JP6529933B2 - 磁気テープ - Google Patents

Description

本発明は、磁気テープに関する。

磁気記録媒体にはテープ状のものとディスク状のものがあり、データバックアップ等のデータストレージ用途には、テープ状の磁気記録媒体、即ち磁気テープが主に用いられている。

磁気テープとして、特許文献１には、非磁性支持体の磁性層を有する表面側とは反対の表面側にバックコート層を有する磁気テープが開示されている。更に特許文献１には、上記磁気テープがバックコート層に潤滑剤を含むことが開示されている。

特開２００９−２８３０８２号公報

磁気テープは、通常、磁気テープカートリッジ内にリールに巻き取られた状態で収容される。磁気テープへの信号の記録および再生は、一般に、磁気テープカートリッジをドライブに装着し、磁気テープをドライブ内で走行させて行われる。通常、かかる走行時にバックコート層表面は、ドライブ内で磁気テープの送り出しおよび／または巻き取りを行うローラー等のドライブ構成部材と接触する。ここでバックコート層表面とドライブ構成部材とが適度な親和性を有することによって、ドライブ内での磁気テープの走行を安定化させる（走行安定性を向上させる）ことができると推察される。この点に関して、本発明者らは、バックコート層に潤滑剤を含有させることは、バックコート層表面とドライブ構成部材との親和性を制御することにより、走行安定性を向上することに寄与すると考えている。一方、近年、磁気テープの需要の拡大に伴い、磁気テープは様々な温湿度環境で使用されている。磁気テープが使用される各種温湿度環境の中でも、低温（例えば１０〜１５℃）かつ高湿（例えば相対湿度７５〜８５％）の環境下では、理由は明らかではないが一般に走行安定性は低下しやすい傾向がある。

ところで、磁気テープカートリッジの１巻あたりの記録容量を高めるためには、磁気テープカートリッジ１巻に収められる磁気テープ全長を長くすべきである。このためには、磁気テープを薄くする（以下、「薄型化」と記載する。）ことが求められる。磁気テープの薄型化のための手段の１つとしては、バックコート層の厚みを薄くすることが挙げられる。バックコート層の厚みに関して、特許文献１には、実施例において、厚み０．５μｍのバックコート層を形成している。しかるに、近年求められている更なる高記録容量化のためには、バックコート層を更に薄くすること（以下、「薄層化」と記載する。）が望ましい。
そこで本発明者らが、特許文献１の実施例で形成されているバックコート層よりバックコート層を更に薄層化することを検討したところ、低温高湿環境下では、単にバックコート層に潤滑剤を含有させることでは、薄層化されたバックコート層を有する磁気テープの走行安定性の低下を抑制することは困難であることが判明した。

本発明の目的は、バックコート層が薄層化された磁気テープであって、低温高湿環境下で優れた走行安定性を示すことができる磁気テープを提供することにある。

本発明の一態様は、
非磁性支持体の一方の表面側に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有し、他方の表面側に非磁性粉末および結合剤を含むバックコート層を有する磁気テープであって、
バックコート層の厚みは、０．２０μｍ以下であり、
バックコート層は、脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選択される成分の一種以上と、脂肪酸エステルと、を含み、
バックコート層の表面において光電子取り出し角１０度で行われるＸ線光電子分光分析により得られるＣ１ｓスペクトルにおけるＣ−Ｈピーク面積率から算出されるＣ−Ｈ由来Ｃ濃度（以下、「表層部Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度」ともいう。）は、３５原子％以上であり、
磁気テープを真空加熱する前にバックコート層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅（以下、「ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}」ともいう。）は、０ｎｍ超かつ１０．０ｎｍ以下であり、
磁気テープを真空加熱した後にバックコート層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅（以下、「ＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}」ともいう。）は、０ｎｍ超かつ１０．０ｎｍ以下であり、かつ
磁気テープを真空加熱した後にバックコート層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳ_{ａｆｔｅｒ}と、磁気テープを真空加熱する前にバックコート層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳ_{ｂｅｆｏｒｅ}との差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）（以下、単に「差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）」ともいう。）は、０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下である磁気テープ、
に関する。

一態様では、表層部Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度は、３５原子％以上６０原子％以下である。

一態様では、表層部Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度は、４０原子％以上６０原子％以下である。

一態様では、ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}は、０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下である。

一態様では、ＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}は、０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下である。

一態様では、差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）は、０ｎｍ超かつ６．０ｎｍ以下である。

一態様では、バックコート層の厚みは、０．０５μｍ以上０．２０μｍ以下である。

一態様では、バックコート層に含まれる非磁性粉末は、無機粉末およびカーボンブラックからなる群から選択される一種以上の非磁性粉末である。

一態様では、バックコート層における無機粉末の含有量は、バックコート層に含まれる非磁性粉末全量１００．０質量部に対して５０．０質量部超〜１００．０質量部の範囲である。

一態様では、上記磁気テープは、非磁性支持体と磁性層との間に、非磁性粉末および結合剤を含む非磁性層を有する。

本発明の一態様によれば、厚みが０．２０μｍ以下であるバックコート層を有し、低温高湿環境下で優れた走行安定性を示すことができる磁気テープを提供することができる。

磁気テープ製造工程の具体的態様の一例（工程概略図）を示す。 実施例で用いた振動付与装置の概略構成図である。

本発明の一態様は、非磁性支持体の一方の表面側に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有し、他方の表面側に非磁性粉末および結合剤を含むバックコート層を有する磁気テープであって、バックコート層の厚みは０．２０μｍ以下であり、バックコート層は脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選択される成分の一種以上と脂肪酸エステルとを含み、バックコート層の表面において光電子取り出し角１０度で行われるＸ線光電子分光分析により得られるＣ１ｓスペクトルにおけるＣ−Ｈピーク面積率から算出されるＣ−Ｈ由来Ｃ濃度（表層部Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度）は３５原子％以上であり、磁気テープを真空加熱する前にバックコート層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅（ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}）は０ｎｍ超かつ１０．０ｎｍ以下であり、磁気テープを真空加熱した後にバックコート層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅（ＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}）は０ｎｍ超かつ１０．０ｎｍ以下であり、かつ磁気テープを真空加熱した後にバックコート層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳ_{ａｆｔｅｒ}と、磁気テープを真空加熱する前にバックコート層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳ_{ｂｅｆｏｒｅ}との差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）は０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下である磁気テープに関する。
以下、上記磁気テープについて、更に詳細に説明する。以下において、特記しない限り、「走行安定性」とは、低温高湿環境における走行安定性をいうものとする。低温高湿環境とは、例えば、先に例示した温度および相対湿度の環境である。なお以下の記載には、本発明者らの推察が含まれる。かかる推察によって本発明は限定されるものではない。また、以下では、図面に基づき例示的に説明することがある。ただし、例示される態様に本発明は限定されるものではない。

［バックコート層の厚み］
上記磁気テープのバックコート層の厚みは、０．２０μｍ以下である。バックコート層の厚みは、磁気テープの更なる薄型化の観点からは、例えば０．１８μｍ以下または０．１５μｍ以下であることもできる。また、バックコート層の厚みは、例えば０．０５μｍ以上であることができ、０．１０μｍ以上であることもできる。バックコート層が厚み０．２０μｍ以下に薄層化されていることは、このバックコート層を有する磁気テープの薄型化に寄与し得る。ただしバックコート層の薄層化は、低温高湿環境において走行安定性の低下をもたらしてしまうことが、本発明者らの検討の結果、判明した。また、バックコート層の厚みが０．２０μｍ以下の磁気テープでは、従来のように単にバックコート層に潤滑剤を添加することでは低温高湿環境における走行安定性低下を抑制することは困難であることも、本発明者らの検討の結果、明らかとなった。この理由は、バックコート層の厚みが０．２０μｍ以下の磁気テープでは、より厚いバックコート層を有する磁気テープと比べて磁気テープのスティフネス（剛性）が低下する傾向があること、層に保持可能な潤滑剤量が少ないこと等にあるのではないかと本発明者らは推察している。ただし推察に過ぎない。
これに対し、厚み０．２０μｍ以下のバックコート層を有する磁気テープにおいて、表層部Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度、ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}、ＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}、および差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）をそれぞれ上記範囲とすることにより、低温高湿環境における走行安定性の低下を抑制することができる。本発明者らは、表層部Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度は、バックコート層における脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の存在状態の指標となり得る値であり、ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}、ＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}および差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）はバックコート層における脂肪酸エステルの存在状態の指標になり得る値であると考えている。脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分、ならびに脂肪酸エステルは、潤滑剤として機能し得る成分である。これら成分のバックコート層における存在状態を、表層部Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度、ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}、ＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}、および差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）がそれぞれ上記範囲となるように制御することが、走行安定性向上に寄与すると本発明者らは考えている。以上の点について、詳細は後述する。

［表層部Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度］
上記磁気テープのバックコート層の表面において光電子取り出し角１０度で行われるＸ線光電子分光分析により得られるＣ１ｓスペクトルにおけるＣ−Ｈピーク面積率から算出されるＣ−Ｈ由来Ｃ濃度（表層部Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度）は３５原子％以上である。走行安定性の更なる向上の観点からは、表層部Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度は、４０原子％以上であることが好ましく、４５原子％以上であることがより好ましく、５０原子％以上であることが更に好ましく、高いほど好ましい。また、表層部Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度は、例えば６０原子％以下であることができる。ただし、表層部Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度が高いほど走行安定性向上の観点から好ましいため、表層部Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度は６０原子％超であることもできる。

表層部Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度は、Ｘ線光電子分光分析により求められる値である。Ｘ線光電子分光分析は、一般にＥＳＣＡ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ ｆｏｒ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ａｎａｌｙｓｉｓ）またはＸＰＳ（Ｘ−ｒａｙ Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）とも呼ばれる分析法である。以下において、Ｘ線光電子分光分析を、ＥＳＣＡとも記載する。ＥＳＣＡは、測定対象試料表面にＸ線を照射すると光電子が放出されることを利用する分析法であり、測定対象試料の表層部の分析法として広く用いられている。ＥＳＣＡによれば、測定対象の試料表面における分析により取得されるＸ線光電子分光スペクトルを用いて定性分析および定量分析を行うことができる。試料表面から分析位置までの深さ（以下、「検出深さ」とも記載する。）と光電子取り出し角（ｔａｋｅ−ｏｆｆ ａｎｇｌｅ）との間には、一般に次の式：検出深さ≒電子の平均自由行程×３×ｓｉｎθ、が成立する。式中、検出深さは、Ｘ線光電子分光スペクトルを構成する光電子の９５％が発生する深さであり、θは光電子取り出し角である。上記の式から、光電子取り出し角が小さいほど試料表面からの深さが浅い部分が分析でき、光電子取り出し角が大きいほど深い部分が分析できることがわかる。そして光電子取り出し角１０度でのＥＳＣＡによって行われる分析では、通常、試料表面から深さ数ｎｍ程度のごく表層部が分析位置になる。したがって、磁気テープのバックコート層表面において、光電子取り出し角１０度でＥＳＣＡによって行われる分析によれば、バックコート層表面から深さ数ｎｍ程度のごく表層部の組成分析を行うことができる。

上記のＣ−Ｈ由来Ｃ濃度とは、ＥＳＣＡによって行われる定性分析により検出される全元素の合計（原子基準）１００原子％に対して、Ｃ−Ｈ結合を構成している炭素原子Ｃが占める割合である。上記磁気テープは、脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上をバックコート層に含む。脂肪酸および脂肪酸アミドは、それぞれ磁気テープにおいて潤滑剤として機能することのできる成分である。これら成分の一種以上をバックコート層に含む磁気テープのバックコート層表面において、光電子取り出し角１０度でＥＳＣＡによって行われる分析により得られるＣ−Ｈ由来Ｃ濃度は、バックコート層のごく表層部における上記成分（脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上）の存在量の指標になるものであると、本発明者らは考えている。詳しくは、次の通りである。
ＥＳＣＡによって行われる分析により得られるＸ線光電子分光スペクトル（横軸：結合エネルギー、縦軸：強度）の中で、Ｃ１ｓスペクトルは、炭素原子Ｃの１ｓ軌道のエネルギーピークに関する情報を含んでいる。かかるＣ１ｓスペクトルにおいて、結合エネルギー２８４．６ｅＶ付近に位置するピークが、Ｃ−Ｈピークである。このＣ−Ｈピークは、有機化合物のＣ−Ｈ結合の結合エネルギーに由来するピークである。脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上を含むバックコート層のごく表層部では、Ｃ−Ｈピークの主要構成成分が脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分であると本発明者らは推察している。そのため、上記のＣ−Ｈ由来Ｃ濃度を先に記載したように存在量の指標とすることができると本発明者らは考えている。そして、脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上をバックコート層に含み、かつ表層部Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度が３５原子％以上の磁気テープは、バックコート層のごく表層部に、脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上が、従来の磁気テープよりも多量に存在すると本発明者らは考えている。このようにバックコート層のごく表層部に脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上が多量に存在することが、バックコート層表面とドライブ構成部材とを円滑に摺動させることに寄与すると、本発明者らは推察している。バックコート層表面とドライブ構成部材とを円滑に摺動させることができれば、走行安定性を向上することが可能となる。
ただし、以上は本発明者らの推察であって、本発明を何ら限定するものではない。

先に記載したように、表層部Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度は、ＥＳＣＡを用いる分析により求められる値である。分析を行う領域は、磁気テープのバックコート層表面の任意の位置の３００μｍ×７００μｍの面積の領域とする。ＥＳＣＡによって行われるワイドスキャン測定（パスエネルギー：１６０ｅＶ、スキャン範囲：０〜１２００ｅＶ、エネルギー分解能：１ｅＶ／ｓｔｅｐ）により定性分析を実施する。次いで、定性分析により検出された全元素のスペクトルをナロースキャン測定（パスエネルギー：８０ｅＶ、エネルギー分解能：０．１ｅＶ、スキャン範囲：測定するスペクトルの全体が入るように元素毎に設定。）により求める。こうして得られた各スペクトルにおけるピーク面積から、各元素の原子濃度（ａｔｏｍｉｃ ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｏｎ、単位：原子％）を算出する。ここでＣ１ｓスペクトルのピーク面積から炭素原子の原子濃度（Ｃ濃度）も算出される。
更に、Ｃ１ｓスペクトルを取得する（パスエネルギー：１０ｅＶ、スキャン範囲：２７６〜２９６ｅＶ、エネルギー分解能：０．１ｅＶ／ｓｔｅｐ）。取得したＣ１ｓスペクトルを、ガウス−ローレンツ複合関数（ガウス成分７０％、ローレンツ成分３０％）を用いる非線形最小二乗法によってフィッティング処理し、Ｃ１ｓスペクトルにおけるＣ−Ｈ結合のピークをピーク分離し、分離されたＣ−ＨピークのＣ１ｓスペクトルに占める割合（ピーク面積率）を算出する。算出されたＣ−Ｈピーク面積率を、上記のＣ濃度に掛けることにより、Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度を算出する。
以上の処理を磁気テープのバックコート層表面の異なる位置において３回行って得られた値の算術平均を、表層部Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度とする。また、以上の処理の具体的態様を、後述の実施例に示す。

以上説明した表層部Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度を３５原子％以上に調整するための好ましい手段としては、詳細を後述するようにバックコート層形成工程において冷却工程を実施することを挙げることができる。ただし上記磁気テープは、かかる冷却工程を経て製造されたものに限定されるものではない。

［スペーシング分布ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}、ＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}、差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）］
＜測定方法＞
スペーシング分布ＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}および差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）を求めるためのスペーシングＳ_{ａｆｔｅｒ}は、磁気テープを真空加熱した後に求められる値である。本発明および本明細書において、磁気テープの「真空加熱」とは、磁気テープを２００Ｐａ以上０．０１ＭＰａ以下の圧力かつ７０〜９０℃の雰囲気温度の環境下に２４時間保持することにより行われる。
本発明および本明細書において、磁気テープのバックコート層表面において光学干渉法により測定されるスペーシングとは、以下の方法により測定される値とする。また、本発明および本明細書において、磁気テープの「バックコート層（の）表面」とは、磁気テープのバックコート層側表面と同義である。
磁気テープと透明な板状部材（例えばガラス板等）を、磁気テープのバックコート層表面が透明な板状部材と対向するように重ね合わせた状態で、磁気テープのバックコート層側とは反対側から５．０５×１０^４Ｎ／ｍ（０．５ａｔｍ）の圧力で押圧部材を押しつける。この状態で、透明な板状部材を介して磁気テープのバックコート層表面に光を照射し（照射領域：１５００００〜２０００００μｍ^２）、磁気テープのバックコート層表面からの反射光と透明な板状部材の磁気テープ側表面からの反射光との光路差によって発生する干渉光の強度（例えば干渉縞画像のコントラスト）に基づき、磁気テープのバックコート層表面と透明な板状部材表面との間のスペーシング（距離）を求める。ここで照射される光は特に限定されるものではない。照射される光が、複数波長の光を含む白色光のように、比較的広範な波長範囲にわたり発光波長を有する光の場合には、透明な板状部材と反射光を受光する受光部との間に、干渉フィルタ等の特定波長または特定波長域以外の光を選択的にカットする機能を有する部材を配置し、反射光の中の一部の波長または一部の波長域の光を選択的に受光部に入射させる。照射させる光が単一の発光ピークを有する光（いわゆる単色光）の場合には、上記の部材は用いなくてもよい。受光部に入射させる光の波長は、一例として、例えば５００〜７００ｎｍの範囲にあることができる。ただし、受光部に入射させる光の波長は、上記範囲に限定されるものではない。また、透明な板状部材は、この部材を介して磁気テープに光を照射し干渉光が得られる程度に、照射される光を透過する透明性を有する部材であればよい。
以上の測定は、例えばＭｉｃｒｏ Ｐｈｙｓｉｃｓ社製Ｔａｐｅ Ｓｐａｃｉｎｇ Ａｎａｌｙｚｅｒ等の市販のテープスペーシングアナライザー（ＴＳＡ；Ｔａｐｅ Ｓｐａｃｉｎｇ Ａｎａｌｙｚｅｒ）を用いて行うことができる。実施例におけるスペーシング測定は、Ｍｉｃｒｏ Ｐｈｙｓｉｃｓ社製Ｔａｐｅ Ｓｐａｃｉｎｇ Ａｎａｌｙｚｅｒを用いて実施した。
また、本発明および本明細書におけるスペーシング分布の半値全幅とは、上記スペーシングの測定により得られる干渉縞画像を３０００００ポイントに分割して各ポイントのスペーシング（磁気テープのバックコート層表面と透明な板状部材の磁気テープ側表面との間の距離）を求め、これをヒストグラムとし、このヒストグラムをガウス分布でフィッティングしたときの半値全幅（Ｆｕｌｌ Ｗｉｄｔｈ ａｔ Ｈａｌｆ Ｍａｘｉｍｕｍ；ＦＷＨＭ）である。
また、差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ−}Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）は、上記３０００００ポイントにおける真空加熱後の最頻値から真空加熱前の最頻値を差し引いた値をいうものとする。

上記方法により求められるＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}、ＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}、および差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）に関する本発明者らの推察を、以下に記載する。

潤滑剤は、一般に流体潤滑剤と境界潤滑剤とに大別される。上記の脂肪酸および脂肪酸アミドは、境界潤滑剤として機能し得る成分と言われている。脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分に関する本発明者らの推察は、先に記載した通りである。
これに対し、脂肪酸エステルは、流体潤滑剤として機能し得る成分と言われている。流体潤滑剤は、それ自身がバックコート層表面に液膜を形成することにより、バックコート層表面を保護する役割を果たすことができると考えられる。本発明者らは、バックコート層表面に脂肪酸エステルの液膜が存在することが、バックコート層表面を保護しバックコート層表面とドライブ構成部材とを円滑に摺動させることにつながると考えている。ただし、脂肪酸エステルがバックコート層表面に過剰に存在すると、脂肪酸エステルによりバックコート層表面とドライブ構成部材との間にメニスカス（液架橋）が形成されて、走行安定性低下をもたらす貼り付きの原因になると考えられる。
以上の点に関して本発明者らは、脂肪酸エステルは真空加熱により揮発する性質を有する成分であるため、真空加熱後（脂肪酸エステルの液膜が揮発し除去された状態）と真空加熱前（脂肪酸エステルの液膜が存在している状態）のスペーシングの差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ−}Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）は、バックコート層表面における脂肪酸エステルにより形成される液膜の厚みの指標になり得ると考えている。更に本発明者らは、差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ−}Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）が０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下となるようにバックコート層表面に脂肪酸エステルの液膜を存在させることが、バックコート層表面とドライブ構成部材とを、貼り付きを抑制しつつ円滑に摺動させることにつながると推察している。

更に本発明者らは、鋭意検討を重ねる中で、バックコート層表面とドライブ構成部材とを円滑に摺動させるためには、バックコート層自体の表面形状の均一性を高め、かつ脂肪酸エステルの液膜の厚みの均一性を高めることにより、バックコート層表面とドライブ構成部材との接触状態の均一性を高めることが有効であると考えるに至った。この点に関して、光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、この値が小さいほど測定対象表面の各部において測定されるスペーシングの値のばらつきが少ないことを意味する。磁気テープのバックコート層表面において上記のスペーシングの値がばらつく要因は、バックコート層自体の表面形状のばらつき（例えば、バックコート層に含まれる非磁性粉末の分散状態に起因するばらつき）と、脂肪酸エステルによって形成された液膜の厚みのばらつきにあると考えられる。真空加熱前、即ちバックコート層表面に脂肪酸エステルの液膜が存在する状態で測定されるスペーシング分布ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}は、バックコート層の表面形状のばらつきと脂肪酸エステルの液膜の厚みのばらつきが大きいほど大きくなり、中でも脂肪酸エステルの液膜の厚みのばらつきが大きく影響すると、本発明者らは推察している。これに対し、真空加熱後、即ちバックコート層表面から脂肪酸エステルの液膜が除去された状態で測定されるスペーシング分布ＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}は、バックコート層自体の表面形状のばらつきが大きいほど大きくなると本発明者らは考えている。即ち、スペーシング分布ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}およびＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}がともに小さいほど、バックコート層の表面形状のばらつきもバックコート層表面の脂肪酸エステルの液膜の厚みのばらつきも小さいことを意味すると、本発明者らは推察している。そしてスペーシング分布ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}およびＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}がともに０ｎｍ超かつ１０．０ｎｍ以下となるようにバックコート層の表面形状の均一性および脂肪酸エステルの液膜の厚みの均一性を高めることによって、バックコート層表面とドライブ構成部材との接触状態の均一性を高めることができると、本発明者らは考えている。更に本発明者らは、脂肪酸エステルの液膜の厚みの均一性を高めることは、脂肪酸エステルが上記液膜の界面付近で脂肪酸および／または脂肪酸アミドに何らかの作用を及ぼすことによって、バックコート層のごく表層部における脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上の面内分布の均一性を高めることにもつながるのではないか考えている。このことも、バックコート層表面とドライブ構成部材との接触状態の均一性を高めることに寄与するのではないかと本発明者らは推察している。

ただし以上は本発明者らの推察であって、本発明を何ら限定するものではない。

＜ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}、ＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}＞
上記磁気テープのバックコート層表面において測定される真空加熱前のスペーシング分布ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}、および真空加熱後のスペーシング分布ＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}は、ともに０ｎｍ超かつ１０．０ｎｍ以下である。先に記載したように、ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}およびＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}が上記範囲であることが、バックコート層表面とドライブ構成部材とを円滑に摺動させて走行安定性を向上させることに寄与すると、本発明者らは推察している。走行安定性を更に向上させる観点からは、ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}およびＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}は、９．０ｎｍ以下であることが好ましく、８．０ｎｍ以下であることがより好ましく、７．０ｎｍ以下であることが更に好ましく、６．０ｎｍ以下であることが一層好ましく、５．０ｎｍ以下であることがより一層好ましい。ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}およびＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}は、例えば１．０ｎｍ以上または２．０ｎｍ以上であることができる。ただし、値が小さいほど走行安定性向上の観点から好ましいため、上記例示した値を下回ってもよい。

真空加熱前のスペーシング分布ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}は、主に脂肪酸エステルの液膜の厚みのばらつきを低減することにより小さくすることができる。具体的な手段の一例は後述する。一方、真空加熱後のスペーシング分布ＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}は、バックコート層の表面形状のばらつきを低減することにより小さくすることができる。そのためには、バックコート層形成用組成物における非磁性粉末の分散性を向上することが好ましい。分散性は、例えば、バックコート層形成に用いる非磁性粉末の種類および二種以上の非磁性粉末を含む場合にはそれらの混合比等によって調整することができる。具体的な手段の一例は後述する。

＜差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）＞
上記磁気テープのバックコート層表面において測定される真空加熱前後のスペーシングの差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）は、０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下である。走行安定性を更に向上させる観点から、差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）は、０．１ｎｍ以上であることが好ましく、１．０ｎｍ以上であることがより好ましく、１．５ｎｍ以上であることが更に好ましい。また、同様の観点から、差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）は、７．０ｎｍ以下であることが好ましく、６．０ｎｍ以下であることがより好ましく、５．０ｎｍ以下であることが更に好ましく、４．０ｎｍ以下であることが一層好ましい。差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）は、バックコート層形成用組成物に添加する脂肪酸エステル量によって制御することができる。バックコート層形成用組成物に添加する脂肪酸エステル量を増量するほど差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）は大きくなる傾向がある。

［脂肪酸、脂肪酸アミド］
上記磁気テープは、脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上をバックコート層に含む。バックコート層には、脂肪酸および脂肪酸アミドの一方のみが含まれていてもよく、両方が含まれていてもよい。先に記載したように、これら成分のバックコート層のごく表層部における存在量の指標に、表層部Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度がなり得ると本発明者らは考えている。

脂肪酸としては、例えば、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、ベヘン酸、エルカ酸、エライジン酸等を挙げることができ、ステアリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸が好ましく、ステアリン酸がより好ましい。脂肪酸は、金属塩等の塩の形態でバックコート層に含まれていてもよい。
脂肪酸アミドとしては、例示した上記各種脂肪酸のアミド、具体的には、例えば、ラウリン酸アミド、ミリスチン酸アミド、パルミチン酸アミド、ステアリン酸アミド等を挙げることができる。
脂肪酸と脂肪酸の誘導体（アミドおよび後述のエステル等）については、脂肪酸誘導体の脂肪酸由来部位は、併用される脂肪酸と同様または類似の構造を有することが好ましい。例えば、一例として、脂肪酸としてステアリン酸を用いる場合にステアリン酸アミドおよび／またはステアリン酸エステルを使用することは好ましい。

バックコート層の脂肪酸含有量は、バックコート層に含まれる非磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０．１〜１０.０質量部であり、好ましくは１．０〜７．０質量部である。なおバックコート層に二種以上の異なる脂肪酸が含まれる場合、含有量とは、それらの合計含有量をいうものとする。この点は、本発明および本明細書において、特記しない限り、他の成分の含有量についても同様とする。また、本発明および本明細書において、記載されている成分は、特記しない限り、一種のみ用いてもよく二種以上用いてもよい。

バックコート層の脂肪酸アミド含有量は、バックコート層に含まれる非磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０．１〜３.０質量部であり、好ましくは ０．１〜１．０質量部である。

［脂肪酸エステル］
上記磁気テープは、バックコート層に脂肪酸エステルを含む。脂肪酸エステルと上記スペーシングおよびスペーシング分布に関する本発明者らの推察は、先に記載した通りである。脂肪酸エステルは、バックコート層に一種のみ含まれていてもよく、二種以上含まれていてもよい。
脂肪酸エステルとしては、例えば、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、ベヘン酸、エルカ酸、エライジン酸等のエステルを挙げることができる。具体例としては、例えば、ミリスチン酸ブチル、パルミチン酸ブチル、ステアリン酸ブチル（ブチルステアレート）、ネオペンチルグリコールジオレエート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンジステアレート、ソルビタントリステアレート、オレイン酸オレイル、ステアリン酸イソセチル、ステアリン酸イソトリデシル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸イソオクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸ブトキシエチル等を挙げることができる。

バックコート層の脂肪酸エステル含有量は、バックコート層に含まれる非磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０．１〜１０．０質量部であり、好ましくは１．０〜５．０質量部である。

以上記載した脂肪酸、脂肪酸アミドおよび脂肪酸エステルからなる成分の少なくとも一種は、上記磁気テープの磁性層および／または任意に設けられる非磁性層に含まれていてもよい。磁性層の脂肪酸含有量は、強磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０〜１０．０質量部であり、好ましくは０．１〜１０．０質量部であり、より好ましくは１．０〜７．０質量部である。磁性層の脂肪酸アミド含有量は、強磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０〜３．０質量部であり、好ましくは０〜２．０質量部であり、より好ましくは０〜１．０質量部である。磁性層の脂肪酸エステル含有量は、強磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０〜１０．０質量部であり、０．１〜１０．０質量部であることが好ましく、より好ましくは１．０〜７．０質量部である。非磁性層の脂肪酸含有量、脂肪酸アミド含有量および脂肪酸エステル含有量については、上記の磁性層の含有量に関する記載の強磁性粉末を非磁性粉末に置き換えて適用することができる。

次に、上記磁気テープについて、更により詳細に説明する。

［磁性層］
＜強磁性粉末＞
強磁性粉末としては、磁気テープの磁性層において強磁性粉末として通常用いられる各種粉末を使用することができる。強磁性粉末として平均粒子サイズの小さいものを使用することは、磁気テープの記録密度向上の観点から好ましい。この点から、強磁性粉末としては、平均粒子サイズが５０ｎｍ以下の強磁性粉末を用いることが好ましい。一方、磁化の安定性の観点からは、強磁性粉末の平均粒子サイズは１０ｎｍ以上であることが好ましい。

上記強磁性粉末の平均粒子サイズは、透過型電子顕微鏡を用いて、以下の方法により測定される値とする。
強磁性粉末を、透過型電子顕微鏡を用いて撮影倍率１０００００倍で撮影し、総倍率５０００００倍になるように印画紙にプリントして強磁性粉末を構成する粒子の写真を得る。得られた粒子の写真から目的の粒子を選びデジタイザーで粒子の輪郭をトレースし粒子（一次粒子）のサイズを測定する。一次粒子とは、凝集のない独立した粒子をいう。
以上の測定を、無作為に抽出した５００個の粒子について行う。こうして得られた５００個の粒子の粒子サイズの算術平均を、強磁性粉末の平均粒子サイズとする。上記透過型電子顕微鏡としては、例えば日立製透過型電子顕微鏡Ｈ−９０００型を用いることができる。また、粒子サイズの測定は、公知の画像解析ソフト、例えばカールツァイス製画像解析ソフトＫＳ−４００を用いて行うことができる。
本発明において、強磁性粉末、およびその他の粉末についての平均粒子サイズとは、特記しない限り、上記方法により求められる平均粒子サイズをいうものとする。後述の実施例に示す平均粒子サイズの測定は、透過型電子顕微鏡として日立製透過型電子顕微鏡Ｈ−９０００型、画像解析ソフトとしてカールツァイス製画像解析ソフトＫＳ−４００を用いて行った。また、本発明および本明細書において、強磁性粉末とは、複数の強磁性粒子の集合を意味するものとする。集合とは、集合を構成する粒子が直接接触している態様に限定されず、結合剤、添加剤等が、粒子同士の間に介在している態様も包含される。なお粒子との語が、粉末を表すために用いられることもある。以上の点は、本発明および本明細書における非磁性粉末等の各種粉末についても同様とする。

粒子サイズ測定のために磁性層等から強磁性粉末等の試料粉末を採取する方法としては、例えば特開２０１１−０４８８７８号公報の段落００１５に記載の方法を採用することができる。

本発明および本明細書において、強磁性粉末等の粉末を構成する粒子のサイズ（以下、「粒子サイズ」と言う）は、上記の粒子写真において観察される粒子の形状が、
（１）針状、紡錘状、柱状（ただし、高さが底面の最大長径より大きい）等の場合は、粒子を構成する長軸の長さ、即ち長軸長で表され、
（２）板状または柱状（ただし、厚さまたは高さが板面または底面の最大長径より小さい）の場合は、その板面または底面の最大長径で表され、
（３）球形、多面体状、不特定形等であって、かつ形状から粒子を構成する長軸を特定できない場合は、円相当径で表される。円相当径とは、円投影法で求められるものを言う。

また、粉末の平均針状比は、上記測定において粒子の短軸の長さ、即ち短軸長を測定し、各粒子の（長軸長／短軸長）の値を求め、上記５００個の粒子について得た値の算術平均を指す。ここで、短軸長とは、上記粒子サイズの定義で（１）の場合は、粒子を構成する短軸の長さを、同じく（２）の場合は、厚さまたは高さを各々指し、（３）の場合は、長軸と短軸の区別がないから、（長軸長／短軸長）は、便宜上１とみなす。
そして、粒子の形状が特定の場合、例えば、上記粒子サイズの定義（１）の場合、平均粒子サイズは平均長軸長であり、同定義（２）の場合、平均粒子サイズは平均板径であり、平均板状比とは、（最大長径／厚さまたは高さ）の算術平均である。同定義（３）の場合、平均粒子サイズは、平均直径（平均粒径または平均粒子径とも呼ばれる。）である。

強磁性粉末の好ましい具体例としては、強磁性六方晶フェライト粉末を挙げることができる。強磁性六方晶フェライト粉末の平均粒子サイズは、高密度記録化と磁化の安定性の観点から、１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることがより好ましい。強磁性六方晶フェライト粉末の詳細については、例えば、特開２０１１−２２５４１７号公報の段落００１２〜００３０、特開２０１１−２１６１４９号公報の段落０１３４〜０１３６、特開２０１２−２０４７２６号公報の段落００１３〜００３０を参照できる。

強磁性粉末の好ましい具体例としては、強磁性金属粉末を挙げることもできる。強磁性金属粉末の平均粒子サイズは、高密度記録化と磁化の安定性の観点から、１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることがより好ましい。強磁性金属粉末の詳細については、例えば特開２０１１−２１６１４９号公報の段落０１３７〜０１４１、特開２００５−２５１３５１号公報の段落０００９〜００２３を参照できる。

磁性層における強磁性粉末の含有量（充填率）は、好ましくは５０〜９０質量％の範囲であり、より好ましくは６０〜９０質量％の範囲である。磁性層の強磁性粉末以外の成分は少なくとも結合剤であり、任意に一種以上の添加剤が含まれ得る。磁性層において強磁性粉末の充填率が高いことは、記録密度向上の観点から好ましい。

＜結合剤、硬化剤＞
上記磁気テープは、磁性層に結合剤を含む。結合剤とは、一種以上の樹脂である。樹脂は、ホモポリマーでもよく、コポリマー（共重合体）でもよい。結合剤としては、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、塩化ビニル樹脂、スチレン、アクリロニトリル、メチルメタクリレート等を共重合したアクリル樹脂、ニトロセルロース等のセルロース樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルキラール樹脂等から選ばれる樹脂を単独で用いるか、または複数の樹脂を混合して用いることができる。これらの中で好ましいものは、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、セルロース樹脂および塩化ビニル樹脂である。これらの樹脂は、バックコート層および／または後述する非磁性層においても結合剤として使用することができる。結合剤については、特開２０１０−２４１１３号公報の段落００２８〜００３１を参照できる。また、結合剤として使用可能な樹脂とともに硬化剤を使用することもできる。硬化剤としては、ポリイソシアネートが好適である。ポリイソシアネートの詳細については、特開２０１１−２１６１４９号公報の段落０１２４〜０１２５を参照できる。硬化剤は、磁性層形成用組成物に、結合剤１００．０質量部に対して例えば０〜８０．０質量部、磁性層の強度向上の観点からは好ましくは５０．０〜８０．０質量部の量で添加し使用することができる。

＜添加剤＞
磁性層には、必要に応じて添加剤を加えることができる。添加剤としては、非磁性フィラー、分散剤、分散助剤、潤滑剤、防黴剤、帯電防止剤、酸化防止剤、カーボンブラック等を挙げることができる。非磁性フィラーとは、非磁性粉末と同義である。非磁性フィラーとしては、研磨剤として機能することができる非磁性フィラー、磁性層表面に適度に突出する突起を形成する突起形成剤として機能することができる非磁性フィラー（例えば非磁性コロイド粒子等）が挙げられる。添加剤は、所望の性質に応じて市販品を適宜選択して使用することができる。また、上記の通り、磁性層には、脂肪酸、脂肪酸アミドおよび脂肪酸エステルからなる群から選ばれる成分の一種以上が含まれていてもよい。

以上説明した磁性層は、非磁性支持体上に直接、または非磁性層を介して間接的に、設けることができる。非磁性層、非磁性支持体の詳細については、後述する。

［非磁性層］
上記磁気テープは、非磁性支持体と磁性層との間に、非磁性粉末と結合剤を含む非磁性層を有することができる。非磁性層に使用される非磁性粉末は、無機物質の粉末（無機粉末）でも有機物質の粉末（有機粉末）でもよい。また、カーボンブラック等も使用できる。無機粉末としては、例えば金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の粉末が挙げられる。これらの非磁性粉末は、市販品として入手可能であり、公知の方法で製造することもできる。その詳細については、特開２０１１−２１６１４９号公報の段落０１４６〜０１５０を参照できる。非磁性層に使用可能なカーボンブラックについては、特開２０１０−２４１１３号公報の段落００４０〜００４１も参照できる。非磁性層における非磁性粉末の含有量（充填率）は、好ましくは５０〜９０質量％の範囲であり、より好ましくは６０〜９０質量％の範囲である。

非磁性層の結合剤、添加剤等のその他詳細については、非磁性層に関する公知技術が適用できる。また、例えば、結合剤の種類および含有量、添加剤の種類および含有量等に関しては、磁性層に関する公知技術も適用できる。

また、上記の通り、非磁性層には、脂肪酸、脂肪酸アミドおよび脂肪酸エステルからなる群から選ばれる成分の一種以上が含まれていてもよい。

本発明および本明細書において、非磁性層には、非磁性粉末とともに、例えば不純物として、または意図的に、少量の強磁性粉末を含む実質的に非磁性な層も包含されるものとする。ここで実質的に非磁性な層とは、この層の残留磁束密度が１０ｍＴ以下であるか、保磁力が７．９６ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下であるか、または、残留磁束密度が１０ｍＴ以下であり、かつ保磁力が７．９６ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下である層をいうものとする。非磁性層は、残留磁束密度および保磁力を持たないことが好ましい。

［バックコート層］
＜非磁性粉末＞
バックコート層に含まれる非磁性粉末の種類については、非磁性層に含まれる非磁性粉末に関する上記記載を参照することができる。バックコート層に含まれる非磁性粉末は、無機粉末およびカーボンブラックからなる群から選択される一種以上の非磁性粉末であることが好ましい。無機粉末としては、α−酸化鉄等の酸化鉄、二酸化チタン等の酸化チタン、酸化セリウム、酸化スズ、酸化タングステン、ＺｎＯ、ＺｒＯ_２、ＳｉＯ_２、Ｃｒ_２Ｏ_３、α−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイド、酸化マグネシウム、窒化ホウ素、二硫化モリブデン、酸化銅、ＭｇＣＯ_３、ＣａＣＯ_３、ＢａＣＯ_３、ＳｒＣＯ_３、ＢａＳＯ_４、炭化珪素等の無機粉末を挙げることができる。好ましい無機粉末は、無機酸化物粉末であり、より好ましくはα−酸化鉄および酸化チタンであり、更に好ましくはα−酸化鉄である。

一般に、無機粉末はカーボンブラックに比べてバックコート層形成用組成物における分散性が良好な傾向がある。バックコート層形成用組成物における非磁性粉末の分散性を高めることは、バックコート層の表面形状のばらつきを低減することに寄与し得る。したがって、バックコート層の表面形状のばらつきを低減するほど小さな値になると考えられる真空加熱後のスペーシング分布ＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}の調整方法としては、バックコート層に含まれる非磁性粉末の種類および二種以上の非磁性粉末を含む場合にはそれらの混合比を調整することを挙げることができる。例えば、バックコート層の非磁性粉末の主粉末（非磁性粉末の中で質量基準で最も多く含まれる非磁性粉末）として、無機粉末を用いることは好ましい。バックコート層に含まれる非磁性粉末が無機粉末およびカーボンブラックからなる群から選択される一種以上の非磁性粉末である場合、非磁性粉末全量１００．０質量部に対する無機粉末の含有量は、５０．０質量部超〜１００．０質量部の範囲であることが好ましく、６０．０質量部〜１００．０質量部の範囲であることがより好ましく、７０．０質量部〜１００．０質量部の範囲であることが更に好ましく、８０．０質量部〜１００．０質量部の範囲であることが一層好ましい。

非磁性粉末の平均粒子サイズは、例えば１０〜２００ｎｍの範囲であることができる。無機粉末の平均粒子サイズは、好ましくは５０〜２００ｎｍの範囲であり、より好ましくは８０〜１５０ｎｍの範囲である。一方、カーボンブラックの平均粒子サイズは、好ましくは１０〜５０ｎｍの範囲であり、より好ましくは１５〜３０ｎｍの範囲である。

また、バックコート層形成用組成物における非磁性粉末の分散性は、公知の分散剤の使用、分散条件の強化等によっても高めることができる。

真空加熱前のスペーシング分布ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}の調整方法の好ましい態様については、後述する。

バックコート層に含まれる脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分、ならびに脂肪酸エステルに関する詳細は、先に記載した通りである。

バックコート層に含まれる結合剤および任意に含まれ得る各種添加剤については、磁性層および／または非磁性層の処方に関する公知技術を適用することができる。

［非磁性支持体］
次に、非磁性支持体（以下、単に「支持体」とも記載する。）について説明する。
非磁性支持体としては、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ ナフタレート、ポリアミド、ポリアミドイミド、芳香族ポリアミド等の公知のものが挙げられる。これらの中でもポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、およびポリアミドが好ましい。これらの支持体には、あらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、加熱処理等を行ってもよい。

［各種厚み］
非磁性支持体の厚みは、好ましくは３．００〜２０．００μｍ、より好ましくは３．００〜１０．００μｍ、更に好ましくは３．００〜６．００μｍであり、特に好ましくは３．００〜４．５０μｍである。

磁性層の厚みは、用いる磁気ヘッドの飽和磁化量、ヘッドギャップ長、記録信号の帯域等に応じて最適化することができる。磁性層の厚みは、一般には０．０１μｍ〜０．１５μｍであり、高密度記録化の観点から、好ましくは０．０２μｍ〜０．１２μｍであり、更に好ましくは０．０３μｍ〜０．１０μｍである。磁性層は少なくとも一層あればよく、磁性層を異なる磁気特性を有する二層以上に分離してもかまわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用できる。二層以上に分離する場合の磁性層の厚みとは、これらの層の合計厚みとする。

非磁性層の厚みは、例えば０．０５μｍ以上であり、好ましくは０．０７μｍ以上であり、より好ましくは０．１０μｍ以上である。一方、非磁性層の厚みは、０．８０μｍ以下であることが好ましく、０．５０μｍ以下であることがより好ましい。

バックコート層の厚みについては、先に記載した通りである。バックコート層を薄層化することは、磁気テープの薄型化のための手段の１つとして挙げられる。磁気テープを薄型化することにより磁気テープカートリッジ１巻あたりの記録容量を高める観点から、上記磁気テープの総厚は、６．００μｍ以下であることが好ましく、５．００μｍ以下であることがより好ましい。一方、磁気テープの取り扱いの容易性（ハンドリング性）等の観点からは、磁気テープの総厚は１．００μｍ以上であることが好ましい。

磁気テープの各層および非磁性支持体の厚みは、公知の膜厚測定法により求めることができる。一例として、例えば、磁気テープの厚み方向の断面を、イオンビーム、ミクロトーム等の公知の手法により露出させた後、露出した断面において走査型電子顕微鏡を用いて断面観察を行う。断面観察において厚み方向の１箇所において求められた厚み、または２箇所以上の複数箇所において求められた厚みの算術平均として、各種厚みを求めることができる。または、各層の厚みは、製造条件から算出される設計厚みとして求めてもよい。

［製造工程］
＜各層形成用組成物の調製＞
磁性層、非磁性層またはバックコート層を形成するための組成物は、先に説明した各種成分とともに、通常、溶媒を含む。溶媒としては、塗布型磁気記録媒体を製造するために一般に使用される各種有機溶媒を用いることができる。中でも、塗布型磁気記録媒体に通常使用される結合剤の溶解性の観点からは、各層形成用組成物には、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラン等のケトン溶媒の一種以上が含まれることが好ましい。各層形成用組成物における溶媒量は特に限定されるものではなく、通常の塗布型磁気記録媒体の各層形成用組成物と同様にすることができる。

各層形成用組成物の調製工程では、公知の製造技術を用いることができる。各層形成用組成物の調製工程は、通常、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程を含む。個々の工程はそれぞれ２段階以上に分かれていてもかまわない。本発明で用いられる全ての原料は、どの工程の最初または途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。混練工程では、オープンニーダ、連続ニーダ、加圧ニーダ、エクストルーダ等の強い混練力をもつニーダを使用することが好ましい。混練工程の詳細については特開平１−１０６３３８号公報および特開平１−７９２７４号公報に記載されている。また、各層形成用組成物を分散させるためには、ガラスビーズおよび／またはその他のビーズを用いることができる。このような分散ビーズとしては、高比重の分散ビーズであるジルコニアビーズ、チタニアビーズ、およびスチールビーズが好適である。これら分散ビーズは、ビーズ径と充填率を最適化して用いることができる。分散機は公知のものを使用することができる。

＜塗布工程、冷却工程、加熱乾燥工程、振動付与＞
磁性層は、磁性層形成用組成物を、非磁性支持体上に直接塗布するか、または非磁性層形成用組成物と逐次もしくは同時に重層塗布することにより形成することができる。各層形成のための塗布の詳細については、特開２０１０−２３１８４３号公報の段落００６６を参照できる。

バックコート層は、好ましくは、バックコート層形成後に磁性層が形成される表面とは反対側の非磁性支持体表面上に形成される。バックコート層は、バックコート層形成用組成物を非磁性支持体表面上に塗布することにより塗布層を形成する塗布工程、および形成した塗布層を加熱処理により乾燥させる加熱乾燥工程を経て形成することができる。上記塗布工程と加熱乾燥工程との間に、塗布層を冷却する冷却工程を行うことは、脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上を含むバックコート層を有する磁気テープにおいて、表層部Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度を上記範囲に調整するために好ましい。これは、理由は明らかではないが、加熱乾燥工程前にバックコート層形成用組成物の塗布層を冷却することにより、加熱乾燥工程における溶媒揮発時に上記成分（脂肪酸および／または脂肪酸アミド）がバックコート層表面に移行しやすくなるためではないかと、本発明者は推察している。ただし推察に過ぎず、本発明を何ら限定するものではない。

更に、好ましい製造方法としては、バックコート層表面における脂肪酸エステルの液膜の厚みの均一性向上のために、バックコート層に振動を加える工程を含む製造方法を挙げることができる。振動を加えることにより、バックコート層表面の脂肪酸エステルの液膜が流動し、液膜の厚みの均一性が向上されると、本発明者らは推察している。
即ち、上記磁気テープは、バックコート層形成用組成物を非磁性支持体上に塗布して乾燥させることによりバックコート層を形成し、形成したバックコート層に振動を加えること（振動付与）を含む製造方法により製造することができる。振動付与手段は特に限定されるものではない。例えば、バックコート層を形成した非磁性支持体のバックコート層とは反対側の面を、振動付与ユニットと接触させることにより、バックコート層に振動を加えることができる。バックコート層を形成した非磁性支持体を振動付与ユニットと接触させながら走行させてもよい。振動付与ユニットは、例えば、内部に超音波振動子を備えることにより、このユニットと接触した物品に振動を加えることができる。超音波振動子の振動周波数、強度、および／または振動付与ユニットとの接触時間によって、バックコート層に加える振動を調整することができる。例えば接触時間は、バックコート層を形成した非磁性支持体の振動付与ユニットとの接触中の走行速度によって調整することができる。これらの振動付与条件は特に限定されるものではなく、先に記載したスペーシング分布、特に、真空加熱前のスペーシング分布ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}を制御できるように設定すればよい。振動付与条件の設定のために実製造前に予備実験を行い、条件を最適化することもできる。

以下、上記製造方法の具体的態様を、図１に基づき説明する。ただし本発明は、下記具体的態様に限定されるものではない。

図１は、非磁性支持体の一方の表面上に非磁性層と磁性層とをこの順に有し、他方の表面上にバックコート層を有する磁気テープを製造する工程の具体的態様を示す工程概略図である。図１に示す態様では、非磁性支持体（長尺フィルム）を、送り出し部から送り出し巻き取り部で巻き取る操作を連続的に行い、かつ図１に示されている各部または各ゾーンにおいて塗布、乾燥、配向等の各種処理を行うことにより、走行する非磁性支持体上の一方の表面上に非磁性層および磁性層を逐次重層塗布により形成し、他方の表面にバックコート層を形成することができる。冷却ゾーンおよび振動付与部を含む点以外は、塗布型磁気記録媒体の製造のために通常行われる製造工程と同様にすることができる。

送り出し部から送り出された非磁性支持体上には、第一の塗布部において、バックコート層形成用組成物の塗布が行われ、塗布層が形成される（バックコート層形成用組成物の塗布工程）。

上記塗布工程後、冷却ゾーンにおいて、塗布工程で形成されたバックコート層形成用組成物の塗布層が冷却される（冷却工程）。例えば、上記塗布層を形成した非磁性支持体を冷却雰囲気中に通過させることにより、冷却工程を行うことができる。冷却雰囲気の雰囲気温度は、好ましくは−１０℃〜０℃の範囲とすることができ、より好ましくは−５℃〜０℃の範囲とすることができる。冷却工程を行う時間（例えば、塗布層の任意の部分が冷却ゾーンに搬入されてから搬出されるまでの時間（以下において、「滞在時間」ともいう。））は特に限定されるものではない。滞在時間を長くするほど表層部Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度が高まる傾向があるため、上記範囲の表層部Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度を実現できるように、必要に応じて予備実験を行う等して調整することが好ましい。なお冷却工程では、冷却した気体を塗布層表面に吹き付けてもよい。

その後、第一の加熱処理ゾーンでは、冷却工程後の塗布層を加熱処理し乾燥させる（加熱乾燥工程）。加熱乾燥処理は、塗布工程後の塗布層を有する非磁性支持体を加熱雰囲気中に通過させることにより行うことができる。ここでの加熱雰囲気の雰囲気温度は、例えば６０〜１４０℃程度である。ただし、溶媒を揮発させて塗布層を乾燥させることができる温度とすればよく、上記範囲に限定されるものではない。また任意に、加熱した気体を塗布層表面に吹き付けてもよい。以上の点は、後述する第二加熱処理ゾーンにおける加熱乾燥工程および第三の加熱処理ゾーンにおける加熱乾燥工程についても、同様である。

次いで、加熱乾燥工程により乾燥させたバックコート層に、振動付与部において振動を付与する。振動付与について、詳細は先に記載した通りである。

次いで、第二の塗布部において、非磁性層形成用組成物の塗布が行われ、塗布層が形成される（非磁性層形成用組成物の塗布工程）。形成された塗布層を、第二の加熱処理ゾーンにおいて加熱処理し乾燥させる（加熱乾燥工程）。

次に、第三の塗布部において、第二の加熱処理ゾーンにおいて加熱乾燥工程を行い形成された非磁性層の表面上に、磁性層形成用組成物が塗布され、塗布層が形成される（磁性層形成用組成物の塗布工程）。

その後、磁性層形成用組成物の塗布層が湿潤状態にあるうちに、配向ゾーンにおいて塗布層中の強磁性粉末の配向処理が行われる。配向処理については、特開２０１０−２３１８４３号公報の段落００６７を参照できる。

配向処理後の塗布層は、第三の加熱処理ゾーンにおいて加熱乾燥工程に付される。

以上により、非磁性支持体の一方の表面上に非磁性層および磁性層をこの順に有し、他方の表面上にバックコート層を有する磁気テープを得ることができる。得られた磁気テープは、巻き取り部に巻き取られた後に、任意に各種後処理（カレンダー処理等の各種表面処理等）に付されてもよい。これらの後処理については、塗布型磁気記録媒体の製造に関する公知技術を何ら制限なく適用することができる。

上記磁気テープは、低温高湿環境下で優れた走行安定性を示すことができる磁気テープである。磁気テープの走行安定性の指標としては、後述の実施例に記載の位置誤差信号（Ｐｏｓｉｔｉｏｎ Ｅｒｒｏｒ Ｓｉｇｎａｌ；ＰＥＳ）を挙げることができる。本発明の一態様にかかる磁気テープは、例えば７０ｎｍ以下のＰＥＳを示すことができる。

以下に、本発明を実施例に基づき説明する。但し、本発明は実施例に示す態様に限定されるものではない。以下に記載の「部」、「％」の表示は、特に断らない限り、「質量部」、「質量％」を示す。

以下に記載の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって、下記測定条件により測定された値をポリスチレン換算して求められた値である。
ＧＰＣ装置：ＨＬＣ−８１２０（東ソー社製）
カラム：ＴＳＫ ｇｅｌ Ｍｕｌｔｉｐｏｒｅ ＨＸＬ−Ｍ（東ソー社製、７．８ｍｍＩＤ（Ｉｎｎｅｒ ｄｉａｍｅｔｅｒ；内径）×３０．０ｃｍ）
溶離液：テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）

［実施例１］
１．アルミナ分散物の調製
アルファ化率約６５％、ＢＥＴ比表面積３０ｍ^２／ｇのアルミナ粉末（住友化学社製ＨＩＴ−７０）１００．０部に対し、３．０部の２，３−ジヒドロキシナフタレン（東京化成社製）、極性基としてＳＯ_３Ｎａ基を有するポリエステルポリウレタン樹脂（東洋紡社製ＵＲ−４８００（極性基量：８０ｍｅｑ／ｋｇ））の３２％溶液（溶媒はメチルエチルケトンとトルエンの混合溶媒）を３１．３部、溶媒としてメチルエチルケトンとシクロヘキサノン１：１（質量比）の混合溶液５７０．０部を混合し、ジルコニアビーズ存在下で、ペイントシェーカーにより５時間分散させた。分散後、メッシュにより分散液とビーズとを分け、アルミナ分散物を得た。

２．磁性層形成用組成物処方
（磁性液）
強磁性粉末（表５参照） １００．０部
ＳＯ_３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂 １４．０部
（重量平均分子量：７０，０００、ＳＯ_３Ｎａ基：０．２ｍｅｑ／ｇ）
シクロヘキサノン １５０．０部
メチルエチルケトン １５０．０部
（研磨剤液）
上記１．で調製したアルミナ分散物 ６．０部
（シリカゾル）
コロイダルシリカ（平均粒子サイズ：１００ｎｍ） ２．０部
メチルエチルケトン １．４部
（その他成分）
ステアリン酸 ２．０部
ステアリン酸アミド ０．２部
ブチルステアレート ２．０部
ポリイソシアネート（日本ポリウレタン社製コロネート（登録商標））２．５部
（仕上げ添加溶媒）
シクロヘキサノン ２００．０部
メチルエチルケトン ２００．０部

３．非磁性層形成用組成物処方
無機粉末：α−酸化鉄 １００．０部
平均粒子サイズ（平均長軸長）：１０ｎｍ
平均針状比：１．９
ＢＥＴ比表面積：７５ｍ^２／ｇ
カーボンブラック ２０．０部
平均粒子サイズ：２０ｎｍ
ＳＯ_３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂 １８．０部
（重量平均分子量：７０，０００、ＳＯ_３Ｎａ基：０．２ｍｅｑ／ｇ）
ステアリン酸 ２．０部
ステアリン酸アミド ０．２部
ブチルステアレート １．５部
シクロヘキサノン ３００．０部
メチルエチルケトン ３００．０部

４．バックコート層形成用組成物処方
無機粉末：α−酸化鉄 表５参照
平均粒子サイズ（平均長軸長）：１５０ｎｍ
平均針状比：７
ＢＥＴ比表面積：５２ｍ^２／ｇ
カーボンブラック 表５参照
平均粒子サイズ：２０ｎｍ
塩化ビニル共重合体 １３．０部
スルホン酸塩基含有ポリウレタン樹脂 ６．０部
フェニルホスホン酸 ３．０部
メチルエチルケトン １５５．０部
ステアリン酸 表５参照
ステアリン酸アミド 表５参照
ブチルステアレート 表５参照
ポリイソシアネート ５．０部
シクロヘキサノン ３５５．０部

５．各層形成用組成物の調製
磁性層形成用組成物を、以下の方法により作製した。
上記磁性液を、各成分をバッチ式縦型サンドミルを用いて２４時間分散（ビーズ分散）することにより調製した。分散ビーズとしては、ビーズ径０．５ｍｍのジルコニアビーズを使用した。上記サンドミルを用いて、調製した磁性液および上記研磨剤液を他の成分（シリカゾル、その他成分および仕上げ添加溶媒）と混合し５分間ビーズ分散した後、バッチ型超音波装置（２０ｋＨｚ、３００Ｗ）で０．５分間処理（超音波分散）を行った。その後、０．５μｍの平均孔径を有するフィルタを用いてろ過を行い磁性層形成用組成物を作製した。
非磁性層形成用組成物を、以下の方法により作製した。
ステアリン酸、ステアリン酸アミド、ブチルステアレート、シクロヘキサノンおよびメチルエチルケトンを除いた各成分を、バッチ式縦型サンドミルを用いて２４時間分散して分散液を得た。分散ビーズとしては、ビーズ径０．１ｍｍのジルコニアビーズを使用した。その後、得られた分散液に残りの成分を添加し、ディゾルバーで攪拌した。こうして得られた分散液を０．５μｍの平均孔径を有するフィルタを用いてろ過し非磁性層形成用組成物を作製した。
バックコート層形成用組成物を、以下の方法により作製した。
ステアリン酸、ステアリン酸アミド、ブチルステアレート、ポリイソシアネートおよびシクロヘキサノンを除いた各成分をオープンニーダにより混練および希釈した後、横型ビーズミル分散機により、ビーズ径１ｍｍのジルコニアビーズを用い、ビーズ充填率８０体積％、ローター先端周速１０ｍ／秒で、１パス滞留時間を２分とし、１２パスの分散処理を行った。その後、得られた分散液に残りの成分を添加し、ディゾルバーで攪拌した。こうして得られた分散液を１μｍの平均孔径を有するフィルタを用いてろ過しバックコート層形成用組成物を作製した。

６．磁気テープの作製
表５に示す厚みのポリエチレンナフタレート製支持体の一方の表面上に、乾燥後の厚みが表５に示す厚みになるように上記５．で調製したバックコート層形成用組成物を塗布し塗布層を形成した。形成した塗布層が湿潤状態にあるうちに、雰囲気温度０℃に調整した冷却ゾーンに表５に示す滞在時間で通過させて冷却工程を行い、その後に第一の加熱処理ゾーン（雰囲気温度１００℃）にて上記塗布層を乾燥させてバックコート層を形成した。
その後、振動付与部において、バックコート層に振動を加えた。具体的には、バックコート層を形成した支持体を、図２に示す振動付与装置にバックコート層を形成した表面とは反対側の表面が振動付与ユニットと接するように設置し、バックコート層を形成した支持体（図２中、符号１０１）を搬送速度０．５ｍ／秒で搬送させてバックコート層に振動を加えた。図２中、符号１０２はガイドローラ（符号１０２は２つのガイドローラの一方に付した）、符号１０３は振動付与装置（超音波振動子を含む振動付与ユニット）、矢印は搬送方向を示す。バックコート層を形成した支持体の任意の箇所が振動付与ユニットとの接触を開始してから接触が終了するまでの時間を振動付与時間として、表５に示す。使用した振動付与ユニットは内部に超音波振動子を備えている。超音波振動子の振動周波数および強度を表５に示す値として振動付与を行った。
その後、こうしてバックコート層を形成した上記支持体の、バックコート層を形成した表面とは反対側の表面上に、第二の塗布部において乾燥後の厚みが表５に示す厚みになるように上記５．で調製した非磁性層形成用組成物を塗布して塗布層を形成した。次いで、塗布層を形成した上記支持体を雰囲気温度１００℃の第二の加熱処理ゾーンを通過させ加熱乾燥工程を行い、非磁性層を形成した。
その後、第三の塗布部において乾燥後の厚みが表５に示す厚みになるように上記５．で調製した磁性層形成用組成物を非磁性層表面上に塗布し塗布層を形成した。この塗布層が湿潤状態（未乾状態）にあるうちに配向ゾーンにおいて磁場強度０．３Ｔの磁場を、磁性層形成用組成物の塗布層表面に対し垂直方向に印加し垂直配向処理を行った後、第三の加熱処理ゾーン（雰囲気温度１００℃）にて乾燥させた。
その後、金属ロールのみから構成されるカレンダロールを用いて、速度１００ｍ／分、線圧３００ｋｇ／ｃｍ（２９４ｋＮ／ｍ）、カレンダロールの表面温度１００℃で表面平滑化処理（カレンダ処理）を行った。その後、雰囲気温度７０℃の環境で３６時間加熱処理を行った。加熱処理後、１／２インチ（０．０１２７メートル）幅にスリットし、磁気テープを得た。

［実施例２〜９、比較例１〜９］
バックコート層形成用組成物の処方、バックコート層の厚み、バックコート層形成条件および強磁性粉末の中の１項目以上を表５に示すように変更した点以外、実施例１と同様の方法で磁気テープを作製した。振動付与時間は、バックコート層を形成した支持体の搬送速度を変えることにより調整した。

表５中、「ＢａＦｅ」とは、平均粒子サイズ２４ｎｍの強磁性六方晶バリウムフェライト粉末であり、「ＭＰ」とは、平均粒子サイズ３０ｎｍの強磁性金属粉末である。
表５に記載のバックコート層の無機粉末／カーボンブラックの比率とは、無機粉末とカーボンブラックとの合計含有量１００．０質量部に対する各粉末の質量基準の含有率である。
表５中、振動付与条件の欄に「無し」と記載されている比較例では、振動付与部を含まない製造工程により磁気テープを作製した。

実施例および比較例の各磁気テープの各層および非磁性支持体の厚みを以下の方法により求め、表５に記載の値であることを確認した。
磁気テープの厚み方向の断面を、イオンビームにより露出させた後、露出した断面において走査型電子顕微鏡を用いて断面観察を行う。断面観察において厚み方向の２箇所において求められた厚みの算術平均として、各種厚みを求めた。

以上により作製した実施例および比較例の各磁気テープを、以下の評価に付した。

［磁気テープの物性評価方法］
＜１．真空加熱前後のスペーシング分布ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}、ＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}＞
ＴＳＡ（Ｔａｐｅ Ｓｐａｃｉｎｇ Ａｎａｌｙｚｅｒ（Ｍｉｃｒｏ Ｐｈｙｓｉｃｓ社製））を用いて、以下の方法により、真空加熱前後のスペーシング分布ＦＷＨＭ_{ｂｅｆｏｒｅ}およびＦＷＨＭ_{ａｆｔｅｒ}を求めた。
磁気テープのバックコート層表面上に、ＴＳＡに備えられたガラス板を配置した状態で、押圧部材としてＴＳＡに備えられているウレタン製の半球を用いて、この半球を磁気テープの磁性層表面に、５．０５×１０^４Ｎ／ｍ（０．５ａｔｍ）の圧力で押しつけた。この状態で、ＴＳＡに備えられているストロボスコープから白色光を、ガラス板を通して磁気テープのバックコート層表面の一定領域（１５００００〜２０００００μｍ^２）に照射し、得られる反射光を、干渉フィルタ（波長６３３ｎｍの光を選択的に透過するフィルタ）を通してＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ−Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｄｅｖｉｃｅ）で受光することで、この領域の凹凸で生じた干渉縞画像を得た。
この画像を３０００００ポイントに分割して各ポイントのガラス板の磁気テープ側の表面から磁気テープのバックコート層表面までの距離（スペーシング）を求めこれをヒストグラムとし、ヒストグラムをガウス分布でフィッティングしたときの半値全幅をスペーシング分布の半値全幅とした。
真空加熱は、磁気テープを、２００Ｐａ以上０．０１ＭＰａ以下の真空度の内部雰囲気温度７０〜９０℃の真空定温乾燥機に２４時間保存することにより行った。

＜２．差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）＞
上記１．で得た真空加熱後のヒストグラムの最頻値から、真空加熱前のヒストグラムの最頻値を差し引いて、差分（Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}）とした。

＜３．表層部Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度＞
以下の方法により、磁気テープのバックコート層表面（測定領域：３００μｍ×７００μｍ）においてＥＳＣＡ装置を用いてＸ線光電子分光分析を行い、分析結果から表層部Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度を算出した。

（分析および算出方法）
下記（１）〜（３）の測定は、いずれも表１に示す測定条件にて行った。

（１）ワイドスキャン測定
磁気テープのバックコート層表面においてＥＳＣＡ装置によりワイドスキャン測定（測定条件：表２参照）を行い、検出された元素の種類を調べた（定性分析）。

（２）ナロースキャン測定
上記（１）で検出された全元素について、ナロースキャン測定（測定条件：表３参照）を行った。装置付属のデータ処理用ソフトウエア（Ｖｉｓｉｏｎ２．２．６）を用いて、各元素のピーク面積から検出された各元素の原子濃度（単位：原子％）を算出した。ここでＣ濃度も算出した。

（３）Ｃ１ｓスペクトルの取得
表４に記載の測定条件にてＣ１ｓスペクトルを取得した。取得したＣ１ｓスペクトルについて、装置付属のデータ処理用ソフトウエア（Ｖｉｓｉｏｎ２．２．６）を用いて試料帯電に起因するシフト（物理シフト）の補正を行った後、同ソフトウエアを用いてＣ１ｓスペクトルのフィッティング処理（ピーク分離）を実施した。ピーク分離にはガウス−ローレンツ複合関数（ガウス成分７０％、ローレンツ成分３０％）を用い、非線形最小二乗法によりＣ１ｓスペクトルのフィッティングを行い、Ｃ１ｓスペクトルに占めるＣ−Ｈピークの割合（ピーク面積率）を算出した。算出されたＣ−Ｈピーク面積率を、上記（２）で求めたＣ濃度に掛けることにより、Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度を算出した。

以上の処理を磁気テープのバックコート層表面の異なる位置において３回行い、得られた値の算術平均を表層部Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度とした。

［磁気テープの性能評価方法］
＜走行安定性の評価＞
実施例および比較例の各磁気テープの走行安定性（ＰＥＳ）を、温度１３℃相対湿度８０％の低温高湿環境において、以下の方法によって評価した。
サーボライターを用いて、実施例および比較例の各磁気テープの磁性層にサーボパターンを形成した。その後、実施例および比較例の各磁気テープをリールテスターで走行させ、デジタルストレージオシロスコープにて磁気テープからのサーボ信号を取得して解析することにより、磁気テープの上下動に対してＬＴＯ Ｇ６（Ｌｉｎｅａｒ Ｔａｐｅ−Ｏｐｅｎ Ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ ６）規格の磁気ヘッドが追従できなかった量（ＰＥＳ）を求めた。
上記方法で測定されるＰＥＳは走行安定性の指標となる値であり、値が小さいほど走行安定性が良好であることを意味する。ＰＥＳが７０ｎｍ以下であれば、走行安定性に優れると判断することができる。
比較例７は、リールテスターでの走行中、磁性層表面に付着した付着物の影響により、磁性層表面を磁気ヘッドと接触させ摺動させることが困難（走行困難）となったため、評価を停止した。上記磁性層表面の付着物は、リールテスターの構成部材との摺動によってバックコート層表面が削れて発生した削れ屑が、リールテスター内で磁性層表面に付着したものと推察される。
比較例８は、リールテスターでの走行中、磁性層表面と磁気ヘッドとの貼り付きが発生したことにより、磁性層表面を磁気ヘッドと接触させ摺動させることが困難（走行困難）となったため、評価を停止した。
表５中、比較例７および比較例８のＰＥＳの評価結果の欄には、「評価不可」と記載した。

以上の結果を、表５に示す。

比較例１とその他の比較例との対比から、厚み０．２０μｍ以下のバックコート層を有する磁気テープでは、低温高湿環境において走行安定性が大きく低下する（ＰＥＳが７０ｎｍを超える）ことが確認できる。
これに対し、実施例１〜９の磁気テープは、厚み０．２０μｍ以下のバックコート層を有するにもかかわらず、ＰＥＳは７０ｎｍ以下であり走行安定性に優れることが確認された。

[参考試験：表層部Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度に対する脂肪酸および脂肪酸アミドの寄与の確認]
（１）実施例１と同様の方法で磁気テープ（サンプルテープ）を２つ作製した。一方のサンプルテープは上記ＥＳＣＡ装置により行われる測定後、もう一方のサンプルテープは未測定の状態で、溶媒抽出を行った（溶媒：メタノール）。
抽出により得られた溶液中の脂肪酸、脂肪酸アミドおよび脂肪酸エステル量をガスクロマトグラフ分析により定量したところ、脂肪酸（ステアリン酸）および脂肪酸アミド（ステアリン酸アミド）は、２つのサンプルテープで定量値の違いはほぼ見られなかった。一方、脂肪酸エステル（ブチルステアレート）は、測定後のサンプルテープでの定量値は、未測定のサンプルテープでの定量値と比べて大幅に低い値であった。これは、脂肪酸エステルが、ＥＳＣＡ装置において測定中に測定対象試料が配置される真空チャンバーにおいて揮発してしまうためと考えられる。
以上の結果から、ＥＳＣＡを用いて行われる分析により求められる表層部Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度には、脂肪酸エステルは影響を及ぼさないと判断することができる。
（２）バックコート層形成用組成物に含まれる成分の中で、溶媒およびポリイソシアネート（加熱を伴う処理により他の成分と架橋）を除く有機化合物は、ステアリン酸、ステアリン酸アミド、ブチルステアレート、塩化ビニル共重合体、ポリウレタン樹脂およびフェニルホスホン酸である。これら成分の中で、ブチルステアレートは、上記（１）の結果から、表層部Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度には影響を及ぼさないと判断することができる。
次に、以下の方法により、表層部Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度への塩化ビニル共重合体、ポリウレタン樹脂およびフェニルホスホン酸の影響を確認した。
実施例１で用いた塩化ビニル共重合体、ポリウレタン樹脂およびフェニルホスホン酸について、上記と同様の方法によりＣ１ｓスペクトルを取得し、取得したスペクトルについて先に記載した処理により結合エネルギー２８６ｅＶ付近に位置するピークおよびＣ−Ｈピークをそれぞれピーク分離した。分離した各ピークがＣ１ｓスペクトルに占める割合（ピーク面積率）を算出し、結合エネルギー２８６ｅＶ付近に位置するピークとＣ−Ｈピークとのピーク面積比を算出した。
次いで、実施例１で取得したＣ１ｓスペクトルにおいて、先に記載した処理により結合エネルギー２８６ｅＶ付近に位置するピークをピーク分離した。塩化ビニル共重合体、ポリウレタン樹脂およびフェニルホスホン酸は、Ｃ１ｓスペクトルにおいて、結合エネルギー２８６ｅＶ付近に位置するピークを有するのに対し、脂肪酸（ステアリン酸）および脂肪酸アミド（ステアリン酸アミド）は、上記位置にピークを有さない。したがって、実施例１で取得したＣ１ｓスペクトルにおける結合エネルギー２８６ｅＶ付近に位置するピークは、塩化ビニル共重合体、ポリウレタン樹脂およびフェニルホスホン酸に由来すると判断することができる。そこで、このピークを利用し、上記で算出したピーク面積比から、実施例１で取得したＣ１ｓスペクトルのＣ−Ｈピークにおける塩化ビニル共重合体、ポリウレタン樹脂およびフェニルホスホン酸の寄与分を算出したところ、わずか１０％程度であった。この結果から、実施例１で取得したＣ１ｓスペクトルのＣ−Ｈピークの多く（９０％程度）が、脂肪酸（ステアリン酸）および脂肪酸アミド（ステアリン酸アミド）に由来すると判断することができる。
以上の結果から、表層部Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度が、脂肪酸および脂肪酸アミドの存在量の指標になり得ることが実証された。

本発明は、バックアップテープ等の磁気テープの技術分野において有用である。

Claims (10)

1. 非磁性支持体の一方の表面側に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有し、他方の表面側に非磁性粉末および結合剤を含むバックコート層を有する磁気テープであって、
   前記バックコート層の厚みは、０．２０μｍ以下であり、
   前記バックコート層は、脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選択される成分の一種以上と、脂肪酸エステルと、を含み、
   前記バックコート層の表面において光電子取り出し角１０度で行われるＸ線光電子分光分析により得られるＣ１ｓスペクトルにおけるＣ−Ｈピーク面積率から算出されるＣ−Ｈ由来Ｃ濃度は、３５原子％以上であり、
   前記磁気テープを真空加熱する前に前記バックコート層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、０ｎｍ超かつ１０．０ｎｍ以下であり、
   前記磁気テープを真空加熱した後に前記バックコート層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、０ｎｍ超かつ１０．０ｎｍ以下であり、かつ
   前記磁気テープを真空加熱した後に前記バックコート層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳ_{ａｆｔｅｒ}と、前記磁気テープを真空加熱する前に前記バックコート層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシングＳ_{ｂｅｆｏｒｅ}との差分、Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}、は、０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下である磁気テープ。
2. 前記Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度は、３５原子％以上６０原子％以下である、請求項１に記載の磁気テープ。
3. 前記Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度は、４０原子％以上６０原子％以下である、請求項１または２に記載の磁気テープ。
4. 前記磁気テープを真空加熱する前に前記バックコート層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の磁気テープ。
5. 前記磁気テープを真空加熱した後に前記バックコート層の表面において光学干渉法により測定されるスペーシング分布の半値全幅は、０ｎｍ超かつ８．０ｎｍ以下である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の磁気テープ。
6. 前記差分、Ｓ_{ａｆｔｅｒ}−Ｓ_{ｂｅｆｏｒｅ}、は、０ｎｍ超かつ６．０ｎｍ以下である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の磁気テープ。
7. 前記バックコート層の厚みは、０．０５μｍ以上０．２０μｍ以下である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の磁気テープ。
8. 前記バックコート層に含まれる非磁性粉末は、無機粉末およびカーボンブラックからなる群から選択される一種以上の非磁性粉末である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の磁気テープ。
9. 前記バックコート層における無機粉末の含有量は、前記バックコート層に含まれる非磁性粉末全量１００．０質量部に対して５０．０質量部超〜１００．０質量部の範囲である、請求項８に記載の磁気テープ。
10. 前記非磁性支持体と前記磁性層との間に、非磁性粉末および結合剤を含む非磁性層を有する、請求項１〜９のいずれか１項に記載の磁気テープ。