有光滑塗層之部分可具有小於或等於約0.7(亦即，小於或等於約0.6、小於或等於約0.5、小於或等於約0.4或甚至小於或等於約0.3)之摩擦係數。在一些實施例中，在浸沒於約70℃溫度之水浴中達10分鐘之後，經塗佈玻璃容器具有光滑塗層之部分的摩擦係數可能不會增加大於約30%。在其他實施例中，在浸沒於約70℃溫度之水浴中達5分鐘、10分鐘、20分鐘、30分鐘、40分鐘、50分鐘或甚至1小時之後，經塗佈玻璃容器具有光滑塗層之部分之摩擦係數可能不會增加大於約30%(亦即，約25%、約20%、約15%或甚至約10%)。在一些實施例中，在浸沒於約70℃溫度之水浴中達5分鐘、10分鐘、20分鐘、30分鐘、40分鐘、50分鐘或甚至1小時之後，經塗佈玻璃容器具有光滑塗層之部分的摩擦係數可能根本不增加。
在一些實施例中，在暴露至凍幹條件之後，經塗佈玻璃容器具有光滑塗層之部分可具有小於或等於約0.7之摩擦係數。在其他實施例中，在暴露至凍幹條件之後，經塗佈玻璃容器具有光滑塗層之部分可具有小於或等於約0.7(亦即，小於或等於約0.6、小於或等於約0.5、小於或等於約0.4或甚至小於或等於約0.3)之摩擦係數。在一些實施例中，在暴露至凍幹條件之後，經塗佈玻璃容器具有光滑塗層之部分的摩擦係數可能不會增加大於約30%。在其他實施例中，在暴露至凍幹條件之後，經塗佈玻璃容器具有光滑塗層之部分的摩擦係數可能不會增加大於約30%(亦即，約25%、約20%、 約15%或甚至約10%)。在一些實施例中，在暴露至凍幹條件之後，經塗佈玻璃容器具有光滑塗層之部分的摩擦係數可能根本不增加。
在一些實施例中，在暴露至高壓滅菌條件之後，經塗佈玻璃容器具有光滑塗層之部分可具有小於或等於約0.7之摩擦係數。在其他實施例中，在暴露至高壓滅菌條件之後，經塗佈玻璃容器具有光滑塗層之部分可具有小於或等於約0.7(亦即，小於或等於約0.6、小於或等於約0.5、小於或等於約0.4或甚至小於或等於約0.3)之摩擦係數。在一些實施例中，在暴露至高壓滅菌條件之後，經塗佈玻璃容器具有光滑塗層之部分的摩擦係數可能不會增加大於約30%。在其他實施例中，在暴露至高壓滅菌條件之後，經塗佈玻璃容器具有光滑塗層之部分的摩擦係數可能不會增加大於約30%(亦即，約25%、約20%、約15%或甚至約10%)。在一些實施例中，在暴露至高壓滅菌條件之後，經塗佈玻璃容器具有光滑塗層之部分的摩擦係數可能根本不增加。
在一些實施例中，在具有光滑塗層160之玻璃容器100由相同玻璃容器以30N法線力磨損後，玻璃容器100之磨損區域之摩擦係數在由相同玻璃容器以30N法線力在同一斑點處執行另一磨損後增加不超過約20%。在其他實施例中，在具有光滑塗層160之玻璃容器100由相同玻璃容器以30N法線力磨損後，玻璃容器100之磨損區域之摩擦係數增加在由相同玻璃容器以30N法線力在同一斑點處執行另一磨損後不超過約15%或甚至10%。然而，不需要具有光滑塗層 160的玻璃容器100的全部實施例皆顯示此等特性。
本文中所述之經塗佈玻璃容器具有水平壓縮強度。如本文中所描述，水平壓縮強度由第4圖中示意性圖示之水平壓縮裝置500量測。經塗佈玻璃容器100藉由將容器水平地定位在兩個壓板502a、502b之間而得以測試，該兩個壓板502a、502b平行於玻璃容器之長軸定向，如第4圖中所示。隨後在垂直於玻璃容器之長軸之方向上向具有壓板502a、壓板502b之經塗佈玻璃容器100施加機械負荷504。小瓶壓縮之負荷率為0.5吋/分鐘，意謂壓板以0.5吋/分鐘之速率朝向彼此移動。在25℃及50%之相對濕度下量測水平壓縮強度。水平壓縮強度之量測可給定為在所選正常壓縮負荷下之破壞概率。如本文中所使用，當玻璃容器在水平壓縮下破裂時，至少50%之樣本中發生破壞。在一些實施例中，經塗佈玻璃容器可具有比未經塗佈小瓶大至少10%、20%或30%之水平壓縮強度。
現參看第8圖及第9圖，亦可對磨損之玻璃容器執行水平壓縮強度量測。具體言之，測試架300的操作可對經塗佈玻璃容器外表面產生損壞，諸如減弱經塗佈玻璃容器100的強度之表面刮痕或磨損。隨後，玻璃容器經受上文所述之水平壓縮程序，其中容器置放於具有平行於壓板向外指向之刮痕的兩個壓板之間。刮痕可由藉由瓶對瓶架所施加之所選法線壓力及刮痕長度來表徵。除非另行確定，否則水平壓縮程序之磨損玻璃容器之刮痕藉由30N之法線負荷產生之20mm之刮痕長度來表徵。
可在熱處理後評估經塗佈玻璃容器之水平壓縮強度。熱處理可暴露至約250℃、約260℃、約270℃、約280℃、約290℃、約300℃、約310℃、約320℃、約330℃、約340℃、約350℃、約360℃、約370℃、約380℃、約390℃或約400℃之溫度下達30分鐘之時間段。在一些實施例中，在暴露至熱處理(諸如，上文所描述之彼等熱處理)、隨後經磨損(如上所述)後，經塗佈玻璃容器之水平壓縮強度降低不超過約20%、30%或甚至40%。在一個實施例中，在暴露至約250℃、約260℃、約270℃、約280℃、約290℃、約300℃、約310℃、約320℃、約330℃、約340℃、約350℃、約360℃、約370℃、約380℃、約390℃或約400℃之熱處理達30分鐘之時間段且隨後經磨損後，經塗佈玻璃容器之水平壓縮強度降低不超過約20%。
在一些其他實施例中，具有光滑塗層160之玻璃容器100在高溫下可為熱穩定的。如本文中所使用，片語「熱穩定的」意謂在暴露至高溫後，塗覆至玻璃容器之光滑塗層160在玻璃容器之表面上實質上保持完整，以使得，在暴露後，經塗佈玻璃容器之機械特性(具體地，摩擦係數及水平壓縮強度)僅最低限度地受影響(若真的會受影響)。此情況指示，在高溫暴露後光滑塗層保持附著至玻璃之表面並繼續保護玻璃容器免受機械損害，諸如磨損、衝擊等等。在加熱至至少約250℃或甚至約260℃之溫度保持30分鐘之時間段後，本文中所述之具有光滑塗層之玻璃容器可能為熱穩定的。
在本文所述之實施例中，若在加熱至特定溫度並在彼 溫度下保持特定時間後，經塗佈玻璃容器滿足摩擦係數標準及水平壓縮強度標準兩者，則具有光滑塗層之玻璃容器(亦即，經塗佈玻璃容器)被視為係熱穩定的。為決定是否滿足摩擦係數標準，使用第9圖中所示之測試架及30N之施加負荷在原有狀態下(亦即，在任何熱暴露前)決定第一經塗佈玻璃容器之摩擦係數。在規定條件下熱暴露第二經塗佈玻璃容器(亦即，具有與第一經塗佈玻璃容器相同之玻璃組成物及相同之塗層組成物之玻璃容器)，並冷卻至室溫。此後，使用第9圖中所示之測試架決定第二玻璃容器之摩擦係數，以用30N之施加負荷磨損經塗佈玻璃容器，從而導致具有約20mm之長度之磨損(亦即，「刮痕」)。若第二經塗佈玻璃容器之摩擦係數小於0.7，且磨損區域中之第二玻璃容器之玻璃的表面無任何可觀察到的損壞，則滿足用於決定光滑塗層之熱穩定性的摩擦係數標準。如在本文中所使用，術語「可觀察到的損壞」意指，當用LED或鹵素光源以諾馬爾斯基(Nomarski)或微分干涉對比(DIC)光譜學顯微鏡在100X之放大率下觀察時，玻璃容器之磨損區域中之玻璃之表面每磨損區域之0.5cm長度具有小於六個玻璃裂縫(glass check)。在NIST特種出版物960-17(2006)之G.D.Quinn之「NIST Recommended Practice Guide：Fractography of Ceramics and Glasses，」中描述玻璃裂縫或玻璃裂痕(glass checking)之標準界定。
為決定是否滿足水平壓縮強度標準，以30N之負荷在第9圖中所示之測試架中磨損第一經塗佈玻璃容器以形成 20mm刮痕。隨後，第一經塗佈玻璃容器經歷水平壓縮測試(如本文中所述)，且決定第一經塗佈玻璃容器之殘留強度。在規定條件下熱暴露第二經塗佈玻璃容器(亦即，具有與第一經塗佈玻璃容器相同之玻璃組成物及相同之塗層組成物之玻璃容器)，並冷卻至室溫。此後，以30N之負荷在第9圖中所示之測試架中磨損第二經塗佈玻璃容器。隨後，第二經塗佈玻璃容器經歷水平壓縮測試(如本文中所述)，且決定第二經塗佈玻璃容器之殘留強度。若第二經塗佈玻璃容器之殘留強度相對於第一經塗佈玻璃容器未降低超過約20%，則水平壓縮強度標準滿足用於決定光滑塗層之熱穩定性之目的。
在本文所述之實施例中，若在將經塗佈玻璃容器暴露至至少約250℃或甚至約260℃之溫度下達約30分鐘之時間段後滿足摩擦係數標準及水平壓縮強度標準(亦即，經塗佈玻璃容器在至少約250℃或甚至約260℃之溫度下熱穩定達約30分鐘之時間段)，則經塗佈玻璃容器被視為係熱穩定的。熱穩定性亦可在約250℃至達約400℃之溫度下評估。舉例而言，在一些實施例中，若在至少約270℃或甚至約280℃之溫度下在約30分鐘之時間段內滿足該等標準，則經塗佈玻璃容器將被視為熱穩定的。在其他實施例中，若在至少約290℃或甚至約300℃之溫度下在約30分鐘之時間段內滿足該等標準，則經塗佈玻璃容器將被視為熱穩定的。在進一步實施例中，若在至少約310℃或甚至約320℃之溫度下在約30分鐘之時間段內滿足該等標準，則經塗佈玻璃容器將被視為熱穩 定的。在其他實施例中，若在至少約330℃或甚至約340℃之溫度下在約30分鐘之時間段內滿足該等標準，則經塗佈玻璃容器將被視為熱穩定的。在其他實施例中，若在至少約350℃或甚至約360℃之溫度下在約30分鐘之時間段內滿足該等標準，則經塗佈玻璃容器將被視為熱穩定的。在一些其他實施例中，若在至少約370℃或甚至約380℃之溫度下在約30分鐘之時間段內滿足該等標準，則經塗佈玻璃容器將被視為熱穩定的。在其他實施例中，若在至少約390℃或甚至約400℃之溫度下在約30分鐘之時間段內滿足該等標準，則經塗佈玻璃容器將被視為熱穩定的。
本文中所揭示之經塗佈玻璃容器亦可能在一個溫度範圍內係熱穩定的，意指，經塗佈玻璃容器因在該範圍中之每一溫度下滿足摩擦係數標準及水平壓縮強度標準而為熱穩定的。舉例而言，在本文所述之實施例中，經塗佈玻璃容器在至少約250℃或甚至約260℃至小於或等於約400℃之溫度下可為熱穩定的。在一些實施例中，經塗佈玻璃容器在至少約250℃或甚至約260℃至約350℃之範圍中可為熱穩定的。在一些其他實施例中，經塗佈玻璃容器在至少約280℃至小於或等於約350℃之溫度下可為熱穩定的。在其他實施例中，經塗佈玻璃容器在至少約290℃至約340℃下可為熱穩定的。在另一實施例中，經塗佈玻璃容器在約300℃至約380℃之溫度範圍中可為熱穩定的。在另一實施例中，經塗佈玻璃容器在約320℃至約360℃之溫度範圍中可為熱穩定的。
質量損失係指經塗佈玻璃容器之可量測特性，該可量 測特性與當經塗佈玻璃容器暴露至所選高溫達所選時間段時自經塗佈玻璃容器釋放之揮發物之量相關。質量損失大體上指示塗層歸因於熱暴露之機械降解。因為經塗佈玻璃容器之玻璃主體在量測溫度下不展現可量測的質量損失，故質量損失測試(如本文中詳細所描述)僅獲得針對塗覆至玻璃容器之光滑塗層之質量損失資料。多個因素可影響質量損失。舉例而言，可自塗層移除之有機材料之量可影響質量損失。聚合物中碳主鏈及側鏈之分解將導致塗層之理論上100%之移除。有機金屬聚合物材料通常損失該等材料之全部有機組分，但無機組分保留。因此，基於在完全理論之氧化後塗層之多少為有機的及無機的(例如，塗層之二氧化矽之%)來標準化質量損失結果。
為決定質量損失，經塗佈樣本(諸如，經塗佈玻璃容器)最初加熱至150℃並在此溫度下保持達30分鐘以乾燥塗層，有效地自塗層驅除H2O。隨後，樣本在氧化環境(諸如，空氣)中以10℃/分鐘之升溫速率自150℃加熱至350℃。為了質量損失決定目的，僅考慮自150℃至350℃收集之資料。在一些實施例中，當以約10℃/分鐘之升溫速率自150℃之溫度加熱至350℃時，光滑塗層具有小於光滑塗層之質量之約5%的質量損失。在其他實施例中，當以約10℃/分鐘之升溫速率自150℃之溫度加熱至350℃時，光滑塗層具有小於約3%或甚至小於約2%之質量損失。在一些其他實施例中，當以約10℃/分鐘之升溫速率自150℃之溫度加熱至350℃時，光滑塗層具有小於約1.5%的質量損失。在一些其他實施例中，當以 約10℃/分鐘之升溫速率自150℃之溫度加熱至350℃時，光滑塗層具有小於約0.75%的質量損失。在一些其他實施例中，當以約10℃/分鐘之升溫速率自150℃之溫度加熱至350℃時，光滑塗層實質上不損失光滑塗層之質量。
質量損失結果基於其中在熱處理(諸如，以10℃/分鐘自150℃加熱至350℃之升溫溫度)前及後比較經塗佈玻璃容器之重量的程序，如本文中所述。熱處理前及熱處理後小瓶之間的重量的差異為塗層之重量損失，該損失可作為塗層之百分比重量損失來標準化，以使得藉由比較未經塗佈玻璃容器與處理前經塗佈玻璃容器之重量來得知塗層之熱處理前之重量(重量不包括容器之玻璃主體及以下預備加熱步驟)。或者，塗層之總質量可藉由總有機碳測試或其他類似手段來決定。
現參看第10圖，除氣係指經塗佈玻璃容器100之可量測特性，該可量測特性與當經塗佈玻璃容器暴露至所選高溫達所選時段時自經塗佈玻璃容器100釋放之揮發物之量相關。除氣量測在本文中經報告作為每個玻璃容器之具有塗層之表面區域在暴露至高溫達時間段期間所釋放的揮發物的重量。因為經塗佈玻璃容器之玻璃主體在針對除氣所報告之溫度下不展現可量測的除氣，故除氣測試(如上文中詳細所描述)獲得實質上僅針對塗覆至玻璃容器之光滑塗層之除氣資料。除氣結果基於其中經塗佈玻璃容器100置放在第10圖中所示之裝置400之玻璃樣本腔402中之程序。在每一樣本運行前收集空樣本腔之背景樣本。樣本腔保持在由轉子流量計 406所量測之恆定之100ml/分鐘空氣淨化下，同時將熔爐404加熱至350℃並在彼溫度下保持1個小時以收集腔背景樣本。此後，經塗佈玻璃容器100定位在樣本腔402中且樣本腔保持在恆定之100ml/分鐘空氣淨化下並加熱至高溫，且樣本腔在彼溫度下保持一時間段以自經塗佈玻璃容器100收集樣本。玻璃樣本腔402由Pyrex製造，限制最大分析溫度至600℃。玻璃熱解析管(Carbotrap 300)吸附劑阱408裝配在樣本腔之排出埠上，以在所得揮發性物種自樣本釋放並藉由空氣淨化氣體410掃過吸收揮發性物種之高吸水性樹脂時吸收所得揮發物。隨後，高吸水性樹脂直接置放至格斯特爾熱脫附單元(Gerstel Thermal Desorption unit)中，該熱脫附單元直接耦接至Hewlett Packard 5890II系氣相色譜儀/Hewlett Packard 5989 MS引擎。除氣物種在350℃下自高吸水性樹脂熱脫附且低溫集中在非極性氣相色譜柱(DB-5MS)之頭端處。氣相色譜儀內之溫度以10℃/分鐘之速率增加至325℃之最終溫度，以便分離及純化揮發性有機物種及半揮發性有機物種。已證明分離機制係基於蒸發不同有機物之熱能，本質上產生沸點或蒸餾色譜圖。在分離後，藉由傳統電子碰撞電離質譜協定分析經純化之物種。藉由在標準化條件下操作，所得質譜可與現有質譜庫相比較。
在一些實施例中，在暴露至約250℃、約275℃、約300℃、約320℃、約360℃或甚至約400℃之高溫約15分鐘、約30分鐘、約45分鐘或約1小時之時間段期間，本文中所述之經塗佈玻璃容器展現小於或等於約54.6ng/cm2、小於或 等於約27.3ng/cm2或甚至小於或等於約5.5ng/cm2之除氣。此外，經塗佈玻璃容器在特定溫度範圍中可能係熱穩定的，意指，經塗佈容器在特定範圍內之每一溫度下展現如上所述之某一除氣。在除氣量測前，經塗佈玻璃容器可處於塗佈狀態條件(亦即，緊接著塗覆光滑塗層)或接著去熱解、冷凍乾燥或高溫滅菌中之任一者。在一些實施例中，經塗佈玻璃容器100可實質上不展現除氣。
在一些實施例中，除氣資料可用於決定光滑塗層之質量損失。預熱處理塗層質量可藉由塗層之厚度(藉由SEM影像或其他方式決定)、光滑塗層之密度及光滑塗層之表面面積來決定。此後，經塗佈玻璃容器可經歷除氣程序，且質量損失可藉由求出除氣中排出之質量與預熱處理質量之比率來決定。
本文中所述之經塗佈玻璃容器具有四點彎曲強度。為量測玻璃容器之四點彎曲強度，將為經塗佈玻璃容器100之前軀物之玻璃管用於量測。玻璃管具有與玻璃容器相同之直徑，但玻璃管不包括玻璃容器底座或玻璃容器口(亦即，在將管成形為玻璃容器前)。隨後，玻璃管經歷四點彎曲應力測試以誘發機械破壞。在50%之相對濕度下用間隔開9 " 之外部接觸構件及間隔開3 " 之內部接觸構件以10mm/分鐘之加載速率執行測試。
亦可對經塗佈及磨損之管執行四點彎曲應力量測。如在磨損小瓶之水平壓縮強度之量測中所述，測試夾300之操作可對管表面產生磨損(諸如，減弱管之強度之表面刮痕)。 隨後，玻璃管經歷四點彎曲應力測試以誘發機械破壞。在25℃及50%之相對濕度下使用間隔開9 " 之外部探針及間隔開3 " 之內部接觸構件以10mm/分鐘之加載速率執行測試，同時管經定位以使得在測試期間刮痕在張力下出現。
在一些實施例中，具有光滑塗層之玻璃管之四點彎曲強度在磨損後展現比在相同條件下磨損之未經塗佈玻璃管之機械強度平均高至少10%、20%或甚至50%之機械強度。
參看第11圖，可藉由使用分光光度計量測容器在400nm到700nm之間的波長範圍內之光透射來評估經塗佈容器之透明度及顏色。藉由將光束垂直於容器壁引向容器上，以使得光束兩次穿過光滑塗層(第一次在進入容器時穿過，且隨後在退出容器時穿過)來執行該等量測。在一些實施例中，針對約400nm至約700nm之波長，穿過經塗佈玻璃容器之光透射可大於或等於穿過未經塗佈玻璃容器之光透射之約55%。如本文中所述，可在熱處理前或熱處理後(諸如，本文中所述之熱處理)量測光透射。舉例而言，針對約400nm至約700nm之每一波長，光透射可大於或等於穿過未經塗佈玻璃容器之光透射之約55%。在其他實施例中，針對約400nm至約700nm之波長，穿過經塗佈玻璃容器之光透射大於或等於穿過未經塗佈玻璃容器之光透射之約55%、約60%、約65%、約70%、約75%、約80%或甚至約90%。
如在本文中所述，可在環境處理(諸如，本文中所述之熱處理)前或環境處理後量測光透射。舉例而言，在約250℃、約260℃、約270℃、約280℃、約290℃、約300℃、約 310℃、約320℃、約330℃、約340℃、約350℃、約360℃、約370℃、約380℃、約390℃或約400℃之熱處理達30分鐘之時間段之後，或暴露至冷凍乾燥條件後，或在暴露至高壓滅菌條件後，針對約400nm至約700nm之波長，穿過經塗佈玻璃容器之光透射大於或等於穿過未經塗佈玻璃容器之光透射之約55%、約60%、約65%、約70%、約75%、約80%或甚至約90%。
在一些實施例中，當在任何角度觀測時，經塗佈玻璃容器100可被認為係對人類肉眼而言係無色的且透明的。在一些其他實施例中，光滑塗層160可具有明顯顏色，諸如當光滑塗層160包含由購自Aldrich之聚(苯四甲酸二酐-共-4,4'-氧二苯胺)醯胺酸形成的聚醯亞胺時。
在一些實施例中，具有光滑塗層160之玻璃容器100可具有能夠收納黏著劑標簽之外表面。換言之，儘管光滑塗層160具有低摩擦係數，但塗層仍能夠收納黏著劑標簽，以使得黏著劑標簽固定地附接。然而，附接黏著劑標簽之能力並非本文中所述之具有光滑塗層160之玻璃容器100之全部實施例所必需。
再次參看第8圖，在一些實施例中，光滑塗層160可為暫態塗層。如在本文中所使用，片語「暫態塗層」意謂塗層並非永久地附著至玻璃容器100且塗層可能(諸如)藉由沖洗、加熱(亦即，熱解)等自玻璃容器100移除。舉例而言，在光滑塗層160為可藉由熱解移除之暫態塗層的實施例中，塗層可在小於或等於約300℃之溫度下熱解。或者，光滑 塗層160可為可藉由以清潔劑與水之溶液沖洗玻璃容器而移除的暫態塗層。
在本文所述之實施例中，玻璃容器可塗佈有無機塗層、暫態有機塗層及/或韌性有機塗層，以便達到所要之低摩擦係數及抗損壞性。
無機塗層
仍參看第8圖，在本文所述之一些實施例中，光滑塗層160為無機塗層。無機塗層可為永久地附著至玻璃容器之主體102之外表面106之韌性無機塗層。韌性無機塗層之特性不會由於暴露至高溫而降級，且如此，具有韌性無機塗層之玻璃容器之摩擦係數及水平壓縮強度在暴露至高溫(包括(但不限於)在約250℃至約400℃之範圍中之溫度)之前及之後實質上相同。韌性無機塗層為塗覆至主體之外表面之至少一部分的連續塗層，且韌性無機塗層大體上不溶於水及/或有機溶劑。舉例而言，在一些實施例中，韌性無機塗層可包含金屬氮化物塗層、金屬硫化物塗層、金屬氧化物塗層、SiO2、類金剛石碳或碳化物塗層。舉例而言，韌性無機塗層可包括以下中之至少一者：TiN、BN、hBN、TiO2、Ta2O5、HfO2、Nb2O5、V2O5、SnO、SnO2、ZrO2、Al2O3、SiO2、ZnO、MoS2、BC、SiC或相對於類經塗佈玻璃容器展現相對低之摩擦係數以及具有相對高之熱穩定性之類似金屬氧化物、金屬氮化物及碳化物塗層。在該等實施例中，塗層可藉由物理氣相沉積方法(諸如，蒸發、電子束蒸發、直流磁控濺鍍、非平衡直流磁控濺鍍、交流磁控濺鍍及非平衡交流磁控濺鍍) 塗覆至玻璃容器之外表面。或者，塗層可藉由粉末塗佈來塗覆。亦可使用化學氣相沉積(CVD)技術來塗覆塗層，該等技術包括，超高真空CVD、低壓CVD、大氣壓CVD、金屬有機化合物CVD、雷射CVD、光化學CVD、氣溶膠輔助CVD、微波電漿輔助CVD、電漿增強CVD、直接液體注入CVD、原子層CVD、燃燒CVD、熱絲CVD、快熱CVD、化學氣相滲透及化學束磊晶。
在一個特定實施例中，韌性無機塗層為類金剛石碳。由類金剛石碳形成之薄膜或塗層大體上展現低摩擦係數及高硬度。具體言之，DLC塗層中之大量碳為SP3雜化碳。該材料將金剛石之一些特性賦予該等塗層，如高硬度及優異的耐磨性。DLC塗層之硬度與SP3雜化碳之含量成正例。DLC塗層可藉由離子束沉積、陰極電弧噴射、脈衝雷射燒蝕、氬離子濺鍍及電漿輔助化學氣相沉積而沉積在玻璃容器之外表面上。取決於所沉積DLC塗層之厚度、特定之沉積方法及塗層之組成物，沉積層之顏色可自光學透明之黃色(亦即，0.1μm厚之DLC薄膜可使用淺黃色淡色而光學透明)變化至琥珀色及黑色。
或者，光滑塗層160可為暫時附著至玻璃容器之外表面之無機塗層，諸如，暫態塗層。在該等實施例中，暫態塗層可包括無機鹽，諸如MgSO4、CaSO4、Ca3(PO4)2、Mg3(PO4)2、KNO3,K3PO4等等。
有機塗層
在一些替代實施例中，光滑塗層160可為有機塗層， 諸如暫時附著至玻璃容器之外表面之暫態塗層或永久地附著至玻璃容器之外表面之韌性有機塗層。
關於有機暫態塗層，對於保護玻璃物件(諸如，玻璃容器等)之表面在製造期間免受損壞，以便緩和歸因於與玻璃之接觸而引起之表面缺陷之玻璃機械強度之降低是理想的。此舉大體上藉由塗覆具有低摩擦係數之塗層(如上所述)而實現。然而，因為玻璃容器可能經歷進一步處理，故塗層不需要永久地附著至玻璃容器之外表面，而是塗層可在塗層完成保護玻璃物件之目的後在下游處理步驟中移除。舉例而言，暫態塗層可藉由熱解而移除。在本文所述之實施例中，暫態塗層可在小於或等於300℃之溫度下熱解達小於或等於1小時之時間段。或者，暫態塗層可在265℃之溫度下熱解2.5小時或甚至在360℃下熱解10分鐘或更短時間。
各種有機材料可用於形成暫態塗層。舉例而言，在一些實施例中，暫態塗層可包含(例如)美國專利第3,577,256號中所揭示之聚乙二醇、丙烯酸樹脂、三聚氰胺甲醛樹脂及聚乙烯醇之混合物。此塗層可在形成後塗覆至玻璃容器之外表面且此塗層可在退火窯中自玻璃表面熱解。
在另一實施例中，暫態有機塗層可包含一或多種多糖，如在描述可移除保護塗層之美國專利第6,715,316B2號中所揭示。此等塗層可使用溫和的基於水之清潔劑(諸如(例如)2%之Semiclean KG於水中)而自玻璃表面移除。
在另一實施例中，暫態有機塗層可為「冷端」塗層(如在美國專利第4,055,441號中所描述)或類似塗層。此等塗層 可由以下中之至少一者形成：聚環氧乙烷；聚環氧丙烷；環氧乙烷-環氧丙烷共聚物；聚乙烯吡咯啶酮；聚乙烯亞胺；聚甲基乙烯基醚；聚丙烯醯胺；聚甲基丙烯醯胺；聚氨酯；聚乙酸乙烯酯；聚乙烯甲醛；聚甲醛，包括聚縮醛及縮醛共聚物；聚甲基丙烯酸烷基酯；甲基纖維素；乙基纖維素；羥乙基纖維素；羥丙基纖維素；羧甲基纖維素鈉；甲基羥丙基纖維素；聚丙烯酸及聚丙烯酸鹽；聚甲基丙烯酸及聚甲基丙烯酸鹽；乙烯-順丁烯二酸酐共聚物；乙烯-乙烯醇共聚物；乙烯-丙烯酸共聚物；乙酸乙烯酯-乙烯醇共聚物；甲基乙烯基醚-順丁烯二酸酐共聚物；可乳化聚氨酯；聚氧乙烯硬脂酸酯；及聚烯烴，包括聚乙烯、聚丙烯及聚乙烯、聚丙烯之共聚物、澱粉及改質澱粉、親水膠體、聚丙烯醯胺、植物脂肪及動物脂肪、蠟、牛脂、皂、硬脂-石蠟乳液、二甲基或二苯基或甲基/苯基聚矽氧烷混合物、全氟化矽氧烷及其他經取代矽氧烷、烷基矽烷、芳族矽烷及氧化聚乙烯，以上之組合物或類似塗層。
暫態有機塗層可藉由使此塗層直接與玻璃容器接觸來塗覆。舉例而言，塗層可藉由浸沒製程，或替代性地藉由噴射或其他適合手段來塗覆。然後，塗層可在高溫下乾燥且視情況固化。
現參看第8圖及第12A圖，在一些實施例中，光滑塗層160為附著至玻璃主體102之外表面106之至少一部分之韌性有機塗層。韌性有機塗層具有低摩擦係數且在高溫下亦係熱穩定的，如上所述。光滑塗層160具有外表面162及玻 璃接觸表面164。在光滑塗層160為韌性有機塗層之實施例中，光滑塗層160可包含偶合劑層180及聚合物層170，該偶合劑層180與玻璃主體102之外表面106直接接觸，該聚合物層170與偶合劑層180直接接觸。然而，應理解，在一些實施例中，光滑塗層160可不包括偶合劑層180，且聚合物層170可與玻璃主體102之外表面106直接接觸。在一些實施例中，光滑塗層160為如在2013年2月28日申請且題為「Glass Articles with Low Friction Coatings」的美國臨時申請案第13/780,754號中所述之塗層，該案全文以引用之方式併入本文中。
現參看第8圖及第12A圖，在一個實施例中，光滑塗層160包含雙層結構。第12A圖圖示經塗佈玻璃容器之一部分之橫截面，其中光滑塗層160包含聚合物層170及偶合劑層180。聚合物層170中可含有聚合物化學組成物且偶合劑層180中可含有偶合劑。偶合劑層180可與玻璃主體102之外表面106直接接觸。聚合物層170可與偶合劑層180直接接觸且聚合物層170可形成光滑塗層160之外表面162。在一些實施例中，偶合劑層180結合至玻璃主體102之外表面106且聚合物層170在界面174處結合至偶合劑層180。然而，應理解，在一些實施例中，光滑塗層160可不包括偶合劑，且聚合物化學組成物可安置於聚合物層170中，該聚合物層170與玻璃主體102之外表面106直接接觸。在另一實施例中，聚合物化學組成物及偶合劑可實質上混合在單一層中。在一些其他實施例中，聚合物層170可定位在偶合劑層180上方， 意謂聚合物層170相對於偶合劑層180及玻璃主體102之外表面106位於外層中。如在本文中使用，定位在第二層「上方」之第一層意指，第一層可與第二層直接接觸或與第二層分離，諸如與安置於第一層與第二層之間的第三層直接接觸。
現參看第12B圖，在一個實施例中，光滑塗層160可進一步包含定位在偶合劑層180與聚合物層170之間的界面層190。界面層190可包含聚合物層170之一或多種化學組成物，該一或多種化學組成物與偶合劑層180之一或多種化學組成物結合。在該實施例中，偶合劑層180及聚合物層170之界面形成界面層190，其中在聚合物化學組成物與偶合劑之間發生結合。然而，應理解，在一些實施例中，在偶合劑層180及聚合物層170之界面處可能不存在可觀層，聚合物及偶合劑在該可觀層中彼此化學結合，如上文參考第12A圖所描述。
在另一實施例中，聚合物化學組成物及偶合劑可實質上混合在單一層中，形成光滑塗層之均勻層。此混合單一層可與玻璃主體102之外表面106直接接觸。如在本文中所述，聚合物層170及偶合劑層180之材料(亦即，分別為至少一種聚合物及至少一種偶合劑)可經混合以形成至少一層光滑塗層160。混合層光滑塗層160可另外包含除聚合物化學組成物及偶合劑之外之材料。為形成混合層光滑塗層160，在將光滑塗層160塗覆至玻璃容器100上前，此層各種材料可一起混合在溶液中。在其他實施例中，混合層可在非混合層上方或下方，諸如(例如)聚合物與偶合劑之混合層在實質上僅 聚合物材料之層下方。在其他實施例中，光滑塗層可包含超過兩層，諸如，三或四層。
塗覆至玻璃主體102之外表面106之光滑塗層160可具有小於約100μm或甚至小於或等於約1μm之厚度。在一些實施例中，光滑塗層160之厚度可小於或等於約100nm厚。在其他實施例中，光滑塗層160可為小於約90nm厚、小於約80nm厚、小於約70nm厚、小於約60nm厚、小於約50nm厚或甚至小於約25nm厚。在一些實施例中，光滑塗層160可能不具有遍及玻璃主體102之整體之均勻厚度。舉例而言，經塗佈玻璃容器100可在一些區域中具有較厚光滑塗層160，此係歸因於使玻璃主體102之外表面106與形成光滑塗層160之一或多個塗層溶液接觸之製程。在一些實施例中，光滑塗層160可具有非均勻之厚度。舉例而言，塗層厚度可在經塗佈玻璃容器100之不同區域上改變，此舉可促進所選區域之保護。在另一實施例中，僅玻璃主體之外表面106之所選部分塗佈有光滑塗層160。
在包括至少兩層(諸如，聚合物層170、界面層190及/或偶合劑層180)之實施例中，每一層具有小於約100μm或甚至小於或等於約1μm之厚度。在一些實施例中，每一層之厚度可小於或等於約100nm。在其他實施例中，每一層可為小於約90nm厚、小於約80nm厚、小於約70nm厚、小於約60nm厚、小於約50nm厚或甚至小於約25nm厚。
如本文中所述，在一些實施例中，光滑塗層160包含偶合劑。偶合劑可改善聚合物化學組成物至玻璃主體102之 外表面106之附著或結合，且偶合劑大體上安置於玻璃主體102與聚合物化學組合物層170中之聚合物化學組成物之間或與聚合物化學組成物混合。如本文中所使用，附著係指在對經塗佈玻璃容器實施處理(諸如，熱處理)之前及之後聚合物層之附著或結合強度。熱處理包括(但不限於)高壓滅菌、去熱解、冷凍乾燥等。
在一個實施例中，偶合劑可包含至少一種矽烷化學組成物。如本文中所使用，「矽烷」化學組成物為任何化學組成物，該化學組成物包含矽烷部分(包括功能性有機矽烷)以及由矽烷於水溶液中形成之矽醇。偶合劑之矽烷化學組成物可為芳族或脂族。在一些實施例中，至少一種矽烷化學組成物可包含胺部分，諸如一級胺部分或二級胺部分。此外，偶合劑可包含此等矽烷之水解產物及/或寡聚物，諸如由一或多種矽烷化學組成物形成之一或多種倍半氧矽烷化學組成物。倍半氧矽烷化學組成物可包含完整籠形結構、部分籠形結構或不包含籠形結構。
偶合劑可包含任何數目之不同化學組成物，諸如一種化學組成物、兩種不同化學組成物或兩種以上不同化學組成物(包括由一種以上單體化學組成物形成之寡聚物)。在一個實施例中，偶合劑可包含以下中之至少一者：(1)第一矽烷化學組成物、該化學組成物之水解產物或該化學組成物之寡聚物；及(2)由至少第一矽烷化學組成物及第二矽烷化學組成物之低聚合形成之化學組成物。在另一實施例中，偶合劑包含第一矽烷及第二矽烷。如在本文中所使用，「第一」 矽烷化學組成物及「第二」矽烷化學組成物為具有不同化學組成物之矽烷。第一矽烷化學組成物可為芳族或脂族化學組成物，第一矽烷化學組成物可視情況包含胺部分且可視情況為烷氧矽烷。類似地，第二矽烷化學組成物可為芳族或脂族化學組成物，第二矽烷化學組成物可視情況包含胺部分且可視情況為烷氧矽烷。
舉例而言，在一個實施例中，僅一種矽烷化學組成物應用為偶合劑。在此實施例中，偶合劑可包含矽烷化學組成物、該矽烷化學組成物之水解產物或該矽烷化學組成物之寡聚物。
在另一實施例中，多種矽烷化學組成物可應用為偶合劑。在此實施例中，偶合劑可包含以下中之至少一者：(1)第一矽烷化學組成物及第二矽烷化學組成物之混合物；及(2)由至少第一矽烷化學組成物及第二矽烷化學組成物之低聚合形成之化學組成物。
參看上文所述之實施例，第一矽烷化學組成物、第二矽烷化學組成物或兩者皆可為芳族化學組成物。如在本文中所使用，芳族化學組成物含有苯系特有之一或多個六碳環及相關有機部分。芳族矽烷化學組成物可為烷氧矽烷，諸如(但不限於)二烷氧矽烷化學組成物、該二烷氧矽烷化學組成物之水解產物或該二烷氧矽烷化學組成物之寡聚物，或三烷氧矽烷化學組成物、該三烷氧矽烷化學組成物之水解產物或該三烷氧矽烷化學組成物之寡聚物。在一些實施例中，芳族矽烷可包含胺部分且芳族矽烷可為包含胺部分之烷氧矽烷。在 另一實施例中，芳族矽烷化學組成物可為芳族烷氧矽烷化學組成物、芳族醯氧矽烷化學組成物、芳族鹵素矽烷化學組成物或芳族胺基矽烷化學組成物。在另一實施例中，芳族矽烷化學組成物可選自由以下組成之群組：胺基苯、3-(間胺基酚)丙基、N-苯胺丙基或(氯甲基)苯基取代烷氧基、醯氧基、鹵素或胺基矽烷。舉例而言，芳族烷氧矽烷可為(但不限於)胺苯基三甲氧基矽烷(本文中有時稱為「APhTMS」)、胺苯基二甲氧基矽烷、胺苯基三乙氧基矽烷、胺苯基二乙氧基矽烷、3-(間胺基苯氧基)丙基三甲氧基矽烷、3-(間胺基苯氧基)丙基二甲氧基矽烷、3-(間胺基苯氧基)丙基三乙氧基矽烷、3-(間胺基苯氧基)丙基二乙氧基矽烷、N-苯基胺丙基三甲氧基矽烷、N-苯基胺丙基二甲氧基矽烷、N-苯基胺丙基三乙氧基矽烷、N-苯基胺丙基二乙氧基矽烷、以上各者之水解產物或以上各者之低聚合化學組成物。在示例性實施例中，芳族矽烷化學組成物可為胺苯基三甲氧基矽烷。
再次參看上文所述之實施例，第一矽烷化學組成物、第二矽烷化學組成物或兩者皆可為脂族化學組成物。如本文中所使用，脂族化學組成物為非芳族的，諸如，具有開鏈結構之化學組成物(諸如，但不限於烷烴、烯烴及炔烴)。舉例而言，在一些實施例中，偶合劑可包含為以下化學組成物：該化學組成物烷氧矽烷且可為脂族烷氧矽烷，諸如(但不限於)二烷氧矽烷化學組成物、該二烷氧矽烷化學組成物之水解產物或該二烷氧矽烷化學組成物之寡聚物或三烷氧矽烷化學組成物、該三烷氧矽烷化學組成物之水解產物或該三烷氧 矽烷化學組成物之寡聚物。在一些實施例中，脂族矽烷可包含胺部分且脂族矽烷可為包含胺部分之烷氧矽烷，諸如，胺基烷基三烷氧基矽烷。在一個實施例中，脂族矽烷化學組成物可選自由以下組成之群組：3-胺丙基、N-(2-胺乙基)-3-胺丙基、乙烯基、甲基、N-苯胺丙基、(N-苯基胺基)甲基、N-(2-乙烯基苯甲基胺基乙烷基)-3-胺丙基取代烷氧基、醯氧基、鹵素或胺基矽烷、以上各者之水解產物或以上各者之寡聚物。胺基烷基三烷氧基矽烷包括(但不限於)3-胺丙基三甲氧基矽烷(本文中有時稱為「GAPS」)、3-胺丙基二甲氧基矽烷、3-胺丙基三乙氧基矽烷、3-胺丙基二乙氧基矽烷、N-(2-胺基乙基)-3-胺丙基三甲氧基矽烷、N-(2-胺基乙基)-3-胺丙基二甲氧基矽烷、N-(2-胺基乙基)-3-胺丙基三乙氧基矽烷、N-(2-胺基乙基)-3-胺丙基二乙氧基矽烷、以上各者之水解產物及以上各者之寡聚化學組成物。在其他實施例中，脂族烷氧矽烷化學組成物可不含胺部分，諸如烷基三烷氧基矽烷或烷基二烷氧基矽烷。此等烷基三烷氧基矽烷或烷基二烷氧基矽烷包括(但不限於)乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基二甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基二乙氧基矽烷、甲基三甲氧基矽烷、甲基二甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、甲基二乙氧基矽烷、以上各者之水解產物及以上各者之寡聚化學組成物(包括胺基功能性倍半氧矽烷寡聚物，諸如(但不限於)由Gelest製造之WSA-7011、WSA-9911、WSA-7021、WSAV-6511)。在示例性實施例中，脂族矽烷化學組成物為3-胺基丙基三甲氧基矽烷。
在另一實施例中，偶合劑層180可包含化學物種，該等化學物種為胺基烷氧矽烷之水解類似物，諸如(但不限於)(3-胺丙基)矽烷三醇、N-(2-胺乙基)-3-胺丙基-矽烷三醇及/或以上各者之混合物。
在另一實施例中，偶合劑層180可包含化學物種，該等化學物種為胺基烷氧倍半氧矽烷。在一個實施例中，偶合劑層180包含胺丙基倍半氧矽烷(APS)寡聚物(作為水溶液購自Gelest)。
在另一實施例中，偶合劑層180可為無機材料，諸如金屬及/或陶瓷薄膜。用作偶合劑層180之適合無機材料的非限制性實例包括錫、鈦及/或以上各者之氧化物。
已發現，由不同化學組成物之組合(尤其是矽烷化學組成物之組合)形成偶合劑可改善光滑塗層160之熱穩定性。舉例而言，已發現，芳族矽烷及脂族矽烷之組合(諸如，如上所描述之彼等)改善光滑塗層之熱穩定性，從而產生保持光滑塗層之機械特性(諸如，在高溫下熱處理後之摩擦係數及附著效能)之塗層。因此，在一個實施例中，偶合劑包含芳族及脂族矽烷之組合。在該等實施例中，脂族矽烷與芳族矽烷之比(脂族：芳族)可為約1：3至約1：0.2。若偶合劑包含兩種或兩種以上化學組成物，諸如，至少一種脂族矽烷及芳族矽烷，兩種化學組成物之重量比可為任何比，諸如，約0.1：1至約10：1之第一矽烷化學組成物與第二矽烷化學組成物之重量比(第一矽烷：第二矽烷)。舉例而言，在一些實施例中，比率可為0.5：1至約2：1，諸如2：1、1：1、 0.5：1。在一些實施例中，偶合劑可包含多種脂族矽烷及/或多種芳族矽烷之組合，該等組合可在有機或無機填料存在或不存在的情況下以一或多個步驟塗覆至玻璃容器。在一些實施例中，偶合劑包含由脂族及芳族矽烷兩者形成之寡聚物，諸如，倍半氧矽烷。
在示例性實施例中，第一矽烷化學組成物為芳族矽烷化學組成物，且第二矽烷化學組成物為脂族矽烷化學組成物。在一個示例性實施例中，第一矽烷化學組成物為包含至少一個胺部分之芳族烷氧矽烷化學組成物，且第二矽烷化學組成物為包含至少一個胺部分之脂族烷氧矽烷化學組成物。在另一示例性實施例中，偶合劑包含一或多種矽烷化學組成物之寡聚物，其中寡聚物為倍半氧矽烷化學組成物，且矽烷化學組成物中之至少一種包含至少一個芳族部分及至少一個胺部分。在一個特定示例性實施例中，第一矽烷化學組成物為胺苯基三甲氧基矽烷，且第二矽烷化學組成物為3-胺丙基三甲氧基矽烷。芳族矽烷與脂族矽烷之比可為約1：1。在另一特定例示性實施例中，偶合劑包含由胺苯基三甲氧基及3-胺丙基三甲氧基形成之寡聚物。在另一實施例中，偶合劑可包含胺苯基三甲氧基及3-胺丙基三甲氧基之混合物及由兩者形成之寡聚物兩者。
在一個實施例中，偶合劑經藉由浸沒製程使表面與稀釋偶合劑接觸而塗覆至玻璃主體102之外表面106。當塗覆至玻璃主體102時，偶合劑可混合在溶劑中。在另一實施例中，偶合劑可藉由噴射或其他適合手段塗覆至玻璃主體102。隨 後，具有偶合劑之玻璃主體可在約120℃下乾燥約15分鐘，或以足以充分地釋放壁部110之外表面106上存在之水及/或其他有機溶劑之任何時間及溫度下乾燥。
參看第12A圖，在一個實施例中，偶合劑定位在玻璃容器上作為偶合劑層180，且偶合劑作為溶液而塗覆，該溶液包含與水及有機溶劑(諸如但不限於甲醇)中之至少一者混合之約0.5重量%之第一矽烷及約0.5重量%之第二矽烷(總計1重量%矽烷)。然而，應理解，溶液中之總矽烷濃度可大於或小於約1重量%，諸如約0.1重量%至約10重量%、約0.3重量%至約5.0重量%或約0.5重量%至約2.0重量%。舉例而言，在一個實施例中，有機溶劑與水之重量比(有機溶劑：水)可為約90：10至約10：90，且在一個實施例中該重量比可為約75：25。矽烷與溶劑之重量比可影響偶合劑層之厚度，其中偶合劑溶液中之增加之矽烷化學組成物百分數可增加偶合劑層180之厚度。然而，應理解，其他變量可影響偶合劑層180之厚度，諸如(但不限於)，浸漬塗佈製程之特性，諸如自浴之抽出速度。舉例而言，較快之抽出速率可形成較厚之偶合劑層180。
在一個實施例中，偶合劑層180作為包含第一矽烷化學物種及第二矽烷化學物種之溶液而塗覆，該溶液可改善光滑塗層160之熱穩定性及/或機械特性。舉例而言，第一矽烷化學物種可為脂族矽烷，諸如GAPS，且第二矽烷化學物種可為芳族矽烷，諸如APhTMS。在該實例中，脂族矽烷與芳族矽烷之比(脂族：芳族)可為約1：1。然而，應理解，其他 比係可能的，包括約1：3至約1：0.2，如上所述。芳族矽烷化學物種及脂族矽烷化學物種可與水及有機溶劑(諸如但不限於，甲醇)中之至少一者混合。隨後，該溶液可塗佈在玻璃主體102之外表面106上且經固化以形成偶合劑層180。
在另一實施例中，偶合劑層180作為包含0.1體積%之市售胺丙基倍半氧矽烷寡聚物之溶液而塗覆。可使用其他濃度之偶合劑層溶液，包括(但不限於)0.01體積%至10.0體積%之胺丙基倍半氧矽烷寡聚物溶液。
在一些實施例中，偶合劑層180足夠熱穩定，以使得偶合劑層180可在無任何額外塗層(諸如，聚合物化學組成物層170等)的情況下獨自用作光滑塗層160。因此，應理解，在該等實施例中，光滑塗層160包括單一組成物，具體言之，偶合劑。
如本文中所述，當光滑塗層160為韌性有機塗層時，塗層亦可包括聚合物化學組成物以作為聚合物化學組成物層170。在存在或不存在有機或無機填料之情況下，聚合物化學組成物可為熱穩定聚合物或聚合物之混合物，諸如(但不限於)，聚醯亞胺、聚苯並咪唑、聚碸、聚醚醚酮、聚醚醯亞胺、聚醯胺、聚苯、聚苯並噻唑、聚苯並噁唑、聚二噻唑及聚芳雜環聚合物。聚合物化學組成物可由其他熱穩定聚合物形成，諸如在200℃至400℃之範圍中(包括250℃、300℃及350℃)之溫度下不降解之聚合物。該等聚合物可塗覆有或未塗覆有偶合劑。
在一個實施例中，聚合物化學組成物為聚醯亞胺化學 組成物。若光滑塗層160包含聚醯亞胺，則聚醯亞胺組成物可能來源於藉由單體之聚合而形成在溶液中之聚醯胺酸。一種此類聚醯胺酸為Novastrat® 800(購自NeXolve)。固化步驟醯亞胺化聚醯胺酸以形成聚醯亞胺。聚醯胺酸可由二元胺單體(諸如，二元胺)及酸酐單體(諸如，二酐)之反應形成。如在本文中所使用，聚醯亞胺單體描述為二元胺單體及二酐單體。然而，應理解，儘管二元胺單體包含兩個胺部分，但在以下描述中，包含至少兩個胺部分之任何單體可適用為二元胺單體。類似地，應理解，儘管二酐單體包含兩個酸酐部分，但在以下描述中，包含至少兩個酸酐部分之任何單體可適用為二酐單體。酸酐單體之酸酐部分與二元胺單體之胺部分之間的反應形成聚醯胺酸。因此，如在本文中所使用，由特定單體之聚合形成之聚醯亞胺化學組成物係指聚醯亞胺，該聚醯亞胺在亞胺化由彼等特定單體形成之聚醯胺酸後形成。大體上，總酸酐單體與二元胺單體之莫耳比可為約1：1。儘管聚醯亞胺可僅由兩種不同化學組成物(一種酸酐單體及一種二元胺單體)形成，但至少一個酸酐單體可經聚合且至少一個二元胺單體可經聚合以形成聚醯亞胺。舉例而言，一個酸酐單體可與兩個不同二元胺單體聚合。可使用任何數目之單體物種組合。此外，一個酸酐單體與不同酸酐單體或一或多個二元胺單體與不同二元胺單體之比可為任何比，諸如在約1：0.1至0.1：1之間，諸如約1：9、1：4、3：7、2：3、1：1、3：2、7：3、4：1或9：1。
連同二元胺單體形成聚醯亞胺之酸酐單體可包含任 何酸酐單體。在一個實施例中，酸酐單體包含二苯基酮結構。在示例性實施例中，二苯基酮-3,3',4,4'-四甲酸二酐可為形成聚醯亞胺之酸酐單體中之至少一者。在其他實施例中，二元胺單體可具有包括上文所提及之二酐之取代版本之蒽結構、菲結構、芘結構或稠五苯結構。
連同酸酐單體形成聚醯亞胺之二元胺單體可包含任何二元胺單體。在一個實施例中，二元胺單體包含至少一個芳族環部分。第13圖及第14圖圖示二元胺單體之實例，該二元胺單體連同一或多個所選酸酐單體可形成包含聚合物化學組成物之聚醯亞胺。二元胺單體可具有將兩個芳族環部分連接在一起之一或多個碳分子，如在第13圖中所示，其中第13圖之R對應於包含一或多個碳原子之烷基部分。或者，二元胺單體可具有直接連接且不由至少一個碳分子分隔之兩個芳族環部分，如在第14圖中所示。二元胺單體可具有由第13圖及第14圖中之R'及R"表示之一或多個烷基部分。舉例而言，在第13圖及第14圖中，R'及R"可表示連接至一或多個芳族環部分之烷基部分，諸如，甲基、乙基、丙基或丁基部分。舉例而言，二元胺單體可具兩個芳族環部分，其中每一芳族環部分具有連接至芳族環部分之烷基部分及連接至芳族環部分之相鄰胺部分。應理解，在第13圖及第14圖兩者中，R'及R"可為相同化學部分或可為不同化學部分。或者，在第13圖及第14圖兩者中，R'及/或R"可能表示根本無原子。
二元胺單體之兩種不同化學組成物可形成聚醯亞胺。在一個實施例中，第一二元胺單體包含直接連接且不由 鏈接碳分子分隔之兩個芳族環部分，且第二二元胺單體包含兩個芳族環部分，該等兩個芳族環部分與連接兩個芳族環部分之至少一個碳分子連接。在一個例示性實施例中，第一二元胺單體、第二二元胺單體及酸酐單體具有約0.465：0.035：0.5之莫耳比(第一二元胺單體：第二二元胺單體：酸酐單體)。然而，第一二元胺單體與第二二元胺單體之比可在約0.01：0.49至約0.40：0.10之範圍中變化，同時酸酐單體比保持在約0.5。
在一個實施例中，聚醯亞胺組成物由至少第一二元胺單體、第二二元胺單體及酸酐單體之聚合而形成，其中第一二元胺單體與第二二元胺單體為不同化學組成物。在一個實施例中，酸酐單體為二苯基酮，第一二元胺單體包含直接結合在一起之兩個芳族環，且第二二元胺單體包含兩個芳族環，該等兩個芳族環以連接第一芳族環及第二芳族環之至少一個碳分子結合在一起。第一二元胺單體、第二二元胺單體及酸酐單體可具有約0.465：0.035：0.5之莫耳比(第一二元胺單體：第二二元胺單體：酸酐單體)。
在示例性實施例中，第一二元胺單體為聯鄰甲苯胺，第二二元胺單體為4,4'-亞甲基-雙(2-甲基苯胺)，且酸酐單體為二苯基酮-3,3',4,4'-四甲酸二酐。第一二元胺單體、第二二元胺單體及酸酐單體可具有約0.465：0.035：0.5之莫耳比(第一二元胺單體：第二二元胺單體：酸酐單體)。
在一些實施例中，聚醯亞胺可由以下中之一或多者之聚合而形成：雙環[2.2.1]庚烷-2,3,5,6-四甲酸二酐、環戊烷 -1,2,3,4-四甲酸1,2；3,4-二酐、雙環[2.2.2]辛烷-2,3,5,6-四甲酸二酐、(4arH,8acH)-十氫-1t,4t：5c,8c-二甲撐萘-2t,3t,6c,7c-四甲酸2,3：6,7-二酐、2c,3c,6c,7c-四甲酸2,3：6,7-二酐、5-內-羧甲基雙環[2.2.1]-庚烷-2-外,3-外,5-外-三羧酸2,3：5,5-二酐、5-(2,5-二氧代四氫-3-呋喃)-3-甲基-3-環己烯-1,2-二羧酸二酐、雙(胺甲基)雙環[2.2.1]庚烷之異構體，或4,4'-亞甲基雙(2-甲基環己胺)、苯四甲酸二酐(PMDA)3,3'，4,4'-聯苯二酐(4,4'-BPDA)、3,3',4,4'-二苯基酮二酐(4,4'-BTDA)、3,3',4,4'-氧雙鄰苯二甲酸酐(4,4'-ODPA)、1,4-雙(3,4-聯羧基-苯氧基)苯二酐(4,4'-HQDPA)、1,3-雙(2,3-聯羧基-苯氧基)苯二酐(3,3'-HQDPA)、4,4'-雙(3,4-聯羧基氧基苯基)-異亞丙基二酐(4,4'-BPADA)、4,4'-(2,2,2-三氟醚-1-五氟苯亞乙基)雙鄰苯二甲酸酐(3FDA)、4,4'-氧代二苯胺(ODA)、間苯二胺(MPD)、對苯二胺(PPD)、間甲苯二胺(TDA)、1,4-雙(4-胺基苯氧基)苯(1,4,4-APB)、3,3'-(間亞苯基雙(氧)二苯胺)(APB)、4,4'-二胺基-3,3'-二甲基二苯基甲烷(DMMDA)、2,2'-雙(4-(4-胺基苯氧基)苯基)丙烷(BAPP)、1,4-環己烷二胺2,2'-雙[4-(4-胺基-苯氧基)苯基]六氟異亞丙基(4-BDAF)、6-胺基-1-(4'-胺基苯)-1,3,3-三甲基茚滿(DAPI)、順丁烯二酸酐(MA)、檸康酐(CA)、納迪克酸酐(NA)、4-(苯乙炔基)-1,2-苯二甲酸酸酐(PEPA)、4,4'-二胺基苯醯苯胺(DABA)、4,4'-(六氟異亞丙基)雙鄰苯二甲酸酐(6-FDA)、苯四甲酸二酐、二苯基酮-3,3',4,4'-四甲酸二酐、3,3',4,4'-二苯基四甲酸二酐、4,4'-(六氟異亞丙基)雙鄰苯二甲酸酐、苝 -3,4,9,10-四甲酸二酐、4,4'-氧雙鄰苯二甲酸酐、4,4'-(六氟異亞丙基)雙鄰苯二甲酸酐、4,4'-(4,4'-異亞丙基二苯氧基)雙(鄰苯二甲酸酐)、1,4,5,8-萘四甲酸二酐、2,3,6,7-萘四甲酸二酐，以及在美國專利第7,619,042號、美國專利第8,053,492號、美國專利第4,880,895號、美國專利第6,232,428號、美國專利第4,595,548號、世界知識產權組織公開案第2007/016516號、美國專利公開案第2008/0214777號、美國專利第6,444,783號、美國專利第6,277,950號及美國專利第4,680,373號中所述之該等材料。第15圖圖示可用於形成塗覆至玻璃主體102之聚醯亞胺塗層之一些適合單體之化學結構。在另一實施例中，形成聚醯亞胺之聚醯胺酸溶液可包含聚(苯四甲酸二酐-共-4,4'-氧代二苯胺)醯胺酸(購自Aldrich)。
在另一實施例中，聚合物化學組成物可包含氟聚合物。氟聚合物可為共聚物，其中兩個單體皆高度氟化。氟聚合物之一些單體可為氟乙烯。在一個實施例中，聚合物化學組成物包含非晶形氟聚合物，諸如(但不限於)聚四氟乙烯AF(購自DuPont)。在另一實施例中，聚合物化學組成物包含全氟烷氧基(PFA)樹脂顆粒，諸如(但不限於)聚四氟乙烯PFA TE-7224(購自DuPont)。
在另一實施例中，聚合物化學組成物可包含矽氧樹脂。矽氧樹脂可為高度分支的3維聚合物，該聚合物由具有通式RnSi(X)mOy之分支之籠形低聚矽氧烷形成，其中R為非活性取代基，通常為甲基或苯基，且X為OH或H。儘管不希望受理論約束，但鹹信，樹脂固化經由Si-OH部分之縮聚 反應與Si-O-Si鍵之形成而發生。矽氧樹脂可具有四個可能的功能性矽氧烷單體單元中之至少一者，該等四個可能的功能性矽氧烷單體單元包括M樹脂、D樹脂、T樹脂及Q樹脂，其中M樹脂係指具有通式R3SiO之樹脂，D樹脂係指具有通式R2SiO2之樹脂，T樹脂係指具有通式RSiO3之樹脂且Q樹脂係指具有通式SiO4之樹脂(熔融石英)。在一些實施例中，樹脂由D單元及T單元(DT樹脂)製造或樹脂由M單元及Q單元(MQ樹脂)製造。在其他實施例中，亦使用其他組合(MDT、MTQ、QDT)。
在一個實施例中，聚合物化學組成物包含苯甲基矽氧樹脂，如此係歸因於苯甲基矽氧樹脂相較於甲基或苯基矽氧樹脂之較高熱穩定性。在聚合物化學組成物中，矽氧樹脂中苯基部分與甲基部分之比可變化。在一個實施例中，苯基與甲基之比為約1.2。在另一實施例中，苯基與甲基之比為約0.84。在其他實施例中，苯基部分與甲基部分之比可為約0.5、0.6、0.7、0.8、0.9、1.0、1.1、1.3、1.4或1.5。在一個實施例中，矽氧樹脂為DC 255(購自Dow Corning)。在另一實施例中，矽氧樹脂為DC806A(購自Dow Corning)。在其他實施例中，聚合物化學組成物可包含DC系列樹脂(購自Dow Corning)及/或Hardsi系列AP及AR樹脂(購自Gelest)中之任一者。矽氧樹脂可在無偶合劑或有偶合劑之情況下使用。
在另一實施例中，聚合物化學組成物可包含基於倍半矽氧烷之聚合物，諸如(但不限於)T-214(購自Honeywell)、SST-3M01(購自Gelest)、POSS Imiclear(購自Hybrid Plastics) 及FOX-25(購自Dow Corning)。在一個實施例中，聚合物化學組成物可包含矽醇部分。
再次參看第8圖及第12A圖，光滑塗層160可在多階段製程中塗覆，其中玻璃主體102與偶合劑溶液接觸以形成偶合劑層180(如上文所述)，並乾燥，隨後(諸如)藉由浸沒製程與聚合物化學組成物(諸如聚合物或聚合物前驅物溶液)接觸，或替代地，聚合物層170可藉由噴射或其他適合手段塗覆，並乾燥，且隨後在高溫下固化。或者，若未使用偶合劑層180，則聚合物層170之聚合物化學組成物可直接塗覆至玻璃主體102之外表面106。在另一實施例中，聚合物化學組成物及偶合劑可在光滑塗層160中混合，且包含聚合物化學組成物及偶合劑之溶液可以單一塗佈步驟塗覆至玻璃主體102。
在一個實施例中，聚合物化學組成物包含聚醯亞胺，其中聚醯胺酸溶液塗覆在偶合劑層180上。在其他實施例中，可使用聚醯胺酸衍生物，諸如(例如)聚醯胺酸鹽、聚醯胺酸酯等等。舉例而言，適合聚醯胺酸鹽可包括由三乙胺形成之聚醯胺酸鹽。其他適合的鹽可包括藉由以下操作形成之彼等鹽：藉由鹼性添加劑去質子化聚醯胺酸之羧酸基團，從而導致所得羧酸鹽基團與羧酸鹽基團之共軛酸之離子相互作用。鹼性添加劑可包括有機物種、無機物種或有機金屬物種或上述各者之組合。無機物種可包括以下部分：諸如，鹼金屬基、鹼土金屬基或金屬基。有機鹼(質子受體)可包括脂族胺、芳族胺或其他有機鹼。脂族胺包括一級胺(諸如(但 不限於)乙胺)、二級胺(諸如(但不限於)二乙胺)及三級胺(諸如(但不限於)三乙胺)。芳族胺包括苯胺、吡啶及咪唑。有機金屬鹼可包括2,2二甲基丙基氯化鎂或其他。在一個實施例中，聚醯胺酸溶液可包含1體積%聚醯胺酸與99體積%有機溶劑之混合物。有機溶劑可包含甲苯及以下中之至少一者之混合物：N,N-二甲基乙醯胺(DMAc)、N,N-二甲基甲醯胺(DMF)及1-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)溶劑或以上之混合物。在一個實施例中，有機溶劑溶液包含約85體積%之以下中之至少一者：DMAc、DMF及NMP，及約15體積%之甲苯。然而，可使用其他適合有機溶劑。隨後，經塗佈玻璃容器100可在約150℃下乾燥約20分鐘，或以足以充分地釋放光滑塗層160中存在之有機溶劑之任何時間及溫度乾燥。
在層狀暫態有機光滑塗層實施例中，在玻璃主體102與偶合劑接觸以形成偶合劑層180及與聚醯胺酸溶液接觸以從聚合物層170後，經塗佈玻璃容器100可在高溫下固化。經塗佈玻璃容器100可在300℃下固化約30分鐘或更短時間，或經塗佈玻璃容器100可在高於300℃之溫度下(諸如，至少320℃、340℃、360℃、380℃或400℃)固化更短時間。鹹信，在不受理論約束的情況下，固化步驟藉由羧酸部分與醯胺部分之反應醯亞胺化聚合物層170中之聚醯胺酸，以產生包含聚醯亞胺之聚合物層170。固化亦可促進聚醯亞胺與偶合劑之間的結合。隨後經塗佈玻璃容器100冷卻至室溫。
此外，在不受理論約束的情況下，鹹信，固化偶合劑、聚合物化學組成物或兩者釋放揮發性物質，諸如水或其他有 機分子。如此，當物件(若用作容器)經熱處理(諸如，用於去熱解)或與材料(諸如，藥物)接觸時(其中物件為材料之封裝)，不存在在固化期間釋放之該等揮發性物質。應理解，本文中所述之固化製程為與本文所述之其他加熱處理獨立之加熱處理，諸如與藥物封裝行業中諸如用於界定熱穩定性之去熱解或加熱處理之製程類似或相同之彼等加熱處理，如在本文中所述。
在一個實施例中，偶合劑包含矽烷化學組成物(諸如，烷氧矽烷)，該組成物可改善聚合物化學組成物至玻璃主體之附著。在不受理論約束之情況下，鹹信，烷氧矽烷分子在水中快速水解，形成獨立單體、環狀寡聚物及大分子內環。在各種實施例中，對物種佔據優勢之控制可藉由矽烷類型、濃度、pH、溫度、儲存調節及時間來決定。舉例而言，在低濃度下，在水溶液中，胺丙基三烷氧矽烷(APS)可能係穩定的且形成三矽醇單體及極低分子量之寡聚環。
鹹信，在仍不受理論約束之情況下，一或多個矽烷化學組成物至玻璃主體之反應可涉及若干步驟。如在第17圖中所示，在一些實施例中，在矽烷化學組成物水解後，可形成反應性矽醇部分，該反應性矽醇部分可與其他矽醇部分縮合，例如，在基材(諸如，玻璃主體)之表面上之彼等矽醇部分。在第一可水解部分及第二可水解部分水解後，可初始化縮合反應。在一些實施例中，朝向自身縮合之趨勢可藉由使用新鮮溶液、酒精溶劑、稀釋及藉由仔細選擇pH範圍來控制。舉例而言，矽烷三醇在pH 3-6下最穩定，但矽烷三醇在 pH 7-9.3下快速縮合，且矽醇單體之部分縮合可產生倍半氧矽烷。如在第17圖中所示，所形成物種之矽醇部分可在基材上形成具有矽醇部分之氫鍵，且在乾燥或固化期間，共價鍵可藉由去除水用基材形成。舉例而言，適度固化週期(110℃下15分鐘)可留下保持處於自由形式連同任何矽烷有機功能性之矽醇部分，可與隨後之上塗層結合，從而提供改善之附著。
在一些實施例中，偶合劑之一或多個矽烷化學組成物可包含胺部分。仍在不受理論約束之情況下，鹹信，該胺部分在水解及共縮聚中可用作鹼催化劑且增強具有胺部分之矽烷在玻璃表面上之吸附率。此舉亦可在水溶液中產生高pH(9.0-10.0)，該高pH調節玻璃表面且增加表面矽醇部分之密度。與水及質子溶劑之強相互作用保持具有胺部分化學組成物之矽烷(諸如，APS)之溶解性及穩定性。
在示例性實施例中，玻璃主體102可包含經離子交換玻璃且偶合劑可為矽烷。在一些實施例中，光滑塗層至經離子交換玻璃主體之附著可比光滑塗層至未經離子交換玻璃主體之附著強。鹹信，在不受理論約束之情況下，相較於未經離子交換玻璃，經離子交換玻璃之若干態樣中之任一者可促進結合及/或附著。首先，經離子交換玻璃可具有增強之化學/水解穩定性，該穩定性可影響偶合劑之穩定性及/或偶合劑至玻璃表面之附著。未經離子交換玻璃通常具有差水解穩定性且在濕潤及/或高溫條件下，鹼金屬可自玻璃主體遷移至玻璃表面與偶合劑層(若存在)之界面，或甚至鹼金屬可遷移至 偶合劑層(若存在)中。若如上文所述，鹼金屬遷移，且pH變化，則玻璃/偶合劑層界面處或偶合劑層自身中之Si-O-Si鍵之水解可減弱偶合劑機械特性或偶合劑至玻璃之附著。其次，當經離子交換玻璃在高溫(諸如400℃至450℃)下暴露至強氧化劑浴(諸如，亞硝酸鉀浴)，且移除時，玻璃表面上之有機化學組成物經移除，使表面尤其適合於矽烷偶合劑而無需進一步清洗。舉例而言，未經離子交換玻璃可能不得不暴露至額外表面清潔處理，從而增加製程之時間及花費。
在一個示例性實施例中，偶合劑可包含至少一種矽烷，該至少一種矽烷包含胺部分，且聚合物化學組成物可包含聚醯亞胺化學組成物。現參看第18圖，在不受理論約束的情況下，鹹信，該胺部分相互作用與聚醯亞胺之聚醯胺酸前軀物之間的相互作用在逐步製程後。如在第18圖中所示，第一步驟為在聚醯胺酸之羧基部分與胺部分之間形成聚醯胺酸鹽。第二步驟為將鹽熱轉換成胺部分。第三步驟為藉由切斷聚合物醯胺鍵將胺部分進一步轉換成醯亞胺部分。結果是縮短之聚合物鏈(聚醯亞胺鏈)共價醯亞胺附接至偶合劑之胺部分，如在第18中所示。
實例
將藉由以下實例進一步闡明具有改善之屬性之玻璃容器之各種實施例。該等實例本質上為說明性的，且該等實例不應理為限制本揭示案之標的。
實例1
玻璃小瓶由IB型玻璃形成，該玻璃具有與上表2之 實例2相同之組成物及表1的「實例E」之玻璃組成物(在下文稱為「參考玻璃組成物」)，該玻璃組成物識別為2012年10月25日申請且題為「Glass Compositions with Improved Chemical and Mechanical Durability」之讓與Corning公司的美國專利申請案第13/660,394號。小瓶以去離子水沖洗，以氮氣吹幹，且小瓶以0.1%之APS(胺丙基倍半氧矽烷)溶液浸塗。APS塗層在對流式烤箱中在100℃下乾燥15分鐘。隨後，小瓶浸入15/85甲苯/DMF(二甲基甲醯胺)溶液中之0.1%Novastrat® 800聚醯胺酸溶液或浸入N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)中之0.1%至1%聚(苯四甲酸二酐-共-4,4'-氧代二苯胺)醯胺酸溶液PMDA-ODA(聚(4,4'-氧代二亞苯基-苯四甲酸醯亞胺))中。將經塗佈小甁加熱至150℃且保持20分鐘以蒸發溶劑。此後，塗層藉由將經塗佈小甁置放在300℃下之預熱爐中達30分鐘來固化。在固化後，塗佈有0.1% Novastrat® 800溶液之小瓶不具有明顯之顏色。然而，塗佈有聚(苯四甲酸二酐-共-4,4'-氧代二苯胺)溶液之小瓶歸因於塗層之厚度為明顯的黃色。兩個塗層在瓶對瓶接觸測試中皆展現低摩擦係數。
實例2
由與上表2之實例2相同之組成物形成之IB型玻璃小瓶(原有狀態/未經塗佈狀態)形成之玻璃小瓶及塗佈有光滑塗層之小瓶經比較以評估歸因於磨損之機械強度損失。經塗佈小瓶藉由由參考玻璃組成物生產之第一離子交換強化玻璃小瓶來生產。離子交換強化在100% KNO3浴中於450℃下 執行8小時。此後，小瓶以去離子水沖洗、以氮氣吹幹且以APS(胺丙基倍半氧矽烷)於水中之0.1%溶液浸塗。APS塗層在對流式烤箱中於100℃下乾燥15分鐘。隨後，小瓶浸入15/85甲苯/DMF溶液中之0.1%Novastrat® 800聚醯胺酸溶液。將經塗佈小甁加熱至150℃且保持20分鐘以蒸發溶劑。此後，塗層藉由將經塗佈小甁置放在300℃下之預熱爐中達30分鐘來固化。隨後，將經塗佈小甁浸泡在70℃去離子水中達1小時且將經塗佈小甁在空氣中於320℃下加熱達2小時以模擬實際處理條件。
由與上表2之實例2相同之組成物形成之IB型玻璃形成之未磨損小瓶及由經離子交換強化且經塗敷之參考玻璃組成物形成之未磨損小瓶經測試在水平壓縮測試中破壞(亦即，一個板置放在小瓶之頂部上方且一個板置放在小瓶之底部下方，且將該等板壓在一起，且破壞時施加之負荷用測力器決定)。第19圖以圖表形式圖示由參考玻璃組成物形成之小瓶的、由參考玻璃組成物形成之小甁在經塗佈及磨損狀態下的、由IB型玻璃形成之小瓶的及由IB型玻璃形成之小瓶在磨損狀態下的作為水平壓縮測試中之施加負荷之函數的破壞概率。未磨損小瓶之破壞負荷用威布爾曲線以圖表形式圖示。隨後將由IB型玻璃形成之樣本小瓶及由經離子交換強化且經塗佈之玻璃形成之未磨損小瓶置放在第9圖之甁對甁架中以磨損小甁及決定在小瓶一起摩擦時小瓶之間的摩擦係數。測試期間小瓶上之負荷用UMT機器施加且該負荷在24N與44N之間變化。所施加之負荷及對應之最大摩擦係數在第 20圖所含之表中報告。對未經塗佈小瓶而言，最大摩擦係數自0.54變化至0.71(分別作為小瓶樣本「3&4」及「7&8」在第20圖中圖示)且同時對經塗佈小瓶而言，最大摩擦係數自0.19變化至0.41(分別作為小瓶樣本「15&16」及「12&14」在第20圖中圖示)。此後，在水平壓縮測試中測試有刮痕小瓶以評估相對於未磨損小甁之機械強度損失。施加至未磨損小瓶之破壞負荷用第9圖之威布爾曲線以圖表形式圖示。
如在第19圖中所示，未經塗佈小瓶在磨損後強度顯著降低，但經塗佈小甁在磨損後強度降低相對較小。基於該等結果，鹹信，小瓶之間的摩擦係數應小於0.7或0.5，或甚至該摩擦係數應小於0.45以便緩和在甁對甁磨損後之強度損失。
實例3
在該實例中，多組玻璃管經四點彎曲測試，以評估該等管之各別強度。由參考玻璃組成物形成之第一組管在原有狀態條件(未經塗佈、未經離子交換強化)下經四點彎曲測試。由參考玻璃組成物形成之第二組管在100% KNO3浴中於450℃下離子交換強化8小時後經四點彎曲測試。由參考玻璃組成物形成之第三組管在100% KNO3浴中於450℃下離子交換強化8小時後經四點彎曲測試且該第三組管塗佈有如在實例2中所述之0.1% APS/0.1% Novastrat® 800。經塗佈管亦浸泡在70℃去離子水中達1小時且經塗佈管在空氣中於320℃下加熱達2小時以模擬實際處理條件。該等經塗佈管亦在彎曲測試前在30N負荷下在第9圖中所示之瓶對瓶架中磨損。 由參考玻璃組成物形成之第四組管在100% KNO3浴中於450℃下離子交換強化1小時後經四點彎曲測試。該等未經塗佈、經離子交換強化之管亦在彎曲測試前在30N負荷下在第9圖中所示之瓶對瓶架中磨損。由IB型玻璃形成之第五組管在原有狀態條件(未經塗佈、未經離子交換強化)下經四點彎曲測試。由IB型玻璃形成之第六組管在100% KNO3浴中於450℃下離子交換強化1小時後經四點彎曲測試。測試結果用第21圖所顯示之威布爾曲線以圖表形式圖示。
參看第21圖，未磨損且由參考玻璃組成物形成及經離子交換強化之第二組管在破裂前承受最高應力。在磨損前以0.1% APS/0.1% Novastrat® 800塗佈之第三組管相對於該等管之未經塗佈、未磨損等價物(亦即，第二組管)展現輕微強度降低。然而，儘管在塗佈後經歷磨損，強度之降低相對較小。
實例4
準備兩組小瓶，且兩組小瓶經過藥物填充線。壓敏膠帶(購自Fujifilm)插入在小瓶之間以量測小瓶之間及小瓶與設備之間的接觸/衝擊力。第一組小瓶由IB型玻璃形成且第一組小瓶未經塗佈。第二組小瓶由參考玻璃組成物形成且第二組小瓶塗佈有具有約0.25之摩擦係數之基於低摩擦聚醯亞胺之塗層，如上所述。在小瓶經過藥物填充線後分析壓敏膠帶，且壓敏膠帶證明第二組之經塗佈小瓶相對於第一組未經塗佈小瓶展現2倍至3倍之應力降低。
實例5
準備三組小瓶，每組四個小瓶。所有小瓶皆由參考玻璃組成物形成。第一組小瓶塗佈有APS/Novastrat® 800塗層，如實例2中所述。第二組小瓶浸塗有0.1% DC806A於甲苯中。在50℃下蒸發溶劑，且在300℃下固化塗層達30分鐘。每組小瓶置放在管中且在空氣淨化條件下加熱至320℃保持2.5小時，以移除在試驗環境中吸入小瓶中之微量污染物。隨後，每組樣本在管中另外加熱30分鐘，且經除氣揮發物在活性炭吸附劑阱上捕獲。阱在30分鐘內加熱至350℃以釋放饋入氣相層析儀-質譜儀中之任何捕獲之物質。第22圖圖示APS/Novastrat® 800塗層之氣相層析質譜儀輸出資料。第23圖圖示DC806A塗層之氣相層析儀-質譜儀輸出資料。未偵測到自0.1% APS/0.1% Novastrat® 800塗層或DC806A塗層之除氣。
一組四個小瓶使用甲醇/水混合物中之0.5%/0.5% GAPS/APhTMS(3-胺丙基三甲氧基矽烷/胺苯基三甲氧基矽烷)溶液塗佈有連接層。每個小瓶具有約18.3cm2之經塗佈表面面積。允許在120℃下自經塗佈小瓶蒸發溶劑15分鐘。隨後，將0.5% Novastrat® 800溶液於二甲基乙醯胺中塗覆至樣本上。在150℃下蒸發溶劑20分鐘。該等未固化小瓶經歷上文所述之除氣測試。在空氣流(100mL/分鐘)中加熱小瓶至320℃，且在達到320℃後，每15分鐘在活性炭吸附劑阱上捕獲經除氣揮發物。隨後，阱在30分鐘內加熱至350℃以釋放饋入氣相層析儀-質譜儀中之任何捕獲物質。表3圖示隨著樣本保持在320℃下所經歷之時間段內所捕獲物質之量。時 間零對應於樣本首次達到320℃之溫度之時間。如在表3中所見，在加熱30分鐘後，揮發物之量下降到100ng之儀器偵測極限以下。表3亦報告每平方公分經塗佈表面之揮發物損失。
實例6
準備具有有偶合劑及無偶合劑存在的基於矽氧樹脂或聚醯亞胺之各種塗層的複數個小瓶。當使用偶合劑時，偶合劑包括APS及為APS之前軀物之GAPS。外塗層由Novastrat® 800、上文所述之聚(苯四甲酸二酐-共-4,4'-氧代二苯胺)或矽氧樹脂(諸如，DC806A及DC255)製備。APS/聚(4,4'-氧代二亞苯基-苯四甲酸醯亞胺)塗層使用0.1%之APS (胺丙基倍半氧矽烷)溶液及N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)中之0.1%、0.5%或1.0%聚(苯四甲酸二酐-共-4,4'-氧代二苯胺)醯胺酸溶液(PMDA-ODA聚(4,4'-氧代二亞苯基-苯四甲酸醯亞胺))來製備。聚(4,4'-氧代二亞苯基-苯四甲酸醯亞胺)塗層亦在無偶合劑的情況下使用聚(苯四甲酸二酐-共-4,4'-氧代二苯胺)於NMP中之1.0%溶液塗佈。APS/Novastrat® 800塗層使用0.1%之APS溶液及Novastrat® 800聚醯胺酸於15/85甲苯/DMF溶液中之0.1%溶液來製備。DC255塗層在無偶合劑的情況下使用DC255於甲苯中之1.0%溶液直接塗覆至玻璃。APS/DC806A塗層藉由首先塗覆APS於水中之0.1%溶液及隨後塗覆DC806A於甲苯中之0.1%或0.5%溶液來製備。GAPS/DC806A塗層使用作為偶合劑的水中之GAPS於95重量%乙醇中之1.0%溶液來塗覆且隨後使用DC806A於甲苯中之1.0%溶液來塗覆。偶合劑及塗層使用本文中所述之浸塗方法塗覆，其中在塗覆後熱處理偶合劑且在塗覆後乾燥及固化矽氧樹脂及聚醯亞胺塗層。基於所使用之溶液濃度來估計塗層厚度。第12圖中所含之表列舉各種塗層組成物、估計之塗層厚度及測試條件。
此後，一些小瓶經翻轉以模擬塗層損壞，且其他小瓶在第9圖中所示之瓶對瓶架中在30N及50N負荷下經歷磨損。此後，所有小瓶經歷冷凍乾燥(冷凍乾燥製程)，其中小瓶填充有0.5mL之氯化鈉溶液且隨後在-100℃下冷凍。隨後在真空下於-15℃下執行冷凍乾燥達20小時。以光學品質保證設備且在顯微鏡下檢查小瓶。歸因於冷凍乾燥，觀測不到 對塗層之損壞。
實例7
準備三組小瓶(每組六個小瓶)以評估增加負荷對未經塗佈小瓶及以Dow Corning DC 255矽氧樹脂塗佈之小甁之摩擦係數之影響。第一組小瓶由IB型玻璃形成且左邊未經塗佈。第二組小瓶由參考玻璃組成物形成且塗佈有DC255於甲苯中之1%溶液，並在300℃下固化30分鐘。第三組小瓶由IB型玻璃形成且塗佈有DC255於甲苯中之1%溶液。每組之小瓶置放在第9圖所圖示之瓶對瓶架中，且相對於類似經塗佈小瓶之摩擦係數在磨損期間在10N、30N及50N之靜態負荷下經量測。結果在第25圖中以圖表形式報告。如在第25圖中所示，在不考慮玻璃組成物的情況下當於相同條件下磨損時，相較於未經塗佈小瓶，經塗佈小瓶展示明顯較低之摩擦係數。
實例8
準備具有APS/聚(4,4'-氧代二亞苯基-苯四甲酸醯亞胺)塗層之三組玻璃小瓶，每組兩個玻璃小瓶。首先，每一小瓶在0.1%之APS溶液(胺丙基倍半氧矽烷)中浸塗。APS塗層在對流式烤箱中在100℃下乾燥15分鐘。隨後，小瓶浸入N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)中之0.1%聚(苯四甲酸二酐-共-4,4'-氧代二苯胺)醯胺酸溶液(PMDA-ODA(聚(4,4'-氧代亞甲苯基-苯四甲酸醯亞胺))中。此後，塗層藉由將經塗佈小瓶置放在300℃下之預熱爐中達30分鐘來固化。
兩個小瓶置放在第9圖中所圖示之甁對甁架中，並在 10N負荷下磨損。磨損程序在同一區域上重複超過4次，且針對每次磨損決定摩擦係數。在磨損之間擦拭小瓶，且每一磨損之起始點定位於先前未磨損之區域上。然而，每一磨損移動經過同一「軌跡」。針對30N及50N之負荷，重複同一程序。在第26圖中以圖表形式圖示針對對每一負荷之每一磨損(亦即，A1-A5)之摩擦係數。如在第26圖中所示，經APS/聚(4,4'-氧代亞甲苯基-苯四甲酸醯亞胺)塗佈之小甁之摩擦係數在所有負荷下針對所有磨損大體上小於0.30。實例證明塗覆在以偶合劑處理之玻璃表面時之聚醯亞胺塗層之改善耐損性。
實例9
準備具有APS塗層之三組玻璃小瓶，每組兩個玻璃小瓶。每一小瓶在0.1%之APS溶液(胺丙基倍半氧矽烷)中浸塗且在對流式烤箱中於100℃下加熱15分鐘。兩個小瓶置放在第9圖中所圖示之甁對甁架中且在10N負荷下磨損。磨損程序在同一區域上重複超過4次，且針對每次磨損決定摩擦係數。在磨損之間擦拭小瓶，且每一磨損之起始點定位於先前未磨損之區域上。然而，每一磨損移動經過同一「軌跡」。針對30N及50N之負荷，重複同一程序。在第27圖中以圖表形式圖示針對每一負荷之每一磨損(亦即，A1-A5)之摩擦係數。如在第27圖中所示，經僅以APS塗佈之小甁之摩擦係數大體上高於0.3並常常達到0.6或甚至更高。
實例10
準備具有APS/聚(4,4'-氧代二亞苯基-苯四甲酸醯亞 胺)塗層之三組玻璃小瓶，每組兩個玻璃小瓶。每一小瓶在0.1%之APS溶液(胺丙基倍半氧矽烷)中浸塗。APS塗層在對流式烤箱中在100℃下加熱15分鐘。隨後，小瓶浸入N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)中之0.1%聚(苯四甲酸二酐-共-4,4'-氧代二苯胺)醯胺酸溶液(PMDA-ODA(聚(4,4'-氧代二亞苯基-苯四甲酸醯亞胺))中。此後，塗層藉由將經塗佈小瓶置放在300℃下之預熱爐中達30分鐘來固化。隨後，經塗佈小甁在300℃下去熱解(加熱)達12小時。
兩個小瓶置放在第9圖中所圖示之甁對甁架中，並在10N負荷下磨損。磨損程序在同一區域上重複超過4次，且針對每次磨損決定摩擦係數。在磨損之間擦拭小瓶，且每一磨損之起始點定位於先前磨損之區域上，且每一磨損在同一「軌跡」上執行。針對30N及50N之負荷，重複同一程序。在第28圖中以圖表形式圖示針對每一負荷之每一磨損(亦即，A1-A5)之摩擦係數。如在第28圖中所示，經APS/聚(4,4'-氧代二亞苯基-苯四甲酸醯亞胺)塗佈小瓶之摩擦係數大體上係均勻的，且針對在10N及30N之負荷引入之磨損為約0.20或更小。然而，當施加負荷增加至50N時，針對每一連續磨損，摩擦係數增加，其中第五次磨損具有略小於0.40之摩擦係數。
實例11
準備具有APS(胺丙基倍半氧矽烷)塗層之三組玻璃小瓶，每組兩個玻璃小瓶。每一小瓶在0.1%之APS溶液中浸塗且在對流式烤箱中在100℃下加熱15分鐘。隨後，經塗佈 小甁在300℃下去熱解(加熱)達12小時。兩個小瓶置放在第9圖中所圖示之甁對甁架中，且在10N負荷下磨損。磨損程序在同一區域上重複超過4次，且針對每次磨損決定摩擦係數。在磨損之間擦拭小瓶，且每一磨損之起始點定位於先前磨損之區域上，且每一磨損移動經過同一「軌跡」。針對30N及50N之負荷，重複同一程序。在第29圖中以圖表形式圖示針對每一負荷之每一磨損(亦即，A1-A5)之摩擦係數。如在第29圖中所示，去熱解12小時之經APS塗佈小瓶之摩擦係數顯著高於在第27圖中所示之經APS塗佈小瓶且該等摩擦係數類似於由未經塗佈玻璃小瓶所展現之摩擦係數，從而指示，小瓶可能歸因於磨損而經歷顯著之機械強度損失。
實例12
準備具有APS/聚(4,4'-氧代二亞苯基-苯四甲酸醯亞胺)塗層之由IB型玻璃形成之三組玻璃小瓶，每組兩個玻璃小瓶。隨後，小瓶浸入N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)中之0.1%聚(苯四甲酸二酐-共-4,4'-氧代二苯胺)醯胺酸溶液(PMDA-ODA(聚(4,4'-氧代二亞苯基-苯四甲酸醯亞胺))中。此後，塗層在150℃下乾燥達20分鐘，且隨後塗層藉由將經塗佈小甁置放於在300℃下之預熱爐中達30分鐘來固化。
兩個小瓶置放在第9圖中所圖示之甁對甁架中，且在10N負荷下磨損。磨損程序在同一區域上重複超過4次，且針對每次磨損決定摩擦係數。在磨損之間擦拭小瓶，且每一磨損之起始點定位於先前未磨損之區域上。然而，每一磨損移動經過同一「軌跡」。針對30N及50N之負荷，重複同 一程序。在第30圖中以圖表形式圖示針對每一負荷之每一磨損(亦即，A1-A5)之摩擦係數。如在第30圖中所示，在證明在無偶合劑之情況下塗覆至玻璃上之聚醯亞胺塗層之差耐磨損性之第一次磨損後，經聚(4,4'-氧代二亞苯基-苯四甲酸醯亞胺)塗佈之小瓶之摩擦係數大體上增加。
實例13
使用第9圖中所示之甁對甁架以30N之負荷測試在冷凍乾燥後實例6之經APS/Novastrat® 800塗佈之小瓶之摩擦係數。沒有偵測到在冷凍乾燥後之摩擦係數增加。第31圖含有展示在冷凍乾燥之前及之後的經APS/Novastrat® 800塗佈小瓶之摩擦係數之表。
實例14
參考玻璃組成物小瓶如實例2中所示而經離子交換及塗佈。使用以下協定高壓滅菌經塗佈小瓶：在100℃下之10分鐘蒸汽淨化，接著，20分鐘之停止週期，其中經塗佈玻璃容器100暴露至121℃之環境，接著在121℃下處理30分鐘。經高壓滅菌及未經高壓滅菌之小瓶之摩擦係數使用第9圖中所示之瓶對瓶架在30N負荷下量測。第32圖圖示在高壓滅菌之前及之後的經APS/Novastrat® 800塗佈之小瓶之摩擦係數。沒有偵測到在高壓滅菌後的摩擦係數增加。
實例15
三組小瓶塗佈有APS/APhTMS(比為1：8)連接層及由作為聚醯胺酸於二甲基乙醯胺中之溶液塗覆之Novastrat® 800聚醯亞胺組成之外層，且在300℃下醯亞胺 化。一組在320℃下去熱解達12小時。第二組在320℃下去熱解達12小時且隨後在121℃下高壓滅菌1小時。第三組小瓶保持未經塗佈。隨後，每組小瓶經歷在30N負荷下之甁對甁測試。每組小瓶之摩擦係數在第33圖中報告。圖示每一小瓶所經歷之損壞(或缺乏損壞)之小瓶表面之照片亦在第33圖中圖示。如在第33圖中所示，未經塗佈小瓶大體上具有大於約0.7之摩擦係數。未經塗佈小瓶歸因於測試亦招致視覺上明顯之損壞。然而，經塗佈小瓶具有小於0.45之摩擦係數而無任何視覺上明顯之表面損壞。
經塗佈小瓶亦經歷如上所述之去熱解、高壓滅菌條件或兩者。第34圖以圖表形式圖示小瓶之作為水平壓縮測試中所施加之負荷的函數之破壞概率。在經去熱解小瓶與經去熱解及高壓滅菌之小甁之間無統計學上之差異。
實例16
由IB型離子交換玻璃形成之小甁經準備具有光滑塗層，該等光滑塗層具有不同矽烷比。現參看第35圖，小瓶經準備具有三種不同塗層組成物以評估不同矽烷比對所塗覆塗層之摩擦係數之影響。第一塗層組成物包括偶合劑層及外部塗層，該偶合劑層具有為1：1之GAPS與胺苯基三甲氧基矽烷(APhTMS)之比，且該外部塗層由1.0% Novastrat® 800聚醯亞胺組成。第二塗層組成物包括偶合劑層及外部塗層，該偶合劑層具有為1：0.5之GAPS與APhTMS之比，且該外部塗層由1.0% Novastrat® 800聚醯亞胺組成。第三塗層組成物包括偶合劑層及外部塗層，該偶合劑層具有為1：0.2之 GAPS與APhTMS之比，且該外部塗層由1.0% Novastrat® 800聚醯亞胺組成。所有小瓶在320℃下去熱解12小時。此後，小瓶在20N及30N之負荷下經歷瓶對瓶摩擦測試。每一小瓶之平均施加法線力、摩擦係數及最大摩擦力(Fx)在第35圖中報告。如在第35圖中所示，降低芳族矽烷(亦即，胺苯基三甲氧基矽烷)之量增加小瓶之間的摩擦係數以及小瓶所經受之摩擦力。
實例17
由IB型離子交換玻璃形成之小甁經準備具有光滑塗層，該等光滑塗層具有不同矽烷比。
樣本經準備具有包括偶合劑層及外部塗層之組成物，該偶合劑層由0.125% APS及1.0%胺苯基三甲氧基矽烷(APhTMS)形成且具有1：8之APS/APhTMS比，該外部塗層由0.1% Novastrat® 800聚醯亞胺形成。所塗覆塗層之熱穩定性藉由決定小瓶在去熱解之前及之後的摩擦係數及摩擦力來估計。具體言之，經塗佈小瓶在30N之負荷下經歷瓶對瓶摩擦測試。摩擦係數及摩擦力經量測且在第36圖中作為時間之函數繪製。第二組小瓶在320℃下去熱解12小時，且第二組小瓶在30N之負荷下經歷同一瓶對瓶摩擦測試。摩擦係數在去熱解之前及之後保持相同，指示塗層係熱穩定的且保護玻璃表面免受摩擦損壞。亦圖示玻璃之接觸區域之照片。
樣本經準備具有包括偶合劑層及外部塗層之組成物，該偶合劑層由0.0625% APS及0.5%APhTMS形成且具有1：8之APS/APhTMS比，且該外部塗層由0.05% Novastrat® 800聚醯亞胺形成。所塗覆塗層之熱穩定性藉由決定小瓶在去熱解之前及之後的摩擦係數及摩擦力來估計。具體言之，經塗佈小瓶在30N之負荷下經歷瓶對瓶摩擦測試。摩擦係數及摩擦力經量測且在第37圖中作為時間/距離之函數繪製。第二組小瓶在320℃下去熱解12小時，且第二組小瓶在30N之負荷下經歷同一瓶對瓶摩擦測試。摩擦係數在去熱解之前及之後保持相同，指示塗層係熱穩定的。亦圖示玻璃之接觸區域之照片。
第38圖以圖表形式圖示小甁之作為水平壓縮測試中所施加之負荷的函數之破壞概率，該等小瓶具有由0.125% APS及1.0% APhTMS形成之光滑塗層及由0.1% Novastrat® 800聚醯亞胺(在第38圖上圖示為「260」)形成及由0.0625% APS及0.5% APhTMS形成之外部塗層以及由0.05% Novastrat® 800聚醯亞胺(在第38圖上圖示為「280」)形成之外部塗層。資料展示，針對證明塗層保護玻璃免受損壞之經塗佈、經去熱解及刮痕樣本，破壞負荷與未經塗敷、無刮痕樣本保持一樣。
小瓶使用GAPS水解產物經準備具有光滑塗層。樣本經準備具有包括偶合劑層及外部塗層之組成物，該偶合劑層由0.5% Dynasylan® Hydrosil 1151(3-胺丙基矽烷水解產物)及0.5%胺苯基三甲氧基矽烷(APhTMS)形成且具有1：1之比，且該外部塗層由0.05% Novastrat® 800聚醯亞胺形成。塗層效能藉由決定小瓶在去熱解之前及之後的摩擦係數及摩擦力來估計。具體言之，經離子交換強化(在450℃之100% KNO3中8h)之IB型小瓶在30N之負荷下經歷瓶對瓶摩擦測試。摩擦係數及摩擦力經量測且在第39圖中作為時間/距離之函數繪製。第二組小瓶在320℃下去熱解12小時，且第二組小瓶在30N之負荷下經歷同一瓶對瓶摩擦測試。摩擦係數在去熱解之前及之後保持相同，指示塗層係熱穩定的。亦圖示玻璃之接觸區域之照片。此表明，胺基矽烷之水解產物在塗層配方中同樣有用。
亦針對一系列去熱解條件估計所塗覆塗層之熱穩定性。具體言之，IB型離子交換玻璃小瓶經準備具有包括偶合劑層及外部塗層之組成物，該偶合劑層具有1：1之GAPS(0.5%)與胺苯基三甲氧基矽烷(APhTMS)(0.5%)之比，且該外部塗層由0.5% Novastrat 800聚醯亞胺組成。使用自動浸塗器以2mm/s之拉出速率在溶液中浸塗小瓶。樣本小瓶經受以下去熱解循環中之一者：在320℃下12小時，在320℃下24小時；在360℃下12小時；或在360℃下24小時。隨後，針對每一去熱解條件，使用瓶對瓶摩擦測試量測摩擦係數及摩擦力且作為時間之函數繪製，如在第40圖中所示。如在第40圖中所示，小瓶之摩擦係數不隨去熱解條件而變化，指示塗層係熱穩定的。第41圖以圖表形式圖示在360℃及320℃下變化熱處理時間後之摩擦係數。
實例18
小瓶如實例2中所述塗佈有APS/Novastrat 800塗層。經塗佈小瓶以及未經塗佈小甁之光透射使用分光光度計在400nm與700nm之間的波長範圍中量測。執行量測，以 使得垂直於容器壁引導光束，以使得光束兩次穿過光滑塗層，第一次是在進入容器時，且隨後在退出容器時。第11圖以圖表形式圖示在自400nm至700nm之可見光光譜中量測之經塗佈及未經塗佈小瓶之光透射資料。線440展示未經塗佈玻璃容器，且線442展示經塗佈玻璃容器。
實例19
小瓶塗佈有0.25% GAPS/0.25% APhTMS偶合劑及1.0% Novastrat® 800聚醯亞胺，且在於320℃下去熱解12小時之前及之後測試小瓶之光透射。亦測試未經塗佈小瓶。在第42圖中展示結果。
實例20
為改善聚醯亞胺塗層均勻性，藉由添加4g三乙胺至1L之甲醇及隨後添加Novastrat® 800聚醯胺酸以形成0.1%溶液，將Novastrat® 800聚醯胺酸轉換為聚醯胺酸鹽且溶解在甲醇中，相較於二甲基乙醯胺顯著較快地蒸發溶劑。可產生聚(苯四甲酸二酐-共-4,4'-氧代二苯胺)醯胺酸之可溶於甲醇之鹽。
IB型離子交換小瓶上之塗層由1.0% GAPS/1.0% APhTMS於甲醇/水混合物中及0.1% Novastrat® 800聚醯胺酸鹽於甲醇中形成。經塗佈小瓶在360℃下去熱解12小時，且塗佈狀態且去熱解之樣本在10N、20N及30N之法線負荷下在瓶對瓶架中磨損。在10N、20N及30N之法線力下沒有觀測到玻璃損壞。第43圖圖示在於360℃下熱處理12小時後樣本之摩擦係數、所施加之力及摩擦力。第44圖以圖表形 式圖示樣本之作為水平壓縮測試中所施加之負載的函數之破壞概率。在統計學上，在10N、20N及30N下之樣本系列不能彼此區分。低負荷破壞樣本自遠離刮痕之根源破裂。
使用橢圓量測術估計塗層之厚度且分別在第45圖至第47圖中圖示掃描電子顯微鏡(SEM)。用於塗層厚度量測之樣本使用矽晶圓(橢圓量測術)及載玻片(SEM)產生。該等方法展示連接層自55nm變化至180nm之厚度及Novastrat® 800聚醯胺酸鹽35nm之厚度。
實例21
電漿清潔Si晶圓片使用0.5% GAPS/0.5% APhTMS溶液於75/25甲醇/水(體積/體積)混合物中浸塗。塗層暴露至120℃達15分鐘。塗層厚度使用橢圓量測術決定。準備三個樣本，且在標準偏差為30.6nm之情況下，三個樣本分別具有92.1nm、151.7nm及110.2nm之厚度。
載玻片經浸塗且用掃描電子顯微鏡檢查。第45圖圖示以8mm/s之拉出速率在1.0% GAPS、1.0% APhTMS及0.3% NMP於75/25甲醇/水混合物中之塗層溶液中浸塗、接著在150℃下固化達15分鐘之載玻片之SEM影像。塗層呈現約93nm之厚度。第46圖圖示以4mm/s之拉出速率在1.0% GAPS、1.0% APhTMS及0.3% NMP於75/25甲醇/水混合物中之塗層溶液中浸塗、接著在150℃下固化達15分鐘之載玻片之SEM影像。塗層呈現約55nm之厚度。第47圖圖示以2mm/s之拉出速率在0.5% Novastrat® 800溶液之塗層溶液中浸塗、接著在150℃下固化15分鐘且在320℃下熱處理達30分鐘之載 玻片之SEM影像。塗層呈現約35nm之厚度。
比較實例A
IB型玻璃形成之玻璃小瓶塗佈有Baysilone M之拜耳矽氧樹脂水乳液之稀釋塗層，其中固體含量為約1-2%。小瓶在150℃下處理2小時以自表面去除水，在玻璃之外表面上留下聚二甲基矽氧烷塗層。塗層之標稱厚度為約200nm。第一組小瓶保持在未經處理狀態下(亦即，「塗佈狀態之小甁」)。第二組小瓶在280℃下處理30分鐘(亦即，「經處理小瓶」)。來自每組之一些小瓶首先藉由使用UMT-2摩擦計及甁對甁測試架以0N至48N之線性增加負荷及約20mm之長度施加刮痕來機械測試。針對摩擦係數及形態估計刮痕以決定刮痕程序是否損壞玻璃或塗層是否保護玻璃免受刮痕之損壞。
第48圖為圖示塗佈狀態小甁之作為所施加刮痕之長度(x坐標)之函數的摩擦係數、刮痕深度、所施加法線力及摩擦力(y坐標)之繪圖。如在第48圖中以圖表形式圖示，塗佈狀態之小瓶在高達約30N之負荷下展現約0.03之摩擦係數。資料展示，在約30N下，COF總是低於0.1。然而，在大於30N之法線力下，塗層開始破壞，如沿刮痕之長度之玻璃裂縫之存在所指示。玻璃裂縫指示玻璃表面損壞及玻璃由於損壞而破壞之增加之傾向。
第49圖為圖示經處理小甁之作為所施加刮痕之長度(x坐標)之函數的摩擦係數、刮痕深度、所施加法線力及摩擦力(y坐標)之繪圖。對經處理小瓶而言，在所施加負荷達到約5N之值前，摩擦係數保持為低的。此時，隨增加之負荷 而發生的增加量之玻璃裂縫表明，塗層開始破壞且玻璃表面嚴重損壞。經處理小瓶之摩擦係數增加至約0.5。然而，塗層在熱暴露後在30N之負荷下未能保護玻璃之表面，指示塗層並非熱穩定的。
隨後，藉由橫跨20mm刮痕之整個長度施加30N靜態負荷來測試小瓶。藉由橫跨20mm刮痕之整個長度施加30N靜態負荷來在水平壓縮中測試塗佈狀態之小甁之十個樣本及經處理小瓶之十個樣本。塗佈狀態之小甁未在刮痕下破壞，而10個經處理小瓶中之6個小瓶在刮痕下破壞，指示經處理小瓶具有較低之保持強度。
比較實例B
Wacker Silres MP50(部件號#60078465批號#EB21192)之溶液經稀釋為2%且該溶液經塗覆至由參考玻璃組成物形成之小甁。小瓶首先藉由在塗佈前施加電漿達10秒來清潔。小瓶在315℃下乾燥15分鐘以自塗層去除水。第一組小瓶維持處於「塗佈狀態」條件。第二組小瓶在範圍為250℃至320℃之溫度下處理達30分鐘(亦即，「經處理小瓶」)。來自每組之一些小瓶首先藉由使用UMT-2摩擦計以0N至48N之線性增加負荷及約20mm之長度施加刮痕來機械測試。針對摩擦係數及形態估計刮痕以決定刮痕程序是否損壞玻璃或塗層是否保護玻璃免受刮痕之損壞。
第50圖為圖示塗佈狀態之小甁之作為所施加刮痕之長度(x坐標)之函數的摩擦係數、刮痕深度、所施加法線力及摩擦力(y坐標)之繪圖。
第51圖為圖示在280℃下經處理之經處理小甁之作為所施加刮痕之長度(x坐標)的函數之摩擦係數、刮痕深度、所施加法線力及摩擦力(y坐標)之繪圖。經處理小瓶在大於約20N之所施加負荷下展現顯著玻璃表面損壞。亦決定，玻璃損壞之負載臨限隨著增加之熱暴露溫度而降低，指示，塗層隨著增加之溫度而降解(亦即，塗層並非熱穩定的)。在小於280℃之溫度下處理之樣本在30N以上之負荷下展示玻璃損壞。
比較實例C
由參考玻璃組成物形成之小甁用在水中稀釋至2%固體之Evonik Silikophen P 40/W處理。隨後，樣本在150℃下乾燥15分鐘，且樣本隨後在315℃下固化15分鐘。第一組小瓶維持處於「塗佈狀態」條件。第二組小瓶在260℃之溫度下處理達30分鐘(亦即，「經260℃處理之小瓶」)。第三組小瓶在280℃之溫度下處理達30分鐘(亦即，「經280℃處理之小瓶」)。使用第9圖中圖示之測試架以30N之靜態負荷刮傷小瓶。隨後，在水平壓縮下測試小瓶。經260℃處理之小瓶及經280℃處理之小瓶在壓縮下破壞，而16個塗佈狀態之小甁中之2個小瓶在刮痕下破壞。此指示，塗層在暴露至高溫後降解，且因此，塗層未充分地保護表面免受30N之負荷影響。
實例22
由參考玻璃組成物形成之小瓶塗佈有具有75/25濃度之1.0%/1.0% GAPS/m-APhTMS溶液於甲醇/水中之溶液。小 瓶以2mm/s之拉出速率在溶液中浸塗。塗層在150℃下固化15分鐘。第一組小瓶維持在未經處理狀態下(亦即，「塗佈狀態小甁」)。第二組小瓶在300℃下去熱解12小時(亦即，「經處理小瓶」)。來自每組之一些小瓶藉由使用UMT-2摩擦計及瓶對瓶測試架以10N負荷將刮痕自小瓶之肩部施加至小瓶根部來機械測試。來自每組之額外小瓶藉由使用UMT-2摩擦計及瓶對瓶測試架以30N負荷將刮痕自小瓶之肩部施加至小瓶根部來機械測試。針對摩擦係數及形態估計刮痕以決定刮痕程序是否損壞玻璃或塗層是否保護玻璃免受刮痕之損壞。
第52圖及第53圖為圖示塗佈狀態小甁之作為所施加刮痕之長度(x坐標)之函數的摩擦係數、刮痕深度、所施加法線力及摩擦力(y坐標)之繪圖。如第52圖及第53圖中以圖表形式圖示，塗佈狀態小瓶在測試之後展現一些劃痕及玻璃損壞。然而，摩擦係數在測試期間為約0.4至0.5。第54圖及第55圖圖示對經處理小瓶執行之類似測試的結果。測試之後，經處理小瓶展示塗層表面之一些磨損以及對玻璃之一些損壞。摩擦係數在測試期間為約0.7至0.8。
實例23
由參考玻璃組成物形成之小瓶塗佈有具有75/25濃度之1.0%/1.0% GAPS/m-APhTMS溶液於甲醇/水中之溶液。小瓶在溶液中浸塗且以範圍在0.5mm/s至4mm/s之拉出速率拉出，以改變各別小瓶上之塗層的厚度。塗層在150℃下固化15分鐘。第一組小瓶維持在未經處理狀態下(亦即，「塗佈 狀態小甁」)。第二組小瓶在300℃下去熱解12小時(亦即，「經處理小甁」)。來自每組之一些小瓶藉由使用UMT-2摩擦計以10N負荷將刮痕自小瓶之肩部施加至小瓶根部來機械測試。來自每組之額外小瓶藉由使用UMT-2摩擦計以30N負荷將刮痕自小瓶之肩部施加至小瓶根部來機械測試。隨後，在水平壓縮下測試小瓶。水平壓縮測試之結果在第56圖及第57圖中報告。在10N負荷下刮傷之小瓶僅展示機械強度之最小差異，不管塗層厚度之變化。在30N負荷下刮傷且具有更薄塗層(亦即，對應於0.5mm/s拉出速率之塗層)之小瓶相對於具有相對較厚之塗層的小瓶在水平壓縮下展現更大破壞傾向。
現應理解，本文中描述之玻璃容器抗脫層、具有改善之強度及提高之抗損壞性。本文中描述之玻璃容器可依據各種態樣理解。
在第一態樣中，玻璃容器可包括主體，該主體具有內表面、外表面及壁厚度，該壁厚度在外表面與內表面之間延伸。至少主體之內表面可具有小於或等於10之脫層因數。壓縮應力層可自主體之外表面延伸至壁厚度中。壓縮應力層可具有大於或等於150MPa之表面壓縮應力。光滑塗層可定位在主體之外表面之至少一部分周圍，其中主體之具有光滑塗層之外表面具有小於或等於0.7之摩擦係數。
在第二態樣中，玻璃容器可包括主體，該主體具有內表面、外表面及壁厚度，該壁厚度在外表面與內表面之間延伸。主體可由根據ASTM標準E438-92之I型B級玻璃形成。 壓縮應力層可自主體之外表面延伸至壁厚度中。壓縮應力層可具有大於或等於150MPa之表面壓縮應力。障壁層可定位於主體之內表面上，以使得含在玻璃容器中之組成物不接觸主體之內表面。光滑塗層可定位在主體之外表面之至少一部分周圍。主體之具有光滑塗層之外表面可具有小於或等於0.7之摩擦係數。
在第三態樣中，玻璃容器可包括主體，該主體具有內表面、外表面及壁厚度，該壁厚度自外表面延伸至內表面。主體可由玻璃組成物形成，該玻璃組成物不含以下組成成分：該等組成成分形成物種，該物種在對應於約200泊至約100千泊之範圍中的黏度之溫度下顯著揮發。壓縮應力層可自主體之外表面延伸至壁厚度中。壓縮應力層可具有大於或等於150MPa之表面壓縮應力。光滑塗層可定位在主體之外表面之至少一部分周圍。主體之具有光滑塗層之外表面可具有小於或等於0.7之摩擦係數。
在第四態樣中，玻璃容器可包括主體，該主體具有內表面、外表面及壁厚度，該壁厚度在外表面與內表面之間延伸。至少主體之內表面可具有小於或等於10之脫層因數。主體可由根據ASTM標準E438-92之I型B級玻璃在緩和玻璃中之揮發性物種的蒸發的處理條件下形成。壓縮應力層可自主體之外表面延伸至壁厚度中。壓縮應力層可具有大於或等於150MPa之表面壓縮應力。光滑塗層可定位在主體之外表面之至少一部分周圍。主體之具有光滑塗層之外表面可具有小於或等於0.7之摩擦係數。
第五態樣包括第一態樣至第四態樣中之任何態樣的玻璃容器，其中表面壓縮應力大於或等於200MPa。
第六態樣包括第一態樣至第四態樣中之任何態樣的玻璃容器，其中表面壓縮應力大於或等於300MPa。
第七態樣包括第一態樣至第六態樣中之任何態樣的玻璃容器，其中壓縮應力層自外表面延伸至壁厚度中大於或等於約3μm之層深度。
第八態樣包括第一態樣至第六態樣中之任何態樣的玻璃容器，其中壓縮應力層自外表面延伸至壁厚度中大於或等於約25μm之層深度。
第九態樣包括第一態樣至第八態樣中之任何態樣之玻璃容器，其中主體經離子交換強化。
第十態樣包括第一態樣至第九態樣中之任何態樣之玻璃容器，其中主體經高溫離子交換強化。
第十一態樣包括第一態樣至第六態樣中之任何態樣之玻璃容器，其中主體經熱回火。
第十二態樣包括第十一態樣之玻璃容器，其中壓縮應力層自外表面延伸至壁厚度中至達壁厚度之約22%的層深度。
第十三態樣包括第一態樣至第六態樣中之任何態樣之玻璃容器，其中主體包含層合玻璃。
第十四態樣包括第十三態樣之玻璃容器，其中層合玻璃包含具有核心熱膨脹係數CTE核心之核心層及融合至核心層且具有第二熱膨脹係數CTE包覆之至少一個包覆層，其中CTE 核心不等於CTE包覆。
第十五態樣包括第十四態樣之玻璃容器，其中至少一個包覆層包含第一包覆層及第二包覆層，第一包覆層融合至核心層之第一表面，且第二包覆層融合至核心層之第二表面，且CTE核心大於CTE包覆。
第十六態樣包括第十三態樣之玻璃容器，其中壓縮應力層延伸至壁厚度中一層深度，該層深度為約1μm至壁厚度之約90%。
第十七態樣包括第十三態樣之玻璃容器，其中壓縮應力層延伸至壁厚度中一層深度，該層深度為約1μm至壁厚度之約33%
第十八態樣包括第十四態樣至第十七態樣中任何態樣之玻璃容器，其中在層合玻璃成形為玻璃容器之後，至少一個包覆層具有小於或等於10之脫層因數。
第十九態樣包括第十四態樣至第十八態樣中任何態樣之玻璃容器，其中至少一個包覆層形成主體之內表面。
第二十態樣包括第一態樣至第四態樣中任何態樣之玻璃容器，該玻璃容器進一步包含無機塗層，該無機塗層定位於主體之外表面之至少一部分上，其中無機塗層具有熱膨脹係數，該熱膨脹係數小於主體之熱膨脹係數。
第二十一態樣包括第一態樣至第二十態樣中任何態樣之玻璃容器，其中主體具有在主體之內表面與主體之外表面之間延伸的內部區域，該內部區域具有持久層均勻性。
第二十二態樣包括第二十一態樣之玻璃容器，其中內 部區域具有至少100nm之厚度。
第二十三態樣包括第一態樣至第二十二態樣中之任何態樣之玻璃容器，其中主體之內表面具有持久表面均勻性。
第二十四態樣包括第二十三態樣之玻璃容器，其中持久表面均勻性自主體之內表面延伸至主體之壁厚度中至少10nm的深度DSR。
第二十五態樣包括第一態樣至第二十四態樣中之任何態樣之玻璃容器，其中主體之內表面經蝕刻。
第二十六態樣包括第一態樣至第二十五態樣中之任何態樣之玻璃容器，其中主體之內表面經酸蝕刻。
第二十七態樣包括第一態樣至第二十六態樣中之任何態樣之玻璃容器，其中主體之內表面為障壁塗層。
第二十八態樣包括第二十七態樣之玻璃容器，其中障壁塗層為金屬氮化物塗層、金屬氧化物塗層、金屬硫化物硫化物塗層、SiO2、類金剛石碳化物、石墨烯或碳化物塗層。
第二十九態樣包括第二十七態樣之玻璃容器，其中障壁塗層包含以下各物中之至少一者：Al2O3、TiO2、ZrO2、SnO、SnO2、SiO2、Ta2O5、Nb2O5、Cr2O3、V2O5、ZnO、HfO2或以上各者之組合。
第三十態樣包括第二十七態樣之玻璃容器，其中障壁塗層包含以下各物中之至少一者：一聚苯並咪唑；聚雙噁唑；聚雙噻唑；聚醚醯亞胺；聚喹啉；聚噻吩；聚苯硫醚；聚碸；聚氰酸酯；聚對二甲苯；氟化聚烯烴，包括聚四氟乙烯及其他含氟聚烯烴；全氟烷氧基聚合物；聚醚醚酮(PEEK)；聚 醯胺；環氧樹脂；多酚；聚氨酯丙烯酸酯；環烯共聚物及環烯聚合物；聚烯烴，包括聚乙烯、氧化聚乙烯、聚丙烯、聚乙烯/丙烯共聚物、聚乙烯/乙酸乙烯酯共聚物、聚氯乙烯、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚苯乙烯、聚異戊二烯、聚酸酐、聚順丁烯二酐、聚甲醛、聚縮醛及聚縮醛共聚物；二甲基或二苯基或甲基/苯基聚矽氧烷混合物；全氟化矽氧烷及其他經取代矽氧烷；聚醯亞胺；聚碳酸酯；聚酯；石蠟及蠟；或上述各者之各種組合。
第三十一態樣包括第一態樣至第四態樣中之任何態樣之玻璃容器，其中主體根據DIN 12116具有至少S3級抗酸性或更佳抗酸性。
第三十二態樣包括第一態樣至第四態樣中之任何態樣之玻璃容器，其中主體根據ISO 695具有至少A2級抗鹼性或更佳抗鹼性。
第三十三態樣包括第一態樣至第四態樣中之任何態樣之玻璃容器，其中主體根據ISO 719具有至少HgB2型抗水解性或更佳抗水解性。
第三十四態樣包括第一態樣至第四態樣中之任何態樣之玻璃容器，其中主體根據ISO 720具有至少HgA2型抗水解或更佳抗水解性。
第三十五態樣包括第一態樣至第四態樣中之任何態樣之玻璃容器，其中主體根據USP<660>具有1型化學耐久性。
第三十六態樣包括第一態樣至第四態樣中之任何態 樣之玻璃容器，其中主體為模製成形主體。
第三十七態樣包括第一態樣至第四態樣中之任何態樣之玻璃容器，其中主體用玻璃成形製程形成，其中主體自玻璃熔體單一地冷卻。
第三十八態樣包括第一態樣至第四態樣中之任何態樣之玻璃容器，其中主體由鋁矽酸鹽玻璃組成物形成。
第三十九態樣包括第一態樣至第四態樣中之任何態樣之玻璃容器，其中主體由鹼金屬鋁矽酸鹽玻璃組成物形成。
第四十態樣包括第三十九態樣之玻璃容器，其中鹼金屬鋁矽酸鹽玻璃組成物實質上不含有硼及含硼化合物。
第四十一態樣包括第三十九態樣之玻璃容器，其中鹼金屬鋁矽酸鹽玻璃組成物實質上不含有鋅及含鋅化合物。
第四十二態樣包括第三十九態樣之玻璃容器，其中鹼金屬鋁矽酸鹽玻璃組成物實質上不含有磷及含磷化合物。
第四十三態樣包括第一態樣至第四態樣中之任何態樣之玻璃容器，其中主體由玻璃組成物形成，該玻璃組成物包含：約67莫耳%至約75莫耳%之SiO2；約6莫耳%至約10莫耳%之Al2O3；約5莫耳%至約12莫耳%之鹼金屬氧化物，其中鹼金屬氧化物包含約2.5莫耳%至約10莫耳%之Na2O及大於約0莫耳%至約2.5莫耳%之K2O；約9莫耳%至約15莫耳%之鹼土金屬氧化物；及約0莫耳%至約0.5莫耳%之SnO2。
第四十四態樣包括第四十三態樣之玻璃容器，其中玻璃組成物實質上不含有硼及含硼化合物。
第四十五態樣包括第四十三態樣之玻璃容器，其中玻 璃組成物實質上不含有鋅及含鋅化合物。
第四十六態樣包括第四十三態樣之玻璃容器，其中玻璃組成物實質上不含有磷及含磷化合物。
第四十七態樣包括第一態樣或第三態樣中之任何態樣之玻璃容器，其中主體由根據ASTM標準E438-92之I型B級玻璃形成。
第四十八態樣包括第四十七態樣之玻璃容器，其中根據ASTM標準E438-92之I型B級玻璃不含有鋅及含鋅化合物。
第四十九態樣包括第一態樣至第四十八態樣中之任何態樣之玻璃容器，其中玻璃容器為藥物封裝。
第五十態樣包括第一態樣至第四十九態樣中之任何態樣之玻璃容器，其中光滑塗層在至少約250℃之溫度下熱穩定30分鐘。
第五十一態樣包括第一態樣至第五十態樣中之任何態樣之玻璃容器，其中光滑塗層在至少約260℃之溫度下熱穩定30分鐘。
第五十二態樣包括第一態樣至第五十一態樣中之任何態樣之玻璃容器，其中光滑塗層在至少約280℃之溫度下熱穩定30分鐘。
第五十三態樣包括第一態樣至第五十二態樣中之任何態樣之玻璃容器，其中光滑塗層為韌性無機塗層。
第五十四態樣包括第五十三態樣之玻璃容器，其中韌性無機塗層為金屬氮化物塗層、金屬氧化物塗層、金屬硫化 物塗層、SiO2、類金剛石碳化物、石墨烯或碳化物塗層。
第五十五態樣包括第五十三態樣之玻璃容器，其中韌性無機塗層包含以下各物中之至少一者：TiN、BN、HBN、TiO2、Ta2O5、HfO2、Nb2O5、V2O5、SiO2、MoS2、SiC、SnO、SnO2、ZrO2、Al2O3、BN、ZnO及BC。
第五十六態樣包括第一態樣至第五十二態樣中之任何態樣之玻璃容器，其中光滑塗層包含韌性有機塗層，當以約10℃/分鐘之升溫速率自150℃之溫度加熱至350℃時，韌性有機塗層具有韌性有機塗層質量之小於約5%的質量損失。
第五十七態樣包括第五十六態樣之玻璃容器，其中韌性有機塗層包含聚合物化學組成物。
第五十八態樣包括第五十七態樣之玻璃容器，其中韌性有機塗層進一步包含偶合劑。
第五十九態樣包括第一態樣至第四十九態樣中之任何態樣之玻璃容器，其中光滑塗層為暫態塗層。
第六十態樣包括第五十九態樣之玻璃容器，其中暫態塗層在小於或等於300℃之溫度下在小於或等於1小時內熱解。
第六十一態樣包括第五十九態樣及第六十態樣中之任何態樣之玻璃容器，其中暫態塗層包含聚乙二醇、甲基丙烯酸酯樹脂、三聚氰胺甲醛樹脂及聚乙烯醇之混合物。
第六十二態樣包括第五十九態樣及第六十態樣中之任何態樣之玻璃容器，其中暫態塗層包含一或多種多糖。
第六十三態樣包括第五十九態樣及第六十態樣中之 任何態樣之玻璃容器，其中暫態塗層包含聚丙烯酸或聚丙烯酸之衍生物。
第六十四態樣包括第五十九態樣及第六十態樣中之任何態樣之玻璃容器，其中暫態塗層包含無機鹽。
第六十五態樣包括第五十九態樣及第六十態樣中之任何態樣之玻璃容器，其中暫態塗層包含以下各物中之至少一者：聚環氧乙烷；聚環氧丙烷；環氧乙烷-環氧丙烷共聚物；聚乙烯吡咯啶酮；聚乙烯亞胺；聚甲基乙烯基醚；聚丙烯醯胺；聚甲基丙烯醯胺；聚氨酯；聚乙酸乙烯酯；聚乙烯甲醛；聚甲醛，包括聚縮醛及縮醛共聚物；聚甲基丙烯酸烷基酯；甲基纖維素；乙基纖維素；羥乙基纖維素；羥丙基纖維素；羧甲基纖維素鈉；甲基羥丙基纖維素；聚丙烯酸及聚丙烯酸鹽；聚甲基丙烯酸及聚甲基丙烯酸鹽；乙烯-順丁烯二酸酐共聚物、乙烯-乙烯醇共聚物；乙烯-丙烯酸共聚物；乙酸乙烯酯-乙烯醇共聚物；甲基乙烯基醚-順丁烯二酸酐共聚物；可乳化聚氨酯；聚氧乙烯硬脂酸酯；及聚烯烴，包括聚乙烯、聚丙烯及聚乙烯、聚丙烯共聚物、澱粉及改質澱粉、親水膠體、聚丙烯醯胺、植物脂肪及動物脂肪、蠟、牛脂、皂、硬脂-石蠟乳液、二甲基或二苯基或甲基/苯基聚矽氧烷混合物、全氟化矽氧烷及其他經取代矽氧烷、烷基矽烷、芳族矽烷及氧化聚乙烯。
第六十六態樣包括第一態樣至第六十五態樣中之任何態樣之玻璃容器，其中針對約400nm至約700nm之光波長，穿過具有光滑塗層之玻璃容器之光透射大於或等於穿過 未塗佈玻璃容器的光透射之約55%。
對熟習此項技術者將顯而易見，在不脫離所主張標的之精神及範疇的情況下，可對本文中所描述之實施例進行各種修改及變化。因此，若本文中所描述之各種實施例的修改及變化在附加申請專利範圍及附加申請專利範圍之等效物的範疇內，則本說明書旨在涵蓋該等修改及變化。
100‧‧‧玻璃容器
102‧‧‧主體
104‧‧‧內表面
106‧‧‧外表面
108‧‧‧內部體積
131‧‧‧障壁塗層

Claims (78)

  1. 一種玻璃容器，該玻璃容器包含：一主體，該主體具有一內表面、一外表面及一壁厚度，該壁厚度在該外表面與該內表面之間延伸，其中至少該主體之該內表面具有小於或等於10之一脫層因數；一壓縮應力層，該壓縮應力層自該主體之該外表面延伸至該壁厚度中，該壓縮應力層具有大於或等於150MPa之一表面壓縮應力；及一光滑塗層，該光滑塗層定位在該主體之該外表面之至少一部分周圍，其中該主體之具有該光滑塗層之該外表面具有小於或等於0.7之一摩擦係數。
  2. 如請求項1所述之玻璃容器，其中該表面壓縮應力大於或等於200MPa。
  3. 如請求項1所述之玻璃容器，其中該表面壓縮應力大於或等於300MPa。
  4. 如請求項1所述之玻璃容器，其中該壓縮應力層自該外表面延伸至該壁厚度中大於或等於約3μm之一層深度。
  5. 如請求項1所述之玻璃容器，其中該壓縮應力層自該外表面延伸至該壁厚度中大於或等於約25μm之一層深度。
  6. 如請求項1所述之玻璃容器，其中該主體經離子交換強化。
  7. 如請求項1所述之玻璃容器，其中該主體經高溫離子交換強化。
  8. 如請求項1所述之玻璃容器，其中該主體經熱回火。
  9. 如請求項8所述之玻璃容器，其中該壓縮應力層自該外表面延伸至該壁厚度中達該壁厚度之約22%的一層深度。
  10. 如請求項1所述之玻璃容器，其中該主體包含層合玻璃。
  11. 如請求項10所述之玻璃容器，其中該層合玻璃包含：一核心層，該核心層具有一核心熱膨脹係數CTE核心；及至少一個包覆層，該至少一個包覆層融合至該核心層且具有一第二熱膨脹係數CTE包覆，其中CTE核心不等於CTE包覆。
  12. 如請求項11所述之玻璃容器，其中：該至少一個包覆層包含一第一包覆層及一第二包覆層；該第一包覆層融合至該核心層之一第一表面，且該第二包覆層融合至該核心層之一第二表面；且CTE核心大於CTE包覆。
  13. 如請求項10所述之玻璃容器，其中該壓縮應力層延伸 至該壁厚度中一層深度，該層深度為約1μm至該壁厚度之約90%。
  14. 如請求項10所述之玻璃容器，其中該壓縮應力層延伸至該壁厚度中一層深度，該層深度為約1μm至該壁厚度之約33%。
  15. 如請求項11所述之玻璃容器，其中在該層合玻璃成形為該玻璃容器之後，該至少一個包覆層具有小於或等於10之一脫層因數。
  16. 如請求項11所述之玻璃容器，其中該至少一個包覆層形成該主體之該內表面。
  17. 如請求項1所述之玻璃容器，該玻璃容器進一步包含一無機塗層，該無機塗層定位於該主體之該外表面之至少一部分上，其中該無機塗層具有一熱膨脹係數，該熱膨脹係數小於該主體之一熱膨脹係數。
  18. 如請求項1所述之玻璃容器，其中該主體具有在該主體之該內表面與該主體之該外表面之間延伸的一內部區域，該內部區域具有一持久層均勻性。
  19. 如請求項18所述之玻璃容器，其中該內部區域具有至 少100nm之一厚度。
  20. 如請求項1所述之玻璃容器，其中該主體之該內表面具有一持久表面均勻性。
  21. 如請求項20所述之玻璃容器，其中該持久表面均勻性自該主體之該內表面延伸至該主體之該壁厚度中至少10nm的一深度DSR。
  22. 如請求項1所述之玻璃容器，其中該主體之該內表面經蝕刻。
  23. 如請求項1所述之玻璃容器，其中該主體之該內表面經酸蝕刻。
  24. 如請求項1所述之玻璃容器，其中該主體之該內表面為一障壁塗層。
  25. 如請求項24所述之玻璃容器，其中該障壁塗層為一金屬氮化物塗層、一金屬氧化物塗層、一金屬硫化物硫化物塗層、SiO2、類金剛石碳化物、石墨烯或一碳化物塗層。
  26. 如請求項24所述之玻璃容器，其中該障壁塗層包含以下各物中之至少一者：Al2O3、TiO2、ZrO2、SnO、SnO2、SiO2、 Ta2O5、Nb2O5、Cr2O3、V2O5、ZnO、HfO2或上述各者之組合。
  27. 如請求項24所述之玻璃容器，其中該障壁塗層包含以下各物中之至少一者：一聚苯並咪唑；聚雙噁唑；聚雙噻唑；聚醚醯亞胺；聚喹啉；聚噻吩；聚苯硫醚；聚碸；聚氰酸酯；聚對二甲苯；氟化聚烯烴，包括聚四氟乙烯及其他含氟聚烯烴；全氟烷氧基聚合物；聚醚醚酮(PEEK)；聚醯胺；環氧樹脂；多酚；聚氨酯丙烯酸酯；環烯共聚物及環烯聚合物；聚烯烴，包括聚乙烯、氧化聚乙烯、聚丙烯、聚乙烯/丙烯共聚物、聚乙烯/乙酸乙烯酯共聚物、聚氯乙烯、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚苯乙烯、聚異戊二烯、聚酸酐、聚順丁烯二酐、聚甲醛、聚縮醛及聚縮醛共聚物；二甲基或二苯基或甲基/苯基聚矽氧烷混合物；全氟化矽氧烷及其他經取代矽氧烷；聚醯亞胺；聚碳酸酯；聚酯；石蠟及蠟；或上述各者之各種組合。
  28. 如請求項1所述之玻璃容器，其中該主體根據DIN 12116具有至少一S3級抗酸性或更佳抗酸性。
  29. 如請求項1所述之玻璃容器，其中該主體根據ISO 695具有至少一A2級抗鹼性或更佳抗鹼性。
  30. 如請求項1所述之玻璃容器，其中該主體根據ISO 719具有至少一HgB2型抗水解性或更佳抗水解性。
  31. 如請求項1所述之玻璃容器，其中該主體根據ISO 720具有至少一HgA2型抗水解性或更佳抗水解性。
  32. 如請求項1所述之玻璃容器，其中該主體具有根據USP<660>之一1型化學耐久性。
  33. 如請求項1所述之玻璃容器，其中該主體為一模製成形主體。
  34. 如請求項1所述之玻璃容器，其中該主體用一玻璃成形製程形成，其中該主體自一玻璃熔體單一地冷卻。
  35. 如請求項1所述之玻璃容器，其中該主體由一鋁矽酸鹽玻璃組成物形成。
  36. 如請求項1所述之玻璃容器，其中該主體由一鹼金屬鋁矽酸鹽玻璃組成物形成。
  37. 如請求項36所述之玻璃容器，其中該鹼金屬鋁矽酸鹽玻璃組成物實質上不含有硼及含硼化合物。
  38. 如請求項36所述之玻璃容器，其中該鹼金屬鋁矽酸鹽玻璃組成物實質上不含有鋅及含鋅化合物。
  39. 如請求項36所述之玻璃容器，其中該鹼金屬鋁矽酸鹽玻璃組成物實質上不含有磷及含磷化合物。
  40. 如請求項1所述之玻璃容器，其中該主體由一玻璃組成物形成，該玻璃組成物包含：約67莫耳%至約75莫耳%之SiO2；約6莫耳%至約10莫耳%之Al2O3；約5莫耳%至約12莫耳%之鹼金屬氧化物，其中該鹼金屬氧化物包含約2.5莫耳%至約10莫耳%之Na2O及大於約0莫耳%至約2.5莫耳%之K2O；約9莫耳%至約15莫耳%之鹼土金屬氧化物；及約0莫耳%至約0.5莫耳%之SnO2。
  41. 如請求項40所述之玻璃容器，其中該玻璃組成物實質上不含有硼及含硼化合物。
  42. 如請求項40所述之玻璃容器，其中該玻璃組成物不含有鋅及含鋅化合物。
  43. 如請求項40所述之玻璃容器，其中該玻璃組成物實質上不含有磷及含磷化合物。
  44. 如請求項1所述之玻璃容器，其中該主體由根據ASTM 標準E438-92之一I型B級玻璃形成。
  45. 如請求項44所述之玻璃容器，其中根據ASTM標準E438-92之該I型B級玻璃不含有鋅及含鋅化合物。
  46. 如請求項1所述之玻璃容器，其中該玻璃容器為一藥物封裝。
  47. 如請求項1所述之玻璃容器，其中該光滑塗層在至少約250℃之一溫度下熱穩定30分鐘。
  48. 如請求項1所述之玻璃容器，其中該光滑塗層在至少約260℃之一溫度下熱穩定30分鐘。
  49. 如請求項1所述之玻璃容器，其中該光滑塗層在至少約280℃之一溫度下熱穩定30分鐘。
  50. 如請求項1所述之玻璃容器，其中該光滑塗層為一韌性無機塗層。
  51. 如請求項50所述之玻璃容器，其中該韌性無機塗層為一金屬氮化物塗層、一金屬氧化物塗層、一金屬硫化物塗層、SiO2、類金剛石碳化物、石墨烯或一碳化物塗層。
  52. 如請求項50所述之玻璃容器，其中該韌性無機塗層包含以下各物中之至少一者：TiN、BN、HBN、TiO2、Ta2O5、HfO2、Nb2O5、V2O5、SiO2、MoS2、SiC、SnO、SnO2、ZrO2、Al2O3、BN、ZnO及BC。
  53. 如請求項1所述之玻璃容器，其中該光滑塗層包含一韌性有機塗層，當以約10℃/分鐘之一升溫速率自150℃之一溫度加熱至350℃時，該韌性有機塗層具有該韌性有機塗層質量之小於約5%的一質量損失。
  54. 如請求項53所述之玻璃容器，其中該韌性有機塗層包含一聚合物化學組成物。
  55. 如請求項54所述之玻璃容器，其中該韌性有機塗層進一步包含一偶合劑。
  56. 如請求項1所述之玻璃容器，其中該光滑塗層為一暫態塗層。
  57. 如請求項56所述之玻璃容器，其中該暫態塗層在小於或等於300℃之溫度下在小於或等於1小時內熱解。
  58. 如請求項56所述之玻璃容器，其中該暫態塗層包含聚乙二醇、甲基丙烯酸酯樹脂、三聚氰胺甲醛樹脂及聚乙烯醇 之一混合物。
  59. 如請求項56所述之玻璃容器，其中該暫態塗層包含一或多種多糖。
  60. 如請求項56所述之玻璃容器，其中該暫態塗層包含聚丙烯酸或聚丙烯酸之一衍生物。
  61. 如請求項56所述之玻璃容器，其中該暫態塗層包含一無機鹽。
  62. 如請求項56所述之玻璃容器，其中該暫態塗層包以下各物中之至少一者：聚環氧乙烷；聚環氧丙烷；環氧乙烷-環氧丙烷共聚物；聚乙烯吡咯啶酮；聚乙烯亞胺；聚甲基乙烯基醚；聚丙烯醯胺；聚甲基丙烯醯胺；聚氨酯；聚乙酸乙烯酯；聚乙烯甲醛；聚甲醛，包括聚縮醛及縮醛共聚物；聚甲基丙烯酸烷基酯；甲基纖維素；乙基纖維素；羥乙基纖維素；羥丙基纖維素；羧甲基纖維素鈉；甲基羥丙基纖維素；聚丙烯酸及聚丙烯酸鹽；聚甲基丙烯酸及聚甲基丙烯酸鹽；乙烯-順丁烯二酸酐共聚物；乙烯-乙烯醇共聚物；乙烯-丙烯酸共聚物；乙酸乙烯酯-乙烯醇共聚物；甲基乙烯基醚-順丁烯二酸酐共聚物；可乳化聚氨酯；聚氧乙烯硬脂酸酯；及聚烯烴，包括聚乙烯、聚丙烯及聚乙烯、聚丙烯共聚物、澱粉及改質澱粉、親水膠體、聚丙烯醯胺、植物脂肪及動物脂肪、蠟、牛 脂、皂、硬脂-石蠟乳液、二甲基或二苯基或甲基/苯基聚矽氧烷混合物、全氟化矽氧烷及其他經取代矽氧烷、烷基矽烷、芳族矽烷及氧化聚乙烯。
  63. 如請求項1所述之玻璃容器，其中針對約400nm至約700nm之光波長，穿過具有該光滑塗層之該玻璃容器之一光透射大於或等於穿過未塗佈玻璃容器的一光透射之約55%。
  64. 一種玻璃容器，該玻璃容器包含：一主體，該主體具有一內表面、一外表面及一壁厚度，該壁厚度在該外表面與該內表面之間延伸，其中該主體由根據ASTM標準E438-92之一I型B級玻璃形成；一壓縮應力層，該壓縮應力層自該主體之該外表面延伸至該壁厚度中，該壓縮應力層具有大於或等於150MPa之一表面壓縮應力；一障壁層，該障壁層定位於該主體之該內表面上，以使得含在該玻璃容器中之一組成物不接觸該主體之該內表面；及一光滑塗層，該光滑塗層定位在該主體之該外表面之至少一部分周圍，其中該主體之具有該光滑塗層之該外表面具有小於或等於0.7之一摩擦係數。
  65. 如請求項64所述之玻璃容器，其中具有該障壁層之該主體具有小於或等於10之一脫層因數。
  66. 如請求項64所述之玻璃容器，其中該玻璃容器在至少約250℃之一溫度下熱穩定30分鐘。
  67. 如請求項64所述之玻璃容器，其中該玻璃容器在至少約260℃之一溫度下熱穩定30分鐘。
  68. 如請求項64所述之玻璃容器，其中該玻璃容器在至少約280℃之一溫度下熱穩定30分鐘。
  69. 如請求項64所述之玻璃容器，該玻璃容器進一步包含一無機塗層，該無機塗層定位於該主體之該外表面之至少一部分上，其中該無機塗層具有一熱膨脹係數，該熱膨脹係數小於該主體之一熱膨脹係數。
  70. 一種玻璃容器，該玻璃容器包含：一主體，該主體具有一內表面、一外表面及一壁厚度，該壁厚度自該外表面延伸至該內表面，其中該主體由一玻璃組成物形成，該玻璃組成物不含以下組成成分：該等組成成分形成物種，該物種在對應於約200泊至約100千泊之一範圍中的一黏度之溫度下顯著揮發；一壓縮應力層，該壓縮應力層自該主體之該外表面延伸至該壁厚度中，該壓縮應力層具有大於或等於150MPa之一表面壓縮應力；及 一光滑塗層，該光滑塗層在該主體之該外表面之至少一部分周圍，其中該主體之具有該光滑塗層之該外表面具有小於或等於0.7之一摩擦係數。
  71. 如請求項70所述之玻璃容器，其中該玻璃容器在至少約250℃之一溫度下熱穩定30分鐘。
  72. 如請求項70所述之玻璃容器，其中該玻璃容器在至少約260℃之一溫度下熱穩定30分鐘。
  73. 如請求項70所述之玻璃容器，其中該玻璃容器在至少約280℃之一溫度下熱穩定30分鐘。
  74. 一種玻璃容器，該玻璃容器包含：一主體，該主體具有一內表面、一外表面及一壁厚度，該壁厚度在該外表面與該內表面之間延伸，其中至少該主體之該內表面具有小於或等於10之一脫層因數，該主體由根據ASTM標準E438-92之I型B級玻璃形成，其中該主體在緩和該玻璃中之揮發性物種的該蒸發的處理條件下形成；一壓縮應力層，該壓縮應力層自該主體之該外表面延伸至該壁厚度中，該壓縮應力層具有大於或等於150MPa之一表面壓縮應力；及一光滑塗層，該光滑塗層在該主體之該外表面之至少一部分周圍，其中該主體之具有該光滑塗層之該外表面具有小 於或等於0.7之一摩擦係數。
  75. 如請求項74所述之玻璃容器，其中該主體在成形溫度下形成，該等成形溫度小於該玻璃中之該等揮發性物種的一最低蒸發溫度。
  76. 如請求項74所述之玻璃容器，其中該主體以成形速度形成，該等成形速度小於該玻璃組成物中之揮發性物種蒸發的成形速度。
  77. 如請求項74所述之玻璃容器，其中該光滑塗層在大於或等於250℃之溫度下熱穩定。
  78. 如請求項77所述之玻璃容器，其中該光滑塗層在小於或等於400℃之溫度下熱穩定。
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