JP2001172043A - 情報記録媒体基板用ガラスおよび情報記録媒体用ガラス基板 - Google Patents
情報記録媒体基板用ガラスおよび情報記録媒体用ガラス基板Info
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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- C03C3/04—Glass compositions containing silica
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- C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
- C03C3/087—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal containing calcium oxide, e.g. common sheet or container glass
-
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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- Materials Engineering (AREA)
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- Glass Compositions (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】大量生産に適した高耐候性情報記録媒体基板用
ガラスの提供。 【解決手段】モル％で、ＳｉＯ2：５６〜７５、Ａｌ2Ｏ
3：２〜１２．５、ＭｇＯ：３〜９、ＣａＯ：０．５〜
７、ＳｒＯ：０〜８、ＺｎＯ：０〜４、ＴｉＯ2：０〜
６、ＺｒＯ2：０〜３、Ｙ2Ｏ3：０〜４、Ｌｉ2Ｏ：１〜
８、Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ：２〜１０、Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ
2Ｏ：４〜１６で、（Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ）／Ａｌ2Ｏ3≧
０．８の情報記録媒体基板用ガラス。
ガラスの提供。 【解決手段】モル％で、ＳｉＯ2：５６〜７５、Ａｌ2Ｏ
3：２〜１２．５、ＭｇＯ：３〜９、ＣａＯ：０．５〜
７、ＳｒＯ：０〜８、ＺｎＯ：０〜４、ＴｉＯ2：０〜
６、ＺｒＯ2：０〜３、Ｙ2Ｏ3：０〜４、Ｌｉ2Ｏ：１〜
８、Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ：２〜１０、Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ
2Ｏ：４〜１６で、（Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ）／Ａｌ2Ｏ3≧
０．８の情報記録媒体基板用ガラス。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、高い耐候性を有
し、大量生産に適する情報記録媒体基板用ガラスおよび
情報記録媒体用ガラス基板に関する。
し、大量生産に適する情報記録媒体基板用ガラスおよび
情報記録媒体用ガラス基板に関する。
【０００２】
【従来の技術】情報記録媒体用基板、特に磁気ディスク
（ハードディスク）用基板としてガラス基板が用いられ
ており、モル％で表示した組成が、ＳｉＯ2：６５．３
％、Ａｌ2Ｏ3：８．６％、ＺｒＯ2：３．５％、Ｌｉ
2Ｏ：１２．５％、Ｎａ2Ｏ：１０．１％、であるガラス
（以下「従来ガラス」という。）からなる基板が例示さ
れる。この従来ガラスは通常化学強化処理されて使用さ
れる。
（ハードディスク）用基板としてガラス基板が用いられ
ており、モル％で表示した組成が、ＳｉＯ2：６５．３
％、Ａｌ2Ｏ3：８．６％、ＺｒＯ2：３．５％、Ｌｉ
2Ｏ：１２．５％、Ｎａ2Ｏ：１０．１％、であるガラス
（以下「従来ガラス」という。）からなる基板が例示さ
れる。この従来ガラスは通常化学強化処理されて使用さ
れる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】情報記録媒体用基板に
は、その在庫中に表面性状が著しく変化し、前記基板上
に形成される下地膜、磁性膜、保護膜等の膜がはがれや
すくなることがないこと、すなわち耐候性が強く要求さ
れる。前記従来ガラスの耐候性は決して高くはないが、
化学強化処理によって耐候性は許容されるレベルにな
る。これは、従来ガラスの耐候性を低下させる主因と考
えられるアルカリ成分が、化学強化処理によってガラス
表面から抽出除去されるためと考えられる。しかし化学
強化処理には、工程が増加する、化学強化処理後の基板
表面によごれが付着しやすい、等の問題がある。
は、その在庫中に表面性状が著しく変化し、前記基板上
に形成される下地膜、磁性膜、保護膜等の膜がはがれや
すくなることがないこと、すなわち耐候性が強く要求さ
れる。前記従来ガラスの耐候性は決して高くはないが、
化学強化処理によって耐候性は許容されるレベルにな
る。これは、従来ガラスの耐候性を低下させる主因と考
えられるアルカリ成分が、化学強化処理によってガラス
表面から抽出除去されるためと考えられる。しかし化学
強化処理には、工程が増加する、化学強化処理後の基板
表面によごれが付着しやすい、等の問題がある。
【０００４】また、磁気ディスク用ガラス基板は従来、
ノートブックパソコン等に用いられる２．５型基板（ガ
ラス基板外径：６５ｍｍ）が主であったが、今後はサー
バー等に用いられるより大きな基板、すなわち３．０型
基板（ガラス基板外径：８４ｍｍ）、３．５型基板（ガ
ラス基板外径：９５ｍｍ）、等も増加する可能性が高
い。したがって、このようなガラス基板に使用されるガ
ラスは大量生産に適したものであることが求められてい
る。
ノートブックパソコン等に用いられる２．５型基板（ガ
ラス基板外径：６５ｍｍ）が主であったが、今後はサー
バー等に用いられるより大きな基板、すなわち３．０型
基板（ガラス基板外径：８４ｍｍ）、３．５型基板（ガ
ラス基板外径：９５ｍｍ）、等も増加する可能性が高
い。したがって、このようなガラス基板に使用されるガ
ラスは大量生産に適したものであることが求められてい
る。
【０００５】ガラスの大量生産はガラス溶融窯により行
われる。ガラス溶融窯の溶融ガラスと直接接触する部分
には通常ＡＺＳ（Ａｌ2Ｏ3−ＺｒＯ2−ＳｉＯ2）系電鋳
煉瓦が使用される。したがって、ＡＺＳ系電鋳煉瓦に対
する溶融ガラスの侵食性が小さいことも求められてい
る。さらに、板ガラスの大量生産はフロート法により広
く行われている。したがって、フロート成形が可能なガ
ラスであることが求められている。
われる。ガラス溶融窯の溶融ガラスと直接接触する部分
には通常ＡＺＳ（Ａｌ2Ｏ3−ＺｒＯ2−ＳｉＯ2）系電鋳
煉瓦が使用される。したがって、ＡＺＳ系電鋳煉瓦に対
する溶融ガラスの侵食性が小さいことも求められてい
る。さらに、板ガラスの大量生産はフロート法により広
く行われている。したがって、フロート成形が可能なガ
ラスであることが求められている。
【０００６】一方、基板のたわみや反りが増大すると、
磁気ディスク破損の原因となる。このため、前記従来ガ
ラスのヤング率である８２ＧＰａと同等以上のヤング率
が求められている。本発明は、上記課題を解決する情報
記録媒体基板用ガラスおよび情報記録媒体用ガラス基板
の提供を目的とする。
磁気ディスク破損の原因となる。このため、前記従来ガ
ラスのヤング率である８２ＧＰａと同等以上のヤング率
が求められている。本発明は、上記課題を解決する情報
記録媒体基板用ガラスおよび情報記録媒体用ガラス基板
の提供を目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、モル％表示で
実質的に、 ＳｉＯ2 ５６〜７５、 Ａｌ2Ｏ3 ２〜１２．５、 ＭｇＯ ３〜９、 ＣａＯ ０．５〜７、 ＳｒＯ ０〜８、 ＺｎＯ ０〜４、 ＴｉＯ2 ０〜６、 ＺｒＯ2 ０〜３、 Ｙ2Ｏ3 ０〜４、 Ｌｉ2Ｏ １〜８、 Ｎａ2Ｏ＋ Ｋ2Ｏ ２〜１０、 Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ ４〜１６、 からなり、（Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ）／Ａｌ2Ｏ3が０．８以上
である情報記録媒体基板用ガラス、および、前記情報記
録媒体基板用ガラスからなる情報記録媒体用ガラス基板
を提供する。
実質的に、 ＳｉＯ2 ５６〜７５、 Ａｌ2Ｏ3 ２〜１２．５、 ＭｇＯ ３〜９、 ＣａＯ ０．５〜７、 ＳｒＯ ０〜８、 ＺｎＯ ０〜４、 ＴｉＯ2 ０〜６、 ＺｒＯ2 ０〜３、 Ｙ2Ｏ3 ０〜４、 Ｌｉ2Ｏ １〜８、 Ｎａ2Ｏ＋ Ｋ2Ｏ ２〜１０、 Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ ４〜１６、 からなり、（Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ）／Ａｌ2Ｏ3が０．８以上
である情報記録媒体基板用ガラス、および、前記情報記
録媒体基板用ガラスからなる情報記録媒体用ガラス基板
を提供する。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明のガラスの組成について、
モル％を単に％と表示して説明する。ＳｉＯ2はガラス
の骨格を形成する必須成分である。５６％未満では、液
相温度が高くなりすぎる。好ましくは５８％以上、より
好ましくは６０％以上である。７５％超では、溶解温度
が高くなりすぎる。好ましくは７３％以下、より好まし
くは７１％以下である。
モル％を単に％と表示して説明する。ＳｉＯ2はガラス
の骨格を形成する必須成分である。５６％未満では、液
相温度が高くなりすぎる。好ましくは５８％以上、より
好ましくは６０％以上である。７５％超では、溶解温度
が高くなりすぎる。好ましくは７３％以下、より好まし
くは７１％以下である。
【０００９】Ａｌ2Ｏ3は耐候性を高くし、ヤング率を高
くする効果があり必須成分である。２％未満では前記効
果が小さい。好ましくは２．５％以上、より好ましくは
３％以上である。１２．５％超では液相温度が高くなり
すぎ、またＡＺＳ系電鋳煉瓦に対する侵食性も大きくな
る。好ましくは１０％以下、より好ましくは８％以下、
特に好ましくは７．５％以下、最も好ましくは７％以下
である。
くする効果があり必須成分である。２％未満では前記効
果が小さい。好ましくは２．５％以上、より好ましくは
３％以上である。１２．５％超では液相温度が高くなり
すぎ、またＡＺＳ系電鋳煉瓦に対する侵食性も大きくな
る。好ましくは１０％以下、より好ましくは８％以下、
特に好ましくは７．５％以下、最も好ましくは７％以下
である。
【００１０】ＭｇＯはガラスの溶解性を向上させ、ヤン
グ率を高くする効果があり必須成分である。３％未満で
は前記効果が小さい。好ましくは４％以上、より好まし
くは４．５％以上である。９％超では液相温度が高くな
りすぎる。好ましくは８％以下、より好ましくは７％以
下である。
グ率を高くする効果があり必須成分である。３％未満で
は前記効果が小さい。好ましくは４％以上、より好まし
くは４．５％以上である。９％超では液相温度が高くな
りすぎる。好ましくは８％以下、より好ましくは７％以
下である。
【００１１】ＣａＯはガラスの溶解性を向上させる効果
があり必須成分である。０．５％未満では前記効果が小
さい。好ましくは１％以上、より好ましくは１．５％以
上である。７％超では液相温度が高くなりすぎる。好ま
しくは６．５％以下、より好ましくは６％以下である。
があり必須成分である。０．５％未満では前記効果が小
さい。好ましくは１％以上、より好ましくは１．５％以
上である。７％超では液相温度が高くなりすぎる。好ま
しくは６．５％以下、より好ましくは６％以下である。
【００１２】ＳｒＯは必須成分ではないが、液相温度を
低下させ、またガラスの溶解性を向上させる効果があ
り、８％まで含有してもよい。８％超では耐候性が低下
するおそれがある。好ましくは７％以下、より好ましく
は６．５％以下である。
低下させ、またガラスの溶解性を向上させる効果があ
り、８％まで含有してもよい。８％超では耐候性が低下
するおそれがある。好ましくは７％以下、より好ましく
は６．５％以下である。
【００１３】ＺｎＯは必須成分ではないが、ガラスの溶
解性を向上させる効果があり、４％まで含有してもよ
い。４％超では液相温度が高くなりすぎるおそれがあ
る。好ましくは３．５％以下、より好ましくは３％以下
である。
解性を向上させる効果があり、４％まで含有してもよ
い。４％超では液相温度が高くなりすぎるおそれがあ
る。好ましくは３．５％以下、より好ましくは３％以下
である。
【００１４】ＴｉＯ2は必須成分ではないが、耐候性お
よびヤング率を高くする効果があり、６％まで含有して
もよい。６％超では液相温度が高くなりすぎる。好まし
くは４％以下、より好ましくは３％以下である。
よびヤング率を高くする効果があり、６％まで含有して
もよい。６％超では液相温度が高くなりすぎる。好まし
くは４％以下、より好ましくは３％以下である。
【００１５】ＺｒＯ2は必須成分ではないが、耐候性お
よびヤング率を高くする効果があり、３％まで含有して
もよい。３％超では液相温度が高くなりすぎ、またＡＺ
Ｓ系電鋳煉瓦に対する侵食性も大きくなる。好ましくは
２％以下、より好ましくは１．５％以下である。
よびヤング率を高くする効果があり、３％まで含有して
もよい。３％超では液相温度が高くなりすぎ、またＡＺ
Ｓ系電鋳煉瓦に対する侵食性も大きくなる。好ましくは
２％以下、より好ましくは１．５％以下である。
【００１６】Ｙ2Ｏ3は必須成分ではないが、ヤング率を
高くする効果があり、４％まで含有してもよい。４％超
では液相温度が高くなりすぎるおそれがある。好ましく
は３．５％以下、より好ましくは３％以下である。ま
た、その含有量は好ましくは０．２％以上、より好まし
くは０．５％以上である。
高くする効果があり、４％まで含有してもよい。４％超
では液相温度が高くなりすぎるおそれがある。好ましく
は３．５％以下、より好ましくは３％以下である。ま
た、その含有量は好ましくは０．２％以上、より好まし
くは０．５％以上である。
【００１７】Ｌｉ2Ｏはガラスの溶解性を向上させ、ヤ
ング率を高くする効果があり必須成分である。１％未満
では前記効果が小さい。好ましくは２％以上、より好ま
しくは３％以上である。８％超では液相温度が高くなり
すぎる。好ましくは７％以下、より好ましくは６％以下
である。
ング率を高くする効果があり必須成分である。１％未満
では前記効果が小さい。好ましくは２％以上、より好ま
しくは３％以上である。８％超では液相温度が高くなり
すぎる。好ましくは７％以下、より好ましくは６％以下
である。
【００１８】Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏの少なくともいずれか
一方は含有しなければならない。これらの含有量の合計
「ＮａＫ」が２％未満ではガラスの溶解性が低下し、ま
た液相温度が高くなりすぎる。好ましくは３％以上、よ
り好ましくは４％以上である。ＮａＫが１０％超では耐
候性が低下し、またＡＺＳ系電鋳煉瓦に対する侵食性も
大きくなる。好ましくは９％以下、より好ましくは８％
以下である。
一方は含有しなければならない。これらの含有量の合計
「ＮａＫ」が２％未満ではガラスの溶解性が低下し、ま
た液相温度が高くなりすぎる。好ましくは３％以上、よ
り好ましくは４％以上である。ＮａＫが１０％超では耐
候性が低下し、またＡＺＳ系電鋳煉瓦に対する侵食性も
大きくなる。好ましくは９％以下、より好ましくは８％
以下である。
【００１９】Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏの含有量の
合計「ＬｉＮａＫ」は４〜１６％である。４％未満では
ガラスの溶解性が低下し、また液相温度が高くなりすぎ
る。好ましくは５％以上、より好ましくは７％以上であ
る。１６％超では耐候性が低下し、またＡＺＳ系電鋳煉
瓦に対する侵食性も大きくなる。好ましくは１５％以
下、より好ましくは１４％以下である。
合計「ＬｉＮａＫ」は４〜１６％である。４％未満では
ガラスの溶解性が低下し、また液相温度が高くなりすぎ
る。好ましくは５％以上、より好ましくは７％以上であ
る。１６％超では耐候性が低下し、またＡＺＳ系電鋳煉
瓦に対する侵食性も大きくなる。好ましくは１５％以
下、より好ましくは１４％以下である。
【００２０】Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏの含有量の合計「Ｎａ
Ｋ」をＡｌ2Ｏ3の含有量により除した値「ＮａＫ／Ａ
ｌ」は０．８以上である。０．８未満ではＡＺＳ系電鋳
煉瓦に対する侵食性が大きくなる。好ましくは０．９以
上、より好ましくは１以上、特に好ましくは１．５以上
である。
Ｋ」をＡｌ2Ｏ3の含有量により除した値「ＮａＫ／Ａ
ｌ」は０．８以上である。０．８未満ではＡＺＳ系電鋳
煉瓦に対する侵食性が大きくなる。好ましくは０．９以
上、より好ましくは１以上、特に好ましくは１．５以上
である。
【００２１】本発明のガラスは実質的に上記成分からな
るが、この他に以下に例示する成分を、本発明の目的を
損なわない範囲で含有してもよい。ＳＯ3、Ｃｌ、Ａｓ2
Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3等の清澄剤を合量で１％まで含有しても
よい。ＳｒＯと同様の効果を得るためにＢａＯを２％ま
で含有してもよい。ＴｉＯ2と同様の効果を得るために
ＳｎＯ2を２％まで含有してもよい。Ｙ2Ｏ3と同様の効
果を得るためにＬａ2Ｏ3、Ｔａ2Ｏ5、Ｎｂ2Ｏ5、ＣｅＯ
2等の希土類金属酸化物を合量で３％まで含有してもよ
い。ガラスの溶解性や安定性を向上させるために、Ｂ2
Ｏ3、Ｐ2Ｏ5、Ｖ2Ｏ5等を合量で３％まで含有してもよ
い。
るが、この他に以下に例示する成分を、本発明の目的を
損なわない範囲で含有してもよい。ＳＯ3、Ｃｌ、Ａｓ2
Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3等の清澄剤を合量で１％まで含有しても
よい。ＳｒＯと同様の効果を得るためにＢａＯを２％ま
で含有してもよい。ＴｉＯ2と同様の効果を得るために
ＳｎＯ2を２％まで含有してもよい。Ｙ2Ｏ3と同様の効
果を得るためにＬａ2Ｏ3、Ｔａ2Ｏ5、Ｎｂ2Ｏ5、ＣｅＯ
2等の希土類金属酸化物を合量で３％まで含有してもよ
い。ガラスの溶解性や安定性を向上させるために、Ｂ2
Ｏ3、Ｐ2Ｏ5、Ｖ2Ｏ5等を合量で３％まで含有してもよ
い。
【００２２】本発明のガラスにおいて、液相温度をＴL
（単位：℃）、粘度が１０4ｄＰａ・ｓとなる温度をＴ4
（単位：℃）として、ＴL−Ｔ4＜５０であることが好ま
しい。ＴL−Ｔ4≧５０ではフロート成形が困難になるお
それがある。より好ましくはＴL−Ｔ4＜４０、特に好ま
しくはＴL−Ｔ4＜３０である。
（単位：℃）、粘度が１０4ｄＰａ・ｓとなる温度をＴ4
（単位：℃）として、ＴL−Ｔ4＜５０であることが好ま
しい。ＴL−Ｔ4≧５０ではフロート成形が困難になるお
それがある。より好ましくはＴL−Ｔ4＜４０、特に好ま
しくはＴL−Ｔ4＜３０である。
【００２３】本発明のガラスのヤング率は８２ＧＰａ以
上であることが好ましい。８２ＧＰａ未満では基板のた
わみや反りの問題が発生しやすくなる。好ましくは８３
ＧＰａ以上、より好ましくは８４ＧＰａ以上である。
上であることが好ましい。８２ＧＰａ未満では基板のた
わみや反りの問題が発生しやすくなる。好ましくは８３
ＧＰａ以上、より好ましくは８４ＧＰａ以上である。
【００２４】本発明の情報記録媒体用ガラス基板（以下
単に本発明のガラス基板という。）は本発明のガラスか
らなり、所定の寸法・形状に切断されたガラス板であ
る。本発明のガラス基板は、１２０℃、０．２ＭＰａ
（絶対圧）の水蒸気雰囲気に２０時間保持したとき、該
ガラス基板表面に存在する、大きさが１０μｍ以上の付
着物の数ＮLが１個／ｃｍ2以下であり、大きさが１μｍ
以上１０μｍ未満の付着物の数ＮSが１０5個／ｃｍ2以
下であることが好ましい。
単に本発明のガラス基板という。）は本発明のガラスか
らなり、所定の寸法・形状に切断されたガラス板であ
る。本発明のガラス基板は、１２０℃、０．２ＭＰａ
（絶対圧）の水蒸気雰囲気に２０時間保持したとき、該
ガラス基板表面に存在する、大きさが１０μｍ以上の付
着物の数ＮLが１個／ｃｍ2以下であり、大きさが１μｍ
以上１０μｍ未満の付着物の数ＮSが１０5個／ｃｍ2以
下であることが好ましい。
【００２５】ＮLが１個／ｃｍ2超またはＮSが１０5個／
ｃｍ2超では、ガラス基板在庫中にガラス基板表面に付
着物（白ヤケ）が発生し、ガラス基板上に形成される下
地膜、磁性膜、保護膜等の膜がはがれやすくなる。この
付着物は、空気中の水分や炭酸ガスの影響によりガラス
基板に生成付着した反応生成物であると考えられ、拭い
ても除去できないものである。ＮLはより好ましくは
０．５個／ｃｍ2以下、特に好ましくは０．２個／ｃｍ2
以下である。ＮSはより好ましくは０．８×１０5個／ｃ
ｍ2以下、特に好ましくは０．６×１０5個／ｃｍ2以下
である。
ｃｍ2超では、ガラス基板在庫中にガラス基板表面に付
着物（白ヤケ）が発生し、ガラス基板上に形成される下
地膜、磁性膜、保護膜等の膜がはがれやすくなる。この
付着物は、空気中の水分や炭酸ガスの影響によりガラス
基板に生成付着した反応生成物であると考えられ、拭い
ても除去できないものである。ＮLはより好ましくは
０．５個／ｃｍ2以下、特に好ましくは０．２個／ｃｍ2
以下である。ＮSはより好ましくは０．８×１０5個／ｃ
ｍ2以下、特に好ましくは０．６×１０5個／ｃｍ2以下
である。
【００２６】本発明のガラスおよびガラス基板の製造方
法は特に限定されず、各種方法を適用できる。たとえ
ば、通常使用される各成分の原料を目標組成となるよう
に調合し、これをガラス溶融窯で加熱溶融する。バブリ
ング、撹拌、清澄剤の添加等によりガラスを均質化し、
周知のフロート法、プレス法、またはダウンドロー法な
どの方法により所定の厚さの板ガラスに成形し、徐冷後
必要に応じて研削、研磨などの加工を行った後、所定の
寸法・形状のガラス基板とされる。成形法としては、特
に、大量生産に適したフロート法が好適である。本発明
のガラスおよびガラス基板は、特に磁気ディスク基板に
好適である。
法は特に限定されず、各種方法を適用できる。たとえ
ば、通常使用される各成分の原料を目標組成となるよう
に調合し、これをガラス溶融窯で加熱溶融する。バブリ
ング、撹拌、清澄剤の添加等によりガラスを均質化し、
周知のフロート法、プレス法、またはダウンドロー法な
どの方法により所定の厚さの板ガラスに成形し、徐冷後
必要に応じて研削、研磨などの加工を行った後、所定の
寸法・形状のガラス基板とされる。成形法としては、特
に、大量生産に適したフロート法が好適である。本発明
のガラスおよびガラス基板は、特に磁気ディスク基板に
好適である。
【００２７】
【実施例】各成分の原料を表のＳｉＯ2からＫ2Ｏまでの
欄にモル％表示で示した組成となるように調合し、白金
るつぼを用いて１４５０〜１５５０℃の温度で３〜５時
間溶解した。溶解にあたっては、白金スターラを溶融ガ
ラス中に挿入し、２時間撹拌してガラスを均質化した。
次いで溶融ガラスを流し出して板状に成形し、徐冷し
た。
欄にモル％表示で示した組成となるように調合し、白金
るつぼを用いて１４５０〜１５５０℃の温度で３〜５時
間溶解した。溶解にあたっては、白金スターラを溶融ガ
ラス中に挿入し、２時間撹拌してガラスを均質化した。
次いで溶融ガラスを流し出して板状に成形し、徐冷し
た。
【００２８】なお、表中の「ＮａＫ」はＮａ2Ｏおよび
Ｋ2Ｏの含有量の合計（単位：モル％）、「ＬｉＮａ
Ｋ」はＬｉ2Ｏ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏの含有量の合計
（単位：モル％）、「ＮａＫ／Ａｌ」は「ＮａＫ」をＡ
ｌ2Ｏ3の含有量（単位：モル％）により除した値であ
る。
Ｋ2Ｏの含有量の合計（単位：モル％）、「ＬｉＮａ
Ｋ」はＬｉ2Ｏ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏの含有量の合計
（単位：モル％）、「ＮａＫ／Ａｌ」は「ＮａＫ」をＡ
ｌ2Ｏ3の含有量（単位：モル％）により除した値であ
る。
【００２９】こうして得られたガラスまたはガラス板に
ついて、ヤング率Ｅ（単位：ＧＰａ）、液相温度Ｔ
L（単位：℃）、粘度が１０4ｄＰａ・ｓとなる温度Ｔ4
（単位：℃）、前記ＮL（単位：個／ｃｍ2）および前記
ＮS（単位：１０5個／ｃｍ2）、ストーニングポテンシ
ャルＳを、以下に示す方法により測定・評価した。結果
を表に示す。例１〜１０のガラスは実施例、例１１のガ
ラスは従来ガラスであり比較例である。
ついて、ヤング率Ｅ（単位：ＧＰａ）、液相温度Ｔ
L（単位：℃）、粘度が１０4ｄＰａ・ｓとなる温度Ｔ4
（単位：℃）、前記ＮL（単位：個／ｃｍ2）および前記
ＮS（単位：１０5個／ｃｍ2）、ストーニングポテンシ
ャルＳを、以下に示す方法により測定・評価した。結果
を表に示す。例１〜１０のガラスは実施例、例１１のガ
ラスは従来ガラスであり比較例である。
【００３０】Ｅ：厚さが１０〜２０ｍｍ、大きさが４ｃ
ｍ×４ｃｍのガラス板について、超音波パルス法により
測定した。ＴL：ガラスを乳鉢で２ｍｍ程度のガラス粒
に粉砕し、このガラス粒を白金ボートに並べて置き、温
度傾斜炉中で２４時間熱処理した。結晶が析出している
ガラス粒の温度の最高値を液相温度とした。Ｔ4：回転
粘度計により測定した。
ｍ×４ｃｍのガラス板について、超音波パルス法により
測定した。ＴL：ガラスを乳鉢で２ｍｍ程度のガラス粒
に粉砕し、このガラス粒を白金ボートに並べて置き、温
度傾斜炉中で２４時間熱処理した。結晶が析出している
ガラス粒の温度の最高値を液相温度とした。Ｔ4：回転
粘度計により測定した。
【００３１】ＮL、ＮS：厚さが１〜２ｍｍ、大きさが４
ｃｍ×４ｃｍのガラス板の両面を鏡面研磨し、炭酸カル
シウムおよび中性洗剤を用いて洗浄した後、超加速寿命
試験器（不飽和型プレッシャークッカーＴＰＣ−４１
０、タバイエスペック（株））に入れて１２０℃、０．
２ＭＰａの水蒸気雰囲気に２０時間静置した。取り出し
たガラス板の表面２００μｍ角（面積：４×１０-4ｃｍ
2）の範囲を微分干渉顕微鏡で観察し、大きさが１０μ
ｍ以上の付着物の個数ｎLと大きさが１μｍ以上１０μ
ｍ未満の付着物の個数ｎSをカウントした。ｎL、ｎSを
それぞれ４×１０- 4ｃｍ2で除してＮL、ＮSを算出し
た。
ｃｍ×４ｃｍのガラス板の両面を鏡面研磨し、炭酸カル
シウムおよび中性洗剤を用いて洗浄した後、超加速寿命
試験器（不飽和型プレッシャークッカーＴＰＣ−４１
０、タバイエスペック（株））に入れて１２０℃、０．
２ＭＰａの水蒸気雰囲気に２０時間静置した。取り出し
たガラス板の表面２００μｍ角（面積：４×１０-4ｃｍ
2）の範囲を微分干渉顕微鏡で観察し、大きさが１０μ
ｍ以上の付着物の個数ｎLと大きさが１μｍ以上１０μ
ｍ未満の付着物の個数ｎSをカウントした。ｎL、ｎSを
それぞれ４×１０- 4ｃｍ2で除してＮL、ＮSを算出し
た。
【００３２】ストーニングポテンシャル：ＡＺＳ系電鋳
煉瓦（ＺＢ−１７１１、旭硝子（株））を１５ｍｍ角×
長さ６０ｍｍに加工し、その半分（長さ３０ｍｍ分）を
１５００℃に加熱した各ガラスに２４時間浸漬した。そ
の後該煉瓦を取り出し、その表面に付着したガラスを観
察し、該ガラス中にバデライトがどの程度析出している
かを調べた。バデライトの析出が認められないものを
○、バデライトの析出が認められたものを×とした。
煉瓦（ＺＢ−１７１１、旭硝子（株））を１５ｍｍ角×
長さ６０ｍｍに加工し、その半分（長さ３０ｍｍ分）を
１５００℃に加熱した各ガラスに２４時間浸漬した。そ
の後該煉瓦を取り出し、その表面に付着したガラスを観
察し、該ガラス中にバデライトがどの程度析出している
かを調べた。バデライトの析出が認められないものを
○、バデライトの析出が認められたものを×とした。
【００３３】
【表１】
【００３４】
【発明の効果】本発明によれば、以下のような特長を有
する情報記録媒体用ガラス基板を提供できる。 （１）化学強化処理がなくとも耐候性に優れ、在庫中に
付着物（白ヤケ）が発生しにくい。したがってこの付着
物に起因する、下地膜、磁性膜、保護膜等の膜はがれが
起こりにくい。 （２）ＡＺＳ系電鋳煉瓦に対する侵食性が小さく、ガラ
ス溶融窯を用いた大量生産ができる。 （３）フロート成形ができ、高品質のガラス基板を大量
生産できる。 （４）基板のたわみや反りを抑制でき、磁気ディスク破
損を防止できる。
する情報記録媒体用ガラス基板を提供できる。 （１）化学強化処理がなくとも耐候性に優れ、在庫中に
付着物（白ヤケ）が発生しにくい。したがってこの付着
物に起因する、下地膜、磁性膜、保護膜等の膜はがれが
起こりにくい。 （２）ＡＺＳ系電鋳煉瓦に対する侵食性が小さく、ガラ
ス溶融窯を用いた大量生産ができる。 （３）フロート成形ができ、高品質のガラス基板を大量
生産できる。 （４）基板のたわみや反りを抑制でき、磁気ディスク破
損を防止できる。
フロントページの続き Ｆターム(参考） 4G062 AA01 BB01 DA06 DA07 DB03 DB04 DC01 DD01 DE01 DE02 DE03 DF01 EA02 EA03 EB03 EC03 ED03 EE02 EE03 EF01 EF02 EF03 EG01 FA01 FB01 FB02 FB03 FC01 FC02 FC03 FD01 FE01 FF01 FG01 FH00 FJ00 FJ01 FJ02 FJ03 FK01 FL01 GA01 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM04 MM27 NN34 5D006 CB04 CB07 DA03
Claims (4)
- 【請求項１】モル％表示で実質的に、 ＳｉＯ2 ５６〜７５、 Ａｌ2Ｏ3 ２〜１２．５、 ＭｇＯ ３〜９、 ＣａＯ ０．５〜７、 ＳｒＯ ０〜８、 ＺｎＯ ０〜４、 ＴｉＯ2 ０〜６、 ＺｒＯ2 ０〜３、 Ｙ2Ｏ3 ０〜４、 Ｌｉ2Ｏ １〜８、 Ｎａ2Ｏ＋ Ｋ2Ｏ ２〜１０、 Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ ４〜１６、 からなり、（Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ）／Ａｌ2Ｏ3が０．８以上
である情報記録媒体基板用ガラス。 - 【請求項２】液相温度をＴL（単位：℃）、粘度が１０4
ｄＰａ・ｓとなる温度をＴ4（単位：℃）として、ＴL−
Ｔ4＜５０である請求項１に記載の情報記録媒体基板用
ガラス。 - 【請求項３】請求項１または２に記載の情報記録媒体基
板用ガラスからなる情報記録媒体用ガラス基板。 - 【請求項４】１２０℃、０．２ＭＰａの水蒸気雰囲気に
２０時間保持した該ガラス基板表面に存在する、大きさ
が１０μｍ以上の付着物の数が１個／ｃｍ2以下であ
り、大きさが１μｍ以上１０μｍ未満の付着物の数が１
０5個／ｃｍ2以下である請求項３に記載の情報記録媒体
用ガラス基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36055599A JP2001172043A (ja) | 1999-12-20 | 1999-12-20 | 情報記録媒体基板用ガラスおよび情報記録媒体用ガラス基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36055599A JP2001172043A (ja) | 1999-12-20 | 1999-12-20 | 情報記録媒体基板用ガラスおよび情報記録媒体用ガラス基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001172043A true JP2001172043A (ja) | 2001-06-26 |
Family
ID=18469913
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP36055599A Pending JP2001172043A (ja) | 1999-12-20 | 1999-12-20 | 情報記録媒体基板用ガラスおよび情報記録媒体用ガラス基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001172043A (ja) |
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005015328A (ja) * | 2003-06-06 | 2005-01-20 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | ジルコニウムを含むガラス組成物、化学強化ガラス物品、磁気記録媒体用ガラス基板、およびガラス板の製造方法 |
| WO2007142324A1 (ja) * | 2006-06-08 | 2007-12-13 | Hoya Corporation | 情報記録媒体用基板に供するためのガラス、情報記録媒体用基板および情報記録媒体とそれらの製造方法 |
| US7396788B2 (en) | 2002-09-27 | 2008-07-08 | Minolta Co., Ltd. | Glass composition and glass substrate |
| WO2008117758A1 (ja) * | 2007-03-23 | 2008-10-02 | Asahi Glass Company, Limited | データ記憶媒体用基板ガラスおよびガラス基板 |
| US7595273B2 (en) | 2004-04-28 | 2009-09-29 | Hoya Corporation | Glass substrate for information recording medium, process for producing the glass substrate, information recording medium, and process for producing the same |
| JP2010254549A (ja) * | 2009-04-02 | 2010-11-11 | Asahi Glass Co Ltd | 情報記録媒体基板用ガラス、情報記録媒体用ガラス基板および磁気ディスク |
| WO2011019010A1 (ja) * | 2009-08-10 | 2011-02-17 | Hoya株式会社 | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板およびその製造方法、ならびに磁気記録媒体 |
| US8402790B2 (en) | 2009-11-24 | 2013-03-26 | Asahi Glass Company, Limited | Process for producing glass substrate for information recording medium |
| JPWO2012057338A1 (ja) * | 2010-10-29 | 2014-05-12 | Hoya株式会社 | 磁気記録媒体用ガラス基板、磁気記録媒体、および磁気記録媒体用ガラス基板ブランク |
| WO2014081747A1 (en) * | 2012-11-21 | 2014-05-30 | Corning Incorporated | Ion exchangeable glasses having high hardness and high modulus |
| WO2014136751A1 (ja) * | 2013-03-05 | 2014-09-12 | Hoya株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板および情報記録媒体 |
| WO2018199046A1 (ja) * | 2017-04-28 | 2018-11-01 | Ａｇｃ株式会社 | 化学強化ガラスおよび化学強化用ガラス |
| CN113474308A (zh) * | 2019-02-25 | 2021-10-01 | 日本板硝子株式会社 | 玻璃组合物、玻璃板及其制造方法、以及信息记录介质用基板 |
| US11572305B2 (en) * | 2018-02-05 | 2023-02-07 | AGC Inc. | Glass for chemical strengthening |
-
1999
- 1999-12-20 JP JP36055599A patent/JP2001172043A/ja active Pending
Cited By (33)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7396788B2 (en) | 2002-09-27 | 2008-07-08 | Minolta Co., Ltd. | Glass composition and glass substrate |
| JP4656863B2 (ja) * | 2003-06-06 | 2011-03-23 | Ｈｏｙａ株式会社 | ジルコニウムを含むガラス組成物、化学強化ガラス物品、磁気記録媒体用ガラス基板、およびガラス板の製造方法 |
| JP2005015328A (ja) * | 2003-06-06 | 2005-01-20 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | ジルコニウムを含むガラス組成物、化学強化ガラス物品、磁気記録媒体用ガラス基板、およびガラス板の製造方法 |
| US7595273B2 (en) | 2004-04-28 | 2009-09-29 | Hoya Corporation | Glass substrate for information recording medium, process for producing the glass substrate, information recording medium, and process for producing the same |
| US9236077B2 (en) | 2006-06-08 | 2016-01-12 | Hoya Corporation | Glass for use as substrate for information recording medium, substrate for information recording medium and information recording medium, and their production methods |
| JP5068258B2 (ja) * | 2006-06-08 | 2012-11-07 | Ｈｏｙａ株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板および情報記録媒体とそれらの製造方法 |
| WO2007142324A1 (ja) * | 2006-06-08 | 2007-12-13 | Hoya Corporation | 情報記録媒体用基板に供するためのガラス、情報記録媒体用基板および情報記録媒体とそれらの製造方法 |
| US7803472B2 (en) | 2007-03-23 | 2010-09-28 | Asahi Glass Company, Limited | Substrate glass for data storage medium and glass substrate |
| WO2008117758A1 (ja) * | 2007-03-23 | 2008-10-02 | Asahi Glass Company, Limited | データ記憶媒体用基板ガラスおよびガラス基板 |
| JP5263152B2 (ja) * | 2007-03-23 | 2013-08-14 | 旭硝子株式会社 | データ記憶媒体用基板ガラスおよびガラス基板 |
| JP2010254549A (ja) * | 2009-04-02 | 2010-11-11 | Asahi Glass Co Ltd | 情報記録媒体基板用ガラス、情報記録媒体用ガラス基板および磁気ディスク |
| WO2011019010A1 (ja) * | 2009-08-10 | 2011-02-17 | Hoya株式会社 | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板およびその製造方法、ならびに磁気記録媒体 |
| US8603653B2 (en) | 2009-08-10 | 2013-12-10 | Hoya Corporation | Glass for magnetic recording medium substrate, magnetic recording medium substrate and method of manufacturing the same, and magnetic recording medium |
| US8402790B2 (en) | 2009-11-24 | 2013-03-26 | Asahi Glass Company, Limited | Process for producing glass substrate for information recording medium |
| JPWO2012057338A1 (ja) * | 2010-10-29 | 2014-05-12 | Hoya株式会社 | 磁気記録媒体用ガラス基板、磁気記録媒体、および磁気記録媒体用ガラス基板ブランク |
| JP5542953B2 (ja) * | 2010-10-29 | 2014-07-09 | Ｈｏｙａ株式会社 | 磁気記録媒体用ガラス基板、磁気記録媒体、および磁気記録媒体用ガラス基板ブランク |
| TWI674249B (zh) * | 2012-11-21 | 2019-10-11 | 康寧公司 | 具有高硬度與高模數的離子可交換玻璃 |
| WO2014081747A1 (en) * | 2012-11-21 | 2014-05-30 | Corning Incorporated | Ion exchangeable glasses having high hardness and high modulus |
| KR20150126816A (ko) * | 2012-11-21 | 2015-11-13 | 코닝 인코포레이티드 | 고 경도 및 고 탄성률을 갖는 이온 교환가능한 유리 |
| JP2015535521A (ja) * | 2012-11-21 | 2015-12-14 | コーニング インコーポレイテッド | 高硬度および高弾性率を有するイオン交換可能ガラス |
| KR102256457B1 (ko) * | 2012-11-21 | 2021-05-27 | 코닝 인코포레이티드 | 고 경도 및 고 탄성률을 갖는 이온 교환가능한 유리 |
| CN104936911A (zh) * | 2012-11-21 | 2015-09-23 | 康宁股份有限公司 | 具有高硬度和高模量的可离子交换玻璃 |
| US10501364B2 (en) | 2012-11-21 | 2019-12-10 | Corning Incorporated | Ion exchangeable glasses having high hardness and high modulus |
| TWI662003B (zh) * | 2012-11-21 | 2019-06-11 | 康寧公司 | 具有高硬度與高模數的離子可交換玻璃 |
| JP6029740B2 (ja) * | 2013-03-05 | 2016-11-24 | Hoya株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板および情報記録媒体 |
| WO2014136751A1 (ja) * | 2013-03-05 | 2014-09-12 | Hoya株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板および情報記録媒体 |
| WO2018199046A1 (ja) * | 2017-04-28 | 2018-11-01 | Ａｇｃ株式会社 | 化学強化ガラスおよび化学強化用ガラス |
| CN115385571A (zh) * | 2017-04-28 | 2022-11-25 | Ａｇｃ株式会社 | 化学强化玻璃以及化学强化用玻璃 |
| CN115385571B (zh) * | 2017-04-28 | 2024-05-03 | Ａｇｃ株式会社 | 化学强化玻璃以及化学强化用玻璃 |
| US11572305B2 (en) * | 2018-02-05 | 2023-02-07 | AGC Inc. | Glass for chemical strengthening |
| US11827560B2 (en) | 2018-02-05 | 2023-11-28 | AGC Inc. | Glass for chemical strengthening |
| CN113474308A (zh) * | 2019-02-25 | 2021-10-01 | 日本板硝子株式会社 | 玻璃组合物、玻璃板及其制造方法、以及信息记录介质用基板 |
| CN113474308B (zh) * | 2019-02-25 | 2023-08-22 | 日本板硝子株式会社 | 玻璃组合物、玻璃板及其制造方法、以及信息记录介质用基板 |
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