JP5206261B2 - 情報記録媒体基板用ガラス、磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスク - Google Patents

Description

本発明は、磁気ディスク（ハードディスク）など情報記録媒体の基板に用いられるガラス、磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクに関する。

情報記録媒体用基板、特に磁気ディスク用基板としてガラス基板が広く用いられており、モル％で示した組成が、ＳｉＯ_２：６５．４％、Ａｌ_２Ｏ_３：８．６％、Ｌｉ_２Ｏ：１２．５％、Ｎａ_２Ｏ：１０．５％、ＺｒＯ_２：３．０％を含有する市販ガラスが知られている。この市販ガラスは化学強化処理されて使用されている。
一方、特許文献１には、化学強化処理を行わない磁気ディスク用基板ガラスが提案されている。

特開２００２−３５８６２６号公報（表１〜１４）

磁気ディスク用ガラス基板としては、その在庫中に表面性状が著しく変化し、前記基板上に形成される下地膜、磁性膜、保護膜等の膜が剥がれやすくならないこと、すなわち耐候性が求められる。Ｌｉ、Ｎａ、Ｋなどのアルカリ金属成分はガラスの溶融促進剤として広く使用されるが、これらの成分は空気中の水分によってガラスから選択的に抽出され、最終的には空気中の炭酸ガスや亜硫酸ガスといった成分と反応し、アルカリ炭酸塩やアルカリ硫酸塩としてガラス表面に付着する（白ヤケ）ため、その反応が起きにくいことが必要である。

また、アルカリ金属成分が磁性膜に拡散すると記録した情報が消えるなどの現象が起きやすくなるため、記録媒体としての信頼性を著しく落としてしまうという問題があり、中でもＮａは最も磁性膜に拡散しやすいと言われている。これは、ＮａはＬｉに比較し電場強度（イオン半径に対する電荷強度）が小さく、Ｋに比較しイオン半径が小さいため、相対的に移動しやすいイオンであるからであると考えられる。
本発明者は耐候性試験においてＮａの析出が多いガラスがこのような問題を引き起こすと考え、このような課題の解決を目的として本発明をなした。

本発明は、下記酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ_２を６１〜６６％、Ａｌ_２Ｏ_３を１１．５〜１７％、Ｌｉ_２Ｏを８〜１６％、Ｎａ_２Ｏを２〜８％、Ｋ_２Ｏを２．５〜８％、ＭｇＯを０〜６％、ＴｉＯ_２を０〜４％、ＺｒＯ_２を０〜３％含有し、Ａｌ_２Ｏ_３＋ＭｇＯ＋ＴｉＯ_２が１２％以上、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏが１６〜２３％であり、Ｂ_２Ｏ_３を含有する場合その含有量が１％未満である情報記録媒体基板用ガラスを提供する。
なお、たとえばＭｇＯを０〜６％含有するとは、ＭｇＯは必須ではないが６％までの範囲で含有してもよい、の意である。

また、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯからなる群から選ばれるアルカリ土類金属酸化物を１種以上含有する場合、それらアルカリ土類金属酸化物含有量の合計が１％以下である前記情報記録媒体基板用ガラスを提供する。
また、Ｂ_２Ｏ_３を含有しない前記情報記録媒体基板用ガラスを提供する。
また、前記情報記録媒体基板用ガラスからなる磁気ディスク用ガラス基板を提供する。
また、前記磁気ディスク用ガラス基板上に磁気記録層が形成されている磁気ディスクを提供する。

本発明者は、前記市販化学強化ガラスについて後述する耐候性試験を行ったところＮａ析出量Ｃ_Ｎａは０．８４ｎｍｏｌ／ｃｍ^２、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋの析出量合計Ｃ_Ｌｉ＋Ｃ_Ｎａ＋Ｃ_Ｋは３．５ｎｍｏｌ／ｃｍ^２（後述する例３２）、化学強化をしないものではＣ_Ｎａは３．２ｎｍｏｌ／ｃｍ^２、Ｃ_Ｌｉ＋Ｃ_Ｎａ＋Ｃ_Ｋは１８．３ｎｍｏｌ／ｃｍ^２であり（後述する例３３）、化学強化をしないものの耐候性は決して高くはなく、化学強化処理によって耐候性が改善していることがわかった。すなわち、このガラスは化学強化処理によって初めて磁気ディスク用ガラス基板として使用できるガラスと考えられ、その理由は、化学強化処理に伴いガラス表面にイオン半径の大きなアルカリ成分が増加し、移動度を落としているためと考えられる。しかし、化学強化処理には、工程が増加するためコストアップにつながる、化学強化処理によって基板表面に汚れが付着しやすくなる、などの問題がある。また、この化学強化ガラスのＮａ析出量は決して少なくないため、磁性膜への拡散が多くなり、信頼性を低下させるという懸念がある。

一方、特許文献１に例示されている組成はアルカリ金属成分に加え、Ｂ_２Ｏ_３を１モル％以上含むものが大部分である。Ｂ_２Ｏ_３はガラスの脆さ低下、低比重化、ガラスの溶融性促進などを目的に添加されているが、アルカリ金属成分と共存すると蒸気圧が非常に低いアルカリボレート化合物を形成するため、ガラス融液から同成分の揮散が激しく起こる。これにより、脈理などの不均質が発生しガラス品質低下を引き起こすと同時に、揮散物がガラス溶融窯に使用しているれんが物質に凝縮しれんが強度を著しく低下させる、揮散物の回収処理に莫大なコストがかかる、といった問題がある。

また、特許文献１にはＢ_２Ｏ_３を含まない組成も４例示されているが、いずれのガラスもＮａ含有量が多いためＣ_Ｎａは０．７ｎｍｏｌ／ｃｍ^２以上であると考えられる。実際、後述する例３４は特許文献１の例６３のガラスであるが、Ｃ_Ｎａは０．７４ｎｍｏｌ／ｃｍ^２である。このため、磁性膜へのＮａ拡散が多くなり、信頼性を低下させるという懸念がある。

本発明によれば、化学強化処理なしで耐候性試験後のＮａ析出量、アルカリ析出総量が小さい情報記録媒体基板用ガラスを得ることができる。これにより、前記基板上に形成される下地膜、磁性膜、保護膜等の膜が剥がれにくくなる。
また、磁性膜へのＮａ拡散を抑制でき、信頼性の高い情報記録媒体を得ることができると考えられる。
また、化学強化処理を行うことなく情報記録媒体用ガラス基板を製造できるので、工程を減らすことができ、また化学強化処理後の基板表面へのよごれ付着の問題を解決できる。

また、耐酸性が高いものを得ることが可能になるので、低ｐＨにおける研磨工程や洗浄工程で面荒れが発生せず、高品質の情報記録媒体基板用ガラスを得ることができる。
また、ヤング率、比弾性率が高い情報記録媒体基板用ガラスを得ることができる。これにより、ドライブ回転中に反りやたわみが発生しにくくなり、高記録密度の情報記録媒体を得ることができる。
また、密度が小さい情報記録媒体基板用ガラスを得ることができる。これにより、ドライブ回転時にモーター負荷が低減できるため、低消費電力を達成できる。
また、平均線膨張係数が大きい情報記録媒体基板用ガラスを得ることができる。これにより、金属製のドライブ他部材との熱膨張マッチングが高くなり、温度変動時の発生応力が小さく、基板割れ等が発生しにくくなる。

また、強度が高い情報記録媒体基板用ガラスを得ることができる。これにより、メディア、ドライブ製造時の割れ発生確率や、ドライブに衝撃を与えたときの基板割れ発生確率が低くなる。
また、失透温度が高温粘性に比して低い情報記録媒体基板用ガラスを得ることができる。これにより、フロート法、フュージョン法、ダウンドロー法などの連続成形が可能となり、大量生産が可能となる。

また、ガラス転移点が高い情報記録媒体基板用ガラスを得ることができる。これにより、基板上に磁性膜を形成した後に行う熱処理温度を高くでき、記録密度の高い情報記録媒体を得ることができる。

本発明の情報記録媒体基板用ガラス（以下、本発明のガラスという。）の密度（ｄ）は２．５０ｇ／ｃｍ^３以下であることが好ましい。２．５０ｇ／ｃｍ^３超ではドライブ回転時にモーター負荷がかかって消費電力が大きくなる、またはドライブ回転が不安定になるおそれがある。好ましくは２．４９ｇ／ｃｍ^３以下である。

本発明のガラスはヤング率（Ｅ）が８０ＧＰａ以上かつ比弾性率（Ｅ／ｄ）が３２ＭＮｍ／ｋｇ以上であることが好ましい。Ｅが８０ＧＰａ未満であるか比弾性率３２ＭＮｍ／ｋｇ未満であるとドライブ回転中に反りやたわみが発生しやすく、高記録密度の情報記録媒体を得ることが困難になるおそれがある。Ｅが８１ＧＰａ以上かつＥ／ｄが３２．５ＭＮｍ／ｋｇ以上であることがより好ましい。

本発明のガラスのガラス転移点（Ｔｇ）は５２０℃以上であることが好ましい。５２０℃未満では磁性層形成熱処理温度を充分高くすることができず、磁性層の保磁力増加が困難になるおそれがある。より好ましくは５２５℃以上である。

本発明のガラスは、その液相温度をＴ_Ｌ、粘度が１０^４ｄＰａ・ｓとなる温度をＴ_４として、（Ｔ_Ｌ−Ｔ_４）は５０℃未満であることが好ましい。（Ｔ_Ｌ−Ｔ_４）が５０℃以上ではフロート成形が困難になるおそれがあり、より好ましくは４０℃未満、特に好ましくは３０℃未満である。

本発明のガラスの５０〜３５０℃における平均線膨張係数（α）は８５×１０^−７／℃以上であることが好ましい。８５×１０^−７／℃未満では、金属製のドライブなど他の部材の熱膨張係数との差が大きくなり、温度変動時の応力発生による基板の割れなどが起こりやすくなるおそれがある。より好ましくは８８×１０^−７／℃以上である。αは典型的には１００×１０^−７／℃以下である。

後述する方法によって測定されるクラック発生率（ｐ）は本発明のガラスにおいては５０％以下であることが好ましい。５０％超ではガラス強度が不十分となり、メディアやドライブを製造する時の割れ発生確率や、ドライブに衝撃を与えたときの基板割れ発生確率が高くなるおそれがある。より好ましくは４０％以下、特に好ましくは３０％以下である。
また、ｐが小さいものはガラス表面にキズがつきにくいので応力集中が発生しにくく、弱い応力で脆性的破壊が起こることがなくなる、または減少する。

本発明のガラスは、１２０℃、０．２ＭＰａの水蒸気雰囲気下に２０時間保持した時そのガラス表面に析出しているＬｉ量、Ｎａ量、Ｋ量をそれぞれＣ_Ｌｉ、Ｃ_Ｎａ、Ｃ_ＫとしてＣ_Ｎａが０．７ｎｍｏｌ／ｃｍ^２以下、Ｃ_Ｒ＝Ｃ_Ｌｉ＋Ｃ_Ｎａ＋Ｃ_Ｋが３．５ｎｍｏｌ／ｃｍ^２以下であることが好ましい。
Ｃ_Ｎａが０．７ｎｍｏｌ／ｃｍ^２超では、基板上に形成された磁性膜へのＮａ拡散が多くなり、情報記録媒体の信頼性が低下するおそれがある。より好ましくは０．５ｎｍｏｌ／ｃｍ^２以下、特に好ましくは０．４ｎｍｏｌ／ｃｍ^２以下である。
Ｃ_Ｒが３．５ｎｍｏｌ／ｃｍ^２超では、基板上に形成される下地膜、磁性膜、保護膜等の膜が剥がれやすくなる。より好ましくは３．２ｎｍｏｌ／ｃｍ^２以下、特に好ましくは３．０ｎｍｏｌ／ｃｍ^２以下である。

本発明のガラスは、２５℃、０．１Ｎ硝酸に２４時間浸漬した後のガラス表面には剥離割れが発生しない耐酸性に優れたものであること、または下記硝酸エッチング量が６ｎｍ以下である耐酸性に優れたものであることが好ましい。そのようなものでないと、情報記録媒体、特に磁気ディスク用基板ガラスを製造する際の表面研磨や最終洗浄工程においてｐＨ＝１〜２の強酸性液を使用する場合に、ガラス表面の荒れや剥離割れを引き起こすおそれがあり、より好ましくは１．５ｎｍ以下、特に好ましくは１．２ｎｍ以下である。
硝酸エッチング量：厚さが１〜２ｍｍ、大きさが４ｃｍ×４ｃｍのガラス板の両面を酸化セリウムで鏡面研磨したものを測定サンプルとし、これを２５℃、０．０１Ｎ硝酸に３時間浸漬し、硝酸に溶出したＳｉ量をＩＣＰ発光法で分析して測定する。得られたＳｉ量、ガラス中のＳｉＯ_２含有量、およびガラスの密度からガラスがエッチングされた量を算出する。

次に、本発明のガラスの組成についてモル％表示を用いて説明する。
ＳｉＯ_２はガラスの骨格を形成する成分であり、必須である。６１％未満では、耐酸性もしくは耐候性が低下する、ｄが大きくなる、ガラスにキズが付きやすくなる、またはＴ_Ｌが上昇しガラスが不安定になる。また、本発明のガラスのようなアルカリ金属酸化物成分が多いガラスにあってはＳｉＯ_２が少ないと酸によってアルカリ金属成分が表面から選択的に溶出して低膨張化した層が生成しやすく、その結果、酸浸漬後にガラス表面が割れて剥離する現象が見られやすくなる、すなわち、前記耐酸性が低くなるおそれがある。また、酸性のコロイダルシリカスラリーを用いてガラス板を研磨する場合、ＳｉＯ_２が６１％未満ではその表面粗さＲａを小さくすることが困難になるおそれがある。好ましくは６１．５％以上である。耐酸性をより高めたい場合、ＳｉＯ_２は好ましくは６２％以上、より好ましくは６２．５％以上、特に好ましくは６３．５％以上である。６６％超では、後記Ｔ_２およびＴ_４が上昇しガラスの溶解、成形が困難となる、ＥもしくはＥ／ｄが低下する、またはαが小さくなる。好ましくは６５％以下である。

Ａｌ_２Ｏ_３は耐候性を高める効果を有し、必須である。１１．５％以下では前記効果が小さい、ＥもしくはＥ／ｄが低下する、またはＴｇが低くなる。好ましくは１２％以上である。１７％超では後記Ｔ_２およびＴ_４が上昇しガラスの溶解、成形が困難となる、αが小さくなる、またはＴ_Ｌが高くなりすぎる。好ましくは１６％以下である。耐酸性をより高めたい場合、Ａｌ_２Ｏ_３は好ましくは１５％以下、より好ましくは１４％以下である。
耐酸性を特に高めたい場合、ＳｉＯ_２を６３．５％以上、Ａｌ_２Ｏ_３を１４％以下とすることが好ましい。

Ｌｉ_２ＯはＥ、Ｅ／ｄもしくはαを大きくする、またはガラスの溶解性を向上させる効果を有し、必須である。８％未満では前記効果が小さい。好ましくは９％以上、より好ましくは１０％以上である。１６％超では、耐酸性もしくは耐候性が低下する、またはＴｇが低くなる。好ましくは１５％以下、より好ましくは１４％以下、典型的には１３％以下である。

Ｎａ_２Ｏはαを大きくする、またはガラスの溶解性を向上させる効果があるため必須である。２％未満では前記効果が小さい。好ましくは３％以上である。８％超では、耐酸性もしくは耐候性が低下する、またはＴｇが低くなる。好ましくは７．５％以下、より好ましくは７％以下である。

Ｋ_２Ｏはαを大きくする、またはガラスの溶解性を向上させる効果があるため必須である。２．５％未満では前記効果が小さい。また、Ｋ_２Ｏを２．５％未満としてＮａ_２Ｏを増加させαを維持しようとすると耐候性が低下する。好ましくは３％以上である。８％超では耐酸性もしくは耐候性が低下する、またはＥもしくはＥ／ｄが低下する。好ましくは６％以下、より好ましくは５％以下である。

Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏの含有量の合計（Ｒ_２Ｏ）が１６％未満では、αが小さくなる、またはガラスの溶解性が低下する。好ましくは１７％以上、より好ましくは１８％以上、特に好ましくは１９％以上である。Ｒ_２Ｏが２３％超では耐酸性または耐候性が低下する。好ましくは２２％以下、より好ましくは２１％以下である。

ＭｇＯは必須ではないが、耐候性を維持したままＥ、Ｅ／ｄもしくはαを大きくする、ガラスを傷つきにくくする、またはガラスの溶解性を向上させる効果があるため６％まで含有してもよい。６％超ではＴ_Ｌが高くなりすぎる。好ましくは５％以下、より好ましくは４％以下である。ＭｇＯを含有する場合その含有量は典型的には１％以上である。

ＴｉＯ_２は必須ではないが、Ｅ、Ｅ／ｄもしくはＴｇを高くする、または耐候性を高くする効果があり、４％まで含有してもよい。４％超ではＴ_Ｌが高くなりすぎるおそれがある、または分相現象が起りやすくなるおそれがある。好ましくは３％以下、より好ましくは２％以下である。また、ＴｉＯ_２を含有する場合、その含有量は０．３％以上であることが好ましい。より好ましくは０．６％以上、典型的には０．８％以上である。

Ａｌ_２Ｏ_３、ＭｇＯおよびＴｉＯ_２の含有量の合計が１２％未満では、耐候性を維持したままＥまたはＥ／ｄを高くすることが困難になるおそれがある。

ＺｒＯ_２は必須ではないが、耐候性を維持したままＥもしくはＥ／ｄを大きくする、Ｔｇを高くする、またはガラスの溶解性を向上させる効果があるため３％まで含有してもよい。３％超ではｄが大きくなる、ガラスにキズが付きやすくなる、またはＴ_Ｌが高くなりすぎるおそれがある。好ましくは２％以下、典型的には１％以下である。

本発明のガラスは本質的に上記成分からなるが、本発明の目的を損なわない範囲でその他の成分を含有してもよい。その場合、当該他の成分の含有量の合計は好ましくは５％以下、典型的には２％以下である。
たとえば、ＣａＯ、ＳｒＯまたはＢａＯは、耐候性を維持したままαを大きくする、またはガラスの溶解性を向上させるため、合計で１％まで含有してもよい。１％超ではｄが大きくなる、またはガラスにキズが付きやすくなる。好ましくは合計で０．７５％以下、典型的には０．５％以下である。

また、ＳＯ_３、Ｃｌ、Ａｓ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２等の清澄剤を合計で２％まで含有してもよい。
また、Ｆｅ_２Ｏ_３、Ｃｏ_３Ｏ_４、ＮｉＯなどの着色剤を合計で２％まで含有してもよい。
なお、Ｂ_２Ｏ_３はアルカリ金属酸化物成分と共存すると非常に揮散しやすくなるため、含有しないことが好ましく、含有する場合であってもその含有量は１％未満、好ましくは０．５％未満である。

本発明のガラスからなる情報記録媒体用ガラス基板は通常は円形のガラス板である。
情報記録媒体が磁気ディスクである場合、当該情報記録媒体用ガラス基板は本発明の磁気ディスク用ガラス基板である。

磁気ディスク用ガラス基板はノートブックパソコン等に用いられる２．５インチ基板（ガラス基板外径：６５ｍｍ）やポータブルＭＰ３プレーヤなどに用いられる１．８インチ基板（ガラス基板外径：４８ｍｍ）などに広く使用され、その市場は年々拡大しており、一方で低価格での供給が求められている。このようなガラス基板に使用されるガラスは、大量生産に適したものであることが好ましい。
板ガラスの大量生産はフロート法、フュージョン法、ダウンドロー法などの連続成形法により広く行われており、本発明のガラスは先に述べたようにたとえばフロート成形が可能なガラスであるので大量生産に好適である。

本発明のガラスおよびガラス基板の製造方法は特に限定されず、各種方法を適用できる。たとえば、通常使用される各成分の原料を目標組成となるように調合し、これをガラス溶融窯で加熱溶融する。バブリング、撹拌、清澄剤の添加等によりガラスを均質化し、周知のフロート法、プレス法、フュージョン法またダウンドロー法などの方法により所定の厚さの板ガラスに成形し、徐冷後必要に応じて研削、研磨などの加工を行った後、所定の寸法・形状のガラス基板とされる。成形法としては、特に、大量生産に適したフロート法が好適である。また、フロート法以外の連続成形法、すなわち、フュージョン法、ダウンドロー法にも好適である。

各成分の原料を表のＳｉＯ_２からＺｒＯ_２までの欄にモル％表示で示した組成となるように調合し、白金るつぼを用いて１５５０〜１６００℃の温度で３〜５時間溶解した。溶解にあたっては、白金スターラを溶融ガラス中に挿入し、２時間撹拌してガラスを均質化した。次いで溶融ガラスを流し出して板状に成形し、毎分１℃の冷却速度で室温まで徐冷した。なお、表のＡｌ＋Ｍｇ＋ＴｉはＡｌ_２Ｏ_３、ＭｇＯおよびＴｉＯ_２の各含有量（単位：モル％）の合計、Ｒ_２ＯはＬｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏの各含有量（単位：モル％）の合計を示している。
例１〜３１のガラスは実施例、例３２〜４１のガラスは比較例である。なお、例３２のガラスは前記市販化学強化ガラスと同じものであり、例３３のガラスを化学強化したものである。

こうして得られたガラス板について、密度ｄ（単位：ｇ／ｃｍ^３）、前記平均線膨張係数α（単位：×１０^−７／℃）、ヤング率Ｅ（単位：ＧＰａ）、比弾性率Ｅ／ｄ（単位：ＭＮｍ／ｋｇ）、ガラス転移点Ｔｇ（単位：℃）、液相温度Ｔ_Ｌ（単位：℃）、粘度が１０^２ｄＰａ・ｓとなる温度Ｔ_２（単位：℃）、粘度が１０^４ｄＰａ・ｓとなる温度Ｔ_４（単位：℃）、前記Ｃ_Ｎａ（単位：ｎｍｏｌ／ｃｍ^２）、前記Ｃ_Ｒ（単位：ｎｍｏｌ／ｃｍ^２）、クラック発生率ｐ（単位：％）、前記耐酸性および前記硝酸エッチング量を以下に示す方法によって測定した。結果を表に示すが、表中の「−」は測定しなかったことを示す。

ｄ：泡のないガラス２０〜５０ｇを用い、アルキメデス法にて測定した。
α：示差熱膨張計を用いて、石英ガラスを参照試料として室温から５℃／分の割合で昇温した際のガラスの伸び率をガラスが軟化してもはや伸びが観測されなくなる温度すなわち屈伏点まで測定し、得られた熱膨張曲線から５０〜３５０℃における平均線膨張係数を算出した。
Ｅ：厚さが５〜１０ｍｍ、大きさが３ｃｍ角のガラス板について、超音波パルス法により測定した。

Ｔｇ：示差熱膨張計を用いて、石英ガラスを参照試料として室温から５℃／分の割合で昇温した際のガラスの伸び率を屈伏点まで測定し、得られた熱膨張曲線における屈曲点に相当する温度をガラス転移点とした。
Ｔ_Ｌ：ガラスを乳鉢で２ｍｍ程度のガラス粒に粉砕し、このガラス粒を白金ボートに並べて置き、温度傾斜炉中で２４時間熱処理した。結晶が析出しているガラス粒の温度の最高値を液相温度とした。なお、たとえば「≦１０８０」とは「１０８０℃以下」の意である。
Ｔ_２、Ｔ_４：回転粘度計により測定した。

Ｃ_Ｎａ、Ｃ_Ｒ：厚さが１〜２ｍｍ、大きさが４ｃｍ×４ｃｍのガラス板の両面を酸化セリウムで鏡面研磨し、炭酸カルシウムおよび中性洗剤を用いて洗浄した後、高度加速寿命試験装置（エスペック社製不飽和型プレッシャークッカーＥＨＳ−４１１Ｍ）に入れて１２０℃、０．２ＭＰａの水蒸気雰囲気に２０時間静置した。洗浄済みチャック付ポリ袋に試験後試料と超純水２０ｍｌを入れ超音波洗浄機で１０分間表面析出物を溶解し、ＩＣＰ−ＭＳを使用して各アルカリ成分の溶出物を定量した。溶出量はモル換算し、試料表面積で規格化した。

ｐ：２３℃、相対湿度７０％に制御した室内において、厚さが１〜２ｍｍ、大きさが４ｃｍ×４ｃｍの鏡面研磨したガラス板の表面に荷重５００ｇでビッカース圧子を打ち込み、その４つの頂点から発生するクラック本数を測定した。この測定を１０回繰り返し、１００×（発生したクラック総本数）／４０をクラック発生率とした。
耐酸性：２５℃、０．１Ｎ硝酸に２４時間浸漬した後のガラス表面を微分干渉顕微鏡で観察し、剥離割れが見られたものを×、見られなかったものを○とした。結果を耐酸性１の欄に示す。
硝酸エッチング量：先に述べた方法により測定した（単位：ｎｍ）。結果を耐酸性２の欄に示す。

また、実施例である例８、２７、３０、３１および比較例である例３４、３５のガラスからなるガラス板について酸性のコロイダルシリカスラリーを用いて研磨しその表面粗さＲａ（単位：ｎｍ）を測定した。すなわち、大きさが４ｃｍ×４ｃｍのガラス板を準備し、酸化セリウムを用いて両面を鏡面研磨し、その後、ｐＨ＝２に調整した平均粒径３０ｎｍのコロイダルシリカスラリーを用い、スエードタイプのウレタンパッドを貼り付けた小型研磨機で圧力１０ｋＰａのもと１０分間研磨した。研磨後ただちにガラス板を取り出しアルカリ性洗剤および純水で洗浄後、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて表面粗さＲａを測定した。結果を表のＲａの欄に示すが、磁気ディスク用ガラス基板としてはＲａは０．１５ｎｍ以下であることが好ましい。

この測定結果から、ＳｉＯ_２が６１％以上である例８、２７、３０、３１においてはＲａは０．１１〜０．１３ｎｍであるが、ＳｉＯ_２が６０．７％、６０．０％である例３５、３４においては０．１９ｎｍ、０．２９ｎｍであり、ＳｉＯ_２が６１％を下回って小さくなるにつれＲａが増大し始めることがわかる。

なお、磁気ディスク用ガラス基板の量産においては、研磨後ガラス板はただちに取り出されずにコロイダルシリカスラリー中に放置される場合がある。そこでこのような場合を模擬するべく、研磨後ただちに取り出した前記ガラス板をｐＨ＝２に調整したコロイダルシリカスラリーに１０分間浸漬し、先に述べたと同様の洗浄を行った後その表面粗さを測定した。結果を表のＲａ’の欄に示す（単位：ｎｍ）。

この測定結果から、ＳｉＯ_２が６１％以上である例８、２７、３０、３１においてはＲａ’は０．１２〜０．１５ｎｍであり、これら例においてはコロイダルシリカスラリーへの浸漬による表面粗さの増加がないまたは小さいことがわかる。これに対しＳｉＯ_２が６０．７％、６０．０％である例３５、３４においてはＲａ’は１．０ｎｍ以上であり表面粗さの増加が大きいことがわかる。すなわち、本発明のガラスは磁気ディスク用ガラス基板の量産に好適なものであることがわかる。

磁気ディスク基板等の情報記録媒体基板、磁気ディスク等の情報記録媒体の製造に利用できる。

Claims (12)

1. 下記酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ_２を６１〜６６％、Ａｌ_２Ｏ_３を１１．５〜１７％、Ｌｉ_２Ｏを８〜１６％、Ｎａ_２Ｏを２〜８％、Ｋ_２Ｏを２．５〜８％、ＭｇＯを０〜６％、ＴｉＯ_２を０〜４％、ＺｒＯ_２を０〜３％含有し、Ａｌ_２Ｏ_３＋ＭｇＯ＋ＴｉＯ_２が１２％以上、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏが１６〜２３％であり、Ｂ_２Ｏ_３を含有する場合その含有量が１％未満である情報記録媒体基板用ガラス。
2. ＳｉＯ_２が６３．５％以上、Ａｌ_２Ｏ_３が１４％以下である請求項１の情報記録媒体基板用ガラス。
3. ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯからなる群から選ばれるアルカリ土類金属酸化物を１種以上含有する場合、それらアルカリ土類金属酸化物含有量の合計が１％以下である請求項１または２の情報記録媒体基板用ガラス。
4. Ｂ_２Ｏ_３を含有しない請求項１、２または３の情報記録媒体基板用ガラス。
5. 請求項１〜４のいずれかの情報記録媒体基板用ガラスであって、１２０℃、０．２ＭＰａの水蒸気雰囲気下に２０時間保持した時そのガラス表面に析出しているＬｉ量、Ｎａ量、Ｋ量をそれぞれＣ_Ｌｉ、Ｃ_Ｎａ、Ｃ_ＫとしてＣ_Ｎａが０．７ｎｍｏｌ／ｃｍ^２以下、Ｃ_Ｌｉ＋Ｃ_Ｎａ＋Ｃ_Ｋが３．５ｎｍｏｌ／ｃｍ^２以下である情報記録媒体基板用ガラス。
6. 密度が２．５０ｇ／ｃｍ^３以下である請求項１〜５のいずれかの情報記録媒体基板用ガラス。
7. ヤング率が８０ＧＰａ以上かつ比弾性率が３２ＭＮｍ／ｋｇ以上である請求項１〜６のいずれかの情報記録媒体基板用ガラス。
8. ５０〜３５０℃における平均線膨張係数が８５×１０^−７／℃以上である請求項１〜７のいずれかの情報記録媒体基板用ガラス。
9. 液相温度をＴ_Ｌ、粘度が１０^４ｄＰａ・ｓとなる温度をＴ_４として、（Ｔ_Ｌ−Ｔ_４）＜５０℃である請求項１〜８のいずれかの情報記録媒体基板用ガラス。
10. ガラス転移点が５２０℃以上である請求項１〜９のいずれかの情報記録媒体基板用ガラス。
11. 請求項１〜１０のいずれかの情報記録媒体基板用ガラスからなる磁気ディスク用ガラス基板。
12. 請求項１１の磁気ディスク用ガラス基板上に磁気記録層が形成されている磁気ディスク。