JP2003077116A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】微細な六方晶フェライトを使用した磁気記録媒
体を、ＭＲヘッドを使用して再生したとき短波長出力と
Ｃ／Ｎが良好でかつ記録された磁化が安定である磁気記
録媒体を提供すること。 【解決手段】支持体上に非磁性粉末を結合剤中に分散さ
せた非磁性層を設けこの上に強磁性粉末を結合剤中に分
散してなる磁性層を設けた磁気記録媒体において、平均
板径が１０〜３５ｎｍ，抗磁力Ｈｃが１３５〜４００ｋ
Ａ／ｍであり、かつＳＦＤ（２５℃）が０．４０〜０．
９０でありΔＳＦＤ＝ＳＦＤ（１００℃）−ＳＦＤ（２
５℃）が−０．１５〜０．２０である六方晶系フェライ
ト粉末を含有する磁性層を有することを特徴とする磁気
記録媒体。
体を、ＭＲヘッドを使用して再生したとき短波長出力と
Ｃ／Ｎが良好でかつ記録された磁化が安定である磁気記
録媒体を提供すること。 【解決手段】支持体上に非磁性粉末を結合剤中に分散さ
せた非磁性層を設けこの上に強磁性粉末を結合剤中に分
散してなる磁性層を設けた磁気記録媒体において、平均
板径が１０〜３５ｎｍ，抗磁力Ｈｃが１３５〜４００ｋ
Ａ／ｍであり、かつＳＦＤ（２５℃）が０．４０〜０．
９０でありΔＳＦＤ＝ＳＦＤ（１００℃）−ＳＦＤ（２
５℃）が−０．１５〜０．２０である六方晶系フェライ
ト粉末を含有する磁性層を有することを特徴とする磁気
記録媒体。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は磁気テープ等の磁気
記録媒体に関し、特に強磁性粉末や結合剤を主体とする
磁性塗料を支持体上に塗布して磁性層を形成した塗布型
の磁気記録媒体に関連し、再生に磁気抵抗効果を利用し
たＭＲヘッドを使用したシステムで使用すると特に好適
である磁性層に六方晶系フェライトを含む高密度記録用
磁気記録媒体に関連する。 【０００２】 【従来の技術】従来、ビデオテ−プ、オ−ディオテー
プ、コンピューター用テープ、フレキシブルディスク等
の磁気記録媒体としては強磁性酸化鉄、Ｃｏ変性強磁性
酸化鉄、ＣｒＯ2、強磁性金属粉末、六方晶系フェライ
ト等を結合剤中に分散した磁性層を支持体に塗設したも
のが広く用いられる。この中でも六方晶系フェライトは
高密度記録特性に優れている事が知られている（例え
ば、特開昭６０−１５７７１９号公報，特開昭６２−１
０９２２６号公報，特開平３−２８０２１５号公報）。
特開平５−１２６５０号公報には、該フェライトを用い
た磁性層の厚みを０．１〜０．６μｍとし、磁性層と支
持体の間に磁性層より厚い非磁性層を設け、表面性、短
波長出力、消去特性、耐久性を改善するとしている。特
開平５−２２５５４７号公報には、支持体上に非磁性層
を設け、その上に０．１μｍ以下の磁性粉を含有した磁
性層を設けた磁気記録媒体を開示し、高域特性に優れ、
しかも信号の重ね書き特性の良好な、耐久性も良好な磁
気記録媒体を提供している。 【０００３】また、特開平３−２８６４２０号公報、Ｉ
ＥＥＥ．Ｔｒａｎｓ．Ｍａｇ．ｖｏｌ２４（６）Ｎｏ
ｖ．１９８８、ｐ２８５０等には、六方晶系フェライト
の異方性磁界Ｈｋが磁気記録媒体の電磁変換特性に影響
する事が開示されている。そして、前者では非磁性層上
に磁性層を２層設けた磁気記録媒体であって、下層の磁
性層が長尺方向に磁化容易軸を有し、上層の磁性層に異
方性磁界（Ｈｋ）が２３９ｋＡ／ｍ以下である磁性粉が
配設された磁気記録媒体を開示し、長波長から短波長に
至るまでの広域において高出力の磁気記録媒体を提供す
るとしている。特開平８−１１５５１８号公報には、媒
体のＨｃが１０３．５〜３９８ｋＡ／ｍ、Ｈｃ／Ｈｋが
０．３０〜１．０、かつ面内方向の角型比ＳＱが０．６
５〜１．００である高密度記録用媒体が提案されてい
る。六方晶系フェライト粉末を含む磁性層のＨｃ、Ｈｃ
／ＨＫ、および面内方向のＳＱの各数値範囲を特定した
ことを特徴とし、これにより高密度記録に必要な極短波
長出力を格段に改良したものである。しかしながら、Ｍ
Ｒヘッドを用いたシステムで使用するとき高ノイズとな
り好ましくない。 【０００４】最近、コンピュ−タ−用デ−タ記録システ
ムには、磁気抵抗効果を利用した高感度な再生ヘッド
（ＭＲヘッド）が使用されるようになり、システムノイ
ズは磁気記録媒体に由来するノイズに支配されている。
特開平７−１８２６４６号公報にはＢａフェライトを使
用した媒体をＭＲヘッドで再生することが提案されてい
る．Ｏｋａｂｅらは，Ｂａフェライト媒体をＭＲヘッド
と組み合わせて使用することが，ＭＲヘッドの飽和を回
避するので好ましいことを示唆している（ＩＥＥＥ．Ｔ
ｒａｎｓ．Ｍａｇ．ｖｏｌ３２（５），ｐ３４０４−３
４０６（１９９６）．媒体ノイズを低減するため強磁性
粒子の微細化が進められているが、強磁性粒子の微細化
にともない熱揺らぎの影響を受け、磁化遷移領域の安定
性が問題となることが推定されている。磁化の安定性
は、ＫｕＶ／ｋＴ（Ｋｕは磁気異方性定数、Ｖは粒子体
積、ｋはボルツマン定数、Ｔは絶対温度）で評価されて
いる。メタルテープの粒子体積と熱揺らぎに関しては、
鈴木俊行らによる報告（信学技報ＭＲ９７−５５ Ｐ３
３−４０ １９９７．１１．２１）がある。Ｂａフェラ
イト媒体と熱揺らぎについても鈴木俊行らの報告がある
（信学技報 ＭＲ２０００−４５ ２０００．１１．１
４）。 【０００５】六方晶フェライトは飽和磁化が強磁性金属
粉の約１／３〜１／２であるので、Ｋｕを大きくするこ
とが難しく熱揺らぎは大きくなる。さらに、六方晶フェ
ライトを用いた磁気記録媒体は粒子間の相互作用が大き
く、媒体のノイズレベルに影響すると言われている。粒
子間の相互作用が大きいと磁化の安定性が優れていると
いわれているが、なんらかの原因で粒子が磁化反転する
と周囲の磁性体もひきずられて磁化反転する可能性があ
る。そのためか粉体サイズを微細にした六方晶系フェラ
イト粉末を用いて作成した高密度記録用媒体をＭＲヘッ
ドで再生したときのＣ／Ｎを十分に確保することが困難
であるという問題があった。 【０００６】 【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来技
術の問題点に鑑みなされたものであり、微細な六方晶フ
ェライトを使用した磁気記録媒体を、ＭＲヘッドを使用
して再生したとき短波長出力とＣ／Ｎが良好でかつ記録
された磁化が安定である磁気記録媒体を提供することを
目的としている。 【０００７】 【課題を解決するための手段】本発明の目的は、支持体
上に非磁性粉末を結合剤中に分散させた非磁性層を設け
この上に強磁性粉末を結合剤中に分散してなる磁性層を
設けた磁気記録媒体において、平均板径が１０〜３５ｎ
ｍ，抗磁力Ｈｃが１３５〜４００ｋＡ／ｍであり、かつ
ＳＦＤ（２５℃）が０．４０〜０．９０でありΔＳＦＤ
＝ＳＦＤ（１００℃）−ＳＦＤ（２５℃）が−０．１５
〜０．２０である六方晶系フェライト粉末を含有する磁
性層を有することを特徴とする磁気記録媒体により達成
される。また、本発明は、前記磁性層の厚みが０．０１
〜０．５μｍ、残留磁束密度×磁性層厚みが５〜１００
ｍＴ・μｍである事が好ましい。 【０００８】本発明は、六方晶系フェライト粉末の粉体
サイズ、Ｈｃ、ＳＦＤ（２５℃）及びΔＳＦＤ（即ち、
温度変化によるＳＦＤの変化乃至ＳＦＤの温度依存特
性）の各数値範囲を特定したことを特徴とし、これによ
り高密度記録に必要な極短波長出力と磁化の安定性を格
段に改良したものである。 【０００９】本発明において、磁性層に使用する六方晶
系フェライト粉末は平均板径が１０〜３０ｎｍ、抗磁力
Ｈｃが１３５〜４００ｋＡ／ｍであり、該六方晶系フェ
ライト粉末を含有する磁性層において、抗磁力Ｈｃが１
３５〜４４０ｋＡ／ｍであることが好ましい。大きなＨ
ｃは異方性定数（Ｋｕ）を大きくする方向であり、磁化
の熱安定性を高める発明の目的を達成するために好まし
い。 【００１０】磁性層のＨｃの設定は記録に使用するヘッ
ド性能による所が大きく、Ｆｅ−Ｔａ−Ｎ等の高飽和磁
束密度（Ｂｓ）材料を用いたヘッドが好適に用いられ
る。このＨｃの上限はヘッド材質によるが、磁性層が薄
い場合は、上記４４０ｋＡ／ｍ程度までは記録が可能と
思われる。一方Ｈｃが１３５ｋＡ／ｍ未満では高記録密
度が達成できない。 【００１１】ΔＳＦＤは、振動試料型磁力計（ＶＳＭ）
を使用し印加磁界８００ｋＡ／ｍにて、所定の温度（２
５℃と１００℃）でサンプル（粉体あるいは媒体）が熱
平衡になった状態で磁化曲線を測定し、ＳＦＤを求め
る。ＳＦＤ、即ち、スイッチング・フィールド・ディス
トリビューションは、磁気ヒステリシス曲線の微分曲線
（ｄＢ／ｄＨ）の半値幅ΔＨｃをＨｃで除した値であ
る。従って、ΔＳＦＤは１００℃のＳＦＤ（１００℃）
から２５℃のＳＦＤ（２５℃）を引くことにより求めら
れる。本発明では、六方晶系フェライト粉末のＳＦＤ
（２５℃）を０．４０〜０．９０、好ましくは０．４０
〜０．８０に、ΔＳＦＤを−０．１５〜０．２０に制御
したものを用いる。従って、ＳＦＤ（１００℃）は、
０．２５〜１．１０に制御されることになり、好ましく
は０．２５〜１．００に制御する。 【００１２】六方晶系フェライト粉末の抗磁力、ＳＦＤ
及びΔＳＦＤを制御するためには、組成、粒子径、粒子
厚を制御する、六方晶フェライトのスピネル相の厚みを
制御する、スピネル相の置換元素の量を制御する、スピ
ネル相の置換サイトの場所を制御する、などの方法があ
る。特にＳＦＤを制御する手段としては、六方晶系フェ
ライト粉末の粒子間の組成分布を均一にすることおよび
板径、板状比などで表される粒度分布を小さくすること
が好ましい。また、置換元素として、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｎｂ
の組成を調整することや、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｍｎの組
成を調整すること等が挙げられる。 【００１３】ＭＲヘッドが飽和することにより再生出力
が劣化することを防止するため、本発明の磁気記録媒体
では残留磁束密度（Ｂｒ）×磁性層厚み（δ）は５〜１
００ｍＴ・μｍが好ましい。１００ｍＴ・μｍを超える
とＭＲヘッドの飽和が発生しやすいので好ましくない。
残留磁束密度は好ましくは７０〜２００ｍＴ、更に好ま
しくは７０〜１８０ｍＴの範囲である。また、磁性層の
厚みは、好ましくは０．０１〜０．５μｍ、更に好まし
くは０．０２〜０．３μｍの範囲である。 【００１４】磁化の安定性を評価する磁化の減衰勾配
（ΔＳ）は、好ましくは０〜０．０５、更に好ましくは
０〜０．０４５の範囲である。ΔＳはＤＣ飽和磁化した
後、テープＨｃと同じ磁界を逆方向に印加し磁化の減衰
を１０００秒測定し、ｌｎｔ（ｔは時間；秒）に対する
１０〜１０００秒間の磁化減衰の勾配（Ｓ）を求め、こ
の勾配（Ｓ）を残留磁化Ｍｒで規格化して得られる。 【００１５】熱揺らぎ磁界（Ｈｆ）は、好ましくは０〜
２．０ｋＡ／ｍ、更に好ましくは０〜１．８ｋＡ／ｍの
範囲である。Ｈｆが小さいと、熱揺らぎに対し安定なの
で好ましい。熱揺らぎ磁界（Ｈｆ）は、レマネンス曲線
より非可逆帯磁率χｉｒｒｅ（Ｈｃ付近の磁界強度の数
値を使用）を求め、Ｈｆ＝Ｓ／χｉｒｒｅより算出でき
る。活性化体積Ｖａは、Ｖａ＝ｋＴ／（Ｍｓ・Ｈｆ）よ
り求まる。ｋはボルツマン定数、Ｔは絶対温度、Ｍｓは
体積あたりの飽和磁化である。 【００１６】また、媒体のＳＦＤは磁性層の角型比（Ｓ
Ｑ）の影響を受けることがしられており、ＳＱは０．５
０〜０．７０が好ましく、更に好ましくは０．５５〜
０．６５の範囲である。 【００１７】以下、磁性層（上層ともいう）に使用され
る六方晶系フェライト粉末について説明する。本発明の
上層に含まれる六方晶系フェライト粉末としてバリウム
フェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライ
ト、カルシウムフェライトの各置換体、Ｃｏ置換体等が
挙げられる。具体的にはマグネトプランバイト型のバリ
ウムフェライト及びストロンチウムフェライト、更に一
部スピネル相を含有したマグネトプランバイト型のバリ
ウムフェライト及びストロンチウムフェライト等が挙げ
られ、その他所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、
Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、
Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈ
ｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、
Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂなどの原子を
含んでもかまわない。一般にはＣｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｔｉ
−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｎｂ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｃｏ−Ｚｎ−
Ｎｂ、Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｂ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｔｉ、Ｚ
ｎ−Ｔｉ、Ｚｎ−Ｎｉ等の元素を添加した物を使用する
ことができる。ＳＦＤの観点からは、純粋なマグネトプ
ランバイト型フェライトの方が、スピネル層を多く含む
複合型フェライトよりも好ましい。抗磁力を制御するた
めには、組成、粒子径、粒子厚を制御する、六方晶フェ
ライトのスピネル相の厚みを制御する、スピネル相の置
換元素の量を制御する、スピネル相の置換サイトの場所
を制御する、などの方法がある。本発明に用いられる六
方晶系フェライト粉末は、通常六角板状の粉体であり、
そのサイズは以下のようにして測定する。 【００１８】本明細書において、六方晶系フェライト粉
末のように種々の粉体のサイズ（以下、「粉体サイズ」
と言う）は、高分解能透過型電子顕微鏡写真及び画像解
析装置より求められる。即ち、粉体サイズは、粉体の
形状が針状、紡錘状、柱状（ただし、高さが底面の最大
長径より大きい）等の場合は、粉体を構成する長軸の長
さ、即ち長軸長で表され、粉体の形状が板状乃至柱状
（ただし、厚さ乃至高さが板面乃至底面の最大長径より
小さい）場合は、その板面乃至底面の最大長径で表さ
れ、粉体の形状が球形、多面体状、不特定形等であっ
て、かつ形状から粉体を構成する長軸を特定できない場
合は、円相当径で表される。円相当径とは、円投影法で
求められるものを言う。 【００１９】また、該粉体の平均粉体サイズは、上記粉
体サイズの算術平均であり、約３５０個の一次粒子につ
いて上記の如く測定を実施して求めたものである。一次
粒子とは、凝集のない独立した粉体をいう。また、該粉
体の平均針状比は、上記測定において粉体の短軸の長
さ、即ち短軸長を測定し、各粉体の（長軸長／短軸長）
の値の算術平均を指す。ここで、短軸長とは、上記粉体
サイズの定義での場合は、粉体を構成する短軸の長さ
を、同じくの場合は、厚さ乃至高さを各々指し、の
場合は、長軸と短軸の区別がないから、（長軸長／短軸
長）は、便宜上１とみなす。そして、粉体の形状が特定
の場合、例えば、上記粉体サイズの定義の場合は、平
均粉体サイズを平均長軸長と言い、同定義の場合は平
均粉体サイズを平均板径と言い、（最大長径／厚さ乃至
高さ）の算術平均を平均板状比という。同定義の場合
は平均粉体サイズを平均粒子径という。 【００２０】本発明では六方晶系フェライト粉末の平均
板径は１０〜３０ｎｍ、好ましくは１５〜３０ｎｍの範
囲である。また、該磁性粉の平均板厚は通常、２〜１５
ｎｍであるが特に４〜１０ｎｍが好ましい。更に平均板
状比は好ましくは１．５〜４であり、更に好ましくは２
〜３．８である。平均板径が１０ｎｍ未満のとき、高比
表面積となり、分散が困難となるため好ましくない。ま
た、これら六方晶系フェライト粉末末のＢＥＴ法による
比表面積（ＳBET）は通常２５〜１２０ｍ2／ｇである
が、４０〜１００ｍ2／ｇが好ましい。２５ｍ2／ｇに満
たないとノイズが高くなり、１２０ｍ2／ｇを超えると
分散が困難となり平滑な表面性が得にくく好ましくな
い。含水率は０．３〜２．０％とするのが好ましい。結
合剤の種類によって該磁性粉の含水率は最適化するのが
好ましい。該磁性粉のｐＨは用いる結合剤との組合せに
より最適化することが好ましい。その範囲は４〜１２で
あるが、好ましくは５．５〜１０である。該磁性粉は必
要に応じ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐ、Ｚｒ、Ｍｇまたはこれらの
酸化物や水酸化物などで表面処理を施してもかまわな
い。好ましくはＡｌ2Ｏ3・ｎＨ2ＯまたはＳｉＯ2・ｎＨ
2Ｏによる表面処理であり、用いるバインダによってそ
の量と比率を変えることが好ましい。その量は該磁性粉
に対し０．１〜１０質量％であり表面処理を施すと脂肪
酸などの潤滑剤の吸着が１００ｍｇ／ｍ2以下になり好
ましい。該磁性粉には可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎ
ｉ、Ｓｒなどの無機イオンを含む場合があるが合計量が
少ないほうが好ましいが、０〜１００ｐｐｍ以下であれ
ば特に特性に影響を与えない。また無機アニオン（ＳＯ
4 2-、ＮＯ3 -、Ｃｌ-等）もＭＲ素子を腐食する懸念があ
り、合計量が少ないほうが好ましい。無機アニオン量の
合計が０〜５０ｐｐｍであれば、特に悪影響はない。σ
ｓは３５Ａ・ｍ2/ｋｇ以上、好ましくは４０Ａ・ｍ2/ｋ
ｇ以上である。タップ密度は０．５ｇ／ｍｌ以上が好ま
しく０．８ｇ／ｍｌ以上がさらに好ましい。六方晶系フ
ェライト粉末の製法としてはガラス結晶化法、共沈法、
水熱反応法等があるが、本発明は製法を選ばないが、ガ
ラス結晶化法は微細で粒度分布が良好な粒子が得られる
ので好ましい。 【００２１】本発明の磁気記録媒体における磁性層の結
合剤樹脂は、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、
反応型樹脂やこれらの混合物が使用できる。熱可塑性樹
脂としては、ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数
平均分子量が１０００〜２０００００、好ましくは１０
０００〜１０００００、重合度が約５０〜１０００程度
のものである。 【００２２】このような結合剤樹脂としては、塩化ビニ
ル、酢酸ビニル、ビニルアルコ−ル、マレイン酸、アク
リル酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリ
ロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、ス
チレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラ−ル、ビ
ニルアセタ−ル、ビニルエ−テル、等を構成単位として
含む重合体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴ
ム系樹脂がある。 【００２３】また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂とし
てはフェノ−ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化
型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アク
リル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコ−ン樹
脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイ
ソシアネ−トプレポリマ−の混合物、ポリエステルポリ
オ−ルとポリイソシアネ−トの混合物、ポリウレタンと
ポリイソシアネートの混合物等があげられる。 【００２４】前記の結合剤樹脂に、より優れた強磁性粉
末の分散効果と磁性層の耐久性を得るためには必要に応
じ、ＣＯＯＭ、ＳＯ3Ｍ、ＯＳＯ3Ｍ、Ｐ＝Ｏ（Ｏ
Ｍ）2、Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2、（以上につきＭは水素原
子、またはアルカリ金属塩基）、ＯＨ、ＮＲ2、Ｎ+Ｒ3
（Ｒはアルキル基，アルケニル基，アシル基，アリル
基）、エポキシ基、ＳＨ、ＣＮなどから選ばれる少なく
ともひとつ以上の極性基を共重合または付加反応で導入
したものをもちいることが好ましい。このような極性基
の量は１０-1〜１０-8モル／ｇであり、好ましくは１０
-2〜１０-6モル／ｇである。 【００２５】本発明の磁気記録媒体に用いられる結合剤
樹脂は、強磁性粉末に対し、５〜５０質量％の範囲、好
ましくは１０〜３０質量％の範囲で用いられる。塩化ビ
ニル系樹脂を用いる場合は５〜１００質量％、ポリウレ
タン樹脂を用いる場合は２〜５０質量％、ポリイソシア
ネ−トは２〜１００質量％の範囲でこれらを組み合わせ
て用いるのが好ましい。 【００２６】また、磁性層の六方晶系フェライト粉末の
充填度は、使用した六方晶系フェライト粉末のσｓ及び
最大磁束密度（Ｂｍ）から計算でき（Ｂｍ／４πσｓ）
となり、本発明においてはその値は、望ましくは１．１
〜３．２ｇ／ｃｍ3であり、更に望ましくは１．２〜
３．０ｇ／ｃｍ3である。 【００２７】本発明において、ポリウレタンを用いる場
合はガラス転移温度が−５０〜１００℃、破断伸びが１
００〜２０００％、破断応力は０．０５〜１０Ｋｇ／ｍ
ｍ2（０．４９〜９８ＭＰａ）、降伏点は０．０５〜１
０Ｋｇ／ｍｍ2（０．４９〜９８ＭＰａ）が好ましい。 【００２８】本発明にもちいるポリイソシアネ−トとし
ては、トリレンジイソシアネ−ト、４，４’−ジフェニ
ルメタンジイソシアネ−ト、ヘキサメチレンジイソシア
ネ−ト、キシリレンジイソシアネ−ト、ナフチレン−
１，５−ジイソシアネ−ト、ｏ−トルイジンジイソシア
ネ−ト、イソホロンジイソシアネ−ト、トリフェニルメ
タントリイソシアネ−ト等のイソシアネ−ト類、また、
これらのイソシアネ−ト類とポリアルコールとの生成
物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポ
リイソシアネ−ト等を使用することができる。これらの
イソシアネート類の市販されている商品名としては、日
本ポリウレタン社製、コロネートＬ、コロネ−トＨＬ、
コロネ−ト２０３０、コロネ−ト２０３１、ミリオネ−
トＭＲミリオネ−トＭＴＬ、武田薬品社製、タケネ−ト
Ｄ−１０２，タケネ−トＤ−１１０Ｎ、タケネ−トＤ−
２００、タケネ−トＤ−２０２、住友バイエル社製、デ
スモジュ−ルＬ、デスモジュ−ルＩＬ、デスモジュ−ル
Ｎ、デスモジュ−ルＨＬ、等がありこれらを単独または
硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合
せでもちいることができる。 【００２９】本発明の磁気記録媒体の磁性層中には、通
常、潤滑剤、研磨剤、分散剤、帯電防止剤、分散剤、可
塑剤、防黴剤等などを始めとする種々の機能を有する素
材をその目的に応じて含有させることができる。 【００３０】本発明の磁性層に使用する潤滑剤として
は、ジアルキルポリシロキサン（アルキルは炭素数１〜
５個）、ジアルコキシポリシロキサン（アルコキシは炭
素数１〜４個）、モノアルキルモノアルコキシポリシロ
キサン（アルキルは炭素数１〜５個、アルコキシは炭素
数１〜４個）、フェニルポリシロキサン、フロロアルキ
ルポリシロキサン（アルキルは炭素数１〜５個）などの
シリコンオイル；グラファイト等の導電性微粉末；二硫
化モリブデン、二硫化タングステンなどの無機粉末；ポ
リエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレン塩化ビニル
共重合体、ポリテトラフルオロエチレン等のプラスチッ
ク微粉末；α−オレフィン重合物；常温で固体の飽和脂
肪酸（炭素数１０から２２）；常温で液状の不飽和脂肪
族炭化水素（ｎ−オレフィン二重結合が末端の炭素に結
合した化合物、炭素数約２０）；炭素数１２〜２０個の
一塩基性脂肪酸と炭素数３〜１２個の一価のアルコール
から成る脂肪酸エステル類、フルオロカーボン類等が使
用できる。 【００３１】上記の中でも飽和脂肪酸と脂肪酸エステル
が好ましく、両者を併用することがより好ましい。脂肪
酸エステルの原料となるアルコールとしてはエタノー
ル、ブタノール、フェノール、ベンジルアルコール、２
−メチルブチルアルコール、２−ヘキシルデシルアルコ
ール、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチ
レングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリ
コールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ
ブチルエーテル、ｓ−ブチルアルコール等の系モノアル
コール類、エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、グリセリン、ソルビタン
誘導体等の多価アルコールが挙げられる。同じく脂肪酸
としては酢酸、プロピオン酸、オクタン酸、２−エチル
ヘキサン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ステアリン
酸、パルミチン酸、ベヘン酸、アラキン酸、オレイン
酸、リノール酸、リノレン酸、エライジン酸、パルミト
レイン酸等の脂肪族カルボン酸またはこれらの混合物が
挙げられる。 【００３２】脂肪酸エステルとしての具体例は、ブチル
ステアレート、ｓ−ブチルステアレート、イソプロピル
ステアレート、ブチルオレエート、アミルステアレー
ト、３−メチルブチルステアレート、２−エチルヘキシ
ルステアレート、２−ヘキシルデシルステアレート、ブ
チルパルミテート、２−エチルヘキシルミリステート、
ブチルステアレートとブチルパルミテートの混合物、ブ
トキシエチルステアレート、２−ブトキシ−１−プロピ
ルステアレート、ジプロピレングリコールモノブチルエ
ーテルをステアリン酸でアシル化したもの、ジエチレン
グリコールジパルミテート、ヘキサメチレンジオールを
ミリスチン酸でアシル化してジオールとしたもの、グリ
セリンのオレエート等の種々のエステル化合物を挙げる
ことができる。 【００３３】さらに、磁気記録媒体を高湿度下で使用す
るときしばしば生ずる脂肪酸エステルの加水分解を軽減
するために、原料の脂肪酸及びアルコールの分岐／直
鎖、シス／トランス等の異性構造、分岐位置を選択する
ことがなされる。これらの潤滑剤は結合剤１００質量部
に対して通常、０．２〜２０質量部の範囲で添加され
る。 【００３４】潤滑剤としては、更に以下の化合物を使用
することもできる。即ち、シリコンオイル、グラファイ
ト、二硫化モリブデン、窒化ほう素、弗化黒鉛、フッ素
アルコール、ポリオレフィン、ポリグリコール、アルキ
ル燐酸エステル、二硫化タングステン等である。 【００３５】本発明の磁性層に用いられる研磨剤として
は、一般に使用される材料でα、γアルミナ、溶融アル
ミナ、コランダム、人造コランダム、炭化珪素、酸化ク
ロム（Ｃｒ2Ｏ3）、ダイヤモンド、人造ダイヤモンド、
ザクロ石、エメリー（主成分：コランダムと磁鉄鉱）、
αＦｅ2Ｏ3等が使用される。これらの研磨剤はモース硬
度が６以上である。具体的な例としては住友化学社製、
ＡＫＰ−１０、ＡＫＰ−１５、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−
３０、ＡＫＰ−５０、ＡＫＰ−１５２０、ＡＫＰ−１５
００、ＨＩＴ−５０、ＨＩＴ６０Ａ、ＨＩＴ６０Ｇ、Ｈ
ＩＴ７０、ＨＩＴ８０、ＨＩＴ８２、ＨＩＴ−１００、
日本化学工業社製、Ｇ５、Ｇ７、Ｓ−１、酸化クロム
Ｋ、上村工業社製ＵＢ４０Ｂ、不二見研磨剤社製ＷＡ８
０００、ＷＡ１００００、ＬＡＮＤＳ社製ＬＳ６００Ｆ
０／−１／４、東名ダイヤ社製ＭＤ−２００、ＭＤ−
１５０、ＭＤ−１００、ＭＤ−７０、ＩＲＭ ０−１／
４Ｆ、ＩＲＭ ０−１／４ＦＦ、ＧＥ社製 ０−１／１
０、０−１／４、ＤｏＰｕｎｔ社製マイポレックス １
／１０ＱＧ、同 １／８ＱＧ、戸田工業社製ＴＦ１０
０、ＴＦ１４０、ＴＦ１８０などが挙げられる。平均粒
子径が０．０５〜１μｍのものは効果があり、好ましく
は０．０５〜０．５μｍである。研磨剤を単独で使用す
るだけでなく、２種類以上の研磨剤を併用することも好
適で、微粒子ダイヤモンドの場合は他の研磨剤と併用す
ることで、磁性体に対する添加量を０．１％程度に減少
することができる。これら研磨剤の合計量は磁性体１０
０質量部に対して通常、１〜２０質量部、望ましくは１
〜１５質量部の範囲で添加される。１質量部より少ない
と十分な耐久性が得られず、２０質量部より多すぎると
表面性、充填度が劣化する。これら研磨剤は、あらかじ
め結合剤で分散処理したのち磁性塗料中に添加してもか
まわない。 【００３６】本発明の磁気記録媒体の磁性層中には、前
記非磁性粉末の他に帯電防止剤として導電性粒子を含有
することもできる。帯電防止剤としては特に、カーボン
ブラックを添加することは、媒体全体の表面電気抵抗を
下げる点で好ましい。本発明に使用できるカ−ボンブラ
ックはゴム用ファ−ネス、ゴム用サ−マル、カラ−用ブ
ラック、導電性カーボンブラック、アセチレンブラック
等を用いることができる。比表面積は５〜５００ｍ2／
ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜１５００ｍｌ／１００ｇ、粒
子径は５〜３００ｎｍ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．
１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｃｍ3、が好
ましい。本発明に用いられるカ−ボンブラックの具体的
な例としてはキャボット社製、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ
２０００、１３００、１０００、９００、８００、７
００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、旭カ−ボン社製、＃
８０、＃６０、＃５５、＃５０、＃３５、三菱化学社
製、＃３０３０Ｂ、＃３０４０Ｂ、＃３０５０Ｂ、＃３
２３０Ｂ、＃３３５０Ｂ、＃９１８０Ｂ、＃２７００、
＃２６５０、＃２６００、＃２４００Ｂ、＃２３００、
＃９５０Ｂ、＃９００、＃１０００、＃９５、＃３０、
＃４０、＃１０Ｂ、ＭＡ２３０、ＭＡ２２０、ＭＡ７
７、コロンビアンカ−ボン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ
ＳＣ、ＲＡＶＥＮ １５０、５０、４０、１５、ライオ
ンアグゾ社製ケッチェンブラックＥＣ、ケッチェンブラ
ックＥＣＤＪ−５００、ケッチェンブラックＥＣＤＪ−
６００などが挙げられる。カ−ボンブラックを分散剤な
どで表面処理したり、カーボンブラックを酸化処理した
り、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグ
ラファイト化したものを使用してもかまわない。また、
カ−ボンブラックを磁性塗料に添加する前にあらかじめ
結合剤で分散してもかまわない。磁性層にカ−ボンブラ
ックを使用する場合は磁性体に対する量は０．１〜３０
質量％でもちいることが好ましい。さらに後述する非磁
性層には全非磁性粉末に対し３〜２０質量％含有させる
ことが好ましい。 【００３７】一般的にカ−ボンブラックは帯電防止剤と
してだけでなく、摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向
上などの働きがあり、これらは用いるカ−ボンブラック
により異なる。従って本発明に使用されるこれらのカ−
ボンブラックは、その種類、量、組合せを変え、粉体サ
イズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性を
もとに目的に応じて使い分けることはもちろん可能であ
る。使用できるカーボンブラックは例えば「カ−ボンブ
ラック便覧」（カ−ボンブラック協会編）を参考にする
ことができる。 【００３８】本発明の六方晶系フェライト粉末を含有す
る磁性層を含む磁気記録媒体は、支持体と磁性層の間に
非磁性層を設ける構成であれば、特に限定されず、公知
の層構成が可能である。非磁性層（下層ともいう）は、
非磁性粉末を結合剤樹脂中に分散した層が好ましい。そ
の非磁性層に使用される非磁性粉末には、種々のものが
使用できる。例えば、α化率９０％以上のα−アルミ
ナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、板状ＡｌＯＯＨ、炭
化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、ゲ
−タイト、コランダム、窒化珪素、チタンカ−バイト、
酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸
カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウムなどが単独
または組合せで使用される。微細で粒度がそろっている
ものとして、α−酸化鉄、ゲ−タイト、酸化チタン、酸
化亜鉛、板状ＡｌＯＯＨが好適である。これら非磁性粉
末の粒子サイズは０．０１〜１μｍが好ましいが、必要
に応じて粒子サイズの異なる非磁性粉末を組み合わせた
り、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くして同様の効
果をもたせることもできる。使用する結合剤樹脂との相
互作用を大きくし分散性を改良するために、使用する非
磁性粉末が表面処理されていてもよい。表面処理により
粒子表面に存在させる物としては、シリカ、アルミナ、
シリカ−アルミナなどの無機物でも、カップリング剤に
より形成されるものでもよい。タップ密度は０．３〜２
ｇ／ｃｍ3、含水率は０．１〜５質量％、ｐＨは２〜１
１、比表面積は５〜１００ｍ2／ｇ、が好ましい。前記
非磁性粉末の形状は針状、球状、サイコロ状、板状のい
ずれでも良い。 【００３９】非磁性粉末の具体的な例としては、昭和電
工製ナノタイト、住友化学製ＨＩＴ−１００、ＨＩＴ−
８０、戸田工業製α−酸化鉄ＤＰＮ−２５０ＢＸ、ＤＰ
Ｎ−２４５、ＤＰＮ−２７０ＢＸ、ＤＰＮ−５５０Ｒ
Ｘ、ＤＢＮ−４５０ＢＸ、ＤＢＮ−６５０ＲＸ、ＤＡＮ
−８５０ＲＸ、石原産業製酸化チタンＴＴＯ−５１Ｂ、
ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ−５５Ｂ、ＴＴＯ−５５Ｃ、Ｔ
ＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｄ、ＳＮ−１００、チタン
工業製酸化チタンＳＴＴ−４Ｄ、ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴ
Ｔ−３０、ＳＴＴ−６５Ｃ、テイカ製酸化チタンＭＴ−
１００Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−１５０Ｗ、ＭＴ−５
００Ｂ、ＭＴ−６００Ｂ、ＭＴ−１００Ｆ、ＭＴ−５０
０ＨＤ、堺化学製ＦＩＮＥＸ−２５、ＢＦ−１、ＢＦ−
１０、ＢＦ−２０、ＳＴ−Ｍ、同和鉱業製酸化鉄ＤＥＦ
ＩＣ−Ｙ、ＤＥＦＩＣ−Ｒ、日本アエロジル製ＡＳ２Ｂ
Ｍ、ＴｉＯ２ Ｐ２５、宇部興産製１００Ａ、５００
Ａ、及びそれを焼成したものが挙げられる。 【００４０】上述のように支持体上に複数の塗布層を形
成させることは高記録密度の磁気記録媒体を製造するう
えで有効であり、同時塗布方式は超薄層の磁性層を作り
出すことができるので特に優れている。その同時塗布方
式、即ち、ウェット・オン・ウェット方式の具体的な方
法としては、 【００４１】（１）磁性塗料で一般的に用いられるグラ
ビア塗布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージ
ョン塗布装置によりまず下層を塗布し、その層がまだ湿
潤状態にあるうちに、例えば、特公平１−４６１８６号
公報、特開昭６０−２３８１７９合公報及び特開平２−
２６５６７２号公報に開示されている支持体加圧型エク
ストルージョン塗布装置により上層を塗布する方法、 【００４２】（２）特開昭６３−８８０８０号公報、特
開平２−１７９７１号公報及び特開平２−２６５６７２
号公報に開示されているような塗布液通液スリットを二
つ内蔵した塗布ヘッドにより、下層の塗布液及び上層の
塗布液をほぼ同時に塗布する方法、 【００４３】（３）特開平２−１７４９６５号公報に開
示されているバックアップロール付きエクストルージョ
ン塗布装置により、上層及び下層をほぼ同時に塗布する
方法、等が挙げられる。 【００４４】ウェット・オン・ウェット方式で塗布する
場合、磁性層用塗布液と非磁性層用塗布液の流動特性は
できるだけ近い方が、塗布された磁性層と非磁性層の界
面の乱れがなく厚さが均一な厚み変動の少ない磁性層を
得ることができる。塗布液の流動特性は、塗布液中の粉
末粒子と結合剤樹脂の組み合わせに強く依存するので、
特に、非磁性層に使用する非磁性粉末の選択に留意する
必要がある。また非磁性支持体上に非磁性の下層をもう
け、乾燥、巻取り後必要によりカレンダー処理を行った
後、磁性層を塗布してもよい。 【００４５】本磁気記録媒体の支持体は、通常、３〜１
００μｍ、テ−プ状で使用する時は望ましくは３〜２０
μｍ、フレキシブルディスクとして使用する場合は２５
〜８０μｍが好ましく、支持体上に設ける非磁性層は、
通常、０．５〜５．０μｍ、好ましくは０．５〜３μｍ
である。磁性層厚みは好ましくは０．０１〜０．５μｍ
である。また、前記磁性層及び前記非磁性層以外の他の
層を目的に応じて形成することもできる。例えば、支持
体と下層の間に密着性向上のための下塗り層を設けても
かまわない。この厚みは通常、０．０１〜１μｍ、好ま
しくは０．０５〜０．３μｍである。また、磁性層を担
持する面とは反対側の支持体面上にバック層を設けても
かまわない。この厚みは通常、０．１〜１．０μｍ、好
ましくは０．２〜０．８μｍである。これらの下塗り
層、バック層は公知のものが使用できる。円盤状磁気記
録媒体の場合、両面もしくは片面に上記磁性層を含む構
成を設けることができる。 【００４６】本発明で使用される支持体には特に制限は
なく、通常使用されているものを用いることができる。
支持体を形成する素材の例としては、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカー
ボネート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポ
リアミドイミド、ポリイミド、ポリサルホン、ポリエー
テルサルホン等の各種合成樹脂のフィルム、およびアル
ミニウム箔、ステンレス箔などの金属箔を挙げることが
できる。 【００４７】本発明の目的を有効に達成するには、支持
体の表面粗さは、中心線平均表面粗さＲａ（カットオフ
値０．２５ｍｍ）で０．０３μｍ以下、望ましく０．０
２μｍ以下、さらに望ましく０．０１μｍ以下である。
また、これらの支持体は単に前記中心線平均表面粗さが
小さいだけではなく、１μｍ以上の粗大突起がないこと
が好ましい。また表面の粗さ形状は必要に応じて支持体
に添加されるフィラ−の大きさと量により自由にコント
ロ−ルされるものである。これらのフィラ−の一例とし
ては、Ｃａ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の
他、アクリル系などの有機樹脂微粉末があげられる。本
発明に用いられる支持体のウエブ走行方向のＦ−５値は
好ましくは５〜５０Ｋｇ／ｍｍ2（４９〜４９０ＭＰ
ａ）、ウエブ幅方向のＦ−５値は好ましくは３〜３０Ｋ
ｇ／ｍｍ2（２９．４〜２９４ＭＰａ）であり、ウエブ
長い手方向のＦ−５値がウエブ幅方向のＦ−５値より高
いのが一般的であるが、特に幅方向の強度を高くする必
要があるときはその限りでない。 【００４８】また、支持体のウエブ走行方向および幅方
向の１００℃、３０分での熱収縮率は好ましくは３％以
下、さらに望ましくは１．５％以下、８０℃、３０分で
の熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに望ましくは
０．５％以下である。破断強度は両方向とも５〜１００
Ｋｇ／ｍｍ2（４９〜９８０ＭＰａ）、弾性率は１００
〜２０００Ｋｇ／ｍｍ2（９８０〜１９６００ＭＰａ）
が望ましい。 【００４９】本発明で用いられる有機溶媒は任意の比率
でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホ
ロン、テトラヒドロフラン等のケトン類、メタノ−ル、
エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル、イソブチルア
ルコ−ル、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキ
サノール、などのアルコ−ル類、酢酸メチル、酢酸ブチ
ル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、
酢酸グリコ−ル等のエステル類、グリコ−ルジメチルエ
ーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン、
などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエン、キ
シレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳香族炭
化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロライド、
四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、
ジクロルベンゼン、等の塩素化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、ヘキサン等のものが使用できる。
これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではなく、主成
分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化
物、水分等の不純分がふくまれてもかまわない。これら
の不純分は３０％以下が好ましく、さらに好ましくは１
０％以下である。本発明で用いる有機溶媒は必要ならば
各層でその種類、量を変えてもかまわない。下層に揮発
性の高い溶媒をもちい表面性を向上させる、下層に表面
張力の高い溶媒（シクロヘキサノン、ジオキサンなど）
を用い塗布の安定性をあげる、磁性層に溶解性パラメ−
タの高い溶媒を用い充填度を上げるなどがその例として
あげられるがこれらの例に限られたものではないことは
無論である。 【００５０】本発明の磁気記録媒体は、前記強磁性粉末
と結合剤樹脂、及び必要ならば他の添加剤と共に有機溶
媒を用いて混練分散し、磁性塗料を支持体上に塗布し、
必要に応じて配向、乾燥して得られる。 【００５１】本発明の磁気記録媒体の磁性塗料、非磁性
塗料を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工
程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混
合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわ
かれていてもかまわない。本発明に使用する磁性体、非
磁性粉末、結合剤、カ−ボンブラック、研磨剤、帯電防
止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程の最初
または途中で添加してもかまわない。また、個々の原料
を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。例
えば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散後の粘
度調整のための混合工程で分割して投入してもよい。 【００５２】磁性塗料の混練分散に当たっては各種の混
練機が使用される。例えば、二本ロールミル、三本ロー
ルミル、ボールミル、ペブルミル、トロンミル、サンド
グラインダー、ゼグバリ（Ｓｚｅｇｖａｒｉ）、アトラ
イター、高速インペラー分散機、高速ストーンミル、高
速衝撃ミル、ディスパー、ニーダー、高速ミキサー、ホ
モジナイザー、超音波分散機などを用いることができ
る。 【００５３】混練工程では連続ニ−ダや加圧ニ−ダなど
強い混練力をもつものを使用することが、磁気記録媒体
の高いＢｒを得る上で好ましい。連続ニ−ダまたは加圧
ニ−ダを用いる場合は磁性体と結合剤のすべてまたはそ
の一部（ただし全結合剤の３０％以上が好ましい）およ
び磁性体１００質量部に対し１５〜５００質量部の範囲
で混練処理される。これらの混練処理の詳細については
特開平１−１０６３３８号公報、特開昭６４−７９２７
４号公報に記載されている。本発明では、特開昭６２−
２１２９３３に示されるような同時重層塗布方式を用い
ることによりより効率的に生産することが出来る。 【００５４】本発明の磁気記録媒体の磁性層中に含まれ
る残留溶媒は好ましくは１００ｍｇ／ｍ2以下、さらに
好ましくは１０ｍｇ／ｍ2以下であり、磁性層に含まれ
る残留溶媒が非磁性層に含まれる残留溶媒より少ないほ
うが好ましい。 【００５５】磁性層が有する空隙率は下層、最上層とも
好ましくは３０容量％以下、さらに好ましくは２０容量
％以下である。非磁性層の空隙率が磁性層の空隙率より
大きいほうが好ましいが非磁性層の空隙率が５容量％以
上であれば小さくてもかまわない。 【００５６】本発明は、目的に応じ下層と磁性層でこれ
らの物理特性を変えることができるのは容易に推定され
ることである。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行耐
久性を向上させると同時に下層の弾性率を磁性層より低
くして磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くするなどで
ある。 【００５７】このような方法により、支持体上に塗布さ
れた磁性層等は必要により層中の強磁性粉末を配向させ
る処理を施したのち、形成した磁性層を乾燥する。又必
要により表面平滑化加工を施したり、所望の形状に裁断
したりして、本発明の磁気記録媒体を製造する。 【００５８】磁性層の０．５％伸びでの弾性率はウエブ
塗布方向、幅方向とも望ましくは１００〜２０００Ｋｇ
／ｍｍ2（９８０〜１９６００ＭＰａ）、破断強度は望
ましくは１〜３０Ｋｇ／ｍｍ2（９．８〜２９４ＭＰ
ａ）、磁気記録媒体の弾性率はウエブ塗布方向、幅方向
とも望ましくは１００〜１５００Ｋｇ／ｍｍ2（９８０
〜１４７００ＭＰａ）、残留のびは望ましくは０．５％
以下、１００℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は望ま
しくは１％以下、さらに望ましくは０．５％以下、もっ
とも望ましくは０．１％以下である。 【００５９】本発明の磁気記録媒体は、ビデオ用途、コ
ンピューターのバックアップ用途などのテープであって
もデーター記録用途のフロッピー（登録商標）ディスク
や磁気ディスクであってもよいが、ドロップアウトの発
生による信号の欠落が致命的となるデジタル記録用途の
媒体に対しては特に有効である。更に、非磁性層と磁性
層の重層構成で、磁性層の厚さを０．３μｍ以下とする
ことにより、電磁変換特性が高い、オーバーライト特性
が優れた、高密度で大容量の磁気記録媒体を得ることが
できる。本発明の新規な特長を以下の実施例で具体的に
説明する。 【００６０】 【実施例】以下、本発明の具体的実施例を説明するが、
本発明はこれに限定されるものではない。 ＜六方晶系フェライト粉末の生成 １＞六方晶系フェラ
イト製造原料として、各種の化合物を酸化物換算で以下
の様に秤量した。下記成分の使用量Ｘ、Ｙ及びＺ並びに
得られた磁性粉（製造例１〜６）について、表１に記載
した。 【００６１】 Ｂ2Ｏ3 ４．７モル ＢａＣＯ3 １０．０モル Ｆｅ2Ｏ3 Ｘモル ＣｏＣＯ3 ０．０５×Ｘモル ＺｎＯ Ｙモル Ｎｂ2Ｏ5 Ｚモル 【００６２】Ｂ2Ｏ3を除く組成物を１２０℃のクエン酸
に溶解させ、約２００℃に保ち原料を均一に混合させ、
４５０℃で加水分解した。さらに空気中６００℃で焼成
し遊離の炭素を除去した。Ｂ2Ｏ3を加え、粉末ミキサー
にて十分混合した後、攪拌機の付属したＰｔ−Ｒｈ製ル
ツボに入れ１３００〜１３５０℃で２時間溶融し、梗塞
で回転しているステンレス製冷却双ロール間に噴出させ
て非晶質体を得て，ボールミルで粉砕処理を行った。次
いで非晶質体をセラミック容器に２ｃｍ厚にひろげ，６
００℃に保持した電気炉中に搬送し１５時間保持後，８
００℃に保持した電気炉中にただちに搬送し５時間保持
した。その後，室温の金属製ホッパーに処理物を投入
し，冷却し結晶粉末を得た。該結晶粉末を遊星ミルによ
り粉砕し２ｍｏｌ／ｌの酢酸水溶液に浸漬し、６０℃、
５時間保持しガラス成分を除去し，ろ別し微結晶を回収
した。回収した微結晶を多量のイオン交換水で水洗し、
脱水した後１００℃で乾燥させ、更にマーラーにて圧密
処理を行い、強磁性粉末を得た。この強磁性粉末をＸ線
回折法で解析するとマグネトプランバイト構造を示し
た。強磁性粉末を透過型電子顕微鏡観察し、平均粉体サ
イズ、変動係数（標準編纂／平均値）を測定した。窒素
中２５０℃で３０分脱気処理し、ＢＥＴ法で比表面積を
測定した。磁気特性はＶＳＭを使用して印加磁界８００
ｋＡ／ｍで測定した。得られたＢａフェライトを塩酸で
溶解し，ＩＣＰを用いて組成の分析を行った．組成はＦ
ｅに対する各元素の原子％（ａｔ％）で表示している．
得られた結果を表１に示す。比較例１〜３は、実施例と
同様の条件でガラス化し、結晶化温度を８００℃とし１
０時間保持し、ガラス成分の除去を行った。 【００６３】 【表１】 【００６４】＜六方晶系フェライト粉末の生成 ２＞六
方晶系フェライト製造原料として、各種の化合物を酸化
物換算で以下の様に秤量した。下記成分の使用量Ｘ、Ｙ
及びＺ並びに得られた磁性粉（製造例７〜９）、につい
て、表２に記載した。 【００６５】 Ｂ2Ｏ3 ４．７モル ＢａＣＯ3 １０．０モル Ｆｅ2Ｏ3 ７．０モル ＭｎＣＯ3 ０．０１５モル ＺｎＯ Ｘモル ＮｉＯ Ｙモル ＴｉＯ2 Ｚモル 【００６６】Ｂ2Ｏ3を除く組成物を１２０℃のクエン酸
に溶解させ、約２００℃に保ち原料を均一に混合させ、
４５０℃で加水分解した。さらに空気中６００℃で焼成
し遊離の炭素を除去した。Ｂ2Ｏ3を加え、粉末ミキサー
にて十分混合した後、攪拌機の付属したＰｔ−Ｒｈ製ル
ツボに入れ１３００〜１３５０℃で２時間溶融し、回転
しているステンレス製冷却双ロール間に噴出させて非晶
質体を得て，ボールミルで粉砕処理を行った。次いで非
晶質体をセラミック容器に２ｃｍ厚にひろげ，６２５℃
に保持した電気炉中に搬送し１５時間保持後，８００℃
に保持した電気炉中にただちに搬送し５時間保持した。
その後，室温の金属製ホッパーに処理物を投入し，冷却
し結晶粉末を得た。該結晶粉末を遊星ミルにより粉砕し
２ｍｏｌ／ｌの酢酸水溶液に浸漬し、６０℃、５時間保
持しガラス成分を除去し，ろ別し微結晶を回収した。回
収した微結晶を多量のイオン交換水で水洗し、脱水した
後１００℃で乾燥させ、更にマーラーにて圧密処理を行
い、強磁性粉末を得た。この強磁性粉末をＸ線回折法で
解析するとマグネトプランバイト構造を示した。強磁性
粉末を透過型電子顕微鏡観察し、平均粉体サイズ、変動
係数を測定した。窒素中２５０℃で３０分脱気処理し、
ＢＥＴ法で比表面積を測定した。磁気特性はＶＳＭを使
用して印加磁界８００ｋＡ／ｍで測定した。得られたＢ
ａフェライトを塩酸で溶解し，ＩＣＰを用いて組成の分
析を行った．組成はＦｅに対する各元素の原子％で表示
している．得られた結果を表２に示す。 【００６７】 【表２】 【００６８】＜塗料の作製＞実施例中、「部」との表示
は「重量部」を示す。 磁性液処方 １ バリウムフェライト（磁性粉表３に示す） １００部 結合剤樹脂 塩化ビニル共重合体 １２部 （−ＳＯ3Ｋ基を１×１０-4ｅｑ／ｇ含有、重合度 ３００） ポリエステルポリウレタン樹脂 ４部 （ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１、−ＳＯ3Ｎａ基：１×１０-4ｅｑ／ｇ含有） α−アルミナ（平均粒子径：０．１５μｍ） ２部 カ−ボンブラック（平均粒子径：３０ｎｍ） ５部 ブチルステアレート ２部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン １２５部 シクロヘキサノン １２５部 【００６９】 バリウムフェライト（磁性粉表４に示す） １００部 結合剤樹脂 塩化ビニル共重合体 １５部 （−ＳＯ3Ｋ基を１×１０-4ｅｑ／ｇ含有、重合度 ３００） ポリエステルポリウレタン樹脂 ６部 （ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１、−ＳＯ3Ｎａ基：１×１０-4ｅｑ／ｇ含有） α−アルミナ（平均粒子径：０．１５μｍ） ２部 カ−ボンブラック（平均粒子径：３０ｎｍ） ５部 ブチルステアレート １０部 ブトキシエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ２部 ステアリン酸 ３部 メチルエチルケトン １２５部 シクロヘキサノン １２５部 【００７０】 非磁性液処方 １ 針状ヘマタイト ８０部 （ＢＥＴ法による比表面積：５５ｍ2／ｇ、 平均長軸長：０．１０μｍ、平均針状比：７、 ｐＨ：８．８、アルミ処理：Ａｌ2Ｏ3として１質量％） カーボンブラック ２０部 （平均粒子径：１７ｎｍ、 ＤＢＰ及油量：８０ｍｌ／１００ｇ、 結合剤樹脂 塩化ビニル共重合体 １２部 （−ＳＯ3Ｋ基を１×１０-4ｅｑ／ｇ含有、重合度 ３００） ポリエステルポリウレタン樹脂 ５部 （ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１、−ＳＯ3Ｎａ基：１×１０-4ｅｑ／ｇ含有） フェニルフォスフォン酸 ３部 ブチルステアレート ３部 ステアリン酸 ３部 メチルエチルケトンとシクロヘキサノン１：１混合溶剤 ２８０部 【００７１】 非磁性液処方 ２ 針状ヘマタイト ８０部 （ＢＥＴ法による比表面積：５５ｍ2／ｇ、 平均長軸長：０．１０μｍ、平均針状比：７、 ｐＨ：８．８、アルミ処理：Ａｌ2Ｏ3として１質量％） カーボンブラック ２０部 （平均粒子径：１７ｎｍ、 ＤＢＰ及油量：８０ｍｌ／１００ｇ、 ＢＥＴ法による表面積：２４０ｍ2／ｇ、ｐＨ７．５） 塩化ビニル共重合体 １５部 （−ＳＯ3Ｋ基を１×１０-4ｅｑ／ｇ含有、重合度 ３００） ポリエステルポリウレタン樹脂 ５部 （ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１、−ＳＯ3Ｎａ基：１×１０-4ｅｑ／ｇ含有） フェニルフォスフォン酸 ３部 ブチルステアレート １０部 ブトキシエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ２部 ステアリン酸 ３部 メチルエチルケトンとシクロヘキサノン１：１混合溶剤 ２８０部 【００７２】上記の磁性液処方１、２及び非磁性液処方
１、２のそれぞれについて、顔料、ポリ塩化ビニル、フ
ェニルフォスフォン酸（非磁性液のみ）と処方量の５０
質量％の各溶剤をニーダーで混練したのち、ポリウレタ
ン樹脂と残りの成分を加えて直径１ｍｍφのＺｒＯ2ビ
ーズを使用しサンドグラインダーで分散した。得られた
分散液にイソシアネートを非磁性液には１５部、磁性液
には１４部を加え、さらにそれぞれにシクロヘキサノン
３０部を加え、１μｍの平均孔径を有するフィルターを
用いて濾過し、非磁性層形成用および磁性層形成用の塗
布液をそれぞれ調製した。 【００７３】＜テープの作成１；実施例１１〜１６，比
較例１１〜１３＞得られた下層非磁性層用の塗布液１を
厚さ７．０μｍのポリエチレンテレフタレート支持体上
に乾燥後の厚さが１．５μｍとなるように塗布し、さら
にその直後下層非磁性層用塗布層がまだ湿潤状態にある
うちに、磁性液処方１の塗布量を制御することで所定の
磁性層厚みとなるように湿式同時重層塗布を行い、両層
がまだ湿潤状態にあるうちに配向装置を通過させ長手配
向した。この時の配向磁石は希土類磁石（表面磁束５０
０ｍＴ）を通過させた後ソレノイド磁石（磁束密度５０
０ｍＴ）中を通過させ、ソレノイド内で配向が戻らない
程度まで乾燥しさらに磁性層を乾燥し巻き取った。その
後金属ロールより構成される７段カレンダーでロール温
度を９０℃にしてカレンダー処理を施して、ウェッブ状
の磁気記録媒体を得、それを８ｍｍ幅にスリットして８
ｍｍビデオテープのサンプルを作成した。振動試料型磁
力計を使用しサンプルの磁気特性とレマネンス曲線、熱
ゆらぎ磁界（Ｈｆ）を測定した。さらに表面粗さ、電磁
変換特性を測定した。 【００７４】＜フレキシブルディスクの作成；実施例２
１，２２，比較例２１＞得られた下層非磁性層用処方２
の塗布液を厚さ６８μｍのポリエチレンテレフタレート
支持体上に乾燥後の厚さが１．５μｍとなるように塗布
し、さらにその直後下層非磁性層用塗布層がまだ湿潤状
態にあるうちに、磁性液処方２による磁性層用塗布液を
用いて磁性層の塗布量を変化させることにより磁性層の
厚みを変化させて湿式同時重層塗布を行い、両層がまだ
湿潤状態にあるうちに中心磁界強度３９８ｋＡ／ｍの同
極対向希土類磁石中を通過させ、長手方向に配向した
後、周波数５０Ｈｚで磁場強度２４ｋＡ／ｍ、ついで周
波数５０Ｈｚで１２ｋＡ／ｍである２つの磁場強度交流
磁場発生装置の中を通過させランダム配向処理を行っ
た。これにより配向度比９８％以上を得ることができ
た。もう片方の支持体面にも同様に塗布、配向、乾燥
後、７段のカレンダで温度９０℃、線圧３００Ｋｇ／ｃ
ｍ（２９４ｋＮ／ｍ）にて処理を行った。３．７吋に打
ち抜き、サーモ処理（７０℃ ２４時間）を行い塗布層
の硬化処理を促進させ、研磨テープでバーニッシュ処理
をおこない、表面の突起を削る後処理を行った。ライナ
ーが内側に設置済の３．７吋のカートリッジ（米 ＩＯ
ＭＥＧＡ社製ＺＩＰ−ディスクカートリッジ）に入れ、
所定の機構部品を付加し、３．７吋フロッピーディスク
を得た。振動試料型磁力計を使用しサンプルの磁気特性
とレマネンス曲線、熱ゆらぎ磁界（Ｈｆ）を測定した。
さらに表面粗さ、電磁変換特性を測定した。 【００７５】＜テープの評価＞得られたサンプルを振動
試料型磁力計で測定した磁気特性、表面粗さ、電磁変換
特性を測定した。電磁変換特性の測定法は次の方法によ
った。データー記録用８ミリデッキにＭＩＧヘッド（ヘ
ッドギャップ０．２μｍ、トラック幅１７μｍ、飽和磁
束密度１．５Ｔ、アジマス角２０°）と再生用ＭＲヘッ
ド（ＳＡＬバイアス、ＭＲ素子はＦｅ−Ｎｉ、トラック
幅６μｍ、ギャップ長０．２μｍ、アジマス角２０°）
を搭載した。ＭＩＧヘッドを用いて、テープとヘッドの
相対速度を１０．２ｍ／秒とし、１／２Ｔｂ（λ＝０．
５μｍ）の入出力特性から最適記録電流を決めこの電流
で信号を記録し、ＭＲヘッドで再生した。Ｃ／Ｎは再生
キャリアのピークから消磁ノイズまでとし、スペクトル
アナライザーの分解能バンド幅は１００ｋＨｚとした。
比較例１２のテープに対する特性で表わした。 【００７６】＜フレキシブルディスクの評価＞出力、Ｓ
／Ｎの測定は、米ＧＵＺＩＫ社製のＲＡＷ１００１型デ
ィスク評価装置及び共同電子システム（株）製スピンス
タンドＬＳ−９０にてギャップ長０．３μｍメタルギャ
ップヘッドを用い、半径２４．６ｍｍの位置において線
記録密度９０ＫＦＣＩ時での再生出力（ＴＡＡ）とＤＣ
イレーズ後のノイズレベルを測定し、Ｓ／Ｎ値を求め
た。 【００７７】＜テープ及びフレキシブルディスクの評価
＞表面粗さは、ＷＹＫＯ社（ＵＳアリゾナ州）製の光干
渉３次元粗さ計「ＴＯＰＯ−３Ｄ」を使用し２５０μｍ
角の試料面積を測定した。測定値の算出にあたっては、
傾斜補正、球面補正、円筒補正等の補正をＪＩＳ−Ｂ６
０１に従って実施し、中心面平均粗さＲａを表面粗さの
値とした。 【００７８】磁気特性（Ｈｃ、ＳＱ、ＳＦＤ）は振動試
料型磁力計（東英工業製）を使用し外部磁界８００ｋＡ
／ｍで配向方向に平行に測定した。東英工業製の振動試
料型磁力計に磁気記録媒体の測定サンプルの配向方向が
磁場と同一方向になるようにセットし、ＡＣ消磁し残留
磁化を０．０００５Ａ・ｍ2/ｋｇ以下とし，７．９６ｋ
Ａ／ｍの磁界を印加したのち磁界をゼロのもどし残留磁
化Ｍｒを測定し、７．９６ｋＡ／ｍずつ印加磁界を変化
し、残留磁化を測定することを繰り返し、レマネンス曲
線Ｉｒ（Ｈ）を測定した。−７９８ｋＡ／ｍ印加しＤＣ
飽和させた後に、磁場をゼロに戻し残留磁化（−Ｍｒｍ
ａｘ）を測定する。逆方向に７．９６ｋＡ／ｍの磁界を
印加したのち磁界をゼロのもどし残留磁化Ｍｒを測定
し、７．９６ｋＡ／ｍずつ印加磁界を変化し、残留磁化
を測定することを繰り返し、レマネンス曲線Ｉｄ（Ｈ）
を測定した。 【００７９】ＤＣ飽和磁化した後、テープＨｃと同じ磁
界を逆方向に印可し磁化の減衰を１０００秒測定し、ｌ
ｎｔ（ｔは時間；秒）に対する１０〜１０００秒間の磁
化減衰の勾配（Ｓ）を求めた。勾配（Ｓ）を残留磁化Ｍ
ｒで規格化し、磁化の減衰勾配とした。レマネンス曲線
より非可逆帯磁率χｉｒｒｅ（Ｈｃ付近の磁界強度の数
値を使用）を求め、Ｈｆ＝Ｓ／χｉｒｒｅより熱揺らぎ
磁界（Ｈｆ）を算出した。異方性磁界Ｈｋは，東英工業
製の磁気トルクメーター（ＴＲＴ−２−１５−ＡＵＴ）
を使用し低磁界から回転ヒステリシスロスＷｒの値を測
定し、８００ｋＡ／ｍまで測定した。印加磁界の逆数１
／Ｈに対してプロットし、Ｗｒカーブの高磁界側データ
ーを２次曲線近似しＷｒが０になる磁界を求めＨｋとし
た。磁性層厚みは、磁気記録媒体を長手方向に渡ってダ
イヤモンドカッターで約０．１μｍの厚味に切り出し、
透過型電子顕微鏡で倍率５００００倍で観察し、その写
真撮影を行った。写真のプリントサイズはＡ４〜Ａ５で
プリントした総合倍率を２０００００倍とした。その
後、磁性層、下層非磁性層の強磁性粉末や非磁性粉末の
形状差に注目して界面を目視判断して黒くふちどり、か
つ磁性層表面も同様に黒くふちどった。その後、Ｚｅｉ
ｓｓ社製画像処理装置ＩＢＡＳ２にてふちどりした線の
長さを測定した。試料写真の長さが２１ｃｍの場合、測
定を８５〜３００回行った。その際の測定値の平均値を
磁性層厚δとした。 【００８０】 【表３】 【００８１】 【表４】 【００８２】表中、「実−」は実施例を、「比−」は比
較例を示す。上表より、実施例の磁気テープ及び磁気デ
ィスクは比較例に比べて出力及びＣ／Ｎ又はＳ／Ｎに優
れていることが分る。 【００８３】 【発明の効果】本発明の磁気記録媒体は従来の磁気記録
媒体に比較して、高いＣ／Ｎをもちかつ磁化減衰勾配が
少ないので、高密度記録が可能であり長期間保存しても
信号の減衰が少ないことが期待できる。
記録媒体に関し、特に強磁性粉末や結合剤を主体とする
磁性塗料を支持体上に塗布して磁性層を形成した塗布型
の磁気記録媒体に関連し、再生に磁気抵抗効果を利用し
たＭＲヘッドを使用したシステムで使用すると特に好適
である磁性層に六方晶系フェライトを含む高密度記録用
磁気記録媒体に関連する。 【０００２】 【従来の技術】従来、ビデオテ−プ、オ−ディオテー
プ、コンピューター用テープ、フレキシブルディスク等
の磁気記録媒体としては強磁性酸化鉄、Ｃｏ変性強磁性
酸化鉄、ＣｒＯ2、強磁性金属粉末、六方晶系フェライ
ト等を結合剤中に分散した磁性層を支持体に塗設したも
のが広く用いられる。この中でも六方晶系フェライトは
高密度記録特性に優れている事が知られている（例え
ば、特開昭６０−１５７７１９号公報，特開昭６２−１
０９２２６号公報，特開平３−２８０２１５号公報）。
特開平５−１２６５０号公報には、該フェライトを用い
た磁性層の厚みを０．１〜０．６μｍとし、磁性層と支
持体の間に磁性層より厚い非磁性層を設け、表面性、短
波長出力、消去特性、耐久性を改善するとしている。特
開平５−２２５５４７号公報には、支持体上に非磁性層
を設け、その上に０．１μｍ以下の磁性粉を含有した磁
性層を設けた磁気記録媒体を開示し、高域特性に優れ、
しかも信号の重ね書き特性の良好な、耐久性も良好な磁
気記録媒体を提供している。 【０００３】また、特開平３−２８６４２０号公報、Ｉ
ＥＥＥ．Ｔｒａｎｓ．Ｍａｇ．ｖｏｌ２４（６）Ｎｏ
ｖ．１９８８、ｐ２８５０等には、六方晶系フェライト
の異方性磁界Ｈｋが磁気記録媒体の電磁変換特性に影響
する事が開示されている。そして、前者では非磁性層上
に磁性層を２層設けた磁気記録媒体であって、下層の磁
性層が長尺方向に磁化容易軸を有し、上層の磁性層に異
方性磁界（Ｈｋ）が２３９ｋＡ／ｍ以下である磁性粉が
配設された磁気記録媒体を開示し、長波長から短波長に
至るまでの広域において高出力の磁気記録媒体を提供す
るとしている。特開平８−１１５５１８号公報には、媒
体のＨｃが１０３．５〜３９８ｋＡ／ｍ、Ｈｃ／Ｈｋが
０．３０〜１．０、かつ面内方向の角型比ＳＱが０．６
５〜１．００である高密度記録用媒体が提案されてい
る。六方晶系フェライト粉末を含む磁性層のＨｃ、Ｈｃ
／ＨＫ、および面内方向のＳＱの各数値範囲を特定した
ことを特徴とし、これにより高密度記録に必要な極短波
長出力を格段に改良したものである。しかしながら、Ｍ
Ｒヘッドを用いたシステムで使用するとき高ノイズとな
り好ましくない。 【０００４】最近、コンピュ−タ−用デ−タ記録システ
ムには、磁気抵抗効果を利用した高感度な再生ヘッド
（ＭＲヘッド）が使用されるようになり、システムノイ
ズは磁気記録媒体に由来するノイズに支配されている。
特開平７−１８２６４６号公報にはＢａフェライトを使
用した媒体をＭＲヘッドで再生することが提案されてい
る．Ｏｋａｂｅらは，Ｂａフェライト媒体をＭＲヘッド
と組み合わせて使用することが，ＭＲヘッドの飽和を回
避するので好ましいことを示唆している（ＩＥＥＥ．Ｔ
ｒａｎｓ．Ｍａｇ．ｖｏｌ３２（５），ｐ３４０４−３
４０６（１９９６）．媒体ノイズを低減するため強磁性
粒子の微細化が進められているが、強磁性粒子の微細化
にともない熱揺らぎの影響を受け、磁化遷移領域の安定
性が問題となることが推定されている。磁化の安定性
は、ＫｕＶ／ｋＴ（Ｋｕは磁気異方性定数、Ｖは粒子体
積、ｋはボルツマン定数、Ｔは絶対温度）で評価されて
いる。メタルテープの粒子体積と熱揺らぎに関しては、
鈴木俊行らによる報告（信学技報ＭＲ９７−５５ Ｐ３
３−４０ １９９７．１１．２１）がある。Ｂａフェラ
イト媒体と熱揺らぎについても鈴木俊行らの報告がある
（信学技報 ＭＲ２０００−４５ ２０００．１１．１
４）。 【０００５】六方晶フェライトは飽和磁化が強磁性金属
粉の約１／３〜１／２であるので、Ｋｕを大きくするこ
とが難しく熱揺らぎは大きくなる。さらに、六方晶フェ
ライトを用いた磁気記録媒体は粒子間の相互作用が大き
く、媒体のノイズレベルに影響すると言われている。粒
子間の相互作用が大きいと磁化の安定性が優れていると
いわれているが、なんらかの原因で粒子が磁化反転する
と周囲の磁性体もひきずられて磁化反転する可能性があ
る。そのためか粉体サイズを微細にした六方晶系フェラ
イト粉末を用いて作成した高密度記録用媒体をＭＲヘッ
ドで再生したときのＣ／Ｎを十分に確保することが困難
であるという問題があった。 【０００６】 【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来技
術の問題点に鑑みなされたものであり、微細な六方晶フ
ェライトを使用した磁気記録媒体を、ＭＲヘッドを使用
して再生したとき短波長出力とＣ／Ｎが良好でかつ記録
された磁化が安定である磁気記録媒体を提供することを
目的としている。 【０００７】 【課題を解決するための手段】本発明の目的は、支持体
上に非磁性粉末を結合剤中に分散させた非磁性層を設け
この上に強磁性粉末を結合剤中に分散してなる磁性層を
設けた磁気記録媒体において、平均板径が１０〜３５ｎ
ｍ，抗磁力Ｈｃが１３５〜４００ｋＡ／ｍであり、かつ
ＳＦＤ（２５℃）が０．４０〜０．９０でありΔＳＦＤ
＝ＳＦＤ（１００℃）−ＳＦＤ（２５℃）が−０．１５
〜０．２０である六方晶系フェライト粉末を含有する磁
性層を有することを特徴とする磁気記録媒体により達成
される。また、本発明は、前記磁性層の厚みが０．０１
〜０．５μｍ、残留磁束密度×磁性層厚みが５〜１００
ｍＴ・μｍである事が好ましい。 【０００８】本発明は、六方晶系フェライト粉末の粉体
サイズ、Ｈｃ、ＳＦＤ（２５℃）及びΔＳＦＤ（即ち、
温度変化によるＳＦＤの変化乃至ＳＦＤの温度依存特
性）の各数値範囲を特定したことを特徴とし、これによ
り高密度記録に必要な極短波長出力と磁化の安定性を格
段に改良したものである。 【０００９】本発明において、磁性層に使用する六方晶
系フェライト粉末は平均板径が１０〜３０ｎｍ、抗磁力
Ｈｃが１３５〜４００ｋＡ／ｍであり、該六方晶系フェ
ライト粉末を含有する磁性層において、抗磁力Ｈｃが１
３５〜４４０ｋＡ／ｍであることが好ましい。大きなＨ
ｃは異方性定数（Ｋｕ）を大きくする方向であり、磁化
の熱安定性を高める発明の目的を達成するために好まし
い。 【００１０】磁性層のＨｃの設定は記録に使用するヘッ
ド性能による所が大きく、Ｆｅ−Ｔａ−Ｎ等の高飽和磁
束密度（Ｂｓ）材料を用いたヘッドが好適に用いられ
る。このＨｃの上限はヘッド材質によるが、磁性層が薄
い場合は、上記４４０ｋＡ／ｍ程度までは記録が可能と
思われる。一方Ｈｃが１３５ｋＡ／ｍ未満では高記録密
度が達成できない。 【００１１】ΔＳＦＤは、振動試料型磁力計（ＶＳＭ）
を使用し印加磁界８００ｋＡ／ｍにて、所定の温度（２
５℃と１００℃）でサンプル（粉体あるいは媒体）が熱
平衡になった状態で磁化曲線を測定し、ＳＦＤを求め
る。ＳＦＤ、即ち、スイッチング・フィールド・ディス
トリビューションは、磁気ヒステリシス曲線の微分曲線
（ｄＢ／ｄＨ）の半値幅ΔＨｃをＨｃで除した値であ
る。従って、ΔＳＦＤは１００℃のＳＦＤ（１００℃）
から２５℃のＳＦＤ（２５℃）を引くことにより求めら
れる。本発明では、六方晶系フェライト粉末のＳＦＤ
（２５℃）を０．４０〜０．９０、好ましくは０．４０
〜０．８０に、ΔＳＦＤを−０．１５〜０．２０に制御
したものを用いる。従って、ＳＦＤ（１００℃）は、
０．２５〜１．１０に制御されることになり、好ましく
は０．２５〜１．００に制御する。 【００１２】六方晶系フェライト粉末の抗磁力、ＳＦＤ
及びΔＳＦＤを制御するためには、組成、粒子径、粒子
厚を制御する、六方晶フェライトのスピネル相の厚みを
制御する、スピネル相の置換元素の量を制御する、スピ
ネル相の置換サイトの場所を制御する、などの方法があ
る。特にＳＦＤを制御する手段としては、六方晶系フェ
ライト粉末の粒子間の組成分布を均一にすることおよび
板径、板状比などで表される粒度分布を小さくすること
が好ましい。また、置換元素として、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｎｂ
の組成を調整することや、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｍｎの組
成を調整すること等が挙げられる。 【００１３】ＭＲヘッドが飽和することにより再生出力
が劣化することを防止するため、本発明の磁気記録媒体
では残留磁束密度（Ｂｒ）×磁性層厚み（δ）は５〜１
００ｍＴ・μｍが好ましい。１００ｍＴ・μｍを超える
とＭＲヘッドの飽和が発生しやすいので好ましくない。
残留磁束密度は好ましくは７０〜２００ｍＴ、更に好ま
しくは７０〜１８０ｍＴの範囲である。また、磁性層の
厚みは、好ましくは０．０１〜０．５μｍ、更に好まし
くは０．０２〜０．３μｍの範囲である。 【００１４】磁化の安定性を評価する磁化の減衰勾配
（ΔＳ）は、好ましくは０〜０．０５、更に好ましくは
０〜０．０４５の範囲である。ΔＳはＤＣ飽和磁化した
後、テープＨｃと同じ磁界を逆方向に印加し磁化の減衰
を１０００秒測定し、ｌｎｔ（ｔは時間；秒）に対する
１０〜１０００秒間の磁化減衰の勾配（Ｓ）を求め、こ
の勾配（Ｓ）を残留磁化Ｍｒで規格化して得られる。 【００１５】熱揺らぎ磁界（Ｈｆ）は、好ましくは０〜
２．０ｋＡ／ｍ、更に好ましくは０〜１．８ｋＡ／ｍの
範囲である。Ｈｆが小さいと、熱揺らぎに対し安定なの
で好ましい。熱揺らぎ磁界（Ｈｆ）は、レマネンス曲線
より非可逆帯磁率χｉｒｒｅ（Ｈｃ付近の磁界強度の数
値を使用）を求め、Ｈｆ＝Ｓ／χｉｒｒｅより算出でき
る。活性化体積Ｖａは、Ｖａ＝ｋＴ／（Ｍｓ・Ｈｆ）よ
り求まる。ｋはボルツマン定数、Ｔは絶対温度、Ｍｓは
体積あたりの飽和磁化である。 【００１６】また、媒体のＳＦＤは磁性層の角型比（Ｓ
Ｑ）の影響を受けることがしられており、ＳＱは０．５
０〜０．７０が好ましく、更に好ましくは０．５５〜
０．６５の範囲である。 【００１７】以下、磁性層（上層ともいう）に使用され
る六方晶系フェライト粉末について説明する。本発明の
上層に含まれる六方晶系フェライト粉末としてバリウム
フェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライ
ト、カルシウムフェライトの各置換体、Ｃｏ置換体等が
挙げられる。具体的にはマグネトプランバイト型のバリ
ウムフェライト及びストロンチウムフェライト、更に一
部スピネル相を含有したマグネトプランバイト型のバリ
ウムフェライト及びストロンチウムフェライト等が挙げ
られ、その他所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、
Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、
Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈ
ｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、
Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂなどの原子を
含んでもかまわない。一般にはＣｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｔｉ
−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｎｂ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｃｏ−Ｚｎ−
Ｎｂ、Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｂ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｔｉ、Ｚ
ｎ−Ｔｉ、Ｚｎ−Ｎｉ等の元素を添加した物を使用する
ことができる。ＳＦＤの観点からは、純粋なマグネトプ
ランバイト型フェライトの方が、スピネル層を多く含む
複合型フェライトよりも好ましい。抗磁力を制御するた
めには、組成、粒子径、粒子厚を制御する、六方晶フェ
ライトのスピネル相の厚みを制御する、スピネル相の置
換元素の量を制御する、スピネル相の置換サイトの場所
を制御する、などの方法がある。本発明に用いられる六
方晶系フェライト粉末は、通常六角板状の粉体であり、
そのサイズは以下のようにして測定する。 【００１８】本明細書において、六方晶系フェライト粉
末のように種々の粉体のサイズ（以下、「粉体サイズ」
と言う）は、高分解能透過型電子顕微鏡写真及び画像解
析装置より求められる。即ち、粉体サイズは、粉体の
形状が針状、紡錘状、柱状（ただし、高さが底面の最大
長径より大きい）等の場合は、粉体を構成する長軸の長
さ、即ち長軸長で表され、粉体の形状が板状乃至柱状
（ただし、厚さ乃至高さが板面乃至底面の最大長径より
小さい）場合は、その板面乃至底面の最大長径で表さ
れ、粉体の形状が球形、多面体状、不特定形等であっ
て、かつ形状から粉体を構成する長軸を特定できない場
合は、円相当径で表される。円相当径とは、円投影法で
求められるものを言う。 【００１９】また、該粉体の平均粉体サイズは、上記粉
体サイズの算術平均であり、約３５０個の一次粒子につ
いて上記の如く測定を実施して求めたものである。一次
粒子とは、凝集のない独立した粉体をいう。また、該粉
体の平均針状比は、上記測定において粉体の短軸の長
さ、即ち短軸長を測定し、各粉体の（長軸長／短軸長）
の値の算術平均を指す。ここで、短軸長とは、上記粉体
サイズの定義での場合は、粉体を構成する短軸の長さ
を、同じくの場合は、厚さ乃至高さを各々指し、の
場合は、長軸と短軸の区別がないから、（長軸長／短軸
長）は、便宜上１とみなす。そして、粉体の形状が特定
の場合、例えば、上記粉体サイズの定義の場合は、平
均粉体サイズを平均長軸長と言い、同定義の場合は平
均粉体サイズを平均板径と言い、（最大長径／厚さ乃至
高さ）の算術平均を平均板状比という。同定義の場合
は平均粉体サイズを平均粒子径という。 【００２０】本発明では六方晶系フェライト粉末の平均
板径は１０〜３０ｎｍ、好ましくは１５〜３０ｎｍの範
囲である。また、該磁性粉の平均板厚は通常、２〜１５
ｎｍであるが特に４〜１０ｎｍが好ましい。更に平均板
状比は好ましくは１．５〜４であり、更に好ましくは２
〜３．８である。平均板径が１０ｎｍ未満のとき、高比
表面積となり、分散が困難となるため好ましくない。ま
た、これら六方晶系フェライト粉末末のＢＥＴ法による
比表面積（ＳBET）は通常２５〜１２０ｍ2／ｇである
が、４０〜１００ｍ2／ｇが好ましい。２５ｍ2／ｇに満
たないとノイズが高くなり、１２０ｍ2／ｇを超えると
分散が困難となり平滑な表面性が得にくく好ましくな
い。含水率は０．３〜２．０％とするのが好ましい。結
合剤の種類によって該磁性粉の含水率は最適化するのが
好ましい。該磁性粉のｐＨは用いる結合剤との組合せに
より最適化することが好ましい。その範囲は４〜１２で
あるが、好ましくは５．５〜１０である。該磁性粉は必
要に応じ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐ、Ｚｒ、Ｍｇまたはこれらの
酸化物や水酸化物などで表面処理を施してもかまわな
い。好ましくはＡｌ2Ｏ3・ｎＨ2ＯまたはＳｉＯ2・ｎＨ
2Ｏによる表面処理であり、用いるバインダによってそ
の量と比率を変えることが好ましい。その量は該磁性粉
に対し０．１〜１０質量％であり表面処理を施すと脂肪
酸などの潤滑剤の吸着が１００ｍｇ／ｍ2以下になり好
ましい。該磁性粉には可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎ
ｉ、Ｓｒなどの無機イオンを含む場合があるが合計量が
少ないほうが好ましいが、０〜１００ｐｐｍ以下であれ
ば特に特性に影響を与えない。また無機アニオン（ＳＯ
4 2-、ＮＯ3 -、Ｃｌ-等）もＭＲ素子を腐食する懸念があ
り、合計量が少ないほうが好ましい。無機アニオン量の
合計が０〜５０ｐｐｍであれば、特に悪影響はない。σ
ｓは３５Ａ・ｍ2/ｋｇ以上、好ましくは４０Ａ・ｍ2/ｋ
ｇ以上である。タップ密度は０．５ｇ／ｍｌ以上が好ま
しく０．８ｇ／ｍｌ以上がさらに好ましい。六方晶系フ
ェライト粉末の製法としてはガラス結晶化法、共沈法、
水熱反応法等があるが、本発明は製法を選ばないが、ガ
ラス結晶化法は微細で粒度分布が良好な粒子が得られる
ので好ましい。 【００２１】本発明の磁気記録媒体における磁性層の結
合剤樹脂は、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、
反応型樹脂やこれらの混合物が使用できる。熱可塑性樹
脂としては、ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数
平均分子量が１０００〜２０００００、好ましくは１０
０００〜１０００００、重合度が約５０〜１０００程度
のものである。 【００２２】このような結合剤樹脂としては、塩化ビニ
ル、酢酸ビニル、ビニルアルコ−ル、マレイン酸、アク
リル酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリ
ロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、ス
チレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラ−ル、ビ
ニルアセタ−ル、ビニルエ−テル、等を構成単位として
含む重合体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴ
ム系樹脂がある。 【００２３】また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂とし
てはフェノ−ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化
型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アク
リル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコ−ン樹
脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイ
ソシアネ−トプレポリマ−の混合物、ポリエステルポリ
オ−ルとポリイソシアネ−トの混合物、ポリウレタンと
ポリイソシアネートの混合物等があげられる。 【００２４】前記の結合剤樹脂に、より優れた強磁性粉
末の分散効果と磁性層の耐久性を得るためには必要に応
じ、ＣＯＯＭ、ＳＯ3Ｍ、ＯＳＯ3Ｍ、Ｐ＝Ｏ（Ｏ
Ｍ）2、Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2、（以上につきＭは水素原
子、またはアルカリ金属塩基）、ＯＨ、ＮＲ2、Ｎ+Ｒ3
（Ｒはアルキル基，アルケニル基，アシル基，アリル
基）、エポキシ基、ＳＨ、ＣＮなどから選ばれる少なく
ともひとつ以上の極性基を共重合または付加反応で導入
したものをもちいることが好ましい。このような極性基
の量は１０-1〜１０-8モル／ｇであり、好ましくは１０
-2〜１０-6モル／ｇである。 【００２５】本発明の磁気記録媒体に用いられる結合剤
樹脂は、強磁性粉末に対し、５〜５０質量％の範囲、好
ましくは１０〜３０質量％の範囲で用いられる。塩化ビ
ニル系樹脂を用いる場合は５〜１００質量％、ポリウレ
タン樹脂を用いる場合は２〜５０質量％、ポリイソシア
ネ−トは２〜１００質量％の範囲でこれらを組み合わせ
て用いるのが好ましい。 【００２６】また、磁性層の六方晶系フェライト粉末の
充填度は、使用した六方晶系フェライト粉末のσｓ及び
最大磁束密度（Ｂｍ）から計算でき（Ｂｍ／４πσｓ）
となり、本発明においてはその値は、望ましくは１．１
〜３．２ｇ／ｃｍ3であり、更に望ましくは１．２〜
３．０ｇ／ｃｍ3である。 【００２７】本発明において、ポリウレタンを用いる場
合はガラス転移温度が−５０〜１００℃、破断伸びが１
００〜２０００％、破断応力は０．０５〜１０Ｋｇ／ｍ
ｍ2（０．４９〜９８ＭＰａ）、降伏点は０．０５〜１
０Ｋｇ／ｍｍ2（０．４９〜９８ＭＰａ）が好ましい。 【００２８】本発明にもちいるポリイソシアネ−トとし
ては、トリレンジイソシアネ−ト、４，４’−ジフェニ
ルメタンジイソシアネ−ト、ヘキサメチレンジイソシア
ネ−ト、キシリレンジイソシアネ−ト、ナフチレン−
１，５−ジイソシアネ−ト、ｏ−トルイジンジイソシア
ネ−ト、イソホロンジイソシアネ−ト、トリフェニルメ
タントリイソシアネ−ト等のイソシアネ−ト類、また、
これらのイソシアネ−ト類とポリアルコールとの生成
物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポ
リイソシアネ−ト等を使用することができる。これらの
イソシアネート類の市販されている商品名としては、日
本ポリウレタン社製、コロネートＬ、コロネ−トＨＬ、
コロネ−ト２０３０、コロネ−ト２０３１、ミリオネ−
トＭＲミリオネ−トＭＴＬ、武田薬品社製、タケネ−ト
Ｄ−１０２，タケネ−トＤ−１１０Ｎ、タケネ−トＤ−
２００、タケネ−トＤ−２０２、住友バイエル社製、デ
スモジュ−ルＬ、デスモジュ−ルＩＬ、デスモジュ−ル
Ｎ、デスモジュ−ルＨＬ、等がありこれらを単独または
硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合
せでもちいることができる。 【００２９】本発明の磁気記録媒体の磁性層中には、通
常、潤滑剤、研磨剤、分散剤、帯電防止剤、分散剤、可
塑剤、防黴剤等などを始めとする種々の機能を有する素
材をその目的に応じて含有させることができる。 【００３０】本発明の磁性層に使用する潤滑剤として
は、ジアルキルポリシロキサン（アルキルは炭素数１〜
５個）、ジアルコキシポリシロキサン（アルコキシは炭
素数１〜４個）、モノアルキルモノアルコキシポリシロ
キサン（アルキルは炭素数１〜５個、アルコキシは炭素
数１〜４個）、フェニルポリシロキサン、フロロアルキ
ルポリシロキサン（アルキルは炭素数１〜５個）などの
シリコンオイル；グラファイト等の導電性微粉末；二硫
化モリブデン、二硫化タングステンなどの無機粉末；ポ
リエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレン塩化ビニル
共重合体、ポリテトラフルオロエチレン等のプラスチッ
ク微粉末；α−オレフィン重合物；常温で固体の飽和脂
肪酸（炭素数１０から２２）；常温で液状の不飽和脂肪
族炭化水素（ｎ−オレフィン二重結合が末端の炭素に結
合した化合物、炭素数約２０）；炭素数１２〜２０個の
一塩基性脂肪酸と炭素数３〜１２個の一価のアルコール
から成る脂肪酸エステル類、フルオロカーボン類等が使
用できる。 【００３１】上記の中でも飽和脂肪酸と脂肪酸エステル
が好ましく、両者を併用することがより好ましい。脂肪
酸エステルの原料となるアルコールとしてはエタノー
ル、ブタノール、フェノール、ベンジルアルコール、２
−メチルブチルアルコール、２−ヘキシルデシルアルコ
ール、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチ
レングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリ
コールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ
ブチルエーテル、ｓ−ブチルアルコール等の系モノアル
コール類、エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、グリセリン、ソルビタン
誘導体等の多価アルコールが挙げられる。同じく脂肪酸
としては酢酸、プロピオン酸、オクタン酸、２−エチル
ヘキサン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ステアリン
酸、パルミチン酸、ベヘン酸、アラキン酸、オレイン
酸、リノール酸、リノレン酸、エライジン酸、パルミト
レイン酸等の脂肪族カルボン酸またはこれらの混合物が
挙げられる。 【００３２】脂肪酸エステルとしての具体例は、ブチル
ステアレート、ｓ−ブチルステアレート、イソプロピル
ステアレート、ブチルオレエート、アミルステアレー
ト、３−メチルブチルステアレート、２−エチルヘキシ
ルステアレート、２−ヘキシルデシルステアレート、ブ
チルパルミテート、２−エチルヘキシルミリステート、
ブチルステアレートとブチルパルミテートの混合物、ブ
トキシエチルステアレート、２−ブトキシ−１−プロピ
ルステアレート、ジプロピレングリコールモノブチルエ
ーテルをステアリン酸でアシル化したもの、ジエチレン
グリコールジパルミテート、ヘキサメチレンジオールを
ミリスチン酸でアシル化してジオールとしたもの、グリ
セリンのオレエート等の種々のエステル化合物を挙げる
ことができる。 【００３３】さらに、磁気記録媒体を高湿度下で使用す
るときしばしば生ずる脂肪酸エステルの加水分解を軽減
するために、原料の脂肪酸及びアルコールの分岐／直
鎖、シス／トランス等の異性構造、分岐位置を選択する
ことがなされる。これらの潤滑剤は結合剤１００質量部
に対して通常、０．２〜２０質量部の範囲で添加され
る。 【００３４】潤滑剤としては、更に以下の化合物を使用
することもできる。即ち、シリコンオイル、グラファイ
ト、二硫化モリブデン、窒化ほう素、弗化黒鉛、フッ素
アルコール、ポリオレフィン、ポリグリコール、アルキ
ル燐酸エステル、二硫化タングステン等である。 【００３５】本発明の磁性層に用いられる研磨剤として
は、一般に使用される材料でα、γアルミナ、溶融アル
ミナ、コランダム、人造コランダム、炭化珪素、酸化ク
ロム（Ｃｒ2Ｏ3）、ダイヤモンド、人造ダイヤモンド、
ザクロ石、エメリー（主成分：コランダムと磁鉄鉱）、
αＦｅ2Ｏ3等が使用される。これらの研磨剤はモース硬
度が６以上である。具体的な例としては住友化学社製、
ＡＫＰ−１０、ＡＫＰ−１５、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−
３０、ＡＫＰ−５０、ＡＫＰ−１５２０、ＡＫＰ−１５
００、ＨＩＴ−５０、ＨＩＴ６０Ａ、ＨＩＴ６０Ｇ、Ｈ
ＩＴ７０、ＨＩＴ８０、ＨＩＴ８２、ＨＩＴ−１００、
日本化学工業社製、Ｇ５、Ｇ７、Ｓ−１、酸化クロム
Ｋ、上村工業社製ＵＢ４０Ｂ、不二見研磨剤社製ＷＡ８
０００、ＷＡ１００００、ＬＡＮＤＳ社製ＬＳ６００Ｆ
０／−１／４、東名ダイヤ社製ＭＤ−２００、ＭＤ−
１５０、ＭＤ−１００、ＭＤ−７０、ＩＲＭ ０−１／
４Ｆ、ＩＲＭ ０−１／４ＦＦ、ＧＥ社製 ０−１／１
０、０−１／４、ＤｏＰｕｎｔ社製マイポレックス １
／１０ＱＧ、同 １／８ＱＧ、戸田工業社製ＴＦ１０
０、ＴＦ１４０、ＴＦ１８０などが挙げられる。平均粒
子径が０．０５〜１μｍのものは効果があり、好ましく
は０．０５〜０．５μｍである。研磨剤を単独で使用す
るだけでなく、２種類以上の研磨剤を併用することも好
適で、微粒子ダイヤモンドの場合は他の研磨剤と併用す
ることで、磁性体に対する添加量を０．１％程度に減少
することができる。これら研磨剤の合計量は磁性体１０
０質量部に対して通常、１〜２０質量部、望ましくは１
〜１５質量部の範囲で添加される。１質量部より少ない
と十分な耐久性が得られず、２０質量部より多すぎると
表面性、充填度が劣化する。これら研磨剤は、あらかじ
め結合剤で分散処理したのち磁性塗料中に添加してもか
まわない。 【００３６】本発明の磁気記録媒体の磁性層中には、前
記非磁性粉末の他に帯電防止剤として導電性粒子を含有
することもできる。帯電防止剤としては特に、カーボン
ブラックを添加することは、媒体全体の表面電気抵抗を
下げる点で好ましい。本発明に使用できるカ−ボンブラ
ックはゴム用ファ−ネス、ゴム用サ−マル、カラ−用ブ
ラック、導電性カーボンブラック、アセチレンブラック
等を用いることができる。比表面積は５〜５００ｍ2／
ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜１５００ｍｌ／１００ｇ、粒
子径は５〜３００ｎｍ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．
１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｃｍ3、が好
ましい。本発明に用いられるカ−ボンブラックの具体的
な例としてはキャボット社製、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ
２０００、１３００、１０００、９００、８００、７
００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、旭カ−ボン社製、＃
８０、＃６０、＃５５、＃５０、＃３５、三菱化学社
製、＃３０３０Ｂ、＃３０４０Ｂ、＃３０５０Ｂ、＃３
２３０Ｂ、＃３３５０Ｂ、＃９１８０Ｂ、＃２７００、
＃２６５０、＃２６００、＃２４００Ｂ、＃２３００、
＃９５０Ｂ、＃９００、＃１０００、＃９５、＃３０、
＃４０、＃１０Ｂ、ＭＡ２３０、ＭＡ２２０、ＭＡ７
７、コロンビアンカ−ボン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ
ＳＣ、ＲＡＶＥＮ １５０、５０、４０、１５、ライオ
ンアグゾ社製ケッチェンブラックＥＣ、ケッチェンブラ
ックＥＣＤＪ−５００、ケッチェンブラックＥＣＤＪ−
６００などが挙げられる。カ−ボンブラックを分散剤な
どで表面処理したり、カーボンブラックを酸化処理した
り、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグ
ラファイト化したものを使用してもかまわない。また、
カ−ボンブラックを磁性塗料に添加する前にあらかじめ
結合剤で分散してもかまわない。磁性層にカ−ボンブラ
ックを使用する場合は磁性体に対する量は０．１〜３０
質量％でもちいることが好ましい。さらに後述する非磁
性層には全非磁性粉末に対し３〜２０質量％含有させる
ことが好ましい。 【００３７】一般的にカ−ボンブラックは帯電防止剤と
してだけでなく、摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向
上などの働きがあり、これらは用いるカ−ボンブラック
により異なる。従って本発明に使用されるこれらのカ−
ボンブラックは、その種類、量、組合せを変え、粉体サ
イズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性を
もとに目的に応じて使い分けることはもちろん可能であ
る。使用できるカーボンブラックは例えば「カ−ボンブ
ラック便覧」（カ−ボンブラック協会編）を参考にする
ことができる。 【００３８】本発明の六方晶系フェライト粉末を含有す
る磁性層を含む磁気記録媒体は、支持体と磁性層の間に
非磁性層を設ける構成であれば、特に限定されず、公知
の層構成が可能である。非磁性層（下層ともいう）は、
非磁性粉末を結合剤樹脂中に分散した層が好ましい。そ
の非磁性層に使用される非磁性粉末には、種々のものが
使用できる。例えば、α化率９０％以上のα−アルミ
ナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、板状ＡｌＯＯＨ、炭
化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、ゲ
−タイト、コランダム、窒化珪素、チタンカ−バイト、
酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸
カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウムなどが単独
または組合せで使用される。微細で粒度がそろっている
ものとして、α−酸化鉄、ゲ−タイト、酸化チタン、酸
化亜鉛、板状ＡｌＯＯＨが好適である。これら非磁性粉
末の粒子サイズは０．０１〜１μｍが好ましいが、必要
に応じて粒子サイズの異なる非磁性粉末を組み合わせた
り、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くして同様の効
果をもたせることもできる。使用する結合剤樹脂との相
互作用を大きくし分散性を改良するために、使用する非
磁性粉末が表面処理されていてもよい。表面処理により
粒子表面に存在させる物としては、シリカ、アルミナ、
シリカ−アルミナなどの無機物でも、カップリング剤に
より形成されるものでもよい。タップ密度は０．３〜２
ｇ／ｃｍ3、含水率は０．１〜５質量％、ｐＨは２〜１
１、比表面積は５〜１００ｍ2／ｇ、が好ましい。前記
非磁性粉末の形状は針状、球状、サイコロ状、板状のい
ずれでも良い。 【００３９】非磁性粉末の具体的な例としては、昭和電
工製ナノタイト、住友化学製ＨＩＴ−１００、ＨＩＴ−
８０、戸田工業製α−酸化鉄ＤＰＮ−２５０ＢＸ、ＤＰ
Ｎ−２４５、ＤＰＮ−２７０ＢＸ、ＤＰＮ−５５０Ｒ
Ｘ、ＤＢＮ−４５０ＢＸ、ＤＢＮ−６５０ＲＸ、ＤＡＮ
−８５０ＲＸ、石原産業製酸化チタンＴＴＯ−５１Ｂ、
ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ−５５Ｂ、ＴＴＯ−５５Ｃ、Ｔ
ＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｄ、ＳＮ−１００、チタン
工業製酸化チタンＳＴＴ−４Ｄ、ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴ
Ｔ−３０、ＳＴＴ−６５Ｃ、テイカ製酸化チタンＭＴ−
１００Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−１５０Ｗ、ＭＴ−５
００Ｂ、ＭＴ−６００Ｂ、ＭＴ−１００Ｆ、ＭＴ−５０
０ＨＤ、堺化学製ＦＩＮＥＸ−２５、ＢＦ−１、ＢＦ−
１０、ＢＦ−２０、ＳＴ−Ｍ、同和鉱業製酸化鉄ＤＥＦ
ＩＣ−Ｙ、ＤＥＦＩＣ−Ｒ、日本アエロジル製ＡＳ２Ｂ
Ｍ、ＴｉＯ２ Ｐ２５、宇部興産製１００Ａ、５００
Ａ、及びそれを焼成したものが挙げられる。 【００４０】上述のように支持体上に複数の塗布層を形
成させることは高記録密度の磁気記録媒体を製造するう
えで有効であり、同時塗布方式は超薄層の磁性層を作り
出すことができるので特に優れている。その同時塗布方
式、即ち、ウェット・オン・ウェット方式の具体的な方
法としては、 【００４１】（１）磁性塗料で一般的に用いられるグラ
ビア塗布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージ
ョン塗布装置によりまず下層を塗布し、その層がまだ湿
潤状態にあるうちに、例えば、特公平１−４６１８６号
公報、特開昭６０−２３８１７９合公報及び特開平２−
２６５６７２号公報に開示されている支持体加圧型エク
ストルージョン塗布装置により上層を塗布する方法、 【００４２】（２）特開昭６３−８８０８０号公報、特
開平２−１７９７１号公報及び特開平２−２６５６７２
号公報に開示されているような塗布液通液スリットを二
つ内蔵した塗布ヘッドにより、下層の塗布液及び上層の
塗布液をほぼ同時に塗布する方法、 【００４３】（３）特開平２−１７４９６５号公報に開
示されているバックアップロール付きエクストルージョ
ン塗布装置により、上層及び下層をほぼ同時に塗布する
方法、等が挙げられる。 【００４４】ウェット・オン・ウェット方式で塗布する
場合、磁性層用塗布液と非磁性層用塗布液の流動特性は
できるだけ近い方が、塗布された磁性層と非磁性層の界
面の乱れがなく厚さが均一な厚み変動の少ない磁性層を
得ることができる。塗布液の流動特性は、塗布液中の粉
末粒子と結合剤樹脂の組み合わせに強く依存するので、
特に、非磁性層に使用する非磁性粉末の選択に留意する
必要がある。また非磁性支持体上に非磁性の下層をもう
け、乾燥、巻取り後必要によりカレンダー処理を行った
後、磁性層を塗布してもよい。 【００４５】本磁気記録媒体の支持体は、通常、３〜１
００μｍ、テ−プ状で使用する時は望ましくは３〜２０
μｍ、フレキシブルディスクとして使用する場合は２５
〜８０μｍが好ましく、支持体上に設ける非磁性層は、
通常、０．５〜５．０μｍ、好ましくは０．５〜３μｍ
である。磁性層厚みは好ましくは０．０１〜０．５μｍ
である。また、前記磁性層及び前記非磁性層以外の他の
層を目的に応じて形成することもできる。例えば、支持
体と下層の間に密着性向上のための下塗り層を設けても
かまわない。この厚みは通常、０．０１〜１μｍ、好ま
しくは０．０５〜０．３μｍである。また、磁性層を担
持する面とは反対側の支持体面上にバック層を設けても
かまわない。この厚みは通常、０．１〜１．０μｍ、好
ましくは０．２〜０．８μｍである。これらの下塗り
層、バック層は公知のものが使用できる。円盤状磁気記
録媒体の場合、両面もしくは片面に上記磁性層を含む構
成を設けることができる。 【００４６】本発明で使用される支持体には特に制限は
なく、通常使用されているものを用いることができる。
支持体を形成する素材の例としては、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカー
ボネート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポ
リアミドイミド、ポリイミド、ポリサルホン、ポリエー
テルサルホン等の各種合成樹脂のフィルム、およびアル
ミニウム箔、ステンレス箔などの金属箔を挙げることが
できる。 【００４７】本発明の目的を有効に達成するには、支持
体の表面粗さは、中心線平均表面粗さＲａ（カットオフ
値０．２５ｍｍ）で０．０３μｍ以下、望ましく０．０
２μｍ以下、さらに望ましく０．０１μｍ以下である。
また、これらの支持体は単に前記中心線平均表面粗さが
小さいだけではなく、１μｍ以上の粗大突起がないこと
が好ましい。また表面の粗さ形状は必要に応じて支持体
に添加されるフィラ−の大きさと量により自由にコント
ロ−ルされるものである。これらのフィラ−の一例とし
ては、Ｃａ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の
他、アクリル系などの有機樹脂微粉末があげられる。本
発明に用いられる支持体のウエブ走行方向のＦ−５値は
好ましくは５〜５０Ｋｇ／ｍｍ2（４９〜４９０ＭＰ
ａ）、ウエブ幅方向のＦ−５値は好ましくは３〜３０Ｋ
ｇ／ｍｍ2（２９．４〜２９４ＭＰａ）であり、ウエブ
長い手方向のＦ−５値がウエブ幅方向のＦ−５値より高
いのが一般的であるが、特に幅方向の強度を高くする必
要があるときはその限りでない。 【００４８】また、支持体のウエブ走行方向および幅方
向の１００℃、３０分での熱収縮率は好ましくは３％以
下、さらに望ましくは１．５％以下、８０℃、３０分で
の熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに望ましくは
０．５％以下である。破断強度は両方向とも５〜１００
Ｋｇ／ｍｍ2（４９〜９８０ＭＰａ）、弾性率は１００
〜２０００Ｋｇ／ｍｍ2（９８０〜１９６００ＭＰａ）
が望ましい。 【００４９】本発明で用いられる有機溶媒は任意の比率
でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホ
ロン、テトラヒドロフラン等のケトン類、メタノ−ル、
エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル、イソブチルア
ルコ−ル、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキ
サノール、などのアルコ−ル類、酢酸メチル、酢酸ブチ
ル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、
酢酸グリコ−ル等のエステル類、グリコ−ルジメチルエ
ーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン、
などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエン、キ
シレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳香族炭
化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロライド、
四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、
ジクロルベンゼン、等の塩素化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、ヘキサン等のものが使用できる。
これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではなく、主成
分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化
物、水分等の不純分がふくまれてもかまわない。これら
の不純分は３０％以下が好ましく、さらに好ましくは１
０％以下である。本発明で用いる有機溶媒は必要ならば
各層でその種類、量を変えてもかまわない。下層に揮発
性の高い溶媒をもちい表面性を向上させる、下層に表面
張力の高い溶媒（シクロヘキサノン、ジオキサンなど）
を用い塗布の安定性をあげる、磁性層に溶解性パラメ−
タの高い溶媒を用い充填度を上げるなどがその例として
あげられるがこれらの例に限られたものではないことは
無論である。 【００５０】本発明の磁気記録媒体は、前記強磁性粉末
と結合剤樹脂、及び必要ならば他の添加剤と共に有機溶
媒を用いて混練分散し、磁性塗料を支持体上に塗布し、
必要に応じて配向、乾燥して得られる。 【００５１】本発明の磁気記録媒体の磁性塗料、非磁性
塗料を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工
程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混
合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわ
かれていてもかまわない。本発明に使用する磁性体、非
磁性粉末、結合剤、カ−ボンブラック、研磨剤、帯電防
止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程の最初
または途中で添加してもかまわない。また、個々の原料
を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。例
えば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散後の粘
度調整のための混合工程で分割して投入してもよい。 【００５２】磁性塗料の混練分散に当たっては各種の混
練機が使用される。例えば、二本ロールミル、三本ロー
ルミル、ボールミル、ペブルミル、トロンミル、サンド
グラインダー、ゼグバリ（Ｓｚｅｇｖａｒｉ）、アトラ
イター、高速インペラー分散機、高速ストーンミル、高
速衝撃ミル、ディスパー、ニーダー、高速ミキサー、ホ
モジナイザー、超音波分散機などを用いることができ
る。 【００５３】混練工程では連続ニ−ダや加圧ニ−ダなど
強い混練力をもつものを使用することが、磁気記録媒体
の高いＢｒを得る上で好ましい。連続ニ−ダまたは加圧
ニ−ダを用いる場合は磁性体と結合剤のすべてまたはそ
の一部（ただし全結合剤の３０％以上が好ましい）およ
び磁性体１００質量部に対し１５〜５００質量部の範囲
で混練処理される。これらの混練処理の詳細については
特開平１−１０６３３８号公報、特開昭６４−７９２７
４号公報に記載されている。本発明では、特開昭６２−
２１２９３３に示されるような同時重層塗布方式を用い
ることによりより効率的に生産することが出来る。 【００５４】本発明の磁気記録媒体の磁性層中に含まれ
る残留溶媒は好ましくは１００ｍｇ／ｍ2以下、さらに
好ましくは１０ｍｇ／ｍ2以下であり、磁性層に含まれ
る残留溶媒が非磁性層に含まれる残留溶媒より少ないほ
うが好ましい。 【００５５】磁性層が有する空隙率は下層、最上層とも
好ましくは３０容量％以下、さらに好ましくは２０容量
％以下である。非磁性層の空隙率が磁性層の空隙率より
大きいほうが好ましいが非磁性層の空隙率が５容量％以
上であれば小さくてもかまわない。 【００５６】本発明は、目的に応じ下層と磁性層でこれ
らの物理特性を変えることができるのは容易に推定され
ることである。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行耐
久性を向上させると同時に下層の弾性率を磁性層より低
くして磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くするなどで
ある。 【００５７】このような方法により、支持体上に塗布さ
れた磁性層等は必要により層中の強磁性粉末を配向させ
る処理を施したのち、形成した磁性層を乾燥する。又必
要により表面平滑化加工を施したり、所望の形状に裁断
したりして、本発明の磁気記録媒体を製造する。 【００５８】磁性層の０．５％伸びでの弾性率はウエブ
塗布方向、幅方向とも望ましくは１００〜２０００Ｋｇ
／ｍｍ2（９８０〜１９６００ＭＰａ）、破断強度は望
ましくは１〜３０Ｋｇ／ｍｍ2（９．８〜２９４ＭＰ
ａ）、磁気記録媒体の弾性率はウエブ塗布方向、幅方向
とも望ましくは１００〜１５００Ｋｇ／ｍｍ2（９８０
〜１４７００ＭＰａ）、残留のびは望ましくは０．５％
以下、１００℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は望ま
しくは１％以下、さらに望ましくは０．５％以下、もっ
とも望ましくは０．１％以下である。 【００５９】本発明の磁気記録媒体は、ビデオ用途、コ
ンピューターのバックアップ用途などのテープであって
もデーター記録用途のフロッピー（登録商標）ディスク
や磁気ディスクであってもよいが、ドロップアウトの発
生による信号の欠落が致命的となるデジタル記録用途の
媒体に対しては特に有効である。更に、非磁性層と磁性
層の重層構成で、磁性層の厚さを０．３μｍ以下とする
ことにより、電磁変換特性が高い、オーバーライト特性
が優れた、高密度で大容量の磁気記録媒体を得ることが
できる。本発明の新規な特長を以下の実施例で具体的に
説明する。 【００６０】 【実施例】以下、本発明の具体的実施例を説明するが、
本発明はこれに限定されるものではない。 ＜六方晶系フェライト粉末の生成 １＞六方晶系フェラ
イト製造原料として、各種の化合物を酸化物換算で以下
の様に秤量した。下記成分の使用量Ｘ、Ｙ及びＺ並びに
得られた磁性粉（製造例１〜６）について、表１に記載
した。 【００６１】 Ｂ2Ｏ3 ４．７モル ＢａＣＯ3 １０．０モル Ｆｅ2Ｏ3 Ｘモル ＣｏＣＯ3 ０．０５×Ｘモル ＺｎＯ Ｙモル Ｎｂ2Ｏ5 Ｚモル 【００６２】Ｂ2Ｏ3を除く組成物を１２０℃のクエン酸
に溶解させ、約２００℃に保ち原料を均一に混合させ、
４５０℃で加水分解した。さらに空気中６００℃で焼成
し遊離の炭素を除去した。Ｂ2Ｏ3を加え、粉末ミキサー
にて十分混合した後、攪拌機の付属したＰｔ−Ｒｈ製ル
ツボに入れ１３００〜１３５０℃で２時間溶融し、梗塞
で回転しているステンレス製冷却双ロール間に噴出させ
て非晶質体を得て，ボールミルで粉砕処理を行った。次
いで非晶質体をセラミック容器に２ｃｍ厚にひろげ，６
００℃に保持した電気炉中に搬送し１５時間保持後，８
００℃に保持した電気炉中にただちに搬送し５時間保持
した。その後，室温の金属製ホッパーに処理物を投入
し，冷却し結晶粉末を得た。該結晶粉末を遊星ミルによ
り粉砕し２ｍｏｌ／ｌの酢酸水溶液に浸漬し、６０℃、
５時間保持しガラス成分を除去し，ろ別し微結晶を回収
した。回収した微結晶を多量のイオン交換水で水洗し、
脱水した後１００℃で乾燥させ、更にマーラーにて圧密
処理を行い、強磁性粉末を得た。この強磁性粉末をＸ線
回折法で解析するとマグネトプランバイト構造を示し
た。強磁性粉末を透過型電子顕微鏡観察し、平均粉体サ
イズ、変動係数（標準編纂／平均値）を測定した。窒素
中２５０℃で３０分脱気処理し、ＢＥＴ法で比表面積を
測定した。磁気特性はＶＳＭを使用して印加磁界８００
ｋＡ／ｍで測定した。得られたＢａフェライトを塩酸で
溶解し，ＩＣＰを用いて組成の分析を行った．組成はＦ
ｅに対する各元素の原子％（ａｔ％）で表示している．
得られた結果を表１に示す。比較例１〜３は、実施例と
同様の条件でガラス化し、結晶化温度を８００℃とし１
０時間保持し、ガラス成分の除去を行った。 【００６３】 【表１】 【００６４】＜六方晶系フェライト粉末の生成 ２＞六
方晶系フェライト製造原料として、各種の化合物を酸化
物換算で以下の様に秤量した。下記成分の使用量Ｘ、Ｙ
及びＺ並びに得られた磁性粉（製造例７〜９）、につい
て、表２に記載した。 【００６５】 Ｂ2Ｏ3 ４．７モル ＢａＣＯ3 １０．０モル Ｆｅ2Ｏ3 ７．０モル ＭｎＣＯ3 ０．０１５モル ＺｎＯ Ｘモル ＮｉＯ Ｙモル ＴｉＯ2 Ｚモル 【００６６】Ｂ2Ｏ3を除く組成物を１２０℃のクエン酸
に溶解させ、約２００℃に保ち原料を均一に混合させ、
４５０℃で加水分解した。さらに空気中６００℃で焼成
し遊離の炭素を除去した。Ｂ2Ｏ3を加え、粉末ミキサー
にて十分混合した後、攪拌機の付属したＰｔ−Ｒｈ製ル
ツボに入れ１３００〜１３５０℃で２時間溶融し、回転
しているステンレス製冷却双ロール間に噴出させて非晶
質体を得て，ボールミルで粉砕処理を行った。次いで非
晶質体をセラミック容器に２ｃｍ厚にひろげ，６２５℃
に保持した電気炉中に搬送し１５時間保持後，８００℃
に保持した電気炉中にただちに搬送し５時間保持した。
その後，室温の金属製ホッパーに処理物を投入し，冷却
し結晶粉末を得た。該結晶粉末を遊星ミルにより粉砕し
２ｍｏｌ／ｌの酢酸水溶液に浸漬し、６０℃、５時間保
持しガラス成分を除去し，ろ別し微結晶を回収した。回
収した微結晶を多量のイオン交換水で水洗し、脱水した
後１００℃で乾燥させ、更にマーラーにて圧密処理を行
い、強磁性粉末を得た。この強磁性粉末をＸ線回折法で
解析するとマグネトプランバイト構造を示した。強磁性
粉末を透過型電子顕微鏡観察し、平均粉体サイズ、変動
係数を測定した。窒素中２５０℃で３０分脱気処理し、
ＢＥＴ法で比表面積を測定した。磁気特性はＶＳＭを使
用して印加磁界８００ｋＡ／ｍで測定した。得られたＢ
ａフェライトを塩酸で溶解し，ＩＣＰを用いて組成の分
析を行った．組成はＦｅに対する各元素の原子％で表示
している．得られた結果を表２に示す。 【００６７】 【表２】 【００６８】＜塗料の作製＞実施例中、「部」との表示
は「重量部」を示す。 磁性液処方 １ バリウムフェライト（磁性粉表３に示す） １００部 結合剤樹脂 塩化ビニル共重合体 １２部 （−ＳＯ3Ｋ基を１×１０-4ｅｑ／ｇ含有、重合度 ３００） ポリエステルポリウレタン樹脂 ４部 （ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１、−ＳＯ3Ｎａ基：１×１０-4ｅｑ／ｇ含有） α−アルミナ（平均粒子径：０．１５μｍ） ２部 カ−ボンブラック（平均粒子径：３０ｎｍ） ５部 ブチルステアレート ２部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン １２５部 シクロヘキサノン １２５部 【００６９】 バリウムフェライト（磁性粉表４に示す） １００部 結合剤樹脂 塩化ビニル共重合体 １５部 （−ＳＯ3Ｋ基を１×１０-4ｅｑ／ｇ含有、重合度 ３００） ポリエステルポリウレタン樹脂 ６部 （ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１、−ＳＯ3Ｎａ基：１×１０-4ｅｑ／ｇ含有） α−アルミナ（平均粒子径：０．１５μｍ） ２部 カ−ボンブラック（平均粒子径：３０ｎｍ） ５部 ブチルステアレート １０部 ブトキシエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ２部 ステアリン酸 ３部 メチルエチルケトン １２５部 シクロヘキサノン １２５部 【００７０】 非磁性液処方 １ 針状ヘマタイト ８０部 （ＢＥＴ法による比表面積：５５ｍ2／ｇ、 平均長軸長：０．１０μｍ、平均針状比：７、 ｐＨ：８．８、アルミ処理：Ａｌ2Ｏ3として１質量％） カーボンブラック ２０部 （平均粒子径：１７ｎｍ、 ＤＢＰ及油量：８０ｍｌ／１００ｇ、 結合剤樹脂 塩化ビニル共重合体 １２部 （−ＳＯ3Ｋ基を１×１０-4ｅｑ／ｇ含有、重合度 ３００） ポリエステルポリウレタン樹脂 ５部 （ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１、−ＳＯ3Ｎａ基：１×１０-4ｅｑ／ｇ含有） フェニルフォスフォン酸 ３部 ブチルステアレート ３部 ステアリン酸 ３部 メチルエチルケトンとシクロヘキサノン１：１混合溶剤 ２８０部 【００７１】 非磁性液処方 ２ 針状ヘマタイト ８０部 （ＢＥＴ法による比表面積：５５ｍ2／ｇ、 平均長軸長：０．１０μｍ、平均針状比：７、 ｐＨ：８．８、アルミ処理：Ａｌ2Ｏ3として１質量％） カーボンブラック ２０部 （平均粒子径：１７ｎｍ、 ＤＢＰ及油量：８０ｍｌ／１００ｇ、 ＢＥＴ法による表面積：２４０ｍ2／ｇ、ｐＨ７．５） 塩化ビニル共重合体 １５部 （−ＳＯ3Ｋ基を１×１０-4ｅｑ／ｇ含有、重合度 ３００） ポリエステルポリウレタン樹脂 ５部 （ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１、−ＳＯ3Ｎａ基：１×１０-4ｅｑ／ｇ含有） フェニルフォスフォン酸 ３部 ブチルステアレート １０部 ブトキシエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ２部 ステアリン酸 ３部 メチルエチルケトンとシクロヘキサノン１：１混合溶剤 ２８０部 【００７２】上記の磁性液処方１、２及び非磁性液処方
１、２のそれぞれについて、顔料、ポリ塩化ビニル、フ
ェニルフォスフォン酸（非磁性液のみ）と処方量の５０
質量％の各溶剤をニーダーで混練したのち、ポリウレタ
ン樹脂と残りの成分を加えて直径１ｍｍφのＺｒＯ2ビ
ーズを使用しサンドグラインダーで分散した。得られた
分散液にイソシアネートを非磁性液には１５部、磁性液
には１４部を加え、さらにそれぞれにシクロヘキサノン
３０部を加え、１μｍの平均孔径を有するフィルターを
用いて濾過し、非磁性層形成用および磁性層形成用の塗
布液をそれぞれ調製した。 【００７３】＜テープの作成１；実施例１１〜１６，比
較例１１〜１３＞得られた下層非磁性層用の塗布液１を
厚さ７．０μｍのポリエチレンテレフタレート支持体上
に乾燥後の厚さが１．５μｍとなるように塗布し、さら
にその直後下層非磁性層用塗布層がまだ湿潤状態にある
うちに、磁性液処方１の塗布量を制御することで所定の
磁性層厚みとなるように湿式同時重層塗布を行い、両層
がまだ湿潤状態にあるうちに配向装置を通過させ長手配
向した。この時の配向磁石は希土類磁石（表面磁束５０
０ｍＴ）を通過させた後ソレノイド磁石（磁束密度５０
０ｍＴ）中を通過させ、ソレノイド内で配向が戻らない
程度まで乾燥しさらに磁性層を乾燥し巻き取った。その
後金属ロールより構成される７段カレンダーでロール温
度を９０℃にしてカレンダー処理を施して、ウェッブ状
の磁気記録媒体を得、それを８ｍｍ幅にスリットして８
ｍｍビデオテープのサンプルを作成した。振動試料型磁
力計を使用しサンプルの磁気特性とレマネンス曲線、熱
ゆらぎ磁界（Ｈｆ）を測定した。さらに表面粗さ、電磁
変換特性を測定した。 【００７４】＜フレキシブルディスクの作成；実施例２
１，２２，比較例２１＞得られた下層非磁性層用処方２
の塗布液を厚さ６８μｍのポリエチレンテレフタレート
支持体上に乾燥後の厚さが１．５μｍとなるように塗布
し、さらにその直後下層非磁性層用塗布層がまだ湿潤状
態にあるうちに、磁性液処方２による磁性層用塗布液を
用いて磁性層の塗布量を変化させることにより磁性層の
厚みを変化させて湿式同時重層塗布を行い、両層がまだ
湿潤状態にあるうちに中心磁界強度３９８ｋＡ／ｍの同
極対向希土類磁石中を通過させ、長手方向に配向した
後、周波数５０Ｈｚで磁場強度２４ｋＡ／ｍ、ついで周
波数５０Ｈｚで１２ｋＡ／ｍである２つの磁場強度交流
磁場発生装置の中を通過させランダム配向処理を行っ
た。これにより配向度比９８％以上を得ることができ
た。もう片方の支持体面にも同様に塗布、配向、乾燥
後、７段のカレンダで温度９０℃、線圧３００Ｋｇ／ｃ
ｍ（２９４ｋＮ／ｍ）にて処理を行った。３．７吋に打
ち抜き、サーモ処理（７０℃ ２４時間）を行い塗布層
の硬化処理を促進させ、研磨テープでバーニッシュ処理
をおこない、表面の突起を削る後処理を行った。ライナ
ーが内側に設置済の３．７吋のカートリッジ（米 ＩＯ
ＭＥＧＡ社製ＺＩＰ−ディスクカートリッジ）に入れ、
所定の機構部品を付加し、３．７吋フロッピーディスク
を得た。振動試料型磁力計を使用しサンプルの磁気特性
とレマネンス曲線、熱ゆらぎ磁界（Ｈｆ）を測定した。
さらに表面粗さ、電磁変換特性を測定した。 【００７５】＜テープの評価＞得られたサンプルを振動
試料型磁力計で測定した磁気特性、表面粗さ、電磁変換
特性を測定した。電磁変換特性の測定法は次の方法によ
った。データー記録用８ミリデッキにＭＩＧヘッド（ヘ
ッドギャップ０．２μｍ、トラック幅１７μｍ、飽和磁
束密度１．５Ｔ、アジマス角２０°）と再生用ＭＲヘッ
ド（ＳＡＬバイアス、ＭＲ素子はＦｅ−Ｎｉ、トラック
幅６μｍ、ギャップ長０．２μｍ、アジマス角２０°）
を搭載した。ＭＩＧヘッドを用いて、テープとヘッドの
相対速度を１０．２ｍ／秒とし、１／２Ｔｂ（λ＝０．
５μｍ）の入出力特性から最適記録電流を決めこの電流
で信号を記録し、ＭＲヘッドで再生した。Ｃ／Ｎは再生
キャリアのピークから消磁ノイズまでとし、スペクトル
アナライザーの分解能バンド幅は１００ｋＨｚとした。
比較例１２のテープに対する特性で表わした。 【００７６】＜フレキシブルディスクの評価＞出力、Ｓ
／Ｎの測定は、米ＧＵＺＩＫ社製のＲＡＷ１００１型デ
ィスク評価装置及び共同電子システム（株）製スピンス
タンドＬＳ−９０にてギャップ長０．３μｍメタルギャ
ップヘッドを用い、半径２４．６ｍｍの位置において線
記録密度９０ＫＦＣＩ時での再生出力（ＴＡＡ）とＤＣ
イレーズ後のノイズレベルを測定し、Ｓ／Ｎ値を求め
た。 【００７７】＜テープ及びフレキシブルディスクの評価
＞表面粗さは、ＷＹＫＯ社（ＵＳアリゾナ州）製の光干
渉３次元粗さ計「ＴＯＰＯ−３Ｄ」を使用し２５０μｍ
角の試料面積を測定した。測定値の算出にあたっては、
傾斜補正、球面補正、円筒補正等の補正をＪＩＳ−Ｂ６
０１に従って実施し、中心面平均粗さＲａを表面粗さの
値とした。 【００７８】磁気特性（Ｈｃ、ＳＱ、ＳＦＤ）は振動試
料型磁力計（東英工業製）を使用し外部磁界８００ｋＡ
／ｍで配向方向に平行に測定した。東英工業製の振動試
料型磁力計に磁気記録媒体の測定サンプルの配向方向が
磁場と同一方向になるようにセットし、ＡＣ消磁し残留
磁化を０．０００５Ａ・ｍ2/ｋｇ以下とし，７．９６ｋ
Ａ／ｍの磁界を印加したのち磁界をゼロのもどし残留磁
化Ｍｒを測定し、７．９６ｋＡ／ｍずつ印加磁界を変化
し、残留磁化を測定することを繰り返し、レマネンス曲
線Ｉｒ（Ｈ）を測定した。−７９８ｋＡ／ｍ印加しＤＣ
飽和させた後に、磁場をゼロに戻し残留磁化（−Ｍｒｍ
ａｘ）を測定する。逆方向に７．９６ｋＡ／ｍの磁界を
印加したのち磁界をゼロのもどし残留磁化Ｍｒを測定
し、７．９６ｋＡ／ｍずつ印加磁界を変化し、残留磁化
を測定することを繰り返し、レマネンス曲線Ｉｄ（Ｈ）
を測定した。 【００７９】ＤＣ飽和磁化した後、テープＨｃと同じ磁
界を逆方向に印可し磁化の減衰を１０００秒測定し、ｌ
ｎｔ（ｔは時間；秒）に対する１０〜１０００秒間の磁
化減衰の勾配（Ｓ）を求めた。勾配（Ｓ）を残留磁化Ｍ
ｒで規格化し、磁化の減衰勾配とした。レマネンス曲線
より非可逆帯磁率χｉｒｒｅ（Ｈｃ付近の磁界強度の数
値を使用）を求め、Ｈｆ＝Ｓ／χｉｒｒｅより熱揺らぎ
磁界（Ｈｆ）を算出した。異方性磁界Ｈｋは，東英工業
製の磁気トルクメーター（ＴＲＴ−２−１５−ＡＵＴ）
を使用し低磁界から回転ヒステリシスロスＷｒの値を測
定し、８００ｋＡ／ｍまで測定した。印加磁界の逆数１
／Ｈに対してプロットし、Ｗｒカーブの高磁界側データ
ーを２次曲線近似しＷｒが０になる磁界を求めＨｋとし
た。磁性層厚みは、磁気記録媒体を長手方向に渡ってダ
イヤモンドカッターで約０．１μｍの厚味に切り出し、
透過型電子顕微鏡で倍率５００００倍で観察し、その写
真撮影を行った。写真のプリントサイズはＡ４〜Ａ５で
プリントした総合倍率を２０００００倍とした。その
後、磁性層、下層非磁性層の強磁性粉末や非磁性粉末の
形状差に注目して界面を目視判断して黒くふちどり、か
つ磁性層表面も同様に黒くふちどった。その後、Ｚｅｉ
ｓｓ社製画像処理装置ＩＢＡＳ２にてふちどりした線の
長さを測定した。試料写真の長さが２１ｃｍの場合、測
定を８５〜３００回行った。その際の測定値の平均値を
磁性層厚δとした。 【００８０】 【表３】 【００８１】 【表４】 【００８２】表中、「実−」は実施例を、「比−」は比
較例を示す。上表より、実施例の磁気テープ及び磁気デ
ィスクは比較例に比べて出力及びＣ／Ｎ又はＳ／Ｎに優
れていることが分る。 【００８３】 【発明の効果】本発明の磁気記録媒体は従来の磁気記録
媒体に比較して、高いＣ／Ｎをもちかつ磁化減衰勾配が
少ないので、高密度記録が可能であり長期間保存しても
信号の減衰が少ないことが期待できる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 支持体上に非磁性粉末を結合剤中に分散
させた非磁性層を設けこの上に強磁性粉末を結合剤中に
分散してなる磁性層を設けた磁気記録媒体において、平
均板径が１０〜３５ｎｍ，抗磁力Ｈｃが１３５〜４００
ｋＡ／ｍであり、かつＳＦＤ（２５℃）が０．４０〜
０．９０でありΔＳＦＤ＝ＳＦＤ（１００℃）−ＳＦＤ
（２５℃）が−０．１５〜０．２０である六方晶系フェ
ライト粉末を含有する磁性層を有することを特徴とする
磁気記録媒体。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001266018A JP2003077116A (ja) | 2001-09-03 | 2001-09-03 | 磁気記録媒体 |
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