JP6084577B2 - Hdd用ガラス基板 - Google Patents
Hdd用ガラス基板 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6084577B2 JP6084577B2 JP2013550225A JP2013550225A JP6084577B2 JP 6084577 B2 JP6084577 B2 JP 6084577B2 JP 2013550225 A JP2013550225 A JP 2013550225A JP 2013550225 A JP2013550225 A JP 2013550225A JP 6084577 B2 JP6084577 B2 JP 6084577B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass substrate
- hdd
- glass
- range
- mol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 100
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 54
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 claims description 34
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 32
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 19
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 18
- 238000003426 chemical strengthening reaction Methods 0.000 description 14
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 14
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 11
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 6
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 5
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910001414 potassium ion Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 3
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- 239000000156 glass melt Substances 0.000 description 2
- 229910001416 lithium ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006249 magnetic particle Substances 0.000 description 2
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 2
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 2
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N sodium nitrate Chemical compound [Na+].[O-][N+]([O-])=O VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 2
- 238000007088 Archimedes method Methods 0.000 description 1
- HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N Lithium ion Chemical compound [Li+] HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 235000010333 potassium nitrate Nutrition 0.000 description 1
- 239000004323 potassium nitrate Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 235000010344 sodium nitrate Nutrition 0.000 description 1
- 239000004317 sodium nitrate Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
- C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
- C03C3/087—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal containing calcium oxide, e.g. common sheet or container glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C21/00—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
- C03C21/001—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions
- C03C21/002—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions to perform ion-exchange between alkali ions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
- C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
- C03C3/093—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium containing zinc or zirconium
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/739—Magnetic recording media substrates
- G11B5/73911—Inorganic substrates
- G11B5/73921—Glass or ceramic substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Description
SiO2:60〜75%
Al2O3:0.1〜6%
B2O3:0〜3%
Li2O:0.1〜5%
Na2O:0.1〜6%
K2O:0.1〜5%
MgO:5〜18%
CaO:0.1〜10%
ZnO:0〜5%
TiO2:0〜5%
ZrO2:0.1〜5%
となる含有範囲を有し、かつ
0.01<(ZrO2+TiO2)/(SiO2+Al2O3+B2O3)<0.15、
0.1<Li2O/(Li2O+Na2O+K2O)<0.8、および
0.3mol%<(Li2O+Na2O+K2O)<15mol%
という条件を満たすガラス組成からなることを特徴とする。
SiO2:63〜72%
Al2O3:1〜5%
B2O3:0〜2%
Li2O:1〜4%
Na2O:1〜5%
K2O:0.1〜4%
MgO:8〜15%
CaO:1〜8%
ZnO:0〜3%
TiO2:0〜3%
ZrO2:1〜4%
となる含有範囲を有し、かつ
0.03<(ZrO2+TiO2)/(SiO2+Al2O3+B2O3)<0.12、
0.2<Li2O/(Li2O+Na2O+K2O)<0.7、および
2.1mol%<(Li2O+Na2O+K2O)<13mol%
という条件を満たすガラス組成からなることが好ましい。
<HDD用ガラス基板>
本発明のHDD用ガラス基板は、mol%(モル%)表示で、
SiO2:60〜75%
Al2O3:0.1〜6%
B2O3:0〜3%
Li2O:0.1〜5%
Na2O:0.1〜6%
K2O:0.1〜5%
MgO:5〜18%
CaO:0.1〜10%
ZnO:0〜5%
TiO2:0〜5%
ZrO2:0.1〜5%
となる含有範囲を有し、かつ
0.01<(ZrO2+TiO2)/(SiO2+Al2O3+B2O3)<0.15、
0.1<Li2O/(Li2O+Na2O+K2O)<0.8、および
0.3mol%<(Li2O+Na2O+K2O)<15mol%
という条件を満たすガラス組成からなることを特徴とする。なお、本発明においては、ガラス組成を示す「%」表示は特に断らない限り「mol%」を示すものとする。また、「ZrO2+TiO2」等のような化学式の加算表記は、そのような化学式で示される成分の合計量を示すものとする。たとえば、「ZrO2+TiO2」とはZrO2とTiO2との合計量を示す。
すなわち、まずHDD用ガラス基板(ディスク)のフラッタリング量は、ディスクの固有振動がドライブ内の気流によって働く力Fの周波数に一致するときに増加する。強制振動の1次元モデルより考察すると、共鳴した時のフラッタリング量Xは、
本発明のガラス組成を構成する各構成成分について以下説明する。
本発明のHDD用ガラス基板は、上記で説明したとおり、mol%表示で、
SiO2:63〜72%
Al2O3:1〜5%
B2O3:0〜2%
Li2O:1〜4%
Na2O:1〜5%
K2O:0.1〜4%
MgO:8〜15%
CaO:1〜8%
ZnO:0〜3%
TiO2:0〜3%
ZrO2:1〜4%
となる含有範囲を有し、かつ
0.03<(ZrO2+TiO2)/(SiO2+Al2O3+B2O3)<0.12、
0.2<Li2O/(Li2O+Na2O+K2O)<0.7、および
2.1mol%<(Li2O+Na2O+K2O)<13mol%
という条件を満たすガラス組成からなることが好ましく、本発明の好適な実施態様とすることができる。
本発明のHDD用ガラス基板の製造方法は、特に限定はなく従来公知の製造方法を用いることができる。たとえば、HDD用ガラス基板を構成するガラス組成の各成分の原料として各々相当する酸化物、炭酸塩、硝酸塩、水酸化物等が使用され、所望の割合に秤量され、粉末で充分に混合して調合原料とされる。
以下の表1および表2に記載のガラス組成となるように、所定量の原料粉末を白金るつぼに秤量して入れ、混合した後、電気炉中で1550℃で溶解した。原料が充分に溶解したのち、白金製の撹拌羽をガラス融液に挿入し、1時間撹拌した。
示差熱測定装置(商品名:「EXSTAR6000」、セイコーインスツルメンツ社製)を用いて、室温〜900℃の温度範囲を10℃/minの昇温速度で、粉末状に調整したガラス試料を加熱し測定することにより、ガラス転移点を測定した。
JIS R 1602ファインセラミックスの弾性試験方法の動的弾性率試験方法に準じて、ヤング率Eを測定した。一方、アルキメデス法により、比重ρを測定した。そして、これらの測定値から、比弾性率E/ρを算出した。
各実施例および各比較例のHDD用ガラス基板に対して、大気中で650℃で1時間の熱処理を施した後、各HDD用ガラス基板に変形が発生しているか否かを確認した。
各実施例および各比較例のHDD用ガラス基板に対して、常法に基づきCo−Crの磁性層を形成することにより磁気記録媒体(磁気ディスク)を作製した。そして、この磁気ディスクをHDDに搭載して15000rpmの高速回転で5分間回転させた場合に、磁気ディスクのたわみにより磁気ヘッドが読み取り信号位置から外れるTMR(Track MisRegistration)による読み取りエラーが発生するか否かを確認した。
Claims (6)
- mol%表示で、
SiO2:60〜75%
Al2O3:0.1〜6%
B2O3:0〜3%
Li2O:0.1〜5%
Na2O:0.1〜6%
K2O:0.1〜5%
MgO:5〜18%
CaO:0.1〜10%
ZnO:0〜5%
TiO2:0〜3%
ZrO2:0.1〜5%
となる含有範囲を有し、かつ
0.01<(ZrO2+TiO2)/(SiO2+Al2O3+B2O3)<0.15、
0.1<Li2O/(Li2O+Na2O+K2O)<0.8、および
0.3mol%<(Li2O+Na2O+K2O)<15mol%
という条件を満たし、かつTg≧650℃であるガラス組成からなる、HDD用ガラス基板。 - 前記HDD用ガラス基板は、熱アシスト記録向けHDD用ガラス基板である、請求項1記載のHDD用ガラス基板。
- mol%表示で、
SiO2:63〜72%
Al2O3:1〜5%
B2O3:0〜2%
Li2O:1〜4%
Na2O:1〜5%
K2O:0.1〜4%
MgO:8〜15%
CaO:1〜8%
ZnO:0〜3%
TiO2:0〜3%
ZrO2:1〜4%
となる含有範囲を有し、かつ
0.03<(ZrO2+TiO2)/(SiO2+Al2O3+B2O3)<0.12、
0.2<Li2O/(Li2O+Na2O+K2O)<0.7、および
2.1mol%<(Li2O+Na2O+K2O)<13mol%
という条件を満たすガラス組成からなる、請求項1または2に記載のHDD用ガラス基板。 - 前記ガラス組成は、BaOを含有しない、請求項1〜3のいずれかに記載のHDD用ガラス基板。
- 前記HDD用ガラス基板の少なくとも端面に圧縮応力が発生している、請求項1〜4のいずれかに記載のHDD用ガラス基板。
- 請求項1〜5のいずれかに記載のHDD用ガラス基板の表面に少なくとも磁性膜を有する、磁気ディスク。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011278407 | 2011-12-20 | ||
JP2011278407 | 2011-12-20 | ||
PCT/JP2012/081901 WO2013094450A1 (ja) | 2011-12-20 | 2012-12-10 | Hdd用ガラス基板 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2013094450A1 JPWO2013094450A1 (ja) | 2015-04-27 |
JP6084577B2 true JP6084577B2 (ja) | 2017-02-22 |
Family
ID=48668344
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013550225A Active JP6084577B2 (ja) | 2011-12-20 | 2012-12-10 | Hdd用ガラス基板 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6084577B2 (ja) |
CN (1) | CN104145305B (ja) |
MY (1) | MY170842A (ja) |
SG (1) | SG11201402808VA (ja) |
WO (1) | WO2013094450A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018053078A1 (en) | 2016-09-16 | 2018-03-22 | Corning Incorporated | High transmission glasses with alkaline earth oxides as a modifier |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4161509B2 (ja) * | 1999-04-13 | 2008-10-08 | 旭硝子株式会社 | 情報記録媒体基板用ガラスおよび情報記録媒体用ガラス基板 |
JP3995902B2 (ja) * | 2001-05-31 | 2007-10-24 | Hoya株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板及びそれを用いた磁気情報記録媒体 |
US20050181218A1 (en) * | 2002-06-03 | 2005-08-18 | Hoya Corporation | Glass substrate for information recording media and information recording medium |
AU2003280597A1 (en) * | 2002-11-07 | 2004-06-07 | Hoya Corporation | Substrate for information recording medium, information recording medium and method for manufacturing same |
JP4716245B2 (ja) * | 2004-11-11 | 2011-07-06 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス基板及びその製造方法 |
JP5068258B2 (ja) * | 2006-06-08 | 2012-11-07 | Hoya株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板および情報記録媒体とそれらの製造方法 |
WO2011096310A1 (ja) * | 2010-02-03 | 2011-08-11 | コニカミノルタオプト株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体 |
MY158338A (en) * | 2010-03-31 | 2016-09-30 | Hoya Corp | Method of manufacturing glass blank for magnetic recording medium glass substrate,method of manufacturing magnetic recording medium glass substrate,and method of manufacturing magnetic recording medium |
JP5528907B2 (ja) * | 2010-05-31 | 2014-06-25 | Hoya株式会社 | 熱アシスト記録媒体用ガラス基板 |
-
2012
- 2012-12-10 CN CN201280061678.XA patent/CN104145305B/zh active Active
- 2012-12-10 JP JP2013550225A patent/JP6084577B2/ja active Active
- 2012-12-10 WO PCT/JP2012/081901 patent/WO2013094450A1/ja active Application Filing
- 2012-12-10 SG SG11201402808VA patent/SG11201402808VA/en unknown
- 2012-12-10 MY MYPI2014701597A patent/MY170842A/en unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
SG11201402808VA (en) | 2014-10-30 |
MY170842A (en) | 2019-09-10 |
WO2013094450A1 (ja) | 2013-06-27 |
CN104145305B (zh) | 2016-11-23 |
CN104145305A (zh) | 2014-11-12 |
JPWO2013094450A1 (ja) | 2015-04-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5952500B2 (ja) | ガラス基板 | |
JP5964921B2 (ja) | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板およびその製造方法、ならびに磁気記録媒体 | |
JP4752966B2 (ja) | データ記憶媒体用ガラス基板の製造方法及びガラス基板 | |
JP6131154B2 (ja) | 磁気記録媒体基板用ガラスおよび磁気記録媒体基板 | |
WO2012001914A1 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板 | |
JP5982500B2 (ja) | Hdd用ガラス基板および情報記録媒体 | |
JP4923556B2 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板 | |
JP4760975B2 (ja) | データ記憶媒体用ガラス基板の製造方法及びガラス基板 | |
JPWO2018088563A1 (ja) | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体および磁気記録再生装置用ガラススペーサ | |
WO2019221102A1 (ja) | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体、磁気記録再生装置用ガラススペーサおよび磁気記録再生装置 | |
JP5700623B2 (ja) | ガラス基板 | |
JP7165655B2 (ja) | 情報記録媒体基板用ガラス、情報記録媒体基板、情報記録媒体および記録再生装置用ガラススペーサ | |
JP5947364B2 (ja) | ガラス基板 | |
JP7383050B2 (ja) | 磁気記録媒体基板用または磁気記録再生装置用ガラススペーサ用のガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体、磁気記録再生装置用ガラススペーサおよび磁気記録再生装置 | |
JP6052936B2 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板、情報記録媒体および情報記録装置 | |
JP6084577B2 (ja) | Hdd用ガラス基板 | |
JP2019032918A (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板 | |
JP4619115B2 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板および情報記録媒体 | |
JPWO2013094451A1 (ja) | ガラス基板 | |
WO2024053741A1 (ja) | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板および磁気記録再生装置 | |
WO2024053056A1 (ja) | 磁気記録媒体基板用または磁気記録再生装置用ガラススペーサ用のガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体、磁気記録再生装置用ガラススペーサおよび磁気記録再生装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20151210 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160621 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160818 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20160913 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161206 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20161216 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170124 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170125 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6084577 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |