JP6467366B2 - 磁気テープ - Google Patents

Description

本発明は、磁気テープに関する。

磁気記録媒体にはテープ状のものとディスク状のものがあり、データバックアップ等のデータストレージ用途には、テープ状の磁気記録媒体、即ち磁気テープが主に用いられている。磁気テープへの情報の記録および再生は、通常、磁気テープをドライブ内で走行させ、磁気テープの磁性層表面を磁気ヘッド（以下、単に「ヘッド」とも記載する。）と接触させ摺動させることにより行われる。

磁気記録分野では、電磁変換特性の向上が常に求められている。この点に関し、例えば特許文献１には、磁性層の表面平滑性を高めることにより、電磁変換特性に優れる磁気記録媒体が得られることが記載されている（例えば特許文献１の段落００２０、０１７８参照）。

特開２０１０−４９７３１号公報

特許文献１にも記載されているように、磁性層の表面平滑性を高めることによって電磁変換特性を向上することができる。これは、磁性層表面を平滑にすることにより、磁性層表面とヘッドとの間の間隔（スペーシング）を狭めることができるためである。
ただし、磁気テープの走行中、磁性層表面とヘッドとが摺動すると、磁性層表面の一部が削れること等により異物が発生し、ヘッドに付着することがある。異物が付着した状態で磁性層表面とヘッドとの摺動が繰り返されると、磁性層表面とヘッドとの間の間隔が異物の影響を受け、出力が変動することがある。このような出力変動は、スペーシングロスと呼ばれ、磁性層表面とヘッドとの摺動を繰り返すうちに電磁変換特性が低下する原因となる。その結果、磁性層の表面平滑性を高めることにより走行初期には優れた電磁変換特性を発揮できたとしても、走行を繰り返すと電磁変換特性が低下する現象が発生してしまう。

上記の現象に対する対策として、従来より、ヘッドに付着した異物を除去する機能を磁性層表面に持たせるために、磁性層に研磨剤を含有させることが行われてきた（例えば特許文献１の段落００８６等参照；特許文献１には、「研磨材」と記載されている。）。以下において、磁性層表面がヘッドに付着した異物を除去する機能を、「磁性層表面の磨耗性」または単に「磨耗性」と記載する。研磨剤により磁性層表面に磨耗性を持たせることによって、磁気テープは、磁性層表面とヘッドとの摺動を繰り返しても優れた電磁変換特性を発揮することが可能となる。

一方、データストレージ用途に用いられる磁気テープは、様々な環境において使用されることが想定されており、低湿下（例えば相対湿度１０〜３０％程度）で使用されることも多い。したがって、磁気テープは、低湿下で磨耗性を維持できることが望ましい。しかるに、本発明者らの検討の結果、磁性層の表面平滑性を高めた磁気テープでは、磁性層表面の磨耗性が、低湿下で走行を繰り返すうちに低下してしまう現象が発生することが明らかとなった。

そこで本発明の目的は、磁性層の表面平滑性が高く、かつ低湿下での繰り返し走行における磁性層表面の磨耗性の低下が抑制された磁気テープを提供することにある。

本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、以下の磁気テープ：
非磁性支持体上に強磁性粉末、研磨剤および結合剤を含む磁性層を有する磁気テープであって、
磁性層の表面において測定される中心線平均表面粗さＲａは、１．８ｎｍ以下であり、
磁性層の表面において測定される１−ブロモナフタレンに対する接触角は、４５．０〜６０．０°の範囲であり、かつ
磁性層の表面の素地部分において測定される摩擦係数は、０．３５以下である磁気テープ、
を見出すに至った。即ち、かかる磁気テープは、磁性層の表面平滑性が高い（詳しくは、中心線平均表面粗さＲａが１．８ｎｍ以下）にもかかわらず、低湿下での繰り返し走行における磁性層表面の磨耗性の低下を抑制できることが明らかとなった。

本発明および本明細書において、磁気テープの磁性層表面において測定される中心線平均表面粗さＲａ（以下、「磁性層表面Ｒａ」とも記載する。）とは、原子間力顕微鏡（Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ；ＡＦＭ）により面積４０μｍ×４０μｍの領域で測定される値とする。測定条件の一例としては、下記の測定条件を挙げることができる。後述の実施例に示す中心線平均表面粗さＲａは、下記測定条件下での測定によって求めた値である。本発明および本明細書において、磁気テープの「磁性層（の）表面」とは、磁気テープの磁性層側表面と同義である。
ＡＦＭ（Ｖｅｅｃｏ社製Ｎａｎｏｓｃｏｐｅ４）で磁気テープの磁性層側の表面の面積４０μｍ×４０μｍの領域を測定する。スキャン速度（探針移動速度）は４０μｍ／秒、分解能は５１２ｐｉｘｅｌ×５１２ｐｉｘｅｌとする。

以下において、１−ブロモナフタレンに対する接触角を、１−ブロモナフタレン接触角とも記載する。また、後述する水に対する接触角は、水接触角とも記載する。１−ブロモナフタレン接触角および水接触角は、液滴法により評価するものとする。具体的には、接触角とは、雰囲気温度２５℃および相対湿度２５％の測定環境において、θ／２法により、あるサンプルについて６回測定を行い得られた値の算術平均をいうものとする。測定条件の具体的態様の一例は、実施例について後述する。

本発明および本明細書における素地部分とは、磁気テープの磁性層表面において、以下の方法により特定される部分をいうものとする。
原子間力顕微鏡（Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ：ＡＦＭ）によって測定された、視野中の凸成分と凹成分の体積が等しくなる面を基準面として定め、その基準面から１５ｎｍ以上の高さの突起を、突起と定義する。そして、かかる突起の数がゼロ個である部分、即ち磁気テープの磁性層表面において基準面から１５ｎｍ以上の高さの突起が検出されない部分を、素地部分と特定する。
また、素地部分において測定される摩擦係数とは、以下の方法により測定される値とする。
素地部分において（測定箇所：磁気テープ長手方向１０μｍ長）、半径１μｍのダイヤモンド製球状圧子を荷重１００μＮおよび速度１μｍ／秒で１回往復させて摩擦力（水平力）および垂直抗力を測定する。ここで測定される摩擦力および垂直抗力は、上記１回の往復中に摩擦力および垂直抗力を常時測定して得られる算術平均である。以上の測定は、例えばＨｙｓｉｔｒｏｎ社ＴＩ−９５０型トライボインデンターにて行うことができる。そして、測定された摩擦力の算術平均および垂直抗力の算術平均から、摩擦係数μ値を算出する。なお摩擦係数は、摩擦力（水平力）Ｆ（単位：ニュートン（Ｎ））と垂直抗力Ｎ（単位：ニュートン（Ｎ））から、次式：Ｆ＝μＮ、により求められる値である。上記の測定および摩擦係数μ値の算出を、磁気テープの磁性層表面で無作為に決定した素地部分の３箇所において行い得られた３つの測定値の算術平均を、素地部分において測定される摩擦係数とする。以下において、素地部分において測定される摩擦係数を、「素地摩擦」ともいう。

一態様では、上記中心線平均表面粗さＲａは、１．２〜１．８ｎｍの範囲である。

一態様では、上記中心線平均表面粗さＲａは、１．２〜１．６ｎｍの範囲である。

一態様では、素地摩擦は、０．１５〜０．３５の範囲である。

一態様では、磁性層の表面において測定される水に対する接触角（水接触角）は、９０．０〜１００．０°の範囲である。

一態様では、磁性層は、脂肪酸、脂肪酸エステルおよび脂肪酸アミドからなる群から選ばれる一種以上の潤滑剤を更に含む。

一態様では、磁性層は、含窒素ポリマーを更に含む。本発明および本明細書において、ポリマーとは、同一または異なる複数の繰り返し単位により構成される重合体であって、ホモポリマーとコポリマーとを包含する意味で用いるものとする。

一態様では、上記含窒素ポリマーは、ポリアルキレンイミン系ポリマーである。

一態様では、上記ポリアルキレンイミン系ポリマーは、ポリアルキレンイミン鎖およびポリエステル鎖を含むポリマーである。

一態様では、上記磁気テープは、非磁性支持体と磁性層との間に、非磁性粉末および結合剤を含む非磁性層を更に有する。

一態様では、上記磁気テープは、非磁性支持体の磁性層を有する側とは反対側に、非磁性粉末および結合剤を含むバックコート層を更に有する。

本発明によれば、磁性層の表面平滑性が高く、かつ低湿下での繰り返し走行における磁性層表面の磨耗性の低下を抑制可能な磁気テープを提供することができる。

本発明の磁気テープは、非磁性支持体上に強磁性粉末、研磨剤および結合剤を含む磁性層を有し、磁性層の表面において測定される中心線平均表面粗さＲａ（磁性層表面Ｒａ）が１．８ｎｍ以下であり、磁性層の表面において測定される１−ブロモナフタレンに対する接触角（１−ブロモナフタレン接触角）が４５．０〜６０．０°の範囲であり、かつ磁性層の表面の素地部分において測定される摩擦係数（素地摩擦）が０．３５以下である磁気テープである。

以下は、本発明を何ら限定するものではないが、上記磁気テープが、磁性層の表面平滑性が高い（磁性層表面Ｒａが１．８ｎｍ以下）にもかかわらず、低湿下で走行を繰り返しても磁性層表面の磨耗性の低下を抑制できる理由を、本発明者らは下記（１）および（２）のように考えている。

（１）磁性層表面の磨耗性の低下は、低湿下で磁性層表面とヘッドとの摺動が繰り返されるうちに、磁性層の表面近傍に存在する研磨剤がヘッドとの接触により削れて磨滅してしまうことが一因となり発生すると考えられる。この研磨剤の磨滅は、磁性層表面とヘッドとの摺動性が低い（円滑に摺動し難い）ほど研磨剤に大きな力がかかり発生しやすくなると推察される。磁性層表面Ｒａが１．８ｎｍ以下の磁性層表面では、これより粗い磁性層表面と比べて、ヘッドとの摺動時に素地部分とヘッドとが接触する確率が高いと考えられる。したがって、摺動性に対して素地摩擦が与える影響が大きいと、本発明者らは考えている。そして、素地摩擦を０．３５以下とすることが、磁性層表面Ｒａが１．８ｎｍ以下の磁性層表面とヘッドとの摺動性を高めることに寄与し、これにより研磨剤の磨滅を抑制することが可能になると、本発明者らは推察している。

（２）加えて、磁性層表面とヘッドとの摺動時に磁性層表面とヘッドとの接触状態が不安定であると、磁性層表面の磨耗性が良好に発揮されないと考えられる。このことも、磁性層表面の磨耗性低下の一因と本発明者らは推察している。
上記の点に関し、本発明者らは検討を重ねる中で、１−ブロモナフタレン接触角に着目するに至った。詳しくは、次の通りである。本発明者らは、磁性層表面とヘッドとの接触状態には磁性層表面とヘッドとの親和性が関与し、この親和性には磁性層表面の表面自由エネルギーが影響すると考え、表面自由エネルギーに関する公知の理論である北崎−畑の理論（三液法）に基づき検討した。三液法によって算出される表面自由エネルギーは、分散成分、水素結合成分および分極成分の和として求められる。ただし、上記磁気テープのような塗布型の磁気テープの磁性層表面で測定される表面自由エネルギーにおいては、磁性層の構成成分の物性に起因して分散成分が支配的であると考えられる。したがって、磁気テープの磁性層表面とヘッドとの親和性には、主に、分散成分が寄与すると推察される。そこで本発明者らは、分散成分の指標に基づき磁性層の表面状態を制御することについて検討を重ねた。その結果、１−ブロモナフタレン接触角を採用した。１−ブロモナフタレンも、表面自由エネルギーの中で分散成分が支配的であることに着目したためである。そして本発明者らは、１−ブロモナフタレン接触角に基づき磁性層表面の表面状態を制御することを更に検討した結果、１−ブロモナフタレン接触角が４５．０〜６０．０°の範囲とすることが、低湿下で走行を繰り返しても磁性層表面の磨耗性の低下を抑制できることに寄与することを見出すに至った。１−ブロモナフタレン接触角が上記範囲の磁性層表面は、ヘッドに対して適度な親和性を有し、これによりヘッドとの摺動時にヘッドと安定に接触できるのではないかと本発明者らは考えている。

以上の知見に基づき、本発明は完成された。ただし、以上は本発明者らの推察を含むものであり、本発明を何ら限定するものではない。

以下、上記磁気テープについて、更に詳細に説明する。

［磁性層表面Ｒａ］
上記磁気テープの磁性層表面において測定される中心線平均表面粗さＲａ（磁性層表面Ｒａ）は、１．８ｎｍ以下である。これにより、上記磁気テープは、優れた電磁変換特性を示すことができる。ただし磁性層表面Ｒａが１．８ｎｍ以下の磁気テープは、何ら対策を施さなければ、低湿下で走行を繰り返すうちに磁性層表面の磨耗性が低下する現象が発生してしまう。これに対し、素地摩擦および１−ブロモナフタレン接触角がそれぞれ上記範囲である上記磁気テープは、磁性層表面Ｒａが１．８ｎｍ以下であるにもかかわらず、低湿下で走行を繰り返しても磁性層表面の磨耗性の低下を抑制することができる。この点に関する本発明者らの推察は、先に記載した通りである。電磁変換特性の更なる向上の観点からは、磁性層表面Ｒａは、１．７ｎｍ以下であることが好ましく、１．６ｎｍ以下であることが更に好ましく、１．５ｎｍ以下であることが一層好ましい。また、磁性層表面Ｒａは、例えば１．２ｎｍ以上であることができる。ただし電磁変換特性向上の観点からは磁性層表面Ｒａが低いほど好ましいため、上記例示した値を下回ってもよい。

磁性層表面Ｒａは、公知の方法により制御することができる。例えば、磁性層に含まれる各種粉末（例えば、強磁性粉末、研磨剤、任意に含まれ得る他の非磁性粉末）のサイズ、磁気テープの製造条件等により磁性層表面Ｒａは変わり得るため、これらを調整することにより、磁性層表面Ｒａが１．８ｎｍ以下の磁気テープを得ることができる。

［素地摩擦］
上記磁気テープの磁性層表面の素地部分において測定される摩擦係数（素地摩擦）は、０．３５以下である。先に記載したように、素地摩擦が０．３５以下であることが、低湿下で走行を繰り返しても磁性層表面の磨耗性の低下を抑制できることに寄与すると、本発明者らは推察している。低湿下での繰り返し走行における磁性層表面の磨耗性の低下をより一層抑制する観点から、素地摩擦は０．３３以下であることが好ましく、０．３０以下であることがより好ましい。また、素地摩擦は、例えば０．１０以上、０．１５以上または０．２０以上であることができる。ただし、低湿下での繰り返し走行における磁性層表面の磨耗性の低下を抑制する観点からは、素地摩擦は低いほど好ましいため、上記例示した値を下回ってもよい。

先に素地摩擦の測定方法に関して、基準面から１５ｎｍ以上の高さの突起を突起と定義した理由は、通常、磁性層表面に存在する突起と認識される突起が、主に基準面から１５ｎｍ以上の高さの突起だからである。かかる突起は、例えば研磨剤等の非磁性粉末により磁性層表面に形成されている。これに対し、本発明者らは、磁性層表面には、かかる突起により形成された凹凸よりも微視的な凹凸が存在すると考えている。そして、この微視的な凹凸の形状制御によって素地摩擦を調整することができると、本発明者らは推察している。この推察に基づき、本発明者らが、素地部分の凹凸の形状を制御すべく平均粒子サイズの異なる二種以上の強磁性粉末を用いて磁性層を形成したところ、素地摩擦を様々な値に制御することが可能であった。したがって、素地摩擦を調整するための手段の１つとしては、強磁性粉末として平均粒子サイズの異なる二種以上の強磁性粉末を用いることが挙げられる。より詳しくは、平均粒子サイズがより大きな強磁性粉末が凸部となることで素地部分に上記の微視的な凹凸を形成することができ、平均粒子サイズがより大きな強磁性粉末の混合比を高めることにより素地部分における凸部の存在率を高めることができる（または逆に混合比を下げることにより素地部分における凸部の存在率を低下させることができる）と、本発明者らは考えている。詳細は更に後述する。
また他の手段として、本発明者らは、素地部分の凹凸の形状を制御すべく、磁性層表面に基準面から１５ｎｍ以上の高さの突起を形成可能な研磨剤等の非磁性粉末に加えて、強磁性粉末より平均粒子サイズの大きな他の非磁性粉末を用いて磁性層を形成したところ、素地摩擦を様々な値に制御することが可能であった。したがって、素地摩擦を調整するための手段の１つとしては、磁性層形成時に上記の他の非磁性粉末を用いることが挙げられる。より詳しくは、上記の他の非磁性粉末が凸部となることで素地部分に上記の微視的な凹凸を形成することができ、かかる非磁性粉末の混合比を高めることにより素地部分における凸部の存在率を高めることができる（または逆に混合比を下げることにより素地部分における凸部の存在率を低下させることができる）と、本発明者らは考えている。詳細は更に後述する。
加えて、上記二種の手段を組み合わせることにより、素地摩擦を調整することも可能である。
ただし上記の調整手段は例示であって、素地摩擦を調整可能な任意の手段によって、０．３５以下の素地摩擦を実現することができ、そのような態様も本発明に包含される。

［１−ブロモナフタレン接触角］
上記磁気テープの磁性層表面において測定される１−ブロモナフタレン接触角は、４５．０〜６０．０°の範囲である。１−ブロモナフタレン接触角は、値が小さいほど磁性層表面とヘッドとの親和性が高く、値が大きいほど磁性層表面とヘッドとの親和性が低いことを意味すると、本発明者らは考えている。そして、４５．０〜６０．０°の範囲の１−ブロモナフタレン接触角を示す磁性層表面は、ヘッドとの摺動時にヘッドに対して適度な親和性を示すことにより安定な接触状態を実現することができ、これにより磁性層表面の磨耗性を良好に発揮することができると推察される。低湿下での繰り返し走行における磁性層表面の磨耗性の低下をより一層抑制する観点から、磁性層表面において測定される１−ブロモナフタレン接触角は、４８．０°以上であることが好ましく、５０．０°以上であることが更に好ましい。同様の観点から、上記１−ブロモナフタレン接触角は、５８．０°以下であることが好ましく、５５．０°以下であることがより好ましい。

磁性層表面において測定される１−ブロモナフタレン接触角は、１−ブロモナフタレン接触角を調整可能な成分（以下、「１−ブロモナフタレン接触角調整成分」ともいう。）を使用し、かかる成分の含有量を調整することによって、制御することができる。例えば、１−ブロモナフタレン接触角調整成分として、１−ブロモナフタレン接触角の値を大きくする作用を奏することができる成分を用いて、この成分の含有量を増量することにより、１−ブロモナフタレン接触角の値を大きくすることができる。

１−ブロモナフタレン接触角調整成分の一例としては、潤滑剤を挙げることができる。更に、詳細を後述するポリマーを挙げることもできる。例えば、潤滑剤および後述のポリマーからなる群から選ばれる一種以上の１−ブロモナフタレン接触角調整成分を用いることにより、表面において測定される１−ブロモナフタレン接触角が４５．０〜６０．０°の範囲の磁性層を形成することができる。一態様では、１−ブロモナフタレン接触角調整成分として、一種以上の潤滑剤を使用し、後述のポリマーを使用せずに磁性層を形成することができる。また、他の一態様では、１−ブロモナフタレン接触角調整成分として、一種以上の後述のポリマーを使用し、潤滑剤を使用せずに磁性層を形成することができる。更に他の一態様では、１−ブロモナフタレン接触角調整成分として、一種以上の潤滑剤と一種以上の後述のポリマーとを併用して磁性層を形成することができる。少なくとも、一種以上の後述のポリマーを使用して磁性層を形成することが好ましい。これは、潤滑剤の使用のみにより１−ブロモナフタレン接触角を上記範囲に制御すると磁性層の潤滑剤含有量が多くなる場合があるためである。磁性層の潤滑剤含有量が多くなると、磁性層表面とヘッドとの摺動時に磁性層表面からヘッドに潤滑剤が転写されて、ヘッドの磁性層表面との接触面の端辺（エッジ）部分に主に付着しやすくなる傾向がある。このようにヘッドに付着した潤滑剤もスペーシングロスをもたらす場合があり得るため、電磁変換特性のより一層の向上の観点からは、ヘッドへの潤滑剤の付着を抑制することが望ましい。そのためには、上記の通り、少なくとも、一種以上の後述のポリマーを使用して磁性層を形成することが好ましい。

［水接触角］
上記点に関し、本発明者らの検討によれば、磁性層表面において測定される水に対する接触角（水接触角）は、磁性層の潤滑剤含有量と相関性を示し、潤滑剤含有量を増量するほど水接触角の値が大きくなる傾向が見られた。磁性層表面において測定される水接触角は、ヘッドへの潤滑剤の付着を抑制する観点から、１００．０°以下であることが好ましく、９９．５°以下であることがより好ましく、９９．０°以下であることが更に好ましい。また、磁性層表面とヘッドとを、より良好な摺動性で摺動させる観点からは、磁性層表面で測定される水接触角は、９０．０°以上であることが好ましく、９３．０°以上であることがより好ましく、９５．０°以上であることが更に好ましい。水接触角は磁性層の潤滑剤含有量によって調整することができる。

［１−ブロモナフタレン接触角調整成分］
１−ブロモナフタレン接触角調整成分とは、磁性層表面において測定される１−ブロモナフタレン接触角を調整可能な成分である。ここで調整可能とは、１−ブロモナフタレン接触角を変化させる作用を奏することができることをいう。かかる作用を奏することは、１−ブロモナフタレン接触角調整成分の有無により、磁性層表面において測定される１−ブロモナフタレン接触角が変化することによって、確認することができる。１−ブロモナフタレン接触角調整成分は、１−ブロモナフタレン接触角の値を大きくする作用を奏することが好ましい。１−ブロモナフタレン接触角調整成分の一態様は潤滑剤であり、他の一態様は詳細を後述するポリマーである。以下、これら成分について、順次説明する。

＜潤滑剤＞
潤滑剤としては、脂肪酸、脂肪酸エステル、脂肪酸アミド等の磁気記録媒体に通常使用される各種潤滑剤を挙げることができる。

例えば、脂肪酸としては、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、ベヘン酸、エルカ酸、エライジン酸等を挙げることができ、ステアリン酸、ミリスチン酸、およびパルミチン酸が好ましく、ステアリン酸がより好ましい。なお脂肪酸は、金属塩等の塩の形態で磁性層に含まれていてもよい。

脂肪酸エステルとしては、上記各種脂肪酸のエステル、例えば、ミリスチン酸ブチル、パルミチン酸ブチル、ステアリン酸ブチル、ネオペンチルグリコールジオレエート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンジステアレート、ソルビタントリステアレート、オレイン酸オレイル、ステアリン酸イソセチル、ステアリン酸イソトリデシル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸イソオクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸ブトキシエチル等を挙げることができる。

脂肪酸アミドとしては、各種脂肪酸のアミド、例えば、ラウリン酸アミド、ミリスチン酸アミド、パルミチン酸アミド、ステアリン酸アミド等を挙げることができる。

脂肪酸含有量は、磁性層形成用組成物において、強磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０〜１０．０質量部であり、好ましくは０．１〜１０．０質量部であり、より好ましくは０．５〜８．０質量部であり、更に好ましくは１．０〜７．０質量部である。脂肪酸として二種以上の異なる脂肪酸を使用する場合、含有量とは、それらの合計含有量をいうものとする。この点は、他の成分についても同様である。即ち、本発明および本明細書では、ある成分は、特記しない限り、一種含まれてもよく二種以上含まれていてもよい。ある成分として二種以上が含まれる場合、この成分の含有量とは、特記しない限り、二種以上の合計含有量をいうものとする。
脂肪酸エステル含有量は、磁性層形成用組成物における脂肪酸エステル含有量として、強磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０．１〜１０．０質量部であり、好ましくは０．５〜８．０質量部であり、より好ましくは１．０〜７．０質量部である。
脂肪酸アミド含有量は、磁性層形成用組成物において、強磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０〜３．０質量部であり、好ましくは０〜２．０質量部であり、より好ましくは０〜１．０質量部である。
また、上記磁気テープが非磁性支持体と磁性層との間に非磁性層を有する場合、非磁性層に潤滑剤が含まれてもよく、含まれなくてもよい。非磁性層に含まれる潤滑剤は、通常、少なくとも一部は磁性層側に移行し磁性層に存在し得る。非磁性層形成用組成物における脂肪酸含有量は、非磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０〜１０．０質量部であり、好ましくは１．０〜１０．０質量部であり、より好ましくは１．０〜７．０質量部である。脂肪酸エステル含有量は、非磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０〜１０．０質量部であり、好ましくは０．１〜８．０質量部である。非磁性層形成用組成物における脂肪酸アミド含有量は、非磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０〜３．０質量部であり、好ましくは０〜１．０質量部である。

脂肪酸と脂肪酸の誘導体の一種以上とを併用することが好ましく、脂肪酸エステルおよび脂肪酸アミドからなる群から選択される一種以上と脂肪酸とを併用することがより好ましく、脂肪酸、脂肪酸エステルおよび脂肪酸アミドを併用することがより好ましい。
脂肪酸と脂肪酸の誘導体（エステル、アミド等）とを併用する場合、脂肪酸誘導体の脂肪酸由来部位は、併用される脂肪酸と同様または類似の構造を有することが好ましい。例えば、一例として、脂肪酸としてステアリン酸を用いる場合には、ステアリン酸ブチル等のステアリン酸エステルおよび／またはステアリン酸アミドを使用することは好ましい。

また、潤滑剤としては、特開２００９−９６７９８号公報段落０１１１に記載されているものを用いることもできる。

磁性層に潤滑剤を含有させることにより、磁性層表面において測定される１−ブロモナフタレン接触角の値は大きくなる傾向がある。ただし先に記載したように、ヘッドへの潤滑剤の付着を抑制する観点からは、１−ブロモナフタレン接触角調整成分として、下記ポリマーを、任意に潤滑剤とともに、磁性層に含有させることが好ましい。

＜含有窒素ポリマー＞
１−ブロモナフタレン接触角調整成分の一態様としては、含窒素ポリマーを挙げることができる。含窒素ポリマーに含まれるポリマー鎖が、磁性層表面において測定される１−ブロモナフタレン接触角を高めることに寄与すると本発明者らは推察している。

含窒素ポリマーとは、構造中に窒素原子を含むポリマーをいい、好ましい含窒素ポリマーとしては、アミン系ポリマーの一種であるポリアルキレンイミン系ポリマー、およびポリアルキレンイミン系ポリマー以外のアミン系ポリマー等を挙げることができる。

また、一態様では、上記含窒素ポリマーは、重量平均分子量が、磁性層に含まれる結合剤の重量平均分子量を超えない範囲にあるポリマーであることが好ましい。例えば、上記含窒素ポリマーの重量平均分子量は、８０，０００以下、６０，０００以下、４０，０００以下、３５，０００以下、３０，０００以下、２０，０００以下、または１０，０００以下であることができる。また、重量平均分子量は、例えば１，０００以上、１，５００以上、２，０００以上、または３，０００以上であることができる。特記しない限り、本発明および本明細書における重量平均分子量とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって、下記測定条件により測定されるポリスチレン換算の値である。
ＧＰＣ装置：ＨＬＣ−８１２０（東ソー社製）
カラム：ＴＳＫ ｇｅｌ Ｍｕｌｔｉｐｏｒｅ ＨＸＬ−Ｍ（東ソー社製、７．８ｍｍＩＤ(Ｉｎｎｅｒ ｄｉａｍｅｔｅｒ)×３０．０ｃｍ）
溶離液：テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）

以下に、好ましいポリアルキレンイミン系ポリマーについて説明する。

＜＜ポリアルキレンイミン系ポリマー＞＞
（ポリアルキレンイミン鎖）
ポリアルキレンイミン系ポリマーとは、ポリアルキレンイミン鎖を１つ以上含むポリマーである。一態様では、ポリアルキレンイミン鎖は、磁性層に含まれる強磁性粉末への吸着部位として機能することができると考えられる。また、ポリアルキレンイミン鎖とは、同一または異なるアルキレンイミン鎖を２つ以上含む重合構造である。含まれるアルキレンイミン鎖としては、下記の式Ａで表されるアルキレンイミン鎖、および式Ｂで表されるアルキレンイミン鎖を挙げることができる。下記式で表されるアルキレンイミン鎖の中で、式Ａで表されるアルキレンイミン鎖は、他のポリマー鎖との結合位置を含み得るものである。また、式Ｂで表されるアルキレンイミン鎖は、他のポリマー鎖と塩架橋基（詳細は後述する。）により結合することができる。また、ポリアルキレンイミン鎖は、直鎖構造のみからなるものであっても、分岐した三級アミン構造を有するものであってもよい。分岐構造を含むものとしては、下記式Ａ中の＊^１において隣接するアルキレンイミン鎖と結合するもの、および下記式Ｂ中の＊^２において隣接するアルキレンイミン鎖と結合するものを挙げることができる。

式Ａ中、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に水素原子またはアルキル基を表し、ａ１は２以上の整数を表し、＊^１は隣接する他のポリマー鎖（例えば隣接するアルキレンイミン鎖、後述するポリエステル鎖）、または水素原子もしくは置換基との結合位置を表す。

式Ｂ中、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立に水素原子またはアルキル基を表し、ａ２は２以上の整数を表す。式Ｂで表されるアルキレンイミン鎖は、アニオン性基を有する他のポリマー鎖と、式Ｂ中のＮ^＋と他のポリマー鎖に含まれるアニオン性基が塩架橋基を形成することにより結合する。

式Ａおよび式Ｂ中の＊、ならびに式Ｂ中の＊^２は、それぞれ独立に、隣接するアルキレンイミン鎖、または水素原子もしくは置換基と結合する位置を表す。

以下、上記式Ａおよび式Ｂについて、更に詳細に説明する。なお、本発明および本明細書において、特記しない限り、記載されている基は置換基を有してもよく無置換であってもよい。ある基が置換基を有する場合、置換基としては、アルキル基（例えば炭素数１〜６のアルキル基）、ヒドロキシル基、アルコキシ基（例えば炭素数１〜６のアルコキシ基）、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子）、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、アシル基、カルボキシル基等を挙げることができる。また、置換基を有する基について「炭素数」とは、置換基を含まない部分の炭素数を意味するものとする。

式Ａ中のＲ^１およびＲ^２、ならびに式Ｂ中のＲ^３およびＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表す。アルキル基としては、例えば、炭素数１〜６のアルキル基を挙げることができ、好ましくは炭素数１〜３のアルキル基であり、より好ましくはメチル基またはエチル基であり、更に好ましくはメチル基である。式Ａ中のＲ^１およびＲ^２の組み合わせとしては、一方が水素原子であって他方がアルキル基である態様、両方が水素原子である態様、両方がアルキル基（同一または異なるアルキル基）である態様があり、好ましくは両方が水素原子である態様である。以上の点は、式Ｂ中のＲ^３およびＲ^４についても、同様である。

アルキレンイミンとして環を構成する炭素数が最小の構造はエチレンイミンであり、エチレンイミンの開環により得られたアルキレンイミン鎖（エチレンイミン鎖）の主鎖の炭素数は２である。したがって、式Ａ中のａ１および式Ｂ中のａ２の下限は２である。即ち、式Ａ中のａ１および式Ｂ中のａ２は、それぞれ独立に、２以上の整数である。式Ａ中のａ１および式Ｂ中のａ２は、それぞれ独立に、例えば１０以下であることができ、６以下であることが好ましく、４以下であることがより好ましく、２または３であることが更に好ましく、２であることが更に一層好ましい。

式Ａで表されるアルキレンイミン鎖および式Ｂで表されるアルキレンイミン鎖と他のポリマー鎖との結合の詳細については、後述する。

上記の各アルキレンイミン鎖は、各式中の＊で表される位置において、隣接するアルキレンイミン鎖、または水素原子もしくは置換基と結合する。置換基としては、例えばアルキル基（例えば炭素数１〜６のアルキル基）等の一価の置換基を例示することができるが、これらに限定されるものではない。また、置換基として、他のポリマー鎖（例えば後述のポリエステル鎖）が結合してもよい。

ポリアルキレンイミン系ポリマーに含まれるポリアルキレンイミン鎖は、好ましくは、数平均分子量が３００以上であり、５００以上であることがより好ましい。また、ポリアルキレンイミン鎖の数平均分子量は、３，０００以下であることが好ましく、２，０００以下であることがより好ましい。ポリアルキレンイミン系ポリマーに含まれるポリアルキレンイミン鎖の数平均分子量とは、特開２０１５−２８８３０号公報段落００２７に記載のように求められる値である。

１−ブロモナフタレン接触角制御の容易性の観点から、ポリアルキレンイミン系ポリマーにおいてポリアルキレンイミン鎖の占める割合（以下、「ポリアルキレンイミン鎖比率」とも記載する。）は、５．０質量％未満であることが好ましく、４．９質量％以下であることがより好ましく、４．８質量％以下であることが更に好ましく、４．５質量％以下であることが一層好ましく、４．０質量％以下であることがより一層好ましく、３．０質量％以下であることが更に一層好ましい。また、同様の観点から、ポリアルキレンイミン鎖比率は、０．２質量％以上であることが好ましく、０．３質量％以上であることがより好ましく、０．５質量％以上であることが更に好ましい。
以上記載したポリアルキレンイミン鎖の占める割合は、例えば、合成時に用いるポリアルキレンイミンとポリエステルとの混合比によって制御することができる。

ポリアルキレンイミン系ポリマーにおいてポリアルキレンイミン鎖の占める割合は、核磁気共鳴（Ｎｕｃｌｅａｒ Ｍａｇｎｅｔｉｃ Ｒｅｓｏｎａｎｃｅ；ＮＭＲ）、より詳しくは、^１Ｈ−ＮＭＲおよび^１３Ｃ−ＮＭＲ、ならびに公知の手法を用いる元素分析によって得られる分析結果から、算出することができる。こうして算出される値は、ポリアルキレンイミン系ポリマーの合成原料の配合比から求められる理論値と同様であるため、配合比から求められる理論値を、ポリアルキレンイミン系ポリマーにおけるポリアルキレンイミン鎖の占める割合（ポリアルキレンイミン鎖比率）として採用することができる。

（ポリエステル鎖）
ポリアルキレンイミン系ポリマーは、以上説明したポリアルキレンイミン鎖とともに、他のポリマー鎖を含むことが好ましい。他のポリマー鎖としては、疎水性のポリマー鎖が好ましく、より好ましくはポリエステル鎖である。ポリエステル鎖は、一態様では、式Ａで表されるアルキレンイミン鎖と、式Ａ中の＊^１において、式Ａに含まれる窒素原子Ｎとカルボニル結合−（Ｃ＝Ｏ）−により結合し、−Ｎ−（Ｃ＝Ｏ）−を形成することができる。また、他の一態様では、式Ｂで表されるアルキレンイミン鎖とポリエステル鎖とが、式Ｂ中の窒素カチオンＮ^＋とポリエステル鎖が有するアニオン性基により塩架橋基を形成することができる。塩架橋基としては、ポリエステル鎖に含まれる酸素アニオンＯ⁻と式Ｂ中のＮ^＋とにより形成されるものを挙げることができるが、これに限定されるものではない。

式Ａで表されるアルキレンイミン鎖と、式Ａに含まれる窒素原子Ｎとカルボニル結合−（Ｃ＝Ｏ）−により結合するポリエステル鎖としては、下記式１で表されるポリエステル鎖を挙げることができる。下記式１で表されるポリエステル鎖は、＊^１で表される結合位置において、アルキレンイミン鎖に含まれる窒素原子とポリエステル鎖に含まれるカルボニル基−（Ｃ＝Ｏ）−とが−Ｎ−（Ｃ＝Ｏ）−を形成することにより、式Ａで表されるアルキレンイミン鎖と結合することができる。

また、式Ｂで表されるアルキレンイミン鎖と、式Ｂ中のＮ^＋とポリエステル鎖に含まれるアニオン性基が塩架橋基を形成することにより結合するポリエステル鎖としては、下記式２で表されるポリエステル鎖を挙げることができる。下記式２で表されるポリエステル鎖は、酸素アニオンＯ⁻により、式Ｂ中のＮ^＋と塩架橋基を形成することができる。

式１中のＬ^１および式２中のＬ^２は、それぞれ独立に二価の連結基を表す。二価の連結基としては、好ましくは炭素数３〜３０のアルキレン基を挙げることができる。なおアルキレン基の炭素数は、アルキレン基が置換基を有する場合には、先に記載したように、置換基を除く部分（主鎖部分）の炭素数をいうものとする。

式１中のｂ１１および式２中のｂ２１は、それぞれ独立に２以上の整数を表し、例えば２００以下の整数である。後述の実施例に示すラクトン繰り返し単位数は、式１中のｂ１１または式２中のｂ２１に相当する。

式１中のｂ１２および式２中のｂ２２は、それぞれ独立に０または１を表す。

式１中のＸ^１および式２中のＸ^２は、それぞれ独立に、水素原子または一価の置換基を表す。一価の置換基としては、アルキル基、ハロアルキル基（例えばフルオロアルキル基等）、アルコキシ基、ポリアルキレンオキシアルキル基およびアリール基からなる群から選択される一価の置換基を挙げることができる。

アルキル基は置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基を有するアルキル基としては、ヒドロキシル基が置換したアルキル基（ヒドロキシアルキル基）、ハロゲン原子が１つ以上置換したアルキル基が好ましい。また、炭素原子と結合する全水素原子がハロゲン原子に置換したアルキル基（ハロアルキル基）も好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等を挙げることができる。アルキル基としては、より好ましくは炭素数１〜３０、更に好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基である。アルキル基は、直鎖状、分岐鎖状および環状のいずれであってもよい。ハロアルキル基についても、同様である。

置換または無置換のアルキル基、ハロアルキル基の具体例については、特開２０１５−２８８３０号公報段落００５２を参照できる。アルコキシ基の具体例については、特開２０１５−２８８３０号公報段落００５３を参照できる。

ポリアルキレンオキシアルキル基とは、Ｒ^１０（ＯＲ^１１）ｎ（Ｏ）ｍ−で表される一価の置換基である。Ｒ^１０はアルキル基を表し、Ｒ^１１はアルキレン基を表し、ｎは２以上の整数を表し、ｍは０または１を表す。
Ｒ^１０で表されるアルキル基については、Ｘ^１、Ｘ^２で表されるアルキル基について記載した通りである。Ｒ^１１で表されるアルキレン基の詳細については、Ｘ^１、Ｘ^２で表されるアルキル基に関する上記の記載を、これらアルキレン基から水素原子を１つ取り去ったアルキレン基に読み替えて（例えば、メチル基はメチレン基に読み替えて）適用することができる。ｎは２以上の整数であり、例えば１０以下、好ましくは５以下の整数である。

アリール基は置換基を有していても縮環していてもよく、より好ましくは炭素数６〜 ２４のアリール基であり、例えばフェニル基、４−メチルフェニル基、４−フェニル安息香酸、３−シアノフェニル基、２−クロロフェニル基、２−ナフチル基等を挙げることができる。

以上記載した式１で表されるポリエステル鎖および式２で表されるポリエステル鎖は、それぞれ、公知のポリエステル合成法により得られたポリエステル由来の構造であることができる。ポリエステル合成法としては、例えば、ラクトンの開環重合を挙げることができる。ラクトンとしては、例えば、特開２０１５−２８８３０号公報段落００５６に記載の各種ラクトンを例示できる。ラクトンとしては、ε−カプロラクトン、ラクチドまたはδ−バレロラクトンが、反応性および／または入手性の観点から好ましい。ただし、これらに限定されるものではなく、開環重合によりポリエステルを得ることができるものであれば、いずれのラクトンであってもよい。

ラクトンの開環重合のための求核試薬については、特開２０１５−２８８３０号公報段落００５７を参照できる。

ただし、上記ポリエステル鎖は、ラクトンの開環重合により得られたポリエステル由来の構造に限定されるものではなく、公知のポリエステル合成法、例えば、多価カルボン酸と多価アルコールとの重縮合、ヒドロキシカルボン酸の重縮合等により得られたポリエステル由来の構造であることもできる。

１−ブロモナフタレン接触角制御の容易性の観点からは、ポリエステル鎖の数平均分子量は、２００以上であることが好ましく、４００以上であることがより好ましく、５００以上であることが更に好ましい。また、同様の観点から、ポリエステル鎖の数平均分子量は、１００，０００以下であることが好ましく、５０，０００以下であることがより好ましい。ポリエステル鎖の数平均分子量とは、特開２０１５−２８８３０号公報段落００５９に記載のように求められる値である。

（ポリアルキレンイミン系ポリマーの重量平均分子量）
ポリアルキレンイミン系ポリマーの平均分子量は、重量平均分子量として、例えば１，０００以上であり、また例えば８０，０００以下である。また、ポリアルキレンイミン系ポリマーの重量平均分子量は、１，５００以上であることが好ましく、２，０００以上であることがより好ましく、３，０００以上であることが更に好ましい。また、一態様では、ポリアルキレンイミン系ポリマーの重量平均分子量は、６０，０００以下であることが好ましく、４０，０００以下であることがより好ましく、３５，０００以下であることが更に好ましく、３４，０００以下であることが一層好ましく、３０，０００以下であることがより一層好ましく、２０，０００以下であることが更に一層好ましく、１０，０００以下であることが更により一層好ましい。
本発明および本明細書において、ポリアルキレンイミン系ポリマーの重量平均分子量とは、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により標準ポリスチレン換算で求められる値をいう。測定条件については、特開２０１５−２８８３０号公報の実施例を参照できる。

（合成方法）
ポリアルキレンイミン系ポリマーの合成方法は、特に限定されるものではない。合成方法の好ましい一態様については、特開２０１５−２８８３０号公報段落００６１〜００６９および同公報の実施例を参照できる。

（他のポリマー鎖）
ポリアルキレンイミン系ポリマーは、ポリマー鎖として、ポリエステル鎖以外のポリマー鎖を有するものであってもよく、ポリエステル鎖とともにポリエステル鎖以外のポリマー鎖を有するものであってもよい。そのようなポリマー鎖も、例えば、ポリエステル鎖の導入について特開２０１５−２８８３０号公報の上記段落に記載されている方法と同様の方法によって、ポリアルキレンイミン系ポリマーに導入することができる。

＜＜他のアミン系ポリマー＞＞
以上説明したポリアルキレンイミン系ポリマーは、アミン系ポリマーの一種である。含窒素ポリマーは、ポリアルキレンイミン系ポリマー以外のアミン系ポリマーであってもよい。また、ポリアルキレンイミン系ポリマーと、他のアミン系ポリマーとを併用してもよい。

アミン系ポリマーとは、ＮＨ_２Ｒで表される第一級アミン、ＮＨＲ_２で表される第二級アミン、およびＮＲ_３で表される第三級アミンからなる群から選ばれるいずれかの構造の１つ以上を有するポリマーをいう。上記において、Ｒはアミン系ポリマーを構成する任意の構造を示し、複数存在するＲは同一であっても異なっていてもよい。

アミン系ポリマーが有するポリマー鎖としては、ポリエステル鎖、ポリアミド鎖、ポリウレタン鎖等の各種ポリマー鎖を挙げることができる。ポリマー鎖の数平均分子量については、先にポリアルキレンイミン系ポリマーのポリエチレン鎖について記載した範囲であることが好ましい。アミン系ポリマーとしては、公知の方法で合成されたものを用いてもよく、市販品を用いてもよい。市販品の具体例としては、例えば、ビックケミージャパン社製ＡＮＴＩ−ＴＥＲＲＡ−Ｕ／Ｕ１００、ＡＮＴＩ−ＴＥＲＲＡ−２０４／２０５、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１０１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１０２、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１０３、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１０６、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１０８、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１０９、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１１０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１１１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１１２、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１１６、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１３０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１４０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１４２、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１４５、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１６１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１６２、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１６３、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１６４、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１６６、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１６０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１６７、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１６８、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１７０ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１７１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１７４、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１８０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１８２、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１８３ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１８４、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１８５、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２０００、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２００１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２０２０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２０５０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２０７０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２０９６、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２１５０、ＢＹＫ−Ｐ１０４、ＢＹＫ−Ｐ１０５、ＢＹＫ−９０７６、ＢＹＫ−９０７７、ＢＹＫ−２２０Ｓ等が挙げられる。ただしアミン系ポリマーは、これらに限定されるものではない。

以上説明した含窒素ポリマーは、磁性層に一種含まれてもよく、二種以上が含まれてもよい。１−ブロモナフタレン接触角制御の容易性の観点からは、磁性層における含窒素ポリマー、好ましくはアミン系ポリマーの含有量は、強磁性粉末１００．０質量部に対して０．５質量部以上とすることが好ましく、１．０質量部以上とすることがより好ましい。また、同様の観点から、磁性層における含窒素ポリマーの含有量は、強磁性粉末１００質量部に対して５０．０質量部以下とすることが好ましく、４０．０質量部以下とすることがより好ましく、３０．０質量部以下とすることが更に好ましく、２０．０質量部以下とすることが一層好ましく、１５．０質量部以下とすることがより一層好ましい。

次に、上記磁気テープの各層および非磁性支持体について、更に詳細に説明する。

［磁性層］
＜強磁性粉末＞
上記の通り、素地摩擦の調整手段の１つとしては、強磁性粉末によって調整することが挙げられる。上記磁気テープの磁性層に含有される強磁性粉末としては、磁気テープの磁性層において強磁性粉末として通常用いられる各種粉末を使用することができる。

強磁性粉末によって調整する具体的態様は、強磁性粉末として平均粒子サイズの異なる二種以上の強磁性粉末を用いて磁性層を形成することである。この場合、二種以上の強磁性粉末の中で、最も多くの割合で用いる強磁性粉末として、平均粒子サイズの小さいものを使用することが、磁気テープの記録密度向上の観点から好ましい。この点から、平均粒子サイズの異なる二種以上の強磁性粉末を磁性層の強磁性粉末として用いる場合には、最も多くの割合で用いる強磁性粉末として、平均粒子サイズが５０ｎｍ以下の強磁性粉末を用いることが好ましい。一方、磁化の安定性の観点からは、最も多くの割合で用いる強磁性粉末の平均粒子サイズは１０ｎｍ以上であることが好ましい。なお平均粒子サイズが異なる二種以上の強磁性粉末を用いずに一種の強磁性粉末を用いる場合には、用いる強磁性粉末の平均粒子サイズは、上記の理由から、５０ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以上であることが好ましい。

これに対し、最も多くの割合で用いる強磁性粉末とともに用いる強磁性粉末は、最も多くの割合で用いる強磁性粉末より平均粒子サイズが大きなものであることが好ましい。平均粒子サイズが大きな強磁性粉末により素地部分に形成される凸部によって、素地摩擦を低減することができると考えられるからである。この点から、最も多くの割合で用いる強磁性粉末の平均粒子サイズと、これとともに用いる強磁性粉末の平均粒子サイズは、「（後者の平均粒子サイズ）−（前者の平均粒子サイズ）」として求められる差が、１０〜８０ｎｍの範囲であることが好ましく、１０〜５０ｎｍの範囲であることがより好ましく、１０〜４０ｎｍの範囲であることが更に好ましく、１２〜３５ｎｍの範囲であることが一層好ましい。なお最も多くの割合で用いる強磁性粉末とともに用いる強磁性粉末として、平均粒子サイズの異なる二種以上の強磁性粉末を用いることも、もちろん可能である。この場合には、最も多くの割合で用いる強磁性粉末の平均粒子サイズに対して、上記二種以上の強磁性粉末の少なくとも一種の平均粒子サイズが上記の差を満たすことが好ましく、より多くの種類の強磁性粉末の平均粒子サイズが上記の差を満たすことが好ましく、すべての強磁性粉末の平均粒子サイズが上記の差を満たすことが更に好ましい。

また、平均粒子サイズの異なる二種以上の強磁性粉末については、素地摩擦の制御の観点から、最も多くの割合で用いる強磁性粉末と、他の強磁性粉末（他の強磁性粉末として平均粒子サイズの異なる二種以上を用いる場合にはそれらの合計）との混合比は、質量基準で、前者：後者＝９０．０：１０．０〜９９．９：０．１の範囲とすることが好ましく、９５．０：５．０〜９９．５：０．５の範囲とすることがより好ましい。

ここで平均粒子サイズの異なる強磁性粉末とは、平均粒子サイズが異なる強磁性粉末ロット全体またはその一部をいう。このように平均粒子サイズの異なる強磁性粉末を用いて形成された磁気テープの磁性層に含まれる強磁性粉末の個数基準または体積基準の粒度分布を、動的光散乱法、レーザー回折法等の公知の測定方法により測定すると、測定により得られる粒度分布曲線に、通常、最も多くの割合で用いた強磁性粉末の平均粒子サイズまたはその近傍に極大ピークを確認することができる。また、各強磁性粉末の平均粒子サイズまたはその近傍にピークを確認することができる場合もある。したがって、例えば平均粒子サイズが１０〜５０ｎｍの強磁性粉末を最も多くの割合で用いて形成された磁気テープの磁性層に含まれる強磁性粉末の粒度分布を測定すると、通常、粒度分布曲線において、粒子サイズ１０〜５０ｎｍの範囲に極大ピークを確認することができる。

なお上記の他の強磁性粉末の一部を、後述する他の非磁性粉末に置き換えてもよい。

本発明および本明細書における強磁性粉末の平均粒子サイズは、透過型電子顕微鏡を用いて、以下の方法により測定する値とする。
強磁性粉末を、透過型電子顕微鏡を用いて撮影倍率１０００００倍で撮影し、総倍率５０００００倍になるように印画紙にプリントして強磁性粉末を構成する粒子の写真を得る。得られた粒子の写真から目的の粒子を選びデジタイザーで粒子の輪郭をトレースし粒子（一次粒子）のサイズを測定する。一次粒子とは、凝集のない独立した粒子をいう。
以上の測定を、無作為に抽出した５００個の粒子について行う。こうして得られた５００個の粒子の粒子サイズの算術平均を、強磁性粉末の平均粒子サイズとする。上記透過型電子顕微鏡としては、例えば日立製透過型電子顕微鏡Ｈ−９０００型を用いることができる。また、粒子サイズの測定は、公知の画像解析ソフト、例えばカールツァイス製画像解析ソフトＫＳ−４００を用いて行うことができる。
本発明および本明細書において、強磁性粉末、およびその他の粉末についての平均粒子サイズとは、特記しない限り、上記方法により求められる平均粒子サイズをいうものとする。後述の実施例に示す平均粒子サイズは、特記しない限り、透過型電子顕微鏡として日立製透過型電子顕微鏡Ｈ−９０００型、画像解析ソフトとしてカールツァイス製画像解析ソフトＫＳ−４００を用いて測定された値である。本発明および本明細書において、粉末とは、複数の粒子の集合を意味する。例えば、強磁性粉末とは、複数の強磁性粒子の集合を意味する。また、複数の粒子の集合とは、集合を構成する粒子が直接接触している態様に限定されず、後述する結合剤および／または添加剤等が、粒子同士の間に介在している態様も包含される。粒子との語を、粉末を表すために用いることもある。

なお、粒子サイズ測定のために磁性層から強磁性粉末等の試料粉末を採取する方法としては、例えば特開２０１１−０４８８７８号公報の段落００１５に記載の方法を採用することができる。

本発明および本明細書において、強磁性粉末等の粉末を構成する粒子のサイズ（以下、「粒子サイズ」と言う）は、上記の粒子写真において観察される粒子の形状が、
（１）針状、紡錘状、柱状（ただし、高さが底面の最大長径より大きい）等の場合は、粒子を構成する長軸の長さ、即ち長軸長で表され、
（２）板状または柱状（ただし、厚さまたは高さが板面または底面の最大長径より小さい）場合は、その板面または底面の最大長径で表され、
（３）球形、多面体状、不特定形等であって、かつ形状から粒子を構成する長軸を特定できない場合は、円相当径で表される。円相当径とは、円投影法で求められるものを言う。

また、粉末の平均針状比は、上記測定において粒子の短軸の長さ、即ち短軸長を測定し、各粒子の（長軸長／短軸長）の値を求め、上記５００個の粒子について得た値の算術平均を指す。ここで、短軸長とは、上記粒子サイズの定義で（１）の場合は、粒子を構成する短軸の長さを、同じく（２）の場合は、厚さまたは高さを各々指し、（３）の場合は、長軸と短軸の区別がないから、（長軸長／短軸長）は、便宜上１とみなす。
そして、粒子の形状が特定の場合、例えば、上記粒子サイズの定義（１）の場合、平均粒子サイズは平均長軸長であり、同定義（２）の場合、平均粒子サイズは平均板径であり、平均板状比とは、（最大長径／厚さまたは高さ）の算術平均である。同定義（３）の場合、平均粒子サイズは、平均直径（平均粒径、平均粒子径ともいう）である。

強磁性粉末の好ましい具体例としては、強磁性六方晶フェライト粉末を挙げることができる。最も多くの割合で用いる強磁性粉末が強磁性六方晶フェライト粉末である場合、その平均粒子サイズ（平均板径）は、高密度記録化と磁化の安定性の観点から、１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることがより好ましい。強磁性六方晶フェライト粉末の詳細については、例えば、特開２０１１−２２５４１７号公報段落００１２〜００３０、特開２０１１−２１６１４９号公報の段落０１３４〜０１３６、特開２０１２−２０４７２６号公報段落００１３〜００３０を参照できる。

強磁性粉末の好ましい具体例としては、強磁性金属粉末を挙げることもできる。最も多くの割合で用いる強磁性粉末が強磁性金属粉末である場合、その平均粒子サイズ（平均長軸長）は、高密度記録化と磁化の安定性の観点から、１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることがより好ましい。強磁性金属粉末の詳細については、例えば特開２０１１−２１６１４９号公報の段落０１３７〜０１４１、特開２００５−２５１３５１号公報段落０００９〜００２３を参照できる。

上記磁気テープは、強磁性粉末として、強磁性六方晶フェライト粉末、強磁性金属粉末の一方のみを含んでもよく、両方を含んでもよく、これらの一方または両方とともに他の種類の強磁性粉末を含んでもよい。

磁性層における強磁性粉末の含有量（充填率）は、好ましくは５０〜９０質量％の範囲であり、より好ましくは６０〜９０質量％の範囲である。磁性層の強磁性粉末以外の成分は、少なくとも結合剤であり、上記磁気テープは更に研磨剤を含み、任意に一種以上の更なる添加剤が含まれ得る。磁性層において強磁性粉末の充填率が高いことは、記録密度向上の観点から好ましい。

＜研磨剤＞
上記磁気テープは、磁性層に研磨剤を含む。研磨剤とは、好ましくはモース硬度８超の非磁性粉末であり、モース硬度９以上の非磁性粉末であることがより好ましい。なおモース硬度の最大値は、ダイヤモンドの１０である。具体的には、アルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）、炭化珪素、ボロンカーバイド（Ｂ_４Ｃ）、ＴｉＣ、酸化セリウム、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２）、ダイヤモンド粉末を挙げることができ、中でもアルミナが好ましい。アルミナは、特開２０１３−１３１２８５号公報段落００１２〜００２２に記載の分散剤（フェノール性ヒドロキシル基を有する芳香族炭化水素化合物）との組み合わせにおいて、特に良好な分散性向上を達成することができる点でも好ましい研磨剤である。アルミナについては、特開２０１３−２２９０９０号公報の段落００２１も参照できる。また、研磨剤の粒子のサイズの指標としては、比表面積を用いることができる。比表面積が大きいほど粒子サイズが小さいことを意味する。比表面積とは、窒素吸着法（ＢＥＴ（Brunauer-Emmett-Teller）１点法とも呼ばれる。）により求められる値であって、一次粒子について測定する値とする。以下において、かかる方法により求められる比表面積を、ＢＥＴ比表面積とも記載する。磁性層の表面平滑性向上の観点からは、ＢＥＴ比表面積が１４ｍ^２／ｇ以上の研磨剤を使用することが好ましい。また、分散性の観点からは、ＢＥＴ比表面積が４０ｍ^２／ｇ以下の研磨剤を用いることが好ましい。磁性層における研磨剤の含有量は、強磁性粉末１００．０質量部に対して１．０〜２０．０質量部であることが好ましく、１．０〜１０．０質量部であることがより好ましい。

＜結合剤、硬化剤＞
上記磁気テープは塗布型の磁気テープであって、磁性層に、強磁性粉末とともに結合剤を含む。結合剤は、一種以上の樹脂を含む。樹脂は、ホモポリマーであってもコポリマー（共重合体）であってもよい。結合剤としては、磁気テープ等の塗布型磁気記録媒体の結合剤として通常使用される各種樹脂を用いることができる。例えば、結合剤としては、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、塩化ビニル樹脂、スチレン、アクリロニトリル、メチルメタクリレート等を共重合したアクリル樹脂、ニトロセルロース等のセルロース樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルキラール樹脂等から単独または複数の樹脂を混合して用いることができる。これらの中で好ましいものはポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、セルロース樹脂、および塩化ビニル樹脂である。これらの樹脂は、任意に設けられる非磁性層およびバックコート層においても結合剤として使用することができる。以上の結合剤については、特開２０１０−２４１１３号公報段落００２８〜００３１を参照できる。結合剤として使用される樹脂の平均分子量は、重量平均分子量として、例えば３０，０００以上、２００，０００以下であることができる。

また、上記結合剤として使用可能な樹脂とともに硬化剤を使用することもできる。硬化剤は、一態様では加熱により硬化反応（架橋反応）が進行する化合物である熱硬化性化合物であることができ、他の一態様では光照射により硬化反応（架橋反応）が進行する光硬化性化合物であることができる。好ましい硬化剤は、熱硬化性化合物であり、ポリイソシアネートが好適である。ポリイソシアネートの詳細については、特開２０１１−２１６１４９号公報段落０１２４〜０１２５を参照できる。硬化剤は、磁性層形成用組成物中に、結合剤１００．０質量部に対して例えば０〜８０．０質量部、磁性層の強度向上の観点からは好ましくは５０．０〜８０．０質量部の量で添加し使用することができる。

＜添加剤＞
磁性層には、強磁性粉末、研磨剤および結合剤が含まれ、必要に応じて一種以上の添加剤が含まれていてもよい。添加剤としては、一例として、上記の硬化剤が挙げられる。なお硬化剤は、磁性層形成工程の中で硬化反応が進行することにより、少なくとも一部は、結合剤等の他の成分と反応（架橋）した状態で磁性層に含まれ得る。また、磁性層に含まれ得る添加剤としては、研磨剤以外の非磁性粉末（例えば無機粉末、カーボンブラック等）、潤滑剤、分散剤、分散助剤、防黴剤、帯電防止剤、酸化防止剤等を挙げることができる。添加剤は、所望の性質に応じて市販品を適宜選択して使用することができる。

添加剤の一例として、摩擦特性制御（摩擦係数低減）のための非磁性粉末（以下、「突起形成剤」と呼ぶ。）を挙げることができる。突起形成剤は、無機物質であっても有機物質であってもよい。一態様では、摩擦特性の均一化の観点からは、突起形成剤の粒度分布は、分布中に複数のピークを有する多分散ではなく、単一ピークを示す単分散であることが好ましい。単分散粒子の入手容易性の点からは、非磁性粉末は無機物質の粉末（無機粉末）であることが好ましい。無機粉末としては、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物の各粉末を挙げることができ、無機酸化物の粉末であることが好ましい。突起形成剤は、より好ましくはコロイド粒子であり、更に好ましくは無機酸化物コロイド粒子である。また、単分散粒子の入手容易性の観点からは、無機酸化物コロイド粒子を構成する無機酸化物は二酸化ケイ素（シリカ）であることが好ましい。無機酸化物コロイド粒子は、コロイダルシリカ（シリカコロイド粒子）であることがより好ましい。本発明および本明細書において、「コロイド粒子」とは、少なくとも、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、トルエンもしくは酢酸エチル、または上記溶媒の二種以上を任意の混合比で含む混合溶媒の少なくとも１つの有機溶媒１００ｍＬあたり１ｇ添加した際に、沈降せず分散しコロイド分散体をもたらすことのできる粒子をいうものとする。また、コロイド粒子については、平均粒子サイズは、特開２０１１−０４８８７８号公報段落００１５に平均粒径の測定方法として記載されている方法により求められる値とする。他の一態様では、突起形成剤は、カーボンブラックであることも好ましい。

突起形成剤の平均粒子サイズは、例えば３０〜３００ｎｍであり、好ましくは４０〜２００ｎｍである。磁性層における突起形成剤の含有量は、好ましくは強磁性粉末１００．０質量部に対して、１．０〜４．０質量部であり、より好ましくは１．５〜３．５質量部である。

更に先に記載したように、素地摩擦を０．３５以下に制御するために、以上説明した非磁性粉末に加えて、他の非磁性粉末を用いることもできる。そのような非磁性粉末は、モース硬度８以下であることが好ましく、非磁性層に通常使用される各種の非磁性粉末を用いることができる。詳細については、非磁性層について後述する通りである。より好ましい非磁性粉末としては、ベンガラを挙げることができる。ベンガラのモース硬度は、約６である。

上記の他の非磁性粉末は、先に記載した、最も多くの割合で用いる強磁性粉末とともに用いる強磁性粉末と同様に、強磁性粉末より平均粒子サイズが大きなものであることが好ましい。上記の他の非磁性粉末により素地部分に形成される凸部によって、素地摩擦を低減することができると考えられるからである。この点から、強磁性粉末の平均粒子サイズと、これとともに用いる上記の他の非磁性粉末の平均粒子サイズは、「（後者の平均粒子サイズ）−（前者の平均粒子サイズ）」として求められる差が、１０〜８０ｎｍの範囲であることが好ましく、１０〜５０ｎｍの範囲であることがより好ましい。なお強磁性粉末として平均粒子サイズの異なる二種以上の強磁性粉末を用いる場合には、上記の他の非磁性粉末の平均粒子サイズとの差を算出する強磁性粉末は、二種以上の強磁性粉末の中で、最も多くの割合で用いる強磁性粉末とする。また、上記の他の非磁性粉末として、平均粒子サイズの異なる二種以上の非磁性粉末を用いることも、もちろん可能である。この場合には、強磁性粉末の平均粒子サイズに対して、上記の他の非磁性粉末の二種以上の少なくとも一種の平均粒子サイズが上記の差を満たすことが好ましく、より多くの種類の非磁性粉末の平均粒子サイズが上記の差を満たすことが好ましく、上記の他の非磁性粉末のすべての平均粒子サイズが上記の差を満たすことが更に好ましい。

また、素地摩擦の制御の観点から、強磁性粉末と、上記の他の非磁性粉末（上記の他の非磁性粉末として平均粒子サイズの異なる二種以上を用いる場合にはそれらの合計）との混合比は、質量基準で、前者：後者＝９０．０：１０．０〜９９．９：０．１の範囲とすることが好ましく、９５．０：５．０〜９９．５：０．５の範囲とすることがより好ましい。

［非磁性層］
次に非磁性層について説明する。上記磁気テープは、非磁性支持体表面に直接磁性層を有していてもよく、非磁性支持体と磁性層との間に、非磁性粉末と結合剤を含む非磁性層を有することもできる。非磁性層に使用される非磁性粉末は、無機物質でも有機物質でもよい。また、カーボンブラック等も使用できる。無機物質としては、例えば金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等が挙げられる。これらの非磁性粉末は、市販品として入手可能であり、公知の方法で製造することもできる。その詳細については、特開２０１１−２１６１４９号公報段落０１４６〜０１５０を参照できる。非磁性層に使用可能なカーボンブラックについては、特開２０１０−２４１１３号公報段落００４０〜００４１も参照できる。非磁性層における非磁性粉末の含有量（充填率）は、好ましくは５０〜９０質量％の範囲であり、より好ましくは６０〜９０質量％の範囲である。

非磁性層の結合剤、添加剤等のその他詳細は、非磁性層に関する公知技術が適用できる。また、例えば、結合剤含有量および種類、添加剤含有量および種類に関しては、磁性層に関する公知技術も適用できる。

なお、上記磁気テープの非磁性層には、非磁性粉末とともに、例えば不純物として、または意図的に、少量の強磁性粉末を含む実質的に非磁性な層も包含されるものとする。ここで実質的に非磁性な層とは、この層の残留磁束密度が１０ｍＴ以下であるか、保磁力が７．９６ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下であるか、または、残留磁束密度が１０ｍＴ以下であり、かつ保磁力が７．９６ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下である層をいうものとする。非磁性層は、残留磁束密度および保磁力を持たないことが好ましい

［非磁性支持体］
次に、非磁性支持体について説明する。非磁性支持体としては、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポリアミドイミド、芳香族ポリアミド等の公知のものが挙げられる。これらの中でもポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、およびポリアミドが好ましい。これらの支持体はあらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理等を行ってもよい。

［非磁性支持体の厚み、各層の厚み］
非磁性支持体の厚みは、好ましくは３．００〜２０．００μｍ、より好ましくは３．００〜１０．００μｍ、更に好ましくは３．００〜６．００μｍであり、特に好ましくは３．００〜４．５０μｍである。

磁性層の厚みは、用いる磁気ヘッドの飽和磁化量、ヘッドギャップ長、記録信号の帯域等に基づき最適化することが好ましい。高密度記録化のためには、磁性層の厚みは、１０〜１００ｎｍであることが好ましく、２０〜９０ｎｍであることがより好ましい。磁性層は少なくとも一層あればよく、磁性層を異なる磁気特性を有する２層以上に分離してもかまわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用できる。２層以上に分離する場合の磁性層の厚みとは、これらの層の合計厚みとする。

非磁性層の厚みは、例えば０．０５μｍ以上であり、好ましくは０．０７μｍ以上であり、より好ましくは０．１０μｍ以上である。一方、非磁性層の厚みは、０．８０μｍ以下であることが好ましく、０．５０μｍ以下であることがより好ましい。

［バックコート層］
上記磁気テープは、非磁性支持体の磁性層を有する側とは反対側にバックコート層を有することもできる。バックコート層は、非磁性粉末および結合剤を含む層である。バックコート層は、非磁性粉末として、カーボンブラックと無機粉末の一方または両方を含むことが好ましい。バックコート層形成用組成物の処方（例えば結合剤、各種添加剤の種類、含有量等）については、バックコート層に関する公知の処方を適用することができる。バックコート層の厚みは、０．９０μｍ以下が好ましく、０．１０〜０．７０μｍが更に好ましい。

磁気テープの各層および非磁性支持体の厚みは、公知の膜厚測定法により求めることができる。一例として、例えば、磁気テープの厚み方向の断面を、イオンビーム、ミクロトーム等の公知の手法により露出させた後、露出した断面において走査型電子顕微鏡を用いて断面観察を行う。断面観察において厚み方向の１箇所において求められた厚み、または無作為に抽出した２箇所以上の複数箇所、例えば２箇所、において求められた厚みの算術平均として、各種厚みを求めることができる。または、各層の厚みは、製造条件から算出される設計厚みとして求めてもよい。

［製造方法］
＜各層形成用組成物の調製＞
磁性層、または任意に設けられる非磁性層もしくはバックコート層を形成するための組成物は、先に説明した各種成分とともに、通常、溶媒を含む。溶媒としては、一般に塗布型磁気記録媒体製造のために使用される有機溶媒を挙げることができる。各層形成用組成物を調製する工程は、通常、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程を含む。個々の工程はそれぞれ２段階以上に分かれていてもかまわない。本発明で用いられる強磁性粉末、非磁性粉末、結合剤、各種添加剤、溶媒等すべての原料はどの工程の最初または途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。例えば、磁性層形成用組成物については、一態様では、強磁性粉末を含有する分散液（磁性液）と研磨剤を含有する分散液（研磨剤液）とをそれぞれ別分散して調製した後、同時または順次、他の成分と混合し磁性層形成用組成物を調製することができる。その他、各層形成用組成物の調製については、特開２０１０−２３１８４３号公報段落００６５も参照できる。

素地摩擦の制御に関しては、先に説明した通り、一態様では、平均粒子サイズが異なる二種以上の強磁性粉末を用いて磁気テープを製造することができる。即ち、磁性層を、強磁性粉末として、第一の強磁性粉末と、第一の強磁性粉末より平均粒子サイズの大きい強磁性粉末の一種以上と、を用いて形成することができる。かかる磁性層の形成方法の好ましい態様としては、以下の態様を挙げることができる。下記態様の２つ以上の組み合わせは、上記磁性層の形成方法のより好ましい態様である。なお第一の強磁性粉末とは、二種以上用いられる強磁性粉末の中の一種の強磁性粉末をいい、先に記載した、最も多くの割合で用いる強磁性粉末であることが好ましい。その他の上記磁性層の形成方法の詳細は、先に記載した通りである。
・第一の強磁性粉末の平均粒子サイズは、１０〜８０ｎｍの範囲である。
・第一の強磁性粉末より平均粒子サイズの大きい強磁性粉末の平均粒子サイズと第一の強磁性粉末の平均粒子サイズとの差は、１０〜５０ｎｍの範囲である。
・第一の強磁性粉末と第一の強磁性粉末より平均粒子サイズの大きい強磁性粉末との混合比は、質量基準で、前者：後者＝９０．０：１０．０〜９９．９：０．１の範囲である。

また他の一態様では、磁性層の非磁性粉末として、研磨剤および突起形成剤以外の他の非磁性粉末を用いて磁気テープを製造することもできる。即ち、磁性層を、上記の他の非磁性粉末を用いて形成することができる。かかる磁性層の形成方法の好ましい態様としては、以下の態様を挙げることができる。下記態様の２つ以上の組み合わせは、上記磁性層の形成方法のより好ましい態様である。その他の上記磁性層の形成方法の詳細は、先に記載した通りである。
・上記の他の非磁性粉末の平均粒子サイズは、強磁性粉末の平均粒子サイズより大きい。
・強磁性粉末の平均粒子サイズと上記の他の非磁性粉末の平均粒子サイズとの差は、１０〜８０ｎｍの範囲である。
・強磁性粉末と上記の他の非磁性粉末との混合比は、質量基準で、前者：後者＝９０．０：１０．０〜９９．９：０．１の範囲である。

＜塗布工程＞
磁性層は、磁性層形成用組成物を非磁性支持体表面に直接塗布するか、または非磁性層形成用組成物と逐次もしくは同時に重層塗布することにより形成することができる。バックコート層は、バックコート層形成用組成物を、非磁性支持体の磁性層を有する（または磁性層が追って設けられる）側とは反対側の表面に塗布することにより形成することができる。各層形成のための塗布の詳細については、特開２０１０−２３１８４３号公報段落００６６を参照できる。

＜その他工程＞
磁気テープ製造のためのその他の各種工程については、特開２０１０−２３１８４３号公報段落００６７〜００７０を参照できる。その他工程で行われる処理の一例としては、磁性層表面の表面処理を挙げることもできる。表面処理することは、磁性層の表面平滑性を高めるうえで好ましい。一例として、磁性層表面の表面処理としては、特開平５−６２１７４号公報に記載の研磨手段を用いる研磨処理を挙げることができる。上記表面処理については、同公報段落０００５〜００３２および全図面を参照できる。

以上説明した本発明の磁気テープは、磁性層表面Ｒａが１．８０ｎｍ以下の高い表面平滑性を有し、かつ低湿下での繰り返し走行における磁性層表面の磨耗性の低下の抑制が可能である。例えば、上記磁気テープは、これを収容した磁気テープカートリッジを低湿下でドライブにセットし、記録および／または再生のために、ドライブ内で繰り返し走行させることができる。この際、磁性層表面が良好な磨耗性を発揮し続けることができれば、磁性層の表面平滑性が高いことにより発揮される優れた電磁変換特性が、繰り返し走行において低下することを抑制することができる。

以下に、本発明を実施例に基づき説明する。但し、本発明は実施例に示す態様に限定されるものではない。特記しない限り、以下に記載の「部」は質量基準である。

１−ブロモナフタレン接触角調整成分として用いた下記ポリマーＡとは、下記方法により合成されたポリアルキレンイミン系ポリマーである。下記ポリマーＢとしては、市販のアミン系ポリマー（ビックケミー社製ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１０２）を用いた。

［ポリマーＡ（ポリアルキレンイミン系ポリマー）の合成例］
下記の酸価およびアミン価は、電位差法（溶媒：テトラヒドロフラン／水＝１００／１０（体積比）、滴定液：０．０１Ｎ（０．０１ｍｏｌ／ｌ）水酸化ナトリウム水溶液（酸価）、０．０１Ｎ （０．０１ｍｏｌ／ｌ）塩酸（アミン価））により決定した。

下記の数平均分子量および重量平均分子量は、ＧＰＣ法により測定しポリスチレン換算値として求めた。

ポリエステル、ポリアルキレンイミン、およびポリアルキレンイミン系ポリマーの平均分子量の測定条件は、それぞれ以下の通りとした。
（ポリエステルの平均分子量の測定条件）
測定器：ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ（東ソー社製）
カラム：ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺ ２０００／ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺ ４０００／ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺ−Ｈ（東ソー社製）
溶離液：テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）
流速：０．３５ｍＬ／ｍｉｎ
カラム温度：４０℃
検出器：示差屈折（Ｒｅｆｒａｃｔｉｖｅ Ｉｎｄｅｘ；ＲＩ）検出器

（ポリアルキレンイミンの平均分子量、ポリアルキレンイミン系ポリマーの平均分子量の測定条件）
測定器：ＨＬＣ−８３２０ＧＰＣ（東ソー社製）
カラム：ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＡＷＭ−Ｈ（東ソー社製）３本
溶離液：Ｎ−メチル−２−ピロリドン(添加剤として１０ｍＭ臭化リチウム添加)
流速：０.３５ｍＬ／ｍｉｎ
カラム温度：４０℃
検出器：ＲＩ

＜ポリエステル（ｉ−１）の合成＞
５００ｍＬ３口フラスコに、カルボン酸としてｎ−オクタン酸（和光純薬社製）１６．８ｇ、ラクトンとしてε−カプロラクトン（ダイセル工業化学社製プラクセルＭ）１００ｇ、触媒としてモノブチルすずオキシド（和光純薬社製）（Ｃ_４Ｈ_９Ｓｎ（Ｏ）ＯＨ）２．２ｇを混合し、１６０℃で１時間加熱した。ε−カプロラクトン１００ｇを５時間かけて滴下し更に２時間攪拌した。その後、室温まで冷却しポリエステル（ｉ-１）を得た。
合成スキームを以下に示す。

得られたポリエステルの数平均分子量および重量平均分子量を下記表１に示す。また、原料仕込み比より算出したラクトン繰り返し単位の単位数も下記表１に示す。

＜ポリアルキレンイミン系ポリマーの合成＞
ポリエチレンイミン（日本触媒製ＳＰ−００６、数平均分子量６００）２．４ｇおよびポリエステル（ｉ−１）１００ｇを混合し、混合液の温度１１０℃で３時間加熱して、ポリアルキレンイミン系ポリマーを得た。
得られたポリアルキレンイミン系ポリマーについて、¹Ｈ−ＮＭＲおよび^１３Ｃ−ＮＭＲの両ＮＭＲ分析結果ならびに燃焼法を用いる元素分析の分析結果から、ポリアルキレンイミン系ポリマーに占めるポリアルキレンイミン鎖の割合（ポリアルキレンイミン鎖比率）を算出した。結果を表１に示す。算出されたポリアルキレンイミン鎖比率は、ポリアルキレンイミンおよびポリエステルの仕込み量から算出された値と同様の値であった。

［磁気テープ作製例］
＜実施例１＞
各層形成用組成物の処方を、下記に示す。
（磁性層形成用組成物）
（磁性液）
強磁性六方晶バリウムフェライト粉末（１）：表２参照
（平均粒子サイズ（平均板径）：表２参照）
強磁性六方晶バリウムフェライト粉末（２）：表２参照
（平均粒子サイズ（平均板径）：表２参照）
オレイン酸：２．０部
塩化ビニル共重合体（日本ゼオン製ＭＲ−１０４）：１０．０部
ＳＯ_３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂：４．０部
（重量平均分子量７０，０００、ＳＯ_３Ｎａ基：０．０７ｍｅｑ／ｇ）
１−ブロモナフタレン接触角調整成分（表２参照）：表２参照
メチルエチルケトン：１５０．０部
シクロヘキサノン：１５０．０部
（研磨剤液）
α−アルミナ（ＢＥＴ比表面積１９ｍ^２／ｇ）：６．０部
ＳＯ_３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂
（重量平均分子量７０，０００、ＳＯ_３Ｎａ基：０．１ｍｅｑ／ｇ）：０．６部
２，３−ジヒドロキシナフタレン：０．６部
シクロヘキサノン：２３．０部
（突起形成剤液）
コロイダルシリカ（平均粒子サイズ１２０ｎｍ）：２．０部
メチルエチルケトン：８．０部
（潤滑剤、硬化剤液）
ステアリン酸：表２参照
ステアリン酸アミド：０．３部
ステアリン酸ブチル：６．０部
メチルエチルケトン：１１０．０部
シクロヘキサノン：１１０．０部
ポリイソシアネート（日本ポリウレタン製コロネート（登録商標）Ｌ）：３．０部

（非磁性層形成用組成物）
カーボンブラック（平均粒子サイズ１６ｎｍ、ＤＢＰ（Ｄｉｂｕｔｙｌ ｐｈｔｈａｌａｔｅ）吸油量７４ｃｍ^３／１００ｇ）：１００．０部
トリオクチルアミン：４．０部
塩化ビニル共重合体（日本ゼオン製ＭＲ−１０４）：１９．０部
ＳＯ_３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂
（重量平均分子量５０，０００、ＳＯ_３Ｎａ基：０．０７ｍｅｑ／ｇ）：１２．０部
メチルエチルケトン：３７０．０部
シクロヘキサノン：３７０．０部
ステアリン酸：２．０部
ステアリン酸アミド：０．３部
ステアリン酸ブチル：２．０部

（バックコート層形成用組成物）
ベンガラ（平均粒子サイズ：０．１５μｍ、平均針状比：７、ＢＥＴ比表面積：５２ｍ^２／ｇ）：８０．０部
カーボンブラック（平均粒子サイズ１６ｎｍ、ＤＢＰ吸油量７４ｃｍ^３／１００ｇ）：２０．０部
フェニルホスホン酸：３．０部
塩化ビニル共重合体（日本ゼオン製ＭＲ−１０４）：１２．０部
ＳＯ_３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂
（重量平均分子量５０，０００、ＳＯ_３Ｎａ基：０．０７ｍｅｑ／ｇ）：８．０部
α−アルミナ（ＢＥＴ比表面積１７ｍ^２／ｇ）：５．０部
メチルエチルケトン：３７０．０部
シクロヘキサノン：３７０．０部
ステアリン酸：１．０部
ステアリン酸アミド：０．３部
ステアリン酸ブチル：２．０部
ポリイソシアネート（日本ポリウレタン製コロネートＬ）：５．０

（磁性層形成用組成物の調製）
磁性層形成用組成物は以下の方法によって調製した。
上記磁性液をオープンニーダにより混練および希釈処理後、横型ビーズミル分散機により、ビーズ径０．１ｍｍのジルコニア（ＺｒＯ_２）ビーズ（以下、「Ｚｒビーズ」と記載する）を用い、ビーズ充填率８０体積％、ローター先端周速１０ｍ／秒で、１パス滞留時間を２分とし、３０パスの分散処理を行った。
研磨剤液については、上記成分を混合してビーズ径０．３ｍｍのＺｒビーズとともに横型ビーズミル分散機に入れ、ビーズ体積／（研磨剤液体積＋ビーズ体積）が８０％になるように調整し、１２０分間ビーズミル分散処理を行った。処理後の液を取り出し、フロー式の超音波分散濾過装置を用いて、超音波分散濾過処理を施した。
磁性液、研磨剤液および突起形成剤液と、その他の成分としての潤滑剤、硬化剤液をディゾルバー攪拌機に導入し、周速１０ｍ／秒で３０分間攪拌した後、フロー式超音波分散機により流量７．５ｋｇ／分で３パス処理した後に、孔径１μｍのフィルタで濾過して磁性層形成用組成物を調製した。

（非磁性層形成用組成物の調製）
非磁性層形成用組成物は以下の方法によって調製した。
潤滑剤（ステアリン酸、ステアリン酸アミド、およびステアリン酸ブチル）を除く上記成分を、オープンニーダにより混練および希釈処理して、その後、横型ビーズミル分散機により分散処理を実施した。その後、潤滑剤（ステアリン酸、ステアリン酸アミド、およびステアリン酸ブチル）を添加して、ディゾルバー攪拌機にて攪拌および混合処理を施して非磁性層形成用組成物を調製した。

（バックコート層形成用組成物の調製）
バックコート層形成用組成物は以下の方法によって調製した。
ポリイソシアネートおよび潤滑剤（ステアリン酸、ステアリン酸アミド、およびステアリン酸ブチル）を除く上記成分を、ディゾルバー攪拌機に導入し、周速１０ｍ／秒で３０分間攪拌した後、横型ビーズミル分散機により分散処理を実施した。その後、ポリイソシアネートおよび潤滑剤（ステアリン酸、ステアリン酸アミド、およびステアリン酸ブチル）を添加して、ディゾルバー攪拌機にて攪拌および混合処理を施し、バックコート層形成用組成物を調製した。

（磁気テープの作製）
厚さ４．００μｍの非磁性支持体（ポリアミド支持体）の一方の表面上に、乾燥後の厚さが０．１０μｍになるように非磁性層形成用組成物を塗布し乾燥させた。その後、バックコート層形成用組成物を、非磁性支持体の反対側の表面上に乾燥後の厚さが０．５０μｍになるように塗布し乾燥させた。一度巻き取りロールに巻き取った非磁性支持体を雰囲気温度７０℃の環境下で３６時間熱処理した。
熱処理後の非磁性層上に、乾燥後の厚さが７０ｎｍになるように磁性層形成用組成物を塗布し乾燥させた。
上記の各層の厚さは、製造条件から算出された設計厚みである。
その後、金属ロールのみから構成されるカレンダで速度１００ｍ／ｍｉｎ、線圧３００ｋｇ／ｃｍ（２９４ｋＮ／ｍ）、カレンダロールの表面温度１１０℃で表面平滑化処理（カレンダ処理）を行った。カレンダ処理条件を強化するほど（例えばカレンダロールの表面温度を高くするほど）、磁性層表面Ｒａは小さくなる傾向がある。
その後、雰囲気温度７０℃の環境下で３６時間熱処理を行った。熱処理後、１／２インチ（０．０１２７メートル）幅にスリットを行った。
続いて、特開平５−６２１７４号公報に記載のダイヤモンドホイールを用いる表面処理（同公報の図１〜図３に示されている態様）を行って得られた磁気テープをロール状にリールに巻き取った後、下記の評価方法によりその特性を評価した。

＜実施例２〜９、比較例１〜８＞
表２に示すように磁性層形成用組成物の処方および／または製造条件を変更した点以外、実施例１と同様の方法で磁気テープを作製した。
表２に記載の強磁性六方晶バリウムフェライト粉末の処方率とは、強磁性粉末全量１００．０質量部に対する各強磁性六方晶バリウムフェライト粉末の質量基準の含有率である。表２に示す強磁性六方晶バリウムフェライト粉末の平均粒子サイズは、磁気テープの作製に用いる粉末ロットから必要量を採取し、先に記載した方法によって平均粒子サイズを測定した値である。測定後の強磁性六方晶バリウムフェライト粉末を、磁気テープの作製のための磁性液の調製に用いた。

［評価方法］
（１）磁性層表面Ｒａ
原子間力顕微鏡（ＡＦＭ、Ｖｅｅｃｏ社製Ｎａｎｏｓｃｏｐｅ４）を用い、測定面積４０μｍ×４０μｍの範囲を測定し、磁気テープの磁性層表面において、中心線平均表面粗さＲａを求めた。スキャン速度（探針移動速度）は４０μｍ／秒、分解能は５１２ｐｉｘｅｌ×５１２ｐｉｘｅｌとした。

（２）素地摩擦
まず、測定面に予めレーザーマーカーで罫書きをいれ、そこから一定距離（約１００μｍ）離れた部分の原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）像を測定した。視野面積は７μｍ×７μｍで行った。このとき、後述するように同一箇所の走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ（Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ））画像を撮りやすいように、カンチレバーを硬いもの（単結晶シリコン）に変えて、ＡＦＭ上で罫書きを入れた。こうして測定したＡＦＭ画像から、基準面から１５ｎｍ以上の高さにある突起を全て抽出した。そして突起が存在しないと判定された箇所を素地部分と特定し、Ｈｙｓｉｔｒｏｎ社ＴＩ−９５０型トライボインデンターを用いて先に記載した方法により素地摩擦を測定した。
更に、ＡＦＭを測定したところと同一箇所のＳＥＭ画像を測定して成分マップを取得し、抽出した基準面から１５ｎｍ以上の高さの突起がアルミナまたはコロイダルシリカにより形成された突起であることを確認した。また、実施例１〜９では、上記ＳＥＭを用いた成分マップにおいて、素地部分にアルミナおよびコロイダルシリカは確認されなかった。なお、ここではＳＥＭにより成分分析を行ったが、成分分析は、ＳＥＭに限らず、エネルギー分散型Ｘ線分光法（ＥＤＳ：Ｅｎｅｒｇｙ Ｄｉｓｐｅｒｓｉｖｅ Ｘ−ｒａｙ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ）、オージェ電子分光法（ＡＥＳ：Ａｕｇｅｒ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）等の公知の方法により行うことができる。

（３）１−ブロモナフタレン接触角
接触角測定機（協和界面科学社製 接触角測定装置ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ７００）により、以下の方法により１−ブロモナフタレン接触角の測定を行った。
ロール状に巻き取った磁気テープをロールの端部から一定長さ切り取り得られたテープサンプルを、バックコート層表面がスライドガラス表面と接触するようにスライドガラス上に設置した。テープサンプル表面（磁性層表面）に測定用液体（１−ブロモナフタレン）２．０μｌを滴下し、滴下した液体が安定した液滴を形成したことを目視で確認した後、上記接触角測定機に付随の接触角解析ソフトウェアＦＡＭＡＳにより液滴像を解析し、テープサンプルと液滴の接触角を測定した。接触角の算出はθ／２法によって行い、１サンプルにつき６回測定した算術平均を、１−ブロモナフタレン接触角とした。測定は雰囲気温度２５℃および相対湿度２５％の環境で行い、以下の解析条件で１−ブロモナフタレン接触角を求めた。
・手法：液滴法（θ／２法）
・着滴認識：自動
・着滴認識ライン（針先からの距離）：５０ｄｏｔ
・アルゴリズム：自動
・イメージモード：フレーム
・スレッシホールドレベル：自動

（４）水接触角
上記（３）と同じ磁気テープロールから新たにテープサンプルを切り出し、測定用液体を水に変えた点以外は、上記（３）と同様の方法で磁性層表面において水接触角を測定した。

（５）磁性層表面の初期磨耗幅および繰り返し走行後磨耗幅
実施例および比較例の磁気テープを、雰囲気温度２３℃および相対湿度１０％の環境下で、リールテスターを用い、下記走行条件で走行させたときのＡｌＦｅＳｉｌ角柱の磨耗幅を測定した。ＡｌＦｅＳｉｌ角柱とは、センダスト系の合金であるＡｌＦｅＳｉｌ製の角柱である。評価には、ＥＣＭＡ（Ｅｕｒｏｐｅａｎ Ｃｏｍｐｕｔｅｒ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｅｒｓ Ａｓｓｏｃｉａｔｉｏｎ）−２８８／ＡｎｎｅｘＨ／Ｈ２に規定されているＡｌＦｅＳｉｌ角柱を用いた。ＡｌＦｅＳｉｌ角柱の磨耗幅は、ＡｌＦｅＳｉｌ角柱のエッジを光学顕微鏡を用いて上方から観察し、特開２００７−０２６５６４号公報段落００１５に同公報図１に基づき説明されている磨耗幅（ＡｌＦｅＳｉｌ磨耗幅）として求めた。
＜走行条件＞
磁気テープの磁性層表面を、ＡｌＦｅＳｉｌ角柱の長手方向と直交するように、ＡｌＦｅＳｉｌ角柱の一稜辺にラップ角１２度で接触させた。この状態で長さ５８０ｍの磁気テープを１．０Ｎの張力下において３ｍ／秒の速さで１往復させた。この１往復後に測定されたＡｌＦｅＳｉｌ磨耗幅を、初期磨耗幅として表２に示す。
その後、ＡｌＦｅＳｉｌ角柱の同じ箇所に対して更に磁気テープを同一条件で４９往復（したがって合計５０往復）させた。この後に測定されたＡｌＦｅＳｉｌ磨耗幅を、繰り返し走行後磨耗幅として表２に示す。
初期磨耗幅および繰り返し走行後磨耗幅ともに３０μｍ以上であれば、走行初期および繰り返し走行中ともに磁性層表面の磨耗性が良好であったと判断できる。

（６）初期ＳＮＲ（Ｓｉｇｎａｌ−ｔｏ−Ｎｏｉｓｅ−Ｒａｔｉｏ）および繰り返し走行によるＳＮＲ低下分
雰囲気温度２３℃および相対湿度１０％の環境下で、ヘッドを固定した１／２インチ（０．０１２７メートル）リールテスターを用いて、以下の方法により、実施例および比較例の磁気テープの走行初期および繰り返し走行後の電磁変換特性（ＳＮＲ（Ｓｉｇｎａｌ−ｔｏ−Ｎｏｉｓｅ−Ｒａｔｉｏ））を測定した。
ヘッド／テープ相対速度を５．５ｍ／秒とし、記録ヘッドとしてＭＩＧ（Ｍｅｔａｌ−Ｉｎ−Ｇａｐ）ヘッド（ギャップ長０．１５μｍ、トラック幅１．０μｍ）を使い、記録電流を各磁気テープの最適記録電流に設定して記録を行った。再生は、再生ヘッドとして素子厚み１５ｎｍ、シールド間隔０．１μｍ、リード幅０．５μｍのＧＭＲ（Ｇｉａｎｔ−Ｍａｇｎｅｔｏｒｅｓｉｓｔｉｖｅ）ヘッドを用いて行った。線記録密度３００ＫＦｃｉの信号を記録し、再生信号をシバソク社製のスペクトラムアナライザーで測定し、キャリア信号の出力と、スペクトル全帯域の積分ノイズとの比をＳＮＲとした。信号は、磁気テープ走行開始後に信号が十分に安定した部分を使用した。
以上の条件で、テープ長１，０００ｍの磁気テープを用い、１パス走行後のＳＮＲおよび５００パス走行後のＳＮＲを測定した。１パス走行後のＳＮＲを初期ＳＮＲとして表２に示す。表２に記載の初期ＳＮＲは、比較例１の初期ＳＮＲを基準（０ｄＢ）としたときの相対値である。更に、初期ＳＮＲに対する５００パス走行後のＳＮＲ低下分を、繰り返し走行によるＳＮＲ低下分として表２に示す。表２に記載の繰り返し走行によるＳＮＲ低下分は、各磁気テープについて、５００パス走行後のＳＮＲを、比較例１の初期ＳＮＲを基準（０ｄＢ）とした相対値として求め、求められた値を用いて「初期ＳＮＲ−５００パス走行後のＳＮＲ」により算出された値にマイナスを付した値である。初期ＳＮＲが１．０ｄＢ以上であり、繰り返し走行によるＳＮＲ低下分が−１．０ｄＢ未満であれば、走行初期および繰り返し走行中ともに電磁変換特性が良好であったと判断できる。
磁性層表面において測定される１−ブロモナフタレン接触角が６０．０°超であった比較例８の磁気テープは、１パス走行中にヘッドの読み取り素子部に傷が入ってしまい、初期ＳＮＲおよび５００パス走行後のＳＮＲを測定することができなかった。

以上の結果を、表２に示す。

表２に示す結果から、実施例の磁気テープは、磁性層表面が平滑であっても、低湿下において走行初期および繰り返し走行中ともに磁性層表面が良好な磨耗性を示したことが確認できる。実施例の磁気テープが、走行初期および繰り返し走行中ともに電磁変換特性が良好であった理由は、磁性層表面の磨耗性が良好であったため、磁性層表面がヘッドに付着した異物を除去することができたためと考えられる。

実施例１〜９の磁気テープについて、以下の方法で、繰り返し走行後のヘッドエッジ付着物の有無および程度を評価した。
雰囲気温度２３℃および相対湿度１０％の環境において、ＩＢＭ社製ＬＴＯ（登録商標）Ｇ５（Ｌｉｎｅａｒ Ｔａｐｅ−Ｏｐｅｎ Ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ ５）ドライブから取り外した磁気記録再生ヘッドをテープ走行系に取り付け、０．６Ｎのテンションをかけながらテープ長２０ｍの磁気テープを、送り出しロールからの送り出しおよび巻き取りロールへの巻き取りを行いつつ、４．０ｍ／秒で３０００サイクル走行させた。走行後のヘッドを倍率１００倍のマイクロスコープで観察し、画像処理ソフト（Ｗｉｎ Ｒｏｏｆ（Ｍｉｔａｎｉ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｐｏｎ製））を用いる画像処理により、ヘッドエッジの付着物が付着している部位の割合を求めた。ヘッドエッジの付着物が付着した部位の割合をヘッドエッジ付着物の有無および程度の指標とし、以下の基準により評価した。
４：ヘッドエッジに付着物が認められない、３：ヘッドエッジの５０％以下の部位に付着物が認められる、２：ヘッドエッジの５０％超７０％以下の部位に付着物が認められる、１：ヘッドエッジの７０％超の部位に付着物が認められる。
評価の結果、実施例１〜８の磁気テープの評価結果は「４」、実施例９の磁気テープの評価結果は「３」であった。実施例９は、１−ブロモナフタレン接触角調整成分として潤滑剤のみを使用した例である。実施例９で確認されたヘッドエッジ付着物は、磁性層表面から転写された潤滑剤と考えられる。

本発明は、バックアップテープ等のデータストレージ用磁気テープの技術分野において有用である。

Claims (11)

1. 非磁性支持体上に強磁性粉末、研磨剤および結合剤を含む磁性層を有する磁気テープであって、
   前記磁性層の表面において測定される中心線平均表面粗さＲａは、１．８ｎｍ以下であり、
   前記磁性層の表面において測定される１−ブロモナフタレンに対する接触角は、４５．０〜６０．０°の範囲であり、かつ
   前記磁性層の表面の素地部分において測定される摩擦係数は、０．３５以下である磁気テープ。
2. 前記中心線平均表面粗さＲａは、１．２〜１．８ｎｍの範囲である請求項１に記載の磁気テープ。
3. 前記中心線平均表面粗さＲａは、１．２〜１．６ｎｍの範囲である請求項１または２に記載の磁気テープ。
4. 前記素地部分において測定される摩擦係数は、０．１５〜０．３５の範囲である請求項１〜３のいずれか１項に記載の磁気テープ。
5. 前記磁性層の表面において測定される水に対する接触角は、９０．０〜１００．０°の範囲である請求項１〜４のいずれか１項に記載の磁気テープ。
6. 前記磁性層は、脂肪酸、脂肪酸エステルおよび脂肪酸アミドからなる群から選ばれる一種以上の潤滑剤を更に含む請求項１〜５のいずれか１項に記載の磁気テープ。
7. 前記磁性層は、含窒素ポリマーを更に含む請求項１〜６のいずれか１項に記載の磁気テープ。
8. 前記含窒素ポリマーは、ポリアルキレンイミン系ポリマーである請求項７に記載の磁気テープ。
9. 前記ポリアルキレンイミン系ポリマーは、ポリアルキレンイミン鎖およびポリエステル鎖を含むポリマーである請求項８に記載の磁気テープ。
10. 前記非磁性支持体と磁性層との間に、非磁性粉末および結合剤を含む非磁性層を更に有する請求項１〜９のいずれか１項に記載の磁気テープ。
11. 前記非磁性支持体の磁性層を有する側とは反対側に、非磁性粉末および結合剤を含むバックコート層を更に有する請求項１〜１０のいずれか１項に記載の磁気テープ。