JP6539419B2 - 金属酸化物濃度勾配を有するガラスおよびガラスセラミック - Google Patents
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Description
応力(x)=MaxCT−(((MaxCT・(n+1))/0.5n)・|(x/t)−0.5|n)
により定義される応力プロファイルを示すことがあり、式中、MaxCTは最大CT値であり、MPaの単位の正の値として与えられ、xは、マイクロメートルの厚さ(t)に沿った位置であり、nは1.5と5の間(または1.8から約2)である。
S(z)=[nTM(z)−nTE(z)]/SOC (2)
SOCの値が小さいために、任意の深さzでの複屈折nTM(z)−nTE(z)は、屈折率nTM(z)およびnTE(z)のいずれかのわずかな割合(典型的に1%程度)である。測定したモードスペクトルにおけるノイズによる歪みが著しくはない応力プロファイルを得るには、0.00001RIU程度の精度でモード実効屈折率を決定する必要がある。Roussev Iに開示された方法は、収集されたTEおよびTMモードスペクトルまたはモードスペクトルの画像におけるノイズおよび/または不十分なコントラストにかかわらず、測定されたモード屈折率に関するそのような高精度を確保するために、生データに適用される技法をさらに含む。そのような技法としては、サブピクセル解像度のモードに対応する極値の位置を見つけるための、ノイズ平均化、フィルタリング、および曲線の当てはめが挙げられる。
下記の表2に示された公称組成を有するガラスセラミック基体を提供した。それらのガラスセラミック基体は、厚さが0.8mmであり、主結晶相としてβスポジュメン固溶体およびルチルを含む1種類以上の副相を含む結晶相集合体を含んだ。ガラスセラミック基体を、10時間(条件A)、13時間(条件B)、または24時間(条件C)に亘り485℃の温度を有するNaNO3を含む溶融塩浴、もしくは2時間に亘り430℃の温度(比較条件D)を有するNaNO3を含む溶融塩浴中に浸漬して、ガラスセラミック物品を形成した。
表2に示されたものと同じ組成および0.8mmの厚さを有するが、非晶質構造(結晶相なし)を有するガラス基体を、様々な期間に亘り約430℃の温度を有する100%のNaNO3を含む溶融塩浴中に浸漬することにより化学強化して、ガラス物品を提供した。そのガラス物品のDOCおよび最大CTは、散乱光偏光器(SCALP)を使用して測定した。図6に示されるように、DOCおよび最大CTは、浸漬すなわちイオン交換の長さが増加するにつれて増加する。最大CT値は、約16時間に亘りガラスを浸漬した後に観察された。
比較のために、各々が約0.8mmの厚さを有する、実施例1のガラスセラミック基体および実施例2のガラス基体に、3.5時間に亘り、350℃の温度を有するNaNO3の溶融塩浴中に浸漬することによって、化学強化を行った(それぞれ、実施例3Aおよび3B)。図8に示されたガラスセラミック物品およびガラス物品の得られた応力プロファイルは、誤差関数(erfc)または準線形形状に似ている。さらに、層のCS深さは、ガラスまたはガラスセラミック中に交換されたアルカリイオンの深さ(または化学イオン交換深さ)よりも小さい。
表2の組成を有するガラス基体(各々が約1mmの厚さを有する)に、24時間に亘り430℃の温度を有するNaNO3の第1の溶融塩浴中に浸漬することによって、化学強化を行った。1つのガラス系物品には、どのような追加の強化工程も施さなかった(実施例4A)。3つのガラス系物品に、0.75時間、4時間、または8時間のいずれかに亘り(それぞれ、実施例4B、4Cおよび4D)、430℃の温度を有するKNO3の第2の溶融塩浴中に浸漬することによって、第2の強化工程を行った。得られたガラス系物品のSCALPにより測定した応力プロファイルが図11に示されている。ガラス系物品の深さまたは厚さがx軸にプロットされており、応力がy軸にプロットされている。正の応力値はCT値であり、負の応力値はCS値である。装置の空間分解能のために、第2のKNO3イオン交換工程に関連するCSの測定が妨げられる。実施例4Aおよび4Bのガラス系物品は同様のプロファイルを示した。実施例4Cおよび4Dのガラス系物品は、時間と共に、第2の強化工程での浸漬後に、減少するCT(実施例4Aおよび4Bと比べて)および減少するCS(実施例4Aおよび4Bと比べて)を示した。実施例4Cおよび4Dのガラス系物品は、実施例4Aおよび4Bと比べて、増加したDOCも示し、そのようなDOC値は、0.2・tよりも大きかった。
表2の組成を有するガラス基体(各々が約1mmの厚さを有する)に、24時間に亘り430℃の温度を有するNaNO3の第1の溶融塩浴中に浸漬することによって、化学強化を行った。1つのガラス系物品には、どのような追加の強化工程も施さなかった(実施例5A)。2つのガラス系物品に、390℃の炉内にガラス系物品を置き、8時間または28時間に亘り(それぞれ、実施例5B〜5C)、炉内にガラス系物品を維持することによって、第2の強化工程を行った。4つのガラス系物品に、4時間または8時間に亘り、430℃の温度を有するKNO3の第2の溶融塩浴中に浸漬することによって(第1の強化工程および異なる第2の強化工程のいずれかの後)、第3の強化工程を行った(実施例5D〜5G)。実施例5A〜5Gの各々に関する強化工程が、表3に示されている。測定したCT値も、表3に示されている。
57.5モル%のSiO2、16.5モル%のAl2O3、16.7モル%のNa2O、2.5モル%のMgO、および6.5モル%のP2O5の公称組成を有し、約0.4mm、0.55mm、または1mmの厚さを有するガラス基体に化学強化を行った。厚さおよび化学強化の条件が、表4に示されている。
表2に示されたような公称組成を有し、約1mmの厚さを有するガラス基体に、430℃の温度で、100%のNaNO3を含む溶融塩浴中における化学強化を行った。ガラス基体をその溶融塩浴中に浸漬した期間が、表5に示されている。
表2に示されたような公称組成を有し、各々が約0.8mmの厚さを有するガラス基体に、15分間(比較例8A)および16時間(実施例8B)に亘り、500℃の温度で、NaNO3およびNaSO4の混合物を含む溶融塩浴中における化学強化を行った。例8Aおよび8Bのガラス系物品の応力プロファイルが、図30に示されている。図30に示されるように、比較例8Aは公知の応力プロファイルを示したのに対し、実施例8Bは、本開示の1つ以上による応力プロファイルを示した。例8Aおよび8Bのガラス系物品の貯蔵引張エネルギーを、実施例4B〜4Dと同じ様式で計算した。計算された貯蔵引張エネルギーが、図31に示されるように、測定したCT(MPa)の関数としてプロットされている。
70.9モル%のSiO2、12.8モル%のAl2O3、1.95モル%のB2O3、7.95モル%のLi2O、2.43モル%のNa2O、2.98モル%のMgO、0.89モル%のZnO、および0.1モル%のSnO2の公称組成を有し、約0.8mmの厚さを有するガラス基体に、表6のイオン交換条件を施した。実施例9の様々な性質が、表7において、実施例2と比べられている。
ガラス系物品において、
厚さ(t)を画成する、第1の表面と該第1の表面の反対にある第2の表面、および
ゼロではなく、かつ約0・tから約0.3・tの厚さ範囲に沿って変動する金属酸化物の濃度、
を有し、
前記ガラス系物品が割れた場合、該ガラス系物品は1平方インチ(約6.4516cm2)当たり少なくとも2の破片に割れる、ガラス系物品。
前記金属酸化物の濃度が、ゼロではなく、かつ全厚に沿って変動する、実施形態1に記載のガラス系物品。
前記金属酸化物により前記厚さ範囲に沿って応力が生じる、実施形態1または2に記載のガラス系物品。
前記金属酸化物の濃度が、前記第1の表面から、該第1の表面と前記第2の表面の間の地点まで減少し、該地点から該第2の表面まで増加する、実施形態1から3いずれか1つに記載のガラス系物品。
約300MPa以上の表面圧縮応力(CS)をさらに有する、実施形態1から4いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記表面CSが約600MPa以上である、実施形態5に記載のガラス系物品。
前記金属酸化物の濃度が前記厚さ全体に亘り約0.05モル%以上である、実施形態1から6いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記第1の表面での前記金属酸化物の濃度が、約0.5・tと等しい深さでの該金属酸化物の濃度より約1.5倍大きい、実施形態1から7いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記ガラス系物品が、約1モル%から約15モル%の範囲の前記金属酸化物の総濃度を有する、実施形態1から8いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記金属酸化物が、Li2O、Na2O、K2O、Rb2O、およびCs2Oのいずれか1つ以上を含む、実施形態1から9いずれか1つに記載のガラス系物品。
約300MPa以上の表面CSおよび約0.4・t以上の層の化学深さをさらに有する、実施形態1から10いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記第1の表面から、約0.1・t以上であるDOCまで延在するCS層をさらに有する、実施形態1から11いずれか1つに記載のガラス系物品。
中央張力(CT)領域をさらに有し、該CT領域が前記金属酸化物の濃度勾配を有する、実施形態1から12いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記CT領域が最大CTを有し、表面CSに対する最大CTの比が約0.01から約0.5の範囲にある、実施形態13に記載のガラス系物品。
tが約3ミリメートル以下を含む、実施形態1から14いずれか1つに記載のガラス系物品。
tが約1ミリメートル以下を含む、実施形態1から15いずれか1つに記載のガラス系物品。
非晶質構造をさらに有する、実施形態1から16いずれか1つに記載のガラス系物品。
結晶質構造をさらに有する、実施形態1から17いずれか1つに記載のガラス系物品。
約380nmから約780nmの範囲の波長に亘り約88%以上の透過率をさらに示す、実施形態1から18いずれか1つに記載のガラス系物品。
約380nmから約780nmの範囲の波長に亘り約10%以下の透過率をさらに示す、実施形態1から19いずれか1つに記載のガラス系物品。
CIE光源F02の下で、約88以上のL*値、約−3から約+3の範囲のa*値、および約−6から約+6の範囲のb*値の、CIELAB色空間座標をさらに示す、実施形態1から20いずれか1つに記載のガラス系物品。
CIE光源F02の下で、約40以下のL*値、約−3から約+3の範囲のa*値、および約−6から約+6の範囲のb*値の、CIELAB色空間座標をさらに示す、実施形態1から21いずれか1つに記載のガラス系物品。
厚さ(t)を画成する、第1の表面と該第1の表面の反対にある第2の表面、第1の金属酸化物濃度、および第2の金属酸化物濃度、
をさらに有し、
前記第1の金属酸化物濃度が、約0・tから約0.5・tの第1の厚さ範囲に沿って約0モル%から約15モル%の範囲にあり、
前記第2の金属酸化物濃度が、約0マイクロメートルから約25マイクロメートルの第2の厚さ範囲に沿って約0モル%から約10モル%の範囲にある、実施形態1から22いずれか1つに記載のガラス系物品。
第3の金属酸化物をさらに有する、実施形態23に記載のガラス系物品。
ガラス系物品において、
約3ミリメートル未満厚さ(t)を画成する、第1の表面と該第1の表面の反対にある第2の表面、および
前記厚さに沿って延在する応力プロファイル、
を有し、
約0・tから0.3・tまで、および0.7・t超からの厚さ範囲の間の前記応力プロファイルの全ての点が、約−0.1MPa/マイクロメートル未満、または約0.1MPa/マイクロメートル超の正接を有し、
前記応力プロファイルが、最大CS、DOCおよび最大CTを有し、最大CSに対する最大CTの比が約0.01から約0.5の範囲にあり、前記DOCが約0.1・t以上であり、
前記ガラス系物品が割れた場合、該ガラス系物品は1平方インチ(約6.4516cm2)当たり少なくとも2の破片に割れる、ガラス系物品。
約300MPa以上の表面CSをさらに有する、実施形態25に記載のガラス系物品。
前記表面CSが約600MPa以上である、実施形態26に記載のガラス系物品。
約300MPa以上の表面CSおよび約0.4・t以上の層の化学深さ(DOL)をさらに有する、実施形態25から27いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記第1の表面から、約0.1・t以上であるDOCまで延在するCS層をさらに有する、実施形態25から28いずれか1つに記載のガラス系物品。
CT領域をさらに有し、該CT領域が金属酸化物の濃度勾配を有する、実施形態25から29いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記CT領域が最大CTを有し、表面CSに対する最大CTの比が約0.01から約0.5の範囲にある、実施形態30に記載のガラス系物品。
tが約2ミリメートル以下を含む、実施形態25から31いずれか1つに記載のガラス系物品。
tが約1ミリメートル以下を含む、実施形態25から32いずれか1つに記載のガラス系物品。
ガラス系物品において、
厚さ(t)を画成する、第1の表面と該第1の表面の反対にある第2の表面、
ゼロではなく、かつ約0・tから約0.3・tの厚さ範囲に沿って変動する金属酸化物の濃度、および
約200MPa以上の表面CS、
を有する、ガラス系物品。
前記厚さ範囲が約0・tから約0.4tである、実施形態34に記載のガラス系物品。
前記厚さ範囲が約0・tから約0.45tである、実施形態34または35に記載のガラス系物品。
前記金属酸化物により前記厚さ範囲に沿って応力が生じる、実施形態34から36いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記金属酸化物が、前記ガラス系物品中の金属酸化物の全ての中で最大のイオン直径を有する、実施形態37に記載のガラス系物品。
前記金属酸化物の濃度が、前記第1の表面から、該第1の表面と前記第2の表面の間の地点まで減少し、該地点から該第2の表面まで増加する、実施形態34から38いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記ガラス系物品が割れた場合、該ガラス系物品は1平方インチ(約6.4516cm2)当たり少なくとも1の破片から1平方インチ(約6.4516cm2)当たり40までの破片に割れる、実施形態34から39いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記ガラス系物品が、約460℃で約450μm2/時以上の拡散性、最大CT、および約0.15・t超のDOCを有し、前記表面CSが前記最大CTの1.5倍以上である、実施形態34から40いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記ガラス系物品が、約0.7MPa・m1/2以上の破壊靭性(K1C)を示す、実施形態34から41いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記表面CSが前記最大CTより大きい、実施形態41に記載のガラス系物品。
前記表面CSが約300MPa以上である、実施形態34から43いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記表面CSが約600MPa以上である、実施形態34から44いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記金属酸化物の濃度が前記厚さ全体に亘り約0.05モル%以上である、実施形態34から45いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記第1の表面での前記金属酸化物の濃度が、約0.5・tと等しい深さでの該金属酸化物の濃度より約1.5倍大きい、実施形態34から46いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記金属酸化物の総濃度が、約1モル%から約15モル%の範囲にある、実施形態34から47いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記金属酸化物が、Li2O、Na2O、K2O、Rb2O、およびCs2Oのいずれか1つ以上を含む、実施形態34から48いずれか1つに記載のガラス系物品。
約0.4・t以上の層の化学深さをさらに有する、実施形態34から49いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記第1の表面から、約0.1・t以上であるDOCまで延在するCS層をさらに有する、実施形態34から50いずれか1つに記載のガラス系物品。
CT領域をさらに有し、該CT領域が前記金属酸化物の濃度勾配を有する、実施形態34から51いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記CT領域が最大CTを有し、表面CSに対する最大CTの比が約0.01から約0.5の範囲にある、実施形態52に記載のガラス系物品。
tが約3ミリメートル以下を含む、実施形態34から53いずれか1つに記載のガラス系物品。
tが約1ミリメートル以下を含む、実施形態34から54いずれか1つに記載のガラス系物品。
ガラス系物品において、
厚さ(t)を画成する、第1の表面と該第1の表面の反対にある第2の表面、および
濃度勾配を形成する金属酸化物、
を有し、
前記金属酸化物の濃度が、前記第1の表面から、該第1の表面と前記第2の表面の間の地点まで減少し、該地点から該第2の表面まで増加し、
前記地点での前記金属酸化物の濃度がゼロではなく、
前記ガラス系物品が、約0J/m2超から20J/m2未満の貯蔵引張エネルギーを示す、ガラス系物品。
約300MPa以上の表面CSをさらに有する、実施形態56に記載のガラス系物品。
前記表面CSが約600MPa以上である、実施形態57に記載のガラス系物品。
前記金属酸化物の濃度が前記厚さ全体に亘り約0.05モル%以上である、実施形態56から58いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記第1の表面での前記金属酸化物の濃度が、約0.5・tと等しい深さでの該金属酸化物の濃度より約1.5倍大きい、実施形態56から59いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記金属酸化物の総濃度が、約1モル%から約15モル%の範囲にある、実施形態56から60いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記金属酸化物が、Li2O、Na2O、K2O、Rb2O、およびCs2Oのいずれか1つ以上を含む、実施形態56から61いずれか1つに記載のガラス系物品。
約200MPa以上の表面CSおよび約0.4・t以上の層の化学深さをさらに有する、実施形態56から62いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記第1の表面から、約0.1・t以上であるDOCまで延在するCS層をさらに有する、実施形態56から63いずれか1つに記載のガラス系物品。
CT領域をさらに有し、該CT領域が前記金属酸化物の濃度勾配を有する、実施形態56から64いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記CT領域が最大CTを有し、表面CSに対する最大CTの比が約0.01から約0.5の範囲にある、実施形態65に記載のガラス系物品。
tが約3ミリメートル以下を含む、実施形態56から66いずれか1つに記載のガラス系物品。
tが約1ミリメートル以下を含む、実施形態56から67いずれか1つに記載のガラス系物品。
ガラス系物品において、
約3ミリメートル未満の厚さ(t)を画成する、第1の表面と該第1の表面の反対にある第2の表面、および
前記厚さに沿って延在する応力プロファイル、
を有し、
約0・tから0.3・tまで、および0.7・t超からの厚さ範囲の間の前記応力プロファイルの全ての点が、約−0.1MPa/マイクロメートル未満、または約0.1MPa/マイクロメートル超の正接を有し、
前記応力プロファイルが、最大CS、DOCおよび最大CTを有し、最大CSに対する最大CTの比が約0.01から約0.5の範囲にあり、前記DOCが約0.1・t以上であり、
前記ガラス系物品が、約0J/m2超から20J/m2未満の貯蔵引張エネルギーを示す、ガラス系物品。
全厚に沿って連続的に変動するゼロではない濃度の金属酸化物をさらに有する、実施形態69に記載のガラス系物品。
約10マイクロメートル未満の厚さセグメントに沿って連続的に変動するゼロではない濃度の金属酸化物をさらに有する、実施形態69または70に記載のガラス系物品。
前記最大CSが約300MPa以上を含む、実施形態69から71いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記最大CSが約600MPa以上を含む、実施形態69から72いずれか1つに記載のガラス系物品。
約0.4・t以上の層の化学深さをさらに有する、実施形態69から73いずれか1つに記載のガラス系物品。
CT領域をさらに有し、該CT領域が前記金属酸化物の濃度勾配を有する、実施形態69から74いずれか1つに記載のガラス系物品。
tが約3ミリメートル以下を含む、実施形態69から75いずれか1つに記載のガラス系物品。
tが約1ミリメートル以下を含む、実施形態69から76いずれか1つに記載のガラス系物品。
ガラス系物品において、
CS領域およびCT領域を含む応力プロファイル、
を有し、
前記CT領域が、式:
式中、MaxCTは最大CT値であり、MPaの単位の正の値として与えられ、xは、マイクロメートルの厚さ(t)に沿った位置であり、nは1.5と5の間である、ガラス系物品。
前記CT領域が、約50MPaから約250MPaの範囲の最大CT値を有し、該最大CT値が、約0.4tから約0.6tの範囲の深さにある、実施形態78に記載のガラス系物品。
約0tから約0.1tの範囲の厚さに亘り、前記応力プロファイルが、約20MPa/マイクロメートルから約200MPa/マイクロメートルの範囲の勾配を有する、実施形態78または79に記載のガラス系物品。
前記応力プロファイルが、0.5tから前記表面まで測定して、複数の誤差関数により画成される、実施形態78から80いずれか1つに記載のガラス系物品。
破壊抵抗のガラス系物品を形成する方法において、
約3ミリメートル以下の厚さを画成する、第1の表面および第2の表面を有するガラス系基体を提供する工程、および
CT層およびCS層を有する前記ガラス系基体に応力プロファイルを生じさせる工程であって、前記CS層は、表面CS、約0.4t以上の化学深さおよび約0.1・t以上のDOCを有し、前記CT層は最大CTを有し、表面CSに対する最大CTの比は約0.01から約0.5である工程、
を有してなる方法。
前記応力プロファイルを生じさせる工程が、複数の金属イオンを前記ガラス系基体中にイオン交換して、前記厚さに沿って延在する金属酸化物のゼロではない濃度を含む金属酸化物の濃度勾配を形成する工程を含む、実施形態82に記載の方法。
前記金属酸化物のゼロではない濃度が、前記第1の表面から、該第1の表面と前記第2の表面の間の地点まで減少し、該地点から該第2の表面まで増加する、実施形態83に記載の方法。
前記CT層が前記金属酸化物の濃度勾配を有する、実施形態82から84いずれか1つに記載の方法。
前記応力プロファイルを生じさせた後、前記表面CSを約100MPa以上増加させる工程をさらに含む、実施形態82から85いずれか1つに記載の方法。
前記応力プロファイルを生じさせる工程が、第1の複数のイオンを前記ガラス系基体中に第1のイオン交換を行って、前記厚さに沿って延在する前記金属酸化物のゼロではない濃度を含む前記金属酸化物の濃度勾配を形成する工程を含み、前記表面CSを増加させる工程が、第2の複数のアルカリイオンを、前記金属酸化物の濃度勾配を有する前記ガラス系基体中に第2のイオン交換を行う工程を含む、実施形態86に記載の方法。
前記応力プロファイルを生じさせる工程が、複数のイオンを前記ガラス系基体中に第1のイオン交換を行って、前記厚さに沿って延在する前記金属酸化物のゼロではない濃度を含む前記金属酸化物の濃度勾配を形成する工程を含み、該複数のイオンが、互いに異なるイオン半径を有する2種類の異なるイオンを含む、実施形態86に記載の方法。
強化ガラスにおけるガラス組成物の使用において、
前記ガラス組成物が、モル%で、
約68から約75の範囲の量のSiO2、
約12から約15の範囲の量のAl2O3、
約0.5から約5の範囲の量のB2O3、
約2から約8の範囲の量のLi2O、
約0から約6の範囲の量のNa2O、
約1から約4の範囲の量のMgO、
約0から約3の範囲の量のZnO、および
約0から約5の範囲の量のCaO、
を含み、
前記ガラス基体はイオン交換可能かつ非晶質であり、
前記ガラス基体は、
約0.5から約1の範囲のR2Oに対するLi2Oの比、
約−5から約0の範囲にあるR2Oの総量とAl2O3の量の間の差、
約0から約3の範囲にあるRxOの総量(モル%)とAl2O3の量の間の差、および
約0から約2の範囲にあるROの総量(モル%)に対するMgOの量(モル%)の比、
のいずれか1つ以上を示し、
前記ガラス基体が核形成剤を実質的に含まない、使用。
ガラス基体において、モル%で表して、
約68から約75の範囲の量のSiO2、
約12から約15の範囲の量のAl2O3、
約0.5から約5の範囲の量のB2O3、
約2から約8の範囲の量のLi2O、
約0から約6の範囲の量のNa2O、
約1から約4の範囲の量のMgO、
約0から約3の範囲の量のZnO、および
約0から約5の範囲の量のCaO、
を含む組成を有し、
前記ガラス基体はイオン交換可能かつ非晶質であり、
前記ガラス基体は、
約0.5から約1の範囲のR2Oに対するLi2Oの比、
約−5から約0の範囲にあるR2Oの総量とAl2O3の量の間の差、
約0から約3の範囲にあるRxOの総量(モル%)とAl2O3の量の間の差、および
約0から約2の範囲にあるROの総量(モル%)に対するMgOの量(モル%)の比、
のいずれか1つ以上を示し、
前記ガラス基体が核形成剤を実質的に含まない、ガラス基体。
ガラス基体において、モル%で表して、
約68から約75の範囲の量のSiO2、
約12から約15の範囲の量のAl2O3、
約0.5から約5の範囲の量のB2O3、
約2から約8の範囲の量のLi2O、
約0から約6の範囲の量のNa2O、
約1から約4の範囲の量のMgO、
約0から約3の範囲の量のZnO、および
約0から約5の範囲の量のCaO、
を含む組成を有し、
前記ガラス基体は非晶質であり、前記ガラスは強化されており、
前記Na2Oの濃度は変動し、核形成剤を実質的に含まない、ガラス基体。
約0.5から約1の範囲のR2Oに対するLi2Oの比、
約−5から約0の範囲にあるR2Oの総量とAl2O3の量の間の差、
約0から約3の範囲にあるRxOの総量(モル%)とAl2O3の量の間の差、および
約0から約2の範囲にあるROの総量(モル%)に対するMgOの量(モル%)の比、
のいずれか1つ以上をさらに示す、実施形態91に記載の強化されたガラス基体。
101、201、302 第1の表面
110、210、310 表面CS
120、220、320 最大中央張力(CT)
130、230 層の深さ(DOL)
200 化学強化されたガラス系物品
300 実施の形態のガラス系物品
304 第2の表面
312、340 応力プロファイル
315 CS層
317 DOC
325 CT層
342 化学深さ
400 研磨時リング・オン・リング構成
410 研磨されたガラス系物品
420 支持リング
430 荷重リング
500 装置
510 試験スタンド
512 固体土台
514 研磨紙、研磨材を有するシート
515 サンプル保持器
516 空隙
518 ガラス系物品サンプル
520 粘着テープ
530 鋼球
Claims (11)
- ガラス基体において、
68モル%から75モル%の範囲の量のSiO2、
5モル%から28モル%の範囲の量のAl2O3、
0.5モル%から5モル%の範囲の量のB2O3、
1モル%から4モル%の範囲の量のMgO、および
2モル%から10モル%の範囲の量のLi2O、
を含み、
R2Oで表される金属酸化物の総量(モル%)とAl2O3の量(モル%)との間の差(R2O−Al2O3)が、−5から0の範囲にあり、
RxOで表される金属酸化物の総量(モル%)とAl2O3の量(モル%)との間の差(RxO−Al2O3)が、0から3の範囲にあり、
当該ガラス基体がTiO2を実質的に含まない、ガラス基体。 - Al2O3が5モル%から20モル%の範囲の量で存在する、請求項1に記載のガラス基体。
- 0モル%から6モル%の範囲の量のNa2Oをさらに含む、請求項1に記載のガラス基体。
- ZrO2を実質的に含まない、請求項1に記載のガラス基体。
- R2Oで表される金属酸化物の総量(モル%)に対するLi2Oの量(モル%)の比が、0.5より大きく1以下の範囲にある、請求項1に記載のガラス基体。
- ガラス基体において、
68モル%から75モル%の範囲の量のSiO2、
5モル%から28モル%の範囲の量のAl2O3、
0.5モル%から5モル%の範囲の量のB2O3、
1.5モル%から3.5モル%の範囲の量のMgO、および
2モル%から10モル%の範囲の量のLi2O、
を含み、
RxOで表される金属酸化物の総量(モル%)とAl2O3の量(モル%)との間の差(RxO−Al2O3)が、0から3の範囲にあり、
当該ガラス基体がTiO2を実質的に含まない、ガラス基体。 - Al2O3が5モル%から20モル%の範囲の量で存在する、請求項6に記載のガラス基体。
- 0モル%から6モル%の範囲の量のNa2Oをさらに含む、請求項6に記載のガラス基体。
- ZrO2を実質的に含まない、請求項6に記載のガラス基体。
- R2Oで表される金属酸化物の総量(モル%)とAl2O3の量(モル%)との間の差(R2O−Al2O3)が、−5から0の範囲にある、請求項6に記載のガラス基体。
- R2Oで表される金属酸化物の総量(モル%)に対するLi2Oの量(モル%)の比が、0.5より大きく1以下の範囲にある、請求項6に記載のガラス基体。
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