JP2001229526A

JP2001229526A - 化学強化用ガラス組成物からなる磁気ディスク基板および磁気ディスク媒体。

Info

Publication number: JP2001229526A
Application number: JP2001000030A
Authority: JP
Inventors: Akihiro Koyama; 昭浩小山; Nobuyuki Yamamoto; 信行山本
Original assignee: Nippon Sheet Glass Co Ltd
Current assignee: Nippon Sheet Glass Co Ltd
Priority date: 2001-01-04
Filing date: 2001-01-04
Publication date: 2001-08-24

Abstract

(57)【要約】【課題】フロート法で成形に適した溶融温度および作業
温度を有し、化学強化処理後の耐水性や耐候性が良好で
ある化学強化用ガラス組成物からなる磁気ディスク基板
を提供する。【解決手段】重量％で表して、ＳｉＯ₂５８〜６６％、
Ａｌ₂Ｏ₃１３〜１９％、Ｌｉ₂Ｏ３〜４．５％、Ｎａ₂Ｏ
６〜１３％、Ｋ₂Ｏ０〜５％、Ｒ₂Ｏ１０〜１８％、（た
だし、Ｒ₂Ｏ＝Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ）、ＭｇＯ０〜
３．５％、ＣａＯ１〜７％、ＳｒＯ０〜２％、Ｂ
ａＯ０〜２％、ＲＯ２〜１０％、（ただし、ＲＯ＝Ｍ
ｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）、ＴｉＯ₂０〜２
％、ＣｅＯ₂０〜２％、Ｆｅ ₂Ｏ₃０．０１〜２％、Ｍ
ｎＯ０〜１％、の組成を有するようにガラスバッチ原
料を調合し、このガラスバッチをフロート法で連続的に
溶融、成形する。このガラス素板をカリウムを含む溶融
塩によるイオン交換化学強化法により、ガラス製磁気デ
ィスク基板とすることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、化学強化用ガラス
組成物からなる磁気ディスク基板およびそれを用いて得
られる磁気ディスク媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に化学強化ガラス物品は、ガラス組
成中に含まれる一価の金属イオンよりイオン半径の大き
な１価の金属イオンを含有する溶融塩中に浸漬され、ガ
ラス中の金属イオンと溶融塩中の金属イオンとが交換さ
れることにより製造される。

【０００３】このような化学強化ガラス物品の用途の一
つとして、情報記録媒体用の基板、特に磁気ディスク基
板として用いられるようになってきた。このような磁気
ディスクドライブの用途には、ガラスの熱膨張と固定用
の金属治具との熱膨張のマッチングが必要であり、また
長期保存および悪環境すなわち高温高湿下での使用に耐
える耐候性が要求される。さらに磁気ディスク基板の用
途では、使用される板厚の薄板化が進んでいる。これと
ともに、記録密度の増大のためにその表面の高平坦化が
望まれているため、磁気ディスク基板をそれに適したフ
ロート法で成形することは有利な方法である。

【０００４】現在、このような化学強化ガラス基板とし
ては、フロート法により成形されたソーダライム組成の
ガラス基板に化学強化が施されて用いられている。しか
しながら、前記ガラス基板は化学強化処理を施すと耐候
性が著しく悪くなるため、高温多湿の環境での使用に問
題があった。

【０００５】ところで、耐候性の優れた化学強化ガラス
としては、米国特許４，１５６，７５５号にリチウム含
有イオン交換強化ガラスについての記載がある。前記公
報、７項、２〜１５行目に、重量％で、５９〜６３％の
ＳｉＯ₂、１０〜１３％のＮａ₂Ｏ、４〜５．５％のＬ
ｉ₂Ｏ、１５〜２３％のＡｌ₂Ｏ₃、２〜５％のＺｒＯ₂を
含有し、Ａｌ₂Ｏ₃＋ＺｒＯ₂が１９〜２５％、Ｎａ₂Ｏ/
ＺｒＯ₂が２．２〜５．５であるガラス組成物が開示さ
れている。

【０００６】また、強化ガラスの製造方法としては、例
えば特開昭６２−１８７１４０号公報に記載されてお
り、前記公報、第１項、左側５〜１６行目に重量％で、
６４〜７０％のＳｉＯ₂、１４〜２０％のＡｌ₂Ｏ₃、４
〜６％のＬｉ₂Ｏ、７〜１０％のＮａ₂Ｏ、０〜４％のＭ
ｇＯ、０〜１．５％のＺｒＯ₂を含有する強化ガラスの
製造方法について開示されている。

【０００７】しかし、上記米国特許４，１５６，７５５
号および特開昭６２−１８７１４０号公報の実施例で示
されたガラス組成物は、溶解および成形に高温を要し、
フロート法にて製造するのは容易ではない。

【０００８】他の化学強化ガラスとしては、特開平５−
３２４３１号公報に記載されており、前記公報、第２
項、左側２〜７行目に重量％で、６２〜７５％のＳｉＯ
₂、４〜１２％のＮａ₂Ｏ、４〜１０％のＬｉ₂Ｏ、５〜
１５％のＡｌ₂Ｏ₃を含有し、かつＮａ₂Ｏ／ＺｒＯ₂の重
量比が０．５〜２．０であり、さらにＡｌ₂Ｏ₃／ＺｒＯ
₂の重量比が０．４〜２．５である化学強化ガラス物品
について開示されている。前記公報に開示された組成に
は多量のＺｒＯ₂が含まれており、溶融炉を用いて製造
する場合、炉内でＺｒＯ₂の結晶が析出し易く、品質上
に問題があった。

【０００９】自動車、航空機等の風防用に適した化学強
化ガラスとして、特公昭４７−１３１２号に、リチウム
またはナトリウムアルミノシリケートガラスシートおよ
びその製造方法が開示されている。前記公報、第３項右
側２９〜３４行目に、特に適当なガラス組成物は、内部
部分が酸化物基準重量で、２〜６％Ｌｉ₂Ｏ、５〜１０
％Ｎａ₂Ｏ、１５〜２５％Ａｌ₂Ｏ₃および６０〜７０％
ＳｉＯ₂からなり、Ｌｉ ₂Ｏ，Ｎａ₂Ｏ，Ａｌ₂Ｏ₃および
ＳｉＯ₂の総和が組成物の少くとも９５重量％である、
との記載がある。前記公報の第３項第１表の３に記載さ
れている前記組成範囲に含まれる実施例は、溶解および
成形に高温を要しフロート成形にて高品質なガラスを製
造するのは困難である。

【００１０】また、強化ガラスの製造方法および強化ガ
ラスが英国特許１３２２５１０号公報に開示されてい
る。前記公報の一つの目的として、第１項６１〜７５行
目に、Ｆｒｏｕｃａｕｌｔｐｒｏｃｅｓｓ，Ｐｅｎｎ
ｖｅｒｎｏｎｏｒＰｉｔｔｓｂｕｒｇｈｐｒｏｓ
ｅｓｓ，Ｃｏｌｂｕｒｎｐｒｏｃｅｓｓでのガラスシ
ート製造が可能な組成を提供することであり、このため
のガラス組成の条件として歪点が４５０〜５５０℃、作
業温度が９８０〜１１５０℃、液相温度が１１００℃以
下との記載がある。前記公報記載の実施例の組成物は、
作業温度が高い、液相温度が作業温度より高くフロート
法による成形に適さない、化学強化ガラスの耐候性が悪
い等の問題点があった。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明は、溶融
炉を用いて製造する場合に問題となるＺｒＯ₂を含まず
に、さらにフロート成形に適した溶解温度および作業温
度を有し、さらに化学強化処理後の耐水性や耐候性が良
好である化学強化用ガラス組成物を提供することを目的
とする。さらに、金属製品と組み合わせて使用すること
が可能な膨張係数を有する化学強化用ガラス組成物を提
供することを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記従来技術
の課題および要求に基づいて行われたものであり、重量
％で表して、ＳｉＯ₂ ５８〜６６％、Ａｌ₂Ｏ₃ １３〜１９％、Ｌｉ₂Ｏ３〜４．５％、Ｎａ₂Ｏ６〜１３％、Ｋ₂Ｏ０〜５％、Ｒ₂Ｏ１０〜１８％、（ただし、Ｒ₂Ｏ＝Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ）ＭｇＯ０〜３．５％、ＣａＯ１〜７％、ＳｒＯ０〜２％、ＢａＯ０〜２％、ＲＯ２〜１０％、（ただし、ＲＯ＝ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）ＴｉＯ₂ ０〜２％、ＣｅＯ₂ ０〜２％、Ｆｅ₂Ｏ₃ ０．０１〜２％、ＭｎＯ０〜１％、の組成を有する化学強化用ガラス組成物からなる磁気デ
ィスク基板であって、そのガラス表面近傍のＬｉイオン
および／またはＮａイオンをＬｉイオンよりも大きなイ
オン半径を有する一価の金属イオンで置換して表面圧縮
応力を有するようにし、かつ６０℃の精製水中に１２０
時間浸けたときのガラス成分の溶出量を１μｇ／ｃｍ²
以下としたことを特徴とする磁気ディスク基板。

【００１３】さらに、その５０〜３５０℃の温度範囲に
おける平均線熱膨張が８０×１０^-7／Ｋ以上であること
が好ましい。

【００１４】また、重量％で表して、ＳｉＯ₂ ６０〜６６％、Ａｌ₂Ｏ₃ １５〜１８％、Ｌｉ₂Ｏ３〜４．５％、Ｎａ₂Ｏ７．５〜１２．５％、Ｋ₂Ｏ０〜２％、（ただし、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ＝１１〜１７％）ＭｇＯ０．５〜３％、ＣａＯ２．５〜６％、ＳｒＯ０〜２％、ＢａＯ０〜２％、（ただし、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＝３〜９
％）ＴｉＯ₂ ０〜２％、ＣｅＯ₂ ０〜２％、Ｆｅ₂Ｏ₃ ０．０１〜２％、ＭｎＯ０〜１％、の組成を有する化学強化用ガラス組成物からなる磁気デ
ィスク基板であって、そのガラス表面近傍のＬｉイオン
および／またはＮａイオンをＬｉイオンよりも大きなイ
オン半径を有する一価の金属イオンで置換して表面圧縮
応力を有するようにし、かつ６０℃の精製水中に１２０
時間浸けたときのガラス成分の溶出量を１μｇ／ｃｍ²
以下としたことを特徴とする磁気ディスク基板。

【００１５】さらに、その５０〜３５０℃の温度範囲に
おける平均線熱膨張が８４×１０^-7／Ｋ以上であること
が好ましい。

【００１６】またさらに、上述の化学強化用ガラス組成
物において、前記ガラス組成物の溶融温度（１０²poise
の粘性を有する温度）が１５５０℃以下で、作業温度
（１０ ⁴poiseの粘性を有する温度）が１１００℃以下で
あり、かつ前記液相温度が前記作業温度以下である化学
強化用ガラス組成物とするのが好ましい。

【００１７】さらには、前記ガラス組成物の溶融温度
（１０²poiseの粘性を有する温度）が１５４０℃以下
で、作業温度（１０⁴poiseの粘性を有する温度）が１０
５５℃以下であり、かつ前記液相温度が前記作業温度以
下である。

【００１８】さらに本発明は、上述した化学強化用ガラ
ス組成物からなり、その表面近傍のＬｉイオンおよび／
またはＮａイオンがＬｉイオンより大きなイオン半径を
有する一価の金属イオンで置換され、表面近傍に圧縮応
力を有することを特徴とする化学強化ガラス物品であ
る。

【００１９】以下に、本発明の化学強化ガラス物品の組
成の限定理由について説明する。ＳｉＯ₂はガラスを形
成するための主要成分であり、必須の構成成分である。
その割合が５８％未満であると、イオン交換後の耐水性
が悪化する。一方、６６％を越えるとガラス融液の粘性
が高くなりすぎ、溶融や成形が困難となるとともに、膨
張係数が小さくなりすぎる。このため、ＳｉＯ₂の範囲
としては５８〜６６％が好ましく、さらに６０〜６６％
が好ましい。

【００２０】Ａｌ₂Ｏ₃はイオン交換速度を速めるため、
およびイオン交換後の耐水性を向上するために必須の構
成成分である。その割合が１３％未満では、その効果が
不十分である。一方、１９％を越えるとガラス融液の粘
性が高くなりすぎ、溶融や成形が困難となるとともに、
膨張係数が小さくなりすぎる。このため、Ａｌ₂Ｏ₃の範
囲としては１３〜１９％が好ましく、さらに１５〜１９
％が好ましい。

【００２１】Ｌｉ₂Ｏはイオン交換を行うための必須の
構成成分であるとともに、溶解性を高める成分である。
その割合が３％未満では、イオン交換後の表面圧縮応力
が十分得られず、また溶解性も悪い。一方、４．５％を
越えるとイオン交換後の耐水性が悪化するとともに、液
相温度が上がり、成形が困難となる。このため、Ｌｉ ₂
Ｏの範囲としては、３〜４．５％が好ましい。

【００２２】Ｎａ₂Ｏは溶解性を高める成分である。そ
の割合が６％未満では、その効果が不十分である。一
方、１３％を越えるとイオン交換後の耐水性が悪化す
る。このため、Ｎａ₂Ｏの範囲としては６〜１３％が好
ましく、さらに７．５〜１２．５％が好ましい。

【００２３】Ｋ₂Ｏは溶解性を高める成分であるが、イ
オン交換後の表面圧縮応力が低下するため必須成分では
ない。このため、Ｋ₂Ｏの範囲としては５％以下が好ま
しく、さらに２％以下が好ましい。

【００２４】さらに、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏの合計
Ｒ₂Ｏが、９％未満ではガラス融液の粘性が高くなりす
ぎ、溶融や成形が困難となると共に膨張係数が小さくな
りすぎる。一方、１８％を越えるとイオン交換後の耐水
性が悪化する。このため、Ｌｉ ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏの
合計Ｒ₂Ｏの範囲は９〜１８％が好ましく、さらに１０
〜１７％が好ましい。

【００２５】ＭｇＯは溶解性を高める成分であるが、
３．５％を越えると液相温度が上がり、成形が困難とな
る。このためＭｇＯは３．５％以下が好ましく、さらに
０．５〜３％が好ましい。

【００２６】ＣａＯは溶解性を高める成分であるととも
に、イオン交換速度を調整するための必須成分である。
その割合が１％未満ではその効果が十分でない。一方、
７％を越えると液相温度が上がり、成形が困難となる。
このため、ＣａＯの範囲は１〜７％が好ましく、さらに
２．５〜６％が好ましい。

【００２７】ＳｒＯやＢａＯは、溶解性を高める成分で
あるとともに液相温度を下げるのに有効な成分である。
しかし、ガラスの密度が大きくなるとともに、原料代の
アップの要因となるので、ＳｒＯやＢａＯはそれぞれ２
％以下が好ましく、さらに１％以下が好ましい。

【００２８】さらに、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ
の合計ＲＯが、２％未満ではガラス融液の粘性が高くな
りすぎ、溶融、成形が困難となり、１０％を越えると液
相温度が上がり、成形が困難となる。このため、ＭｇＯ
＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯの合計ＲＯの範囲としては２
〜１０％が好ましく、さらに３〜９％が好ましい。

【００２９】Ｆｅ₂Ｏ₃はガラス融液中でＦｅ²⁺とＦｅ³⁺
が平衡状態にあり、これらのイオンが融液中の光の透過
率、特に赤外域の透過率を大きく左右する。全鉄をＦｅ
₂Ｏ₃に換算して２％以上では赤外域の吸収が大きくなり
すぎ、溶融や成形時にガラスの温度分布をコントロール
できなくなり、品質の悪化を招く。このため、全鉄はＦ
ｅ₂Ｏ₃として２％以下が好ましい。

【００３０】ＴｉＯ₂，ＣｅＯ₂，ＭｎＯはＦｅ²⁺とＦｅ
³⁺の平衡状態を変化させ、また相互作用することにより
光の透過率を変化させるのに有効な成分である。しか
し、過剰に含有するとガラス素地品質が悪化するととも
に、原料代のアップにつながるため、ＴｉＯ₂ の範囲と
しては３％以下が好ましく、さらに２％以下が好まし
い。また、ＣｅＯ₂，ＭｎＯの範囲としては１％以下が
好ましい。

【００３１】本発明の化学強化用ガラス組成物には、以
上の成分の他に本発明の特性を損なわない範囲で、Ｎｉ
Ｏ，Ｃｒ₂Ｏ₃，ＣｏＯ等の着色剤、およびＳＯ₃，Ａｓ
₂Ｏ₃、Ｓｂ₂Ｏ₃等の清澄剤を含有することができる。

【００３２】このうち、ＳＯ₃は清澄剤として用いる硫
酸塩に起因するものであり、硫酸塩を清澄剤に用いる場
合は、ガラス中の残存量が０．０５％未満では清澄の効
果が十分でない。一方、残存量が０．５％を越えても清
澄の効果は同等であり、さらにガラス溶融時の排ガス中
に含まれるＳＯx が増加するので、環境上好ましくな
い。このため、ガラス中に残存するＳＯ₃は０．０５％
〜０．５％が好ましい。

【００３３】また、一般に清澄剤として用いられるＡｓ
₂Ｏ₃，Ｓｂ₂Ｏ₃はその毒性より１％以下が好ましく、不
純物からの混入する量以下、すなわち０．１％以下とす
るのが望ましい。

【００３４】また、揮発性の高いＢ₂Ｏ₃，ＺｎＯ，Ｐ₂
Ｏ₅，ＰｂＯ等は、ガラス溶解炉のレンガを浸食すると
ともに、揮発成分が炉の天井に凝集し、レンガとともに
ガラス上に落下するなど品質を悪化させるので、不純物
からの混入する量以下、すなわち０．１％以下とするの
が好ましい。

【００３５】本発明の化学強化用ガラス組成物を用い
て、溶融・成形した基板を円板加工し、さらに荒研磨・
化学強化・精密研磨をして、磁気ディスク基板とするこ
とができる。この場合、金属製の固定治具との膨張係数
のマッチングが必要である。このとき、その５０〜３５
０℃の温度範囲における平均熱膨張係数が８０×１０^-7
／Ｋ以上が好ましく、さらに８４×１０^-7／Ｋ以上が望
ましい。

【００３６】ガラスの粘性は、高品質ガラスを溶解する
には、溶融温度すなわち１０²poiseの粘性を有する温度
が１５５０℃以下が好ましく、さらに１５４０℃以下が
望ましい。また、高平坦度のシート状に成形するには、
特にフロート法にて成形するには、作業温度すなわち１
０⁴poiseの粘性を有する温度が１１００℃以下、かつ液
相温度が作業温度以下であることが好ましく、さらに作
業温度が１０５５℃以下、かつ液相温度が作業温度以下
であることが望ましい。

【００３７】

【発明の実施の形態】（実施例）本発明における５種の
実施例である組成物、およびガラスの特性を表１に示
す。

【００３８】

【表１】

【００３９】まず、実施例１について説明する。表１に
示した組成となるように通常のガラス原料であるシリ
カ、アルミナ、炭酸リチウム、炭酸ナトリウムを用い
て、バッチを調合した。調合したバッチは白金るつぼを
用いて１４５０℃で４時間溶融し、鉄板上に流し出し
た。このガラスを５００℃の炉で３０ｍｉｎ保持した
後、炉の電源を切り、室温まで放冷し、試料ガラスとし
た。

【００４０】試料ガラスの特性として、溶融温度（ｌｏ
ｇη＝２の温度）、作業温度（ＴW:ｌｏｇη＝４の温
度）、液相温度（ＴL）、作業温度と液相温度との差
（ＴW−ＴL）および歪点（ｌｏｇη＝１４．５の温度）
の測定結果を表１に示す。

【００４１】高温域の粘性は白金球引き上げ式自動粘度
測定装置にて、また歪点はビーム曲げ式粘度測定装置に
より測定した。

【００４２】液相温度は次のようにして測定した。試料
ガラスを粉砕し、２３８０μｍのフルイを通過し、１０
００μｍのフルイ上にとどまったガラス粒をエタノール
に浸漬し、超音波洗浄した後、恒温槽で乾燥させた。幅
１２ｍｍ、長さ２００ｍｍ、深さ１０ｍｍの白金ボート
上に前記ガラス粒２５ｇをほぼ一定の厚さになるよう入
れ、９００〜１１５０℃の勾配炉内に２時間保持した
後、炉から取り出し、ガラス内部に発生した失透を４０
倍の光学顕微鏡にて観察し、発生した最高温度をもって
液相温度とした。

【００４３】イオン交換後の特性として、表面応力、表
面応力層深さ、耐水性の測定結果を表１に示す。イオン
交換は、試薬１級の硝酸ナトリウム４０％と試薬１級の
硝酸カリウム６０％の混合溶融塩中にガラスを浸漬し、
３８０℃で１時間保持して行った。表面応力、表面応力
層深さはイオン交換処理したガラスの薄片を作製し、偏
光顕微鏡を用いて測定した。耐水性は、上記試料ガラス
を５０×１００×２ｍｍに切り出し、鏡面研磨した板を
イオン交換し、この板を２０ｍｌの精製水とともにビニ
ール袋に入れ、６０℃で１２０時間保持した後、精製水
中に溶出したガラス成分量を測定し、単位面積当たりの
溶出量として求めた。

【００４４】実施例２〜５も実施例１と同様の方法で試
料ガラスを作製し、実施例１と同様にしてガラスの特性
およびイオン交換後の特性を測定した。

【００４５】いずれの実施例においても、溶融温度は１
５５０℃以下で、作業温度は１１００℃以下であり、さ
らに液相温度は作業温度より低いガラス組成物が得られ
た。したがって、このガラス組成物は、失透、脈理やス
ジの発生が少なく、高品質のガラスが得られ、溶解性お
よび成形性も優れていることがわかった。さらに、フロ
ート法による成形が可能なことが確認された。また当然
ではあるが、ＺｒＯ₂を含まないので、溶融の際にＺｒ
Ｏ₂の結晶が析出することもない。

【００４６】また、イオン交換後の耐水性テストにおけ
る重量減は１μｇ／ｃｍ² 以下と優れていることがわか
った。

【００４７】（比較例）一方、本発明に含まれない４種
の比較例である組成物、およびガラスの特性を表２に示
す。

【００４８】

【表２】

【００４９】比較例１、２、３および４は本特許請求範
囲に含まれない組成である。実施例１と同様の方法で試
料ガラスを作製し、ガラスの特性およびイオン交換後の
特性を測定した。ただし、イオン交換は試薬１級の硝酸
ナトリウム４０％と試薬１級の硝酸カリウム６０％の混
合溶融塩中にガラスを浸漬し、３８０℃で３時間保持し
て行った。

【００５０】比較例１は米国特許４，１５６，７５５号
の実施例１８に記載された組成であり、溶融点は１６１
５℃と高いので、失透、脈理やスジの発生が少ない高品
質のガラスを製造するのが容易ではない。

【００５１】比較例２は特開昭６２−１８７１４０号公
報の実施例１に記載された組成であり、溶融点は１５９
０℃以上と高いので、失透、脈理やスジの発生が少ない
高品質のガラスを製造するのが容易ではない。

【００５２】比較例３は特開平５−３２４３１号公報の
実施例４に記載された組成であり、作業温度に比べ液相
温度が高いので、ガラスの成形が困難である。

【００５３】比較例４は英国特許１３２２５１０号公報
の実施例６に記載された組成であり、溶融点は１５５５
℃以上と高いので、失透、脈理やスジの発生が少ない高
品質のガラスを製造するのが容易ではない。

【００５４】比較例５は前記市販のソーダライムガラス
であり、実施例１と同様の方法で試料ガラスを作製し、
ガラスの特性およびイオン交換後の特性を測定した。た
だし、イオン交換は試薬１級の硝酸カリウムの溶融塩中
にガラスを浸漬し４７０℃で３時間保持して行った。イ
オン交換後の耐水性テストにおける重量減は２０μｇ／
ｃｍ²であり、本発明の実施例の２０倍以上の溶出があ
り、耐水性が悪い。

【００５５】（応用例）上記実施例１から５の化学強化
用ガラス組成物を溶融し、シート状に成形した素板を、
外径６５×内径２０ｍｍのドーナッツ状に加工した。さ
らに荒研磨した後、化学強化を施し精密研磨し所定の板
厚にして、磁気ディスク基板を作製した。

【００５６】また、実施例３の組成物を溶融し、フロー
ト法にて成形して基板を作製した。この素板を上述した
ようにして、磁気ディスク基板を作製した。なお、この
基板は元々の素板がフロート法によって製造されている
ため、反りの程度が小さく平坦性に優れていた。

【００５７】以上のようにして作製した磁気ディスク基
板を用いて、磁気ディスク媒体を作製した。媒体の作製
はスパッタリング法により行った。まず、精密に洗浄し
た基板に、下地層としてＣｒを、記録層としてＣｏ−Ｃ
ｒ−Ｔａを、保護層としてＣを、それぞれスパッタリン
グ法で形成した。さらに潤滑層を形成して、磁気ディス
ク媒体とした。このようにして得た媒体を、密閉型の磁
気ディスクドライブに装着し、連続稼動させた。この場
合、モータからの発熱やディスク表面の空気との摩擦
で、ドライブ内部には温度上昇が発生していたが、金属
製の固定治具との膨張係数のマッチングがとれているた
め、何ら問題を生じることはなかった。

【００５８】

【発明の効果】以上のように本発明の化学強化用ガラス
組成物によれば、高品質なガラス素板の製造が容易であ
り、さらに化学強化処理後の耐水性も良好な化学強化ガ
ラス物品が得られる。

【００５９】さらに、本発明の化学強化用ガラス組成物
によれば、その液相温度が作業温度より低く、溶解性お
よび成形性に優れているため、フロート法にて製造する
ことが可能である。したがって、フロート法の特徴であ
る高平坦性を有している高品質なガラス素板を容易に得
ることができる。

【００６０】またさらに、金属製の固定治具との膨張係
数のマッチングをとることが可能なため、情報記録媒体
の基板等への応用が可能である。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】重量％で表して、ＳｉＯ₂ ５８〜６６％、Ａｌ₂Ｏ₃ １３〜１９％、Ｌｉ₂Ｏ３〜４．５％、Ｎａ₂Ｏ６〜１３％、Ｋ₂Ｏ０〜５％、Ｒ₂Ｏ１０〜１８％、（ただし、Ｒ₂Ｏ＝Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ）ＭｇＯ０〜３．５％、ＣａＯ１〜７％、ＳｒＯ０〜２％、ＢａＯ０〜２％、ＲＯ２〜１０％、（ただし、ＲＯ＝ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）ＴｉＯ₂ ０〜２％、ＣｅＯ₂ ０〜２％、Ｆｅ₂Ｏ₃ ０．０１〜２％、ＭｎＯ０〜１％、の組成を有する化学強化用ガラス組成物からなる磁気デ
ィスク基板であって、そのガラス表面近傍のＬｉイオン
および／またはＮａイオンをＬｉイオンよりも大きなイ
オン半径を有する一価の金属イオンで置換して表面圧縮
応力を有するようにし、かつ６０℃の精製水中に１２０
時間浸けたときのガラス成分の溶出量を１μｇ／ｃｍ²
以下としたことを特徴とする磁気ディスク基板。
【請求項２】請求項１に記載の化学強化用ガラス組成物
において、その５０〜３５０℃の温度範囲における平均
線熱膨張が８０×１０^-7／Ｋ以上である磁気ディスク基
板。
【請求項３】請求項１に記載の化学強化用ガラス組成物
において、重量％で表して、ＳｉＯ₂ ６０〜６６％、Ａｌ₂Ｏ₃ １５〜１８％、Ｌｉ₂Ｏ３〜４．５％、Ｎａ₂Ｏ７．５〜１２．５％、Ｋ₂Ｏ０〜２％、（ただし、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ＝１１〜１７％）ＭｇＯ０．５〜３％、ＣａＯ２．５〜６％、ＳｒＯ０〜２％、ＢａＯ０〜２％、（ただし、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＝３〜９
％）ＴｉＯ₂ ０〜２％、ＣｅＯ₂ ０〜２％、Ｆｅ₂Ｏ₃ ０．０１〜２％、ＭｎＯ０〜１％、の組成を有する化学強化用ガラス組成物からなる磁気デ
ィスク基板であって、そのガラス表面近傍のＬｉイオン
および／またはＮａイオンをＬｉイオンよりも大きなイ
オン半径を有する一価の金属イオンで置換して表面圧縮
応力を有するようにし、かつ６０℃の精製水中に１２０
時間浸けたときのガラス成分の溶出量を１μｇ／ｃｍ²
以下としたことを特徴とする磁気ディスク基板。
【請求項４】請求項３に記載の化学強化用ガラス組成物
において、その５０〜３５０℃の温度範囲における平均
線熱膨張が８４×１０^-7／Ｋ以上である磁気ディスク基
板。
【請求項５】請求項１から４のいずれかに記載の化学強
化用ガラス組成物において、前記ガラス組成物の溶融温
度（１０²poiseの粘性を有する温度）が１５５０℃以下
で、作業温度（１０⁴poiseの粘性を有する温度）が１１
００℃以下であり、かつ前記液相温度が前記作業温度以
下である磁気ディスク基板。
【請求項６】請求項５に記載の化学強化用ガラス組成物
において、前記ガラス組成物の溶融温度（１０²poiseの
粘性を有する温度）が１５４０℃以下で、作業温度（１
０⁴poiseの粘性を有する温度）が１０５５℃以下であ
り、かつ前記液相温度が前記作業温度以下である磁気デ
ィスク基板。
【請求項７】請求項１〜６のいずれかに記載の磁気ディ
スク基板上に、下地層、記録層、保護層および潤滑層を
順次形成した磁気ディスク媒体。