JP5079452B2 - 表面に凹凸パターンを有するガラス材の製造方法 - Google Patents
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ナノインプリント法は、通常、ポリマー材料の表面にナノパターンを形成するための手法として広く検討がなされてきているが、ガラス材に微細な凹凸パターンを形成するための手法としても期待されている。
図1は、本発明の参考実施態様に係る表面に凹凸パターンを有するガラス材の製造方法を示しており、アルミニウム材1の表面にモールドとして機能する陽極酸化ポーラスアルミナ(層)2を形成し、これをインプリント用モールド3として用い、ガラス材4の熱インプリントに適用する場合について模式的に示したものである。陽極酸化ポーラスアルミナ2の表面幾何学構造をガラス材4の表面に転写することで、表面微細パターンを有するガラス板を作製することができる。
参考実施例1〔ポーラスアルミナ膜モールドによるガラスへの熱インプリント〕
純度99.99%のアルミニウム板表面に、500 nm周期で突起が規則的に配列した構造を持つSiC製モールドを押し付け、表面に微細な凹凸パターンを形成した。テクスチャリング処理を施したアルミニウム板を、0.1 Mの濃度に調整したリン酸水溶液中で、浴温0℃において直流200Vの条件下で3時間陽極酸化を行った。その後、10重量%リン酸水溶液に120分間浸漬し、孔径拡大処理を施した。エッチング後の試料背面を、サンドペーパーにより研磨し、酸化皮膜を除去した後、ヨウ素飽和メタノール溶液中に浸漬し、地金アルミニウムのみ選択的に溶解除去した。地金溶解除去後のアルミニウム膜を、ガラス転移点が288℃である低融点ガラスの表面に置き、330℃の条件下で50kg/cm2の圧力で熱インプリントを行った。図7に熱インプリント後のガラス表面の電子顕微鏡による観察結果を示す。
純度99.99%のアルミニウム板表面に、500 nm周期で突起が規則的に配列した構造を持つSiC製モールドを押し付け、表面に微細な凹凸パターンを形成した。テクスチャリング処理を施したアルミニウム板を、0.1 Mの濃度に調整したリン酸水溶液中で、浴温0℃において直流200Vの条件下で3時間陽極酸化を行った。その後、10重量%リン酸水溶液に120分間浸漬し、孔径拡大処理を施した。その後、試料の表面に樹脂の保護膜層を形成し、0.5Mシュウ酸浴中、化成電圧100Vの条件下で48時間陽極酸化を行い、残りの地金アルミニウムの大部分を酸化させた。陽極酸化ののち、樹脂保護層をクロロホルムで溶解除去した。樹脂層を溶解した後の試料をモールドとし、ガラス転移点が288℃である低融点ガラスの表面に置き、330℃の条件下で50kg/cm2の圧力で熱インプリントを行った。図8に熱インプリント後のガラス表面の電子顕微鏡による観察結果を示す。
純度99.99%のアルミニウム板表面に、500 nm周期で突起が規則的に配列した構造を持つSiC製モールドを押し付け、表面に微細な凹凸パターンを形成した。テクスチャリング処理を施したアルミニウム板を、0.1 Mの濃度に調整したリン酸水溶液中で、浴温0℃において直流200Vの条件下で5分間陽極酸化を行った。その後、10重量%リン酸水溶液に90分間浸漬し、孔径拡大処理を施した。エッチング後の試料地金部分を、飽和HgCl2水溶液中で溶解除去し、ポーラスアルミナマスクの作製を行った。得られたマスクを、鏡面研磨した、グラッシーカーボン上に置き、Arイオンエッチング装置で、3時間ドライエッチングを行うことにより、グラッシーカーボン基板上に規則的なホールアレーパターンの形成を行った。図9は、本手法で作製したグラッシーカーボン製インプリント用モールドを顕微鏡で観察した結果を示す。作製したグラッシーカーボン製モールドを、ガラス転移点が288℃である低融点ガラスの表面に置き、330℃の条件下で50kg/cm2の圧力で熱インプリントを行った。図10に熱インプリント後のガラス表面の電子顕微鏡による観察結果を示す。
純度99.99%のアルミニウム板表面に、500 nm周期で突起が規則的に配列した構造を持つSiC製モールドを押し付け、表面に微細な凹凸パターンを形成した。テクスチャリング処理を施したアルミニウム板を、0.1 Mの濃度に調整したリン酸水溶液中で、浴温0℃において直流200Vの条件下で5分間陽極酸化を行った。その後、10重量%リン酸水溶液に60分間浸漬し、孔径拡大処理を施した。試料表面にイオンビームスパッタ装置により、Ptを50nmコートしたのち、Pt層を電極としてNiメッキを行った。アルミナ細孔内および、その表面にNiを電析したのち、鋳型を溶解除去することでNiモールドを得た。作製したNiモールドを用いて、ガラス転移点が288℃である低融点ガラスの表面に置き、330℃の条件下で50kg/cm2の圧力で熱インプリントを行った。図11に熱インプリント後のガラス表面の電子顕微鏡による観察結果を示す。
2、11、21、31 陽極酸化ポーラスアルミナ
3、6、10 インプリント用モールド
4 ガラス材
5、8 地金アルミニウム部分
7 モールド試料
9 酸化アルミニウム支持層
12、22 細孔
13 ポーラスアルミナマスク
14 基板
15 窪み
16、24 モールド
23 充填物質
32 ガラス基板層
33 スピンオングラス層
Claims (9)
- アルミニウム材の陽極酸化により形成され、表面にホールアレー構造を有する陽極酸化ポーラスアルミナをインプリント用モールドとして用いるに際し、該インプリント用モールドとして、アルミニウム材の片面側からの陽極酸化により形成された、表面にホールアレー構造を有する前記陽極酸化ポーラスアルミナと、該陽極酸化ポーラスアルミナの表面に保護膜層を形成した後、アルミニウム材の背面からのさらなる陽極酸化により残りの地金アルミニウム部分まで酸化されることで形成された耐熱性、機械強度にすぐれた酸化アルミニウムの支持層とを有し、前記さらなる陽極酸化後に前記保護膜層を除去したインプリント用モールドを用い、前記陽極酸化ポーラスアルミナの表面幾何学構造をガラス材に転写することを特徴とする、表面に凹凸パターンを有するガラス材の製造方法。
- 250℃以上の温度条件下で使用可能なインプリント用モールドを用いることを特徴とする、請求項1に記載の表面に凹凸パターンを有するガラス材の製造方法。
- 陽極酸化と孔径拡大処理を繰り返し行うことにより孔径を連続的に変化させた細孔を有する陽極酸化ポーラスアルミナをインプリント用モールドとして用いる、請求項1または2に記載の表面に凹凸パターンを有するガラス材の製造方法。
- 陽極酸化ポーラスアルミナからなるインプリント用モールドを用いて、スピンオングラスに構造転写を行い、それを加熱処理してガラス化することを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の表面に凹凸パターンを有するガラス材の製造方法。
- シュウ酸を電解液として用い、化成電圧30V〜60Vにおいて作製した陽極酸化ポーラスアルミナをインプリント用モールドとして用いる、請求項1〜4のいずれかに記載の表面に凹凸パターンを有するガラス材の製造方法。
- 硫酸を電解液として用い、化成電圧10V〜30Vにおいて作製した陽極酸化ポーラスアルミナをインプリント用モールドとして用いる、請求項1〜4のいずれかに記載の表面に凹凸パターンを有するガラス材の製造方法。
- リン酸を電解液として用い、化成電圧180V〜200Vにおいて作製した陽極酸化ポーラスアルミナをインプリント用モールドとして用いる、請求項1〜4のいずれかに記載の表面に凹凸パターンを有するガラス材の製造方法。
- 定電圧で陽極酸化を施した後、一旦酸化皮膜を溶解除去し、再び同一条件下で陽極酸化を施すことで作製した陽極酸化ポーラスアルミナをインプリント用モールドとして用いる、請求項1〜7のいずれかに記載の表面に凹凸パターンを有するガラス材の製造方法。
- 陽極酸化に先立ち、アルミニウムの表面に微細な窪みを形成し、これを陽極酸化時の細孔発生の開始点として作製した陽極酸化ポーラスアルミナをインプリント用モールドとして用いる、請求項1〜8のいずれかに記載の表面に凹凸パターンを有するガラス材の製造方法。
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