WO2013094450A1 - Ｈｄｄ用ガラス基板 - Google Patents

Ｈｄｄ用ガラス基板 Download PDF

Info

Publication number
WO2013094450A1
WO2013094450A1 PCT/JP2012/081901 JP2012081901W WO2013094450A1 WO 2013094450 A1 WO2013094450 A1 WO 2013094450A1 JP 2012081901 W JP2012081901 W JP 2012081901W WO 2013094450 A1 WO2013094450 A1 WO 2013094450A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
glass substrate
hdd
glass
mol
zro
Prior art date
Application number
PCT/JP2012/081901
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
大士 梶田
Original Assignee
コニカミノルタ株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by コニカミノルタ株式会社 filed Critical コニカミノルタ株式会社
Priority to JP2013550225A priority Critical patent/JP6084577B2/ja
Priority to SG11201402808VA priority patent/SG11201402808VA/en
Priority to CN201280061678.XA priority patent/CN104145305B/zh
Publication of WO2013094450A1 publication Critical patent/WO2013094450A1/ja

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
    • C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
    • C03C3/087—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal containing calcium oxide, e.g. common sheet or container glass
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C21/00—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
    • C03C21/001—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions
    • C03C21/002—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions to perform ion-exchange between alkali ions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
    • C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
    • C03C3/093—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium containing zinc or zirconium
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
    • G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
    • G11B5/739—Magnetic recording media substrates
    • G11B5/73911—Inorganic substrates
    • G11B5/73921—Glass or ceramic substrates

Definitions

  • the present invention relates to a glass substrate for HDD (Hard Disk Drive).
  • Patent Document 1 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-015328
  • Patent Document 2 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-314159
  • Patent Document 3 JP-A-10-158028
  • the above glass compositions proposed as having high heat resistance tend to have a high specific gravity and a low specific elastic modulus (E / ⁇ , E: Young's modulus, ⁇ : specific gravity). There is a problem of adversely affecting the fluttering characteristics.
  • the present invention has been made in view of the current situation as described above, and the object of the present invention is to achieve both excellent heat resistance and excellent fluttering characteristics by achieving both high heat resistance and high specific modulus. It is providing the glass substrate for HDD which combines these.
  • the glass substrate for HDD of the present invention is expressed in mol%, SiO 2 : 60 to 75% Al 2 O 3 : 0.1 to 6% B 2 O 3 : 0 to 3% Li 2 O: 0.1 to 5% Na 2 O: 0.1-6% K 2 O: 0.1 to 5% MgO: 5-18% CaO: 0.1 to 10% ZnO: 0-5% TiO 2 : 0 to 5% ZrO 2 : 0.1 to 5% And 0.01 ⁇ (ZrO 2 + TiO 2 ) / (SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 ) ⁇ 0.15, 0.1 ⁇ Li 2 O / (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) ⁇ 0.8 and 0.3 mol% ⁇ (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) ⁇ 15 mol% It is characterized by comprising a glass composition that satisfies the following conditions.
  • the glass substrate for HDD is a glass substrate for HDD for heat-assisted recording.
  • the glass substrate for HDD of this invention is a mol% display, SiO 2 : 63 to 72% Al 2 O 3 : 1 to 5% B 2 O 3 : 0 to 2% Li 2 O: 1 to 4% Na 2 O: 1 to 5% K 2 O: 0.1 to 4% MgO: 8-15% CaO: 1-8% ZnO: 0 to 3% TiO 2 : 0 to 3% ZrO 2 : 1 to 4% And a content range of 0.03 ⁇ (ZrO 2 + TiO 2 ) / (SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 ) ⁇ 0.12.
  • the glass composition preferably does not contain BaO, and the HDD glass substrate is preferably manufactured through a chemical strengthening step.
  • the glass substrate for HDD of the present invention has both the high heat resistance and the high specific elastic modulus by having the above-described configuration, and therefore has both excellent heat resistance and excellent fluttering characteristics. Excellent effect.
  • the glass substrate for HDD of the present invention is expressed in mol% (mol%), SiO 2 : 60 to 75% Al 2 O 3 : 0.1 to 6% B 2 O 3 : 0 to 3% Li 2 O: 0.1 to 5% Na 2 O: 0.1-6% K 2 O: 0.1 to 5% MgO: 5-18% CaO: 0.1 to 10% ZnO: 0-5% TiO 2 : 0 to 5% ZrO 2 : 0.1 to 5% And 0.01 ⁇ (ZrO 2 + TiO 2 ) / (SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 ) ⁇ 0.15, 0.1 ⁇ Li 2 O / (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) ⁇ 0.8 and 0.3 mol% ⁇ (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) ⁇ 15 mol% It is characterized by comprising a glass composition that satis
  • % indicating the glass composition indicates “mol%” unless otherwise specified.
  • An addition notation of a chemical formula such as “ZrO 2 + TiO 2 ” indicates the total amount of components represented by such chemical formula. For example, “ZrO 2 + TiO 2 ” indicates the total amount of ZrO 2 and TiO 2 .
  • the glass substrate for HDD of the present invention has the above-described configuration, thereby exhibiting high heat resistance and high specific elastic modulus, and thus excellent effect of having both excellent heat resistance and excellent fluttering characteristics. Indicates. Such an excellent effect is achieved by the synergistic effects of the components constituting the glass composition described below.
  • the said glass composition is comprised only with the component shown above except the inevitable impurity.
  • the glass composition of the present invention is characterized by not containing BaO. When BaO is contained, the heat resistance is greatly lowered and the specific elastic modulus is also lowered, and thus fluttering characteristics are also deteriorated.
  • the fluttering characteristic and the specific elastic modulus have the following relationship. That is, the amount of fluttering of the HDD glass substrate (disk) first increases when the natural vibration of the disk matches the frequency of the force F acting by the airflow in the drive. Considering from the one-dimensional model of forced vibration, the fluttering amount X when resonating is
  • the fluttering amount X of the disk can be reduced when the specific modulus E / ⁇ is higher.
  • excellent fluttering characteristics means that the amount of fluttering is reduced.
  • the glass substrate for HDD of the present invention exhibiting the above characteristics is particularly suitable as a glass substrate for HDD for heat-assisted recording.
  • Thermally assisted recording performs information recording while locally heating a magnetic recording medium.
  • the use of the above-described Fe—Pt magnetic material is required to realize high-density recording. This is because the glass substrate is required to have particularly high heat resistance.
  • the HDD glass substrate of the present invention preferably has a disk-like shape, which makes it suitable for being assembled into an HDD.
  • the size is not particularly limited.
  • a small-diameter disk of 3.5 inches, 2.5 inches, 1.8 inches, or less can be used.
  • the thickness may be as thin as 2 mm, 1 mm, 0.8 mm, 0.635 mm, or less.
  • SiO 2 constituting the glass composition of the present invention is an important component for forming a glass network structure.
  • such SiO 2 is 60 to 75% (the expression of such a numerical range in the present invention means that the lower limit value and the upper limit value are included in the range. Therefore, “60 to 75”. % "Indicates" 60% or more and 75% or less ").
  • SiO 2 is less than 60%, glass formation becomes difficult and chemical durability may be deteriorated. Conversely, if it exceeds 75%, the melting temperature becomes too high.
  • a more preferable content range of SiO 2 is 63 to 72%.
  • Al 2 O 3 is an important component for forming a network structure together with SiO 2 and has a function of improving not only heat resistance but also ion exchange performance. If the content of Al 2 O 3 is less than 0.1%, chemical durability and ion exchange performance may be deteriorated. On the other hand, if it exceeds 6%, the ion exchange performance is lowered, and the liquidus temperature and the melting temperature are further increased, so that the moldability is lowered. For this reason, the content range (content) of Al 2 O 3 in the glass composition must be 0.1 to 6%. Among these, the range is preferably 1 to 5%.
  • B 2 O 3 is an important component that forms a network structure together with SiO 2 , and has a function of lowering the melting temperature, so is contained as necessary. If the content exceeds 3%, Tg (glass transition point), which is an index of heat resistance, is lowered. For this reason, in order to have high Tg and excellent heat resistance, it is necessary that the content range of B 2 O 3 be 0 to 3%. Among these, the range is preferably 0 to 2%.
  • Li 2 O has a function of improving the Young's modulus and thus the specific gravity because of its low specific gravity, and is a component necessary for performing chemical strengthening treatment by ion exchange.
  • the chemical strengthening treatment Li + ions in the glass composition are ion-exchanged with Na + ions or K + ions in the chemical strengthening treatment liquid, thereby strengthening the glass substrate.
  • the content of Li 2 O is less than 0.1%, the effect of improving the Young's modulus cannot be sufficiently obtained, and the ion exchange performance is further deteriorated. Conversely, if it exceeds 5%, Tg will decrease. Therefore, the content range of Li 2 O needs to be 0.1 to 5%. Among these, the range of 1 to 4% is preferable.
  • Na 2 O is a component necessary for performing chemical strengthening treatment by ion exchange.
  • the glass substrate is strengthened by ion exchange of Na + ions in the glass composition with K + ions in the chemical strengthening treatment solution.
  • the content of Na 2 O is less than 0.1%, this ion exchange performance is lowered, and the meltability and devitrification resistance are deteriorated. Conversely, when it exceeds 6%, chemical durability will fall. Therefore, the content range of Na 2 O must be 0.1 to 6%. Among these, the range is preferably 1 to 5%.
  • K 2 O has an effect of improving the meltability. If the content of K 2 O is less than 0.1%, the effect of improving the meltability cannot be obtained. Conversely, if the content of K 2 O exceeds 5%, the Tg decreases and the Young's modulus also decreases. Therefore, the K 2 O content range is set to a range of 0.1 to 5%. Among these, the range is preferably 0.1 to 4%.
  • the total amount of Li 2 O, Na 2 O and K 2 O (Li 2 O + Na 2 O + K 2 O) needs to be in a range exceeding 0.3 mol% and less than 15 mol%. . If the total amount is 0.3% or less, sufficient melting property improvement effect cannot be obtained, and the alkali mixing effect cannot be obtained, so that chemical durability is also lowered. On the other hand, if the total amount is 15% or more, Tg decreases and sufficient heat resistance cannot be obtained. More preferably, it is in a range exceeding 2.1% and less than 13%.
  • MgO has the effect of increasing Young's modulus and improving meltability. If the content of MgO is less than 5%, the effect of increasing Young's modulus and the effect of improving meltability cannot be obtained. Conversely, if the content exceeds 18%, the glass structure becomes unstable and the devitrification resistance deteriorates. Resulting in. Therefore, the MgO content range is set to a range of 5 to 18%. Among these, the range of 8 to 15% is preferable.
  • the CaO has the effect of increasing the linear thermal expansion coefficient and Young's modulus and improving the meltability. If the CaO content is less than 0.1%, the effect of increasing the linear thermal expansion coefficient and Young's modulus cannot be obtained sufficiently. Conversely, if the CaO content exceeds 10%, the glass structure becomes unstable and the devitrification resistance is reduced. It will get worse. Therefore, the CaO content range is set to a range of 0.1 to 10%. Among these, the range is preferably 1 to 8%.
  • the ZnO has the effect of increasing the Young's modulus and improving the meltability, so it is contained as necessary.
  • the content of ZnO exceeds 5%, the glass structure becomes unstable, and the devitrification resistance is deteriorated. Therefore, the ZnO content range is set to 0 to 5%. Among these, the range is preferably 0 to 3%.
  • TiO 2 has the effect of softening the high temperature viscosity and increasing the rigidity, and is contained as necessary. However, when the content of TiO 2 exceeds 5%, the devitrification resistance is deteriorated. Therefore, the content range of TiO 2 is set to 0 to 5%. Among these, the range is preferably 0 to 3%.
  • ZrO 2 has the effect of improving the heat resistance and the Young's modulus. If the content of ZrO 2 is less than 0.1%, the effect of improving the heat resistance and the effect of improving the Young's modulus cannot be sufficiently obtained, and if it exceeds 5%, the devitrification resistance is deteriorated. Therefore, the content of ZrO 2 is set in the range of 0.1 to 5%. Among these, the range of 1 to 4% is preferable.
  • the ratio of the total amount of ZrO 2 and TiO 2 to the total amount of SiO 2 , Al 2 O 3 and B 2 O 3 ((ZrO 2 + TiO 2 ) / (SiO 2 + Al 2 It is important to set O 3 + B 2 O 3 )) in a range exceeding 0.01 and less than 0.15.
  • This ratio indicates the ratio of the component that improves the rigidity and heat resistance of the glass to the skeletal component of the glass. If this ratio is 0.01 or less, sufficient rigidity and heat resistance cannot be obtained. On the other hand, if this ratio is 0.15 or more, the specific gravity becomes too large, the specific elastic modulus is lowered, and the glass structure is destabilized, resulting in a decrease in chemical durability and fracture toughness.
  • This ratio is more preferably in a range exceeding 0.03 and less than 0.12.
  • This ratio is the ratio of Li 2 O to the total amount of alkali components. If this ratio is 0.1 or less, sufficient specific elastic modulus cannot be obtained. If this ratio is 0.8 or more, sufficient heat resistance cannot be obtained. This ratio is more preferably in a range exceeding 0.2 and less than 0.7.
  • the glass composition of the present invention has a specific range of the content range of each component and a specific range of the content ratio of the specific component. It is characterized by improving the properties and specific elastic modulus in a balanced manner. Therefore, the glass composition of the present invention can exhibit characteristics such that Tg is 650 ° C. or higher and specific modulus is 32.0 GPa ⁇ cm 3 / g or higher. Therefore, the glass substrate for HDD comprised with the glass composition of this invention will show the outstanding heat resistance and the outstanding fluttering characteristic.
  • the glass substrate for HDD of the present invention is expressed in mol%, SiO 2 : 63 to 72% Al 2 O 3 : 1 to 5% B 2 O 3 : 0 to 2% Li 2 O: 1 to 4% Na 2 O: 1 to 5% K 2 O: 0.1 to 4% MgO: 8-15% CaO: 1-8% ZnO: 0 to 3% TiO 2 : 0 to 3% ZrO 2 : 1 to 4% And a content range of 0.03 ⁇ (ZrO 2 + TiO 2 ) / (SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 ) ⁇ 0.12.
  • the manufacturing method of the glass substrate for HDD of this invention does not have limitation in particular, A conventionally well-known manufacturing method can be used.
  • the corresponding oxides, carbonates, nitrates, hydroxides, etc. are used as raw materials for each component of the glass composition constituting the glass substrate for HDD, weighed to a desired ratio, and mixed well with powder. It is considered as a blended raw material.
  • this prepared raw material is put into, for example, a platinum crucible in an electric furnace heated to 1300 to 1550 ° C., melted and refined, stirred and homogenized, cast into a preheated mold, and gradually cooled to glass It is considered as a block.
  • slow cooling is performed to remove strain.
  • the obtained glass block is sliced into a disk shape, and is cut out using a core drill with concentric inner and outer circumferences.
  • the molten glass is press-molded and formed into a disk shape.
  • the disk-shaped glass substrate thus obtained is further subjected to rough polishing and precision polishing on both sides, and then washed with at least one liquid of water, acid, and alkali to obtain a final glass substrate for HDD. It is said.
  • the surface of the glass substrate is chemically strengthened by being immersed in a mixed solution of potassium nitrate (50 wt%) and sodium nitrate (50 wt%). be able to.
  • chemical strengthening may be performed before rough polishing or precision polishing, and then the ion exchange layer may be removed in any polishing process (although in this case, the ion exchange layer still remains on the end face).
  • the operation of immersing a glass substrate (precursor) in a solution containing an alkali is generally called a chemical strengthening step, and alkali metal ions such as lithium ions and sodium ions contained in the glass substrate precursor are further reduced in ionic radius.
  • This is an ion exchange step of substituting with alkali metal ions such as large potassium ions. Due to the strain caused by the difference in ion radius, compressive stress is generated around the ion-exchanged region, and the surface of the glass substrate precursor is strengthened in that region.
  • Examples of such a chemical strengthening treatment liquid include a solution containing nitrate as described above.
  • the glass substrate for HDD of the present invention is preferably manufactured through such a chemical strengthening process.
  • the chemical strengthening process is performed before and after the rough polishing and the precision polishing process, but in which stage of the manufacturing process the chemical strengthening process is not particularly limited.
  • the ion exchange layer formed by the chemical strengthening step as described above may remain on the final glass substrate or may be removed. When the ion exchange layer remains, the composition of the layer may be different from the glass composition of the present invention, but the glass composition of the present invention is based on a portion other than the ion exchange layer.
  • the glass substrate for HDD of the present invention is manufactured by the manufacturing method as described above, and then a magnetic layer (magnetic film) as a recording layer is formed to be an information recording medium (magnetic recording medium).
  • This information recording medium can be used by being incorporated in an HDD.
  • Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 7 A predetermined amount of raw material powder was weighed into a platinum crucible and mixed so as to have the glass composition described in Table 1 and Table 2 below, and then melted at 1550 ° C. in an electric furnace. After the raw materials were sufficiently dissolved, a platinum stirring blade was inserted into the glass melt and stirred for 1 hour.
  • the stirring blade was taken out and allowed to stand for 30 minutes, and then the glass melt was poured into a jig to obtain a glass block. Thereafter, the glass block was held near the glass transition point (Tg) of each glass for 2 hours, and then slowly cooled to remove strain.
  • Tg glass transition point
  • the glass block obtained in this way was sliced into a 2.5-inch disk shape having a thickness of about 1.5 mm, and the inner and outer circumferences were concentrically cut out using a cutter. Then, rough polishing and precision polishing were performed on both surfaces, followed by washing to prepare HDD glass substrates for HDDs of Examples and Comparative Examples. In addition, the glass substrate for HDD of a comparative example does not have the glass composition of this invention.
  • Tg Glass transition point
  • EXSTAR6000 manufactured by Seiko Instruments Inc.
  • Magnetic disk Magnetic disk
  • TMR Track MisRegistration
  • the glass substrate for HDD of each example showed superior results in both the heat resistance test and the drive test as compared with the glass substrate for HDD of each comparative example. Therefore, it was confirmed that the glass substrate for HDD of the present invention has both excellent heat resistance and excellent fluttering characteristics.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

　本発明のＨＤＤ用ガラス基板は、ｍｏｌ％表示で、ＳｉＯ2：６０～７５％、Ａｌ2Ｏ3：０．１～６％、Ｂ2Ｏ3：０～３％、Ｌｉ2Ｏ：０．１～５％、Ｎａ2Ｏ：０．１～６％、Ｋ2Ｏ：０．１～５％、ＭｇＯ：５～１８％、ＣａＯ：０．１～１０％、ＺｎＯ：０～５％、ＴｉＯ2：０～５％、ＺｒＯ2：０．１～５％となる含有範囲を有し、かつ ０．０１＜（ＺｒＯ2＋ＴｉＯ2）／（ＳｉＯ2＋Ａｌ2Ｏ3＋Ｂ2Ｏ3）＜０．１５、 ０．１＜Ｌｉ2Ｏ／（Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ）＜０．８、および ０．３ｍｏｌ％＜（Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ）＜１５ｍｏｌ％ という条件を満たすガラス組成からなることを特徴とする。

Description

ＨＤＤ用ガラス基板
　本発明は、ＨＤＤ（ハードディスクドライブ）用ガラス基板に関する。
　近年、ＨＤＤの記憶容量が飛躍的に増大することに伴い、１ビットに費やす媒体の記録面積を小さくしていくことが必要不可欠となっている。また、それに比例させて記録用の磁性粒子サイズも微細化しなければならないのだが、微細化により記録した磁化の向きを一方向に保つエネルギーが小さくなり、熱エネルギーの影響を受けやすくなるという問題がある。
　そこで、磁化の向きを安定化させるために磁性粒子を磁気異方性エネルギーの高いＦｅ－Ｐｔ系磁性材料に変える必要がある。しかしながら、このＦｅ－Ｐｔ系磁性材料は記録媒体を形成するための製造工程における成膜時において高温熱処理を施すことが必要不可欠とされている。
　このため、この磁性材料を保持するためのガラス基板においても、高い耐熱性が要求される。一般に、高い耐熱性を有するガラス基板としては、種々のガラス組成のものが提案されている（特開２００５－０１５３２８号公報（特許文献１）、特開２００５－３１４１５９号公報（特許文献２）、特開平１０－１５８０２８号公報（特許文献３））。
特開２００５－０１５３２８号公報 特開２００５－３１４１５９号公報 特開平１０－１５８０２８号公報
　高い耐熱性を有するとして提案される上記のようなガラス組成は、いずれも高比重となって比弾性率（Ｅ／ρ、Ｅ：ヤング率、ρ：比重）が低くなる傾向があり、ＨＤＤのフラッタリング特性に悪影響を及ぼすという問題がある。
　本発明は、上記のような現状に鑑みなされたものであって、その目的とするところは、高い耐熱性と高い比弾性率とを両立させることにより、優れた耐熱性と優れたフラッタリング特性とを兼備したＨＤＤ用ガラス基板を提供することにある。
　本発明のＨＤＤ用ガラス基板は、ｍｏｌ％表示で、
ＳｉＯ2：６０～７５％
Ａｌ2Ｏ3：０．１～６％
Ｂ2Ｏ3：０～３％
Ｌｉ2Ｏ：０．１～５％
Ｎａ2Ｏ：０．１～６％
Ｋ2Ｏ：０．１～５％
ＭｇＯ：５～１８％
ＣａＯ：０．１～１０％
ＺｎＯ：０～５％
ＴｉＯ2：０～５％
ＺｒＯ2：０．１～５％
となる含有範囲を有し、かつ
０．０１＜（ＺｒＯ2＋ＴｉＯ2）／（ＳｉＯ2＋Ａｌ2Ｏ3＋Ｂ2Ｏ3）＜０．１５、
０．１＜Ｌｉ2Ｏ／（Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ）＜０．８、および
０．３ｍｏｌ％＜（Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ）＜１５ｍｏｌ％
という条件を満たすガラス組成からなることを特徴とする。
　ここで、上記ＨＤＤ用ガラス基板は、熱アシスト記録向けＨＤＤ用ガラス基板であることが好ましい。
　また、本発明のＨＤＤ用ガラス基板は、ｍｏｌ％表示で、
ＳｉＯ2：６３～７２％
Ａｌ2Ｏ3：１～５％
Ｂ2Ｏ3：０～２％
Ｌｉ2Ｏ：１～４％
Ｎａ2Ｏ：１～５％
Ｋ2Ｏ：０．１～４％
ＭｇＯ：８～１５％
ＣａＯ：１～８％
ＺｎＯ：０～３％
ＴｉＯ2：０～３％
ＺｒＯ2：１～４％
となる含有範囲を有し、かつ
０．０３＜（ＺｒＯ2＋ＴｉＯ2）／（ＳｉＯ2＋Ａｌ2Ｏ3＋Ｂ2Ｏ3）＜０．１２、
０．２＜Ｌｉ2Ｏ／（Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ）＜０．７、および
２．１ｍｏｌ％＜（Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ）＜１３ｍｏｌ％
という条件を満たすガラス組成からなることが好ましい。
　また、上記ガラス組成は、ＢａＯを含有しないことが好ましく、上記ＨＤＤ用ガラス基板は、化学強化工程を経て製造されることが好ましい。
　本発明のＨＤＤ用ガラス基板は、上記のような構成を有することにより、高い耐熱性と高い比弾性率とを両立し、以って優れた耐熱性と優れたフラッタリング特性とを兼備するという優れた効果を示す。
　以下、本発明に係る実施の形態について、さらに詳細に説明する。
　＜ＨＤＤ用ガラス基板＞
　本発明のＨＤＤ用ガラス基板は、ｍｏｌ％（モル％）表示で、
ＳｉＯ2：６０～７５％
Ａｌ2Ｏ3：０．１～６％
Ｂ2Ｏ3：０～３％
Ｌｉ2Ｏ：０．１～５％
Ｎａ2Ｏ：０．１～６％
Ｋ2Ｏ：０．１～５％
ＭｇＯ：５～１８％
ＣａＯ：０．１～１０％
ＺｎＯ：０～５％
ＴｉＯ2：０～５％
ＺｒＯ2：０．１～５％
となる含有範囲を有し、かつ
０．０１＜（ＺｒＯ2＋ＴｉＯ2）／（ＳｉＯ2＋Ａｌ2Ｏ3＋Ｂ2Ｏ3）＜０．１５、
０．１＜Ｌｉ2Ｏ／（Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ）＜０．８、および
０．３ｍｏｌ％＜（Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ）＜１５ｍｏｌ％
という条件を満たすガラス組成からなることを特徴とする。なお、本発明においては、ガラス組成を示す「％」表示は特に断らない限り「ｍｏｌ％」を示すものとする。また、「ＺｒＯ2＋ＴｉＯ2」等のような化学式の加算表記は、そのような化学式で示される成分の合計量を示すものとする。たとえば、「ＺｒＯ2＋ＴｉＯ2」とはＺｒＯ2とＴｉＯ2との合計量を示す。
　本発明のＨＤＤ用ガラス基板は、上記の構成を有することにより、高い耐熱性と高い比弾性率とを示し、以って優れた耐熱性と優れたフラッタリング特性とを兼備するという優れた効果を示す。このような優れた効果は、当該ガラス組成を構成する各成分の以下に説明する作用が相乗的に奏されることにより達成されるものである。
　なお、当該ガラス組成は、不可避不純物を除き上記に示された成分のみで構成されることが好ましい。この点、本発明のガラス組成は、ＢａＯを含有していないことを特徴の一つとしている。ＢａＯを含有すると耐熱性が大きく低下するとともに、比弾性率の低下をも招き、このためフラッタリング特性をも悪化させるためである。
　なお、フラッタリング特性と比弾性率とは、次のような関係を有する。
　すなわち、まずＨＤＤ用ガラス基板（ディスク）のフラッタリング量は、ディスクの固有振動がドライブ内の気流によって働く力Ｆの周波数に一致するときに増加する。強制振動の１次元モデルより考察すると、共鳴した時のフラッタリング量Ｘは、
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
で表わされる。さらに固有振動数ωnは比弾性率の１／２乗に比例するのが一般的に知られており、下記の式で表わされる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000002
　よって、比弾性率Ｅ／ρが高い方がディスクのフラッタリング量Ｘを低減できることがわかる。なお、フラッタリング特性に優れるとは、このフラッタリング量が小さくなることをいう。
　上記のような特性を示す本発明のＨＤＤ用ガラス基板は、特に熱アシスト記録向けＨＤＤ用ガラス基板として好適である。熱アシスト記録は、磁気記録媒体を局所的に加熱しながら情報記録を行なうものであるが、特に高密度記録を実現するために上記のようなＦｅ－Ｐｔ系磁性材料の使用が要求されることから、ガラス基板に対しても特に高い耐熱性が要求されるためである。
　なお、本発明のＨＤＤ用ガラス基板は、円盤状の形状を有することが好ましく、これによりＨＤＤに組み付けられるのに適したものとなる。なお、円盤状の形状とする場合、その大きさは特に限定されず、たとえば、３．５インチ、２．５インチ、１．８インチ、あるいはそれ以下の小径ディスクとすることもでき、またその厚みは２ｍｍ、１ｍｍ、０．８ｍｍ、０．６３５ｍｍ、あるいはそれ以下といった薄型とすることもできる。
　＜ガラス組成＞
　本発明のガラス組成を構成する各構成成分について以下説明する。
　本発明のガラス組成を構成するＳｉＯ2は、ガラスの網目構造を形成する重要な成分である。本発明のガラス組成では、このようなＳｉＯ2を６０～７５％（本発明におけるこのような数値範囲の表記は下限値および上限値がその範囲に含まれることを意味する。よって「６０～７５％」とは「６０％以上７５％以下」を示す）の範囲で含有する。
　ＳｉＯ2の含有量が６０％未満ではガラス形成が困難となり、化学的耐久性が悪化する恐れがある。逆に７５％を超えると溶融温度が高くなりすぎてしまう。ＳｉＯ2のより好ましい含有範囲は、６３～７２％である。
　Ａｌ2Ｏ3は、ＳｉＯ2と共に網目構造を形成する重要な成分であり、耐熱性を向上させるだけではなく、イオン交換性能を向上させる働きを有している。Ａｌ2Ｏ3の含有量が０．１％未満では、化学的耐久性やイオン交換性能が低下する恐れがある。逆に６％を超えると、イオン交換性能が低下し、更に液相温度と溶融温度の上昇を招き成形性が低下してしまう。このためＡｌ2Ｏ3のガラス組成中における含有範囲（含有量）は０．１～６％の範囲とすることが必要である。その中でも好ましくは１～５％の範囲である。
　Ｂ2Ｏ3は、ＳｉＯ2と共に網目構造を形成する重要な成分であり、溶融温度を低下させる働きを有しているので必要に応じて含有させる。その含有量が３％を超えると、耐熱性の指標となるＴｇ（ガラス転移点）が低下してしまう。このため、高いＴｇを有し優れた耐熱性を具備するためにはＢ2Ｏ3の含有範囲は０～３％の範囲とすることが必要である。その中でも好ましくは０～２％の範囲である。
　Ｌｉ2Ｏは、ヤング率を向上させ、以って比重も低いため比弾性率を向上させる作用を有し、更にイオン交換による化学強化処理を施すために必要な成分である。化学強化処理においては、ガラス組成中のＬｉ+イオンが、化学強化処理液中のＮａ+イオンやＫ+イオンとイオン交換されることによってガラス基板が強化される。Ｌｉ2Ｏの含有量が０．１％より少ないと、ヤング率を向上させる効果が十分に得られず、更にイオン交換性能が低下してしまう。逆に５％を超えると、Ｔｇが低下してしまう。そのため、Ｌｉ2Ｏの含有範囲は０．１～５％の範囲とすることが必要である。その中でも好ましくは１～４％の範囲である。
　Ｎａ2Ｏは、イオン交換による化学強化処理を施すために必要な成分である。化学強化処理においては、ガラス組成中のＮａ+イオンが、化学強化処理液中のＫ+イオンとイオン交換されることによってガラス基板が強化される。Ｎａ2Ｏの含有量が０．１％より少ないと、このイオン交換性能が低下すると共に、溶融性および耐失透性が悪化する。逆に６％を超えると、化学的耐久性が低下してしまう。そのためＮａ2Ｏの含有範囲は０．１～６％の範囲とすることが必要である。その中でも好ましくは１～５％の範囲である。
　Ｋ2Ｏは、溶融性を改善する効果を持っている。Ｋ2Ｏの含有量が０．１％未満では溶融性を改善する効果が得られず、逆に５％を超えるとＴｇが低下し、ヤング率も低下してしまう。そのためＫ2Ｏの含有範囲は０．１～５％の範囲とした。その中でも好ましくは０．１～４％の範囲である。
　そして、本発明においては、Ｌｉ2ＯとＮａ2ＯとＫ2Ｏとの合計量（Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ）を、０．３ｍｏｌ％を超え１５ｍｏｌ％未満となる範囲とすることを要する。この合計量が０．３％以下であると十分な溶融性の改善効果が得られず、またアルカリ混合効果も得られないため化学的耐久性も低下する。逆に合計量が１５％以上になるとＴｇが低下し十分な耐熱性が得られない。より好ましくは２．１％を超え１３％未満となる範囲である。
　ＭｇＯは、ヤング率を上げると共に溶融性を改善する効果を持っている。ＭｇＯの含有量が５％未満では、ヤング率を上げる効果と溶融性を改善する効果が得られず、逆に含有量が１８％を超えるとガラス構造が不安定となり、耐失透性が悪化してしまう。そのためＭｇＯの含有範囲は５～１８％の範囲とした。その中でも好ましくは８～１５％の範囲である。
　ＣａＯは、線熱膨張係数およびヤング率を上げると共に溶融性を改善する効果を持つ。ＣａＯの含有量が０．１％未満では線熱膨張係数およびヤング率を上げる効果が十分に得られず、逆に含有量が１０％を超えるとガラス構造が不安定となり、耐失透性が悪化してしまう。そのためＣａＯの含有範囲は０．１～１０％の範囲とした。その中でも好ましくは１～８％の範囲である。
　ＺｎＯは、ヤング率を上げると共に溶融性を改善する効果を持つので必要に応じて含有させる。ＺｎＯの含有量が５％を超えるとガラス構造が不安定となり、耐失透性が悪化してしまう。そのためＺｎＯの含有範囲は０～５％の範囲とした。その中でも好ましくは０～３％の範囲である。
　ＴｉＯ2は、高温粘性を軟化させると共に剛性を上げる効果を持つので、必要に応じて含有させる。しかし、ＴｉＯ2の含有量が５％を超えると、耐失透性が悪化してしまう。そのためＴｉＯ2の含有範囲は０～５％の範囲とした。その中でも好ましくは０～３％の範囲である。
　ＺｒＯ2は、耐熱性を向上させると共にヤング率を向上させる効果を持つ。ＺｒＯ2の含有量が０．１％未満では、耐熱性を向上させる効果と、ヤング率を向上させる効果が十分に得られず、５％を超えると、耐失透性が悪化してしまう。そのため、ＺｒＯ2の含有量は０．１～５％の範囲とした。その中でも好ましくは１～４％の範囲である。
　そして、本発明においては、ＺｒＯ2とＴｉＯ2との合計量と、ＳｉＯ2とＡｌ2Ｏ3とＢ2Ｏ3との合計量との比（（ＺｒＯ2＋ＴｉＯ2）／（ＳｉＯ2＋Ａｌ2Ｏ3＋Ｂ2Ｏ3））を０．０１を超え０．１５未満となる範囲とすることが重要である。この比は、ガラスの骨格成分に対するガラスの剛性と耐熱性を向上させる成分の比を示し、この比が０．０１以下であると、十分な剛性と耐熱性が得られなくなる。また、この比が０．１５以上であると比重が大きくなり過ぎ、比弾性率が低下するとともにガラス構造が不安定化して化学的耐久性や破壊靭性の低下を招く。この比は、より好ましくは０．０３を超え０．１２未満となる範囲である。
　さらに本発明においては、Ｌｉ2ＯとＮａ2ＯとＫ2Ｏとの合計量に対するＬｉ2Ｏの比（Ｌｉ2Ｏ／（Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ））を、０．１を超え０．８未満となる範囲とすることを要する。この比は、アルカリ成分の合計量に対するＬｉ2Ｏの比であり、この比が０．１以下であると、十分な比弾性率が得られない。またこの比が０．８以上であると十分な耐熱性が得られない。この比は、より好ましくは０．２を超え０．７未満となる範囲である。
　上記の各構成成分の説明から明らかなように、本発明のガラス組成は、各構成成分の含有範囲を特定の範囲としかつそのうちの特定の構成成分の含有比率を特定範囲としたことにより、耐熱性と比弾性率とをバランスよく向上させたことを特徴とするものである。したがって、本発明のガラス組成は、Ｔｇが６５０℃以上となり、比弾性率が３２．０ＧＰａ・ｃｍ3／ｇ以上となる特性を示すことができる。したがって、本発明のガラス組成で構成されるＨＤＤ用ガラス基板は、優れた耐熱性と優れたフラッタリング特性を示したものとなる。
　＜好適な組成＞
　本発明のＨＤＤ用ガラス基板は、上記で説明したとおり、ｍｏｌ％表示で、
ＳｉＯ2：６３～７２％
Ａｌ2Ｏ3：１～５％
Ｂ2Ｏ3：０～２％
Ｌｉ2Ｏ：１～４％
Ｎａ2Ｏ：１～５％
Ｋ2Ｏ：０．１～４％
ＭｇＯ：８～１５％
ＣａＯ：１～８％
ＺｎＯ：０～３％
ＴｉＯ2：０～３％
ＺｒＯ2：１～４％
となる含有範囲を有し、かつ
０．０３＜（ＺｒＯ2＋ＴｉＯ2）／（ＳｉＯ2＋Ａｌ2Ｏ3＋Ｂ2Ｏ3）＜０．１２、
０．２＜Ｌｉ2Ｏ／（Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ）＜０．７、および
２．１ｍｏｌ％＜（Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ）＜１３ｍｏｌ％
という条件を満たすガラス組成からなることが好ましく、本発明の好適な実施態様とすることができる。
　＜製造方法＞
　本発明のＨＤＤ用ガラス基板の製造方法は、特に限定はなく従来公知の製造方法を用いることができる。たとえば、ＨＤＤ用ガラス基板を構成するガラス組成の各成分の原料として各々相当する酸化物、炭酸塩、硝酸塩、水酸化物等が使用され、所望の割合に秤量され、粉末で充分に混合して調合原料とされる。
　そして、この調合原料が、たとえば１３００～１５５０℃に加熱された電気炉中の白金坩堝等に投入され、溶融清澄後、撹拌均質化して予め加熱された鋳型に鋳込まれ、徐冷してガラスブロックとされる。次に、ガラス転移点付近の温度で１～３時間保持された後に、徐冷して歪み取りが行なわれる。
　続いて、この得られたガラスブロックは、円盤形状にスライスされて、内周および外周を同心円としてコアドリルを用いて切り出される。あるいは、溶融ガラスをプレス成形して円盤状に成形される。そして、このようにして得られた円盤状のガラス基板は、さらにその両面を粗研磨および精密研磨された後、水、酸、アルカリの少なくとも１つの液で洗浄されて最終的なＨＤＤ用ガラス基板とされる。
　なお、上記過程において、両面に対し粗研磨および精密研磨を行なった後に、硝酸カリウム（５０ｗｔ％）と硝酸ナトリウム（５０ｗｔ％）との混合溶液に浸漬させることによりガラス基板の表面に対し化学強化を行なうことができる。あるいは、粗研磨または精密研磨の前に化学強化を行ない、その後、いずれかの研磨過程においてイオン交換層を除去してもよい（しかし、この場合でも端面には引続きイオン交換層は残存する）。
　このようにアルカリを含む溶液にガラス基板（前駆体）を浸漬する操作は、一般に化学強化工程と呼ばれ、ガラス基板前駆体に含まれるリチウムイオンやナトリウムイオン等のアルカリ金属イオンをそれよりイオン半径の大きなカリウムイオン等のアルカリ金属イオンに置換するイオン交換工程である。イオン半径の違いによって生じる歪みにより、イオン交換された領域を中心に圧縮応力が発生し、その領域においてガラス基板前駆体の表面が強化される。このような化学強化処理液としては、たとえば、上記のような硝酸塩を含む溶液が挙げられる。
　本発明のＨＤＤ用ガラス基板は、このような化学強化工程を経て製造されるものであることが好ましい。なお、上記の説明では、化学強化工程は粗研磨および精密研磨工程と前後して行なわれているが、製造工程のいずれの段階において化学強化工程を行なうかは特に限定されない。また、上記のように化学強化工程により形成されるイオン交換層は、最終のガラス基板に残存するものであっても良いし、除去されていても良い。イオン交換層が残存する場合、該層の組成は本発明のガラス組成とは異なる場合が生じ得るが、本発明のガラス組成はイオン交換層以外の部分を基準とするものとする。
　なお、本発明のＨＤＤ用ガラス基板は、上記のような製造方法により製造された後、記録層としての磁性層（磁性膜）が形成され、情報記録媒体（磁気記録媒体）とされる。この情報記録媒体は、ＨＤＤに組み込んで使用することができる。
　以下、実施例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
　＜実施例１～１０および比較例１～７＞
　以下の表１および表２に記載のガラス組成となるように、所定量の原料粉末を白金るつぼに秤量して入れ、混合した後、電気炉中で１５５０℃で溶解した。原料が充分に溶解したのち、白金製の撹拌羽をガラス融液に挿入し、１時間撹拌した。
　その後、撹拌羽を取り出し、３０分間静置した後、治具にそのガラス融液を流しこむことによってガラスブロックを得た。その後、各ガラスのガラス転移点（Ｔｇ）付近でガラスブロックを２時間保持した後、徐冷して歪取りを行なった。
　次に、このようにして得られたガラスブロックを厚み約１.５ｍｍの２．５インチの円盤形状にスライスし、内周、外周を同心円としてカッターを用いて切り出した。そして、両面に対し粗研磨および精密研磨を行ない、その後洗浄を行なうことにより実施例および比較例のＨＤＤ用ガラス基板を作製した。なお、比較例のＨＤＤ用ガラス基板は、本発明のガラス組成を有さないものである。
　このようにして作製したＨＤＤ用ガラス基板について下記物性評価を行なうとともに、以下の試験（耐熱テストおよびドライブテスト）を行なった。これらの結果を以下の表１および表２に示す。
　＜ガラス転移点（Ｔｇ）＞
　示差熱測定装置（商品名：「EXSTAR6000」、セイコーインスツルメンツ社製）を用いて、室温～９００℃の温度範囲を１０℃／ｍｉｎの昇温速度で、粉末状に調整したガラス試料を加熱し測定することにより、ガラス転移点を測定した。
　＜比弾性率（Ｅ／ρ）＞
　ＪＩＳ　Ｒ　１６０２ファインセラミックスの弾性試験方法の動的弾性率試験方法に準じて、ヤング率Ｅを測定した。一方、アルキメデス法により、比重ρを測定した。そして、これらの測定値から、比弾性率Ｅ／ρを算出した。
　＜耐熱テスト＞
　各実施例および各比較例のＨＤＤ用ガラス基板に対して、大気中で６５０℃で１時間の熱処理を施した後、各ＨＤＤ用ガラス基板に変形が発生しているか否かを確認した。
　変形発生の有無の確認は、白色光干渉式表面形状測定機（商品名：「Optiflat」、Phase　Shift　Technology社製)を用いてガラス基板の平坦度を測定することにより行なった。そして、平坦度が５μｍ以下の場合を「Ａ」、５μｍを超え５０μｍ未満の場合を「Ｂ」、５０μｍ以上の場合を「Ｃ」として評価した。平坦度の数値が小さいものほど平坦であることを示しており、耐熱性に優れていることを示す。
　なお、本テストで採用した熱処理の条件は、磁気異方性エネルギーの高いＦｅ－Ｐｔ系磁性材料を成膜する条件を想定したものである。
　＜ドライブテスト＞
　各実施例および各比較例のＨＤＤ用ガラス基板に対して、常法に基づきＣｏ－Ｃｒの磁性層を形成することにより磁気記録媒体（磁気ディスク）を作製した。そして、この磁気ディスクをＨＤＤに搭載して１５０００ｒｐｍの高速回転で５分間回転させた場合に、磁気ディスクのたわみにより磁気ヘッドが読み取り信号位置から外れるＴＭＲ(Track　MisRegistration)による読み取りエラーが発生するか否かを確認した。
　そして、エラーが発生しなかったものを「Ａ」、エラーが１回以上５回未満発生したものを「Ｂ」、エラーが５回以上発生したものを「Ｃ」として評価した。エラーが発生しないものほど、フラッタリング特性に優れていることを示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
　なお、表２中、比較例６の耐熱テストおよびドライブテスト等の項が空欄となっているのは、ガラス組成中に占めるＡｌ2Ｏ3の含有量が高いため、溶融温度が高くなり溶融時の粘度が上昇することからガラス基板を成形できず、以って各テストを実施できなかったことを示す。
　表１および表２より明らかなように、各実施例のＨＤＤ用ガラス基板は、各比較例のＨＤＤ用ガラス基板に比し、耐熱テストおよびドライブテストの両者で優れた結果を示した。よって、本発明のＨＤＤ用ガラス基板が優れた耐熱性と優れたフラッタリング特性とを兼備していることが確認できた。
　以上のように本発明の実施の形態および実施例について説明を行なったが、上述の各実施の形態および実施例の構成を適宜組み合わせることも当初から予定している。
　今回開示された実施の形態および実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。

Claims (5)

  1. 　ｍｏｌ％表示で、
    ＳｉＯ2：６０～７５％
    Ａｌ2Ｏ3：０．１～６％
    Ｂ2Ｏ3：０～３％
    Ｌｉ2Ｏ：０．１～５％
    Ｎａ2Ｏ：０．１～６％
    Ｋ2Ｏ：０．１～５％
    ＭｇＯ：５～１８％
    ＣａＯ：０．１～１０％
    ＺｎＯ：０～５％
    ＴｉＯ2：０～５％
    ＺｒＯ2：０．１～５％
    となる含有範囲を有し、かつ
    ０．０１＜（ＺｒＯ2＋ＴｉＯ2）／（ＳｉＯ2＋Ａｌ2Ｏ3＋Ｂ2Ｏ3）＜０．１５、
    ０．１＜Ｌｉ2Ｏ／（Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ）＜０．８、および
    ０．３ｍｏｌ％＜（Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ）＜１５ｍｏｌ％
    という条件を満たすガラス組成からなるＨＤＤ用ガラス基板。
  2. 　前記ＨＤＤ用ガラス基板は、熱アシスト記録向けＨＤＤ用ガラス基板である、請求項１記載のＨＤＤ用ガラス基板。
  3. 　ｍｏｌ％表示で、
    ＳｉＯ2：６３～７２％
    Ａｌ2Ｏ3：１～５％
    Ｂ2Ｏ3：０～２％
    Ｌｉ2Ｏ：１～４％
    Ｎａ2Ｏ：１～５％
    Ｋ2Ｏ：０．１～４％
    ＭｇＯ：８～１５％
    ＣａＯ：１～８％
    ＺｎＯ：０～３％
    ＴｉＯ2：０～３％
    ＺｒＯ2：１～４％
    となる含有範囲を有し、かつ
    ０．０３＜（ＺｒＯ2＋ＴｉＯ2）／（ＳｉＯ2＋Ａｌ2Ｏ3＋Ｂ2Ｏ3）＜０．１２、
    ０．２＜Ｌｉ2Ｏ／（Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ）＜０．７、および
    ２．１ｍｏｌ％＜（Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ）＜１３ｍｏｌ％
    という条件を満たすガラス組成からなる、請求項１または２に記載のＨＤＤ用ガラス基板。
  4. 　前記ガラス組成は、ＢａＯを含有しない、請求項１～３のいずれかに記載のＨＤＤ用ガラス基板。
  5. 　前記ＨＤＤ用ガラス基板は、化学強化工程を経て製造される、請求項１～４のいずれかに記載のＨＤＤ用ガラス基板。
PCT/JP2012/081901 2011-12-20 2012-12-10 Ｈｄｄ用ガラス基板 WO2013094450A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013550225A JP6084577B2 (ja) 2011-12-20 2012-12-10 Ｈｄｄ用ガラス基板
SG11201402808VA SG11201402808VA (en) 2011-12-20 2012-12-10 Hdd glass substrate
CN201280061678.XA CN104145305B (zh) 2011-12-20 2012-12-10 Hdd用玻璃基板

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011278407 2011-12-20
JP2011-278407 2011-12-20

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2013094450A1 true WO2013094450A1 (ja) 2013-06-27

Family

ID=48668344

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2012/081901 WO2013094450A1 (ja) 2011-12-20 2012-12-10 Ｈｄｄ用ガラス基板

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP6084577B2 (ja)
CN (1) CN104145305B (ja)
MY (1) MY170842A (ja)
SG (1) SG11201402808VA (ja)
WO (1) WO2013094450A1 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018053078A1 (en) * 2016-09-16 2018-03-22 Corning Incorporated High transmission glasses with alkaline earth oxides as a modifier

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002358626A (ja) * 2001-05-31 2002-12-13 Hoya Corp 情報記録媒体用ガラス基板及びそれを用いた磁気情報記録媒体
WO2007142324A1 (ja) * 2006-06-08 2007-12-13 Hoya Corporation 情報記録媒体用基板に供するためのガラス、情報記録媒体用基板および情報記録媒体とそれらの製造方法
WO2011096310A1 (ja) * 2010-02-03 2011-08-11 コニカミノルタオプト株式会社 情報記録媒体用ガラス基板、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体
WO2011125477A1 (ja) * 2010-03-31 2011-10-13 Hoya株式会社 磁気記録媒体ガラス基板用ガラスブランクの製造方法、磁気記録媒体ガラス基板の製造方法および磁気記録媒体の製造方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4161509B2 (ja) * 1999-04-13 2008-10-08 旭硝子株式会社 情報記録媒体基板用ガラスおよび情報記録媒体用ガラス基板
US20050181218A1 (en) * 2002-06-03 2005-08-18 Hoya Corporation Glass substrate for information recording media and information recording medium
JPWO2004041740A1 (ja) * 2002-11-07 2006-03-09 Hoya株式会社 情報記録媒体用基板ならびに情報記録媒体およびその製造方法
JP4716245B2 (ja) * 2004-11-11 2011-07-06 日本電気硝子株式会社 ガラス基板及びその製造方法
JP5528907B2 (ja) * 2010-05-31 2014-06-25 Ｈｏｙａ株式会社 熱アシスト記録媒体用ガラス基板

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002358626A (ja) * 2001-05-31 2002-12-13 Hoya Corp 情報記録媒体用ガラス基板及びそれを用いた磁気情報記録媒体
WO2007142324A1 (ja) * 2006-06-08 2007-12-13 Hoya Corporation 情報記録媒体用基板に供するためのガラス、情報記録媒体用基板および情報記録媒体とそれらの製造方法
WO2011096310A1 (ja) * 2010-02-03 2011-08-11 コニカミノルタオプト株式会社 情報記録媒体用ガラス基板、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体
WO2011125477A1 (ja) * 2010-03-31 2011-10-13 Hoya株式会社 磁気記録媒体ガラス基板用ガラスブランクの製造方法、磁気記録媒体ガラス基板の製造方法および磁気記録媒体の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2013094450A1 (ja) 2015-04-27
CN104145305A (zh) 2014-11-12
SG11201402808VA (en) 2014-10-30
JP6084577B2 (ja) 2017-02-22
CN104145305B (zh) 2016-11-23
MY170842A (en) 2019-09-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5952500B2 (ja) ガラス基板
JP5964921B2 (ja) 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板およびその製造方法、ならびに磁気記録媒体
JP4815002B2 (ja) 情報記録媒体用結晶化ガラス基板およびその製造方法
WO2012001914A1 (ja) 情報記録媒体用ガラス基板
WO2015037609A1 (ja) 磁気記録媒体基板用ガラスおよび磁気記録媒体基板
JP2024069356A (ja) 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体および磁気記録再生装置用ガラススペーサ
JP4923556B2 (ja) 情報記録媒体用ガラス基板
WO2014097623A1 (ja) Ｈｄｄ用ガラス基板
JP4774466B1 (ja) 情報記録媒体用結晶化ガラス基板およびその製造方法
WO2019221102A1 (ja) 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体、磁気記録再生装置用ガラススペーサおよび磁気記録再生装置
JP2011251854A (ja) ガラス基板
JP7165655B2 (ja) 情報記録媒体基板用ガラス、情報記録媒体基板、情報記録媒体および記録再生装置用ガラススペーサ
WO2013146256A1 (ja) 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体用ガラス基板およびその利用
JP5947364B2 (ja) ガラス基板
JP2023166439A (ja) 磁気記録媒体基板用または磁気記録再生装置用ガラススペーサ用のガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体、磁気記録再生装置用ガラススペーサおよび磁気記録再生装置
JP6052936B2 (ja) 情報記録媒体用ガラス基板、情報記録媒体および情報記録装置
JP6084577B2 (ja) Ｈｄｄ用ガラス基板
JP2019032918A (ja) 磁気記録媒体用ガラス基板
JPWO2003102927A1 (ja) 情報記録媒体用ガラス基板および情報記録媒体
JP7488416B2 (ja) 磁気記録媒体基板用または磁気記録再生装置用ガラススペーサ用のガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体、磁気記録再生装置用ガラススペーサおよび磁気記録再生装置
WO2013094451A1 (ja) ガラス基板
WO2024053741A1 (ja) 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板および磁気記録再生装置
WO2024053056A1 (ja) 磁気記録媒体基板用または磁気記録再生装置用ガラススペーサ用のガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体、磁気記録再生装置用ガラススペーサおよび磁気記録再生装置

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 12860642

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2013550225

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 12860642

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1