JP4161509B2 - 情報記録媒体基板用ガラスおよび情報記録媒体用ガラス基板 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高いヤング率を有する情報記録媒体基板用ガラスおよび情報記録媒体用ガラス基板に関する。
【０００２】
【従来の技術】
情報記録媒体用基板、特に磁気ディスク（ハードディスク）用基板としてガラス基板が用いられており、モル％で表示した組成が、ＳｉＯ₂：６５．３％、Ａｌ₂Ｏ₃：８．６％、ＺｒＯ₂：３．５％、Ｌｉ₂Ｏ：１２．５％、Ｎａ₂Ｏ：１０．１％、であるガラス（以下「従来ガラス」という。）からなる基板が例示される。この従来ガラスは通常化学強化処理されて使用される。
【０００３】
近年記憶容量を増すために、基板の薄板化による搭載枚数の増加が求められている。一方、記憶密度を増すために磁気ディスクと読み取り磁気ヘッドの間隔は小さくなっており、前記基板の薄板化にともなう基板のたわみや反りの増大は磁気ディスク破損の原因となる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
この問題、すなわち基板のたわみや反りの問題を解決するためにヤング率の高いガラスが求められている。なお、前記従来ガラスのヤング率は８２ＧＰａである。
また、情報記録媒体用基板には、その在庫中に表面性状が著しく変化し、前記基板上に形成される下地膜、磁性膜、保護膜等の膜がはがれやすくなることがないこと、すなわち耐候性が求められる。
前記従来ガラスの耐候性は決して高くはないが、化学強化処理によって耐候性は許容されるレベルになる。これは、従来ガラスの耐候性を低下させる主因と考えられるアルカリ成分が、化学強化処理によってガラス表面から抽出除去されるためと考えられる。しかし化学強化処理には、工程が増加する、化学強化処理後の基板表面によごれが付着しやすい、等の問題がある。
【０００５】
また、記憶密度を増すためには磁気記録層である磁性層の保磁力を増加させることが有効であり、そのためには磁性層形成に際して行われる熱処理をより高い温度で行う必要がある。この観点から、基板に用いられるガラスのガラス転移点が高いことが求められている。なお、前記従来ガラスのガラス転移点は５００℃である。
【０００６】
磁気ディスク用ガラス基板は従来、ノートブックパソコン等に用いられる２．５型基板（ガラス基板外径：６５ｍｍ）が主であったが、今後はサーバー等に用いられるより大きな基板、すなわち３．０型基板（ガラス基板外径：８４ｍｍ）、３．５型基板（ガラス基板外径：９５ｍｍ）、等も増加する可能性が高い。したがって、このようなガラス基板に使用されるガラスは大量生産に適したものであることが求められている。
【０００７】
ガラスの大量生産はガラス溶融窯により行われる。ガラス溶融窯の溶融ガラスと直接接触する部分には通常ＡＺＳ（Ａｌ₂Ｏ₃−ＺｒＯ₂−ＳｉＯ₂）系電鋳煉瓦が使用される。したがって、ＡＺＳ系電鋳煉瓦に対する溶融ガラスの侵食性が小さいことも求められている。
【０００８】
さらに、板ガラスの大量生産はフロート法をはじめとする連続成形法により広く行われている。このような連続成形法として、フロート法以外にフュージョン法、ダウンドロー法が例示される。したがって、フロート成形等の連続成形が可能なガラスであることが求められている。
【０００９】
ＷＯ９９／０６３３３には、ヤング率が９０ＧＰａ以上であり、モル％表示で、ＴｉＯ₂：０．１〜３０、ＣａＯ：１〜４５、ＭｇＯ＋ＣａＯ：５〜４０、Ｎａ₂Ｏ＋Ｌｉ₂Ｏ：３〜３０、Ａｌ₂Ｏ₃：０〜１５、ＳｉＯ₂：３５〜６５、であるガラスをダイレクトプレス成形することを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法が開示されている。なお、ダイレクトプレス成形は連続成形法ではない。
【００１０】
本発明者は、ＷＯ９９／０６３３３に開示されているガラスの一部について追試した（後掲表５中の例４１、例４２）。その結果、ＷＯ９９／０６３３３に開示されているガラスに対し連続成形法を適用して板ガラスを製造することは困難ではないか、と考えた。
本発明は、上記課題を解決する情報記録媒体基板用ガラスおよび情報記録媒体用ガラス基板の提供を目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明は、モル％表示で実質的に、
ＳｉＯ₂ ６０〜７２、
Ａｌ₂Ｏ₃ ２〜９、
ＭｇＯ ３〜９、
ＣａＯ ２〜１０、
ＳｒＯ ０〜１５、
ＺｎＯ ０〜４、
ＴｉＯ₂ ０〜８、
ＺｒＯ₂ ０〜４、
Ｌｉ₂Ｏ １〜１２、
Ｎａ₂Ｏ ０〜８、
Ｋ₂Ｏ ０〜５、
Ｙ₂Ｏ₃ ０〜５、
Ｌａ₂Ｏ₃ ０〜５、
Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ ４〜１５、
からなり、ヤング率が８５ＧＰａ以上である情報記録媒体基板用ガラスを提供する。
また、前記情報記録媒体基板用ガラスであって、ＳｒＯの含有量が０．５〜１５モル％、Ｋ ₂ Ｏの含有量が０．１〜５モル％、Ｙ ₂ Ｏ ₃ の含有量が０．２〜５モル％、ＳｉＯ ₂ とＡｌ ₂ Ｏ ₃ の含有量の合計が６６モル％以上であるものを提供する。
また、前記情報記録媒体基板用ガラスであって、ＳｒＯの含有量が６．９〜１５モル％、Ｋ ₂ Ｏの含有量が０．１〜５モル％、ＳｉＯ ₂ とＡｌ ₂ Ｏ ₃ の含有量の合計が６６モル％以上であるものを提供する。
また、前記情報記録媒体基板用ガラスからなる情報記録媒体用ガラス基板を提供する。
【００１２】
【発明の実施の形態】
本発明の情報記録媒体基板用ガラス（以下単に本発明のガラスという。）のヤング率は８５ＧＰａ以上である。８５ＧＰａ未満では基板のたわみや反りの問題が発生する。好ましくは８８ＧＰａ以上、より好ましくは９０ＧＰａ以上である。
【００１３】
本発明のガラスのガラス転移点は５５０℃以上であることが好ましい。５５０℃未満では磁性層形成熱処理温度を充分高くできず、磁性層の保磁力増加が困難になるおそれがある。より好ましくは５６０℃以上、さらに好ましくは５７０℃以上、一層好ましくは５８０℃以上、特に好ましくは６００℃以上、最も好ましくは６１０℃以上である。
【００１４】
本発明のガラスの液相温度をＴ_L（単位：℃）、粘度が１０⁴Ｐ（ポアズ）となる温度をＴ₄（単位：℃）として、Ｔ_L−Ｔ₄＜５０であることが好ましい。Ｔ_L−Ｔ₄≧５０ではフロート成形が困難になるおそれがある。より好ましくはＴ_L−Ｔ₄＜４０、特に好ましくはＴ_L−Ｔ₄＜３０である。
【００１５】
本発明のガラスの組成について以下モル％を単に％と表示して説明する。
なお、本発明のガラスは実質的に、
ＳｉＯ₂ ６０〜７２、
Ａｌ₂Ｏ₃ ２〜８、
ＭｇＯ ３〜８、
ＣａＯ ３〜１０、
ＳｒＯ ０〜８、
ＺｎＯ ０〜４、
ＴｉＯ₂ １〜８、
ＺｒＯ₂ ０．２〜４、
Ｌｉ₂Ｏ １〜１２、
Ｎａ₂Ｏ ０〜３、
Ｋ₂Ｏ ０〜２、
Ｙ₂Ｏ₃ ０〜５、
Ｌａ₂Ｏ₃ ０〜５、
Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ ４〜１４、
からなることが好ましい。
【００１６】
また、実質的に、
ＳｉＯ₂ ６２〜７０、
Ａｌ₂Ｏ₃ ３〜７、
ＭｇＯ ３．５〜７．５、
ＣａＯ ３．５〜８、
ＳｒＯ ０．５〜７、
ＺｎＯ ０〜３．５、
ＴｉＯ₂ １．５〜７、
ＺｒＯ₂ ０．４〜３、
Ｌｉ₂Ｏ ２〜１０、
Ｎａ₂Ｏ ０．１〜２．５、
Ｋ₂Ｏ ０．１〜１．５、
Ｙ₂Ｏ₃ ０．２〜４、
Ｌａ₂Ｏ₃ ０〜４、
Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ ４．５〜１３、
からなることがより好ましい。
【００１７】
また、実質的に、
ＳｉＯ₂ ６３〜６９、
Ａｌ₂Ｏ₃ ４〜６、
ＭｇＯ ４〜７、
ＣａＯ ４〜７、
ＳｒＯ １〜５、
ＺｎＯ ０〜３、
ＴｉＯ₂ ２〜６、
ＺｒＯ₂ ０．６〜２、
Ｌｉ₂Ｏ ４〜８、
Ｎａ₂Ｏ ０．２〜２、
Ｋ₂Ｏ ０．２〜１、
Ｙ₂Ｏ₃ ０．５〜３、
Ｌａ₂Ｏ₃ ０〜３、
Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ ５〜１０、
からなることが特に好ましい。
【００１８】
ＳｉＯ₂はガラスの骨格を形成する必須成分である。６０％未満では、Ｔ_Lが高くなりすぎる。好ましくは６０．５％以上、より好ましくは６１％以上、特に好ましくは６２％以上、最も好ましくは６３％以上である。７２％超では、ヤング率が低下する。好ましくは７０％以下、より好ましくは６９％以下である。
【００１９】
Ａｌ₂Ｏ₃はヤング率を高くし、また耐候性を高くする必須成分である。２％未満では前記効果が小さい。好ましくは３％以上、より好ましくは４％以上である。９％超ではＴ_Lが高くなりすぎ、またＡＺＳ系電鋳煉瓦に対する侵食性も大きくなる。好ましくは８％以下、より好ましくは７．５％以下、特に好ましくは７％以下、最も好ましくは６％以下である。
【００２０】
ＳｉＯ₂とＡｌ₂Ｏ₃の含有量の合計は６６％以上であることが好ましい。６６％未満では、Ｔ_Lが高くなりすぎるおそれがある、またはＴ₄が低くなりすぎるおそれがある、またはＴ_L−Ｔ₄が大きくなりすぎるおそれがある。より好ましくは６６．５％以上、特に好ましくは６７％以上である。
【００２１】
ＭｇＯは、ヤング率を高くし、またガラスの溶解性を向上させる効果があり必須成分である。３％未満では前記効果が小さい。好ましくは３．５％以上、より好ましくは４％以上、最も好ましくは５％以上である。９％超ではＴ_Lが高くなりすぎる。好ましくは８％以下、より好ましくは７．５％以下、特に好ましくは７％以下である。
【００２２】
ＣａＯは、ヤング率を高くし、またガラスの溶解性を向上させる効果があり必須成分である。２％未満では前記効果が小さい。好ましくは３％以上、より好ましくは３．５％以上、特に好ましくは４％以上である。１０％超ではＴ_Lが高くなりすぎる。好ましくは８％以下、より好ましくは７．５％以下、特に好ましくは７％以下である。
【００２３】
ＳｒＯは必須成分ではないが、Ｔ_Lを低下させ、またガラスの溶解性を向上させる効果があり、１５％まで含有してもよい。１５％超ではヤング率が低下するおそれがある。好ましくは１０％以下、より好ましくは９．５％以下、さらに好ましくは９％以下、一層好ましくは８％以下、特に好ましくは７％以下、最も好ましくは５％以下である。また、ＳｒＯを含有する場合、その含有量は好ましくは０．５％以上、より好ましくは１％以上である。
【００２４】
ＺｎＯは必須成分ではないが、ヤング率を高くし、またガラスの溶解性を向上させる効果があり、４％まで含有してもよい。４％超ではＴ_Lが高くなりすぎるおそれがある。好ましくは３．５％以下、より好ましくは３％以下、特に好ましくは２．５％以下である。
【００２５】
ＴｉＯ₂は必須成分ではないが、ヤング率を高くし、また耐候性を高くする効果があり、８％まで含有してもよい。８％超ではＴ_Lが高くなりすぎるおそれがある、または分相現象が起りやすくなるおそれがある。好ましくは７％以下、より好ましくは６％以下である。また、ＴｉＯ₂を含有する場合、その含有量は１％以上であることが好ましい。より好ましくは１．５％以上、特に好ましくは２％以上である。
なお、Ｔ_Lを下げたい場合、分相現象を抑制したい場合、等においてはＴｉＯ₂を実質的に含有しないことが好ましい。典型的には０．０５％以下、より好ましくは０．０２％以下である。
【００２６】
ＺｒＯ₂は必須成分ではないが、ヤング率を高くする効果があり、４％まで含有してもよい。４％超ではＴ_Lが高くなりすぎるおそれがある。好ましくは３％以下、より好ましくは２％以下である。また、ＺｒＯ₂を含有する場合、その含有量は０．２％以上であることが好ましい。より好ましくは０．４％以上、特に好ましくは０．６％以上である。
【００２７】
Ｌｉ₂Ｏはヤング率を高くする必須成分である。１％未満では前記効果が小さい。好ましくは２％以上、より好ましくは４％以上である。１２％超ではＴ_Lが高くなりすぎる。好ましくは１０％以下、より好ましくは８％以下である。
【００２８】
Ｎａ₂Ｏは必須成分ではないが、ガラスの溶解性を向上させる効果があり、８％まで含有してもよい。８％超ではヤング率が低下するおそれがある。好ましくは６％以下、より好ましくは５．５％以下、さらに好ましくは５．２％以下、特に好ましくは２．５％以下、最も好ましくは２％以下である。また、Ｎａ₂Ｏを含有する場合、その含有量は好ましくは０．１％以上、より好ましくは０．２％以上である。
【００２９】
Ｋ₂Ｏは必須成分ではないが、ガラスの溶解性を向上させる効果があり、５％まで含有してもよい。５％超ではヤング率が低下するおそれがある。好ましくは４．７％以下、より好ましくは４．４％以下、特に好ましくは１．５％以下、最も好ましくは１％以下である。また、Ｋ₂Ｏを含有する場合、その含有量は好ましくは０．１％以上、より好ましくは０．２％以上である。
【００３０】
Ｙ₂Ｏ₃は必須成分ではないが、ヤング率を高くする効果があり、５％まで含有してもよい。５％超ではＴ_Lが高くなりすぎるおそれがある。好ましくは４％以下、より好ましくは３％以下である。また、Ｙ₂Ｏ₃を含有する場合、その含有量は好ましくは０．２％以上、より好ましくは０．５％以上である。
【００３１】
Ｌａ₂Ｏ₃は必須成分ではないが、ヤング率を高くする効果があり、５％まで含有してもよい。５％超ではＴ_Lが高くなりすぎるおそれがある。好ましくは４％以下、より好ましくは３％以下である。
【００３２】
Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂ＯおよびＫ₂Ｏの含有量の合計は４％以上１５％以下である。４％未満ではガラスの溶解性が低下し、またＴ_Lが高くなりすぎる。好ましくは４．５％以上、より好ましくは５％以上である。１５％超ではヤング率が低下し、耐候性が低下し、またＡＺＳ系電鋳煉瓦に対する侵食性も大きくなる。好ましくは１４％以下、より好ましくは１３％以下、特に好ましくは１１％以下、最も好ましくは１０％以下である。
【００３３】
本発明のガラスは実質的に上記成分からなるが、この他に以下に例示する成分を、本発明の目的を損なわない範囲で含有してもよい。
ＳＯ₃、Ｃｌ、Ａｓ₂Ｏ₃、Ｓｂ₂Ｏ₃等の清澄剤を合計で１％まで含有してもよい。
ＳｒＯと同様の効果を得るためにＢａＯを２％まで含有してもよい。
ＴｉＯ₂と同様の効果を得るためにＳｎＯ₂を２％まで含有してもよい。
Ｙ₂Ｏ₃と同様の効果、すなわち、ヤング率を高くし、また耐候性を高くする等の効果を得るためにＴａ₂Ｏ₅、Ｎｂ₂Ｏ₅、ＣｅＯ₂等の希土類金属酸化物を合計で３％まで含有してもよい。
ガラスの溶解性や安定性を向上させるために、Ｂ₂Ｏ₃、Ｐ₂Ｏ₅、Ｖ₂Ｏ₅等を合計で３％まで含有してもよい。
【００３４】
なお、Ｔ_Lをより低下させたい場合は、Ｓｃ₂Ｏ₃、Ｙ₂Ｏ₃、Ｌａ₂Ｏ₃、Ｐｒ₂Ｏ₃、Ｎｄ₂Ｏ₃、Ｐｍ₂Ｏ₃、Ｓｍ₂Ｏ₃、Ｅｕ₂Ｏ₃、Ｇｄ₂Ｏ₃、Ｔｂ₂Ｏ₃、Ｄｙ₂Ｏ₃、Ｈｏ₂Ｏ₃、Ｅｒ₂Ｏ₃、Ｔｍ₂Ｏ₃、Ｙｂ₂Ｏ₃、Ｌｕ₂Ｏ₃、のいずれも実質的に含有しないようにすることが好ましい。
【００３５】
本発明の情報記録媒体用ガラス基板（以下単に本発明のガラス基板という。）は本発明のガラスからなり、所定の寸法・形状に切断されたガラス板である。
本発明のガラス基板は、１２０℃、２気圧の水蒸気雰囲気に２０時間保持したとき、該ガラス基板表面に存在する、大きさが１０μｍ以上の付着物の数Ｎ_Lが１個／ｃｍ²以下であり、大きさが１μｍ以上１０μｍ未満の付着物の数Ｎ_Sが１０⁵個／ｃｍ²以下であることが好ましい。
【００３６】
Ｎ_Lが１個／ｃｍ²超またはＮ_Sが１０⁵個／ｃｍ²超では、ガラス基板在庫中にガラス基板表面に付着物（白ヤケ）が発生し、ガラス基板上に形成される下地膜、磁性膜、保護膜等の膜がはがれやすくなる。この付着物は、空気中の水分や炭酸ガスの影響によりガラス基板に生成付着した反応生成物であると考えられ、拭いても除去できないものである。Ｎ_Lはより好ましくは０．５個／ｃｍ²以下、特に好ましくは０．２個／ｃｍ²以下である。Ｎ_Sはより好ましくは０．８×１０⁵個／ｃｍ²以下、特に好ましくは０．６×１０⁵個／ｃｍ²以下である。
【００３７】
本発明のガラスおよびガラス基板の製造方法は特に限定されず、各種方法を適用できる。たとえば、通常使用される各成分の原料を目標組成となるように調合し、これをガラス溶融窯で加熱溶融する。バブリング、撹拌、清澄剤の添加等によりガラスを均質化し、周知のフロート法、プレス法、フュージョン法またダウンドロー法などの方法により所定の厚さの板ガラスに成形し、徐冷後必要に応じて研削、研磨などの加工を行った後、所定の寸法・形状のガラス基板とされる。成形法としては、特に、大量生産に適したフロート法が好適である。また、フロート法以外の連続成形法、すなわち、フュージョン法、ダウンドロー法等にも好適である。
本発明のガラスおよびガラス基板は、特に磁気ディスク基板に好適である。
【００３８】
【実施例】
各成分の原料を表のＳｉＯ₂からＬａ₂Ｏ₃までの欄にモル％表示で示した組成となるように調合し、白金るつぼを用いて１４５０〜１５５０℃の温度で３〜５時間溶解した。溶解にあたっては、白金スターラを溶融ガラス中に挿入し、２時間撹拌してガラスを均質化した。次いで溶融ガラスを流し出して板状に成形し、徐冷した。なお、表のＲ₂Ｏ計は、Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂ＯおよびＫ₂Ｏの含有量（単位：モル％）の合計である。
【００３９】
こうして得られたガラス板について、ヤング率Ｅ（単位：ＧＰａ）、ガラス転移点Ｔ_g（単位：℃）、液相温度Ｔ_L（単位：℃）、粘度が１０⁴Ｐとなる温度Ｔ₄（単位：℃）、前記Ｎ_L（単位：個／ｃｍ²）および前記Ｎ_S（単位：１０⁵個／ｃｍ²）を、以下に示す方法により測定した。結果を表に示す。
【００４０】
Ｅ：厚さが１０〜２０ｍｍ、大きさが４ｃｍ×４ｃｍのガラス板について、超音波パルス法により測定した。
Ｔ_g：示差熱膨張計を用いて、石英ガラスを参照試料として室温から５℃／分の割合で昇温した際のガラスの伸び率を、ガラスが軟化してもはや伸びが観測されなくなる温度、すなわち屈伏点まで測定し、得られた熱膨張曲線における屈曲点に相当する温度をガラス転移点とした。
【００４１】
Ｔ_L：ガラスを乳鉢で２ｍｍ程度のガラス粒に粉砕し、このガラス粒を白金ボートに並べて置き、温度傾斜炉中で２４時間熱処理した。結晶が析出しているガラス粒の温度の最高値を液相温度とした。
Ｔ₄：回転粘度計により測定した。
【００４２】
Ｎ_L、Ｎ_S：厚さが１〜２ｍｍ、大きさが４ｃｍ×４ｃｍのガラス板の両面を鏡面研磨し、炭酸カルシウムおよび中性洗剤を用いて洗浄した後、超加速寿命試験器（不飽和型プレッシャークッカーＴＰＣ−４１０、タバイエスペック（株））に入れて１２０℃、２気圧の水蒸気雰囲気に２０時間静置した。取り出したガラス板の表面２００μｍ角の範囲を微分干渉顕微鏡で観察し、大きさが１０μｍ以上の付着物の個数と大きさが１μｍ以上１０μｍ未満の付着物の個数をカウントした。
【００４３】
例１〜１１、１３〜３０、３２〜３８のガラスは実施例、例１２、３１、３９のガラスは参考例、例４０〜４２のガラスは比較例である。例４０は従来ガラスであり、例４１および例４２はＷＯ９９／０６３３３に開示されているガラスである。
【００４４】
【表１】

【００４５】
【表２】

【００４６】
【表３】

【００４７】
【表４】

【００４８】
【表５】

【００４９】
【発明の効果】
本発明によれば、以下のような特長を有する情報記録媒体用ガラス基板を提供できる。
（１）ヤング率が高く、基板のたわみや反りが小さく、基板を薄板化できる。これにより、記憶装置の磁気ディスク搭載枚数を増加できる。
（２）化学強化処理がなくとも耐候性に優れ、在庫中に付着物（白ヤケ）が発生しにくい。したがってこの付着物に起因する、下地膜、磁性膜、保護膜等の膜はがれが起こりにくい。
【００５０】
（３）ガラス転移点が高く、磁性層形成熱処理温度を高くできる。これにより、磁性層の保磁力を増加でき記憶密度を増加できる。
（４）ＡＺＳ系電鋳煉瓦に対する侵食性が小さく、ガラス溶融窯を用いた大量生産ができる。
（５）フロート法、フュージョン法、ダウンドロー法等の連続成形法による成形ができ、高品質のガラス基板を大量生産できる。

Claims (6)

1. モル％表示で実質的に、
   ＳｉＯ₂ ６０〜７２、
   Ａｌ₂Ｏ₃ ２〜９、
   ＭｇＯ ３〜９、
   ＣａＯ ２〜１０、
   ＳｒＯ ０．５〜１５、
   ＺｎＯ ０〜４、
   ＴｉＯ₂ ０〜８、
   ＺｒＯ₂ ０〜４、
   Ｌｉ₂Ｏ １〜１２、
   Ｎａ₂Ｏ ０〜８、
   Ｋ₂Ｏ ０．１〜５、
   Ｙ₂Ｏ₃ ０．２〜５、
   Ｌａ₂Ｏ₃ ０〜５、
   Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ ４〜１５、
   からなり、ＳｉＯ ₂ とＡｌ ₂ Ｏ ₃ の含有量の合計が６６モル％以上であり、ヤング率が８５ＧＰａ以上である情報記録媒体基板用ガラス。
2. モル％表示で実質的に、
   ＳｉＯ ₂ ６０〜７２、
   Ａｌ ₂ Ｏ ₃ ２〜９、
   ＭｇＯ ３〜９、
   ＣａＯ ２〜１０、
   ＳｒＯ ６．９〜１５、
   ＺｎＯ ０〜４、
   ＴｉＯ ₂ ０〜８、
   ＺｒＯ ₂ ０〜４、
   Ｌｉ ₂ Ｏ １〜１２、
   Ｎａ ₂ Ｏ ０〜８、
   Ｋ ₂ Ｏ ０．１〜５、
   Ｙ ₂ Ｏ ₃ ０〜５、
   Ｌａ ₂ Ｏ ₃ ０〜５、
   Ｌｉ ₂ Ｏ＋Ｎａ ₂ Ｏ＋Ｋ ₂ Ｏ ４〜１５、
   からなり、ＳｉＯ₂とＡｌ₂Ｏ₃の含有量の合計が６６モル％以上であり、ヤング率が８５ＧＰａ以上である情報記録媒体基板用ガラス。
3. ガラス転移点が５５０℃以上である請求項１または２に記載の情報記録媒体基板用ガラス。
4. 液相温度をＴ_L（単位：℃）、粘度が１０⁴Ｐとなる温度をＴ₄（単位：℃）として、Ｔ_L−Ｔ₄＜５０である請求項１、２または３に記載の情報記録媒体基板用ガラス。
5. 請求項１、２、３または４に記載の情報記録媒体基板用ガラスからなる情報記録媒体用ガラス基板。
6. 請求項５に記載の情報記録媒体用ガラス基板であって、１２０℃、２気圧の水蒸気雰囲気に２０時間保持した該ガラス基板表面に存在する、大きさが１０μｍ以上の付着物の数が１個／ｃｍ²以下であり、大きさが１μｍ以上１０μｍ未満の付着物の数が１０⁵個／ｃｍ²以下である情報記録媒体用ガラス基板。