JPH0620254A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体およびその製造方法Info
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- JPH0620254A JPH0620254A JP4200662A JP20066292A JPH0620254A JP H0620254 A JPH0620254 A JP H0620254A JP 4200662 A JP4200662 A JP 4200662A JP 20066292 A JP20066292 A JP 20066292A JP H0620254 A JPH0620254 A JP H0620254A
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- G11B5/842—Coating a support with a liquid magnetic dispersion
- G11B5/845—Coating a support with a liquid magnetic dispersion in a magnetic field
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- Dispersion Chemistry (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 再生波形の非対称性が小さく記録密度が大き
く出力が高く、しかもＳ／Ｎの良好な磁気記録媒体およ
びその製造方法を提供する。 【構成】 六方晶系フェライト粒子の磁性粉末とバイン
ダとを含む塗布型の磁性層を有し、磁性層の記録トラッ
ク方向の角形比をSQRx、前記磁性層面内で記録トラック
方向に垂直な方向の角形比をSQRyとしたとき、SQRx≧
０．５０、SQRy≦０．３５であり、磁性層のＸ線回折に
おける（ｈｋｌ）面のピーク強度をＩ（ｈｋｌ）とし、
Ｉ＝Ｉ（００６）＋Ｉ（１１０）＋Ｉ（１０７）＋Ｉ
（１１４）、α＝Ｉ（００６）×１００／Ｉ［％］とし
たとき、α≧３％である。
く出力が高く、しかもＳ／Ｎの良好な磁気記録媒体およ
びその製造方法を提供する。 【構成】 六方晶系フェライト粒子の磁性粉末とバイン
ダとを含む塗布型の磁性層を有し、磁性層の記録トラッ
ク方向の角形比をSQRx、前記磁性層面内で記録トラック
方向に垂直な方向の角形比をSQRyとしたとき、SQRx≧
０．５０、SQRy≦０．３５であり、磁性層のＸ線回折に
おける（ｈｋｌ）面のピーク強度をＩ（ｈｋｌ）とし、
Ｉ＝Ｉ（００６）＋Ｉ（１１０）＋Ｉ（１０７）＋Ｉ
（１１４）、α＝Ｉ（００６）×１００／Ｉ［％］とし
たとき、α≧３％である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ビデオテープや磁気デ
ィスク等の高密度記録用塗布型磁気記録媒体とその製造
方法とに関する。
ィスク等の高密度記録用塗布型磁気記録媒体とその製造
方法とに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来からγ−Ｆｅ2 Ｏ3 等の針状強磁性
粉末を用いた塗布型磁気記録媒体が、オーディオテー
プ、ビデオテープ、磁気ディスク等に利用されている。
これらの塗布型磁気記録媒体では、磁化容易軸を磁性層
面内方向に配向し、面内磁化による磁気記録が行なわれ
る。しかし、面内磁化による記録では、記録密度が高く
なるにつれて自己減磁が大きくなるため、高記録密度化
には限界がある。
粉末を用いた塗布型磁気記録媒体が、オーディオテー
プ、ビデオテープ、磁気ディスク等に利用されている。
これらの塗布型磁気記録媒体では、磁化容易軸を磁性層
面内方向に配向し、面内磁化による磁気記録が行なわれ
る。しかし、面内磁化による記録では、記録密度が高く
なるにつれて自己減磁が大きくなるため、高記録密度化
には限界がある。
【０００３】このような事情から、磁性層に垂直な方向
に磁性粉末を配向させた媒体と単磁極ヘッドとの組み合
わせで、垂直磁化により磁気記録を行なう、いわゆる垂
直磁気記録方式が提案されている。垂直磁気記録方式で
は、記録密度が高くなるほど磁性層内の減磁界が零に近
づく性質があるため、記録密度の大幅な向上が可能であ
る。塗布型垂直磁気記録媒体用の磁性粉末としては、垂
直方向の配向が容易であることから、バリウムフェライ
ト粉末等の六角板状の六方晶系フェライト粉末が用いら
れている。垂直磁気記録媒体では、通常、単磁極ヘッド
を用いるため、摺動による媒体や磁気ヘッドの損耗等の
問題が生じる。しかし、垂直磁気記録媒体に対してＭＩ
Ｇ型磁気ヘッド等の面内磁気記録用の磁気ヘッドを使っ
た場合、再生波形の非対称化や、磁気ヘッドの能力不足
によるオーバーライト特性の悪化などの問題が生じ、特
にデジタル記録に問題が生じる。
に磁性粉末を配向させた媒体と単磁極ヘッドとの組み合
わせで、垂直磁化により磁気記録を行なう、いわゆる垂
直磁気記録方式が提案されている。垂直磁気記録方式で
は、記録密度が高くなるほど磁性層内の減磁界が零に近
づく性質があるため、記録密度の大幅な向上が可能であ
る。塗布型垂直磁気記録媒体用の磁性粉末としては、垂
直方向の配向が容易であることから、バリウムフェライ
ト粉末等の六角板状の六方晶系フェライト粉末が用いら
れている。垂直磁気記録媒体では、通常、単磁極ヘッド
を用いるため、摺動による媒体や磁気ヘッドの損耗等の
問題が生じる。しかし、垂直磁気記録媒体に対してＭＩ
Ｇ型磁気ヘッド等の面内磁気記録用の磁気ヘッドを使っ
た場合、再生波形の非対称化や、磁気ヘッドの能力不足
によるオーバーライト特性の悪化などの問題が生じ、特
にデジタル記録に問題が生じる。
【０００４】そこで、現実的には従来の面内磁気記録方
式の延長線上で高記録密度化が進んでいくことになると
考えられる。例えば、磁性層面内の記録トラック方向だ
けに配向させた面内磁気記録方式ではなく、磁性層に垂
直な方向の配向成分を活かした記録方式に移行すること
が考えられる。このような例として、特開平３−２８０
２１５号公報には、強磁性六方晶フェライト粉末を用い
た塗布型媒体において、残留磁化を、長手方向＞垂直方
向＞面内幅方向の関係とし、また、残留磁化／飽和磁化
の比（角形比）を、長手方向で０．６以上、垂直方向で
０．３〜０．７、面内幅方向で０．３以下とすることが
提案されている。ただし、同公報記載の磁気記録媒体
は、ビデオ関係の記録における長波長・短波長出力のバ
ランスをとることを目的としている。
式の延長線上で高記録密度化が進んでいくことになると
考えられる。例えば、磁性層面内の記録トラック方向だ
けに配向させた面内磁気記録方式ではなく、磁性層に垂
直な方向の配向成分を活かした記録方式に移行すること
が考えられる。このような例として、特開平３−２８０
２１５号公報には、強磁性六方晶フェライト粉末を用い
た塗布型媒体において、残留磁化を、長手方向＞垂直方
向＞面内幅方向の関係とし、また、残留磁化／飽和磁化
の比（角形比）を、長手方向で０．６以上、垂直方向で
０．３〜０．７、面内幅方向で０．３以下とすることが
提案されている。ただし、同公報記載の磁気記録媒体
は、ビデオ関係の記録における長波長・短波長出力のバ
ランスをとることを目的としている。
【０００５】六方晶系フェライト粉末は、垂直磁気記録
用として好適であるが、磁化反転の鋭さを利用して面内
記録の媒体に利用する動きも起こっており、上記公報に
おいても使用されている。六角板状の六方晶系フェライ
ト粉末は、通常の針状磁性粉末と異なり磁性粒子間の相
互作用が大きいため、磁化曲線（Ｂ−Ｈループ）から予
想される粒子の配向よりも、透過型電子顕微鏡（ＴＥ
Ｍ）等による観察から得られる実際の粒子配向の程度は
悪いものとなってしまう。すなわち、ミクロにみた粒子
配列とマクロにみた磁気特性とが一致しない。磁性層中
の磁性粉末の配向を示すパラメータとしては、上記した
角形比や配向度（配向方向の角形比／配向方向に垂直な
方向の角形比）があるが、六方晶系フェライト粉末で
は、記録トラック方向および磁性層に垂直な方向それぞ
れの角形比や配向度が良好な値であっても、実際の粒子
配列が揃っていないと実際の記録・再生において良好な
電磁変換特性が得られず、特にＳ／Ｎが不良となってし
まう。
用として好適であるが、磁化反転の鋭さを利用して面内
記録の媒体に利用する動きも起こっており、上記公報に
おいても使用されている。六角板状の六方晶系フェライ
ト粉末は、通常の針状磁性粉末と異なり磁性粒子間の相
互作用が大きいため、磁化曲線（Ｂ−Ｈループ）から予
想される粒子の配向よりも、透過型電子顕微鏡（ＴＥ
Ｍ）等による観察から得られる実際の粒子配向の程度は
悪いものとなってしまう。すなわち、ミクロにみた粒子
配列とマクロにみた磁気特性とが一致しない。磁性層中
の磁性粉末の配向を示すパラメータとしては、上記した
角形比や配向度（配向方向の角形比／配向方向に垂直な
方向の角形比）があるが、六方晶系フェライト粉末で
は、記録トラック方向および磁性層に垂直な方向それぞ
れの角形比や配向度が良好な値であっても、実際の粒子
配列が揃っていないと実際の記録・再生において良好な
電磁変換特性が得られず、特にＳ／Ｎが不良となってし
まう。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような事
情からなされたものであり、垂直配向成分をもつ面内磁
気記録媒体であって、再生波形の非対称性が小さく記録
密度が大きく出力が高く、しかもＳ／Ｎの良好な磁気記
録媒体を提供することを目的とし、また、このような磁
気記録媒体を容易に製造することのできる方法を提供す
ることを目的とする。
情からなされたものであり、垂直配向成分をもつ面内磁
気記録媒体であって、再生波形の非対称性が小さく記録
密度が大きく出力が高く、しかもＳ／Ｎの良好な磁気記
録媒体を提供することを目的とし、また、このような磁
気記録媒体を容易に製造することのできる方法を提供す
ることを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（５）の本発明により達成される。
（１）〜（５）の本発明により達成される。
【０００８】（１）実質的に六方晶系フェライト粒子か
ら構成される磁性粉末とバインダとを含む塗布型の磁性
層を有する磁気記録媒体であって、前記磁性層の記録ト
ラック方向の角形比をSQRx、前記磁性層面内で記録トラ
ック方向に垂直な方向の角形比をSQRyとしたとき、 SQRx≧０．５０、 SQRy≦０．３５ であり、前記磁性層のＸ線回折における（ｈｋｌ）面の
ピーク強度をＩ（ｈｋｌ）とし、Ｉ＝Ｉ（００６）＋Ｉ
（１１０）＋Ｉ（１０７）＋Ｉ（１１４）、α＝Ｉ（０
０６）×１００／Ｉ［％］としたとき、 α≧３％ であることを特徴とする磁気記録媒体。
ら構成される磁性粉末とバインダとを含む塗布型の磁性
層を有する磁気記録媒体であって、前記磁性層の記録ト
ラック方向の角形比をSQRx、前記磁性層面内で記録トラ
ック方向に垂直な方向の角形比をSQRyとしたとき、 SQRx≧０．５０、 SQRy≦０．３５ であり、前記磁性層のＸ線回折における（ｈｋｌ）面の
ピーク強度をＩ（ｈｋｌ）とし、Ｉ＝Ｉ（００６）＋Ｉ
（１１０）＋Ｉ（１０７）＋Ｉ（１１４）、α＝Ｉ（０
０６）×１００／Ｉ［％］としたとき、 α≧３％ であることを特徴とする磁気記録媒体。
【０００９】（２）第一の磁性塗膜に記録トラック方向
の磁界を印加して配向を行なった後、乾燥し、次いで第
一の磁性塗膜上に第二の磁性塗膜を形成し、次いで第一
の磁性塗膜および第二の磁性塗膜に垂直な方向の磁界を
印加して配向を行なう工程を経て前記磁性層が形成され
ている上記（１）に記載の磁気記録媒体。
の磁界を印加して配向を行なった後、乾燥し、次いで第
一の磁性塗膜上に第二の磁性塗膜を形成し、次いで第一
の磁性塗膜および第二の磁性塗膜に垂直な方向の磁界を
印加して配向を行なう工程を経て前記磁性層が形成され
ている上記（１）に記載の磁気記録媒体。
【００１０】（３）記録トラック方向の保磁力が１００
０ Oe 以上である上記（１）または（２）に記載の磁気
記録媒体。
０ Oe 以上である上記（１）または（２）に記載の磁気
記録媒体。
【００１１】（４）前記六方晶系フェライト粒子がＢａ
フェライト粒子である上記（１）ないし（３）のいずれ
かに記載の磁気記録媒体。
フェライト粒子である上記（１）ないし（３）のいずれ
かに記載の磁気記録媒体。
【００１２】（５）上記（１）ないし（４）のいずれか
に記載の磁気記録媒体を製造する方法であって、第一の
磁性塗膜形成工程と面内配向工程と乾燥工程と第二の磁
性塗膜形成工程と垂直配向工程とをこの順で有し、前記
面内配向工程において記録トラック方向に磁界を印加
し、前記第二の磁性塗膜形成工程において第一の磁性塗
膜の上に第二の磁性塗膜を形成し、前記垂直配向工程に
おいて第一の磁性塗膜および第二の磁性塗膜に垂直な方
向に磁界を印加することを特徴とする磁気記録媒体の製
造方法。
に記載の磁気記録媒体を製造する方法であって、第一の
磁性塗膜形成工程と面内配向工程と乾燥工程と第二の磁
性塗膜形成工程と垂直配向工程とをこの順で有し、前記
面内配向工程において記録トラック方向に磁界を印加
し、前記第二の磁性塗膜形成工程において第一の磁性塗
膜の上に第二の磁性塗膜を形成し、前記垂直配向工程に
おいて第一の磁性塗膜および第二の磁性塗膜に垂直な方
向に磁界を印加することを特徴とする磁気記録媒体の製
造方法。
【００１３】
【作用および効果】本発明の磁気記録媒体は、垂直配向
成分をもつ面内磁化型の塗布型磁気記録媒体である。
成分をもつ面内磁化型の塗布型磁気記録媒体である。
【００１４】本発明者らは、六方晶系フェライト粒子を
用いた塗布型磁気記録媒体について研究を重ねた結果、
記録密度やＳ／Ｎなどの電磁変換特性は、粒子間の相互
作用の影響を受ける角形比や配向度などの磁気特性より
も、Ｘ線回折ピーク強度から求めた磁性粒子の配列との
関係が深いことを見いだした。
用いた塗布型磁気記録媒体について研究を重ねた結果、
記録密度やＳ／Ｎなどの電磁変換特性は、粒子間の相互
作用の影響を受ける角形比や配向度などの磁気特性より
も、Ｘ線回折ピーク強度から求めた磁性粒子の配列との
関係が深いことを見いだした。
【００１５】そこで本発明では、六方晶フェライト粒子
間の相互作用を排除して、磁性層中の六方晶フェライト
粒子の配列をＸ線回折ピーク強度から定量化し、これを
規制すると共に、SQRxおよびSQRyを上記範囲に規制する
ことにより、高Ｓ／Ｎかつ高記録密度を実現し、また、
再生波形の非対称性を小さくした。
間の相互作用を排除して、磁性層中の六方晶フェライト
粒子の配列をＸ線回折ピーク強度から定量化し、これを
規制すると共に、SQRxおよびSQRyを上記範囲に規制する
ことにより、高Ｓ／Ｎかつ高記録密度を実現し、また、
再生波形の非対称性を小さくした。
【００１６】なお、特開昭６４−５９１５号公報、特開
平２−１１６６３３号公報では、磁性粉末のＸ線回折に
おけるピーク強度について規定し、磁性粉末の特性との
関係に触れている。また、特開昭６１−１８４７２５号
公報、同６３−７１９２４号公報では、連続薄膜型の磁
性層を有する媒体について、Ｘ線回折におけるピーク強
度と配向性や結晶粒成長性との関係について記述してい
る。しかし、本発明のように、六方晶系フェライト粉末
を用いた塗布型媒体において、Ｘ線回折のピーク強度と
角形比とを合わせて規定するという技術思想は見られな
い。
平２−１１６６３３号公報では、磁性粉末のＸ線回折に
おけるピーク強度について規定し、磁性粉末の特性との
関係に触れている。また、特開昭６１−１８４７２５号
公報、同６３−７１９２４号公報では、連続薄膜型の磁
性層を有する媒体について、Ｘ線回折におけるピーク強
度と配向性や結晶粒成長性との関係について記述してい
る。しかし、本発明のように、六方晶系フェライト粉末
を用いた塗布型媒体において、Ｘ線回折のピーク強度と
角形比とを合わせて規定するという技術思想は見られな
い。
【００１７】また、特開平３−２８０２１５号公報に示
される製造方法、すなわち、１層の磁性塗膜に長手方向
や垂直方向の磁界を印加する方法では、上記したαを本
発明範囲内とすることができない。
される製造方法、すなわち、１層の磁性塗膜に長手方向
や垂直方向の磁界を印加する方法では、上記したαを本
発明範囲内とすることができない。
【００１８】
【具体的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。本発明の磁気記録媒体は、実質的に六方晶
系フェライト粒子から構成される磁性粉末とバインダと
を含む塗布型の磁性層を有し、記録トラック方向の角形
比をSQRx、磁性層面内の記録トラック方向に垂直な方向
の角形比をSQRyとしたとき、 SQRx≧０．５０、好ましくはSQRx≧０．６０、 SQRy≦０．３５、好ましくはSQRy≦０．３０ である。SQRxが前記範囲未満となると、高出力を得るこ
とが困難となり、また、再生波形の非対称性が大きくな
ってしまう。SQRyが前記範囲を超えると、出力および記
録密度を向上させることが困難となる。なお、通常、SQ
Ry≧０．１およびSQRx≦０．９５である。
に説明する。本発明の磁気記録媒体は、実質的に六方晶
系フェライト粒子から構成される磁性粉末とバインダと
を含む塗布型の磁性層を有し、記録トラック方向の角形
比をSQRx、磁性層面内の記録トラック方向に垂直な方向
の角形比をSQRyとしたとき、 SQRx≧０．５０、好ましくはSQRx≧０．６０、 SQRy≦０．３５、好ましくはSQRy≦０．３０ である。SQRxが前記範囲未満となると、高出力を得るこ
とが困難となり、また、再生波形の非対称性が大きくな
ってしまう。SQRyが前記範囲を超えると、出力および記
録密度を向上させることが困難となる。なお、通常、SQ
Ry≧０．１およびSQRx≦０．９５である。
【００１９】また、磁性層のＸ線回折における（ｈｋ
ｌ）面のピーク強度をＩ（ｈｋｌ）とし、Ｉ＝Ｉ（００
６）＋Ｉ（１１０）＋Ｉ（１０７）＋Ｉ（１１４）、α
＝Ｉ（００６）×１００／Ｉ［％］としたとき、 α≧３％、好ましくはα≧５％ である。αが上記範囲未満となると記録密度およびＳ／
Ｎが不十分となる。
ｌ）面のピーク強度をＩ（ｈｋｌ）とし、Ｉ＝Ｉ（００
６）＋Ｉ（１１０）＋Ｉ（１０７）＋Ｉ（１１４）、α
＝Ｉ（００６）×１００／Ｉ［％］としたとき、 α≧３％、好ましくはα≧５％ である。αが上記範囲未満となると記録密度およびＳ／
Ｎが不十分となる。
【００２０】六方晶フェライト粒子の格子面（００
６）、（１１０）、（１０７）、（１１４）のそれぞれ
の法線ベクトルは、粒子の磁化容易軸（ｃ軸）から０
°、９０°、３３．０°、６３．１°傾いているので、
これら各格子面のピーク強度は、磁化容易軸が磁性層表
面の法線に対し前記角度傾いている粒子の個数と相関す
る。
６）、（１１０）、（１０７）、（１１４）のそれぞれ
の法線ベクトルは、粒子の磁化容易軸（ｃ軸）から０
°、９０°、３３．０°、６３．１°傾いているので、
これら各格子面のピーク強度は、磁化容易軸が磁性層表
面の法線に対し前記角度傾いている粒子の個数と相関す
る。
【００２１】Ｘ線回折には通常のθ−２θ法を用いれば
よく、Ｘ線回折チャートにおける各ピークの面積をピー
ク強度とする。
よく、Ｘ線回折チャートにおける各ピークの面積をピー
ク強度とする。
【００２２】磁性層の記録トラック方向の保磁力は、１
０００ Oe 以上とすることが好ましく、また、磁気ヘッ
ドの記録能力との関係から、通常、４０００ Oe 以下と
することが好ましい。
０００ Oe 以上とすることが好ましく、また、磁気ヘッ
ドの記録能力との関係から、通常、４０００ Oe 以下と
することが好ましい。
【００２３】本発明で用いる六方晶フェライト粒子に特
に制限はなく、Ｂａフェライト、Ｓｒフェライト、Ｃａ
フェライト、Ｐｂフェライト等の各種フェライト粒子か
ら適宜選択すればよく、また、これらの２種以上を混合
して使用してもよいが、好ましくはＢａフェライトを用
いる。Ｂａフェライトは、通常、ＢａＦｅ12Ｏ19で表わ
される組成を有する六方晶系酸化物であるが、ＢａやＦ
ｅの一部を、Ｃａ、Ｓｒ、Ｐｂ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｃ
ｒ、Ｚｎ、Ｉｎ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｓｎ
その他の金属から選ばれる１種以上で置換したものであ
ってもよい。
に制限はなく、Ｂａフェライト、Ｓｒフェライト、Ｃａ
フェライト、Ｐｂフェライト等の各種フェライト粒子か
ら適宜選択すればよく、また、これらの２種以上を混合
して使用してもよいが、好ましくはＢａフェライトを用
いる。Ｂａフェライトは、通常、ＢａＦｅ12Ｏ19で表わ
される組成を有する六方晶系酸化物であるが、ＢａやＦ
ｅの一部を、Ｃａ、Ｓｒ、Ｐｂ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｃ
ｒ、Ｚｎ、Ｉｎ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｓｎ
その他の金属から選ばれる１種以上で置換したものであ
ってもよい。
【００２４】六方晶系フェライト粒子の寸法は目的に応
じて適宜選定すればよいが、電磁変換特性上、平均粒径
が０．１５μm 以下、特に０．０２〜０．１０μm 程
度、板状比は２以上、特に３〜１０程度であるものが好
ましい。この場合の平均粒径とは、電子顕微鏡写真｛走
査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）および透過型電子顕微鏡（Ｔ
ＥＭ）｝によって、例えば５０個程度以上の粒子を観察
し、粒径の測定値を平均したものである。また板状比と
は、平均粒径／平均厚さである。
じて適宜選定すればよいが、電磁変換特性上、平均粒径
が０．１５μm 以下、特に０．０２〜０．１０μm 程
度、板状比は２以上、特に３〜１０程度であるものが好
ましい。この場合の平均粒径とは、電子顕微鏡写真｛走
査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）および透過型電子顕微鏡（Ｔ
ＥＭ）｝によって、例えば５０個程度以上の粒子を観察
し、粒径の測定値を平均したものである。また板状比と
は、平均粒径／平均厚さである。
【００２５】なお、磁化量増大や温度特性改善のため、
六方晶系フェライト粒子の表面をスピネルフェライトで
変成してもよい。さらに、耐候性や分散性の向上のため
に、粒子表面に酸化物や有機化合物の被膜を形成しても
よい。
六方晶系フェライト粒子の表面をスピネルフェライトで
変成してもよい。さらに、耐候性や分散性の向上のため
に、粒子表面に酸化物や有機化合物の被膜を形成しても
よい。
【００２６】六方晶系フェライト粒子の製法としては、
セラミック法、共沈−焼成法、水熱合成法、フラックス
法、ガラス結晶化法、アルコキシド法、プラズマジェッ
ト法等があるが、いずれの方法を用いてもよい。これら
の方法の詳細については小池吉康、久保修共著“セラミ
ックス１８（１９８３）No. １０”などに記載されてい
る。
セラミック法、共沈−焼成法、水熱合成法、フラックス
法、ガラス結晶化法、アルコキシド法、プラズマジェッ
ト法等があるが、いずれの方法を用いてもよい。これら
の方法の詳細については小池吉康、久保修共著“セラミ
ックス１８（１９８３）No. １０”などに記載されてい
る。
【００２７】磁性層形成に用いるバインダは特に限定さ
れず、通常のバインダ用各種樹脂から適宜選択すればよ
い。
れず、通常のバインダ用各種樹脂から適宜選択すればよ
い。
【００２８】磁性層が形成される非磁性基体は、磁気デ
ィスクや磁気テープ等の用途に応じて各種樹脂フィルム
や金属、セラミックス、ガラスなどから適宜選択すれば
よい。
ィスクや磁気テープ等の用途に応じて各種樹脂フィルム
や金属、セラミックス、ガラスなどから適宜選択すれば
よい。
【００２９】以下、剛性基板の主面に塗布型の磁性層を
有する磁気ディスクに本発明を適用する場合の製造方法
について説明する。
有する磁気ディスクに本発明を適用する場合の製造方法
について説明する。
【００３０】ディスク状の剛性基板は、例えば、アルミ
ニウムやアルミニウム合金等の金属、ガラス、セラミッ
クス、エンジニアリングプラスチックス等の各種非磁性
材料により構成すればよい。これらの中では、機械的剛
性が高く加工性が良好なアルミニウムやアルミニウム合
金などを用いることが好ましい。基板の寸法は目的に応
じて選定すればよいが、通常、厚さ０．５〜１．９mm程
度、直径４０〜１３０mm程度である。また、基板のＲma
x は０．００５〜０．０７０μm 程度であることが好ま
しい。
ニウムやアルミニウム合金等の金属、ガラス、セラミッ
クス、エンジニアリングプラスチックス等の各種非磁性
材料により構成すればよい。これらの中では、機械的剛
性が高く加工性が良好なアルミニウムやアルミニウム合
金などを用いることが好ましい。基板の寸法は目的に応
じて選定すればよいが、通常、厚さ０．５〜１．９mm程
度、直径４０〜１３０mm程度である。また、基板のＲma
x は０．００５〜０．０７０μm 程度であることが好ま
しい。
【００３１】磁性層は、磁性塗膜に磁界を印加して形成
する。
する。
【００３２】磁性塗膜は、磁性粉末とバインダとを含有
する磁性塗料を塗布して形成される。磁性塗料は、少な
くとも磁性粉末とバインダと溶剤とを混練して調製され
る。
する磁性塗料を塗布して形成される。磁性塗料は、少な
くとも磁性粉末とバインダと溶剤とを混練して調製され
る。
【００３３】磁性粉末には上記した六方晶系フェライト
粒子から構成される磁性粉末を用いる。バインダに特に
制限はなく、熱硬化性樹脂、反応型樹脂、放射線硬化性
樹脂等から目的に応じて選択すればよいが、薄層で十分
な膜強度を確保し、高い耐久性を得る必要があることか
ら熱硬化性樹脂あるいは放射線硬化性樹脂を用いること
が好ましい。熱硬化性樹脂としては、例えば、フェノー
ル樹脂、エポキシ樹脂、ビニル共重合系樹脂、ポリウレ
タン硬化型樹脂、尿素樹脂、ブチラール樹脂、ホルマー
ル樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコン樹
脂、アクリル系反応樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ−
ポリアミド樹脂、飽和ポリエステル樹脂、尿素ホルムア
ルデヒド樹脂などの縮重合系の樹脂あるいは高分子量ポ
リエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合
物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシアネートプレポ
リマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシ
アネートの混合物、低分子量グリコール／高分子量ジオ
ール／トリフェニルメタントリイソシアネートの混合物
など、上記の縮重合系樹脂とイソシアネート化合物など
の架橋剤との混合物、ビニル共重合系樹脂と架橋剤との
混合物、ニトロセルロース、セルロースアセトブチレー
ト等の繊維素系樹脂と架橋剤との混合物、ブタジエン−
アクリロニトリル等の合成ゴム系と架橋剤との混合物、
さらにはこれらの混合物が好適である。特に、エポキシ
樹脂とフェノール樹脂との混合物、米国特許第３，０５
８，８４４号に記載のエポキシ樹脂とポリビニルメチル
エーテルとメチロールフェノールエーテルとの混合物、
また特開昭４９−１３１１０１号に記載のビスフェノー
ルＡ型エポキシ樹脂とアクリル酸エステルまたはメタク
リル酸エステル重合体との混合物等が好ましい。
粒子から構成される磁性粉末を用いる。バインダに特に
制限はなく、熱硬化性樹脂、反応型樹脂、放射線硬化性
樹脂等から目的に応じて選択すればよいが、薄層で十分
な膜強度を確保し、高い耐久性を得る必要があることか
ら熱硬化性樹脂あるいは放射線硬化性樹脂を用いること
が好ましい。熱硬化性樹脂としては、例えば、フェノー
ル樹脂、エポキシ樹脂、ビニル共重合系樹脂、ポリウレ
タン硬化型樹脂、尿素樹脂、ブチラール樹脂、ホルマー
ル樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコン樹
脂、アクリル系反応樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ−
ポリアミド樹脂、飽和ポリエステル樹脂、尿素ホルムア
ルデヒド樹脂などの縮重合系の樹脂あるいは高分子量ポ
リエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合
物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシアネートプレポ
リマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシ
アネートの混合物、低分子量グリコール／高分子量ジオ
ール／トリフェニルメタントリイソシアネートの混合物
など、上記の縮重合系樹脂とイソシアネート化合物など
の架橋剤との混合物、ビニル共重合系樹脂と架橋剤との
混合物、ニトロセルロース、セルロースアセトブチレー
ト等の繊維素系樹脂と架橋剤との混合物、ブタジエン−
アクリロニトリル等の合成ゴム系と架橋剤との混合物、
さらにはこれらの混合物が好適である。特に、エポキシ
樹脂とフェノール樹脂との混合物、米国特許第３，０５
８，８４４号に記載のエポキシ樹脂とポリビニルメチル
エーテルとメチロールフェノールエーテルとの混合物、
また特開昭４９−１３１１０１号に記載のビスフェノー
ルＡ型エポキシ樹脂とアクリル酸エステルまたはメタク
リル酸エステル重合体との混合物等が好ましい。
【００３４】放射線硬化性化合物の具体例としては、ラ
ジカル重合性を示す不飽和二重結合を有するアクリル
酸、メタクリル酸、あるいはそれらのエステル化合物の
ようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのよう
なアリル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等
の不飽和結合等の放射線照射による架橋あるいは重合す
る基を熱可塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂
である。その他放射線照射により架橋重合する不飽和二
重結合を有する化合物であれば用いることができる。放
射線硬化性バインダーとして用いられる樹脂としては、
上記不飽和二重結合を樹脂の分子鎖中や末端、側鎖に有
する飽和、不飽和のポリエステル樹脂、ポリウレタン樹
脂、塩化ビニル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、
ポリビニルブチラール系樹脂、エポキシ樹脂、フェノキ
シ樹脂、繊維素系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン
共重合体、ポリブタジエン等が好適である。さらに、オ
リゴマー、モノマーとして用いられる放射線硬化性化合
物としては、単官能また多官能のトリアジン系アクリレ
ート、多価アルコール系アクリレート、ペンタエリスリ
トール系アクリレート、エステル系アクリレート、ウレ
タン系アクリレートおよび上記系の単官能または多官能
のメタクリレート化合物等が好適である。
ジカル重合性を示す不飽和二重結合を有するアクリル
酸、メタクリル酸、あるいはそれらのエステル化合物の
ようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのよう
なアリル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等
の不飽和結合等の放射線照射による架橋あるいは重合す
る基を熱可塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂
である。その他放射線照射により架橋重合する不飽和二
重結合を有する化合物であれば用いることができる。放
射線硬化性バインダーとして用いられる樹脂としては、
上記不飽和二重結合を樹脂の分子鎖中や末端、側鎖に有
する飽和、不飽和のポリエステル樹脂、ポリウレタン樹
脂、塩化ビニル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、
ポリビニルブチラール系樹脂、エポキシ樹脂、フェノキ
シ樹脂、繊維素系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン
共重合体、ポリブタジエン等が好適である。さらに、オ
リゴマー、モノマーとして用いられる放射線硬化性化合
物としては、単官能また多官能のトリアジン系アクリレ
ート、多価アルコール系アクリレート、ペンタエリスリ
トール系アクリレート、エステル系アクリレート、ウレ
タン系アクリレートおよび上記系の単官能または多官能
のメタクリレート化合物等が好適である。
【００３５】磁性塗料中のバインダの含有量に特に制限
はないが、磁性粉末１００重量部に対し、１０〜５０重
量部程度とすることが好ましい。
はないが、磁性粉末１００重量部に対し、１０〜５０重
量部程度とすることが好ましい。
【００３６】磁性塗料の調製に用いる溶剤に特に制限は
なく、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン系、イ
ソプロピルアルコール、ブチルアルコール等のアルコー
ル系、エチルセロソルブ、酢酸セロソルブ等のセロソル
ブ系、トルエン等の芳香族系等の各種溶剤を目的に応じ
て選択すればよい。磁性塗料中の溶剤の含有量に特に制
限はないが、磁性粉末１００重量部に対し、４００〜７
００重量部程度とすることが好ましい。磁性塗料には、
必要に応じα−Ａｌ2 Ｏ3 等の研磨剤、シリコーンオイ
ル等の潤滑剤、その他の各種添加物を添加してもよい。
なく、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン系、イ
ソプロピルアルコール、ブチルアルコール等のアルコー
ル系、エチルセロソルブ、酢酸セロソルブ等のセロソル
ブ系、トルエン等の芳香族系等の各種溶剤を目的に応じ
て選択すればよい。磁性塗料中の溶剤の含有量に特に制
限はないが、磁性粉末１００重量部に対し、４００〜７
００重量部程度とすることが好ましい。磁性塗料には、
必要に応じα−Ａｌ2 Ｏ3 等の研磨剤、シリコーンオイ
ル等の潤滑剤、その他の各種添加物を添加してもよい。
【００３７】磁性塗料は、ポリッシングなどにより平滑
化された基板表面に塗布される。基板の表面は、アルマ
イト等の陽極酸化膜、クロム酸等の酸化膜、Ｎｉ−Ｐ−
Ｃｕ等の無電解めっき膜、カップリング剤、硬化性樹脂
などで処理されていてもよい。
化された基板表面に塗布される。基板の表面は、アルマ
イト等の陽極酸化膜、クロム酸等の酸化膜、Ｎｉ−Ｐ−
Ｃｕ等の無電解めっき膜、カップリング剤、硬化性樹脂
などで処理されていてもよい。
【００３８】各磁性塗膜の形成および配向には、上記し
たＸ線回折ピーク強度、SQRx、SQRyを容易に得るため
に、下記の方法を用いることが好ましい。
たＸ線回折ピーク強度、SQRx、SQRyを容易に得るため
に、下記の方法を用いることが好ましい。
【００３９】この方法は、第一の磁性塗膜形成工程、乾
燥工程、面内配向工程、第二の磁性塗膜形成工程、垂直
配向工程をこの順で有し、面内配向工程において記録ト
ラック方向に磁界を印加し、第二の磁性塗膜形成工程に
おいて第一の磁性塗膜の上に第二の磁性塗膜を形成し、
垂直配向工程において第一の磁性塗膜および第二の磁性
塗膜に垂直な方向に磁界を印加する。
燥工程、面内配向工程、第二の磁性塗膜形成工程、垂直
配向工程をこの順で有し、面内配向工程において記録ト
ラック方向に磁界を印加し、第二の磁性塗膜形成工程に
おいて第一の磁性塗膜の上に第二の磁性塗膜を形成し、
垂直配向工程において第一の磁性塗膜および第二の磁性
塗膜に垂直な方向に磁界を印加する。
【００４０】第二の磁性塗膜形成に用いる磁性塗料は、
第一の磁性塗膜形成に用いる磁性塗料と同一であっても
よいが、必要に応じて磁性粒子やバインダ等を異なるも
のとしてもよい。
第一の磁性塗膜形成に用いる磁性塗料と同一であっても
よいが、必要に応じて磁性粒子やバインダ等を異なるも
のとしてもよい。
【００４１】各磁性塗膜はスピンコート法により形成す
ることが好ましい。スピンコート法による磁性塗膜の形
成工程は、基本的には、比較的低い回転数での磁性塗料
の塗布と、より高い回転数での振り切りとで構成され
る。塗布および振り切りの際の基板の回転数やその回転
数に保持する時間は、目的とする塗膜厚さ、塗料の粘
度、塗料の組成、スピンコート時の雰囲気などの各種条
件によって大きく異なるため、これらの条件に応じて適
宜設定すればよく特に制限はないが、通常、塗布時の回
転数およびその保持時間は２００〜２０００rpm 程度で
１秒間〜１分間程度であり、振り切り時の回転数および
その保持時間は１０００〜７０００rpm 程度で５秒間〜
１分間程度である。
ることが好ましい。スピンコート法による磁性塗膜の形
成工程は、基本的には、比較的低い回転数での磁性塗料
の塗布と、より高い回転数での振り切りとで構成され
る。塗布および振り切りの際の基板の回転数やその回転
数に保持する時間は、目的とする塗膜厚さ、塗料の粘
度、塗料の組成、スピンコート時の雰囲気などの各種条
件によって大きく異なるため、これらの条件に応じて適
宜設定すればよく特に制限はないが、通常、塗布時の回
転数およびその保持時間は２００〜２０００rpm 程度で
１秒間〜１分間程度であり、振り切り時の回転数および
その保持時間は１０００〜７０００rpm 程度で５秒間〜
１分間程度である。
【００４２】各磁性塗膜の形成は空気中で行なってもよ
いが、溶剤蒸気を含む雰囲気中で行なうことが好まし
い。この場合に用いる溶剤は、磁性塗料を調製する際に
使用可能なものであれば特に制限はなく、２種以上を用
いてもよい。この場合、雰囲気の温度は２０〜５０℃程
度とすることが好ましい。このように溶剤蒸気を含む雰
囲気中で磁性塗膜を形成すれば磁性塗膜の乾燥を防止で
きるため、配向工程において磁性粉末を十分に配向させ
ることができ、高い保磁力角形比Ｓ* を有する磁性層を
形成できる。
いが、溶剤蒸気を含む雰囲気中で行なうことが好まし
い。この場合に用いる溶剤は、磁性塗料を調製する際に
使用可能なものであれば特に制限はなく、２種以上を用
いてもよい。この場合、雰囲気の温度は２０〜５０℃程
度とすることが好ましい。このように溶剤蒸気を含む雰
囲気中で磁性塗膜を形成すれば磁性塗膜の乾燥を防止で
きるため、配向工程において磁性粉末を十分に配向させ
ることができ、高い保磁力角形比Ｓ* を有する磁性層を
形成できる。
【００４３】各磁性塗膜形成を形成後、配向工程の前
に、塗膜の平滑化のためのレベリング工程を設けてもよ
い。レベリング工程では、基板を２００〜３０００rpm
程度の低回転数で回転させ、この回転を１秒間〜５分間
程度保持することが好ましい。レベリング工程を設ける
場合には、レベリング工程も溶剤を含む雰囲気中で行な
うことが好ましい。
に、塗膜の平滑化のためのレベリング工程を設けてもよ
い。レベリング工程では、基板を２００〜３０００rpm
程度の低回転数で回転させ、この回転を１秒間〜５分間
程度保持することが好ましい。レベリング工程を設ける
場合には、レベリング工程も溶剤を含む雰囲気中で行な
うことが好ましい。
【００４４】各配向工程における磁界の印加方法は特に
限定されないが、面内配向工程において記録トラック方
向に磁界を印加するためには、例えば、磁性塗膜を挟ん
で同極同士が対向するように少なくとも一対の配向用磁
石を設け、これらの磁石間で基板を回転させることが好
ましい。また、垂直配向工程において磁性塗膜に垂直な
方向の磁界を印加するためには、磁性塗膜を挟んで異極
同士が対向するように少なくとも一対の配向用磁石を設
け、これらの磁石間で基板を回転させることが好まし
い。
限定されないが、面内配向工程において記録トラック方
向に磁界を印加するためには、例えば、磁性塗膜を挟ん
で同極同士が対向するように少なくとも一対の配向用磁
石を設け、これらの磁石間で基板を回転させることが好
ましい。また、垂直配向工程において磁性塗膜に垂直な
方向の磁界を印加するためには、磁性塗膜を挟んで異極
同士が対向するように少なくとも一対の配向用磁石を設
け、これらの磁石間で基板を回転させることが好まし
い。
【００４５】配向用磁石による磁界は、塗膜中にて１０
００〜１００００G 程度、基板の回転数は１００〜５０
０rpm 程度、配向時間は１０秒間〜１０分間程度とする
ことが好ましい。配向時の雰囲気中には、前述した溶剤
蒸気を存在させてもさせなくてもよい。
００〜１００００G 程度、基板の回転数は１００〜５０
０rpm 程度、配向時間は１０秒間〜１０分間程度とする
ことが好ましい。配向時の雰囲気中には、前述した溶剤
蒸気を存在させてもさせなくてもよい。
【００４６】この方法により得られる２層構成の磁性塗
膜内では、第一の磁性塗膜が面内配向で第二の磁性塗膜
が垂直配向というように明確に分離しているわけではな
く、第二の磁性塗膜表面に近い領域では磁化容易軸が塗
膜に垂直に近く、基板表面に近い領域では磁化容易軸が
塗膜に平行に近く、これらの領域の間で磁化容易軸の方
向が連続的に変化していると考えられる。
膜内では、第一の磁性塗膜が面内配向で第二の磁性塗膜
が垂直配向というように明確に分離しているわけではな
く、第二の磁性塗膜表面に近い領域では磁化容易軸が塗
膜に垂直に近く、基板表面に近い領域では磁化容易軸が
塗膜に平行に近く、これらの領域の間で磁化容易軸の方
向が連続的に変化していると考えられる。
【００４７】乾燥工程では第一の磁性塗膜を乾燥させ
る。配向された第一の磁性塗膜を乾燥した後に第二の磁
性塗膜を形成して配向することにより、上記したα、SQ
Rx、SQRyが得られる。乾燥は自然乾燥であっても加熱に
よる強制乾燥であってもよいが、加熱する場合には１０
０℃程度以下の温度で乾燥させることが好ましい。な
お、垂直配向工程後には、通常、第二の磁性塗膜の乾燥
を行なう。
る。配向された第一の磁性塗膜を乾燥した後に第二の磁
性塗膜を形成して配向することにより、上記したα、SQ
Rx、SQRyが得られる。乾燥は自然乾燥であっても加熱に
よる強制乾燥であってもよいが、加熱する場合には１０
０℃程度以下の温度で乾燥させることが好ましい。な
お、垂直配向工程後には、通常、第二の磁性塗膜の乾燥
を行なう。
【００４８】これらの工程の後、硬化処理を行なって磁
性塗膜を硬化し、磁性層とする。バインダが熱硬化性樹
脂の場合、熱処理温度、熱処理時間等の各種条件はバイ
ンダの種類に応じて適宜設定すればよいが、通常、１５
０〜３００℃程度にて１〜５時間程度である。また、放
射線硬化性樹脂の場合には、常温において３〜１０Mrad
の線量に設定すればよい。硬化処理時の雰囲気は不活性
ガス雰囲気中、特に窒素雰囲気中であることが好まし
い。磁性塗膜硬化後の磁性層の膜厚は、０．６μm 以
下、特に０．３μm 以下とすることが好ましい。
性塗膜を硬化し、磁性層とする。バインダが熱硬化性樹
脂の場合、熱処理温度、熱処理時間等の各種条件はバイ
ンダの種類に応じて適宜設定すればよいが、通常、１５
０〜３００℃程度にて１〜５時間程度である。また、放
射線硬化性樹脂の場合には、常温において３〜１０Mrad
の線量に設定すればよい。硬化処理時の雰囲気は不活性
ガス雰囲気中、特に窒素雰囲気中であることが好まし
い。磁性塗膜硬化後の磁性層の膜厚は、０．６μm 以
下、特に０．３μm 以下とすることが好ましい。
【００４９】硬化後、磁性層表面のポリッシングを行な
うことが好ましい。ポリッシングは研磨テープ等の各種
研磨材により行なえばよい。このポリッシングにより磁
性層の表面粗さを所望の値とすることができ、また、こ
れにより磁性層の厚さを調整することも可能である。
うことが好ましい。ポリッシングは研磨テープ等の各種
研磨材により行なえばよい。このポリッシングにより磁
性層の表面粗さを所望の値とすることができ、また、こ
れにより磁性層の厚さを調整することも可能である。
【００５０】研磨後、磁性層表面に液体潤滑剤を塗布
し、磁性層中に含浸させることが好ましい。用いる液体
潤滑剤に特に制限はないが、潤滑性が良好であることか
ら、フッ素を含む有機化合物を含有する液体潤滑剤を用
いることが好ましい。液体潤滑剤の塗布方法に制限はな
く、例えば、ディップ法、スピンコート法等を用いれば
よい。なお、このような液体潤滑剤は、磁性塗料に含有
させてもよい。
し、磁性層中に含浸させることが好ましい。用いる液体
潤滑剤に特に制限はないが、潤滑性が良好であることか
ら、フッ素を含む有機化合物を含有する液体潤滑剤を用
いることが好ましい。液体潤滑剤の塗布方法に制限はな
く、例えば、ディップ法、スピンコート法等を用いれば
よい。なお、このような液体潤滑剤は、磁性塗料に含有
させてもよい。
【００５１】液体潤滑剤の含浸後、バニッシングを行な
うことにより、磁気ディスク表面の平滑性をさらに向上
させることが好ましい。
うことにより、磁気ディスク表面の平滑性をさらに向上
させることが好ましい。
【００５２】以上では本発明を磁気ディスクに適用する
場合の製造方法について説明したが、磁気テープなどに
ついても上記した配向方法に準じて製造することによ
り、α、SQRx、SQRyを上記した関係とすることができ
る。
場合の製造方法について説明したが、磁気テープなどに
ついても上記した配向方法に準じて製造することによ
り、α、SQRx、SQRyを上記した関係とすることができ
る。
【００５３】
【実施例】以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明
をさらに詳細に説明する。
をさらに詳細に説明する。
【００５４】下記表１に示される磁気ディスクサンプル
を下記のようにして作製した。
を下記のようにして作製した。
【００５５】＜サンプルNo. １＞磁性塗料用組成物 磁性粒子 １００重量部 組成 ：Ｂａフェライト（９４０ Oe ） 平均粒径：０．０５μm 板状比 ：３ α−Ａｌ2 Ｏ3 ３重量部 エポキシ樹脂 １４重量部 （エピコート1004、シェル化学社製） フェノール樹脂 ６重量部 （スミラックPC25、住友ベークライト社製） 溶剤 ２８０重量部 シクロヘキサノン／イソホロン（１／１混合）
【００５６】上記磁性塗料用組成物をボールミル中にて
１４０時間混合、分散し、磁性塗料を調製した。塗料の
粘度は４００cps であった。
１４０時間混合、分散し、磁性塗料を調製した。塗料の
粘度は４００cps であった。
【００５７】次に、以下の各工程を行なった。
【００５８】第一の磁性塗膜形成工程 スピンコーターを用いて基板の両主面に第一の磁性塗膜
を形成した。基板には、外径９５mm、内径２５mm、厚さ
１．２８mmのアルミニウム板を用いた。基板の回転数を
１０００rpm として１０秒間磁性塗料を塗布し、次い
で、基板の回転数を４０００rpm まで上昇させて５秒間
保ち、磁性塗料を振り切った。なお、塗膜形成は、空気
中にシクロヘキサノン蒸気を存在させた雰囲気中で行な
った。
を形成した。基板には、外径９５mm、内径２５mm、厚さ
１．２８mmのアルミニウム板を用いた。基板の回転数を
１０００rpm として１０秒間磁性塗料を塗布し、次い
で、基板の回転数を４０００rpm まで上昇させて５秒間
保ち、磁性塗料を振り切った。なお、塗膜形成は、空気
中にシクロヘキサノン蒸気を存在させた雰囲気中で行な
った。
【００５９】面内配向工程 次いで、同極同士を対向させた一対の磁石間で基板を回
転させ、基板の周方向に磁界を印加した。基板の回転数
は２００rpm 、磁性塗膜中の配向磁界強度は３．０kGと
し、磁界は６０秒間印加した。
転させ、基板の周方向に磁界を印加した。基板の回転数
は２００rpm 、磁性塗膜中の配向磁界強度は３．０kGと
し、磁界は６０秒間印加した。
【００６０】乾燥工程 磁界印加後、第一の磁性塗膜を乾燥した。
【００６１】第二の磁性塗膜形成工程 前記磁性塗料を用いて、第一の磁性塗膜と同様にして第
二の磁性塗膜を形成した。
二の磁性塗膜を形成した。
【００６２】垂直配向工程 次いで、異極同士を対向させた一対の磁石間で基板を回
転させて、磁性塗膜に垂直な方向に磁界を印加した。基
板の回転数は２００rpm 、磁性塗膜中の配向磁界強度は
３．０kGとし、磁界は６０秒間印加した。
転させて、磁性塗膜に垂直な方向に磁界を印加した。基
板の回転数は２００rpm 、磁性塗膜中の配向磁界強度は
３．０kGとし、磁界は６０秒間印加した。
【００６３】乾燥工程 磁界印加後、第二の磁性塗膜を乾燥させた。
【００６４】乾燥後、窒素気流中で２００℃にて３時間
熱処理を施すことにより磁性塗膜を硬化して磁性層とし
た。この後、研磨テープWA10000 （日本ミクロコーティ
ング社製）を用いて研磨量が約０．０５μm となるよう
に磁性層を研磨して、磁性層の厚さを調整すると共に表
面を平滑化した。磁性層の厚さを表１に示す。
熱処理を施すことにより磁性塗膜を硬化して磁性層とし
た。この後、研磨テープWA10000 （日本ミクロコーティ
ング社製）を用いて研磨量が約０．０５μm となるよう
に磁性層を研磨して、磁性層の厚さを調整すると共に表
面を平滑化した。磁性層の厚さを表１に示す。
【００６５】次いで、基板表面および磁性層表面を洗浄
し、濃度０．１％のフルオロカーボン（KRITOX 143CZ：
デュポン社製）のフロン溶液をディップ法により塗布し
て含浸させ、磁気ディスクとした。
し、濃度０．１％のフルオロカーボン（KRITOX 143CZ：
デュポン社製）のフロン溶液をディップ法により塗布し
て含浸させ、磁気ディスクとした。
【００６６】＜サンプルNo. ２（本発明サンプル）＞垂
直配向工程における磁界強度を１．０kGとした以外は、
サンプルNo. １と同様にして作製した。
直配向工程における磁界強度を１．０kGとした以外は、
サンプルNo. １と同様にして作製した。
【００６７】＜サンプルNo. ３（比較サンプル）＞第二
の磁性塗膜形成工程以後の工程を設けなかった以外は、
サンプルNo. １と同様にして作製した。
の磁性塗膜形成工程以後の工程を設けなかった以外は、
サンプルNo. １と同様にして作製した。
【００６８】＜サンプルNo. ４（比較サンプル）＞第二
の磁性塗膜形成工程後に、垂直配向工程に替えて面内配
向工程（サンプルNo. １の面内配向工程と同条件）を行
なった以外は、サンプルNo. １と同様にして作製した。
の磁性塗膜形成工程後に、垂直配向工程に替えて面内配
向工程（サンプルNo. １の面内配向工程と同条件）を行
なった以外は、サンプルNo. １と同様にして作製した。
【００６９】＜サンプルNo. ５（比較サンプル）＞面内
配向工程および垂直配向工程を設けなかった以外はサン
プルNo. １と同様にして作製した。
配向工程および垂直配向工程を設けなかった以外はサン
プルNo. １と同様にして作製した。
【００７０】＜サンプルNo. ６（比較サンプル）＞面内
配向工程および第二の磁性塗膜形成工程以後の工程を設
けなかった以外はサンプルNo. １と同様にして作製し
た。
配向工程および第二の磁性塗膜形成工程以後の工程を設
けなかった以外はサンプルNo. １と同様にして作製し
た。
【００７１】＜サンプルNo. ７（比較サンプル）＞第一
の磁性塗膜形成工程後に垂直配向工程（サンプルNo. １
の垂直配向工程と同条件）と面内配向工程（サンプルN
o. １の面内配向工程と同条件）とを続けて行ない、第
二の磁性塗膜形成工程以後の工程を設けなかった以外
は、サンプルNo. １と同様にして作製した。
の磁性塗膜形成工程後に垂直配向工程（サンプルNo. １
の垂直配向工程と同条件）と面内配向工程（サンプルN
o. １の面内配向工程と同条件）とを続けて行ない、第
二の磁性塗膜形成工程以後の工程を設けなかった以外
は、サンプルNo. １と同様にして作製した。
【００７２】＜サンプルNo. ８（比較サンプル）＞第一
の磁性塗膜形成工程後に垂直配向工程（サンプルNo. ２
の垂直配向工程と同条件）と面内配向工程（サンプルN
o. １の面内配向工程と同条件）とを続けて行ない、第
二の磁性塗膜形成工程以後の工程を設けなかった以外
は、サンプルNo. １と同様にして作製した。
の磁性塗膜形成工程後に垂直配向工程（サンプルNo. ２
の垂直配向工程と同条件）と面内配向工程（サンプルN
o. １の面内配向工程と同条件）とを続けて行ない、第
二の磁性塗膜形成工程以後の工程を設けなかった以外
は、サンプルNo. １と同様にして作製した。
【００７３】各サンプルについて、表１に示される磁気
特性を測定した。SQRxおよびＨcxはそれぞれ基板の周方
向の角形比および保磁力、SQRyおよびＨcyはそれぞれ基
板の径方向の角形比および保磁力、Ｈczは磁性層に垂直
な方向の保磁力である。測定は振動試料型磁力計（ＶＳ
Ｍ）により行なった。
特性を測定した。SQRxおよびＨcxはそれぞれ基板の周方
向の角形比および保磁力、SQRyおよびＨcyはそれぞれ基
板の径方向の角形比および保磁力、Ｈczは磁性層に垂直
な方向の保磁力である。測定は振動試料型磁力計（ＶＳ
Ｍ）により行なった。
【００７４】各サンプルの磁性層のＸ線回折を行ない、
各面のピーク強度を測定し、これらから前述したαを求
めた。結果を表１に示す。また、サンプルNo. １のＸ線
回折チャートを図１に示す。なお、Ｘ線管球はＣｕ、電
圧は５０kV、電流は４０mAとし、通常のθ−２θ法を用
いて測定した。
各面のピーク強度を測定し、これらから前述したαを求
めた。結果を表１に示す。また、サンプルNo. １のＸ線
回折チャートを図１に示す。なお、Ｘ線管球はＣｕ、電
圧は５０kV、電流は４０mAとし、通常のθ−２θ法を用
いて測定した。
【００７５】また、各サンプルについて下記の特性を測
定した。結果を表１に示す。
定した。結果を表１に示す。
【００７６】（１）Ｓ／Ｎ 各サンプルの最内周でＳ／Ｎを測定した。記録・再生に
は、ギャップ長０．６μm のモノリシックタイプのＭＩ
Ｇ型浮上型ヘッドを有する磁気ディスク装置を用いた。
サンプルの回転数は３６００rpm 、ヘッドの浮上量は
０．２５μm とした。まず、記録周波数３．３MHz で書
き込んだ後、再生出力(Vrms)を１０MHz の帯域の交流電
圧計にて測定した。次に、このトラックで直流消去を３
回行なった後、交流電圧計で再生出力(VDCrms)を測定し
た。また、ヘッドをオンロードし、システムノイズ(Vno
ise)を測定した。そしてＳ／Ｎを下記式から求めた。 Ｓ／Ｎ＝Vrms／(VDCrms2−Vnoise2)1/2
は、ギャップ長０．６μm のモノリシックタイプのＭＩ
Ｇ型浮上型ヘッドを有する磁気ディスク装置を用いた。
サンプルの回転数は３６００rpm 、ヘッドの浮上量は
０．２５μm とした。まず、記録周波数３．３MHz で書
き込んだ後、再生出力(Vrms)を１０MHz の帯域の交流電
圧計にて測定した。次に、このトラックで直流消去を３
回行なった後、交流電圧計で再生出力(VDCrms)を測定し
た。また、ヘッドをオンロードし、システムノイズ(Vno
ise)を測定した。そしてＳ／Ｎを下記式から求めた。 Ｓ／Ｎ＝Vrms／(VDCrms2−Vnoise2)1/2
【００７７】（２）再生出力 ディスク回転数３６００rpm 、記録周波数３．３MHz の
ときのＰ−Ｐ値であり、単位は、kFRPI(kilo Flux Reve
rse Per Inch) である。
ときのＰ−Ｐ値であり、単位は、kFRPI(kilo Flux Reve
rse Per Inch) である。
【００７８】（３）Ｄ50 再生出力のＰ−Ｐ（peak to peak）値が孤立波再生出力
のＰ−Ｐ値の５０％まで減少したときの記録密度であ
る。記録密度は、記録信号の周波数を変えることにより
変更した。
のＰ−Ｐ値の５０％まで減少したときの記録密度であ
る。記録密度は、記録信号の周波数を変えることにより
変更した。
【００７９】
【表１】
【００８０】表１に示される結果から、本発明の効果が
明らかである。
明らかである。
【図１】磁性層のＸ線回折チャートである。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成５年３月２日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３６】磁性塗料の調製に用いる溶剤に特に制限は
なく、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン系、イ
ソプロピルアルコール、ブチルアルコール等のアルコー
ル系、エチルセロソルブ、酢酸セロソルブ等のセロソル
ブ系、トルエン等の芳香族系等の各種溶剤を目的に応じ
て選択すればよい。磁性塗料中の溶剤の含有量に特に制
眼はないが、磁性粉末１００重量部に対し、２００〜７
００重量部程度とすることが好ましい。磁性塗料には、
必要に応じα−Ａｌ２Ｏ３等の研磨剤、シリコーンオイ
ル等の潤滑剤、その他の各種添加物を添加してもよい。
なく、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン系、イ
ソプロピルアルコール、ブチルアルコール等のアルコー
ル系、エチルセロソルブ、酢酸セロソルブ等のセロソル
ブ系、トルエン等の芳香族系等の各種溶剤を目的に応じ
て選択すればよい。磁性塗料中の溶剤の含有量に特に制
眼はないが、磁性粉末１００重量部に対し、２００〜７
００重量部程度とすることが好ましい。磁性塗料には、
必要に応じα−Ａｌ２Ｏ３等の研磨剤、シリコーンオイ
ル等の潤滑剤、その他の各種添加物を添加してもよい。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 徳岡 保導 東京都中央区日本橋一丁目13番１号 ティ ーディーケイ株式会社内
Claims (5)
- 【請求項１】 実質的に六方晶系フェライト粒子から構
成される磁性粉末とバインダとを含む塗布型の磁性層を
有する磁気記録媒体であって、 前記磁性層の記録トラック方向の角形比をSQRx、前記磁
性層面内で記録トラック方向に垂直な方向の角形比をSQ
Ryとしたとき、 SQRx≧０．５０、 SQRy≦０．３５ であり、 前記磁性層のＸ線回折における（ｈｋｌ）面のピーク強
度をＩ（ｈｋｌ）とし、Ｉ＝Ｉ（００６）＋Ｉ（１１
０）＋Ｉ（１０７）＋Ｉ（１１４）、α＝Ｉ（００６）
×１００／Ｉ［％］としたとき、 α≧３％ であることを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項２】 第一の磁性塗膜に記録トラック方向の磁
界を印加して配向を行なった後、乾燥し、次いで第一の
磁性塗膜上に第二の磁性塗膜を形成し、次いで第一の磁
性塗膜および第二の磁性塗膜に垂直な方向の磁界を印加
して配向を行なう工程を経て前記磁性層が形成されてい
る請求項１に記載の磁気記録媒体。 - 【請求項３】 記録トラック方向の保磁力が１０００ O
e 以上である請求項１または２に記載の磁気記録媒体。 - 【請求項４】 前記六方晶系フェライト粒子がＢａフェ
ライト粒子である請求項１ないし３のいずれかに記載の
磁気記録媒体。 - 【請求項５】 請求項１ないし４のいずれかに記載の磁
気記録媒体を製造する方法であって、 第一の磁性塗膜形成工程と面内配向工程と乾燥工程と第
二の磁性塗膜形成工程と垂直配向工程とをこの順で有
し、前記面内配向工程において記録トラック方向に磁界
を印加し、前記第二の磁性塗膜形成工程において第一の
磁性塗膜の上に第二の磁性塗膜を形成し、前記垂直配向
工程において第一の磁性塗膜および第二の磁性塗膜に垂
直な方向に磁界を印加することを特徴とする磁気記録媒
体の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4200662A JPH0620254A (ja) | 1992-07-03 | 1992-07-03 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
| US08/083,498 US5419938A (en) | 1992-07-03 | 1993-06-30 | Magnetic recording medium comprising two magnetic layers of hexagonal ferrite magnetic particles and binder wherein the easy axes of the particle is specified |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4200662A JPH0620254A (ja) | 1992-07-03 | 1992-07-03 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0620254A true JPH0620254A (ja) | 1994-01-28 |
Family
ID=16428142
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4200662A Pending JPH0620254A (ja) | 1992-07-03 | 1992-07-03 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5419938A (ja) |
| JP (1) | JPH0620254A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018137008A (ja) * | 2017-02-20 | 2018-08-30 | 富士フイルム株式会社 | 磁気テープ装置およびヘッドトラッキングサーボ方法 |
| JP2018137007A (ja) * | 2017-02-20 | 2018-08-30 | 富士フイルム株式会社 | 磁気テープ装置および磁気再生方法 |
| JP2018170060A (ja) * | 2017-03-29 | 2018-11-01 | 富士フイルム株式会社 | 磁気テープ装置および磁気再生方法 |
| JP2018170061A (ja) * | 2017-03-29 | 2018-11-01 | 富士フイルム株式会社 | 磁気テープ装置およびヘッドトラッキングサーボ方法 |
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| JP2019021365A (ja) * | 2017-07-19 | 2019-02-07 | 富士フイルム株式会社 | 磁気テープ |
| JP2019021359A (ja) * | 2017-07-19 | 2019-02-07 | 富士フイルム株式会社 | 磁気記録媒体 |
| JP2019021366A (ja) * | 2017-07-19 | 2019-02-07 | 富士フイルム株式会社 | 磁気記録媒体 |
| JP2019021370A (ja) * | 2017-07-19 | 2019-02-07 | 富士フイルム株式会社 | 磁気記録媒体 |
| JP2019021369A (ja) * | 2017-07-19 | 2019-02-07 | 富士フイルム株式会社 | 磁気テープ |
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| JP2004220670A (ja) * | 2003-01-14 | 2004-08-05 | Hitachi Ltd | 磁化容易軸の向きが揃ったナノ粒子膜の作成方法とこれを用いた磁気記録媒体及びその製造方法及びその製造装置 |
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